AT396212B - Polierpellet zum polieren von funktionsflaechen aus glas oder kristall im anpressdruckbereich unter 6n/cm2 - Google Patents

Polierpellet zum polieren von funktionsflaechen aus glas oder kristall im anpressdruckbereich unter 6n/cm2 Download PDF

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Christel Dipl Chem Schoene
Max Wuerdig
Elisabeth Dr Anton
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    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/20Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
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Description

AT 396 212 B
Die Erfindung betrifft ein Polierpellet zum Polieren von Funktionsflächen aus Glas oder Kristall im Anpreßdruckbereich von < 6 N/cm^, bestehend aus einer mit Poliermittel hochgefüllten Polymermatrix. Das Polierpellet wild am Werkzeug angcklebt und zum Polieren von symmetrischen, unsymmetrischen, sphärischen und asphärischen sowie ebenen, durch Schleifen, Läppen oder Anpolieren vorgefertigter Funktionsflächen aus optischen Gläsern oder Kristallen verwendet Vorrangiges Anwendungsgebiet ist das Präzisionspolieren von Hochleistungsoptik.
Hochgefüllte Polymerverbunde zur Bearbeitung von Glasflächen sind bekannt Als Matrix wird beispielsweise Polyester verwendet der einen Verbund bildet mit Metalloxiden wie Zirkonoxid, Ceroxid, Eisenoxid (US-PS 4106 915) oder Siliziumcarbid (US-PS 3 913 671), auch Polyamide (DD-PS 4 728) kommen zum Einsatz. Für relativ harte Werkstücke (z. B. aus Quarz, Gestein oder Metall) werden verschienene Harze als Matrix für die Polierpellets eingesetzt Das sind Phenolharze (DE-PS 3 108 157, GB-PS 2 021 627, EP-PS 9 719, JP-PS 5 233 190), Epoxidharze (DD-PS 209 995, JP-PS-8 004 0385, JP-PS 5 405 1091, US-PS 4 382 803, US-PS 3 325 034), Polyesterharze (DE-PS 2 931 652, DD-PS 240 557, JP-PS 5 704 1170, DE-PS 2 651 563) und Hamstoffharze (GB-PS 2 021 627). Vemetzbare Polymere werden ebenfalls häufig eingesetzt Das sind Silikonkautschuk (DD-PS 221 843), Styren-Butadien-Kautschuk (SU-PS 901 041), Polyurethan (DE-PS 3 151 925, DE-PS 3 114 001, JP-PS 5 704 1170, JP-PS 5 007 0466, US-PS 3 773 480), Polyvinylalkohol und Formalin (JP-PS 7 900 4800) und strahlenchemisch vernetztes Ethylen-Vinylacetat Copolymer (DD-PS 205 915). Alle die genannten Polierpelletverbunde haben sehr große Härten.
Sie sind nicht geeignet, für Polierverfahren bei sehr niedrigen Anpreßdrücken (< 6 N/cm^). Sie ermöglichen keinen geeigneten Glasabtrag bei verlangter hoher Oberflächensauberkeit. In der DE-OS 3 223 021 ist ein Mittel zur Bearbeitung von Oberflächen beschrieben, wobei das Mittel aus einem Haftmittcl und einem Polier- und Schleifmittel besteht und zwar erhält man dieses Mittel durch Mischung eines bei erhöhter Temperatur flüssigen Haftmittels und eines Polier- und Schleifmittels. Während des Polierprozesses muß Poliermittel gemischt mit Haftmittel von außen zugeführt werden. Dies ist nachteilig und soll vermieden werden.
Das Ziel der Erfindung besteht darin, ein einfach herstellbares Polierpellet zu entwickeln, das beim Polieren von optischen Gläsern oder Kristallen ohne äußere Poliermittelzufuhr bei geringem Verschleiß und hoher Abtragskonstanz einen guten Glasabtrag bei hoher Qualität hinsichtlich Formgenauigkeit und Oberflächengüte der zu bearbeitenden Funktionsfläche ermöglicht und der während des Einsatzes nicht quellbar ist oder giftige Stoffe freisetzt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein formstabiles Polierpellet auf der Basis eines hochgefüllten Polymerverbundes mit einer geeigneteren Matrix zu entwickeln. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein
Polierpellet zum Polieren von optischen Gläsern oder Kristallen im Anpreßdruckbereich < 6 N/cm^, bestehend aus einer stabilen, hochgefüllten Polymermatrix, dadurch gelöst, daß diese ein zähviskoser bis weicher hydrophober Kleber, wie ein Oligobutadien mit einem Molgewicht von 700 bis 3200, vorwiegend 1, 2, verknüpft oder ein Polybutadien mit einem Molgewicht von 1000 bis 2000 mit einer 1,4- zu 1,2-Verknüpfung im Verhältnis von 90 : 10 bis 50 : 50, oder ein hochspröder, hydrophiler Kleber, wie ein a-Methylstyren-oligomeres, vorzugsweise eine a-Methylstyrenoligomerdicarbonsäure mit einem Molgewicht von 500 bis 800 und einer Säurezahl von 120 bis 180 mg/KOH/g, oder ein a-Methylstyrenmaleinsäureanhydridcopolymeres, vorzugsweise ein alternierendes a-Methylstyrenmaleinsäureanhydridcopolymeres mit einem Molgewicht von 20 000 bis 40 000, oder ein Propylenmaleinsäureanhydridcopolymeres, vorzugsweise ein alternierendes Prapylen-maleinsäureanhydridcopolymeres mit einem Molgewicht von 20 000 bis 30 000, für das Poliermittel ist
Das Poliermittel (CeC>2, AI2O3, C^Oß, SiC^) liegt im Verbund mit der Matrix gleichmäßig verteilt vor. Das Polieipellet muß entsprechend seines Anwendungsanpreßdruckes je nach Härte und Kleber-wirkung des Polymeres zum Poliermittel unterschiedliche Porosität haben. Diese wird von dem Druck, der Temperatur und der Verweilzeit beim Pressen des Polierpellets bzw. durch den Füllgrad reguliert Dieser neuartige Typ eines Polieipellets ist aufgrund seiner chemischen und physikalischen Eigenschaften im Gegensatz zu konventionellen auf Polymerbindung basierenden Polierpellets besonders für das Präzisionspolieren von Hochleistungsoptiken im Anpreßdruckbereich < 6 N/cvc? ersetzbar, wobei hohe Abragskonstanz, Glasabtrag, Oberflächensauberkeit und Formgenauigkeit »reicht werden ohne Umweltbelastung mit toxischen Stoffen. Diese Polierpellets verhalten sich entsprechend der eingesetzten Matrix mehr oder weniger viskoelastisch bzw. elastisch, so daß sie sowohl für formerhaltendes als auch formgebendes Polieren geeignet sind. Sie sind nicht quellbar.
Es ist vorteilhaft, wenn die Polymermatrix ein vor der Verdichtung thermisch vernetztes Oligobutadien ist oder ein vor der Verdichtung vernetztes unstabilisiertes modifiziertes Polybutadien, bzw. wenn der Anteil der Polymeres 0,5 bis 20 Masseanteile in %, bezogen auf die Gesamtmasse, beträgt
Es entfällt die Zuführung von Poliermittelsuspension während des Polierprozesses. Nur geeignetes Kühl-bzw. Spülmittel muß zugeführt werden.
Das Polierpellet enthält relativ hohe Mengen an Poliermittel (80 - 99,5 Masseanteile in %). Dabei wird der Füllgrad und die Porosität des Polierpellets von den mechanisch-physikalischen Eigenschaften des Polymeren und dem gewünschten Einsatzanpreßdruck bestimmt. Die hergestellten Polierpellets sind in ihrem Durchmesser -2-

Claims (4)

  1. AT 396 212 B variabel. Sie lassen sich in Abhängigkeit von der Größe der zu bearbeitenden Funktionsfläche in bekannt»* Weise auf einen Werkzeuggrundkörper aufbringen, so daß entweder eine geschlossene oder unterbrochene Wirkfläche entsteht Die Erfindung soll nachstehend anhand von mehreren Ausführungsbeispielen näh»* erläutert werden. Beispiel! 100 g Poliermittelpulver (Ce02 oder FejOß) weiden mit 20 g Oligobutadien mit einem Molekulargewicht von MG 860,89 % 1,2-Vinylgehalt, intensiv gemischt so daß das Oligomere gleichmäßig auf der Poliermittel-oberfläche verteilt ist Das so modifizierte Poliermittel wird bei 100 °C 8 h im Trockenschrank bei mehrmaligem Umrühren vernetzt. In der Preßform wird das Polymer-Poliermittel-Pulvergemisch durch Klopfen vorverdichtet und in einer beheizbaren Presse 30 min bei 100 °C und 1000 kp/m^ verdichtet Der so entstandene Poliermittelträg»' ist für das Polieren von Hochleistungsoptiken bei Anpreßdrücken < 6 N/cm^ gut geeignet Die entstandenen, tablettenförmigen Poliermittelträg» werden in bekannterWeise an das Polierwerkzeug angeklebl Beispiel 2 Die Herstellung des Poliermittelträgeis erfolgt wie im Beispiel 1 beschrieben. Als Polymeres wird hier unstabilisiertes, modifiziertes Polybutadien mit einem Molekulargewicht von MG 1800 10 % 1,4-cis-, 47 % 1,4-trans-, 43 % 1,2-Vinylverknüpfungen eingesetzt Es werden 5 g Polybutadien und 193 g Poliermittel (CeC>2 oder Fe^j) vermischt Beispiel 3 20 g α-Methylstyrenoligomerdicarbonsäure mit einem Molekulargewicht MG 665 werden intensiv mit 180 g Poliermittel (CeOj oder Fe^j) gemischt so daß die Poliermitteloberfläche gleichmäßig mit Polymer bedeckt ist Nach der Pulverisierung der Mischung wird diese in der Preßform vorverdichtet und bei 100 °C, 1000 kp/cm 30 min verpreßt Dieser Poliermittelträger ist für Anpießdräcke < 6 N/cm^ geeignet und ergibt sehr gute Abtragskonstanz. Beispiel 4 Die Herstellung des Poliermittelträgers erfolgt wie im Beispiel 3. Statt a-Methylstyrenoligomer-dicarbonsäure wird als Polymeres alternierendes a-Methylstyrenmaleinsäuieanhydridcopolymeres mit einem Molekulargewicht MG 30 000 verwendet Beispiel 5 Die Herstellung des Poliermittelträgers erfolgt wie im Beispiel 3. Statt a-Methylstyrenoligomerdi-carbonsäure wird als Polymeres alternierendes Propylenmaleinsärueanhydridcopolymeres mit einem Molekulargewicht von MG 20 000 verwendet. PATENTANSPRÜCHE 1. Polierpellet zum Polieren von Funktionsflächen aus Glas oder Kristall im Anpreßdruckbereich von < 6 N/cm^, bestehend aus einer mit Poliermittel hochgefüllten Polymermatrix, dadurch gekennzeichnet, daß diese ein zähviskoser bis weicher hydrophober Kleber, wie ein Oligobutadien mit einem Molgewicht von 700 bis 3200, vorwiegend 1,2, verknüpft oder ein Polybutadien mit einem Molgewicht von 1000 bis 2000 mit einer 1,4- zu 1,2-Verknüpfung im Verhältnis von 90:10 bis 50 : 50, oder ein hochspröder, hydrophiler Kleb», wie ein α-Methylstyrenoligomeres, vorzugsweise eine a-Methylstyienoligomerdicarbonsäure mit einem Molgewicht von 500 bis 800 und einer Säurezahl von 120 bis 180 mg/KOH/g, oder ein a-Methyl-styrenmaleinsäureanhydridcopolymeres, vorzugsweise ein alternierendes a-Methylstyrenmaleinsäureanhydrid-copolymeres mit einem Molgewicht von 20 000 bis 40 000, oder ein Propylenmaleinsäureanhydridcopolymeres, vorzugsweise ein alternierendes Propylenmaleinsäureanhydridcopolymeres, mit einem Molgewicht von 20 000 bis 30 000, für das Poliermittel ist
  2. 2. Polierpellet nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymermatrix ein vor d» Verdichtung vernetztes Oligobutadien ist -3- AT 396 212 B
  3. 3. Polierpellet nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymermatrix ein vor der Verdichtung thermisch vernetztes unstabilisiertes modifiziertes Polybutadien ist.
  4. 4. Polierpellet nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil des Polymeren 0,5 bis 5 20 Masseanteile in %, bezogen auf die Gesamtmasse, beträgt -4-
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9056878B2 (en) 2006-09-29 2015-06-16 Johnson & Johnson Vision Care, Inc. Hydrolysis-resistant silicone compounds

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3223021A1 (de) * 1982-06-19 1983-12-22 Menzerna-Werk Schleif- und Poliermittel Inhaber Dr.-Ing. W. u. L. Burkart- GmbH & Co, 7500 Karlsruhe Mittel zur bearbeitung von oberflaechen eines koerpers, verfahren zu seiner herstellung und verfahren zum bearbeiten der oberflaeche eines koerpers

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