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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung texturierter und/oder strukturierter Fäden und Flächengebilde aus hochpolymeren Werkstoffen, insbesondere von textilen Fäden und Flächengebilden, wobei Fäden und Flächengebilde mit einem Schrumpfmedium kontaktiert und mit energiereichen Strahlen, insbesondere Elektronenstrahlen, lokal bestrahlt werden, wobei die lokale Bestrahlung durch Intensitäts- und Ortssteuerung des Elektronenstrahles erfolgt, oder homogen bestrahlt und vor, während oder nach der homogenen Bestrahlung die durch die Strahlung gebildeten reaktionsfähigen Spezies teilweise oder vollständig entaktivierende Medien lokal eingesetzt werden, nach Patent Nr. 328058.
Als entaktivierende Medien wurden Gase und/oder Flüssigkeiten und/oder feste Substanzen verwendet. Es ist Zweck der Erfindung, vielfältig variable und gut konturierte texturierte und/oder strukturierte Fäden und Flächengebilde herzustellen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, beim Verfahren zur Herstellung texturierter und/oder strukturierter Fäden oder Flächengebilde verwendeten entaktivierenden Medien besser zu lokalisieren.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäss dadurch gelöst, dass Fäden oder Flächengebilde nach der homogenen Bestrahlung mit energiereichen Strahlen lokal einer Druckbeanspruchung ausgesetzt werden. Durch diese lokale Druckbeanspruchung werden die durch die Bestrahlung mit ionisierenden Strahlen gebildeten Radikale partiell abgetötet.
Der anzuwendende Druck liegt je nach der Länge der Applikationszeit zwischen 10 kp/cm2 bis zu einem Wert, der knapp unterhalb des Druckes liegt, der zu einer Zerstörung des Fasergefüges führt. Zweckmässig ist es, als Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens ein die Fäden und Flächengebilde aufnehmendes Walzenpaar vorzusehen, deren eine Walze einen der angestrebten Musterung entsprechend profilierten Belag besitzt.
Durch diese Verfahrensweise ist eine breite Palette von Musterungseffekten zugängig. Die derart
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schematische Darstellung des Verfahrens zur Strukturierung eines Polyamidseiden-Kettengewirkes, Fig. 2 eine Seitenansicht des Walzenpaares.
Beispiel l : Ein Polyamidseiden-Kettengewirke--l-- (Fig. l) wird unter dem Scanner--2-- eines Elektronenbeschleunigers--3--mit Elektronenstrahlen-4--bis zu einer Dosis von 4. 106 rad
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Im Walzenpaar-5-besitzt12% igen wässerigen Akrylamidlösung --7-- bis zu einer Massezunahme von 20% gepfropft. In der Waschmaschine --8-- wird mittels des Waschmediums --9-- nicht umgesetztes Monomeres aus dem Material ausgespült, das anschliessend im Trockner--10--getrocknet wird.
PATENTANSPRÜCHE :
1. Verfahren zur Herstellung texturierter und/oder strukturierter Fäden und Flächengebilde aus hochpolymeren Werkstoffen, insbesondere von textilen Fäden und Flächengebilden, wobei Fäden und Flächengebilde mit einem Schrumpfmedium kontaktiert und mit energiereichen Strahlen, insbesondere Elektronenstrahlen lokal bestrahlt werden, wobei die lokale Bestrahlung durch Intensitäts- und Ortssteuerung des Elektronenstrahles erfolgt, oder homogen bestrahlt und vor, während oder nach der homogenen Bestrahlung die durch die Strahlung gebildeten reaktionsfähigen Spezies teilweise oder vollständig entaktivierende Medien lokal eingesetzt werden, nach Patent Nr.
328053, dadurch gekennzeichnet, dass Fäden oder Flächengebilde nach der homogenen Bestrahlung mit energiereichen Strahlen lokal einer Druckbeanspruchung ausgesetzt werden.
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The invention relates to a method for producing textured and / or structured threads and fabrics from high-polymer materials, in particular textile threads and fabrics, with threads and fabrics being contacted with a shrinking medium and locally irradiated with high-energy rays, in particular electron beams, with the local irradiation takes place by intensity and location control of the electron beam, or homogeneously irradiated and before, during or after the homogeneous irradiation, the reactive species formed by the radiation partially or completely deactivating media are used locally, according to Patent No. 328058.
Gases and / or liquids and / or solid substances were used as deactivating media. It is the purpose of the invention to produce highly variable and well-contoured textured and / or structured threads and fabrics.
The invention is based on the object of better localizing deactivating media used in the method for producing textured and / or structured threads or flat structures.
The object is achieved according to the invention in that threads or flat structures are locally exposed to compressive stress after the homogeneous irradiation with high-energy rays. This local pressure load partially kills the radicals formed by exposure to ionizing radiation.
Depending on the length of the application time, the pressure to be applied is between 10 kp / cm2 up to a value that is just below the pressure that leads to the destruction of the fiber structure. It is expedient to provide, as the device for carrying out the method, a pair of rollers which take up the threads and surface structures, one roller of which has a covering which is profiled according to the desired pattern.
A wide range of patterning effects is accessible by doing this. That kind of
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schematic representation of the method for structuring a polyamide silk warp knitted fabric, FIG. 2 is a side view of the pair of rollers.
Example 1: A polyamide silk warp knitted fabric - 1 - (Fig. 1) is under the scanner - 2 - an electron accelerator - 3 - with electron beams - 4 - up to a dose of 4.106 rad
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In the pair of rollers-5-has 12% aqueous acrylic amide solution --7-- grafted up to a mass increase of 20%. In the washing machine --8--, unreacted monomer is rinsed out of the material by means of the washing medium --9--, which is then dried in the dryer - 10 -.
PATENT CLAIMS:
1. A method for the production of textured and / or structured threads and fabrics from high polymer materials, in particular of textile threads and fabrics, whereby threads and fabrics are contacted with a shrinking medium and locally irradiated with high-energy rays, in particular electron beams, the local irradiation by intensity and local control of the electron beam takes place, or homogeneously irradiated and before, during or after the homogeneous irradiation, the reactive species formed by the radiation are used locally, partially or completely deactivating media, according to patent no.
328053, characterized in that threads or flat structures are locally exposed to compressive stress after homogeneous irradiation with high-energy rays.
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