AT306829B - Verfahren zum Herstellen einer Photomaske zur Erzeugung von Flächenmustern, insbesondere von gedruckten Schaltungen - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Photomaske zur Erzeugung von Flächenmustern, insbesondere von gedruckten Schaltungen

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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • H—ELECTRICITY
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    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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AT835068A 1968-08-05 1968-08-28 Verfahren zum Herstellen einer Photomaske zur Erzeugung von Flächenmustern, insbesondere von gedruckten Schaltungen AT306829B (de)

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