AT20451B - Schablone zur Stickrahmenbewegung mittels Pantographen. - Google Patents

Description

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  Schablone zur   Stickrahmenbewegung mittels Pantographen.   



   Den Gegenstand der vorliegenden Erfindung bildet eine Schablone zur Stickrahmenbewegung mittels Pantographen. deren kennzeichnende Merkmale im wesentlichen darin bestehen, dass das Muster in der aus Metall etc. hergestellten Platte entsprechend tief 
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 mit den Konturlinien desselben in solcher Verbindung stehen, dass der am Pantographen befindliche Fahrstift in den Konturlinien und Schraffierstrichen eine zwangläufige Führung erhält und aus den   Umrisslinien   in die Schraffierstriche oder umgekehrt übergeleitet werden kann, ohne dass ein Ausfahren aus der Schablone stattfindet. 



   Wie die Fig. 1 der umstehenden Zeichnung in Oberansicht und die Fig. 2 bis 4 in verschiedenen Schnittansichten   erkennen lassen,   sind das Muster und die Schraffierstriche in eine aus Metall etc. hergestellte Platte a eingraviert, und zwar so tief, dass der Fahrstift mit der Spitze in die Umrisslinien und Schraffierstriche des Musters eingesetzt werden kann und darin zwangläufig geführt wird, wobei die Umrisslinien und   Schraffier-   striche so ineinander laufen, dass der Fahrstift in der Grundfläche des Musters ohne weiteres aus den Umrisslinien in die Schraffierstriche oder umgekehrt übergeleitet werden kann. 



   Die vorbeschriebenen Schablonen bieten gegenüber den bisher bekannten den grossen Vorteil, dass ein Ausfahren mit dem Stifte aus dem Muster der Schablone nicht vorkommen kann und das danach gestickte Muster deshalb in allen Teilen gut   ausfällt.   Die in geeigneter Weise hergestellten Musterzeichnungen als solche können einzelne Buchstaben, Monogramme, Verse, Blumen etc. darstellen. 

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Claims (1)

1. PATENT-ANSPRUCH : Schablone zur Stickrahmenbewegung mittels Pantographen, dadurch gekennzeichnet, dass die Umrisslinien und Schraffierstriche der auf einer Platte (a) dargestellten MusterZeichnung tiefe, ineinander laufende Furchen bilden, so dass der Fahrstift im Muster der Schablone eine zwangläufige Führung erhält und ohne weiteres aus den Umrisslinien in die Schraffierstriche oder umgekehrt übergeleitet werden kann, ohne dass ein Ausfahren des Pantographenstiftes aus dem Muster zu befürchten ist. **WARNUNG** Ende CLMS Feld Kannt Anfang DESC uberlappen**.