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Photographische Kamera in Verbindung mit einem photoelektrischen Belichtungsmesser.
Bei photoelektrischen Beliehtungsmessern, die mit der Irisblende des. Objektivs gekuppelt sind, ist es bekannt, die aufeinanderfolgenden Blendenwerte, welche ungleiche Drehwinkel besitzen, durch mechanische Ausgleichsgetriebe auf die für die Widerstandsverstellung notwendigen gleichen Drehwinkel umzuformen. Die Verwendung von mechanischen Ausgleichsmitteln ist in der Fabrikation sehr teuer.
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kann dies beispielsweise dadurch geschehen, dass man den Widerstand aus verschiedenen Widerstandsmaterialien herstellt, deren Widerstandskoeffizienten entsprechend der Blendenskala ansteigen. Wird nun der über dem Widerstand laufende Schleifkontakt nach der ungleichmässigen Blendenskala verstellt, so ändert sich trotzdem der Widerstandswert in Ohm gemessen, gleichmässig.
Diese Arten von Widerständen lassen sich auch sinngemäss anwenden für ungleichmässige Verschlussgeschwindigkeitsskalen, wie z. B. bei der Zeiteinstellskala für Schlitzverschlüsse.
In der Zeichnung sind im Schema zwei Ausführungsbeispiele der Erfindung dargestellt. In Fig. 1 stellt 1 die ungleichmässige Blendenskala mit dem ihr zugeordneten Widerstand 2 dar, der aus verschiedenen Widerstandsmaterialien 2a, 2b, 2e usw. mit wachsenden Widerstandskoeffizienten hergestellt ist. Der mit einem Kontakt versehene Zeiger 3 überstreicht verschieden grosse Widerstandsstüeke entsprechend der Blendenskala 1, verändert aber den Widerstand ohmmässig um gleiche Beträge. 4 ist eine mit gleichmässiger Teilung versehene Belichtungszeitenskala, wie dies z. B. bei Automatverschlüssen der Fall ist. Entsprechend zur Skala 4 liegt ein Widerstand 5, welcher nur aus einem Material hergestellt ist und vom Kontaktzeiger 6 überstrichen wird.
Die ganze Anordnung ist in bekannter Weise mit der Sperrschichtzelle 7 und dem Messinstrument 8 des photoelektrischen Belichtungsmessers in Serie geschaltet. Selbstverständlich können noch weitere Korrekturgrössen, wie z. B. Empfindlichkeit des Aufnahmematerials berücksichtigt werden.
Fig. 2 zeigt dieselbe Anordnung, jedoch ist hiebei auch die Zeitskala 4 ungleichmässig, wie dies z. B. bei Schlitzverschlüssen der Fall ist. Der zugehörige Widerstandsteil 5 besteht hier ebenfalls aus verschiedenen Widerstandsmaterialien 5a, 5b, 5e usw., deren Widerstandskoeffizienten der Zeitskala entsprechend proportional sind.
PATENT ANSPRÜCHE :
1. Photographische Kamera in Verbindung mit einem photoelektrisehen Belichtungsmesser, welcher mit der Zeit-und Blendeneinstelleinrichtung gekuppelt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die die Belieh- tungsdauer beeinflussenden Grössen (Versehlussgesehwindigkeit, Blendenöffnung) durch Widerstände gebildet werden, von denen jeder aus verschiedenen Widerstandsmaterialien mit verschiedenen Widerstandskoeffizienten hergestellt ist.
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Photographic camera in conjunction with a photoelectric light meter.
In the case of photoelectric exposure meters which are coupled to the iris diaphragm of the objective, it is known to convert the successive diaphragm values, which have unequal angles of rotation, to the same angle of rotation necessary for the resistance adjustment by means of mechanical differential gears. The use of mechanical compensating means is very expensive to manufacture.
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This can be done, for example, by making the resistor from different resistor materials whose resistance coefficients increase according to the aperture scale. If the sliding contact running across the resistor is adjusted according to the uneven aperture scale, the resistance value, measured in ohms, changes evenly.
These types of resistances can also be used analogously for uneven shutter speed scales, such as B. with the time setting scale for focal plane locks.
In the drawing, two exemplary embodiments of the invention are shown in the scheme. In Fig. 1, 1 represents the uneven aperture scale with its associated resistor 2, which is made of different resistance materials 2a, 2b, 2e, etc. with increasing resistance coefficients. The pointer 3, which is provided with a contact, sweeps across different sized resistance pieces according to the diaphragm scale 1, but changes the resistance by equal amounts. 4 is a uniformly graduated exposure time scale, as shown, for. B. is the case with automatic closures. Corresponding to the scale 4 there is a resistor 5 which is made of only one material and is swept over by the contact pointer 6.
The whole arrangement is connected in series in a known manner with the barrier layer cell 7 and the measuring instrument 8 of the photoelectric exposure meter. Of course, other correction variables such as B. Sensitivity of the recording material must be taken into account.
Fig. 2 shows the same arrangement, but here also the time scale 4 is uneven, as z. B. is the case with slot shutters. The associated resistance part 5 here also consists of various resistance materials 5a, 5b, 5e, etc., whose resistance coefficients are proportional to the time scale.
PATENT CLAIMS:
1. Photographic camera in connection with a photoelectric light meter, which is coupled to the time and aperture setting device, characterized in that the quantities influencing the exposure time (speed of closure, aperture opening) are formed by resistors, each of which is made of different resistance materials with different Resistance coefficient is established.
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