AR042432A1 - Un metodo y disposicion de cementacion asistida por plasma - Google Patents
Un metodo y disposicion de cementacion asistida por plasmaInfo
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Abstract
Reivindicación 1: Un método de cementación asistida por plasma de un primera región superficial de un objeto, comprendiendo el método: iniciar un plasma exponiendo un gas a radiaciones electromagnéticas que tengan una frecuencia de menos de aproximadamente 333 GHz en la presencia de un catalizador de plasma, en el que el plasma contiene carbono; y exponer la primera región superficial del objeto al plasma durante un período de tiempo suficiente para transferir por lo menos algo de carbono del plasma al objeto a través de la primera región superficial. Reivindicación 29: Un disposición para cementación asistida por plasma de un objeto, comprendiendo el sistema: un catalizador de plasma; un recipiente en el que una cavidad está formada y en la que un plasma puede ser encendido exponiendo una gas a radiaciones electromagnéticas que tengan una frecuencia de menos de aproximadamente 333 GHz en la presencia del catalizador de plasma en la cavidad; y una fuente de radiaciones electromagnéticas conectadas a la cavidad para dirigir la radiación hacia dentro de la cavidad.
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