TW385315B - Manufacturing method for macromolecular compounds with cross linking group - Google Patents

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TW385315B
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Satoshi Watanabe
Tomoyoshi Furuhata
Yoshifumi Takeda
Toshinobu Ishihara
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Description

其特徵 聯基使 材料時 度下具 細圖形 對圖形 術的遠 .5 形成具 的製造方法， 0 — C基之交 配合使用抗蝕 見比m慜 I製造用之微 高速度化及， 之微細加工技 刻可加工至〇 材料時，亦可 A7 ______._B7 五、發明説明（1 ) 本發明係有關一種高分子化合物 爲，分子內及/或分子間以具有:c -其交聯，又，以此化合物爲基料樹脂 ，可提供大幅提升曝光前後之驗溶展 有髙解像性，特別係適合作爲超L S 成型材料的_化^增幅正型抗蝕材料..· 近年來隨著L S I之髙龜咸化及 規格之微細化的要求，因此，新世代 紫外線蝕穷]深受注目•因f紫外線蝕 Am以下，故使用光吸收性差之抗蝕 有近乎垂直於基板之側壁的圖形。 而近年來所開發出的酸爲觸媒之化學增幅正型抗蝕材 料（記載於特公平2.. - 27660號，特開昭63- η Μ 讀 背 面 I 事 項 再 填! % 裝 本衣 頁 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 2 〜7 8 2 9.科 Μ麵紫外線 性之優良特 有效之抗蝕 已知的 酸發生劑所 具有酸不安 例如， 號公報 光源之 徵的鸯 材料^ 這類化 形成的 定基之 特開昭 等），對以髙亮度 ，具有髙霣敏度， 紫外線刻而言係 學增幅正型抗蝕材 二成分系及，由基 溶解控制劑所形成 K r F准分子 解像性，乾式 -種受入期待 料有，由基料 料樹脂，酸發 的三成分系。 0號公報中所 ，由聚一 4 一 t 62-11544 r t 一丁氧基苯乙烯及酸發生劑 之抗蝕材料 公報所揭示 及，類 之，由 似此提案的特開平 分子內具有t e r 3 - 2 2 3 8 t 一丁氧基之 激光器 蝕刻耐 的特別 樹脂， 生劑， 揭示的 所形成 5 8號 樹脂及 響 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 4 A7 B7 五、發明説明（2 ) 酸發生劑所形成的二成分系抗蝕材料，或特開 2 1 1 2 5 8號公報所揭示之，杳有甲基，異 t e r t — 丁基，四氫化吡喃基，三甲基甲矽 基苯乙烯;及酸發生劑所形成的二成分系之抗蝕 : 、. ......... — 又，特開平6 - 1 0 0 4 8 8號公報掲示 3，j 一雙（2 —四氫化吡喃基羥基）苯乙烯 ，4 一雙（t e r t —丁氧基羰基羥基）苯乙 經濟部中央標準局舅工消費合作社印製 3 > 5 -基苯乙烯 但， 安定基之 t e r t 空氣中之 基分解， 於如乙氧 因此，其 曝光至加 點，又， 無法符合 故現狀上 所以 f ( 2 —四 衍生物 因這些 物，而 一丁氧 鹼性化 因此， 基乙基 受空氣 熱處理 因其側 靈敏度 未達實 ，以交 及酸發 抗蝕材 酸不安 甘班甘 合物起 易使此 等般的 中之鹸 爲止之 鏈上具 及解像 用性， 聯化高 j匕吡喃基羥基 生劑所形成的 料之基料樹脂 定基係，如t 般需強酸方能 反應而失活的 抗蝕材料之圖 烷氧基烷基爲 性化合物的影 時間過程中圖 有高嵩之基， 度之物。上述 因此，非常希 分子化合物爲 )苯乙烯 抗蝕材料 爲，側鏈 e r t ^ 分解之物 結果將難 形成爲T 弱酸所能 響較少， 形形狀會 故耐熱性 各材料因 望能改善 基料樹脂 平4 -丙基， 烷基之聚羥 材料。了，由！〔 〕，聚 L3 烯〕，聚_〔 〕等聚二羥 〇 上具有酸不 丁基， ，又，其與 使酸不安定 頂形狀。至 分解之物， 但，其有於 非常細之缺 差，係一種 均有問題， 這些問題。 將深受注目 目前的交聯化反應一般係以負型抗蝕材料.爲代表^，例: 如，以酸使六甲氧基甲基蜜胺，聚乙烯基苯酚所形成之樹 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 诗 先 « 讀 背 之 注 意 事 項¢,r装 頁 订 5 .· A7 ________B7_^_ 五、發明説明（3 ) 脂交聯化？.而成爲不溶性•即，交聯化反應之目的爲使樹 脂不溶。但，作爲正型抗蝕材料使用之樹脂時，其需可溶 於溶劑中。.因目前之交聯化反應的目的爲使樹脂不溶，故 此交聯化合物無法作爲正型抗蝕材料使用。 又，作爲正型抗蝕材料使用時，曝光部分需爲可溶性 ，而目前的次曼.复基等之交聯化反應中，係無法 分解得到可溶於鹼之樹脂· 另外，山岡等提出了，由聚乙烯基苯酚衍生物及二乙 烯基醚化合转JP A G之混合系熱交聯而成的化合物，因可 利用曝光而分解，故能作爲正型抗蝕材料使用之報告（P-〇1ymers for Advanced Technologies, vol.5, pp.499-506;Chem mater.， vol.6， No.10， 1994， pp.1854) e 但，因聚乙烯基苯.酚衍生物及二乙烯基醚化合物之熱 交聯化反應的反應時間長，故難於控制其交聯化率，而有 二乙烯基醚化合物之不反應物殘存成爲殘渣等問題· 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 (請先Μ請背面之注意事項再填寫本頁) 已知的乙縮醛基之交聯化反應的方法有，於存在二醇 之情形下使酸及二乙烯基醚化合物反應的方法•但，此方 法會同時起交聯反應及側鏈之乙縮醛化反應，因此，無法 僅選擇任何一方之反應*又，因側鏈之乙縮醛化反應與交 聯反應的競爭，故非常難於控制反應比率•另外，此反應 過程中會有生成酸難於分解之交聯化反應物的問題。 有鑑於此，因此，汰發明戈目的爲提供一種高分子化 合物之製造方法，而此化>杨爲，牵劑可溶性之具有已控 制取代率的，不安定交聯基y '，作爲基料樹脂使用並配合 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -6 - 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（4 ) 使用於抗蝕材料時，能提供可提髙目前之抗蝕材料的高霣 敏度，高赛像度，曝光寬餘度及具有作業適應性，優良等 離子體蝕刻耐性及抗蝕圖形之耐熱性的化學增幅正型抗蝕 材料》 爲了達成上述目的，經本發明者專心硏討後發現，於 具有下列一般式（1 )所示重覆單位之重量平均分子量爲 1，000〜500，00 0的鹼可溶性高分子化合物上 ，使下列一般式（2a) ，（3a)之鏈烯醚化合物，或 下列一般式（2 b ) ，（ 3 b )之鹵化烷基醚化反應，可 得到上述式（1 )之高分子化合物的苯酚性羥基間之分子 內及/或分子間係以Q所示交聯基交聯而成之，一般式（ 8 a )或（8 b )的交聯髙分子化合物，又，此交聯基可 因酸而脫離，而生成上述式（1 )之鹼可溶性高分子化合 »· 一............. 物，因此，可利用前述鏈烯醚化合物或鹵化烷基醚化合物 之使用量，而易於控制式（1 )之酸不安定交聯基的導入 量，故能解決上述之目前的問題。另外，導入前述酸不安 定交聯基的同時可與下列一般式（4 a )所示之化合物起 反應，因此，可同時導入下列一般式（9 )所示之酸不安 定基，而以簡單的步驟得到具有下列一般式（5 a )或（ 5 b )之交聯基及酸干安定基的髙分子化合物，又，含有 前述交聯基及各種酸不安定基之髙分子化合物具有工業利 益，故而完成了本發明· 即’本發明係提供下列髙分子化合物之製造方法* 〔I〕特徵係，於重量平均分子量爲1 ，000〜 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ----l·-----^-- Γ諳先《讀背面之注意事項再^^35'本頁) *va _ A7 ___B7 五、發明説明（5 ) 500，000之具有下列一般式（1)
R1 I
( 其 中 9 R 1 爲 氫 原 子 或 甲 基 » R 2 爲 碳數1 8 之 直 鏈 > 支 鏈 或 環 狀 烷 基 0 又 9 X 爲 0 或 正 整 數，y 爲 正 整數 X + 7 5 之數 a P 1 f P 2 爲 正 數 > q 1 ， q 2 爲 0 或 正 數 9 又 9 0 < P 1 / ( P 1 + P 2 + q 1 + Q 2 ) 0 • 8 » 0 Q 1 / ( P 1 + P 2 + Q 1 + Q 2 ) 0 • 8 9 0 q 2/ (P 1 + p 2 + q 1 + Q 2 :〕 丨$ 0 • 8 9 P 1 + P 2 + Q 1 + Q 2 1 之數， 但 9 Q 1 及 Q 2 不 可 同 時 爲 0 ) 所 示 重 覆 單 位 之 高 分子化 合 物 的 苯 酚 性 羥 基 之 部 分 氫 原 子 上 ， 使 對 此 全 苯 酚 性羥基 1 克 分 子 爲 P 1 克 分 子 之 下 列 — 般 式 ( 2 a ) 或 ( 3 a ) ————,——〆-I kI- ! J r ,,. {諳先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 R· R8* A-eO^-O^C^HL (2a) R9 Rta A-eB-R13-〇-C=CHL (3a) (其中，R8e爲氫原子或碳數1〜7之直鏈，支鏈或環狀 烷基，R9爲氫原子或碳數1〜8之直鏈，支鏈或環狀烷 基，又，R ^及Re可形成爲環狀，當形成爲環狀時， R8a爲碳數1〜7之直鏈或支鏈烯烴基’ Re爲碳數1〜 8之直鏈或支鏈烯烴基。R1 3爲碳數1〜1 0之直鏈或支 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8 ~ •________:_B7_ 五、發明説明（6 ) η 先 閱 讀 背 ίι 之 注 意 事 項 再 填' 窝 本 1 鏈烯烴基。A爲c價之碳數1〜5 0的脂肪族或脂環式飽 和烴基，或芳香族烴基，雜環基，又，這些基可分別介有 氧原子，氮原子，硫原子等雜原子，或此碳原子上所結合 之部分的氫原子可受羥基，羧基，羰基或氟原子所取代。 B 爲一C0 — 0 -，一 NHC〇7〇 一或一 NHCONH —，c爲2〜8之整數，（1爲0或1〜10之整數）所示 的鏈烯醚化合物及，對上述全苯酚性羥基1克分子爲q1 克分子之一般式（4 a) R6 R乜-CH=C_0Re C4 a) (其中，R “爲氫原子或碳數1〜7之直鏈，支鏈或環狀 焼基，R5爲氫原子或碳數1〜8之直鏈，支鏈或環狀烷 基，Re爲可具有碳數1〜18之雜原子的.1價羥基’又 ，R4a與R5 ，尺4«與尺6 ，R5與可形成爲環狀， 當形成爲環狀時，R 4β爲碳數1〜7之直鏈或支鏈烯烴基 ，：R5及Re爲各別的碳數1〜8之直.鍵或支鏈烯烴基。 )所示化合物反應之’具有下列一般式（5 a )或（5 b 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公兼） 五 明説 明 發 7 A7 B7
(5 a) 請先閲讀背面之注意事項本頁) 裝. 經濟部中央標準局β：工消費合作社印聚
—(CHiC)pr 訂 R' . * -.. (其中，R1 ，R2同上述。R4爲氫原子或碳數1〜8 之直鏈，支鏈或環狀烷基，R5 ，Re同上述，又，R4 與R5 ，R4與Re ，R5與Re可形成爲環狀，當形成 爲環狀時，R4 ，R5 ，Re爲各別之碳數1〜8的直鏈 本饫汝尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2丨0X297公釐） 一 10 - A7 B7 五、發明説明（8 ) 或支鏈烯烴基。2 y同上述 爲〇或正整數 整數，又，m+n = y。p1 ，q 1 ，q η爲正 同上述 Q爲下列式（i)或（ϋ)所示之基 R* R* -CiO-R'^O-A C-〇-(R,3-〇)<.-Cir-R· R* (i) R« 一 R1 I I -C-〇-Rl3-B-A [-B-R,3-0-CiT- Re R* (其中，R 8 或環狀烷基。 狀時，R 8 ， R 13爲碳數1 1 0之整數。 飽和烴基，或 原子，或此碳 ，R 0爲氫 又，R 8與 R 9爲碳數 〜1 0之直 A爲c價之 芳香族烴基 原子上所結 原子或碳數1 R β可形成爲 1〜8之直鏈 鏈或支鏈烯烴 碳數1〜5 0 ，雜環基，又 合的部分之氫 經濟部中央標準局系工消f合作社印製 基，羰基或氟原子所取代。Β爲一 CO 一.二.. .. -NHC〇-〇-^-NHCONH- (i i) 〜8之直鏈，支鍵 環狀，當形成爲瓌 或支鏈烯烴基。 基，d爲〇或1〜 的脂肪族或脂環式 ，這些基可介有雜 原子可寶羥基羧 —〇 一 ’ 。c爲2〜8 ， 爲1〜7之整數。）〕所示重覆單位之髙分子化合物 的製造方法。 〔II〕特徵係，使重量平均分子量爲1 ，0 0 0〜 500，000之具有下列一般式（1) 本饮张尺度適用中囡國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） cc-ijt·先Jwft背面之注意事項於k本育) 装 订 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 五、發明説明（9 ) R1
I
(其中，R1 > R 2 » X > y » P 1 * P 2 ，q.i ，q2· 同上述。）所示重覆單位之高分子化合物的苯酚性羥基之 部分氫原子與，對此全苯酚性羥基1克分子爲pi克分子 之下列一般式（2b)或（3b) R9
I A-fO-^R^-O^C-R^c (2 b)
I z R9
I A-f B-R^-O-C-R8],. .(3b)
Z (其中，R8 , R 9 ，尺13，.八，8，(：，（1同上述，2 爲鹵原子。）所示之鹵化烷基醚化合物及，對前述全苯酚 性羥基1克分子q1克分子之下列一般式（4 b)
Rs H^-C-OR4 (4b)
Z (其中，R4 ，R5 ，116 ，2同上述。）所示化合物反 應之，具有下列一般式（5 a)或（5b) 本纸张尺度適用中國國家樣準（CNS ) A4規格（210Χ；297公釐） -----------^-- (旖先聞讀背面之注意Ϋ項一^V,.本頁) 訂 -線- Φ -12 - 五、發明説明（10
R1 —(CH2C)i R2x-
A7 B7 R1 R'
R1 R1 R1 I -iCB.2Ch
R1 I (5 a) ------------^-- 請先閲讀背面之注意事項寫本頁) 訂
(〇H)m R2, 經濟部中央標準局負工消費合作社印製
/ 0 (0 1 1 Q R4-C-Rfi 1 \ π ) 1 | Ο-R*)
(〇H)y (5b) (其中，R1 > R 2 > R 4 > R 5 ，Re ，Q，x’y， m，n，p1 ，p2 ' q 1 ，q2同上述，。）所示重覆單 位之高分子化合物的製造方法。 . 〔瓜〕特徵係，對具有上述一般式（1 )所示重覆單 本认悵尺度適用中國國家標準（CNS ) A4说格（210X297公釐） 線 -13 _ 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 _____ B7___ 五、發明説明（11 ) 位之髙分子化合物的全苯酚性羥基1克分子 分子之下列一般式（7)所示的塞，t e r 烷基甲矽烷基或酮烷基，而得到具有下列一 或（6 d )所示重覆單位的髙分子化合物之 或〔Π〕所記載的髙分子化合物之製造方法 0 -(CHJrC-0-R7 (其中，R7爲氫原子或碳數4〜12之3 0〜6之整數。） 1 R1 R1 R' I I I —~(CHzC)^^— —(ΟΗϊΟρί--(CH2Cte--- R2*-〇 记R2: \ f ? 1 \ R4-C-R5 V 0-Re >
R2 Q 基 6 C 入烷 {述 導 I 式上 ，t 般 ，
C 克三 烷 級 7
M B -----,--------裳！ A辞先閑讀背面之注意事一fc/3?本
W 訂 -
-14 一 本纸讥尺度適用中國囤家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 五、發明説明（12) Α7 Β7
—(CH2C)pr 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 R1 (其中，R3爲上述式（7)所示之基，tert —烷基 ，三院基甲矽烷基或酮烷基《R1 > R 2 · R 4 ，R5.， R 6 ，R7 ,Q»x*y»m>n>p1 ，P2 * q 1 ， q 2同上述。） ·· 〔IV〕特徵係，對具有上式（1 )所示重覆單位之髙 分子化合物的全苯酚性羥基1克分子，導入d 2克分子之 下列一般式（7 ) 0 -(CH^C-0-R7 (7) (其中，R7 ，a同上述。），而得到具有下列一般式（ 6 a)或（6 b )所示重覆單位的高分子化合物之，上述 〔皿〕所記載之高分子化合物的製造方法β --------------裝-- 4請先閲讀背面之注意事項本頁) 訂 |線- 本纸队尺度通用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~ 15 - 五、發明説明（13
R1 <c R1 I HzCk
/ 0 A7 B7 R1 I —(CH2C^«~ 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 5
R4-C-R5 I 0 -^^(OH)™ R2 -- Rl 於重量平均分子量係 I：有下列一般式（1 ) R' I —(CH2C)3r (0H)m R4-C-Rs 0-Re
(〇H)m R\
(〇H)y (6 a) OR7 I C=0 (CHz). 0 ♦ {CH2Cfe- (〇H)m R\
—(CH2Cfe- R1 (〇H)y 請先閲讀背面之注意事項4Γ4..寫本頁) -裝_ R1 R1 R1 R1
，R 4 ，R 5 ，R 6 ，R 7 ，Q，X ，P 2 ，q 1 ，Q 2 同上述。） 0 0 0 本纸张尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 訂 -16 - A7 B7
五、發明説明（14 (1) .(其中 ’R1 ，R2 ，x，y，p1 » p 2 ，qi ，q2 同上述。）所示重覆單位之髙分子化合物的苯酚性羥基之 部分氫原子上，使對此全苯酚性羥基1克分子爲pi克分 子之下列一般式（2 a_)或（3 a.)
Re Ru Α+Ο 册 3-〇)rC»CH〕c (2a) ----,--^---^-- 請先閲讀背面之注意事項产-^本頁) R9 Rta A-eB-R13-〇-〇CH〕c (3 a) 訂 所示之鏈烯醚化合物，或者下列一般式（2 b )或（3 b —線 經濟部中央標率局負工消費合作社印製
R9 A+0~(R13-〇^-r8〕c Z
R9 A-6B-R13-〇-C-Ra]c Z (2 b) (3 b) (其中，R8 ，Re ，R13，A，B，Z，c，d 同上述 e )所示之鹵化烷基醚化合物反應之，具有下列一般式（ 8a)或（8b) 本饫iR尺度適用中國國家樣準（CNS ) A4規格（210X297公釐} A7 B7 五、發明説明（ 15
b 8 '、· 令請先W讀背面之注意事項本頁) -裝
a 8 訂 線 經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 (其中，R1 » R 2 ，Q，x，y，pi . p 2 » q ι , q2同上述。）所示重覆單位之髙分子化合物的製造方法 〇 〔VI〕特徵爲，對具有上述一般式（1 )所示重覆單 位之髙分子化合物的全苯酚性羥基1克分子，導入q1克 分子之下列一般式（9 )所示的基，而得到具有上述一般 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X29*7公釐） 18 _ Μ Β7 五、發明説明（16 ) 式（5 a )或（5 b )所示重覆單位的高分子化合物之， 上述〔V〕所記載之高分子化合物的製造方法。 R4 -C-0-R8 ⑻
I R5 (其中，R4 * R 5 ，Re同上述》) 〔VII〕特徵爲，對具有上述一般式（1 )所示重覆單 位之高分子化合物的全苯酚性羥基1克分子，導入Q2克 分子之上述一般式（7)所示的基，t e r t -烷基，三 烷基甲矽烷基或酮烷基，而得到具有上述一般式（5 c ) 或（5 d )所示重覆單位的高分子化合物之，上述〔V〕 所記載之高分子化合物的製造方法。 、(請先閲讀背面之注意事項广1寫本頁) -裝· 訂 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製
\1/ C 5 /V 線- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -19 - 五、發明説明（ 17 R1 R1
R1 2 , R 3 , (其中，，p 2 ， C Μ 高分子化 之上述一 甲矽烷基 6 d )所 載之高分 又， 鍵結，（ 本發 使上述交 分子化合 業上製造 又， R 1 ，Rq 1 ' q 〕特徵爲 合物的全 般式（7 或酮烷基 示重覆單 子化合物 上述式（ 5b)， 明之製造 聯基或酸 物的交聯 A7 B7
(〇H)y 2同上述。 ，對具有一 苯酚性羥基 )所不的基 ，而得到具 位的高分子 的製造方法 5 a )，（ (6b)， 方法因易於 不安定基脫 基或酸不安 (5 d) 請 先 閲 讀 背 面 之 裝 頁
Q y η ， ρ 般式（1 )所示重覆單位之 1克分子，導入q2克分子 ，t e r t —院基，三焼基 有上述一般式（6 c)或（ 化合物之*上述〔VI〕所記 訂 線 經濟部中央標準局貝工消費合作社印策 6a)* ( (8 b )爲 控觥售1可 --夕 離而成爲鹼 定基之導入 8 a )爲分子間 分子內鍵結。 溶性之，可用酸 可溶性之交聯髙 量，故有利於工 以本發明所製得之髙分子化合物爲基料樹脂，並 本紙張尺度逍用中國國家標隼（CNS ) Μ规格（210X297公釐） -20 - A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印裝 五、發明説明（18 ) \ 配合使用於化學增幅正型抗蝕材料時，因此化合物係以上 述交聯基交聯，故溶解阻止性大並有曝光後溶解對比亦 大之優點。 即，若爲側鏈上單獨附加烷氧基烷基之聚合物時，雖 可以弱酸進行脫離反應，而難於形成T頂形狀，但，如上 述般，因其對酸極敏感，故於曝光至加熱處理爲止之時間 過程中會有圖形形狀非常細的缺點。又，其對鹼之溶解阻 止效果低，因此，爲了要得到溶解對比則需使用髙取代率 體，故有欠缺耐熱性之缺點•另外，若爲以t e r t —丁 氧基羰基保議苯酚性羥基之側鏈的聚合物時，其配合抗蝕 材料的結果雖有鹸溶解阻止性良好，可以低取代率得到溶 解對比，良好耐熱性之優點，但，爲了使其脫離而成爲鹸 可溶性時，則需有能產生三氣甲烷磺酸等強酸之酸發生劑 ，故會有使用此類酸之易於形成T頂形狀的缺點· 相對於這些化合物，則使用上述般，使部分之苯酚性 羥基與鏈嫌醚化合物或鹵化烷基醚化合物反應，而得到的 以上述交聯基交聯之高分子化合物的抗蝕材料可爲，能消 除以乙縮醛基保議側鏈之聚合物的耐熱性差之缺點及，以 t e r t — 丁氧基羰基保議之聚合物的易形成T頂形狀之 缺點的材料。 又，本發明所得之高分子化合物的效果有，因此化合 物係以對酸不安定之上述交聯基交聯及，必要時以酸不安 定基保議，故抗蝕膜之未曝光部分的重量平均分子量及對 鹼顯像液之溶解性不會有變化*而抗蝕膜之曝光部分的重 本紙張尺度適用中國固家標準（CNS )八衫見格（210X297公釐） 9請先閲讀背面之注意事項本頁) .裝· 订 -線 -21 - A7 B7 五、發明説明（19 ) 量平均分子量則會因所產生.之酸的分解，而使酸不安定基 脫離’結果回復到以交聯及酸不妾定基保議前之鹼可溶性 基料樹脂的重量平均分子量，故其鹼溶解速度比未曝光部 分增加很多，因此，可提髙溶解對比，而達成髙解像度化 0 另外，因上述交聯基可受酸分解•而生成醇化合物（ 二醇’三醇，聚醇化合物等），又*此親水性基可提升與 鹸顯像液之親和性，故可達成高解像度化。 即，使用上述髙分子化合物之基料樹脂的化學增幅正 型抗蝕材料極少有目前的易形成T頂形狀，圖形形狀細， 欠缺耐熱性之問題，又，可提高抗蝕膜之溶解對比及具有 高靈敏度與髙解像性及，可任意以組成控制圖形之尺寸與 圖形形狀，係作業適應性亦優良的化學增幅正型抗蝕材料 下面將更詳細說明本發明。 就本發明之交聯高分子化合物的製造方法而言*所使 用的開始原料爲，具有下列一般式（1)所示重覆單位之 重量平均分子量爲1，0 0 0〜5 0 0，0 0 0的鹼可溶 性高分子化合物* (請先閲讀背面之注意事項':》寫本頁) .裝. 訂 HR— 線 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 R1
其中，R1爲氫原子或甲基，R2爲碳數1〜8，又以1 〜5爲佳，最好爲1〜3的直鏈’支鏈或環狀烷基’而此 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨〇><297公釐）
五、發明説明（2G A7 B7 直鏈 9 支鏈或環狀烷基之例子有 甲 基， 乙基 ♦ 丙基 » 異 丙基 > . η 一 丁基 9 i s 0 一 丁基 > t e r t 一 丁基 > 環己 基， 環戊基等 ο X 爲 0 或正整數 y 爲正整數 X + y 5， 又 t y 較好爲 1 3 » 又以 1 2更佳 0 P 1 > P 2 爲正數 y q 1 9 q 2 爲0或正數 9 0 < P 1 / ( P 1 + q 1 + q 2 + P 2 ) ^ 0 * 8 9 0 Q 1 / ( P 1 + q 1 + Q 2 + P 2 ) 0 .8 0 q 2 / ( P 1 + Q 1 + Q 2 + P 2 ) 0 • 8 ,P 1 + q 1 + q 2 + P 2 = 1 y 又 > Q 1 及 Q 2 不可同時爲 0 e 而較好的 P l 9 P 2 1 Q 1 » q 2值如下 0 0 < pi SO. 4，又以 0. 〇 pl 「‘0. 2 爲佳 爲佳 爲佳 0. 4^ pl+ql+p2+q2 ql pl+ql+p2+q2 q2 pl+ql+p2+q2 p2
SQ. 6，又以 〇S <0· 6，又以〇芸 -- 戈-- 、請先W讀背面之注意事項寫本頁) pl+ql+p2+q2 ql 經濟部中央標準局貝工消费合作社¥11 爲佳 0< 爲佳 pl+ql+p2+q2 ql+q2 pl+ql+p2+q2 < 1，又以0. 5客 pl+ql+p2+q2 q2 pl+ql+p2+q2 p2 ^0. 4 ___<〇 q pl十ql+p2+q2 — · ^0. 又以0. 1 g ql+q22 r^O. 4 pl+ql+p2+q2 1 ·又以0.5 又，q1 / (q1 + Q2 )爲 0 1爲佳，最好爲0.7〜1e 本發明之第1方法爲，於上述式（1 )之髙分子化合 物的苯酚性羥基之部分氫原子上，使對此全苯酚性羥基1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -23 - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 A7 _ B7 _ _ 五、發明説明（21 ) 克分子爲P1克分子之下列一般式（2a)或（3a)所 示的鏈烯醚化合物及，對全苯酚性羥基1克分子爲q1克 分子之下列一般式（4 a )所示的化合物反應，以製造具 有下列式（5a)或（5b)所示重覆單位之高分子化合 物。 R9 R8* A+CKR丨3-〇kC=OiL (2 a) R8 Rta A-6B-R13-CK〇CH〕c (3 a) (其中，R 8&爲氫原子或碳數1〜7 ’較好爲1〜4 ’又 以1〜2更佳之直鏈，支鏈或環狀烷基’ Re爲氫原子或 碳數1〜8，較好爲1〜5，又以1〜3更佳之直鏈，支 鏈或環狀烷基，又，尽8&及Re可形成爲環狀’當形成爲 環狀時R ββ爲碳數1〜7之直鏈或支鏈嫌烴基’ Re爲碳 數1〜8之直鏈或支鏈烯烴基· R1 3爲碳數1〜1 0之直 鏈或支鏈烯烴基。A爲c價之碳數1〜5 0的脂肪族或脂 環式飽和烴基，芳香族烴基，雜環基’又，這些基可介有 各別之氧原子，氮原子，硫原子等雜原子’或此碳原子上 所結合的部分氫原子可受羥基，羧基’裁基或氣原1子等戶斤 取代。B 爲一 C0-0 —，一 NHC〇 — 〇 —或 —NHC0NH -，c爲2〜8之整數’ d爲0或1〜 1 0之整數·） 甲 （4 a) R«-CH=C-0Re 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐）-24 - ί諳先《讀背面之注意事項n 為本頁} .裝. 訂 A7 _._B7_ ._. 五、發明説明（22 ) (其中，R “爲氫原子或碳數1〜7，較好係1〜5 ，又 以1〜4爲佳之直鏈 > 支鏈或環妖烷莶，R5爲氫原子或 碳數1〜8 ，較好係1〜6 ，又以1'〜5更佳之直鏈.，支 鏈或環狀烷基，Re爲碳數1〜1 8，較好係1〜1 0 , 又以1〜8更佳之可具有雜原子的，價烴基，又，R &與 R 5 ，R “與R 6 ’ R 5與R β可形成爲環狀，當形成爲 環狀時，R 爲碳數1〜17，較好係1〜9 ，又以1〜 7更佳之直鍵或支鏈烯烴基，R5及Re爲各別之碳數1 〜18 ’較好係1~10，又以1〜8更佳之直鏈或支鏈 烯烴基》) 此直鏈，支鏈或環狀烷基之例子可同上述，而嫌煙基 之例子有，亞甲基，亞乙某，亞丙基，丁烯基，己烯基， 辛烯基等，又，這些基可爲支鏈狀。、 翅濟部中央榇準局只工消资合作社印$1
Re之例子有’直鏈’支鏈，環狀烷基，或苯基，p -甲基苯基，P -乙基苯基，P -甲氧基苯基等烷氧基取 代苯基等之非取代或取代的芳基，或笮基，苯乙基等芳焼 基等’或這些基上具有氧原子或者碳原子上所結合之氫原 子受羥基所取代之，2個氫原子受氧取代而形成羰基之下 列式所示的烷基等基》
-(CHIOH -(CH2)2〇(CH2)3CH3 -ch2-^^)-chzoh
-(CH^zOiC^zOH 本紙張尺度通用中囷國家標準（CNS ) A4说格（21〇Χ：297公釐） < #先閏讀背面之注意事項/ /寫本頁) -9.R - Α7 Β7
五、發明説明（23 ) -(CH^eOH
較好爲碳數1〜5 0，又以1〜4 0特別好之可介有0， N Η * N ( C Η 3) ，S，S02等雜原子的非取代或羥 基’羧基，羰基，氟原子取代之烯烴基，或者碳數6〜 5 〇 ’又以‘6〜4 0特別好之丙炔基，或這些烯烴基與丙 炔基所結合之基，或前述各基之碳原子所結合的氫原子已 脫離之c，價（c，爲3〜8之整數）的基，另外，還有 c價之雜環基，或此雜環基與前述羥基所結合之基等· 具體的例示如下Λ -----—----^— ί请先閲讀背面之注意事項、、本頁) 訂- 線 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -26 - A7 B7 發明説明（ 24 ) -CH2CHz-, H . -CH-CHZ-, 0¾ -(CH〇 -, -ch2-ch-, -CHCH2CH2- , -d , 1 1 CeHs CH3 CH3 1 CHz- CHz- -CEi-C-CEz- -,CiiCHz-C-CHj- , CHa-C-CHz-, CH3 ch2- 1 ch2- -(cm-, 〇 · -ch2-〇-' CEz-, (請先閲讀背面之注意Ϋ5\ι·1Τ«·寫本頁) -裝. 、ar -CHrCHz-O-H， -Ο^-ΟΗζ-Ο-Ο^-Ο^-Ο-ΟΗί-ΟΗζ -CH-CH^O-CH-CHj-， -CH-CHi-O-CH-CHj-O-CH-CHj- CHa CH, CHa CHa 線 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210X297公釐） -27 - 五、發明説明（ 25 CH2OH -ch2-c-ch2- I ch2〇h A7 B7 ch2oh -CHj-C-CHz- CHZ- CH2- -CHz-C-CHj CH2-
OHH OH OH I I I I -CHz-C-C-C-C-CHz I I I I Η OHH H
OHH I
OH
-CH2-C-C-C-C-CH2-II I I Η Η H H OH I I I I -C-C-C-C-CHr
H
Η H X請先閲讀背面之注意Ϋ^{ >寫本頁) -裝. 訂 線 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28 - 五、發明説明（ 26 AT B7
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -----------^------ΐτ------A------- e J {请先閲讀背面之注意事效"束寫本頁) U I_...r k_^_—--1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29 - A7 B7 五、發明説明（27 ) 經濟部中央標準局員工消费合作社印製
CH3 CHa
,(請先閲讀背面之注意事灰，填寫本頁) .裝.
、1T 線 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -30 - 28 A7 B7 五、發明説明（ 至於上述一般式（2 a )所示之化合物可利用，例f Stephen. C. Lapin, Polymers Paint Colour Journal. 179 (4237)，321(1988)所記載之方法，即，使多價醇或 多價苯酚與乙炔反應，或者，使多價醇或多價苯酚與鹵化 烷基乙烯基醚反應合成而得到。 其具體例子如，乙二醇二乙烯基醚，三乙二醇二乙烯 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 基醚，1， 烯基醚，1 乙烯基醚， 三羥甲基丙 二醇二乙烯 醇二乙烯基 醚，季戊四 醇五乙烯基 乙烯基醚， 基醚，三羥 撐乙烯基醚 乙烯基醚， 〜（I 一 3 2 —丙二醇二乙烯基醚 3 —丙二醇二乙 ，3 - 丁二醇二乙烯基醚，1，4 四甲二醇二乙烯基醚，新戊二醇二 烷三乙烯基醚，三羥甲基乙烷三乙 基醚，1，4 一環己二醇二乙烯基 醚，季戊四醇二乙烯基醚，季戊四 醇四乙烯碁醚，山梨糖醇四乙烯基 醚，乙二醇二乙撐乙烯基醚，三乙 乙二醇二丙撐乙烯基醚，三乙二醇 甲基丙烷三乙撐乙烯基醚，三羥甲 ，季戊四醇二乙撐乙烯基醚，季戊 季戊四醇四乙撐乙烯基醚及下列式 1)所示之化合物，但，非限於此 一丁 二醇二 乙烯基醚* 烯基醚，己 醚，四己二 醇三乙烯基 醚，山梨糖 二醇二乙撐 二乙撐乙烯 基丙烷二乙 四醇三乙撐 (I - 1 ) 例·
請 先 閲 讀 背 Λ 之 注 意 事 A 訂 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0><297公釐） -31 - 五、發明説明（ 29 ·〇·( A7 B7 CH^CH-OCHiCHzO-t >-〇CH2CH20-CH=CH； i -1) CHz=CH-OCH2CH2Ox /OCH2CHzO-CH=CH；
(1-2) CH2=CH-0CH2CH20,
OCH^O-^CHi (1-3) ----------裝-- {#先閲讀背面之注意事項 < 〕寫本頁)
CH尸 CH-OCHiCM
OOiCHzO-CI^a^ (1-4)
CH2=CH-OCH2CH2〇- -och2ch2o-ch=ch； (1-5) 訂 經濟部中夬標準局貝工消費合作社印褽 CH2=CH-OCH2CH2〇-ll〇A〇CH2CH2〇_CH=CH2 (1-6) CH2=CH-OCH2CH2〇-JlsA〇CH2CHz〇_CH=iCH2 (1-7) CH^CH-OCHzCHjoA^q^^q,^^^ CHa C I — 8) dch2ch2〇-ch=ch2 ch2=ch-och2chzo
(1-9) 線 och,ch2〇-ch=ch2 本紙張尺度適用中國國家標隼（〇^)八4規格（21〇><2917公釐）_32_ A7 B7 五、發明説明（ 30 CH2=CH-OCH2CH；
0CH2CH20-CH=CH2 (I - 10) CH2=CH-OCH2CH；
och2ch*o-ch=ch2 (I - 11)
I - 12) (I - 13) <{請先閲讀背面之注意事項寫本頁) 裝· 訂 CH3. CH2=CH-0—C—^^\-〇-CH=CH2 CHj (I - 14) CH2=CH-0CH2CH20
CHiCH2〇-CH=CH2 (1-15) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 ch2=ch-o 0-CH=CH2 (I - 16) ch2=ch-o
o-ch=ch2 (I - 17) CH2=CH-〇-^^〇~^Y-q-ch=CHz (I - 18) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -33 - A7 B7 五、發明説明（ 31 (1-19) CHz=CH-0
〇-CH=CH2 1-20) CHz=CH-0
o~ch=ch2 (1-21) c請先閱讀背面之注意事項K'¾本頁) •裝.
(I - 22) 訂 CHz=CH-0
(I - 23) 線 經濟部中央標準局員工消费合作社印製
Oi^CH-0
0-CH=CHi (I - 24) 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) A4规格（210X297公釐）-如_ 五、發明説明（ 32 A7 B7
0-CH=CHi (1-25)
O-CH=CHi (I - 26) 《請先閲讀背面之注意事項寫本頁) .裝 -δ
(I — 27) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 CH2=CH-0 CHz=CH-0
CH, CHzCHCHCHj CH,
,0-CH=CH2 o-ch=ch2 (I - 28)
(I - 29) 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4见格（210X25»7公釐） -35 - 五、發明説明（ 33 CHj CH,
•0-CH=CH2 o-ch=ch2 OCH«CHj OCH=CH2 pCH=CHj CH^CH—
A7 B7 1-30) (I - 31) O-CH^CH, 經濟部中央標準局員工消費合作社印装 另外，B爲一 CO — 0 —時，上述一般式 示的化合物可利用，使多價羧酸與鹵化烷基乙 而製得。其具體例子如，對苯二甲酸二乙撐乙 苯二甲酸二乙撐乙烯基醚，間苯二甲酸二乙撐 對苯二甲酸二丙撐乙烯基醚，對苯二甲酸二丙 ，間苯二甲酸二丙撐乙嫌基醚，馬來酸二乙撐 富馬酸二乙撐乙烯基醚，衣康酸二乙撐乙烯基 非限於此例· 本發明所適用的含有鏈烯基醚基化合物可 下列一般式（m ) ，（ iv )或（v )等活性氫 化合物與，具有異氰酸酯基之化合物反應而合 烯基醚基化合物· (3 a )所 烯基魅反應 烯基醚，鄰 乙烯基醚， 撐乙烯基醚 乙烯基醚， 醚等，但， 爲，由具有 之鏈烯基醚 成的含有鏈 η 先 閱 讀 背 i) 之 注 意 事 δI裝 頁 a 訂 線 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇Χ：297公釐）_ % 經濟部中央標準局貝工消費合作.社印裝 A 7 _____-_ΒΊ_. 五、發明説明（34 ) R9 I ， r8»-CH = C-0-R,3-0H (I I I) R9
I r8._Ch = C-0-R,3-C00H (IV) R9
I r*»-CH=C-0-R1s-NH2 (V) (R 8a » R 9 同上述 e) 又，B 爲一 NHCO — 〇 —或一 NHCONH —時， 上述一般式（3 a )所示的具有異氰酸酯基之化合物例如 可爲’交聯劑手冊（大成社刊，19 8 1年發行）所記載 的化合物。其具體例子如，三苯基甲烷三異氰酸酯，二苯 基甲烷二異氰酸酯，甲苯撐二異氰酸酯，2，4 一甲苯撐 二異氰酸酯之二聚物V某-1 ，5 -二.異氰酸酯，〇 -甲 苯撐二異氰酸酯，聚甲撐聚苯基異氰酸酯，六甲撐二異氟 等聚異氰酸酯酸酯型，或甲苯撐二異氰酸酯與三羥甲基丙 烷之附加物，六甲苯撐二異氰酸酯與水之附加物，二甲苯 二異氰酸酯與三羥甲基丙烷之附加物等聚異氰酸酯加合型 等。或者，前述含有異氰酸酯基之化合物與含活性氫之鏈 烯基醚化合物反應所得的末端具有鏈烯基醚基之各種化合 物。此類化合物例子如下列式（Π-1 ) ~ (Π_1 1 ) 所示之物，但，非限於此例。 {請先Μ讀背面之注意Ϋ項A 本頁) -裝· 訂 線 本紙張又度適用中國國家標準（CNS ) A4说格（210X297公釐） -37 - 五、發明説明（ 35
CH2=CHOCHiCH2OOCNH A7 B7 NHC00CH2CH20CH=CH2 ( Π - 1)
CHz^CHOCHzCi^OOCNHv / NHCOOCH2CH2OCH
(Π — 2)
Ht 先 閱 背 ίι 之 注 意 事 CH2=CHOCH2CH2OOCNH·
NHCOOCHjCHaOCI^CIl· (Π-3) I裝 CH2=CHOCH2CHiNHCNH· 垂 0
NHCmCH2CHzOCH^CHz ( Π - 4) 訂 CH2=CH0CHeCH200CNH· NHCOOCHjCHiO^CHi (Π-5) CH2=CHOCH2CHzOOCNH-
NHCOOCH2CH2OCH=CHz CH-6) 線 經濟部中央標準局員工消费合作社印製
CH^CHOO^CHaOOCNH NHCOOCiiCH^CH^C^ (Π-7) CH3 CH^CHOCH^NHCNHH^V -^\-NHCNHCHzCH2〇CH=CH2 0 ceT^ i (Π-8) 本紙張又度適用中國國家標準（CNS )六4洗格（210X29?公袭） -38 _ 五、發明説明（36 ) A7 B7
CH产 CH〇CHz〇OCNH
NHCOOCH2〇CH=CH2
CH2=CHOCH2NHCNH
(Π-9) NHCNHCHzOCH=CH2 (H - 10) CHz=CHQCH2CHzQOCNH--^^CH2_^~Y.NHCQQCH8CHiQCH=CH2 一 （Π-11) 又，上述第1方法中，可使重量平均分子量爲 1，00 0〜500 ’ 〇〇〇，又以分子量分布爲1 . 〇 〜1 . 5爲佳之一般式（1)所示高分子化合物的苯酚性 羥基之氫原子與，對此全羥基1克分子爲pi克分子之一 般式（2a) ， （3a)所示鏈烯基醚化合物及qi克分 子的一般式（4 a )珩示化合物反應，而得到例如下列一 般式（5 a )或（5 b )所示之髙分子化合物· ^---^---涛-- (請先閲讀背面之注意事項Λν"本育) Γ
Rl I ~~·(CH2C)5R2,
(〇H)m R2X
R· I
I 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印裝 ♦p2
本紙乐尺度逋用中國II家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）一 A7 B7 五、發明説明（37 )
R C请先閲讀背面之注意事項本頁) .裝. 經濟部中央標準局貝工消費合作社印$1 (其中’R1 ，R2同上述爲氫原子或碳數1〜8 ，較好係1〜6，又以1〜5更佳之直鏈，支鏈或環狀烷 基’R5 ，Re同上述，又，只4與尺5 ，R4與Re ， R5與尺6可形成爲環狀，當形成爲環狀時，, R 5 ’ Re爲各別之碳數1〜1 8，較好係1〜1 0，又以1 〜8更佳之直鏈或支鏈燦烴基。Q爲下列式（i )或（ii )，R 8爲氫原子或碳數1〜8，較好係1〜5，又以1 〜3更佳之直鏈，支鏈或環狀烷基，Re同上述，又， R8與Rs可形成爲環狀，當形成環狀時，R8 ，R0爲 各別之碳數1〜8的直鏈或支鏈烷基* c >爲1〜7之整 數，R13，A，B，d同上述· X，y同上述，m爲0或 正整數，n爲正整數，m + n^y。？1 ，P2 1 q 1 ’ q 2同上述β ) 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） -40 - 五、發明説明（38
T R* A7 B7 -C-fO-R,3k 0-A [-0-(R13-0)d-Ci^ R9 R9 (i)
Rs Re I I -C-0-R13-B-A C-B-R,3-0-Ci^ R9 R* (i i) 由上列式（i) ，（ii)之值而得知，交聯基非 限於2價，亦可爲3價〜8價。例如，2價交聯基有下列 式（i<) ，( ϋ ^ ) ，3價交聯基有下列式（i<)， (ϋ，）。.
Re τ -C-(0-R%-0-A-0-(Rl3-0)d-Cj：-R3 R3 (i’）
Re ·· Ra I I -C-0-Ru-B-A-B-R,3-0-C- R9 R9
R8 I R8 -C-(0-R13)d-0-A-0-(R13-0)d-(j：- R9 , ^ 裝 訂 線 0請先w讀背面之注意事項具f羚本頁) i 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 R8 0 (R13- R* 〇)d-C-R9 R* R9 -C-〇-R,3-B-A-B-R13-〇-^- R9 B R8 R9 I I R,3-〇-C- R9 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4规格（210X297公釐） -41 - 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（39 ) 所使用的反應溶劑較好爲，二甲基甲醯胺，二甲基乙 ·、 . ...
V " K 醯胺，四氫化呋喃，醋酸乙基等非正質子性極性溶劑’又 ，可單獨或.2種以上混合使用* 作爲;:屬媒之酸較好爲，、孽酸，硫酸，三氟甲烷磺酸’ P —甲苯磺酸，甲烷磺酸，P —甲苯磺酸吡啶錨鹽等，其 使用量爲，參與反應之一般式（1 )所示髙分子化合物的 苯酚性羥基之氫原子對此全羥基1克分子較好爲0.1〜 1 0克分子％ » 反應通度爲-2 0〜1 0 0 eC，又以0〜6 0 °C爲佳 ，反應時間爲0 · 2〜1 0 0小時。，又以0 · 5〜2 0 小時更佳。 若上述反應過程係未單離且一並進行時，添加一般式 (2 a )或（3 a )所示鏈烯基醚化合物及一般式（4 a )所示化合物之順序並無特別限定，但，以先添加一般式 (4 a )所示化合物且充分反應後*再添加一般式（2 a )或（3 a )所示鏈烯基醚化合物爲佳。若苘時添加一般 式（2 a )或（3 a )所示之鏈烯基醚化合物及一般式（ 4 a )所示化合物，或先添加一般式（2 a )或（3 a ) 所示鏈烯基醚化合物時，一般式（2 a )或（3 a )所示 鏈烯基醚化合物的部分反應點會因反應系中之水分而加水 分解，以使所生成之高分子化合物的構造複雜化，故難於 控制物性。 本發明之第2方法爲，於具有上述一般式（1 )所示 重覆單位之髙分子化合物的苯预性羥基之部分氫原子上， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） ： _參-- (#先《对背*之注意事項具ί本κ) ,ιτ J. -42 - A7 B7 五、發明説明（40 ) 使對此全苯酚性羥基1克分子爲P1克分子之下列一般式 (2 b )或（3 b )所示鹵化烷基醚化合物及，對前述苯 酚性羥基1.克分子爲Q 1克分子之下列一般式（4 b )所 示化合物反應，而得到具有上述一般式（5a)或（5b )所示重覆單位之高分子化合物。 R9 A-fCKR13-〇kC-R*L ' . (2 b) ] A-fB-R13-〇-C-RsL (3t>)
I z (其中，R8 ，R9 ，R13, A , B，c , d 同上述，z 爲鹵原子（C 5，B r·.或I )。） R5 Κ4~〇Κβ C4b) 2 (其中，R4 ，R5 ，116 ，2爲同上述》) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 又’上式（2b) ，（3b)之化合物或式（4b) 之化合物可利用，使上式（2 a ) ，（ 3 a )之化合物或 式（4 a )之化合物與氯化氫，溴化氫或碘化氫反應而得 到。 又’上述第.2方法节，可使重量平均分子量爲 1，◦00〜500，〇〇〇，又以分子量分布1 · 〇〜 1 . 5爲佳之具有一般式（1)所示重覆單位的高分子化 本]九張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公瘦) """' ~ -43 _ A7 B7 經濟部中央橾準局員工消費合作社印裝 五.、發明説明（41 ) 合物之苯酿性羥基的氫原子與，對此全羥基1克分子爲 P1克分子之一般式（2b)或（3b)所示鹵化烷基醚 化合物及q.1克分子之一般式（4 b )所示化合物反應， 而得到例如上式（5 a )，（ 5 b )所示髙分子化合物， 另外，式（2b) ，（3b)之化合物與式（4b)之化 合物的反應順序同上述第1方法· 上述製造方法較好係於，溶劑中存在著鹼之情形下進 行。 所使用的反應溶劑較好爲，乙睛，丙酮，甲醯胺，二 甲基乙醯胺，四氫呋喃，二甲基等#正質子性極性溶 劑，又可單獨或2種以上混合使用· 鹼較好爲，三乙基胺，吡啶，二異丙基胺，碳酸鉀等 ，其使用量爲，進行反應之一般式（1 )所示髙分子化合 物的苯酚性羥基之氫原子對此全羥基1克分子較好爲（ p1+q1)克分芋96以上。 反應溫度爲-5 0〜1 0 0乇*又以0〜6 0°C爲佳 ，反應時間爲0 . 5〜1 0 0小時，又以1〜2 0小時更 佳。 又，可於具有式（1)所示重覆單位之高分子化合物 上使式（4 a )或（4b)之化合物反應，而得到下列式 (10)所示化合物後，先行單離，再利用式（2a)， (3a)或（2 b) ，（3b)所示化合物進行交聯。 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) A4规格（210X297公釐） (谇先«讨背面之注意事項再ί本頁) 裝 訂 Λ -44 - A7 B7 五、發明説明（42)
又，於上述第1或第2方法所得之式（5a)，( 5 b )所示般髙分子化合物上，使必要時支援的對原來之 一般式（1 )_所示髙分子化合物的苯酚性羥基1克分子爲 q2克分子之二碳數二烷基化合物，烷氧基羰基烷基鹵化 物等反應，以導入一般式（7 )所示酸不安定基及，使 t e r t —烷基鹵化物，三烷基甲矽烷基鹵化物，酮烷基 化合物等反應，以導入不同於Q2克分子之上式 -C R 4R 50Re的酸不安定基（式1 7 )之基， t e r t —烷基，三烷基甲矽烷基，酮烷基等），亦可得 到具有下列一般式（6 c )或（6 d )所示重覆單位之髙 分子化合物。 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 (诗先閱请背面之注意事項再ΐ本頁) 0 -(CH2>rC-〇-R7 ⑺ (其中，R7爲氫原子或碳數4〜12，較好係4〜8， 又以4〜6更佳之3級烷基，a爲0〜6之整數。） 至於R"7之例子如，t e r t — 丁基，1 一甲基環己 基，2 — (2 —甲基）金剛基，t er t —戊烷基等。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） 五、發明説明（43 )
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—iCE2〇-p R1 A7 B7
R1 R' R1 -iC
(6 c) (0-R8 ) 1 R4-C-Rs (R3) 0 J η 1 lo J (0H)m R2,
[0H)m R2； -iCHzCfe- R1 <C] a2ch R1 —(CH2〇5t R1 (〃谇先聞讀背面之注意事項再€容本頁) 装 ,ιτ
R1 I i2Chr 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製
r 0 R^C-R5 ‘ 6-Re :式（7 )所示之基 :酮烷基。R 1 > R x > y » m * η >
(〇H)m R'
( R1 I OH)
，t e r t —垸基 2 , R 4 ，R 5 ， p 1 ， P 2 ， q 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -46 - A7 B7 五、發明説明_( 44) q 2同上述。） 此時·，因導入式（7 )之基，故可得到具有下列一般 式（6a).所示重覆單位之髙分子化合物。
(OH), Η) a ：h2cw (0H)m R2x (〇H)„ --(CHzCk- R1 Rl R2】 Ο-R* \ f 1 C—0 1 | R4-C-R5 1 (CHI 1 V 〇 - η ^ 0
—·(CHzQir-Rl I I I - I i I I . 装— I 〈諳先閔讀背面之注意事項+€.寫本頁) CVlR1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
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(0H)m R' R1 0 R‘-C-Rs i 0-Re
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -47 - A7 B7 經濟部中央標隼局員工消費合作社印褽 五、發明説明（45 ) (其中，R 1 ，R 2 ，R 4 ，R 5 ，R e ，R T ，Q， * y ，m _， η ，P 1 ，P 2 ，q 1 '，Q 2同上述。） 又，上.式（7 )之酸不安定基的導入方法較好係於， 溶劑中存在著鹼之情形下進行· 所使用的反應溶劑較好爲，乙腈，丙酮，二甲基甲醯 胺，二甲基乙醯胺，四氫化呋喃，二甲基亞等非正質子 性極性溶劑。又，可單獨或2種以上混合使用· 鹸較好爲，三乙基胺，吡啶，咪唑，二異丙基胺，碳 酸鉀等，其捷用量對原有之一般式（1)所示髙分子化合 物的苯酚性羥基1克分子較好爲2克分子％以上》 反應溫度爲0〜1 00°C，又以0〜6 0°C爲佳。反 應時爲0 . 2〜1 0 0小時，又以1〜1 0小時爲佳。 二碳酸二烷基化合.物之例子有，二碳酸二-t e r t -丁基，二碳酸二-t e r t-戊烷基等，烷氧基羰基烷 基鹵化物之例子有，t e r t - 丁氧基羰基甲基氯化物， t e r t -戊氧基甲基氯化物，t e r t - 丁氧基羰基甲 基溴化物，t e r t - 丁氧基羰基乙基氯化物等，三烷基 甲矽烷基鹵化物之例子有，三甲基甲矽烷基氯化物，三乙 基甲矽烷基氯化物，二甲基一 t e r t — 丁基甲矽烷基氯 化物等。 又，於上述第1或::2友法所得之一般式（5a)，（ 5 b )所示髙分子化合物上，使必要時支援的對原有之一 般式（1 )所示高分子化合物的苯酚性羥基1克分子爲 Q2克分子之t e r t -烷基化劑，酮烷基化合物反應， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） {請先《讀背面之注意事項界寫本頁) 裝· 訂. -48 - 經濟部中央樣準局員工消費合作社印製 '· A 7 …—_____B7_ 五、發明説明（46 ) 可使其t e r t —烷基化或酮烷基化β 上述方法較好於，溶劑中存茬著酸之情形下進行。 所使用·的反應溶劑較好爲，二甲基甲醯胺，二甲基乙 醯胺’四氫呋喃，醋酸乙基等非正質子性極性溶劑，又， 可單獨或2種以上混合使用。 作爲觸媒之酸較好爲，鹽酸，硫酸，三氟甲烷磺酸， Ρ -甲苯磺酸，甲烷磺酸，ρ —甲苯磺酸吡啶錨鹽等，其 使用量對原有之一般式（1 )所示高分子化合物的苯酚座 羥基1克分午較好爲0.1〜10克分子％。 反應溫度爲一 2 0〜10 〇°C，又以〇〜6 0°C爲佳 ’反應時間爲0.2〜100小時，又以〇.5〜20小 • . 時爲佳。 t e r t -烷基化劑之例子有，i s 〇 — 丁烯，2 -甲基一 1 一 丁烯，2 —甲基一 2 —丁烯等，酮烷基化合物 之例子有，α-安吉利半乳醣，2 —環己烯一 1 一酮，5 ’ 6-二氫化—2Η-吡喃一 2 -酮等。 本發明之系3方法爲，使具有上述（1 )之重覆單位 的高分子化合物苯酚性羥基的部分氫原子與，對此全苯 酚性羥基1克分子爲Ρ1克分子之上式（2a) ，（3a )或（2 b ) ，（ 3 b )所示鏈烯基魅化合物或鹵化烷基 醚化合物反應，而得到具有下列一般式（8 a )或（8 b )所示重覆單位之高分子化合物。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐） ---1^-------.裝------1T------Λ ... . (請先«讀背面之注意事項1^?5'本頁) i 五、發明説明（47)
R9 R*V I I A-e-0-<Rl3-0)rC=CH]c R9 R** I I A-eB-R13-0-C=CHL (其中，R8e，Re ，R13 R9 I A-e-O-iR^-^C-R'Dc _ I Z R9 I A-eB-Rl3-0-C-R']e I Z 8 R 中 其
Θ R A7 B7
B (2 a) (3 a) c ，d同上述。） (2b) (3b) I ^mi ,fit 1 —^ϋ n (請先w讀背面之注意事項i寫本頁)
A
B z c 述 上 同 d 訂 經濟部中央標準局負工消費合作社印装
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.A 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -50 - A7 B7 五、發明説明（48)
Rl R1
—(CitCk— R丨 (其中，R1 ，R2 ♦ Q » X > y » ρ 1 » p 2 . ς ι ， q 2同上述。） 又，其反應條件可同上述第1，第2方法。 於上式（8 a ) ，..（8b)之化合物上，使對上式（ 1)之高分子化合物的苯酚性羥基1克分子爲qi克分子 之上式（4 a) ’ （4b)的化合物反應，以導入克 分子之下列一般式（9)，可製得上式（6a) ，（6b )之高分子化合物，另外，於式（8a) ， （8b)之化 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印装 (锌先Μ讀背面之注意事項ϋ本頁) 合物上’導入對上式（1 )之高分子化合物的苯酚性羥基 1克分子爲q2克分子之一般式（7)所示的基， t e r t烷基’三烷基甲矽烷基或酮烷基，亦可得具有.下 列一般式（5 c )或（5 d )所示重覆單位之髙分子化合 物。此時，可利用上述的方法導入這些酸不安定基。 本紙張尺度適用中國國家標羋（CNS )八4規格（210X 2们公釐） -51 - 經濟部中央標隼局負工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（49 ) R4 -C-0-R6 ⑻
I R5 (其中，R4 , R 5 ，Re同上述 R, R1 R'
I I I -(ΟΗ2〇)ρϊ (CH2C)ql- " "{CHzC)5^2
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29*7公釐） 訂 I------------ 裝-- -. ·. (諳先w讀背面之注意事碩再寫本頁) -52 - 經濟部中央榇準局貝工消費合作社印裝 A7 B7 五、發明説明（50) 此時，.因導入式（9 )之基q 1克分子及，q 2克分 子之式（.7 )的基，t e r t ~燒基，三烷基甲矽烷基或 酮烷基，故.可得到上式（6 c )或（6 d )之高分子化合 物。 至於上式（9 )所示之酸不安定基的具體例子如，1 —甲氧基乙基，1 一乙氧基乙基，1 一 η—丙氧基乙基， l~i so —丙氧基乙基，1 -η —丁氧基乙基，1 — i s 〇 - 丁氧基乙基，i-s e c —丁氧基乙基，1 -t e r t-T氧基乙基，1 一 t e r t —戊氧基乙基，1 一乙氧基一 n —丙基，1 —環己氧基乙基，甲氧基丙基， 乙氧基丙基，1-甲氧基一1—甲基一乙基，1 一乙氧基 - 1 一甲基一乙基等直鏈或支鏈乙縮醛基，或四氫化呋喃 基’四氫化吡喃基等環狀乙縮醛基等，其中又以乙氧基乙 基’丁氧基乙基，乙氧基丙基爲佳。又，上式（7 )之酸 不安定基例子有，t e r t- 丁氧基羰基，t e r t— 丁 氧基羰基甲基，t e r t —戊氧基羰基，t e r t-戊氧 基羰基甲基等•上述t e r t —烷基之例子如，t e r t 一 丁基，t e r t -戊基，1 一甲基環己基等•上述三烷 基甲矽烷基之例子如，三甲基甲矽烷基，三乙基甲矽烷基 ，二甲基一 t e r t — 丁基甲矽烷基等各烷基之碳數爲1 〜6者。上述酮烷基之例子如，3 —羰基環己基及下列式 所示之基等。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4規格（210X297公釐） 一 -53 - -----------I 餐II {#先W讀背面之注意事項t寫本頁) 、π — a ' A7 _B7__五、發明説明（51) 本發明之高分子化合物係適用爲化學增幅正型抗蝕材 料之基料樹脂，又，其爲*如上政般其苯酚性羥基之部分 氫原子受酸.不安定基及上述交聯基所取代，但，對式（1 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 )之化合物的苯酚性羥基之皇JT氫_氣子而言，酸不安定基 ---- 及交聯基之合計量平均較好爲0克分子％以上8 0克分子 %以下，又以2〜5 0克分子％特別好· 又，此時的上述交聯基之比率平均較好爲0克分子％ 以上，8 0克分子％以下，又以1〜2 0克分子％特別好 。若爲0克芬子％時，會減小鹼溶解速度的對比，而無法 引出交聯基的長處及，使解像度差。又，超過8 0克分子 %時，會因過度交聯而凝膠化及，消除對鹸之溶解性，又 ，鹼顯像時會產生膜厚變化或膜內應力，氣泡及減少親水 基，故與基板之粘著性·差》 又，酸不安定基之比率平均較好爲0克分子％以上， 8 0克分子％以下，又以1 0〜5 0克分子％特別好。若 爲0克分子％時，會減小鹼溶解速度之對比，而使解像度 惡化。又，超過8 0克分子％時，會消除對鹼之溶解性及 ，鹼顯像時會降低與顯像液之親和性，而使解像性差。 由上述範圍內適當地選擇交聯基及酸不安定基之值， 則可隨意控制圖形尺寸及圖形形狀。因此，就本發明之髙 分子化合物而言，交聯基及酸不安定基之含量係，可影饗 抗蝕膜之溶解速度的對比之，有關控制圖形尺寸，圖形形 狀等抗蝕材料之特性者。 由上述內容得知，本發明可容易的控制適合爲化學增 請 先 閎 讀 背 面 之 注 意 事 項 寫裝 本衣 頁 訂 Ο. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 ^ A7 _________B7 五、發明説明（52) 幅型抗蝕材料的基料樹脂之，具有交聯基之髙分子化合物 的此交聯基導入量及酸不安定基導入量，且可簡單又確實 的合成此高.分子化合物。 下面將以實施例及比較例具體說明本發明，但*非限 於此例· 〔實施例1〕 於2又之燒瓶中，將1 00 f聚羥基苯乙綠溶解於二 甲基甲醯胺1 ，OOOmi中，於加入觸媒量之'p —甲苯~ 磺酸.後| 2 0°C下，攪拌的同時加入乙基乙烯基醚3 0 g 及三乙二醇二乙烯基醚2 g ·反應1小時後，利用濃氨水 中和之，再將中和反應液滴入水1 0 5中，得白色固體· 過濾後，將其溶解於丙酮5 0 0ml中，再滴入水1 〇又 中，過濾後，真空乾燥之。所得之聚合物經1H — NMR 確認爲，聚羥基苯乙烯之經基的氫原子係2 7%乙氧基乙 基化及，3%已交聯（poly.m.l)。 〔實施例2〕 於2文燒瓶中，將100g聚經墓苯乙緣溶解於二甲 基甲醯胺1 ，OOOmj?中，於加入觸媒量之p —甲苯磺 酸後，2 0°C下，攪拌的同時加入乙基乙烯基醚3 0 g及 1 ，4 一二一.(一Z·-嫌-基-魅二L-環烷2 g ·反應1小時後，以 濃氨水中和之，再將中和反應液滴入水1 0 ί中，得白色 固體·過濾後，將其溶解於丙铜500m)2中，再滴入水 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠)~~ 【背先κ讀背面之注意Ϋ項t寫本!) 裝· 訂 -55 - 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（53) 10ί中，.過濾後，真空乾燥之•所得之聚合物經1Η — NMR確認爲，聚羥基苯乙烯之趣基的氫原子係2 7%乙 氧基乙基化.及，3%已交聯· 其次’將所得之部分交聯化的乙氧基乙基化聚羥基苯 乙烯50 g溶解於吡OOmj?中，4 5eC下，攪拌的 同時再加入二碳酸二-t e r t - 丁基7 g *反應1小時 後，將反應液滴入水3文中，得白色固體•過濾後，將其 溶解於丙酮5 0 mi?中，再滴入水2文中，過減後，真空 乾燥之，得寒合物。所得之聚合物具有下列示性式（p〇l-ym.2 )之構造外，經1Η — NMR確認爲，聚羥基苯乙 烯之羥基的氫原子之乙氧基乙基化率係2 7% *羥基之氫 原子的tert—丁氧基羰基化率爲8%· * · 〔實施例3〕 於2又燒瓶中，释、5 (λ g聚羥基苯乙烯溶解於二甲基 甲醯胺5 0 Omj?，於加入觸媒量之p —甲苯磺酸後， 2 0°C下，攪拌的同時再加入乙基乙烯基醚27 g及1 ， 4 —二（乙烯基醚）環己烷3g ·反應1小時後，以濃氨 水中和之，再將中和反應液滴入水1 0义中，得白色固體 。過濾後，將其溶解於丙酮50 Omj?中，再滴入水 10义中，過濾後，真空乾燥之》所得之聚合物經1H— NMR確認爲，聚羥基苯乙烯之羥基的氫原子係2 4%乙 氧基乙基化及，1 0%已交聯（P〇lym.3 )。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠） C祷先聞讀背面之注意事項ί窝本頁) 裝. 訂 -56 - 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 A7 B7 五、發明説明（54) 〔實施例4〜7〕 同實施例1〜3之方法，得下列示性式（Pol ym. 4〜 7 )所示的.聚合物。 〔實施例8〕 於2 {燒瓶中，將聚羥基苯乙烯10 0 g溶解於四氫 呋喃90 0 g中，於加入甲烷磺酸3 . 9g後，30 °C下 ，攪拌的同時再加入乙基1 一丙烯基链2 8 . 2 g。反應 3小時後，：ίι□入1，4 一丁二醇二乙烯基醚3 .8g，再 反應0.5小時，其後，以濃氨水中和之•接著，於醋酸 乙基中進行此反應液的溶劑交換，再利用純水及少量之丙 酮進行6次分液精製，其後，於丙酮中進行溶劑交換’，再 滴入2 0 5之純水中得白色固體。過濾後.，以純水洗淨 2次，再過濾，並真空乾燥之。所得之聚合物具有下列示 性式（Polym.8)所示構造外，經1H-NMR確認爲， 聚羥基苯乙烯之羥基的氫原子係2 6 %乙氧基丙氧基化及 ’ 5 , 5 %已交聯。 〔實施例9〕 於2 5燒瓶中，將聚羥基苯乙烯1 〇 〇 S溶解於四氫 化呋喃900g中，於加入甲烷磺酸3 . 9g後，30°C 下，攪拌的同時再加入1 一丙烯基醚20 . 〇g。反應3 小時後，加入1，4 一丁二醇二乙烯基醚3 . 8g。反應 〇 . 5小時後，以濃氨水中和之。其後，於醋酸乙基中進 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ------I--:'裝-- \请先«讀背面之注意事項-if填寫本頁) 訂 vlj « 57 - A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、 發明説明 ( 55 ) 丨 | 行 此 反 rrhf 應 液 之 溶 劑 交 換 9 再 利 用 純水及少 量 丙嗣 進 行 6 次 1 分 液 精 製 接 著 f 於 丙 酮 中 進 行溶劑交換 再 滴 入 2 0 父 1 1 之 純 水 中 * 得 白 色 固 體 〇 過 濾 後 9 以純水 洗 淨 2 次 再 過 1 I η 1 1 濾 » 並 真 空 乾 燥 之 〇 先 1 | 1 其 次 將 所 得 的 部 分 交 聯 之 乙 氧基丙 氧 基 化 聚 羥 基 苯 背 1 之 1 乙 烯 5 0 S 溶 解 於 吡 啶 3 0 0 S 中 ，4 0 eC 下 攪 拌 的 同 注 意 1 時 再 加 入 二 碳 酸 二 一 t e Γ t 一 丁 基4 . 5 S 〇 反 應 1 小 事 項 1 時 後 將 其 洞 入 水 1 0 又 中 得 白 色固體 〇 過 攄 後 將 其 填 寫 本 裝 I 溶 解 丙 酮 2 0 0 m S. 中 再 滴 入 水 2又中 ♦ 過 濾 後 真 空 頁 1 1 乾 燥 之 得 聚 合 物 〇 所得 之 聚 合物 具有下 列 示 性式 ( Pol- 1 y m .ί )) 所示構造外 經 1 Η - -N M R確認爲 _聚羥基苯 1 I 乙 烯 之 羥 基 的 氫 原 子 係 2 1 % 乙 氧 基丙氧 基 化 及 » 5 % 訂 1 t e Γ t 一 丁 氧 基 羰 基 化 及 5 5 %已 交聯 〇 1 1 1 I 〔 實 施 例 1 0 3 ί 1 1 11 於 2 父 燒 瓶 中 9 將 聚 羥 基 苯 乙 烯1 0 0 S 溶 解 於 四 氫 V 1 化呋 喃 9 0 0 8 中 y 於 加 入 甲 >t£r 坑 擴 酸3 . 9 S 後 3 0 °c 1 | 下 > 攪 拌 的 同 時 再 加 入 乙 基 乙 烯 基 醚2 4 0 g t 反 akg 應 1 1 I 小 時 〇 其 後 加 入 1 4 — 丁 二 醇 二乙烯 基 醚 3 • 8 g 1 I 反 應 0 • 5 小 時 後 9 以 濃 氨 水 中 和 之•接 著 於 醋 酸 乙 基 1 中 進 行 此 反 atg 應 液 之 溶 劑 交 換 於 以 純水進 行 6 次 分 液 精 製 1 1 後 再 於 丙 酮 中 進 行 溶 劑 交 換 後 將其滴 入 2 0 9. 之 純 水 - 1 後 得 白 色 固 體 〇 週 濾 後 以 純 水 洗淨2 次 再 過 濾 並 I 真 空 乾 燥 之 〇 所 得 聚 合 物 具 有 下 列 示性式 ( Poly m. 1 0 ) 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210X297公釐） 58 A7 B7 k濟部中央標準局員工消费合作社印$. 五、 發明説明 ( 56 ) 丨 1 所 示 之 構 造 外 f 經 1 Η — N Μ R 確 認 爲 9 聚 羥 基 苯 乙 烯 之 1 I 羥 基 的 氫 原 子 係 3 1 % 乙 氧 基 乙 基 化 » 5 • 5 % 已 交 聯 〇 1 | 讶 1 I C 實 施 例 1 1 先 閱 1 I 讀 1 I 於 2 9. 燒 /70 瓶 中 將 聚 羥 基 苯 乙 烯 1 0 0 g 溶 解於 四 氫 背 面 1 之 1 化 呋 喃 9 0 0 S 中 於 加 入 甲 焼礦 酸 3 • 9 S 後 > 3 0 °c 注 意 1 1 下 攪 拌 的 同 時 加 入 乙 基 乙 烯 基 醚 1 6 • 4 S % 反 τήχί 應 1 小 項 r 時 〇 其 後 加 入 1 4 一 丁 二 醇 二 乙 烯 基 醚 3 • 8 g 反 寫 本 裝 I 應 0 5 小 時 再 以 濃 氨 水 中 和 之 接 著 9 於 醋 酸 乙 基 中 頁 1 進 行 此 反 rrhs 應 液 之溶劑 交換 並 以 純水 進 行 6 次 分液精製 > 1 1 再 於 丙 酮 中 進 行 溶 劑 交 換 後 將 其 滴 入 2 0 9. 之 純水 中 » 1 1 得 白 色 固 體 0 過 濾 後 以 純 水 洗 淨 2 次 再 過 濾 並 真 空 訂 I :乾 燥 之 0 *· 1 1 I 其 次 ’ 將 所 得 的 部 分 交 聯 化 之 乙 氧 基 乙 基 化 聚 羥 基 苯 1 1 I 乙 烯 5 0 g 溶 解 於吡 淀 3 0 0 8 中 4 0 eC 下 攪 拌 的 同 IJ 1 時 再 加 入 二 碳 酸 二 — t e r t —- 丁 基 4 • 5 S 〇 反 應 1 小 TJ 1 時 後 9 將 反 應 液 洞 入 水 1 0 9. 後 得 白 色 固 體 « 過 濾 後 > 1 1 將 其 溶 解 於 丙 酮 2 0 0 m 後 再 洞 入 水 2 中 > 過 濾後 1 I 真 空 乾 燥 之 得 聚 合 物 〇 所 得 聚 合 物 具 有 下 列 示 性式 ( «1 I Poly m. 1 1 ) 所 示 之構 外 9 經 1 Η — Ν Μ R 確 認 爲 聚 1 | 羥 基 苯 乙 烯 之 羥 基 的 氫 原 子 係 1 8 0 % 乙 氧 基 乙 化 5 1 1 % 係 t e Γ t — 丁 氧 基 裁基 化 9 5 • 5 % Ε· 交 聯 〇 ** 1 C 實 施 例 1 2 - 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（·2丨0X297公釐） -59 - Α7 Β7 五、發明説明（57) 除了耒使用乙基乙烯基醚以外，其他同實施例1 1之 方法.，得.下列示性式（Polyn. 1 2 )所示之_聚合物。 〔實施例1 3〕 使用聚（3，4一二羥基苯乙烯）及鏈烯基醚化合物 (1-22) *並以實施例11之方法，得下列示性式（
Polym.13)所示之聚合物。 〔實施例1 4〕 使用鏈烯醚化合物（Π - 1 )，並以實施例9之方法 ，得下列示性式（Pol ym. 1 4 )所示之聚合物。 所得之聚合物的構造如下列示性式，又，其各別之取 代率如表1所示。而下列式中的R爲，分子間或分子內交 聯下列單位U,或112之交聯基，（R)爲，鍵結交聯基 R之狀態。 ----I---；--裝-- f請先聞讀背面之注意事項t本頁) 訂 -4 (6 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
Ui Η
(Polym.l 〜12)
Η Η I I —(CH2C)pr— —(CHiC^pT
本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） —βί)— 60 五、發明説明（58)
Polym.l
Η I
CH-OCJIs I CH3 Η
Η I R: -C-0-(CH2CH20)3-C- CH,
Polym.2
H
H..
A7 B7 Η
H CH-OaH* Cft
-----------装-- (请先閱積背面之注意事項苒ν_>ϊ本頁) 訂 I -W七·few.· 經濟部中央標準局員工消費合作杜印裝
H R; -C-0-CH2~\ /—CH2—0—C ^ ;vy^ 1 本紙乐尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210 X :297公嫠） -R1 A7 B7 五、發明説明（59) Polym.3 Η I —(CH2Qft H I —(CH2Cfe—
(R)
H <CH2C)5T
OH 〇 CH-OCjHs I CHa
H
-H R: -C-0-CH2 CH2-0-C CH3 CH, (#先H-j*背面之注意事項fit本頁) 裝·
Polym.4 H i —(CHzC)sr
(R)
H
H
ch2
H
訂
.A OCiCiUh 經濟部中央標準局貝工消費合作社印策 H R: -C-O-CH： I CH, -o H CH2-0-C- ch3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4说格（210X297公釐） -62 - A7 B7 五、發明説明（6〇)
Polym.5 Η
Η Η
C2H5 Η (讀先w讀背面之注意事項—紙寫本頁)
H
R: -C-0-(CH2CH20)2-C-CH3 CH,
Polym.6
H
H
經濟部中央標準局員工消費合作社印製
H R: -C-0-CH2CH2-0-C- ch3 CH, 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -63 _ 五、發明説明（61)
Polym.7Η I Η A7 B7
Η I—(CH2Cte-
Polym.8
Η Η ----*——--I'装 —I C诗先閲讀背面之注意事項tW寫本頁)
! CH-OC^ I 0:¾ 經濟部中央標準局負工消費合作杜印製
Η I R: —C—0—(CH2)4_0_C- CH3 ch3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 五、發明説明（62 )
Polym.9 Η
Η
CH-OCzHs C2H5 Η R: —C—0—(CHi)·»—0—C— ch3 CHa A7 B7 Η
先 Μ 讀 背 之 注 意 事 項 填. 寫 本 頁 裝
Polym.10 H
H- H
0¾ 訂 Ή 經濟部中央標準局員工消费合作社印製
R
HICIC ο HIC-IC 0-’ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -65 - 五、發明説明（63) m IV Pol A7 B7
R: ο L -HaH—c—c HI-c—c ο (讀先閲讀背面之注意事項$寫本頁)
經濟部中央標準局員工消費合作杜印製
HtR: aro Η 丨C-—CH3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4说格（210X297公釐） -66 - A7 B7
五、發明説明（64)
Polvm.13 D1 =H 又技（R) D2 = Η 又ii -(j：H-OC2H5 GHs D3 = H or -C-OC(CH3)3 ----；-----^ II -\)y t请先《婧背面之注意事項-r'i寫本頁) 訂 ? CH,- i
經濟部中央標準局員工消費合作社印装 (又，D1之至少1個爲R，D2之至少1個爲 ，D3 之至少 1 個爲-C-OC(CH3)3 。） 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） 五、發明説明（65)
Polym.14
Η I
Η
CH-OCiHs I C2Hs H I R: -C-OCH2CH2OOCNH CH, A7 B7 Η —(CH20r 0 Ic=o 〇C(CH,)3
OH
H nhcooch2ch,o-c- CHj — 装 訂 I —·Λ ( _先wtt背面之注意事碩*^填k本頁) ί 經濟部中央標隼局員工消費合作社印装 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > Α4規格（210X297公釐） -68 - Β7 經濟部中央標準局員工消費合作社印袈 五、發明説明（66) 【表1】 実施例 組成比(莫耳比） PHSZ Mw PHS* 之 Mw/Mn 高分子化合物 之Mw pl qi q2 p2 1 〔Polym.l〕 3 27 70 11,000 1.05 22,000 2 〔Polym.2〕 3 27 8 62 11,000 1.05 23,000 3 CPolym.3] 10 24 66 5,000 1.05 12,000 4 〔Polym.4〕 7 10 5 78 5,000 1.05 12,000 5 CPolym.5) 4 35 61 11,000 1.42 24,000 6 〔Polym.6〕 7 25 68 13,000 U5 30,000 7 〔Polym.7〕 10 20 70 3,000 1.10 8,000 8 〔Polym.8〕 5.5 •. 26 68.5 11,000 1.05 22,000 9 〔Polym.9〕 5.5 21 5 68.5 11.000 1.05 24,000 10 CPolym.10] 5.5 31 63.5 11,000 1.05 25,000 11 〔Polym.ll〕 5.5 18 5 71.5 11.000 1.05 24,000 12 CPolym.123 4 18 78 10,000 1.08 23,000 13 [Poiym.13] 4 20 4 72 10,000 1.20 25,000 14 〔Polym.14〕 2 21 5 71 10,000 1.30 27,000 *聚羥基苯乙烯 I ；---L_---裝-- '·—. 0诗先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂 β 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -69 - 經濟部中央標準局負工消費合作社印袈 ·* A7 ___B7 __ 五、發明説明（67) 〔參考例）· 以上述實施例所得之髙分子也合物（Pol ym. 1〜1 4 )爲基料樹脂，並連同由下列式（PAG. 1〜12)所 示之酸發生劑，下列式（DRR. 1〜4)所示之溶解控 制劑，鹸性化合物，下列式（A C C . 1，2 )所示之分 子內具有以C - C 0 0 Η所示的基之芳香族化合物及下列 式（DYE . 1 . 2)所示之紫外線吸收劑所選出的抗蝕 材料用成分一起溶解於溶劑中，以調合成表2，3所示之 組成的抗蝕棱。又，必要時加入表面活性劑浮羅拉參「 FC — 43 0 (住友3M (股）製）」〇 . 1單位，以改 善成膜性。 爲了比較，以下列式性式（Pol ym. 1 5〜1 7 )所示 之高分子化合物爲基料樹脂，同上述調合成表4所示之組 成的抗蝕液。 其次，以0.之特氟降製過濾器過濾這些組成 物，以調製成抗蝕液。將其旋轉塗布於较晶板上後，以 1 0 0°C之熱板進行9 0秒的烘烤，並將其膜厚設定爲 0 . 5 5 m。 接著，以介有爲了形成圖形之面具的方式進行准分子 激光器（尼康公司，NSR — 2005EX N A = 0 · 5)曝光，再以110 °C烘烤90秒，其後，以 2 . 3 8%之四甲基銨氫氧化物之水溶液進行顯像，得正 型圖形。 · 對所得之抗蝕圖形進行下列評估》 本紙張尺度適用中國國家榇準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先«#背面之注意事項^4.寫本頁) 裝. 訂 -70 - Α7 Β7 五、發明説明（68) 首先，求靈敏度（E t h ) ·以使0 . 2 4-之線與空 間的頂端輿底部能以1 ·· 1方式解像之曝光量爲最適曝光 量（靂敏度：Ε ο p )，再以此曝光量所分離的線與空間 之最小線幅評估抗蝕之解像度•又，觀察周一曝光量之， 曝光至加熱處理爲止的時間過程（P E D )爲2小畤時之 解像度·另外，以掃描型電子顯微鏡觀察解像後之抗蝕圖 形形狀，並以1 3 0°C，1 0分鐘的熱板加熱此抗蝕圖形 ，再觀察加熱前後之圖形形狀變化，以作爲耐熱性試驗。 抗蝕組成記載於表2〜4，使用實施例之髙分子化合 物的評估結果則記載於表5，使用比較例之高分子化合物 的評估結果記載於表δ。 -------^—/ 裝— t請先聞讀背面之注意事項一^满本頁) 訂. ~A Φ 經濟部中夬標準局貝工消費合作社印裝 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS >八4規格（210X297公釐） 五、發明説明（69 ) A7 B7 (ch3)3Cch^〇)-s* ca^O^-sOo· (PAG.1) <〇>-s* cf3-so， Ο OCH2COOC(CH3)3 (PAG.2) --------)^-- /#先HT*背面之注意事項ί寫本頁) CHs
(PAG.3) 訂 0 0 CH3-^ 〇V~S—C—S s n2〇 w 6 (PAG.4) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(CH^CO
S03 (PAG.5) i
SO,· (PAG.6) 本紙張尺度適用_中國國家橾準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -72 - 五、發明説明（7〇) α Π
A7 B7 [〇Γ ^>-S* CH3-<(〇)-S03 (PAG.7) (CH3)2N_
N(CH3)2 S+ CF3-SO3 (PAG.8) 許先w讀背面之注意事項W寫本頁) 裝· 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 0C(CH3)3 OC(CH3>3 (CH3)3CO ((mco
(PAG.9) (PAG.10) 1 # 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐.) A7 B7 五、發明説明（Π) ο ν2〇 n u η (CH^C-S-C-S-CXCH^ (PAG.ll) 0 N20 CH3(CH2)3-S-C-S-(CHz)3CHj (PAG.12) 【(U 8 0】 [化9 9】 ί請先閱讀背面之注意事項^本頁) 裝. CHa CH3-C—0—C—0-CHj i CHiCHzOCH-O-CH3 CH, CH, ◦ C-O-C-CHa (DRR.l) CHa -7 6 CH, CHa .Μ 〇V-0-CHOCH2CH3 (DRR.2) (CHA _/ 1 CH3 COO-CHOCHiCH, 1 CH, 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
(DRR.3) 酸不安越： t e r t — 丁氧竣基 平均取代率50¾ \
-CH2-CH
CH3 —CHa-CH^I 丄 V OH k. j CDRR.4) v/(v+w)=0.09 重量平均分子1:3,000 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2丨0><297公釐） 五、發明説明（72) ch3 HO—^0^-0—(^〇^-0Η CH2 ch2-cooh
A7 B7 ACC.l ACC.2 ------—--赛-- \—-//. (請先《讀背面之注意事項再^^本頁) R”=H 及，CH2COOH CCHsCOOH] [H)+CCH2COOH) 0.5 / 訂 φ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS ) Α4現格（210X297公釐） 五、發明説明（73 ) COOC(Clia)3
0D 0D D=H及 A7 B7 DYE.1 [DNQ]/CH]+CDNQ)=0.50 DYE.2 办，S02 (DNQ) -----------餐-- 、~V „(讀先閲讀背面之注意事項tv%,寫本頁) 訂
-.A 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -76 - 五、發明説明（74)
Polym.15 Η Η
CH3 jPolym.16
H
〇C(CH3)3
A7 B7
Mw=12,000 Mw/Mn=2.0 ql+q2/(ql+q2+p)=0.35
Mw= 15,000 Mw/Mn=1.5 ql +q2/(ql +q2+p)=0.20 ----------裝-- . \./ X#先閲讀背面之注意事項f4.寫本頁) 订 [0 18 4] Ut 10 3] Polym.17 I Λ. #. 經濟部中央標準局員工消費合作社印製
H
CH,
H
Mw=l 2,000 Mw/Mn=l.l ql/(ql+q2)=0.08 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4说格（210X297公釐） -77 - A7 B7 五、發明説明（75) [表2] 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 實 施 例 抗蝕材料組成物[括弧內：組成比(單位:重置單位）] 基 料 樹 脂 酸發生劑 溶解控制劑 鹼性化合物 其他 添加劑 有機溶劑 1 Polym.l (80) PAG,1 (3) - - PGMEA (530) 2 Polym.2 (80) PAG. 2 (3) - - • PGMEA (530) 3 Polym.3 (80) PAG. 3 (3) - • - DGLM (300) 4 Polym.4 (80) PAG. 4 (3) - 三乙酵胺 (0.1) - PGMEA (530) 5 Polym.5 (80) PAG. 5 (3) - 2-羥基吡啶 (0.11) - PGMEA (530) 6 Polym.6 (80) PAG. 6 (3) DRR.l (16) 四乙撑二胺 (0.09) - PGMEA (530) 7 Polym.7 (80) PAG.l (3.5) PAG. 8 (0.5) DRR.3 (16) 喹啉(0.09) - ΕΙΡΑ (580) 8 Polym.8 (80) PAG.l (1) PAG.11 (2) ·· 二乙醇胺 (0.1) 哌啶乙醇 (0.05) ACC.1 (0.2) PGMEA (530) 9 Polym.9 (80) PAG.l (1) PAG.12 (2) - 三乙醇胺 (0.1) 三氮雜二環 -一烯(0.05) ACC.1 (0.5) PGMEA (530) 10 Polym.10 (80) PAG. 9 (2) PAG. 7 (1) DRR.2 (8) 甲基吡咯烷酮 (0.1) - EL/BA (510) 11 Polyin. 11 (80) PAG. 9 (2) PAG.10 (1) DRR.4 (8) 二甲基乙醯胺 (5.0) - EL/BA (510) 12 Polyin. 10 (50) Polyin. 12 (30) PAG.l (4) - 三丁基胺 (0.03) NJ-二甲基乙醯 S 妾(5.0) - PGMEA (530) 13 Polym.10 (40) Polym.13 (40) PAG.l (4) DRR.2 (4) 2-羥基吡啶 (0.11) ACC.2 (2) PGMEA (530) 〆請先閏讀背面之注意事項t4.寫本頁) -* _ Β7 五、發明説明（77) [表4] 實 抗蝕材料組成物[括弧內:組成比(單位:重置單位）] 施 基 料 酸發生劑 溶解控制劑 鹼性化合物 其他 有機溶劑 例 樹 脂 添加劑 1 Polym.15 PAG.1 - N-甲基吡咯烷酮 PGMEA (80) (2) (0.05) (530) 2 Polym.16 PAG.1 - N-甲基吡咯烷酮 - PGMEA (80) (2) • · (0.05) (530) 3 Polym.17 PAG.1 N-甲基吡咯烷酮 - PGMEA (80) (2) (0.05) (530) ~請先閲讀背面之注意事項本頁) Γ.1 、-=*
L 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 DGLM:2-甲氧基乙基醚 EIPA:1-乙氣基-2-丙醇 EL/BA:乳酸乙基(85重量幻醋酸丁基(15重量幻的混合溶液 PGMEA:丙二醇單甲基醚乙酸鹽 PGMEA/EP:丙二醇單甲基醚乙酸鹽(90重置%)丙酮酸乙基(10重置%)的混合溶液 PGMEA/CH:丙二醇單甲基醚乙酸鹽(90重量％)環己酮(10重量幻的混合溶液 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）-- B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裳 五、發明説明（78) [表5] 實 施 例 霆敏度： Ε ο p (m J / c ιπ2·) 解像度U Π) _ 即時/ P E D 2時間 的外形 耐熱性 即時 PED2時間 1 6.0 0.20 0 .20 矩形 〇 2 7.0 0.20 0 .20 矩形 〇 3 8.0 0 .20 0.20 矩形 〇 4 30 . 0 0.18 0.20 矩形 〇 5 35.0 0.18 0 .20 矩形 〇 6 2 5 . 0 0.18 0.18 矩形 〇 7 18.0 0.18 0.18 矩形 〇 8 3 1.0 0.18 0.18 矩形 〇 9 30 . 0 0.18 0.18 矩形 〇 10 26.0 0.18 0.18 矩形 〇 11 20.0 0.18 0.18 矩形 〇 12 24.0 0.18 0.18 矩形 〇 13 25.0 0.18 0.18 矩形 〇 14 22.0 0 ..1.8 0.18 矩形. 〇 15 23.0 0 .20 0 .20 若干順錐 度 〇 16 24.0 0.20 0.20 若干順錐 度 〇 17 23.0 0.20 0.20 若干順錐 度 〇 18 24'· 0 0.20 0.20 若干順錐 度 〇 19 19.0 0.18 0.18 矩形 〇 20 20.0 0.18 0.18 矩形 〇 2 1 20.0 0.18 0.18 矩形 〇 22 2 1.0 0.18 0.18 矩形 〇 23 28 . 0 0,20 0 .20 矩形 〇 24 30.0 0 . 20 0.20 矩形 〇 25 50.0 0 . 20 0.20 矩形 〇 耐熱性 〇：加热前後的圖形形狀沒有變化 1〈请先閲讀背面之注意事項t"本頁) -β Γ 本紙乐尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21 OX297公釐）_ 五、縈明説明（79) [表 6 ]..
比 較 例 霣敏度： Εορ (mJ/cm2) 解像度U m) 即時/ PED2時間 的外形 耐熱性 即時 PED2時間 1 20 . 0 0.22 0.20 矩形/ 逆錐度 X 2 22.0 0.22 未解像 矩形/ 未解像 X 3 21. 0 s 0.22 0.26 矩形/ T-頂 X 耐熱性〇：加熱前後之圖形形狀沒有變化 X:加熱後因熱垂而使圖形變差 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4規格（210X297公釐）

Claims (1)

  1. A8 B8 C8 D8 六、申請專利範i 第86105267號專利申請案 附件1 中文申請專利範圍修正本 民國88年1 0月修正 1 ·—種製造具有交連基之高分子化合物的方法，其 係特徵爲，於重量平均分子量爲1，0 0 0〜1 500，000之具有下列一般式（1)
    (〇H)r (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ⑴ (其中，R 1爲氫原子或甲基，R 2爲碳教4〜3之直鏈 ，支鏈或環狀烷基，X爲0或正整數，y爲正整數，又， x+yS5之數，p1 ，p2爲正數，Q1 ，〇2爲0或 正數，又’ 0 < p 1 / ( p」+ p 2十q1 + q 2 )名 〇 . 8 * O^Q1 / (P1 + P2 + q1+q2 )- 0 . 8 * 0 ^ q 2 / ( P 1 + P 2 + q. 1 + q 2 ) ^ 0 . 8，P1 + P2 + Q2 +Q1 =1 之數，但 ’ Q1 及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Q2不可同時爲0 )所示重覆單位的高分子化合物之苯酚 性羥基的部分氫原子上-V使對此全苯酚性羥基1克夯子爲 P 1克分子之下列一般式（2 a )_惑（3 a )—— 本紙張尺度逋用中國國家揉準（CNS)A4規格（210x297公藎） 1
    A8 B8 C8 D8 六、申請專利範i 第86105267號專利申請案 附件1 中文申請專利範圍修正本 民國88年1 0月修正 1 ·—種製造具有交連基之高分子化合物的方法，其 係特徵爲，於重量平均分子量爲1，0 0 0〜1 500，000之具有下列一般式（1)
    (〇H)r (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ⑴ (其中，R 1爲氫原子或甲基，R 2爲碳教4〜3之直鏈 ，支鏈或環狀烷基，X爲0或正整數，y爲正整數，又， x+yS5之數，p1 ，p2爲正數，Q1 ，〇2爲0或 正數，又’ 0 < p 1 / ( p」+ p 2十q1 + q 2 )名 〇 . 8 * O^Q1 / (P1 + P2 + q1+q2 )- 0 . 8 * 0 ^ q 2 / ( P 1 + P 2 + q. 1 + q 2 ) ^ 0 . 8，P1 + P2 + Q2 +Q1 =1 之數，但 ’ Q1 及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Q2不可同時爲0 )所示重覆單位的高分子化合物之苯酚 性羥基的部分氫原子上-V使對此全苯酚性羥基1克夯子爲 P 1克分子之下列一般式（2 a )_惑（3 a )—— 本紙張尺度逋用中國國家揉準（CNS)A4規格（210x297公藎） 1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 R* R** A-e〇-{R,J-〇)rC=CH]c (2a) R* R" A-eB-R1J-〇-C=CH]e . ’ (3a) (其中，R 爲氫原子或碳數i〜7之直鏈，支鏈或環狀 烷基，R 9爲氫愿子，R 13爲碳數1〜1 〇之直鏈或支鏈 烯烴基，A爲c價之碳數1〜5 0的脂肪族或脂環式飽和 烴基，芳香族烴基，雜環基，又’這些基可分別介有各別 之雜原子，或此碳原子所結合的部分氫原子可受羥基，羧 基，羰基或氟原子所取代，B爲一 C0 — 0— ’ -NHCO — 〇 -或—NHCONH —，c 爲 2 〜8 之整 數，d爲0或1〜1 〇之整數）所示鏈烯酸化合物及，對 上述全苯酚性羥基1克分子爲q1克分子之下列一般式（ 4a) Rs I Ra-CH-C-OR* (4 a) (其中，尺“爲氫原子或碳數1〜7之直鏈，支鏈或環狀 烷基，R 5爲氫原子，R 6爲幕具煮碳_數、1〜1 8之雜原 子的1價羥基，又R 4&與R β可形_鹿爲環狀，置形成爲環 狀時，R4e爲礙數1〜7之直鏈或支鍵靖烴基，Re爲碳 數1〜8的直鏈或支鏈烯烴基）所示化合物於一 2 〇〜 10 0°C之反應溫度，及〇 . 2〜2 0小時之反應時間下 進行反應，以製得具有下列一般式（5 a )或（5 b ) 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐） !,'· ----------------T —-----镍-----；——L^丨 __丨· (請先閎讀背面之注意事項再填寫本買) -2 - 六、申請專利範圍
    V {CH^Ck--—{CiiCfe^ R丨 R' ABCD R' R·
    l O-R* R^-C-R* I 0 (OH)» w(〇H)y (5 a: 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    Rl R'
    (5 b) , —fe^ ---------^袭------訂.------M' (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) (其中，R1 ，R2同上述，R4爲氫原子或碳數1〜8 之直鏈，支鏈或環狀烷基，R5 ，Re同上述，又，R4 與Re可形成爲環狀，當形成爲環狀時，R4 ，R6爲各 別之碳數1〜8的直鏈或支鏈烯烴基X，y同上述，m爲 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) -3 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 〇或正整數’ η爲正整數，m+n = y，ρ1 ，ρ2 > q1 ’ q 2同上述，Q爲下列式（i )或（ϋ )所示之基 * R4 ^ -CiO-R^ 0-A ρ» I C i j K R* R* R· -C-0-R»-B-A[-B-R'J-〇-(p^ 〇 R， R* 1 • * * (其中，R8 ，R0爲氫原子或碳數1〜8之直鏈，支鏈 或環狀烷基，但，R8 ，R0並不同時爲烷基，R13爲碳 數1〜1 0之直鏈或支鏈烯烴基，d爲0或1〜1 0之整 數，A爲c價碳數1〜5 0之脂肪族或脂環式飽和烴基， 芳香族烴基，雜環基，又，這些基可介^有雜原子，或此碳 原子所結合的部分氫原子可受羥基，羧棊，羰碁或氟原子 所取代 B 爲一C 0 — 0 —，—、Ν· H C Q - 0 —或 .、 ../ -NHCONH —，c爲2〜8，c >爲1〜7之整數） 所杀，重覆單位的高分子化合物之製造方法。. 2 . —種高分子化合物的製造方法’其係特徵爲’使 重量平均分子量爲1，0 0 0〜5_ 0 ’ 0 〇 〇-之具有下 列一般式（1 ) 夫紙張纽適用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X297公釐） ---------^袭------訂------^ (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) -4 - A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 R'
    ⑴ X * y » p 1 « p 2 » q 1 » Q 2 如坤請專利範圍第1項所定義）所示重覆單位之高分子化 合物的苯酚性羥基之部分氫原子與，對此全苯.酚性羥基1 克分子爲P1克分子之下列一般式（2 b )或（3 b ) R. A^-0-CRl3-〇)TC*-R,]e Z R. I A-eB-Rt3-0-C-R*]e Z (2b) (3 b) (其中，R 8 ，R 9 ，R 13，A，B，c .，d如申請專利範圍第1項所定義，z爲鹵原子）所示齒化烷基醚化合物 及，對上述全苯酚性羥基1克分子q 1克分子之下列一般 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 \ly b 4 /IV 式 " 其所 2 R*丨C丨Z 中示 § 4 R 5 R β R l 0 5 1 於 物 合 化 義 5 定. 所 ο 項及 第度 圍溫 範嚿 利反 專之 請 P 申 ο 如 ο 般1 列 下 有 具 得 製 以 應 反 行 進 下 間 時 應 反 之 時 小 ο I張 國 國 中 用 逋. Ns6 釐 一公 1297 X ο IX 2 5 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範園 式（5 a )或（5 b )
    -(CH：Ck· Rl I R' ·
    • J ，〇 W(〇H)r (5 a) (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) '裝. —{〇ί：〇5 R'
    ， 〇 R*-C-Rs 0-R4
    (5b) ,11- 0 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 —<CH：〇5i— .1 (其中，R 1 ，R 2 ，R 4 ，R 5 ，R e ，Q，，y ， m » n · p 1 ，p2 » q 1 ，q2如申請專利範圍第1項 所定義）所示重覆單位之高分子化合物的製造方法。 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 6 - A8 B8 C8 D8 六、申請專利範園 3.如申請專利範圍第1或2項之製造方法，其特徵 爲，對具有一般式（1 )所示重覆單位之高分子化合物的 全苯酚性羥基1克分子，導入p 2克分子；t下列一般式（ 7 )所示之基’ t e r t -烷基，三烷基甲政.烷基或酮烷 基，而得到具有下列一般式（6 c )或（6 d )所示重覆 單位之高分子化合物， 〇 -iCH^rC-0-RT C7) (其中，R7爲氫原子或碳數4〜6之3級烷基，.a爲〇 〜6之整數） (請先聞讀背面之注意事項再填寫本耳) V裝. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    4β· 0. 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4规格（210X297公釐） -7 - A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍
    R1 (其中，R3爲上式（7)所示之基，t.e r t -焼基， ..................." 三烷基甲矽烷基或酮殡碁.，R 1 ，R 2 ，R 4 ，R 5 , R 6 ，R 7 ，Q，X，y，m，n vp 1 ’，p 2'，q 1 , q 2如申請專利範圍第1項所定義）。 4 .如申請專利範圍第3項之製造方法，其特徵爲， 對具有一般式（1 )所示重覆單位之高分子化合物的全苯 酚性羥基1克分子，導入Q 2克分子之.下列一般式（7 ) 0 B (7) -<CHJrC-0-RT (其中，R 7 ，a .如申請專利範圍第.3.項换定義.）’而得 到具有下列一·般式（6 a )或（3_.b ) •-一- 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I I I —； I ―― I 裝 II 訂 I I 線 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 3Si>aig 六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8
    RS -(C： R1 R:x-
    R'
    (〇H)m Rlx
    ^Ch Rl Rl (〇H)„ R\ (0 、 r i ? | R4-C-Rs | (chi 0-R4 J a c=o I 、0Rr 〇RT (0-R« c=o R^-RS 0 rt- R丨 —(CH:〇r
    (OH), (6 a) (CH〇4、0 -{CHzChr (〇H)ra R\
    (CH：C^ (〇H)y • R1 .R' —(CH：C)5
    (0H)ffl Rz,
    (〇H)m R\ Rl R'' I —^CHzCfe-
    (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-·
    0 R^C-R* 0-R4 ? (?H山 C=0 I 0Rr (6 b) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 R 6 .，. R 7 ，. Q , x q 2如申請專利範圍 高分子化合物。 法，其係特徵爲，於 1 ! R* (其中，R 1 ，R 2 ，R 4 ，R ，y ，m ， η ， p 1 ，P 2 ，Q 第1，3項所定義）所示重覆單位之 5.—種高分子化合物之製造方 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21 OX297公釐） -9 - 38〇δΐε Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 重量平均分子量爲 列一般式（1 ) 000〜500，〇〇〇的具有下
    ⑴ (其中 ’R1 » R 2 · X » y » p 1 ，p2 » q 1 » q 2 如申請專利範圍第1項所定義）所示重覆單位之高分子化 合物的苯酣性羥基之部分氫原子上，使對此全苯酿性羥基 1.克分子爲.P 1克分—.壬一之下列一般式（2 a )或（3 a ) R' R- A-e〇-(R,J<-0)rC=CH]e (2 a) R*
    (3 a) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (其中，R8a，R® ，R13，A，B V 範fμ項所定義）所示鏈烯醚化合物，或者下列一般式 (2 ¾ 丨）.或（3 b )1¾¾ 一 ·mmmm . R* r ’ d如申請專利 (2 b) i I ! I I I I I 117I I n ~~ 絲 (請先¾讀背面之注項再填寫本頁.) R· A-6 B-Ru-〇~c_^e Z (3 b) ~ 10 - A8 B83〇5S15 〇8六、申請專利範圍 (其中，R8 ，R9 ，R13，A，B，Z，c ，d 如申請 'Ί專利範圍第2項所定義）所示鹵化烷基醚化合物反應之， 具有下列一般式（8a)或（8b)
    Nly a 8 /IN (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) Rl R1 ·
    經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
    R' (其中，R1 > R 2 » Q > X » y λ ρ 1 ，ρ 2 ，q 1 .，Q2如申請專利範圍第1項所定義）所示重覆單位之高分 子化合物的製造方法。 本紙張尺度逋用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠) -11- 385315 A8 B8 C8 D8 t、申請專利範圍 6 .如申請專利範圍第5項之製造方法，其特徵爲， 對具有一般式（1 )所示重覆單位之高分子化合物的全苯 酚性羥基1克分子’導入q 1克分子的下列一般式（9 ) 所示的基’而得到具有一般式（5 a )一或（5 b )所示重 覆單位之高分子化合物 R ‘ •C-0-R* R* (9) (其中，R R R 8如申請專利範圍第1項所定義 7 .如申請專利範圍第5項之製造方法，其特徵爲， 對具有一般式（1 )所示重覆單位之高分子化合物的全苯 酹性羥基1克分子，導入q2克分于的一般式（7 )所示 之基，t e r t —烷基，三烷基甲矽烷基或酮烷基.，而得 到具有下述一般式（5 c )或（5 d )所示重覆單位的高 ---------d------訂------乘 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 分子化合物 R1 R1 R*
    本紙張尺度逋用中國國家梯準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (5 c) -12 - A8 385815 ?I D8 六、申請專利範圍 經濟部智慧財產备員工消費合作社印製
    (其中，R，p 2 ， q R 2 » R 3 ，Q，x，y，m，n，pi q 2如申請專利範圍第1 ’ 3項所定義） 8 .如申請專利範圍第6項之製造方法，其特徵爲’ 對具有一般式（1 )所示重覆單位之高分子化合物的全苯 酚性羥基1克分子，導入q2克分子的一般式（7 )所示 之基，t e r t —烷基，三烷基甲矽院基或酮烷基，而得 到具有一般式（6 c )或（6 d)所示重覆單位之高分子 化合物。 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) Λ4规格（2丨0X297公釐） -13 - 13 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3656237B2 (ja) * 1996-07-17 2005-06-08 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物
JP3856270B2 (ja) * 1998-09-24 2006-12-13 富士フイルムホールディングス株式会社 ポジ型レジスト組成物
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KR100865063B1 (ko) * 2003-05-22 2008-10-23 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 화학증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물 및 레지스트패턴 형성방법
JP4440600B2 (ja) * 2003-10-31 2010-03-24 Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 厚膜および超厚膜対応化学増幅型感光性樹脂組成物
TWI260467B (en) * 2004-01-30 2006-08-21 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Positive resist composition and method of forming resist pattern
US8715918B2 (en) 2007-09-25 2014-05-06 Az Electronic Materials Usa Corp. Thick film resists
TWI717543B (zh) 2016-08-09 2021-02-01 德商馬克專利公司 光阻組合物及其用途

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