KR101629463B1 - Linear type evaporator and thin film deposition apparatus having the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 원료 물질을 증발시키는 도가니와, 도가니와 연결되어 증발된 원료 물질을 복수의 노즐을 통해 분사하는 소오스 헤드와, 도가니와 소오스 헤드로부터 누설되는 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재를 포함하는 증발 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 장치를 제공한다.The present invention relates to an evaporation apparatus including a crucible for evaporating a raw material, a source head connected to the crucible for evaporating the raw material through a plurality of nozzles, and a trap member for trapping the raw material leaking from the crucible and the source head. And a thin film deposition apparatus having the same.

Description

증발 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 장치{Linear type evaporator and thin film deposition apparatus having the same}[0001] The present invention relates to an evaporation apparatus and a thin film deposition apparatus having the evaporation apparatus,

본 발명은 증발 장치에 관한 것으로, 특히 증발 물질의 외부 누설을 방지할 수 있는 증발 장치 및 이를 구비하는 진공 증착 장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an evaporation apparatus, and more particularly, to an evaporation apparatus and a vacuum deposition apparatus having the evaporation apparatus that can prevent external leakage of evaporation material.

유기 전계 발광 소자(Organic Light Emitting Device; OLED)는 전자(electron)와 정공(hole)이 재결합(recombination)하여 여기자(exciton)를 형성하고, 형성된 여기자로부터의 에너지에 의해 특정한 파장의 빛이 발생하는 자체 발광 소자이다. 유기 전계 발광 소자는 콘트라스트 비(Contrast Ratio)와 응답 속도(response time) 등의 표시 특성이 우수하고, 플렉서블 디스플레이(Flexible Display)의 구현이 용이하여 가장 이상적인 차세대 디스플레이로 주목받고 있다.BACKGROUND ART An organic light emitting device (OLED) is a device in which electrons and holes are recombined to form excitons, and light of a specific wavelength is generated by energy from excitons formed It is a self-luminous element. Organic electroluminescent devices are excellent in display characteristics such as contrast ratio and response time, and are easily attracted attention as a next-generation display that is most ideal due to easy implementation of a flexible display.

이러한 유기 전계 발광 소자는 전자를 주입하는 캐소드(cathode)과 정공을 주입하는 애노드(anode) 사이에 적어도 하나의 유기물층이 형성된 구조를 갖는다. 유기물층은 발광층을 포함하며, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층 및 전자 주입층을 더 포함할 수 있다. 그런데, 유기물층은 온도 등에 취약하기 때문에 일 유기물층이 형성된 상태에서 타 유기물층을 형성하기 위해서는 하부의 유기물층에 손상을 주지 않도록 하는 것이 중요하다. 이를 위해 유기물을 증발시켜 기판의 일면에 증착하는 방법이 가장 많이 이용되고 있다. 이러한 증착 방법은 글래스 등의 기판과 유기물이 담긴 점증발원(point source)을 대향되도록 배치한 후 점증발원을 가열하여 증발되는 유기물 기체를 기판에 증착한다.The organic electroluminescent device has a structure in which at least one organic layer is formed between a cathode for injecting electrons and an anode for injecting holes. The organic material layer may include a light emitting layer, and may further include a hole injecting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer. However, since the organic material layer is vulnerable to temperature and the like, it is important to prevent damage to the underlying organic material layer in order to form another organic material layer in the state that one organic material layer is formed. For this purpose, a method of evaporating organic substances and depositing them on one side of the substrate is the most widely used. In such a deposition method, a substrate such as a glass substrate and a point source containing an organic material are disposed to face each other, and then an organic gas vaporized by heating the substrate is deposited on the substrate.

그러나, 최근에는 대면적 디스플레이의 요구에 따라 기판이 대면적화되고 있는데, 대면적 기판에 점증발원을 이용할 경우 박막의 두께 균일성이 저하되고, 복수의 점증발원을 배치해야 하기 때문에 챔버의 부피가 증가하게 된다. 따라서, 점증발원 대신에 선형 증발원이 이용된다. 선형 증발원은 내부 세정 및 유기물 공급을 용이하게 하기 위해 도가니(crucible)와, 소오스 헤드(source head)를 포함할 수 있다. 도가니는 유기물을 수용하고 이를 소정 온도로 가열하여 증발시키고, 소오스 헤드는 도가니로부터 증발된 유기물을 공급받아 복수의 노즐을 이용하여 분사한다. 이러한 선형 증발원의 예가 한국공개특허 제10-2012-0124889호에 제시되어 있다. 또한, 도가니와 소오스 헤드의 연결 부분은 기밀하게 실링하여 유기물이 선형 증발원의 외부로 누설되지 않도록 해야 한다.However, in recent years, substrates have been made larger in accordance with the demand of large-area displays. However, when an increasing substrate is used for a large-sized substrate, the uniformity of the thickness of the thin film is lowered and the volume of the chamber is increased . Thus, a linear evaporation source is used instead of an increasing source. The linear evaporation source may include a crucible and a source head to facilitate internal cleaning and organic feed. The crucible receives the organic material, and evaporates the organic material by heating it to a predetermined temperature. The source head receives the evaporated organic material from the crucible and injects the mixed material using a plurality of nozzles. An example of such a linear evaporation source is disclosed in Korean Patent Publication No. 10-2012-0124889. In addition, the connection between the crucible and the source head must be sealed to prevent organic matter from leaking out of the linear evaporation source.

그러나, 선형 증발원은 유기물을 증발시키기 위해 고온의 조건을 유지하는데, 고온에서 가스켓이나 볼트 등의 체결 부재가 열팽창하여 증발된 유기물이 누설될 수 있다. 또한, 체결 부재가 증발된 유기물과 화학적으로 반응하여 체결 부재가 손상됨으로써 유기물이 누설될 수도 있다. 이렇게 누설되는 유기물은 선형 증발원 또는 챔버를 오염시키는 오염원으로 작용하거나, 기판에 비정상적으로 증착될 수도 있다. 또한, 선형 증발원은 유기물 이외에 금속을 기화시킬 수도 있는데, 금속 물질이 누설될 경우 도가니를 가열하는 히터 등에 증착되어 쇼트(short) 현상을 발생시킬 수 있다.
However, the linear evaporation source maintains a high temperature condition for evaporating the organic matter, and the organic matter may be leaked due to thermal expansion of the fastening member such as a gasket or bolt at a high temperature. Further, the fastening member chemically reacts with the evaporated organic material, and the fastening member may be damaged, so that the organic material may leak. This leakage may act as a contaminant to contaminate the linear evaporation source or chamber, or may be deposited abnormally on the substrate. In addition, the linear evaporation source may vaporize a metal other than the organic material, and when the metal material leaks, it may deposit on a heater or the like that heats the crucible and may cause a short phenomenon.

본 발명은 증발된 원료 물질이 외부로 누설되지 않도록 하는 증발 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 장치를 제공한다.The present invention provides an evaporation apparatus for preventing evaporated raw material from leaking to the outside, and a thin film deposition apparatus having the evaporation apparatus.

본 발명은 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위에 트랩 부재를 마련하여 도가니와 소오스 헤드 사이에서 누설되는 증발 물질을 트랩할 수 있는 증발 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 장치를 제공한다.
The present invention provides an evaporation apparatus and a thin film deposition apparatus having the evaporation apparatus capable of trapping evaporation material leaking between a crucible and a source head by providing a trap member at a connection site between a crucible and a source head.

본 발명의 일 양태에 따른 증발 장치는 원료 물질을 증발시키는 도가니; 상기 도가니와 연결되어 상기 증발된 원료 물질을 복수의 노즐을 통해 분사하는 소오스 헤드; 및 상기 도가니와 소오스 헤드로부터 누설되는 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재를 포함한다.According to an aspect of the present invention, an evaporation apparatus includes: a crucible for evaporating a raw material; A source head connected to the crucible for spraying the evaporated raw material through a plurality of nozzles; And a trap member for trapping the raw material leaking from the crucible and the source head.

상기 도가니 및 소오스 헤드 외측에 마련되며, 상기 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위에 대응되는 소정 영역에 절개부가 형성된 리플렉터; 및 상기 리플렉터 외측에 마련된 쿨링 재킷을 더 포함한다.A reflector provided outside the crucible and the source head and having a cutout at a predetermined region corresponding to a connecting portion between the crucible and the source head; And a cooling jacket provided outside the reflector.

상기 절개부의 적어도 일 영역에 돌출되어 마련된 돌출부를 더 포함한다.And a protrusion protruding from at least one region of the incision.

상기 트랩 부재는 상기 절개부에 대응되는 영역이 상기 쿨링 재킷의 내측면에 적어도 일부 접촉되어 마련되며, 상하 곡면을 이루도록 마련된다.The trap member is provided so that an area corresponding to the cut-out portion is at least partially in contact with an inner surface of the cooling jacket, and is formed to be a curved upper and lower surface.

상기 트랩 부재는 서로 다른 홀 사이즈를 갖는 적어도 둘 이상으로 마련된다.The trap members are provided at least two or more with different hole sizes.

상기 트랩 부재는 상기 리플렉터 측으로부터 상기 쿨링 재킷 측으로 갈수록 홀 사이즈가 작아지도록 마련된다.The trap member is provided such that the hole size decreases from the reflector side toward the cooling jacket side.

상기 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷 외측에 마련된 자석에 의해 고정된다.The trap member is fixed by a magnet provided outside the cooling jacket.

상기 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 외측에 접촉되는 제 1 트랩 부재와, 상기 제 1 트랩 부재의 일면에 일 측면이 결합된 제 2 트랩 부재를 포함한다.The trap member includes a first trap member which is in contact with the outside of the cooling jacket and a second trap member whose one side is coupled to one surface of the first trap member.

상기 쿨링 재킷에 절개부가 더 형성되고, 상기 제 2 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 절개부 및 상기 리플렉터의 절개부를 통해 삽입된다.
The cooling jacket further has a cut-out portion, and the second trap member is inserted through the cut-out portion of the cooling jacket and the cut-out portion of the reflector.

본 발명의 다른 양태에 따른 박막 증착 장치는 챔버; 상기 챔버 내에 기판을 지지하는 기판 지지부; 및 상기 기판 지지부와 대향되어 적어도 일부가 상기 챔버 내에 마련되어 상기 기판에 원료 물질을 증발시켜 공급하는 증발 장치를 포함하고, 상기 증발 장치는 원료 물질을 증발시키는 도가니와, 상기 도가니와 연결되어 상기 증발된 원료 물질을 복수의 노즐을 통해 분사하는 소오스 헤드와, 상기 도가니와 소오스 헤드로부터 누설되는 상기 증발된 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재를 포함한다.A thin film deposition apparatus according to another aspect of the present invention includes a chamber; A substrate support for supporting a substrate in the chamber; And a vaporizer disposed in the chamber so as to face the substrate supporter and to evaporate and supply the raw material to the substrate, wherein the evaporator includes a crucible for evaporating the raw material, A source head for spraying the raw material through a plurality of nozzles, and a trap member for trapping the evaporated raw material leaking from the crucible and the source head.

상기 도가니 및 소오스 헤드 외측에 마련되며, 상기 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위에 대응되는 소정 영역에 절개부가 형성된 리플렉터; 및 상기 리플렉터 외측에 마련된 쿨링 재킷을 더 포함한다.A reflector provided outside the crucible and the source head and having a cutout at a predetermined region corresponding to a connecting portion between the crucible and the source head; And a cooling jacket provided outside the reflector.

상기 트랩 부재는 서로 다른 홀 사이즈를 갖는 적어도 둘 이상으로 마련되며, 상기 연결 부위에 대응되는 쿨링 재킷의 내측면에 적어도 일부 접촉되어 마련된다.The trap member is provided in at least two or more different hole sizes and is provided at least partially in contact with the inner surface of the cooling jacket corresponding to the connection portion.

상기 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 외측에 접촉되는 제 1 트랩 부재와, 상기 제 1 트랩 부재의 일면에 일 측면이 결합된 제 2 트랩 부재를 포함한다.The trap member includes a first trap member which is in contact with the outside of the cooling jacket and a second trap member whose one side is coupled to one surface of the first trap member.

상기 쿨링 재킷에 절개부가 더 형성되고, 상기 제 2 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 절개부 및 상기 리플렉터의 절개부를 통해 삽입된다.
The cooling jacket further has a cut-out portion, and the second trap member is inserted through the cut-out portion of the cooling jacket and the cut-out portion of the reflector.

본 발명의 실시 예들에 따른 증발 장치는 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위에 대응하는 리플렉터의 소정 영역에 절개부가 형성되고, 절개부에 대응되는 영역에 적어도 일부가 쿨링 재킷에 접촉되도록 트랩 부재가 마련됨으로써 연결 부위로부터 누설되는 기체 상태의 원료 물질이 트랩 부재에 부착되어 트랩될 수 있다.The evaporation apparatus according to the embodiments of the present invention may have a cut portion formed in a predetermined region of a reflector corresponding to a connection portion between a crucible and a source head and a trap member such that at least a portion of the trap portion contacts a cooling jacket in a region corresponding to the cut portion The gaseous raw material leaking from the connection portion can be attached to the trap member and trapped.

따라서, 누설되는 원료 물질이 증발 장치를 오염시키거나, 증발 장치로부터 누설되어 챔버 내부를 오염시키는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 챔버 내부로 누설된 원료 물질이 기판 상에 비정상적으로 증착되는 문제도 방지할 수 있다.
Therefore, it is possible to prevent the problem that the raw material that is leaked contaminates the evaporator or leaks from the evaporator and contaminates the inside of the chamber. Further, it is also possible to prevent the problem that the raw material leaked into the chamber is abnormally deposited on the substrate.

도 1 및 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치의 단면도 및 부분 단면도.
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치에 이용되는 트랩 부재의 측면도 및 분해 평면도.
도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 트랩 부재를 이용한 증발 장치의 부분 단면도.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 트랩 부재의 개념도.
도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치를 구비하는 박막 증착 장치의 단면도.1 and 2 are a cross-sectional view and a partial cross-sectional view of an evaporation apparatus according to an embodiment of the present invention;
3 and 4 are a side view and an exploded top view of a trap member used in an evaporator according to an embodiment of the present invention;
5 is a partial cross-sectional view of an evaporation apparatus using a trap member according to another embodiment of the present invention.
6 to 8 are conceptual diagrams of a trap member according to another embodiment of the present invention.
9 is a sectional view of a thin film deposition apparatus having an evaporation apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명하기로 한 다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but is capable of other various forms of implementation, and that these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, It is provided to let you know completely.

도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치의 단면도이고, 도 2는 부분 단면도이다. 또한, 도 3은 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치에 이용되는 트랩 부재의 측면도이며, 도 4는 트랩 부재의 평면도이다.1 is a sectional view of a vaporizing device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial sectional view. 3 is a side view of the trap member used in the evaporator according to the embodiment of the present invention, and Fig. 4 is a plan view of the trap member.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치는 원료 물질이 충진되며 이를 증발시키는 도가니(110)와, 도가니(110)를 가열하는 가열 부재(120)와, 복수의 노즐(132)을 구비하여 도가니(110)로부터 증발된 원료 물질을 공급받아 분사하는 소오스 헤드(source head)(130)와, 도가니(110) 및 소오스 헤드(120)의 외측에 마련된 리플렉터(reflector)(140)와, 리플렉터(140)의 외측에 마련된 쿨링 재킷(cooling jacket)(150)과, 리플렉터(140)와 쿨링 재킷(150) 사이에 마련되어 도가니(110)와 소오스 헤드(120)의 연결 부위로부터 누설된 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재(160)를 포함할 수 있다. 또한, 트랩 부재(160)를 고정하는 고정 부재(170)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, an evaporator according to an embodiment of the present invention includes a crucible 110 for filling a raw material and evaporating the raw material, a heating member 120 for heating the crucible 110, A source head 130 provided with a nozzle 132 to supply and discharge raw material evaporated from the crucible 110 and a reflector provided outside the crucible 110 and the source head 120. [ A cooling jacket 150 provided on the outside of the reflector 140 and a cooling jacket 150 provided between the reflector 140 and the cooling jacket 150 to connect the crucible 110 and the source head 120, And a trap member 160 for trapping the raw material leaked from the trapping member 160. Further, it may further include a fixing member 170 for fixing the trap member 160. [

도가니(110)는 상부가 개방되고 내부에 소정 공간이 형성된 사각 박스로 제작되고, 도가니(110)의 소정 공간에는 고체 또는 분말 형태의 원료 물질이 저장된다. 여기서, 도가니(110)의 형상은 사각 박스 이외에 일 방향으로 길게 연장된 직육면체, 다면체 등의 다양한 형상으로 제작될 수 있다. 이러한 도가니(110)는 소오스 헤드(130)와 연결되어 소오스 헤드(130)에 증발된 원료 물질을 공급한다.The crucible 110 is made of a square box having an open top and a predetermined space formed therein, and a solid or powdery raw material is stored in a predetermined space of the crucible 110. Here, the shape of the crucible 110 may be formed in various shapes such as a rectangular parallelepiped, a polyhedron, or the like extended in one direction in addition to the rectangular box. The crucible 110 is connected to the source head 130 to supply the evaporated raw material to the source head 130.

가열 부재(120)는 도가니(110)의 외측에 마련되어 도가니(110)를 가열하여 도가니(110) 내의 원료 물질을 증발시킨다. 가열 부재(120)는 도가니(110)의 외벽에 접촉되어 마련될 수도 있고, 소정 간격 이격되어 마련될 수도 있다. 예를 들어, 가열 부재(120)는 도가니(110)의 외측을 감싸도록 마련된 열선을 포함할 수 있다. 또한, 가열 부재(120)는 도가니(110)의 하면 및 측면과 이격된 소정의 판 형상으로 마련된 히터를 포함할 수도 있다. 한편, 가열 부재(120)는 도가니(110) 뿐만 아니라 소오스 헤드(130)의 적어도 일부를 가열하도록 마련될 수 있다. 예를 들어, 가열 부재(120)는 도가니(110)와 연결되는 소오스 헤드(130)의 일 영역에 더 마련될 수도 있다. 이때, 가열 부재(120)는 도가니(110)와 소오스 헤드(130)를 동일 온도로 가열할 수도 있고, 도가니(110)를 소오스 헤드(130)보다 더 높은 온도로 가열할 수도 있다.The heating member 120 is provided outside the crucible 110 and heats the crucible 110 to evaporate the raw material in the crucible 110. The heating member 120 may be provided in contact with the outer wall of the crucible 110 or may be spaced apart by a predetermined distance. For example, the heating member 120 may include a hot wire arranged to surround the outer side of the crucible 110. The heating member 120 may include a heater provided in a predetermined plate shape spaced apart from the lower surface and the side surface of the crucible 110. On the other hand, the heating member 120 may be provided to heat at least a part of the source head 130 as well as the crucible 110. For example, the heating member 120 may be further provided in one area of the source head 130 connected to the crucible 110. The heating member 120 may heat the crucible 110 and the source head 130 to the same temperature or may heat the crucible 110 to a temperature higher than the temperature of the source head 130.

소오스 헤드(130)는 복수의 노즐(122)을 구비하여 도가니(110)로부터 기화된 원료 물질을 공급받아 외부, 예를 들어 기판을 향해 분사한다. 이러한 소오스 헤드(130)는 도가니(110)로부터 증발된 원료 물질이 유입되는 제 1 배관(134)과, 제 1 배관(134)에 연결되고 외주면에 복수의 노즐(132)이 마련된 제 2 배관(136)을 포함할 수 있다. 제 1 배관(134)은 원료 물질을 기화시키는 도가니(110)와 연결된다. 이러한 제 1 배관(134)은 통 형상으로 마련될 수 있는데, 예를 들어 단면이 사각 또는 원형의 통 형상으로 마련될 수 있다. 또한, 제 1 배관(134)은 이와 연결되는 적어도 도가니(110)의 일 영역과 동일 형상으로 마련되는 것이 바람직하다. 예를 들어, 도가니(110)의 제 1 배관(134)과 연결되는 부분이 사각의 단면 구조를 갖는 다면 제 1 배관(134)은 이와 동일한 사이즈 및 형상을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 제 1 배관(134)과 도가니(110)의 연결 부위(134a)는 그 사이에 고무 등의 실링 부재가 마련되고 외측에 볼트, 클램프 등의 체결 부재를 이용하여 기밀하게 연결될 수 있다. 이를 위해 연결 부위(134a)는 제 1 배관(134) 및 도가니(110)의 내경보다 큰 직경을 갖는다. 제 2 배관(136)은 제 1 배관(134)과 연결되어 제 1 배관(134)을 통해 원료 물질을 공급받는다. 예를 들어, 제 2 배관(136)은 일 단부가 제 1 배관(134)의 일측과 연결되어 제 1 배관(134)과 제 2 배관(136)은 대략 "ㄱ"자 형상으로 구성될 수 있다. 또한, 제 1 배관(134)의 일측은 제 2 배관(136)의 중앙부에 연결되어 제 1 배관(134)과 제 2 배관(136)은 대략 "T"자 형상으로 구성될 수 있다. 이러한 제 2 배관(136)은 단면이 사각 또는 원형의 통 형상으로 마련될 수 있으며, 제 1 배관(134)와 동일 형상을 갖는 것이 바람직하다. 제 2 배관(136)의 외주면에는 제 2 배관(136)이 길이 방향으로 복수의 노즐(132)이 서로 이격되어 마련된다. 복수의 노즐(132)은 리플렉터(140) 및 쿨링 재킷(150)을 관통하도록 마련된다. 또한, 노즐(132)은 제 2 배관(136)의 길이 방향과 교차하는 방향으로 적어도 하나 이상 마련될 수 있다. 이러한 복수의 노즐(132)은 원료 물질을 분사하기 위한 대상 물질, 예를 들어 기판의 폭보다 넓은 폭으로 마련될 수 있다. 또한, 복수의 노즐(132)은 그 길이, 간격 및 직경은 모두 동일할 수 있다. 그러나, 복수의 노즐(132)은 적어도 둘 이상의 길이, 간격 및 직경이 다르게 마련될 수 있다. 예를 들어, 제 1 배관(134)과 가까운 영역보다 먼 영역은 원료 물질을 적게 공급받을 수 있으므로 제 1 배관(134)과 가까운 영역으로부터 먼 영역으로 갈수록 노즐(132)의 길이가 길고, 직경이 크며, 그 사이의 간격이 좁게 마련될 수 있다. The source head 130 includes a plurality of nozzles 122 to supply the vaporized raw material from the crucible 110 and inject the raw material toward the outside, for example, the substrate. The source head 130 includes a first pipe 134 through which raw material evaporated from the crucible 110 flows and a second pipe 134 connected to the first pipe 134 and having a plurality of nozzles 132 on the outer circumferential surface thereof 136). The first pipe 134 is connected to the crucible 110 for vaporizing the raw material. The first pipe 134 may be provided in a cylindrical shape, for example, a square or circular cross section. In addition, the first pipe 134 is preferably provided in the same shape as at least one region of the crucible 110 connected thereto. For example, if the portion of the crucible 110 connected to the first pipe 134 has a rectangular cross-sectional structure, the first pipe 134 preferably has the same size and shape. The connection portion 134a of the first pipe 134 and the crucible 110 may be sealed between the first pipe 134 and the crucible 110 by using a sealing member such as rubber or the like and a sealing member such as a bolt or a clamp. For this, the connecting portion 134a has a larger diameter than the inner diameter of the first pipe 134 and the crucible 110. [ The second pipe 136 is connected to the first pipe 134 and is supplied with the raw material through the first pipe 134. For example, one end of the second pipe 136 may be connected to one side of the first pipe 134 so that the first pipe 134 and the second pipe 136 may have a substantially " . One side of the first pipe 134 may be connected to the center of the second pipe 136 so that the first pipe 134 and the second pipe 136 may have a substantially T shape. The second pipe 136 may have a rectangular or circular cross section and may have the same shape as the first pipe 134. A second pipe 136 is provided on the outer circumferential surface of the second pipe 136 such that a plurality of nozzles 132 are spaced apart from each other in the longitudinal direction. A plurality of nozzles 132 are provided to penetrate the reflector 140 and the cooling jacket 150. In addition, at least one nozzle 132 may be provided in a direction crossing the longitudinal direction of the second pipe 136. The plurality of nozzles 132 may be provided with a width larger than a width of a target material for ejecting the raw material, for example, a width of the substrate. The length, spacing, and diameter of the plurality of nozzles 132 may all be the same. However, the plurality of nozzles 132 may have at least two different lengths, intervals, and diameters. For example, since a region farther from the first pipe 134 can receive a small amount of the raw material, the length of the nozzle 132 becomes longer toward the region far from the region close to the first pipe 134, And the distance therebetween can be narrowed.

리플렉터(140)는 도가니(110) 및 소오스 헤드(130) 외측에 마련될 수 있다. 예를 들어, 리플렉터(140)는 도가니(110)와 소오스 헤드(130)를 감싸도록 이들의 형상과 동일 형상으로 마련될 수 있다. 그러나, 리플렉터(140)의 형상은 이에 한정되지 않고 도가니(110) 및 소오스 헤드(130)를 감싸는 형상이 가능하다. 이러한 리플렉터(140)는 도가니(110) 및 소오스 헤드(130)로부터 방사되는 열이 외부로 방출되는 것을 방지함과 동시에 그 내부의 온도를 일정하게 유지한다. 따라서, 리플렉터(140)는 전도된 열을 반사하는 반사체, 단열 부재 등으로 마련될 수 있다. 또한, 리플렉터(140)는 적어도 이중으로 마련되어 열효율을 향상시킬 수 있다. 즉, 도가니(110) 및 소오스 헤드(130)에 인접하여 제 1 리플렉터(142)가 마련될 수 있고, 제 1 리플렉터(142)와 이격되어 제 2 리플렉터(144)가 마련될 수 있다. 또한, 리플렉터(140)는 도가니(110)와 소오스 헤드(130) 사이의 연결 부위(134a)에 대응되는 영역 또는 그 근방의 영역이 소정 폭으로 절개된 절개부(142a, 144a)가 형성될 수 있다. 절개부(142a, 144a)는 도가니(110)와 소오스 헤드(130) 사이의 연결 부위(134a)를 통해 누설될 수 있는 원료 물질이 이동하는 통로가 된다. 이때, 제 1 리플렉터 및 제 2 리플렉터(142, 144)에 각각 마련된 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)는 서로 다른 위치에 마련될 수 있다. 즉, 제 1 및 제 2 리플렉터(142, 144)의 절개부(142a, 144a)의 위치를 다르게 함으로써 가열 부재(120)에서 발생된 복사열이 직접 쿨링 재킷(150)에 전달되지 않도록 한다. 예를 들어, 제 1 리플렉터(142)에는 도가니(110)와 소오스 헤드(120)의 연결 부위(134a)에 대응되는 영역에 제 1 절개부(142a)가 형성될 수 있고, 제 2 리플렉터(144)에는 제 1 절개부(142a)와 다른 영역에 제 2 절개부(144a)가 형성될 수 있다. 이때, 제 2 절개부(144a)는 제 1 절개부(144a)보다 도가니(110) 측에 형성될 수 있다. 물론, 제 2 절개부(144a)는 제 1 배관(134) 측에 형성될 수도 있다. 이러한 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)는 동일 크기 및 형상으로 형성될 수 있고, 다른 크기 및 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)는 트랩 부재(160)보다 작은 사이즈로 형성될 수 있고, 동일한 사이즈로 형성될 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)는 연결 부위(134a)의 둘레를 따라 전체적으로 형성될 수도 있고, 적어도 일 영역에 부분적으로 형성될 수도 있다. 한편, 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)의 가장자리에는 외측으로 돌출된 돌출부(142b, 144b)가 마련될 수 있다. 즉, 제 1 돌출부(142b)는 제 1 절개부(142a)로부터 도가니(110)와 소오스 헤드(130)의 연결 부위(134a)를 향해 벌어지는 형상으로 마련될 수 있고, 제 2 돌출부(144b)는 제 2 절개부(144a)로부터 제 1 리플렉터(144)를 향해 벌어지는 형상으로 마련될 수 있다. 이러한 돌출부(144a, 144b)는 연결 부위(134a)에서 누설될 수 있는 원료 물질(A)을 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)로 안내하는 가이드의 역할을 한다. 이때, 제 2 절개부(144a)가 제 1 절개부(142a)보다 하측에 형성되는 경우 제 2 돌출부(144b)는 하측에 하나만 형성될 수 있다. 즉, 제 2 돌출부(144b)가 상측에 형성되는 경우 제 1 절개부(142a)를 통해 흐르는 원료 물질이 제 2 절개부(144a)로 흐르지 못하고 제 2 돌출부(144b)에 막힐 수 있다.The reflector 140 may be provided outside the crucible 110 and the source head 130. For example, the reflector 140 may have the same shape as the shape of the reflector 140 so as to surround the crucible 110 and the source head 130. However, the shape of the reflector 140 is not limited thereto, and the shape of the reflector 140 may be such as to surround the crucible 110 and the source head 130. The reflector 140 prevents the heat radiated from the crucible 110 and the source head 130 from being emitted to the outside while keeping the temperature inside the reflector 140 constant. Therefore, the reflector 140 may be provided with a reflector, a heat insulating member, or the like that reflects the conducted heat. Also, the reflector 140 may be provided at least in duplicate to improve thermal efficiency. That is, the first reflector 142 may be provided adjacent to the crucible 110 and the source head 130, and the second reflector 144 may be provided apart from the first reflector 142. The reflector 140 may be formed with cutouts 142a and 144a having a predetermined width in a region corresponding to the connection portion 134a between the crucible 110 and the source head 130, have. The cutouts 142a and 144a are paths through which the raw material that can be leaked through the connecting portion 134a between the crucible 110 and the source head 130 moves. At this time, the first and second cutouts 142a and 144a provided in the first and second reflectors 142 and 144 may be provided at different positions. That is, the positions of the cutouts 142a and 144a of the first and second reflectors 142 and 144 are different from each other, so that the radiation heat generated in the heating member 120 is not directly transmitted to the cooling jacket 150. For example, the first incinerator 142a may be formed in the first reflector 142 in a region corresponding to the connection portion 134a between the crucible 110 and the source head 120, and the second incinerator 142a may be formed in the second reflector 144 A second cutout 144a may be formed in a region different from the first cutout 142a. At this time, the second cutout 144a may be formed on the crucible 110 side rather than the first cutout 144a. Of course, the second incision 144a may be formed on the first pipe 134 side. The first and second cutouts 142a and 144a may be formed in the same size and shape and may have different sizes and shapes. For example, the first and second incisions 142a and 144a may be formed in a smaller size than the trap member 160 and may be formed in the same size. In addition, the first and second incisions 142a and 144a may be formed entirely along the periphery of the connection portion 134a, or may be partially formed in at least one region. On the other hand, protrusions 142b and 144b protruding outward may be provided at the edges of the first and second cutouts 142a and 144a. That is, the first protrusion 142b may be formed to extend from the first cutout 142a toward the connection portion 134a between the crucible 110 and the source head 130, and the second protrusion 144b And may be provided in a shape extending from the second cutout 144a toward the first reflector 144. [ The protrusions 144a and 144b serve as guides for guiding the raw material A that may leak from the connection portion 134a to the first and second cutouts 142a and 144a. At this time, when the second cutout 144a is formed below the first cutout 142a, only one second cutout 144b may be formed on the lower side. That is, when the second protrusion 144b is formed on the upper side, the raw material flowing through the first cutout 142a can not flow to the second cutout 144a and can be clogged with the second protrusion 144b.

쿨링 자켓(150)는 도가니(110) 및 소오스 헤드(120)로부터 방사되는 열이 외부로 전달되는 것을 방지하기 위해 마련된다. 즉, 쿨링 재킷(150)은 내부에 냉각수 또는 냉각 공기가 유입 및 반출될 수 있도록 유로(미도시)가 형성될 수 있어 외부로 열이 방출되는 것을 방지할 수 있다. 이러한 쿨링 재킷(150)은 리플렉터(140)와 이격되어 이를 둘러싸도록 마련될 수 있다. 예를 들어, 도가니(110)와 소오스 헤드(130)가 대략 "ㄱ"자 형상으로 마련되는 경우 쿨링 재킷(150)은 내부에 도가니(110), 소오스 헤드(130), 리플렉터(140) 등을 수용하는 공간이 마련되고, 외형도 대략 "ㄱ"자 형상으로 마련될 수 있다. 이때, 쿨링 재킷(150)에는 소오스 헤드(120)의 복수의 노즐(112)이 관통하는 복수의 홀이 형성된다.The cooling jacket 150 is provided to prevent heat radiated from the crucible 110 and the source head 120 from being transmitted to the outside. That is, the cooling jacket 150 can be formed with a flow passage (not shown) so that the cooling water or the cooling air can flow in and out of the cooling jacket 150, thereby preventing heat from being radiated to the outside. The cooling jacket 150 may be spaced apart from the reflector 140 so as to surround the cooling jacket 150. For example, in a case where the crucible 110 and the source head 130 are provided in a substantially "A" shape, the cooling jacket 150 may include a crucible 110, a source head 130, a reflector 140, It is possible to provide a space for accommodating the air bag, and the outer shape can also be provided in a substantially "A" shape. At this time, the cooling jacket 150 is formed with a plurality of holes through which the plurality of nozzles 112 of the source head 120 pass.

트랩 부재(160)는 도가니(110)와 소오스 헤드(130)의 연결 부위(134a)로부터 누설될 수 있는 원료 물질을 트랩하기 위해 마련된다. 이러한 트랩 부재(160)는 쿨링 재킷(150)의 내측에 마련되는데, 예를 들어 제 2 절개부(144a)에 대면하는 영역에 제 2 절개부(144a)보다 크게 마련될 수 있다. 트랩 부재(160)는 쿨링 재킷(150)의 내면에 접촉되므로 트랩 부재(160)의 온도는 리플렉터(140) 내측의 온도보다 낮게 된다. 따라서, 리플렉터(140)의 절개부(142a, 144a)를 통과하여 유입되는 원료 물질이 트랩 부재(160)에 부착되어 트랩될 수 있다. 즉, 기체 상태의 원료 물질은 고온을 유지하고 트랩 부재(160)는 저온을 유지하기 때문에 원료 물질이 트랩 부재(160)에 접촉되면 원료 물질이 냉각되어 고체 상태 또는 파우더 상태로 트랩 부재(160)에 부착된다. 한편, 누설되는 원료 물질의 트랩 효율을 향상시키기 위해 트랩 부재(160)는 상하 곡면을 이루도록 마련될 수 있다. 즉, 트랩 부재(160)가 상하 곡면을 이룸으로써 트랩 부재(160)의 상측 및 하측으로 흐르는 원료 물질이 트랩 부재(160)에 더 잘 트랩될 수 있다. 이러한 트랩 부재(160)는 도 3 및 도 4(a) 내지 도 4(c)에 도시된 바와 같이 적어도 둘 이상의 트랩 부재(162, 164, 166)를 겹쳐지도록 하여 마련할 수 있다. 이때, 복수의 트랩 부재(162, 164, 166)는 접촉되어 마련될 수도 있고, 소정 간격 이격되어 마련될 수도 있다. 또한, 각 트랩 부재(162, 164, 166)의 적어도 하나 이상은 복수의 홀이 형성된 대략 메쉬(mesh) 구조로 마련될 수 있다. 예를 들어, 제 1 트랩 부재(162)는 홀이 형성되지 않은 판 형상으로 마련될 수 있고, 제 2 트랩 부재(164)는 제 1 홀(164a)이 복수 형성된 메쉬 구조로 마련될 수 있으며, 제 3 트랩 부재(166)는 제 2 홀(166a)이 복수 형성된 메쉬 구조로 마련될 수 있다. 이때, 제 2 홀(166a)의 사이즈가 제 1 홀(164a)의 사이즈보다 크게 형성된다. 즉, 리플렉터(140) 측으로부터 쿨링 재킷(150) 측으로 제 2 홀(166a)이 복수 형성된 제 3 트랩 부재(166), 제 1 홀(164a)이 복수 형성된 제 2 트랩 부재(164) 및 홀이 형성되지 않은 제 1 트랩 부재(162)의 순으로 마련될 수 있다. 이렇게 쿨링 재킷(150)으로부터 리플렉터(140)에 가까울수록 홀의 크기가 점점 커지도록 복수의 트랩 부재(160)를 마련함으로써 누설되는 원료 물질을 더 많이 트랩할 수 있다. 즉, 원료 물질이 접촉되는 순서로 홀이 커지면 제 3 트랩 부재(166)에 원료 물질이 트랩되어 홀(166a)이 막히기 이전에 뒤쪽의 제 2 및 제 1 트랩 부재(164, 162)에도 원료 물질이 트랩될 수 있다.The trap member 160 is provided to trap the source material that may leak from the connection portion 134a between the crucible 110 and the source head 130. [ The trap member 160 is provided inside the cooling jacket 150. For example, the trap member 160 may be larger than the second cutout 144a in a region facing the second cutout 144a. The temperature of the trap member 160 becomes lower than the temperature inside the reflector 140 because the trap member 160 contacts the inner surface of the cooling jacket 150. [ Therefore, the raw material flowing through the cutouts 142a and 144a of the reflector 140 can be attached to the trap member 160 and trapped. That is, since the gaseous raw material is maintained at a high temperature and the trap member 160 maintains a low temperature, when the raw material is contacted with the trap member 160, the raw material is cooled to form the trap member 160 in a solid state or a powder state. Respectively. Meanwhile, in order to improve the trap efficiency of the raw material to be leaked, the trap member 160 may be formed to have a curved upper and lower surface. That is, by forming the upper and lower curved surfaces of the trap member 160, the raw material flowing to the upper side and the lower side of the trap member 160 can be more easily trapped in the trap member 160. The trap member 160 may be provided by overlapping at least two trap members 162, 164 and 166 as shown in Figs. 3 and 4 (a) to 4 (c). At this time, the plurality of trap members 162, 164, and 166 may be provided in contact with each other or may be spaced apart from each other by a predetermined distance. At least one of the trap members 162, 164, and 166 may be provided in a substantially mesh structure in which a plurality of holes are formed. For example, the first trap member 162 may be provided in a plate shape having no holes formed therein, and the second trap member 164 may be provided in a mesh structure in which a plurality of the first holes 164a are formed, The third trap member 166 may have a mesh structure in which a plurality of second holes 166a are formed. At this time, the size of the second hole 166a is larger than the size of the first hole 164a. That is, a third trap member 166 having a plurality of second holes 166a formed on the side of the cooling jacket 150 from the reflector 140 side, a second trap member 164 having a plurality of first holes 164a, And the first trap member 162 that is not formed. By providing the plurality of trap members 160 so that the size of the holes gradually increases from the cooling jacket 150 to the reflector 140, it is possible to trap more leakage of the raw material. That is, when the hole becomes larger in the order in which the raw materials are contacted, the raw material is trapped in the third trap member 166 so that the second and first trap members 164 and 162 on the rear side before the hole 166a is closed, Can be trapped.

고정 부재(170)은 쿨링 재킷(150) 외측에 마련되어 쿨링 재킷(150)의 내측에 마련된 트랩 부재(160)를 고정할 수 있다. 이러한 고정 부재(170)는 자석을 이용할 수 있고, 그에 따라 트랩 부재(160)는 자석에 붙을 수 있는 금속 물질로 마련될 수 있다. 즉, 자석을 이용하여 쿨링 재킷(150) 외측에서 트랩 부재(160)를 자력을 이용하여 고정할 수 있다. 이때, 고정 부재(170), 즉 자석은 트랩 부재(160)보다 작게 마련되고, 트랩 부재(160)의 중앙부를 고정할 수 있다. 따라서, 트랩 부재(160)는 중앙부가 고정 부재(170)에 의해 쿨링 재킷(150)에 접촉되고, 그 이외의 부분은 쿨링 부재(150)로부터 이격될 수 있다. 즉, 트랩 부재(160)는 상하 곡면을 이룰 수 있다. 한편, 트랩 부재(160)에 트랩된 원료 물질을 제거하기 위해 고정 부재(170)를 쿨링 재킷(150)으로부터 제거하여 트랩 부재(160)만을 분리할 수 있다.
The fixing member 170 may be provided outside the cooling jacket 150 to fix the trap member 160 provided inside the cooling jacket 150. Such a fixing member 170 can use a magnet, and accordingly, the trap member 160 can be made of a metal material adhering to the magnet. That is, it is possible to fix the trap member 160 using the magnetic force from the outside of the cooling jacket 150 by using the magnet. At this time, the fixing member 170, that is, the magnet is smaller than the trap member 160, and the central portion of the trap member 160 can be fixed. Accordingly, the center portion of the trap member 160 can be brought into contact with the cooling jacket 150 by the fixing member 170, and the remaining portions can be spaced apart from the cooling member 150. That is, the trap member 160 can be formed as an upper and lower curved surface. Meanwhile, only the trap member 160 can be removed by removing the fixing member 170 from the cooling jacket 150 in order to remove the raw material trapped in the trap member 160.

상기한 바와 같이 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치는 리플렉터(140)의 소정 영역, 즉 도가니(110)와 소오스 헤드(130)의 연결 부위(134a)에 대응하는 영역에 절개부(142a, 144a)가 형성되고, 이에 대응되는 영역에 적어도 일부가 쿨링 재킷(150)에 접촉되도록 트랩 부재(160)를 마련함으로써 연결 부위(134a)로부터 누설되는 원료 물질이 트랩 부재(160)에 트랩될 수 있다. 즉, 트랩 부재(160)는 쿨링재킷(150)에 적어도 일부가 접촉되므로 리플렉터(140) 내측의 온도보다 낮고, 그에 따라 기체 상태의 원료 물질이 트랩 부재(160)에 접촉되어 냉각되면서 고체 상태 또는 파우더 상태로 트랩 부재(160)에 부착되어 트랩된다. 따라서, 누설되는 원료 물질이 증발 장치를 오염시키거나, 증발 장치로부터 누설되어 챔버 내부를 오염시키는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 챔버 내부로 누설된 원료 물질이 기판 상에 비정상적으로 증착되는 문제도 방지할 수 있다.
As described above, the evaporator according to the embodiment of the present invention includes the cutouts 142a and 142b in a predetermined region of the reflector 140, that is, in a region corresponding to the connection region 134a of the crucible 110 and the source head 130, The trapping member 160 is provided so that at least part of the trapping member 160 contacts the cooling jacket 150 so that the raw material leaking from the connecting portion 134a can be trapped in the trapping member 160. [ have. That is, since the trap member 160 is at least partly in contact with the cooling jacket 150, the temperature of the trap member 160 is lower than the temperature inside the reflector 140, so that the raw material in the gaseous state is contacted with the trap member 160, And is trapped and trapped in the trap member 160 in the powder state. Therefore, it is possible to prevent the problem that the raw material that is leaked contaminates the evaporator or leaks from the evaporator and contaminates the inside of the chamber. Further, it is also possible to prevent the problem that the raw material leaked into the chamber is abnormally deposited on the substrate.

도 5는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 증발 장치의 부분 단면도이고, 도 6 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시 예에 이용되는 트랩 부재를 설명하기 위한 개념도이다.FIG. 5 is a partial cross-sectional view of a vaporizer according to another embodiment of the present invention, and FIGS. 6 to 8 are conceptual diagrams illustrating a trap member used in another embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 증발 장치는 도가니(110)와, 가열 부재(120)와, 복수의 노즐(132)을 구비하는 소오스 헤드(130)와, 리플렉터(140)와, 쿨링 재킷(150)과, 리플렉터(140)와 쿨링 재킷(150) 사이에 마련되어 도가니(110)와 소오스 헤드(120)의 연결 부위로부터 누설된 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재(160)를 포함할 수 있다. 또한, 리플렉터(140)는 서로 이격된 제 1 및 제 2 리플렉터(142, 144)를 포함하고, 도가니(110)와 소오스 헤드(130)의 연결 부위(134a)에 대응되는 제 1 및 제 2 리플렉터(142, 144)의 소정 영역에 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)가 형성된다. 이때, 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)는 동일 위치에 동일 사이즈 및 형상으로 형성된다. 또한, 쿨링 재킷(150)의 소정 영역에도 절개부(152)가 형성되는데, 절개부(152)는 리플렉터(140)의 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)와 동일 위치에 형성될 수 있다.5, a vaporizer according to another embodiment of the present invention includes a crucible 110, a heating member 120, a source head 130 having a plurality of nozzles 132, a reflector 140, A cooling jacket 150 and a trap member 160 provided between the reflector 140 and the cooling jacket 150 to trap the raw material leaked from the connection portion between the crucible 110 and the source head 120 can do. The reflector 140 includes first and second reflectors 142 and 144 spaced apart from each other and includes first and second reflectors 142 and 144 corresponding to the connection portion 134a between the crucible 110 and the source head 130, The first and second cutouts 142a and 144a are formed in predetermined regions of the first and second cutouts 142 and 144, respectively. At this time, the first and second incisions 142a and 144a are formed in the same size and shape at the same position. A cutout 152 is also formed in a predetermined area of the cooling jacket 150. The cutout 152 may be formed at the same position as the first and second cutouts 142a and 144a of the reflector 140 have.

트랩 부재(160)는 소정의 판 형상으로 마련된 제 1 트랩 부재(162)와, 소정의 판 형상으로 마련되어 제 1 트랩 부재(162)의 소정 영역에 제 1 트랩 부재(162)와 직교하도록 마련된 제 2 트랩 부재(164)를 포함할 수 있다. 즉, 제 2 트랩 부재(164)는 일 측면이 제 1 트랩 부재(162)의 일면에 접촉되어 마련되어 트랩 부재(160)는 예컨데 "T"자 형상을 갖는다. 또한, 제 2 트랩 부재(162)에는 소정의 홀이 형성될 수 있고, 적어도 둘 이상의 겹쳐지도록 마련될 수 있다. 이때, 적어도 둘 이상의 제 2 트랩 부재(162)는 서로 다른 홀을 갖도록 마련될 수 있다. 이러한 트랩 부재(160)는 제 2 트랩 부재(164)가 쿨링 재킷(150)의 절개부(152) 및 리플렉터(140)의 제 1 및 제 2 절개부(142a, 144a)를 관통하여 삽입된다. 따라서, 제 2 트랩 부재(164)는 이들 절개부들(152, 142a, 144a)에 삽입될 때 제 2 트랩 부재(164)와 이들 절개부들(152, 142a, 144a) 사이에 소정의 공간이 마련될 수 있도록 절개부들(152, 142a, 144a)보다 작은 사이즈로 마련된다. 또한, 제 2 트랩 부재(164)는 절개부들(152, 142a, 144a)에 삽입될 때 제 1 리플렉터(142)보다 돌출되도록 쿨링 재킷(150)과 리플렉터(140) 사이의 거리보다 길게 마련될 수 있다. 또한, 제 1 트랩 부재(162)는 쿨링 재킷(150)의 외측면에 접촉되어 고정된다. 이를 위해 제 1 트랩 부재(162)의 복수의 영역을 볼트 등의 고정 부재(172)가 관통하여 쿨링 재킷(150)에 삽입되어 고정된다.
The trap member 160 includes a first trap member 162 provided in a predetermined plate shape and a second trap member 162 provided in a predetermined plate shape and provided in a predetermined region of the first trap member 162 so as to be perpendicular to the first trap member 162 2 trap member (164). That is, one side of the second trap member 164 is provided in contact with one surface of the first trap member 162, so that the trap member 160 has, for example, a "T" shape. In addition, the second trap member 162 may be formed with a predetermined hole, and may be provided so as to overlap at least two or more of the holes. At this time, at least two second trap members 162 may be provided to have different holes. The trap member 160 is inserted through the first trap member 164 of the cooling jacket 150 and the first and second cutouts 142a and 144a of the reflector 140. [ The second trap member 164 is provided with a predetermined space between the second trap member 164 and these cut-out portions 152, 142a, 144a when the second trap member 164 is inserted into these cut-out portions 152, 142a, 144a 142a, 144a to be smaller than the incision portions 152, 142a, 144a. The second trap member 164 may be longer than the distance between the cooling jacket 150 and the reflector 140 so as to protrude from the first reflector 142 when the second trap member 164 is inserted into the cutouts 152, have. Further, the first trap member 162 is held in contact with the outer surface of the cooling jacket 150. To this end, a plurality of regions of the first trap member 162 are inserted through the fixing member 172 such as a bolt into the cooling jacket 150 and fixed.

도 9는 본 발명의 일 실시 예에 따른 증발 장치를 구비하는 박막 증착 장치의 단면도이다.9 is a cross-sectional view of a thin film deposition apparatus having an evaporation apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 9를 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 박막 증착 장치는 챔버(200)와, 챔버(200) 내부에 마련되어 기판(S)을 지지하는 기판 지지부(300)와, 챔버(200) 내부에 기판 지지부(300)와 대향되도록 마련된 증발 장치(100)를 포함할 수 있다.9, a thin film deposition apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chamber 200, a substrate support 300 provided in the chamber 200 to support the substrate S, And an evaporation device 100 provided to face the substrate supporting part 300.

챔버(200)는 원통형 또는 사각 박스 형상으로 제작되며, 내부에는 기판(S)을 처리할 수 있도록 소정 공간이 마련된다. 또한, 챔버(200)는 원통형 또는 사각 박스 형상에 한정되지 않고 기판(S)의 형상에 대응되는 형상으로 제작되는 바람직하다. 챔버(200)의 일측벽에는 기판(S)이 인입 및 인출되는 기판 출입구(210)가 마련되며, 기판 출입구(210)는 챔버(200)의 타측벽에도 마련될 수 있다. 또한, 챔버(200)의 타측벽에는 챔버(200)의 내부를 배기하기 배기부(220)가 마련되며, 배기부(220)에는 고진공 펌프와 같은 배기 수단(230)이 연결된다. 배기 수단(230)은 챔버(200) 하부벽에 연결 설치될 수 있다. 또한, 배기 수단(230)으로 고진공 펌프와 저진공 펌프를 동시에 구비하여 챔버(200) 내를 저진공 상태로 형성한 후 고진공 상태로 유지할 수도 있다. 또한, 챔버(200)는 일체형으로 제작될 수도 있고, 챔버(200)를 상부가 개방된 하부 챔버와 하부 챔버의 상부를 덮는 챔버 리드로 분리하여 구성할 수도 있다.The chamber 200 is formed in a cylindrical or rectangular box shape, and a predetermined space is provided therein so as to process the substrate S. In addition, the chamber 200 is not limited to a cylindrical or rectangular box shape, and is preferably formed in a shape corresponding to the shape of the substrate S. A substrate entrance 210 is provided on one side wall of the chamber 200 and a substrate entrance 210 is provided on the other side wall of the chamber 200. An exhaust unit 220 for exhausting the interior of the chamber 200 is provided on the other side wall of the chamber 200 and an exhaust unit 230 such as a high vacuum pump is connected to the exhaust unit 220. The exhaust means 230 may be connected to the lower wall of the chamber 200. Further, it is also possible to provide the high vacuum pump and the low vacuum pump at the same time as the exhaust means 230 so as to form the chamber 200 in a low vacuum state and then maintain the high vacuum state. In addition, the chamber 200 may be integrally formed, or may be formed by separating the chamber 200 into a lower chamber having an upper part opened and a chamber lid covering an upper part of the lower chamber.

기판 지지부(300)는 챔버(200) 내의 상부에 마련되며, 챔버(200) 내로 인입된 기판(S)을 지지하고 기판(S)을 이동시키는 역할을 한다. 기판 지지부(300)는 하부면에 기판(S)을 지지하는 지지대(310)와, 지지대(310)를 이동시키는 구동부(320)를 포함한다. 지지대(310)는 통상 기판(S)의 형상과 대응되는 형상으로 제작된다. 예를 들어 기판(S)이 원형일 경우 지지대(310)는 이와 대응되는 원형 형상으로 제작되고, 기판(S)이 다각형일 경우 지지대(310)는 이와 대응되는 다각 형상으로 제작되는 것이 바람직하다. 여기서, 지지대(310)에는 증착 공정시 기판(S)에 증착되는 박막의 증착 효율을 높이기 위해 가열 부재(미도시)가 더 마련될 수 있으며, 이에 의해 기판(S) 증착 공정에 필요한 온도를 유지시킬 수 있다. 구동부(320)는 지지대(310)의 상부에 연결되며, 기판(S)을 지지하는 지지대(310)를 이동시키는 역할을 한다. 여기서, 구동부(320)에 구동력을 제공하기 위해 구동부(320)에는 모터(330)와 같은 구동 부재를 포함할 수 있다. 여기서, 구동부(320)는 지지대(310)를 이동시키는 동시에 지지대(310)를 회전시킬 수도 있음은 물론이다.The substrate support 300 is provided at an upper portion of the chamber 200 and supports the substrate S that is drawn into the chamber 200 and moves the substrate S. The substrate supporting part 300 includes a supporting part 310 for supporting the substrate S on a lower surface thereof and a driving part 320 for moving the supporting part 310. The support base 310 is usually formed in a shape corresponding to the shape of the substrate S. For example, when the substrate S is circular, the support 310 is formed in a corresponding circular shape. When the substrate S is polygonal, the support 310 is preferably formed in a corresponding polygonal shape. Here, a heating member (not shown) may be further provided on the support 310 to increase the deposition efficiency of the thin film deposited on the substrate S during the deposition process, thereby maintaining the temperature required for the substrate S deposition process . The driving unit 320 is connected to the upper part of the supporting table 310 and serves to move the supporting table 310 supporting the substrate S. Here, the driving unit 320 may include a driving member such as a motor 330 to provide a driving force to the driving unit 320. It goes without saying that the driving unit 320 may rotate the support table 310 while moving the support table 310.

증발 장치(100)는 원료 물질이 충진되며 이를 증발시키는 도가니(110)와, 도가니(110)를 가열하는 가열 부재(120)와, 복수의 노즐(132)을 구비하여 도가니(110)로부터 증발된 원료 물질을 공급받아 분사하는 소오스 헤드(130)와, 도가니(110) 및 소오스 헤드(120)의 외측에 마련된 리플렉터(140)와, 리플렉터(140)의 외측에 마련된 쿨링 재킷(150)과, 리플렉터(140)와 쿨링 재킷(150) 사이에 마련되어 도가니(110)와 소오스 헤드(120)의 연결 부위로부터 누설된 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재(160)를 포함할 수 있다. 또한, 트랩 부재(160)를 고정하는 고정 부재(170)를 더 포함할 수 있다. 이러한 증발 장치(100)는 리플렉터(140)의 소정 영역, 즉 도가니(110)와 소오스 헤드(130)의 연결 부위(134a)에 대응하는 영역에 절개부(142a, 144a)가 형성되고, 이에 대응되는 영역에 적어도 일부가 쿨링 재킷(150)에 접촉되도록 트랩 부재(160)를 마련함으로써 연결 부위(134a)로부터 누설되는 원료 물질이 트랩 부재(160)에 트랩될 수 있다. 즉, 트랩 부재(160)는 쿨링재킷(150)에 적어도 일부가 접촉되므로 리플렉터(140) 내측의 온도보다 낮고, 그에 따라 기체 상태의 원료 물질이 트랩 부재(160)에 접촉되어 냉각되면서 고체 상태 또는 파우더 상태로 트랩 부재(160)에 부착되어 트랩된다. 따라서, 누설되는 원료 물질이 증발 장치(100)를 오염시키거나, 증발 장치(100)로부터 누설되어 챔버(200) 내부를 오염시키는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 챔버(200) 내부로 누설된 원료 물질이 기판(S) 상에 비정상적으로 증착되는 문제도 방지할 수 있다.The evaporation apparatus 100 includes a crucible 110 filled with a raw material and evaporating the raw material, a heating member 120 heating the crucible 110, and a plurality of nozzles 132, A cooling jacket 150 provided outside the reflector 140 and a reflector 140 provided outside of the crucible 110 and the source head 120. The cooling jacket 150 is disposed outside the reflector 140, And a trap member 160 provided between the cooling jacket 140 and the cooling jacket 150 to trap the raw material leaking from the connection portion between the crucible 110 and the source head 120. Further, it may further include a fixing member 170 for fixing the trap member 160. [ In this evaporator 100, cutouts 142a and 144a are formed in a predetermined region of the reflector 140, that is, in a region corresponding to the connection region 134a between the crucible 110 and the source head 130, The source material leaking from the connection portion 134a can be trapped in the trap member 160 by providing the trap member 160 so that at least part of the trap member 160 comes into contact with the cooling jacket 150. [ That is, since the trap member 160 is at least partly in contact with the cooling jacket 150, the temperature of the trap member 160 is lower than the temperature inside the reflector 140, so that the raw material in the gaseous state is contacted with the trap member 160, And is trapped and trapped in the trap member 160 in the powder state. Therefore, it is possible to prevent the problem that the raw material to be leaked contaminates the evaporation apparatus 100, or that the chamber 200 is leaked from the evaporation apparatus 100 and contaminates the inside of the chamber 200. Also, it is possible to prevent the problem that the raw material leaked into the chamber 200 is abnormally deposited on the substrate S.

한편, 상기 실시 예는 증발 장치(100)가 챔버(200) 내부에 구성되는 경우를 설명하였으나, 증발 장치(100)는 적어도 일부가 챔버(200) 외부에 마련될 수도 있다. 즉, 도가니(110)와, 소오스 헤드(130)의 일부가 챔버(200) 외부의 하측에 마련되고, 소오스 헤드(130)의 나머지 일부가 챔버(200) 내부에 마련될 수 있다. 예를 들어, 도가니(110)와 소오스 헤드(130)의 제 1 배관(134)의 일부, 그리고 연결 부위(134a)가 챔버(200) 외부에 마련되고, 소오스 헤드(130)의 제 2 배관(136) 및 노즐(132)가 챔버(200) 내부에 마련될 수 있다. 따라서, 쿨링 재킷(150)은 챔버(200) 외부 및 내부에 걸쳐 마련될 수 있다.In the above embodiment, the evaporator 100 is installed inside the chamber 200, but the evaporator 100 may be provided outside the chamber 200 at least partially. That is, the crucible 110 and a part of the source head 130 may be provided below the chamber 200, and a remaining part of the source head 130 may be provided inside the chamber 200. For example, the crucible 110, a portion of the first pipe 134 of the source head 130, and a connection portion 134a are provided outside the chamber 200, and the second pipe (not shown) of the source head 130 136 and a nozzle 132 may be provided inside the chamber 200. Accordingly, the cooling jacket 150 may be provided outside and inside the chamber 200.

또한, 상기 실시 예들은 증발 장치(100)가 대략 "ㄱ"자 형태로 마련되는 경우를 도시하여 설명하였으나, 증발 장치(100)는 대략 "T"자 형태로 마련될 수도 있다.
Although the above embodiments illustrate the case where the evaporation apparatus 100 is provided in an approximately "a" shape, the evaporation apparatus 100 may be provided in a substantially "T" shape.

본 발명의 기술적 사상은 상기 실시 예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기 실시 예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 당업자는 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시 예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
Although the technical idea of the present invention has been specifically described according to the above embodiments, it should be noted that the above embodiments are for explanation purposes only and not for the purpose of limitation. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention.

110 : 도가니 120 : 가열 부재
130 : 소오스 헤드 140 : 리플렉터
150 : 쿨링 재킷 160 : 트랩 부재110: crucible 120: heating member
130: source head 140: reflector
150: cooling jacket 160: trap member

Claims (14)

원료 물질을 증발시키는 도가니;
상기 도가니와 연결되어 상기 증발된 원료 물질을 복수의 노즐을 통해 분사하는 소오스 헤드;
상기 도가니 및 소오스 헤드 외측에 마련되며, 서로 체결되는 상기 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위에 대응되는 영역에 절개부가 형성된 리플렉터;
상기 리플렉터 외측에 마련된 쿨링 재킷; 및
상기 쿨링 재킷에 적어도 일부가 접촉하고, 상기 절개부를 통하여 상기 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위로부터 누설되는 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재를 포함하는 증발 장치.
A crucible for evaporating the raw material;
A source head connected to the crucible for spraying the evaporated raw material through a plurality of nozzles;
A reflector provided outside the crucible and the source head and provided with a cutout in a region corresponding to a connection portion between the crucible and the source head to be coupled to each other;
A cooling jacket provided outside the reflector; And
And a trap member that at least partially contacts the cooling jacket and traps raw material leaking from a connection portion between the crucible and the source head through the cutout portion.
삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 절개부의 적어도 일 영역에 돌출되어 마련된 돌출부를 더 포함하는 증발 장치.
The evaporation apparatus according to claim 1, further comprising a protrusion protruding from at least one region of the cut-out portion.
청구항 3에 있어서, 상기 트랩 부재는 상기 절개부에 대응되는 영역이 상기 쿨링 재킷의 내측면에 적어도 일부 접촉되어 마련되며, 상하 곡면을 이루도록 마련된 증발 장치.
The evaporating apparatus according to claim 3, wherein the trap member is provided so that an area corresponding to the cut-out portion is at least partially in contact with an inner surface of the cooling jacket, and forms an upper and lower curved surface.
청구항 4에 있어서, 상기 트랩 부재는 서로 다른 홀 사이즈를 갖는 적어도 둘 이상으로 마련되는 증발 장치.
5. The evaporation apparatus according to claim 4, wherein the trap members are provided at least two or more with different hole sizes.
청구항 5에 있어서, 상기 트랩 부재는 상기 리플렉터 측으로부터 상기 쿨링 재킷 측으로 갈수록 홀 사이즈가 작아지도록 마련된 증발 장치.
The evaporating apparatus according to claim 5, wherein the trap member is provided such that the hole size decreases from the reflector side toward the cooling jacket side.
청구항 6에 있어서, 상기 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷 외측에 마련된 자석에 의해 고정되는 증발 장치.
The evaporating apparatus according to claim 6, wherein the trap member is fixed by a magnet provided outside the cooling jacket.
청구항 1에 있어서, 상기 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 외측에 접촉되는 제 1 트랩 부재와, 상기 제 1 트랩 부재의 일면에 일 측면이 결합된 제 2 트랩 부재를 포함하는 증발 장치.
The evaporation apparatus according to claim 1, wherein the trap member includes a first trap member that contacts the outside of the cooling jacket, and a second trap member whose one side is coupled to one surface of the first trap member.
청구항 8에 있어서, 상기 쿨링 재킷에 절개부가 더 형성되고, 상기 제 2 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 절개부 및 상기 리플렉터의 절개부를 통해 삽입되는 증발 장치.
9. The evaporation apparatus according to claim 8, wherein the cooling jacket further has a cut-out portion, and the second trap member is inserted through the cut-out portion of the cooling jacket and the cut-out portion of the reflector.
챔버;
상기 챔버 내에 기판을 지지하는 기판 지지부; 및
상기 기판 지지부와 대향되어 적어도 일부가 상기 챔버 내에 마련되어 상기 기판에 원료 물질을 증발시켜 공급하는 증발 장치를 포함하고,
상기 증발 장치는,
원료 물질을 증발시키는 도가니;
상기 도가니와 연결되어 상기 증발된 원료 물질을 복수의 노즐을 통해 분사하는 소오스 헤드;
상기 도가니 및 소오스 헤드 외측에 마련되며, 서로 체결되는 상기 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위에 대응되는 영역에 절개부가 형성된 리플렉터;
상기 리플렉터 외측에 마련된 쿨링 재킷; 및
상기 쿨링 재킷에 적어도 일부가 접촉하고, 상기 절개부를 통하여 상기 도가니와 소오스 헤드의 연결 부위로부터 누설되는 원료 물질을 트랩하는 트랩 부재를 포함하는 박막 증착 장치.
chamber;
A substrate support for supporting a substrate in the chamber; And
And an evaporation device opposed to the substrate supporter, at least a part of which is provided in the chamber, for evaporating and supplying the raw material to the substrate,
The evaporation apparatus includes:
A crucible for evaporating the raw material;
A source head connected to the crucible for spraying the evaporated raw material through a plurality of nozzles;
A reflector provided outside the crucible and the source head and provided with a cutout in a region corresponding to a connection portion between the crucible and the source head to be coupled to each other;
A cooling jacket provided outside the reflector; And
And a trap member that at least partially contacts the cooling jacket and traps a raw material leaked from a connection portion between the crucible and the source head through the cutout portion.
삭제delete 청구항 10에 있어서, 상기 트랩 부재는 서로 다른 홀 사이즈를 갖는 적어도 둘 이상으로 마련되며, 상기 연결 부위에 대응되는 쿨링 재킷의 내측면에 적어도 일부 접촉되어 마련된 박막 증착 장치.
The thin film deposition apparatus according to claim 10, wherein the trap member is provided in at least two or more different hole sizes, and is at least partially in contact with an inner surface of a cooling jacket corresponding to the connection site.
청구항 10에 있어서, 상기 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 외측에 접촉되는 제 1 트랩 부재와, 상기 제 1 트랩 부재의 일면에 일 측면이 결합된 제 2 트랩 부재를 포함하는 박막 증착 장치.
The thin-film deposition apparatus according to claim 10, wherein the trap member includes a first trap member contacting the outside of the cooling jacket, and a second trap member having one side coupled to one surface of the first trap member.
청구항 13에 있어서, 상기 쿨링 재킷에 절개부가 더 형성되고, 상기 제 2 트랩 부재는 상기 쿨링 재킷의 절개부 및 상기 리플렉터의 절개부를 통해 삽입되는 박막 증착 장치.The thin-film deposition apparatus according to claim 13, wherein the cooling jacket further includes a cut-out portion, and the second trap member is inserted through the cut-out portion of the cooling jacket and the cut-out portion of the reflector.
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