JPH0974278A - Light and heat curing undercoat material for multilayer printed wiring board and manufacture of multilayer printed wiring board - Google Patents

Light and heat curing undercoat material for multilayer printed wiring board and manufacture of multilayer printed wiring board

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JPH0974278A
JPH0974278A JP22843395A JP22843395A JPH0974278A JP H0974278 A JPH0974278 A JP H0974278A JP 22843395 A JP22843395 A JP 22843395A JP 22843395 A JP22843395 A JP 22843395A JP H0974278 A JPH0974278 A JP H0974278A
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printed wiring
wiring board
multilayer printed
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猛 八月朔日
Sei Nakamichi
聖 中道
Tomomi Honjiyouya
共美 本庄谷
Masahiro Mitsui
正宏 三井
Toyoaki Kishi
豊昭 岸
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To turn a light and heat curing undercoat material tack-free well by irradiation with an active energy beam by a method wherein the undercoat material is composed of epoxy resin which is prescribed in a bromination rate, molecular weight, and solid at normal temperatures, epoxy resin curing resin, diluent formed of photopolymerizing and heat-reactive monomer, and photopolymerization initiator. SOLUTION: Epoxy resin which is of bromination rate 20% or above, of molecular weight 5000 to 4000, and solid at normal temperatures, epoxy resin curing resin such as 4,4-diaminophenylmethane, diluent formed of photopolymerizing and heat-reactive monomer such as hydroxyethyl acrylate, and photopolymerization initiator such as benzophenone are mixed together for the formation of undercoating agent. When the diluent is polymerized by irradiation with active energy, epoxy resin separates with solidification of diluent because diluent does not functions as solvent any more. At this point, solidified diluent agent and other components are dispersed into solid component epoxy resin. Epoxy resin properly solid and tack-free at normal temperatures can be selected and turned tack-free well.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、活性エネルギー線
照射による低コストで生産性の高いタックフリー化と熱
による本硬化からなる新しい多層プリント配線板用光・
熱硬化型アンダーコート剤を提供するものであり、更
に、このアンダーコート剤を用いた多層プリント配線板
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel light for multi-layer printed wiring board comprising low cost and high productivity tack-free irradiation by active energy ray irradiation and main curing by heat.
The present invention provides a thermosetting undercoat agent, and further relates to a method for producing a multilayer printed wiring board using this undercoat agent.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、多層プリント配線板を製造する場
合、回路が形成された内層回路基板上にガラスクロス基
材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシ
ートを1枚以上重ね、更にその上に銅箔を重ね熱板プレ
スにて加熱一体成形するという工程を経ている。しか
し、この工程では含浸樹脂を熱により再流動させ一定圧
力下で硬化させるため、均一に硬化成形するには1〜
1.5時間は必要である。このように製造工程が長くか
かる上に、多層積層プレス及びガラスクロスプリプレグ
のコスト等により高コストとなっている。加えてガラス
クロスに樹脂を含浸させる方法のため、回路層間厚みの
極薄化も困難であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the case of manufacturing a multilayer printed wiring board, one or more prepreg sheets obtained by impregnating a glass cloth base material with epoxy resin and semi-cured are stacked on an inner layer circuit board on which a circuit is formed. A copper foil is laminated on it and is integrally molded by heating with a hot plate press. However, in this process, the impregnated resin is reflowed by heat and cured under a constant pressure.
1.5 hours is required. As described above, the manufacturing process takes a long time, and the cost is high due to the costs of the multilayer laminating press and the glass cloth prepreg. In addition, since the glass cloth is impregnated with the resin, it is difficult to make the circuit layer extremely thin.

【0003】近年、これらの問題を解決するため、熱板
プレスによる加熱加圧成形を行わず、層間絶縁材料にガ
ラスクロスを用いない、ビルドアップ方式による多層プ
リント配線板の技術が改めて注目されている。
In recent years, in order to solve these problems, a technique of a multilayer printed wiring board by a build-up system which does not perform hot press molding by a hot plate press and does not use a glass cloth as an interlayer insulating material has been renewed. I have.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記熱板プ
レスで成形する方法に対して低コスト、短時間で簡素化
された方法で多層プリント配線板を完成させるものであ
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is to complete a multilayer printed wiring board by a simplified method at a low cost and in a short time, as compared with the above-mentioned hot plate pressing method.

【0005】ビルドアップ方式による多層プリント配線
板において、フィルム状の層間絶縁樹脂層を用いた場
合、プリプレグで層間絶縁樹脂層を形成する方法と比べ
て作業効率が著しく向上する。しかし、内層回路板の絶
縁基板と回路との段差部分にある空気を巻き込むことが
予想され、それを防止するためは、減圧の環境下でラミ
ネートを行わねばならず、特殊な設備が必要になってく
る。また、ラミネートした絶縁層が内層回路板の絶縁基
板と回路との段差に追従するため、表面平滑性が得られ
ず、部品実装時に半田付け不良等が発生したり、エッチ
ングレジスト形成工程でレジストの剥離、パターン現像
度低下が発生して安定したレジスト形成ができない等の
問題がある。
When a film-shaped interlayer insulating resin layer is used in a multilayer printed wiring board by a build-up method, work efficiency is remarkably improved as compared with the method of forming the interlayer insulating resin layer with a prepreg. However, it is expected that air will be entrained in the stepped portion between the insulating substrate of the inner layer circuit board and the circuit, and in order to prevent this, lamination must be performed under a reduced pressure environment, and special equipment is required. Come on. In addition, since the laminated insulating layer follows the step between the insulating substrate of the inner circuit board and the circuit, surface smoothness cannot be obtained, soldering failure or the like may occur at the time of component mounting, or the resist may not be formed in the etching resist forming step. There are problems such as peeling and a decrease in the pattern development degree, which makes it impossible to form a stable resist.

【0006】さらに、プリプレグを使用した場合も同様
であるが、内層回路パターンの銅箔残存率によって埋め
込む樹脂量が変化することから同じフィルムを使用して
も成形後の板厚が同じにならない。つまり、銅箔残存率
が大きく埋め込むべき部分が少ない場合は板厚が厚くな
り、銅箔残存率が小さく埋め込むべき部分が多い場合は
板厚が薄くなることから、銅箔残存率によってフィルム
厚も変えなければ同じ板厚を達成することができない。
また、一枚の内層回路板でも場所により銅箔残存率に差
がある場合には得られた多層プリント配線板の板厚が均
一にならない欠点が生じることになる。
Further, the same applies to the case of using a prepreg, but since the amount of resin to be embedded changes depending on the copper foil residual rate of the inner layer circuit pattern, the same film does not have the same plate thickness after molding. In other words, if the copper foil residual rate is large and the portion to be embedded is small, the plate thickness will be thick, and if the copper foil residual rate is small and the portion to be embedded is large, the plate thickness will be thin. Unless changed, the same plate thickness cannot be achieved.
In addition, even if one inner layer circuit board has a different copper foil residual rate depending on the location, the resulting multilayer printed wiring board may have a non-uniform thickness.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、内層回路板に
多層プリント配線板用光・熱硬化型アンダーコート剤を
塗工し、活性エネルギー線照射によりタックフリー化さ
せた後、熱硬化型絶縁性接着剤層を有する銅箔をラミネ
ートし、次いで、加熱により一体硬化させる多層プリン
ト配線板に用いる光・熱硬化型アンダーコート剤、及び
前記多層プリント配線板の製造方法に関するものであ
る。
According to the present invention, an inner layer circuit board is coated with a light / thermosetting undercoating agent for a multilayer printed wiring board, which is made tack-free by irradiation with active energy rays, and then a thermosetting type. The present invention relates to a photo / thermosetting undercoat agent for use in a multilayer printed wiring board in which a copper foil having an insulating adhesive layer is laminated and then integrally cured by heating, and a method for producing the multilayer printed wiring board.

【0008】即ち、スクリーン印刷、ローラーコータ
ー、カーテンコーターなどで液状のアンダーコート剤を
塗工して、内層回路板の銅箔回路間隙を充填し、UV照
射コンベア等の露光機によって活性エネルギー線照射に
よりタックフリー化させる。その後、熱硬化型絶縁性接
着剤付き銅箔を接着させる際に加熱された硬質ロール等
でラミネートすることにより該アンダーコート剤を再溶
融させ、表面平滑性を得ることができる。そのとき、銅
箔にコートされた熱硬化型絶縁接着剤は重量平均分子量
10000以上のエポキシ樹脂成分により形状を維持し
たまま、すなわち層間厚みを保った状態で接着されるた
め、内層銅箔残存率に依存することなく板厚精度に優れ
た多層プリント配線板を作製することができる。そし
て、ラミネート後加熱して同時一体硬化反応させること
により多層プリント配線板用光・熱硬化型アンダーコー
ト剤と熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔とを一体成形させ
る。
That is, a liquid undercoating agent is applied by screen printing, a roller coater, a curtain coater, etc. to fill the copper foil circuit gap of the inner layer circuit board, and the active energy ray is irradiated by an exposure machine such as a UV irradiation conveyor. To make it tack free. After that, the undercoat agent can be remelted by laminating with a hard roll heated when the copper foil with a thermosetting insulating adhesive is adhered to obtain surface smoothness. At that time, since the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil is bonded by the epoxy resin component having a weight average molecular weight of 10,000 or more while maintaining its shape, that is, while maintaining the interlayer thickness, the inner layer copper foil residual rate It is possible to produce a multilayer printed wiring board having excellent board thickness accuracy without depending on Then, after laminating, heating and simultaneous monolithic curing reaction are performed to integrally form the optical / thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board and the thermosetting type copper foil with an insulating adhesive.

【0009】本発明において、アンダーコート剤は内層
回路板の銅箔回路間隙を充填し、内層回路表面を平滑化
するもので、下記の成分(イ)、(ロ)、(ハ)及び
(ニ)からなることを特徴とするものである。 (イ)臭素化率20%以上で、分子量500〜4000
の常温で固形状態にあるエポキシ樹脂、(ロ)エポキシ
樹脂硬化剤、(ハ)光重合性及び熱反応性モノマーから
なる希釈剤、(ニ)光重合開始剤。
In the present invention, the undercoat agent fills the copper foil circuit gap of the inner layer circuit board and smoothes the inner layer circuit surface. The following components (a), (b), (c) and (d) ) Consists of. (A) Bromination rate of 20% or more, molecular weight of 500 to 4000
, An epoxy resin in a solid state at room temperature, (b) an epoxy resin curing agent, (c) a diluent comprising a photopolymerizable and heat-reactive monomer, and (d) a photopolymerization initiator.

【0010】本発明に用いられる(イ)の常温で固形状
態のエポキシ樹脂は、臭素化率20%以上で、分子量5
00〜4000であるビスフェノール型エポキシ樹脂、
ノボラック型エポキシ樹脂、または、これらの混合物で
あり、常温で固形状のものである。融点は、通常、50
〜150℃の範囲にあれば良い。ビスフェノール型エポ
キシ樹脂としては、ビスフェノールA型またはビスフェ
ノールF型等が使用され、特にビスフェノールA型のも
のが好ましい。更には、ノボラック型エポキシ樹脂とし
ては、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック
型等も使用可能である。
The epoxy resin (a) used in the present invention in a solid state at room temperature has a bromination rate of 20% or more and a molecular weight of 5%.
A bisphenol type epoxy resin of from 0 to 4000,
It is a novolac type epoxy resin or a mixture thereof, which is solid at room temperature. The melting point is usually 50
It may be in the range of 150 ° C. As the bisphenol type epoxy resin, bisphenol A type or bisphenol F type is used, and bisphenol A type is particularly preferable. Further, as the novolac type epoxy resin, phenol novolac type, cresol novolac type, etc. can be used.

【0011】前記臭素化エポキシ樹脂の臭素化率は20
%以上である。臭素化率20%未満であると、得られた
多層プリント配線板がUL規格による難燃性v−0を達
成することができない。なお、臭素化率の上限はエポキ
シ樹脂のベンゼン核のうち、臭素化が可能な部分をすべ
て臭素化した場合であり、これによりこの上限値は決定
される。
The bromination rate of the brominated epoxy resin is 20.
% Or more. When the bromination rate is less than 20%, the obtained multilayer printed wiring board cannot achieve the flame retardancy v-0 according to the UL standard. It should be noted that the upper limit of the bromination rate is the case where all the brominated portions of the benzene nucleus of the epoxy resin are brominated, and this upper limit value is determined.

【0012】(ロ)エポキシ樹脂硬化剤としては、一般
に用いられる各種硬化剤が使用できる。例えば、4,
4’−ジアミノフェニルメタン、4,4’−ジアミノジ
フェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−フェ
ニレンジアミン等の芳香族ジアミン;ジエチレントリア
ミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタ
ミン、ヘキサメチレントリアミン、メンセンジアミン、
イソホロンジアミン等の脂肪族ポリアミン;イミダゾー
ル、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチ
ルイミダゾール、ビス(2−エチル−4−メチル−イミ
ダゾール)、2−ウンデシルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、
2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾー
ル及びトリアジン付加型イミダゾール等のイミダゾール
類、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘ
キサヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメ
リット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の酸
無水物、三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシアンジアミ
ド又はその誘導体などが挙げられ、これらをエポキシア
ダクト化したものやマイクロカプセル化したものも使用
できる。また、本発明においては、必要に応じてエポキ
シ樹脂の硬化促進剤を添加しても良い。
As the (b) epoxy resin curing agent, various commonly used curing agents can be used. For example, 4,
Aromatic diamines such as 4'-diaminophenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine; diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, hexamethylenetriamine, mensendiamine,
Aliphatic polyamines such as isophoronediamine; imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, bis (2 -Ethyl-4-methyl-imidazole), 2-undecylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole,
Imidazoles such as 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole and triazine addition type imidazole, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and benzophenone tetracarboxylic anhydride An acid anhydride such as an acid, an amine complex of boron trifluoride, dicyandiamide or a derivative thereof and the like can be mentioned, and an epoxy adduct thereof or a microcapsule thereof can also be used. Further, in the present invention, a curing accelerator for the epoxy resin may be added if necessary.

【0013】硬化促進剤としては、一般に用いられる各
種硬化促進剤が使用でき、例えば、トリブチルアミン、
ベンジルメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチル
アミノメチル)フェノール等の第三級アミン類、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、N−ベンジルイミダゾ
ール等のイミダゾール類、尿素類、ホスフィン類、金属
塩類等が挙げられ、これらは単独で使用しても2種以上
を併用しても良い。エポキシ樹脂硬化剤量としては、硬
化剤の種類によって異なるが、通常グリシジル基に対し
て0.1〜1.0当量である。
As the curing accelerator, various commonly used curing accelerators can be used. For example, tributylamine,
Benzylmethylamine, tertiary amines such as 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 2-ethyl-4-methylimidazole, imidazoles such as N-benzylimidazole, ureas, phosphines, metals Examples thereof include salts, and these may be used alone or in combination of two or more kinds. The amount of the epoxy resin curing agent varies depending on the type of the curing agent, but is usually 0.1 to 1.0 equivalent with respect to the glycidyl group.

【0014】(ハ)光重合及び熱反応性モノマーからな
る希釈剤としては、(a)1分子中に少なくとも1個の
水酸基を有するアクリレート又はメタクリレート化合
物、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキ
シエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシ
ブチルアクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、ブタンジオールモノアクリレートグリセロールメタ
クリレート、フェノキシヒドロキシプロピルアクリレー
ト、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレ
ングリコールメタクリレート、又はグリセロールジメタ
クリレート等である。また、(b)1分子中に1個以上
のグリシジル基を有するグリシジルアクリレート、グリ
シジルメタクリレート等の光重合性モノマーも好ましく
用いられる。(a)の化合物と(b)の化合物とは、そ
れぞれ単独又は併用して使用することができる。特に、
好ましいモノマーとしては、活性エネルギー線照射によ
る固形タックフリー化後、熱硬化性の優れたグリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレートであり、これ
らを単独、又は取扱いを容易にするために(a)の化合
物と併用使用することが実用上好ましい。通常、(ハ)
成分である希釈剤の量としては、(イ)成分のエポキシ
樹脂100重量部に対し、20〜100重量部、好まし
くは30〜70重量部の割合である。
(C) As a diluent comprising a photopolymerizable and thermoreactive monomer, (a) an acrylate or methacrylate compound having at least one hydroxyl group in one molecule, for example, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxy. Propyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxybutyl acrylate, hydroxybutyl methacrylate, butanediol monoacrylate glycerol methacrylate, phenoxy hydroxypropyl acrylate, polyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol methacrylate, or glycerol dimethacrylate. Further, (b) a photopolymerizable monomer such as glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate having one or more glycidyl groups in one molecule is also preferably used. The compound (a) and the compound (b) can be used alone or in combination. Especially,
Preferred monomers are glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, which have excellent thermosetting properties after solid tack-free by irradiation with active energy rays, and these are used alone or in combination with the compound (a) for easy handling. It is practically preferable to do so. Usually (C)
The amount of the diluent as a component is 20 to 100 parts by weight, preferably 30 to 70 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the epoxy resin as the component (a).

【0015】(ニ)光重合開始剤としては、ベンゾフェ
ノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノ
ン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン
類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインアルキ
ルエーテル類、4―フェノキシジクロロアセトフェノ
ン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−t
−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセ
トフェノンなどのアセトフェノン類、チオキサンソン、
2-クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、
2,4−ジメチルチオキサンソンなどのチオキサンソン
類、エチルアントラキノン、ブチルアントラキノンなど
のアルキルアントラキノン類などを挙げることができ
る。これらは単独、あるいは2種以上の混合物として用
いられる。この光重合開始剤の添加量は、通常 0.1〜
10重量%の範囲で用いられる。
(D) As the photopolymerization initiator, benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone, benzophenones such as hydroxybenzophenone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether,
Benzoin alkyl ethers such as benzoin isobutyl ether, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t
-Butyl-trichloroacetophenone, acetophenones such as diethoxyacetophenone, thioxanthone,
2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone,
Thioxansones such as 2,4-dimethylthioxanthone and alkylanthraquinones such as ethylanthraquinone and butylanthraquinone can be mentioned. These may be used alone or as a mixture of two or more. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 0.1.
It is used in the range of 10% by weight.

【0016】その他、本発明の多層プリント配線板用光
・熱硬化型アンダーコート剤には必要に応じて、保存安
定性のために紫外線防止剤、熱重合防止剤、可塑剤など
が添加できる。また、粘度調整のためにアクリレートモ
ノマー、メタクリレートモノマー、ビニルモノマーなど
を添加してもよい。更には、溶融シリカ、結晶性シリ
カ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、
マイカ、タルク、ホワイトカーボン、Eガラス粉末など
の無機充填材を配合することができ、銅箔や内層回路板
との密着性や耐湿性を向上させるためのエポキシシラン
カップリング剤、ボイドを防止するための消泡剤、ある
いは液状又は粉末の難燃剤等を添加することもできる。
In addition, for the storage stability of the photocurable / thermosetting undercoating agent for a multilayer printed wiring board of the present invention, an ultraviolet inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, etc. may be added, if necessary. Further, an acrylate monomer, a methacrylate monomer, a vinyl monomer or the like may be added to adjust the viscosity. Furthermore, fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina,
Inorganic fillers such as mica, talc, white carbon, and E glass powder can be added to prevent epoxy silane coupling agents and voids for improving adhesion and moisture resistance to copper foil and inner circuit boards. An antifoaming agent, a liquid or powder flame retardant, or the like may be added.

【0017】これらの成分からなる本発明の多層プリン
ト配線板用光・熱硬化型アンダーコート剤は、実質的に
無溶剤系であり、しかも低粘度であるため、内層回路板
の銅箔回路間隙を充填し、内層回路表面を平滑化する。
また、活性エネルギー線照射により容易に固形になり、
タックフリー化できる。
The light / thermosetting undercoating agent for multilayer printed wiring boards of the present invention comprising these components is substantially solvent-free and has a low viscosity, so that the copper foil circuit gap of the inner layer circuit board is To smooth the inner circuit surface.
Also, it becomes solid easily by irradiation with active energy rays,
Can be tack free.

【0018】特に、従来の熱により乾燥・タックフリー
化を行なう工程に代えて、活性エネルギー線照射のみに
よりタックフリー化を行うため、本発明においては、成
分(イ)の常温で固形状態にあるエポキシ樹脂と成分
(ハ)の光重合及び熱反応性モノマーからなる希釈剤と
を用いることに特徴がある。
In particular, in place of the conventional process of drying and tack-free by heat, tack-free is achieved only by irradiation with active energy rays. Therefore, in the present invention, the component (a) is in a solid state at room temperature. It is characterized by using an epoxy resin and a diluent comprising a photopolymerization and a heat-reactive monomer of component (C).

【0019】調製された本発明のアンダーコート剤はワ
ニス状態であり、成分(ハ)がまず溶剤として、成分
(イ)及びその他の成分を溶解して内層回路板の銅箔回
路間隙を充填し、内層回路表面を平滑化する。この常態
で活性エネルギー線を照射して成分(ハ)を重合させる
と、成分(ハ)は硬化固形化に伴い溶剤としての効果を
失うため成分(イ)が析出する。このとき、硬化した成
分(ハ)及びその他の成分は固形成分(イ)中に分散さ
れる。従って、常温で適度な固形タックフリー状態にあ
る成分(イ)が選択されれば、本発明のアンダーコート
剤は、熱硬化反応することなくタックフリー化する。こ
のようなタックフリー化機構が本発明の最大の特徴であ
る。
The prepared undercoating agent of the present invention is in the form of a varnish, and the component (c) is first used as a solvent to dissolve the component (a) and other components to fill the copper foil circuit gaps of the inner layer circuit board. , Smooth the inner layer circuit surface. When the component (C) is polymerized by irradiating the active energy ray in this normal state, the component (C) loses its effect as a solvent as it solidifies upon curing, so that the component (B) is deposited. At this time, the cured component (C) and other components are dispersed in the solid component (A). Therefore, if the component (a) that is in a suitable solid tack-free state at room temperature is selected, the undercoating agent of the present invention becomes tack-free without undergoing a thermosetting reaction. Such a tack free mechanism is the greatest feature of the present invention.

【0020】また、活性エネルギー線を照射することに
より硬化した本発明の成分(ハ)は熱反応性の官能基も
有するため、その後の熱硬化反応時に主剤のエポキシ樹
脂または硬化剤と反応するので、その硬化物は、耐熱
性、耐薬品性等にも優れる。
Further, since the component (c) of the present invention which is cured by irradiation with active energy rays also has a thermoreactive functional group, it reacts with the epoxy resin or the curing agent as the main component during the subsequent thermosetting reaction. The cured product also has excellent heat resistance and chemical resistance.

【0021】次に、銅箔にコートする熱硬化型絶縁性接
着剤について説明する。一般に層間絶縁層である接着剤
のフィルム化や巻物化の手法としてはゴム系化合物やポ
リビニルブチラール、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹
脂などの熱可塑性樹脂を主成分として配合しているが、
これらの成分は多層プリント配線板としての熱的性能を
著しく低下させる。このため、本発明に用いる接着剤
は、前記アンダーコート剤との一体化硬化させる際に流
動性を小さく抑えて層間厚みを保ち、フィルム成形性を
持たせるため、更には難燃性を付与するために、好まし
くは、臭素化率20%以上で、重量平均分子量1000
0以上のビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂とその硬化剤を配合している。
前記エポキシ樹脂の配合割合は全エポキシ樹脂中30〜
90重量%、好ましくは50〜90重量%である。硬化
剤としては前述のアンダーコート剤に用いたものを使用
することができる。
Next, the thermosetting insulating adhesive coating the copper foil will be described. Generally, as a method of forming a film or winding an adhesive which is an interlayer insulating layer, a rubber-based compound or polyvinyl butyral, a phenoxy resin, or a thermoplastic resin such as a polyester resin is mixed as a main component,
These components significantly deteriorate the thermal performance as a multilayer printed wiring board. For this reason, the adhesive used in the present invention further suppresses the fluidity when it is integrally cured with the undercoating agent, maintains the interlayer thickness, and imparts film moldability, and further imparts flame retardancy. Therefore, it is preferable that the bromination rate is 20% or more and the weight average molecular weight is 1000.
0 or more bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin and its curing agent are blended.
The mixing ratio of the epoxy resin is 30 to 30 in all epoxy resins.
90% by weight, preferably 50 to 90% by weight. As the curing agent, those used for the undercoat agent described above can be used.

【0022】本発明の目的を達成するための、アンダー
コート剤の塗工及び熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔をラ
ミネートし硬化する方法について概要を図1を用いて説
明する。
An outline of a method of applying an undercoating agent and laminating and hardening a copper foil with a thermosetting insulating adhesive to achieve the object of the present invention will be described with reference to FIG.

【0023】(A) 内層回路板(1)上に液状のアンダ
ーコート剤(3)をスクリーン印刷、ローラーコータ
ー、カーテンコーター等の従来のコーティング設備を使
用して内層回路(2)を完全に覆う厚さまで塗工する。
埋め込み量が不十分であると、この後のラミネートで空
気を巻き込むことになる。その後、UV照射コンベア等
の露光機で活性エネルギー線照射によりタックフリー化
する。
(A) The inner layer circuit (2) is completely covered with the liquid undercoat agent (3) on the inner layer circuit board (1) by using a conventional coating equipment such as screen printing, roller coater, curtain coater and the like. Apply to thickness.
If the embedding amount is insufficient, air will be entrained in the subsequent laminate. After that, it is tack-free by irradiating active energy rays with an exposure machine such as a UV irradiation conveyor.

【0024】(B) 表面に熱硬化型絶縁性接着剤(4)
付き銅箔(5)をラミネートする。ラミネーターは表面
平滑性を達成するために硬質ロール(6)を使用するの
がよい。ラミネート条件として内層回路のパターンによ
って異なるが、圧力は 0.5〜6kgf/cm2 程度、
表面温度は常温から100℃程度、ラミネートスピード
は0.1〜6m/分程度で行う。硬質ロールを用いるこ
とで表面平滑性を達成することができる。このとき内層
回路(2)と銅箔(5)との層間厚は熱硬化型絶縁性接
着剤の厚みで達成することができる。
(B) Thermosetting insulating adhesive (4) on the surface
Laminate the attached copper foil (5). The laminator preferably uses hard rolls (6) to achieve surface smoothness. The laminating condition depends on the pattern of the inner layer circuit, but the pressure is about 0.5 to 6 kgf / cm 2 ,
The surface temperature is from room temperature to about 100 ° C, and the laminating speed is about 0.1 to 6 m / min. Surface smoothness can be achieved by using a hard roll. At this time, the interlayer thickness between the inner layer circuit (2) and the copper foil (5) can be achieved by the thickness of the thermosetting insulating adhesive.

【0025】(C) 次いで、加熱することによりアンダ
ーコート剤(3)と銅箔にコートされた熱硬化型絶縁接
着剤(4)とが同時一体硬化反応して多層プリント配線
板を形成することができる。
(C) Then, by heating, the undercoat agent (3) and the thermosetting insulating adhesive (4) coated on the copper foil are simultaneously and integrally cured to form a multilayer printed wiring board. You can

【0026】[0026]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。
「部」は重量部を表す。
The present invention will be described below with reference to examples.
"Parts" represent parts by weight.

【0027】《実施例1》臭素化ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂(臭素化率25%、重量平均分子量3000
0)150部とビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポ
キシ当量175、大日本インキ化学工業(株)製エピクロ
ン830)30部をMEKに撹拌しながら溶解し、そこ
へ硬化剤としてマイクロカプセル化した2−メチルイミ
ダゾール120部とシランカップリング剤(日本ユニカ
ー(株)製 A-187)10部を添加して熱硬化型絶縁性
接着剤ワニスを調製した。このワニスを厚さ18μmの
銅箔のアンカー面に乾燥後の厚さが40μmとなるよう
にローラーコーターにて塗布、乾燥し熱硬化型絶縁性接
着剤付き銅箔を作製した。
Example 1 Brominated bisphenol A type epoxy resin (bromination rate 25%, weight average molecular weight 3000)
0) 150 parts and 30 parts of bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent 175, Epicron 830 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) were dissolved in MEK with stirring, and 2-methyl which was microencapsulated as a curing agent therein. A thermosetting insulating adhesive varnish was prepared by adding 120 parts of imidazole and 10 parts of a silane coupling agent (A-187 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.). The varnish was applied to an anchor surface of a copper foil having a thickness of 18 μm with a roller coater so that the thickness after drying became 40 μm, and dried to prepare a copper foil with a thermosetting insulating adhesive.

【0028】次に、臭素化ビスフェノールA型エポキシ
樹脂(臭素化率50%、エポキシ当量約800、分子量
約1600)100部をグリシジルメタクリレート60
部に溶解し、そこへ硬化剤として2−フェニル−4−メ
チル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール1.0部、及
び光重合開始剤(チバガイギー製イルガキュア651)
2.0部を添加し、ホモミキサーにて十分撹拌してアン
ダーコート剤とした。
Next, 100 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin (bromination rate of 50%, epoxy equivalent of about 800, molecular weight of about 1600) was added to glycidyl methacrylate 60.
1.0 part of 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole as a curing agent, and a photopolymerization initiator (Irgacure 651 manufactured by Ciba-Geigy)
2.0 parts was added and sufficiently stirred with a homomixer to obtain an undercoat agent.

【0029】更に、基材厚 0.1mm、銅箔厚35μm
のガラスエポキシ両面銅張積層板をパターン加工して内
層回路板を得た。銅箔表面を黒化処理した後、上記アン
ダーコート剤をカーテンコーターにより厚さ約40μm
に塗工した。その後、UVコンベア機にて80W/cm
の高圧水銀灯2本で約2J/cm2 の条件で紫外線照射
し、活性エネルギー線照射によりタックフリー化したア
ンダーコート剤上に温度100℃、圧力2kg/cm
2 、ラミネートスピード 0.8m/分の条件により、硬
質ロールを用いて上記熱硬化型絶縁性接着剤付き銅箔を
ラミネートし、180℃、20分間加熱硬化させ多層プ
リント配線板を作製した。
Further, the substrate thickness is 0.1 mm and the copper foil thickness is 35 μm.
The glass-epoxy double-sided copper-clad laminate was subjected to pattern processing to obtain an inner circuit board. After blackening the copper foil surface, the above undercoat agent is applied to a curtain coater to a thickness of about 40 μm.
Coated. After that, 80 W / cm on UV conveyor machine
Of 2 high pressure mercury lamps at about 2 J / cm 2 on the undercoating agent, which was made tack-free by irradiation with active energy rays, at a temperature of 100 ° C and a pressure of 2 kg / cm 2.
2. Lamination speed: The above-mentioned thermosetting type copper foil with insulating adhesive was laminated using a hard roll under the conditions of 0.8 m / min, and heat-cured at 180 ° C. for 20 minutes to prepare a multilayer printed wiring board.

【0030】《実施例2》実施例1において、アンダー
コート剤に使用するエポキシ樹脂をノボラック型エポキ
シ樹脂(臭素化率35%、エポキシ当量約280、分子
量1400)を使用した以外は実施例1と同様にして多
層プリント配線板を作製した。
Example 2 As Example 1, except that the epoxy resin used for the undercoat agent was a novolac type epoxy resin (bromination rate 35%, epoxy equivalent about 280, molecular weight 1400). A multilayer printed wiring board was manufactured in the same manner.

【0031】《実施例3》実施例1において、アンダー
コート剤に使用するグリシジルメタクリレート60部に
代えて、グリシジルメタクリレート30部及びヒドロキ
シエチルメタクリレート30部を使用した以外は実施例
1と同様にして多層プリント配線板を作製した。
Example 3 The same procedure as in Example 1 was repeated except that 30 parts of glycidyl methacrylate and 30 parts of hydroxyethyl methacrylate were used instead of 60 parts of glycidyl methacrylate used in the undercoat agent. A printed wiring board was produced.

【0032】《比較例1》内層回路板の上に塗布し、1
80℃、60分間加熱して完全硬化させる以外は実施例
1と全く同様にして多層プリント配線板を作製した。
<< Comparative Example 1 >> Coating on the inner layer circuit board,
A multilayer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that it was heated at 80 ° C. for 60 minutes to completely cure it.

【0033】《比較例2》アンダーコート剤を塗工しな
い以外は実施例1と同様にして多層プリント配線板を作
製した。
Comparative Example 2 A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the undercoating agent was not applied.

【0034】得られた多層プリント配線板は表1に示す
ような特性を有している。 表 1 ─────────────────────────────────── 表面平滑性 吸湿半田耐熱性 埋込み性 層間絶縁層厚 難燃性 ─────────────────────────────────── 実施例1 3μm ○ ○ 35μm V−0 実施例2 5 ○ ○ 40 V−0 実施例3 3 ○ ○ 35 V−0 比較例1 15 ○ ○ 40 V−0 比較例2 5 × × 30 V−0 ───────────────────────────────────
The resulting multilayer printed wiring board has the characteristics shown in Table 1. Table 1 ─────────────────────────────────── Surface smoothness Moisture absorption Solder heat resistance Embedding Interlayer insulation layer thickness Flame retardance ─────────────────────────────────── Example 1 3 μm ○ ○ 35 μm V-0 Example 25 ○○ 40 V-0 Example 3 3 ○○ 35 V-0 Comparative Example 1 15 ○○ 40 V-0 Comparative Example 2 5 × × 30 V-0 ──────────── ───────────────────────

【0035】(試験方法) 内層回路板試験片:線間150μmピッチ、クリアラン
スホール 1.0mmφ 1.表面平滑性:JIS B 0601 R(max) 2.吸湿半田耐熱試験 吸湿条件:プレッシャークッカー処理、125℃、2.
3気圧、30分間 試験条件:n=5で、全てが280℃、120秒間で膨
れが無かったものを○とした。 3.埋込み性:外層銅箔を剥離後、内層回路への埋め込
み性を光学顕微鏡を用い目視によって判断し、埋め込ま
れているものを○とした。 4.層間絶縁層厚:多層プリント配線板を切断し、その
断面を光学顕微鏡で観察し、内層回路と表面銅箔との層
間絶縁層厚さを測定した。 5.難燃性:UL−94に準じて測定した。
(Test method) Inner layer circuit board test piece: 150 μm pitch between lines, clearance hole 1.0 mmφ 1. 1. Surface smoothness: JIS B 0601 R (max) 1. Moisture absorption heat resistance test Moisture absorption conditions: pressure cooker treatment, 125 ° C,
3 atmospheres, 30 minutes Test condition: n = 5, all were swelling at 280 ° C. for 120 seconds, and were rated as ◯. 3. Embedding property: After the outer layer copper foil was peeled off, the embedding property in the inner layer circuit was visually judged using an optical microscope, and the embedding property was marked as ◯. 4. Interlayer insulation layer thickness: The multilayer printed wiring board was cut, and its cross section was observed with an optical microscope to measure the thickness of the interlayer insulation layer between the inner layer circuit and the surface copper foil. 5. Flame retardance: measured according to UL-94.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の方法に従うと、熱硬化型絶縁接
着剤付き銅箔を硬質ロール等でラミネートすることによ
り、内層回路に塗工後光硬化したアンダーコート剤が再
溶融して表面が平滑化し、銅箔にコートされた熱硬化型
絶縁接着剤が厚さを維持しているため、内層銅箔残存率
に依存することなく板厚制御に優れた多層プリント配線
板を作製することができる。更に、ラミネート後加熱し
て同時一体硬化反応を行うことによりアンダーコート剤
と銅箔にコートされた熱硬化型絶縁接着剤とを一体成形
することができる。アンダーコート剤の主成分であるエ
ポキシ樹脂を臭素化エポキシ樹脂を使用し、更に好まし
くは銅箔にコートされた熱硬化型絶縁接着剤にも臭素化
エポキシ樹脂を使用することにより、得られた多層プリ
ント配線板をUL規格V−0にまで難燃化することがで
きる。また、従来のようにプリプレグと熱板プレスを用
いず、またアディティブ法のようにメッキを施すことも
なく、ラミネート法により外層銅箔を有した多層プリン
ト配線板を製造することができるため、絶縁層形成及び
外層導電層形成に要する時間は非常に短縮化され、工程
の単純化や低コスト化に貢献できる。更にガラスクロス
を用いないため層間絶縁層を極薄にすることが可能であ
る。
According to the method of the present invention, by laminating a copper foil with a thermosetting insulating adhesive on a hard roll or the like, the undercoat agent which has been photo-cured after being applied to the inner layer circuit is remelted to form a surface Since the thermosetting insulating adhesive that is smoothed and coated on the copper foil maintains its thickness, it is possible to produce a multilayer printed wiring board with excellent board thickness control without depending on the residual rate of the inner copper foil. it can. Furthermore, the undercoating agent and the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil can be integrally molded by heating after laminating and simultaneously performing an integral curing reaction. A multilayer obtained by using a brominated epoxy resin as an epoxy resin which is a main component of an undercoat agent, and more preferably using a brominated epoxy resin also as a thermosetting insulating adhesive coated on a copper foil. The printed wiring board can be made flame-retardant to UL standard V-0. In addition, since it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board having an outer copper foil by a laminating method without using a prepreg and a hot plate press as in the past and without plating as in an additive method, insulation can be obtained. The time required for layer formation and outer conductive layer formation is greatly shortened, which can contribute to simplification of the process and cost reduction. Furthermore, since no glass cloth is used, the interlayer insulating layer can be made extremely thin.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の多層プリント配線板(一例)を作製
する工程を示す概略断面図
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a process for producing a multilayer printed wiring board (one example) of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内層回路板 2 内層回路 3 アンダーコート剤 4 熱硬化型絶縁性接着剤 5 銅箔 6 硬質ロール 7 多層プリント配線板 Reference Signs List 1 inner circuit board 2 inner circuit 3 undercoat agent 4 thermosetting insulating adhesive 5 copper foil 6 hard roll 7 multilayer printed wiring board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三井 正宏 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 岸 豊昭 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Masahiro Mitsui, 2-5-8 Higashi-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd. (72) Toyoaki Kishi 2--5-8, Higashi-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の成分(イ)、(ロ)、(ハ)及び
(ニ)からなることを特徴とする多層プリント配線板用
光・熱硬化型アンダーコート剤。 (イ)臭素化率20%以上で、分子量500〜4000
の常温固形状態にあるエポキシ樹脂、(ロ)エポキシ樹
脂硬化剤、(ハ)光重合及び熱反応性モノマーからなる
希釈剤、(ニ)光重合開始剤
1. A photo-thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board, comprising the following components (a), (b), (c) and (d): (A) Bromination rate of 20% or more, molecular weight of 500 to 4000
Epoxy resin in room temperature solid state, (b) Epoxy resin curing agent, (c) Diluent consisting of photopolymerization and thermoreactive monomer, (d) Photopolymerization initiator
【請求項2】 成分(ハ)が1分子中に1個以上のアク
リロイル基又はメタクリロイル基、及び1個以上のグリ
シジル基を有する光重合及び熱反応性モノマーからなる
希釈剤である請求項1記載の多層プリント配線板用光・
熱硬化型アンダーコート剤。
2. The component (c) is a diluent comprising a photopolymerizable and thermoreactive monomer having at least one acryloyl group or methacryloyl group and at least one glycidyl group in one molecule. Light for multi-layer printed wiring board
Thermosetting undercoat agent.
【請求項3】 成分(ハ)がグリシジルメタクリレート
である請求項1記載の多層プリント配線板用光・熱硬化
型アンダーコート剤。
3. The light / thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the component (c) is glycidyl methacrylate.
【請求項4】 成分(ハ)が1分子中に1個以上のアク
リロイル基又はメタクリロイル基、及び1個以上の活性
ヒドロキシル基を有する光重合及び熱反応性モノマーか
らなる希釈剤である請求項1記載の多層プリント配線板
用光・熱硬化型アンダーコート剤。
4. The component (c) is a diluent comprising a photopolymerizable and thermoreactive monomer having at least one acryloyl group or methacryloyl group and at least one active hydroxyl group in one molecule. An optical / thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board as described above.
【請求項5】 成分(ハ)がグリシジルメタクリレート
と1分子中に1個以上のアクリロイル基又はメタクリロ
イル基、及び1個以上の活性ヒドロキシル基を有する光
重合及び熱反応性モノマーからなる希釈剤の混合物であ
る請求項1記載の多層プリント配線板用光・熱硬化型ア
ンダーコート剤。
5. A mixture of glycidyl methacrylate as a component (c) and a diluent comprising a photopolymerizable and thermoreactive monomer having at least one acryloyl group or methacryloyl group in one molecule, and at least one active hydroxyl group. The light / thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board according to claim 1.
【請求項6】 内層回路板に請求項1記載の多層プリン
ト配線板用光・熱硬化型アンダーコート剤を塗工し、活
性エネルギー線照射によりタックフリー化させた後、熱
硬化型絶縁性接着剤層を有する銅箔をラミネートし、次
いで、加熱により一体硬化させることを特徴とする多層
プリント配線板の製造方法。
6. An inner circuit board is coated with the photocurable / thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board according to claim 1 to be tack-free by irradiation with active energy rays, and then thermosetting insulating adhesive. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising laminating a copper foil having an agent layer, and then integrally curing the copper foil by heating.
【請求項7】 内層回路板に請求項5記載の多層プリン
ト配線板用光・熱硬化型アンダーコート剤を塗工し、活
性エネルギー線照射によりタックフリー化させた後、熱
硬化型絶縁性接着剤層を有する銅箔をラミネートし、次
いで、加熱により一体硬化させることを特徴とする多層
プリント配線板の製造方法。
7. An inner-layer circuit board is coated with the light / thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board according to claim 5, and is made tack-free by irradiation with active energy rays, and then thermosetting insulating adhesive. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising laminating a copper foil having an agent layer, and then integrally curing the copper foil by heating.
【請求項8】 前記熱硬化型絶縁性接着剤がエポキシ樹
脂及びその硬化剤からなり、エポキシ樹脂の主成分が、
臭素化率20%以上で、重量平均分子量10000以上
のビスフェノール型エポキシ樹脂、及び、エポキシ当量
500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂からなる請
求項6記載の多層プリント配線板の製造方法。
8. The thermosetting insulating adhesive is composed of an epoxy resin and a curing agent thereof, and the main component of the epoxy resin is
The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 6, comprising a bisphenol epoxy resin having a bromination rate of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 or more, and a bisphenol epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less.
【請求項9】 前記熱硬化型絶縁性接着剤がエポキシ樹
脂及びその硬化剤からなり、エポキシ樹脂の主成分が、
臭素化率20%以上で、重量平均分子量10000以上
のビスフェノール型エポキシ樹脂、及び、エポキシ当量
500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂からなる請
求項7記載の多層プリント配線板の製造方法。
9. The thermosetting insulating adhesive is composed of an epoxy resin and a curing agent thereof, and the main component of the epoxy resin is
The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 7, comprising a bisphenol type epoxy resin having a bromination rate of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 or more, and a bisphenol type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less.
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