JPH11186724A - Manufacturing multilayered printed wiring board - Google Patents

Manufacturing multilayered printed wiring board

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JPH11186724A
JPH11186724A JP35781597A JP35781597A JPH11186724A JP H11186724 A JPH11186724 A JP H11186724A JP 35781597 A JP35781597 A JP 35781597A JP 35781597 A JP35781597 A JP 35781597A JP H11186724 A JPH11186724 A JP H11186724A
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JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
printed wiring
wiring board
temperature
roll
Prior art date
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Pending
Application number
JP35781597A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Hozumi
猛 八月朔日
Takayuki Baba
孝幸 馬塲
Masao Kamisaka
政夫 上坂
Masataka Arai
政貴 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a thin type multilayered printed wiring board which has little thickness variations and smooth surface and is suited to highdensity packaging. SOLUTION: The manufacturing method comprises the steps of applying a photo-setting/thermosetting type under-coating 3 to a flame-retardant inner layer circuit board 1 composed of a frame-retardant epoxy resin-impregnated glass cloth board, irradiating an active energy to make it tack-free, roll- laminating a Cu foil having a layer insulation adhesive layer, and heating it to cure, thereby forming a multilayered printed wiring board 7. An inner layer circuit board 1 is pre-heated to roll-laminate the Cu foil having the layer insulation adhesive layer after coating the coating 3 and making it tack-free. For roll-laminating, the under-coating 3 is heated by heating rollers up to a temp. which is sufficient to adhere the layer insulation adhesive layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、活性エネルギー線
照射による低コストで生産性の高いタックフリー化と熱
による本硬化からなる新しい多層プリント配線板用光・
熱硬化型アンダーコート剤及び層間絶縁接着剤層を有す
る銅箔を使用した、低コストで生産性の高い多層プリン
ト配線板の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel light-emitting device for multilayer printed wiring boards comprising low cost, high productivity tack-free by irradiation with active energy rays and full curing by heat.
The present invention relates to a method for manufacturing a low-cost and high-productivity multilayer printed wiring board using a copper foil having a thermosetting undercoat agent and an interlayer insulating adhesive layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】多層プリント配線板は、電子機器の小型
化、多機能化が進み、更に高密度化の方向に移行してい
る。即ち、回路の細線化、バイアホールの小径化、薄型
化、高多層化等の方向に進んでいる。従来、多層プリン
ト配線板の製造においては、熱盤プレス用い、回路作製
された内層回路基板上にガラスクロス基材にエポキシ樹
脂を含浸して半硬化させたプリプレグシートを1枚以上
重ね、更にその上に銅箔を重ねて加熱一体成形するとい
う工程を経ている。しかし、この工程では含浸樹脂を熱
により再流動させ一定圧力下で硬化させるため、均一に
硬化成形するには1〜1.5時間は必要である。このよ
うに製造工程が長くかかる上に、多層積層プレス及びガ
ラスクロスプリプレグのコスト等により高コストとなっ
ている。加えてガラスクロスに樹脂を含浸させる方法の
ため層間厚の極薄化も困難であった。
2. Description of the Related Art In multilayer printed wiring boards, the miniaturization and multifunctionality of electronic devices have been progressing, and the direction of higher density has been shifted. In other words, the direction of circuit thinning, via hole diameter reduction, thinning, high multilayering, and the like is progressing. Conventionally, in the production of a multilayer printed wiring board, using a hot plate press, a glass cloth base material is impregnated with epoxy resin and semi-cured on a circuit-prepared inner layer circuit board, and one or more prepreg sheets are stacked. The process of laminating a copper foil on top and performing heating integral molding is performed. However, in this step, since the impregnated resin is reflowed by heat and cured under a constant pressure, it takes 1 to 1.5 hours to uniformly cure and mold. As described above, the manufacturing process takes a long time, and the cost is high due to the costs of the multilayer laminating press and the glass cloth prepreg. In addition, the method of impregnating the glass cloth with a resin has made it difficult to make the interlayer thickness extremely thin.

【0003】近年、これらの問題を解決するため、熱盤
プレスによる加熱加圧成形を行わず、層間絶縁材料にガ
ラスクロスを用いない、ビルドアップ方式による多層プ
リント配線板の技術が改めて注目されている。一般に層
間絶縁層である接着剤のフィルム化や巻物化の手法とし
てはゴム系化合物やポリビニルブチラール、フェノキシ
樹脂、ポリエステル樹脂などを配合しているが、これら
の成分は多層プリント配線板としての熱的性能を著しく
低下させる。ビルドアップ方式による多層プリント配線
板において、銅箔の粗面化面に絶縁樹脂層を形成した銅
張絶縁シートを用いたり、ガラスクロス基材にエポキシ
樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグシートの代わり
にフィルム上の層間絶縁樹脂層を用いた場合、プリプレ
グで層間絶縁樹脂層を形成する方法と比べて作業効率が
著しく向上する。しかし、内層回路板の絶縁基板と回路
との段差部分にある空気を完全に除去することができ
ず、この空隙が絶縁不良や半田耐熱性悪化の原因とな
り、また、層間剥離が生じることもあり問題となってい
る。それを防止するためには、減圧の環境下でラミネー
トを行わねばならず、特殊な設備が必要になってくる。
また、ラミネートした絶縁層が内層回路基板の絶縁基板
と回路との段差に追従するため、表面平滑性が得られ
ず、部品実装時に半田付け不良等が発生したり、エッチ
ングレジスト形成工程でレジストの剥離、パターン現像
度低下が発生して安定したレジスト形成ができない等の
問題もあった。
In recent years, in order to solve these problems, the technique of a multilayer printed wiring board by a build-up method which does not perform hot press molding by a hot plate press and does not use a glass cloth as an interlayer insulating material has been renewed. I have. Generally, rubber-based compounds, polyvinyl butyral, phenoxy resin, polyester resin, etc. are compounded as a method of forming a film or a roll of the adhesive which is an interlayer insulating layer, but these components are used for thermal processing as a multilayer printed wiring board. Significantly degrade performance. In a multilayer printed wiring board by the build-up method, use a copper-clad insulating sheet in which an insulating resin layer is formed on the roughened surface of copper foil, or a prepreg sheet in which a glass cloth base material is impregnated with epoxy resin and semi-cured. When the interlayer insulating resin layer on the film is used instead, the working efficiency is remarkably improved as compared with the method of forming the interlayer insulating resin layer using the prepreg. However, air at the stepped portion between the insulating substrate and the circuit of the inner circuit board cannot be completely removed, and this void may cause poor insulation and deteriorated solder heat resistance, and delamination may occur. It is a problem. In order to prevent this, lamination must be performed under a reduced pressure environment, and special equipment is required.
In addition, since the laminated insulating layer follows the step between the insulating substrate and the circuit of the inner circuit board, surface smoothness cannot be obtained, soldering failure or the like may occur at the time of component mounting, or the resist may not be formed in the etching resist forming step. There were also problems such as peeling and a decrease in the pattern development degree, which prevented stable formation of a resist.

【0004】さらに、プリプレグを使用した場合も同様
であるが、内層回路パターンの銅箔残存率によって埋め
込む樹脂量が変化することから同じ銅張絶縁シートある
いはフィルム状の層間絶縁樹脂層を使用しても成形後の
板厚が同じにならない。つまり、銅箔残存率が大きく埋
め込むべき部分が少ない場合は板厚が厚くなり、銅箔残
存率が小さく埋め込むべき部分が多い場合は板厚が薄く
なることから、銅箔残存率によってフィルム厚も変えな
ければ同じ板厚を達成することができない。また、一枚
の内層回路板でも場所により銅箔残存率に差がある場合
には得られた多層プリント配線板の板厚が均一にならな
い等欠点が生じ問題とされていた。
The same applies to the case where a prepreg is used. However, since the amount of resin to be embedded varies depending on the residual ratio of copper foil in the inner circuit pattern, the same copper-clad insulating sheet or film-like interlayer insulating resin layer is used. Also, the sheet thickness after molding does not become the same. In other words, when the copper foil residual ratio is large and the portion to be embedded is small, the plate thickness is large, and when the copper foil residual ratio is small and the portion to be embedded is large, the plate thickness is small. If you do not change, you cannot achieve the same thickness. In addition, when the residual ratio of copper foil is different depending on the location even in one inner layer circuit board, there is a problem that the obtained multilayer printed wiring board does not have a uniform plate thickness and the like.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記熱盤プ
レスで成形する方式や従来のビルドアップ方式で得られ
る多層プリント配線板に対して、薄型で、厚みのバラツ
キが小さい、表面が平滑で高密度実装に適した多層プリ
ント配線板の製造方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is thinner, has less variation in thickness, and has a smoother surface than a multilayer printed wiring board obtained by the above-mentioned hot plate press molding method or a conventional build-up method. And a method for manufacturing a multilayer printed wiring board suitable for high-density mounting.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、難燃性エポキ
シ樹脂含浸ガラスクロス基板からなる内層回路板に光・
熱硬化型アンダーコート剤を塗工し、活性エネルギー線
照射によりタックフリー化させた後、層間絶縁接着剤層
を有する銅箔をロールラミネートし、次いで、加熱によ
り一体硬化させる多層プリント配線板の製造方法であっ
て、層間絶縁接着剤層を有する銅箔をロールラミネート
する際、光・熱硬化型アンダーコート剤の塗工、タック
フリー化後の内層回路板を予め加熱し、続いてロールラ
ミネート時に、加熱ロールにより、光・熱硬化型アンダ
ーコート剤を軟化可能な温度に、層間絶縁接着剤層を接
着可能な温度に到達させることを特徴とする多層プリン
ト配線板の製造方法である。そして好ましくは、アンダ
ーコート剤と層間絶縁接着剤層との接着部のロールラミ
ネート時の温度を70〜110℃にし、光・熱硬化型ア
ンダーコート剤が、(イ)臭素化率20%以上で、分子
量500〜4000のノボラック型エポキシ樹脂、
(ロ)分子量500以下のビスフェノール型エポキシ樹
脂、(ハ)ヒドロキシエチルアクリレート又はヒドロキ
シエチルメタクリレート、(ニ)多官能アクリレートモ
ノマー又は多官能メタクリレートモノマー(ホ)光重合
開始剤、(ヘ)融点が130℃以上のイミダゾール化合
物、及び(ト)低温硬化型イミダゾール化合物からな
り、層間絶縁接着剤が、(チ)臭素化率20%以上及び
重量平均分子量10000以上の臭素化ビスフェノール
型エポキシ樹脂又は臭素化フェノキシ樹脂、(リ)エポ
キシ当量500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂、
及び(ヌ)融点が130℃以上のイミダゾール化合物か
らなることを特徴とする上記記載の多層プリント配線板
の製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an optical circuit board made of a flame-retardant epoxy resin impregnated glass cloth substrate.
Production of a multilayer printed wiring board in which a thermosetting undercoat agent is applied and tack-free by irradiation with active energy rays, then a copper foil having an interlayer insulating adhesive layer is roll-laminated, and then integrally cured by heating. In the method, when roll laminating a copper foil having an interlayer insulating adhesive layer, coating of a light / thermosetting undercoat agent, preheating the inner layer circuit board after tack-free, and then during roll lamination A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, characterized in that a heating roll is used to reach a temperature at which the photo-thermosetting undercoat agent can be softened and a temperature at which the interlayer insulating adhesive layer can be bonded. Preferably, the temperature at the time of roll lamination of the adhesive portion between the undercoat agent and the interlayer insulating adhesive layer is set to 70 to 110 ° C., and the light / thermosetting undercoat agent is (A) having a bromination ratio of 20% or more. A novolak epoxy resin having a molecular weight of 500 to 4000,
(B) a bisphenol-type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less, (c) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate, (d) a polyfunctional acrylate monomer or a polyfunctional methacrylate monomer, (e) a photopolymerization initiator, and (f) a melting point of 130 ° C. An interlayer insulating adhesive comprising the above-mentioned imidazole compound and (g) a low-temperature curing type imidazole compound, wherein (h) a brominated bisphenol type epoxy resin or a brominated phenoxy resin having a bromination ratio of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 or more. (B) a bisphenol-type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less,
And (u) a method for producing a multilayer printed wiring board as described above, comprising an imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or higher.

【0007】即ち本発明は、難燃性エポキシ樹脂含浸ガ
ラスクロス基材からなる内層回路板にスクリーン印刷、
ローラーコーター、カーテンコーターなどで液状のアン
ダーコート剤を塗工して、内層回路板の銅箔回路間際を
充填し、UVコンベア等による活性エネルギー線照射に
よって該アンダーコート剤をタックフリー化させる。こ
の活性エネルギー線によるタックフリー化は、アンダー
コート剤の裏面塗工を可能とし、表裏の差がないため、
未硬化又は半硬化の層間絶縁接着剤層付き銅箔を加熱さ
れたロール等で容易に両面同時ラミネートできる。そし
て、ラミネート後加熱して光・熱硬化型アンダーコート
剤と層間絶縁接着剤付き銅箔とを同時一体硬化反応させ
ることにより、多層プリント配線板を作製することがで
きる。
That is, the present invention provides screen printing on an inner circuit board made of a glass cloth substrate impregnated with a flame-retardant epoxy resin,
A liquid undercoat agent is applied using a roller coater, a curtain coater, or the like, and the space between the copper foil circuits of the inner circuit board is filled, and the undercoat agent is made tack-free by irradiating active energy rays with a UV conveyor or the like. Tack-free by this active energy ray enables the undercoat agent to be coated on the back side, and there is no difference between front and back,
Uncured or semi-cured copper foil with an interlayer insulating adhesive layer can be easily laminated on both sides simultaneously with a heated roll or the like. Then, after lamination, heating is performed to simultaneously and integrally cure the light / thermosetting undercoat agent and the copper foil with an interlayer insulating adhesive, whereby a multilayer printed wiring board can be manufactured.

【0008】ロールラミネートする際、アンダーコート
剤が熱ロールで加熱されることにより軟化し、ロール圧
により厚みが平均化され、平滑性が得られる。そのと
き、銅箔にコートされた層間絶縁接着剤は重量平均分子
量10000以上のエポキシ樹脂成分により形状を維持
したまま、すなわち層間厚を保った状態で接着されるた
め、内層銅箔残存率に依存することなく、厚みバラツキ
も小さい、板厚精度に優れた多層プリント配線板を作製
することができる。更にこれらの機能を十分に発現させ
るためには、ロールラミネート時のアンダーコート剤に
十分な熱量を伝えることが重要であり、特に生産性を重
視した高速ロールラミネート時には、内層回路板を予め
加熱処理するという工程が必須となる。
In roll lamination, the undercoat agent is softened by being heated by a hot roll, the thickness is averaged by the roll pressure, and smoothness is obtained. At this time, the interlayer insulating adhesive coated on the copper foil is bonded while maintaining its shape by the epoxy resin component having a weight average molecular weight of 10,000 or more, that is, while maintaining the interlayer thickness, and thus depends on the residual ratio of the inner layer copper foil. Thus, a multilayer printed wiring board having a small thickness variation and excellent plate thickness accuracy can be manufactured without performing the method. Further, in order to sufficiently exhibit these functions, it is important to transmit a sufficient amount of heat to the undercoat agent during roll lamination. The step of doing is indispensable.

【0009】高速ラミネート時に高温の熱ロールのみで
熱量を伝えようとすると、熱ロールに巻き付き密着して
いる層間絶縁接着剤のみの軟化が進行し、アンダーコー
ト剤には熱量が伝わらず機能発現のための軟化ができな
いこともある。また、熱ロールの温度の上げすぎは、銅
箔の皺発生の原因ともなる。従って、光・熱硬化型アン
ダーコート剤の塗工、タックフリー化後の内層回路板を
予め加熱処理して、層間絶縁接着剤層を有する銅箔をロ
ールラミネートした方が良い。
If heat is transferred only by a high-temperature heat roll during high-speed lamination, only the interlayer insulating adhesive wound around and in close contact with the heat roll advances, and the undercoat agent does not transmit the heat and does not exhibit its function. Softening may not be possible. In addition, an excessive increase in the temperature of the heat roll may cause wrinkles of the copper foil. Therefore, it is better to heat-treat the inner layer circuit board after the application of the light / thermosetting undercoat agent and the tack-free, and to roll laminate the copper foil having the interlayer insulating adhesive layer.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明において、アンダーコート
層に用いられるアンダーコート剤は内層回路板の銅箔回
路間際を充填し、内層回路表面を平滑化するもので、下
記の成分(イ)〜(ト)からなることを特徴するもので
ある。 (イ)臭素化率20%以上で、分子量500〜4000
のノボラック型エポキシ樹脂、(ロ)分子量500以下
のビスフェノール型エポキシ樹脂、(ハ)ヒドロキシエ
チルアクリレート又はヒドロキシエチルメタクリレー
ト、(ニ)多官能アクリレートモノマー又は多官能メタ
クリレートモノマー(ホ)光重合開始剤、(ヘ)融点が
130℃以上のイミダゾール化合物、及び(ト)低温硬
化型イミダゾール化合物からなり、本発明に用いられる
(イ)成分の臭素化率20%以上で、分子量500〜4
000であるエポキシ樹脂は、耐熱性及び難燃性を向上
するために使用されるものであり、フェノールノボラッ
ク型やクレゾールノボラック型のノボラック型エポキシ
樹脂で、常温で固形状のものである。融点は、通常50
℃以上であれば良い。臭素化率が20%未満のものでは
得られた多層プリント板がUL規格による難燃性V−0
を達成することができない。また臭素化率の上限はエポ
キシ樹脂のベンゼン核のうち臭素化が可能な部分を全て
臭素化した場合であり、これにより臭素化の上限は決定
される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, an undercoat agent used for an undercoat layer fills a space between copper foil circuits of an inner circuit board and smoothes the inner circuit surface. (G). (A) a bromination ratio of 20% or more and a molecular weight of 500 to 4000;
Novolak type epoxy resin, (b) bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less, (c) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate, (d) polyfunctional acrylate monomer or polyfunctional methacrylate monomer (e) photopolymerization initiator, (F) An imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more, and (g) a low-temperature-curable imidazole compound, wherein the component (A) used in the present invention has a bromination ratio of 20% or more and a molecular weight of 500 to 4
The epoxy resin of 000 is used for improving heat resistance and flame retardancy, and is a phenol novolak type or cresol novolak type novolak type epoxy resin which is solid at room temperature. Melting point is usually 50
It is sufficient that the temperature is not less than ° C. When the bromination ratio is less than 20%, the obtained multilayer printed board has a flame retardancy V-0 according to UL standard.
Can not achieve. Further, the upper limit of the bromination ratio is a case where all the brominated portions of the benzene nucleus of the epoxy resin are brominated, and the upper limit of the bromination is determined by this.

【0011】(ロ)成分の分子量500以下のビスフェ
ノール型エポキシ樹脂は、埋込性、ぬれ性等を高め、成
形性、表面平滑性を良好にするものである。分子量が5
00を越えるとこれらの効果が薄れてくるので好ましく
ない。光・熱硬化型アンダーコート剤に使用される光重
合及び熱反応性モノマーとしては、(ハ)成分のヒドロ
キシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレ
ートである。これらの成分は、エポキシ樹脂の溶剤とし
ての働きがあり、いわゆる無溶剤型のアンダーコート剤
として使用される。(ハ)及び(ニ)成分は活性エネル
ギー線照射により反応し、その硬化度合いにより、アン
ダーコート層がタックフリー化される。その各配合割合
は20〜80重量%の間で適宜決められる。通常、
(ハ)及び(ニ)成分であるモノマーの合計量は、使用
するエポキシ樹脂合計量100重量部に対し、20〜1
00重量部、好ましくは30〜70重量部である。
The bisphenol-type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less as the component (b) enhances embedding properties, wettability, etc., and improves moldability and surface smoothness. Molecular weight 5
If it exceeds 00, these effects are undesirably weakened. The photopolymerizable and heat-reactive monomer used in the photo-thermosetting undercoat agent is (c) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate. These components function as a solvent for the epoxy resin, and are used as a so-called solventless undercoat agent. The components (c) and (d) react by irradiation with active energy rays, and the undercoat layer is tack-free depending on the degree of curing. Each mixing ratio is appropriately determined between 20 and 80% by weight. Normal,
The total amount of the monomers (c) and (d) is 20 to 1 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the epoxy resin used.
00 parts by weight, preferably 30 to 70 parts by weight.

【0012】(ホ)成分の光重合開始剤としては、ベン
ゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾ
フェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェ
ノン類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインア
ルキルエーテル類、4−フェノキシジクロロアセトフェ
ノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノン、4−
t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシア
セトフェノンなどのアセトフェノン類、チオキサンソ
ン、2−クロルチオキサンソン、2−メチルチオキサン
ソン、2,4−ジメチルチオキサンソンなどのチオキサ
ンソン類、エチルアントラキノン、ブチルアントラキノ
ンなどのアルキルアントラキノン類などを挙げることが
できる。これらは単独、あるいは2種以上の混合物とし
て用いられる。この光重合開始剤の添加量は、光重合及
び熱反応性モノマー100重量部に対して通常0.1〜
10重量部%の範囲で用いられる。
Examples of the photopolymerization initiator (e) include benzophenones such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone and hydroxybenzophenone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether and benzoin isobutyl ether. Benzoin alkyl ethers, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-
acetophenones such as t-butyl-trichloroacetophenone and diethoxyacetophenone; thioxanthones such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone and 2,4-dimethylthioxanthone; ethylanthraquinone and butylanthraquinone; Alkyl anthraquinones and the like can be mentioned. These may be used alone or as a mixture of two or more. The amount of the photopolymerization initiator is usually 0.1 to 100 parts by weight of the photopolymerization and heat-reactive monomer.
It is used in the range of 10 parts by weight.

【0013】(ヘ)成分のエポキシ樹脂硬化剤として
は、融点が130℃以上で常温で固形であり、エポキシ
樹脂への溶解性が小さく、150℃付近の高温になって
エポキシ樹脂と速やかに反応し、最終的にエポキシ樹脂
が硬化するために添加するものである。具体的には、2
−メチルイミダゾール、2−フェノキシイミダゾール、
2−フェニル−4−メチルイミダゾール、ビス(2−エ
チル−4−メチル−イミダゾール)、2−フェニル−4
−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フ
ェニル−4,5−ヒドロキシメチルイミダゾール、ある
いはトリアジン付加型イミダゾール等がある。これらを
エポキシアダクト化したものやマイクロカプセルかした
ものも使用できる。これらは単独で使用しても2種以上
を併用しても良い。
The epoxy resin curing agent (f) has a melting point of 130 ° C. or higher, is solid at room temperature, has low solubility in the epoxy resin, and rapidly reacts with the epoxy resin at a high temperature of about 150 ° C. Then, it is added to finally cure the epoxy resin. Specifically, 2
-Methylimidazole, 2-phenoxyimidazole,
2-phenyl-4-methylimidazole, bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole), 2-phenyl-4
-Methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-hydroxymethylimidazole, and triazine-added imidazole. Epoxy adducts or microcapsules of these can also be used. These may be used alone or in combination of two or more.

【0014】(ト)成分のエポキシ樹脂硬化剤として
は、60〜120の低温域からエポキシ樹脂が反応を開
始するものであり、この硬化剤はエポキシ樹脂が初期の
反応を起こすために用いられる。アンダーコート剤と層
間絶縁接着剤とを一体硬化する際、アンダーコート側か
ら硬化反応を開始させることが成形性のためには重要と
なる。具体的に使用されるものは、イミダゾール、2−
エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミ
ダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾー
ル、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1
−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾー
ル、1−アミノエチル−2−メチルイミダゾール、1−
(シアノエチルアミノエチル)−2−メチルイミダゾー
ル、1−シアノエチル−2−フェニル−4,5−ビス
(シアノエトキシメチルイミダゾール)等が挙げられ、
これらをエポキシアダクト化したものやマイクロカプセ
ル化したものも使用できる。これらは単独で使用しても
2種類以上を併用しても良い。
As the epoxy resin curing agent (g), the epoxy resin starts a reaction from a low temperature range of 60 to 120, and this curing agent is used to cause an initial reaction of the epoxy resin. When integrally curing the undercoat agent and the interlayer insulating adhesive, it is important for the moldability to start a curing reaction from the undercoat side. Specifically used are imidazole, 2-
Ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1
-Cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-aminoethyl-2-methylimidazole, 1-
(Cyanoethylaminoethyl) -2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-4,5-bis (cyanoethoxymethylimidazole) and the like,
Epoxy adducts or microcapsules of these can also be used. These may be used alone or in combination of two or more.

【0015】銅箔にコートされた層間絶縁接着剤に、重
量平均分子量10000以上のエポキシ樹脂又はフェノ
キシ樹脂を使用することにより、形状を維持したまま、
すなわち、層間厚みを保った状態で接着されるため、内
層銅箔残存率に依存することなく多層プリント配線板の
厚みバラツキがない、板厚精度に優れた多層プリント配
線板を作製することが可能となる。しかし、このこと
は、層間絶縁接着剤付きの銅箔をラミネートする際、内
層回路板上にコートされたアンダーコート剤が熱ロール
加熱により軟化し、ロール圧により厚みが平均化される
ことなくしては実現できない。また、アンダーコート剤
の軟化は、層間絶縁接着剤との密着性の向上にも大きく
作用し、極界面では溶融一体化反応も可能となるため、
層間の信頼性にも関与することとなる。
By using an epoxy resin or a phenoxy resin having a weight-average molecular weight of 10,000 or more for the interlayer insulating adhesive coated on the copper foil, the shape can be maintained.
In other words, since the bonding is performed while maintaining the interlayer thickness, there is no variation in the thickness of the multilayer printed wiring board without depending on the residual ratio of the inner layer copper foil, and it is possible to manufacture a multilayer printed wiring board having excellent thickness accuracy. Becomes However, this means that when laminating a copper foil with an interlayer insulating adhesive, the undercoat agent coated on the inner layer circuit board is softened by heating the hot roll, and the thickness is not averaged by the roll pressure. Cannot be realized. In addition, the softening of the undercoat agent has a great effect on the improvement of the adhesiveness with the interlayer insulating adhesive, and a fusion integration reaction can be performed at the polar interface.
This also affects the reliability between layers.

【0016】ところが、熱硬化時にアンダーコート剤の
硬化反応が層間絶縁接着剤の硬化反応より遅れ、アンダ
ーコート剤の溶融粘度が必要以上に低下すると、層間絶
縁接着剤の硬化収縮等の影響を受け、皺、ボイド発生等
の成形不良を起こすことがある。これに対し、本発明で
使用されるアンダーコート剤は、(ト)成分により低温
域の反応が促進され、必要以上の溶融粘度の低下が抑制
されるため、無圧下での熱硬化成形においても、良好な
平滑性、層間密着性等を達成することが可能となる。エ
ポキシ樹脂硬化剤量としては、硬化剤の種類によって異
なるが、エポキシ樹脂100重量部に対して(ヘ)成分
及び(ト)成分を合わせての1〜10重量部であり、
(ト)成分の割合はアンダーコート剤の熱硬化時の溶融
粘度によって適宜決定される。
However, when the curing reaction of the undercoat agent is delayed from the curing reaction of the interlayer insulating adhesive during thermal curing, and the melt viscosity of the undercoat agent is reduced more than necessary, the curing reaction of the interlayer insulating adhesive is affected. Molding defects such as wrinkles and voids may occur. On the other hand, in the undercoat agent used in the present invention, the reaction in the low-temperature region is promoted by the component (g), and the unnecessarily lowering of the melt viscosity is suppressed. , Good smoothness, interlayer adhesion and the like can be achieved. The amount of the epoxy resin curing agent varies depending on the type of the curing agent, but is 1 to 10 parts by weight in total of the component (f) and the component (g) per 100 parts by weight of the epoxy resin,
The proportion of the component (g) is appropriately determined by the melt viscosity of the undercoat agent during heat curing.

【0017】その他、本発明の多層プリント配線板用光
・熱硬化型アンダーコート剤には必要に応じて、保存安
定性のために紫外線防止剤、熱重合防止剤、可塑材など
が添加できる。また、粘度調整のためにアクリレートモ
ノマー、メタクリレートモノマー、ビニルモノマーなど
を添加してもよい。更には、溶融シリカ、結晶性シリ
カ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、
硫酸バリウム、マイカ、タルク、クレー、ホワイトカー
ボン、Eガラス粉末などの無機充填剤を配合することが
でき、銅箔や内層回路板との密着性や耐湿性を向上させ
るためのエポキシシランカップリング剤、ボイドを阻止
するための消泡剤、あるいわ液状又は粉末の難燃剤等を
添加することもできる。
In addition, if necessary, an ultraviolet inhibitor, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, and the like can be added to the light / thermosetting undercoat agent for multilayer printed wiring boards of the present invention for storage stability. Further, an acrylate monomer, a methacrylate monomer, a vinyl monomer, or the like may be added for adjusting the viscosity. Furthermore, fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina,
Inorganic fillers such as barium sulfate, mica, talc, clay, white carbon, E glass powder, etc. can be blended, and epoxy silane coupling agent to improve adhesion and moisture resistance to copper foil and inner circuit board It is also possible to add an antifoaming agent for preventing voids, a so-called liquid or powdered flame retardant, and the like.

【0018】これらの成分からなる本発明の多層プリン
ト配線板用光・熱硬化型アンダーコート剤は、実質的に
無溶剤系でありながら、内層回路板の銅箔回路間際を充
填し、内層回路表面を平滑化する。また、活性エネルギ
ー線照射により容易に固形となりタックフリー化でき
る。調整された本発明アンダーコート剤中の成分(ハ)
及び(ニ)は、まず溶剤として作用し、成分(イ)及び
その他の成分を溶解して内層回路板の銅箔回路間際を充
填、内層回路表面の平滑化可能なワニス状態にしてい
る。これに、活性エネルギー線を照射して溶剤として作
用している成分(ハ)及び(ニ)を硬化させると、成分
(ハ)及び(ニ)は硬化固形化に伴い溶剤としての効果
を失うため成分(イ)が析出する。このとき、硬化した
成分(ハ)、(ニ)及びその他の成分は固形成分(イ)
中に分散される。従って、常温で適度なタックフリー固
形状態にある成分(イ)が選択されれば、本発明のアン
ダーコート剤は、熱硬化反応することなくタックフリー
化される。このようなタックフリー化の機構が本発明の
最大の特徴である。また、活性エネルギー線を照射する
ことにより硬化した本発明の成分(ハ)は熱反応性の官
能基も有するため、後の加熱反応時に主剤のエポキシ樹
脂または硬化剤と硬化反応するので、その硬化物は、耐
熱性、耐薬品性等にも優れる。
The photo-thermosetting undercoat agent for a multilayer printed wiring board of the present invention comprising these components, while being substantially solvent-free, fills a space between the copper foil circuits of the inner circuit board, Smooth the surface. Further, it becomes easily solid by irradiation with active energy rays and can be made tack-free. Component (C) in the adjusted undercoat agent of the present invention
And (d) first act as a solvent, dissolve the component (a) and other components, fill the space between the copper foil circuits of the inner circuit board, and form a varnish state in which the surface of the inner circuit circuit can be smoothed. When the components (c) and (d) acting as a solvent are cured by irradiation with an active energy ray, the components (c) and (d) lose their effect as a solvent due to solidification of the cured product. Component (a) precipitates. At this time, the cured components (c), (d) and other components are solid components (a)
Dispersed inside. Therefore, if the component (A) which is in an appropriate tack-free solid state at room temperature is selected, the undercoat agent of the present invention is tack-free without a thermosetting reaction. Such a tack-free mechanism is the greatest feature of the present invention. In addition, since the component (c) of the present invention which has been cured by irradiation with an active energy ray also has a heat-reactive functional group, it undergoes a curing reaction with an epoxy resin or a curing agent as a base agent during a subsequent heating reaction. The material is also excellent in heat resistance, chemical resistance and the like.

【0019】次に、本発明に使用する銅箔にコートする
層間絶縁接着剤は、(チ)臭素化率20%以上及び重量
平均分子量10000以上の臭素化ビスフェノール型エ
ポキシ樹脂又は臭素化フェノキシ樹脂、(リ)エポキシ
当量500以下のビスフェノール型エポキシ樹脂、及び
(ヌ)融点が130℃以上のイミダゾール化合物からな
るものであり、耐熱性及び難燃性を有する接着剤であ
る。
Next, the interlayer insulating adhesive to be coated on the copper foil used in the present invention comprises: (h) a brominated bisphenol type epoxy resin or a brominated phenoxy resin having a bromination ratio of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 or more; (I) An adhesive having heat resistance and flame retardancy, comprising a bisphenol type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less and an imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more.

【0020】(チ)成分の臭素化率20%以上及び重量
平均分子量10000以上の臭素化ビスフェノール型エ
ポキシ樹脂又は臭素化フェノキシ樹脂は、成型時の樹脂
流れを小さくし、絶縁層の厚みを維持すること及び組成
物に可撓性を付与すると共に、得られた多層プリント配
線板の難燃化を達成する目的で配合されている。また前
記(チ)成分単独では硬化後の架橋密度が低く、可撓性
が大きくなりすぎ、及び銅箔にコートするために溶剤に
溶解して所定濃度のワニスとして使用するときに、粘度
が高くコート時の作業性が悪くなる。これらの欠点を改
善するために(ヌ)成分としてエポキシ当量が500以
下のビスフェノールF型のエポキシ樹脂を配合してい
る。かかるエポキシ樹脂の配合割合は(チ)成分:
(リ)成分=50〜70重量%:50〜30重量%であ
る。(チ)成分が50重量%より少ないと粘度が高くな
らず層間絶縁接着剤としての厚みを保つことができず、
ラミネート後の外層回路の平滑性が悪くなり、一方70
重量%を越えると、逆に粘度が高くなり、銅箔へのコー
トが容易でなくなり、所定厚みを保つことが困難となり
好ましくない。また臭素化ビスフェノール型エポキシ樹
脂又は臭素化フェノキシ樹脂の臭素化率が20%未満で
は得られた多層プリント配線板が難燃性V−0を達成す
ることができないので、20%以上が必要なのである。
The brominated bisphenol-type epoxy resin or brominated phenoxy resin having a bromination ratio of component (h) of 20% or more and a weight average molecular weight of 10,000 or more reduces resin flow during molding and maintains the thickness of the insulating layer. The composition is added for the purpose of imparting flexibility to the composition and achieving flame retardancy of the obtained multilayer printed wiring board. In addition, the component (h) alone has a low crosslinking density after curing, has too high flexibility, and has a high viscosity when dissolved in a solvent and used as a varnish of a predetermined concentration for coating a copper foil. Workability at the time of coating deteriorates. In order to remedy these drawbacks, a bisphenol F type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less is blended as a (nu) component. The mixing ratio of the epoxy resin is as follows:
(I) Component = 50 to 70% by weight: 50 to 30% by weight. If the component (h) is less than 50% by weight, the viscosity does not increase and the thickness as an interlayer insulating adhesive cannot be maintained,
The smoothness of the outer layer circuit after lamination becomes poor,
On the other hand, if the content is more than 10% by weight, the viscosity increases, and it becomes difficult to coat the copper foil, and it is difficult to maintain a predetermined thickness. If the bromination ratio of the brominated bisphenol-type epoxy resin or brominated phenoxy resin is less than 20%, the obtained multilayer printed wiring board cannot achieve the flame retardancy V-0, so that it must be at least 20%. .

【0021】(ヌ)成分の硬化剤としては前述のアンダ
ーコート剤に用いた(ヘ)成分と同種類のものを使用す
ることが好ましい。即ち融点が130℃以上で常温で固
形であり、エポキシ樹脂への溶解性が小さく、150℃
付近の高温になってエポキシ樹脂と速やかに反応し、最
終的にエポキシ樹脂が硬化するために添加するものであ
る。具体的には、2−メチルイミダゾール、2−フェニ
ルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾー
ル、ビス(2−エチル−4−メチル−イミダゾール)、
2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミ
ダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチル
イミダゾール、あるいはトリアジン付加型イミダゾール
等がある。これらをエポキシアダクト化したものやマイ
クロカプセル化したものも使用できる。これらは単独で
使用しても2種以上を併用しても良い。これらのイミダ
ゾールは微粉末でエポキシ樹脂ワニス中に均一に分散さ
れる。エポキシ樹脂との相溶性が小さいので、100℃
以下では反応が進行せず、従って該ワニスの保存性を良
好に保つことができる。層間絶縁接着剤として銅箔に1
00℃以下でコートすればエポキシ樹脂は未硬化のまま
存在するので、該接着剤としての保存性も良好に保つこ
とができる。そしてアンダーコート層を設けた内層回路
板とラミネートし、その後硬化時に150℃以上に加熱
すると、アンダーコート剤とも接触面で一部溶融混合さ
れるので、エポキシ樹脂同士が反応して均一な硬化物が
得られる。
It is preferable to use the same type of curing agent as the component (v) as the component (f) used in the above-mentioned undercoat agent. That is, it has a melting point of 130 ° C. or more, is solid at room temperature, has low solubility in epoxy resin, and has a melting point of 150 ° C.
It is added because the temperature is raised to a high temperature and the epoxy resin quickly reacts with the epoxy resin and finally cures the epoxy resin. Specifically, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole),
Examples include 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and triazine-added imidazole. Epoxy adducts or microcapsules of these can also be used. These may be used alone or in combination of two or more. These imidazoles are finely divided and are uniformly dispersed in the epoxy resin varnish. 100 ° C due to low compatibility with epoxy resin
In the following, the reaction does not proceed, so that the varnish can maintain good storage stability. 1 for copper foil as interlayer insulating adhesive
If the coating is performed at a temperature of 00 ° C. or less, the epoxy resin remains uncured, so that the storability as the adhesive can be kept good. When laminated with an inner layer circuit board provided with an undercoat layer, and then heated to 150 ° C. or higher during curing, the epoxy resin reacts with the undercoat agent and partially melts and mixes on the contact surface. Is obtained.

【0022】層間絶縁接着剤は上記エポキシ樹脂及び硬
化剤の他に、エポキシ樹脂や硬化剤と反応する成分を配
合することができる。例えば、エポキシ反応性希釈剤
(一官能型としてフェニルグリシジルエーテルなど、二
官能型としてレゾルシングリシジルエーテル、エチレン
グリコールグリシジルエーテルなど、三官能型としてグ
リセロールトリグリシジルエーテルなど)、レゾール型
又はノボラック型フェノール系樹脂、イソシアネート化
合物等である。上記成分他に、線膨張率、耐熱性、耐燃
性等の向上のために、溶融シリカ、結晶性シリカ、炭酸
カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、硫酸バリ
ウム、マイカ、タルク、クレー、ホワイトカーボン、E
ガラス粉末などの無機充填材をエポキシ樹脂に対して4
0重量%以下配合してもよい。40重量%より多く配合
すると、接着剤の粘性が高くなり、密着性が低下する。
また、銅箔との密着性や耐湿性を向上させるためのエポ
キシシランカップリング剤、ボイドを防止するための消
泡剤、あるいは液状又は粉末の難燃剤等を添加すること
もできる。溶剤としては、接着剤を銅箔に塗布し80〜
130℃で乾燥した後において、接着剤中に残らないも
のを選択しなければならない。例えば、アセトン、メチ
ルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、
メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、シクロヘ
キサノン等がある。
In addition to the epoxy resin and the curing agent, a component that reacts with the epoxy resin or the curing agent can be mixed in the interlayer insulating adhesive. For example, epoxy-reactive diluents (such as phenylglycidyl ether as a monofunctional type, resorcing ricidyl ether and ethyleneglycol glycidyl ether as a bifunctional type, and glycerol triglycidyl ether as a trifunctional type), resole type or novolak type phenolic resins And isocyanate compounds. In addition to the above components, in order to improve the coefficient of linear expansion, heat resistance, flame resistance, etc., fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina, barium sulfate, mica, talc, clay, white carbon, E
Add inorganic filler such as glass powder to epoxy resin.
You may mix | blend 0 weight% or less. If the content is more than 40% by weight, the viscosity of the adhesive increases, and the adhesiveness decreases.
Further, an epoxy silane coupling agent for improving the adhesion to the copper foil and moisture resistance, an antifoaming agent for preventing voids, or a liquid or powdered flame retardant may be added. As a solvent, apply an adhesive to copper foil
After drying at 130 ° C., one that does not remain in the adhesive must be selected. For example, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane,
Methanol, ethanol, methylcellosolve, cyclohexanone and the like.

【0023】層間絶縁接着剤つき銅箔は、接着剤成分を
所定の溶剤に所定の濃度で溶解した接着剤ワニスを銅箔
のアンカー面に塗工し、その後80〜130℃の乾燥を
行って接着剤中に溶剤が残らないようにして作製する。
その接着剤層の厚みは15〜120μmが好ましい。1
5μmより薄いと層間絶縁性が不十分となることがあ
り、120μmより厚いと層間絶縁性は問題ないが、作
製が困難となり、また多層板の厚みを薄くするという本
発明の目的に合わなくなる。
The copper foil with an interlayer insulating adhesive is prepared by applying an adhesive varnish obtained by dissolving an adhesive component in a predetermined solvent at a predetermined concentration on an anchor surface of the copper foil, and then drying the copper foil at 80 to 130 ° C. It is manufactured so that no solvent remains in the adhesive.
The thickness of the adhesive layer is preferably from 15 to 120 μm. 1
If the thickness is less than 5 μm, the interlayer insulating property may be insufficient. If the thickness is more than 120 μm, there is no problem with the interlayer insulating property. However, the production becomes difficult, and the purpose of the present invention of reducing the thickness of the multilayer board is not met.

【0024】本発明の目的を達成するための、アンダー
コート剤の塗工及び層間絶縁接着剤付き銅箔をラミネー
トし硬化する方法について概要を図1を用いて説明す
る。 (A)内層回路板(1)上に液状のアンダーコート剤
(3)をスクリーン印刷、ローラーコーター、カーテン
コーター等の従来のコーティング設備を使用して内層回
路(2)の一方の面を完全に覆う厚さまで塗工する。埋
め込み量が不十分であると、この後のラミネートで空気
を巻き込むことになる。その後、UV照射コンベア等に
よる活性エネルギー線照射でタックフリー化する。次い
で内層回路板(2)の他方の面を同様の方法でアンダー
コート剤(3)を塗工する。 (B)表面に層間絶縁接着剤(4)付き銅箔(5)をラ
ミネートする。ラミネーターは表面平滑性を達成するた
めに一対のシリコンゴム等を被覆したロール(6)を使
用し、内層回路板(2)の両面にラミネートする。ラミ
ネート条件として内層回路のパターンによって異なる
が、圧力は0.5〜6kgf/cm2▲▼程度、表面温度
は常温から100℃程度、ラミネートスピードは0.1
〜6m/分程度で行う。このような条件で光硬化状態の
アンダーコート剤は、硬質ロールを用いることで表面平
滑性を達成することができる。このとき内層回路(2)
と銅箔(5)との層間厚は層間絶縁接着剤の厚みで達成
することができる。このとき、アンダーコート剤(3)
の塗工、タックフリー化後の内層回路板(2)を予め加
熱処理しながら、層間絶縁接着剤層(4)付き銅箔をロ
ールラミネートした方が良い。 (C)次いで、加熱して同時一体硬化反応を行うことに
よりアンダーコート剤(3)と銅箔にコートされた層間
絶縁接着剤(4)とを一体成形した多層プリント配線板
(7)を形成することができる。
An outline of a method of applying an undercoat agent and laminating and curing a copper foil with an interlayer insulating adhesive to achieve the object of the present invention will be described with reference to FIG. (A) A liquid undercoating agent (3) is screen-printed on the inner layer circuit board (1), and one side of the inner layer circuit (2) is completely coated using a conventional coating equipment such as a roller coater or a curtain coater. Apply to the thickness to cover. If the embedding amount is insufficient, air will be entrained in the subsequent laminate. Then, it is made tack-free by irradiating active energy rays with a UV irradiation conveyor or the like. Next, the other surface of the inner circuit board (2) is coated with an undercoating agent (3) in the same manner. (B) A copper foil (5) with an interlayer insulating adhesive (4) is laminated on the surface. The laminator uses a roll (6) coated with a pair of silicon rubber or the like to achieve surface smoothness, and is laminated on both sides of the inner circuit board (2). Varies depending on the pattern of the inner layer circuit as a laminated condition, the degree pressure 0.5~6kgf / cm 2 ▲ ▼, surface temperature 100 ° C. of about from room temperature, the laminate speed 0.1
Perform at about 6 m / min. Under such conditions, the photocurable undercoat agent can achieve surface smoothness by using a hard roll. At this time, the inner layer circuit (2)
The interlayer thickness between the metal foil and the copper foil (5) can be achieved by the thickness of the interlayer insulating adhesive. At this time, the undercoat agent (3)
It is better to roll laminate a copper foil with an interlayer insulating adhesive layer (4) while preheating the inner layer circuit board (2) after coating and tack-free. (C) Next, a simultaneous integrated curing reaction is performed by heating to form a multilayer printed wiring board (7) in which an undercoat agent (3) and an interlayer insulating adhesive (4) coated on a copper foil are integrally formed. can do.

【0025】[0025]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。
「部」は重量部を表す。 《実施例1》臭素化フェノキシ樹脂(臭素化25%、重
量平均分子量60000)1000部とビスフェノール
F型エポキシ樹脂(エポキシ当量175、大日本インキ
化学工業(株)製エピクロン830)400部をMEK2
000部に撹拌しながら溶解し、そこへ硬化剤として2
−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダ
ゾール4部とシランカップリング剤(日本ユニカー(株)
製 A-187)20部を添加して層間絶縁接着剤ワニス
を作成した。このワニスを厚さ18μmの銅箔のアンカ
ー面に乾燥後の厚さが40μmとなるようにローラーコ
ーターにて塗布、乾燥し層間絶縁接着剤付き銅箔を作製
した。次に、臭素化フェノールノボラックエポキシ樹脂
(臭素化35%、エポキシ当量280、重量平均分子量
1400)100部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(エポキシ当量950、重量平均分子量1600)10
0部とビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量
175、大日本インキ化学工業(株)製エピクロン83
0)40部をメタクリル酸グリシジル80部及びヒドロ
キシエチルメタクリレート80部に溶解し、そこへ硬化
剤として、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシ
メチルイミダゾール4部及び1−シアノエチル−2−エ
チル−4−メチルイミダゾール8部と光重合開始剤(チ
バガイギー製イルガキュア651)10部を添加し、ホ
モミキサーにて十分撹拌してアンダーコート剤とした。
更に、基材厚 0.2mm、銅箔厚35μmの難燃性ガラ
スエポキシ両面銅張積層板をパターン加工して内層回路
板を得た。銅箔表面を黒化処理した後、上記アンダーコ
ート剤を内層回路板の一方の面にカーテンコーターによ
り厚さ約40μmに塗工した。その後、UVコンベア機
にて80W/cm高圧水銀灯2本で約2J/cm2 の条件
で紫外線照射し、活性エネルギー線照射によりタックフ
リー化したアンダーコート層を作成し、次いで内層回路
板の他方の面にも同様にしてアンダーコート層を作製し
た。その後、アンダーコート層を形成した内層回路板を
設定温度80℃の赤外線ヒーター炉中を約1分間で通過
させ、内層回路板の表面温度を60℃に加熱処理した。
その表面温度を保った状態で、アンダーコート層上に温
度100℃、圧力2kg/cm2、ラミネートスピード1.0
m/分の条件により、2本ロールを用いて上記層間絶縁
接着剤付き銅箔をラミネートし、150℃、30分間加
熱硬化させ多層プリント配線板を作製した。
The present invention will be described below with reference to examples.
"Parts" represents parts by weight. Example 1 1000 parts of a brominated phenoxy resin (25% brominated, weight average molecular weight: 60000) and 400 parts of a bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent: 175, Epicron 830 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) were added to MEK2.
Dissolve in 000 parts with stirring and add 2
-Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole (4 parts) and a silane coupling agent (Nihon Unicar Co., Ltd.)
A-187) 20 parts was added to prepare an interlayer insulating adhesive varnish. The varnish was applied to an anchor surface of a copper foil having a thickness of 18 μm by a roller coater so that the thickness after drying became 40 μm, and dried to prepare a copper foil with an interlayer insulating adhesive. Next, 100 parts of brominated phenol novolak epoxy resin (35% brominated, epoxy equivalent 280, weight average molecular weight 1400), 10 parts of bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 950, weight average molecular weight 1600) 10
0 parts and a bisphenol F type epoxy resin (epoxy equivalent: 175, Epicron 83 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)
0) 40 parts were dissolved in 80 parts of glycidyl methacrylate and 80 parts of hydroxyethyl methacrylate, and as a curing agent, 4 parts of 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole and 1 part of 1-cyanoethyl-2-ethyl- 8 parts of 4-methylimidazole and 10 parts of a photopolymerization initiator (Irgacure 651 manufactured by Ciba Geigy) were added, and sufficiently stirred with a homomixer to obtain an undercoat agent.
Further, a flame-retardant glass epoxy double-sided copper-clad laminate having a base material thickness of 0.2 mm and a copper foil thickness of 35 μm was patterned to obtain an inner circuit board. After the surface of the copper foil was blackened, the undercoat agent was applied to one surface of the inner circuit board to a thickness of about 40 μm using a curtain coater. Then, UV irradiation was performed using a UV conveyer machine with two 80 W / cm high-pressure mercury lamps under the condition of about 2 J / cm 2 , and a tack-free undercoat layer was formed by irradiation with active energy rays. An undercoat layer was similarly prepared on the surface. Thereafter, the inner circuit board on which the undercoat layer was formed was passed through an infrared heater furnace at a set temperature of 80 ° C. for about 1 minute, and the surface temperature of the inner circuit board was heated to 60 ° C.
With the surface temperature maintained, a temperature of 100 ° C., a pressure of 2 kg / cm 2 , and a laminating speed of 1.0 were applied on the undercoat layer.
The copper foil with the interlayer insulating adhesive was laminated using two rolls under the condition of m / min, and heated and cured at 150 ° C. for 30 minutes to produce a multilayer printed wiring board.

【0026】《実施例2》ラミネートスピードを3.0
m/分にした以外は実施例1と同様にして多層プリント
配線板を作製した。 《比較例1》ラミネート前の内層回路板の加熱処理を省
いた以外は実施例1と全く同様にして多層プリント配線
板を作製した。 《比較例2》ラミネート前の内層回路板の加熱処理を省
いた以外は実施例2と全く同様にして多層プリント配線
板を作製した。得られた多層プリント配線板は表1に示
すような特性を有している。
Example 2 The laminating speed was 3.0.
A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the speed was changed to m / min. << Comparative Example 1 >> A multilayer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 1 except that the heat treatment of the inner layer circuit board before lamination was omitted. << Comparative Example 2 >> A multilayer printed wiring board was produced in exactly the same manner as in Example 2 except that the heat treatment of the inner layer circuit board before lamination was omitted. The obtained multilayer printed wiring board has characteristics as shown in Table 1.

【0027】《試験方法》 ・内層回路板試験片:線間150μmピッチ、クリアラ
ンスホール2.54mmφ 1.表面平滑性:JIS B 0601 R(max) 2.吸湿半田耐熱試験 吸湿条件:プレッシャークッカー処理、125℃、2.
3気圧、30分間 試験条件:n=5で、全てが280℃、120秒間 膨れが無かったものを○とし、膨れたものを×とした。 3.埋込み性:外層銅箔を剥離後、内層回路への埋め込
み性を光学顕微鏡を用い目視によって判断した。完全に
埋め込まれているものを○とし、埋め込みが不完全なも
のを×とした。 4.層間絶縁層厚:多層プリント配線板を切断し、その
断面を光学顕微鏡で観察し、内層回路と表面銅箔との層
間絶縁層厚さを測定した。 5.成形ボイド残り:多層プリント配線板の表面を全部
エッチングし、ボイドの有無を目視により測定した。ボ
イド残りのないものを○、わずかにボイド残りのあるも
のを△とし、完全にボイドが認められたものを×とし
た。
<< Test Method >> ・ Inner circuit board test piece: 150 μm pitch between lines, 2.54 mmφ clearance hole 1. Surface smoothness: JIS B 0601 R (max) 1. Moisture absorption heat resistance test Moisture absorption conditions: pressure cooker treatment, 125 ° C,
Test conditions: 3 atm, 30 minutes Test conditions: n = 5, all were 280 ° C., 120 seconds No swelling was evaluated as ○, and swelled was evaluated as x. 3. Embedding property: After peeling the outer layer copper foil, the embedding property in the inner layer circuit was visually determined using an optical microscope. A sample that was completely embedded was evaluated as ○, and a sample that was incompletely embedded was evaluated as ×. 4. Interlayer insulation layer thickness: The multilayer printed wiring board was cut, and its cross section was observed with an optical microscope to measure the thickness of the interlayer insulation layer between the inner layer circuit and the surface copper foil. 5. Remaining molded voids: The entire surface of the multilayer printed wiring board was etched, and the presence or absence of voids was visually measured. A sample without voids was evaluated as ○, a sample with slight voids was evaluated as Δ, and a sample with completely voids was evaluated as ×.

【0028】 [0028]

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明の方法に従うと、熱硬化型絶縁接
着剤付き銅箔を熱ロール等でラミネートすることによ
り、内層回路に塗工後光硬化したアンダーコート剤が軟
化して表面が平滑化し、銅箔にコートされた熱硬化型絶
縁接着剤が厚さを維持しているため、内層銅箔残存率に
依存することなく板厚制御に優れた多層プリント配線板
を作製することができ、得られた多層プリント配線板は
耐熱性が良好で、かつ難燃性も優れている。多層プリン
ト配線板の製造が極めて容易となった。
According to the method of the present invention, by laminating a copper foil with a thermosetting insulating adhesive with a hot roll or the like, the photocured undercoat agent applied to the inner layer circuit is softened and the surface is smoothened. Since the thermosetting insulating adhesive coated on the copper foil maintains its thickness, it is possible to produce a multilayer printed wiring board with excellent thickness control without depending on the residual rate of the inner copper foil. The obtained multilayer printed wiring board has good heat resistance and excellent flame retardancy. The manufacture of a multilayer printed wiring board has become extremely easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の多層プリント配線板(一例)を作製
する工程を示す概略断面図
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a step of manufacturing a multilayer printed wiring board (one example) of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 内層回路板 2 内層回路 3 アンダーコート剤 4 層間絶縁接着剤 5 銅箔 6 硬質ロール 7 多層プリント配線板 REFERENCE SIGNS LIST 1 inner layer circuit board 2 inner layer circuit 3 undercoat agent 4 interlayer insulating adhesive 5 copper foil 6 hard roll 7 multilayer printed wiring board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09J 163/02 C09J 163/02 (72)発明者 新井 政貴 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C09J 163/02 C09J 163/02 (72) Inventor Masataka Arai 2-5-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 難燃性エポキシ樹脂含浸ガラスクロス基
板からなる内層回路板に光・熱硬化型アンダーコート剤
を塗工し、活性エネルギー線照射によりタックフリー化
させた後、層間絶縁接着剤層を有する銅箔をロールラミ
ネートし、次いで、加熱により一体硬化させる多層プリ
ント配線板の製造方法であって、層間絶縁接着剤層を有
する銅箔をロールラミネートする際、光・熱硬化型アン
ダーコート剤の塗工、タックフリー化後の内層回路板を
予め加熱し、続いてロールラミネート時に、加熱ロール
により、光・熱硬化型アンダーコート剤を軟化可能な温
度に、層間絶縁接着剤層を接着可能な温度に到達させる
ことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
1. An inner layer circuit board comprising a glass cloth substrate impregnated with a flame-retardant epoxy resin, coated with a light / thermosetting undercoat agent, and made tack-free by irradiating with active energy rays. A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising: laminating a copper foil having a layer, and then integrally curing by heating, wherein when the copper foil having an interlayer insulating adhesive layer is roll-laminated, a light / thermosetting undercoat agent is used. Pre-heats the inner layer circuit board after coating and tack-free, and then, at the time of roll lamination, it is possible to bond the interlayer insulating adhesive layer to a temperature at which the light / thermosetting undercoat agent can be softened by the heated roll. A method for producing a multilayer printed wiring board, characterized in that the temperature reaches a specific temperature.
【請求項2】 アンダーコート剤と層間絶縁接着剤層と
の接着部のロールラミネート時の温度が、70〜110
℃である請求項1記載の多層プリント配線板の製造方
法。
2. The temperature at the time of roll lamination of an adhesive portion between an undercoat agent and an interlayer insulating adhesive layer is 70 to 110.
The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the temperature is ° C.
【請求項3】 光・熱硬化型アンダーコート剤が、
(イ)臭素化率20%以上で、分子量500〜4000
のノボラック型エポキシ樹脂、(ロ)分子量500以下
のビスフェノール型エポキシ樹脂、(ハ)ヒドロキシエ
チルアクリレート又はヒドロキシエチルメタクリレー
ト、(ニ)多官能アクリレートモノマー又は多官能メタ
クリレートモノマー(ホ)光重合開始剤、(ヘ)融点が
130℃以上のイミダゾール化合物、及び(ト)低温硬
化型イミダゾール化合物からなり、層間絶縁接着剤が、
(チ)臭素化率20%以上及び重量平均分子量1000
0以上の臭素化ビスフェノール型エポキシ樹脂又は臭素
化フェノキシ樹脂、(リ)エポキシ当量500以下のビ
スフェノール型エポキシ樹脂、及び(ヌ)融点が130
℃以上のイミダゾール化合物からなる請求項1又は2記
載の多層プリント配線板の製造方法。
3. The light / thermosetting undercoat agent is:
(A) a bromination ratio of 20% or more and a molecular weight of 500 to 4000;
Novolak type epoxy resin, (b) bisphenol type epoxy resin having a molecular weight of 500 or less, (c) hydroxyethyl acrylate or hydroxyethyl methacrylate, (d) polyfunctional acrylate monomer or polyfunctional methacrylate monomer (e) photopolymerization initiator, F) an imidazole compound having a melting point of 130 ° C. or more, and (g) a low-temperature-curable imidazole compound,
(H) bromination ratio 20% or more and weight average molecular weight 1000
0 or more brominated bisphenol type epoxy resin or brominated phenoxy resin, (ii) a bisphenol type epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less, and (u) a melting point of 130
The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the method comprises an imidazole compound having a temperature of not lower than ℃.
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