JP2000104033A - Inter layer insulation adhesive for multi-layer printed wiring board and preparation of multi-layer printed- wiring board - Google Patents

Inter layer insulation adhesive for multi-layer printed wiring board and preparation of multi-layer printed- wiring board

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JP2000104033A
JP2000104033A JP27858898A JP27858898A JP2000104033A JP 2000104033 A JP2000104033 A JP 2000104033A JP 27858898 A JP27858898 A JP 27858898A JP 27858898 A JP27858898 A JP 27858898A JP 2000104033 A JP2000104033 A JP 2000104033A
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JP
Japan
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wiring board
printed wiring
insulating adhesive
film
multilayer printed
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Japanese (ja)
Inventor
Masao Kamisaka
政夫 上坂
Toshirou Komiyatani
壽郎 小宮谷
Masataka Arai
政貴 新井
Takeshi Hozumi
猛 八月朔日
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for preparing multi-layer printed wiring boards excellent in heat resistance, formability and surface smoothness without using an undercoating agent and with high productivity as well. SOLUTION: An inter layer insulation adhesive for a multi-layer printed wiring board comprises, as essential components, (a) an epoxy resin having an epoxy equivalent weight of not more than 500, (b) an epoxy resin curing agent, (c) a diluent composed of a monomer having a plurality of photo- functional groups and/or a polyfunctional monomer having a photo-functional group and a heat-functional group, (d) a photopolymerization initiator, and (e) an inorganic filler. An insulation adhesive film is obtained by coating this insulation adhesive on a carrier film. A method for preparing a multi-layer printed wiring board comprises the steps of laminating this insulation adhesive film on an inner circuit substrate; irradiating the laminated adhesive film with activation energy rays; and heat-curing the resulting film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は多層プリント配線板
用層間絶縁接着剤及びこれを用いた多層プリント板の製
造方法に関し、アンダーコート剤を用いることなく、耐
熱性、成形性、表面平滑性にすぐれ、かつ、生産性の高
い多層プリント板の製造方法を提供するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board and a method for manufacturing a multilayer printed board using the same, and to provide heat resistance, moldability and surface smoothness without using an undercoat agent. An object of the present invention is to provide a method for producing a multilayer printed board which is excellent and has high productivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、多層プリント配線板を製造する場
合、回路が形成された内層回路基板上に、ガラスクロス
基材にエポキシ樹脂を含浸して半硬化させたプリプレグ
シートを1枚以上重ね、更にその上に銅箔を重ね熱板プ
レスにて加圧一体成形するという工程を経ている。しか
し、この工程ではプリプレグ中の含浸樹脂を熱により再
流動させ一定圧力下で硬化させるため、均一に硬化成形
させるためには1〜1.5時間は必要である。このよう
に製造工程が長くかかる上に、多層化成形のためのプレ
ス装置及びガラスクロスプリプレグのコスト等により、
多層プリント配線板は高コストとなっている。加えてガ
ラスクロスに樹脂を含浸させる方法のため、回路層間の
厚みがガラスクロスにより制限され多層プリント配線板
全体の極薄化も困難であった。近年、これらの問題を解
決するため、熱板プレスによる加熱加圧成形を行わず、
層間絶縁材料にガラスクロスを用いない、ビルドアップ
方式による多層プリント配線板の技術が改めて注目され
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, when manufacturing a multilayer printed wiring board, one or more prepreg sheets obtained by impregnating a glass cloth base material with an epoxy resin and semi-curing are laminated on an inner circuit board on which a circuit is formed. Further, a process of laminating a copper foil thereon and press-molding the same with a hot plate press is performed. However, in this step, since the impregnated resin in the prepreg is reflowed by heat and cured under a constant pressure, it takes 1 to 1.5 hours to uniformly cure and mold. In addition to the long manufacturing process, the cost of the press and glass cloth prepreg for multi-layer molding, etc.
Multilayer printed wiring boards are expensive. In addition, due to the method of impregnating the glass cloth with the resin, the thickness between the circuit layers is limited by the glass cloth, and it has been difficult to make the entire multilayer printed wiring board extremely thin. In recent years, in order to solve these problems, without performing hot press molding by hot plate press,
The technique of a multilayer printed wiring board by a build-up method that does not use glass cloth as an interlayer insulating material has been attracting attention again.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記熱板
プレスで成形する方法に対して、簡素化されたビルドア
ップ方式により多層プリント配線板を低コストで製造す
る方法を種々検討している。ビルドアップ方式による多
層プリント配線板において、フィルム状の層間絶縁樹脂
を用いた場合、内層回路板の絶縁基板と回路との段差を
無くし、平滑性、成形性を良くするために、内層回路板
にアンダーコート剤を塗布することが一般化してきた。
この方法では、内層回路板に塗布されたアンダーコート
剤が未硬化あるいは半硬化の状態において、層間絶縁接
着剤をコートしたフィルムをラミネートし、一体硬化す
ることにより多層プリント配線板が得られる。このよう
なプロセスにおいては、アンダーコート剤を内層回路板
に塗布するという工程が律速である。またアンダーコー
ト剤を均一に塗布できない、アンダーコート剤の硬化反
応が進行すると、塗布された内層回路板にフィルム状層
間絶縁接着剤をラミネートしたのち一体硬化が良好に行
われない、等の問題が生じている。また従来の層間絶縁
接着剤に関する技術、例えば、特開平7−245480
号公報、特開平8−111585号公報等では、多層プ
リント配線板の高密度化に伴う層間絶縁接着剤に要求さ
れる耐熱性を十分に満足するものではない。本発明は、
かかる問題を改善するために種々検討し、完成されたも
のである。
The present inventor has studied various methods for manufacturing a multilayer printed wiring board at a low cost by a simplified build-up method, in contrast to the above-described method of forming by a hot plate press. I have. When using a film-shaped interlayer insulating resin in a multilayer printed wiring board by the build-up method, in order to eliminate the step between the insulating substrate and the circuit of the inner circuit board and improve smoothness and moldability, It has become common to apply an undercoat agent.
According to this method, a multilayer printed wiring board is obtained by laminating a film coated with an interlayer insulating adhesive in an uncured or semi-cured state of the undercoat agent applied to the inner circuit board and integrally curing the film. In such a process, the step of applying the undercoat agent to the inner circuit board is rate-limiting. Also, the undercoat agent cannot be applied uniformly, and if the curing reaction of the undercoat agent progresses, the film-like interlayer insulating adhesive is laminated on the applied inner circuit board, and then the integral curing is not performed well. Has occurred. Also, a technique relating to a conventional interlayer insulating adhesive, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-245480.
In JP-A-8-111585 and the like, the heat resistance required for the interlayer insulating adhesive accompanying the densification of the multilayer printed wiring board is not sufficiently satisfied. The present invention
Various studies have been made to improve such a problem, and the invention has been completed.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、下記の各成分
を必須成分として含有することを特徴とする多層プリン
ト配線板用層間絶縁接着剤に関するものである。 (イ)エポキシ当量500以下のエポキシ樹脂、(ロ)
エポキシ樹脂硬化剤、(ハ)複数の光官能基を有するモ
ノマー及び又は光官能基と熱官能基を有する多官能モノ
マーからなる希釈剤、(ニ)光重合開始剤、及び(ホ)
無機フィラー。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to an interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board, comprising the following components as essential components. (A) an epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less, (b)
Epoxy resin curing agent, (c) a diluent comprising a monomer having a plurality of photofunctional groups and / or a polyfunctional monomer having a photofunctional group and a thermal functional group, (d) a photopolymerization initiator, and (e)
Inorganic filler.

【0005】本発明において、(イ)成分のエポキシ当
量500以下のエポキシ樹脂としては、ビスフェノール
型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロ
ペンタジエン型エポキシ樹脂、アミノフェノール型エポ
キシ樹脂、及び脂環式エポキシ樹脂等がある。エポキシ
当量500を越えるエポキシ樹脂では、架橋点間の分子
量が大きくなり十分な熱特性、特にガラス転移温度を得
ることができない。
In the present invention, the epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less as the component (a) includes bisphenol epoxy resin, novolak epoxy resin, dicyclopentadiene epoxy resin, aminophenol epoxy resin, and alicyclic epoxy resin. There are resins and the like. If the epoxy resin has an epoxy equivalent of more than 500, the molecular weight between the cross-linking points becomes large, and sufficient thermal properties, particularly, glass transition temperature cannot be obtained.

【0006】次に、(ロ)成分のエポキシ樹脂硬化剤は
レゾール型又はノボラック型フェノール系樹脂、アミン
化合物、イミダゾール化合物、酸無水物などであり、特
に限定されるものではない。具体的には、イミダゾール
化合物では、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイ
ミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、
ビス(2−エチル−4−メチル−イミダゾール)、2−
フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾ
ール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミ
ダゾール、あるいはトリアジン付加型イミダゾール等が
ある。酸無水物としては、無水フタル酸、無水テトラヒ
ドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水
メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチ
ルブテニルテトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフ
タル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、無水ヘキサ
ヒドロフタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリッ
ト酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等がある。
その他、三フッ化ホウ素のアミン錯体、ジシアンジアミ
ド又はその誘導体などが挙げられ、これらをエポキシア
ダクト化したものやマイクロカプセル化したものも使用
できる。
Next, the epoxy resin curing agent (b) is a resol type or novolak type phenolic resin, an amine compound, an imidazole compound, an acid anhydride and the like, and is not particularly limited. Specifically, in the imidazole compound, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole,
Bis (2-ethyl-4-methyl-imidazole), 2-
Examples include phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, and triazine-added imidazole. Examples of the acid anhydride include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylbutenyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, Examples include hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, and benzophenonetetracarboxylic anhydride.
Other examples include an amine complex of boron trifluoride, dicyandiamide or a derivative thereof, and epoxy adduct or microencapsulated of these can also be used.

【0007】上記エポキシ樹脂及び硬化剤の他に、エポ
キシ樹脂や硬化剤と反応する成分を配合することができ
る。例えば、エポキシ反応性希釈剤(一官能型としてフ
ェニルグリシジルエーテルなど、二官能型としてレゾル
シンジグリシジルエーテル、エチレングリコールグリシ
ジルエーテルなど、三官能型としてグリセロールトリグ
リシジルエーテルなど)、イソシアネート化合物などで
ある。
[0007] In addition to the epoxy resin and the curing agent, a component that reacts with the epoxy resin and the curing agent can be blended. For example, epoxy-reactive diluents (such as phenylglycidyl ether as a monofunctional type, resorcin diglycidyl ether and ethylene glycol glycidyl ether as a bifunctional type, and glycerol triglycidyl ether as a trifunctional type), isocyanate compounds, and the like.

【0008】(ハ)複数の光官能基を有するモノマー及
び又は光官能基と熱官能基を有する多官能モノマーから
なる希釈剤としては、代表的には、1分子中に少なくと
も2個以上のアクリロイル基又はメタクリロイル基を有
する化合物が挙げられる。例えば、エチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジ
メタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレー
ト、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート
等である。好ましいモノマーとしては、光硬化後の耐熱
性のよい3〜4官能のトリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレートである。さらに
は、熱硬化後の耐薬品性を向上させるためには、カルボ
キシル基やフェノール性水酸基と反応可能なグリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレートが使用でき
る。
(C) As a diluent composed of a monomer having a plurality of photofunctional groups and / or a polyfunctional monomer having a photofunctional group and a thermal functional group, typically at least two or more acryloyl per molecule. And a compound having a methacryloyl group. For example, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,3
-Butanediol diacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, glycerol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, bisphenol A diacrylate, etc. . Preferred monomers include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and pentaerythritol tetraacrylate, which have good heat resistance after photocuring. Furthermore, glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate that can react with a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group can be used to improve the chemical resistance after heat curing.

【0009】これら光官能基を有するモノマーの役割
は、後工程である熱硬化時に樹脂の流動及び軟化を防ぐ
ものである。これら樹脂の流動及び軟化は絶縁層厚の変
化及び表面平滑性を損なわせる原因となる。上記目的を
達成するために(ハ)成分は(イ)、(ロ)及び(ハ)
の合計重量の5%から50%であることが好ましい。5
%未満では熱硬化時に樹脂の流動及び軟化を防ぐ作用が
小さくなる。また、50%以上では接着剤塗布後のべた
付きが大きく、またキャリアフィルムに塗布してフィル
ム化することが困難である。
The role of the monomer having a photofunctional group is to prevent the resin from flowing and softening at the time of heat curing in a later step. The flow and softening of these resins cause a change in the thickness of the insulating layer and impair the surface smoothness. In order to achieve the above object, the component (c) is (a), (b) and (c)
Is preferably 5% to 50% of the total weight of 5
%, The effect of preventing the resin from flowing and softening during thermosetting becomes small. On the other hand, if it is 50% or more, stickiness after application of the adhesive is large, and it is difficult to apply it to a carrier film to form a film.

【0010】(ニ)光重合開始剤としては、ベンゾフェ
ノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノ
ン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン
類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタ
ールなどのベンゾインアルキルエーテル類、4−フェノ
キシジクロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロ
ロアセトフェノン、4−t−ブチル−トリクロロアセト
フェノン、ジエトキシアセトフェノンなどのアセトフェ
ノン類、チオキサンソン、2-クロルチオキサンソン、2
−メチルチオキサンソン、2,4−ジメチルチオキサン
ソンなどのチオキサンソン類、エチルアントラキノン、
ブチルアントラキノンなどのアルキルアントラキノン類
などを挙げることができる。これらは単独、あるいは2
種以上の混合物として用いられる。この光重合開始剤の
添加量は、通常(イ)、(ロ)及び(ハ)の合計量の
0.1〜10重量%の範囲で用いられる。
(D) Examples of photopolymerization initiators include benzophenones such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone and hydroxybenzophenone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether,
Benzoin alkyl ethers such as benzoin isobutyl ether and benzyl dimethyl ketal, acetophenones such as 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, and diethoxyacetophenone; thioxanthone; Chlorthioxanthone, 2
Thioxanthones such as -methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, ethylanthraquinone,
Alkyl anthraquinones such as butyl anthraquinone and the like can be mentioned. These can be used alone or 2
Used as a mixture of more than one species. The addition amount of this photopolymerization initiator is usually the sum of (a), (b) and (c).
It is used in the range of 0.1 to 10% by weight.

【0011】上記成分の他に、線膨張率、耐熱性、耐燃
性などの向上のために、(ホ)無機フィラーを配合す
る。無機フィラーとしては、溶融シリカ、結晶性シリ
カ、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、
クレー、硫酸バリウム、マイカ、タルク、ホワイトカー
ボン、金属酸化物、Eガラス微粉末などがある。無機フ
ィラーに加えて、有機フィラーを配合することもでき
る。かかる有機フィラーとしては、エポキシ樹脂及びフ
ェノール樹脂の硬化物、粉末状のアクリロニトリルブタ
ジエンゴム等がある。これらのフィラーは樹脂分に対し
て40重量%以下配合しても良い。40重量%より多く
配合すると、接着剤の粘性が高くなり、内層回路板の回
路間への埋込性が低下するようになる。
In addition to the above components, (e) an inorganic filler is blended for improving the coefficient of linear expansion, heat resistance, flame resistance and the like. As the inorganic filler, fused silica, crystalline silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, alumina,
Clay, barium sulfate, mica, talc, white carbon, metal oxide, E-glass fine powder, and the like. An organic filler can be blended in addition to the inorganic filler. Examples of the organic filler include a cured product of an epoxy resin and a phenol resin, and acrylonitrile butadiene rubber in a powder form. These fillers may be blended in an amount of 40% by weight or less based on the resin component. If the content is more than 40% by weight, the viscosity of the adhesive becomes high, and the embedding property between the circuits of the inner circuit board is reduced.

【0012】さらに、内層銅回路や内層回路板との密着
力を高めたり、耐湿性を向上させるためにエポキシシラ
ン等のシランカップリング剤あるいはチタネート系カッ
プリング剤、ボイドを防ぐための消泡剤、あるいは液状
又は微粉末タイプの難燃剤の添加も可能である。溶剤と
しては、接着剤をキャリアフィルムに塗布し乾燥した後
において、接着剤中に実質的に残らないものを選択しな
ければならない。例えば、アセトン、メチルエチルケト
ン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、
エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、シ
クロヘキサノン、ジメチルフォルムアミドなどが用いら
れる。
Further, a silane coupling agent such as epoxysilane or a titanate coupling agent for improving adhesion to an inner copper circuit or an inner circuit board or improving moisture resistance, and a defoaming agent for preventing voids. It is also possible to add a flame retardant of the liquid or fine powder type. As the solvent, one that does not substantially remain in the adhesive after the adhesive is applied to the carrier film and dried must be selected. For example, acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, n-hexane, methanol,
Ethanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, cyclohexanone, dimethylformamide and the like are used.

【0013】次に、層間絶縁接着剤付きフィルムは、接
着剤組成物を溶剤に溶解した接着剤ワニスをキャリアフ
ィルムに塗工後、接着剤中に溶剤が残らないよう80〜
130℃の温度で乾燥して作製する。その接着剤層の厚
みは15〜120μmが好ましい。15μmより薄いと
層間絶縁性が不十分となることがあり、120μmより
厚いと層間絶縁性は問題ないが、作製が容易でなく、ま
た多層プリント配線板の厚みを薄くするという本発明の
目的に合わなくなる。この層間絶縁接着剤付きフィルム
は、ドライフィルムラミネーター或いは真空ラミネータ
ー等のラミネーターにより内層回路板にラミネートされ
る。最近、高密度配線化によりビルドアップも多段化さ
れており、ブラインドビアホールの埋め込みも必要とな
ってくる。従って非常に高密度な多層プリント配線板及
び多段化多層プリント配線板に関しては真空ラミネータ
ーを用いることが望ましい。
Next, the film with an interlayer insulating adhesive is coated with an adhesive varnish obtained by dissolving an adhesive composition in a solvent onto a carrier film, and then coated with a solvent so that no solvent remains in the adhesive.
It is manufactured by drying at a temperature of 130 ° C. The thickness of the adhesive layer is preferably from 15 to 120 μm. If the thickness is less than 15 μm, the interlayer insulating property may be insufficient. If the thickness is more than 120 μm, there is no problem with the interlayer insulating property. However, it is not easy to manufacture, and the object of the present invention is to reduce the thickness of the multilayer printed wiring board. Will not fit. The film with the interlayer insulating adhesive is laminated on the inner circuit board by a laminator such as a dry film laminator or a vacuum laminator. Recently, the number of stages of build-up has been increased due to high-density wiring, and it is necessary to fill blind via holes. Therefore, it is desirable to use a vacuum laminator for very high-density multilayer printed wiring boards and multi-stage multilayer printed wiring boards.

【0014】また、アンダーコート剤を用いずに内層回
路を埋め込むためにラミネート時に接着剤の粘度が1,
000〜10,000poise であることが必要となって
くる。1,000poiseよりも低粘度であるとラミネート
時の樹脂フローが大きく絶縁層厚の確保が難しくなり、
また、流出した樹脂により設備を汚す恐れがある。1
0,000poise よりも高粘度であるとラミネート時の
樹脂フローが小さすぎて成形不良が発生し、絶縁性、半
田耐熱性の低下及び歩留まり低下の原因にもなる。
Further, in order to embed an inner layer circuit without using an undercoat agent, the viscosity of the adhesive during lamination is 1, 1,
It is necessary to be between 10,000 and 10,000 poise. If the viscosity is lower than 1,000 poise, the resin flow during lamination is large and it is difficult to secure the thickness of the insulating layer.
In addition, there is a possibility that the equipment may be stained by the resin that has flowed out. 1
If the viscosity is higher than 000 poise, the resin flow at the time of lamination is too small and molding failure occurs, which also causes a decrease in insulation, solder heat resistance and a decrease in yield.

【0015】この層間絶縁接着剤付きフィルムはアンダ
ーコート剤を用いずに内層回路板に接着するため、その
ままでは内層回路板の回路と絶縁基板との高さの違いの
影響を受けて表面の平滑性に欠ける。そこで、層間絶縁
接着剤フィルムを内層回路基板上にラミネートした後、
光照射及び熱硬化の前に加温することにより、表面の平
滑化及び絶縁層厚みの均一化を行うことができる。即
ち、キャリアフィルム上の層間絶縁接着剤の粘度が1,
000〜10,000poise となり、キャリアフィルム
の張力が損なわれない温度に加温することにより、接着
剤のフィルム塗工時及びラミネート時からキャリアフィ
ルムが保持している張力と接着剤の軟化を利用して、表
面平滑性及び均一な絶縁層厚みを確保することができ
る。この加温する温度は、好ましくは層間絶縁接着剤が
10,000poiseとなる温度以上で、キャリアフィルム
のガラス転移温度+20℃以下の温度である。
Since the film with an interlayer insulating adhesive is adhered to the inner circuit board without using an undercoat agent, the surface of the film as it is is affected by the difference in height between the circuit of the inner circuit board and the insulating substrate. Lack of sex. Therefore, after laminating the interlayer insulating adhesive film on the inner circuit board,
By heating before light irradiation and thermal curing, the surface can be smoothed and the thickness of the insulating layer can be made uniform. That is, the viscosity of the interlayer insulating adhesive on the carrier film is 1,
By heating to a temperature at which the tension of the carrier film is not impaired, the tension of the carrier film and the softening of the adhesive from the time of coating and laminating the adhesive are utilized. As a result, surface smoothness and uniform thickness of the insulating layer can be ensured. The heating temperature is preferably not lower than the temperature at which the interlayer insulating adhesive becomes 10,000 poise and not higher than the glass transition temperature of the carrier film + 20 ° C.

【0016】次いで、ラミネートされた層間絶縁接着剤
は活性エネルギー線照射され、その後熱硬化させる。ラ
ミネート後、活性エネルギー線照射せずに熱硬化を行う
と、加熱により樹脂が低粘度になり流動化して、表面平
滑性及び均一な絶縁層厚が損なわれる。そこで、熱硬化
前に紫外線等の活性エネルギー線照射により光官能基を
有するモノマーの重合を行い、熱硬化時の樹脂流動化及
び軟化を抑えることができる。
Next, the laminated interlayer insulating adhesive is irradiated with active energy rays, and then thermally cured. When heat curing is performed without irradiation with active energy rays after lamination, the resin becomes low in viscosity and fluidized by heating, and the surface smoothness and the uniform thickness of the insulating layer are impaired. Therefore, the monomer having a photofunctional group is polymerized by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays before thermal curing, so that fluidization and softening of the resin during thermal curing can be suppressed.

【0017】多層プリント配線板の表面導体回路の形成
法としては、活性エネルギー線照射により光重合を行
い、絶縁接着剤上に更に樹脂付き銅箔をラミネートし熱
硬化を行った後エッチングにより導体回路を形成する方
法;上記ラミネートし熱硬化後銅箔を全て除去し、銅箔
の粗化形状が転写された樹脂表面を利用して、下記と同
様の方法にてめっきを行って導体回路を形成する方法;
前記絶縁接着剤の硬化後に過マンガン酸により樹脂表面
を粗化し、パラジウム等の触媒を付けた後、化学銅めっ
きのみにより、或いは化学銅めっきした後に電気銅めっ
きを行い、エッチングにより導体回路を形成する方法等
がある。また、めっき法であれば、レーザー等によりビ
アホールを形成し、下層との導体形成も行える。何れの
方法を用いても、本発明の層間絶縁接着剤を用いて作成
したプリント回路板は表面平滑性に優れるため、ビルド
アップ工程(ラミネート・一体硬化工程と回路形成工
程)を繰り返すことにより表面平滑で且つ極薄の多層プ
リント配線板を得ることができる。
As a method for forming a surface conductor circuit of a multilayer printed wiring board, photopolymerization is performed by irradiating active energy rays, a copper foil with a resin is further laminated on an insulating adhesive, heat curing is performed, and then the conductor circuit is etched. A method of forming a conductive circuit by laminating and thermally curing the above, removing all of the copper foil, and using the resin surface onto which the roughened shape of the copper foil has been transferred, in the same manner as described below to form a conductive circuit how to;
After curing of the insulating adhesive, the surface of the resin is roughened by permanganic acid, and after applying a catalyst such as palladium, only by chemical copper plating, or electrolytic copper plating after chemical copper plating, and a conductor circuit is formed by etching. There is a method to do. In the case of plating, a via hole is formed by a laser or the like, and a conductor can be formed with a lower layer. Regardless of which method is used, the printed circuit board prepared using the interlayer insulating adhesive of the present invention has excellent surface smoothness. Therefore, the surface is obtained by repeating the build-up process (lamination / integral curing process and circuit forming process). A smooth and extremely thin multilayer printed wiring board can be obtained.

【0018】[0018]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on embodiments.

【0019】<実施例1>固形ノボラック型エポキシ樹
脂(エポキシ当量190)20重量%、液状ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量190)15重量
%、固形ノボラック型フェノール樹脂(水酸基当量11
0)20重量%、硬化促進剤として2−フェニル−4−
メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール1%重量
部、ペンタエリスリトールテトラアクリレート20重量
%、光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール4重
量%、水酸化アルミニウム20重量%を配合成分とする
層間絶縁接着剤を作製した。キャリアフィルムをPET
フィルム(ガラス転移温度:80℃)とし、これに前記
接着剤を乾燥後の厚みが70μmとなるようにローラー
コーターにて塗布し、80℃で10分間乾燥して層間絶
縁接着剤付きフィルムを作製した。この層間絶縁接着剤
フィルムの80℃での粘度は2300poise であった。
Example 1 20% by weight of solid novolak type epoxy resin (epoxy equivalent 190), 15% by weight of liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 190), solid novolak type phenol resin (hydroxyl equivalent 11
0) 20% by weight, 2-phenyl-4- as a curing accelerator
An interlayer insulating adhesive containing 1% by weight of methyl-5-hydroxymethylimidazole, 20% by weight of pentaerythritol tetraacrylate, 4% by weight of benzyldimethyl ketal as a photopolymerization initiator, and 20% by weight of aluminum hydroxide was prepared. . PET carrier film
A film (glass transition temperature: 80 ° C.), the adhesive was applied to the film by a roller coater so that the thickness after drying was 70 μm, and dried at 80 ° C. for 10 minutes to produce a film with an interlayer insulating adhesive. did. The viscosity at 80 ° C. of this interlayer insulating adhesive film was 2,300 poise.

【0020】以下、図1に示す工程にて多層プリント配
線板を作製した。絶縁基板(1)上に35μm厚の回路
銅箔(2)を有する内層回路板を使用した(a)。この
内層回路板上に前記層間絶縁接着剤(3)付きフィルム
(4)を、温度60℃、圧力4Kg/cm2 、ラミネー
トスピード2m/分の条件より、硬質ロールを用い真空
ラミネート装置にてラミネートした(b)。この絶縁樹
脂フィルムを80℃で5分間の加温処理を行い、表面を
平滑化した(c)。紫外線を1J/cm2 照射した後、
キャリアフィルムを引き剥がし、150℃で1時間加熱
硬化を行った。次いで、定法により、アディティブめっ
き法による銅箔回路を形成し、多層プリント配線板を作
製した(d)。
Hereinafter, a multilayer printed wiring board was manufactured by the steps shown in FIG. An inner circuit board having a 35 μm thick circuit copper foil (2) on an insulating substrate (1) was used (a). The film (4) with the interlayer insulating adhesive (3) is laminated on the inner circuit board with a vacuum roll using a hard roll at a temperature of 60 ° C., a pressure of 4 kg / cm 2 , and a laminating speed of 2 m / min. (B). This insulating resin film was heated at 80 ° C. for 5 minutes to smooth the surface (c). After irradiating with ultraviolet rays at 1 J / cm 2 ,
The carrier film was peeled off and cured by heating at 150 ° C. for 1 hour. Next, a copper foil circuit was formed by an additive plating method by a standard method, and a multilayer printed wiring board was manufactured (d).

【0021】<実施例2>層間絶縁接着剤の配合組成
を、固形ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量19
0)20重量%、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(エポキシ当量190)15重量%、固形ノボラック型
フェノール樹脂(水酸基当量110)20重量%、硬化
促進剤として2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキ
シメチルイミダゾール1%重量部、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート10重量%、光重合開始剤として
ベンジルジメチルケタール4重量%、水酸化アルミニウ
ム30重量%に変更し、実施例1と同様にして層間絶縁
接着剤付きフィルムを作製した。この層間絶縁接着剤フ
ィルムの80℃での粘度は4500poise であった。以
下、実施例1と同様にして多層プリント配線板を作製し
た。
<Example 2> The composition of the interlayer insulating adhesive was changed to a solid novolak type epoxy resin (epoxy equivalent: 19).
0) 20% by weight, 15% by weight of liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 190), 20% by weight of solid novolak type phenol resin (hydroxyl equivalent 110), 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxy as a curing accelerator 1% by weight of methyl imidazole, 10% by weight of pentaerythritol tetraacrylate, 4% by weight of benzyl dimethyl ketal as a photopolymerization initiator, and 30% by weight of aluminum hydroxide. Was prepared. The viscosity at 80 ° C. of the interlayer insulating adhesive film was 4,500 poise. Hereinafter, a multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1.

【0022】<実施例3>層間絶縁接着剤の配合組成
を、固形ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量19
0)30重量%、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(エポキシ当量190)5重量%、無水メチルエンドメ
チレンテトラヒドロフタル酸(カルボン酸基当量90)
15重量%、硬化促進剤として2−フェニル−4−メチ
ル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール1%重量部、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート24重量%、光
重合開始剤としてベンジルジメチルケタール5重量%、
水酸化アルミニウム20重量%に変更し、実施例1と同
様にして層間絶縁接着剤付きフィルムを作製した。この
層間絶縁接着剤フィルムの80℃での粘度は1800po
ise であった。以下、実施例1と同様にして多層プリン
ト配線板を作製した。
Example 3 The composition of the interlayer insulating adhesive was changed to a solid novolak type epoxy resin (epoxy equivalent: 19).
0) 30% by weight, liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 190) 5% by weight, methyl endmethylene tetrahydrophthalic anhydride (carboxylic acid group equivalent 90)
15% by weight, 1% by weight of 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole as a curing accelerator, 24% by weight of pentaerythritol tetraacrylate, 5% by weight of benzyldimethyl ketal as a photopolymerization initiator,
A film with an interlayer insulating adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 20% by weight of aluminum hydroxide. The viscosity at 80 ° C. of this interlayer insulating adhesive film is 1800 po.
ise. Hereinafter, a multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1.

【0023】<実施例4>層間絶縁接着剤の配合組成
を、固形ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量19
0)25重量%、アミノフェノール型エポキシ樹脂(エ
ポキシ当量107)5重量%、無水メチルエンドメチレ
ンテトラヒドロフタル酸(カルボン酸基当量90)15
重量%、硬化促進剤として2−フェニル−4−メチル−
5−ヒドロキシメチルイミダゾール1%重量部、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレート24重量%、光重合
開始剤としてベンジルジメチルケタール5重量%、水酸
化アルミニウム25重量%に変更し、実施例1と同様に
して層間絶縁接着剤付きフィルムを作製した。この層間
絶縁接着剤フィルムの80℃での粘度は1200poise
であった。以下、実施例1と同様にして多層プリント配
線板を作製した。
Example 4 The composition of the interlayer insulating adhesive was changed to a solid novolak type epoxy resin (epoxy equivalent: 19).
0) 25% by weight, 5% by weight of an aminophenol type epoxy resin (epoxy equivalent: 107), 15 methylendmethylenetetrahydrophthalic anhydride (carboxylic acid group equivalent: 90) 15
% By weight, 2-phenyl-4-methyl- as a curing accelerator
5% by weight of 5-hydroxymethylimidazole, 24% by weight of pentaerythritol tetraacrylate, 5% by weight of benzyl dimethyl ketal as a photopolymerization initiator, and 25% by weight of aluminum hydroxide. A film with an agent was prepared. The viscosity at 80 ° C. of this interlayer insulating adhesive film is 1200 poise
Met. Hereinafter, a multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1.

【0024】<比較例1>層間絶縁接着剤の配合組成
を、固形ノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量19
0)30重量%、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(エポキシ当量190)15重量%、固形ノボラック型
フェノール樹脂(水酸基当量110)30重量%、硬化
促進剤として2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキ
シメチルイミダゾール1%重量部、水酸化アルミニウム
19%に変更し、実施例1と同様にして層間絶縁接着剤
付きフィルムを作製した。この層間絶縁接着剤フィルム
の80℃での粘度は2500poise であった。以下、紫
外線照射を行わないこと以外は実施例1と同様にして多
層プリント配線板を作製した。
Comparative Example 1 A solid novolak-type epoxy resin (epoxy equivalent 19
0) 30% by weight, liquid bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 190) 15% by weight, solid novolak type phenol resin (hydroxyl equivalent 110) 30% by weight, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxy as a curing accelerator A film with an interlayer insulating adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of methyl imidazole was changed to 1% by weight and aluminum hydroxide was changed to 19%. The viscosity at 80 ° C. of this interlayer insulating adhesive film was 2500 poise. Hereinafter, a multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that ultraviolet irradiation was not performed.

【0025】<比較例2>層間絶縁接着剤の配合組成
を、固形長鎖ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキ
シ当量15000)50重量%、液状ビスフェノールA
型エポキシ樹脂(エポキシ当量190)5重量%、固形
ノボラック型フェノール樹脂(水酸基当量110)4重
量%、硬化促進剤として2−フェニル−4−メチル−5
−ヒドロキシメチルイミダゾール1%重量部、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート15重量%、光重合開
始剤としてベンジルジメチルケタール5重量%、水酸化
アルミニウム20重量%及び溶剤(シクロヘキサノン)
に変更し、実施例1と同様にして層間絶縁接着剤付きフ
ィルムを作製した。この層間絶縁接着剤フィルムの80
℃での粘度は28000poise であった。以下、実施例
1と同様にして多層プリント配線板を作製した。
Comparative Example 2 The composition of the interlayer insulating adhesive was 50% by weight of a solid long-chain bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 15000) and liquid bisphenol A
Type epoxy resin (epoxy equivalent 190) 5% by weight, solid novolak type phenol resin (hydroxyl equivalent 110) 4% by weight, 2-phenyl-4-methyl-5 as a curing accelerator
1% by weight of hydroxymethylimidazole, 15% by weight of pentaerythritol tetraacrylate, 5% by weight of benzyldimethyl ketal as a photopolymerization initiator, 20% by weight of aluminum hydroxide and a solvent (cyclohexanone)
And a film with an interlayer insulating adhesive was produced in the same manner as in Example 1. 80 of this interlayer insulating adhesive film
C. The viscosity at 2.degree. C. was 28,000 poise. Hereinafter, a multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1.

【0026】得られた多層プリント配線板について、表
面平滑性、ガラス転移温度を測定し、表1に示す結果を
得た。
The surface smoothness and glass transition temperature of the obtained multilayer printed wiring board were measured, and the results shown in Table 1 were obtained.

【0027】 [0027]

【0028】(測定方法) 内層回路板試験片:線間1.5mm、内層銅厚35μm 1.表面平滑性:JIS B 0601 R(max) 2.動的粘弾性測定の損失正接による。(Measurement method) Inner layer circuit board test piece: 1.5 mm between lines, inner layer copper thickness 35 μm 1. Surface smoothness: JIS B 0601 R (max) Based on the loss tangent of the dynamic viscoelasticity measurement.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明の多層プリント配線板用層間絶縁
接着剤は、活性エネルギー線照射により重合して次の加
熱硬化時の流動性を小さく又は殆どなくするので、加熱
硬化後の表面平滑性が優れている。更には、キャリアフ
ィルムに塗布した層間絶縁接着剤付きフィルムとして内
層回路板にラミネートし多層プリント配線板を製造する
場合、内層回路板にアンダーコート剤を用いなくとも、
絶縁接着剤付きフィルムをラミネートした後、キャリア
フィルムが表面をカバーした状態で加温処理を施すこと
により、表面平滑な多層プリント配線板を効率よく得る
ことができ、更に複数回のビルドアップ工程(ラミネー
ト・一体硬化工程と回路形成工程)を行ってもその平滑
性は維持され、ビルドアップによる多層プリント配線板
を効率よく得ることができる。更に、表面が平滑であ
り、そのために均一な絶縁層厚みを確保することができ
るので、表面回路形成時、表面研磨の必要性がなくな
り、かつ、回路層間のインピーダンス制御が可能とな
る。また、表面の平滑化により、表面実装を確実に行う
ことができる。
The interlayer insulating adhesive for multilayer printed wiring boards of the present invention is polymerized by irradiation with active energy rays to reduce or almost eliminate the fluidity during the next heat curing, so that the surface smoothness after heat curing is obtained. Is better. Furthermore, when manufacturing a multilayer printed wiring board by laminating on an inner circuit board as a film with an interlayer insulating adhesive applied to a carrier film, without using an undercoat agent on the inner circuit board,
After laminating the film with the insulating adhesive, a heating treatment is performed with the carrier film covering the surface, so that a multilayer printed wiring board having a smooth surface can be efficiently obtained, and furthermore, a plurality of build-up steps ( Even if the laminating / integral curing step and the circuit forming step are performed, the smoothness is maintained, and a multilayer printed wiring board by build-up can be efficiently obtained. Further, since the surface is smooth and a uniform thickness of the insulating layer can be ensured, there is no need to polish the surface when forming the surface circuit, and the impedance between the circuit layers can be controlled. Further, the surface mounting can be reliably performed by smoothing the surface.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の層間絶縁接着剤付きフィルムを用い
て多層プリント配線板を作製する工程を示す概略断面
図。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a step of manufacturing a multilayer printed wiring board using a film with an interlayer insulating adhesive of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁基板 2 内層回路銅箔 3 層間絶縁接着剤層 4 キャリアフィルム 5 表面回路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating board 2 Inner layer circuit copper foil 3 Interlayer insulating adhesive layer 4 Carrier film 5 Surface circuit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 八月朔日 猛 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 Fターム(参考) 4J036 AD01 AE07 AF01 AH07 AJ08 DB15 DB18 DB21 DB22 DC19 DC31 DC41 FA01 FA05 FA10 FA11 FB07 HA02 HA12 JA08 4J040 CA072 EB042 EC041 EC061 EC071 EC081 HA116 HA136 HA196 HA306 HA326 HB16 HB19 HB21 HB27 HB31 HB47 HC01 HC16 HC24 HD19 HD43 JA09 JB02 JB08 KA02 KA13 KA16 KA24 KA42 LA01 LA08 LA09 MA10 MB05 NA20 PA23 PA30 PA32 5E346 AA12 AA16 BB01 CC09 CC41 CC43 DD02 DD12 DD31 DD32 EE31 EE35 GG01 GG02 GG28 HH11  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takeshi August Shuto 2-5-8 Higashishinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sumitomo Bakelite Co., Ltd. F-term (reference) 4J036 AD01 AE07 AF01 AH07 AJ08 DB15 DB18 DB21 DB22 DC19 DC31 DC41 FA01 FA05 FA10 FA11 FB07 HA02 HA12 JA08 4J040 CA072 EB042 EC041 EC061 EC071 EC081 HA116 HA136 HA196 HA306 HA326 HB16 HB19 HB21 HB27 HB31 HB47 HC01 HC16 HC24 HD19 HD43 JA09 JB02 JB08 KA02 PA30 LA05 PA12 LA10 AA12 AA16 BB01 CC09 CC41 CC43 DD02 DD12 DD31 DD32 EE31 EE35 GG01 GG02 GG28 HH11

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の各成分を必須成分として含有する
ことを特徴とする多層プリント配線板用層間絶縁接着
剤。 (イ)エポキシ当量500以下のエポキシ樹脂、(ロ)
エポキシ樹脂硬化剤、(ハ)複数の光官能基を有するモ
ノマー及び又は光官能基と熱官能基を有する多官能モノ
マーからなる希釈剤、(ニ)光重合開始剤、及び(ホ)
無機フィラー。
1. An interlayer insulating adhesive for a multilayer printed wiring board, comprising the following components as essential components. (A) an epoxy resin having an epoxy equivalent of 500 or less, (b)
Epoxy resin curing agent, (c) a diluent comprising a monomer having a plurality of photofunctional groups and / or a polyfunctional monomer having a photofunctional group and a thermal functional group, (d) a photopolymerization initiator, and (e)
Inorganic filler.
【請求項2】 (ハ)成分が(イ)、(ロ)及び(ハ)
の合計重量の5〜50%である請求項1記載の絶縁接着
剤。
2. The component (c) is composed of (a), (b) and (c).
The insulating adhesive according to claim 1, which is 5 to 50% of the total weight of the insulating adhesive.
【請求項3】 請求項1又は2記載の多層プリント配線
板用層間絶縁接着剤をキャリアフィルムに塗布してなる
ことを特徴とする絶縁接着剤フィルム。
3. An insulating adhesive film obtained by applying the interlayer insulating adhesive for multilayer printed wiring boards according to claim 1 to a carrier film.
【請求項4】 80℃における溶融粘度が1,000〜
10,000poise の範囲にある請求項3記載の絶縁接
着剤フィルム。
4. A melt viscosity at 80 ° C. of 1,000 to
4. The insulating adhesive film according to claim 3, which is in a range of 10,000 poise.
【請求項5】 請求項3又は4記載の絶縁接着剤フィル
ムを内層回路基板上にラミネートする工程、ラミネート
された接着剤フィルムに活性エネルギー線を照射する工
程、及び加熱硬化させる工程を有することを特徴とする
多層プリント配線板の製造方法。
5. A step of laminating the insulating adhesive film according to claim 3 on an inner circuit board, a step of irradiating the laminated adhesive film with active energy rays, and a step of heat curing. A method for producing a multilayer printed wiring board, which is characterized by the following.
【請求項6】 層間絶縁接着剤フィルムを内層回路基板
上にラミネートした後、光照射及び熱硬化の前に加温す
ることにより、表面の平滑化及び絶縁層厚みの均一化を
行う工程を有する請求項5記載の多層プリント配線板の
製造方法。
6. A method of laminating an interlayer insulating adhesive film on an inner circuit board and then heating the film before light irradiation and heat curing to smooth the surface and make the thickness of the insulating layer uniform. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 5.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001097582A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-20 Ajinomoto Co., Inc. Adhesive film and method for manufacturing multilayer printed wiring board comprising the same
WO2002017695A1 (en) * 2000-08-22 2002-02-28 Zeon Corporation Method of film laminating
JP2004331959A (en) * 2003-04-16 2004-11-25 Fujikura Ltd Method for curing hardening resin and process for production of optical fiber component using the method
US7655107B2 (en) 2004-02-26 2010-02-02 Sony Corporation Method for establishing anisotropic conductive connection and anisotropic conductive adhesive film
WO2016042415A3 (en) * 2014-09-17 2016-05-26 日本ゼオン株式会社 Curable resin composition, curable resin molded article, cured product, laminate, complex, and multi-layer printed circuit board
JP2017201694A (en) * 2017-05-31 2017-11-09 日立化成株式会社 Liquid photosensitive adhesive, method for manufacturing adhesive layer-attached semiconductor wafer, method for manufacturing semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor element-attached semiconductor wafer
JP2018062570A (en) * 2016-10-13 2018-04-19 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
JP2019210319A (en) * 2018-05-31 2019-12-12 味の素株式会社 Resin composition, sheet-like laminated material, printed wiring board, and semiconductor device
JP7446095B2 (en) 2019-12-03 2024-03-08 デクセリアルズ株式会社 Manufacturing method of film wrapping body and connection body

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001097582A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-20 Ajinomoto Co., Inc. Adhesive film and method for manufacturing multilayer printed wiring board comprising the same
WO2002017695A1 (en) * 2000-08-22 2002-02-28 Zeon Corporation Method of film laminating
JP2004331959A (en) * 2003-04-16 2004-11-25 Fujikura Ltd Method for curing hardening resin and process for production of optical fiber component using the method
JP4518543B2 (en) * 2003-04-16 2010-08-04 株式会社フジクラ Method for manufacturing recoat portion and method for manufacturing optical fiber component
US7655107B2 (en) 2004-02-26 2010-02-02 Sony Corporation Method for establishing anisotropic conductive connection and anisotropic conductive adhesive film
WO2016042415A3 (en) * 2014-09-17 2016-05-26 日本ゼオン株式会社 Curable resin composition, curable resin molded article, cured product, laminate, complex, and multi-layer printed circuit board
JP2018062570A (en) * 2016-10-13 2018-04-19 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition, resin sheet, printed wiring board, and semiconductor device
JP2017201694A (en) * 2017-05-31 2017-11-09 日立化成株式会社 Liquid photosensitive adhesive, method for manufacturing adhesive layer-attached semiconductor wafer, method for manufacturing semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor element-attached semiconductor wafer
JP2019210319A (en) * 2018-05-31 2019-12-12 味の素株式会社 Resin composition, sheet-like laminated material, printed wiring board, and semiconductor device
JP7214981B2 (en) 2018-05-31 2023-01-31 味の素株式会社 Resin composition, sheet laminate material, printed wiring board and semiconductor device
JP7446095B2 (en) 2019-12-03 2024-03-08 デクセリアルズ株式会社 Manufacturing method of film wrapping body and connection body

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