JP5743624B2 - 半導体レーザ素子組立体及びその駆動方法 - Google Patents
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Description
半導体レーザ素子及び光反射装置を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成り、発光領域を構成する第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体はリッジストライプ構造を有している。
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置においてレーザ光の一部が反射されて半導体レーザ素子に戻され、レーザ光の残部は光反射装置を通して外部に出射され、
リッジストライプ構造の他方の端面においてレーザ光が反射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
1<Wmax/Wmin<3.3
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する。尚、限定するものではないが、一方の端面におけるリッジストライプ構造の幅を最大幅Wmaxとし、他方の端面におけるリッジストライプ構造の幅を最小幅Wminとすることが望ましい。後述する本開示の第1の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法においても同様である。
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の他方の端面からレーザ光の一部が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
1<Wmax/Wmin<3.3
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する。尚、限定するものではないが、一方の端面におけるリッジストライプ構造の幅を最大幅Wmaxとし、他方の端面におけるリッジストライプ構造の幅を最小幅Wminとすることが望ましい。後述する本開示の第2の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法においても同様である。
半導体レーザ素子及び外部共振器を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成り、発光領域を構成する第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体はリッジストライプ構造を有し、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、外部共振器において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の一方の端面あるいは他方の端面から出射されたレーザ光が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
1<Wmax/Wmin<3.3
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する。尚、限定するものではないが、一方の端面におけるリッジストライプ構造の幅を最大幅Wmaxとし、他方の端面におけるリッジストライプ構造の幅を最小幅Wminとすることが望ましい。後述する本開示の第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法においても同様である。
半導体レーザ素子及び光反射装置を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成り、発光領域を構成する第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
第3化合物半導体層は、可飽和吸収領域を更に備え、
第2電極は、発光領域を経由して第1電極に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分、及び、可飽和吸収領域に電界を加えるための第2部分から構成されており、
第2電極の第1部分と第2部分とは分離溝によって分離されており、
積層構造体はリッジストライプ構造を有し、
本開示の第1の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法にあっては、半導体レーザ素子組立体は、更に、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置においてレーザ光の一部が反射されて半導体レーザ素子に戻され、レーザ光の残部は光反射装置を通して外部に出射され、
リッジストライプ構造の他方の端面においてレーザ光が反射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
1<Wmax/Wmin<3.3
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体の駆動方法であり、
本開示の第2の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法にあっては、半導体レーザ素子組立体は、更に、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の他方の端面からレーザ光の一部が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
1<Wmax/Wmin<3.3
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体の駆動方法である。
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流す一方、第1電極及び可飽和吸収領域を経由して第2電極の第2部分に電流を流して、パルス発振させ、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流し、併せて、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流して、若しくは、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流すこと無く、連続発振させる。尚、「電流を流す」とは、電圧を印加することと等価である。以下の説明においても同様である。また、第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流し、併せて、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流す場合、例えば、第2電極の第1部分と第2部分とを短絡させればよい。以下においても同様である。尚、パルス発振は、シングルモードでのパルス発振であることが好ましく、連続発振は、シングルモードでの続発振であることが好ましい。以下においても同様である。
半導体レーザ素子及び外部共振器を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成り、発光領域を構成する第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
第3化合物半導体層は、可飽和吸収領域を更に備え、
第2電極は、発光領域を経由して第1電極に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分、及び、可飽和吸収領域に電界を加えるための第2部分から構成されており、
第2電極の第1部分と第2部分とは分離溝によって分離されており、
積層構造体はリッジストライプ構造を有し、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、外部共振器において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の一方の端面あるいは他方の端面から出射されたレーザ光が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
1<Wmax/Wmin<3.3
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体の駆動方法であって、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流す一方、第1電極及び可飽和吸収領域を経由して第2電極の第2部分に電流を流して、パルス発振させ、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流し、併せて、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流して、若しくは、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流すこと無く、連続発振させる。
1.本開示の第1の態様〜第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体及びその駆動方法、全般に関する説明
2.実施例1(本開示の第1の態様及び第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体及びその駆動方法)
3.実施例2(本開示の第2の態様及び第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体及びその駆動方法)、その他
本開示の第1の態様〜第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体、又は、本開示の第1の態様〜第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法において、光反射装置あるいは外部共振器は、ミラー(本開示の第1の態様及び第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体、又は、本開示の第1の態様及び第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法にあってはハーフミラー、本開示の第2の態様に係る半導体レーザ素子組立体あるいはその駆動方法にあっては全反射ミラー)、チャープミラー、ボリューム・ブラッグ・グレーティング(VBG)、又は、ファイバー・ブラッグ・グレーティング(FBG)から成る構成とすることができる。
1×10-6m≦Wmin≦3×10-6m
を満足することが好ましい。Wminの値が1×10-6m未満であると、所望の光強度を有する半導体レーザ素子組立体を得ることができなくなる虞があるし、Wminの値が3×10-6mを越えると、半導体レーザ素子組立体から出射されるレーザ光のシングルモード化が達成できない虞がある。リッジストライプ構造の最小幅Wminを上記の範囲内とすることで横シングルモードが許容される。
第3化合物半導体層は、可飽和吸収領域を更に備え、
第2電極は、発光領域を経由して第1電極に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分、及び、可飽和吸収領域に電界を加えるための第2部分から構成されており、
第2電極の第1部分と第2部分とは分離溝によって分離されている形態とすることができる。尚、このような構成、構造の半導体レーザ素子、あるいは又、本開示の第1の態様〜第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法における半導体レーザ素子を、以下、便宜上、『多電極型半導体レーザ素子』と呼ぶ場合がある。そして、本開示の第1の態様〜第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体における多電極型半導体レーザ素子にあっては、外部に出射されるレーザ光はパルス発振レーザ光である形態とすることができる。尚、このような形態を含む多電極型半導体レーザ素子において、あるいは又、上記の好ましい構成を含む本開示の第1の態様〜第3の態様に係る半導体レーザ素子組立体の駆動方法において、可飽和吸収領域は、光反射装置あるいは外部共振器と対向する端面(外部へのレーザ光出射側の端面)とは反対側の端面側に位置する積層構造体の部分に配設されており、あるいは又、可飽和吸収領域は、積層構造体の外部へのレーザ光出射側の端面とは反対側の端面側に配設されていることが好ましい。
Eout/E0≧1.5
を満足することが望ましい。
第3化合物半導体層は、井戸層及び障壁層を備えた量子井戸構造を有し、
井戸層の厚さは、1nm以上、10nm以下、好ましくは、1nm以上、8nm以下であり、
障壁層の不純物ドーピング濃度は、2×1018cm-3以上、1×1020cm-3以下、好ましくは、1×1019cm-3以上、1×1020cm-3以下である形態とすることができる。
(1)1つの第2電極の第1部分と1つの第2電極の第2部分とが設けられ、第2電極の第1部分と、第2電極の第2部分とが、分離溝を挟んで配置されている状態
(2)1つの第2電極の第1部分と2つの第2電極の第2部分とが設けられ、第1部分の一端が、一方の分離溝を挟んで、一方の第2部分と対向し、第1部分の他端が、他方の分離溝を挟んで、他方の第2部分と対向している状態
(3)2つの第2電極の第1部分と1つの第2電極の第2部分とが設けられ、第2部分の端部が、一方の分離溝を挟んで、一方の第1部分と対向し、第2部分の他端が、他方の分離溝を挟んで、他方の第1部分と対向している状態(即ち、第2電極は、第2部分を第1部分で挟んだ構造)
を挙げることができる。また、広くは、
(4)N個の第2電極の第1部分と(N−1)個の第2電極の第2部分とが設けられ、第2電極の第1部分が第2電極の第2部分を挟んで配置されている状態
(5)N個の第2電極の第2部分と(N−1)個の第2電極の第1部分とが設けられ、第2電極の第2部分が第2電極の第1部分を挟んで配置されている状態
を挙げることができる。尚、(4)及び(5)の状態は、云い換えれば、
(4’)N個の発光領域[キャリア注入領域、利得領域]と(N−1)個の可飽和吸収領域[キャリア非注入領域]とが設けられ、発光領域が可飽和吸収領域を挟んで配置されている状態
(5’)N個の可飽和吸収領域[キャリア非注入領域]と(N−1)個の発光領域[キャリア注入領域、利得領域]とが設けられ、可飽和吸収領域が発光領域を挟んで配置されている状態
である。
(A)基体上に、第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層、GaN系化合物半導体から成る発光領域及び可飽和吸収領域を構成する第3化合物半導体層、並びに、第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層が、順次、積層されて成る積層構造体を形成した後、
(B)第2化合物半導体層上に第2電極を形成し、次いで、
(C)第2電極をエッチング用マスクとして、少なくとも第2化合物半導体層の一部分をエッチングして、リッジストライプ構造を形成した後、
(D)分離溝を第2電極に形成するためのレジスト層を形成し、次いで、レジスト層をウエットエッチング用マスクとして、第2電極に分離溝をウエットエッチング法にて形成し、以て、第2電極を第1部分と第2部分とに分離溝によって分離する、
各工程を具備した製造方法に基づき製造することができる。
半導体レーザ素子10及び光反射装置70を備えており、
半導体レーザ素子10は、
(a)第1導電型(各実施例においては、具体的には、n型導電型)を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層30と、
GaN系化合物半導体から成り、発光領域(利得領域)41を構成する第3化合物半導体層(活性層)40と、
第1導電型と異なる第2導電型(各実施例においては、具体的には、p型導電型)を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層50、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層50上に形成された第2電極62、並びに、
(c)第1化合物半導体層30に電気的に接続された第1電極61、
を備えている。
半導体レーザ素子10及び外部共振器70を備えており、
半導体レーザ素子10は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層30と、
GaN系化合物半導体から成り、発光領域(利得領域)41を構成する第3化合物半導体層40と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層50、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層50上に形成された第2電極62、並びに、
(c)第1化合物半導体層30に電気的に接続された第1電極61、
を備えている。
第3化合物半導体層(活性層)40は、可飽和吸収領域42を更に備え、
第2電極62は、発光領域41を経由して第1電極61に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分62A、及び、可飽和吸収領域42に電界を加えるための第2部分62Bから構成されており、
第2電極62の第1部分62Aと第2部分62Bとは分離溝62Cによって分離されている。
第2化合物半導体層50
p型GaNコンタクト層(Mgドープ)55
p型GaN(Mgドープ)/AlGaN超格子クラッド層54
p型AlGaN電子障壁層(Mgドープ)53
ノンドープAlGaNクラッド層52
ノンドープGaInN光ガイド層51
第3化合物半導体層40
GaInN量子井戸活性層
(井戸層:Ga0.92In0.08N/障壁層:Ga0.98In0.02N)
第1化合物半導体層30
n型GaNクラッド層32
n型AlGaNクラッド層31
但し、
井戸層(2層) 10.5nm ノン・ドープ
障壁層(3層) 14nm ノン・ドープ
f=c/(2n・X’)
1<Wmax/Wmin<3.3(=10/3)
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3(=40/3)
を満足しており、外部に出射されるレーザ光はシングルモードである。
1×10-6m≦Wmin≦3×10-6m
を満足している。
Wmax(μm) Wmax/Wmin
実施例1A 2.5 1.7
参考例1B 5.0 3.3
実施例1C 10.0 6.7
実施例1D 15.0 10.0
実施例1E 20.0 13.3
1<Wmax/Wmin<3.3
即ち、Wmax/Wmin=5/3の実施例1Aにあっては、パルス発振でシングルモードが得られ、また、連続発振でシングルモードが得られた。
3.3≦Wmax/Wmin<6
即ち、Wmax/Wmin=10/3の参考例1B及び比較例1Bにあっては、パルス発振あるいは連続発振の状態において、シングルモードが得られず、マルチモードとなった。
6≦Wmax/Wmin≦13.3
即ち、Wmax/Wmin=20/3の実施例1Cにあっては、パルス発振でシングルモードが得られたが、連続発振ではマルチモードが得られ、Wmax/Wmin=30/3の実施例1D、Wmax/Wmin=40/3の実施例1Eにあっては、パルス発振でシングルモードが得られ、また、連続発振でシングルモードが得られた。一方、比較例1C、比較例1D、比較例1Eにあっては、シングルモードが得られず、マルチモードとなった。
Wmax/Wmin=15.0μm/2.5μm=6.0
の実施例1Fにあっては、パルス発振でシングルモードが得られ、また、連続発振でシングルモードが得られた。一方、比較例1Fにあっては、シングルモードが得られず、マルチモードとなった。
実施例1A 1.6 1.5
実施例1C 2.3
実施例1D 2.6 5.5
実施例1E 3.2 7.2
実施例1F 4.3 5.8
(1)第2化合物半導体層50をエッチングするときのエッチング用マスクとしての機能を有すること。
(2)第2化合物半導体層50の光学的、電気的特性に劣化を生じさせることなく、第2電極62はウエットエッチング可能であること。
(3)第2化合物半導体層50上に成膜したとき、10-2Ω・cm2以下のコンタクト比抵抗値を示すこと。
(4)積層構造とする場合、下層金属層を構成する材料は、仕事関数が大きく、第2化合物半導体層50に対して低いコンタクト比抵抗値を示し、しかも、ウエットエッチング可能であること。
(5)積層構造とする場合、上層金属層を構成する材料は、リッジストライプ構造を形成する際のエッチングに対して(例えば、RIE法において使用されるCl2ガス)に対して耐性があり、しかも、ウエットエッチング可能であること。
先ず、基体上、具体的には、n型GaN基板21の(0001)面上に、周知のMOCVD法に基づき、第1導電型(n型導電型)を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層30、GaN系化合物半導体から成る発光領域(利得領域)41及び可飽和吸収領域42を構成する第3化合物半導体層(活性層)40、並びに、第1導電型と異なる第2導電型(p型導電型)を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層50が、順次、積層されて成る積層構造体を形成する(図15の(A)参照)。
その後、第2化合物半導体層50上に第2電極62を形成する。具体的には、真空蒸着法に基づきPd層63を全面に成膜した後(図15の(B)参照)、Pd層63上に、フォトリソグラフィ技術に基づきエッチング用レジスト層を形成する。そして、王水を用いて、エッチング用レジスト層に覆われていないPd層63を除去した後、エッチング用レジスト層を除去する。こうして、図16の(A)に示す構造を得ることができる。尚、リフトオフ法に基づき、第2化合物半導体層50上に第2電極62を形成してもよい。
次いで、第2電極62をエッチング用マスクとして、第2化合物半導体層50の一部分をエッチングして、リッジストライプ構造56を形成する。具体的には、Cl2ガスを用いたRIE法に基づき、第2電極62をエッチング用マスクとして用いて、第2化合物半導体層50の一部分をエッチングする。こうして、図16の(B)に示す構造を得ることができる。このように、パターニングされた第2電極62をエッチング用マスクとして用いてセルフアライン方式にてリッジストライプ構造56を形成するので、第2電極62とリッジストライプ構造56との間に合わせずれが生じることがない。
その後、分離溝を第2電極62に形成するためのレジスト層64を形成する(図17参照)。尚、参照番号65は、分離溝を形成するために、レジスト層64に設けられた開口部である。次いで、レジスト層64をウエットエッチング用マスクとして、第2電極62に分離溝62Cをウエットエッチング法にて形成し、以て、第2電極62を第1部分62Aと第2部分62Bとに分離溝62Cによって分離する。具体的には、王水をエッチング液として用い、王水に約10秒、全体を浸漬することで、第2電極62に分離溝62Cを形成する。そして、その後、レジスト層64を除去する。こうして、図3及び図4に示す構造を得ることができる。このように、ドライエッチング法と異なり、ウエットエッチング法を採用することで、第2化合物半導体層50の光学的、電気的特性に劣化が生じることがない。それ故、半導体レーザ素子の発光特性に劣化が生じることがない。尚、ドライエッチング法を採用した場合、第2化合物半導体層50の内部損失αiが増加し、閾値電圧が上昇したり、光出力の低下を招く虞がある。ここで、第2電極62のエッチングレートをER0、積層構造体のエッチングレートをER1としたとき、
ER0/ER1≒1×102
である。このように、第2電極62と第2化合物半導体層50との間に高いエッチング選択比が存在するが故に、積層構造体をエッチングすること無く(あるいは、エッチングされても僅かである)、第2電極62を確実にエッチングすることができる。尚、ER0/ER1≧1×10、好ましくは、ER0/ER1≧1×102を満足することが望ましい。
その後、n側電極の形成、基板の劈開等を行い、更に、パッケージ化を行うことで、半導体レーザ素子10を作製することができる。
=X0/(n・e・μ・S)
1<Wmax/Wmin<3.3
又は、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足し、
外部に出射されるレーザ光はシングルモードである。
1×10-6m≦Wmin≦3×10-6m
を満足している。また、半導体レーザ素子10は、実施例1と同様に、多電極型半導体レーザ素子(具体的には、バイ・セクション型半導体レーザ素子)から構成されており、可飽和吸収領域42は、一方の端面58Aとは反対側の他方の端面58Bの側に位置する積層構造体の部分に配設されている。実施例2にあっても、各種試験の結果、Wmax/Wminとパルス発振/連続発振、シングルモード/マルチモードの関係に関して、実施例1と同様の結果が得られた。
0<θ≦10(度)
好ましくは、
0<θ≦6(度)
とすることが望ましい。斜めリッジストライプ構造を採用することで、無反射コートARをされた端面の反射率を、より0%の理想値に近づけることができ、その結果、半導体レーザ素子内で周回してしまうレーザ光の発生を防ぐことができ、主たるレーザ光に付随する副次的なレーザ光の発生を抑制できるといった利点を得ることができる。
Claims (16)
- 半導体レーザ素子及び光反射装置を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成る第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体は、リッジストライプ構造を有し、発光領域を備えており、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置においてレーザ光の一部が反射されて半導体レーザ素子に戻され、レーザ光の残部は光反射装置を通して外部に出射され、
リッジストライプ構造の他方の端面においてレーザ光が反射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体。 - 半導体レーザ素子及び光反射装置を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成る第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体は、リッジストライプ構造を有し、発光領域を備えており、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の他方の端面からレーザ光の一部が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体。 - 半導体レーザ素子及び外部共振器を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成る第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体は、リッジストライプ構造を有し、発光領域を備えており、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、外部共振器において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の一方の端面あるいは他方の端面から出射されたレーザ光が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体。 - 光反射装置は、ミラー、チャープミラー、ボリューム・ブラッグ・グレーティング、又は、ファイバー・ブラッグ・グレーティングから成る請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の記載の半導体レーザ素子組立体。
- 外部に出射されるレーザ光はシングルモードである請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の記載の半導体レーザ素子組立体。
- 1×10-6m≦Wmin≦3×10-6mを満足する請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の半導体レーザ素子組立体。
- 積層構造体は、可飽和吸収領域を更に備え、
第2電極は、発光領域を経由して第1電極に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分、及び、可飽和吸収領域に電界を加えるための第2部分から構成されており、
第2電極の第1部分と第2部分とは分離溝によって分離されている請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の半導体レーザ素子組立体。 - 可飽和吸収領域は、外部へのレーザ光出射側の端面とは反対側の端面側に位置する積層構造体の部分に配設されている請求項7に記載の半導体レーザ素子組立体。
- 外部に出射されるレーザ光はパルス発振レーザ光である請求項7に記載の半導体レーザ素子組立体。
- 可飽和吸収領域は、外部へのレーザ光出射側の端面とは反対側の端面側に位置する積層構造体の部分に配設されている請求項9に記載の半導体レーザ素子組立体。
- 外部に出射されるレーザ光は連続発振レーザ光である請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の半導体レーザ素子組立体。
- Wmin=Wmaxと仮定したときに外部に出射されるレーザ光の光強度をE0としたとき、半導体レーザ素子組立体から出射されるレーザ光の光強度Eoutは、
Eout/E0≧1.5
を満足する請求項1乃至請求項11のいずれか1項に記載の記載の半導体レーザ素子組立体。 - 半導体レーザ素子及び光反射装置を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成る第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体は、リッジストライプ構造を有し、リッジストライプ構造の延びる方向に沿って発光領域及び可飽和吸収領域を備えており、
第2電極は、発光領域を経由して第1電極に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分、及び、可飽和吸収領域に電界を加えるための第2部分から構成されており、
第2電極の第1部分と第2部分とは分離溝によって分離されており、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置においてレーザ光の一部が反射されて半導体レーザ素子に戻され、レーザ光の残部は光反射装置を通して外部に出射され、
リッジストライプ構造の他方の端面においてレーザ光が反射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体の駆動方法であって、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流す一方、第1電極及び可飽和吸収領域を経由して第2電極の第2部分に電流を流して、パルス発振させ、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流し、併せて、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流して、若しくは、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流すこと無く、連続発振させる半導体レーザ素子組立体の駆動方法。 - 半導体レーザ素子及び光反射装置を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成る第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体は、リッジストライプ構造を有し、リッジストライプ構造の延びる方向に沿って発光領域及び可飽和吸収領域を備えており、
第2電極は、発光領域を経由して第1電極に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分、及び、可飽和吸収領域に電界を加えるための第2部分から構成されており、
第2電極の第1部分と第2部分とは分離溝によって分離されており、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、光反射装置において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の他方の端面からレーザ光の一部が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体の駆動方法であって、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流す一方、第1電極及び可飽和吸収領域を経由して第2電極の第2部分に電流を流して、パルス発振させ、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流し、併せて、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流して、若しくは、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流すこと無く、連続発振させる半導体レーザ素子組立体の駆動方法。 - 半導体レーザ素子及び外部共振器を備えており、
半導体レーザ素子は、
(a)第1導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第1化合物半導体層と、
GaN系化合物半導体から成る第3化合物半導体層と、
第1導電型と異なる第2導電型を有し、GaN系化合物半導体から成る第2化合物半導体層、
とが、順次、積層されて成る積層構造体、
(b)第2化合物半導体層上に形成された第2電極、並びに、
(c)第1化合物半導体層に電気的に接続された第1電極、
を備えており、
積層構造体は、リッジストライプ構造を有し、リッジストライプ構造の延びる方向に沿って発光領域及び可飽和吸収領域を備えており、
第2電極は、発光領域を経由して第1電極に電流を流すことで順バイアス状態とするための第1部分、及び、可飽和吸収領域に電界を加えるための第2部分から構成されており、
第2電極の第1部分と第2部分とは分離溝によって分離されており、
リッジストライプ構造の一方の端面においてレーザ光が出射され、外部共振器において反射されて半導体レーザ素子に戻され、
リッジストライプ構造の一方の端面あるいは他方の端面から出射されたレーザ光が外部に出射され、
リッジストライプ構造の最小幅をWmin、最大幅をWmaxとしたとき、
6≦Wmax/Wmin≦13.3
を満足する半導体レーザ素子組立体の駆動方法であって、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流す一方、第1電極及び可飽和吸収領域を経由して第2電極の第2部分に電流を流して、パルス発振させ、
第2電極の第1部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流し、併せて、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流して、若しくは、第2電極の第2部分及び発光領域を経由して第1電極に電流を流すこと無く、連続発振させる半導体レーザ素子組立体の駆動方法。 - 可飽和吸収領域は、積層構造体の外部へのレーザ光出射側の端面とは反対側の端面側に配設されている請求項13乃至請求項15のいずれか1項に記載の半導体レーザ素子組立体の駆動方法。
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