JP2014531387A - Thin glass manufacturing method using support substrate - Google Patents
Thin glass manufacturing method using support substrate Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014531387A JP2014531387A JP2014528707A JP2014528707A JP2014531387A JP 2014531387 A JP2014531387 A JP 2014531387A JP 2014528707 A JP2014528707 A JP 2014528707A JP 2014528707 A JP2014528707 A JP 2014528707A JP 2014531387 A JP2014531387 A JP 2014531387A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin
- substrate
- support substrate
- glass sheet
- adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 180
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 144
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 88
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 63
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 63
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 53
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 17
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 14
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 claims description 13
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 7
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 7
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 7
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 claims description 7
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 10
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 5
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 5
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000006163 transport media Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000004091 panning Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1259—Multistep manufacturing methods
- H01L27/1262—Multistep manufacturing methods with a particular formation, treatment or coating of the substrate
- H01L27/1266—Multistep manufacturing methods with a particular formation, treatment or coating of the substrate the substrate on which the devices are formed not being the final device substrate, e.g. using a temporary substrate
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/0416—Control or interface arrangements specially adapted for digitisers
- G06F3/04166—Details of scanning methods, e.g. sampling time, grouping of sub areas or time sharing with display driving
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Abstract
支持基板(102、304、304’)を使用して、薄型基板(100、200、200’)からディスプレイパネルを製造する方法が開示される。この方法は、薄型基板(100、200、200’)の第1表面上に接着剤(101)を堆積させる工程、支持基板(102、304、304’)の第2表面上に接着剤(103)を堆積せる工程、第1表面及び第2表面上に堆積された接着剤(101、103)で、薄型基板(100、200、200’)及びその支持基板(102、304、304’)を接着する工程、薄型基板(100、200、200’)の第1表面とは反対側の第3表面に薄膜プロセスを実施する工程、並びにこのプロセスを実施した薄型基板(100、200、200’)を支持基板(102、304、304’)から分離する工程を含む。この薄型基板(100、200、200’)は、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、接着された薄型基板(100、200、200’)及び支持基板(102、304、304’)の合わせた厚さは、その必要な厚さ以上である。A method of manufacturing a display panel from a thin substrate (100, 200, 200 ') using a support substrate (102, 304, 304') is disclosed. The method includes depositing an adhesive (101) on a first surface of a thin substrate (100, 200, 200 ′), an adhesive (103 on a second surface of a support substrate (102, 304, 304 ′). ), A thin substrate (100, 200, 200 ′) and its supporting substrate (102, 304, 304 ′) with adhesives (101, 103) deposited on the first surface and the second surface. A step of bonding, a step of performing a thin film process on the third surface opposite to the first surface of the thin substrate (100, 200, 200 ′), and a thin substrate (100, 200, 200 ′) on which this process is performed Separating the substrate from the support substrate (102, 304, 304 ′). The thin substrate (100, 200, 200 ′) has a thickness that is thinner than necessary to withstand a thin film process, while being bonded to the thin substrate (100, 200, 200 ′) and the supporting substrate (102). , 304, 304 ′) is greater than the required thickness.
Description
本出願は、米国特許出願第13/234,072号(2011年9月15日出願)及び国際特許出願PCT/US12/54886(2012年9月12日出願)に対する優先権を主張し、この全文が参照によって本明細書に組み込まれる。 This application claims priority to U.S. Patent Application No. 13 / 234,072 (filed September 15, 2011) and International Patent Application PCT / US12 / 54886 (filed September 12, 2012). Is incorporated herein by reference.
本発明は全体として、電子装置用のディスプレイパネルなどの回路パネルの製造に関し、より具体的には、支持基板に接着することによる薄型ガラスシートの製法に関する。 The present invention relates generally to the manufacture of circuit panels such as display panels for electronic devices, and more specifically to a method for producing a thin glass sheet by bonding to a support substrate.
近年、モバイル電子装置がその携帯性、多用途性、及び使いやすさの点から幅広く普及してきている。現在市場にあるスマートフォン、ポータブル音楽/ビデオプレーヤ、タブレット型パーソナルコンピュータ(PC)などのモバイル電子装置は、数多くの様々なタイプがあるが、その多くはいくつかの基本的なコンポーネントを共有している。特に、これらの装置の多くは、液晶ディスプレイ(LCD)又は有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイなどのディスプレイを含む。このディスプレイをタッチセンサパネルの裏側に部分的又は全面的に配置して、タッチスクリーンを形成することができ、タッチスクリーンは様々なタイプのモバイル電子装置における入力装置として広く採用されている。 In recent years, mobile electronic devices have become widespread due to their portability, versatility, and ease of use. There are many different types of mobile electronic devices such as smartphones, portable music / video players, and tablet personal computers (PCs) currently on the market, many of which share some basic components. . In particular, many of these devices include displays such as liquid crystal displays (LCD) or organic light emitting diode (OLED) displays. This display can be partially or fully disposed on the back side of the touch sensor panel to form a touch screen, which is widely adopted as an input device in various types of mobile electronic devices.
モバイル電子装置のディスプレイは典型的に、ディスプレイパネルを含み、これはガラス又はその他の好適な透明基板から作製され得る。装置の全重量及び厚さを最小限に抑えるため、装置のディスプレイパネルはできる限り薄くすることが望ましい。それにもかかわらず、ディスプレイパネルの薄さは、既存の製造設備の最低厚さ許容限度によって制限される。ディスプレイパネルは典型的に、ガラスシートなどの透明基板から製造される。薄すぎるガラスシートは製造設備に適合しない可能性があり、及び/又は製造プロセスの厳しさに耐えるには脆すぎる可能性がある。既存の製造設備の多くは、例えば最低厚さ0.5mmのガラスシート(又は他の類似の透明基板)のみを処理することができる。この最低厚さよりも薄いガラスシートは、この設備で取り扱うことができるが、歩留りと製造能力は制限され得る。したがって、既存のディスプレイパネル製造プロセスは多くの場合、他のプロセス工程のほとんどが実施された後、ディスプレイパネルの厚さを減少させる薄板化工程を必要とする。しかしながら、薄板化プロセス中に欠陥が生じ、ディスプレイパネルが使用不能になった場合、そのパネルに対するすべての薄板化の予備プロセスが無駄になる可能性があり、これは潜在的に、ディスプレイパネルの製造全体のコストを増加させる可能性がある。ゆえに、薄型ガラスから直接ディスプレイパネルを製造できることが望ましい。 Mobile electronic device displays typically include a display panel, which can be made of glass or other suitable transparent substrate. In order to minimize the overall weight and thickness of the device, it is desirable to make the display panel of the device as thin as possible. Nevertheless, the thinness of the display panel is limited by the minimum thickness tolerance of existing manufacturing equipment. Display panels are typically manufactured from a transparent substrate such as a glass sheet. Glass sheets that are too thin may not be compatible with manufacturing equipment and / or may be too brittle to withstand the rigors of the manufacturing process. Many existing manufacturing facilities can only process glass sheets (or other similar transparent substrates) with a minimum thickness of 0.5 mm, for example. Glass sheets thinner than this minimum thickness can be handled with this facility, but yield and manufacturing capacity can be limited. Thus, existing display panel manufacturing processes often require a thinning step that reduces the thickness of the display panel after most of the other process steps are performed. However, if a defect occurs during the thinning process and the display panel becomes unusable, all thinning preliminary processes for that panel may be wasted, potentially resulting in display panel manufacturing. May increase overall cost. It is therefore desirable to be able to manufacture display panels directly from thin glass.
本発明は、薄型ディスプレイパネルの製造に関する。上述のように、ディスプレイパネルを製造するための既存の設備は、最低厚さ許容限度が約0.5mmで設計されている。これは、ディスプレイパネルを製造するのに使用されるガラスシート(又は他の透明材料)が、製造の苛酷さに耐えるためには少なくとも約0.5mmの厚さである必要があるからである。これより薄いガラスシートは、製造プロセス中に取扱い上の問題を引き起こす可能性がある。それにもかかわらず、本開示の様々な実施形態で開示される方法は、既存の製造設備を用いて製造される0.5mm未満の厚さを伴った薄型ディスプレイパネルを可能にする。一実施形態において、薄型ガラスシートは、支持基板に接着することができ、これにより、製造中に薄型ガラスシートの表面に薄膜プロセスを実施するときに、ガラスシート及び支持基板を合わせた厚さが約0.5mm未満にならないようにすることができる。薄型ガラスシート及び支持基板の接着は、薄型ガラスシート及び支持基板の領域を酸化させ、その酸化領域を互いに接触させ、その酸化領域を加熱して薄型ガラスシート及び支持基板を接着させることにより、実施することができる。このプロセスを実施した薄型ガラスシートは、最終的に支持基板から分離し、任意選択により、最終製品に嵌合するように複数の薄型ディスプレイパネルに分割することができる。 The present invention relates to the manufacture of thin display panels. As mentioned above, existing equipment for manufacturing display panels is designed with a minimum thickness tolerance of about 0.5 mm. This is because the glass sheet (or other transparent material) used to manufacture the display panel needs to be at least about 0.5 mm thick to withstand the manufacturing rigors. Thinner glass sheets can cause handling problems during the manufacturing process. Nevertheless, the methods disclosed in various embodiments of the present disclosure allow for a thin display panel with a thickness of less than 0.5 mm that is manufactured using existing manufacturing equipment. In one embodiment, the thin glass sheet can be bonded to the support substrate, so that when the thin film process is performed on the surface of the thin glass sheet during manufacture, the combined thickness of the glass sheet and the support substrate is It can be less than about 0.5 mm. The thin glass sheet and the support substrate are bonded by oxidizing the regions of the thin glass sheet and the support substrate, bringing the oxidized regions into contact with each other, and heating the oxidized region to bond the thin glass sheet and the support substrate. can do. The thin glass sheet subjected to this process can be finally separated from the support substrate and optionally divided into a plurality of thin display panels to fit into the final product.
下記の好ましい実施形態の記述において、本明細書の一部を形成する添付図に対して参照が行われ、本開示が実施可能な具体的な実施形態を例示することによって示される。他の実施形態が使用されてもよく、本開示の実施形態の範囲から逸脱せずに構造的変更が行われてもよいということが理解される。 In the following description of the preferred embodiments, references are made to the accompanying drawings that form a part hereof, and are shown by way of illustration of specific embodiments in which the disclosure may be practiced. It is understood that other embodiments may be used and structural changes may be made without departing from the scope of the embodiments of the present disclosure.
本発明は、薄型ディスプレイパネルの製造に関する。上述のように、ディスプレイパネルを製造するための既存の設備は、最低厚さ許容限度が約0.5mmで設計されている。これは、ディスプレイパネルを製造するのに使用されるガラスシート(又は他の透明材料)が、製造の苛酷さに耐えるためには少なくとも約0.5mmの厚さである必要があるからである。これより薄いガラスシートは、製造プロセス中に取扱い上の問題を引き起こす可能性がある。それにもかかわらず、本開示の様々な実施形態で開示される方法は、既存の製造設備を用いて製造される0.5mm未満の厚さを備えた薄型ディスプレイパネルを可能にする。一実施形態において、薄型ガラスシートは、支持基板に接着することができ、これにより、製造中に薄型ガラスシートの表面に薄膜プロセスを実施するときに、ガラスシート及び支持基板を合わせた厚さが約0.5mm未満にならないようにすることができる。薄型ガラスシート及び支持基板の接着は、薄型ガラスシート及び支持基板の領域を酸化させ、その酸化領域を互いに接触させ、その酸化領域を加熱して薄型ガラスシートと支持基板を接着させることによって、実施することができる。このプロセスを実施した薄型ガラスシートは、最終的に支持基板から分離し、任意選択により、最終製品に嵌合するように複数の薄型ディスプレイパネルに分割することができる。 The present invention relates to the manufacture of thin display panels. As mentioned above, existing equipment for manufacturing display panels is designed with a minimum thickness tolerance of about 0.5 mm. This is because the glass sheet (or other transparent material) used to manufacture the display panel needs to be at least about 0.5 mm thick to withstand the manufacturing rigors. Thinner glass sheets can cause handling problems during the manufacturing process. Nevertheless, the methods disclosed in various embodiments of the present disclosure allow for a thin display panel with a thickness of less than 0.5 mm manufactured using existing manufacturing equipment. In one embodiment, the thin glass sheet can be bonded to the support substrate, so that when the thin film process is performed on the surface of the thin glass sheet during manufacture, the combined thickness of the glass sheet and the support substrate is It can be less than about 0.5 mm. The thin glass sheet and the support substrate are bonded by oxidizing the regions of the thin glass sheet and the support substrate, bringing the oxidized regions into contact with each other, and heating the oxidized region to bond the thin glass sheet and the support substrate. can do. The thin glass sheet subjected to this process can be finally separated from the support substrate and optionally divided into a plurality of thin display panels to fit into the final product.
本開示の実施形態は、薄型ガラスシートからディスプレイパネルを製造することに関して本明細書において記述及び例示されているが、本開示の実施形態は、それらのパネル及び基板に限定されるものではなく、薄板基板から製造されるタッチセンサパネルなどの他のタイプの回路パネルに全体的に適用可能であることが理解されよう。加えて、本明細では既存設備の例示的な最低厚さ許容限度として0.5mmが使用されており、実施形態は0.5mmより薄いディスプレイパネルを製造するのに好適なものとして記述されている。しかしながら、ディスプレイパネル(及び他のタイプの回路パネル)製造設備の最低厚さ許容限度は変化する可能性があり、時間経過と共に改善が見込まれることが理解されよう。それにもかかわらず、本開示の実施形態は、本明細書で記述される例示的な最低厚さ許容限度よりも薄い厚さを有するパネルを製造するのに有効である。 Although embodiments of the present disclosure are described and illustrated herein with respect to manufacturing display panels from thin glass sheets, embodiments of the present disclosure are not limited to those panels and substrates, It will be appreciated that the present invention is generally applicable to other types of circuit panels, such as touch sensor panels manufactured from a thin substrate. In addition, 0.5 mm is used herein as an exemplary minimum thickness tolerance for existing equipment, and embodiments are described as suitable for manufacturing display panels thinner than 0.5 mm. . However, it will be appreciated that the minimum thickness tolerance of display panel (and other types of circuit panel) manufacturing equipment can vary and will improve over time. Nevertheless, embodiments of the present disclosure are useful for manufacturing panels having a thickness that is less than the exemplary minimum thickness tolerances described herein.
図1A〜1Eは本開示の実施形態に係る支持基板を用いたディスプレイ製造プロセスの例示的な工程を示す。図1Aに示すように、厚さ0.5mm未満の薄型ガラスシート100が、ディスプレイパネル製造のために提供され得る。薄型ガラスシート100に加え、支持基板102も提供され得る。支持基板102は、別のガラス基板であり得る。他の実施形態において、支持基板102は異なる基板であり得る。薄型ガラスシート100及び支持基板102を合わせた厚さは、ガラス基板に薄膜プロセスを実施するため既存設備の最低要件に適合し得る。
1A-1E illustrate exemplary steps of a display manufacturing process using a support substrate according to an embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 1A, a
薄型ガラスシート100及び支持基板102は次に、合わせて接着され、接着構造を形成する。一実施形態において、薄型ガラスシート100と支持基板102の接着は、接着剤によって促進させることができる。様々な実施形態において、接着剤は、薄型ガラスシート又は支持基板のいずれかに適用することができる。例えば、図1Bに示すように、薄型ガラスシート100の表面のうちの1つ上の領域は、二酸化ケイ素(SiO2)などの接着剤101で酸化させることができる。同様に、薄板支持基板の表面上の一領域を、接着剤103で酸化させることもできる。他の可能な接着剤には、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーが挙げられるがこれらに限定されない。これらの接着剤は、液体(若しくはゲル)又は粘着テープでの接着剤として適用することができる。
The
接着剤は、薄型ガラスシート100及び支持基板102の表面に、既定のパターンで適用することができる。例えば、図2Aの長方形薄型ガラスシート200の平面図に示すように、接着剤は薄型ガラスシート200の縁領域に沿って細いストリップ202で連続的に適用することができる。本質的に、接着剤の細いストリップ202は、薄型ガラスシート200の上に接着領域を形成できる。図示されていないが、この接着剤は、薄型ガラスシート200及び支持基板を互いに接触させたときに、薄型ガラスシート200の接着領域202及び支持基板102の接着領域が実質的に重なり合うことができるように、合致するパターンで支持基板の一表面上に適用することができる。
The adhesive can be applied to the surfaces of the
別の実施例において、図2Bに示すように、接着剤は、薄型ガラスシート200’の頂面上の縁領域に沿って不連続パターン202’で堆積できる。同様に、接着剤は、支持基板の表面上に合致するパターンで堆積できる(図示せず)。パターンが薄型ガラスシートと支持基板を十分に接着することができ、支持基板が後続のプロセスに耐えるのに十分な剛性を有しているかぎり、接着剤は、図2A及び2Bに示すものとは異なるパターンで堆積できることも理解されよう。図2A及び2Bは、長方形の薄型ガラスシート200、200’を示しているが、この薄型ガラスシート200、200’は、正方形、円形、又は他の任意の形状であり得ることが理解されよう。各薄型ガラスシート上の接着領域は、その薄型ガラスシートの形状によっても異なり得る。
In another example, the adhesive can be deposited in a discontinuous pattern 202 'along the edge region on the top surface of the thin glass sheet 200', as shown in FIG. 2B. Similarly, the adhesive can be deposited in a matching pattern on the surface of the support substrate (not shown). As long as the pattern can sufficiently bond the thin glass sheet and the support substrate, and the support substrate has sufficient rigidity to withstand subsequent processes, the adhesive is not what is shown in FIGS. 2A and 2B. It will also be appreciated that different patterns can be deposited. 2A and 2B illustrate a rectangular
図1Cを参照して、薄型ガラスシート100及び支持基板102の表面に接着剤が適用された後、薄型ガラスシート100及び支持基板102は、接着剤101、103によって合わせて接着され、サンドイッチ構造104を形成することができる。一実施形態において、この接着は、薄型ガラスシート100の一表面上にある接着領域、及び支持基板102の相対する表面上にある接着領域を位置合わせし、その接着領域が互いに接触させることによって、促進することができる。いったん接触すると、適切な温度及び/又は圧力などの適正な条件下において、薄型ガラスシート100と支持基板との間の接着によって、この2つの基板が合わせて接着され得る。別の一実施形態において、薄型ガラスシートが別のガラス基板に接着される場合、両方の基板がすでに酸化されていて、温度及び/又は圧力の適用により接着されてもよい。
Referring to FIG. 1C, after the adhesive is applied to the surfaces of the
SiO2が接着剤として使用され、両方の基板の接着領域に堆積される実施形態において、接着領域が酸化され得る。酸化された接着領域が互いに接触させられ、アニーリングされると、接着が形成されて、薄型ガラスシート100及び支持基板102を効果的に接着することができる。薄型ガラスシート100及び支持基板102を合わせて接着した後、薄型ガラスシートの外側表面は、更なるプロセスを行う前に、任意選択により研削及び/又は研磨することができる。
In embodiments where SiO 2 is used as an adhesive and is deposited on the adhesion area of both substrates, the adhesion area can be oxidized. When the oxidized bonded regions are brought into contact with each other and annealed, a bond is formed, and the
薄型ガラスシート100はそれ自体、既存の製造設備によるプロセスに適した十分な厚さではない可能性があるが、このサンドイッチは薄型ガラスシート100及び支持基板102の合わせた厚さ以上の厚さを有することができ、これは既存の製造設備の最低厚さ要件に適合することができる。例えば、厚さ0.1mmの薄型ガラスシートを厚さ0.5mmの支持基板に接着した場合、その接着構造は少なくとも0.6mmの厚さを有し得、これは既存の製造設備の厚さ0.5mmの要件を上回る。このようにして、この薄型ガラスシート100及び支持基板102のサンドイッチは、設備に改変を行うことなく、既存の製造設備によって処理することができる。
Although the
接着剤が縁領域の周りに連続的に堆積される実施形態において、図2Aに示すように、薄型ガラスシート200及び支持基板はその縁領域の周りで接着される。この接着領域は、薄型ガラスシート200の縁に沿って連続ストリップ202を形成することができるため、薄型ガラスシート200と支持基板との間の接着は、薄型ガラスシート200と支持基板との間に本質的に密閉を形成し得る。いくつかの実施形態において、薄型ガラスシート200と支持基板との間の密閉された空間は、その接着構造の剛性を改善し、その接着構造に対して実施される減圧及びウェットプロセスの適合性を改善するために、真空にすることができる。一方、図2Bのセグメント化された接着領域202’は、必要な接着剤をより少なくすることができる。しかしながら、接着構造における薄型ガラスシート200’と支持基板との間の空間は、密封することはできない。様々な実施形態において、不活性材料の層を接着領域の外側の領域に堆積させて、薄型ガラスシートがその外側領域の支持基板と接着するのを防ぐことができる。そのような不活性材料の一例は、窒化ケイ素(SiNx)である。
In an embodiment where the adhesive is continuously deposited around the edge region, the
図1Dを参照し、薄膜及びリソグラフィ/エッチングプロセスをサンドイッチ104に実施し、薄型ガラスシート100の外側表面110の上に薄膜パターン108を形成することができる。一実施形態において、薄膜トランジスタ(TFT)プロセスを、薄型ガラスシート100に実施することができる。TFTプロセスには、1つ以上の薄膜の半導体活性層、誘電体層、及び金属接触部を、薄型ガラスシート100の表面110の上に堆積させる工程、及びその堆積した層のパターニングを行う工程が含まれ得る。タッチセンサパネルなどの他のタイプの回路パネルを製造するために薄型ガラスシート100が使用される他の実施形態において、この薄膜及びリソグラフィ/エッチングプロセス(echo process)には、インジウムスズ酸化物(ITO)などの透明材料を堆積させてパターニングを行う工程が含まれ得、これにより、タッチセンサパネルのタッチ信号を伝送するための導電性トレース(例えば、感知ラインと駆動ライン)を形成することができる。あるいは、又はそれに加えて、薄膜パターン108には、信号経路のための金属トレースを含む金属層が含まれ得る。あるいは、又はそれに加えて、薄膜パターン108は、反射防止材料として使用できる。あるいは、又はそれに加えて、薄膜パターン108は、保護層として使用することができ、セラミック材料又は同様の保護特性を備えた任意の他の材料を含み得る。使用される薄膜のタイプ及び形成されるパターンは、薄型ガラスシート100から製造される回路パネルの最終的な使用により決定され得る。この薄膜及びリソグラフィ/エッチングプロセスは、本実施形態において支持基板102のコーティング又はパターニングをもたらすものではないことに注意すべきである。すなわち、支持基板102の表面112のどこにも、層又はパターンは堆積されることはない。
Referring to FIG. 1D, a thin film and lithography / etch process may be performed on the
次に、図1Eに示すように、パターン化された薄型ガラスシート100は、支持基板102から分離することができる。この分離は、任意の好適な方法を用いて行うことができる。一実施形態において、薄型ガラスシート100及び支持基板102は、ガラスを切断することによって機械的に分離することができる。図3Aは、図2Aの薄型ガラスシート200の平面図に4本のスクライブ線(総称的に300)が追加されたものを提供し、この線に沿って薄型ガラスシート200を切断することができる。示されているように、4本のスクライブ線300それぞれは、長方形薄型ガラスシート100のそれぞれの縁に対して実質的に平行であり、接着領域のすぐ内側に正方形を形成する。スクライブ線200はそれぞれ、薄型ガラスシート200の一方の縁から相対する縁まで延在し得る。実際の切断は、スクライビングと破断、ウォータージェット切断、及びレーザスクライビングなどの機構を使用して行うことができる。
Next, as shown in FIG. 1E, the patterned
図3Bは、スクライブ線300に沿って切断される薄型ガラスシート200の側面断面図を提供する。薄型ガラスシート200及び支持基板304は、細い接着領域202における接着剤によって接着されているだけであるため、薄型ガラスシート200と支持基板304が接着されているとき、薄型ガラスシート200の中央部分306は、支持基板304のどの部分にも接触していない。よって、切断ツール302を用いてスクライブ線300に沿って切断することによって、薄型ガラスシート200の中央部分306は、接着構造の残りの部分から分離することができる。薄型ガラスシート200の分離された中央部分306は、追加の薄板化工程を実施する必要なしに、最終製品実装のための望ましい厚さ(すなわち、薄型ガラスシートの厚さ)を有し得る。薄型ガラスシート200の寸法が大きい一部の実施形態において、接着構造から分離された中央部分306は、更にマトリックス又は小さな部分の配列に切断することができ、このそれぞれを最終製品のディスプレイ回路として使用することができる。これにより、多数のディスプレイパネルを効率的に製造することが可能になる。
FIG. 3B provides a side cross-sectional view of
他の実施形態において、スクライブ線の数、長さ及び位置は、薄型ガラスシートの寸法及び形状、接着領域のパターン、その接着構造から切断される薄型ガラスシート部分の望ましい形状及び寸法などの、数多くの要素に応じて変わる可能性があり、変わり得る。 In other embodiments, the number, length, and position of the scribe lines can be many, such as the size and shape of the thin glass sheet, the pattern of the adhesive region, the desired shape and size of the thin glass sheet portion that is cut from the adhesive structure. May vary depending on the elements of and can vary.
あるいは、接着剤の化学エッチングによっても、薄型ガラスシートを支持基板から分離することができる。図3Cは、薄型ガラスシート202’と支持基板304’との間の接着剤202’に対する例示的な化学エッチングプロセスを示す。エッチングプロセスは最終的にこの接着剤を完全に除去することができ、これにより薄型ガラスシート200’を支持基板304’から解放することができる。 Alternatively, the thin glass sheet can be separated from the support substrate also by chemical etching of the adhesive. FIG. 3C shows an exemplary chemical etching process for adhesive 202 'between thin glass sheet 202' and support substrate 304 '. The etching process can ultimately remove this adhesive completely, thereby releasing the thin glass sheet 200 'from the support substrate 304'.
図4は、本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な操作を示すフローチャートである。最初に、薄型ガラスシート及び支持基板を提供することができる(401)。この薄型ガラスシートは、既存のディスプレイパネル製造設備によって求められる最低厚さよりも薄い厚さを有し得る。しかしながら、薄型ガラスシート及び支持基板を合わせた厚さは、既存の設備によって求められる最低厚さ以上であり得る。この支持基板もガラス基板であり得る。次に、薄型ガラスシート及び/又は支持基板の表面に接着剤を堆積させることができる(402)。この接着剤は、薄型ガラスシートの表面上の少なくとも一領域及び支持基板の表面上の一領域を酸化する酸化剤(例えば、SiO2)であり得る。この薄型ガラスシート及び支持基板は次いで、接着剤で接着することができる(403)。これには例えば、2つの基板の間の接着剤から酸化層を形成するために、薄型ガラスシートと支持基板を加熱することが必要になり得る。 FIG. 4 is a flowchart illustrating exemplary operations in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. Initially, a thin glass sheet and support substrate can be provided (401). The thin glass sheet may have a thickness that is less than the minimum thickness required by existing display panel manufacturing equipment. However, the combined thickness of the thin glass sheet and the support substrate can be greater than or equal to the minimum thickness required by existing equipment. This support substrate may also be a glass substrate. Next, an adhesive can be deposited on the surface of the thin glass sheet and / or the support substrate (402). The adhesive may be an oxidizing agent (eg, SiO 2 ) that oxidizes at least a region on the surface of the thin glass sheet and a region on the surface of the support substrate. The thin glass sheet and the support substrate can then be bonded with an adhesive (403). This may require, for example, heating the thin glass sheet and the support substrate to form an oxide layer from the adhesive between the two substrates.
薄型ガラスシートと支持基板を接着してサンドイッチを形成した後、薄膜プロセス及び/又は他のタイプのプロセスをこのサンドイッチに対して実施し、この薄型ガラスシートを1枚以上のディスプレイパネルに改変することができる。このプロセス工程は、サンドイッチの厚さが既存の製造設備要件に適合できるため、この製造設備を用いて実施することができる。最後に、プロセス中の薄型ガラスシートを、機械的手段又は化学エッチング又は任意のその他の好適な方法によって、支持基板から分離することができる(405)。分離された薄型ガラスシートは、任意選択により、複数の部分に分割することができ、このそれぞれが最終製品に取り付けられるディスプレイパネルになり得る。従来のディスプレイパネル製造プロセスとは異なり、結果として得られる薄型ガラスシートは、プロセスを実施したガラスシートがすでにそのまま使用できる薄さであるため、追加の薄板化工程を必要としない。 After bonding the thin glass sheet and the support substrate to form a sandwich, a thin film process and / or other type of process is performed on the sandwich to modify the thin glass sheet into one or more display panels. Can do. This process step can be performed using this manufacturing facility because the thickness of the sandwich can be adapted to existing manufacturing facility requirements. Finally, the thin glass sheet in process can be separated from the support substrate by mechanical means or chemical etching or any other suitable method (405). The separated thin glass sheet can optionally be divided into a plurality of parts, each of which can be a display panel attached to the final product. Unlike conventional display panel manufacturing processes, the resulting thin glass sheet is thin enough that the processed glass sheet can be used as is, and does not require additional thinning steps.
上述の実施形態は、1枚の薄型ガラスシートから1枚以上のディスプレイパネルを製造することを目的としているが、同じプロセスは、タッチセンサパネルなどの他のタイプの回路パネル製造にも容易に採用できることが理解されよう。また、製造される実際のパネルによっては、製造に使用される薄型基板は、ガラス以外の基板であり得ることも理解されよう。加えて、接着構造に対して実施されるプロセスは、本明細書に記述されるものに限定されず、回路パネル製造における任意のタイプのプロセスが含まれ得ることも理解されよう。同様に、2枚の基板を分離するメカニズムは、本明細書に記述されるものに限定されず、上記実施形態に記述されたものなどの製造プロセスでの使用に好適な、任意の既知の方法が含まれ得る。 Although the above-described embodiments are aimed at producing one or more display panels from a single thin glass sheet, the same process is easily adopted for the production of other types of circuit panels such as touch sensor panels. It will be understood that it can be done. It will also be appreciated that depending on the actual panel being manufactured, the thin substrate used for manufacturing can be a substrate other than glass. In addition, it will be appreciated that the processes performed on the adhesive structure are not limited to those described herein and may include any type of process in circuit panel manufacturing. Similarly, the mechanism for separating two substrates is not limited to that described herein, and any known method suitable for use in a manufacturing process such as that described in the above embodiments. Can be included.
図5Aは、本開示の実施形態により製造された薄型ディスプレイパネル515を含み得る例示的なデジタルメディアプレーヤ510を示す。
FIG. 5A illustrates an exemplary
図5Bは、本開示の実施形態により製造された薄型ディスプレイパネル525を含み得る例示的な携帯電話520を示す。
FIG. 5B illustrates an exemplary
図5Cは、本開示の実施形態により製造されたディスプレイ装置530を含み得る例示的なパーソナルコンピュータ544を示す。
FIG. 5C illustrates an exemplary personal computer 544 that may include a
図5Dは、本開示の実施形態により製造されたディスプレイ装置592を含む例示的なデスクトップコンピュータ590を示す。
FIG. 5D illustrates an
図5A〜5Dの装置(又は装置部品)は、本開示の実施形態により製造された薄型ディスプレイパネルを利用して軽量化を達成することができる。 The devices (or device components) of FIGS. 5A-5D can achieve weight reduction utilizing thin display panels manufactured according to embodiments of the present disclosure.
図6は、上記の開示の実施形態により製造された1枚以上のDITO又はSITOタッチセンサパネルを含み得る、例示的なコンピューティングシステム600を示す。コンピューティングシステム600には、1つ以上のパネルプロセッサ602及び周辺装置604、並びにパネルサブシステム606が含まれ得る。周辺装置604には、ランダムアクセスメモリ(RAM)又はその他のタイプのメモリ若しくは記憶装置、ウォッチドッグタイマ等が含まれ得るが、これらに限定されない。パネルサブシステム606には、1つ以上の感知チャネル608、チャネルスキャン論理回路610及び駆動論理回路614が含まれ得るが、これらに限定されない。チャネルスキャン論理回路610は、RAM 612にアクセスし、感知チャネルからのデータを自律的に読み込み、感知チャネルの制御を提供することができる。加えて、チャネルスキャン論理回路610は、駆動論理回路614を制御して、タッチセンサパネル624の駆動ラインに選択的に印加可能なさまざまな周波数及び位相で、刺激信号616を生成することができる。いくつかの実施形態において、パネルサブシステム606、パネルプロセッサ602及び周辺装置604は、単一の特定用途向け集積回路(ASIC)に集積することができる。
FIG. 6 illustrates an
タッチセンサパネル624は、複数の駆動ライン及び複数の感知ラインを有する容量性感知媒体を含み得るが、他の感知媒体も使用することができる。駆動ライン及び感知ラインのいずれか又は両方を、本開示の実施形態に係る薄型ガラスシートに接続することができる。駆動ライン及び感知ラインの各交点は、容量性感知ノードとなり得、これは画像素子(ピクセル)626として見ることができる。これは、タッチセンサパネル624がタッチの「画像」をキャプチャするとして見るときに、特に有用である。(換言すれば、タッチセンサパネルにおける各タッチセンサでタッチイベントが検出されたかどうかをパネルサブシステム606が判定した後、タッチイベントが起きたマルチタッチパネル内のタッチセンサパターンを、タッチの「画像」(例えば、パネルをタッチする指のパターンなど)として見ることができる。)タッチセンサパネル624の各感知ラインは、パネルサブシステム606内の感知チャネル608を駆動させることができる。 Touch sensor panel 624 may include a capacitive sensing medium having a plurality of drive lines and a plurality of sensing lines, although other sensing media may be used. Either or both of the drive line and the sensing line can be connected to the thin glass sheet according to the embodiment of the present disclosure. Each intersection of drive lines and sense lines can be a capacitive sense node, which can be viewed as an image element (pixel) 626. This is particularly useful when viewing the touch sensor panel 624 as capturing an “image” of the touch. (In other words, after the panel subsystem 606 determines whether or not a touch event is detected by each touch sensor in the touch sensor panel, the touch sensor pattern in the multi-touch panel in which the touch event has occurred is represented by an “image” ( For example, a finger pattern touching the panel, etc.) Each sensing line of the touch sensor panel 624 can drive a sensing channel 608 in the panel subsystem 606.
コンピューティングシステム600はまた、パネルプロセッサ602からの出力を受け取り、その出力に基づいて動作を実行するためのホストプロセッサ628を含み、この動作には、カーソル若しくはポインタなどのオブジェクトを動かすこと、スクロール若しくはパンを行うこと、コントロール設定を調節すること、ファイル若しくは文書を開くこと、メニューを表示させること、選択を行うこと、指示を実行すること、ホスト装置に接続された周辺装置を操作すること、電話に応答すること、電話をかけること、電話を切ること、音量若しくは音声設定を変更すること、アドレス、頻繁にかける番号、受信通話、未応答通話などの電話通信に関係する情報を記憶すること、コンピュータ若しくはコンピュータネットワークにログオンすること、コンピュータ若しくはコンピュータネットワークの制限領域にアクセスする個人を承認すること、コンピュータデスクトップのユーザの好む配置に伴うユーザプロファイルをロードすること、ウェブコンテンツにアクセスすること、特定のプログラムを開始すること、メッセージを暗号化若しくは解読すること、及び/又は同様のことが含まれ得るがこれらに限定されない。ホストプロセッサ628はまた、パネルプロセスに関係しない可能性がある付加的機能も実施することができ、プログラム記憶装置632及び装置ユーザにUIを提供するためのLCDパネルなどのディスプレイ装置630に接続することができる。ディスプレイ装置630は、タッチセンサパネル624と合わせて、タッチセンサパネルの下に部分的又は完全に配置されるとき、タッチスクリーン618を形成することができる。
上述の1つ以上の機能は、メモリ(例えば、図6の周辺装置604の1つ)に記憶されたファームウェアによって実施し、パネルプロセッサ602によって実行するか、又はプログラム記憶装置632に記憶し、ホストプロセッサ628によって実行することができる。ファームウェアはまた、コンピュータ利用システム、プロセッサ内蔵システム、又は命令実行システム、機器、若しくは装置から命令をフェッチし、その命令を実行できるその他のシステムなどの命令実行システム、機器、若しくは装置によって使用又はこれらと接続する、永続的コンピュータ読み込み可能記憶媒体内において、記憶及び/又は運搬することができる。本明細書の文脈において、「永続的コンピュータ読み込み可能記憶媒体」とは、命令実行システム、機器、又は装置によって使用又はこれらと接続する、プログラムを内蔵又は記憶し得る、任意の媒体であり得る。永続的コンピュータ読み込み可能記憶媒体には、電子的、磁気的、光学的、電磁的、赤外線、又は半導体のシステム、機器若しくは装置、携帯型コンピュータディスク(磁気)、ランダムアクセスメモリ(RAM)(磁気)、リードオンリーメモリ(ROM)(磁気)、消去可能プログラム可能リードオンリーメモリ(EPROM)(磁気)、CD、CD−R、CD−RW、DVD、DVD−R、若しくはDVD−RWなどの携帯型光学ディスク、又はコンパクトフラッシュカード、セキュアデジタルカード、USBメモリ装置、メモリスティックなどのフラッシュメモリが挙げられるがこれらに限定されない。
One or more of the functions described above are implemented by firmware stored in memory (eg, one of the
ファームウェアはまた、コンピュータ利用システム、プロセッサ内蔵システム、又は命令実行システム、機器、若しくは装置から命令をフェッチし、その命令を実行できるその他のシステムなどの命令実行システム、機器、若しくは装置によって使用又はこれらと接続する、搬送用媒体内において、伝搬することができる。本明細書の文脈において、「搬送用媒体」とは、命令実行システム、機器、又は装置によって使用又はこれらと接続する、プログラムを通信、伝搬又は搬送し得る、任意の媒体であり得る。搬送用読み込み可能媒体には、電子的、磁気的、光学的、電磁的又は赤外線の、有線又は無線による伝搬媒体が含まれるがこれらに限定されない。 Firmware is also used or used by instruction execution systems, devices, or devices such as computer-based systems, processor-embedded systems, or instruction execution systems, devices, or other systems that can fetch instructions from and execute the instructions. Propagation is possible in the connected transport medium. In the context of this specification, a “transport medium” can be any medium that can communicate, propagate, or transport a program that is used or connected to by an instruction execution system, apparatus, or device. Transportable readable media include, but are not limited to, electronic, magnetic, optical, electromagnetic, or infrared, wired or wireless propagation media.
一実施形態により、支持基板を使用して、薄型基板からディスプレイパネルを製造する方法は、薄型基板の第1表面上に接着剤を堆積させる工程、支持基板の第2表面上に接着剤を堆積させる工程、第1表面及び第2表面上に堆積された接着剤で、薄型基板及びその支持基板を接着する工程、薄型基板の第1表面とは反対側の第3表面に薄膜プロセスを実施する工程、及びプロセスを実施した薄型基板を支持基板から分離する工程を含んで提供され、この薄型基板は、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、その接着された薄型基板及び支持基板の厚さは、必要な厚さ以上である。 According to one embodiment, a method of manufacturing a display panel from a thin substrate using a support substrate includes depositing an adhesive on the first surface of the thin substrate, depositing the adhesive on the second surface of the support substrate. A step of bonding the thin substrate and its supporting substrate with an adhesive deposited on the first surface and the second surface, and performing a thin film process on the third surface opposite to the first surface of the thin substrate. And separating the thin substrate on which the process has been performed from the support substrate, the thin substrate having a thickness less than that required to withstand a thin film process while being bonded to the thin substrate. The thickness of the thin substrate and the support substrate is equal to or greater than the necessary thickness.
他の実施形態により、この薄型基板はガラスである。 According to another embodiment, the thin substrate is glass.
他の実施形態により、この支持基板はガラスである。 According to another embodiment, the support substrate is glass.
他の実施形態により、この接着剤は、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうち1つである。 According to other embodiments, the adhesive is one of SiO 2 , epoxy, silicone adhesive, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and elastomer.
他の実施形態により、少なくとも1つのディスプレイ層には、液晶ディスプレイ薄膜トランジスタ層が含まれる。 According to another embodiment, the at least one display layer includes a liquid crystal display thin film transistor layer.
他の実施形態により、薄型基板及び支持基板を接着する工程は、薄型基板の第1表面上の一領域を酸化する工程、支持基板の第2表面上の一領域を酸化する工程、薄型基板の第1表面の酸化領域、及び支持基板の第2表面の酸化領域との間に、アニーリングによって酸化層を形成する工程を更に含む。 According to another embodiment, the step of bonding the thin substrate and the support substrate includes the step of oxidizing one region on the first surface of the thin substrate, the step of oxidizing one region on the second surface of the support substrate, The method further includes forming an oxide layer by annealing between the oxidized region on the first surface and the oxidized region on the second surface of the support substrate.
他の実施形態により、この接着剤は、第1表面の縁領域に沿って連続的パターンで堆積される。 According to other embodiments, the adhesive is deposited in a continuous pattern along the edge region of the first surface.
他の実施形態により、薄型基板と支持基板との間を接着は、薄型基板と支持基板との間の空間を密封する密封を形成する。 According to another embodiment, the bond between the thin substrate and the support substrate forms a seal that seals the space between the thin substrate and the support substrate.
他の実施形態により、この空間は真空である。 According to other embodiments, the space is a vacuum.
他の実施形態により、この接着剤は、第1表面上にセグメント化されたパターンで堆積される。 According to other embodiments, the adhesive is deposited in a segmented pattern on the first surface.
他の実施形態により、薄型基板に薄膜プロセスを実施する工程は、TFTプロセスを実施する工程を更に含む。 According to another embodiment, performing the thin film process on the thin substrate further includes performing a TFT process.
他の実施形態により、そのプロセスを実施した薄型基板を支持基板から分離する工程は、薄型基板の第3表面上に複数のスクライブ線を配置する工程、及びその複数のスクライブ線に沿って切断し、薄型基板の一部分を支持基板から分離する工程を更に含む。 According to another embodiment, the step of separating the thin substrate that has performed the process from the support substrate includes the step of disposing a plurality of scribe lines on the third surface of the thin substrate, and cutting along the plurality of scribe lines. And a step of separating a part of the thin substrate from the support substrate.
一実施形態により、複数のスクライブ線は、ディスプレイパネルの外側境界を画定する。 According to one embodiment, the plurality of scribe lines define an outer boundary of the display panel.
他の実施形態により、シャーシは、長方形リング形状を有する金属シャーシを含み、発光ダイオードの第2ストリップを取り付ける工程は、発光ダイオードの第2ストリップをテープで金属シャーシに取り付ける工程を含む。 According to another embodiment, the chassis includes a metal chassis having a rectangular ring shape, and attaching the second strip of light emitting diodes includes attaching the second strip of light emitting diodes to the metal chassis with tape.
他の実施形態により、発光ダイオードの第2ストリップは、フレキシブルプリント基板上の発光ダイオードを含み、ここにおいて発光ダイオードの第2ストリップを取り付ける工程は、このフレキシブルプリント基板をテープでシャーシに取り付ける工程を含む。 According to another embodiment, the second strip of light emitting diodes includes a light emitting diode on a flexible printed circuit board, wherein attaching the second strip of light emitting diodes includes attaching the flexible printed circuit board to the chassis with a tape. .
他の実施形態により、この複数のスクライブ線は、長方形を形成する4本のスクライブ線を含む。 According to another embodiment, the plurality of scribe lines includes four scribe lines that form a rectangle.
他の実施形態により、この方法は更に、分離された、プロセスを実施した薄型基板を、複数のディスプレイパネルに分割する工程を更に含む。 According to another embodiment, the method further includes dividing the separated, processed thin substrate into a plurality of display panels.
他の実施形態により、プロセスを実施した薄型基板を支持基板から分離する工程は、薄型基板と支持基板との間の接着を化学エッチングする工程を更に含む。 According to another embodiment, separating the processed thin substrate from the support substrate further includes chemically etching the adhesion between the thin substrate and the support substrate.
他の実施形態により、必要な厚さは0.5mmである。 According to another embodiment, the required thickness is 0.5 mm.
一実施形態により、薄型ガラスシートからディスプレイパネルを製造する方法は、薄型ガラスシートの第1表面上の一領域を酸化する工程、支持基板を提供する工程、支持基板の第2表面上の一領域を酸化する工程、薄型ガラスシート及び支持基板を酸化された領域において、アニーリングによって接着する工程、薄型ガラスシートの第1表面とは反対側の薄型ガラスシートの第3表面に薄膜プロセスを実施する工程、並びに薄型ガラスシートの第3表面に配置された複数のスクライブ線に沿って切断することによって、プロセスを実施した薄型ガラスシートを支持基板から分離する工程を含んで提供される。 According to one embodiment, a method of manufacturing a display panel from a thin glass sheet includes oxidizing a region on the first surface of the thin glass sheet, providing a support substrate, and a region on the second surface of the support substrate. The step of oxidizing the thin glass sheet and the support substrate by annealing in the oxidized region, the step of performing a thin film process on the third surface of the thin glass sheet opposite to the first surface of the thin glass sheet As well as separating the processed thin glass sheet from the support substrate by cutting along a plurality of scribe lines arranged on the third surface of the thin glass sheet.
他の実施形態により、この支持基板はガラス基板である。 According to another embodiment, the support substrate is a glass substrate.
他の実施形態により、この薄型ガラスシートは、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、その接着された薄型ガラスシート及び支持基板の厚さは、その必要な厚さ以上である。 According to other embodiments, the thin glass sheet has a thickness that is less than that required to withstand a thin film process, while the thickness of the bonded thin glass sheet and support substrate is the required thickness. That's it.
他の実施形態により、薄型ガラスシートの第1表面の一領域を酸化する工程は、その第1表面上に接着剤を堆積させる工程を含む。 According to another embodiment, oxidizing a region of the first surface of the thin glass sheet includes depositing an adhesive on the first surface.
他の実施形態により、この接着剤は、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうち1つである。 According to other embodiments, the adhesive is one of SiO 2 , epoxy, silicone adhesive, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and elastomer.
他の実施形態により、支持基板の第2表面の一領域を酸化する工程は、その第2表面上に接着剤を堆積させる工程を含む。 According to another embodiment, oxidizing the region of the second surface of the support substrate includes depositing an adhesive on the second surface.
他の実施形態により、この接着剤は、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうち1つである。 According to other embodiments, the adhesive is one of SiO 2 , epoxy, silicone adhesive, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and elastomer.
他の実施形態により、複数のスクライブ線に沿った切断は、ウォータージェット切断によって行われる。 According to another embodiment, the cutting along the plurality of scribe lines is performed by water jet cutting.
他の実施形態により、複数のスクライブ線に沿った切断は、レーザスクライビングによって行われる。 According to another embodiment, the cutting along the plurality of scribe lines is performed by laser scribing.
本開示の実施形態は添付される図を参照して完全に記述されているが、当業者には、様々な変更及び改変が明らかとなるであろうことに留意されたい。そのような変更及び改変は、添付される請求項により定義される本開示の実施形態の範囲に含まれるものであることが理解されよう。 While embodiments of the present disclosure have been fully described with reference to the accompanying figures, it should be noted that various changes and modifications will become apparent to those skilled in the art. It will be understood that such changes and modifications are intended to be included within the scope of the embodiments of the present disclosure as defined by the appended claims.
Claims (25)
前記薄型基板の第1表面上に接着剤を堆積させる工程と、
前記支持基板の第2表面上に接着剤を堆積させる工程と、
前記第1表面及び前記第2表面上に堆積された前記接着剤で、前記薄型基板及び前記支持基板を接着する工程と、
前記薄型基板の前記第1表面とは反対側の第3表面に、薄膜プロセスを実施する工程と、
前記プロセスを実施した薄型基板を前記支持基板から分離する工程と、を含み、
前記薄型基板は、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、前記接着された薄型基板と前記支持基板の厚さは、前記必要な厚さ以上である、方法。 A method of manufacturing a display panel from a thin substrate using a support substrate,
Depositing an adhesive on the first surface of the thin substrate;
Depositing an adhesive on the second surface of the support substrate;
Bonding the thin substrate and the support substrate with the adhesive deposited on the first surface and the second surface;
Performing a thin film process on a third surface of the thin substrate opposite to the first surface;
Separating the thin substrate that has undergone the process from the support substrate,
The method, wherein the thin substrate has a thickness that is less than that required to withstand a thin film process, but the thickness of the bonded thin substrate and the support substrate is greater than or equal to the required thickness.
前記薄型基板の前記第1表面上の一領域を酸化する工程と、
前記支持基板の前記第2表面上の一領域を酸化する工程と、
前記薄型基板の前記第1表面の前記酸化領域と前記支持基板の前記第2表面の前記酸化領域との間に、アニーリングによって酸化層を形成する工程と、を更に含む、請求項4に記載の方法。 The step of bonding the thin substrate and the support substrate includes:
Oxidizing a region on the first surface of the thin substrate;
Oxidizing a region on the second surface of the support substrate;
The method further comprises: forming an oxide layer by annealing between the oxidized region of the first surface of the thin substrate and the oxidized region of the second surface of the support substrate. Method.
前記薄型基板の前記第3表面上に複数のスクライブ線を配置する工程と、
前記複数のスクライブ線に沿って切断し、前記薄型基板の一部分を前記支持基板から分離する工程と、を更に含む、請求項1に記載の方法。 Separating the thin substrate that has undergone the process from the support substrate;
Arranging a plurality of scribe lines on the third surface of the thin substrate;
The method of claim 1, further comprising cutting along the plurality of scribe lines to separate a portion of the thin substrate from the support substrate.
前記薄型ガラスシートの第1表面上の一領域を酸化する工程と、
支持基板を提供する工程と、
前記支持基板の第2表面上の一領域を酸化する工程と、
前記薄型ガラスシート及び前記支持基板を前記酸化された領域において、アニーリングによって接着する工程と、
前記第1表面とは反対側の前記薄型ガラスシートの第3表面に、薄膜プロセスを実施する工程と、
前記薄型ガラスシートの前記第3表面に配置された複数のスクライブ線に沿って切断することによって、前記プロセスを実施した薄型ガラスシートを前記支持基板から分離する工程と、を含む、方法。 A method of manufacturing a display panel from a thin glass sheet,
Oxidizing a region on the first surface of the thin glass sheet;
Providing a support substrate;
Oxidizing a region on the second surface of the support substrate;
Bonding the thin glass sheet and the support substrate in the oxidized region by annealing;
Performing a thin film process on the third surface of the thin glass sheet opposite to the first surface;
Separating the thin glass sheet subjected to the process from the support substrate by cutting along a plurality of scribe lines disposed on the third surface of the thin glass sheet.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/234,072 US9063605B2 (en) | 2009-01-09 | 2011-09-15 | Thin glass processing using a carrier |
US13/234,072 | 2011-09-15 | ||
PCT/US2012/054886 WO2013040051A1 (en) | 2011-09-15 | 2012-09-12 | Thin glass processing using a carrier substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014531387A true JP2014531387A (en) | 2014-11-27 |
JP5828496B2 JP5828496B2 (en) | 2015-12-09 |
Family
ID=47144062
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014528707A Active JP5828496B2 (en) | 2011-09-15 | 2012-09-12 | Thin glass manufacturing method using support substrate |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9063605B2 (en) |
JP (1) | JP5828496B2 (en) |
WO (1) | WO2013040051A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102067931B1 (en) * | 2019-05-17 | 2020-01-17 | 주식회사 진우엔지니어링 | Manufacturing method of cover window using thin glass for smartphone |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10543662B2 (en) | 2012-02-08 | 2020-01-28 | Corning Incorporated | Device modified substrate article and methods for making |
TW201409298A (en) * | 2012-08-21 | 2014-03-01 | Wintek Corp | Display module |
JP2015532004A (en) * | 2012-08-22 | 2015-11-05 | コーニング インコーポレイテッド | Flexible glass substrate processing |
JP6329540B2 (en) * | 2012-08-22 | 2018-05-23 | コーニング インコーポレイテッド | Processing of flexible glass substrate and substrate laminate including flexible glass substrate and carrier substrate |
US20150170967A1 (en) * | 2012-08-23 | 2015-06-18 | Michael Xiaoxuan Yang | Methods for Substrate and Device Fabrications |
US9340443B2 (en) | 2012-12-13 | 2016-05-17 | Corning Incorporated | Bulk annealing of glass sheets |
TWI617437B (en) | 2012-12-13 | 2018-03-11 | 康寧公司 | Facilitated processing for controlling bonding between sheet and carrier |
US10086584B2 (en) | 2012-12-13 | 2018-10-02 | Corning Incorporated | Glass articles and methods for controlled bonding of glass sheets with carriers |
US10014177B2 (en) * | 2012-12-13 | 2018-07-03 | Corning Incorporated | Methods for processing electronic devices |
WO2014179136A1 (en) * | 2013-04-29 | 2014-11-06 | Corning Incorporated | Methods of separating desired parts of a thin sheet from a carrier |
KR102082271B1 (en) * | 2013-05-24 | 2020-04-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | System for Separating Carrier Substrate and Method of Separating the Same |
KR102038986B1 (en) * | 2013-05-28 | 2019-11-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | Glass laminate, display panel on carrier glass substrate, display device, method of manufacturing glass laminate, and method for manufacturing display panel |
KR20150001006A (en) | 2013-06-26 | 2015-01-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | Glass film laminate, method of manufacturing the same, and method of manufacturing glass film |
US9599852B1 (en) * | 2013-08-05 | 2017-03-21 | Lensvector, Inc. | Manufacturing of liquid crystal lenses using carrier substrate |
KR20150016791A (en) | 2013-08-05 | 2015-02-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | Method for manufacturing liquid crystal display pannel and laminate therefor |
US10510576B2 (en) | 2013-10-14 | 2019-12-17 | Corning Incorporated | Carrier-bonding methods and articles for semiconductor and interposer processing |
JP6770432B2 (en) | 2014-01-27 | 2020-10-14 | コーニング インコーポレイテッド | Articles and methods for controlled binding of thin sheets to carriers |
KR20160145062A (en) | 2014-04-09 | 2016-12-19 | 코닝 인코포레이티드 | Device modified substrate article and methods for making |
WO2016017649A1 (en) * | 2014-08-01 | 2016-02-04 | 旭硝子株式会社 | Glass laminate, supporting substrate with inorganic layer, method for manufacturing electronic device, and method for producing supporting substrate with inorganic layer |
KR102465503B1 (en) * | 2015-04-03 | 2022-11-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | Light emitting display device and method of manufacturing the same |
JP2018524201A (en) | 2015-05-19 | 2018-08-30 | コーニング インコーポレイテッド | Articles and methods for bonding sheets with carriers |
JP7106276B2 (en) | 2015-06-26 | 2022-07-26 | コーニング インコーポレイテッド | Articles and methods with sheets and carriers |
TW201825623A (en) | 2016-08-30 | 2018-07-16 | 美商康寧公司 | Siloxane plasma polymers for sheet bonding |
TWI810161B (en) | 2016-08-31 | 2023-08-01 | 美商康寧公司 | Articles of controllably bonded sheets and methods for making same |
CN111615567B (en) | 2017-12-15 | 2023-04-14 | 康宁股份有限公司 | Method for treating substrate and method for producing article including adhesive sheet |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5854316A (en) * | 1981-09-25 | 1983-03-31 | Sharp Corp | Production for liquid crystal display device |
JP2000252342A (en) * | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Seiko Epson Corp | Method for transporting thin plate and manufacture of liquid crystal panel |
JP2003012344A (en) * | 2001-06-26 | 2003-01-15 | Sharp Corp | Non-alkali glass substrate and method for manufacturing the same |
JP2003216068A (en) * | 2002-01-28 | 2003-07-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Display device and substrate for display device, and method of manufacturing the same |
WO2007129554A1 (en) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Asahi Glass Company, Limited | Thin-sheet glass laminate, process for manufacturing display apparatus using the laminate, and supporting glass substrate |
US20080053604A1 (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Gi Heon Kim | Method of stacking flexible substrate |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5231757A (en) | 1975-09-05 | 1977-03-10 | Hitachi Ltd | Manufacturing method of liquid crystal display element |
US5483261A (en) | 1992-02-14 | 1996-01-09 | Itu Research, Inc. | Graphical input controller and method with rear screen image detection |
JP2678325B2 (en) | 1992-03-06 | 1997-11-17 | カシオ計算機株式会社 | Manufacturing method of liquid crystal display element |
US5488204A (en) | 1992-06-08 | 1996-01-30 | Synaptics, Incorporated | Paintbrush stylus for capacitive touch sensor pad |
US5880411A (en) | 1992-06-08 | 1999-03-09 | Synaptics, Incorporated | Object position detector with edge motion feature and gesture recognition |
KR0171092B1 (en) | 1995-07-06 | 1999-05-01 | 구자홍 | Method of manufacturing substrate |
US5825352A (en) | 1996-01-04 | 1998-10-20 | Logitech, Inc. | Multiple fingers contact sensing method for emulating mouse buttons and mouse operations on a touch sensor pad |
US5937512A (en) | 1996-01-11 | 1999-08-17 | Micron Communications, Inc. | Method of forming a circuit board |
DE19619454A1 (en) | 1996-05-14 | 1997-11-20 | Gut Ges Fuer Umwelttechnik Mbh | Reactor for doping fuels and fuels with tin-containing materials |
JPH09312245A (en) | 1996-05-21 | 1997-12-02 | Hoya Corp | Thin-film-deposited substrate and manufacture thereof |
US5835079A (en) | 1996-06-13 | 1998-11-10 | International Business Machines Corporation | Virtual pointing device for touchscreens |
US6327011B2 (en) | 1997-10-20 | 2001-12-04 | Lg Electronics, Inc. | Liquid crystal display device having thin glass substrate on which protective layer formed and method of making the same |
US6310610B1 (en) | 1997-12-04 | 2001-10-30 | Nortel Networks Limited | Intelligent touch display |
US8479122B2 (en) | 2004-07-30 | 2013-07-02 | Apple Inc. | Gestures for touch sensitive input devices |
US7663607B2 (en) | 2004-05-06 | 2010-02-16 | Apple Inc. | Multipoint touchscreen |
KR100595925B1 (en) | 1998-01-26 | 2006-07-05 | 웨인 웨스터만 | Method and apparatus for integrating manual input |
US6188391B1 (en) | 1998-07-09 | 2001-02-13 | Synaptics, Inc. | Two-layer capacitive touchpad and method of making same |
JP4542637B2 (en) | 1998-11-25 | 2010-09-15 | セイコーエプソン株式会社 | Portable information device and information storage medium |
US6350664B1 (en) | 1999-09-02 | 2002-02-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
JP3800984B2 (en) | 2001-05-21 | 2006-07-26 | ソニー株式会社 | User input device |
US8512580B2 (en) | 2001-09-21 | 2013-08-20 | Lg Display Co., Ltd. | Method of fabricating thin liquid crystal display device |
JP2003173237A (en) | 2001-09-28 | 2003-06-20 | Ricoh Co Ltd | Information input-output system, program and storage medium |
US6690387B2 (en) | 2001-12-28 | 2004-02-10 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Touch-screen image scrolling system and method |
US11275405B2 (en) | 2005-03-04 | 2022-03-15 | Apple Inc. | Multi-functional hand-held device |
FR2847077B1 (en) | 2002-11-12 | 2006-02-17 | Soitec Silicon On Insulator | SEMICONDUCTOR COMPONENTS, PARTICULARLY OF THE MIXED SOI TYPE, AND METHOD OF MAKING SAME |
JP4063082B2 (en) | 2003-01-10 | 2008-03-19 | 日本電気株式会社 | Flexible electronic device and manufacturing method thereof |
US20050001201A1 (en) | 2003-07-03 | 2005-01-06 | Bocko Peter L. | Glass product for use in ultra-thin glass display applications |
US7497754B2 (en) | 2004-04-30 | 2009-03-03 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Method for thinning substrate of EL device |
US7262112B2 (en) | 2005-06-27 | 2007-08-28 | The Regents Of The University Of California | Method for producing dislocation-free strained crystalline films |
KR101285442B1 (en) | 2005-08-09 | 2013-07-12 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | Thin sheet glass laminate and method for manufacturing display using thin sheet glass laminate |
US20080070340A1 (en) * | 2006-09-14 | 2008-03-20 | Nicholas Francis Borrelli | Image sensor using thin-film SOI |
US20070196578A1 (en) | 2006-10-10 | 2007-08-23 | Michael Karp | Method and system for coating |
JP4000178B1 (en) | 2006-12-19 | 2007-10-31 | 株式会社テスコム | Touch panel display device and touch panel unit manufacturing method |
US7924362B2 (en) | 2007-04-20 | 2011-04-12 | Via Optronics, Llc | Bezelless display system having a display assembly with an overlay including a transparent section optically bonded to a display region with an optical layer that includes a pre-cured adhesive preform |
US7935780B2 (en) | 2007-06-25 | 2011-05-03 | Brewer Science Inc. | High-temperature spin-on temporary bonding compositions |
US8633915B2 (en) | 2007-10-04 | 2014-01-21 | Apple Inc. | Single-layer touch-sensitive display |
US8673163B2 (en) * | 2008-06-27 | 2014-03-18 | Apple Inc. | Method for fabricating thin sheets of glass |
US7918019B2 (en) | 2009-01-09 | 2011-04-05 | Apple Inc. | Method for fabricating thin touch sensor panels |
TWI439976B (en) | 2009-04-17 | 2014-06-01 | Ind Tech Res Inst | Method for isolating a flexible film from a substrate and method for fabricating an electric device |
-
2011
- 2011-09-15 US US13/234,072 patent/US9063605B2/en active Active
-
2012
- 2012-09-12 WO PCT/US2012/054886 patent/WO2013040051A1/en active Application Filing
- 2012-09-12 JP JP2014528707A patent/JP5828496B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5854316A (en) * | 1981-09-25 | 1983-03-31 | Sharp Corp | Production for liquid crystal display device |
JP2000252342A (en) * | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Seiko Epson Corp | Method for transporting thin plate and manufacture of liquid crystal panel |
JP2003012344A (en) * | 2001-06-26 | 2003-01-15 | Sharp Corp | Non-alkali glass substrate and method for manufacturing the same |
JP2003216068A (en) * | 2002-01-28 | 2003-07-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Display device and substrate for display device, and method of manufacturing the same |
WO2007129554A1 (en) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Asahi Glass Company, Limited | Thin-sheet glass laminate, process for manufacturing display apparatus using the laminate, and supporting glass substrate |
US20080053604A1 (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Gi Heon Kim | Method of stacking flexible substrate |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102067931B1 (en) * | 2019-05-17 | 2020-01-17 | 주식회사 진우엔지니어링 | Manufacturing method of cover window using thin glass for smartphone |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2013040051A1 (en) | 2013-03-21 |
US9063605B2 (en) | 2015-06-23 |
US20120009703A1 (en) | 2012-01-12 |
JP5828496B2 (en) | 2015-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5828496B2 (en) | Thin glass manufacturing method using support substrate | |
US9615448B2 (en) | Method for fabricating thin sheets of glass | |
TWI418462B (en) | Method for transferring thin film to substrate | |
US7918019B2 (en) | Method for fabricating thin touch sensor panels | |
US8368661B2 (en) | Method for fabricating touch sensor panels | |
CN111508351B (en) | Display stack, computing device and method for generating a foldable display | |
US9614168B2 (en) | Flexible display panel with bent substrate | |
KR101398315B1 (en) | A method for fabricating touch sensor panels | |
TWI384434B (en) | Flexible display panel, manufacturing method thereof, electro-optical apparatus and manufacturing method thereof | |
WO2015032202A1 (en) | Array substrate, flexible display device and method of manufacturing array substrate | |
US10338708B2 (en) | Flexible touch screen, method for manufacturing the same and touch device | |
JP2011198207A (en) | Method for manufacturing capacitive touch panel and capacitive touch panel | |
JP2014531391A (en) | Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening | |
KR20150007107A (en) | Touch sensor | |
CN105867668B (en) | Thin film processing method and touch panel manufacturing method | |
US20110279394A1 (en) | Touch screen panel structure of mobile device | |
TW201020870A (en) | Manufacturing methods of touch display panel and electronic device applied with the same | |
US9268421B2 (en) | Touch panel and method for fabricating the same and display device comprising the same | |
US20160170247A1 (en) | Display with Spacer Ring | |
WO2018192400A1 (en) | Display apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150525 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150924 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151014 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5828496 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |