JP2014531387A - Thin glass manufacturing method using support substrate - Google Patents

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Abstract

支持基板(102、304、304’)を使用して、薄型基板(100、200、200’)からディスプレイパネルを製造する方法が開示される。この方法は、薄型基板(100、200、200’)の第1表面上に接着剤(101)を堆積させる工程、支持基板(102、304、304’)の第2表面上に接着剤(103)を堆積せる工程、第1表面及び第2表面上に堆積された接着剤(101、103)で、薄型基板(100、200、200’)及びその支持基板(102、304、304’)を接着する工程、薄型基板(100、200、200’)の第1表面とは反対側の第3表面に薄膜プロセスを実施する工程、並びにこのプロセスを実施した薄型基板(100、200、200’)を支持基板(102、304、304’)から分離する工程を含む。この薄型基板(100、200、200’)は、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、接着された薄型基板(100、200、200’)及び支持基板(102、304、304’)の合わせた厚さは、その必要な厚さ以上である。A method of manufacturing a display panel from a thin substrate (100, 200, 200 ') using a support substrate (102, 304, 304') is disclosed. The method includes depositing an adhesive (101) on a first surface of a thin substrate (100, 200, 200 ′), an adhesive (103 on a second surface of a support substrate (102, 304, 304 ′). ), A thin substrate (100, 200, 200 ′) and its supporting substrate (102, 304, 304 ′) with adhesives (101, 103) deposited on the first surface and the second surface. A step of bonding, a step of performing a thin film process on the third surface opposite to the first surface of the thin substrate (100, 200, 200 ′), and a thin substrate (100, 200, 200 ′) on which this process is performed Separating the substrate from the support substrate (102, 304, 304 ′). The thin substrate (100, 200, 200 ′) has a thickness that is thinner than necessary to withstand a thin film process, while being bonded to the thin substrate (100, 200, 200 ′) and the supporting substrate (102). , 304, 304 ′) is greater than the required thickness.

Description

本出願は、米国特許出願第13/234,072号(2011年9月15日出願)及び国際特許出願PCT/US12/54886(2012年9月12日出願)に対する優先権を主張し、この全文が参照によって本明細書に組み込まれる。   This application claims priority to U.S. Patent Application No. 13 / 234,072 (filed September 15, 2011) and International Patent Application PCT / US12 / 54886 (filed September 12, 2012). Is incorporated herein by reference.

本発明は全体として、電子装置用のディスプレイパネルなどの回路パネルの製造に関し、より具体的には、支持基板に接着することによる薄型ガラスシートの製法に関する。   The present invention relates generally to the manufacture of circuit panels such as display panels for electronic devices, and more specifically to a method for producing a thin glass sheet by bonding to a support substrate.

近年、モバイル電子装置がその携帯性、多用途性、及び使いやすさの点から幅広く普及してきている。現在市場にあるスマートフォン、ポータブル音楽/ビデオプレーヤ、タブレット型パーソナルコンピュータ(PC)などのモバイル電子装置は、数多くの様々なタイプがあるが、その多くはいくつかの基本的なコンポーネントを共有している。特に、これらの装置の多くは、液晶ディスプレイ(LCD)又は有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイなどのディスプレイを含む。このディスプレイをタッチセンサパネルの裏側に部分的又は全面的に配置して、タッチスクリーンを形成することができ、タッチスクリーンは様々なタイプのモバイル電子装置における入力装置として広く採用されている。   In recent years, mobile electronic devices have become widespread due to their portability, versatility, and ease of use. There are many different types of mobile electronic devices such as smartphones, portable music / video players, and tablet personal computers (PCs) currently on the market, many of which share some basic components. . In particular, many of these devices include displays such as liquid crystal displays (LCD) or organic light emitting diode (OLED) displays. This display can be partially or fully disposed on the back side of the touch sensor panel to form a touch screen, which is widely adopted as an input device in various types of mobile electronic devices.

モバイル電子装置のディスプレイは典型的に、ディスプレイパネルを含み、これはガラス又はその他の好適な透明基板から作製され得る。装置の全重量及び厚さを最小限に抑えるため、装置のディスプレイパネルはできる限り薄くすることが望ましい。それにもかかわらず、ディスプレイパネルの薄さは、既存の製造設備の最低厚さ許容限度によって制限される。ディスプレイパネルは典型的に、ガラスシートなどの透明基板から製造される。薄すぎるガラスシートは製造設備に適合しない可能性があり、及び/又は製造プロセスの厳しさに耐えるには脆すぎる可能性がある。既存の製造設備の多くは、例えば最低厚さ0.5mmのガラスシート(又は他の類似の透明基板)のみを処理することができる。この最低厚さよりも薄いガラスシートは、この設備で取り扱うことができるが、歩留りと製造能力は制限され得る。したがって、既存のディスプレイパネル製造プロセスは多くの場合、他のプロセス工程のほとんどが実施された後、ディスプレイパネルの厚さを減少させる薄板化工程を必要とする。しかしながら、薄板化プロセス中に欠陥が生じ、ディスプレイパネルが使用不能になった場合、そのパネルに対するすべての薄板化の予備プロセスが無駄になる可能性があり、これは潜在的に、ディスプレイパネルの製造全体のコストを増加させる可能性がある。ゆえに、薄型ガラスから直接ディスプレイパネルを製造できることが望ましい。   Mobile electronic device displays typically include a display panel, which can be made of glass or other suitable transparent substrate. In order to minimize the overall weight and thickness of the device, it is desirable to make the display panel of the device as thin as possible. Nevertheless, the thinness of the display panel is limited by the minimum thickness tolerance of existing manufacturing equipment. Display panels are typically manufactured from a transparent substrate such as a glass sheet. Glass sheets that are too thin may not be compatible with manufacturing equipment and / or may be too brittle to withstand the rigors of the manufacturing process. Many existing manufacturing facilities can only process glass sheets (or other similar transparent substrates) with a minimum thickness of 0.5 mm, for example. Glass sheets thinner than this minimum thickness can be handled with this facility, but yield and manufacturing capacity can be limited. Thus, existing display panel manufacturing processes often require a thinning step that reduces the thickness of the display panel after most of the other process steps are performed. However, if a defect occurs during the thinning process and the display panel becomes unusable, all thinning preliminary processes for that panel may be wasted, potentially resulting in display panel manufacturing. May increase overall cost. It is therefore desirable to be able to manufacture display panels directly from thin glass.

本発明は、薄型ディスプレイパネルの製造に関する。上述のように、ディスプレイパネルを製造するための既存の設備は、最低厚さ許容限度が約0.5mmで設計されている。これは、ディスプレイパネルを製造するのに使用されるガラスシート(又は他の透明材料)が、製造の苛酷さに耐えるためには少なくとも約0.5mmの厚さである必要があるからである。これより薄いガラスシートは、製造プロセス中に取扱い上の問題を引き起こす可能性がある。それにもかかわらず、本開示の様々な実施形態で開示される方法は、既存の製造設備を用いて製造される0.5mm未満の厚さを伴った薄型ディスプレイパネルを可能にする。一実施形態において、薄型ガラスシートは、支持基板に接着することができ、これにより、製造中に薄型ガラスシートの表面に薄膜プロセスを実施するときに、ガラスシート及び支持基板を合わせた厚さが約0.5mm未満にならないようにすることができる。薄型ガラスシート及び支持基板の接着は、薄型ガラスシート及び支持基板の領域を酸化させ、その酸化領域を互いに接触させ、その酸化領域を加熱して薄型ガラスシート及び支持基板を接着させることにより、実施することができる。このプロセスを実施した薄型ガラスシートは、最終的に支持基板から分離し、任意選択により、最終製品に嵌合するように複数の薄型ディスプレイパネルに分割することができる。   The present invention relates to the manufacture of thin display panels. As mentioned above, existing equipment for manufacturing display panels is designed with a minimum thickness tolerance of about 0.5 mm. This is because the glass sheet (or other transparent material) used to manufacture the display panel needs to be at least about 0.5 mm thick to withstand the manufacturing rigors. Thinner glass sheets can cause handling problems during the manufacturing process. Nevertheless, the methods disclosed in various embodiments of the present disclosure allow for a thin display panel with a thickness of less than 0.5 mm that is manufactured using existing manufacturing equipment. In one embodiment, the thin glass sheet can be bonded to the support substrate, so that when the thin film process is performed on the surface of the thin glass sheet during manufacture, the combined thickness of the glass sheet and the support substrate is It can be less than about 0.5 mm. The thin glass sheet and the support substrate are bonded by oxidizing the regions of the thin glass sheet and the support substrate, bringing the oxidized regions into contact with each other, and heating the oxidized region to bond the thin glass sheet and the support substrate. can do. The thin glass sheet subjected to this process can be finally separated from the support substrate and optionally divided into a plurality of thin display panels to fit into the final product.

本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程である。6 is an exemplary process in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程である。6 is an exemplary process in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程である。6 is an exemplary process in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程である。6 is an exemplary process in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程である。6 is an exemplary process in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程である。本開示の実施形態に係る薄型ガラスシートの表面上の例示的な接着領域である。6 is an exemplary process in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 2 is an exemplary adhesion region on a surface of a thin glass sheet according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程である。本開示の実施形態に係る薄型ガラスシートの表面上の例示的な接着領域である。6 is an exemplary process in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 2 is an exemplary adhesion region on a surface of a thin glass sheet according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な切断工程である。4 is an exemplary cutting step in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な切断工程である。4 is an exemplary cutting step in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスに係る例示的な化学エッチング工程である。4 is an exemplary chemical etching process according to a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な工程を示すフローチャートである。5 is a flowchart illustrating exemplary steps in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態により製造されたディスプレイパネルを有する例示的なデジタルメディアプレーヤである。1 is an exemplary digital media player having a display panel manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態により製造されたディスプレイパネルを有する例示的な携帯電話である。2 is an exemplary mobile phone having a display panel manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態により製造されたディスプレイパネルを有する例示的なモバイルコンピュータである。1 is an exemplary mobile computer having a display panel manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態により製造されたディスプレイパネルを有する例示的なデスクトップコンピュータである。2 is an exemplary desktop computer having a display panel manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure. 本開示の実施形態により製造されたタッチセンサパネルを含む例示的なコンピューティングシステムである。1 is an exemplary computing system including a touch sensor panel manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure.

下記の好ましい実施形態の記述において、本明細書の一部を形成する添付図に対して参照が行われ、本開示が実施可能な具体的な実施形態を例示することによって示される。他の実施形態が使用されてもよく、本開示の実施形態の範囲から逸脱せずに構造的変更が行われてもよいということが理解される。   In the following description of the preferred embodiments, references are made to the accompanying drawings that form a part hereof, and are shown by way of illustration of specific embodiments in which the disclosure may be practiced. It is understood that other embodiments may be used and structural changes may be made without departing from the scope of the embodiments of the present disclosure.

本発明は、薄型ディスプレイパネルの製造に関する。上述のように、ディスプレイパネルを製造するための既存の設備は、最低厚さ許容限度が約0.5mmで設計されている。これは、ディスプレイパネルを製造するのに使用されるガラスシート(又は他の透明材料)が、製造の苛酷さに耐えるためには少なくとも約0.5mmの厚さである必要があるからである。これより薄いガラスシートは、製造プロセス中に取扱い上の問題を引き起こす可能性がある。それにもかかわらず、本開示の様々な実施形態で開示される方法は、既存の製造設備を用いて製造される0.5mm未満の厚さを備えた薄型ディスプレイパネルを可能にする。一実施形態において、薄型ガラスシートは、支持基板に接着することができ、これにより、製造中に薄型ガラスシートの表面に薄膜プロセスを実施するときに、ガラスシート及び支持基板を合わせた厚さが約0.5mm未満にならないようにすることができる。薄型ガラスシート及び支持基板の接着は、薄型ガラスシート及び支持基板の領域を酸化させ、その酸化領域を互いに接触させ、その酸化領域を加熱して薄型ガラスシートと支持基板を接着させることによって、実施することができる。このプロセスを実施した薄型ガラスシートは、最終的に支持基板から分離し、任意選択により、最終製品に嵌合するように複数の薄型ディスプレイパネルに分割することができる。   The present invention relates to the manufacture of thin display panels. As mentioned above, existing equipment for manufacturing display panels is designed with a minimum thickness tolerance of about 0.5 mm. This is because the glass sheet (or other transparent material) used to manufacture the display panel needs to be at least about 0.5 mm thick to withstand the manufacturing rigors. Thinner glass sheets can cause handling problems during the manufacturing process. Nevertheless, the methods disclosed in various embodiments of the present disclosure allow for a thin display panel with a thickness of less than 0.5 mm manufactured using existing manufacturing equipment. In one embodiment, the thin glass sheet can be bonded to the support substrate, so that when the thin film process is performed on the surface of the thin glass sheet during manufacture, the combined thickness of the glass sheet and the support substrate is It can be less than about 0.5 mm. The thin glass sheet and the support substrate are bonded by oxidizing the regions of the thin glass sheet and the support substrate, bringing the oxidized regions into contact with each other, and heating the oxidized region to bond the thin glass sheet and the support substrate. can do. The thin glass sheet subjected to this process can be finally separated from the support substrate and optionally divided into a plurality of thin display panels to fit into the final product.

本開示の実施形態は、薄型ガラスシートからディスプレイパネルを製造することに関して本明細書において記述及び例示されているが、本開示の実施形態は、それらのパネル及び基板に限定されるものではなく、薄板基板から製造されるタッチセンサパネルなどの他のタイプの回路パネルに全体的に適用可能であることが理解されよう。加えて、本明細では既存設備の例示的な最低厚さ許容限度として0.5mmが使用されており、実施形態は0.5mmより薄いディスプレイパネルを製造するのに好適なものとして記述されている。しかしながら、ディスプレイパネル(及び他のタイプの回路パネル)製造設備の最低厚さ許容限度は変化する可能性があり、時間経過と共に改善が見込まれることが理解されよう。それにもかかわらず、本開示の実施形態は、本明細書で記述される例示的な最低厚さ許容限度よりも薄い厚さを有するパネルを製造するのに有効である。   Although embodiments of the present disclosure are described and illustrated herein with respect to manufacturing display panels from thin glass sheets, embodiments of the present disclosure are not limited to those panels and substrates, It will be appreciated that the present invention is generally applicable to other types of circuit panels, such as touch sensor panels manufactured from a thin substrate. In addition, 0.5 mm is used herein as an exemplary minimum thickness tolerance for existing equipment, and embodiments are described as suitable for manufacturing display panels thinner than 0.5 mm. . However, it will be appreciated that the minimum thickness tolerance of display panel (and other types of circuit panel) manufacturing equipment can vary and will improve over time. Nevertheless, embodiments of the present disclosure are useful for manufacturing panels having a thickness that is less than the exemplary minimum thickness tolerances described herein.

図1A〜1Eは本開示の実施形態に係る支持基板を用いたディスプレイ製造プロセスの例示的な工程を示す。図1Aに示すように、厚さ0.5mm未満の薄型ガラスシート100が、ディスプレイパネル製造のために提供され得る。薄型ガラスシート100に加え、支持基板102も提供され得る。支持基板102は、別のガラス基板であり得る。他の実施形態において、支持基板102は異なる基板であり得る。薄型ガラスシート100及び支持基板102を合わせた厚さは、ガラス基板に薄膜プロセスを実施するため既存設備の最低要件に適合し得る。   1A-1E illustrate exemplary steps of a display manufacturing process using a support substrate according to an embodiment of the present disclosure. As shown in FIG. 1A, a thin glass sheet 100 having a thickness of less than 0.5 mm may be provided for display panel manufacture. In addition to the thin glass sheet 100, a support substrate 102 may also be provided. The support substrate 102 can be another glass substrate. In other embodiments, the support substrate 102 can be a different substrate. The combined thickness of the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 can meet the minimum requirements of existing equipment for performing thin film processes on the glass substrate.

薄型ガラスシート100及び支持基板102は次に、合わせて接着され、接着構造を形成する。一実施形態において、薄型ガラスシート100と支持基板102の接着は、接着剤によって促進させることができる。様々な実施形態において、接着剤は、薄型ガラスシート又は支持基板のいずれかに適用することができる。例えば、図1Bに示すように、薄型ガラスシート100の表面のうちの1つ上の領域は、二酸化ケイ素(SiO2)などの接着剤101で酸化させることができる。同様に、薄板支持基板の表面上の一領域を、接着剤103で酸化させることもできる。他の可能な接着剤には、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーが挙げられるがこれらに限定されない。これらの接着剤は、液体(若しくはゲル)又は粘着テープでの接着剤として適用することができる。 The thin glass sheet 100 and the support substrate 102 are then bonded together to form an adhesive structure. In one embodiment, the adhesion between the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 can be promoted by an adhesive. In various embodiments, the adhesive can be applied to either a thin glass sheet or a support substrate. For example, as shown in FIG. 1B, a region on one of the surfaces of the thin glass sheet 100 can be oxidized with an adhesive 101 such as silicon dioxide (SiO 2 ). Similarly, a region on the surface of the thin plate supporting substrate can be oxidized with the adhesive 103. Other possible adhesives include, but are not limited to, epoxies, silicone adhesives, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylics, urethanes, synthetic rubbers, and elastomers. These adhesives can be applied as adhesives in liquid (or gel) or adhesive tape.

接着剤は、薄型ガラスシート100及び支持基板102の表面に、既定のパターンで適用することができる。例えば、図2Aの長方形薄型ガラスシート200の平面図に示すように、接着剤は薄型ガラスシート200の縁領域に沿って細いストリップ202で連続的に適用することができる。本質的に、接着剤の細いストリップ202は、薄型ガラスシート200の上に接着領域を形成できる。図示されていないが、この接着剤は、薄型ガラスシート200及び支持基板を互いに接触させたときに、薄型ガラスシート200の接着領域202及び支持基板102の接着領域が実質的に重なり合うことができるように、合致するパターンで支持基板の一表面上に適用することができる。   The adhesive can be applied to the surfaces of the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 in a predetermined pattern. For example, as shown in the plan view of the rectangular thin glass sheet 200 of FIG. 2A, the adhesive can be applied continuously with a thin strip 202 along the edge region of the thin glass sheet 200. In essence, the thin strip 202 of adhesive can form an adhesive region on the thin glass sheet 200. Although not shown, this adhesive allows the adhesive region 202 of the thin glass sheet 200 and the adhesive region of the support substrate 102 to substantially overlap when the thin glass sheet 200 and the support substrate are brought into contact with each other. Alternatively, it can be applied on one surface of the support substrate in a matching pattern.

別の実施例において、図2Bに示すように、接着剤は、薄型ガラスシート200’の頂面上の縁領域に沿って不連続パターン202’で堆積できる。同様に、接着剤は、支持基板の表面上に合致するパターンで堆積できる(図示せず)。パターンが薄型ガラスシートと支持基板を十分に接着することができ、支持基板が後続のプロセスに耐えるのに十分な剛性を有しているかぎり、接着剤は、図2A及び2Bに示すものとは異なるパターンで堆積できることも理解されよう。図2A及び2Bは、長方形の薄型ガラスシート200、200’を示しているが、この薄型ガラスシート200、200’は、正方形、円形、又は他の任意の形状であり得ることが理解されよう。各薄型ガラスシート上の接着領域は、その薄型ガラスシートの形状によっても異なり得る。   In another example, the adhesive can be deposited in a discontinuous pattern 202 'along the edge region on the top surface of the thin glass sheet 200', as shown in FIG. 2B. Similarly, the adhesive can be deposited in a matching pattern on the surface of the support substrate (not shown). As long as the pattern can sufficiently bond the thin glass sheet and the support substrate, and the support substrate has sufficient rigidity to withstand subsequent processes, the adhesive is not what is shown in FIGS. 2A and 2B. It will also be appreciated that different patterns can be deposited. 2A and 2B illustrate a rectangular thin glass sheet 200, 200 ', it will be understood that the thin glass sheet 200, 200' may be square, circular, or any other shape. The adhesion area on each thin glass sheet may vary depending on the shape of the thin glass sheet.

図1Cを参照して、薄型ガラスシート100及び支持基板102の表面に接着剤が適用された後、薄型ガラスシート100及び支持基板102は、接着剤101、103によって合わせて接着され、サンドイッチ構造104を形成することができる。一実施形態において、この接着は、薄型ガラスシート100の一表面上にある接着領域、及び支持基板102の相対する表面上にある接着領域を位置合わせし、その接着領域が互いに接触させることによって、促進することができる。いったん接触すると、適切な温度及び/又は圧力などの適正な条件下において、薄型ガラスシート100と支持基板との間の接着によって、この2つの基板が合わせて接着され得る。別の一実施形態において、薄型ガラスシートが別のガラス基板に接着される場合、両方の基板がすでに酸化されていて、温度及び/又は圧力の適用により接着されてもよい。   Referring to FIG. 1C, after the adhesive is applied to the surfaces of the thin glass sheet 100 and the support substrate 102, the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 are bonded together by the adhesives 101 and 103, and the sandwich structure 104. Can be formed. In one embodiment, this adhesion is achieved by aligning the adhesion area on one surface of the thin glass sheet 100 and the adhesion area on the opposite surface of the support substrate 102 and bringing the adhesion areas into contact with each other, Can be promoted. Once in contact, the two substrates can be bonded together by bonding between the thin glass sheet 100 and the support substrate under appropriate conditions such as appropriate temperature and / or pressure. In another embodiment, when a thin glass sheet is bonded to another glass substrate, both substrates may already be oxidized and bonded by application of temperature and / or pressure.

SiO2が接着剤として使用され、両方の基板の接着領域に堆積される実施形態において、接着領域が酸化され得る。酸化された接着領域が互いに接触させられ、アニーリングされると、接着が形成されて、薄型ガラスシート100及び支持基板102を効果的に接着することができる。薄型ガラスシート100及び支持基板102を合わせて接着した後、薄型ガラスシートの外側表面は、更なるプロセスを行う前に、任意選択により研削及び/又は研磨することができる。 In embodiments where SiO 2 is used as an adhesive and is deposited on the adhesion area of both substrates, the adhesion area can be oxidized. When the oxidized bonded regions are brought into contact with each other and annealed, a bond is formed, and the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 can be effectively bonded. After the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 are bonded together, the outer surface of the thin glass sheet can optionally be ground and / or polished before further processing.

薄型ガラスシート100はそれ自体、既存の製造設備によるプロセスに適した十分な厚さではない可能性があるが、このサンドイッチは薄型ガラスシート100及び支持基板102の合わせた厚さ以上の厚さを有することができ、これは既存の製造設備の最低厚さ要件に適合することができる。例えば、厚さ0.1mmの薄型ガラスシートを厚さ0.5mmの支持基板に接着した場合、その接着構造は少なくとも0.6mmの厚さを有し得、これは既存の製造設備の厚さ0.5mmの要件を上回る。このようにして、この薄型ガラスシート100及び支持基板102のサンドイッチは、設備に改変を行うことなく、既存の製造設備によって処理することができる。   Although the thin glass sheet 100 may not be of sufficient thickness suitable for processing by existing manufacturing equipment, this sandwich has a thickness that is greater than or equal to the combined thickness of the thin glass sheet 100 and the support substrate 102. Which can meet the minimum thickness requirements of existing manufacturing equipment. For example, when a thin glass sheet having a thickness of 0.1 mm is bonded to a support substrate having a thickness of 0.5 mm, the bonding structure may have a thickness of at least 0.6 mm, which is the thickness of an existing manufacturing facility. Exceeds 0.5mm requirement. In this way, the sandwich of the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 can be processed by existing manufacturing equipment without modifying the equipment.

接着剤が縁領域の周りに連続的に堆積される実施形態において、図2Aに示すように、薄型ガラスシート200及び支持基板はその縁領域の周りで接着される。この接着領域は、薄型ガラスシート200の縁に沿って連続ストリップ202を形成することができるため、薄型ガラスシート200と支持基板との間の接着は、薄型ガラスシート200と支持基板との間に本質的に密閉を形成し得る。いくつかの実施形態において、薄型ガラスシート200と支持基板との間の密閉された空間は、その接着構造の剛性を改善し、その接着構造に対して実施される減圧及びウェットプロセスの適合性を改善するために、真空にすることができる。一方、図2Bのセグメント化された接着領域202’は、必要な接着剤をより少なくすることができる。しかしながら、接着構造における薄型ガラスシート200’と支持基板との間の空間は、密封することはできない。様々な実施形態において、不活性材料の層を接着領域の外側の領域に堆積させて、薄型ガラスシートがその外側領域の支持基板と接着するのを防ぐことができる。そのような不活性材料の一例は、窒化ケイ素(SiNx)である。   In an embodiment where the adhesive is continuously deposited around the edge region, the thin glass sheet 200 and the support substrate are bonded around the edge region, as shown in FIG. 2A. Since this adhesive region can form a continuous strip 202 along the edge of the thin glass sheet 200, the adhesion between the thin glass sheet 200 and the support substrate is between the thin glass sheet 200 and the support substrate. An inherent seal can be formed. In some embodiments, the sealed space between the thin glass sheet 200 and the support substrate improves the rigidity of the adhesive structure and improves the compatibility of the vacuum and wet processes performed on the adhesive structure. To improve, a vacuum can be applied. On the other hand, the segmented adhesive region 202 'of FIG. 2B can require less adhesive. However, the space between the thin glass sheet 200 'and the support substrate in the bonding structure cannot be sealed. In various embodiments, a layer of inert material can be deposited in a region outside the adhesion region to prevent the thin glass sheet from adhering to the support substrate in that outer region. An example of such an inert material is silicon nitride (SiNx).

図1Dを参照し、薄膜及びリソグラフィ/エッチングプロセスをサンドイッチ104に実施し、薄型ガラスシート100の外側表面110の上に薄膜パターン108を形成することができる。一実施形態において、薄膜トランジスタ(TFT)プロセスを、薄型ガラスシート100に実施することができる。TFTプロセスには、1つ以上の薄膜の半導体活性層、誘電体層、及び金属接触部を、薄型ガラスシート100の表面110の上に堆積させる工程、及びその堆積した層のパターニングを行う工程が含まれ得る。タッチセンサパネルなどの他のタイプの回路パネルを製造するために薄型ガラスシート100が使用される他の実施形態において、この薄膜及びリソグラフィ/エッチングプロセス(echo process)には、インジウムスズ酸化物(ITO)などの透明材料を堆積させてパターニングを行う工程が含まれ得、これにより、タッチセンサパネルのタッチ信号を伝送するための導電性トレース(例えば、感知ラインと駆動ライン)を形成することができる。あるいは、又はそれに加えて、薄膜パターン108には、信号経路のための金属トレースを含む金属層が含まれ得る。あるいは、又はそれに加えて、薄膜パターン108は、反射防止材料として使用できる。あるいは、又はそれに加えて、薄膜パターン108は、保護層として使用することができ、セラミック材料又は同様の保護特性を備えた任意の他の材料を含み得る。使用される薄膜のタイプ及び形成されるパターンは、薄型ガラスシート100から製造される回路パネルの最終的な使用により決定され得る。この薄膜及びリソグラフィ/エッチングプロセスは、本実施形態において支持基板102のコーティング又はパターニングをもたらすものではないことに注意すべきである。すなわち、支持基板102の表面112のどこにも、層又はパターンは堆積されることはない。   Referring to FIG. 1D, a thin film and lithography / etch process may be performed on the sandwich 104 to form a thin film pattern 108 on the outer surface 110 of the thin glass sheet 100. In one embodiment, a thin film transistor (TFT) process can be performed on the thin glass sheet 100. The TFT process includes depositing one or more thin film semiconductor active layers, dielectric layers, and metal contacts on the surface 110 of the thin glass sheet 100, and patterning the deposited layers. May be included. In other embodiments where a thin glass sheet 100 is used to produce other types of circuit panels, such as touch sensor panels, the thin film and lithography / etch process includes indium tin oxide (ITO). And the like, and patterning by depositing a transparent material such as) can be formed, thereby forming conductive traces (eg, sensing lines and driving lines) for transmitting touch signals of the touch sensor panel. . Alternatively, or in addition, the thin film pattern 108 may include a metal layer that includes metal traces for signal paths. Alternatively or in addition, the thin film pattern 108 can be used as an antireflective material. Alternatively, or in addition, the thin film pattern 108 can be used as a protective layer and can include a ceramic material or any other material with similar protective properties. The type of thin film used and the pattern formed can be determined by the ultimate use of the circuit panel made from the thin glass sheet 100. It should be noted that this thin film and lithography / etching process does not result in coating or patterning of the support substrate 102 in this embodiment. That is, no layer or pattern is deposited anywhere on the surface 112 of the support substrate 102.

次に、図1Eに示すように、パターン化された薄型ガラスシート100は、支持基板102から分離することができる。この分離は、任意の好適な方法を用いて行うことができる。一実施形態において、薄型ガラスシート100及び支持基板102は、ガラスを切断することによって機械的に分離することができる。図3Aは、図2Aの薄型ガラスシート200の平面図に4本のスクライブ線(総称的に300)が追加されたものを提供し、この線に沿って薄型ガラスシート200を切断することができる。示されているように、4本のスクライブ線300それぞれは、長方形薄型ガラスシート100のそれぞれの縁に対して実質的に平行であり、接着領域のすぐ内側に正方形を形成する。スクライブ線200はそれぞれ、薄型ガラスシート200の一方の縁から相対する縁まで延在し得る。実際の切断は、スクライビングと破断、ウォータージェット切断、及びレーザスクライビングなどの機構を使用して行うことができる。   Next, as shown in FIG. 1E, the patterned thin glass sheet 100 can be separated from the support substrate 102. This separation can be performed using any suitable method. In one embodiment, the thin glass sheet 100 and the support substrate 102 can be mechanically separated by cutting the glass. 3A provides a plan view of the thin glass sheet 200 of FIG. 2A with four scribe lines (generally 300) added thereto, and the thin glass sheet 200 can be cut along these lines. . As shown, each of the four scribe lines 300 is substantially parallel to the respective edge of the rectangular thin glass sheet 100 and forms a square just inside the bonded area. Each scribe line 200 may extend from one edge of the thin glass sheet 200 to the opposite edge. Actual cutting can be performed using mechanisms such as scribing and breaking, water jet cutting, and laser scribing.

図3Bは、スクライブ線300に沿って切断される薄型ガラスシート200の側面断面図を提供する。薄型ガラスシート200及び支持基板304は、細い接着領域202における接着剤によって接着されているだけであるため、薄型ガラスシート200と支持基板304が接着されているとき、薄型ガラスシート200の中央部分306は、支持基板304のどの部分にも接触していない。よって、切断ツール302を用いてスクライブ線300に沿って切断することによって、薄型ガラスシート200の中央部分306は、接着構造の残りの部分から分離することができる。薄型ガラスシート200の分離された中央部分306は、追加の薄板化工程を実施する必要なしに、最終製品実装のための望ましい厚さ(すなわち、薄型ガラスシートの厚さ)を有し得る。薄型ガラスシート200の寸法が大きい一部の実施形態において、接着構造から分離された中央部分306は、更にマトリックス又は小さな部分の配列に切断することができ、このそれぞれを最終製品のディスプレイ回路として使用することができる。これにより、多数のディスプレイパネルを効率的に製造することが可能になる。   FIG. 3B provides a side cross-sectional view of thin glass sheet 200 cut along scribe line 300. Since the thin glass sheet 200 and the support substrate 304 are only bonded by the adhesive in the thin bonding region 202, when the thin glass sheet 200 and the support substrate 304 are bonded, a central portion 306 of the thin glass sheet 200 is obtained. Is not in contact with any part of the support substrate 304. Thus, by cutting along the scribe line 300 using the cutting tool 302, the central portion 306 of the thin glass sheet 200 can be separated from the rest of the adhesive structure. The separated central portion 306 of the thin glass sheet 200 may have a desired thickness for final product mounting (ie, the thickness of the thin glass sheet) without having to perform additional thinning steps. In some embodiments where the thin glass sheet 200 is large in size, the central portion 306 separated from the adhesive structure can be further cut into a matrix or an array of small portions, each used as a display circuit in the final product. can do. As a result, a large number of display panels can be efficiently manufactured.

他の実施形態において、スクライブ線の数、長さ及び位置は、薄型ガラスシートの寸法及び形状、接着領域のパターン、その接着構造から切断される薄型ガラスシート部分の望ましい形状及び寸法などの、数多くの要素に応じて変わる可能性があり、変わり得る。   In other embodiments, the number, length, and position of the scribe lines can be many, such as the size and shape of the thin glass sheet, the pattern of the adhesive region, the desired shape and size of the thin glass sheet portion that is cut from the adhesive structure. May vary depending on the elements of and can vary.

あるいは、接着剤の化学エッチングによっても、薄型ガラスシートを支持基板から分離することができる。図3Cは、薄型ガラスシート202’と支持基板304’との間の接着剤202’に対する例示的な化学エッチングプロセスを示す。エッチングプロセスは最終的にこの接着剤を完全に除去することができ、これにより薄型ガラスシート200’を支持基板304’から解放することができる。   Alternatively, the thin glass sheet can be separated from the support substrate also by chemical etching of the adhesive. FIG. 3C shows an exemplary chemical etching process for adhesive 202 'between thin glass sheet 202' and support substrate 304 '. The etching process can ultimately remove this adhesive completely, thereby releasing the thin glass sheet 200 'from the support substrate 304'.

図4は、本開示の実施形態に係るディスプレイパネル製造プロセスにおける例示的な操作を示すフローチャートである。最初に、薄型ガラスシート及び支持基板を提供することができる(401)。この薄型ガラスシートは、既存のディスプレイパネル製造設備によって求められる最低厚さよりも薄い厚さを有し得る。しかしながら、薄型ガラスシート及び支持基板を合わせた厚さは、既存の設備によって求められる最低厚さ以上であり得る。この支持基板もガラス基板であり得る。次に、薄型ガラスシート及び/又は支持基板の表面に接着剤を堆積させることができる(402)。この接着剤は、薄型ガラスシートの表面上の少なくとも一領域及び支持基板の表面上の一領域を酸化する酸化剤(例えば、SiO2)であり得る。この薄型ガラスシート及び支持基板は次いで、接着剤で接着することができる(403)。これには例えば、2つの基板の間の接着剤から酸化層を形成するために、薄型ガラスシートと支持基板を加熱することが必要になり得る。 FIG. 4 is a flowchart illustrating exemplary operations in a display panel manufacturing process according to an embodiment of the present disclosure. Initially, a thin glass sheet and support substrate can be provided (401). The thin glass sheet may have a thickness that is less than the minimum thickness required by existing display panel manufacturing equipment. However, the combined thickness of the thin glass sheet and the support substrate can be greater than or equal to the minimum thickness required by existing equipment. This support substrate may also be a glass substrate. Next, an adhesive can be deposited on the surface of the thin glass sheet and / or the support substrate (402). The adhesive may be an oxidizing agent (eg, SiO 2 ) that oxidizes at least a region on the surface of the thin glass sheet and a region on the surface of the support substrate. The thin glass sheet and the support substrate can then be bonded with an adhesive (403). This may require, for example, heating the thin glass sheet and the support substrate to form an oxide layer from the adhesive between the two substrates.

薄型ガラスシートと支持基板を接着してサンドイッチを形成した後、薄膜プロセス及び/又は他のタイプのプロセスをこのサンドイッチに対して実施し、この薄型ガラスシートを1枚以上のディスプレイパネルに改変することができる。このプロセス工程は、サンドイッチの厚さが既存の製造設備要件に適合できるため、この製造設備を用いて実施することができる。最後に、プロセス中の薄型ガラスシートを、機械的手段又は化学エッチング又は任意のその他の好適な方法によって、支持基板から分離することができる(405)。分離された薄型ガラスシートは、任意選択により、複数の部分に分割することができ、このそれぞれが最終製品に取り付けられるディスプレイパネルになり得る。従来のディスプレイパネル製造プロセスとは異なり、結果として得られる薄型ガラスシートは、プロセスを実施したガラスシートがすでにそのまま使用できる薄さであるため、追加の薄板化工程を必要としない。   After bonding the thin glass sheet and the support substrate to form a sandwich, a thin film process and / or other type of process is performed on the sandwich to modify the thin glass sheet into one or more display panels. Can do. This process step can be performed using this manufacturing facility because the thickness of the sandwich can be adapted to existing manufacturing facility requirements. Finally, the thin glass sheet in process can be separated from the support substrate by mechanical means or chemical etching or any other suitable method (405). The separated thin glass sheet can optionally be divided into a plurality of parts, each of which can be a display panel attached to the final product. Unlike conventional display panel manufacturing processes, the resulting thin glass sheet is thin enough that the processed glass sheet can be used as is, and does not require additional thinning steps.

上述の実施形態は、1枚の薄型ガラスシートから1枚以上のディスプレイパネルを製造することを目的としているが、同じプロセスは、タッチセンサパネルなどの他のタイプの回路パネル製造にも容易に採用できることが理解されよう。また、製造される実際のパネルによっては、製造に使用される薄型基板は、ガラス以外の基板であり得ることも理解されよう。加えて、接着構造に対して実施されるプロセスは、本明細書に記述されるものに限定されず、回路パネル製造における任意のタイプのプロセスが含まれ得ることも理解されよう。同様に、2枚の基板を分離するメカニズムは、本明細書に記述されるものに限定されず、上記実施形態に記述されたものなどの製造プロセスでの使用に好適な、任意の既知の方法が含まれ得る。   Although the above-described embodiments are aimed at producing one or more display panels from a single thin glass sheet, the same process is easily adopted for the production of other types of circuit panels such as touch sensor panels. It will be understood that it can be done. It will also be appreciated that depending on the actual panel being manufactured, the thin substrate used for manufacturing can be a substrate other than glass. In addition, it will be appreciated that the processes performed on the adhesive structure are not limited to those described herein and may include any type of process in circuit panel manufacturing. Similarly, the mechanism for separating two substrates is not limited to that described herein, and any known method suitable for use in a manufacturing process such as that described in the above embodiments. Can be included.

図5Aは、本開示の実施形態により製造された薄型ディスプレイパネル515を含み得る例示的なデジタルメディアプレーヤ510を示す。   FIG. 5A illustrates an exemplary digital media player 510 that may include a thin display panel 515 manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure.

図5Bは、本開示の実施形態により製造された薄型ディスプレイパネル525を含み得る例示的な携帯電話520を示す。   FIG. 5B illustrates an exemplary mobile phone 520 that may include a thin display panel 525 manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure.

図5Cは、本開示の実施形態により製造されたディスプレイ装置530を含み得る例示的なパーソナルコンピュータ544を示す。   FIG. 5C illustrates an exemplary personal computer 544 that may include a display device 530 manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure.

図5Dは、本開示の実施形態により製造されたディスプレイ装置592を含む例示的なデスクトップコンピュータ590を示す。   FIG. 5D illustrates an exemplary desktop computer 590 that includes a display device 592 manufactured in accordance with an embodiment of the present disclosure.

図5A〜5Dの装置(又は装置部品)は、本開示の実施形態により製造された薄型ディスプレイパネルを利用して軽量化を達成することができる。   The devices (or device components) of FIGS. 5A-5D can achieve weight reduction utilizing thin display panels manufactured according to embodiments of the present disclosure.

図6は、上記の開示の実施形態により製造された1枚以上のDITO又はSITOタッチセンサパネルを含み得る、例示的なコンピューティングシステム600を示す。コンピューティングシステム600には、1つ以上のパネルプロセッサ602及び周辺装置604、並びにパネルサブシステム606が含まれ得る。周辺装置604には、ランダムアクセスメモリ(RAM)又はその他のタイプのメモリ若しくは記憶装置、ウォッチドッグタイマ等が含まれ得るが、これらに限定されない。パネルサブシステム606には、1つ以上の感知チャネル608、チャネルスキャン論理回路610及び駆動論理回路614が含まれ得るが、これらに限定されない。チャネルスキャン論理回路610は、RAM 612にアクセスし、感知チャネルからのデータを自律的に読み込み、感知チャネルの制御を提供することができる。加えて、チャネルスキャン論理回路610は、駆動論理回路614を制御して、タッチセンサパネル624の駆動ラインに選択的に印加可能なさまざまな周波数及び位相で、刺激信号616を生成することができる。いくつかの実施形態において、パネルサブシステム606、パネルプロセッサ602及び周辺装置604は、単一の特定用途向け集積回路(ASIC)に集積することができる。   FIG. 6 illustrates an exemplary computing system 600 that may include one or more DITO or SITO touch sensor panels manufactured according to the above disclosed embodiments. The computing system 600 may include one or more panel processors 602 and peripheral devices 604 and a panel subsystem 606. Peripheral device 604 may include, but is not limited to, random access memory (RAM) or other types of memory or storage devices, watchdog timers, and the like. Panel subsystem 606 may include, but is not limited to, one or more sensing channels 608, channel scan logic 610, and drive logic 614. Channel scan logic 610 can access RAM 612, autonomously read data from the sense channel, and provide control of the sense channel. In addition, the channel scan logic 610 can control the drive logic 614 to generate stimulus signals 616 at various frequencies and phases that can be selectively applied to the drive lines of the touch sensor panel 624. In some embodiments, the panel subsystem 606, the panel processor 602, and the peripheral device 604 can be integrated into a single application specific integrated circuit (ASIC).

タッチセンサパネル624は、複数の駆動ライン及び複数の感知ラインを有する容量性感知媒体を含み得るが、他の感知媒体も使用することができる。駆動ライン及び感知ラインのいずれか又は両方を、本開示の実施形態に係る薄型ガラスシートに接続することができる。駆動ライン及び感知ラインの各交点は、容量性感知ノードとなり得、これは画像素子(ピクセル)626として見ることができる。これは、タッチセンサパネル624がタッチの「画像」をキャプチャするとして見るときに、特に有用である。(換言すれば、タッチセンサパネルにおける各タッチセンサでタッチイベントが検出されたかどうかをパネルサブシステム606が判定した後、タッチイベントが起きたマルチタッチパネル内のタッチセンサパターンを、タッチの「画像」(例えば、パネルをタッチする指のパターンなど)として見ることができる。)タッチセンサパネル624の各感知ラインは、パネルサブシステム606内の感知チャネル608を駆動させることができる。   Touch sensor panel 624 may include a capacitive sensing medium having a plurality of drive lines and a plurality of sensing lines, although other sensing media may be used. Either or both of the drive line and the sensing line can be connected to the thin glass sheet according to the embodiment of the present disclosure. Each intersection of drive lines and sense lines can be a capacitive sense node, which can be viewed as an image element (pixel) 626. This is particularly useful when viewing the touch sensor panel 624 as capturing an “image” of the touch. (In other words, after the panel subsystem 606 determines whether or not a touch event is detected by each touch sensor in the touch sensor panel, the touch sensor pattern in the multi-touch panel in which the touch event has occurred is represented by an “image” ( For example, a finger pattern touching the panel, etc.) Each sensing line of the touch sensor panel 624 can drive a sensing channel 608 in the panel subsystem 606.

コンピューティングシステム600はまた、パネルプロセッサ602からの出力を受け取り、その出力に基づいて動作を実行するためのホストプロセッサ628を含み、この動作には、カーソル若しくはポインタなどのオブジェクトを動かすこと、スクロール若しくはパンを行うこと、コントロール設定を調節すること、ファイル若しくは文書を開くこと、メニューを表示させること、選択を行うこと、指示を実行すること、ホスト装置に接続された周辺装置を操作すること、電話に応答すること、電話をかけること、電話を切ること、音量若しくは音声設定を変更すること、アドレス、頻繁にかける番号、受信通話、未応答通話などの電話通信に関係する情報を記憶すること、コンピュータ若しくはコンピュータネットワークにログオンすること、コンピュータ若しくはコンピュータネットワークの制限領域にアクセスする個人を承認すること、コンピュータデスクトップのユーザの好む配置に伴うユーザプロファイルをロードすること、ウェブコンテンツにアクセスすること、特定のプログラムを開始すること、メッセージを暗号化若しくは解読すること、及び/又は同様のことが含まれ得るがこれらに限定されない。ホストプロセッサ628はまた、パネルプロセスに関係しない可能性がある付加的機能も実施することができ、プログラム記憶装置632及び装置ユーザにUIを提供するためのLCDパネルなどのディスプレイ装置630に接続することができる。ディスプレイ装置630は、タッチセンサパネル624と合わせて、タッチセンサパネルの下に部分的又は完全に配置されるとき、タッチスクリーン618を形成することができる。   Computing system 600 also includes a host processor 628 for receiving output from panel processor 602 and performing an action based on the output, such as moving an object such as a cursor or pointer, scrolling or Panning, adjusting control settings, opening files or documents, displaying menus, making selections, executing instructions, operating peripheral devices connected to the host device, telephone Answering, making a call, hanging up, changing the volume or voice settings, storing information related to telephone communication such as address, frequently dialed numbers, incoming calls, unanswered calls, Log on to a computer or computer network Approving individuals to access restricted areas of a computer or computer network, loading user profiles according to user desktop preferred placement, accessing web content, starting specific programs, messages May include, but are not limited to, encrypting or decrypting and / or the like. The host processor 628 may also perform additional functions that may not be related to the panel process and connect to a display device 630 such as a program storage device 632 and an LCD panel for providing a UI to the device user. Can do. The display device 630, together with the touch sensor panel 624, can form a touch screen 618 when partially or fully disposed under the touch sensor panel.

上述の1つ以上の機能は、メモリ(例えば、図6の周辺装置604の1つ)に記憶されたファームウェアによって実施し、パネルプロセッサ602によって実行するか、又はプログラム記憶装置632に記憶し、ホストプロセッサ628によって実行することができる。ファームウェアはまた、コンピュータ利用システム、プロセッサ内蔵システム、又は命令実行システム、機器、若しくは装置から命令をフェッチし、その命令を実行できるその他のシステムなどの命令実行システム、機器、若しくは装置によって使用又はこれらと接続する、永続的コンピュータ読み込み可能記憶媒体内において、記憶及び/又は運搬することができる。本明細書の文脈において、「永続的コンピュータ読み込み可能記憶媒体」とは、命令実行システム、機器、又は装置によって使用又はこれらと接続する、プログラムを内蔵又は記憶し得る、任意の媒体であり得る。永続的コンピュータ読み込み可能記憶媒体には、電子的、磁気的、光学的、電磁的、赤外線、又は半導体のシステム、機器若しくは装置、携帯型コンピュータディスク(磁気)、ランダムアクセスメモリ(RAM)(磁気)、リードオンリーメモリ(ROM)(磁気)、消去可能プログラム可能リードオンリーメモリ(EPROM)(磁気)、CD、CD−R、CD−RW、DVD、DVD−R、若しくはDVD−RWなどの携帯型光学ディスク、又はコンパクトフラッシュカード、セキュアデジタルカード、USBメモリ装置、メモリスティックなどのフラッシュメモリが挙げられるがこれらに限定されない。   One or more of the functions described above are implemented by firmware stored in memory (eg, one of the peripheral devices 604 of FIG. 6) and executed by the panel processor 602 or stored in the program storage 632 and host It can be executed by the processor 628. Firmware is also used or used by instruction execution systems, devices, or devices such as computer-based systems, processor-embedded systems, or instruction execution systems, devices, or other systems that can fetch instructions from and execute the instructions. It can be stored and / or transported within a connected, permanent computer-readable storage medium. In the context of this specification, a “permanent computer-readable storage medium” may be any medium that can contain or store a program that is used by or connected to an instruction execution system, device, or apparatus. Permanent computer readable storage media include electronic, magnetic, optical, electromagnetic, infrared, or semiconductor systems, devices or devices, portable computer disks (magnetic), random access memory (RAM) (magnetic) , Read-only memory (ROM) (magnetic), erasable programmable read-only memory (EPROM) (magnetic), CD, CD-R, CD-RW, DVD, DVD-R, DVD-RW or other portable optics A flash memory such as a disk or a compact flash card, a secure digital card, a USB memory device, and a memory stick can be mentioned, but not limited thereto.

ファームウェアはまた、コンピュータ利用システム、プロセッサ内蔵システム、又は命令実行システム、機器、若しくは装置から命令をフェッチし、その命令を実行できるその他のシステムなどの命令実行システム、機器、若しくは装置によって使用又はこれらと接続する、搬送用媒体内において、伝搬することができる。本明細書の文脈において、「搬送用媒体」とは、命令実行システム、機器、又は装置によって使用又はこれらと接続する、プログラムを通信、伝搬又は搬送し得る、任意の媒体であり得る。搬送用読み込み可能媒体には、電子的、磁気的、光学的、電磁的又は赤外線の、有線又は無線による伝搬媒体が含まれるがこれらに限定されない。   Firmware is also used or used by instruction execution systems, devices, or devices such as computer-based systems, processor-embedded systems, or instruction execution systems, devices, or other systems that can fetch instructions from and execute the instructions. Propagation is possible in the connected transport medium. In the context of this specification, a “transport medium” can be any medium that can communicate, propagate, or transport a program that is used or connected to by an instruction execution system, apparatus, or device. Transportable readable media include, but are not limited to, electronic, magnetic, optical, electromagnetic, or infrared, wired or wireless propagation media.

一実施形態により、支持基板を使用して、薄型基板からディスプレイパネルを製造する方法は、薄型基板の第1表面上に接着剤を堆積させる工程、支持基板の第2表面上に接着剤を堆積させる工程、第1表面及び第2表面上に堆積された接着剤で、薄型基板及びその支持基板を接着する工程、薄型基板の第1表面とは反対側の第3表面に薄膜プロセスを実施する工程、及びプロセスを実施した薄型基板を支持基板から分離する工程を含んで提供され、この薄型基板は、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、その接着された薄型基板及び支持基板の厚さは、必要な厚さ以上である。   According to one embodiment, a method of manufacturing a display panel from a thin substrate using a support substrate includes depositing an adhesive on the first surface of the thin substrate, depositing the adhesive on the second surface of the support substrate. A step of bonding the thin substrate and its supporting substrate with an adhesive deposited on the first surface and the second surface, and performing a thin film process on the third surface opposite to the first surface of the thin substrate. And separating the thin substrate on which the process has been performed from the support substrate, the thin substrate having a thickness less than that required to withstand a thin film process while being bonded to the thin substrate. The thickness of the thin substrate and the support substrate is equal to or greater than the necessary thickness.

他の実施形態により、この薄型基板はガラスである。   According to another embodiment, the thin substrate is glass.

他の実施形態により、この支持基板はガラスである。   According to another embodiment, the support substrate is glass.

他の実施形態により、この接着剤は、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうち1つである。 According to other embodiments, the adhesive is one of SiO 2 , epoxy, silicone adhesive, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and elastomer.

他の実施形態により、少なくとも1つのディスプレイ層には、液晶ディスプレイ薄膜トランジスタ層が含まれる。   According to another embodiment, the at least one display layer includes a liquid crystal display thin film transistor layer.

他の実施形態により、薄型基板及び支持基板を接着する工程は、薄型基板の第1表面上の一領域を酸化する工程、支持基板の第2表面上の一領域を酸化する工程、薄型基板の第1表面の酸化領域、及び支持基板の第2表面の酸化領域との間に、アニーリングによって酸化層を形成する工程を更に含む。   According to another embodiment, the step of bonding the thin substrate and the support substrate includes the step of oxidizing one region on the first surface of the thin substrate, the step of oxidizing one region on the second surface of the support substrate, The method further includes forming an oxide layer by annealing between the oxidized region on the first surface and the oxidized region on the second surface of the support substrate.

他の実施形態により、この接着剤は、第1表面の縁領域に沿って連続的パターンで堆積される。   According to other embodiments, the adhesive is deposited in a continuous pattern along the edge region of the first surface.

他の実施形態により、薄型基板と支持基板との間を接着は、薄型基板と支持基板との間の空間を密封する密封を形成する。   According to another embodiment, the bond between the thin substrate and the support substrate forms a seal that seals the space between the thin substrate and the support substrate.

他の実施形態により、この空間は真空である。   According to other embodiments, the space is a vacuum.

他の実施形態により、この接着剤は、第1表面上にセグメント化されたパターンで堆積される。   According to other embodiments, the adhesive is deposited in a segmented pattern on the first surface.

他の実施形態により、薄型基板に薄膜プロセスを実施する工程は、TFTプロセスを実施する工程を更に含む。   According to another embodiment, performing the thin film process on the thin substrate further includes performing a TFT process.

他の実施形態により、そのプロセスを実施した薄型基板を支持基板から分離する工程は、薄型基板の第3表面上に複数のスクライブ線を配置する工程、及びその複数のスクライブ線に沿って切断し、薄型基板の一部分を支持基板から分離する工程を更に含む。   According to another embodiment, the step of separating the thin substrate that has performed the process from the support substrate includes the step of disposing a plurality of scribe lines on the third surface of the thin substrate, and cutting along the plurality of scribe lines. And a step of separating a part of the thin substrate from the support substrate.

一実施形態により、複数のスクライブ線は、ディスプレイパネルの外側境界を画定する。   According to one embodiment, the plurality of scribe lines define an outer boundary of the display panel.

他の実施形態により、シャーシは、長方形リング形状を有する金属シャーシを含み、発光ダイオードの第2ストリップを取り付ける工程は、発光ダイオードの第2ストリップをテープで金属シャーシに取り付ける工程を含む。   According to another embodiment, the chassis includes a metal chassis having a rectangular ring shape, and attaching the second strip of light emitting diodes includes attaching the second strip of light emitting diodes to the metal chassis with tape.

他の実施形態により、発光ダイオードの第2ストリップは、フレキシブルプリント基板上の発光ダイオードを含み、ここにおいて発光ダイオードの第2ストリップを取り付ける工程は、このフレキシブルプリント基板をテープでシャーシに取り付ける工程を含む。   According to another embodiment, the second strip of light emitting diodes includes a light emitting diode on a flexible printed circuit board, wherein attaching the second strip of light emitting diodes includes attaching the flexible printed circuit board to the chassis with a tape. .

他の実施形態により、この複数のスクライブ線は、長方形を形成する4本のスクライブ線を含む。   According to another embodiment, the plurality of scribe lines includes four scribe lines that form a rectangle.

他の実施形態により、この方法は更に、分離された、プロセスを実施した薄型基板を、複数のディスプレイパネルに分割する工程を更に含む。   According to another embodiment, the method further includes dividing the separated, processed thin substrate into a plurality of display panels.

他の実施形態により、プロセスを実施した薄型基板を支持基板から分離する工程は、薄型基板と支持基板との間の接着を化学エッチングする工程を更に含む。   According to another embodiment, separating the processed thin substrate from the support substrate further includes chemically etching the adhesion between the thin substrate and the support substrate.

他の実施形態により、必要な厚さは0.5mmである。   According to another embodiment, the required thickness is 0.5 mm.

一実施形態により、薄型ガラスシートからディスプレイパネルを製造する方法は、薄型ガラスシートの第1表面上の一領域を酸化する工程、支持基板を提供する工程、支持基板の第2表面上の一領域を酸化する工程、薄型ガラスシート及び支持基板を酸化された領域において、アニーリングによって接着する工程、薄型ガラスシートの第1表面とは反対側の薄型ガラスシートの第3表面に薄膜プロセスを実施する工程、並びに薄型ガラスシートの第3表面に配置された複数のスクライブ線に沿って切断することによって、プロセスを実施した薄型ガラスシートを支持基板から分離する工程を含んで提供される。   According to one embodiment, a method of manufacturing a display panel from a thin glass sheet includes oxidizing a region on the first surface of the thin glass sheet, providing a support substrate, and a region on the second surface of the support substrate. The step of oxidizing the thin glass sheet and the support substrate by annealing in the oxidized region, the step of performing a thin film process on the third surface of the thin glass sheet opposite to the first surface of the thin glass sheet As well as separating the processed thin glass sheet from the support substrate by cutting along a plurality of scribe lines arranged on the third surface of the thin glass sheet.

他の実施形態により、この支持基板はガラス基板である。   According to another embodiment, the support substrate is a glass substrate.

他の実施形態により、この薄型ガラスシートは、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、その接着された薄型ガラスシート及び支持基板の厚さは、その必要な厚さ以上である。   According to other embodiments, the thin glass sheet has a thickness that is less than that required to withstand a thin film process, while the thickness of the bonded thin glass sheet and support substrate is the required thickness. That's it.

他の実施形態により、薄型ガラスシートの第1表面の一領域を酸化する工程は、その第1表面上に接着剤を堆積させる工程を含む。   According to another embodiment, oxidizing a region of the first surface of the thin glass sheet includes depositing an adhesive on the first surface.

他の実施形態により、この接着剤は、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうち1つである。 According to other embodiments, the adhesive is one of SiO 2 , epoxy, silicone adhesive, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and elastomer.

他の実施形態により、支持基板の第2表面の一領域を酸化する工程は、その第2表面上に接着剤を堆積させる工程を含む。   According to another embodiment, oxidizing the region of the second surface of the support substrate includes depositing an adhesive on the second surface.

他の実施形態により、この接着剤は、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうち1つである。 According to other embodiments, the adhesive is one of SiO 2 , epoxy, silicone adhesive, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and elastomer.

他の実施形態により、複数のスクライブ線に沿った切断は、ウォータージェット切断によって行われる。   According to another embodiment, the cutting along the plurality of scribe lines is performed by water jet cutting.

他の実施形態により、複数のスクライブ線に沿った切断は、レーザスクライビングによって行われる。   According to another embodiment, the cutting along the plurality of scribe lines is performed by laser scribing.

本開示の実施形態は添付される図を参照して完全に記述されているが、当業者には、様々な変更及び改変が明らかとなるであろうことに留意されたい。そのような変更及び改変は、添付される請求項により定義される本開示の実施形態の範囲に含まれるものであることが理解されよう。   While embodiments of the present disclosure have been fully described with reference to the accompanying figures, it should be noted that various changes and modifications will become apparent to those skilled in the art. It will be understood that such changes and modifications are intended to be included within the scope of the embodiments of the present disclosure as defined by the appended claims.

Claims (25)

支持基板を使用して、薄型基板からディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記薄型基板の第1表面上に接着剤を堆積させる工程と、
前記支持基板の第2表面上に接着剤を堆積させる工程と、
前記第1表面及び前記第2表面上に堆積された前記接着剤で、前記薄型基板及び前記支持基板を接着する工程と、
前記薄型基板の前記第1表面とは反対側の第3表面に、薄膜プロセスを実施する工程と、
前記プロセスを実施した薄型基板を前記支持基板から分離する工程と、を含み、
前記薄型基板は、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、前記接着された薄型基板と前記支持基板の厚さは、前記必要な厚さ以上である、方法。
A method of manufacturing a display panel from a thin substrate using a support substrate,
Depositing an adhesive on the first surface of the thin substrate;
Depositing an adhesive on the second surface of the support substrate;
Bonding the thin substrate and the support substrate with the adhesive deposited on the first surface and the second surface;
Performing a thin film process on a third surface of the thin substrate opposite to the first surface;
Separating the thin substrate that has undergone the process from the support substrate,
The method, wherein the thin substrate has a thickness that is less than that required to withstand a thin film process, but the thickness of the bonded thin substrate and the support substrate is greater than or equal to the required thickness.
前記薄型基板がガラスである、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the thin substrate is glass. 前記支持基板がガラスである、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the support substrate is glass. 前記接着剤が、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうちの1つである、請求項1に記載の方法。 The method of claim 1, wherein the adhesive is one of SiO 2 , epoxy, silicone adhesive, glass frit bonding, metallization (eg, solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and elastomer. . 前記薄型基板及び前記支持基板を接着する工程が、
前記薄型基板の前記第1表面上の一領域を酸化する工程と、
前記支持基板の前記第2表面上の一領域を酸化する工程と、
前記薄型基板の前記第1表面の前記酸化領域と前記支持基板の前記第2表面の前記酸化領域との間に、アニーリングによって酸化層を形成する工程と、を更に含む、請求項4に記載の方法。
The step of bonding the thin substrate and the support substrate includes:
Oxidizing a region on the first surface of the thin substrate;
Oxidizing a region on the second surface of the support substrate;
The method further comprises: forming an oxide layer by annealing between the oxidized region of the first surface of the thin substrate and the oxidized region of the second surface of the support substrate. Method.
前記接着剤が、前記第1表面の縁領域に沿って連続的パターンで堆積される、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the adhesive is deposited in a continuous pattern along an edge region of the first surface. 前記薄型基板と前記支持基板との間の接着が、前記薄型基板と前記支持基板との間の空間を密封する密封部を形成する、請求項6に記載の方法。   The method according to claim 6, wherein the adhesion between the thin substrate and the support substrate forms a seal that seals a space between the thin substrate and the support substrate. 前記空間が真空である、請求項7に記載の方法。   The method of claim 7, wherein the space is a vacuum. 前記接着剤が、前記第1表面上にセグメント化されたパターンで堆積される、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the adhesive is deposited in a segmented pattern on the first surface. 前記薄型基板の第3表面に、薄膜プロセスを実施する工程が、TFTプロセスを実施する工程を更に含む、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein performing a thin film process on the third surface of the thin substrate further comprises performing a TFT process. 前記プロセスを実施した薄型基板を前記支持基板から分離する工程が、
前記薄型基板の前記第3表面上に複数のスクライブ線を配置する工程と、
前記複数のスクライブ線に沿って切断し、前記薄型基板の一部分を前記支持基板から分離する工程と、を更に含む、請求項1に記載の方法。
Separating the thin substrate that has undergone the process from the support substrate;
Arranging a plurality of scribe lines on the third surface of the thin substrate;
The method of claim 1, further comprising cutting along the plurality of scribe lines to separate a portion of the thin substrate from the support substrate.
前記複数のスクライブ線が、前記ディスプレイパネルの外側境界を画定する、請求項11に記載の方法。   The method of claim 11, wherein the plurality of scribe lines define an outer boundary of the display panel. 前記複数のスクライブ線が、長方形を形成する4本のスクライブ線を含む、請求項11に記載の方法。   The method of claim 11, wherein the plurality of scribe lines includes four scribe lines forming a rectangle. 前記分離された、プロセスを実施した薄型基板を複数のディスプレイパネルに分割する工程を更に含む、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, further comprising dividing the separated, processed thin substrate into a plurality of display panels. 前記プロセスを実施した薄型基板を支持基板から分離する工程が、前記薄型基板と前記支持基板との間の接着を化学エッチングする工程を含む、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein separating the thin substrate that has undergone the process from a support substrate comprises chemically etching the adhesion between the thin substrate and the support substrate. 前記必要な厚さが0.5mmである、請求項1に記載の方法。   The method of claim 1, wherein the required thickness is 0.5 mm. 薄型ガラスシートからディスプレイパネルを製造する方法であって、
前記薄型ガラスシートの第1表面上の一領域を酸化する工程と、
支持基板を提供する工程と、
前記支持基板の第2表面上の一領域を酸化する工程と、
前記薄型ガラスシート及び前記支持基板を前記酸化された領域において、アニーリングによって接着する工程と、
前記第1表面とは反対側の前記薄型ガラスシートの第3表面に、薄膜プロセスを実施する工程と、
前記薄型ガラスシートの前記第3表面に配置された複数のスクライブ線に沿って切断することによって、前記プロセスを実施した薄型ガラスシートを前記支持基板から分離する工程と、を含む、方法。
A method of manufacturing a display panel from a thin glass sheet,
Oxidizing a region on the first surface of the thin glass sheet;
Providing a support substrate;
Oxidizing a region on the second surface of the support substrate;
Bonding the thin glass sheet and the support substrate in the oxidized region by annealing;
Performing a thin film process on the third surface of the thin glass sheet opposite to the first surface;
Separating the thin glass sheet subjected to the process from the support substrate by cutting along a plurality of scribe lines disposed on the third surface of the thin glass sheet.
前記支持基板がガラス基板である、請求項17に記載の方法。   The method according to claim 17, wherein the support substrate is a glass substrate. 前記薄型ガラスシートが、薄膜プロセスに耐えるのに必要な厚さよりも薄い厚さを有しながら、前記接着された薄型ガラスシートと前記支持基板の厚さは、前記必要な厚さ以上である、請求項17に記載の方法。   While the thin glass sheet has a thickness that is thinner than necessary to withstand a thin film process, the thickness of the bonded thin glass sheet and the support substrate is equal to or greater than the required thickness. The method of claim 17. 前記薄型ガラスシートの前記第1表面上の前記一領域を酸化する工程が、前記第1表面上に接着剤を堆積させる工程を更に含む、請求項17に記載の方法。   The method of claim 17, wherein oxidizing the region on the first surface of the thin glass sheet further comprises depositing an adhesive on the first surface. 前記接着剤が、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうちの1つである、請求項20に記載の方法。 Wherein the adhesive, SiO 2, epoxy, silicone adhesives, glass frit bonding, metallization (e.g., solder), is one of acrylic, urethane, synthetic rubber and elastomers, The method of claim 20 . 前記支持基板の前記第2表面の前記一領域を酸化する工程が、前記第2表面上に接着剤を堆積させる工程を更に含む、請求項17に記載の方法。   The method of claim 17, wherein oxidizing the region of the second surface of the support substrate further comprises depositing an adhesive on the second surface. 前記接着剤が、SiO2、エポキシ、シリコーン接着剤、ガラスフリット接合、メタライゼーション(例えば、はんだ)、アクリル、ウレタン、合成ゴム、及びエラストマーのうち1つである、請求項22に記載の方法。 Wherein the adhesive, SiO 2, epoxy, silicone adhesives, glass frit bonding, metallization (e.g., solder), acrylic, urethane, synthetic rubber, and is one of the elastomers, the method of claim 22. 前記複数のスクライブ線に沿って切断することが、ウォータージェット切断によって行われる、請求項17に記載の方法。   The method of claim 17, wherein cutting along the plurality of scribe lines is performed by water jet cutting. 前記複数のスクライブ線に沿って切断することが、レーザスクライビングによって行われる、請求項17に記載の方法。   The method of claim 17, wherein cutting along the plurality of scribe lines is performed by laser scribing.
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