JP2007291147A - Adhesive, adhesive sheet using the same and method for producing electronic component using adhesive sheet - Google Patents

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Tomomichi Takatsu
知道 高津
Koichi Taguchi
広一 田口
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Denka Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an adhesive and an adhesive sheet using the same and to provide a method for producing an electronic component using the adhesive sheet. <P>SOLUTION: The adhesive comprises a (meth) acrylic acid ester copolymer, a urethane (meth) acrylate oligomer containing four or more vinyl groups, a radiation-polymerizable (meth) acrylate monomer containing four or more vinyl groups and a tackifier resin. When an electronic component assembly attached to the adhesive or the adhesive sheet is diced to give a chip-like electronic component, since the adhesive and the adhesive sheet control scattering of electronic component and scraping-up of paste to an electronic component side and perform a control effect on release and fall of electronic component during expansion, the adhesive and the adhesive sheet are preferably used for producing electronic components in a dicing process, etc. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は粘着剤、それを用いた粘着シート、粘着シートを用いた電子部品製造方法に関する。 The present invention relates to an adhesive, an adhesive sheet using the adhesive, and an electronic component manufacturing method using the adhesive sheet.

半導体ウエハ又は回路基板材上等に回路パターンを形成してなる電子部品集合体(ワーク)を、粘着シートに固定し、ダイヤモンドなどの砥粒を備えたダイシングブレードでダイシングし、チップ状の電子部品とする電子部品製造方法が知られている(特許文献1〜3等参照)。 An electronic component assembly (work) formed by forming a circuit pattern on a semiconductor wafer or circuit board material is fixed to an adhesive sheet and diced with a dicing blade equipped with abrasive grains such as diamond to form a chip-shaped electronic component An electronic component manufacturing method is known (see Patent Documents 1 to 3, etc.).

電子部品集合体としては、例えばエポキシ樹脂で封止された封止樹脂パッケージ、具体的にはボール・グリッド・アレイ(BGA)、チップ・サイズ・パッケージ(CSP)、スタック・メモリー・モジュール、システム・オン・モジュール、半導体ウエハ又は回路基板材上に回路パターンを形成してなる電子部品集合体等が挙げられる。 As an electronic component assembly, for example, a sealing resin package sealed with an epoxy resin, specifically, a ball grid array (BGA), a chip size package (CSP), a stack memory module, a system Examples thereof include an electronic component assembly formed by forming a circuit pattern on an on-module, a semiconductor wafer, or a circuit board material.

電子部品集合体をダイシングする際に用いられる粘着シート用の粘着剤として、(メタ)アクリル酸エステルと水酸基含有重合性単量体の共重合体に、不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物を使用する方法が知られている(特許文献4参照)。 As a pressure-sensitive adhesive for pressure-sensitive adhesive sheets used when dicing an electronic component assembly, a radiation-polymerizable material having two or more unsaturated bonds in a copolymer of (meth) acrylic acid ester and a hydroxyl group-containing polymerizable monomer A method using a compound is known (see Patent Document 4).

アクリル系粘着剤として、重量平均分子量が20万以上、Tg(ガラス転移温度)が−60〜−30℃の各種官能基を有するアクリル化合物や、ウレタンアクリレートのオリゴマ等を含有するものが知られている(特許文献5参照)。 As acrylic pressure-sensitive adhesives, those containing acrylic compounds having various functional groups having a weight average molecular weight of 200,000 or more and a Tg (glass transition temperature) of −60 to −30 ° C., oligomers of urethane acrylate, and the like are known. (See Patent Document 5).

近年、PDA、携帯電話、及びフラッシュメモリー等の小型電子機器の普及により、チップサイズが微小化する傾向にあり、ダイシング時のチップ飛びやチップ側面への糊の掻き上げ、エキスパンド時のチップ剥離脱落の各特性への要求が厳しくなり、微小チップでこれらの特性をバランスよく達成することが求められていた。 In recent years, with the spread of small electronic devices such as PDAs, mobile phones, and flash memories, the chip size tends to be miniaturized. Chip skipping during dicing, glue scraping to the side of the chip, chip peeling off during expansion The requirements for each of these characteristics have become strict, and it has been required to achieve these characteristics in a balanced manner with a microchip.

特開平09−328663号公報JP 09-328663 A 特開2003−007654号公報JP 2003-007654 A 特開2003−257893号公報JP 2003-257893 A 特許第3410202号公報Japanese Patent No. 3410202 特開平11−293201号公報JP 11-293201 A

本発明は粘着剤、それを用いた粘着シート、及び粘着シートを用いた電子部品製造方法を提供する。 The present invention provides an adhesive, an adhesive sheet using the adhesive, and an electronic component manufacturing method using the adhesive sheet.

本発明は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ、ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体を含有する粘着剤である。 The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive containing a (meth) acrylic acid ester copolymer, a urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups, and a radiation polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups. It is.

本発明は、粘着剤又は粘着シートに貼付けた電子部品集合体をダイシングして、チップ状の電子部品とする際に、電子部品の飛散を抑制し、電子部品側面への糊の掻き上げを抑制し、エキスパンド時に電子部品が剥離脱落を抑制する等の効果を奏する。 The present invention suppresses scattering of electronic components and suppresses scraping of glue on the side surfaces of electronic components when dicing an electronic component assembly attached to an adhesive or an adhesive sheet into a chip-shaped electronic component. In addition, the electronic component has an effect of suppressing peeling and dropping at the time of expansion.

本明細書において(メタ)アクリレートとはアクリレート及びメタアクリレートの総称である。(メタ)アクリル酸等の(メタ)を含む化合物等も同様に、名称中に「メタ」を有する化合物と「メタ」を有さない化合物の総称である。 In this specification, (meth) acrylate is a general term for acrylate and methacrylate. Similarly, a compound containing (meth) such as (meth) acrylic acid is a general term for a compound having “meta” in the name and a compound not having “meta”.

本明細書において、単量体単位とは単量体に由来する構造単位を意味する。本明細書の部及び%は、特に記載がない限り質量基準とする。 In the present specification, the monomer unit means a structural unit derived from a monomer. Unless otherwise indicated, parts and% in this specification are based on mass.

本発明は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ、ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体を含有する粘着剤を用いる点を特徴とする。 The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive containing a (meth) acrylic acid ester copolymer, a urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups, and a radiation polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups. Is characterized by the use of

((メタ)アクリル酸エステル共重合体)
本発明で使用する(メタ)アクリル酸エステル共重合体は、(メタ)アクリル酸エステル系の主単量体と、その他のビニル化合物単量体の共重合体である。ビニル化合物単量体には、ヒドロキシル基、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基、及び(亜)リン酸エステル基からなる官能基群の1種以上を有する官能基含有単量体を用いることが好ましい。
((Meth) acrylic acid ester copolymer)
The (meth) acrylic acid ester copolymer used in the present invention is a copolymer of a (meth) acrylic acid ester main monomer and other vinyl compound monomers. The vinyl compound monomer includes a functional group consisting of hydroxyl group, carboxyl group, epoxy group, amide group, amino group, methylol group, sulfonic acid group, sulfamic acid group, and (phosphite) group. It is preferable to use a functional group-containing monomer having the above.

(メタ)アクリル酸エステル系の主単量体としては、例えばブチル(メタ)アクリレート、2−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、及びベンジル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of (meth) acrylic acid ester-based main monomers include butyl (meth) acrylate, 2-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, Examples include myristyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and benzyl (meth) acrylate.

官能基含有単量体としては、官能基としてヒドロキシル基、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基、(亜)リン酸エステル基を有するビニル化合物が挙げられる。 Examples of the functional group-containing monomer include vinyl compounds having a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, an amide group, an amino group, a methylol group, a sulfonic acid group, a sulfamic acid group, and a (phosphite) ester group as the functional group. Can be mentioned.

ヒドロキシル基を有する単量体としては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及び2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate.

カルボキシル基を有する単量体としては、例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマール酸、アクリルアミドN−グリコール酸、及びケイ皮酸等が挙げられる。 Examples of the monomer having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, fumaric acid, acrylamide N-glycolic acid, and cinnamic acid.

エポキシ基を有する単量体としては、例えばアリルグリシジルエーテル、及び(メタ)アクリル酸グリシジルエーテル等が挙げられる。 Examples of the monomer having an epoxy group include allyl glycidyl ether and (meth) acrylic acid glycidyl ether.

アミド基を有する単量体としては、例えば(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 Examples of the monomer having an amide group include (meth) acrylamide.

アミノ基を有する単量体としては、例えばN,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the monomer having an amino group include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate.

メチロール基を有する単量体としては、例えばN−メチロールアクリルアミド等が挙げられる。 Examples of the monomer having a methylol group include N-methylolacrylamide.

ダイシング時に使用する切削水がトリエタノールアミンなどのアルカリ水溶液である場合、カルボキシル基、スルホン酸基、スルファミン酸基、又は(亜)リン酸エステル基等の有機酸基を有する単量体が好適に用いられる。 When the cutting water used for dicing is an alkaline aqueous solution such as triethanolamine, a monomer having an organic acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfamic acid group, or a (phosphite) group is preferably used. Used.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体には、上記以外のビニル化合物単量体を用いてもよい。ビニル化合物単量体としては、例えばエチレン、スチレン、ビニルトルエン、酢酸アリル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、バーサテイク酸ビニル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、(メタ)アクリロニトリル、ビニルイソブチルエーテル等のビニル化合物等が挙げられる。 A vinyl compound monomer other than those described above may be used for the (meth) acrylic acid ester copolymer. Examples of the vinyl compound monomer include vinyl compounds such as ethylene, styrene, vinyl toluene, allyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl versatate, vinyl ethyl ether, vinyl propyl ether, (meth) acrylonitrile, vinyl isobutyl ether, and the like. Etc.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体としては(メタ)アクリル酸エステル系主単量体単位を含む点以外は特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステル系主単量体単位50〜99質量部、官能基含有単量体単位50〜1質量部を含む共重合体が好適に用いられる。 Although it does not specifically limit as a (meth) acrylic acid ester copolymer except the point containing a (meth) acrylic acid ester main monomer unit, (meth) acrylic acid ester main monomer unit 50-99 mass parts A copolymer containing 50 to 1 part by mass of a functional group-containing monomer unit is preferably used.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体はTgが−40〜−10℃の範囲のものが好適に用いられる。Tgが低いと粘着剤が柔らかすぎてダイシング時に糊の掻き上げが発生する場合がある。Tgが高いと粘着剤が硬くなりチップ飛びが発生する場合がある。 A (meth) acrylic acid ester copolymer having a Tg in the range of −40 to −10 ° C. is preferably used. If the Tg is low, the pressure-sensitive adhesive may be too soft and the glue may be scraped up during dicing. When Tg is high, the pressure-sensitive adhesive becomes hard and chip skipping may occur.

(ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ)
ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ(以下、単に「ウレタンアクリレートオリゴマ」ともいう。)は、ビニル基を4個以上有し、分子内にウレタン結合を有する(メタ)アクリレートオリゴマであれば特に限定されない。
(Urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups)
A urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups (hereinafter also simply referred to as “urethane acrylate oligomer”) is a (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups and having a urethane bond in the molecule. If there is no particular limitation.

ウレタンアクリレートオリゴマの製造方法は特に限定されないが、例えば水酸基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物と、複数のイソシアネート基を有する化合物(例えばジイソシアネート化合物)を反応させてウレタンアクリレートオリゴマとする方法が挙げられる。複数の水酸基末端を有するポリオールオリゴマに、複数のイソシアネート基を有する化合物(例えばジイソシアネート化合物)を過剰に添加して反応させて複数のイソシアネート末端を有するオリゴマとし、更に水酸基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物、例えばヒドロキシ(メタ)アクリレート等と反応させてウレタンアクリレートオリゴマとしてもよい。 The method for producing the urethane acrylate oligomer is not particularly limited. For example, a urethane acrylate is prepared by reacting a (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group and a plurality of (meth) acrylate groups with a compound having a plurality of isocyanate groups (for example, a diisocyanate compound). An example is an oligomer method. A compound having a plurality of isocyanate groups (for example, a diisocyanate compound) is added to and reacted with a polyol oligomer having a plurality of hydroxyl ends to form an oligomer having a plurality of isocyanate ends, and further a hydroxyl group and a plurality of (meth) acrylate groups. It is good also as a urethane acrylate oligomer by making it react with the (meth) acrylate compound containing, for example, hydroxy (meth) acrylate etc.

水酸基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール−ジドロキシ−ペンタアクリレート、ビス(ペンタエリスリトール)−テトラアクリレート、テトラメチロールメタン−トリアクリレート、グリシドール−ジアクリレートや、これらのアクリレート基の一部又は全部をメタアクリレート基とした化合物等が挙げられる。 Examples of the (meth) acrylate compound containing a hydroxyl group and a plurality of (meth) acrylate groups include, for example, hydroxypropylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol-droxy-pentaacrylate, and bis (pentaerythritol). -Tetraacrylate, tetramethylolmethane-triacrylate, glycidol-diacrylate, and compounds having a methacrylate group as a part or all of these acrylate groups.

複数のイソシアネート基を有するイソシアネートとしては、例えば、芳香族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート、及び脂肪族ジイソシアネート等が挙げられる。これらのイソシアネートのうち、複数のイソシアネート基を有する、芳香族ジイソシアネート又は脂環族ジイソシアネートが好適に用いられる。イソシアネート成分の形態としては単量体、二量体、及び三量体があり、三量体が好適に用いられる。 Examples of the isocyanate having a plurality of isocyanate groups include aromatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and aliphatic diisocyanates. Of these isocyanates, aromatic diisocyanates or alicyclic diisocyanates having a plurality of isocyanate groups are preferably used. As the form of the isocyanate component, there are a monomer, a dimer, and a trimer, and a trimer is preferably used.

芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、及びキシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネートが挙げられる。 Examples of the aromatic diisocyanate include aromatic diisocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate.

脂環族ジイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)などが挙げられる。イソホロンジイソシアネート等を三量体化してなる脂環族系ジイソシアネート三量体が好適に用いられる。 Examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate and methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate). An alicyclic diisocyanate trimer formed by trimerizing isophorone diisocyanate or the like is preferably used.

脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。 Examples of the aliphatic diisocyanate include hexamethylene diisocyanate and trimethylhexamethylene diisocyanate.

ポリオール成分としては、例えば、ポリ(プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(プロピレンオキサイド)トリオール、コポリ(エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(テトラメチレンオキサイド)ジオール、エトキシ化ビスフェノールA、エトキシ化ビスフェノールSスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、及びカーボネートジオール等が挙げられる。 Examples of the polyol component include poly (propylene oxide) diol, poly (propylene oxide) triol, copoly (ethylene oxide-propylene oxide) diol, poly (tetramethylene oxide) diol, ethoxylated bisphenol A, and ethoxylated bisphenol S spiroglycol. , Caprolactone-modified diol, carbonate diol, and the like.

ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマのビニル基の数が少ないと放射線照射後の粘着シートが電子部品から容易に剥離せず、チップのピックアップ性が低下することがある。 If the number of vinyl groups in the urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups is small, the pressure-sensitive adhesive sheet after irradiation is not easily peeled from the electronic component, and the chip pick-up property may be lowered.

ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマの数平均分子量は特に限定されないが、3,000以下であることが好ましい。ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマの数平均分子量が高いと被着体へのなじみ性が悪く、チップ飛びが発生する場合がある。数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算の平均分子量として測定した値である。 The number average molecular weight of the urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups is not particularly limited, but is preferably 3,000 or less. If the number average molecular weight of the urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups is high, the conformability to the adherend is poor and chip fly may occur. The number average molecular weight is a value measured as an average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).

ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマの配合量は特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部に対して20〜200質量部とすることが好ましい。ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマの配合量が少ないと放射線照射後に粘着シートが被着体と容易に剥離せず、チップのピックアップ性に問題が発生する場合がある。過剰に配合するとダイシング時に糊の掻き上げを生じる場合がある。 Although the compounding quantity of the urethane (meth) acrylate oligomer which has 4 or more vinyl groups is not specifically limited, It is preferable to set it as 20-200 mass parts with respect to 100 mass parts of (meth) acrylic acid ester copolymers. If the blending amount of the urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups is small, the pressure-sensitive adhesive sheet is not easily peeled off from the adherend after irradiation, which may cause a problem in chip pickup properties. When it mixes excessively, the glue may be scraped up during dicing.

(ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体)
ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体としては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレートジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、並びに、これらの化合物のアクリレート基の一部又は全部をメタアクリレート基とした化合物等が挙げられる。
(Radiation polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups)
Examples of the radiation polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups include trimethylolpropane triacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, Examples thereof include pentaerythritol ethoxytetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, and compounds in which a part or all of the acrylate groups of these compounds are methacrylate groups.

ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体の配合量は(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部に対して0.5〜50質量部が好ましい。ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体の配合量が少ないとダイシング時にチップ飛びが発生する場合があり、過剰だとダイシング時に糊の掻き上げを生じる場合がある。 The blending amount of the radiation-polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups is preferably 0.5 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (meth) acrylic acid ester copolymer. If the blending amount of the radiation-polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups is small, chip skipping may occur during dicing, and excessive amount may cause scraping of the glue during dicing.

(粘着付与樹脂)
本発明で用いられる軟化点50℃以下の粘着付与樹脂としては、テルペン系樹脂、ロジン系樹脂、石油系樹脂、及びその他の粘着付与樹脂等が挙げられる。
(Tackifying resin)
Examples of the tackifying resin having a softening point of 50 ° C. or lower used in the present invention include terpene resins, rosin resins, petroleum resins, and other tackifying resins.

テルペン系樹脂としてはα−ピネン、β−ピネン、水添テルペン、芳香族共重合タイプ、及びテルペンフェノール等が挙げられる。 Examples of the terpene resin include α-pinene, β-pinene, hydrogenated terpene, aromatic copolymer type, and terpene phenol.

ロジン系樹脂としてはロジン、不均化ロジン、ロジンエステル、及び水素添加ロジン等が挙げられる。 Examples of the rosin resin include rosin, disproportionated rosin, rosin ester, and hydrogenated rosin.

石油系樹脂としてはC5系石油樹脂、C9系石油樹脂、C5/C9系石油樹脂、及びジシクロペンタジエン系石油樹脂等が挙げられる。 Examples of petroleum resins include C5 petroleum resins, C9 petroleum resins, C5 / C9 petroleum resins, and dicyclopentadiene petroleum resins.

その他の粘着付与樹脂としてはテルペンフェノール系樹脂、水添石油樹脂、アルキルフェノール樹脂、キシレン樹脂、スチレン樹脂、α−メチルスチレン樹脂、クマロン樹脂、及びクマロンインデン樹脂等が挙げられる。 Examples of other tackifier resins include terpene phenol resins, hydrogenated petroleum resins, alkylphenol resins, xylene resins, styrene resins, α-methylstyrene resins, coumarone resins, coumarone indene resins, and the like.

テルペンフェノール系樹脂は、粘着剤の各成分との相溶性が高いので、粘着付与樹脂として好適に用いられる。 A terpene phenol-based resin is preferably used as a tackifying resin because it has high compatibility with each component of the pressure-sensitive adhesive.

(軟化点)
粘着付与樹脂の軟化点は50℃以下とすることが好ましい。軟化点が高いと被着体に対する粘着性が低下する場合がある。軟化点は40〜10℃の粘着付与樹脂が好適に用いられる。軟化点とは還流法(JIS K 2531)で求められた値をいう。
(Softening point)
The softening point of the tackifying resin is preferably 50 ° C. or less. When the softening point is high, the adhesion to the adherend may be lowered. The softening point is preferably a tackifier resin having a temperature of 40 to 10 ° C. The softening point is a value determined by a reflux method (JIS K 2531).

(ヒドロキシル価)
粘着付与樹脂のヒドロキシル価は特に限定されないが、水酸基を有する場合は50〜150KOHmg/gであることが好ましい。上記範囲以外ではチップ飛びが発生する場合がある。ヒドロキシル価は中和滴定法(JIS K 0070)で求められた値をいう。
(Hydroxyl number)
Although the hydroxyl value of tackifying resin is not specifically limited, When it has a hydroxyl group, it is preferable that it is 50-150 KOHmg / g. Chip jumps may occur outside the above range. The hydroxyl value is a value determined by a neutralization titration method (JIS K 0070).

粘着付与樹脂の配合量は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部に対して1〜50質量部とすることが好ましく、3〜20質量部がより好ましい。粘着付与樹脂の配合量が少ないとチップ保持性に大きな効果が得られず、ダイシング時にチップ飛びが発生する場合があり、過剰だと糊の掻き上げが発生する場合がある。 It is preferable that the compounding quantity of tackifying resin shall be 1-50 mass parts with respect to 100 mass parts of (meth) acrylic acid ester copolymers, and 3-20 mass parts is more preferable. If the compounding amount of the tackifying resin is small, a great effect on the chip holding property cannot be obtained, and chip skipping may occur during dicing, and if it is excessive, glue scraping may occur.

粘着剤には、例えば硬化剤、架橋剤、重合開始剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤等の各種添加剤を添加してもよい。 Various additives such as a curing agent, a crosslinking agent, a polymerization initiator, a softening agent, an anti-aging agent, a filler, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer may be added to the adhesive.

基材の厚み及び種類は特に限定されず、例えばポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、エチレンビニルアルコール、及びアイオノマ等の樹脂フィルムが挙げられる。基材にはシリコーンオイルやシリコーン系グラフト重合体等の潤滑剤を塗布してもよく、可塑剤、潤滑剤、及び帯電防止剤等を基材フィルムの成形時に原料樹脂に練り込んでも良い。基材層にはアンカーコート処理やシボ加工等を施してもよい。 The thickness and type of the substrate are not particularly limited, and examples thereof include resin films such as polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, polyester, ethylene vinyl alcohol, and ionomer. A lubricant such as silicone oil or silicone-based graft polymer may be applied to the substrate, and a plasticizer, a lubricant, an antistatic agent, or the like may be kneaded into the raw material resin when the substrate film is formed. The base material layer may be subjected to an anchor coat process or a textured process.

粘着剤、耐電防止剤、及び潤滑剤等を基材層に塗布する方法は特に限定されず、例えばグラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、又はロールコーター等のコーターで基材層に塗工する方法や、凸板印刷、凹板印刷、平板印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、又はスクリーン印刷等で基材層に印刷する方法が挙げられる。 The method for applying the adhesive, antistatic agent, lubricant, etc. to the base material layer is not particularly limited, and for example, it is applied to the base material layer with a coater such as a gravure coater, comma coater, bar coater, knife coater, or roll coater. And a method of printing on the base material layer by convex printing, concave printing, flat printing, flexographic printing, offset printing, screen printing, or the like.

(電子部品製造方法)
粘着シートの被着体は特に限定されないが、例えば通称ワークと呼ばれる電子部品集合体を被着体として好適に用いることができる。電子部品固定用として使用する場合は、電子部品集合体を被着体とし、ダイシングする。
(Electronic component manufacturing method)
Although the adherend of an adhesive sheet is not specifically limited, For example, the electronic component assembly called a common work can be used suitably as an adherend. When used for fixing an electronic component, the electronic component assembly is used as an adherend and is diced.

電子部品集合体としては、絶縁物回路基板又は半導体ウエハ等に回路パターンを作製したものが挙げられる。 Examples of the electronic component assembly include a circuit pattern formed on an insulating circuit board or a semiconductor wafer.

絶縁物回路基板としては、BGA(ボール・グリッド・アレイ)基板、ガラス基板、エポキシ基板、及び液晶ポリマー基板等が挙げられる。半導体ウエハとしては、シリコンウエハやガリウム−砒素等が挙げられる。 Examples of the insulator circuit substrate include a BGA (ball grid array) substrate, a glass substrate, an epoxy substrate, and a liquid crystal polymer substrate. Examples of the semiconductor wafer include a silicon wafer and gallium arsenide.

(ダイシング)
粘着シートを使用し、ダイシングして電子部品を製造する方法は特に限定されないが、例えば粘着シートを電子部品集合体に貼付けて固定した後、回転丸刃でダイシングして電子部品(チップ)とする方法が好適に用いられる。
(Dicing)
The method of manufacturing an electronic component by using an adhesive sheet and dicing is not particularly limited. For example, after the adhesive sheet is attached to an electronic component assembly and fixed, the electronic component (chip) is diced with a rotating round blade. The method is preferably used.

ダイシング後の電子部品の回収方法は特に限定されないが、放射線を照射する方法が好適に用いられる。放射線を照射して電子部品を回収する方法としては、例えば下記の手順が挙げられる。
(1)粘着シートの基材側から紫外線及び/又は放射線を照射する。
(2)粘着シートを放射状にエキスパンディング(拡大)し、素子小片(電子部品)間を一定間隔に広げた後、素子小片(電子部品)をニードル等で突き上げる
(3)真空コレツト、エアピンセット等で吸着する方法等により素子小片をピックアップする。
(4)ピックアップした素子小片をリードフレーム上にマウンティングする方法が挙げられる。
The method for collecting the electronic components after dicing is not particularly limited, but a method of irradiating radiation is preferably used. Examples of a method for recovering electronic components by irradiating radiation include the following procedures.
(1) Irradiate ultraviolet rays and / or radiation from the substrate side of the adhesive sheet.
(2) The adhesive sheet is expanded (enlarged) radially, and the element pieces (electronic parts) are spread out at regular intervals, and then the element pieces (electronic parts) are pushed up with a needle or the like.
(3) Pick up the element pieces by suction using vacuum collector, air tweezers, etc.
(4) A method of mounting a picked-up element piece on a lead frame is mentioned.

紫外線及び/又は放射線の光源は特に限定されない。紫外線源としては、例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。放射線源としては、例えば電子線源や、α線、β線、γ線を放出するラジオアイソトープ(Co60等)等が挙げられる。 The light source of ultraviolet rays and / or radiation is not particularly limited. Examples of the ultraviolet light source include a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, and a metal halide lamp. Examples of the radiation source include an electron beam source, a radioisotope (such as Co 60 ) that emits α rays, β rays, and γ rays.

実験No.1-1に係る粘着剤及び粘着シートの製造方法を以下に示す。他の実験例は、表1〜4に記載した事項以外は実験No.1-1と同様である。 A method for producing the pressure-sensitive adhesive and pressure-sensitive adhesive sheet according to Experiment No. 1-1 is shown below. Other experimental examples are the same as those in Experiment No. 1-1 except for the matters described in Tables 1 to 4.

(使用材料)
(メタ)アクリル酸エステル共重合体A:ブチルアクリレート75質量%、メチルメタクリレート20質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート5質量%を共重合したもの。ガラス転移温度Tg=−32.8℃、合成品。
(Materials used)
(Meth) acrylic acid ester copolymer A: 75% by mass of butyl acrylate, 20% by mass of methyl methacrylate, and 5% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate. Glass transition temperature Tg = −32.8 ° C., synthetic product.

ウレタンアクリレートオリゴマA:イソシアネート成分が脂肪族ジイソシアネートであるヘキサメチレンジイソシアネートの単量体、水酸基を含有するアクリレート成分がジペタエリスリトールペンタアクリレートであるウレタンアクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が2,500で、ビニル基数は1分子あたり10個、市販品。 Urethane acrylate oligomer A: A monomer of hexamethylene diisocyanate whose isocyanate component is an aliphatic diisocyanate, and a urethane acrylate oligomer whose acrylate component containing a hydroxyl group is dipetaerythritol pentaacrylate. The number average molecular weight (Mn) is 2,500, and the number of vinyl groups is 10 per molecule.

ウレタンアクリレートオリゴマB:イソシアネート成分が脂環族ジイソシアネートであるイソホロンジイソシアネートの三量体、水酸基を含有するアクリレート成分がペンタエリスリトールトリアクリレートであるウレタンアクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が2,500で、ビニル基数は1分子あたり9個、市販品。 Urethane acrylate oligomer B: A urethane acrylate oligomer in which the trimer of isophorone diisocyanate whose isocyanate component is an alicyclic diisocyanate and the acrylate component containing a hydroxyl group is pentaerythritol triacrylate. The number average molecular weight (Mn) is 2,500, and the number of vinyl groups is 9 per molecule.

ウレタンアクリレートオリゴマC:イソシアネート成分が脂環族ジイソシアネートであるイソホロンジイソシアネートの単量体、水酸基を含有するアクリレート成分がペンタエリスリトールトリアクリレートであるウレタンアクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が600で、ビニル基数は1分子中あたり6個、市販品。 Urethane acrylate oligomer C: A urethane acrylate oligomer in which the isocyanate component is a monomer of isophorone diisocyanate whose alicyclic diisocyanate is used, and the acrylate component containing a hydroxyl group is pentaerythritol triacrylate. The number average molecular weight (Mn) is 600 and the number of vinyl groups is 6 per molecule, which is a commercial product.

ウレタンアクリレートオリゴマD:イソシアネート成分が脂環族ジイソシアネートであるイソホロンジイソシアネートの三量体、水酸基を含有するアクリレート成分がジペンタエリスリトールペンタアクリレートであるウレタンアクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が3,500で、ビニル基数は1分子中あたり15個、市販品。 Urethane acrylate oligomer D: A urethane acrylate oligomer in which the trimer of isophorone diisocyanate whose isocyanate component is an alicyclic diisocyanate and the acrylate component containing a hydroxyl group is dipentaerythritol pentaacrylate. The number average molecular weight (Mn) is 3,500 and the number of vinyl groups is 15 per molecule, which is a commercial product.

ウレタンアクリレートオリゴマE:
ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にイソホロンジイソシアネート(脂環族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が2,900でアクリレート官能基数15個、市販品。
Urethane acrylate oligomer E:
A terminal acrylate oligomer obtained by further reacting dipetaerythritol pentaacrylate with a terminal isocyanate oligomer obtained by reacting a trimer of isophorone diisocyanate (alicyclic diisocyanate) with a terminal of poly (propylene oxide) diol. Number average molecular weight (Mn) is 2,900, 15 acrylate functional groups, commercially available.

ウレタンアクリレートオリゴマF:ポリ(エチレンオキサイド)ジオールの末端にイソホロンジイソシアネート(脂環族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が3,800で、1分子あたりのアクリレート官能基数10個、市販品。 Urethane acrylate oligomer F: a terminal acrylate oligomer obtained by reacting a terminal isocyanate oligomer obtained by reacting a trimer of isophorone diisocyanate (alicyclic diisocyanate) with a poly (ethylene oxide) diol end, and further dipetaerythritol pentaacrylate. . Number average molecular weight (Mn) is 3,800, 10 acrylate functional groups per molecule, commercial product.

ウレタンアクリレートオリゴマG:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネートを反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更に2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が3,400、ビニル基数は1分子あたり2個、市販品。 Urethane acrylate oligomer G: A terminal acrylate oligomer obtained by further reacting 2-hydroxyethyl acrylate with a terminal isocyanate oligomer obtained by reacting hexamethylene diisocyanate with the end of poly (propylene oxide) diol. Number average molecular weight (Mn) is 3,400, the number of vinyl groups is 2 per molecule, commercially available.

ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体A:ペンタエリスリトールテトラアクリレートを主体、市販品。 Radiation-polymerizable (meth) acrylate monomer A having 4 or more vinyl groups A: Mainly commercially available pentaerythritol tetraacrylate.

粘着付与樹脂A:テルペンフェノール樹脂系、軟化点30℃、ヒドロキシル価100、市販品。
光重合開始剤:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン系、市販品。
硬化剤:トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物、合成品。
基材:厚さ150μmのポリエチレン製シート、市販品。
Tackifying resin A: terpene phenol resin, softening point 30 ° C., hydroxyl value 100, commercial product.
Photopolymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, commercially available product.
Curing agent: Tolylene diisocyanate adduct of trimethylolpropane, synthetic product.
Base material: 150 μm thick polyethylene sheet, commercial product.

(粘着剤)
粘着剤は、(メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部、ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ100質量部、ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体1質量部、光重合開始剤3質量部、粘着付与樹脂10質量部、及び硬化剤5質量部配合したものである。
(Adhesive)
The pressure-sensitive adhesive is 100 parts by mass of a (meth) acrylic acid ester copolymer, 100 parts by mass of a urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups, and a radiation polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups. 1 mass part of a body, 3 mass parts of photoinitiators, 10 mass parts of tackifying resin, and 5 mass parts of hardening | curing agents are mix | blended.

(粘着シート)
基材の片面に、粘着剤を塗布し、厚さ25μmの粘着剤層を設けた。
(Adhesive sheet)
An adhesive was applied to one side of the substrate to provide an adhesive layer with a thickness of 25 μm.

(評価方法)
ダイシング性(チップ飛び):粘着シートをパッケージ成形用モールド樹脂によりモールドした半導体部材に貼付け、10分放置後に2mm×2mmにダイシングした。この作業を5回繰り返した際のチップ総数に対するチップ飛びの割合である。
(Evaluation methods)
Dicing property (chip skipping): The pressure-sensitive adhesive sheet was attached to a semiconductor member molded with a mold resin for package molding, and diced to 2 mm × 2 mm after being left for 10 minutes. This is the ratio of chip skipping to the total number of chips when this operation is repeated five times.

糊の掻き上げ:粘着シートを半導体部材に貼付け、10分放置後に2mm×2mmにダイシングし、この作業を5回繰り返した。チップ側面への糊掻き上げの有無を200倍の光学顕微鏡にて観察し、糊の掻き上げが見られた割合である。 Scrape of glue: The pressure-sensitive adhesive sheet was attached to a semiconductor member, allowed to stand for 10 minutes, then diced to 2 mm × 2 mm, and this operation was repeated 5 times. This is the rate at which glue was scraped up on the side surface of the chip when observed with a 200 × optical microscope.

ピックアップ時の周辺チップばらけ:粘着シートを半導体部材に貼付け、10分放置後に2mm×2mmにダイシングし、基材面より10cmの距離から80W/cm2の高圧水銀ランプを用いて15秒間紫外線を照射し、粘着剤層を硬化させた。基材下部からニードルで1.5mm突き上げ、真空コレットにより100個のチップをピックアップした。ピックアップ箇所周辺のチップの乱れ、飛散が認められないものを良、認められたものを不可とした。 Dispersion of peripheral chips at the time of pick-up: Adhesive sheet is stuck on a semiconductor member, left to stand for 10 minutes, then diced to 2 mm x 2 mm, and irradiated with ultraviolet rays for 15 seconds using a high pressure mercury lamp of 80 W / cm 2 from a distance of 10 cm from the substrate surface. Irradiated to cure the adhesive layer. The tip was pushed up by 1.5 mm from the bottom of the substrate, and 100 chips were picked up by a vacuum collet. The chip where the disturbance and scattering of the chip around the pickup location were not recognized was good, and the chip which was recognized was not acceptable.

ピックアップ適性:粘着シートを、パッケージ成形用モールド樹脂によりモールドされた半導体部材に気泡が入らないよう貼付け、10分放置後に2mm×2mmにダイシングし、基材面より10cmの距離から80W/cm2の高圧水銀ランプを用いて15秒間紫外線を照射し、粘着剤層を硬化させた。そして基材下部よりニードルで1.5mm突き上げ、真空コレットにより100個のチップをピックアップし、ピックアップ出来なかった個数を測定した。 Pickup suitability: Adhesive sheet is stuck on a semiconductor member molded with mold resin for package molding so that no air bubbles enter, and after standing for 10 minutes, it is diced to 2 mm × 2 mm, and is 80 W / cm 2 from a distance of 10 cm from the substrate surface. The pressure-sensitive adhesive layer was cured by irradiating with ultraviolet rays for 15 seconds using a high-pressure mercury lamp. And it pushed up 1.5 mm with the needle from the lower part of the base material, picked up 100 chips | tips with the vacuum collet, and measured the number which could not be picked up.

各実験例は、表1〜4で言及した部分以外は、実験No.1-1と同様である。 Each experimental example is the same as Experiment No. 1-1 except for the portions mentioned in Tables 1 to 4.

Figure 2007291147
Figure 2007291147

(メタ)アクリル酸エステル共重合体B:ブチルアクリレート60質量%、メチルメタクリレート35質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート5質量%の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ガラス転移温度Tg=−14.7℃)、合成品。 (Meth) acrylate copolymer B: 60% by mass of butyl acrylate, 35% by mass of methyl methacrylate, and 5% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (glass) copolymer (glass transition temperature Tg = -14. 7 ° C), synthetic product.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体C:ブチルアクリレート98質量%、メチルメタクリレート1質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート1質量%の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ガラス転移温度Tg=−53.7℃)、合成品。 (Meth) acrylic acid ester copolymer C: butyl acrylate 98% by mass, methyl methacrylate 1% by mass, 2-hydroxyethyl acrylate 1% by mass (meth) acrylic acid ester copolymer (glass transition temperature Tg = −53. 7 ° C), synthetic product.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体D:ブチルアクリレート83質量%、メチルメタクリレート15質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート2質量%の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ガラス転移温度Tg=−39.5℃)、合成品。 (Meth) acrylic ester copolymer D: 83% by mass of butyl acrylate, 15% by mass of methyl methacrylate, 2% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (glass transition temperature Tg = −39. 5 ° C), synthetic product.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体E:ブチルアクリレート55質量%、メチルメタクリレート35質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート10質量%の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ガラス転移温度Tg=−12.3℃)、合成品。 (Meth) acrylic ester copolymer E: 55% by mass of butyl acrylate, 35% by mass of methyl methacrylate, and 10% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (glass transition temperature Tg = -12. 3 ° C), synthetic product.

(メタ)アクリル酸エステル共重合体F:ブチルアクリレート50質量%、メチルメタクリレート40質量%、2−ヒドロキシエチルアクリレート10質量%の(メタ)アクリル酸エステル共重合体(ガラス転移温度Tg=−5.6℃)、合成品。 (Meth) acrylic acid ester copolymer F: 50% by mass of butyl acrylate, 40% by mass of methyl methacrylate and 10% by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (glass transition temperature Tg = −5. 6 ° C), synthetic product.

ビニル基を3個有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体B:トリメチロールプロパントリアクリレート(アクリレート官能基3個、分子量296)、市販品。
ビニル基を2個有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体C:ポリエチレングリコールジメタクリレート(アクリレート官能基2個、数平均分子量約1,100)、合成品。
Radiation polymerizable (meth) acrylate monomer B having 3 vinyl groups: Trimethylolpropane triacrylate (3 acrylate functional groups, molecular weight 296), commercially available product.
Radiation polymerizable (meth) acrylate monomer C having two vinyl groups: Polyethylene glycol dimethacrylate (two acrylate functional groups, number average molecular weight about 1,100), synthetic product.

粘着付与樹脂B:クマロン樹脂系、軟化点80℃、ヒドロキシル価100KOHmg/g、市販品。
粘着付与樹脂C:ロジンエステル系、軟化点30℃、ヒドロキシル価20KOHmg/g、市販品。
粘着付与樹脂D:水添石油樹脂系、軟化点30℃、ヒドロキシル価50KOHmg/g、市販品。
粘着付与樹脂E:キシレン樹脂系、軟化点30℃、ヒドロキシル価150KOHmg/g、市販品。
粘着付与樹脂F:アルキルフェノール樹脂系、軟化点30℃、ヒドロキシル価180KOHmg/g、市販品。
粘着付与樹脂G:アルキルフェノール樹脂系、軟化点30℃、ヒドロキシル価200KOHmg/g、市販品。
Tackifying resin B: Coumarone resin type, softening point 80 ° C., hydroxyl value 100 KOH mg / g, commercially available product.
Tackifying resin C: rosin ester type, softening point 30 ° C., hydroxyl value 20 KOH mg / g, commercially available product.
Tackifying resin D: hydrogenated petroleum resin, softening point 30 ° C., hydroxyl value 50 KOH mg / g, commercially available product.
Tackifying resin E: xylene resin system, softening point 30 ° C., hydroxyl value 150 KOH mg / g, commercially available product.
Tackifying resin F: alkylphenol resin system, softening point 30 ° C., hydroxyl value 180 KOH mg / g, commercially available product.
Tackifying resin G: alkylphenol resin system, softening point 30 ° C., hydroxyl number 200 KOH mg / g, commercially available product.

Figure 2007291147
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Figure 2007291147
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本発明の粘着剤及び粘着シートは、粘着剤又は粘着シートに貼付けた電子部品集合体をダイシングして、チップ状の電子部品とする際に、電子部品の飛散を抑制し、電子部品側面への糊の掻き上げを抑制し、エキスパンド時に電子部品が剥離脱落を抑制する等の効果を奏するため、ダイシング工程等の電子部品製造に好適に用いられる。

The pressure-sensitive adhesive and pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention, when dicing the electronic component assembly attached to the pressure-sensitive adhesive or pressure-sensitive adhesive sheet to form a chip-shaped electronic component, suppresses scattering of the electronic component, It is suitable for manufacturing electronic parts such as a dicing process because it has an effect of suppressing the scraping of glue and suppressing the peeling and dropping of the electronic parts during expansion.

Claims (12)

(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ、ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体を含有する粘着剤。 A pressure-sensitive adhesive containing a (meth) acrylic acid ester copolymer, a urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups, and a radiation polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups. 軟化点が50℃以下である粘着付与樹脂を1〜50質量部を含有する請求項1に記載の粘着剤。 The pressure-sensitive adhesive according to claim 1, comprising 1 to 50 parts by mass of a tackifying resin having a softening point of 50 ° C or lower. ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマの数平均分子量が3,000以下である請求項1又は請求項2に記載の粘着剤。 The pressure-sensitive adhesive according to claim 1 or 2, wherein the number average molecular weight of the urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups is 3,000 or less. (メタ)アクリル酸エステル共重合体100質量部、ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマ20〜200質量部、ビニル基を4個以上有する放射線重合性(メタ)アクリレート単量体0.5〜50質量部を含有する請求項1乃至3のいずれかに記載の粘着剤。 100 parts by mass of (meth) acrylic acid ester copolymer, 20 to 200 parts by mass of urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups, and radiation-polymerizable (meth) acrylate monomer having 4 or more vinyl groups The pressure-sensitive adhesive according to any one of claims 1 to 3, comprising 5 to 50 parts by mass. 粘着付与樹脂のヒドロキシル価が50〜150KOHmg/gである請求項1乃至4のいずれかに記載の粘着剤。 The pressure-sensitive adhesive according to any one of claims 1 to 4, wherein the tackifier resin has a hydroxyl value of 50 to 150 KOHmg / g. 粘着付与樹脂がテルペンフェノール系樹脂である請求項1乃至5のいずれかに記載の粘着剤。 The pressure-sensitive adhesive according to any one of claims 1 to 5, wherein the tackifying resin is a terpene phenol-based resin. (メタ)アクリル酸エステル共重合体のガラス転移温度(Tg)が−40〜−10℃である請求項1乃至6のいずれかに記載の粘着剤。 The pressure-sensitive adhesive according to any one of claims 1 to 6, wherein the (meth) acrylic acid ester copolymer has a glass transition temperature (Tg) of -40 to -10 ° C. ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマのイソシアネート成分が複数のイソシアネート基を有し、イソシアネート成分が芳香族ジイソシアネート又は脂環族ジイソシアネートである請求項1乃至7のいずれかに記載の粘着剤。 The pressure-sensitive adhesive according to any one of claims 1 to 7, wherein the isocyanate component of the urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups has a plurality of isocyanate groups, and the isocyanate component is an aromatic diisocyanate or an alicyclic diisocyanate. Agent. 芳香族、脂環族、又は脂肪族のいずれかであって複数のイソシアネート基を有するイソシアネート三量体と、ビニル基を4個以上有するウレタン(メタ)アクリレートオリゴマを用いた請求項1乃至8のいずれかに記載の粘着剤。 9. An isocyanate trimer having a plurality of isocyanate groups, which is either aromatic, alicyclic or aliphatic, and a urethane (meth) acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups. The adhesive in any one. 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の粘着剤を用いた粘着シート。 The adhesive sheet using the adhesive as described in any one of Claims 1 thru | or 9. 電子部品固定用である請求項10に記載の粘着シート。 The pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 10, which is used for fixing an electronic component. 請求項10又は請求項11に記載の粘着シートを用いた電子部品製造方法。
The electronic component manufacturing method using the adhesive sheet of Claim 10 or Claim 11.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009078203A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Multilayered pressure-sensitive adhesive sheet and process for producing electronic part with multilayered pressure-sensitive adhesive sheet
WO2010035703A1 (en) * 2008-09-29 2010-04-01 電気化学工業株式会社 Semiconductor member manufacturing method and adhesive tape
JP2010163518A (en) * 2009-01-14 2010-07-29 Denki Kagaku Kogyo Kk Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive sheet using pressure-sensitive adhesive, and method for producing glass part using pressure-sensitive adhesive sheet
JP2012107140A (en) * 2010-11-18 2012-06-07 Kaneka Corp Adhesive composition containing polyoxyalkylene-based polymer
WO2012133418A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 住友ベークライト株式会社 Adhesive tape for processing semiconductor wafer etc.
JP2012207163A (en) * 2011-03-30 2012-10-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
JP2012227232A (en) * 2011-04-15 2012-11-15 Denki Kagaku Kogyo Kk Adhesive sheet for processing and production method of plate-like material using the same
JP2012248640A (en) * 2011-05-26 2012-12-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for semiconductor wafer processing
WO2013105455A1 (en) * 2012-01-12 2013-07-18 電気化学工業株式会社 Adhesive sheet and method for manufacturing electronic component
JP2013143489A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
WO2014003043A1 (en) * 2012-06-27 2014-01-03 シーカ・テクノロジー・アーゲー Adhesive composition and adhesive foam sheet
JP2014110366A (en) * 2012-12-04 2014-06-12 Lintec Corp Dicing sheet
WO2017104314A1 (en) * 2015-12-15 2017-06-22 Dic株式会社 Adhesive composition and adhesive tape
JP2018514602A (en) * 2015-03-23 2018-06-07 アルケマ フランス Pressure sensitive adhesive
KR20230081067A (en) * 2021-11-30 2023-06-07 주식회사 라온티알엠 Adhesive material with improved heat-and-humidity resistance and preparation method thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08333555A (en) * 1995-06-02 1996-12-17 Beiersdorf Ag Dicing tape
JPH10310748A (en) * 1997-05-12 1998-11-24 Sumitomo Bakelite Co Ltd Tacky sheet for processing semiconductor wafer
JP2006111651A (en) * 2004-10-12 2006-04-27 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Pressure-sensitive adhesive sheet

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08333555A (en) * 1995-06-02 1996-12-17 Beiersdorf Ag Dicing tape
JPH10310748A (en) * 1997-05-12 1998-11-24 Sumitomo Bakelite Co Ltd Tacky sheet for processing semiconductor wafer
JP2006111651A (en) * 2004-10-12 2006-04-27 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Pressure-sensitive adhesive sheet

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009078203A1 (en) * 2007-12-19 2009-06-25 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Multilayered pressure-sensitive adhesive sheet and process for producing electronic part with multilayered pressure-sensitive adhesive sheet
WO2010035703A1 (en) * 2008-09-29 2010-04-01 電気化学工業株式会社 Semiconductor member manufacturing method and adhesive tape
JP2010163518A (en) * 2009-01-14 2010-07-29 Denki Kagaku Kogyo Kk Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive sheet using pressure-sensitive adhesive, and method for producing glass part using pressure-sensitive adhesive sheet
JP2012107140A (en) * 2010-11-18 2012-06-07 Kaneka Corp Adhesive composition containing polyoxyalkylene-based polymer
CN103443229A (en) * 2011-03-30 2013-12-11 住友电木株式会社 Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
WO2012133418A1 (en) * 2011-03-30 2012-10-04 住友ベークライト株式会社 Adhesive tape for processing semiconductor wafer etc.
JP2012207163A (en) * 2011-03-30 2012-10-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
KR101882539B1 (en) * 2011-03-30 2018-07-26 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤 Adhesive tape for processing semiconductor wafer etc.
KR20140019330A (en) * 2011-03-30 2014-02-14 스미또모 베이크라이트 가부시키가이샤 Adhesive tape for processing semiconductor wafer etc.
TWI671799B (en) * 2011-03-30 2019-09-11 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Adhesive tape for processing semiconductor wafer or the like
JP2012227232A (en) * 2011-04-15 2012-11-15 Denki Kagaku Kogyo Kk Adhesive sheet for processing and production method of plate-like material using the same
JP2012248640A (en) * 2011-05-26 2012-12-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for semiconductor wafer processing
JP2013143489A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Adhesive tape for processing semiconductor wafer and the like
WO2013105455A1 (en) * 2012-01-12 2013-07-18 電気化学工業株式会社 Adhesive sheet and method for manufacturing electronic component
JP2014005423A (en) * 2012-06-27 2014-01-16 Sika Technology Ag Adhesive composition and adhesive foam sheet
CN104411759A (en) * 2012-06-27 2015-03-11 Sika技术股份公司 Adhesive composition and adhesive foam sheet
WO2014003043A1 (en) * 2012-06-27 2014-01-03 シーカ・テクノロジー・アーゲー Adhesive composition and adhesive foam sheet
JP2014110366A (en) * 2012-12-04 2014-06-12 Lintec Corp Dicing sheet
JP2018514602A (en) * 2015-03-23 2018-06-07 アルケマ フランス Pressure sensitive adhesive
CN113416518A (en) * 2015-03-23 2021-09-21 阿科玛法国公司 Pressure sensitive adhesive
WO2017104314A1 (en) * 2015-12-15 2017-06-22 Dic株式会社 Adhesive composition and adhesive tape
JPWO2017104314A1 (en) * 2015-12-15 2017-12-14 Dic株式会社 Adhesive composition and adhesive tape
KR20230081067A (en) * 2021-11-30 2023-06-07 주식회사 라온티알엠 Adhesive material with improved heat-and-humidity resistance and preparation method thereof
KR102579017B1 (en) 2021-11-30 2023-09-15 주식회사 라온티알엠 Adhesive material with improved heat-and-humidity resistance and preparation method thereof

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