JP2005033104A - 2ステージレーザ用波長検出装置及びその校正装置 - Google Patents
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Abstract
2ステージレーザのキャリブレーションを簡易な構造且つ短時間で行う。
【解決手段】
発振用レーザ10で狭帯域化しないフリーラン光を2ステージレーザ1から出射するようにし、このフリーラン光を酸素ガスや炭素ガス等の吸収物質を封入した吸収セルを通過させ、分光器7を介してラインセンサ8で受光する。そして、ラインセンサ8の受光位置と波長との対応付け、所謂キャリブレーションを行う。
【選択図】 図1
Description
図5の横軸は受光素子のチャンネルを示し、縦軸は受光強度を示す。このスペクトル分布にはP1、P2、P3の位置で強度の落ち込みが見られる。P1の位置は炭素の吸収線193.090nm(=λ1)に相当し、P2、P3の位置は酸素の吸収線193.292nm(=λ2)、193.4931nm(=λ3)に相当する。このようなラインセンサ8の校正処理、すなわちラインセンサ8の受光位置(光が結像される受光素子の位置)と波長との対応付けを行う一連の処理をキャリブレーションという。
λL=λ2+δλ×(PL−P2)/CB …(1)
δλ:分散値(CBに対応する波長差)(単位nm)
CB:チャンネル間隔(単位μm)
なお、ラインセンサ8のうち2つの受光位置と波長の対応関係が特定されていれば、分散値δλは定められる。また、上記(1)式では位置P2が用いられているが、位置P1と波長λ1や位置P3と波長λ3を用いても同様に波長λLを求めることができる。
チャンバ31から出射され狭帯域化されたレーザ光はビームスプリッタ61で分割される。ビームスプリッタ61で分割された一方の光は波長計62に入射し、他方の光はビームスプリッタ63に入射し更に分割される。ビームスプリッタ63で分割された一方の光は酸素ガスを封入する吸収セル64内を通過して受光素子65に入射し、他方の光は受光素子66に直接入射する。
発振用レーザと増幅用レーザとを所定タイミングで発振させて、前記発振用レーザで狭帯域化した光を前記増幅用レーザで増幅する2ステージレーザと、前記2ステージレーザから出射される光を分光する分光器と、独立した複数の受光素子が少なくとも一次元に配列され、分光後の光を受光する受光センサとを備え、前記受光センサ内の受光位置に基づいて光の波長を求める2ステージレーザ用波長検出装置に適用され、前記受光センサ内の受光位置と波長との対応関係を定める校正装置において、
前記発振用レーザで狭帯域化されないフリーラン光の帯域内に存在する特定波長の光を吸収する吸収手段を備え、
前記フリーラン光を出射して前記吸収手段に入射し、前記吸収手段を透過した光を前記分光器に入射し、分光後の光を前記受光センサで受光し、受光した光のうち前記吸収手段で吸収された吸収光の受光位置と前記特定波長とを対応付けること
を特徴とする。
前記増幅用レーザのみを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする。
前記所定タイミングをずらして前記発振用レーザと前記増幅用レーザとを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする。
発振用レーザと増幅用レーザとを所定タイミングで発振させて、前記発振用レーザで狭帯域化した光を前記増幅用レーザで増幅する2ステージレーザと、前記2ステージレーザから出射される光を分光する分光器と、独立した複数の受光素子が少なくとも一次元に配列され、分光後の光を受光する受光センサとを備え、前記受光センサ内の受光位置に基づいて光の波長を求める2ステージレーザ用波長検出装置において、
前記発振用レーザで狭帯域化されないフリーラン光の帯域内に存在する特定波長の光を吸収する吸収手段を備え、
前記2ステージレーザの波長検出の前に、前記フリーラン光を出射して前記吸収手段に入射し、前記吸収手段を透過した光を前記分光器に入射し、分光後の光を前記受光センサで受光し、受光した光のうち前記吸収手段で吸収された吸収光の受光位置と前記特定波長とを対応付けて、前記受光センサ内の受光位置と波長との対応関係を定めておき、
前記2ステージレーザの波長検出の際に、前記受光センサ内の前記吸収光の受光位置と被検出光の受光位置との相対的な位置関係から被検出光の波長を求めること
を特徴とする。
前記増幅用レーザのみを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする。
前記所定タイミングをずらして前記発振用レーザと前記増幅用レーザとを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする。
狭帯域の2ステージレーザ用波長検出装置の校正装置であって、
レーザガスを封入し少なくとも一対の放電電極が設けられた第1のチャンバと、当該第1のチャンバ内から発生する光を狭帯域化する狭帯域化モジュールと、を有する発振用レーザと、
レーザガスを封入し少なくとも一対の放電電極が設けられた第2のチャンバを有する増幅用レーザと、
前記発振用レーザ及び増幅用レーザの各放電電極にパルス電流を供給し、各放電電極間で生ずる放電によってレーザガスを励起して紫外域の光を発生させるためのパルス電源と、
からなる2ステージレーザと、
前記2ステージレーザから出射されるレーザ光の第1の光軸上にあり、当該レーザ光の一部を分岐して第2の光軸上に導くビームスプリッタと、
前記第2の光軸上にあり、入射する光を角度分散型の光学素子で分光する分光器と、
独立した複数の受光素子が少なくとも一次元に配列され、分光後の光を受光する受光センサと、を備え、前記受光センサ内の受光位置に基づいて入射光の波長を求める2ステージレーザ用波長検出装置に適用され、前記受光センサ内の受光位置と波長との対応関係を求める校正装置において、
前記ビームスプリッタと前記分光器との間の前記第2の光軸上にあり、フリーラン光の帯域内に存在する特定波長の光を吸収する光吸収手段と、
前記2ステージレーザをフリーラン発振させて前記吸収手段に入射し、当該吸収手段内部を透過した光を前記分光器へ入射し、分光後の光を前記受光センサで受光する場合に、この受光した光のうち、前記吸収手段で吸収された波長に相当する光の受光位置と前記特定波長とを対応付けて記憶する記憶手段と、を備えたこと
を特徴とする。
なお、本実施形態で説明する2ステージレーザは注入同期型のArFエキシマレーザであるとする。
図2は本発明者が行った計測結果であり、吸収セル5として酸素ガスが使用されている。また同図2の横軸は受光素子のチャンネルを示し、縦軸は受光強度を示す。このスペクトル分布にはチャンネルCh1、Ch2の位置で強度の落ち込みが見られる。計測の結果から、チャンネルCh1の位置が酸素の吸収線のうちの193.2728nmに相当し、チャンネルCh2の位置が酸素の吸収線のうちの193.292nmに相当することが判明している。この2つの波長及び2つのチャンネルCh1、Ch2を基準としてキャリブレーションを実施する。
第2の実施形態ではエタロン分光器を用いる場合のキャリブレーションについて説明する。エタロン分光器は応答性に優れており、1パルス毎の波長計測に適している。
まずシャッタ6を閉じ、レーザ光が分光器7へ入射しないようにする。この状態でラインセンサ7の暗電流成分に起因するバックグラウンドレベルBGLを計測する。BGLレベルが大きいと計測データの信頼性が低下するため、BGL計測を予め行い、その結果を用いて計測データを補正することによって計測データの信頼性を向上させることができる。なお、BGL計測は、図2に示す特性を得るために必要な露光時間だけ行うことが望ましい。
λL=〔(λL2−λL1)/(λc2−λc1)〕×λc+(λL1×λc2−λL2×λc1)/(λc2−λc1)…(2)
つまり、本実施形態は、分光器7及びラインセンサ8によって実際の発振中心波長λLを求め、この値を基準値にしてエタロン分光器77及びラインセンサ78のキャリブレーションを実施するものであるといえる。
10 発振用レーザ
20 増幅用レーザ
2 コントローラ
5 吸収セル
7 分光器
8 ラインセンサ
Claims (7)
- 発振用レーザと増幅用レーザとを所定タイミングで発振させて、前記発振用レーザで狭帯域化した光を前記増幅用レーザで増幅する2ステージレーザと、前記2ステージレーザから出射される光を分光する分光器と、独立した複数の受光素子が少なくとも一次元に配列され、分光後の光を受光する受光センサとを備え、前記受光センサ内の受光位置に基づいて光の波長を求める2ステージレーザ用波長検出装置に適用され、前記受光センサ内の受光位置と波長との対応関係を定める校正装置において、
前記発振用レーザで狭帯域化されないフリーラン光の帯域内に存在する特定波長の光を吸収する吸収手段を備え、
前記フリーラン光を出射して前記吸収手段に入射し、前記吸収手段を透過した光を前記分光器に入射し、分光後の光を前記受光センサで受光し、受光した光のうち前記吸収手段で吸収された吸収光の受光位置と前記特定波長とを対応付けること
を特徴とする2ステージレーザ用波長検出装置の校正装置。 - 前記増幅用レーザのみを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする請求項1記載の2ステージレーザ用波長検出装置の校正装置。 - 前記所定タイミングをずらして前記発振用レーザと前記増幅用レーザとを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする請求項1記載の2ステージレーザ用波長検出装置の校正装置。 - 発振用レーザと増幅用レーザとを所定タイミングで発振させて、前記発振用レーザで狭帯域化した光を前記増幅用レーザで増幅する2ステージレーザと、前記2ステージレーザから出射される光を分光する分光器と、独立した複数の受光素子が少なくとも一次元に配列され、分光後の光を受光する受光センサとを備え、前記受光センサ内の受光位置に基づいて光の波長を求める2ステージレーザ用波長検出装置において、
前記発振用レーザで狭帯域化されないフリーラン光の帯域内に存在する特定波長の光を吸収する吸収手段を備え、
前記2ステージレーザの波長検出の前に、前記フリーラン光を出射して前記吸収手段に入射し、前記吸収手段を透過した光を前記分光器に入射し、分光後の光を前記受光センサで受光し、受光した光のうち前記吸収手段で吸収された吸収光の受光位置と前記特定波長とを対応付けて、前記受光センサ内の受光位置と波長との対応関係を定めておき、
前記2ステージレーザの波長検出の際に、前記受光センサ内の前記吸収光の受光位置と被検出光の受光位置との相対的な位置関係から被検出光の波長を求めること
を特徴とする2ステージレーザ用波長検出装置。 - 前記増幅用レーザのみを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする請求項4記載の2ステージレーザ用波長検出装置。 - 前記所定タイミングをずらして前記発振用レーザと前記増幅用レーザとを発振させ、前記フリーラン光を出射すること
を特徴とする請求項4記載の2ステージレーザ用波長検出装置。 - 狭帯域の2ステージレーザ用波長検出装置の校正装置であって、
レーザガスを封入し少なくとも一対の放電電極が設けられた第1のチャンバと、当該第1のチャンバ内から発生する光を狭帯域化する狭帯域化モジュールと、を有する発振用レーザと、
レーザガスを封入し少なくとも一対の放電電極が設けられた第2のチャンバを有する増幅用レーザと、
前記発振用レーザ及び増幅用レーザの各放電電極にパルス電流を供給し、各放電電極間で生ずる放電によってレーザガスを励起して紫外域の光を発生させるためのパルス電源と、
からなる2ステージレーザと、
前記2ステージレーザから出射されるレーザ光の第1の光軸上にあり、当該レーザ光の一部を分岐して第2の光軸上に導くビームスプリッタと、
前記第2の光軸上にあり、入射する光を角度分散型の光学素子で分光する分光器と、
独立した複数の受光素子が少なくとも一次元に配列され、分光後の光を受光する受光センサと、を備え、前記受光センサ内の受光位置に基づいて入射光の波長を求める2ステージレーザ用波長検出装置に適用され、前記受光センサ内の受光位置と波長との対応関係を求める校正装置において、
前記ビームスプリッタと前記分光器との間の前記第2の光軸上にあり、フリーラン光の帯域内に存在する特定波長の光を吸収する光吸収手段と、
前記2ステージレーザをフリーラン発振させて前記吸収手段に入射し、当該吸収手段内部を透過した光を前記分光器へ入射し、分光後の光を前記受光センサで受光する場合に、この受光した光のうち、前記吸収手段で吸収された波長に相当する光の受光位置と前記特定波長とを対応付けて記憶する記憶手段と、を備えたこと
を特徴とする2ステージレーザ用波長検出装置の校正装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003272887A JP2005033104A (ja) | 2003-07-10 | 2003-07-10 | 2ステージレーザ用波長検出装置及びその校正装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
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Family Applications (1)
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---|---|---|---|
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JP (1) | JP2005033104A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2003
- 2003-07-10 JP JP2003272887A patent/JP2005033104A/ja active Pending
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