JP2001174980A - Photosensitive composition and original plate of planographic printing plate using same - Google Patents

Photosensitive composition and original plate of planographic printing plate using same

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JP2001174980A
JP2001174980A JP35704899A JP35704899A JP2001174980A JP 2001174980 A JP2001174980 A JP 2001174980A JP 35704899 A JP35704899 A JP 35704899A JP 35704899 A JP35704899 A JP 35704899A JP 2001174980 A JP2001174980 A JP 2001174980A
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Japan
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acid
alkyl
carbon atoms
printing plate
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JP35704899A
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Japanese (ja)
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Hiromichi Kurita
広道 栗田
Ippei Nakamura
一平 中村
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive composition having high sensitivity, good development latitude and good preservation stability and a positive type original plate of a planographic printing plate using the composition and capable of forming an image with an IR laser for direct plate making with high sensitivity. SOLUTION: The photosensitive composition contains (a) an IR absorber of formula I (where R1 and R2 are each a 1-18C alkyl or a 9-30C aryl; and Z is heptamethine which may have a substituent) and (b) a high molecular compound insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. The composition is made soluble in the aqueous alkali solution when irradiated with an IR laser.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はポジ型画像形成材料
として好適な感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版
原版に関し、特に、赤外線レーザー、サーマルヘッド等
の熱により書き込み可能であり、特にコンピュータ等の
ディジタル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト
製版用の平版印刷版原版に好適な、赤外線レーザ用のポ
ジ型画像形成可能な感光性組成物及びそれを用いた平版
印刷版原版に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive composition suitable as a positive image forming material and a lithographic printing plate precursor using the same. The present invention relates to a photosensitive composition capable of forming a positive type image for an infrared laser, which is suitable for a lithographic printing plate precursor for so-called direct plate making that can directly make a plate from a digital signal from a computer or the like, and a lithographic printing plate precursor using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ
固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータ
のディジタルデータから直接製版するシステムとして、
これらの赤外線レーザーを用いるものが注目されてい
る。ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平板印刷
版材料が特開平7−285275号公報に開示されてい
る。この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸
収し熱を発生する物質と、キノンジアジド化合物類等の
ようなポジ型感光性化合物を添加した画像記録材料であ
り、画像部ではポジ型感光性化合物が、アルカリ水溶液
可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤と
して働き、非画像部では熱により分解して溶解阻止能を
発現しなくなり、現像により除去され得るようになっ
て、画像を形成する。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared, as a system for making a plate directly from digital data of a computer,
Attention has been paid to those using these infrared lasers. A positive type lithographic printing plate material for infrared laser for direct plate making is disclosed in JP-A-7-285275. The present invention is an image recording material in which a substance that absorbs light and generates heat and a positive photosensitive compound such as quinonediazide compounds are added to an aqueous alkali solution-soluble resin, and the positive photosensitive compound is formed in an image area. However, it acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the alkali aqueous solution-soluble resin, and is decomposed by heat in the non-image area to exhibit no dissolution inhibiting ability, so that it can be removed by development, and the image can be removed. Form.

【0003】本発明者らの検討の結果、キノンジアジド
化合物類を画像記録材料に添加しなくても、ポジ画像が
得られることを見出したが、単にキノンジアジド化合物
類を除した画像記録材料においては、現像液の濃度に対
する感度の安定性、即ち現像のラチチュードが悪くなっ
てしまうという欠点がある。
As a result of the study by the present inventors, it has been found that a positive image can be obtained without adding a quinonediazide compound to the image recording material. There is a drawback that the stability of the sensitivity to the concentration of the developing solution, that is, the development latitude is deteriorated.

【0004】一方、オニウム塩やアルカリ不溶性の水素
結合可能な化合物はアルカリ可溶性高分子のアルカリ溶
解抑制作用を有することが知られている。赤外線レーザ
ー対応画像形成材料としては、カチオン性赤外線吸収色
素をアルカリ水可溶高分子の溶解抑制剤として用いた組
成物がポジ作用を示すことがWO97/39894に記載されて
いる。このポジ作用は赤外線吸収色素がレーザー光を吸
収し、発生する熱で照射部分の高分子膜の溶解抑制効果
を消失させて画像形成を行う作用である。その画像形成
性は感材のレーザー照射表面では十分であるが、熱拡散
のため感材の深部までは十分な効果は得られず、従って
露光部/未露光部のアルカリ現像のON-OFFがつきにく
く、良好な画像が得られない問題(低感度、現像ラチチ
ュードが狭い)があった。ここで言う現像ラチチュード
とはアルカリ現像液のアルカリ濃度を変化させたときに
良好な画像形成ができる許容範囲をさす。
On the other hand, it is known that onium salts and alkali-insoluble compounds capable of hydrogen bonding have an alkali dissolution inhibiting action of alkali-soluble polymers. WO97 / 39894 describes that as an image forming material for infrared laser, a composition using a cationic infrared absorbing dye as a dissolution inhibitor of an alkali water-soluble polymer exhibits a positive effect. This positive action is an action in which the infrared absorbing dye absorbs the laser beam and the generated heat causes the effect of suppressing the dissolution of the polymer film at the irradiated portion to disappear, thereby forming an image. Although the image-forming property is sufficient on the laser-irradiated surface of the light-sensitive material, the effect is not sufficient up to the deep part of the light-sensitive material due to thermal diffusion. There was a problem that it was hard to adhere and a good image could not be obtained (low sensitivity, narrow development latitude). Here, the development latitude refers to an allowable range in which a good image can be formed when the alkali concentration of the alkali developer is changed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、現像ラチチュードが広く画像形成性に優れ、且つ、
長期保存してもその画像形成性が低下せず保存安定性が
良好な感光性組成物及びそれを用いたダイレクト製版用
の赤外線レーザで画像を形成しうるポジ型平版印刷版原
版を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a wide developing latitude, excellent image forming properties, and
Provided is a photosensitive composition having good storage stability without deteriorating its image formability even after long-term storage, and a positive lithographic printing plate precursor using the same, which can form an image with an infrared laser for direct plate making. It is.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、画像形成
性、すなわち現像ラチチュードを増加させ、且つ、保存
安定性を向上する目的で鋭意研究を重ねた結果、特定の
赤外線吸収剤を用いることにより、現像ラチチュードと
保存安定性のいずれもが向上することを見出し、本発明
を完成するに到った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies for the purpose of increasing image forming properties, that is, developing latitude, and improving storage stability. As a result, it was found that both the development latitude and the storage stability were improved, and the present invention was completed.

【0007】即ち、本発明の感光性組成物は、(a)下
記一般式(I)で表される赤外線吸収剤、及び(b)水
に不溶であり、且つ、アルカリ水溶液に可溶な高分子化
合物を含有し、赤外線レーザの照射により、アルカリ水
溶液に対する可溶性が変化することを特徴とする。
That is, the photosensitive composition of the present invention comprises (a) an infrared absorbing agent represented by the following general formula (I), and (b) a high-soluble infrared-absorbing agent which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. It contains a molecular compound, and is characterized in that its solubility in an alkaline aqueous solution is changed by irradiation with an infrared laser.

【0008】[0008]

【化3】 Embedded image

【0009】式中、X1、X2はそれぞれ独立に、−CR
78−、−S−、−Se−、−NR 9−、−CH=CH
−または−O−を表す。R1およびR2はそれぞれ独立
に、炭素原子が9〜30のアルキル基を表し、R3
4、R5およびR6はそれぞれ独立に、水素原子、炭素
原子が1〜10のアルキル基を表し、R3とR4またはR
5とR6が互いに結合して脂肪族5員環または6員環、芳
香族6員環、芳香族10員環、置換芳香族6員環または
置換芳香族10員環を形成するのに必要な複数原子を表
してもよい。R7、R8はそれぞれ独立に、炭素原子が1
〜18のアルキル基、炭素原子が6〜18のアリール基
を表し、R9は、炭素原子が1〜18のアルキル基、炭
素原子が6〜18のアリール基を表す。Zは置換基を有
してもよいヘプタメチン基を表し、ここで置換基は、炭
素原子数8以下のアルキル基、ハロゲン原子、アミノ基
であるか、又は、このヘプタメチン基がその2つのメチ
ン炭素上の置換基が互いに結合して形成された置換基を
有していてもよいシクロヘキセン環又はシクロペンテン
環を含むものであってもよく、この環構造上の置換基は
炭素原子数6以下のアルキル基又はハロゲン原子より選
択される。Qは対イオンを表す。
Where X1, XTwoIs each independently -CR
7R8-, -S-, -Se-, -NR 9-, -CH = CH
Represents-or -O-. R1And RTwoAre independent
Represents an alkyl group having 9 to 30 carbon atoms;Three,
RFour, RFiveAnd R6Are each independently a hydrogen atom, carbon
The atom represents an alkyl group of 1 to 10;ThreeAnd RFourOr R
FiveAnd R6Are bonded to each other to form an aliphatic 5- or 6-membered ring,
Aromatic 6-membered ring, aromatic 10-membered ring, substituted aromatic 6-membered ring or
Lists the multiple atoms required to form a substituted aromatic 10-membered ring.
May be. R7, R8Each independently has 1 carbon atom
To 18 alkyl groups and aryl groups having 6 to 18 carbon atoms
And R9Is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms,
Elementary atoms represent 6 to 18 aryl groups. Z has a substituent
Represents a heptamethine group, which may be substituted
Alkyl group, halogen atom, amino group with 8 or less elementary atoms
Or the heptamethine group is the two
The substituents formed by the substituents on the carbon
Cyclohexene ring or cyclopentene which may be possessed
It may contain a ring, and the substituent on this ring structure is
Select from alkyl groups having 6 or less carbon atoms or halogen atoms
Selected. Q represents a counter ion.

【0010】前記一般式(I)で表される赤外線吸収剤
の対イオンQが下記一般式(II)で表されること、或い
は、スルホン酸構造を含む対イオンであることが好まし
い態様である。
In a preferred embodiment, the counter ion Q of the infrared absorbent represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (II) or a counter ion having a sulfonic acid structure. .

【0011】[0011]

【化4】 Embedded image

【0012】式中、AはB、P、As、Sb、Cl及び
Brからなる群より選択される原子を表し、Yはハロゲ
ン原子又は酸素原子を表す。mは1〜6の整数を表す。
In the formula, A represents an atom selected from the group consisting of B, P, As, Sb, Cl and Br, and Y represents a halogen atom or an oxygen atom. m represents an integer of 1 to 6.

【0013】本発明の作用は明確ではないが、(a)一
般式(I)で表される赤外線吸収剤において色素のN位
に長鎖アルキル基を導入することで、色素の有機性が向
上し、また、感光層表面における効率的な光熱変換が行
われ、さらに、長鎖アルキル基を有する赤外線吸収剤の
存在により安定性が向上し、結果として、(b)アルカ
リ水可溶性高分子との親和性および(b)アルカリ水可
溶性高分子に対する溶解阻止能が向上する。このため、
画像形成性の向上および長期保存後の画像形成性の劣化
の抑制が達成できる。また、請求項4に係る本発明の平
版印刷版原版は、支持体上に、前記した感光性組成物か
らなる感光層を設けたことを特徴とする。
Although the function of the present invention is not clear, (a) by introducing a long-chain alkyl group at the N-position of the dye in the infrared absorbing agent represented by the general formula (I), the organic property of the dye is improved. In addition, efficient photothermal conversion is performed on the surface of the photosensitive layer, and further, the stability is improved by the presence of an infrared absorber having a long-chain alkyl group. The affinity and (b) the ability to inhibit the dissolution of an alkali water-soluble polymer are improved. For this reason,
Improvement of image formability and suppression of deterioration of image formability after long-term storage can be achieved. The lithographic printing plate precursor according to the present invention according to claim 4 is characterized in that a photosensitive layer comprising the above-described photosensitive composition is provided on a support.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。 [(a)一般式(I)で表される赤外線吸収剤]上記一
般式(I)で表される赤外線吸収剤は、上記の、水に不
要であり且つアルカリ水に可溶である高分子化合物との
相互作用によって、画像部ではアルカリ現像液に対する
溶解性を大きく低下させることができる。また、非画像
部では、上記一般式(I)で表される赤外線吸収剤自身
の分解、および/または近赤外線の吸収による発熱に起
因する相互作用の解除により、アルカリ可溶性を回復す
るため、画像形成における良好なディスクリミネーショ
ンが発現する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. [(A) Infrared absorbent represented by the general formula (I)] The infrared absorbent represented by the general formula (I) is a polymer that is unnecessary in water and soluble in alkaline water. Interaction with the compound can greatly reduce the solubility of the image area in an alkali developer. In the non-image area, alkali solubility is restored by decomposing the infrared absorbent itself represented by the general formula (I) and / or canceling the interaction caused by heat generation due to absorption of near infrared rays. Good discrimination in formation develops.

【0015】上記一般式(I)で表される赤外線吸収剤
をさらに詳細に説明する。一般式(I)中、X1、X2
各々独立に、−CR78−、−S−、−Se−、−NR
9−、−CH=CH−または−O−を示す。ここで、
7、R8は、炭素原子が1〜18のアルキル基、炭素原
子が1〜18の置換アルキル基、炭素原子が6〜18の
アリール基、炭素原子が6〜18の置換アリール基を表
す。R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素原子が9〜3
0のアルキル基を表し、これらのアルキル基は置換基を
有していてもよい。
The infrared absorbent represented by the above formula (I) will be described in more detail. In the formula (I), the X 1, X 2 are each independently, -CR 7 R 8 -, - S -, - Se -, - NR
9 -, - shows a CH = CH- or -O-. here,
R 7 and R 8 each represent an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or a substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms. . R 1 and R 2 each independently have 9 to 3 carbon atoms.
Represents an alkyl group of 0, and these alkyl groups may have a substituent.

【0016】R3、R4、R5、及びR6はそれぞれ独立
に、水素原子、炭素原子が1〜10のアルキル基、炭素
原子が1〜10の置換アルキルを表し、R3とR4または
5とR6が結合して、脂肪族5員環または6員環、芳香
族6員環、芳香族10員環、置換芳香族6員環または置
換芳香族10員環を形成するに必要な複数原子を表して
もよく、R9は、炭素原子が1〜18のアルキル基、炭
素原子が1〜18の置換アルキル基、炭素原子が6〜1
8のアリール基、炭素原子が6〜18の置換アリール基
を表す。
[0016] R 3, R 4, R 5, and R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted alkyl of 1 to 10 carbon atoms, R 3 and R 4 Or R 5 and R 6 are combined to form an aliphatic 5- or 6-membered ring, an aromatic 6-membered ring, an aromatic 10-membered ring, a substituted aromatic 6-membered ring or a substituted aromatic 10-membered ring. R 9 may represent an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and 6 to 1 carbon atoms.
8 represents a substituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms.

【0017】前記R1〜R9におけるアルキル基として
は、炭素原子数が9から30まで、あるいは、1から1
8までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基が挙
げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s
−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペン
チル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げる
ことができる。これらの中では、R1、R2としては直鎖
状アルキル基が、R3〜R9としては炭素原子数1から1
0までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、
ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基
がより好ましい。
The alkyl group represented by R 1 to R 9 has 9 to 30 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms.
Up to 8 linear, branched, or cyclic alkyl groups are included. Specifically, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl,
Octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s
-Butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, and 2-norbornyl group. Among these, R 1 and R 2 are linear alkyl groups, and R 3 to R 9 are those having 1 to 1 carbon atoms.
Linear to 0, branched from 3 to 12 carbon atoms,
Further, a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms is more preferable.

【0018】これらのアルキル基が置換基を有する場
合、置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が
用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子(−
F、−Br、−C1、−I)、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチ
オ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジア
ルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジア
リールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アル
キルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイル
オキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、
N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキ
ル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスル
ホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシ
ルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリー
ルアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイ
ド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリ
ールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、
N’−アルキル−N’−アリ一ルウレイド基、N−アル
キルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アル
キル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−
アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−ア
ルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリ
ールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイ
ド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、
N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、
N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、
N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイ
ド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリール
ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキ
シカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシ
カルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、及びその共役塩基基(以下、「カルボキシラー
ト」という。)、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバ
モイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−ア
リールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイ
ル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
(−SO3 H)及びその共役塩基(以下、「スルホナト
基」という。)、アルコキシスルホニル基、アリーロキ
シスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルス
ルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、
When these alkyl groups have a substituent, a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen is used as the substituent. Preferred examples include a halogen atom (-
F, -Br, -C1, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N -Dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, An N, N-dialkylcarbamoyloxy group,
N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, A ureido group, an N′-alkylureido group, an N ′, N′-dialkylureido group, an N′-arylureido group, an N ′, N′-diarylureido group,
N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-
Arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N- Arylureido group,
An N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group,
An N ′, N′-diaryl-N-arylureido group,
N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxy Carbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, and the like A conjugate base group (hereinafter referred to as “carboxylate”), an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an N-alkylcarbamoyl group, an N, N-dialkylcarbamoyl group, an N-arylcarbamoyl group, N, N- Diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N - (. Hereinafter referred to as "sulfonato group") arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugate base, alkoxysulfonyl group, an aryloxy A sulfonyl group, a sulfinamoyl group, an N-alkylsulfinamoyl group, an N, N-dialkylsulfinamoyl group,

【0019】N−アリールスルフィナモイル基、N,N
−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−
アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−
アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルフ
ァモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−
ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリ
ールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及
びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモ
イル基(−SO2 NHSO2 R、Rはアルキル基を表
す。)及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルス
ルファモイル基(−SO2 NHSO2 Ar、Arはアリ
ール基を表す。)及びその共役塩基基、N−アルキルス
ルホニルカルバモイル基(−CONHSO2 R、Rはア
ルキル基を表す。)及びその共役塩基基、N−アリ一ル
スルホニルカルバモイル基(−CONHSO2 Ar、A
rはアリール基を表す。)及びその共役塩基基、アルコ
キシシリル基(−Si(OR)3 、Rはアルキル基を表
す。)、アリーロキシシリル基(−Si(OAr)3
Arはアリール基を表す。)、ヒドロキシシリル基(−
Si(OH)3 )及びその共役塩基基、ホスホノ基(一
PO3 2 )及びその共役塩基基(以下、「ホスホナト
基」という。)、ジアルキルホスホノ基(−PO
3 2 、Rはアルキル基を表す。)、ジアリールホスホ
ノ基(−PO3 Ar2 、Arはアリール基を表す。)、
アルキルアリールホスホノ基(−PO3 (R)(A
r)、Rはアルキル基、Arはアリール基を表す。)モ
ノアルキルホスホノ基(−PO3 H(R)、Rはアルキ
ル基を表す。)及びその共役塩基基(以下、「アルキル
ホスホナト基」という。)、モノアリールホスホノ基
(−PO3 H(Ar)、Arはアリール基を表す。)及
びその共役塩基基(以下、「アリールホスホナト基」と
いう。)、ホスホノオキシ基(−OPO3 2 )及びそ
の共役塩基基(以下、「ホスホナトオキシ基」とい
う。)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO
3 (R)2 、Rはアルキル基を表す。)、ジアリールホ
スホノオキシ基(−OPO3 (Ar)2 、Arはアリー
ル基を表す。)、アルキルアリールホスホノオキシ基
(−OPO3 (R)(Ar)、Rはアルキル基、Arは
アリール基を表す。)、モノアルキルホスホノオキシ基
(−OPO3 H(R)、Rはアルキル基を表す。)及び
その共役塩基基(以下、「アルキルホスホナトオキシ
基」という。)、モノアリールホスホノオキシ基(−O
PO3 H(Ar) Arはアリール基を表す。)及びそ
の共役塩基基(以下、「アリ一ルホスホナトオキシ基」
という。)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケ
ニル基、アルキニル基が挙げられる。
N-arylsulfinamoyl group, N, N
-Diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-
Arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-
Alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfur
Amoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-
Diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-ali
Sulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group and
And its conjugate base group, N-alkylsulfonylsulfamo
Il group (-SOTwoNHSOTwoR and R represent an alkyl group
You. ) And its conjugated base group, N-arylsulfonyls
Rufamoyl group (-SOTwoNHSOTwoAr, Ar is ant
Represents a hydroxyl group. ) And its conjugated base group, N-alkyls
Ruphonylcarbamoyl group (-CONHSOTwoR, R is a
Represents a alkyl group. ) And its conjugated base group, N-aryl
Sulfonylcarbamoyl group (-CONHSOTwoAr, A
r represents an aryl group. ) And its conjugated base group, alcohol
Xysilyl group (-Si (OR)Three, R represents an alkyl group
You. ), Aryloxysilyl group (—Si (OAr)Three,
Ar represents an aryl group. ), Hydroxysilyl group (-
Si (OH)Three) And its conjugate base group, phosphono group (one
POThreeHTwo) And its conjugated base group (hereinafter referred to as “phosphonato
Base. " ), A dialkylphosphono group (—PO
ThreeRTwo, R represents an alkyl group. ), Diarylphospho
No group (-POThreeArTwo, Ar represents an aryl group. ),
Alkylarylphosphono group (-POThree(R) (A
r) and R represent an alkyl group and Ar represents an aryl group. )
Noalkylphosphono group (-POThreeH (R), R is alk
Represents a hydroxyl group. ) And its conjugated base group (hereinafter referred to as “alkyl
"Phosphonato group". ), Monoarylphosphono group
(-POThreeH (Ar) and Ar represent an aryl group. )
And its conjugate base group (hereinafter referred to as “arylphosphonate group”)
Say. ), A phosphonooxy group (—OPO)ThreeHTwo) And that
Conjugated base group (hereinafter referred to as "phosphonatooxy group")
U. ), A dialkylphosphonooxy group (—OPO
Three(R)Two, R represents an alkyl group. ), Diarylho
Suphonoxy group (-OPOThree(Ar)Two, Ar is ally
Represents a hydroxyl group. ), Alkylarylphosphonooxy group
(-OPOThree(R) (Ar), R is an alkyl group, Ar is
Represents an aryl group. ), Monoalkylphosphonooxy group
(-OPOThreeH (R) and R represent an alkyl group. )as well as
The conjugate base group (hereinafter referred to as “alkylphosphonatooxy
Base. " ), Monoarylphosphonooxy group (—O
POThreeH (Ar) Ar represents an aryl group. ) And that
Conjugated base group (hereinafter referred to as “arylphosphonatooxy group”)
That. ), Cyano group, nitro group, aryl group, alk
And an alkynyl group.

【0020】アルキル基に置換するこれらの置換基にお
けるアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が
同様に挙げられ、またアリール基の具体例としては、フ
ェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシ
リル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シ
アノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニ
ル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を
挙げることができる。またアルキル基に置換する置換基
としてのアリール基としては、前記に例示されたアリー
ル基が同様に挙げられ、またアルケニル基の例として
は、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シ
ンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基等が挙げら
れ、さらにアルキニル基の例としては、エチニル基、1
−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエ
チニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。
Specific examples of the alkyl group in these substituents to be substituted for the alkyl group include the above-mentioned alkyl groups. Specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl and tolyl. Group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxy Phenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group,
Examples include a phenoxycarbonylphenyl group, an N-phenylcarbamoylphenyl group, a phenyl group, a nitrophenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group. Examples of the aryl group as a substituent for the alkyl group include the above-mentioned aryl groups. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1-butenyl group and a cinnamyl group. Group, 2-chloro-1-ethenyl group, and the like. Further, examples of the alkynyl group include an ethynyl group,
-Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group, phenylethynyl group and the like.

【0021】これら置換基のうち、さらに好ましいもの
としては、ハロゲン原子((−F、−Br、−C1、−
I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル
基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリール
カルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルス
ルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−
アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ
基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリール
ホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホ
ナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール
基、アルケニル基等を挙げることができる。
Of these substituents, more preferred are a halogen atom ((-F, -Br, -C1,-
I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an N-alkylamino group, N, N-
Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group , N, N-dialkylcarbamoyl, N-arylcarbamoyl, N-alkyl-N-arylcarbamoyl, sulfo, sulfonato, sulfamoyl,
N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N-
Alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, monoalkylphosphono group, alkylphosphonate group, monoarylphosphono group, arylphosphonato group, phosphonooxy group , A phosphonatoxy group, an aryl group, an alkenyl group and the like.

【0022】一方、置換アルキル基において、置換基と
組み合わせて置換アルキル基を構成するアルキレン基と
しては、前述の炭素数1から30までのそれぞれのアル
キル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機
残基としたものを挙げることができ、R3〜R9として
は、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭
素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5
から10までの環状のアルキレン基を挙げることができ
る。該置換基とアルキレン基を組み合わせることにより
得られる置換アルキル基の好ましい具体例としては、ク
ロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、
トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエ
トキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメ
チル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エ
チルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モル
ホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイ
ルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオ
キシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル
基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルア
ミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロ
ピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエ
チル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボ
ニルブチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロ
ロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル
基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロ
ピルガルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)
ガルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェ
ニル)ガルバモイルメチル基、スルホプロピル基、スル
ホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチ
ル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジ
プロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルフ
ァモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノフェ
ニル)スルファイルオクチル基、
On the other hand, in the substituted alkyl group, the alkylene group constituting the substituted alkyl group in combination with the substituent is the same as the alkylene group having 1 to 30 carbon atoms except for any one of the hydrogen atoms on the alkyl group. And R 3 to R 9 are preferably a linear group having 1 to 12 carbon atoms, a branched group having 3 to 12 carbon atoms, and a bivalent organic residue. 5 carbon atoms
To 10 cyclic alkylene groups. Preferred specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining the substituent and an alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group,
Trifluoromethyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, Benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxy Carbonylethyl group, methoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylbutyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylca Bamoiruechiru group, N, N-dipropyl galvanometer carbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl)
Galvamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) galvamoylmethyl group, sulfopropyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipro Pyrsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfyloctyl group,

【0023】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プ
ロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル
基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル
基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げること
ができる。
Phosphonobutyl, phosphonatohexyl, diethylphosphonobutyl, diphenylphosphonopropyl, methylphosphonobutyl, methylphosphonatobutyl, tolylphosphonohexyl, tolylphosphonatohexyl, phosphonooxy Propyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p
-Methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. Can be mentioned.

【0024】前記R1〜R10におけるアリール基として
は、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したも
の、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したもの
をあげることができ、具体例としては、フェニル基、ナ
フチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニ
ル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、を挙げるこ
とができ、これらの中でも、フェニル基、ナフチル基が
より好ましい。
The aryl group represented by R 1 to R 10 may be a group in which one to three benzene rings form a condensed ring, or a group in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenabutenyl group, and a fluorenyl group. Of these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

【0025】置換アリール基としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前記のアルキル基、置換アルキル基、
置換アルキル基における置換基として示したものを挙げ
ることができる。このような、置換アリール基の好まし
い具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェ
ニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フ
ェニルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジメ
チルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モ
ルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベン
ゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモ
イルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキ
シフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチル
ベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、
メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニ
ルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル
基、ガルバモイルフェニル基、N−メチルガルバモイル
フェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル
基、N−(メトキシフェニル)ガルバモイルフェニル
基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイル
フェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモ
イルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフ
ェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−
メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルフェ
ニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、
ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェ
ニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナト
フェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホ
ナトフェニル基、アリルフェニル基、1−プロペニルメ
チルフェニル基、2−ブテニルフェニル基、2−メチル
アリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、
2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、
3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。
As the substituted aryl group, those having a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group are used. Examples of preferred substituents include the above-mentioned alkyl groups, substituted alkyl groups,
Examples of the substituent for the substituted alkyl group include those described above. Preferred specific examples of such substituted aryl groups include biphenyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, fluorophenyl, chloromethylphenyl, and trifluoromethylphenyl. , Hydroxyphenyl, methoxyphenyl, methoxyethoxyphenyl, allyloxyphenyl, phenoxyphenyl, methylthiophenyl, tolylthiophenyl, phenylthiophenyl, ethylaminophenyl, dimethylaminophenyl, diethylaminophenyl , Morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophen Le group, N- methyl-benzoylamino phenyl group, carboxyphenyl group,
Methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, galbamoylphenyl group, N-methylgalbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) galbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-
A methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, a phosphonophenyl group, a phosphonatophenyl group,
Diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allylphenyl group, 1-propenylmethylphenyl group, 2-butyl A phenylphenyl group, a 2-methylallylphenyl group, a 2-methylpropenylphenyl group,
2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group,
And a 3-butynylphenyl group.

【0026】Zは置換基を有してもよいヘプタメチン基
を表す。ヘプタメチン基が置換基を有する場合、置換基
としては、炭素原子数8以下のアルキル基、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジア
ルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジア
リールアミノ基、ヘテロ環基等が挙げられ、これらの置
換基は、さらに、前述のR1〜R6が有するのと同様の置
換基により置換されていてもよい。なかでも、赤外線吸
収剤としての吸収波長適性及び合成の容易さの観点か
ら、置換基を有しないヘプタメチン基、置換基としてハ
ロゲン原子を有するヘプタメチン基、置換基としてアリ
ールチオ基を有するヘプタメチン基、置換基としてN,
N−ジアリールアミノ基を有するヘプタメチン基等が好
ましい。また、このヘプタメチン基は、その2つのメチ
ン炭素上の置換基が互いに結合して形成されたシクロヘ
キセン環又はシクロペンテン環を含むものであってもよ
い。このような環構造はヘプタメチン中に1個以上存在
していてもよい。なお、これらの環構造は置換基を有す
るものであってもく、この環構造上の置換基としては、
炭素原子数6以下のアルキル基又はハロゲン原子が挙げ
られる。これらのなかでも、合成の容易さの観点より、
炭素原子数6以下のアルキル基等が好ましい。
Z represents a heptamethine group which may have a substituent. When the heptamethine group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 8 or less carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group,
Examples include an arylthio group, an N-alkylamino group, an N, N-dialkylamino group, an N-arylamino group, an N, N-diarylamino group, a heterocyclic group, and the like. It may be substituted by the same substituents as 1 to R 6 have. Among them, heptamethine group having no substituent, heptamethine group having a halogen atom as a substituent, heptamethine group having an arylthio group as a substituent, As N,
A heptamethine group having an N-diarylamino group is preferred. In addition, the heptamethine group may include a cyclohexene ring or a cyclopentene ring formed by bonding the substituents on the two methine carbons to each other. One or more such ring structures may be present in heptamethine. Incidentally, these ring structures may have a substituent, as a substituent on this ring structure,
Examples thereof include an alkyl group having 6 or less carbon atoms or a halogen atom. Among these, from the viewpoint of ease of synthesis,
An alkyl group having 6 or less carbon atoms is preferred.

【0027】Qは対イオンを表すが、R1〜R6と結合を
形成し、分子内塩を形成していても良い。この対イオン
Qには特に制限はなく、赤外線吸収剤の吸収波長域に適
合するものであれば、公知の赤外線吸収色素の対イオン
として知られるものが任意に適用できる。この対イオン
としては、前記一般式(II)で表されるものが好まし
く、前記式中、AはB、P、As、Sb、Cl及びBr
からなる群より選択される原子を表し、合成の容易さや
化合物の安全性の観点から、B、P、Sb、Clが好ま
しい。Yはハロゲン原子、例えば、Cl、I、Br、F
等又は酸素原子を表す。なかでも、原料入手の容易性の
観点からYはフッ素又は酸素原子であることが好まし
い。mは1〜6の整数を表し、好ましくは4〜6の範囲
である。本発明において好ましい対イオンQを以下に挙
げるが、これに制限されるものではない。
Q represents a counter ion, but may form a bond with R 1 to R 6 to form an inner salt. The counter ion Q is not particularly limited, and any known counter ion of the infrared absorbing dye can be arbitrarily applied as long as it matches the absorption wavelength range of the infrared absorbing agent. As the counter ion, those represented by the above general formula (II) are preferable, wherein A is B, P, As, Sb, Cl and Br.
Represents an atom selected from the group consisting of: B, P, Sb, and Cl are preferred from the viewpoint of ease of synthesis and safety of the compound. Y is a halogen atom, for example, Cl, I, Br, F
Or an oxygen atom. Among them, Y is preferably a fluorine or oxygen atom from the viewpoint of availability of raw materials. m represents an integer of 1 to 6, and preferably ranges from 4 to 6. Preferred counter ions Q in the present invention are listed below, but are not limited thereto.

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】また、Qとしては、その構造内にスルホン
酸構造を表すものも好ましく用いられる。本発明の赤外
線吸収剤における対イオンQとして用い得るスルホン酸
構造を有する対アニオンとしては、以下に示すものを挙
げることができる。 1)メタンスルホン酸イオン、 2)エタンスルホン酸イオン、 3)1−プロパンスルホン酸イオン、 4)2−プロパンスルホン酸イオン、 5)n−ブタンスルホン酸イオン、 6)アリルスルホン酸イオン、 7)10−カンファースルホン酸イオン、 8)トリフルオロメタンスルホン酸イオン、 9)ペンタフルオロエタンスルホン酸イオン、 10)ベンゼンスルホン酸イオン、 11)p−トルエンスルホン酸イオン、 12)3−メトキシベンゼンスルホン酸イオン、 13)4−メトキシベンゼンスルホン酸イオン、 14)4−ヒドロキシベンゼンスルホン酸イオン、 15)4−クロロベンゼンスルホン酸イオン、 16)3−ニトロベンゼンスルホン酸イオン、 17)4−ニトロベンゼンスルホン酸イオン、
As Q, those having a sulfonic acid structure in the structure are also preferably used. Examples of the counter anion having a sulfonic acid structure that can be used as the counter ion Q in the infrared absorbent of the present invention include the following. 1) methanesulfonic acid ion, 2) ethanesulfonic acid ion, 3) 1-propanesulfonic acid ion, 4) 2-propanesulfonic acid ion, 5) n-butanesulfonic acid ion, 6) allylsulfonic acid ion, 7) 10) camphorsulfonic acid ion, 8) trifluoromethanesulfonic acid ion, 9) pentafluoroethanesulfonic acid ion, 10) benzenesulfonic acid ion, 11) p-toluenesulfonic acid ion, 12) 3-methoxybenzenesulfonic acid ion, 13) 4-methoxybenzenesulfonic acid ion, 14) 4-hydroxybenzenesulfonic acid ion, 15) 4-chlorobenzenesulfonic acid ion, 16) 3-nitrobenzenesulfonic acid ion, 17) 4-nitrobenzenesulfonic acid ion,

【0030】18)4−アセチルベンゼンスルホン酸イ
オン、 19)ペンタフルオロベンゼンスルホン酸イオン、 20)4−ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、 21)メシチレンスルホン酸イオン、 22)2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホン
酸イオン、 23)2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸イオン、 24)イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸イオン、 25)ジフェニルアミン−4−スルホン酸イオン、 26)1−ナフタレンスルホン酸イオン、 27)2−ナフタレンスルホン酸イオン、 28)2−ナフトール−6−スルホン酸イオン、 29)2−ナフトール−7−スルホン酸イオン、 30)アントラキノン−1−スルホン酸イオン、 31)アントラキノン−2−スルホン酸イオン、 32)9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルホ
ン酸イオン、 33)9,10−ジエトキシアントラセン−2−スルホ
ン酸イオン、 34)キノリン−8−スルホン酸イオン、 35)8−ヒドロキシキノリン−5−スルホン酸イオ
ン、 36)8−アニリノ−ナフタレン−1−スルホン酸イオ
ン。
18) 4-acetylbenzenesulfonate ion, 19) pentafluorobenzenesulfonate ion, 20) 4-dodecylbenzenesulfonate ion, 21) mesitylenesulfonate ion, 22) 2,4,6-triisopropylbenzene Sulfonate ion, 23) 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-
5-sulfonic acid ion, 24) dimethyl isophthalate-5-sulfonic acid ion, 25) diphenylamine-4-sulfonic acid ion, 26) 1-naphthalenesulfonic acid ion, 27) 2-naphthalenesulfonic acid ion, 28) 2- Naphthol-6-sulfonic acid ion, 29) 2-naphthol-7-sulfonic acid ion, 30) anthraquinone-1-sulfonic acid ion, 31) anthraquinone-2-sulfonic acid ion, 32) 9,10-dimethoxyanthracene-2 33) 9,10-diethoxyanthracene-2-sulfonate ion, 34) quinoline-8-sulfonate ion, 35) 8-hydroxyquinoline-5-sulfonate ion, 36) 8-anilino- Naphthalene-1-sulfonic acid ion.

【0031】次に、上記一般式(I)で示される赤外線
吸収剤の製造方法について説明する。前記一般式(I)
で示される赤外線吸収剤は公知の有機合成技術により製
造することができる。具体的な合成方法としては、米国
特許第5,441,866号、Zh. Org. Khim.第28
巻(第10号)、1992年、2159〜2164頁、
欧州特許(EP)第464,543 A1号に記載の方
法が挙げられる。
Next, a method for producing the infrared absorbent represented by the above general formula (I) will be described. Formula (I)
Can be produced by a known organic synthesis technique. Specific synthesis methods are described in U.S. Pat. No. 5,441,866, Zh. Org. Khim. Twenty-eighth
Volume (No. 10), 1992, pp. 2159-2164,
The method described in EP 464,543 A1 can be mentioned.

【0032】以下に、上記一般式(I)で示される赤外
線吸収剤の具体例〔(IR−1)〜(IR−30)〕を
挙げるが、本発明の赤外線吸収剤はこれらの具体例に限
定されるものではない。
The specific examples of the infrared absorbing agent represented by the above general formula (I) [(IR-1) to (IR-30)] are shown below. It is not limited.

【0033】[0033]

【化6】 Embedded image

【0034】[0034]

【化7】 Embedded image

【0035】[0035]

【化8】 Embedded image

【0036】[0036]

【化9】 Embedded image

【0037】[0037]

【化10】 Embedded image

【0038】[0038]

【化11】 Embedded image

【0039】[0039]

【化12】 Embedded image

【0040】[0040]

【化13】 Embedded image

【0041】本発明においては、これらの赤外線吸収剤
は、感光性組成物の全固形分に対して0.01〜50重
量%、好ましくは0.1〜20重量%、より好ましくは
0.5〜15重量%の割合で添加することができる。添
加量が0.01重量%より少ないとこの感光性組成物に
よって画像を形成することができず、50重量%を超え
てと添加すると、平版印刷版原版の感光層として用いた
場合に、非画像部に汚れを生じる虞がある。
In the present invention, these infrared absorbers are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 0.5% by weight based on the total solid content of the photosensitive composition. -15% by weight. If the addition amount is less than 0.01% by weight, an image cannot be formed by the photosensitive composition. There is a possibility that the image portion is stained.

【0042】本発明の感光性組成物には、この赤外線吸
収剤に加えて、画像形成性を向上させる目的で他の赤外
線吸収性を有する顔料あるいは染料を添加することがで
きる。顔料としては、市販の顔料およびカラーインデッ
クス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技
術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(C
MC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC
出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用でき
る。
In the photosensitive composition of the present invention, in addition to the infrared absorbing agent, a pigment or a dye having another infrared absorbing property can be added for the purpose of improving image forming properties. Examples of pigments include commercially available pigments and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (C
MC Publishing, 1986), "Printing ink technology" CMC
Published in 1984) can be used.

【0043】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。
The pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments,
Quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dye lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.

【0044】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
"Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.

【0045】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in a photosensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the photosensitive layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills, super mills,
Examples include a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, see “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986).

【0046】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料などの染料が
挙げられる。本発明において、これらの顔料、もしくは
染料のうち赤外光、もしくは近赤外光を吸収するもの
が、赤外光もしくは近赤外光を発光するレーザでの利用
に適する点で特に好ましい。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, diimonium dyes, and aminium dyes. In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.

【0047】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭58−112792号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載
のシアニン染料、米国特許5,380,635号に記載
のジヒドロペリミジンスクアリリウム染料等を挙げるこ
とができる。
As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black is preferably used. Dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787 and the like.
JP-A-58-173696, JP-A-58-18169
0, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58-112793.
Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like; And squarylium dyes described in British Patent No. 434,875, and dihydroperimidine squarylium dyes described in US Pat. No. 5,380,635.

【0048】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物等が、また、市販品として
は、Epolight III−178、Epolight
III−130、Epolight III−125、Epo
light IV −62A(エポリン社製)等が特に好ま
しく用いられる。
As a dye, US Pat.
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and pyrylium compounds disclosed in Japanese Examined Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, and as commercially available products, Epollight III-178, Epollight
III-130, Epollight III-125, Epo
Light IV-62A (Eporin) and the like are particularly preferably used.

【0049】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、印
刷版材料全固形分に対し0.01〜50重量%、好まし
くは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で印刷版材料中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満
であると感度が低くなり、また50重量%を越えると感
光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。
Another particularly preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight, in the case of dyes, Particularly preferred is 3.1.
It can be added to the printing plate material at a ratio of 10 to 10% by weight. If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered. If the amount exceeds 50% by weight, the uniformity of the photosensitive layer is lost and the durability of the recording layer is deteriorated.

【0050】これらの染料もしくは顔料は感光性組成物
に添加して他の成分とともに感光層に添加してもよい
し、平版印刷版原版の作製にあたり、感光層以外の別の
層を設けそこへ添加してもよい。これらの染料もしくは
顔料は一種のみを添加してもよく、二種以上を混合して
使用してもよい。
These dyes or pigments may be added to the photosensitive composition and added to the photosensitive layer together with other components, or when preparing a lithographic printing plate precursor, another layer other than the photosensitive layer may be provided. It may be added. These dyes or pigments may be used alone or in combination of two or more.

【0051】[(b)アルカリ水溶液可溶性樹脂]本発
明に使用される(b)アルカリ水溶液可溶性高分子化合
物とは、高分子化合物の主鎖又は側鎖に、以下のような
酸基構造を有するものを指す。フェノール性水酸基(−
Ar−OH)、カルボン酸基(−CO3 H)、スルホン
酸基(−SO3 H)、リン酸基(−OPO3 H)、スル
ホンアミド基(−SO 2 NH−R)、置換スルホンアミ
ド系酸基(活性イミド基)(−SO2 NHCOR、−S
2 NHSO2 R、−CONHSO2 R)。ここで、A
rは置換基を有していてもよい2価のアリール基を表
し、Rは置換基を有していてもよい炭化水素基を有す
る。なかでも、好ましい酸基として、(b−1)フェノ
ール性水酸基、(b−2)スルホンアミド基、(b−
3)活性イミド基が挙げられ、特に(b−1)フェノー
ル性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂(以下、
「フェノール性水酸基を有する樹脂」という。)が最も
好ましく用いることができる。
[(B) Alkaline aqueous solution soluble resin]
(B) Alkaline aqueous solution soluble polymer compound to be used
The substance is, as follows, in the main chain or side chain of the polymer compound.
It refers to those having an acid group structure. Phenolic hydroxyl group (-
Ar-OH), carboxylic acid group (-COThreeH), sulfone
Acid group (-SOThreeH), phosphate group (-OPOThreeH), Sur
Honamide group (-SO TwoNH-R), substituted sulfonamido
Acid group (active imide group) (-SOTwoNHCOR, -S
OTwoNHSOTwoR, -CONHSOTwoR). Where A
r represents a divalent aryl group which may have a substituent;
R has a hydrocarbon group which may have a substituent
You. Among them, preferred acid groups include (b-1) pheno
Hydroxyl group, (b-2) sulfonamide group, (b-
3) An active imide group, particularly (b-1) phenol
Alkaline aqueous solution soluble resin having a hydroxyl group
It is referred to as "a resin having a phenolic hydroxyl group". ) Is the most
It can be preferably used.

【0052】(b−1)フェノール性水酸基を有する高
分子化合物としては、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドとの縮重合体(以下、「フェノールホルムアルデ
ヒド樹脂」という。)、m−クレゾールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体(以下、「m−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂」という。)、p−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール
(m−、p−、またはm−/p−混合のいずれでもよ
い)とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹
脂、および、ピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙
げることができる。あるいは、フェノール基を側鎖に有
するモノマーを共重合させた共重合体を用いることもで
きる。用いるフェノール基を有するモノマーとしては、
フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、N
−(2−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(3−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(2−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(3−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシフェ
ニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレー
ト、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒドロ
キシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェニル
メタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(3−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)エチルメタクリレート、2−(3−ヒドロキシ
フェニル)エチルメタクリレート、2−(4−ヒドロキ
シフェニル)エチルメタクリレート、2−(N’−(4
−ヒドロキシフェニル)ウレイド)エチルアクリレー
ト、2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイ
ド)エチルメタクリレート等を好適に使用することがで
きる。
(B-1) Examples of the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group include polycondensates of phenol and formaldehyde (hereinafter referred to as "phenol formaldehyde resin") and degeneracy of m-cresol and formaldehyde. (Hereinafter referred to as "m-cresol formaldehyde resin"), a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (m-, p- Or a m- / p-mixture) and a novolak resin such as a condensation polymer of formaldehyde, and a condensation polymer of pyrogallol and acetone. Alternatively, a copolymer obtained by copolymerizing a monomer having a phenol group in a side chain can be used. As the monomer having a phenol group to be used,
Examples include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, and hydroxystyrene having a phenol group. Specifically, N
-(2-hydroxyphenyl) acrylamide, N-
(3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate , P-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl meth Relate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (N '- (4
-Hydroxyphenyl) ureido) ethyl acrylate, 2- (N '-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate and the like can be suitably used.

【0053】高分子の重量平均分子量は5.0×102
〜2.0×105 で、数平均分子量が2.0×102
1.0×105 のものが、画像形成性の点で好ましい。
また、これらの樹脂を単独で用いるのみならず、2種類
以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合
には、米国特許第4123279号明細書に記載されて
いるような、t−ブチルフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体のような、炭素数3〜8のアルキル基を
置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの
縮重合体を併用してもよい。
The weight average molecular weight of the polymer is 5.0 × 10 2
2.0 × 10 5 , and the number average molecular weight is 2.0 × 10 2
Those having a density of 1.0 × 10 5 are preferred in view of image forming properties.
These resins may be used alone or in combination of two or more. When used in combination, a C3-C8 polymer such as a condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde or a condensation polymer of octylphenol and formaldehyde as described in U.S. Pat. No. 4,123,279. A condensation polymer of phenol and formaldehyde having an alkyl group as a substituent may be used in combination.

【0054】更に、米国特許第4123279号明細書
に記載されているように、t−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基とし
て有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併
用してもよい。かかるフェノール性水酸基を有する樹脂
は、1種類あるいは2種類以上を組み合わせて使用して
もよい。
Further, as described in US Pat. No. 4,123,279, phenol having a C3-8 alkyl group as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin, and formaldehyde are used. May be used in combination. These resins having a phenolic hydroxyl group may be used alone or in combination of two or more.

【0055】(b−2)スルホンアミド基を有するアル
カリ水可溶性高分子化合物の場合、この高分子化合物を
構成する主たるモノマーである(b−2)スルホンアミ
ド基を有するモノマーとしては、1分子中に、窒素原子
上に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミ
ド基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有す
る低分子化合物からなるモノマーが挙げられる。その中
でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基
と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置
換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好まし
い。このような化合物としては、例えば、下記一般式
(3)〜(7)で示される化合物が挙げられる。
In the case of (b-2) an alkaline water-soluble polymer compound having a sulfonamide group, the main monomer constituting the polymer compound is (b-2) a monomer having a sulfonamide group in one molecule. Examples of the monomer include a low molecular weight compound having a sulfonamide group having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated bonds. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of such a compound include compounds represented by the following general formulas (3) to (7).

【0056】[0056]

【化14】 Embedded image

【0057】式中、X1 、X2 はそれぞれ−O−又は−
NR17−を示す。R21、R24はそれぞれ水素原子又は−
CH3 を表す。R22、R25、R29、R32、R36はそれぞ
れ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキ
レン基を表す。R23、R17、R33は水素原子、それぞれ
置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示す。また、R26、R37は、それぞれ置換基を有してい
てもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。R28、R30、R
34は水素原子又は−CH3 を表す。R31、R35はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1 、Y 2 はそれぞれ単結合
または−CO−を表す。
Where X1, XTwoIs -O- or-
NR17Indicates-. Rtwenty one, Rtwenty fourIs a hydrogen atom or-
CHThreeRepresents Rtwenty two, Rtwenty five, R29, R32, R36Each
Alkylene having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent
Group, cycloalkylene group, arylene group or aralkyl
Represents a len group. Rtwenty three, R17, R33Are hydrogen atoms, respectively
C1-C12 alkyl which may have a substituent
Group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group
Show. Also, R26, R37Has a substituent
C1-C12 alkyl group, cycloalkyl
Group, an aryl group, and an aralkyl group. R28, R30, R
34Is a hydrogen atom or -CHThreeRepresents R31, R35Each
1 to 12 carbon atoms which may have a single bond or a substituent
Alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or
Represents an aralkylene group. Y1, Y TwoIs a single bond
Or -CO-.

【0058】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。
Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0059】(b−3)活性イミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子化合物の場合、下記式で表される活性イ
ミド基を分子内に有するものであり、この高分子化合物
を構成する主たるモノマーである(b−3)活性イミド
基を有するモノマーとしては、1分子中に、下記の式で
表される活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合をそれ
ぞれ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーが挙
げられる。
(B-3) In the case of an alkali water-soluble polymer compound having an active imide group, the compound has an active imide group represented by the following formula in the molecule, and is a main monomer constituting the polymer compound. (B-3) As a monomer having an active imide group, a monomer comprising an active imino group represented by the following formula and a low molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond in one molecule Is mentioned.

【0060】[0060]

【化15】 Embedded image

【0061】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
As such a compound, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0062】本発明に用い得るアルカリ水可溶性共重合
体は、前記(b−1)から(b−3)の酸性基を含むモ
ノマーは、1種類である必要はなく、同一の酸性基を有
するモノマーを2種以上、または、異なる酸性基を有す
るモノマーを2種以上共重合させたものも用いることも
できる。共重合の方法としては、従来知られている、グ
ラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法
等を用いることができる。
In the alkaline water-soluble copolymer which can be used in the present invention, the monomers containing the acidic groups (b-1) to (b-3) need not be one kind, but have the same acidic group. Those obtained by copolymerizing two or more kinds of monomers or two or more kinds of monomers having different acidic groups can also be used. As the copolymerization method, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method, or the like can be used.

【0063】前記共重合体は、共重合させる(b−1)
から(b−3)の酸性基を有するモノマーを共重合成分
として10モル%以上含んでいることが好ましく、20
モル%以上含むものがより好ましい。共重合成分が10
モル%より少ないと、フェノール性水酸基を有する樹脂
との相互作用が不十分となり共重合成分を用いる場合の
利点である現像ラチチュードの向上効果が不充分とな
る。
The copolymer is copolymerized (b-1)
To (b-3) preferably contains at least 10 mol% of a monomer having an acidic group as a copolymer component.
Those containing at least mol% are more preferred. 10 copolymer components
If the amount is less than mol%, the interaction with the resin having a phenolic hydroxyl group becomes insufficient, and the effect of improving the development latitude, which is an advantage when a copolymer component is used, becomes insufficient.

【0064】また、この共重合体には、前記(b−1)
から(b−3)の酸性基を含むモノマー以外の他の共重
合成分を含んでいてもよい。共重合体成分として用いう
るモノマーの例としては、下記(1)〜(12)に挙げ
るモノマーを用いることができる。
The copolymer (b-1)
To (b-3) other than the monomer containing an acidic group. As examples of the monomer that can be used as the copolymer component, the following monomers (1) to (12) can be used.

【0065】(1)例えば、2−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、および
メタクリル酸エステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(1) Acrylic esters and methacrylic esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates; (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate. (4) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-
Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-
Acrylamide or methacrylamide such as phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, and N-ethyl-N-phenylacrylamide. (5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether. (6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (12) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid;

【0066】本発明においてアルカリ水可溶性高分子化
合物としては、単独重合体、共重合体に係わらず、重量
平均分子量が2000以上、数平均分子量が500以上
のものが膜強度の点で好ましい。さらに好ましくは、重
量平均分子量が5000〜300000、数平均分子量
が800〜250000であり、分散度(重量平均分子
量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
In the present invention, the alkali water-soluble polymer compound having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more, irrespective of a homopolymer or a copolymer, is preferable from the viewpoint of film strength. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.

【0067】前記共重合体において、(b−1)〜(b
−3)の酸性基を有するモノマーと、他のモノマーとの
配合重量比が、現像ラチチュードの点から50:50か
ら5:95の範囲にあるものが好ましく、40:60か
ら10:90の範囲にあるものがより好ましい。
In the above copolymer, (b-1) to (b)
The compounding weight ratio of the monomer having an acidic group of (3) to another monomer is preferably in the range of 50:50 to 5:95 from the viewpoint of development latitude, and is preferably in the range of 40:60 to 10:90. Are more preferable.

【0068】本発明において好ましいフェノール性水酸
基を有する高分子化合物としては、m−/p−混合クレ
ゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体やフェノールと
クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラ
ック樹脂、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド/メタクリル酸メチル/アクリロニトリルの共重
合体、2−(N’−(4−ヒドロキシフェニル)ウレイ
ド)エチルメタクリレート/メタクリル酸メチル/アク
リロニトリルの共重合体等が挙げられる。また、本発明
において好ましいスルホンアミド基を有する高分子化合
物としては、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド/メタクリル酸メチル/アクリロニトリ
ルの共重合体等が、活性イミド基を有する高分子化合物
としては、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリル
アミド/メタクリル酸メチル/アクリロニトリル/2−
ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体等が挙げら
れる。
Examples of preferred high molecular compounds having a phenolic hydroxyl group in the present invention include novolak resins such as a condensation polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, a condensation polymer of phenol, cresol and formaldehyde, and the like. Copolymers of (4-hydroxyphenyl) methacrylamide / methyl methacrylate / acrylonitrile, copolymers of 2- (N ′-(4-hydroxyphenyl) ureido) ethyl methacrylate / methyl methacrylate / acrylonitrile, and the like can be given. In the present invention, a preferable polymer compound having a sulfonamide group includes a copolymer of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / methyl methacrylate / acrylonitrile, and the like. Is N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide / methyl methacrylate / acrylonitrile / 2-
Examples include a copolymer of hydroxyethyl methacrylate.

【0069】これらアルカリ水可溶性高分子化合物は、
それぞれ1種類あるいは2種類以上を組み合わせて使用
してもよく、全感光性組成物固形分中、30〜99重量
%、好ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50
〜90重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性の
高分子化合物の添加量が30重量%未満であると記録層
の耐久性が悪化し、また、99重量%を越えると感度、
耐久性の両面で好ましくない。
These alkaline water-soluble polymer compounds include:
One type or a combination of two or more types may be used, and 30 to 99% by weight, preferably 40 to 95% by weight, and particularly preferably 50% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition.
It is used in an amount of up to 90% by weight. When the amount of the alkali-soluble polymer compound is less than 30% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated.
It is not preferable in terms of durability.

【0070】〔その他の成分〕本発明の感光性組成物に
は、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することが
できる。例えば、他のオニウム塩、芳香族スルホン化合
物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化
合物等を添加すると、アルカリ水可溶性高分子の現像液
への溶解阻止機能を向上させることができるので好まし
い。
[Other Components] Various additives can be further added to the photosensitive composition of the present invention, if necessary. For example, it is preferable to add another onium salt, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonate compound, a polyfunctional amine compound, or the like, because the function of inhibiting the dissolution of the alkali water-soluble polymer in the developer can be improved.

【0071】前記オニウム塩としては、ジアゾニウム
塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
等を挙げることができる。本発明において用いられるオ
ニウム塩として好適なものとしては、例えば、S.I.
Schlesinger,Photogr.Sci.E
ng.,18,387(1974)、T.S.Bal
et al,Polymer,21,423(198
0)、または、特開平5−158230号公報に記載の
ジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同
4,069,056号、または特開平3−140140
号公報に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker
et al,Macromolecules,17,
2468(1984)、C.S.Wen et al,
Teh,Proc.Conf.Rad.Curing
ASIA,p478Tokyo,Oct(1988)、
米国特許第4,069,055号、または同4,06
9,056号に記載のホスホニウム塩、
Examples of the onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like. Suitable onium salts for use in the present invention include, for example, S.I. I.
Schlesinger, Photogr. Sci. E
ng. , 18, 387 (1974); S. Bal
et al, Polymer, 21, 423 (198
0) or diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, or JP-A-3-140140.
Ammonium salts described in JP-A No. C. Necker
et al, Macromolecules, 17,
2468 (1984), C.I. S. Wen et al,
Teh, Proc. Conf. Rad. Curing
ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988),
US Patent No. 4,069,055 or 4,06
The phosphonium salt described in No. 9,056,

【0072】J.V.Crivello et al,
Macromorecules,10(6),1307
(1977)、Chem.& Eng.News,No
v.28,p31(1988)、欧州特許第104,1
43号、米国特許第339,049号、同第410,2
01号、特開平2−150848号公報、または特開平
2−296514号公報に記載のヨードニウム塩、J.
V.Crivelloet al,Polymer
J.17,73(1985)、J.V.Crivell
o et al.J.Org.Chem.,43,30
55(1978)、W.R.Watt et al,
J.Polymer Sci.,Polymer Ch
em.Ed.,22,1789(1984)、J.V.
Crivello et al,Polymer Bu
ll.,14,279(1985)、J.V.Criv
ello et al,Macromorecule
s,14(5),1141(1981)、J.V.Cr
ivello et al,J.Polymer Sc
i.,PolymerChem.Ed.,17,287
7(1979)、欧州特許第370,693号、同23
3,567号、同297,443号、同297,442
号、米国特許第4,933,377号、同3,902,
114号、同410,201号、同339,049号、
同4,760,013号、同4,734,444号、同
2,833,827号、独国特許第2,904,626
号、同3,604,580号、または同3,604,5
81号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivel
lo et al,Macromorecules,1
0(6),1307(1977)、またはJ.V.Cr
ivello et al,J.Polymer Sc
i.,PolymerChem.Ed.,17,104
7(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.We
n et al,Teh,Proc.Conf.Ra
d.Curing ASIA,p478 Tokyo,
Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げら
れる。
J. V. Crivello et al,
Macromolecules, 10 (6), 1307
(1977), Chem. & Eng. News, No
v. 28, p31 (1988), EP 104,1
No. 43, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,2
No. 01, JP-A-2-150848 or JP-A-2-296514;
V. Crivello et al, Polymer
J. 17, 73 (1985); V. Crivell
o et al. J. Org. Chem. , 43,30
55 (1978); R. Watt et al,
J. Polymer Sci. , Polymer Ch
em. Ed. , 22, 1789 (1984); V.
Crivello et al, Polymer Bu
ll. , 14, 279 (1985); V. Criv
ello et al, Macromorecule
s, 14 (5), 1141 (1981); V. Cr
ivello et al, J. Mol. Polymer Sc
i. , Polymer Chem. Ed. , 17,287
7 (1979), European Patent Nos. 370,693 and 23
No. 3,567, No. 297,443, No. 297,442
No. 4,933,377 and 3,902,
No. 114, No. 410, 201, No. 339, 049,
No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626
No. 3,604,580 or 3,604,5
81, a sulfonium salt described in J. No. 81; V. Crivel
lo et al, Macromorecules, 1
0 (6), 1307 (1977), or J.I. V. Cr
ivello et al, J. Mol. Polymer Sc
i. , Polymer Chem. Ed. , 17,104
7 (1979), C.I. S. We
n et al, Teh, Proc. Conf. Ra
d. Curing ASIA, p478 Tokyo,
Octon (1988).

【0073】前記オニウム塩の対イオンとしては、四フ
ッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタ
レンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン
酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼ
ンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フ
ルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−
メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼン
スルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げるこ
とができる。これらの中でも、特に、六フッ化リン酸、
トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸のようなアルキル芳香族スルホ
ン酸が好適である。
Examples of the counter ion of the onium salt include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethyl Benzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol -5-sulfonic acid, 2-
Methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among these, in particular, hexafluorophosphoric acid,
Alkyl aromatic sulfonic acids such as triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferred.

【0074】前記オニウム塩は、第1の層を構成する材
料全固形分に対して、1〜50重量%添加するのが好ま
しく、5〜30重量%添加するのがより好ましく、10
〜30重量%添加するのが特に好ましい。
The onium salt is preferably added in an amount of 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, based on the total solid content of the material constituting the first layer.
It is particularly preferable to add 〜30% by weight.

【0075】また、さらに、感度を向上させる目的で、
環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用するこ
ともできる。環状酸無水物としては米国特許第4,11
5,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テ
トラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェ
ノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェ
ノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、
4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、
4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,
3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙
げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88
942号、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸
類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、
ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン
酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフ
ィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,
4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、
ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが
挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類および
有機酸類の印刷版材料中に占める割合は、0.05〜2
0重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量
%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。
Further, in order to further improve the sensitivity,
Cyclic anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination. As the cyclic acid anhydride, US Pat.
Phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride described in US Pat. No. 5,128;
3,6-Endoxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone,
4,4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane,
4,4 ', 3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5
3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like. Further, as organic acids, JP-A-60-88
942, JP-A-2-96755, and the like, and include sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters, and carboxylic acids. acid,
Dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,
4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4
-Cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid,
Lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like can be mentioned. The proportion of the above cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the printing plate material is 0.05 to 2%.
It is preferably 0% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, particularly preferably 0.1 to 10% by weight.

【0076】また、本発明における印刷版材料中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭6
2−251740号公報や特開平3−208514号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の印
刷版材料中に占める割合は、0.05〜15重量%が好
ましく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
In the printing plate material of the present invention,
Japanese Patent Application Laid-Open No.
Nonionic surfactants as described in JP-A-2-251740 and JP-A-3-208514, and amphoteric as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. Surfactants can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N
-Tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name “Amogen K”: manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the printing plate material is preferably 0.05 to 15% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0077】本発明における印刷版材料中には、露光に
よる加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼
き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出す
る化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組
合せを代表として挙げることができる。具体的には、特
開昭50−36209号、同53−8128号の各公報
に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スル
ホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開
昭53−36223号、同54−74728号、同60
−3626号、同61−143748号、同61−15
1644号および同63−58440号の各公報に記載
されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の
組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化
合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化
合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き
出し画像を与える。
In the printing plate material of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, and a dye or pigment as an image coloring agent can be added. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, No. 36223, No. 54-74728, No. 60
No.-3626, No.61-143748, No.61-15
Combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 1644 and 63-58440 can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0078】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。これら
の染料は、印刷版材料全固形分に対し、0.01〜10
重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で印刷版材
料中に添加することができる。更に本発明の印刷版材料
中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可
塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチ
レングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよび
ポリマー等が用いられる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, JP-A-62-2932
The dyes described in JP-B-47 are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.01 to 10 based on the total solid content of the printing plate material.
% By weight, preferably 0.1 to 3% by weight, can be added to the printing plate material. Further, a plasticizer is added to the printing plate material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility and the like to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate,
For example, oligomers and polymers of trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid are used.

【0079】さらに、これら以外にも、エポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらには特開平8−27655
8号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物及び本発明者らが先に提案した特願平9−32893
7号明細書に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋
性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。
Further, in addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and JP-A-8-27655
Patent Document 8 discloses a phenol compound having a hydroxymethyl group, a phenol compound having an alkoxymethyl group, and Japanese Patent Application No. 9-32893 previously proposed by the present inventors.
A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in the specification of JP-A No. 7 can be appropriately added according to the purpose.

【0080】本発明の感光性組成物を含む感光層塗布液
や、保護層等の所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かし
て、適当な支持体上に塗布することにより平版印刷版原
版を製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度
は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によ
って異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に
0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、感光層の皮膜
特性は低下する。
A lithographic printing plate precursor is prepared by dissolving a coating solution for a photosensitive layer containing the photosensitive composition of the present invention or a coating solution component for a desired layer such as a protective layer in a solvent and coating the solution on a suitable support. Can be manufactured. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred for a photosensitive printing plate. As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive layer deteriorate.

【0081】本発明における感光性組成物を用いた感光
層塗布液中には、塗布性を良化するための界面活性剤、
例えば特開昭62−170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全印刷版材料の0.01〜1重量%
さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the photosensitive layer coating solution using the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving coating properties,
For example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added.
The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total printing plate material.
More preferably, it is 0.05 to 0.5% by weight.

【0082】本発明の平版印刷版原版に使用される支持
体としては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、
紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板
(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチック
フィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上
記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、
もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material.
Paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, butyric acid) Cellulose, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), a metal-laminated or vapor-deposited paper as described above,
Alternatively, a plastic film or the like is included.

【0083】本発明の平版印刷版原版に用いられる支持
体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板
が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニ
ウム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成
分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミ
ニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフ
ィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合
金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。本
発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウ
ムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製
造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでも
よい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知
公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することがで
きる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよ
そ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15m
m〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3m
mである。
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is preferably a polyester film or an aluminum plate. Among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Particularly preferred aluminum in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 m.
m to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 m
m.

【0084】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。この様に粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には
硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が
用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. Known mechanical methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used as the mechanical method. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0085】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号および第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、ま
たは電解処理される。他に特公昭36−22063号公
報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米
国特許第3,276,868号、同第4,153,46
1号、同第4,689,272号に開示されているよう
なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used and cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,153,46.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A Nos. 1 and 4,689,272 is used.

【0086】本発明の平版印刷版原版は、支持体上に本
発明の感光性組成物を含むポジ型の感光層を設けたもの
であるが、必要に応じてその間に下塗層を設けることが
できる。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いら
れ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などの
アミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸
およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置
換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン
酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ
−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールア
ミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸
塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises a support and a positive photosensitive layer containing the photosensitive composition according to the present invention provided on a support. If necessary, an undercoat layer may be provided between the layers. Can be. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid which may have a substituent , Naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, organic phosphonic acids such as methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid optionally having a substituent, naphthylphosphoric acid,
Organic phosphoric acids such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, glycine and β
-Selected from amino acids such as alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as triethanolamine hydrochloride, but may be used in combination of two or more.

【0087】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合
物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有
機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種
々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃
度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重
量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25
〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好まし
くは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12
の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の
調子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2 が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。上
記の被覆量が2mg/m2 よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2 より大きくて
も同様である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. A method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound by immersing the aluminum plate, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. . In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25%.
To 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this is adjusted to pH 1 to 12 by a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
It can also be adjusted to the range. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the image recording material. The coverage of the organic undercoat layer, 2 to 200 mg / m 2 are suitable, and preferably from 5 to 100 mg / m 2. If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0088】上記のようにして作製されたポジ型平版印
刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露
光に用いられる活性光線の光源としては、波長760〜
1200nmの赤外線を放射する固体レーザー、半導体
レーザー等が挙げられる。本発明においては、近赤外か
ら赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レー
ザ、半導体レーザが特に好ましい。
The positive planographic printing plate precursor produced as described above is usually subjected to image exposure and development processing. The light source of the actinic ray used for image exposure has a wavelength of 760 to 760.
Examples thereof include a solid-state laser and a semiconductor laser that emit 1200-nm infrared rays. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0089】本発明の平版印刷版原版の現像液および補
充液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使
用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カリウム、第3
リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、第2リン
酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう
酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、
水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウ
ムおよび水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
As the developer and replenisher for the lithographic printing plate precursor according to the invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, tribasic sodium phosphate, tribasic potassium phosphate,
Ammonium phosphate, dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, ammonium bicarbonate, sodium borate, potassium borate, boric acid Ammonium,
Inorganic alkali salts such as sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0090】これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、
特公昭57−7427号公報に記載されているようなア
ルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
These alkaline agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxides are components of the silicate
This is because developability can be adjusted by the ratio and concentration of M 2 O. For example, JP-A-54-62004 discloses
The alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.

【0091】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には、現像性の
促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤
や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界
面活性剤が挙げられる。さらに、現像液および補充液に
は必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫
酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟
化剤を加えることもできる。上記現像液および補充液を
用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を
含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不
感脂化液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷
版として使用する場合の後処理としては、これらの処理
を種々組み合わせて用いることができる。
In the case of developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than the developing solution is used.
It has been known that a large amount of PS plates can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. To the developing solution and the replenishing solution, various surfactants and organic solvents can be added as necessary for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and increasing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can also be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As a post-process when the image recording material of the present invention is used as a printing plate, these processes can be used in various combinations.

【0092】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally comprises a developing section and a post-processing section, and comprises a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and while pumping the exposed printing plate horizontally, each pumped by a pump. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0093】本発明の感光性組成物を用いた感光性平版
印刷版原版について説明する。画像露光し、現像し、水
洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平
版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィ
ルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像
部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平
2−13293号公報に記載されているような消去液を
不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したの
ちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平
59−174842号公報に記載されているようなオプ
ティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部
に照射したのち現像する方法も利用できる。
The photosensitive lithographic printing plate precursor using the photosensitive composition of the present invention will be described. If the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming has an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original film), it is unnecessary. Erasing of the image portion is performed. Such erasing is preferably performed by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-1293, to an unnecessary image portion, leaving the image to stand for a predetermined time, and then rinsing with water. A method described in JP-A-59-174842, in which an actinic ray guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can also be used.

【0094】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前
に、特公昭61−2518号、同55−28062号、
特開昭62−31859号、同61−159655号の
各公報に記載されているような整面液で処理することが
好ましい。その方法としては、該整面液を浸み込ませた
スポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整
面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方
法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラ
ーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結
果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after coating with a desensitizing gum if desired. Is subjected to a burning process. In the case where the lithographic printing plate is subjected to a burning treatment, prior to the burning treatment, JP-B Nos. 61-2518 and 55-28062,
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A-62-31859 and JP-A-61-159655. As the method, a method of applying the printing solution on a lithographic printing plate with a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning solution, or immersing the printing plate in a vat filled with the surface conditioning solution, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.

【0095】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2 (乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: "BP-130").
0 "). The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image,
The temperature is preferably in the range of 180 to 300 ° C. for 1 to 20 minutes.

【0096】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. When a liquid is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0097】[0097]

【実施例】以下、本発明を、実施例に従って説明する
が、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。 (実施例1〜4) 〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミスー水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m 2であった。次にこの板を7
%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/
2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
基板Aを得た。基板Aに下記下塗り液を塗布し、塗膜を
90℃で1分乾燥し基板Bを得た。乾燥後の塗膜の塗布
量は10mg/m2であった。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to embodiments.
However, the scope of the present invention is not limited to these examples. (Examples 1 to 4) [Preparation of substrate] Aluminum plate having a thickness of 0.3 mm (material
1050) was degreased by washing with trichloroethylene.
After, nylon brush and 400 mesh pumice water suspension
The surface was grained using a liquid and washed well with water. This
Plate for 9 seconds in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C
Etching by immersion, washing with water, and then 20% nitric acid
For 20 seconds and washed with water. At this time,
Etching amount is about 3g / m TwoMet. Next, this plate
% Sulfuric acid as electrolyte and current density 15A / dmTwo3g /
mTwoAfter providing a direct current anodic oxide coating of
Substrate A was obtained. The following undercoat liquid is applied to the substrate A, and the coating film is applied.
After drying at 90 ° C. for 1 minute, a substrate B was obtained. Application of coating after drying
The amount is 10mg / mTwoMet.

【0098】 <下塗り液の組成> β−アラニン 0.5g メタノール 95 g 水 5 g<Composition of Undercoat Solution> 0.5 g of β-alanine 95 g of methanol 5 g of water

【0099】得られた基板に以下の感光液1において赤
外線吸収剤を下記表1のように変えたものを調製し、そ
れぞれを塗布量が1.8g/m2 になるよう塗布し、実
施例1〜4の平版印刷版原版を得た。
The following substrate was prepared by changing the infrared absorbing agent in the following photosensitive solution 1 as shown in Table 1 below, and each was applied so that the coating amount became 1.8 g / m 2. 1 to 4 planographic printing plate precursors were obtained.

【0100】 <感光液1の組成> ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平 均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量%含有)1.0 g (アルカリ水可溶性高分子化合物) ・表1に記載の赤外線吸収剤 0.2 g (一般式(I)で表される化合物) ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本イン キ化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 3 g ・メチルエチルケトン 8 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7 g<Composition of Photosensitive Liquid 1> m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3500, unreacted cresol 0.5% by weight) 1.0 g (alkali water (Soluble polymer compound) ・ Infrared absorber described in Table 1 0.2 g (compound represented by the general formula (I)) ・ Dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalenesulfonic acid anion. 02 g-Fluorosurfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.05 g-γ-butyrolactone 3 g-Methyl ethyl ketone 8 g-1-methoxy-2-propanol 7 g

【0101】(比較例1)実施例1において、感光液1
に配合された一般式(I)で表される赤外線吸収剤を下
記構造で示す赤外線吸収剤B−1に代えた以外は、実施
例1とまったく同様にして比較例1の平版印刷版原版を
得た。
(Comparative Example 1)
The lithographic printing plate precursor of Comparative Example 1 was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that the infrared absorber represented by the general formula (I) was replaced by the infrared absorber B-1 having the following structure. Obtained.

【0102】[0102]

【化16】 Embedded image

【0103】(実施例5〜8) <合成例(共重合体1)>攪拌機、冷却管及び滴下ロー
トを備えた500ml三ツ口フラスコにメタクリル酸3
1.0g(0.36モル)、クロロギ酸エチル39.1
g(0.36モル)及びアセトニトリル200mlを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン36.4g(0.36モル)を約
1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、
氷水浴をとり去り、室温下で30分間混合物を攪拌し
た。
Examples 5 to 8 <Synthesis Example (Copolymer 1)> Methacrylic acid 3 was placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
1.0 g (0.36 mol), ethyl chloroformate 39.1
g (0.36 mol) and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling in an ice-water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After dropping,
The ice water bath was removed and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0104】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。
To the reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was then washed with 500 m of water.
Then, the slurry was filtered and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).

【0105】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド4.61g(0.01
92モル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.02
58モル)、アクリロニトリル0.80g(0.015
モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド4.61
g、メタクリル酸エチル2.94g、アクリロニトリル
0.80g、N,N−ジメチルアセトアミド及び「V−
65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40gを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リットルに
この水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの共重合体1の重量平均分子量
(ポリスチレン標準)を測定したところ53,000で
あった。
Next, 4.61 g (0.01%) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
92 mol), and 2.94 g (0.02 g) of ethyl methacrylate.
58 mol), 0.80 g (0.015 g) of acrylonitrile
Mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. This mixture was mixed with “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
0.15 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 4.61
g, 2.94 g of ethyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-dimethylacetamide and "V-
65 "and a mixture of 0.15 g was added dropwise with a dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the obtained mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, methanol (40 g) was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was added to 2 liters of water while stirring the water. The mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was taken out by filtration and dried. 15 g of a white solid was obtained. The weight average molecular weight of this copolymer 1 (polystyrene standard) was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000.

【0106】実施例1〜4で用いた基板と同様のもの
に、以下の感光液2において赤外線吸収剤を下記表1の
ように変えたものを調製し、それぞれを塗布量が1.8
g/m 2 になるよう塗布し、実施例5〜8の平版印刷版
原版を得た。
The same substrate as used in Examples 1 to 4
In the following photosensitive solution 2, an infrared absorbing agent was used in the following Table 1.
Were prepared as described above, and the coating amount of each was 1.8.
g / m TwoLithographic printing plates of Examples 5 to 8
I got the original.

【0107】 <感光液2の組成> ・前記共重合体1(アルカリ水可溶性高分子化合物) 0.75g ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平 均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量%含有) 0.25g (アルカリ水可溶性高分子化合物) ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g ・表1に記載の赤外線吸収剤 0.017g (一般式(I)で表される化合物) ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを1−ナフ タレンスルホン酸アニオンにした染料 0.015g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本イン キ化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 10g ・メチルエチルケトン 10g ・1−メトキシ−2−プロパノール 1g<Composition of Photosensitive Liquid 2> 0.75 g of the copolymer 1 (alkali water-soluble polymer compound) m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 3500, Unreacted cresol 0.5% by weight) 0.25 g (Alkaline water-soluble polymer compound) ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.03 g ・ Infrared absorbent described in Table 1 0.017 g (Represented by general formula (I)・ Dye in which the counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1-naphthalenesulfonic acid anion 0.015 g ・ Fluorinated surfactant (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0 .05 g ・ γ-butyrolactone 10 g ・ Methyl ethyl ketone 10 g ・ 1-methoxy-2-propanol 1 g

【0108】(比較例2)実施例5において、感光液2
に配合された一般式(I)で表される赤外線吸収剤を前
記構造で示した赤外線吸収剤B−1に代えた以外は、実
施例5とまったく同様にして比較例2の平版印刷版原版
を得た。
(Comparative Example 2)
The lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 was carried out in exactly the same manner as in Example 5, except that the infrared absorbing agent represented by the general formula (I) was replaced by the infrared absorbing agent B-1 shown in the above structure. I got

【0109】〔平版印刷版原版の性能評価〕前記のよう
にして作製した実施例1〜8、および比較例1〜2の各
平版印刷版原版について、下記の基準により性能評価を
行った。評価結果を表1に示す。
[Performance Evaluation of Lithographic Printing Plate Precursor] The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 produced as described above were evaluated for performance according to the following criteria. Table 1 shows the evaluation results.

【0110】(画像形成性:感度及び現像ラチチュード
の評価)得られた平版印刷版原版を、波長840nm半
導体レーザを用いて露光した後、富士写真フイルム
(株)製現像液DP−4、リンス液FR−3(1:7)
を仕込んだ自動現像機(富士写真フイルム(株)製:
「PSプロセッサー900VR」)を用いて現像した。
その際、DP−4は1:6で希釈したもの及び1:12
で希釈したものの二水準を使用し、それぞれの現像液に
て得られた非画像部の線幅を測定し、その線幅に相当す
るレーザーの照射エネルギーを求めて、これを感度とし
た。そして、標準である1:6で希釈したものと、1:
12で希釈したものとの差を記録した。その差が小さい
ほど現像ラチチュードが良好であり、20mJ/cm2
以下であれば、実用可能なレベルである。
(Evaluation of Image Formability: Sensitivity and Development Latitude) The obtained lithographic printing plate precursor was exposed to light using a semiconductor laser having a wavelength of 840 nm. FR-3 (1: 7)
Automatic developing machine (Fuji Photo Film Co., Ltd.):
"PS processor 900VR").
At that time, DP-4 was diluted 1: 6 and 1:12.
The line width of the non-image portion obtained with each developing solution was measured using two levels of those diluted with, and the irradiation energy of laser corresponding to the line width was obtained, and this was defined as the sensitivity. Then, a standard 1: 6 dilution and a 1: 6 dilution were used.
The difference from the one diluted at 12 was recorded. The smaller the difference, the better the development latitude, and 20 mJ / cm 2
Below is a practical level.

【0111】(保存安定性の評価)得られた平版印刷版
原版を、レーザー露光する前に60℃で3日間保存し、
その後前記と同様にレーザ露光および現像を行い、同様
に感度を測定して前記の結果と比較した。感度の変動
は、20mJ/cm2 以下であれば保存安定性は良好で
あり、実用可能なレベルであると評価した。
(Evaluation of Storage Stability) The obtained lithographic printing plate precursor was stored at 60 ° C. for 3 days before laser exposure.
Thereafter, laser exposure and development were performed in the same manner as described above, and the sensitivity was measured in the same manner and compared with the above results. If the fluctuation of the sensitivity was 20 mJ / cm 2 or less, the storage stability was good and evaluated as a practically usable level.

【0112】[0112]

【表1】 [Table 1]

【0113】表1の結果より、実施例1〜10の平版印
刷版原版はいずれも、N位に長鎖アルキル基を導入して
いない赤外線吸収剤B−1を用いた比較例1〜2の平版
印刷版原版と比較して、赤外線レーザに対する感度が高
いことが分かる。また、2つの希釈濃度の現像液に対す
る感度の差は、いずれの実施例の場合でも実用上必要と
される20mJ/cm2 以下であり、現像ラチチュード
に優れていることが確認された。さらに、保存安定性の
評価結果から、本発明の平版印刷版原版はすべて、保存
の前後における感度の変動が実用上必要とされる20m
J/cm2 以下であることが確認された。したがって、
本発明の平版印刷版原版は保存安定性についても良好で
あると評価された。
From the results shown in Table 1, it can be seen that the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 10 were all of Comparative Examples 1 and 2 using the infrared absorbent B-1 having no long-chain alkyl group introduced at the N-position. It can be seen that the sensitivity to the infrared laser is higher than that of the lithographic printing plate precursor. In addition, the difference in sensitivity between the two diluted concentrations of the developing solution was 20 mJ / cm 2 or less, which is practically required in any of the examples, and it was confirmed that the developing latitude was excellent. Furthermore, from the evaluation results of storage stability, all the lithographic printing plate precursors according to the present invention require a practically required sensitivity variation of 20 m before and after storage.
It was confirmed that it was J / cm 2 or less. Therefore,
The lithographic printing plate precursor according to the invention was evaluated as having good storage stability.

【0114】(実施例9〜12)実施例5で用いた基板
Aをケイ酸ナトリウム2.5重量%水溶液で30℃で1
0秒間処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を90℃で
1分乾燥し基板Cを得た。乾燥後の塗膜の塗布量は15
mg/m2であった。
(Examples 9 to 12) The substrate A used in Example 5 was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 1 hour.
After treating for 0 second, the following undercoat liquid was applied, and the coating film was dried at 90 ° C. for 1 minute to obtain a substrate C. The coating amount of the coating film after drying is 15
mg / m 2 .

【0115】 <下塗り液の組成> ・分子量2.8万の下記共重合体 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g<Composition of undercoat liquid>-0.3 g of the following copolymer having a molecular weight of 28,000-100 g of methanol-1 g of water

【0116】[0116]

【化17】 Embedded image

【0117】得られた基板Cに前記実施例5〜8で用い
たのと同じ感光液2を塗布量が1.8g/m2 になるよ
う塗布し、実施例9〜12の平版印刷版原版を得た。
The same photosensitive liquid 2 as used in Examples 5 to 8 was applied to the obtained substrate C so that the coating amount was 1.8 g / m 2, and the lithographic printing plate precursors of Examples 9 to 12 were applied. I got

【0118】(比較例3)実施例9において、感光液1
に配合された一般式(I)で表される赤外線吸収剤を前
記構造で示した赤外線吸収剤B−1に代えた以外は、実
施例9とまったく同様にして比較例3の平版印刷版原版
を得た。
(Comparative Example 3) In Example 9, the photosensitive solution 1
The lithographic printing plate precursor of Comparative Example 3 was carried out in exactly the same manner as in Example 9 except that the infrared absorbent represented by the general formula (I) was replaced by the infrared absorbent B-1 represented by the above structure. I got

【0119】得られた実施例9〜12及び比較例3の平
版印刷版原版を出力500mW、波長830nm、ビー
ム径17μm(1/e2)の半導体レーザーを用いて主
走査速度5m/秒にて露光した後、下記組成の希釈率の
異なる二種類の現像液(現像液1、現像液2)及びリン
ス液FR−3(1:7で希釈したもの)を仕込んだ富士
写真フイルム(株)製PSプロセッサー900VRを用
いて現像し、感度および現像ラチチュードを記録した。
また、実施例1〜8と同様にして保存安定性の評価を行
った。結果を表2に示す。
The lithographic printing plate precursors of Examples 9 to 12 and Comparative Example 3 were obtained at a main scanning speed of 5 m / sec using a semiconductor laser having an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm, and a beam diameter of 17 μm (1 / e 2 ). After exposure, Fuji Photo Film Co., Ltd. was charged with two types of developers (Developer 1 and Developer 2) having the following composition and different rinse ratios, and a rinse solution FR-3 (diluted 1: 7). It was developed using a PS processor 900VR and the sensitivity and development latitude were recorded.
The storage stability was evaluated in the same manner as in Examples 1 to 8. Table 2 shows the results.

【0120】 <現像液1> ・D−ソルビトール 5.1重量部 ・水酸化ナトリウム 1.1重量部 ・トリエタノールアミン・エチレンオキサイド付加物(30モル) 0.03重量部 ・水 93.9重量部 <現像液2> ・D−ソルビトール 5.1重量部 ・水酸化ナトリウム 1.1重量部 ・トリエタノールアミン・エチレンオキサイド付加物(30モル) 0.03重量部 ・水 140.7重量部<Developer 1> ・ D-sorbitol 5.1 parts by weight ・ Sodium hydroxide 1.1 parts by weight ・ Triethanolamine / ethylene oxide adduct (30 mol) 0.03 parts by weight ・ Water 93.9 parts by weight Parts <Developer 2> • D-sorbitol 5.1 parts by weight • Sodium hydroxide 1.1 parts by weight • Triethanolamine / ethylene oxide adduct (30 mol) 0.03 parts by weight • Water 140.7 parts by weight

【0121】[0121]

【表2】 [Table 2]

【0122】表2の結果より、実施例9〜12の平版印
刷版原版はいずれも、N位に長鎖アルキル基を導入して
いない赤外線吸収剤B−1を用いた比較例3の平版印刷
版原版と比較して、赤外線レーザに対する感度が高いこ
とが分かる。また、2つの希釈濃度の現像液に対する感
度の差は、非シリケート系の現像液を用いた場合におい
ても、いずれの実施例も実用上必要とされる20mJ/
cm2 以下であり、現像ラチチュードに優れていること
が確認された。さらに、保存安定性の評価結果から、本
発明の平版印刷版原版はすべて、保存の前後における感
度の変動が実用上必要とされる20mJ/cm2 以下で
あることが確認された。したがって、本発明の平版印刷
版原版は保存安定性についても良好であると評価され
た。
From the results in Table 2, it can be seen that the lithographic printing plate precursors of Examples 9 to 12 all used the lithographic printing plate of Comparative Example 3 using the infrared absorbent B-1 having no long-chain alkyl group introduced at the N-position. It can be seen that the sensitivity to the infrared laser is higher than that of the original plate. In addition, the difference in sensitivity between the two dilution concentrations of the developing solution was 20 mJ / p, which is practically required in any of the examples, even when a non-silicate developing solution was used.
cm 2 or less, which was confirmed to be excellent in development latitude. Furthermore, from the evaluation results of storage stability, it was confirmed that the lithographic printing plate precursors of the present invention all had a sensitivity variation before and after storage of 20 mJ / cm 2 or less, which is required for practical use. Therefore, the planographic printing plate precursor according to the invention was evaluated as having good storage stability.

【0123】上記各実施例より、本発明は上記の特定の
赤外線吸収剤を使用したことにより、高感度で、かつ異
なる濃度を有する現像液を用いた場合の感度の安定性、
即ち現像ラチチュードが良好であり、さらに保存安定性
も良好な感光性組成物を得られることがわかった。ま
た、この感光性組成物を用いた平版印刷版原版は赤外線
レーザによるダイレクト製版が可能で、高感度で現像ラ
チチュード及び保存安定性が良好であった。
As can be seen from the above Examples, the present invention uses the above-mentioned specific infrared absorbing agent to obtain high sensitivity and stability of sensitivity when using developers having different concentrations.
That is, it was found that a photosensitive composition having good development latitude and good storage stability can be obtained. The lithographic printing plate precursor using this photosensitive composition was capable of direct plate making using an infrared laser, had high sensitivity, and had good development latitude and storage stability.

【0124】[0124]

【発明の効果】本発明の感光性組成物は、現像ラチチュ
ードが広く画像形成性に優れ、且つ、長期保存してもそ
の画像形成性が低下せず保存安定性が良好である。ま
た、この感光性組成物を用いた平版印刷版は、赤外線レ
ーザで画像を形成しうるダイレクト製版用のポジ型平版
印刷版であり、画像形成性と保存安定性に優れるという
効果を奏する。
The photosensitive composition of the present invention has a wide development latitude and is excellent in image formability, and its image formability does not decrease even after long-term storage, and the storage stability is good. Further, a lithographic printing plate using this photosensitive composition is a positive type lithographic printing plate for direct plate making capable of forming an image with an infrared laser, and has an effect of being excellent in image formability and storage stability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AC08 AD03 CB42 CB43 CB45 CB52 CC20 FA03 FA17 2H096 AA07 AA08 BA09 BA16 BA20 EA04 GA08 2H114 AA04 AA23 AA24 BA05 BA06 BA10 DA22 DA23 DA41 DA59 EA02 EA10  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on front page F term (reference) 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AC08 AD03 CB42 CB43 CB45 CB52 CC20 FA03 FA17 2H096 AA07 AA08 BA09 BA16 BA20 EA04 GA08 2H114 AA04 AA23 AA24 BA05 BA06 BA10 DA22 DA23 DA41 DA59 DA59

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)下記一般式(I)で表される赤外
線吸収剤、及び(b)水に不溶であり、且つ、アルカリ
水溶液に可溶な高分子化合物を含有し、赤外線レーザの
照射により、アルカリ水溶液に対する可溶性が変化する
ことを特徴とする感光性組成物。 【化1】 式中、X1、X2はそれぞれ独立に、−CR78−、−S
−、−Se−、−NR 9−、−CH=CH−または−O
−を表す。R1およびR2はそれぞれ独立に、炭素原子が
9〜30のアルキル基を表し、R3、R4、R5およびR6
はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子が1〜10のア
ルキル基を表し、R3とR4またはR5とR6が互いに結合
して脂肪族5員環または6員環、芳香族6員環、芳香族
10員環、置換芳香族6員環または置換芳香族10員環
を形成するのに必要な複数原子を表してもよい。R7
8はそれぞれ独立に、炭素原子が1〜18のアルキル
基、炭素原子が6〜18のアリール基を表し、R9は、
炭素原子が1〜18のアルキル基、炭素原子が6〜18
のアリール基を表す。Zは置換基を有してもよいヘプタ
メチン基を表し、ここで置換基は、炭素原子数8以下の
アルキル基、ハロゲン原子、アミノ基である。このヘプ
タメチン基は、その2つのメチン炭素上の置換基が互い
に結合して形成されたシクロヘキセン環又はシクロペン
テン環を含むものであってもよい。この環はさらに、置
換基を有していてもよく、環構造上の置換基は炭素原子
数6以下のアルキル基又はハロゲン原子より選択され
る。Qは、対イオンを表す。
(1) Infrared light represented by the following general formula (I)
A line absorber and (b) water-insoluble and alkali
Contains a polymer compound soluble in aqueous solution,
Irradiation changes solubility in alkaline aqueous solution
A photosensitive composition comprising: Embedded imageWhere X1, XTwoIs each independently -CR7R8-, -S
-, -Se-, -NR 9-, -CH = CH- or -O
Represents-. R1And RTwoAre each independently a carbon atom
Represents an alkyl group of 9 to 30;Three, RFour, RFiveAnd R6
Each independently represents an atom having 1 to 10 hydrogen atoms and 1 to 10 carbon atoms.
Represents a alkyl group;ThreeAnd RFourOr RFiveAnd R6Are joined to each other
5 or 6-membered aliphatic ring, 6-membered aromatic ring, aromatic
10-membered ring, 6-membered substituted aromatic ring or 10-membered substituted aromatic ring
May represent a plurality of atoms necessary to form R7,
R8Is each independently an alkyl having 1 to 18 carbon atoms
A aryl group having 6 to 18 carbon atoms;9Is
Alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, 6 to 18 carbon atoms
Represents an aryl group. Z is a hepta which may have a substituent
Represents a methine group, wherein the substituent is a group having 8 or less carbon atoms.
An alkyl group, a halogen atom, and an amino group. This hep
A methine group is one in which the substituents on the two methine carbons are
A cyclohexene ring or cyclopen formed by bonding to
It may contain a ten ring. This ring is
The substituent on the ring structure may be a carbon atom
Selected from alkyl groups or halogen atoms of the number 6 or less
You. Q represents a counter ion.
【請求項2】 前記一般式(I)で表される赤外線吸収
剤の対イオンQが下記一般式(II)で表されることを特
徴とする請求項1に記載の感光性組成物。 【化2】 式中、AはB、P、As、Sb、Cl及びBrからなる
群より選択される原子を表し、Yはハロゲン原子又は酸
素原子を表す。mは1〜6の整数を表す。
2. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the counter ion Q of the infrared absorbent represented by the general formula (I) is represented by the following general formula (II). Embedded image In the formula, A represents an atom selected from the group consisting of B, P, As, Sb, Cl, and Br, and Y represents a halogen atom or an oxygen atom. m represents an integer of 1 to 6.
【請求項3】 前記一般式(I)で表される赤外線吸収
剤の対イオンQがスルホン酸構造を有する対イオンであ
ることを特徴とする請求項1に記載の感光性組成物。
3. The photosensitive composition according to claim 1, wherein the counter ion Q of the infrared absorbent represented by the general formula (I) is a counter ion having a sulfonic acid structure.
【請求項4】 支持体上に、前記請求項1乃至請求項3
のいずれか1項に記載の感光性組成物からなる感光層を
設けたことを特徴とする平版印刷版原版。
4. The method according to claim 1, further comprising the steps of:
A lithographic printing plate precursor comprising a photosensitive layer comprising the photosensitive composition according to any one of the above.
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