JP2000075474A - Image forming material and planographic printing original plate using the same - Google Patents

Image forming material and planographic printing original plate using the same

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JP2000075474A
JP2000075474A JP24219598A JP24219598A JP2000075474A JP 2000075474 A JP2000075474 A JP 2000075474A JP 24219598 A JP24219598 A JP 24219598A JP 24219598 A JP24219598 A JP 24219598A JP 2000075474 A JP2000075474 A JP 2000075474A
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Japan
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group
acid
image forming
forming material
alkyl
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JP24219598A
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Japanese (ja)
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Tatsuo Nakamura
達夫 中村
Kazuto Kunida
一人 國田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultraviolet ray-sensitive image forming material excellent in sensitivity, developing latitude and storage stability and to provide a planographic printing original plate using the material and capable of forming an image with high sensitivity by using infrared rays for direct plate making. SOLUTION: This infrared ray-sensitive image forming material contains a cationic infrared ray-absorbable framework and an anionic infrared ray- absorbable framework in one molecule. When the image forming material is used as a positive type, (b) a polymer compound, which is insoluble in water but soluble in aqueous alkaline solution, is further added to the material, and when the image forming material is used as a negative type, (c) a compound capable of forming an acid by heating and (d) an acid-crosslinkable compound together with (b) are added to the material. The objective planographic printing original plate can be produced by providing an image forming layer by using the image forming material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はポジ型又はネガ型画
像形成材料として好適な画像形成材料及びそれを用いた
平版印刷版原版に関し、特に、赤外線レーザ、サーマル
ヘッド等の熱により書き込み可能であり、特にコンピュ
ータ等のディジタル信号から直接製版できるいわゆるダ
イレクト製版用の平版印刷版原版に好適な、赤外線レー
ザによってポジ型及びネガ型のいずれの画像形成も可能
な画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming material suitable as a positive or negative type image forming material and a lithographic printing plate precursor using the same. In particular, it is writable by heat of an infrared laser, a thermal head or the like. An image forming material capable of forming both positive type and negative type images with an infrared laser, and a lithographic printing method using the same, which is particularly suitable for a lithographic printing plate precursor for so-called direct plate making that can directly make a plate from a digital signal of a computer or the like. Regarding the original plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ
固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータ
のディジタルデータから直接製版するシステムとして、
これらの赤外線レーザを用いるものが注目されている。
ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平板印刷版材
料が特開平7−285275号公報に開示されている。
この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸収し
熱を発生する物質と、キノンジアジド化合物類等のよう
なポジ型感光性化合物を添加した画像記録材料であり、
画像部ではポジ型感光性化合物が、アルカリ水溶液可溶
性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として
働き、非画像部では熱により分解して溶解阻止能を発現
しなくなり、現像により除去され得るようになって、画
像を形成する。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of solid-state lasers and semiconductor lasers having an emission region from near infrared to infrared, as a system for directly making a plate from digital data of a computer,
Attention has been paid to those using these infrared lasers.
A positive type lithographic printing plate material for infrared laser for direct plate making is disclosed in JP-A-7-285275.
The present invention is an image recording material in which a substance that absorbs light and generates heat and a positive photosensitive compound such as quinonediazide compounds are added to an aqueous alkaline solution-soluble resin,
In the image area, the positive photosensitive compound acts as a dissolution inhibitor to substantially lower the solubility of the aqueous alkali-soluble resin, and in the non-image area, it is decomposed by heat and no longer exhibits the dissolution inhibiting ability, and is removed by development. To form an image.

【0003】本発明者らの検討の結果、キノンジアジド
化合物類を画像記録材料に添加しなくても、ポジ画像が
得られることを見出したが、単にキノンジアジド化合物
類を除した画像記録材料においては、現像液の濃度に対
する感度の安定性、即ち現像のラチチュードが悪くなっ
てしまうという欠点がある。
As a result of studies by the present inventors, it has been found that a positive image can be obtained without adding a quinonediazide compound to an image recording material. There is a drawback that the stability of the sensitivity to the concentration of the developing solution, that is, the development latitude is deteriorated.

【0004】一方、オニウム塩やアルカリ不溶性の水素
結合可能な化合物はアルカリ可溶性高分子のアルカリ溶
解抑制作用を有することが知られている。このようなポ
ジ型赤外線レーザ対応画像形成材料としてはカチオン性
赤外線吸収色素をアルカリ水可溶高分子の溶解抑制剤と
して用いた組成物がW097/39894に記載されて
いる。このポジ作用はカチオン性赤外線吸収色素がレー
ザ光を吸収し、発生する熱で溶解抑制効果を消失させて
いる。この場合、赤外線吸収剤としてはカチオン性色素
が存在しないため、吸光度が低く、従って露光部/未露
光部のアルカリ現像のon−offがつきにくく良好な
画像が得られない問題(低感度、現像ラチチュードが狭
い)があった。ここで言う現像ラチチュードとはアルカ
リ現像液のアルカリ濃度を変化させたときに良好な画像
形成ができる許容範囲をさす。
On the other hand, it is known that onium salts and alkali-insoluble compounds capable of hydrogen bonding have an alkali dissolution inhibiting action of alkali-soluble polymers. WO097 / 39894 describes a composition using a cationic infrared-absorbing dye as a dissolution inhibitor of an alkali-water-soluble polymer as such a positive-type infrared laser-compatible image forming material. This positive action is such that the cationic infrared absorbing dye absorbs the laser light and the heat generated thereby eliminates the dissolution suppressing effect. In this case, since no cationic dye is present as an infrared absorber, the absorbance is low, so that the on-off of the alkali development in the exposed / unexposed areas is difficult to obtain and a good image cannot be obtained (low sensitivity, development The latitude is narrow). Here, the development latitude refers to an allowable range in which a good image can be formed when the alkali concentration of the alkali developer is changed.

【0005】一方、赤外線レーザにて記録可能なネガ型
画像記録材料としては、特開平7−20629号に記載
されている、オニウム塩、レゾール樹脂、ノボラック樹
脂、及び赤外線吸収剤よりなる記録材料がある。これは
画像記録材料を用いた平版印刷用版材においては、赤外
線を放射する固体レーザまたは半導体レーザにより付与
されたエネルギーが、赤外線吸収剤によって熱エネルギ
ーに変換され、その熱によってオニウム塩が分解するこ
とによって画像が形成されるものである、即ち、オニウ
ム塩の分解により生ずる酸が、酸により架橋する架橋剤
とバインダーとの架橋反応を促進することにより画像記
録即ち記録材料の製版が行われるものである。しかし、
この場合に用いられた赤外線染料もカチオン性のものの
みであり、露光による発熱量が少ないため、感度の点で
問題があった。
On the other hand, as a negative-type image recording material recordable with an infrared laser, a recording material comprising an onium salt, a resole resin, a novolak resin, and an infrared absorber described in JP-A-7-20629. is there. This is because, in a lithographic printing plate using an image recording material, the energy given by a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared rays is converted into thermal energy by an infrared absorber, and the onium salt is decomposed by the heat. An image is formed by the above-mentioned process, that is, an image is recorded, that is, a plate is made of a recording material by accelerating a cross-linking reaction between a cross-linking agent and a binder which are cross-linked by an acid generated by decomposition of an onium salt. It is. But,
In this case, the infrared dye used was only a cationic dye, and the amount of heat generated by exposure was small, so that there was a problem in sensitivity.

【0006】このように赤外線レーザ対応画像形成材料
に用いられる赤外線吸収色素は、(1)カチオン性色素
及び、赤外線領域に吸収のない対アニオンを持つ色素、
又は、(2)アニオン性色素及び、赤外線領域に吸収の
ない対カチオンを持つもの、に限られていた。このた
め、一分子としての吸光度が低く、また吸収領域も短か
った。このため、波長の大きく異なる光源、例えば、半
導体レーザとYAGレーザのような固体レーザの両方か
ら書き込むことは出来なかった。
As described above, the infrared absorbing dye used in the infrared laser-compatible image forming material includes (1) a cationic dye and a dye having a counter anion having no absorption in the infrared region.
Alternatively, the method is limited to (2) an anionic dye and a dye having a counter cation having no absorption in the infrared region. For this reason, the absorbance as one molecule was low, and the absorption region was short. For this reason, it was not possible to write data from light sources having greatly different wavelengths, for example, from both a semiconductor laser and a solid-state laser such as a YAG laser.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、高感度で、かつ現像ラチチュード及び保存安定性の
良好な赤外線レーザで書き込みできる、即ち、赤外線感
応性の画像形成材料及びそれを用いたダイレクト製版用
の赤外線レーザで高感度に画像を形成しうる平版印刷版
原版を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an infrared-sensitive image-forming material which can be written with an infrared laser having high sensitivity and good development latitude and storage stability. Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor capable of forming an image with high sensitivity using an infrared laser for direct plate making.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、画像形成
性、すなわち感度と現像ラチチュードを増加する目的で
鋭意研究を重ねた結果、カチオン部、アニオン部のいず
れにも赤外線を吸収する構造を有する特定のイオン性色
素を用いることで、白色灯の下においても感光すること
なく、現像ラチチュードが向上し、かつ、ポジ型、ネガ
型のいずれにも適用可能であることを見出し、本発明を
完成するに到った。即ち、本発明の赤外線レーザ感応性
画像形成材料は、1分子中にカチオン性赤外線吸収骨格
とアニオン性赤外線吸収骨格を有するイオン性色素を含
有することを特徴とする。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies for the purpose of increasing the image forming property, that is, the sensitivity and the development latitude, and as a result, a structure in which both the cation portion and the anion portion absorb infrared rays. It has been found that by using a specific ionic dye having a sensitizing property, development latitude is improved without being exposed even under a white light, and that the present invention can be applied to both positive and negative types. Was completed. That is, the infrared laser-sensitive image forming material of the present invention is characterized in that one molecule contains an ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule.

【0009】本発明の請求項2に記載の赤外線レーザ感
応性画像形成材料は、(a)1分子中にカチオン性赤外
線吸収骨格とアニオン性赤外線吸収骨格を有するイオン
性色素、及び(b)水に不溶であり、且つ、アルカリ水
溶液に可溶な高分子化合物を含有することを特徴とす
る。
The infrared laser-sensitive image forming material according to claim 2 of the present invention comprises (a) an ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule, and (b) water. And a polymer compound insoluble in an aqueous alkaline solution.

【0010】本発明の請求項3に記載の赤外線レーザ感
応性画像形成材料は、(a)1分子中にカチオン性赤外
線吸収骨格とアニオン性赤外線吸収骨格を有するイオン
性色素、(b)水に不溶であり、且つ、アルカリ水溶液
に可溶な高分子化合物、(c)熱により酸を発生する化
合物、及び(d)酸を触媒として架橋する化合物を含有
することを特徴とする。
The infrared laser-sensitive image forming material according to claim 3 of the present invention comprises: (a) an ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule; and (b) water. It is characterized by containing a polymer compound that is insoluble and soluble in an aqueous alkali solution, (c) a compound that generates an acid by heat, and (d) a compound that crosslinks using an acid as a catalyst.

【0011】本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、
前記請求項1乃至3のいずれかに記載の画像形成材料か
らなる画像形成層を設けたことを特徴とする。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is provided on a support,
An image forming layer comprising the image forming material according to any one of claims 1 to 3 is provided.

【0012】本発明の作用は明確ではないが、カチオン
部、アニオン部のいずれにも赤外線を吸収する骨格を有
する本発明に係るイオン性色素は、その構造に起因する
特に高い吸光度と広い吸収領域を持つ特徴を有する。こ
のため露光による発熱量が大きく、高感度な画像形成材
料が得られるものと考えられる。また、同時に波長の大
きく異なる光源(例えば830nmの半導体レーザと1
064nmのYAGレーザ)の両方で書き込むことも可
能であることが見出された。
Although the function of the present invention is not clear, the ionic dye according to the present invention, which has a skeleton that absorbs infrared rays in both the cation portion and the anion portion, has a particularly high absorbance and a wide absorption region due to its structure. It has the characteristic of having. Therefore, it is considered that a large amount of heat is generated by the exposure, and a highly sensitive image forming material can be obtained. At the same time, light sources having greatly different wavelengths (for example, a 830 nm semiconductor laser and
(064 nm YAG laser) has also been found to be possible.

【0013】本発明に係るイオン性色素は、カチオン
部、アニオン部のいずれにも赤外線を吸収する骨格を有
するため、本発明の画像形成材料はポジ型画像形成材料
としても、ネガ型画像形成材料としても使用することが
できる。即ち、ポジ型感材として用いた場合、このイオ
ン性色素のカチオン性赤外線吸収色素部分がアルカリ水
可溶高分子の溶解抑制剤として働く。本発明の色素は、
従来の色素に比べて吸光度が高く、露光による発熱が大
きいため、溶解抑制作用の解除が効率良く、高感度な感
光材料を得ることができる。また、酸発生剤及び酸によ
り架橋する架橋剤とともに、ネガ型感材として用いた場
合は、本発明の色素は従来の色素よりも露光による発熱
量が大きいため、熱酸発生剤が効率よく酸を発生でき
る。このため、酸を触媒とした架橋反応が効率よく進行
し、従来より高感度な感光材料を得ることができる。
Since the ionic dye of the present invention has a skeleton that absorbs infrared rays in both the cation portion and the anion portion, the image forming material of the present invention can be used as a positive image forming material or a negative image forming material. Can also be used as That is, when used as a positive photosensitive material, the cationic infrared absorbing dye portion of the ionic dye functions as a dissolution inhibitor for the alkali water-soluble polymer. The dye of the present invention
Since the absorbance is higher and the heat generated by exposure is higher than conventional dyes, the dissolution inhibiting action is efficiently released, and a photosensitive material with high sensitivity can be obtained. Further, when used as a negative photosensitive material together with an acid generator and a crosslinking agent that is crosslinked by an acid, the dye of the present invention generates a larger amount of heat upon exposure than conventional dyes, so that the thermal acid generator can efficiently use the acid. Can be generated. Therefore, the acid-catalyzed crosslinking reaction proceeds efficiently, and a photosensitive material with higher sensitivity than before can be obtained.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明は、カチオン性色素骨格と、アニオン性色素骨格と
を1分子内に有する特定のイオン性色素を用いることを
特徴とするが、本発明の画像形成材料をポジ型として用
いる場合、前記(a)特定のイオン性色素とともに、
(b)水不溶性で且つアルカリ水可溶性の高分子化合物
を用いることがのぞましい態様である。また、ネガ型と
して用いる場合は、前記(a)、(b)に加えて、
(c)熱により酸を発生する化合物及び(d)酸を触媒
として架橋する化合物を用いることが望ましい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The present invention is characterized in that a specific ionic dye having a cationic dye skeleton and an anionic dye skeleton in one molecule is used, but when the image forming material of the present invention is used as a positive type, the above-mentioned ( a) With a specific ionic dye,
(B) It is a preferable embodiment to use a water-insoluble and alkaline water-soluble polymer compound. When used as a negative type, in addition to the above (a) and (b),
It is desirable to use (c) a compound that generates an acid by heat and (d) a compound that crosslinks using an acid as a catalyst.

【0015】以下、本発明の画像形成材料に用いる主要
な化合物について順次、説明する。 [(a)1分子中にカチオン性赤外線吸収骨格とアニオ
ン性赤外線吸収骨格を有するイオン性色素]本発明にお
いて(a)1分子中にカチオン性赤外線吸収骨格とアニ
オン性赤外線吸収骨格を有するイオン性色素(以下、適
宜、イオン性色素と称する)におけるアニオン性赤外線
吸収骨格とは、色素の実質的に赤外線を吸収する母核に
カチオン構造が無く、アニオン構造を有するものを指
す。ここで言うアニオン性赤外線吸収骨格とは色素の実
質的に赤外線を吸収する母核にカチオン構造が無く、ア
ニオン構造を有するものである。例えば(1)アニオン
性金属錯体、(2)アニオン性カーボンブラック、
(3)アニオン性フタロシアニン、また(4)下記一般
式(I)で表される化合物などが挙げられる。
Hereinafter, the main compounds used in the image forming material of the present invention will be sequentially described. [(A) Ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule] In the present invention, (a) an ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule The anionic infrared absorbing skeleton in a dye (hereinafter, appropriately referred to as an ionic dye) refers to a dye having substantially no anionic structure in a nucleus of the dye that substantially absorbs infrared light and having an anionic structure. The term "anionic infrared absorbing skeleton" as used herein refers to a dye having substantially no anionic structure in the mother nucleus of the dye that substantially absorbs infrared light and having an anionic structure. For example, (1) anionic metal complex, (2) anionic carbon black,
(3) Anionic phthalocyanine and (4) a compound represented by the following general formula (I).

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】式中、Mは、共役鎖を表し、Ga - はアニ
オン性置換基を表し、Gb は中性の置換基を表す。Xm+
はプロトンを含む1〜m価のカチオンを示し、ここでm
は1及び6の整数を表す。
[0017] In the formula, M represents a conjugated chain, G a - represents an anionic substituent, G b represents a neutral substituent. X m +
Represents a 1- to m-valent cation containing a proton, where m
Represents an integer of 1 or 6.

【0018】ここで(1)アニオン性金属錯体とは、実
質的に光を吸収する錯体部の中心金属および配位子全体
でアニオンとなるものを指す。(2)アニオン性カーボ
ンブラックは置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホ
スホン酸基等のアニオン基が結合しているものが挙げら
れる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、
カーボンブラック便覧第三版(カーボンブラック協会
編、1995年4月5目、カーボンブラック協会発行)
第12頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラ
ックを酸化する等の手段をとればよい。(3)アニオン
性フタロシアニンは、置換基として先に挙げたアニオン
基が結合し、全体としてアニオンとなっているものを指
す。また、前記(4)一般式(I)で表される化合物に
おいて、一般式(I)中のMは、共役鎖を表し、この共
役鎖は置換基や環構造を有していてもよい。共役鎖Mは
下記式で表すことができる。
Here, (1) the anionic metal complex refers to an anion in which the central metal and the ligand of the complex part that substantially absorbs light become anions. (2) Examples of the anionic carbon black include those having an anionic group such as sulfonic acid, carboxylic acid, or phosphonic acid group as a substituent. To introduce these groups into carbon black,
Carbon Black Handbook 3rd Edition (edited by The Carbon Black Association, April 5, 1995, published by The Carbon Black Association)
As described on page 12, means such as oxidation of carbon black with a predetermined acid may be employed. (3) Anionic phthalocyanine refers to an anion as a whole to which the above-mentioned anionic group is bonded as a substituent. Further, in the compound (4) represented by the general formula (I), M in the general formula (I) represents a conjugated chain, and the conjugated chain may have a substituent or a ring structure. The conjugated chain M can be represented by the following formula.

【0019】[0019]

【化2】 Embedded image

【0020】式中、Rn 〜R2n+1はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリー
ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チ
オ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミ
ノ基を示し、これらは互いに連結して環構造を形成して
いてもよい。nは1〜8の整数を示す。
In the formula, R n to R 2n + 1 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group. , An oxy group, or an amino group, which may be linked to each other to form a ring structure. n shows the integer of 1-8.

【0021】Ga - はアニオン性置換基を表し、Gb
中性の置換基を表す。Xm+はプロトンを含む1〜m価の
カチオンを示し、ここでmは1及び6の整数を表す。
[0021] G a - represents an anionic substituent, G b represents a neutral substituent. X m + represents a 1- to m-valent cation containing a proton, wherein m represents an integer of 1 or 6.

【0022】Rn 〜R2n+1がアルキル基の場合、アルキ
ル基としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、
分岐状、または環状のアルキル基が挙げられる。具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル
基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t
−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メ
チルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル
基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができ
る。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖
状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素
原子数5から10までの環状のアルキル基がより好まし
い。
When R n to R 2n + 1 are an alkyl group, the alkyl group may be a straight-chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Examples include a branched or cyclic alkyl group. Specifically, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, Eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t
-Butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, and 2-norbornyl group. Among them, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

【0023】これらのアルキル基は置換基を有していて
もよく、置換基としては、水素を除く一価の非金属原子
団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子
(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−
ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−
ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミ
ノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイ
ルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ
基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−ア
ルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキル
スルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、
アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
リールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウ
レイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−
アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド
基、N’−アルキル−N’−アリ一ルウレイド基、N−
アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−
アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−
N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N
−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−
アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウ
レイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、
N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、
N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、
N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイ
ド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリール
ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキ
シカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシ
カルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、及びその共役塩基基(以下、「カルボキシラー
ト」という。)、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバ
モイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−ア
リールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイ
ル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
(−SO3 H)及びその共役塩基基(以下、「スルホナ
ト基」という。)、アルコキシスルホニル基、アリーロ
キシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキル
スルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモ
イル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジ
アリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリ
ールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アル
キルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモ
イル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジア
リールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリール
スルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びそ
の共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル
基(−SO2 NHSO2 R、Rはアルキル基を表す。)
及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファ
モイル基(−SO2 NHSO2 Ar、Arはアリール基
を表す。)及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニ
ルカルバモイル基(−CONHSO2 R、Rはアルキル
基を表す。)及びその共役塩基基、N−アリ一ルスルホ
ニルカルバモイル基(−CONHSO2 Ar、Arはア
リール基を表す。)及びその共役塩基基、アルコキシシ
リル基(−Si(OR)3 、Rはアルキル基を表
す。)、アリーロキシシリル基(−Si(OAr)3
Arはアリール基を表す。)、ヒドロキシシリル基(−
Si(OH)3 )及びその共役塩基基、ホスホノ基(一
PO3 2)及びその共役塩基基(以下、「ホスホナト
基」という。)、ジアルキルホスホノ基(−PO
3 2 、Rはアルキル基を表す。)、ジアリールホスホ
ノ基(−PO3 Ar2 、Arはアリール基を表す。)、
アルキルアリールホスホノ基(−PO3 (R)(A
r)、Rはアルキル基、Arはアリール基を表す。)モ
ノアルキルホスホノ基(−PO3 H(R)、Rはアルキ
ル基を表す。)及びその共役塩基基(以下、「アルキル
ホスホナト基」という。)、モノアリールホスホノ基
(−PO3 H(Ar)、Arはアリール基を表す。)及
びその共役塩基基(以下、「アリールホスホナト基」と
いう。)、ホスホノオキシ基(−OPO3 2 )及びそ
の共役塩基基(以下、「ホスホナトオキシ基」とい
う。)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO
3 (R)2 、Rはアルキル基を表す。)、ジアリールホ
スホノオキシ基(−OPO3 (Ar)2 、Arはアリー
ル基を表す。)、アルキルアリールホスホノオキシ基
(−OPO3 (R)(Ar)、Rはアルキル基、Arは
アリール基を表す。)、モノアルキルホスホノオキシ基
(−OPO3 H(R)、Rはアルキル基を表す。)及び
その共役塩基基(以下、「アルキルホスホナトオキシ
基」という。)、モノアリールホスホノオキシ基(−O
PO3 H(Ar)Arはアリール基を表す。)及びその
共役塩基基(以下、「アリ一ルホスホナトオキシ基」と
いう。)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニ
ル基、アルキニル基が挙げられる。これらの置換基にお
ける、アルキル基の具体例としては、前述の(I)のア
ルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フ
ェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシ
リル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、
フェノキシニトロフェニル基、シアノフェニル基、スル
ホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニ
ル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることができる。
また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロ
ペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ
−1−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例と
しては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル
基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基
等が挙げられる。前記のアシル基(R1 CO−)として
は、R1 が水素原子及び前記のアルキル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基を挙げることができ
る。
These alkyl groups may have a substituent, and a monovalent nonmetallic atomic group except hydrogen is used as the substituent. Preferred examples include a halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkyldithio group, an aryldithio group, an amino group, N-alkylamino group, N, N-
Dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-
Diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyl An oxy group, an N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, an alkylsulfoxy group, an arylsulfoxy group, an acylthio group,
Acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-
Arylureido group, N ', N'-diarylureido group, N'-alkyl-N'-arylureido group, N-
Alkylureido group, N-arylureido group, N'-
Alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-
N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N
-Alkylureido group, N ', N'-dialkyl-N-
An arylureido group, an N′-aryl-N-alkylureido group, an N′-aryl-N-arylureido group,
An N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group,
An N ′, N′-diaryl-N-arylureido group,
N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxy Carbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, and the like A conjugate base group (hereinafter referred to as “carboxylate”), an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, an N-alkylcarbamoyl group, an N, N-dialkylcarbamoyl group, an N-arylcarbamoyl group, N, N- Diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N - (. Hereinafter referred to as "sulfonato group") arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group, alkoxy sulfonyl group, arylene Roxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-aryl Sulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N- Arylsulfamoyl group, N-acylsulfamoy Group and its conjugated base group, N- alkylsulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 R, R represents an alkyl group.)
And its conjugate base group, N-arylsulfonylsulfamoyl group (—SO 2 NHSO 2 Ar, Ar represents an aryl group) and its conjugate base group, N-alkylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 R, R Represents an alkyl group) and its conjugate base group, an N-arylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 Ar, Ar represents an aryl group), its conjugate base group, and an alkoxysilyl group (—Si (OR) 3. , R represents an alkyl group), an aryloxysilyl group (—Si (OAr) 3 ,
Ar represents an aryl group. ), Hydroxysilyl group (-
Si (OH) 3) and its conjugated base group, a phosphono group (one PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as "phosphonato group".), A dialkyl phosphono group (-PO
3 R 2 and R represent an alkyl group. ), A diarylphosphono group (—PO 3 Ar 2 , Ar represents an aryl group),
Alkylarylphosphono group (—PO 3 (R) (A
r) and R represent an alkyl group and Ar represents an aryl group. ) Monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (R), R represents an alkyl group.) And its conjugated base group (hereinafter. Referred to as "alkylphosphonato group"), monoaryl phosphono group (-PO 3 H (Ar) and Ar represent an aryl group) and its conjugate base group (hereinafter, referred to as “arylphosphonate group”), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ), and its conjugate base group (hereinafter, “phosphonatooxy group”). Group "), a dialkylphosphonooxy group (-OPO
3 (R) 2 and R represent an alkyl group. ), A diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (Ar) 2 , Ar represents an aryl group), an alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (R) (Ar), R is an alkyl group, and Ar is an aryl A monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (R), R represents an alkyl group) and its conjugate base group (hereinafter, referred to as “alkylphosphonatooxy group”), monoaryl. A phosphonooxy group (—O
PO 3 H (Ar) Ar represents an aryl group. ) And its conjugate base group (hereinafter, referred to as “arylphosphonatooxy group”), cyano group, nitro group, aryl group, alkenyl group, and alkynyl group. Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl group (I), and specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, and mesityl. Group, cumenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group , Phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group,
Examples include a phenoxynitrophenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group.
Examples of the alkenyl group include a vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, and the like. Examples of the alkynyl group include an ethynyl group, -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group, phenylethynyl group and the like. Examples of the acyl group (R 1 CO—) include a hydrogen atom for R 1 and the above-described alkyl group, aryl group, alkenyl group, and alkynyl group.

【0024】これら置換基のうち、さらに好ましいもの
としては、ハロゲン原子((−F、−Br、−Cl、−
I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル
基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリール
カルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルス
ルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−
アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ
基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリール
ホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホ
ナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール
基、アルケニル基等を挙げることができる。
Of these substituents, a halogen atom ((-F, -Br, -Cl,-
I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an N-alkylamino group, N, N-
Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group , N, N-dialkylcarbamoyl, N-arylcarbamoyl, N-alkyl-N-arylcarbamoyl, sulfo, sulfonato, sulfamoyl,
N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N-
Alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, monoalkylphosphono group, alkylphosphonate group, monoarylphosphono group, arylphosphonato group, phosphonooxy group , A phosphonatoxy group, an aryl group, an alkenyl group and the like.

【0025】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数1から20までのアルキル基
上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基と
したものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1
から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分
岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキ
レン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基
を組み合わせることにより得られる置換アルキル基の好
ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル
基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキ
シメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル
基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキ
ソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、メトキシカルボニルブチル基、アリルオキ
シカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメ
チル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイ
ルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル
基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、
N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチ
ル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナト
ブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルフ
ァモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイル
プロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N
−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルオ
クチル基、
On the other hand, the alkylene group in the substituted alkyl group may be a divalent organic residue obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. And preferably has 1 carbon atom
And C 12 to C 12, C 3 to C 12 branched and C 5 to C 10 cyclic alkylene groups. Preferred specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining the substituent with an alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, a methoxyethoxyethyl group, and an allyloxy group. Methyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenyl Carbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, methoxycal Nylmethyl group, methoxycarbonylbutyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group ,
N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfopropyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N
A -methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group,

【0026】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プ
ロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル
基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル
基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げること
ができる。
Phosphonobutyl, phosphonatohexyl, diethylphosphonobutyl, diphenylphosphonopropyl, methylphosphonobutyl, methylphosphonatobutyl, tolylphosphonohexyl, tolylphosphonatohexyl, phosphonooxy Propyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p
-Methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. Can be mentioned.

【0027】Rn 〜R2n+1がアリール基の場合、アリー
ル基としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形
成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成
したものをあげることができ、具体例としては、フェニ
ル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、
インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、を
挙げることができ、これらの中でも、フェニル基、ナフ
チル基がより好ましい。
When R n to R 2n + 1 are an aryl group, the aryl group is one in which one to three benzene rings form a condensed ring, and a benzene ring and a five-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl,
Examples thereof include an indenyl group, an acenabutenyl group, and a fluorenyl group, and among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.

【0028】置換アリール基としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前記のアルキル基、置換アルキル基、
置換アルキル基における置換基として示したものを挙げ
ることができる。このような、置換アリール基の好まし
い具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェ
ニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フ
ェニルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエ
チルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチ
ルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N
−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−
フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル
基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェ
ノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル
基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプ
ロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニ
ル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スル
ホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル
基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジ
プロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルフ
ァモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェ
ニル)スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル
基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル
基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチル、トリルホ
スホナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル
基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2
−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニ
ル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル
基、等を挙げることができる。
As the substituted aryl group, those having a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group are used. Examples of preferred substituents include the above-mentioned alkyl groups, substituted alkyl groups,
Examples of the substituent for the substituted alkyl group include those described above. Preferred specific examples of such a substituted aryl group include a biphenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group, a cumenyl group, a chlorophenyl group, a bromophenyl group, a fluorophenyl group, a chloromethylphenyl group, and a trifluoromethylphenyl group. A hydroxyphenyl group, a methoxyphenyl group, a methoxyethoxyphenyl group, an allyloxyphenyl group, a phenoxyphenyl group, a methylthiophenyl group, a tolylthiophenyl group, a phenylthiophenyl group, an ethylaminophenyl group, a diethylaminophenyl group, a morpholinophenyl group, Acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N
-Cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-
Phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl Nyl, phosphonophenyl, phosphonatophenyl, diethylphosphonophenyl, diphenylphosphonophenyl, methyl, tolylphosphonatophenyl, allyl, 1-propenylmethyl, 2-butenyl, 2-methyl Allylphenyl group, 2
-Methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3-butynylphenyl group, and the like.

【0029】Rn 〜R2n+1のアルケニル基、置換アルケ
ニル基、アルキニル基、置換アルキニル基(−C
(R7 )=C(R8 )(R9 )、並びに−C≡C
(R10)としては、R7 、R8 、R9 、R10が一価の非
金属原子団のものが使用できる。好ましいR7 、R8
9 、R10の例としては、水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基並びに置換アー
リル基を挙げることができる。これらの具体例として
は、前述の例として示したものを同様に挙げることがで
きる。R7 、R8 、R9 、R10の好ましい置換基の例と
しては、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10
の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が挙げられる。こ
のようなRn 〜R2n+1の具体例としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、2−エチルヘキシル基、アリル基、1−プロ
ペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル
基、2−メチルプロペニル基、2−プロピニル基、2−
ブチニル基、3−ブチニル基、ベンジル基、フェネチル
基、α−メチルヘンジル基、1−メチル−1−フェネチ
ル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、ヒドロキ
シエチル基、メトキシエチル基、フェノキジエチル基、
アリロキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エト
キシエトキシエチル基、モルホリノエチル基、モルホリ
ノプロピル基、スルホプロピル基、スルホナトプロピル
基、スルホブチル基、スルホナトブチル基・カルボキシ
メチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル
基、メトキシカルボニルエチル基、2−エチルヘキシル
オキシカルボニルエチル基、フェノキシカルボニルメチ
ル基、メトキシカルボニルプロピル基、N−メチルカル
バモイルエチル基、N,N−エチルアミノカルバモイル
メチル基、N−フェニルカルバモイルプロピル基、N−
トリルスルファモイルブチル基、p−トルエンスルホニ
ルアミノプロピル基、ベンゾイルアミノヘキシル基、ホ
スフォノメチル基、ホスフォノエチル基、ホスフォノプ
ロピル基、p−ホスフォノベンジルアミノカルボニルエ
チル基、ホスフォナトメチル基、ホスフォナトプロピル
基、ホスフォナトブチル基、p−ホスフォナトベンジル
アミノカルボニルエチル基、ビニル基、エチニル基を挙
げることができる。
R n to R 2n + 1 alkenyl, substituted alkenyl, alkynyl, substituted alkynyl (—C
(R 7 ) = C (R 8 ) (R 9 ), and -C≡C
As (R 10 ), those in which R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are monovalent nonmetallic atomic groups can be used. Preferred R 7 , R 8 ,
Examples of R 9 and R 10 include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, and a substituted aryl group. As specific examples thereof, those shown as the above examples can be similarly mentioned. Examples of preferred substituents of R 7 , R 8 , R 9 , and R 10 include a hydrogen atom, a halogen atom, and a C 1-10 carbon atom.
Linear, branched and cyclic alkyl groups. Specific examples of such R n to R 2n + 1 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl Group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group,
Isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl, neopentyl, 1-methylbutyl, isohexyl, 2-ethylhexyl, allyl, 1-propenylmethyl, 2-butenyl, 2-methylallyl , 2-methylpropenyl group, 2-propynyl group, 2-
Butynyl group, 3-butynyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylhenzyl group, 1-methyl-1-phenethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, hydroxyethyl group, methoxyethyl group, phenoxydiethyl group,
Allyloxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, morpholinoethyl group, morpholinopropyl group, sulfopropyl group, sulfonatopropyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group / carboxymethyl group, carboxyethyl group, carboxypropyl group, Methoxycarbonylethyl group, 2-ethylhexyloxycarbonylethyl group, phenoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylpropyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-ethylaminocarbamoylmethyl group, N-phenylcarbamoylpropyl group, N-
Tolylsulfamoylbutyl group, p-toluenesulfonylaminopropyl group, benzoylaminohexyl group, phosphonomethyl group, phosphonoethyl group, phosphonopropyl group, p-phosphonobenzylaminocarbonylethyl group, phosphonatomethyl group, Examples include a phosphonate propyl group, a phosphonate butyl group, a p-phosphonato benzylaminocarbonylethyl group, a vinyl group, and an ethynyl group.

【0030】Rn 〜R2n+1の置換カルボニル基(R11
O−)としては、R11が一価の非金属原子団であるもの
を用いることができる。置換カルボニル基の好ましい例
としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−
ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル
基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル
−N−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらに
おけるアルキル基、アリール基としては前記のアルキル
基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換アリー
ル基として例示したものを挙げることができる。これら
の中でも、より好ましい置換基としては、ホルミル基、
アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アル
キルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル
基、N−アリールカルバモイル基、が挙げられ、更によ
り好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基
が挙げられる。好ましい置換基の具体例としては、ホル
ミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、
メトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、N
−メチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル
基、N,N−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカル
ボニル基等が挙げられる。
A substituted carbonyl group of R n to R 2n + 1 (R 11 C
As O-), those in which R 11 is a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferred examples of the substituted carbonyl group include formyl, acyl, carboxyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, carbamoyl, N-alkylcarbamoyl, N, N-
Examples include a dialkylcarbamoyl group, an N-arylcarbamoyl group, an N, N-diarylcarbamoyl group, and an N-alkyl-N-arylcarbamoyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those exemplified as the above-described alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Among these, more preferred substituents include a formyl group,
Acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, and even more preferred are formyl group, acyl group, alkoxycarbonyl group and aryl. And a roxycarbonyl group. Specific examples of preferred substituents include formyl group, acetyl group, benzoyl group, carboxyl group,
Methoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, N
-Methylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group and the like.

【0031】置換チオ基(R14S−)としては、R14
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換チオ基の例としては、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アシルチオ基を挙げることができる。これら
におけるアルキル基、アリール基としては前記のアルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換アリ
ール基として例示したものを挙げることができ、アシル
チオ基におけるアシル基(R13CO−)のR13は前記の
とおりである。これらの中ではアルキルチオ基、ならび
にアリールチオ基がより好ましい。好ましい置換チオ基
の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、エトキシエチルチオ基、カルボキシエチル
チオ基、メトキシカルボニルチオ基等が挙げられる。
As the substituted thio group (R 14 S-), those in which R 14 is a monovalent nonmetallic atomic group excluding hydrogen can be used. Preferred examples of the substituted thio group include an alkylthio group, an arylthio group, an alkyldithio group, an aryldithio group, and an acylthio group. Alkyl group in these alkyl groups Said aryl group, a substituted alkyl group, an aryl group, and can be those exemplified as the substituted aryl group, R 13 of the acyl group in the acylthio group (R 13 CO-) in As described above. Among these, an alkylthio group and an arylthio group are more preferred. Specific examples of preferred substituted thio groups include a methylthio group, an ethylthio group, a phenylthio group, an ethoxyethylthio group, a carboxyethylthio group, and a methoxycarbonylthio group.

【0032】置換スルホニル基(R19SO2 −)として
は、R19が一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。より好ましい例としては、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。こ
れらにおけるアルキル基、アリール基としては前記のア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換
アリール基として例示したものを挙げることができる。
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。
As the substituted sulfonyl group (R 19 SO 2 —), those in which R 19 is a monovalent nonmetallic atomic group can be used. More preferred examples include an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those exemplified as the above-described alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group.
Specific examples of the substituted sulfonyl group include a butylsulfonyl group and a chlorophenylsulfonyl group.

【0033】置換スルフィニル基(R18SO−)として
はR18が一価の非金属原子団であるものを用いることが
できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル
基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、N
−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルス
ルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、
N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル
−N−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これ
らにおけるアルキル基、アリール基としては前記のアル
キル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換ア
リール基として例示したものを挙げることができる。こ
れらのうち、より好ましい例としてはアルキルスルフィ
ニル基、アリールスルフィニル基が挙げられる。このよ
うな置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルス
ルフィニル基、ベンジルスルフイニル基、トリルスルフ
ィニル基等が挙げられる。
As the substituted sulfinyl group (R 18 SO—), those wherein R 18 is a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferred examples include an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, a sulfinamoyl group, N
-Alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group,
An N, N-diarylsulfinamoyl group and an N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group are exemplified. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those exemplified as the above-described alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Among these, more preferred examples include an alkylsulfinyl group and an arylsulfinyl group. Specific examples of such a substituted sulfinyl group include a hexylsulfinyl group, a benzylsulfinyl group, and a tolylsulfinyl group.

【0034】置換オキシ基(R12O−)としては、R12
が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いるこ
とができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキ
シ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−ア
リールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基が挙げられる。
これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基として
は前記のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、な
らびに置換アリール基として例示したものが挙げられ
る。また、アシルオキシ基におけるアシル基(R13CO
−)としては、R13が、前記のアルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、ならびに置換アリール基として例示
したものが挙げられる。これらの置換基の中では、アル
コキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリール
スルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基
の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピル
オキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペ
ンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオ
キシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニ
ルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ
基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メト
キシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ
基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ
基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、ト
リルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、
クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキ
シフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモ
フェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられ
る。
As the substituted oxy group (R 12 O—), R 12
Is a monovalent non-metallic atomic group other than hydrogen. Preferred substituted oxy groups include an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, a carbamoyloxy group, an N-alkylcarbamoyloxy group, an N-arylcarbamoyloxy group, an N, N-dialkylcarbamoyloxy group, and an N, N-diarylcarbamoyloxy group. Group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group,
Examples include a phosphonooxy group and a phosphonatoxy group.
Examples of the alkyl group and the aryl group in these include those exemplified above as the alkyl group, the substituted alkyl group, the aryl group, and the substituted aryl group. Further, an acyl group (R 13 CO
Examples of —) include those in which R 13 has been exemplified as the aforementioned alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Among these substituents, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, and an arylsulfoxy group are more preferred. Specific examples of preferred substituted oxy groups include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, pentyloxy, hexyloxy, dodecyloxy, benzyloxy, allyloxy, phenethyloxy, Carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, allyloxyethoxy group, Phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group,
Examples include a cumenyloxy group, a methoxyphenyloxy group, an ethoxyphenyloxy group, a chlorophenyloxy group, a bromophenyloxy group, an acetyloxy group, a benzoyloxy group, a naphthyloxy group, a phenylsulfonyloxy group, a phosphonooxy group, and a phosphonatoxy group.

【0035】置換アミノ基(R15NH−、(R16)(R
17)N−)としては、R15、R16、R17が水素を除く一
価の非金属原子団のであるものを用いることができる。
置換アミノ基の好ましい例としては、N−アルキルアミ
ノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミ
ノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N
−アリールアミノ基、アシルアミノ基、N−アルキルア
シルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド
基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキ
ルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’
−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリ
ールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリー
ルウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド
基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,
N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,
N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−ア
リール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N
−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−
アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−ア
リールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−
N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリ
ール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アル
キル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキ
ル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリー
ル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール
−N−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
これらにおけるアルキル基、アリール基としては前記の
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置
換アリール基として例示したものを挙げることができ、
アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
リール−アシルアミノ基におけるアシル基(R13CO
−)のR13は前記のとおりである。これらのうち、より
好ましいものとしては、N−アルキルアミノ基、N,N
−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、アシル
アミノ基、が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体
例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ
基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチル
アミノ基等が挙げられる。
A substituted amino group (R 15 NH—, (R 16 ) (R
17 ) As N-), those in which R 15 , R 16 and R 17 are monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen can be used.
Preferred examples of the substituted amino group include N-alkylamino, N, N-dialkylamino, N-arylamino, N, N-diarylamino, N-alkyl-N
-Arylamino group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', N'-dialkylureido group, N'-arylureido group, N ', N'
-A diarylureido group, an N'-alkyl-N'-arylureido group, an N-alkylureido group, an N-arylureido group, an N'-alkyl-N-alkylureido group, an N'-alkyl-N-arylureido group , N ',
An N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′,
N′-dialkyl-N-arylureido group, N′-aryl-N-alkylureido group, N′-aryl-N
-Arylureido group, N ', N'-diaryl-N-
Alkylureido group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-
N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N- Examples include an aryloxycarbonylamino group, an N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, and an N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group.
Examples of the alkyl group and the aryl group in these include the above-described alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and those exemplified as the substituted aryl group.
Acylamino group, N- alkylacylamino group, N- aryl - acyl group in acylamino group (R 13 CO
R13 in- ) is as described above. Of these, more preferred are N-alkylamino group, N, N
-Dialkylamino group, N-arylamino group, acylamino group. Specific examples of preferred substituted amino groups include a methylamino group, an ethylamino group, a diethylamino group, a morpholino group, a piperidino group, a pyrrolidino group, a phenylamino group, a benzoylamino group, an acetylamino group, and the like.

【0036】また、前記一般式(I)において、Ga -
はアニオン性置換基を表し、Gb は中性の置換基を表
し、これらは、それぞれ下記の構造で表すことができ
る。
Further, in the general formula (I), G a -
Represents an anionic substituent, G b represents a neutral substituent, these may be respectively represented by the following structure.

【0037】[0037]

【化3】 Embedded image

【0038】式中、L1 〜L4 は、互いに独立に、水素
原子、ハロゲン、シアノ基及び前述のアルキル基、アリ
ール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、
チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、ア
ミノ基があげられ、またL1とL2 、L3 とL4 が連結
して環構造を形成していてもよい。好ましものとしてG
b はシアニン色素の酸性核が、またGa - は酸性核がア
ニオン化したものが挙げられる。酸性核としては「Th
e teory of the Photograph
ic Process」p,199、 テーブル8、2
−Bに記載される化合物や以下のものが挙げられる。
In the formula, L 1 to L 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen, a cyano group and the above-mentioned alkyl, aryl, alkenyl, alkynyl, carbonyl,
Examples thereof include a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, and an amino group. L 1 and L 2 , and L 3 and L 4 may be linked to form a ring structure. G as a preference
b acidic nucleus of the cyanine dye, also G a - include those acidic nucleus is anionized. As the acidic nucleus, "Th
e teory of the Photograph
ic Process, p. 199, Tables 8, 2
-B and the following compounds.

【0039】1)1,3−ジカルボニル核、例えば1,
3−インダンジオン、1,3−シクロヘキサンジオン、
5,5−ジメチルー1,3−シクロヘキサンジオン、
1,3−ジオキサンー4,6−ジオン、 2)ピラゾリノン核、例えば3−メチル−1−フェニル
ー2−ピラゾリンー5−オン、1−フェニルー2−ピラ
ゾリン−5−オン、1−フェニル−2−ピラゾリン−5
−オン、1−(2−ベンゾチアゾリル)−3−メチル−
2−ピラゾリン−5−オン、 3)イソオキサゾリノン核、例えば3−フェニルー2−
イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イソオ
キサゾリン−5−オン等、 4)オキシインドール核、例えば1−アルキル−2,3
−ジヒドロ−2−オキシインドール、
1) 1,3-dicarbonyl nucleus, for example, 1,
3-indandione, 1,3-cyclohexanedione,
5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione,
1,3-dioxane-4,6-dione, 2) pyrazolinone nucleus, for example, 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenyl-2-pyrazolin- 5
-One, 1- (2-benzothiazolyl) -3-methyl-
2-pyrazolin-5-one, 3) isoxazolinone nucleus, for example, 3-phenyl-2-
4) Oxindole nucleus, for example, 1-alkyl-2,3, such as isoxazolin-5-one and 3-methyl-2-isoxazolin-5-one.
-Dihydro-2-oxindole,

【0040】5)2,4,6−トリケトヘキサヒドロピ
リミジン核、例えばバルビツル酸又は2−チオバルビツ
ル酸及びその誘導体、かかる誘導体としては、1−メチ
ル、1−エチル等の1−アルキル体、1,3−ジエチ
ル、1,3−ジブチル等の1,3−ジアルキル体、1,
3一ジフェニル、1,3−ジ(p−クロロフェニル)
−、1,3−ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)等
の1,3−ジアリール体、1−エチル−3−フェニル等
の1−アルキル−3−アリール体等が挙げられる。 6)2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核、例えば
ローダニン及びその誘導体、かかる誘導体としては3−
エチルローダニン、3−アリルローダニン等の3−アル
キルローダニン、3−フェニルローダニン等の3−アリ
ールローダニン等が挙げられる。
5) 2,4,6-Triketohexahydropyrimidine nucleus, for example, barbituric acid or 2-thiobarbituric acid and derivatives thereof, such derivatives include 1-alkyl compounds such as 1-methyl and 1-ethyl; 1,3-dialkyl compounds such as 1,3-diethyl and 1,3-dibutyl,
3-diphenyl, 1,3-di (p-chlorophenyl)
And 1,3-diaryl compounds such as 1,3-di (p-ethoxycarbonylphenyl) and 1-alkyl-3-aryl compounds such as 1-ethyl-3-phenyl. 6) 2-thio-2,4-thiazolidinedione nucleus such as rhodanine and its derivatives, such derivatives include 3-
Examples include 3-alkyl rhodanines such as ethyl rhodanine and 3-allyl rhodanine, and 3-aryl rhodanines such as 3-phenyl rhodanine.

【0041】7)2−チオー2,4−オキサゾリジンジ
オン(2−チオー2,4−(3H,5H)−オキサゾー
ルジオン)核、例えば2−エチルー2−チオー2,4−
オキサゾリジンジオン、 8)チアナフテノン核、例えば3(2H)−チアナフテ
ノン及び3(2H)−チアナフテノンー1,1−ジオキ
サイド、 9)2−チオー2,5−チアゾリジンジオン核、例えば
3−エチルー2−チオー2,5−チアゾリジンジオン、 10)2,4−チアゾリジンシオン核・例えば2,4−
チアゾリジンジオン、3−エチルー2,4−チアゾリジ
ンジオン、3−フェニルー2,4−チアゾリジンジオ
ン、 11)チアゾリジノン核、例えば4−チアゾリジノン、
3−エチルー4−チアゾリジノン、
7) 2-thio-2,4-oxazolidinedione (2-thio-2,4- (3H, 5H) -oxazoledione) nucleus, for example, 2-ethyl-2-thio-2,4-
Oxazolidinedione, 8) thianaphthenone nucleus, such as 3 (2H) -thianaphthenone and 3 (2H) -thianaphthenone-1,1-dioxide, 9) 2-thio-2,5-thiazolidinedione nucleus, such as 3-ethyl-2-thio-2 , 5-thiazolidinedione, 10) 2,4-thiazolidinethione nucleus such as 2,4-thiazolidinedione
Thiazolidinedione, 3-ethyl-2,4-thiazolidinedione, 3-phenyl-2,4-thiazolidinedione, 11) thiazolidinone nucleus such as 4-thiazolidinone,
3-ethyl-4-thiazolidinone,

【0042】12)4−チアゾリノン核、例えば2−エ
チルメルカプト−5−チアゾリン−4−オン、2−アル
キルフェニルアミノ−5−チアゾリン−4−オン、 13)2−イミノ−2−オキソゾリン−4−オン(凝ヒ
ダントイン)核、 14)2,4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイン)
核、例えば、2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチ
ル−2,4−イミダゾリジンジオン、 15)2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2−
チオヒダントイン)核、例えば2−チオ−2,4−イミ
ダゾリジンシオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イ
ミダゾリジンジオン、 16)2−イミダゾリン−5−オン核、例えば2−n−
プロピル−メルカプト−2−イミダゾリン−5−オン、
12) 4-thiazolinone nucleus, for example, 2-ethylmercapto-5-thiazolin-4-one, 2-alkylphenylamino-5-thiazolin-4-one, 13) 2-imino-2-oxozoline-4- On (coagulation hydantoin) nucleus, 14) 2,4-Imidazolidinedione (hydantoin)
A nucleus, for example, 2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2,4-imidazolidinedione, 15) 2-thio-2,4-imidazolidinedione (2-
Thiohydantoin) nucleus, for example 2-thio-2,4-imidazolidinione, 3-ethyl-2-thio-2,4-imidazolidinedione, 16) 2-imidazolin-5-one nucleus, for example 2-n-
Propyl-mercapto-2-imidazolin-5-one,

【0043】17)フラン−5−オン、 18)4−ヒドロキシ−2(1H)−キノリノン核もし
くは4−ヒドロキシ−2(1H)−ピリジノン核、例え
ばN−メチル−4−ヒドロキシ−2(1H)−キノリノ
ン、N−n−ブチル−4−ヒドロキシ−2(1H)−キ
ノリノン、N−メチル−4−ヒドロキシ−2(1H)−
ピリジノン、 19)置換もしくは非置換の4−ヒドロキシ−2H−ピ
ラン−2−オン、4−ヒドロキシクマリン、 20)置換もしくは非置換のチオインドキシル、例えば
5−メチルチオインドキシル。
17) Furan-5-one, 18) 4-hydroxy-2 (1H) -quinolinone nucleus or 4-hydroxy-2 (1H) -pyridinone nucleus such as N-methyl-4-hydroxy-2 (1H) -Quinolinone, N-n-butyl-4-hydroxy-2 (1H) -quinolinone, N-methyl-4-hydroxy-2 (1H)-
Pyridinone, 19) substituted or unsubstituted 4-hydroxy-2H-pyran-2-one, 4-hydroxycoumarin; 20) substituted or unsubstituted thioindoxyl, such as 5-methylthioindoxyl.

【0044】また、前記−般式(I)中、Zはカルコゲ
ン原子、−C(Y1 )(Y2 )基、を示す。ここで、Y
1 ,Y2 は同一でも異っていてもよく、−CN、−CO
2 R’、−SO2 R’’を表す。R’、R’’は前記と
同様のアルキル基、アリール基を示す。
In the general formula (I), Z represents a chalcogen atom or a —C (Y 1 ) (Y 2 ) group. Where Y
1 and Y 2 may be the same or different;
2 R ', - SO 2 R ' represents a '. R ′ and R ″ represent the same alkyl group and aryl group as described above.

【0045】以下にアニオン性赤外線吸収剤の具体例を
示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。
Specific examples of the anionic infrared absorbing agent are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0046】[0046]

【化4】 Embedded image

【0047】これらは公知の方法で合成することができ
る。例えば、前記アニオン性Ni錯体(AD−1- 、A
D−2- )はジャーナルオブアメリカンケミカルソサエ
ティ(J.of American Chem.So
c.)第88巻、1966年第43〜50頁又は第48
70〜4875頁に記載される方法に準じて合成でき
る。また、アニオン性カーボンブラック(AD−3-
は、カーボンブラック便覧(カーボンブラック協会編、
1995年、カーボンブラック協会発行)第12頁に記
載されるように酸化することによりカルボン酸基を導入
したものである。
These can be synthesized by a known method. For example, the anionic Ni complex (AD-1 , A
D-2 -) is the journal of the American Chemical Society (J.of American Chem.So
c. 88), 1966, pp. 43-50 or 48.
It can be synthesized according to the method described on pages 70-4875. In addition, the anionic carbon black (AD-3 -)
Is the Carbon Black Handbook (Carbon Black Association,
The carboxylic acid group is introduced by oxidation as described on page 12 of the Carbon Black Association of Japan (1995).

【0048】(4)−般式(I)で表される化合物のう
ち、アニオン性色素骨格は下記−般式(II)のように
表すことができる。
(4) Among the compounds represented by the general formula (I), the anionic dye skeleton can be represented by the following general formula (II).

【0049】[0049]

【化5】 Embedded image

【0050】ここでθ、α、φはそれぞれ変数であり、
それぞれの部分構造G、θ、Mαφ、G、θの組み合わ
せにより、アニオン性色素骨格の具体的な構造を示すこ
とができる。例えば、部分構造Ga 1,Mf3,Gb
がそれぞれ下記のような場合、
Here, θ, α, and φ are variables, respectively.
The specific structure of the anionic dye skeleton can be shown by a combination of the respective partial structures G, θ, Mαφ, G, and θ. For example, the partial structures G a1 , Mf3, G b 2
Are as follows,

【0051】[0051]

【化6】 Embedded image

【0052】これらを組み合わせたアニオン性色素骨格
は下記のような構造をとる。
The anionic dye skeleton obtained by combining these has the following structure.

【0053】[0053]

【化7】 Embedded image

【0054】以下に、本発明のアニオン性色素骨格の部
分構造の例を示すが、本発明はこれらの具体例に制限さ
れるものではない。部分構造G、θの例としては以下の
ものが挙げられる。
Examples of the partial structure of the anionic dye skeleton of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples. Examples of the partial structures G and θ include the following.

【0055】[0055]

【化8】 Embedded image

【0056】[0056]

【化9】 Embedded image

【0057】部分構造Gb θの例としては以下のものが
挙げられる。
The following are examples of the partial structure G b θ.

【0058】[0058]

【化10】 Embedded image

【0059】[0059]

【化11】 Embedded image

【0060】メチン鎖Mαφの例としては以下のものが
挙げられる。
The following are examples of the methine chain Mαφ.

【0061】[0061]

【化12】 Embedded image

【0062】[0062]

【化13】 Embedded image

【0063】メチン鎖Mαφが置換基を有する場合の置
換基φ−Yの例としては以下のものが挙げられる。
When the methine chain Mαφ has a substituent, examples of the substituent φ-Y include the following.

【0064】[0064]

【化14】 Embedded image

【0065】[0065]

【化15】 Embedded image

【0066】次にカチオン性色素骨格について述べる。
ここで言うカチオン性赤外線色素骨格とは、色素の実質
的に赤外線を吸収する母核にカチオン構造を有するもの
である。例えば、市販の染料および文献(例えば「染料
便覧」有機合成化学協会編集昭和45年刊)に記載され
ている染料等の公知のものが挙げられ、具体的には、カ
ルボニウム染料、メチン染料、シアニン染料、アミニウ
ム染料、ジインモニウム染料等が挙げられる。
Next, the cationic dye skeleton will be described.
The term "cationic infrared dye skeleton" as used herein means a dye which has a cationic structure in a core which substantially absorbs infrared rays. Examples thereof include known dyes such as commercially available dyes and dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by Organic Synthetic Chemistry Association, 1970). Specific examples include carbonium dyes, methine dyes, and cyanine dyes. , Aminium dyes, diimmonium dyes and the like.

【0067】これらの染料の中でも、光吸収極大が長波
長側にシフトし、赤外光、近赤外光に吸収のある染料
が、画像形成性の点で特に好ましく、このような染料と
しては、例えば特開昭58−125246号、同59−
84356号、同59−202829号、または同60
−78787号公報等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、同58−181690
号、または同58−194595号公報等に記載されて
いるメチン染料、特開昭58−112793号、同59
−224793号、同59−48187号、同59−7
3996号、同60−52490号、英国特許434,
875号等に記載されているシアニン染料、米国特許
3,557,012号又は特開平4−349462号公
報に記載のインモニウム染料、米国特許3,631,1
47号に記載のアミニウム染料等が好適に用いられる。
また、米国特許5,156,938号に記載の近赤外線
吸収剤も好適に用いられる。
Among these dyes, dyes whose light absorption maximum shifts to the longer wavelength side and which absorbs infrared light and near infrared light are particularly preferable from the viewpoint of image forming properties. For example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
No. 84356, No. 59-202829, or No. 60
Cyanine dyes described in -78787 and the like,
JP-A-58-173696 and 58-181690
Or methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793 and JP-A-58-112793.
Nos. 224793, 59-48187 and 59-7
No. 3996, No. 60-52490, British Patent 434,
875, etc .; the immonium dyes described in U.S. Pat. No. 3,557,012 or JP-A-4-349462;
An aminium dye described in No. 47 is preferably used.
Further, a near-infrared absorbing agent described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used.

【0068】さらに、米国特許3,881,924号に
記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム
塩、特開昭57−142645号公報(米国特許4,3
27,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、
特開昭58−181051号、同58−220143
号、同59−41363号、同59−84248号、同
59−84249号、同59−146063号、または
同59−146061号公報等に記載されているピリリ
ウム系化合物、特開昭59−216146号公報に記載
のシアニン色素、米国特許4,283,475号に記載
のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−135
14号、同5−19702号公報に記載されているピリ
リウム化合物は特に好ましく用いられる。また、特に好
ましい別の例として米国特許4,756,993号明細
書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外
線吸収剤を挙げることができる。
Further, substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in US Pat. No. 3,881,924 and JP-A-57-142645 (US Pat.
27,169), a trimethinethiapyrylium salt described in
JP-A-58-181051, JP-A-58-220143
Pyrylium compounds described in JP-A-59-216146, JP-A-59-84248, JP-A-59-84249, JP-A-59-146063, and JP-A-59-146061; Cyanine dyes described in the official gazette, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and JP-B 5-135.
The pyrylium compounds described in JP-A Nos. 14 and 5-19702 are particularly preferably used. Another particularly preferred example is a near-infrared absorbing agent described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.

【0069】好ましい1分子中にカチオン性赤外線吸収
骨格とアニオン性赤外線吸収骨格を有するイオン性色素
としては、以下のIR−1〜IR−36が挙げられるが
本発明はこれらに制限されない。
Preferred ionic dyes having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule include the following IR-1 to IR-36, but the present invention is not limited thereto.

【0070】[0070]

【化16】 Embedded image

【0071】[0071]

【化17】 Embedded image

【0072】[0072]

【化18】 Embedded image

【0073】[0073]

【化19】 Embedded image

【0074】[0074]

【化20】 Embedded image

【0075】[0075]

【化21】 Embedded image

【0076】[0076]

【化22】 Embedded image

【0077】[0077]

【化23】 Embedded image

【0078】[0078]

【化24】 Embedded image

【0079】[0079]

【化25】 Embedded image

【0080】[0080]

【化26】 Embedded image

【0081】[0081]

【化27】 Embedded image

【0082】本発明においては、これらのイオン性色素
は、画像形成材料の全固形分に対して0.01〜50重
量%、好ましくは0.1〜20重量%、より好ましくは
0.5〜15重量%の割合で添加することができる。添
加量が0.01重量%より少ないとこの画像形成材料に
よって画像を形成することができず、50重量%を超え
てと添加すると、平版印刷版原版の感光層として用いた
場合に、非画像部に汚れを生じる虞がある。
In the present invention, these ionic dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 50% by weight based on the total solid content of the image forming material. It can be added in a proportion of 15% by weight. If the addition amount is less than 0.01% by weight, an image cannot be formed by this image forming material. If the addition amount exceeds 50% by weight, non-images will be produced when used as a photosensitive layer of a lithographic printing plate precursor. There is a possibility that the portion may become dirty.

【0083】本発明の画像形成材料には、画像形成性を
向上させる目的で他の赤外線吸収性を有する顔料あるい
は染料を添加することができる。顔料としては、市販の
顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最
新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、
「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載
されている顔料が利用できる。
To the image forming material of the present invention, other pigments or dyes having an infrared absorbing property can be added for the purpose of improving image forming properties. Examples of pigments include commercially available pigment and color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977),
"Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986),
Pigments described in "Printing Ink Technology" published by CMC, 1984) can be used.

【0084】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。
The pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments,
Quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dye lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.

【0085】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo)
"Printing ink technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.

【0086】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in a photosensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the photosensitive layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills, super mills,
Examples include a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, see “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986).

【0087】これらの染料もしくは顔料は画像形成材料
に添加して他の成分とともに画像形成層に添加してもよ
いし、平版印刷版原版の作製にあたり、画像形成層以外
の別の層を設け、そこへ添加してもよい。これらの染料
もしくは顔料は一種のみを添加してもよく、二種以上を
混合して便用してもよい。
These dyes or pigments may be added to the image-forming material and added to the image-forming layer together with other components. Alternatively, in preparing a lithographic printing plate precursor, another layer other than the image-forming layer may be provided. You may add there. One of these dyes or pigments may be added, or two or more of them may be mixed for convenience.

【0088】[(b)アルカリ水溶液可溶性樹脂]本発
明に使用される(b)アルカリ水溶液可溶性高分子化合
物とは、高分子化合物の主鎖又は側鎖に、以下のような
酸基構造を有するものを指す。フェノール性水酸基(−
Ar−OH)、カルボン酸基(−CO2 H)、スルホン
酸基(−SO3 H)、リン酸基(−OPO3 H)、スル
ホンアミド基(−SO 2 NH−R)、置換スルホンアミ
ド系酸基(活性イミド基)(−SO2 NHCOR、−S
2 NHSO2 R、−CONHSO2 R)。ここで、A
rは置換基を有していてもよい2価のアリール基を表
し、Rは置換基を有していてもよい炭化水素基を有す
る。なかでも、好ましい酸基として、(b−1)フェノ
ール性水酸基、(b−2)スルホンアミド基、(b−
3)活性イミド基が挙げられ、特に(b−1)フェノー
ル性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂(以下、
「フェノール性水酸基を有する樹脂」という。)が最も
好ましく用いることができる。
[(B) Alkaline aqueous solution soluble resin]
(B) Alkaline aqueous solution soluble polymer compound to be used
The substance is, as follows, in the main chain or side chain of the polymer compound.
It refers to those having an acid group structure. Phenolic hydroxyl group (-
Ar-OH), carboxylic acid group (-COTwoH), sulfone
Acid group (-SOThreeH), phosphate group (-OPOThreeH), Sur
Honamide group (-SO TwoNH-R), substituted sulfonamido
Acid group (active imide group) (-SOTwoNHCOR, -S
OTwoNHSOTwoR, -CONHSOTwoR). Where A
r represents a divalent aryl group which may have a substituent;
R has a hydrocarbon group which may have a substituent
You. Among them, preferred acid groups include (b-1) pheno
Hydroxyl group, (b-2) sulfonamide group, (b-
3) An active imide group, particularly (b-1) phenol
Alkaline aqueous solution soluble resin having a hydroxyl group
It is referred to as "a resin having a phenolic hydroxyl group". ) Is the most
It can be preferably used.

【0089】(b−1)フェノール性水酸基を有する高
分子化合物としては、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドとの縮重合体(以下、「フェノールホルムアルデ
ヒド樹脂」という。)、m−クレゾールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体(以下、「m−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂」という。)、p−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール
(m−、p−、またはm−/p−混合のいずれでもよ
い)とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹
脂、および、ピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙
げることができる。あるいは、フェノール基を側鎖に有
するモノマーを共重合させた共重合体を用いることもで
きる。用いるフェノール基を有するモノマーとしては、
フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、N
−(2−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−
(3−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(2−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(3−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(4−ヒドロ
キシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシフェ
ニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリレー
ト、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒドロ
キシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェニル
メタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレ
ン、p−ヒドロキシスチレン、2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(3−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)エチルアクリレート、2−(2−ヒドロキシフ
ェニル)エチルメタクリレート、2−(3−ヒドロキシ
フェニル)エチルメタクリレート、2−(4−ヒドロキ
シフェニル)エチルメタクリレート等を好適に使用する
ことができる。高分子の重量平均分子量は5.0×10
2 〜2.0×104で、数平均分子量が2.0×102
〜1.0×104 のものが、画像形成性の点で好まし
い。また、これらの樹脂を単独で用いるのみならず、2
種類以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる
場合には、米国特許第4123279号明細書に記載さ
れているような、t−ブチルフェノールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアル
デヒドとの縮重合体のような、炭素数3〜8のアルキル
基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体を併用してもよい。これらのフェノール性
水酸基を有する樹脂は、重量平均分子量が500〜20
000で数平均分子量が200〜10000のものが好
ましい。
(B-1) Examples of the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group include polycondensates of phenol and formaldehyde (hereinafter, referred to as "phenol formaldehyde resin") and degeneracy of m-cresol and formaldehyde. (Hereinafter referred to as "m-cresol formaldehyde resin"), a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, a condensation polymer of m- / p-mixed cresol and formaldehyde, phenol and cresol (m-, p- Or m- / p-mixture) and a novolak resin such as a condensation polymer of formaldehyde, and a condensation polymer of pyrogallol and acetone. Alternatively, a copolymer obtained by copolymerizing a monomer having a phenol group in a side chain can be used. As the monomer having a phenol group to be used,
Examples include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, and hydroxystyrene having a phenol group. Specifically, N
-(2-hydroxyphenyl) acrylamide, N-
(3-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate , P-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl acrylate 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydroxyphenyl) ethyl meth Relate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate can be suitably used 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate. The weight average molecular weight of the polymer is 5.0 × 10
2 to 2.0 × 10 4 and a number average molecular weight of 2.0 × 10 2
Those having a size of from 1.0 to 10 4 are preferable in view of image forming properties. Moreover, not only these resins are used alone, but also
A combination of more than two types may be used. When used in combination, a C3-C8 polymer such as a condensation polymer of t-butylphenol and formaldehyde or a condensation polymer of octylphenol and formaldehyde as described in U.S. Pat. No. 4,123,279. A condensation polymer of phenol and formaldehyde having an alkyl group as a substituent may be used in combination. These resins having a phenolic hydroxyl group have a weight average molecular weight of 500 to 20.
Those having a number average molecular weight of 200 to 10000 at 000 are preferred.

【0090】(b−2)スルホンアミド基を有するアル
カリ水可溶性高分子化合物の場合、この高分子化合物を
構成する主たるモノマーである(a−2)スルホンアミ
ド基を有する重合性モノマーを単独重合、或いは該モノ
マーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分
子化合物を挙げることができる。スルホンアミド基を有
する重合性モノマーとしては、1分子中に、窒素原子上
に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド
基−NH−SO2 −と、重合可能な不飽和結合をそれぞ
れ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーが挙げ
られる。その中でも、アクリロイル基、アリル基、また
はビニロキシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホ
ニル基または置換スルホニルイミノ基とを有する低分子
化合物が好ましい。このような化合物としては、例え
ば、下記一般式(3)〜(7)で示される化合物が挙げ
られる。
In the case of (b-2) an alkaline water-soluble polymer compound having a sulfonamide group, the main monomer constituting the polymer compound is homopolymerized with (a-2) a polymerizable monomer having a sulfonamide group, Alternatively, a polymer compound obtained by copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer can be used. Examples of the polymerizable monomer having a sulfonamide group include, in one molecule, at least one sulfonamide group —NH—SO 2 — having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom, and at least one polymerizable unsaturated bond. And a monomer comprising a low-molecular compound having the same. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of such compounds include compounds represented by the following general formulas (3) to (7).

【0091】[0091]

【化28】 Embedded image

【0092】式中、X1 、X2 はそれぞれ−O−又は−
NR17−を示す。R21、R24はそれぞれ水素原子又は−
CH3 を表す。R22、R25、R29、R32、R36はそれぞ
れ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキ
レン基を表す。R23、R27、R33は水素原子、それぞれ
置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示す。また、R26、R27は、それぞれ置換基を有してい
てもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。R28、R30、R
34は水素原子又は−CH3 を表す。R31、R35はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1 、Y 2 はそれぞれ単結合
または−CO−を表す。
Where X1, XTwoIs -O- or-
NR17Indicates-. Rtwenty one, Rtwenty fourIs a hydrogen atom or-
CHThreeRepresents Rtwenty two, Rtwenty five, R29, R32, R36Each
Alkylene having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent
Group, cycloalkylene group, arylene group or aralkyl
Represents a len group. Rtwenty three, R27, R33Are hydrogen atoms, respectively
C1-C12 alkyl which may have a substituent
Group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group
Show. Also, R26, R27Has a substituent
C1-C12 alkyl group, cycloalkyl
Group, an aryl group, and an aralkyl group. R28, R30, R
34Is a hydrogen atom or -CHThreeRepresents R31, R35Each
1 to 12 carbon atoms which may have a single bond or a substituent
Alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or
Represents an aralkylene group. Y1, Y TwoIs a single bond
Or -CO-.

【0093】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。
Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0094】(b−3)活性イミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子化合物の場合、下記式で表される活性イ
ミド基を分子内に有するものであり、この高分子化合物
を構成する主たるモノマーである(b−3)活性イミド
基を有するモノマーとしては、1分子中に、下記の式で
表される活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合をそれ
ぞれ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーを共
重合させて得られる高分子化合物を挙げることができ
る。
(B-3) In the case of an alkali water-soluble polymer compound having an active imide group, the compound has an active imide group represented by the following formula in the molecule, and is a main monomer constituting the polymer compound. (B-3) As a monomer having an active imide group, a monomer comprising a low-molecular compound having an active imino group represented by the following formula and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. And a polymer compound obtained by copolymerizing the above.

【0095】[0095]

【化29】 Embedded image

【0096】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。
As such compounds, specifically,
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.

【0097】本発明に用い得るアルカリ水可溶性共重合
体は、前記(b−1)から(b−3)の酸性基を含むモ
ノマーは、1種類である必要はなく、同一の酸性基を有
するモノマーを2種以上、または、異なる酸性基を有す
るモノマーを2種以上共重合させたものも用いることも
できる。共重合の方法としては、従来知られている、グ
ラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法
等を用いることができる。
In the alkaline water-soluble copolymer which can be used in the present invention, the monomers containing the acidic groups (b-1) to (b-3) need not be one kind but have the same acidic group. Those obtained by copolymerizing two or more monomers or two or more monomers having different acidic groups can also be used. As a copolymerization method, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method, or the like can be used.

【0098】前記共重合体は、共重合させる(b−1)
から(b−3)の酸性基を有するモノマーを共重合成分
として10モル%以上含んでいることが好ましく、20
モル%以上含むものがより好ましい。共重合成分が10
モル%より少ないと、フェノール性水酸基を有する樹脂
との相互作用が不十分となり共重合成分を用いる場合の
利点である現像ラチチュードの向上効果が不充分とな
る。
The copolymer is copolymerized (b-1)
To (b-3) preferably contains at least 10 mol% of a monomer having an acidic group as a copolymer component.
Those containing at least mol% are more preferred. 10 copolymer components
If the amount is less than mol%, the interaction with the resin having a phenolic hydroxyl group becomes insufficient, and the effect of improving the development latitude, which is an advantage of using a copolymer component, becomes insufficient.

【0099】また、この共重合体には、前記(b−1)
から(b−3)の酸性基を含むモノマー以外の他の共重
合成分を含んでいてもよい。共重合体成分として用いう
るモノマーの例としては、下記(1)〜(12)に挙げ
るモノマーを用いることができる。
The copolymer (b-1)
To (b-3) other than the monomer containing an acidic group. As examples of the monomer that can be used as the copolymer component, the following monomers (1) to (12) can be used.

【0100】[0100]

【0101】(1)例えば、2−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、および
メタクリル酸エステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(1) Acrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, and methacrylic esters. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates; (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate. (4) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-
Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-
Acrylamide or methacrylamide such as phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, and N-ethyl-N-phenylacrylamide. (5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether. (6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (12) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid;

【0102】本発明においてアルカリ水可溶性高分子化
合物としては、単独重合体、共重合体に係わらず、重量
平均分子量が2000以上、数平均分子量が500以上
のものが膜強度の点で好ましい。さらに好ましくは、重
量平均分子量が5000〜300000、数平均分子量
が800〜250000であり、分散度(重量平均分子
量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。
In the present invention, as the alkali water-soluble polymer compound, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more, irrespective of a homopolymer or a copolymer, are preferable in view of film strength. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.

【0103】前記共重合体において、(b−1)〜(b
−3)の酸性基を有するモノマーと、他のモノマーとの
配合重量比が、現像ラチチュードの点から50:50か
ら5:95の範囲にあるものが好ましく、40:60か
ら10:90の範囲にあるものがより好ましい。
In the above copolymer, (b-1) to (b)
The compounding weight ratio of the monomer having an acidic group of (3) to another monomer is preferably in the range of 50:50 to 5:95 from the viewpoint of development latitude, and is preferably in the range of 40:60 to 10:90. Are more preferable.

【0104】これらアルカリ水可溶性高分子化合物は、
それぞれ1種類あるいは2種類以上を組み合わせて使用
してもよく、全画像形成材料固形分中、30〜99重量
%、好ましくは40〜95重量%、特に好ましくは50
〜90重量%の添加量で用いられる。アルカリ可溶性の
高分子化合物の添加量が30重量%未満であると記録層
の耐久性が悪化し、また、99重量%を越えると感度、
耐久性の両面で好ましくない。
These alkaline water-soluble polymer compounds include:
One type or a combination of two or more types may be used, and the total solid content of the image forming material is 30 to 99% by weight, preferably 40 to 95% by weight, particularly preferably 50% by weight.
It is used in an amount of up to 90% by weight. When the amount of the alkali-soluble polymer compound is less than 30% by weight, the durability of the recording layer is deteriorated.
It is not preferable in terms of durability.

【0105】[(C)熱により酸を発生する化合物]本
発明において熱により酸を発生する化合物(以下、適
宜、酸発生剤と称する)とは、100℃以上の加熱によ
り分解し酸を発生する化合物を指す。発生する酸として
は、スルホン酸、塩酸等のpKaが2以下の強酸である
ことが好ましい。本発明において好適に用いられる酸発
生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホス
ホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられ
る。具体的には、US4,708,925号や特開平7
−20629号に記載されている化合物を挙げることが
できる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好まし
い。ジアゾニウム塩としては、米国特許第3,867,
147号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,6
32,703号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開
平1−102456号及び特開平1−102457号の
各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、
US5,135,838号やUS5,200,544号
に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。
さらに、特開平2−100054号、特開平2−100
055号及び特願平8−9444号に記載されている活
性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好まし
い。他にも、特開平7−271029号に記載されてい
る、ハロアルキル置換されたS−トリアジン類も好まし
い。
[(C) Compound that Generates Acid by Heat] In the present invention, the compound that generates an acid by heat (hereinafter, appropriately referred to as an acid generator) is decomposed by heating at 100 ° C. or more to generate an acid. Refers to a compound that The generated acid is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid and hydrochloric acid. Examples of the acid generator suitably used in the present invention include onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts and diazonium salts. More specifically, US Pat.
-20629. Particularly, an iodonium salt, a sulfonium salt, and a diazonium salt having a sulfonate ion as a counter ion are preferable. As diazonium salts, US Pat. No. 3,867,
No. 147, U.S. Pat. No. 2,6
The diazonium compounds described in JP-A-32,703 and the diazo resins described in JP-A-1-102456 and JP-A-1-102457 are also preferable. Also,
Benzyl sulfonates described in US 5,135,838 and US 5,200,544 are also preferred.
Further, JP-A Nos. 2-100054 and 2-100
Active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in Japanese Patent Application No. 055 and Japanese Patent Application No. 8-9444 are also preferable. Besides, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable.

【0106】これらの酸発生剤は、画像形成材料全固形
分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜4
0重量%、より好ましくは0.5〜30重量%の割合で
画像形成材料中に添加される。添加量が0.01重量%
未満の場合は、画像が得られない。また添加量が50重
量%を越える場合は、印刷時非画像部に汚れを発生す
る。
These acid generators are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 4% by weight, based on the total solid content of the image forming material.
0% by weight, more preferably 0.5 to 30% by weight, is added to the image forming material. 0.01% by weight
If it is less than, an image cannot be obtained. On the other hand, if the amount exceeds 50% by weight, non-image areas are stained during printing.

【0107】これらの化合物は単独で使用してもよく、
また2種以上を組み合わせて使用してもよい。なお、こ
こに挙げた酸発生剤は、紫外線照射によっても分解でき
るため、本発明の画像形成材料は、赤外線だけではなく
紫外線によっても画像記録可能である。
These compounds may be used alone.
Also, two or more kinds may be used in combination. Since the acid generators listed here can be decomposed by irradiation with ultraviolet rays, the image forming material of the present invention can record images not only with infrared rays but also with ultraviolet rays.

【0108】[(d)酸により架橋する架橋剤]本発明
に用いることのできる酸により架橋する架橋剤(以下、
適宜、「酸架橋剤」又は単に架橋剤」と称する)ついて
説明する。本発明に好ましく用いられる架橋剤として
は、以下のものが挙げられる。 (i)アルコキシメチル基若しくはヒドロキシメチル基
で置換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 これらについて詳細に説明する。
[(D) Crosslinking Agent Cross-Linked by Acid] A cross-linking agent cross-linked by an acid (hereinafter referred to as “d)
(Referred to as “acid crosslinking agent” or simply “crosslinking agent” as appropriate). Examples of the crosslinking agent preferably used in the present invention include the following. (I) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group (ii) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) an epoxy compound These will be described in detail. I do.

【0109】(i)アルコキシメチル基若しくはヒドロ
キシメチル基で置換された芳香族化合物としては、例え
ば、ヒドロキシメチル基、アセトキシメチル基、若しく
はアルコキシメチル基でポリ置換されている芳香族化合
物及び複素環化合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂
として知られるフェノール類とアルデヒド類とを塩基性
条件下で重縮合させた樹脂状の化合物は含まない。レゾ
ール樹脂は架橋性に優れるものの、熱安定性が充分でな
く、特に感光性の材料に含有させて高温下に長期間保存
した場合、均一な現像が困難となり好ましくない。
(I) Examples of the aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group include aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with a hydroxymethyl group, an acetoxymethyl group or an alkoxymethyl group. Is mentioned. However, it does not include resinous compounds obtained by polycondensing phenols and aldehydes known as resol resins under basic conditions. Although the resole resin is excellent in crosslinkability, it does not have sufficient thermal stability. In particular, when the resol resin is contained in a photosensitive material and stored at a high temperature for a long period of time, uniform development becomes difficult, which is not preferable.

【0110】ヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル
基でポリ置換された芳香族化合物及び複素環化合物のな
かでは、ヒドロキシ基に隣接する位置にヒドロキシメチ
ル基又はアルコキシメチル基を有する化合物を好ましい
例として挙げることができる。アルコキシメチル基の場
合はアルコキシメチル基が炭素数18以下の化合物であ
ることが好ましい。特に好ましい例として下記−般式
(8)〜(l1)で表される化合物を挙げることができ
る。
Among aromatic compounds and heterocyclic compounds poly-substituted with a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group, compounds having a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group at a position adjacent to the hydroxy group are preferred. it can. In the case of an alkoxymethyl group, the alkoxymethyl group is preferably a compound having 18 or less carbon atoms. Particularly preferred examples include compounds represented by the following formulas (8) to (11).

【0111】[0111]

【化30】 Embedded image

【0112】[0112]

【化31】 Embedded image

【0113】前記各式中、L1 〜L8 はそれぞれ独立に
メトキシメチル、エトキシメチル等のように炭素数18
以下のアルコキシ基で置換されたヒドロキシメチル基又
はアルコキシメチル基を示す。これらは架橋効率が高
く、耐刷性を向上させることができる点で好ましい。上
記に例示された架橋性化合物は、単独で使用してもよ
く、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
In the above formulas, L 1 to L 8 each independently represent a group having 18 carbon atoms such as methoxymethyl and ethoxymethyl.
The following shows a hydroxymethyl group or an alkoxymethyl group substituted with an alkoxy group. These are preferred because they have high crosslinking efficiency and can improve printing durability. The crosslinking compounds exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

【0114】(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−ア
ルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を
有する化合物としては、欧州特許公開(以下、EP−A
と記載する)第0,133,216号、西独特許第3,
634,671号、同第3,711,264号に開示さ
れた単量体及びオリゴマー−メラミンーホルムアルデヒ
ド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−
A第0,212,482号に開示されたアルコキシ置換
化合物等が挙げられる。さらに好ましい例としては、例
えば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル基、
N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチ
ル基を有するメラミンーホルムアルデヒド誘導体が挙げ
られ、中でもN−アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。
(Ii) As the compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, European Patent Publication (hereinafter referred to as EP-A)
No. 0,133,216, West German Patent No. 3,
Nos. 634,671 and 3,711,264, monomer and oligomer-melamine-formaldehyde condensate and urea-formaldehyde condensate, EP-
A, No. 0,212,482. More preferred examples include, for example, at least two free N-hydroxymethyl groups,
A melamine-formaldehyde derivative having an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group is exemplified, and among them, an N-alkoxymethyl derivative is particularly preferred.

【0115】(iii)エポキシ化合物としては、−つ
以上のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴ
マー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノールーホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第4,026,705号公報、英
国特許第1,539,192号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。
(Iii) Examples of the epoxy compound include monomer, dimer, oligomer, and polymer epoxy compounds containing one or more epoxy groups. For example, a reaction product of bisphenol A with epichlorohydrin, a reaction product of low molecular weight phenol-formaldehyde resin with epichlorohydrin, and the like can be mentioned. Other examples include epoxy resins described and used in U.S. Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.

【0116】以上の(i)〜(iii)の本発明に用い
ることのできる架橋剤は、画像形成材料全固形分に対
し、5〜80重量%、好ましくは10〜75重量%、特
に好ましくは20〜70重量%の範囲である。架橋剤の
添加量が5重量%未満であると得られる画像形成材料の
感光層の耐久性が悪化し、また、80重量%を超えると
保存時の安定性の観点から好ましくない。
The crosslinking agents (i) to (iii) which can be used in the present invention are from 5 to 80% by weight, preferably from 10 to 75% by weight, particularly preferably from 10 to 75% by weight, based on the total solids of the image forming material. It is in the range of 20-70% by weight. If the added amount of the crosslinking agent is less than 5% by weight, the durability of the photosensitive layer of the obtained image forming material is deteriorated, and if it exceeds 80% by weight, it is not preferable from the viewpoint of storage stability.

【0117】(iv)本発明では、架橋剤として、下記
−般式(12)で表されるフェノール誘導体を使用する
ことも好ましい。
(Iv) In the present invention, it is also preferable to use a phenol derivative represented by the following general formula (12) as a crosslinking agent.

【0118】[0118]

【化32】 Embedded image

【0119】上記−般式(5)中、Ar1 は、置換基を
有していても良い芳香族炭化水素環を示す。原料の入手
性から、芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフ
タレン環またはアントラセン環が好ましい。また、好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、炭素数12個以下
の炭化水素基、炭素数12個以下のアルコキシ基、炭素
数12個以下のアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、
トリフルオロメチル基等が挙げられる。感度が高いとい
う理由で、Ar1 としては、置換基を有していないベン
ゼン環およびナフタレン環、または、ハロゲン原子、炭
素数6個以下の炭化水素基、炭素数6個以下のアルコキ
シ基、炭素数6個以下のアルキルチオ基、ニトロ基等を
置換基として有するベンゼン環およびナフタレン環が特
に好ましい。
In the above general formula (5), Ar 1 represents an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent. From the availability of raw materials, the aromatic hydrocarbon ring is preferably a benzene ring, a naphthalene ring or an anthracene ring. Preferred substituents include a halogen atom, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an alkylthio group having 12 or less carbon atoms, a cyano group, a nitro group,
And a trifluoromethyl group. Because of high sensitivity, Ar 1 includes an unsubstituted benzene ring and a naphthalene ring, or a halogen atom, a hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms, an alkoxy group having 6 or less carbon atoms, A benzene ring and a naphthalene ring having as substituents an alkylthio group, a nitro group or the like of several or less are particularly preferred.

【0120】R1 およびR2 は、それぞれ同じでも異な
っていても良く、水素原子または炭素数12個以下の炭
化水素基を示す。合成が容易であるという理由から、R
1 およびR2 は、水素原子またはメチル基であることが
特に好ましい。R3 は、水素原子または炭素数12個以
下の炭化水素基を示す。感度が高いという理由で、R 3
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基等の炭素数7個以下の炭化水素基
であることが特に好ましい。mは、2〜4の整数を示
す。nは、1〜3の整数を示す。
R1And RTwoAre the same but different
Hydrogen atom or carbon with 12 or less carbon atoms
Shows a hydride group. Because of the ease of synthesis, R
1And RTwoIs a hydrogen atom or a methyl group
Particularly preferred. RThreeIs a hydrogen atom or 12 or more carbon atoms
Shows the lower hydrocarbon group. Because of the high sensitivity, R Three
Represents, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
Hydrocarbon groups having 7 or less carbon atoms, such as xyl and benzyl groups
Is particularly preferred. m represents an integer of 2 to 4
You. n shows the integer of 1-3.

【0121】本発明において好適に用いられる上記一般
式(12)で表されるフェノール誘導体の具体例を以下
に示す(架橋剤[KZ−1]〜[KZ−8])が、本発
明はこれに制限されるものではない。
Specific examples of the phenol derivative represented by the general formula (12) preferably used in the present invention are shown below (crosslinking agents [KZ-1] to [KZ-8]). It is not limited to.

【0122】[0122]

【化33】 Embedded image

【0123】[0123]

【化34】 Embedded image

【0124】これらのフェノール誘導体は、従来公知の
方法により合成できる。例えば[KZ−1]は、フェノ
ール、ホルムアルデヒドおよび、ジメチルアミンやモル
ホリン等の2級アミンを反応させ、トリ(ジアルキルア
ミノメチル)フェノールとし、次に無水酢酸と反応さ
せ、さらに炭酸カリウム等の弱アルカリ存在下、エタノ
ールと反応させることにより、下記[反応式1]に表す
如き経路で合成することができる。
These phenol derivatives can be synthesized by a conventionally known method. For example, [KZ-1] is obtained by reacting phenol, formaldehyde, and a secondary amine such as dimethylamine and morpholine to form tri (dialkylaminomethyl) phenol, then reacting with acetic anhydride, and further reacting with a weak alkali such as potassium carbonate. By reacting with ethanol in the presence, it can be synthesized by a route represented by the following [Reaction formula 1].

【0125】[0125]

【化35】 Embedded image

【0126】さらに、別の方法によっても合成できる、
例えば[KZ−1]は、フェノールとホルムアルデヒド
またはパラホルムアルデヒドを、KOH等のアルカリ存
在下反応させ、2,4,6一トリヒドロキシメチルフェ
ノールとし、引き続き硫酸等の酸存在下、エタノールと
反応させることにより、下記[反応式2]に表す如き経
路でも合成することができる。反応式[2]
Further, it can be synthesized by another method.
For example, [KZ-1] is obtained by reacting phenol with formaldehyde or paraformaldehyde in the presence of an alkali such as KOH to form 2,4,6-trihydroxymethylphenol, and subsequently reacting with ethanol in the presence of an acid such as sulfuric acid. Thus, the compound can also be synthesized by a route represented by the following [Reaction formula 2]. Reaction formula [2]

【0127】[0127]

【化36】 Embedded image

【0128】これらのフェノール誘導体は単独で使用し
てもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。また、これらのフェノール誘導体を合成する際、フ
ェノール誘導体同士が縮合して2量体や3量体等の不純
物が副生成する場合があるが、これらの不純物を含有し
たまま用いても良い、なお、この場合でも、不純物は3
0%以下であることが好ましく、20%以下であること
がさらに好ましい。
These phenol derivatives may be used alone or in combination of two or more. Further, when synthesizing these phenol derivatives, the phenol derivatives may be condensed with each other to produce by-products such as dimers and trimers, but these impurities may be used while containing these impurities. , Even in this case, the impurity is 3
It is preferably at most 0%, more preferably at most 20%.

【0129】本発明において、フェノール誘導体は全画
像形成材料固形分中、5〜70重量%、好ましくは10
〜50重量%の添加量で用いられる。ここで、架橋剤と
してのフェノール誘導体の添加重が5重量%未満である
と画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、また、7
0重量%を越えると保存時の安定性の点で好ましくな
い。
In the present invention, the phenol derivative accounts for 5 to 70% by weight, preferably 10% by weight, based on the total solid content of the image forming material.
It is used at an addition amount of 5050% by weight. Here, if the addition weight of the phenol derivative as a cross-linking agent is less than 5% by weight, the film strength of the image area at the time of image recording deteriorates, and
Exceeding 0% by weight is not preferred in terms of stability during storage.

【0130】〔その他の成分〕本発明の画像形成材料に
は、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することが
できる。例えば、オニウム塩、芳香族スルホン化合物、
芳香族スルホン酸エステル化合物等は熱分解性物質とし
て作用するので、このような物質を添加すると、画像部
の現像液への溶解阻止性を向上させることができるので
好ましい。
[Other Components] The image-forming material of the present invention may further contain various additives, if necessary. For example, onium salts, aromatic sulfone compounds,
An aromatic sulfonic acid ester compound or the like acts as a thermally decomposable substance, and therefore, it is preferable to add such a substance because dissolution inhibition of an image area in a developer can be improved.

【0131】オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アン
モニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホ
ニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる
ことができる。本発明において用いられるオニウム塩と
して好適なものとしては、例えば、S.I.Sch1e
singer,Photogr.Sci.Eng。、1
8,387(1974)、T.S.Ba1eta1,P
o1ymer,21,423(1980)、または、特
開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、
米国特許第4,069,055号、同4,069,05
6号、または特開平3−140140号公報に記載のア
ンモニウム塩、D.C.Neckereta1,Mac
romo1ecu1es,17.2468(198
4)、C.S.Weneta1,Teh,Proc.C
onf.Rad.CuringASIA,p478To
kyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,
055号、または同4,069,056号に記載のホス
ホニウム塩、J.V.Crive11oeta1,Ma
cromorecu1es,10(6)、1307(1
977)、Chem.&Eng.News.Nov.2
8,p31(1988)、欧州特許第104,143
号、米国特許第339,049号、同第410,201
号、特開平2−150848号公報、または特開平2−
296514号公報こ記載のヨードニウム塩、J.V.
Crive11oeta1,Po1ymerJ.17,
73(1985)、J.V.Crive11oeta
1.J.Org.Chem。、43.3055(197
8)、W.R.Watteta1,J.Po1ymer
Sci.、Po1ymerChem.Ed.、22.1
789(1984)、J.V.Crive11oeta
1,Po1ymerBu11.、14,279(198
5)、J.V.Crive11oeta1,Macro
morecu1es,14(5)、1141(198
1)、J.V.Crive11oeta1,J.Po1
ymer Sci.、Po1ymerChem.E
d.、17.2877(1979)、欧州特許第37
0,693号、同233,567号、同297,443
号、同297,442号、米国特許第4,933,37
7号、同3,902,114号、同410,201号、
同339,049号、同4,760,013号、同4,
734,444号、同2,833,827号、独国特許
第2,93804,626号、同3,604,580
号、または同3,604,581号に記載のスルホニウ
ム塩、J.V.Crive11oeta1,Macro
morecu1es.10(6)、1307(197
7)、またはJ.V.Crive11oeta1,J.
Po1ymerSci.、Po1ymerChemic
h.、17.1047(1979)に記載のセレノニウ
ム塩、C.S.Weneta1,Teh,Proc.C
onf.Rad.CuringASIA,P478To
kyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等
が挙げられる。
Examples of the onium salt include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like. Suitable onium salts for use in the present invention include, for example, S.I. I. Sch1e
singer, Photogr. Sci. Eng. , 1
8, 387 (1974); S. Ba1eta1, P
oylmer, 21, 423 (1980) or diazonium salts described in JP-A-5-158230;
U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,05
No. 6, or ammonium salt described in JP-A-3-140140; C. Neckereta1, Mac
Romelecu1es, 17.2468 (198
4), C.I. S. Weneta1, Teh, Proc. C
onf. Rad. CuringASIA, p478To
kyo, Oct (1988); U.S. Pat. No. 4,069,
A phosphonium salt described in J. 055 or 4,069,056; V. Clive11oeta1, Ma
cromorecu1es, 10 (6), 1307 (1
977), Chem. & Eng. News. Nov. 2
8, p31 (1988), EP 104,143.
Nos. 339,049 and 410,201.
JP-A-2-150848 or JP-A-2-150848
JP-A-296514, an iodonium salt described therein, J. Am. V.
Clive11oeta1, Po1ymerJ. 17,
73 (1985); V. Clive11oeta
1. J. Org. Chem. , 43.3055 (197
8); R. Watteta 1, J.M. Po1ymer
Sci. , PolymerChem. Ed. , 22.1
789 (1984); V. Clive11oeta
1, PolymerBu11. , 14,279 (198
5). V. Clive11oeta1, Macro
morecu 1es, 14 (5), 1141 (198
1). V. Clive 11 eta1, J.I. Po1
ymer Sci. , PolymerChem. E
d. , 17.2877 (1979), EP 37
No. 0,693, No. 233,567, No. 297,443
No. 297,442, U.S. Pat. No. 4,933,37.
7, 3,902,114, 410,201,
339,049, 4,760,013, 4,
Nos. 7,34,444 and 2,833,827, German Patent Nos. 2,93804,626 and 3,604,580
Or the sulfonium salt described in JP-A-3,604,581; V. Clive11oeta1, Macro
morecu1es. 10 (6), 1307 (197
7); V. Clive 11 eta1, J.I.
Po1ymerSci. , Po1ymerChemic
h. , 17.1047 (1979), selenonium salts described in C.I. S. Weneta1, Teh, Proc. C
onf. Rad. CuringASIA, P478To
kyo, Oct (1988).

【0132】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトールー5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。
The counter ions of the onium salt include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl -Benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.

【0133】オニウム塩の添加剤の添加重は、好ましく
は1〜50重量%、更に好ましくは5〜30重量%、特
に好ましくは10〜30重量%である。本発明において
添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好まし
い。
The weight of the onium salt additive is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight. In the present invention, the additive and the binder are preferably contained in the same layer.

【0134】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,
128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,
6−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、
テトラクロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無
水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノー
ル類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノー
ル、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,
4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,
4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,
5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942
号、特開平2−96755号公報などに記載されてい
る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸類な
どがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、
エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イ
ソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジ
メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シク
ロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリ
ン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げら
れる。上記の環状酸無水物、フェノール類および有機酸
類の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜20重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量%、
特に好ましくは0.1〜10重量%である。
For the purpose of further improving sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be used in combination. As the cyclic acid anhydride, US Pat. No. 4,115,
No. 128, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,
6-endooxy-Δ 4 -tetrahydrophthalic anhydride,
Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone,
4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,
4 ', 3 ", 4"-tetrahydroxy-3,5,3',
5'-tetramethyltriphenylmethane and the like. Further, as the organic acids, JP-A-60-88942
Sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, and the like described in JP-A-2-96755 and JP-A-2-96755.
Examples include phosphonic acids, phosphoric esters and carboxylic acids, and specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid,
Ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene -1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like. The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the image forming material is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight,
Particularly preferably, it is 0.1 to 10% by weight.

【0135】また、本発明における画像形成材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。非イオン界面活性剤の具体例として
は、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパル
ミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノ
グリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル等が挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アル
キルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノ
エチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシ
エチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ンやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げ
られる。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤
の画像形成材料中に占める割合は、0.05〜15重量
%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
Further, in the image forming material of the present invention, JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 are used in order to widen the stability of processing under development conditions.
Non-ionic surfactants described in JP-A-59-121044, JP-A-4-13149.
An amphoteric surfactant such as that described in JP-A No. 2-211 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine. Type (for example,
Trade name “Amogen K”: manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image forming material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0136】本発明における画像形成材料中には、露光
による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、
画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出
する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の
組合せを代表として挙げることができる。具体的には、
特開昭50−36209号、同53−8128号の各公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特
開昭53−36223号、同54−74728号、同6
0−3626号、同61−143748号、同61−1
51644号および同63−58440号の各公報に記
載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料
の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル
化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系
化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼
き出し画像を与える。
In the image forming material of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure,
Dyes and pigments as image colorants can be added.
Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. In particular,
Combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, and JP-A-53-36223, 54-74728, 6
No. 0-3626, No. 61-143748, No. 61-1
Combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A-51644 and JP-A-63-58440 can be exemplified. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.

【0137】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。これら
の染料は、画像形成材料全固形分に対し、0.01〜1
0重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で画像形
成材料中に添加することができる。更に本発明の画像形
成材料中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するた
めに可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポ
リエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸
ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フ
タル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブ
チル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフ
ルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー
およびポリマー等が用いられる。
As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, JP-A-62-2932
The dyes described in JP-B-47 are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.01 to 1 based on the total solid content of the image forming material.
0% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight can be added to the image forming material. Further, a plasticizer is added to the image forming material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility and the like to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid Oligomers and polymers are used.

【0138】さらに、これら以外にも、エポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらには特開平8−27655
8号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物及び本発明者らが先に出願した特願平9−32837
号明細書に記載の溶解抑制増強架橋剤等を目的に応じて
適宜添加することができる。
Further, in addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and JP-A-8-27655
Patent Document 8 discloses a phenol compound having a hydroxymethyl group, a phenol compound having an alkoxymethyl group and Japanese Patent Application No. 9-32837 filed by the present inventors.
The dissolution suppression enhancing cross-linking agent described in the specification can be appropriately added according to the purpose.

【0139】本発明の画像形成材料を含む感光層塗布液
や、保護層等の所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かし
て、適当な支持体上に塗布することにより平版印刷版原
版を製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度
は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によ
って異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に
0.5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、感光層の皮膜
特性は低下する。
The lithographic printing plate precursor can be prepared by dissolving a coating solution for a photosensitive layer containing the image forming material of the present invention or a coating solution component for a desired layer such as a protective layer in a solvent and coating the solution on a suitable support. Can be manufactured. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene,
Water and the like can be mentioned, but it is not limited thereto. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight. The coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally 0.5 to 5.0 g / m 2 is preferred for a photosensitive printing plate. As a method of applying, various methods can be used, for example, bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating,
Roll coating and the like can be mentioned. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive layer deteriorate.

【0140】本発明における感光性組成物を用いた感光
層塗布液中には、塗布性を良化するための界面活性剤、
例えば特開昭62−170950号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全印刷版材料の0.01〜1重量%
さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。
In the photosensitive layer coating solution using the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving coating properties,
For example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 can be added.
The preferred addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total printing plate material.
More preferably, it is 0.05 to 0.5% by weight.

【0141】本発明の平版印刷版原版に使用される支持
体としては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、
紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板
(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチック
フィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上
記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、
もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
The support used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a dimensionally stable plate-like material.
Paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, butyric acid) Cellulose, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), a metal-laminated or vapor-deposited paper as described above,
Alternatively, a plastic film or the like is included.

【0142】本発明の平版印刷版原版に用いられる支持
体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板
が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニ
ウム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成
分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミ
ニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフ
ィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合
金中の異元素の含有量は高々10重量%以下である。本
発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウ
ムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製
造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでも
よい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知
公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することがで
きる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよ
そ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15m
m〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3m
mである。
As the support used in the lithographic printing plate precursor of the present invention, a polyester film or an aluminum plate is preferable. Among them, an aluminum plate having good dimensional stability and relatively low cost is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium and the like. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is approximately 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 m.
m to 0.4 mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 m
m.

【0143】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。この様に粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には
硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が
用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution is performed to remove rolling oil on the surface. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0144】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号および第3,902,734号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸
ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、ま
たは電解処理される。他に特公昭36−22063号公
報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米
国特許第3,276,868号、同第4,153,46
1号、同第4,689,272号に開示されているよう
なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。
The anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte to be used, and thus cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. When the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched,
So-called "scratch stains" in which ink adheres to scratches during printing are likely to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat. Nos. 2,7,7
No. 14,066, No. 3,181,461, No. 3,2
There is an alkali metal silicate (e.g., sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in U.S. Pat. Nos. 80,734 and 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,153,46.
For example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid as disclosed in JP-A Nos. 1 and 4,689,272 is used.

【0145】本発明の平版印刷版原版は、支持体上に本
発明の画像形成材料を含むポジ型又はネガ型の感光層を
設けたものであるが、必要に応じてその間に下塗層を設
けることができる。下塗層成分としては種々の有機化合
物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、2一アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミ
ンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いて
もよい。
The lithographic printing plate precursor according to the invention is provided with a positive or negative photosensitive layer containing the image forming material according to the invention on a support. Can be provided. Various organic compounds are used as the undercoat layer component, for example, carboxymethyl cellulose,
Dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 21 aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, naphthylphosphonic acid,
Organic phosphonic acids such as alkyl phosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthyl phosphoric acid, organic phosphoric acid such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, Organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydroxy groups such as triethanolamine hydrochloride Or a mixture of two or more of them.

【0146】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合
物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有
機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種
々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃
度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重
量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25
〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好まし
くは2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12
の範囲に調整することもできる。また、画像形成材料の
調子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2 が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。上
記の被覆量が2mg/m2 よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2 より大きくて
も同様である。
The organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. A method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound by immersing the aluminum plate, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. . In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25%.
To 50 ° C., and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this is adjusted to pH 1 to 12 by a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
It can also be adjusted to the range. Further, a yellow dye may be added for improving the tone reproducibility of the image forming material. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 .

【0147】上記のようにして作製された平版印刷版原
版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露光に用
いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルラン
プ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子
線、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg
線、i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム
(レーザービーム)も使用される。レーザービームとし
てはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、ク
リプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、K
rFエキシマレーザー、固体レーザー、半導体レーザー
等が挙げられる。本発明においては、近赤外から赤外領
域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導
体レーザが特に好ましい。
The lithographic printing plate precursor prepared as described above is usually subjected to image exposure and development processing. Examples of the light source of the actinic ray used for the image exposure include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, and the like. Examples of the radiation include an electron beam, an X-ray, an ion beam, and a far-infrared ray. Also g
Lines, i-lines, Deep-UV light, high density energy beams (laser beams) are also used. Laser beams include helium / neon laser, argon laser, krypton laser, helium / cadmium laser, K
An rF excimer laser, a solid-state laser, a semiconductor laser and the like are mentioned. In the present invention, a light source having an emission wavelength in the near infrared to infrared region is preferable, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.

【0148】本発明の平版印刷版原版の現像液および補
充液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使
用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第
3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第
2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。
As the developer and replenisher for the lithographic printing plate precursor according to the invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, potassium And inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine,
Organic alkaline agents such as diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used.

【0149】これらのアルカリ剤は単独もしくは2種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸化物
2 Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能となる
ためであり、例えば、特開昭54−62004号公報、
特公昭57−7427号公報に記載されているようなア
ルカリ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。
These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxides are components of the silicate
This is because developability can be adjusted by the ratio and concentration of M 2 O. For example, JP-A-54-62004 discloses
The alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.

【0150】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には、現像性の
促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤
や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界
面活性剤が挙げられる。更に現像液および補充液には必
要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜
硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等
の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を
加えることもできる。上記現像液および補充液を用いて
現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像形成材料を印刷版とし
て使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々
組み合わせて用いることができる。
Further, in the case of developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of PS plates can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. To the developing solution and the replenishing solution, various surfactants and organic solvents can be added as necessary for the purpose of promoting or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and increasing the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing when the image forming material of the present invention is used as a printing plate, these processings can be used in various combinations.

【0151】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally comprises a developing section and a post-processing section, and comprises a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and while pumping the exposed printing plate horizontally, each pumped by a pump. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0152】本発明の画像形成材料を用いた感光性平版
印刷版原版について説明する。画像露光し、現像し、水
洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平
版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィ
ルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像
部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平
2−13293号公報に記載されているような消去液を
不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したの
ちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平
59−174842号公報に記載されているようなオプ
ティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部
に照射したのち現像する方法も利用できる。
The photosensitive lithographic printing plate precursor using the image forming material of the present invention will be described. If the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming has unnecessary image portions (for example, film edge marks of the original film), unnecessary portions are unnecessary. Erasing of the image portion is performed. Such erasing is preferably performed by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-129393 to an unnecessary image portion, leaving the same for a predetermined period of time, and then rinsing with water. A method described in JP-A-59-174842, in which active light guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can be used.

【0153】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前
に、特公昭61−2518号、同55−28062号、
特開昭62−31859号、同61−159655号の
各公報に記載されているような整面液で処理することが
好ましい。その方法としては、該整面液を浸み込ませた
スポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整
面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方
法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラ
ーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結
果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitized gum if desired. Is subjected to a burning process. When the lithographic printing plate is subjected to a burning process, before the burning process, Japanese Patent Publication Nos. 61-2518 and 55-28062,
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in JP-A Nos. 62-31859 and 61-159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.

【0154】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2 (乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。
The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: "BP-130").
0 "). The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image,
The temperature is preferably in the range of 180 to 300 ° C. for 1 to 20 minutes.

【0155】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. When a liquid is used, a so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0156】[0156]

【実施例】以下、本発明を、アルカリ性赤外線吸収剤の
合成例及び実施例に従って説明するが、本発明の範囲は
これらの合成例、実施例に限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to synthesis examples and examples of alkaline infrared absorbers, but the scope of the present invention is not limited to these synthesis examples and examples.

【0157】[0157]

【0158】本発明に有用な赤外線吸収骨格の合成は、
下記スキームに示す如く活性メチレンを有する化合物と
メチレン鎖供与体とを塩基の存在下で縮合させることに
より行うことができる。この合成方法は、色素の一般的
な合成法、例えば、「染料と薬品」(1991年)第2
74〜289頁に記載されたオキソノール色素の合成法
に準じて行うことができる。
The synthesis of the infrared absorbing skeleton useful in the present invention is as follows:
As shown in the following scheme, the reaction can be carried out by condensing a compound having active methylene with a methylene chain donor in the presence of a base. This synthesis method is a general synthesis method of a dye, for example, “Dyes and Chemicals” (1991)
It can be carried out according to the method for synthesizing oxonol dyes described on pages 74 to 289.

【0159】[0159]

【化37】 Embedded image

【0160】メチレン鎖供与体の例としては、以下の構
造が挙げられる。
Examples of the methylene chain donor include the following structures.

【0161】[0161]

【化38】 Embedded image

【0162】(合成例1:化合物A−1の合成)Q−1
(0.1mol)、Q−2(0.05mol)と、メタ
ノール(500ml)とをビーカーに入れ、トリエチル
アミン(0.2mol)を10分間かけて滴下し、室温
で2時間攪拌すると濃青色の懸濁液となった。この液に
テトラブチルアンモニウムブロミド(0.2mol)を
加え、さらに30分間攪拌すると濃青色の固体が析出し
た。析出した固体をろ取し、水で洗浄し、A−1を収率
55%で得た。A−1の構造は、質量分析、1H−NM
R、赤外線吸収スペクトルで確認した、以下に化合物A
−1の合成スキームを示す。
(Synthesis Example 1: Synthesis of Compound A-1) Q-1
(0.1 mol), Q-2 (0.05 mol), and methanol (500 ml) were placed in a beaker, and triethylamine (0.2 mol) was added dropwise over 10 minutes. It became a suspension. Tetrabutylammonium bromide (0.2 mol) was added to the solution, and the mixture was stirred for 30 minutes to precipitate a dark blue solid. The precipitated solid was collected by filtration and washed with water to obtain A-1 in a yield of 55%. The structure of A-1 is represented by mass spectrometry, 1H-NM
R, which was confirmed by infrared absorption spectrum.
1 shows a synthesis scheme.

【0163】[0163]

【化39】 Embedded image

【0164】(合成例2:IR−23の合成)A−1
(0.05mol)とA−2(0.05mol)をメタ
ノール100ml中で混合した。固体をろ取し、よくメ
タノールで洗浄した。この固体と、A−2を再度メタノ
ール中で混合し、IR−23を収率60%で得た。以下
に化合物IR−23の合成スキームを示す。
(Synthesis Example 2: Synthesis of IR-23) A-1
(0.05 mol) and A-2 (0.05 mol) were mixed in 100 ml of methanol. The solid was collected by filtration and washed well with methanol. This solid and A-2 were mixed again in methanol to obtain IR-23 at a yield of 60%. The synthesis scheme of compound IR-23 is shown below.

【0165】[0165]

【化40】 Embedded image

【0166】塩交換することによって、前記の合成経路
で、同様にIR−22,IR−24も合成できた。
By the salt exchange, IR-22 and IR-24 were similarly synthesized by the above-mentioned synthetic route.

【0167】(合成例3:化合物A−3の合成)Q−1
(0.1mol)、Q−3(0.05mol)とメタノ
ール(500ml)をビーカーに入れ、トリエチルアミ
ン(0.2mo1)を加えた。室温で10時間攪拌した
後、テトラブチルアンモニウムブロミド(0.2mo
1)を加えた。析出した固体をろ取し、カラムクロマト
グラフィーで分離することによって、A−3を得た(収
率15%)。以下に化合物A−3の合成スキームを示
す。
(Synthesis Example 3: Synthesis of Compound A-3) Q-1
(0.1 mol), Q-3 (0.05 mol) and methanol (500 ml) were placed in a beaker, and triethylamine (0.2 mol) was added. After stirring at room temperature for 10 hours, tetrabutylammonium bromide (0.2 mol
1) was added. The precipitated solid was collected by filtration and separated by column chromatography to obtain A-3 (yield: 15%). The synthesis scheme of Compound A-3 is shown below.

【0168】[0168]

【化41】 Embedded image

【0169】この化合物A−3を塩交換することによっ
てIR−9,IR−12,IR−33を得た。
The compound A-3 was subjected to salt exchange to obtain IR-9, IR-12 and IR-33.

【0170】−ポジ型画像形成材料としての評価− (実施例1〜8) 〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニウム板(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m 2 であった。次にこの板を7
%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2 で3g/
2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を90℃で1分乾
燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg/m2 であっ
た。
-Evaluation as Positive Image Forming Material- (Examples 1 to 8) [Preparation of Substrate] 0.3 mm thick aluminum plate (material
1050) was degreased by washing with trichloroethylene.
After, nylon brush and 400 mesh pumice-water suspension
The surface was grained using a liquid and washed well with water. This
Plate for 9 seconds in a 25% aqueous solution of sodium hydroxide at 45 ° C
Etching by immersion, washing with water, and then 20% nitric acid
For 20 seconds and washed with water. At this time,
Etching amount is about 3g / m TwoMet. Next, this plate
% Sulfuric acid as electrolyte and current density 15A / dmTwo3g /
mTwoAfter providing a direct current anodic oxide coating of
Furthermore, the following undercoat liquid is applied, and the coating film is dried at 90 ° C. for 1 minute.
Dried. The coating amount of the dried coating film is 10 mg / mTwoSo
Was.

【0171】 <下塗り液の組成> β−アラニン 0.5g メタノール 95 g 水 5 g<Composition of Undercoat Liquid> 0.5 g of β-alanine 95 g of methanol 5 g of water

【0172】得られた基板に以下の感光液1において赤
外線吸収剤を下記表1のように変えたものを調製し、そ
れぞれを塗布量が1.8g/m2 になるよう塗布し、実
施例1〜8の平版印刷版原版を得た。
The following substrate was prepared by changing the infrared absorbing agent in the following photosensitive solution 1 as shown in Table 1 below, and each was applied so that the coating amount became 1.8 g / m 2. 1 to 8 planographic printing plate precursors were obtained.

【0173】 <感光液1の組成> ・m、p−クレゾールノボラック(m/p比:6/4、重量平 均分子量3500、未反応クレゾール0.5重量%含有) 1.0g ※アルカリ水可溶性高分子化合物 ・表1に記載の赤外線吸収剤 0.2g ※(本発明に係るイオン性色素) ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1一ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ 化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 3 g ・メチルエチルケトン 8 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7 g<Composition of Photosensitive Solution 1> m, p-cresol novolak (m / p ratio: 6/4, weight average molecular weight 3,500, unreacted cresol 0.5% by weight) 1.0 g * soluble in alkaline water High molecular compound ・ Infrared absorber described in Table 1 0.2 g * (Ionic dye according to the present invention) ・ Dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH is changed to 11-naphthalene sulfonic acid anion 0.02 g ・ Fluorine-based interface Activator (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g • γ-butyrolactone 3 g • Methyl ethyl ketone 8 g • 1-methoxy-2-propanol 7 g

【0174】(実施例9〜16)〔アルカリ水溶液可溶
性高分子化合物としての共重合体の合成〕 <合成例(共重合体1)>攪拌機、冷却管及び滴下ロー
トを備えた500m1三ツロフラスコにメタクリル酸3
1.0g(0.36モル)、クロロギ酸エチル39.1
g(0.36モル)及びアセトニトリル200mlを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン36.4g(0.36モル)を約
1時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、
氷水浴をとり去り、室温下で30分間混合物を攪拌し
た。
(Examples 9 to 16) [Synthesis of Copolymer as Alkaline Aqueous Solution-Soluble Polymer Compound] <Synthesis Example (Copolymer 1)> Methacryl was placed in a 500-ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser, and a dropping funnel. Acid 3
1.0 g (0.36 mol), ethyl chloroformate 39.1
g (0.36 mol) and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling in an ice-water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After dropping,
The ice water bath was removed and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.

【0175】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。
To the reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was then washed with 500 m of water.
Then, the slurry was filtered and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).

【0176】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た100ml三ツロフラスコに、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.0
210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.0
180モル)、アクリロニトリル1.11g(0,02
1モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04
g、メタクリル酸エチル2.05g、アクリロニトリル
1.11g,N,N−ジメチルアセトアミド20g及び
「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間
得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40
gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リッ
トルここの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪
拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥すること
により15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーによりこの共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。
Next, 5.04 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
210 mol), and 2.05 g (0.05 g) of ethyl methacrylate.
180 mol), 1.11 g of acrylonitrile (0.02
1 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. This mixture was mixed with “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
0.15 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 5.04
g, 2.05 g of ethyl methacrylate, 1.11 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide and 0.15 g of "V-65" were added dropwise over 2 hours using a dropping funnel. After the addition was completed, the obtained mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, methanol 40
g was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. After stirring the mixture for 30 minutes, the precipitate was taken out by filtration and dried to obtain 15 g of a white solid. I got The weight average molecular weight of this copolymer 1 (polystyrene standard) was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000.
It was 0.

【0177】実施例1〜6で用いた基板と同様のもの
に、以下の感光液2において赤外線吸収剤を下記表2の
ように変えたものを調製し、それぞれを塗布量が1.8
g/m 2 になるよう塗布し、実施例9〜16の平版印刷
版原版を得た。 <感光液2の組成> <感光液1の組成> ・上記共重合体 11.0g ※アルカリ水可溶性高分子化合物 ・表2の赤外線吸収剤 0.1g ※(本発明に係るイオン性色素) ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1一ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.02g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ 化学工業(株)製) 0.05g ・γ−ブチロラクトン 8 g ・メチルエチルケトン 8 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 4 g
Same as the substrate used in Examples 1 to 6
Next, in the following photosensitive solution 2, an infrared absorber was used as shown in Table 2 below.
Were prepared as described above, and the coating amount of each was 1.8.
g / m TwoAnd lithographic printing of Examples 9-16
The original plate was obtained. <Composition of Photosensitive Liquid 2> <Composition of Photosensitive Liquid 1> ・ 11.0 g of the above copolymer ※ Alkaline water soluble polymer compound ・ Infrared absorbent 0.1 g of Table 2 ※ (ionic dye according to the present invention) p-Toluenesulfonic acid 0.002 g ・ Dye in which the counter anion of Victoria Pure Blue BOH is converted to an 11-naphthalenesulfonic acid anion 0.02 g ・ Fluorinated surfactant (MegaFac F-177, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g ・ γ-butyrolactone 8 g ・ Methyl ethyl ketone 8 g ・ 1-methoxy-2-propanol 4 g

【0178】(比較例1〜3)実施例1において、感光
液1に配合されたイオン性色素を下記構造で示す赤外線
吸収剤B−1、B−2、A−2に代えた以外は、実施例
1とまったく同様にして比較例1〜3の平版印刷版原版
を得た。
(Comparative Examples 1 to 3) In Example 1, except that the ionic dye compounded in the photosensitive solution 1 was replaced with infrared absorbents B-1, B-2 and A-2 represented by the following structure, The lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 3 were obtained in exactly the same manner as in Example 1.

【0179】[0179]

【化42】 Embedded image

【0180】(比較例4)実施例1において、感光液1
に配合されたイオン性色素を赤外線吸収剤A−1を0.
05gと、A−2を0.05gに代えた以外は、実施例
1とまったく同様にして比較例4の平版印刷版原版を得
た。
(Comparative Example 4) In Example 1, the photosensitive liquid 1
The ionic dye blended with the infrared absorbent A-1 was added at 0.1.
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 4 was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except that 05 g and A-2 were replaced with 0.05 g.

【0181】(比較例5〜7)実施例7において、感光
液2に配合されたイオン性色素を前記構造で示した赤外
線吸収剤B−1、B−2、A−2に代えた以外は、実施
例7とまったく同様にして比較例5〜7の平版印刷版原
版を得た。
Comparative Examples 5 to 7 In Example 7, except that the ionic dye compounded in the photosensitive solution 2 was replaced with the infrared absorbents B-1, B-2 and A-2 shown in the above structure. The lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 5 to 7 were obtained in exactly the same manner as in Example 7.

【0182】(比較例8)実施例7において、感光液2
に配合されたイオン性色素を赤外線吸収剤A−1を0.
05gと、A−2を0.05gに代えた以外は、実施例
7とまったく同様にして比較例4の平版印刷版原版を得
た。
(Comparative Example 8) In Example 7, the photosensitive solution 2
The ionic dye blended with the infrared absorbent A-1 was added at 0.1.
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 4 was obtained in exactly the same manner as in Example 7, except that 05 g and A-2 were changed to 0.05 g.

【0183】〔平版印刷版原版の性能評価〕前記のよう
にして作製した実施例1〜12、および比較例1〜8の
各平版印刷版原版について、下記の基準により性能評価
を行った。評価結果を表1及び表2に示す。
[Evaluation of Performance of Lithographic Printing Plate Precursor] Performance of the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 8 produced as described above was evaluated according to the following criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【0184】(画像形成性:感度及び現像ラチチュード
の評価)得られた平版印刷版原版を、波長840nm半
導体レーザ及び波長1064nmのYAGレーザを用い
て露光した後、富士写真フイルム(株)製現像液DP−
4、リンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機
(富士写真フイルム(株)製:・「PSプロセッサー9
00VR」)を用いて現像した。その際、DP−4は
1:6で希釈したもの及び1:12で希釈したものの二
水準を使用し、それぞれの現像液にて得られた非画像部
の線幅を測定し、その線幅に相当するレーザの照射エネ
ルギーを求めて、これを感度とした。そして、標準であ
る1:6で希釈したものと、1:12で希釈したものと
の差を記録した。その差が小さいほど現像ラチチュード
が良好であり、20mJ/cm2 以下であれば、実用可
能なレベルである。
(Evaluation of Image Formability: Sensitivity and Development Latitude) The obtained lithographic printing plate precursor was exposed using a semiconductor laser having a wavelength of 840 nm and a YAG laser having a wavelength of 1064 nm, and then developed by Fuji Photo Film Co., Ltd. DP-
4. An automatic processor equipped with a rinse liquid FR-3 (1: 7) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.): "PS Processor 9
00VR "). At this time, DP-4 was used at two levels, one diluted 1: 6 and one diluted 1:12, and the line width of the non-image portion obtained with each developer was measured. The irradiation energy of the laser corresponding to was obtained, and this was used as the sensitivity. The difference between the standard 1: 6 dilution and 1:12 dilution was recorded. The smaller the difference is, the better the development latitude is, and if it is 20 mJ / cm 2 or less, it is at a practical level.

【0185】(保存安定性の評価)得られた平版印刷版
原版を、レーザ露光する前に温度45℃湿度75%の高
温多湿条件下で3日間保存し、その後前記と同様にレー
ザ露光および現像を行い、同様に感度を測定して前記の
結果と比較した。感度の変動は、20mJ/cm2以下
であれば保存安定性は良好であり、実用可能なレベルで
ある。
(Evaluation of Storage Stability) The obtained lithographic printing plate precursor was stored under high-temperature and high-humidity conditions at a temperature of 45 ° C. and a humidity of 75% for 3 days before laser exposure. And the sensitivity was measured in the same manner and compared with the above results. If the variation in sensitivity is 20 mJ / cm 2 or less, the storage stability is good and is at a practical level.

【0186】[0186]

【表1】 [Table 1]

【0187】[0187]

【表2】 [Table 2]

【0188】表1及び表2の結果より、実施例1〜16
の平版印刷版原版はいずれも、比較例1〜8の平版印刷
版原版と比較して赤外線レーザに対する感度が高いこと
がわかった。また、2つの希釈濃度の現像液に対する感
度の差が格段に小さく、実用上必要とされる20mJ/
cm2 以下の性能を達成しており、現像ラチチュードに
優れていることが確認された。さらに、保存安定性の評
価結果から、本発明の平版印刷版原版はすべて、保存の
前後における感度の変動が実用上必要とされる20mJ
/cm2 以下の性能を達成していることがわかった。
From the results shown in Tables 1 and 2, Examples 1 to 16 were obtained.
It was found that all of the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 8 had higher sensitivity to the infrared laser than the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 to 8. In addition, the difference in sensitivity between the two dilution concentrations of the developer is extremely small, and 20 mJ /
has achieved cm 2 or less performance, it was confirmed to have excellent development latitude. Furthermore, from the results of the evaluation of storage stability, all of the lithographic printing plate precursors of the present invention require a fluctuation of sensitivity before and after storage of 20 mJ, which is practically required.
/ Cm 2 or less.

【0189】 −ネガ型画像形成材料としての評価− (実施例17〜24) [平版印刷版の作製] 溶液〔A〕 ・熱酸発生剤X−1(下記構造式) 0.15g ・表3の赤外線吸収剤 0.10g ※(本発明に係るイオン性色素) ・フェノールとホルムアルデヒドから得られるノボラック 樹脂(重量平均分子量10000) 1.5g ・架橋剤MM−1(下記構造式) 0.50g ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、大日本インキ 化学工業(株)製) 0.03g ・メチルエチルケトン 15 g ・1−メトキシ−2−プロパノール 10 g ・フッ素系界面活性剤0.03g(メガファックF−177、大日本インキ化学 ・メチルアルコール 5 g-Evaluation as negative image forming material- (Examples 17 to 24) [Preparation of lithographic printing plate] Solution [A]-Thermal acid generator X-1 (the following structural formula) 0.15 g-Table 3 0.10 g * (ionic dye according to the present invention) ・ Novolak resin obtained from phenol and formaldehyde (weight average molecular weight 10,000) 1.5 g ・ Crosslinking agent MM-1 (the following structural formula) 0.50 g ・Fluorosurfactant (MegaFac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.03 g ・ Methylethylketone 15 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 10 g ・ Fluorosurfactant 0.03 g (Mega FAK F-177, Dainippon Ink & Chemicals, Methyl alcohol 5 g

【0190】[0190]

【化43】 Embedded image

【0191】上記組成の溶液〔A〕において、本発明に
係るイオン性色素の種類を表3に示すものに変えて、8
種類の溶液を調製した。この溶液をそれぞれ、上記支持
体に塗布し、100℃で1分間乾燥してネガ型平版印刷
用版材を得た、乾燥後の被覆重量は1.3g/m2 であ
った。
In the solution [A] having the above composition, the type of the ionic dye of the present invention was changed to that shown in Table 3, and
Different solutions were prepared. Each of the solutions was applied to the above support, and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a negative type lithographic printing plate. The coating weight after drying was 1.3 g / m 2 .

【0192】得られたネガ型平版印刷用版材(実施例1
7〜24)を、波長830nmの赤外線を発する半導体
レーザ及び波長1064nmの赤外線を発するYAGレ
ーザで露光した。露光後、140℃のオーブンで1分間
加熱処理した後、富士写真フイルム(株)製現像液、D
P−4(1:8)、リンス液FR−3(1:7)を仕込
んだ自動現像機を通して処理した。いずれも良好なネガ
画像が得られた。さらに、ネガ型平版印刷用版材を、温
度45℃湿度75%の高温多湿条件下で3日間保存した
後、上記同様にレーザで露光し、加熱処理後、現像し
た。かかる耐久試験後においても、いずれも良好なネガ
画像が得られた。
The obtained negative type lithographic printing plate material (Example 1)
7 to 24) were exposed with a semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 830 nm and a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm. After exposure, a heat treatment was performed for 1 minute in an oven at 140 ° C., and a developing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Processing was carried out through an automatic processor equipped with P-4 (1: 8) and a rinsing liquid FR-3 (1: 7). In each case, good negative images were obtained. Further, the negative type lithographic printing plate material was stored for 3 days under a high-temperature and high-humidity condition of a temperature of 45 ° C. and a humidity of 75%, exposed to laser in the same manner as described above, heated, and developed. Even after such a durability test, good negative images were obtained.

【0193】(比較例9〜11)実施例17〜24にて
使用した溶液〔A〕において、本発明に係るイオン性色
素を、前記構造で示す赤外線吸収剤B−1、B−2、A
−2に代えた以外は、実施例17とまったく同様にして
比較例9〜11の平版印刷版原版を得た。
(Comparative Examples 9 to 11) In the solution [A] used in Examples 17 to 24, the ionic dye according to the present invention was replaced with the infrared absorbents B-1, B-2, A
Except for using -2, lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 9 to 11 were obtained in exactly the same manner as in Example 17.

【0194】(比較例12)実施例17〜24にて使用
した溶液〔A〕において、本発明に係るイオン性色素
を、赤外線吸収剤A−1を0.05gと、A−2を0.
05gに代えた以外は、実施例17とまったく同様にし
て比較例2の平版印刷版原版を得た。
(Comparative Example 12) In the solution [A] used in Examples 17 to 24, 0.05 g of the ionic dye of the present invention, 0.05 g of the infrared absorbent A-1 and 0.
A lithographic printing plate precursor of Comparative Example 2 was obtained in exactly the same manner as in Example 17 except that the amount was changed to 05 g.

【0195】[0195]

【表3】 [Table 3]

【0196】得られた平版印刷用版材(比較例9〜1
2)を、実施例17〜24と同様に耐久試験をすること
なく半導体レーザで露光し、加熱処理後、現像した結
果、いずれも良好なネガ画像が得られた。また、実施例
17〜24と同様に温度45℃湿度75%の高温多湿条
件下で3日間保存した後、同様に半導体レーザで露光
し、評価したところ、性能の低下は見られなかった。前
記表1〜3より明らかなように、実施例1〜24と比較
例1〜12の対比により、本発明の画像形成材料を用い
た平版印刷用版材は、ネガ型、ポジ型ともに、赤外線レ
ーザに対して高感度で、現像ラチチュードが良好で、画
像形成性に優れていることがわかった。また、高温多湿
条件下での保存の前後における感度の変動が少なく、保
存安定性に優れていた。
The resulting planographic printing plate material (Comparative Examples 9-1)
2) was exposed to a semiconductor laser without performing a durability test in the same manner as in Examples 17 to 24, and after heat treatment and development, favorable negative images were obtained in all cases. After storage for 3 days under a high temperature and humidity condition of 45 ° C. and 75% humidity as in Examples 17 to 24, exposure to a semiconductor laser and evaluation were carried out. As is clear from Tables 1 to 3, according to the comparison between Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 12, the lithographic printing plate material using the image forming material of the present invention shows that the negative type and the positive type are both infrared rays. It was found that the film had high sensitivity to laser, had a good development latitude, and had excellent image forming properties. Further, there was little change in sensitivity before and after storage under high temperature and high humidity conditions, and the storage stability was excellent.

【0197】[0197]

【発明の効果】本発明よれば、高感度で、かつ現像液の
濃度に対する感度の安定性、即ち現像ラチチュード及び
保存安定性の良好な画像形成材料を提供することができ
る。また、この画像形成材料を用いた平版印刷版原版は
赤外線レーザによるダイレクト製版が可能で、高感度、
且つ、現像ラチチュード及び保存安定性が良好であると
いう優れた効果を奏する。
According to the present invention, it is possible to provide an image-forming material having high sensitivity and excellent stability in sensitivity to the concentration of a developer, that is, excellent development latitude and storage stability. In addition, a lithographic printing plate precursor using this image forming material can be directly made by infrared laser, and has high sensitivity,
In addition, there is an excellent effect that the developing latitude and the storage stability are good.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AC08 AD01 AD03 BE00 CB52 CC13 CC17 FA10 FA17 2H096 AA06 BA06 BA11 EA04 EA23 GA09 2H114 AA04 BA02 BA05  ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page F-term (reference) 2H025 AA00 AA01 AA04 AB03 AC08 AD01 AD03 BE00 CB52 CC13 CC17 FA10 FA17 2H096 AA06 BA06 BA11 EA04 EA23 GA09 2H114 AA04 BA02 BA05

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1分子中にカチオン性赤外線吸収骨格と
アニオン性赤外線吸収骨格を有するイオン性色素を含有
することを特徴とする赤外線レーザ感応性画像形成材
料。
1. An infrared laser-sensitive image-forming material comprising, in one molecule, an ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton.
【請求項2】 下記(a)及び(b)を含有することを
特徴とする赤外線レーザ感応性画像形成材料。 (a)1分子中にカチオン性赤外線吸収骨格とアニオン
性赤外線吸収骨格を有するイオン性色素、(b)水に不
溶であり、且つ、アルカリ水溶液に可溶な高分子化合
物。
2. An infrared laser-sensitive image forming material comprising: (a) and (b): (A) an ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule; and (b) a polymer compound which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution.
【請求項3】 下記(a)乃至(d)を含有することを
特徴とする赤外線レーザ感応性画像形成材料。 (a)1分子中にカチオン性赤外線吸収骨格とアニオン
性赤外線吸収骨格を有するイオン性色素、(b)水に不
溶であり、且つ、アルカリ水溶液に可溶な高分子化合
物、(c)熱により酸を発生する化合物、(d)酸を触
媒として架橋する化合物。
3. An infrared laser-sensitive image-forming material comprising (a) to (d) below. (A) an ionic dye having a cationic infrared absorbing skeleton and an anionic infrared absorbing skeleton in one molecule, (b) a polymer compound insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution, and (c) heat Compounds that generate an acid, and (d) compounds that crosslink using an acid as a catalyst.
【請求項4】 支持体上に、前記請求項1乃至3のいず
れかに記載の画像形成材料からなる画像形成層を設けた
ことを特徴とする平版印刷版原版。
4. A lithographic printing plate precursor comprising an image forming layer comprising the image forming material according to claim 1 provided on a support.
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