WO2025075201A1 - 組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法 - Google Patents

組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法 Download PDF

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元志 青山
博信 阪口
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Asahi Glass Co Ltd
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    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films

Definitions

  • k1 is a number from 1 to 600.
  • Each R3 is independently a hydrocarbon group;
  • Each k1 is independently a number of 1 or more, p1 is an integer of 1 or more, A 11 is a (p1+1)-valent linking group,
  • Each R2 is independently a hydrocarbon group;
  • L each independently represents a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group;
  • n is an integer from 0 to 2.
  • B 11 is a monovalent group containing at least one selected from the group consisting of Si, Ge, and Sn to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is not directly bonded; or a monovalent group containing a branched alkyl group, with the proviso that B 11 does not contain a reactive silyl group, u1 is an integer of 1 or more, A 15 is a (u1+1)-valent linking group, Each R2 is independently a hydrocarbon group; Each L is independently a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group; Each n is independently an integer of 0 to 2.
  • Each R3 is independently a hydrocarbon group;
  • Each k1 is independently a number of 1 or more, p1 is an integer of 1 or more, A 12 is a (p1+q1)-valent linking group, q1 is an integer of 2 or more,
  • Each R2 is independently a hydrocarbon group;
  • Each L is independently a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group;
  • Each n is independently an integer of 0 to 2.
  • Each L2 independently represents a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, a hydroxyl group, or a hydrocarbon group; Among L2 , at least four L2 are a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group; Each P is independently an oxygen atom or an organic group having one carbon atom bonded to adjacent Si atoms on both sides, Each r1 is independently an integer from 1 to 3; The definitions of B 11 , u1, A 16 and q1 are the same as those in formula (C2-3).
  • q1 is an integer of 2 to 4.
  • R 4 is independently a hydrocarbon group or T 11 -B r -(SiR 3 2 -O) k1 -;
  • T 11 is independently a monovalent group;
  • Each r is independently 0 or 1;
  • Each R3 is independently a hydrocarbon group;
  • Each k1 is independently a number of 1 or more,
  • Each A 13 independently represents a divalent linking group,
  • Each R2 is independently a hydrocarbon group;
  • Each L is independently a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group;
  • Each n is independently an integer of 0 to 2.
  • Each L2 independently represents a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, a hydroxyl group, or a hydrocarbon group; Among L2 , at least four L2 are a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group; Each P is independently an oxygen atom or an organic group having one carbon atom bonded to adjacent Si atoms on both sides, Each r1 is independently an integer from 1 to 3; The definitions of R 4 , k1, and A 13 are the same as those in formula (C3).
  • a reactive silyl group linked to a linear organo(poly)siloxane residue means a reactive silyl group that is linked to the linear organo(poly)siloxane residue directly or indirectly via another chemical structure.
  • “Me” may refer to a methyl group.
  • the explanation of the "third compound” also applies when the “third compound” is read as "a compound having a linear organo(poly)siloxane residue and one reactive silyl group linked to each of both ends of the linear organo(poly)siloxane residue” unless there is a contradiction.
  • the explanation of the "fourth compound” also applies when the “fourth compound” is read as "a compound having a linear organo(poly)siloxane residue and two or more reactive silyl groups linked to each of both ends of the linear organo(poly)siloxane residue", unless there is a contradiction.
  • the composition of the present disclosure can form a surface treatment layer having excellent light resistance when applied to a substrate as a surface treatment agent.
  • the first compound has one reactive silyl group at one end of a divalent chain group (e.g., a chain organo(poly)siloxane residue), and the second compound has two or more reactive silyl groups at one end of a divalent chain group (e.g., a chain organo(poly)siloxane residue).
  • the third compound has one reactive silyl group at each end of a divalent chain group (e.g., a chain organo(poly)siloxane residue), and the fourth compound has two or more reactive silyl groups at each end of a divalent chain group (e.g., a chain organo(poly)siloxane residue).
  • R d is a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having
  • the first compound contains two or more linear organo(poly)siloxane residues
  • the second compound contains two or more linear organo(poly)siloxane residues, there is no linear organo(poly)siloxane residue having reactive silyl groups linked to both terminal sides, and at least one linear organo(poly)siloxane residue has two or more reactive silyl groups linked to one terminal side.
  • k1 is a number of 1 or more, preferably a number from 1 to 600, more preferably a number from 1 to 500, even more preferably a number from 3 to 500, particularly preferably a number from 9 to 50, extremely preferably a number from 11 to 30, and most preferably a number from 11 to 25.
  • T 11 is each independently a monovalent group, and specific embodiments are the same as T 11 in formulas (C1), (C1-2), (C2), and (C2-2) described later.
  • Specific embodiments of B and r are the same as those of B and r in the formulae (C1), (C1-2), (C2), and (C2-2) described later.
  • the alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • the aryloxy group is preferably an aryloxy group having 3 to 10 carbon atoms. However, the aryl group of the aryloxy group includes a heteroaryl group.
  • the halogen atom is preferably a chlorine atom.
  • the acyl group is preferably an acyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the acyloxy group is preferably an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Each R r is independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • L2 is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably an ethoxy group or a methoxy group.
  • the hydrocarbon group represented by L2 include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an allyl group, etc., and from the viewpoint of ease of synthesis, etc., a saturated hydrocarbon group is preferable, and an alkyl group is more preferable.
  • the number of carbon atoms in the hydrocarbon group is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and even more preferably 1 to 2.
  • T 11 -B r -[Si(R 3 ) 2 -O] k1 -Si(R 3 ) 2 may be the same or different from each other.
  • T 11 is a monovalent group.
  • T 11 include an alkyl group, T 1 3 M 1 - (wherein M 1 is Si, Sn, or Ge, and each T 1 is independently a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group), T 1 3 M 1 -R 1 - (wherein M 1 is Si, Sn, or Ge, and each T 1 is independently a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group, and R 1 is an alkylene group), a monovalent cyclic polysiloxane residue or a monovalent cage polysiloxane residue, and a combination of a monovalent cyclic polysiloxane residue or a monovalent cage polysiloxane residue with a divalent hydrocarbon group.
  • Si is preferable.
  • T 1 in T 1 3 M 1 - and T 1 3 M 1 -R 1 - is preferably an alkyl group or a trialkylsilyloxy group, more preferably a methyl group, a butyldimethylsilyloxy group, a trimethylsilyloxy group or a triethylsilyloxy group.
  • the alkyl group may be any of a linear alkyl group, a branched alkyl group, and a cyclic alkyl group, but a linear alkyl group is preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8, and even more preferably 1 to 4.
  • the alkyl group is preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an n-butyl group, and more preferably a methyl group.
  • Examples of the hydrocarbon group contained in the hydrocarbon group having a substituent represented by R T include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group.
  • the hydrocarbon group is preferably an aliphatic hydrocarbon group, and more preferably an alkyl group.
  • the alkyl group may be any of a linear alkyl group, a branched alkyl group, and a cyclic alkyl group, but a linear alkyl group is preferred.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group contained in the substituted alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 8, and even more preferably 2 to 4.
  • the monovalent cage-shaped polysiloxane residue is preferably a group represented by the following formula (T2).
  • T2 Each R5 is independently a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group.
  • the alkyl group contained in the trialkylsilyloxy group represented by R5 may be any one of a linear alkyl group, a branched alkyl group, and a cyclic alkyl group, but is preferably a linear alkyl group, more preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an n-butyl group, and even more preferably a methyl group.
  • R5 is a trialkylsilyloxy group
  • the three alkylsilyloxy groups may be the same or different from each other, but are preferably the same from the viewpoint of ease of production.
  • p1 is an integer of 1 or more, preferably an integer from 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • Each L2 independently represents a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, a hydroxyl group, or a hydrocarbon group; Among L2 , at least four L2 are a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group; Each P is independently an oxygen atom or an organic group having one carbon atom bonded to adjacent Si atoms on both sides, r1 is an integer from 1 to 3; The definitions of T 11 , B, r, R 3 , k1, p1, and A 11 are the same as those in formula (C1).
  • T 11 , B, r, R 3 , k1, p1, and A 11 are the same as those in formula (C1).
  • specific embodiments of L 2 , P and r1 are the same as those of L 2 , P and r1 in formula (S3).
  • the first compound is preferably a compound represented by the following formula (C1-3).
  • B11 is a monovalent group containing at least one selected from the group consisting of Si, Ge, and Sn to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is not directly bonded; or a monovalent group containing a branched alkyl group.
  • the monovalent group containing at least one selected from the group consisting of Si, Ge, and Sn to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is not directly bonded may or may not contain Si, Ge, or Sn to which a hydroxyl group or a hydrolyzable group is directly bonded.
  • the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms in R 61 may be a straight chain or a branched chain.
  • the alkylene group having 1 to 6 carbon atoms is preferably an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms.
  • the chain hydrocarbon group may be a straight-chain or branched chain hydrocarbon group having 2 to 100 carbon atoms, preferably 5 to 90 carbon atoms, and more preferably 10 to 80 carbon atoms.
  • the chain hydrocarbon group is preferably an alkylene group, and from the viewpoint of forming a surface treatment layer having excellent acid resistance, hot water resistance, abrasion resistance, etc., the chain hydrocarbon group is preferably an alkylene group having 13 or more carbon atoms.
  • M 31 is Sn or Ge.
  • M 31 is preferably Ge because Ge has a larger atomic size than Sn, can reduce the surface free energy more, and can form a surface treatment layer with excellent fingerprint removability.
  • R 31 is a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group.
  • the hydrocarbon group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, and an allyl group, and from the viewpoint of ease of synthesis, a saturated hydrocarbon group is preferable, and an alkyl group is more preferable.
  • the number of carbon atoms in R 31 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and among these, -CH 3 or -CH 2 CH 3 is preferable.
  • the trialkylsilyloxy group is preferably a group represented by -O-SiR 40 3. Each R 40 is independently a hydrocarbon group.
  • the hydrocarbon group in R 40 is preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in R 40 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 2.
  • Specific examples of the hydrocarbon group in R 40 include -CH 3 , -CH 2 CH 3 , and -C(CH 3 ) 3 .
  • linear organo(poly)siloxane residue examples include the examples described above as the linear organo(poly)siloxane residues in the first compound and the second compound.
  • B 11 may be a monovalent group containing a branched alkyl group.
  • the branched alkyl group is preferably unsubstituted.
  • the branched alkyl group is preferably a tert-butyl group or contains a tert-butyl group.
  • the branched alkyl group may contain one branch or may contain multiple branches.
  • the number of branches in the branched alkyl group may be 1 to 30, 1 to 20, 1 to 10, or 1 to 5.
  • Examples of the monovalent group containing a branched alkyl group include groups in which a chain group is linked to the carbon atom that is the branch point of the branched alkyl group.
  • linear organo(poly)siloxane residue examples include the examples described above as the linear organo(poly)siloxane residues in the first compound and the second compound.
  • Each L2 independently represents a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, a hydroxyl group, or a hydrocarbon group; Among L2 , at least four L2 are a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group; Each P is independently an oxygen atom or an organic group having one carbon atom bonded to adjacent Si atoms on both sides, r1 is an integer from 1 to 3; The definitions of B 11 , u1, and A 15 are the same as those in formula (C1-3).
  • the second compound is preferably a compound represented by the following formula (C2).
  • q1 is preferably 2 to 18, more preferably 2 to 12, even more preferably 2 to 8, particularly preferably 2 to 6, extremely preferably 2 to 4, and most preferably 2 or 3.
  • the second compound is preferably a compound represented by the following formula (C2-3).
  • R 2 , L, and n are the same as R 2 , L, and n in formula (S1).
  • q1 is the same as q1 in formula (C2).
  • B 11 and u1 are the same as B 11 and u1 in formula (C1-3).
  • a 16 is a (q1+u1)-valent linking group. Specific examples of A 16 include the same as those of A 12 in formula (C2).
  • compound (C2-3) include the following compounds.
  • sa is preferably 1 to 30, more preferably 4 to 20, and even more preferably 5 to 15.
  • the molecular weights of the first compound and the second compound may be relatively close.
  • the Mn of both the first compound and the second compound is preferably 500 to 20,000, more preferably 600 to 18,000, and even more preferably 700 to 15,000.
  • the Mn of both the first compound and the second compound may be 800 to 5,500, 900 to 4,000, or 1,000 to 2,500.
  • the molecular weight of the first compound may be smaller than the molecular weight of the second compound.
  • the Mn of the first compound and the second compound are preferably 500 to 20,000 and 1,000 to 40,000, more preferably 600 to 18,000 and 1,200 to 36,000, and even more preferably 700 to 15,000 and 1,400 to 30,000.
  • the Mn of the first compound and the second compound may be 800 to 5,500 and 1,600 to 11,000, 900 to 4,000 and 1,800 to 8,000, or 1,000 to 2,500 and 2,000 to 5,000, respectively.
  • the third compound is preferably a compound represented by the following formula (C3).
  • R4 is preferably a methyl group. It is preferable that k1 is a number from 1 to 100.
  • a 13 is preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms.
  • Each L2 independently represents a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, a hydroxyl group, or a hydrocarbon group; Among L2 , at least four L2 are a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group; Each P is independently an oxygen atom or an organic group having one carbon atom bonded to adjacent Si atoms on both sides, Each r1 is independently an integer from 1 to 3; The definitions of R 4 , k1, and A 13 are the same as those in formula (C3).
  • the fourth compound is preferably a compound represented by the following formula (C4).
  • R4 and k1 are the same as R4 and k1 in formula (B2).
  • R 2 , L, and n are the same as R 2 , L, and n in formula (S1).
  • a 14 examples include A in the group represented by A(Si(R 2 ) n L 3-n ) q described below, where q is an integer of 2 or more.
  • a 14 includes a group obtained by removing Si(R 2 ) n L 3-n from formula (3-1A) (wherein h is an integer of 2 or more), a group obtained by removing Si(R 2 ) n L 3-n from formula (3-1B) (wherein y is an integer of 2 or more), a group obtained by removing Si(R 2 ) n L 3-n from group (3-1A-2), a group obtained by removing Si(R 2 ) n L 3-n from group (3-1A-3), a group obtained by removing Si(R 2 ) n L 3-n from group (3-1A- 4 ) (wherein w1 is 0 or 1), a group obtained by removing Si(R 2 ) n L 3-n from group (3-1A-5), a group obtained by removing Si(R 2 ) n L 3-n from
  • each q1 is independently preferably 2 to 18, more preferably 2 to 12, even more preferably 2 to 8, particularly preferably 2 to 6, extremely preferably 2 to 4, and most preferably 2 or 3.
  • the fourth compound is preferably a compound represented by the following formula (C4-2).
  • the molecular weights of the third compound and the fourth compound may be relatively close to each other.
  • the Mn of both the third compound and the fourth compound is preferably 500 to 20,000, more preferably 600 to 18,000, and even more preferably 700 to 15,000.
  • the Mn of both the third compound and the fourth compound may be 800 to 5,500, 900 to 4,000, or 1,000 to 2,500.
  • the molecular weight of the third compound may be greater than the molecular weight of the fourth compound.
  • the Mn of the fourth compound and the third compound are preferably 500 to 20,000 and 1,000 to 40,000, more preferably 600 to 18,000 and 1,200 to 36,000, and even more preferably 700 to 15,000 and 1,400 to 30,000.
  • composition of the present disclosure may contain impurities such as by-products produced during the manufacturing process of the third compound and/or the fourth compound.
  • the total content of the third compound and the fourth compound is preferably 0.001 to 50 mass%, more preferably 0.01 to 20 mass%, and even more preferably 0.1 to 10 mass%, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the total content of the third compound and the fourth compound may be 0.01 to 10 mass%, 0.02 to 5 mass%, 0.03 to 3 mass%, or 0.05 to 2 mass%, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the ratio of the third compound to the total content of the third compound and the fourth compound is preferably 3 to 50 mass%, and more preferably 10 to 40 mass%.
  • the ratio of the fourth compound to the total content of the third compound and the fourth compound is preferably 50 to 97 mass%, and more preferably 60 to 90 mass%.
  • a 11 (Si(R 2 ) n L 3-n ) in formula (C1), A 15 (Si(R 2 ) n L 3-n ) in formula (C1-3), A 12 (Si(R 2 ) n L 3-n ) q1 in formula (C2), A 16 (Si(R 2 ) n L 3-n ) q1 in formula (C2-3), A 13 (Si(R 2 ) n L 3-n ) in formula (C3 ), and A 14 (Si(R 2 ) n L 3-n ) q1 in formula (C4) are described in detail below.
  • groups combining two or more of these groups include -OC(O)-, -C(O)O-, -C(O)S-, -C(O)N(R d )-, -N(R d )C(O)-, -N(R d )C(O)N(R d )-, -N(R d )C( O )O-, -OC(O)N(R d )-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, an alkylene group having -C(O)N(R d )-, an alkylene group having -N(R d )C(O)-, -OC(O)N(R d )-, an alkylene group having an etheric oxygen atom, an alkylene group having -S-, an alkylene group having -OC(O)-, an alkylene group having -C(O
  • X 31 is a single bond, an alkylene group, a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a divalent to octavalent organo(poly)siloxane residue, or a group having a (h+i+1)-valent ring.
  • the alkylene group may have -O-, a silphenylene skeleton group, a divalent organo(poly)siloxane residue, or a dialkylsilylene group.
  • the alkylene group may have a plurality of groups selected from the group consisting of -O-, a silphenylene skeleton group, a divalent organo(poly)siloxane residue, and a dialkylsilylene group.
  • the alkylene group represented by X 31 preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably has 1 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the divalent to octavalent organo(poly)siloxane residue include a divalent organo(poly)siloxane residue and a (w2+1)-valent organo(poly)siloxane residue described below.
  • bridged ring a bridged ring having a 5- or 6-membered ring as the maximum ring is preferred, and as the spiro ring, a spiro ring consisting of two 4- to 6-membered rings is preferred.
  • assembled polycyclic ring an assembled polycyclic ring in which two or three rings selected from a 5-membered ring and a 6-membered ring are bonded via a single bond, 1 to 3 carbon atoms, or one heteroatom having a valence of 2 or 3 is preferred.
  • Preferred rings are a benzene ring, a 5- or 6-membered aliphatic ring, a 5- or 6-membered heterocycle having a nitrogen atom or an oxygen atom, and a condensed ring of a 5- or 6-membered carbocycle and a 4- to 6-membered heterocycle.
  • the bond of an atom constituting a ring in X 31 that is not constituting a ring is a bond bonded to Q a , (-Q b -Si(R 2 ) n L 3-n ) or R 31.
  • the remaining bond is bonded to a hydrogen atom or a substituent.
  • the substituent include a halogen atom, an alkyl group (which may contain an etheric oxygen atom between the carbon-carbon atom), a cycloalkyl group, an alkenyl group, an allyl group, an alkoxy group, an oxo group ( ⁇ O), and the like.
  • Q a and (-Q b -Si(R 2 ) n L 3-n ) may be bonded to that one carbon atom, or two (-Q b -Si(R 2 ) n L 3-n ) may be bonded to that one carbon atom. It is preferable that Q a is bonded to a ring-constituting atom other than (-Q b -Si(R 2 ) n L 3-n ) or R 31 .
  • the h (-Q b -Si(R 2 ) n L 3-n ) may each be bonded to a different ring-constituting atom, two of which may be bonded to one ring-constituting carbon atom, and there may be two or more ring-constituting carbon atoms to which two (-Q b -Si(R 2 ) n L 3-n ) are bonded.
  • the i R 31 may each be bonded to a different ring-constituting atom, two of which may be bonded to one ring-constituting carbon atom, and there may be two or more ring-constituting carbon atoms to which two R 31 are bonded.
  • X 31 is preferably a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a 4-8 valent organo(poly)siloxane residue, or a group having a (h+i+1) valent ring, and more preferably a carbon atom.
  • Q b is preferably an alkylene group which may have an etheric oxygen atom.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and even more preferably 2 to 20, and may be 2 to 10, 2 to 6, or 2 to 5. Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. The number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • X 31 is a group having a (h+i+1)-valent ring
  • h is an integer of 1 to 7
  • i is an integer of 0 to 6
  • the two or more (-Q b -Si(R) n L 3-n ) may be the same or different.
  • the two or more (-R 31 ) may be the same or different.
  • i 0.
  • Q c is a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group is the same as that explained above in relation to Qa .
  • R 32 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom in terms of ease of production of the compound.
  • the alkyl group is preferably a methyl group.
  • R 33 is a hydrogen atom or a halogen atom, and is preferably a hydrogen atom in terms of ease of production of the compound.
  • groups (3-1A-1) to (3-1A-7) are preferred.
  • group (3-1A) is preferably group (3-1A-4).
  • X 32 is —O—, —S—, —N(R d )—, —C(O)—, —C(O)O—, —C(O)S—, —SO 2 N(R d )—, —N(R d )SO 2 —, —N(R d )C(O)—, —N ( R d )C(O)N(R d )—, —OC(O)N(R d )—, or —C(O)N(R d )—; or a combination of these with a divalent linking group (wherein N in the formula is bonded to Q b1 ).
  • the definition of Rd is as described above. s1 is 0 or 1.
  • Q b1 is a single bond or an alkylene group.
  • the alkylene group may have -O-, a silphenylene skeleton group, or a dialkylsilylene group.
  • the alkylene group may have a plurality of groups selected from the group consisting of -O-, a silphenylene skeleton group, a divalent organo(poly)siloxane residue, and a dialkylsilylene group.
  • the alkylene group has --O--, a silphenylene skeleton group, a divalent organo(poly)siloxane residue or a dialkylsilylene group, it is preferable that such a group be present between carbon atoms.
  • the alkylene group represented by Q b1 has preferably 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20, further preferably 2 to 20, and particularly preferably 2 to 6. The number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • X 33 is —O—, —S—, —N(R d )—, —C(O)—, —C(O)O—, —C(O)S—, —SO 2 N(R d )—, —N(R d )SO 2 —, —N(R d )C(O)—, —N(R d )C(O)N(R d )—, —OC(O)N(R d )—, or —C(O)N(R d )—; or a combination of these with a divalent linking group.
  • Rd is as described above.
  • s2 is 0 or 1.
  • s2 is preferably 0 from the viewpoint of ease of production of the compound.
  • divalent linking group is bonded to Si(R 3 ) 2 or Si(R 4 ) 2 of formulas (C1) to (C4), or to B 11 of formula (C1-3) or (C2-3).
  • Divalent linking groups include alkylene groups, organo(poly)siloxane residues, polyalkylene oxide groups, and combinations thereof.
  • Q a2 is a single bond, an alkylene group, -C(O)-, or an alkylene group having 2 or more carbon atoms having an etheric oxygen atom between carbon atoms, -C(O)-, -C(O)O-, -OC(O)-, -C(O)N(R d )-, -N( R d )C(O)-, -N(R d )C(O)N(R d )-, -N(R d )C(O)O-, -OC(O)N(R d )-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -C(O)N(R d )-, or -NH-.
  • the alkylene group represented by Q a2 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, further preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • Q a2 is preferably a single bond from the viewpoint of ease of production of the compound.
  • the alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b2 preferably has 2 to 10 carbon atoms, and more preferably has 2 to 6 carbon atoms, in the divalent organo(poly)siloxane residue, the etheric oxygen atom, or the group having -NH- between carbon atoms.
  • Q a3 is a single bond or an alkylene group which may have an etheric oxygen atom. From the viewpoint of ease of production of the compound, Q a3 is preferably a single bond.
  • the alkylene group which may have an etheric oxygen atom preferably has 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably has 2 to 6 carbon atoms.
  • Rg is a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group. From the viewpoint of ease of production of the compound, Rg is preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and further preferably is a methyl group.
  • the number of carbon atoms in the group having an ether oxygen atom or a divalent organo(poly)siloxane residue between carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms, represented by Q b3 , is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10, and still more preferably 2 to 6.
  • Q b3 is preferably -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -, or -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - from the viewpoint of ease of production of the compound.
  • Q e is —C(O)O—, —SO 2 N(R d )—, —N(R d )SO 2 —, —N(R d )C(O)—, or —C(O)N(R d )—; or a combination of these with a divalent linking group.
  • R 31 is preferably a hydrogen atom.
  • s4 is 0 or 1.
  • Q a4 is a single bond or an alkylene group which may have an etheric oxygen atom.
  • the alkylene group which may have an etheric oxygen atom preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, further preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • t4 is 0 or 1 (provided that when Q a4 is a single bond, t4 is 0).
  • Q a5 is an alkylene group which may have an etheric oxygen atom.
  • the alkylene group which may have an etheric oxygen atom preferably has 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably has 2 to 6 carbon atoms.
  • Q a5 from the viewpoint of ease of production of the compound, -OCH 2 CH 2 CH 2 -, -OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 - and -CH 2 CH 2 CH 2 - are preferred (wherein the right side is bonded to Si).
  • Q b5 is an alkylene group or a group having an ether oxygen atom or a divalent organo(poly)siloxane residue between carbon atoms in an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by Q b5 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and still more preferably 2 to 20, and may be 2 to 10 or may be 2 to 6. Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. The number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • the number of carbon atoms in the group having an ether oxygen atom or a divalent organo(poly)siloxane residue between carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms, represented by Q b5 is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10, and still more preferably 2 to 6.
  • Q b5 from the viewpoint of ease of production of the compound, --CH 2 CH 2 CH 2 -- and --CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -- are preferred (wherein the right side is bonded to Si(R 2 ) n L 3-n ).
  • the three [-Q b5 -Si(R 2 ) n L 3-n ] may be the same or different.
  • Q b6 is an alkylene group or a group having an ether oxygen atom or a divalent organo(poly)siloxane residue between carbon atoms in an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by Q b6 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and still more preferably 2 to 20, and may be 2 to 10 or may be 2 to 6. Examples include 2, 3, 8, 9, and 11. The number of carbon atoms may be 1 to 10.
  • Zc is a (w3+w4+1)-valent hydrocarbon group.
  • w3 is an integer of 4 or greater.
  • w4 is an integer of 0 or greater.
  • the definitions and preferred ranges of Q e , s4, Q a4 , t4, Q b4 and u4 are the same as those of each symbol in the group (3-1A-4).
  • A1 is bonded to Si(R 3 ) 2 , Si(R 4 ) 2 or B 11 , and Q 22 , Q 23 , Q 24 , Q 25 or Q 26 is bonded to [—Si(R 2 ) n L 3-n ].
  • a 1 is a single bond, —C(O)NR 6 —, —C(O)—, —OC(O)O—, —NHC(O)O—, —NHC(O)NR 6 —, —O— or SO 2 NR 6 —.
  • Q 11 is a single bond, —O—, an alkylene group, or an alkylene group having 2 or more carbon atoms which has —C(O)NR 6 —, —C(O)—, —NR 6 — or O— between carbon atoms.
  • Q12 is a single bond, an alkylene group, or a group having -C(O) NR6- , -C(O)-, -NR6- or O- between carbon-carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, and when A has 2 or more Q12 , the 2 or more Q12 may be the same or different.
  • Q13 is a single bond (with the proviso that A1 is -C(O)-), an alkylene group, an alkylene group having 2 or more carbon atoms having -C(O) NR6- , -C(O)-, -NR6- or O- between carbon atoms, or an alkylene group having -C(O)- at the N-terminal.
  • Q14 is Q12 when the atom in Z4 to which Q14 is bonded is a carbon atom, and is Q13 when the atom in Z4 to which Q14 is bonded is a nitrogen atom.
  • the two or more Q14s may be the same or different.
  • Q 15 is an alkylene group or a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, and when A has 2 or more Q 15 , the 2 or more Q 15 may be the same or different.
  • Q 22 is an alkylene group, a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon-carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- at the end of the alkylene group not connected to Si, or a group having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- between carbon-carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms and having -C(O)NR 6 -, -C(O)-, -NR 6 - or O- at the end of the side not connected to Si, and when A has 2 or more Q 22 , the 2 or more Q 22 may be the same or different.
  • Q 23 is an alkylene group or a group having --C(O)NR 6 --, --C(O)--, --NR 6 -- or O-- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, and two Q 23 's may be the same or different.
  • Q24 is Q22 when the atom in Z4 to which Q24 is bonded is a carbon atom, and is Q23 when the atom in Z4 to which Q24 is bonded is a nitrogen atom.
  • the two or more Q24s may be the same or different.
  • Q25 is an alkylene group or a group having -C(O) NR6- , -C(O)-, -NR6- or O- between carbon atoms in an alkylene group having 2 or more carbon atoms, and when A has 2 or more Q25s , the 2 or more Q25s may be the same or different.
  • Q 26 is an alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon atoms having --C(O)NR 6 --, --C(O)--, --NR 6 -- or O-- between carbon atoms.
  • R e2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group or an acyloxy group.
  • R e3 is an alkyl group.
  • R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.
  • h1 is an integer of 1 or more, and is preferably 1 or 2.
  • h2 is an integer of 1 or more, and is preferably 2 or 3.
  • i1+i2 is 3 or 4.
  • i1 is an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2.
  • i2 is an integer of 1 to 3, and is preferably 2 or 3.
  • i3 is 2 or 3.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group of R e1 , R e2 or R e3 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2, from the viewpoint of ease of production of the compound.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group portion of the acyloxy group for R e2 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2, from the viewpoint of ease of production of the compound.
  • h1 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, still more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1, from the viewpoints of ease of production of the compound and of further improving the abrasion resistance of the surface treatment layer.
  • 2 to 6 are preferable, 2 to 4 are more preferable, and 2 or 3 is particularly preferable.
  • L x1 and L x2 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a methylene group (-CH 2 -) contained in the divalent hydrocarbon group may be replaced by -O- or -O-Si(R x7 ) 2 -.
  • R x1 to R x7 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • Each X a1 independently represents a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a trialkoxysilyloxy group.
  • M1 is Si, Sn, or Ge;
  • T1 is independently a hydrocarbon group or a trialkylsilyloxy group;
  • r is 0 or 1;
  • Z1 's are each independently an alkylene chain or a polyalkylene oxide chain, or a combination of an alkylene chain and a divalent linear organo(poly)siloxane residue,
  • A is a single bond or a (p1+q)-valent linking group,
  • Each R2 is independently a monovalent hydrocarbon group;
  • Each L is independently a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group;
  • n is independently an integer from 0 to 2, p1 and q each independently represent an integer of 1 or more.
  • A is a (p1+q)-valent linking group containing a linear organo(poly)siloxane residue.
  • Ak1 and Ak2 each independently represent an alkylene chain.
  • R3 is the same as R3 in formula (B1).
  • k11 is a number of 1 or more.
  • k12 is 0 or 1.
  • Ak3 represents an alkylene chain.
  • R3 is the same as R3 in formula (B1).
  • k21 and k22 each independently represent a number of 1 or more.
  • Ak4 represents an alkylene chain.
  • R3 is the same as R3 in formula (B1).
  • k31 is a number of 1 or more.
  • *1 is linked to the group 1a side
  • *2 is linked to the group 1b side.
  • A may be any group that does not impair the effects of the present disclosure, and examples thereof include an alkylene group which may have an ethereal oxygen atom or a divalent linear organo(poly)siloxane residue, a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a divalent to octavalent organo(poly)siloxane residue, and groups obtained by excluding Si(R 2 ) n L 3-n from the above groups (3-1A), (3-1B), and (3-1A-1) to (3-1A-7).
  • A may contain a triptycene structure.
  • the triptycene structure refers to a partial structure in which two or more hydrogen atoms are removed from triptycene.
  • T 1 is the same as T 1 in group 1a.
  • R3 is the same as R3 in formula (B1).
  • k31 is the same as k31 in formula (D3).
  • the group represented by A(Si(R 2 ) n L 3-n ) q is the same as the group represented by A(Si(R 2 ) n L 3-n ) q in formula (1A).
  • Ak4 is the same as Ak4 in formula (D3).
  • compound (1) include the following compounds:
  • n10 is a number equal to or greater than 1, and n10 is preferably a number from 1 to 60, may be a number from 3 to 50, may be a number from 5 to 30, or may be a number from 7 to 25.
  • the alkyl group means an unsubstituted alkyl group.
  • the alkyl group may be any of a linear alkyl group, a branched alkyl group, and a cyclic alkyl group, but a linear alkyl group or a branched alkyl group is preferable.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 2 to 30, more preferably 3 to 28, and further preferably 4 to 22.
  • the compound may contain only one alkyl group, or may contain two or more alkyl groups. Since the alkyl group is a monovalent group, it is located at the terminal of the compound.
  • the compound (2) is preferably a compound represented by the following formula (2A).
  • T2 is an alkyl group having 2 or more carbon atoms;
  • Z2 is a divalent linear organo(poly)siloxane residue;
  • A is a single bond or a (p+q)-valent linking group,
  • Each R2 is independently a monovalent hydrocarbon group;
  • Each L is independently a hydrolyzable group, a group having a hydrolyzable group, or a hydroxyl group;
  • n is an integer from 0 to 2, p1 and q each independently represent an integer of 1 or more.
  • the divalent linear organo(poly)siloxane residue represented by Z2 is preferably a group represented by the above formula (B1).
  • R 2 , L, and n are the same as R 2 , L, and n in the above formula (S1).
  • the group represented by A(Si(R 2 ) n L 3-n ) q is the same as the group represented by A(Si(R 2 ) n L 3-n ) q in formula (1A) above, except for the details shown below.
  • p1 and q are the same as p1 and q in the above formula (1A).
  • the group represented by A(Si(R 2 ) n L 3-n ) q is preferably the group (3-1A) or the group (3-1B), and more preferably the group (3-1A).
  • Q a represents a single bond or a divalent linking group. However, the end of Qa bonding to Z2 is not an oxysilyl group.
  • X 31 is a single bond, an alkylene group, a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom, a divalent to octavalent organo(poly)siloxane residue, or a group having a (h+i+1)-valent ring.
  • Q a is a single bond
  • the end of X 31 on the side bonding to Z 2 is not an oxysilyl group. In cases other than the above, the end of X 31 may be an oxysilyl group.
  • Q b is a single bond or a divalent linking group.
  • the terminal of Qb on the side bonding to Z2 is not an oxysilyl group.
  • the terminal of Qb may be an oxysilyl group.
  • the Q b side terminal of Q a -X 31 is not an alkylene group.
  • Q c is a single bond or a divalent linking group. However, the end of Qc bonding to Z2 is not an oxysilyl group.
  • X 32 is preferably —O—, —S—, —N(R d )—, —C(O)O—, —C(O)S—, —N(R d )C(O)N(R d )—, —OC(O)N(R d )— or —C(O)N(R d )—, and more preferably —C(O)O— or —C(O)N(R d )—.
  • s1 is preferably 0, and Q b1 is preferably an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
  • X 33 is preferably —O—, —C(O)O—, or —C(O)N(R d )—.
  • a in formula (2A) may be any of the groups (g2-1) to (g2-7).
  • R 51 is an alkyl group having 2 or more carbon atoms.
  • R 52 and R 54 each independently represent an alkylene group.
  • R 53 is -C(O)O-, -SO 2 N(R d )-, -N(R d )SO 2 -, -N(R d )C(O)- or -C(O)N(R d )-.
  • R3 is the same as R3 in formula (B1).
  • k1 is the same as k1 in formula (B1).
  • X32 is preferably -C(O)-, -C(O)O-, -C(O)S-, -SO2N ( Rd )- or -C(O)N( Rd )-, and more preferably -C(O)-.
  • a in formula (3A) may be any of groups (g2-1) to (g2-7).
  • R 54 is independently a hydrogen atom, a phenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an oxyalkylene-containing group having 1 to 10 carbon atoms; s7 is an integer from 1 to 20, t7 is an integer from 1 to 20, u7 is an integer from 1 to 20.
  • compound (4A) include the following compounds. ⁇ ( CH3 ) 3Si- ( OSi( CH3 ) 2 ) 19- ( CH2 ) 10- CONH- CH2C ⁇ CH2CH2CH2Si ( OCH3 ) 3 ⁇ 3
  • the number of elements in the siloxane skeleton-containing group in R k1 and X k1 is less than the number of elements in the trialkylsilyl group-containing molecular chain represented by (R a9 ) 3 Si-Z-(Si(R s1 ) 2 -O-) n9 -Y- of compound (5), and the number of carbon atoms in the longest linear hydrocarbon chain contained in the hydrocarbon chain-containing group in R k1 and X k1 is less than the number of elements in the trialkylsilyl group-containing molecular chain represented by (R a9 ) 3 Si-Z-(Si(R s1 ) 2 -O-) n9 -Y- of compound (5).
  • the liquid medium is preferably an organic solvent.
  • organic solvents include compounds consisting only of hydrogen atoms and carbon atoms, and compounds consisting only of hydrogen atoms, carbon atoms, and oxygen atoms.
  • Specific examples of organic solvents include hydrocarbon organic solvents, ketone organic solvents, ether organic solvents, ester organic solvents, glycol organic solvents, and alcohol organic solvents.
  • hydrocarbon organic solvent examples include pentane, hexane, heptane, octane, hexadecane, isohexane, isooctane, isononane, cycloheptane, cyclohexane, bicyclohexyl, benzene, toluene, ethylbenzene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, o-diethylbenzene, m-diethylbenzene, p-diethylbenzene, n-butylbenzene, sec-butylbenzene, and tert-butylbenzene.
  • ester-based organic solvent examples include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, tert-butyl acetate, amyl acetate, isoamyl acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl lactate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl acetate, propylene glycol dimethyl acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol Cholesterol monoethyl ether acetate,
  • glycol-based organic solvents include ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monohexyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, ethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, dipropyl
  • the alcohol-based organic solvent include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, diacetone alcohol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, pentanol, 3-methyl-1,3-butanediol, 1,3-butanediol, 1,3-butylene glycol, octanediol, 2,4-diethylpentanediol, butylethylpropanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 2-ethyl-1-hexanol, 3,5,5-trimethyl-1-hexanol, isodecanol, isotridecanol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 2-methoxybutanol, 3-methoxybutanol, cyclohexanol,
  • organic solvents include halogen-based organic solvents, nitrogen-containing compounds, sulfur-containing compounds, siloxane compounds, and fluorine-containing organic solvents.
  • Nitrogen-containing compounds include nitrobenzene, acetonitrile, benzonitrile, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone.
  • Sulfur-containing compounds include carbon disulfide and dimethyl sulfoxide.
  • fluorine-containing organic solvent examples include polyfluoroaromatic hydrocarbons (e.g., 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene); polyfluoroaliphatic hydrocarbons (e.g., C 6 F 13 CH 2 CH 3 (e.g., Asahiklin (registered trademark) AC-6000 manufactured by AGC Corporation), 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane (e.g., Zeorora (registered trademark) H manufactured by Zeon Corporation); hydrofluoroethers (HFEs) (e.g., perfluoropropyl methyl ether (C 3 F 7 OCH 3 ) (e.g., Novec (trademark) 7000 manufactured by Sumitomo 3M Limited), perfluorobutyl methyl ether (C 4 F 9 OCH 3 ) (e.g., Novec (trademark) 7100 manufactured by Sumitomo 3M Limited), perfluorobutyl ethyl
  • HFOs hydrofluoroolefins
  • HCFO-1233yd 1-chloro-2,3,3-trifluoro-1-propene
  • Opteon registered trademark
  • the content of the liquid medium is preferably 50 to 99.999% by mass, more preferably 80 to 99.99% by mass, and even more preferably 90 to 99.9% by mass, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the content of the liquid medium may be 90 to 99.99% by mass, 95 to 99.98% by mass, 97 to 99.97% by mass, or 98 to 99.95% by mass, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • composition of the present disclosure may contain other components in addition to the liquid medium, as long as the effects of the present disclosure are not impaired.
  • other components include known additives such as acid catalysts and base catalysts that promote the hydrolysis and condensation reaction of reactive silyl groups.
  • any appropriate acid or base e.g., a transition metal (e.g., Ti, Ni, Sn, Zr, Al, B, etc.), a sulfur-containing compound having an unshared electron pair in the molecular structure, a nitrogen-containing compound (e.g., a sulfoxide compound, an aliphatic amine compound, an aromatic amine compound, a phosphoric acid amide compound, an amide compound, a urea compound), etc.
  • a transition metal e.g., Ti, Ni, Sn, Zr, Al, B, etc.
  • a sulfur-containing compound having an unshared electron pair in the molecular structure e.g., a sulfur-containing compound having an unshared electron pair in the molecular structure
  • a nitrogen-containing compound e.g., a sulfoxide compound, an aliphatic amine compound, an aromatic amine compound, a phosphoric acid amide compound, an amide compound, a urea compound
  • Acid catalysts include, for example, acetic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, sulfonic acid, methanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid.
  • Examples of the base catalyst include ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and organic amines such as triethylamine and diethylamine.
  • metal compounds having hydrolyzable groups are also referred to as "specific metal compounds"
  • specific metal compounds include those represented by the following formulas (M1) to (M3).
  • M represents a trivalent or tetravalent metal atom.
  • Each X b1 independently represents a hydrolyzable group.
  • Each X b2 independently represents a siloxane skeleton-containing group.
  • Each X b3 independently represents a hydrocarbon chain-containing group.
  • m11 is an integer from 2 to 4
  • m12 and m13 each independently represent an integer of 0 to 2
  • When M is a trivalent metal atom, m11 + m12 + m13 is 3, and when M is a tetravalent metal atom, m11 + m12 + m13 is 4.
  • X b4 represents a hydrolyzable silane oligomer residue.
  • Each X b5 independently represents a hydrolyzable group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • X b6 and X b7 each independently represent a hydrolyzable group or a hydroxyl group.
  • Y b1 represents a divalent organic group.
  • the siloxane skeleton-containing group represented by X b2 has a siloxane unit (-Si-O-) and may be linear or branched.
  • a dialkylsilyloxy group is preferable, and examples thereof include a dimethylsilyloxy group and a diethylsilyloxy group.
  • the number of repetitions of the siloxane unit in the siloxane skeleton-containing group is 1 or more, preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4, and even more preferably 1 to 3.
  • the siloxane skeleton-containing group may contain a divalent hydrocarbon group in a part of the siloxane skeleton.
  • the hydrocarbon chain-containing group represented by X b3 may be a group consisting of only a hydrocarbon chain, or may be a group having an etheric oxygen atom between carbon atoms in the hydrocarbon chain.
  • the hydrocarbon chain may be a straight chain or a branched chain, and is preferably a straight chain.
  • the hydrocarbon chain may be a saturated hydrocarbon chain or an unsaturated hydrocarbon chain, and is preferably a saturated hydrocarbon chain.
  • the number of carbon atoms in the hydrocarbon chain-containing group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, and even more preferably 1.
  • the hydrocarbon chain-containing group is preferably an alkyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • the hydrolyzable silane oligomer residue may have one or more of these alkoxy groups, and preferably has one.
  • Examples of hydrolyzable silane oligomer residues include (C 2 H 5 O) 3 Si-(OSi(OC 2 H 5 ) 2 ) 4 O- * , where * represents a bond site with an adjacent atom.
  • the content of other components that may be included in the composition of the present disclosure is preferably 10% by mass or less, and more preferably 1% by mass or less, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the content of the specific metal compound is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass, and even more preferably 0.05 to 5% by mass, based on the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the total content of the first compound and the second compound, or the third compound and the fourth compound, and other components is preferably 0.001 to 40 mass%, more preferably 0.01 to 20 mass%, and even more preferably 0.1 to 10 mass%, relative to the total amount of the composition of the present disclosure.
  • the solid content concentration of the composition of the present disclosure is a value calculated from the mass before heating and the mass after heating for 4 hours in a convection dryer at 120°C.
  • the surface treatment agent of the present disclosure is composed of the composition of the present disclosure.
  • the surface treatment agent of the present disclosure is applied to the surface of a substrate and used to form a surface treatment layer. Details of each component contained in the surface treatment agent are the same as those of each component contained in the composition.
  • the surface treatment agent of the present disclosure is preferably used for forming an antifouling layer.
  • the surface treatment agent of the present disclosure is preferably used for forming an antifouling layer formed on the outermost surface of an article.
  • the article of the present disclosure includes a substrate and a surface treatment layer disposed on the substrate and surface-treated with the surface treatment agent of the present disclosure.
  • the surface treatment layer is preferably an antifouling layer.
  • the surface treatment layer is preferably an antifouling layer formed on the outermost surface of the article.
  • the substrate may be a building material, a decorative building material, an interior item, a transport device (e.g., an automobile), a sign, a bulletin board, a drinking vessel, a tableware, an aquarium, an ornamental device (e.g., a frame, a box), a laboratory device, a furniture, a textile product, a packaging container; a glass or a resin used in art, sports, a game, etc.; a glass or a resin used in the exterior part (excluding the display part) of a device such as a mobile phone (e.g., a smartphone), a personal digital assistant, a game machine, a remote control, etc.
  • the shape of the substrate may be a plate or a film.
  • the substrate may be a substrate having one or both surfaces subjected to a surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, or plasma graft polymerization treatment.
  • a substrate having been subjected to a surface treatment has better adhesion to the surface treatment layer, and the abrasion resistance of the surface treatment layer is improved. For this reason, it is preferable to perform a surface treatment on the surface of the substrate that comes into contact with the surface treatment layer.
  • a base layer which will be described later, is provided on the substrate having been subjected to a surface treatment, the adhesion to the base layer is better, and the abrasion resistance of the surface treatment layer is improved. For this reason, when a base layer is provided, it is preferable to perform a surface treatment on the surface of the substrate that comes into contact with the base layer.
  • the surface treatment layer may be provided directly on the surface of the substrate, or a base layer may be provided between the substrate and the surface treatment layer. From the viewpoint of further improving the water repellency and abrasion resistance of the surface treatment layer, it is preferable that the article of the present disclosure includes a substrate, a base layer disposed on the substrate, and a surface treatment layer that is surface-treated with the surface treatment agent of the present disclosure and disposed on the base layer.
  • the underlayer is preferably a layer containing an oxide containing silicon and at least one specific element selected from the group consisting of Group 1 elements, Group 2 elements, Group 4 elements, Group 5 elements, Group 13 elements, and Group 15 elements of the periodic table.
  • Group 2 elements of the periodic table refer to beryllium, magnesium, calcium, strontium, and barium.
  • magnesium, calcium, and barium are preferred, and magnesium and calcium are more preferred, from the viewpoint of being able to form a surface treatment layer on the underlayer more uniformly without defects, or from the viewpoint of further suppressing variation in the composition of the underlayer between samples.
  • the underlayer may contain two or more types of Group 2 elements.
  • Group 4 elements of the periodic table refer to titanium, zirconium, and hafnium.
  • Group 4 elements titanium and zirconium are preferred, and titanium is more preferred, from the viewpoint of being able to form a surface treatment layer on the underlayer more uniformly without defects, or from the viewpoint of further suppressing variation in the composition of the underlayer between samples.
  • the underlayer may contain two or more types of Group 4 elements.
  • Group 5 elements of the periodic table refer to vanadium, niobium, and tantalum.
  • Group 5 element vanadium is particularly preferred from the viewpoint of providing a surface treatment layer with superior abrasion resistance.
  • the undercoat layer may contain two or more Group 5 elements.
  • the Group 15 elements of the periodic table (hereinafter also referred to as "Group 15 elements") refer to nitrogen, phosphorus, arsenic, antimony, and bismuth.
  • Group 15 elements from the viewpoint of being able to form a surface treatment layer on the underlayer more uniformly without defects, or from the viewpoint of further suppressing the variation in the composition of the underlayer between samples, phosphorus, antimony, and bismuth are preferred, and phosphorus and bismuth are more preferred.
  • the underlayer may contain two or more types of Group 15 elements.
  • Group 1 elements, Group 2 elements, and Group 13 elements are preferred because they provide a surface treatment layer with superior abrasion resistance, Group 1 elements and Group 2 elements are more preferred, and Group 1 elements are even more preferred.
  • the specific element may be one type of element or two or more types of elements.
  • the underlayer may be a single layer or multiple layers.
  • the underlayer may have an uneven surface.
  • the thickness of the underlayer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 50 nm, and even more preferably 2 to 20 nm. If the thickness of the underlayer is equal to or greater than the lower limit, the adhesion of the underlayer to the surface treatment layer is improved, and the surface treatment layer has better abrasion resistance. If the thickness of the underlayer is equal to or less than the upper limit, the underlayer itself has better abrasion resistance. The thickness of the underlayer is measured by observing a cross section of the underlayer with a transmission electron microscope (TEM).
  • TEM transmission electron microscope
  • the deposition material used in the deposition method preferably contains an oxide containing silicon and a specific element.
  • Specific examples of the form of the deposition material include powder, melt, sintered body, granulated body, and crushed body, and from the viewpoint of handleability, the melt, sintered body, and granulated body are preferred.
  • the melt means a solid obtained by melting the powder of the deposition material at a high temperature and then cooling and solidifying it.
  • the sintered body means a solid obtained by firing the powder of the deposition material, and if necessary, a molded body may be used by pressing the powder instead of the powder of the deposition material.
  • the granulated body means a solid obtained by kneading the powder of the deposition material with a liquid medium (e.g., water, organic solvent) to obtain particles, and then drying the particles.
  • a liquid medium e.g., water, organic solvent
  • the deposition material can be produced, for example, by the following method.
  • a method of mixing a powder containing silicon e.g., powder made of silicon oxide, silica sand, silica gel
  • a powder containing a specific element e.g., powder of an oxide, carbonate, sulfate, nitrate, oxalate, hydroxide of a specific element
  • water e.g., water, drying the mixture, and then firing the dried mixture or a compact obtained by pressing the mixture to obtain a sintered body.
  • the evaporation method of the deposition material include a resistance heating method in which the deposition material is melted and evaporated on a resistance heating boat made of a high melting point metal, and an electron gun method in which the deposition material is irradiated with an electron beam to directly heat the deposition material to melt and evaporate the surface.
  • the electron gun method is preferred as the evaporation method of the deposition material because it can evaporate high melting point substances because it can heat locally, and because the areas not hit by the electron beam are at low temperature, there is no risk of reaction with the container or contamination with impurities.
  • the evaporation method of the deposition materials may use multiple boats, or may use a single boat containing all the deposition materials.
  • the deposition method may be co-deposition or alternating deposition.
  • silicon compounds include silicon oxide, silicic acid, partial condensates of silicic acid, alkoxysilanes, and partial hydrolysis condensates of alkoxysilanes.
  • the liquid medium may be the same as the liquid medium that may be contained in the composition of the present disclosure.
  • the content of the liquid medium is preferably 80 to 99.99% by mass, and more preferably 90 to 99.9% by mass, based on the total amount of the coating liquid used to form the undercoat layer.
  • wet coating methods for forming the underlayer include spin coating, wipe coating, spray coating, squeegee coating, dip coating, die coating, inkjet coating, flow coating, roll coating, casting, the Langmuir-Blodgett method, and gravure coating.
  • the drying temperature for the coating film is preferably 20 to 200°C, and more preferably 80 to 160°C.
  • the article of the present disclosure may be an optical material having a surface treatment layer as the outermost layer.
  • Preferred examples of the optical material include optical materials related to displays and the like, as well as a wide variety of other optical materials.
  • optical materials include displays such as cathode ray tubes (CRTs; for example, personal computer monitors), liquid crystal displays, plasma displays, organic EL displays, inorganic thin-film EL dot matrix displays, rear projection displays, fluorescent display tubes (VFDs), and field emission displays (FEDs; Field Emission Displays), or protective plates for such displays, or displays whose surfaces have been treated with an anti-reflection film.
  • the article of the present disclosure is preferably an optical member, such as a car navigation system, a mobile phone, a smartphone, a digital camera, a digital video camera, a PDA, a portable audio player, a car audio, a game machine, an eyeglass lens, a camera lens, a lens filter, sunglasses, a medical device such as a gastroscope, a copier, a PC, a display (e.g., a liquid crystal display, an organic electroluminescence display, a plasma display, a touch panel display), a touch panel, a protective film, and an anti-reflection film.
  • the material constituting the surface of the substrate is a material for optical members, for example, glass or transparent plastic.
  • the surface (outermost layer) of the substrate may have a functional layer such as a hard coat layer or an antireflection layer formed thereon.
  • the antireflection layer may be either a single-layer antireflection layer or a multi-layer antireflection layer.
  • a transparent electrode for example, a thin film using indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide
  • ITO indium tin oxide
  • the substrate may have an insulating layer, an adhesive layer, a protective layer, a decorative frame layer (I-CON), an atomizing film layer, a hard coating film layer, a polarizing film, a phase difference film, a liquid crystal display module, etc., depending on the specific specifications, etc.
  • the method for producing an article according to the present disclosure is, for example, a method for producing an article having a surface treatment layer formed on a substrate by performing a surface treatment on a substrate using the surface treatment agent according to the present disclosure.
  • Examples of the surface treatment include a dry coating method and a wet coating method.
  • Dry coating methods include vacuum deposition, CVD, sputtering, and the like.
  • vacuum deposition is preferred from the viewpoint of suppressing decomposition of the compound and the simplicity of the device.
  • a pellet-shaped material in which a metal porous body such as iron or steel is impregnated with the compound of the present disclosure may be used.
  • a composition containing the compound of the present disclosure and a liquid medium may be impregnated into a metal porous body such as iron or steel, the liquid medium may be dried, and a pellet-shaped material impregnated with the compound of the present disclosure may be used.
  • Wet coating methods include, for example, spin coating, wipe coating, spray coating, squeegee coating, dip coating, die coating, inkjet coating, flow coating, roll coating, casting, Langmuir-Blodgett coating, and gravure coating.
  • an operation for promoting the reaction between the compound of the present disclosure and the substrate may be carried out.
  • Such an operation may include heating, humidification, light irradiation, etc.
  • by heating a substrate on which a surface treatment layer has been formed in an atmosphere containing moisture it is possible to promote reactions such as hydrolysis reaction of hydrolyzable groups, reaction between hydroxyl groups or the like on the substrate surface and silanol groups, and generation of siloxane bonds through condensation reaction of silanol groups.
  • compounds in the surface treatment layer that are not chemically bonded to other compounds or the substrate may be removed as necessary. Examples of the method for removing the compounds include pouring a solvent onto the surface treatment layer and wiping the compounds off with a cloth soaked in the solvent.
  • Examples 2 to 11 are examples, and Example 1 is a comparative example.
  • the substrate on which the silicon oxide layer was formed was placed on the sample stage of a spray coater (API-90RS manufactured by Apiros Co., Ltd.) so that the silicon oxide layer was on the surface.
  • a spray coater API-90RS manufactured by Apiros Co., Ltd.
  • 13 g of the prepared surface treatment agent was placed in a syringe in the spray coater, and spray-coated at an atomization pressure of 130 kPa, a nozzle-to-sample surface distance of 50 mm, and a scanning speed of 300 mm/sec.
  • the coated substrate was then heat-treated at 140° C. for 30 minutes. As a result, an article having a surface treatment layer on the surface of the silicon oxide layer was obtained.
  • the surface treatment layer of the obtained article was evaluated as follows.
  • a uniform light irradiation unit (Ushio) was attached to a mercury lamp (SP-9 250DB, Ushio Inc.), and a sample was placed at a distance of 17.5 cm from the lens.
  • the light intensity at 200 to 800 nm was measured using an intensity meter (VEGA, OPHIR Inc.), and found to be 200 mW/ cm2 .
  • the sample was irradiated with the mercury lamp for 6 hours in an atmospheric environment with a temperature of 20 to 40°C and a humidity of 30 to 75%.
  • Table 1 shows the evaluation results of the water contact angle (initial water contact angle) before the light resistance test and the water contact angle after the light resistance test, as well as the contact angle change rate.
  • the ratio of compound (I) indicates the mass ratio of compound (I) to the total amount of compound (I) and compound (II).
  • the ratio of compound (II) indicates the mass ratio of compound (II) to the total amount of compound (I) and compound (II).
  • the ratio of compound (III) indicates the mass ratio of compound (III) to the total amount of compound (III) and compound (IV).
  • the ratio of compound (IV) indicates the mass ratio of compound (IV) to the total amount of compound (III) and compound (IV).
  • the ratio of compound (V) indicates the mass ratio of compound (V) to the total amount of compound (V) and compound (VI).
  • the ratio of compound (VI) indicates the mass ratio of compound (VI) to the total amount of compound (V) and compound (VI).
  • the surface treatment layers obtained in Examples 2 to 11 have a small rate of change in water contact angle after the light resistance test, and are excellent in light resistance.
  • composition and the surface treatment agent can also be used for car navigation systems, mobile phones, smartphones, digital cameras, digital video cameras, PDAs, portable audio players, car audio, game machines, eyeglass lenses, camera lenses, lens filters, sunglasses, medical equipment such as gastroscopes, copiers, PCs, displays (e.g., liquid crystal displays, organic EL displays, plasma displays, touch panel displays), touch panels, protective films, anti-reflection films, and other optical components.
  • displays e.g., liquid crystal displays, organic EL displays, plasma displays, touch panel displays), touch panels, protective films, anti-reflection films, and other optical components.
  • a composition comprising: a first compound having a linear organo(poly)siloxane residue and one reactive silyl group linked to only one end of the linear organo(poly)siloxane residue; and a second compound having a linear organo(poly)siloxane residue and two or more reactive silyl groups linked to only one end of the linear organo(poly)siloxane residue; or a third compound having a linear organo(poly)siloxane residue and a reactive silyl group linked to each of both ends of the linear organo(poly)siloxane residue; and a fourth compound having a linear organo(poly)siloxane residue and two or more reactive silyl groups linked to each of both ends of the linear organo(poly)siloxane residue.
  • composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the chain organo(poly)siloxane residues in the first compound, the second compound, the third compound, and the fourth compound are each independently represented by the following formula (B1) or (B2):
  • formula (B1) Each R3 is independently a hydrocarbon group; k1 is a number equal to or greater than 1, * indicates a bonding site with an adjacent atom.
  • q1 is independently an integer of 2 to 4.
  • the amount of the second compound is 50 to 97 mass% with respect to the total amount of the first compound and the second compound
  • the amount of the fourth compound is 50 to 97% by mass relative to the total amount of the third compound and the fourth compound.
  • ⁇ 12> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, further comprising a liquid medium.
  • a surface treatment agent comprising the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>.

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Abstract

２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する第１の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する第２の化合物を含むか、又は２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する第３の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する第４の化合物を含む、組成物及び表面処理剤；並びに、前記表面処理剤を用いて形成される表面処理層を有する物品及びその製造方法が提供される。

Description

組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法
　本開示は、組成物、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法に関する。
　近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に指紋を付きにくくする技術や、汚れを落としやすくする技術が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。
　例えば、特許文献１には、特定の構造を有するシロキサン基含有シラン化合物を表面処理剤として用いることが記載されている。
国際公開第２０２３／０１７８３０号
　表面処理剤により形成される表面処理層において、耐光性の向上が望まれる。
　かかる状況に鑑み、本開示の一実施形態は、耐光性に優れる表面処理層を形成可能な組成物及び表面処理剤、並びに、耐光性に優れる表面処理層を有する物品及びその製造方法の提供に関する。
　上記課題を解決するための手段は、以下の態様を含む。
＜１＞　２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する第１の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する第２の化合物を含むか、又は
　２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する第３の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する第４の化合物を含む、組成物。
＜２＞　前記第１の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する化合物であり、
　前記第２の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する化合物であり、
　前記第３の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する化合物であり、
　前記第４の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する化合物である、
＜１＞に記載の組成物。
＜３＞　前記第１の化合物及び前記第３の化合物における１つの反応性シリル基、並びに前記第２の化合物及び前記第４の化合物における２つ以上の反応性シリル基は、それぞれ独立に、下記式（Ｓ１）又は式（Ｓ３）で表される、＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。
　－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ　…（Ｓ１）
　－［Ｓｉ（Ｌ２）２－Ｐ］ｒ１－Ｓｉ（Ｌ２）３　…（Ｓ３）
　式（Ｓ１）中、
　Ｒ２はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
　式（Ｓ３）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、１～３の整数である。
＜４＞　前記第１の化合物、前記第２の化合物、前記第３の化合物、及び前記第４の化合物における前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は、それぞれ独立に、下記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される、＜２＞又は＜２＞に従属する＜３＞に記載の組成物。

　式（Ｂ１）中、
　Ｒ３はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、１以上の数であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位である。

　式（Ｂ２）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位である。
＜５＞　前記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）において、ｋ１が１～６００の数である、＜４＞に記載の組成物。
＜６＞　前記第１の化合物が下記式（Ｃ１）、（Ｃ１－２）、（Ｃ１－３）、又は（Ｃ１－４）で表される、＜１＞又は＜３＞に記載の組成物。


　式（Ｃ１）中、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　ｐ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１１は、（ｐ１＋１）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、０～２の整数である。
　式（Ｃ１－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、１～３の整数であり、
　Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、及びＡ１１の定義は、式（Ｃ１）中の定義と同じである。


　式（Ｃ１－３）中、
　Ｂ１１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していない、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基；又は、分岐アルキル基を含む１価の基であり、ただし、Ｂ１１は反応性シリル基を含まず、
　ｕ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１５は、（ｕ１＋１）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ１－４）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、１～３の整数であり、
　Ｂ１１、ｕ１、及びＡ１５の定義は、式（Ｃ１－３）中の定義と同じである。
＜７＞　前記第２の化合物が下記式（Ｃ２）、（Ｃ２－２）、（Ｃ２－３）、又は（Ｃ２－４）で表される、＜１＞、＜３＞、又は＜６＞に記載の組成物。


　式（Ｃ２）中、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　ｐ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１２は、（ｐ１＋ｑ１）価の連結基であり、
　ｑ１は、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ２－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、Ａ１2、及びｑ１の定義は、式（Ｃ２）中の定義と同じである。


　式（Ｃ２－３）中、
　Ｂ１１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していない、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基；又は、分岐アルキル基を含む１価の基であり、ただし、Ｂ１１は反応性シリル基を含まず、
　ｕ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１６は、（ｑ１＋ｕ１）価の連結基であり、
　ｑ１は、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ２－４）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｂ１１、ｕ１、Ａ１６、及びｑ１の定義は、式（Ｃ２－３）中の定義と同じである。
＜８＞　前記式（Ｃ２）及び（Ｃ２－２）において、ｑ１が２～４の整数である、＜７＞に記載の組成物。
＜９＞　前記第３の化合物が下記式（Ｃ３）又は（Ｃ３－２）で表される、＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の組成物。


　式（Ｃ３）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　Ａ１３は、それぞれ独立に、２価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ３－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｒ４、ｋ１、及びＡ１３の定義は、式（Ｃ３）中の定義と同じである。
＜１０＞　前記第４の化合物が下記式（Ｃ４）又は（Ｃ４－２）で表される、＜１＞～＜９＞のいずれか１項に記載の組成物。


　式（Ｃ４）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　Ａ１４は、それぞれ独立に、（ｑ１＋１）価の連結基であり、
　ｑ１は、それぞれ独立に、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ４－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｒ４、ｋ１、Ａ１４、及びｑ１の定義は、式（Ｃ４）中の定義と同じである。
＜１１＞　前記式（Ｃ４）及び（Ｃ４－２）において、ｑ１がそれぞれ独立に、２～４の整数である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１２＞　前記組成物が前記第１の化合物及び前記第２の化合物を含む場合、前記第１の化合物と前記第２の化合物の合計量に対する前記第２の化合物の量が５０～９７質量％であり、
　前記組成物が前記第３の化合物及び前記第４の化合物を含む場合、前記第３の化合物と前記第４の化合物の合計量に対する前記第４の化合物の量が５０～９７質量％である、
＜１＞～＜１１＞のいずれか１項に記載の組成物。
＜１３＞　さらに液状媒体を含む、＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の組成物。
＜１４＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１項に記載の組成物からなる表面処理剤。
＜１５＞　基材に対して、＜１４＞に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、前記基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
＜１６＞　基材と、前記基材上に配置され、＜１４＞に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
＜１７＞　光学部材である、＜１６＞に記載の物品。
＜１８＞　ディスプレイ又はタッチパネルである、＜１６＞又は＜１７＞に記載の物品。
　本開示の一実施形態によれば、耐光性に優れる表面処理層を形成可能な組成物及び表面処理剤、並びに、耐光性に優れる表面処理層を有する物品及びその製造方法が提供される。
　以下、本開示の実施形態を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。
　本開示において「工程」との語には、他の工程から独立した工程に加え、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の目的が達成されれば、当該工程も含まれる。
　本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
　本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率又は含有量は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率又は含有量を意味する。
　本開示において、「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
　本開示において、化合物又は基が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物又は基をそれぞれ化合物（Ｘ）若しくは化合物Ｘ、及び基（Ｘ）若しくは基Ｘと記すことがある。
　本開示において、オルガノ（ポリ）シロキサン残基とは、オルガノシロキサン残基又はオルガノポリシロキサン残基を意味する。
　本開示において、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基に連結される反応性シリル基とは、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基に直接又は他の化学構造を介して間接的に連結される反応性シリル基を意味する。
　本開示において、「Ｍｅ」はメチル基を意味することがある。
［組成物］
　本開示の組成物は、
　２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する第１の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する第２の化合物を含むか、又は
　２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する第３の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する第４の化合物を含む。
　一態様において、第１の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する化合物であることが好ましい。
　一態様において、第２の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する化合物であることが好ましい。
　一態様において、第３の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する化合物であることが好ましい。
　一態様において、第４の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する化合物であることが好ましい。
　一態様において、本開示の組成物は、
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する化合物、及び鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する化合物を含むか、又は
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する化合物、及び鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する化合物を含むことが好ましい。
　本開示において、「第１の化合物」についての説明は、矛盾がない限り、「第１の化合物」を「鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する化合物」と読み替えた場合にも当てはまる。「第２の化合物」についての説明は、矛盾がない限り、「第２の化合物」を「鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する化合物」と読み替えた場合にも当てはまる。「第３の化合物」についての説明は、矛盾がない限り、「第３の化合物」を「鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する化合物」と読み替えた場合にも当てはまる。「第４の化合物」についての説明は、矛盾がない限り、「第４の化合物」を「鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する化合物」と読み替えた場合にも当てはまる。
　本開示の組成物は、表面処理剤として基材に付与したときに、耐光性に優れる表面処理層を形成できる。第１の化合物は、２価の鎖状基（例えば、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）の片末端側に１つの反応性シリル基を有し、第２の化合物は、２価の鎖状基（例えば、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）の片末端側に２つ以上の反応性シリル基を有する。また、第３の化合物は、２価の鎖状基（例えば、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）の両末端側にそれぞれ１つの反応性シリル基を有し、第４の化合物は、２価の鎖状基（例えば、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）の両末端側にそれぞれ２つ以上の反応性シリル基を有する。第１の化合物と第２の化合物の組み合わせ、又は、第３の化合物と第４の化合物の組み合わせによって、これらの化合物を用いて表面処理層を形成したときに、層中の分子密度が高まると考えられる。これにより、光を照射しても表面処理層が劣化しにくく、耐光性が向上すると推測される。
　以下、組成物に含まれる各成分について詳述する。
〔第１の化合物及び第２の化合物〕
　第１の化合物は、２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する。
　第２の化合物は、２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する。
　一態様において、第１の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有することが好ましい。
　一態様において、第２の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有することが好ましい。
（２価の鎖状基）
　第１の化合物及び第２の化合物は２価の鎖状基を含む。２価の鎖状基は、分岐を含まない直鎖状であっても、分岐を含んでいてもよい。第１の化合物及び第２の化合物は、２価の鎖状基を含む限り、他の構造、例えば環状構造を有していてもよく、有していなくてもよい。
　２価の鎖状基は２以上の原子が連結した鎖状構造を有する限り特に制限されず、鎖状炭化水素基；鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基；鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基；これらの組み合わせ等が挙げられる。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　鎖状炭化水素基としては、炭素数２～１００、好ましくは５～９０、より好ましくは１０～８０の直鎖又は分岐の鎖状炭化水素基が挙げられる。鎖状炭化水素基としては、アルキレン基が好ましく、上記炭素数のアルキレン基がより好ましい。耐酸性、耐熱水性、耐摩擦性等に優れた表面処理層を形成する観点からは、鎖状炭化水素基は炭素数１３以上のアルキレン基が好ましい。
　鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基の炭素数も上記と同様である。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　一態様において、２価の鎖状基としては、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基が好ましい。以下、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基について詳述する。
（鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）
　一態様において、第１の化合物及び第２の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基を含むことが好ましい。各化合物に含まれる鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は１つであっても２つ以上であってもよい。各化合物に２つ以上の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基が含まれる場合、２つ以上の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は同じであっても異なってもよい。
　第１の化合物に２つ以上の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基が含まれる場合、両末端側に反応性シリル基が連結された鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基がなく、かつ少なくとも１つの鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基において、一方の末端側に反応性シリル基が１つ連結されていればよい。
　第２の化合物に２つ以上の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基が含まれる場合、両末端側に反応性シリル基が連結された鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基がなく、かつ少なくとも１つの鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基において、一方の末端側に反応性シリル基が２つ以上連結されていればよい。
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基としては、下記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基が挙げられる。
　式（Ｂ１）中、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、１以上の数であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位である。
　式（Ｂ２）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位である。
　式（Ｂ１）及び（Ｂ２）中、Ｒ３で表される炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。中でも、炭化水素基は、脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。アルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれであってもよいが、直鎖状アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はｎ－ブチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。また、芳香族炭化水素基としては、フェニル基が好ましい。
　式（Ｂ１）及び（Ｂ２）中、ｋ１は１以上の数であり、１～６００の数が好ましく、１～５００の数がより好ましく、３～５００の数がさらに好ましく、９～５０の数が特に好ましく、１１～３０の数が極めて好ましく、１１～２５の数が最も好ましい。
　式（Ｂ２）中、Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、炭化水素基が好ましい。炭化水素基の詳細は、Ｒ３で表される炭化水素基と同様である。
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、具体的態様は後述の式（Ｃ１）、（Ｃ１－２）、（Ｃ２）、及び（Ｃ２－２）におけるＴ１１と同様である。
　Ｂ及びｒの具体的態様は後述の式（Ｃ１）、（Ｃ１－２）、（Ｃ２）、及び（Ｃ２－２）におけるＢ及びｒと同様である。
（反応性シリル基）
　第１の化合物は、反応性シリル基を１つ有する。
　第２の化合物は、反応性シリル基を２つ以上有する。第２の化合物に含まれる反応性シリル基の数は、表面処理層の耐光性、耐摩耗性等を向上させる観点からは、２～１８が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましく、２～６が特に好ましく、２～４が極めて好ましい。
　反応性シリル基とは、Ｓｉ原子に反応性基が結合した基を意味する。反応性基としては、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基が好ましい。
　加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Ｓｉ－Ｌ１（Ｌ１は加水分解性基）で表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりＳｉ－ＯＨで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面に存在する酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成できる。
　加水分解性基としては、例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲｒ ２及びイソシアナト基（－ＮＣＯ）が挙げられる。アルコキシ基は、炭素数１～４のアルコキシ基であることが好ましい。アリールオキシ基は、炭素数３～１０のアリールオキシ基であることが好ましい。ただし、アリールオキシ基のアリール基は、ヘテロアリール基を含む。ハロゲン原子は、塩素原子であることが好ましい。アシル基は、炭素数１～６のアシル基であることが好ましい。アシルオキシ基は、炭素数１～６のアシルオキシ基であることが好ましい。Ｒｒはそれぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基である。
　加水分解性基を有する基としては、例えば、上記で例示される加水分解性基を有する基が挙げられる。加水分解性基を有する基は、－Ｏ－ＬＡ－ＬＢが好ましい。ＬＡはアルキレン基であり、ＬＢは加水分解性基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましい。ＬＢで表される加水分解性基は、上述した加水分解性基と同義であり、好適態様も同じである。
　反応性シリル基は、下記式（Ｓ１）で表される基であることが好ましい。
　－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ　…（Ｓ１）
　式（Ｓ１）中、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、０～２の整数である。
　反応性シリル基が１分子中に複数ある場合、複数の反応性シリル基は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点からは、複数の反応性シリル基は、同じであることが好ましい。
　Ｒ２はそれぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、１価の飽和炭化水素基が好ましい。
Ｒ２の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基である。加水分解性基、及び加水分解性基を有する基の詳細は、上記のとおりである。
　中でも、Ｌは、化合物の製造容易性の観点から、炭素数１～４のアルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましい。Ｌは、塗布時のアウトガスが少なく、化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基であることが好ましく、エトキシ基又はメトキシ基がより好ましい。
　ｎは、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。Ｌが複数存在することによって、表面処理層の基材への密着性がより強固になる。
　ｎが１以下である場合、１分子中に存在する複数のＬは、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点から、複数のＬは同じであることが好ましい。ｎが２である場合、１分子中に存在する複数のＲ２は同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点から、複数のＲ２は同じであることが好ましい。
　表面処理層の均一性及び耐久性に優れる観点から、反応性シリル基はアルコキシシリル基又はトリクロロシリル基であることが好ましい。基材との反応において生じる副生成物の取り扱いやすさの観点から、反応性シリル基は、アルコキシシリル基であることがより好ましい。アルコキシシリル基としては、ジアルコキシシリル基又はトリアルコキシシリル基が好ましく、トリアルコキシシリル基がより好ましい。
　また、反応性シリル基は、下記式（Ｓ２）で表される基であってもよい。
　＞ＳｉＬ２　…（Ｓ２）
　Ｌは、式（Ｓ１）におけるＬと同様である。
　反応性シリル基は、下記式（Ｓ３）で表される基であることも好ましい。
　－［Ｓｉ（Ｌ２）２－Ｐ］ｒ１－Ｓｉ（Ｌ２）３　…（Ｓ３）
　式（Ｓ３）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、１～３の整数である。
　基（Ｓ３）が１分子中に複数ある場合、複数の基（Ｓ３）は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。原料の入手容易性、及び、化合物の製造容易性の観点からは、複数の基（Ｓ３）は、同じであることが好ましい。
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基である。
　加水分解性基及び加水分解性基を有する基の詳細は、上述の通りである。
　中でも、Ｌ２における加水分解性基又は加水分解性基を有する基は、化合物の製造容易性の観点から、炭素数１～４のアルコキシ基、アルキレンオキサイド変性アルコキシ基、又はハロゲン原子が好ましい。Ｌ２は、塗布時のアウトガスが少なく、化合物の保存安定性がより優れる観点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基又はメトキシ基がより好ましい。
　Ｌ２で表される炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられ、合成の容易性等の観点から、飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　ｒ１は、１～３の整数であり、合成の容易性の観点からは、１～２が好ましく、１がより好ましい。
　１つの基（Ｓ３）が有する複数のＬ２のうち、少なくとも４個は加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基である。これにより、基（Ｓ３）と基材とがより強固に結合して、耐久性に優れた表面処理層が得られる。このような観点から、基（Ｓ３）中の加水分解性基、加水分解性基を有する基、及び水酸基の数は、４～９個が好ましく、４～７個がより好ましく、４個又は５個がさらに好ましい。
　なお、１分子中に存在する複数のＬ２は、同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。例えば、複数のＬ２が同一の加水分解性基であってもよい。
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基である。ここで「両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基」とは、１つの炭素原子を介してＳｉ同士が連結することを意味する。Ｐとしては、炭化水素基が挙げられ、例えば、－ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２－等であってもよい。表面処理層の耐久性の観点からは、Ｐとしては、酸素原子、－ＣＨ２－、又は－Ｃ（ＣＨ３）２－が好ましく、酸素原子又は－ＣＨ２－がより好ましく、酸素原子がさらに好ましい。
　基（Ｓ３）は、表面処理層の耐久性に優れる観点から、－［Ｓｉ（ＯＲ１２）２－Ｏ］ｒ１－Ｓｉ（ＯＲ１２）３が好ましく、中でも、ｒ１＝１である－Ｓｉ（ＯＲ１２）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＲ１２）３が特に好ましい。ここで、Ｒ１２はそれぞれ独立に、炭化水素基である。炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられ、合成の容易性の観点から、飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。Ｒ１２の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１又は２がさらに好ましい。
　基（Ｓ３）の具体例としては、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＨ）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＨ）３、－Ｓｉ（ＯＨ）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－Ｏ－Ｓｉ（ＯＨ）３、－Ｓｉ（ＯＨ）２－ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＨ）３、－Ｓｉ（ＯＨ）２－ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＨ）３、－Ｓｉ（ＯＨ）２－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｓｉ（ＯＨ）３、－Ｓｉ（ＯＨ）２－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－Ｓｉ（ＯＣＨ３）２－Ｃ（ＣＨ３）２－Ｓｉ（ＯＨ）３等が挙げられる。
（化合物（Ｃ１））
　一態様において、第１の化合物としては、下記式（Ｃ１）で表される化合物が好ましい。
　式（Ｃ１）中、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　ｐ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１１は、（ｐ１＋１）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、０～２の整数である。
　式（Ｃ１）中、Ｒ３及びｋ１は、式（Ｂ１）におけるＲ３及びｋ１と同様である。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　式（Ｃ１）において、ｐ１が２以上である場合、複数のＴ１１－Ｂｒ－［Ｓｉ（Ｒ３）２－Ｏ］ｋ１－Ｓｉ（Ｒ３）２は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
　式（Ｃ１）中、Ｔ１１は１価の基である。
　Ｔ１１としては、アルキル基、Ｔ１ ３Ｍ１－（ここで、Ｍ１は、Ｓｉ、Ｓｎ、又はＧｅであり、Ｔ１は、それぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基である。）、Ｔ１ ３Ｍ１－Ｒ１－（ここで、Ｍ１は、Ｓｉ、Ｓｎ、又はＧｅであり、Ｔ１は、それぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、Ｒ１はアルキレン基である）、１価の環状のポリシロキサン残基又は１価のかご状のポリシロキサン残基、及び、１価の環状のポリシロキサン残基又は１価のかご状のポリシロキサン残基と２価の炭化水素基との組み合わせが挙げられる。
　Ｔ１１で表されるアルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれであってもよく、直鎖状アルキル基又は分岐鎖状アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１であっても２以上であってもよい。アルキル基の炭素数が２以上である場合、炭素数は２～３０であることが好ましく、３～２８であることがより好ましく、４～２２であることがさらに好ましい。
　Ｔ１ ３Ｍ１－及びＴ１ ３Ｍ１－Ｒ１－におけるＭ１としては、Ｓｉが好ましい。
　Ｔ１ ３Ｍ１－及びＴ１ ３Ｍ１－Ｒ１－におけるＴ１としては、アルキル基又はトリアルキルシリルオキシ基が好ましく、メチル基、ブチルジメチルシリルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基又はトリエチルシリルオキシ基がより好ましい。
　Ｒ１としては、炭素数１～２０のアルキレン基が好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基がより好ましく、炭素数１～５のアルキレン基がさらに好ましく、エチレン基が特に好ましい。
　一態様において、Ｔ１１は、アルキル基又はトリアルキルシリル基であることが好ましく、メチル基又はトリメチルシリル基であることがより好ましい。
　１価の環状のポリシロキサン残基は、下記式（Ｔ１）で表される基が好ましい。
　式（Ｔ１）中、
　ＲＴは、それぞれ独立に、炭化水素基又は置換基を有する炭化水素基であり、
　ｓは、１～４の整数である。
　ＲＴで表される炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。中でも、炭化水素基は、脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
　ＲＴで表される炭化水素基のうち、アルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれであってもよいが、直鎖状アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることがさらに好ましい。具体的に、アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はｎ－ブチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
　ＲＴで表される置換基を有する炭化水素基に含まれる炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。中でも、炭化水素基は、脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。アルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれであってもよいが、直鎖状アルキル基が好ましい。置換アルキル基に含まれるアルキル基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、２～４であることがさらに好ましい。
　ＲＴで表される置換基を有する炭化水素基における置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、トリアルキルシリルエーテル基、トリアルキルシリル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
　複数のＲＴは同一であってもよく、互いに異なっていてもよいが、製造容易性の観点から、同一であることが好ましい。
　１価の環状のポリシロキサン残基としては、例えば、以下の基が挙げられる。
　１価のかご状のポリシロキサン残基は下記式（Ｔ２）で表される基が好ましい。
　式（Ｔ２）中、
　Ｒ５はそれぞれ独立に、炭化水素基、又はトリアルキルシリルオキシ基である。
　Ｒ５で表される炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基が挙げられる。中でも、炭化水素基は、脂肪族炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。アルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれであってもよいが、直鎖状アルキル基又は分岐鎖状アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、又は、イソブチル基がより好ましく、イソブチル基がさらに好ましい。
　Ｒ５で表されるトリアルキルシリルオキシ基に含まれるアルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれであってもよいが、直鎖状アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、又はｎ－ブチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。Ｒ５がトリアルキルシリルオキシ基である場合、３つのアルキルシリルオキシ基は同一であってもよく、互いに異なっていてもよいが、製造容易性の観点から、同一であることが好ましい。
　１価のかご状のポリシロキサン残基としては、例えば、以下の基が挙げられる。
　１価の環状のポリシロキサン残基又は１価のかご状のポリシロキサン残基と２価の炭化水素基との組み合わせにおける２価の炭化水素基としては、アルキレン基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５がさらに好ましい。
　式（Ｃ１）中、Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、－Ｏ－が好ましい。
　式（Ｃ１）中、ｐ１は、１以上の整数であり、１～３の整数が好ましく、１又は２がより好ましく、１がさらに好ましい。
　式（Ｃ１）中、Ａ１１としては、アルキレン基、オルガノ（ポリ）シロキサン残基、ポリアルキレンオキシド基、及びこれらの組み合わせ、並びにこれらと（ｐ１＋１）価の基との組み合わせが挙げられる。
　アルキレン基としては、エーテル性酸素原子、硫黄原子、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有していても有していなくてもよい、炭素数１～３０のアルキレン基、好ましくは炭素数１～２０のアルキレン基が挙げられる。
　オルガノ（ポリ）シロキサン残基としては、前述の式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される基が挙げられる。
　ポリアルキレンオキシド基としては、式（ＸＯ）ｍで表される基が挙げられる。ここで、Ｘはそれぞれ独立に炭素数１～５のアルキレン基であり、ｍは１以上の整数である。Ｘの炭素数は１～４が好ましく、２又は３がより好ましい。ｍは１～２００が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。
　Ａ１１としては、後述の式Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑにおける、ｑ＝１である場合のＡが挙げられる。
　一態様において、式（Ｃ１）におけるＴ１１は、トリアルキルシリル基又はアルキル基であることが好ましく、トリメチルシリル基又はメチル基であることがより好ましい。
　
　Ｂは、Ｏであることが好ましく、ｒは、０又は１である。
　Ｒ３は、メチル基であることが好ましい。
　ｋ１は、１～１００であることが好ましい。
　ｐ１は、１であることが好ましい。
　Ａ１１は、炭素数１～３０のアルキレン基であることが好ましい。
（化合物（Ｃ１－２））
　一態様において、第１の化合物としては、下記式（Ｃ１－２）で表される化合物も好ましい。
　式（Ｃ１－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、１～３の整数であり、
　Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、及びＡ１１の定義は、式（Ｃ１）中の定義と同じである。
　式（Ｃ１－２）中、Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、及びＡ１１の具体的態様は、式（Ｃ１）中の具体的態様と同じである。
　式（Ｃ１－２）中、Ｌ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様は、式（Ｓ３）におけるＬ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様と同じである。
（化合物（Ｃ１－３））
　一態様において、第１の化合物としては、下記（Ｃ１－３）で表される化合物も好ましい。
　式（Ｃ１－３）中、
　Ｂ１１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していない、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基；又は、分岐アルキル基を含む１価の基であり、ただし、Ｂ１１は反応性シリル基を含まず、
　ｕ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１５は、（ｕ１＋１）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ１－３）中、Ｒ２、Ｌ、及びｎは、式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　Ｂ１１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していない、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基；又は、分岐アルキル基を含む１価の基である。水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基は、水酸基又は加水分解性基が直接結合したＳｉ、Ｇｅ、又はＳｎを含んでいてもよく、含まなくてもよい。
　一態様において、Ｂ１１は基（ａ）又は基（ｂ）を有する基であってもよい。
　式（ａ）中、
　Ｒ５１は、－（Ｒ６１－ＳｉＲ５３ ２）ｍａ－Ｒ５３で表される基であり、ここで、Ｒ６１は、それぞれ独立に、酸素原子、又は炭素数１～６のアルキレン基であり、Ｒ５３は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＲ５１’であり、Ｒ５１’は、Ｒ５１と同義であり、ｍａは、１～５の整数であり、ただし、Ｒ５１中、Ｒ５１’の数は２０以下であり、
　Ｒ５２は、炭化水素基であり、
　ｎａは、１～３の整数であり、
　ｚは、０又は１であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位を表す。
　式（ｂ）中、
　Ｒ５４は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｎｂは、１～５の整数であり、
　ｚは、０又は１であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位を表す。
　Ｒ６１における炭素数１～６のアルキレン基は、直鎖であってもよく、分枝鎖であってもよい。炭素数１～６のアルキレン基は、炭素数１～４のアルキレン基が好ましく、炭素数２～４のアルキレン基がより好ましい。
　Ｒ５３で表される炭化水素基は、アルキル基又はアリール基が好ましい。アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。アルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、炭素数１～４のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基がさらに好ましい。
　Ｒ５２で表される炭化水素基は、アルキル基又はアリール基が好ましい。アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。アルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、炭素数１～４のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基がさらに好ましい。
　Ｒ５４で表される炭化水素基は、アルキル基又はアリール基が好ましい。アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。アルキル基としては、炭素数１～６のアルキル基が好ましく、炭素数１～４のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基がさらに好ましい。
　ｎｂは、１～５の整数、好ましくは２または３である。
　基（ａ）又は基（ｂ）を有する基としては、基（ａ）又は基（ｂ）単独、及び基（ａ）又は基（ｂ）に鎖状基が連結された基が挙げられる。
　鎖状基としては、鎖状炭化水素基；鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基；鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基；これらの組み合わせ等が挙げられる。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　鎖状炭化水素基としては、炭素数２～１００、好ましくは５～９０、より好ましくは１０～８０の直鎖又は分岐の鎖状炭化水素基が挙げられる。鎖状炭化水素基としては、アルキレン基が好ましく、耐酸性、耐熱水性、耐摩擦性等に優れた表面処理層を形成する観点からは、鎖状炭化水素基は炭素数１３以上のアルキレン基が好ましい。
　鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基の炭素数も上記と同様である。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基としては、第１の化合物及び第２の化合物中の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基として上述した例が挙げられる。
　一態様において、Ｂ１１は基（ｃ）を有する基であってもよい。
　－Ｍ３１（Ｒ３１）２－　　・・・（ｃ）
　式（ｃ）中、
　Ｍ３１は、Ｓｎ又はＧｅであり、
　Ｒ３１はそれぞれ独立に、炭化水素基、又はトリアルキルシリルオキシ基である。
　Ｍ３１は、Ｓｎ又はＧｅである。ＳｎよりもＧｅの方が原子サイズが大きく、より表面自由エネルギーを低下でき、指紋除去性にすぐれた表面処理層を形成できる点から、Ｍ３１は、Ｇｅであることが好ましい。
　Ｒ３１は、炭化水素基、又はトリアルキルシリルオキシ基である。
　炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられ、合成の容易性等の点から、飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。Ｒ３１の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、中でも－ＣＨ３又は－ＣＨ２ＣＨ３が好ましい。
　トリアルキルシリルオキシ基は、－Ｏ－ＳｉＲ４０ ３で表される基が好ましい。ただし、Ｒ４０はそれぞれ独立に炭化水素基である。Ｒ４０における炭化水素基は、アルキル基、又はアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。Ｒ４０の炭素数は、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１～２がさらに好ましい。Ｒ４０における炭化水素基の具体例としては、－ＣＨ３、－ＣＨ２ＣＨ３、－Ｃ（ＣＨ３）３が挙げられる。
　基（ｃ）を有する基としては、基（ｃ）単独、及び、基（ｃ）のＭ３１の片側又は両側に有機基が連結された基が挙げられる。有機基としては、１価の有機基、２価の有機基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。ただし、両側に１価の有機基は連結しない。
　１価の有機基としては、炭化水素基、トリアルキルシリルオキシ基、又はオルガノポリシロキサン基が挙げられる。基（ｃ）はＭ３１（Ｒ３１）３－であってもよい。
　２価の有機基としては、鎖状炭化水素基；鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基；鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基；これらの組み合わせ等が挙げられる。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　鎖状炭化水素基としては、炭素数２～１００、好ましくは５～９０、より好ましくは１０～８０の直鎖又は分岐の鎖状炭化水素基が挙げられる。鎖状炭化水素基としては、アルキル基又はアルキレン基が挙げられる。耐酸性、耐熱水性、耐摩擦性等に優れた表面処理層を形成する観点からは、鎖状炭化水素基は炭素数１３以上のアルキレン基が好ましい。
　鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基の炭素数も上記と同様である。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基としては、第１の化合物及び第２の化合物中の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基として上述した例が挙げられる。
　一態様において、Ｂ１１は分岐アルキル基を含む１価の基であってもよい。分岐アルキル基は非置換であることが好ましい。分岐アルキル基は、ｔｅｒｔ－ブチル基であるか、ｔｅｒｔ－ブチル基を含むことが好ましい。分岐アルキル基は、分岐を１つ含んでもよく、複数含んでもよい。分岐アルキル基における分岐の数は、１～３０でもよく、１～２０でもよく、１～１０でもよく、１～５でもよい。
　分岐アルキル基としては、以下の式で表される基が挙げられる。
　［（ＣＨ３）３Ｃ－Ｒ２２－］ｍ２２Ｃ（ＣＨ３）３－ｍ２２－
　式中、
　Ｒ２２はそれぞれ独立に、炭素数１～６のアルキレン基であり、
　ｍ２２は、０～３の整数である。
　分岐アルキル基を含む１価の基としては、分岐アルキル基の分岐点となる炭素原子に鎖状基が連結された基が挙げられる。
　鎖状基としては、鎖状炭化水素基；鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基；鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基；これらの組み合わせ等が挙げられる。
　鎖状炭化水素基としては、炭素数２～１００、好ましくは５～９０、より好ましくは１０～８０の直鎖又は分岐の鎖状炭化水素基が挙げられる。鎖状炭化水素基としては、アルキレン基が好ましく、耐酸性、耐熱水性、耐摩擦性等に優れた表面処理層を形成する観点からは、鎖状炭化水素基は炭素数１３以上のアルキレン基が好ましい。
　鎖状炭化水素基の末端又は炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有する基の炭素数も上記と同様である。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基としては、第１の化合物及び第２の化合物中の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基として上述した例が挙げられる。
　式（Ｃ１－３）中、ｕ１は、１以上の整数である。製造容易性等の観点からは、ｕ１は１～６が好ましく、１～４が好ましい。
　式（Ｃ１－３）中、Ａ１５は、（ｕ１＋１）価の連結基である。Ａ１５としては、式（Ｃ１）におけるＡ１１と同様の具体例が挙げられる。
　化合物（Ｃ１－３）としては、Ｂ１１が基（ａ）又はＭ３１（Ｒ３１）３－であって、ｕ１が１であって、Ａ１５が炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有していても有していなくてもよい、炭素数１～３０のアルキレン基である化合物でもよい。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　化合物（Ｃ１－３）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
（化合物（Ｃ１－４））
　一態様において、第１の化合物としては、下記（Ｃ１－４）で表される化合物も好ましい。

　式（Ｃ１－４）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、１～３の整数であり、
　Ｂ１１、ｕ１、及びＡ１５の定義は、式（Ｃ１－３）中の定義と同じである。
　Ｂ１１、ｕ１、及びＡ１５の具体的態様は式（Ｃ１－３）中の具体的態様と同じである。
　Ｌ２、Ｐ、及びｒ１の具体的態様は式（Ｓ３）中の具体的態様と同じである。
（化合物（Ｃ２））
　一態様において、第２の化合物としては、下記式（Ｃ２）で表される化合物が好ましい。
　式（Ｃ２）中、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　ｐ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１２は、（ｐ１＋ｑ１）価の連結基であり、
　ｑ１は、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ２）中、Ｒ３及びｋ１は、式（Ｂ１）におけるＲ３及びｋ１と同様である。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　Ｔ１１、Ｂ、ｒ、及びｐ１は、式（Ｃ１）におけるＴ１１、Ｂ、ｒ、及びｐ１と同様である。
　式（Ｃ２）において、ｐ１が２以上である場合、複数のＴ１１－Ｂｒ－［Ｓｉ（Ｒ３）２－Ｏ］ｋ１－Ｓｉ（Ｒ３）２－は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
　式（Ｃ２）において、複数の［Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
　式（Ｃ２）において、ｑ１は、２～１８が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましく、２～６が特に好ましく、２～４が極めて好ましく、２又は３が最も好ましい。
　Ａ１２としては、後述のＡ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基における、ｑが２以上の整数である場合のＡが挙げられる。
　Ａ１２としては、式（３－１Ａ）（ただし、ｈは２以上の整数）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、式（３－１Ｂ）（ただし、ｙは２以上の整数）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－２）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－３）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－４）（ただし、ｗ１は０又は１）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－５）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－６）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、及び基（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。中でも、Ａ１２としては、基（３－１Ａ－４）（ただし、ｗ１は０又は１）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基が好ましい。
　一態様において、式（Ｃ２）におけるＴ１１は、トリアルキルシリル基又はアルキル基であることが好ましく、トリメチルシリル基又はメチル基であることがより好ましい。
　Ｂは、Ｏであることが好ましく、ｒは、０又は１である。
　Ｒ３は、メチル基であることが好ましい。
　ｋ１は、１～１００であることが好ましい。
　ｐ１は、１であることが好ましい。
　Ａ１２は、基（３－１Ａ－４）（ただし、ｗ１は０又は１）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基が好ましい。
　ｑ１は、２～４の整数であることが好ましい。
（化合物（Ｃ２－２））
　一態様において、第２の化合物としては、下記（Ｃ２－２）で表される化合物も好ましい。
　式（Ｃ２－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、Ａ１2、及びｑ１の定義は、式（Ｃ２）中の定義と同じである。
　式（Ｃ２－２）中、Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、Ａ１２、及びｑ１の具体的態様は、式（Ｃ２）中の具体的態様と同じである。
　式（Ｃ２－２）中、Ｌ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様は、式（Ｓ３）におけるＬ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様と同じである。
（化合物（Ｃ２－３））
　一態様において、第２の化合物としては、下記（Ｃ２－３）で表される化合物も好ましい。
　式（Ｃ２－３）中、
　Ｂ１１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していない、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基；又は、分岐アルキル基を含む１価の基であり、ただし、Ｂ１１は反応性シリル基を含まず、
　ｕ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１６は、（ｑ１＋ｕ１）価の連結基であり、
　ｑ１は、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ２－３）中、Ｒ２、Ｌ、及びｎは、式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　ｑ１は、式（Ｃ２）におけるｑ１と同様である。
　Ｂ１１及びｕ１は、式（Ｃ１－３）におけるＢ１１及びｕ１と同様である。
　式（Ｃ２－３）中、Ａ１６は、（ｑ１＋ｕ１）価の連結基である。Ａ１６としては、式（Ｃ２）におけるＡ１２と同様の具体例が挙げられる。
　化合物（Ｃ２－３）としては、Ｂ１１が基（ａ）又はＭ３１（Ｒ３１）３－であって、ｕ１が１であって、Ａ１６が炭素－炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有していても有していなくてもよい、炭素数１～３０の鎖状炭化水素基であって、ｑ１が２又は３である化合物でもよい。Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　化合物（Ｃ２－３）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。下記式中、ｓａは１～３０が好ましく、４～２０がより好ましく、５～１５がさらに好ましい。

（化合物（Ｃ２－４））
　一態様において、第２の化合物としては、下記（Ｃ２－４）で表される化合物も好ましい。
　式（Ｃ２－４）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｂ１１、ｕ１、Ａ１６、及びｑ１の定義は、式（Ｃ２－３）中の定義と同じである。
　Ｂ１１、ｕ１、Ａ１６、及びｑ１の具体的態様は式（Ｃ２－３）中の具体的態様と同じである。
　Ｌ２、Ｐ、及びｒ１の具体的態様は式（Ｓ３）中の具体的態様と同じである。
　第１の化合物及び第２の化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、それぞれ独立に、５００～２０，０００であることが好ましく、６００～１８，０００であることがより好ましく、７００～１５，０００であることがさらに好ましい。一態様において、第１の化合物及び第２の化合物のＭｎは、それぞれ独立に、８００～５，５００でもよく、９００～４，０００でもよく、１，０００～２，５００でもよい。
　Ｍｎが５００以上であれば、表面処理層の耐摩耗性がより優れる。Ｍｎが２０，０００以下であれば、粘性を適切な範囲内に調節しやすく、また溶解性が向上するので、成膜時のハンドリング性が優れる。
　一態様において、第１の化合物及び第２の化合物の分子量は、比較的近くてもよい。例えば、第１の化合物及び第２の化合物のＭｎは、いずれも、５００～２０，０００であることが好ましく、６００～１８，０００であることがより好ましく、７００～１５，０００であることがさらに好ましい。一態様において、第１の化合物及び第２の化合物のＭｎは、いずれも、８００～５，５００でもよく、９００～４，０００でもよく、１，０００～２，５００でもよい。
　一態様において、第１の化合物の分子量は第２の化合物の分子量より小さくてもよい。例えば、第１の化合物及び第２の化合物のＭｎは、それぞれ、５００～２０，０００及び１，０００～４０，０００であることが好ましく、６００～１８，０００及び１，２００～３６，０００であることがより好ましく、７００～１５，０００及び１，４００～３０，０００であることがさらに好ましい。一態様において、第１の化合物及び第２の化合物のＭｎは、それぞれ、８００～５，５００及び１，６００～１１，０００でもよく、９００～４，０００及び１，８００～８，０００でもよく、１，０００～２，５００及び２，０００～５，０００でもよい。
　本開示の組成物は、第１の化合物及び第２の化合物をそれぞれ１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。例えば、本開示の組成物は、１種類の第１の化合物と１種類の第２の化合物を含んでもよく、１種類の第１の化合物と２種類以上の第２の化合物を含んでもよく、２種類以上の第１の化合物と１種類の第２の化合物を含んでもよく、２種類以上の第１の化合物と２種類以上の第２の化合物を含んでもよい。
　本開示の組成物は、第１の化合物及び／又は第２の化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。
　第１の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１質量％以上５０質量％未満が好ましく、０．０１質量％以上２０質量％未満がより好ましく、０．１質量％以上１０質量％未満がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、第１の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．０１質量％以上１０質量％未満であってもよく、０．０２質量％以上５質量％未満であってもよく、０．０３質量％以上３質量％未満であってもよく、０．０５質量％以上２質量％未満であってもよい。
　第２の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１質量％以上５０質量％未満が好ましく、０．０１質量％以上２０質量％未満がより好ましく、０．１質量％以上１０質量％未満がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、第２の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．０１質量％以上１０質量％未満であってもよく、０．０２質量％以上５質量％未満であってもよく、０．０３質量％以上３質量％未満であってもよく、０．０５質量％以上２質量％未満であってもよい。
　第１の化合物及び第２の化合物の合計含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１～５０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．１～１０質量％がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、第１の化合物及び第２の化合物の合計含有量の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．０１～１０質量％であってもよく、０．０２～５質量％であってもよく、０．０３～３質量％であってもよく、０．０５～２質量％であってもよい。
　耐光性をより向上する観点からは、第１の化合物と第２の化合物の合計含有量に対する第１の化合物の割合は、３～５０質量％が好ましく、１０～４０質量％がより好ましい。すなわち、第１の化合物と第２の化合物の合計含有量に対する第２の化合物の割合は、５０～９７質量％が好ましく、６０～９０質量％がより好ましい。
〔第３の化合物及び第４の化合物〕
　第３の化合物は、２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する。
　第４の化合物は、２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する。
　一態様において、第３の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有することが好ましい。
　一態様において、第４の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有することが好ましい。
（鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）
　第３の化合物及び第４の化合物は、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基を含むことが好ましい。各化合物に含まれる鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は１つであっても２つ以上であってもよい。各化合物に２つ以上の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基が含まれる場合、２つ以上の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は同じであっても異なってもよい。第３の化合物及び第４の化合物において、各化合物に２つ以上の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基が含まれる場合、各化合物において、少なくとも１つの鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基について、両末端側に反応性シリル基が連結されていればよい。
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基のその他の詳細は、第１の化合物及び第２の化合物の項において前述した通りである。特に、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は、式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表されることが好ましく、式（Ｂ１）で表されることがより好ましい。
（反応性シリル基）
　第３の化合物は、反応性シリル基を、２価の鎖状基（例えば、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）の両末端側にそれぞれ１つずつ有する。
　第４の化合物は、反応性シリル基を、２価の鎖状基（例えば、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）の両末端側にそれぞれ２つ以上有する。第４の化合物に含まれる反応性シリル基の数は、表面処理層の耐光性、耐摩耗性等を向上させる観点からは、２価の鎖状基（例えば、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基）の末端当たり、２～１８が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましく、２～６が特に好ましく、２～４が極めて好ましい。
　反応性シリル基のその他の詳細は第１の化合物及び第２の化合物の項において前述した通りである。
（化合物（Ｃ３））
　一態様において、第３の化合物としては、下記式（Ｃ３）で表される化合物が好ましい。
　式（Ｃ３）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　Ａ１３は、それぞれ独立に、２価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ３）中、Ｒ４及びｋ１は、式（Ｂ２）におけるＲ４及びｋ１と同様である。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　Ａ１３としては、アルキレン基、オルガノ（ポリ）シロキサン残基、ポリアルキレンオキシド基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。
　アルキレン基としては、エーテル性酸素原子、硫黄原子、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｓ－、－ＳＣ（＝Ｏ）－、－Ｓ（＝Ｏ）２ＮＨ－、－ＮＨＳ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２Ｏ－、－ＯＳ（＝Ｏ）２－、及びフェニレン基からなる群より選択される少なくとも１つを有していても有していなくてもよい、炭素数１～３０のアルキレン基、好ましくは炭素数１～２０のアルキレン基が挙げられる。
　オルガノ（ポリ）シロキサン残基としては、上記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される基が挙げられる。
　ポリアルキレンオキシド基としては、式（ＸＯ）ｍで表される基が挙げられる。ここで、Ｘはそれぞれ独立に炭素数１～５のアルキレン基であり、ｍは１以上の整数である。Ｘの炭素数は１～４が好ましく、２又は３がより好ましい。ｍは１～１００が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５がさらに好ましい。
　Ａ１３としては、後述の式Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑにおける、ｑ＝１である場合のＡが挙げられる。
　一態様において、Ｒ４は、メチル基であることが好ましい。
　ｋ１は、１～１００の数であることが好ましい。
　Ａ１３は、炭素数１～３０のアルキレン基であることが好ましい。
（化合物（Ｃ３－２））
　一態様において、第３の化合物としては、下記式（Ｃ３－２）で表される化合物も好ましい。
　式（Ｃ３－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｒ４、ｋ１、及びＡ１３の定義は、式（Ｃ３）中の定義と同じである。
　式（Ｃ３－２）中、Ｒ４、ｋ１、及びＡ１３の具体的態様は、式（Ｃ３）中の具体的態様と同じである。
　式（Ｃ３－２）中、Ｌ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様は、式（Ｓ３）におけるＬ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様と同じである。
（化合物（Ｃ４））
　一態様において、第４の化合物としては、下記式（Ｃ４）で表される化合物が好ましい。
　式（Ｃ４）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　Ａ１４は、それぞれ独立に、（ｑ１＋１）価の連結基であり、
　ｑ１は、それぞれ独立に、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　式（Ｃ４）中、Ｒ４及びｋ１は、式（Ｂ２）におけるＲ４及びｋ１と同様である。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　Ａ１４としては、後述のＡ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基における、ｑが２以上の整数である場合のＡが挙げられる。
　Ａ１４としては、式（３－１Ａ）（ただし、ｈは２以上の整数）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、式（３－１Ｂ）（ただし、ｙは２以上の整数）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－２）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－３）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－４）（ただし、ｗ１は０又は１）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－５）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、基（３－１Ａ－６）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基、及び基（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。中でも、Ａ１４としては、基（３－１Ａ－４）（ただし、ｗ１は０又は１）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基が好ましい。
　式（Ｃ４）において、ｑ１は、それぞれ独立に、２～１８が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８がさらに好ましく、２～６が特に好ましく、２～４が極めて好ましく、２又は３が最も好ましい。
　一態様において、Ｒ４は、メチル基であることが好ましい。
　ｋ１は、１～１００の数であることが好ましい。
　Ａ１４は、基（３－１Ａ－４）（ただし、ｗ１は０又は１）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基が好ましい。
　ｑ１は、２～４の整数であることが好ましい。
（化合物（Ｃ４－２））
　一態様において、第４の化合物としては、下記式（Ｃ４－２）で表される化合物も好ましい。
　式（Ｃ４－２）中、
　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
　Ｒ４、ｋ１、Ａ１４、及びｑ１の定義は、式（Ｃ４）中の定義と同じである。
　式（Ｃ４－２）中、Ｒ４、ｋ１、Ａ１４、及びｑ１の具体的態様は、式（Ｃ４）中の具体的態様と同じである。
　式（Ｃ４－２）中、Ｌ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様は、式（Ｓ３）におけるＬ２、Ｐ及びｒ１の具体的態様と同じである。
　第３の化合物及び第４の化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、それぞれ独立に、５００～２０，０００であることが好ましく、６００～１８，０００であることがより好ましく、７００～１５，０００であることがさらに好ましい。一態様において、第３の化合物及び第４の化合物のＭｎは、それぞれ独立に、８００～５，５００でもよく、９００～４，０００でもよく、１，０００～２，５００でもよい。
　Ｍｎが５００以上であれば、表面処理層の耐摩耗性がより優れる。Ｍｎが２０，０００以下であれば、粘性を適切な範囲内に調節しやすく、また溶解性が向上するので、成膜時のハンドリング性が優れる。
　一態様において、第３の化合物及び第４の化合物の分子量は、比較的近くてもよい。例えば、第３の化合物及び第４の化合物のＭｎは、いずれも、５００～２０，０００であることが好ましく、６００～１８，０００であることがより好ましく、７００～１５，０００であることがさらに好ましい。一態様において、第３の化合物及び第４の化合物のＭｎは、いずれも、８００～５，５００でもよく、９００～４，０００でもよく、１，０００～２，５００でもよい。
　一態様において、第３の化合物の分子量は第４の化合物の分子量より大きくてもよい。例えば、第４の化合物及び第３の化合物のＭｎは、それぞれ、５００～２０，０００及び１，０００～４０，０００であることが好ましく、６００～１８，０００及び１，２００～３６，０００であることがより好ましく、７００～１５，０００及び１，４００～３０，０００であることがさらに好ましい。一態様において、第４の化合物及び第３の化合物のＭｎは、それぞれ、８００～５，５００及び１，６００～１１，０００でもよく、９００～４，０００及び１，８００～８，０００でもよく、１，０００～２，５００及び２，０００～５，０００でもよい。
　別の態様において、第３の化合物の分子量は第４の化合物の分子量より小さくてもよい。例えば、第３の化合物及び第４の化合物のＭｎは、それぞれ、５００～２０，０００及び１，０００～４０，０００であることが好ましく、６００～１８，０００及び１，２００～３６，０００であることがより好ましく、７００～１５，０００及び１，４００～３０，０００であることがさらに好ましい。一態様において、第３の化合物及び第４の化合物のＭｎは、それぞれ、８００～５，５００及び１，６００～１１，０００でもよく、９００～４，０００及び１，８００～８，０００でもよく、１，０００～２，５００及び２，０００～５，０００でもよい。
　本開示の組成物は、第３の化合物及び第４の化合物をそれぞれ１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。例えば、本開示の組成物は、１種類の第３の化合物と１種類の第４の化合物を含んでもよく、１種類の第３の化合物と２種類以上の第４の化合物を含んでもよく、２種類以上の第３の化合物と１種類の第４の化合物を含んでもよく、２種類以上の第３の化合物と２種類以上の第４の化合物を含んでもよい。
　本開示の組成物は、第３の化合物及び／又は第４の化合物の製造工程で生成した副生物等の不純物を含んでもよい。
　第３の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１質量％以上５０質量％未満が好ましく、０．０１質量％以上２０質量％未満がより好ましく、０．１質量％以上１０質量％未満がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、第３の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．０１質量％以上１０質量％未満であってもよく、０．０２質量％以上５質量％未満であってもよく、０．０３質量％以上３質量％未満であってもよく、０．０５質量％以上２質量％未満であってもよい。
　第４の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１質量％以上５０質量％未満が好ましく、０．０１質量％以上２０質量％未満がより好ましく、０．１質量％以上１０質量％未満がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、第４の化合物の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．０１質量％以上１０質量％未満であってもよく、０．０２質量％以上５質量％未満であってもよく、０．０３質量％以上３質量％未満であってもよく、０．０５質量％以上２質量％未満であってもよい。
　第３の化合物及び第４の化合物の合計含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１～５０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．１～１０質量％がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、第３の化合物及び第４の化合物の合計含有量の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、０．０１～１０質量％であってもよく、０．０２～５質量％であってもよく、０．０３～３質量％であってもよく、０．０５～２質量％であってもよい。
　耐光性をより向上する観点からは、第３の化合物と第４の化合物の合計含有量に対する第３の化合物の割合は、３～５０質量％が好ましく、１０～４０質量％がより好ましい。すなわち、第３の化合物と第４の化合物の合計含有量に対する第４の化合物の割合は、５０～９７質量％が好ましく、６０～９０質量％がより好ましい。
〔第１の化合物～第４の化合物の部分構造〕
　以下、式（Ｃ１）におけるＡ１１（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）、式（Ｃ１－３）におけるＡ１５（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）、式（Ｃ２）におけるＡ１２（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ１、式（Ｃ２－３）におけるＡ１６（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ１、式（Ｃ３）におけるＡ１３（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）、並びに式（Ｃ４）におけるＡ１４（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ１の好ましい態様を詳述する。以下、式（Ｃ１）におけるＡ１１（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）、式（Ｃ１－３）におけるＡ１５（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）、式（Ｃ２）におけるＡ１２（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ１、式（Ｃ２－３）におけるＡ１６（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ１、式（Ｃ３）におけるＡ１３（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）、並びに式（Ｃ４）におけるＡ１４（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ１を包括してＡ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑと示す。
　ただし、Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑにおいて、
　式（Ｃ１）の場合、ｑ＝１であり、Ａは（ｐ１＋１）価の基であり、
　式（Ｃ１－３）の場合、ｑ＝１であり、Ａは（ｕ１＋１）価の基であり、
　式（Ｃ２）の場合、ｑは２以上の整数であり、Ａは（ｐ１＋ｑ１）価の基であり、
　式（Ｃ２－３）の場合、ｑは２以上の整数であり、Ａは（ｑ１＋ｕ１）価の基であり、
　式（Ｃ３）の場合、ｑ＝１であり、Ａは２価の基であり、
　式（Ｃ４）の場合、ｑは２以上の整数であり、Ａは（ｑ１＋１）価の基である。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基は、基（３－１Ａ）又は基（３－１Ｂ）が好ましく、基（３－１Ａ）がより好ましい。
　－Ｑａ－Ｘ３１（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｈ（－Ｒ３１）ｉ　　…（３－１Ａ）
　－Ｑｃ－［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）］ｙ－Ｒ３３　　…（３－１Ｂ）
　なお、式（３－１Ａ）及び式（３－１Ｂ）中、Ｒ２、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
　式（３－１Ａ）中、Ｑａは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　上記２価の炭化水素基としては、２価の飽和炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。２価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよく、例えば、アルキレン基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、４～２０がさらに好ましく、５～１５が特に好ましい。また、２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数５～２０のものが好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数２～２０のアルケニレン基、炭素数２～２０のアルキニレン基であってもよい。
　上記Ｒａは、アルキル基（好ましくは炭素数１～１０）、又は、フェニル基である。上記Ｒｄは、水素原子又はアルキル基（好ましくは炭素数１～１０）である。
　なお、上記これらを２種以上組み合わせた基としては、例えば、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－Ｓ－を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、及びアルキレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２－フェニレン基－Ｓｉ（Ｒａ）２が挙げられる。
　式（３－１Ａ）中、Ｘ３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である。
　なお、上記アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
　Ｘ３１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　２～８価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基としては、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、及び、後述する（ｗ２＋１）価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基が挙げられる。
　式（３－１Ａ）中、Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である場合、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）及びＲ３１は、該環を構成する原子に直接結合している。ただし、該環はオルガノポリシロキサン環以外の環である。
　Ｘ３１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環及び集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
　単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環及び６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個結合した縮合多環、及び、５員環及び６員環から選ばれる環の１又は２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環及び６員環から選ばれる環の２又は３個が単結合、炭素原子の１～３個、又は原子価が２又は３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＱａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）及びＲ３１（ｉ＝１以上の場合）のいずれかが結合していることが好ましい。
　上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子及び酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は異なっていてもよい。
　Ｘ３１における環としては、化合物が製造しやすく、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる点から、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、これらの環のうちの２又は３個が縮合した縮合環、５員環又は６員環を最大の環とする橋かけ環、及び、これらの環のうちの２つ以上を有し、連結基が単結合、炭素数３以下のアルキレン基、酸素原子又は硫黄原子である集合多環からなる群から選ばれる１種が好ましい。
　好ましい環は、ベンゼン環、５員又は６員の脂肪族環、窒素原子又は酸素原子を有する５員又は６員のヘテロ環、及び、５員又は６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合環である。
　具体的な環としては、以下に示す環と、１，３－シクロヘキサジエン環、１，４－シクロヘキサジエン環、アントラセン環、シクロプロパン環、デカヒドロナフタレン環、ノルボルネン環、ノルボルナジエン環、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピラジン環、モルホリン環、アジリジン環、イソキノリン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピラン環、ピリダジン環、ピリミジン環、及びインデン環が挙げられる。なお、以下には、オキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。
　Ｘ３１における環を構成する原子の環を構成しない結合手は、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１に結合する結合手である。残余の結合手がある場合には、残余の結合手は、水素原子又は置換基に結合している。該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
　また、環を構成する炭素原子の１個が、Ｑａ、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１に結合する結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原子にＱａと（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）とが結合していてもよく、２つの（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）が結合していてもよい。Ｑａと、（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）又はＲ３１とは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｈ個の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。ｉ個のＲ３１はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個のＲ３１が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。
　中でも、Ｘ３１は、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点から、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、４～８価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基が好ましく、炭素原子がより好ましい。
　式（３－１Ａ）中、Ｑｂは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
　中でも、Ｑｂは、エーテル性酸素原子を有してもよいアルキレン基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよく、２～５であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　式（３－１Ａ）中、Ｒ３１は、水素原子、水酸基又はアルキル基である。
　アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１がさらに好ましい。
　Ｘ３１が単結合又はアルキレン基の場合、ｈは１、ｉは０であり、
　Ｘ３１が窒素原子の場合、ｈは１～２の整数であり、ｉは０～１の整数であり、ｈ＋ｉ＝２を満たし、
　Ｘ３１が炭素原子又はケイ素原子の場合、ｈは１～３の整数であり、ｉは０～２の整数であり、ｈ＋ｉ＝３を満たし、
　Ｘ３１が２～８価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　Ｘ３１が（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基の場合、ｈは１～７の整数であり、ｉは０～６の整数であり、ｈ＋ｉ＝１～７を満たす。
　（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ）ｎＬ３－ｎ）は、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
　中でも、表面処理層の耐摩耗性を向上させる観点から、ｉは０であることが好ましい。
　式（３－１Ｂ）中、Ｑｃは、単結合又は２価の連結基である。
　２価の連結基の定義は、上述したＱａで説明した定義と同義である。
　式（３－１Ｂ）中、Ｒ３２は、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子であることが好ましい。
　アルキル基としては、メチル基が好ましい。
　式（３－１Ｂ）中、Ｑｄは、単結合又はアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。化合物を製造しやすい点から、Ｑｄは、単結合又はＣＨ２－であることが好ましい。
　式（３－１Ｂ）中、Ｒ３３は、水素原子又はハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子であることが好ましい。
　ｙは、１～１０の整数であり、１～６の整数であることが好ましい。
　２個以上の［ＣＨ２Ｃ（Ｒ３２）（－Ｑｄ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）が好ましい。
　－（Ｘ３２）ｓ１－Ｑｂ１－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ　　…（３－１Ａ－１）
　－（Ｘ３３）ｓ２－Ｑａ２－Ｎ［－Ｑｂ２－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］２　　…（３－１Ａ－２）
　－Ｑａ３－Ｓｉ（Ｒｇ）［－Ｑｂ３－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］２　　…（３－１Ａ－３）
　－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｃ［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］３－ｗ１（－Ｒ３１）ｗ１　　…（３－１Ａ－４）
　－Ｑａ５－Ｓｉ［－Ｑｂ５－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］３　　…（３－１Ａ－５）
　－［Ｑｅ］ｖ－Ｑａ６－Ｚａ［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］ｗ２　　…（３－１Ａ－６）
　－［Ｑｅ］ｓ４－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－Ｚｃ［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］ｗ３（－ＯＨ）ｗ４　　…（３－１Ａ－７）
　なお、式（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）中、Ｒ２、Ｌ、及び、ｎの定義は、上述した通りである。
　中でも、基（３－１Ａ）は、基（３－１Ａ－４）が好ましい。
　基（３－１Ａ－１）において、Ｘ３２は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、若しくは－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－；又は、これらと２価連結基との組み合わせである（ただし、式中のＮはＱｂ１に結合する）。
　Ｒｄの定義は、上述した通りである。
　ｓ１は、０又は１である。
　Ｘ３２が、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、若しくは－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－と、２価連結基と、の組み合わせである場合、２価連結基は、式（Ｃ１）～（Ｃ４）のＳｉ（Ｒ３）２若しくはＳｉ（Ｒ４）２、又は、式（Ｃ１－３）若しくは（Ｃ２－３）のＢ１１と結合する。
　２価連結基としては、アルキレン基、オルガノ（ポリ）シロキサン残基、ポリアルキレンオキシド基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。
　Ｑｂ１は、単結合又はアルキレン基である。なお、アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基及びジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
　なお、アルキレン基が－Ｏ－、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子－炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
　Ｑｂ１で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～６が特に好ましい。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　基（３－１Ａ－２）において、Ｘ３３は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、若しくは－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－；又は、これらと２価連結基との組み合わせである。
　Ｒｄの定義は、上述した通りである。
　ｓ２は、０又は１である。ｓ２は、化合物を製造しやすい点から、０が好ましい。
　Ｘ３３が、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、若しくは－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－と、２価連結基と、の組み合わせである場合、２価連結基は、式（Ｃ１）～（Ｃ４）のＳｉ（Ｒ３）２若しくはＳｉ（Ｒ４）２、又は、式（Ｃ１－３）若しくは（Ｃ２－３）のＢ１１と結合する。
　２価連結基としては、アルキレン基、オルガノ（ポリ）シロキサン残基、ポリアルキレンオキシド基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。
　Ｑａ２は、単結合、アルキレン基、－Ｃ（Ｏ）－、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑａ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
　Ｑａ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
　Ｑａ２は、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
　Ｑｂ２は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、エーテル性酸素原子若しくは－ＮＨ－を有する基である。
　Ｑｂ２で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ２で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間に、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、エーテル性酸素原子又は－ＮＨ－を有する基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
　Ｑｂ２としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
　２個の［－Ｑｂ２－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－３）において、Ｑａ３は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。化合物を製造しやすい点から、Ｑａ３は、単結合が好ましい。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
　Ｒｇは、水素原子、水酸基又はアルキル基である。
　Ｒｇとしては、化合物を製造しやすい観点からは、水素原子又はアルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～４がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
　Ｑｂ３は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基を有する基である。
　Ｑｂ３で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば、２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ３で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑｂ３は、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、又は－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
　２個の［－Ｑｂ３－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－４）において、Ｑｅは、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、若しくは、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－；又は、これらと２価連結基との組み合わせである。
　Ｑｅが、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、若しくは、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－と、２価連結基と、の組み合わせである場合、２価連結基は、式（Ｃ１）～（Ｃ４）のＳｉ（Ｒ３）２若しくはＳｉ（Ｒ４）２、又は、式（Ｃ１－３）若しくは（Ｃ２－３）のＢ１１と結合する。
　２価連結基としては、アルキレン基、オルガノ（ポリ）シロキサン残基、ポリアルキレンオキシド基、及びこれらの組み合わせが挙げられる。
　Ｒ３１の定義は、上述した通りである。ｗ１が１又は２である場合、Ｒ３１は水素原子であることが好ましい。
　ｓ４は、０又は１である。
　Ｑａ４は、単結合、又は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
　ｔ４は、０又は１（ただし、Ｑａ４が単結合の場合は０である。）である。
　－Ｑａ４－（Ｏ）ｔ４－としては、化合物を製造しやすい点から、ｓ４が０の場合は、単結合、－ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＯＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２－が好ましく、ｓ４が１の場合は、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
　Ｑｂ４は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－（Ｒｄの定義は、上述した通りである。）、シルフェニレン骨格基、２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基又はジアルキルシリレン基を有していてもよい。
　なお、アルキレン基が－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子－炭素原子間に－Ｏ－又はシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、ジアルキルシリレン基又は２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基を有する場合、炭素原子－炭素原子間又は（Ｏ）ｕ４と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
　Ｑｂ４で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば、２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　ｕ４は、０又は１である。
　－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＰｈＳｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
　ｗ１は、０～２の整数であり、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
　［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ）ｕ４－Ｑｂ４－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ３１が２個以上ある場合は、２個以上の（－Ｒ３１）は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－５）において、Ｑａ５は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
　Ｑａ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉに結合する。）。
　Ｑｂ５は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基を有する基である。
　Ｑｂ５で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば、２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ５で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑｂ５としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎに結合する。）。
　３個の［－Ｑｂ５－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－６）中のＱｅの定義は、上述の基（３－１Ａ－４）において定義した通りである。
　ｖは、０又は１である。
　Ｑａ６は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
　エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、２～６が特に好ましい。
　Ｑａ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい（ただし、右側がＺａに結合する。）。
　Ｚａは、（ｗ２＋１）価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、又は、（ｗ２＋１）価であって、オルガノ（ポリ）シロキサン残基とオルガノ（ポリ）シロキサン残基との間にアルキレン基を有する基である。
　ｗ２は、２～７の整数である。
　（ｗ２＋１）価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、及び、（ｗ２＋１）価であって、オルガノ（ポリ）シロキサン残基とオルガノ（ポリ）シロキサン残基との間にアルキレン基を有する基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるＲａは、上述の通りである。＊は、結合部位を示す。
　Ｑｂ６は、アルキレン基、又は、炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子若しくは２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基を有する基である。
　Ｑｂ６で表されるアルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば、２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってもよい。
　Ｑｂ６で表される炭素数２以上のアルキレン基の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子又は２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基を有する基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましく、２～６がさらに好ましい。
　Ｑｂ６としては、化合物を製造しやすい点から、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－が好ましい。
　ｗ２個の［－Ｑｂ６－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　基（３－１Ａ－７）において、Ｚｃは（ｗ３＋ｗ４＋１）価の炭化水素基である。
　ｗ３は、４以上の整数である。
　ｗ４は、０以上の整数である。
　Ｑｅ、ｓ４、Ｑａ４、ｔ４、Ｑｂ４、及びｕ４の定義及び好ましい範囲は基（３－１Ａ－４）中の各符号の定義と同じである。
　Ｚｃは炭化水素鎖からなってもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有してもよく、炭化水素鎖からなることが好ましい。
　Ｚｃの価数は５～２０価が好ましく、５～１０価がより好ましく、５～８価がさらに好ましく、５～６価が特に好ましい。
　Ｚｃの炭素数は３～５０が好ましく、４～４０がより好ましく、５～３０がさらに好ましい。
　ｗ３は、４～２０が好ましく、４～１６がより好ましく、４～８がさらに好ましく、４～５が特に好ましい。
　ｗ４は、０～１０が好ましく、０～８がより好ましく、０～６がさらに好ましく、０～３が特に好ましく、０～１が最も好ましい。
　［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］が２個以上ある場合は、２個以上の［－（Ｏ－Ｑｂ４）ｕ４－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
　式Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑにおけるＡは、基（ｇ２－１）～（ｇ２－７）であってもよい。
　（－Ａ１－Ｑ１２－）ｅ１Ｃ（Ｒｅ２）４－ｅ１－ｅ２（－Ｑ２２－）ｅ２　　…（ｇ２－２）
　－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－）２　　…（ｇ２－３）
　（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ４（－Ｑ２４－）ｈ２　　…（ｇ２－４）
　（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－）ｉ２　　…（ｇ２－５）
　－Ａ１－Ｑ２６－　　（ｇ２－６）
　－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－）ｉ３　
　…（ｇ２－７）
　ただし、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）においては、Ａ１側がＳｉ（Ｒ３）２、Ｓｉ（Ｒ４）２、又はＢ１１と結合し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側が［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］と結合する。
　Ａ１は、単結合、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｏ－又はＳＯ２ＮＲ６－である。
　Ｑ１１は、単結合、－Ｏ－、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
　Ｑ１２は、単結合、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、ＡがＱ１２を２以上有する場合、２以上のＱ１２は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ１３は、単結合（ただし、Ａ１は－Ｃ（Ｏ）－である。）、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又はアルキレン基のＮ側の末端に－Ｃ（Ｏ）－を有する基である。
　Ｑ１４は、Ｑ１４が結合するＺ４における原子が炭素原子の場合、Ｑ１２であり、Ｑ１４が結合するＺ４における原子が窒素原子の場合、Ｑ１３であり、ＡがＱ１４を２以上有する場合、２以上のＱ１４は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ１５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、ＡがＱ１５を２以上有する場合、２以上のＱ１５は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２２は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、アルキレン基のＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有しかつＳｉに接続しない側の末端に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、ＡがＱ２２を２以上有する場合、２以上のＱ２２は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２３は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、２個のＱ２３は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２４は、Ｑ２４が結合するＺ４における原子が炭素原子の場合、Ｑ２２であり、Ｑ２４が結合するＺ４における原子が窒素原子の場合、Ｑ２３であり、ＡがＱ２４を２以上有する場合、２以上のＱ２４は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２５は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基であり、ＡがＱ２５を２以上有する場合、２以上のＱ２５は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ２６は、アルキレン基、又は炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－又はＯ－を有する基である。
　Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５、Ｑ２６がアルキレン基の場合、炭素数は１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましい。
　Ｚ４は、Ｑ１４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有しかつＱ２４が直接結合する炭素原子又は窒素原子を有する（ｈ１＋ｈ２）価の環構造を有する基である。
　Ｒｅ１は、水素原子又はアルキル基であり、ＡがＲｅ１を２以上有する場合、２以上のＲｅ１は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒｅ２は、水素原子、水酸基、アルキル基又はアシルオキシ基である。
　Ｒｅ３は、アルキル基である。Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。
　ｄ１は、０～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。
　ｄ２は、０～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。
　ｄ１＋ｄ２は、１～３の整数である。
　ｄ３は、０～３の整数であり、０又は１であることが好ましい。
　ｄ４は、０～３の整数であり、２又は３であることが好ましい。
　ｄ３＋ｄ４は、１～３の整数である。
　ｄ１＋ｄ３は、１～５の整数であり、１又は２であることが好ましい。
　ｄ２＋ｄ４は、１～５の整数であり、４又は５であることが好ましい。
　ｅ１＋ｅ２は、３又は４である。
　ｅ１は、１～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。
　ｅ２は、１～３の整数であり、２又は３であることが好ましい。
　ｈ１は、１以上の整数であり、１又は２であることが好ましい。
　ｈ２は、１以上の整数であり、２又は３であることが好ましい。
　ｉ１＋ｉ２は、３又は４である。
　ｉ１は、１～３の整数であり、１又は２であることが好ましい。
　ｉ２は、１～３の整数であり、２又は３であることが好ましい。
　ｉ３は、２又は３である。
　Ｑ１１、Ｑ１２、Ｑ１３、Ｑ１４、Ｑ１５、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５及びＱ２６のアルキレン基の炭素数は、化合物を製造しやすい点、及び表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０でもよく、１～６でもよく、１～４でもよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
　Ｚ４における環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Ｚ４における環構造にはＱ１４やＱ２４が直接結合するため、例えば、環構造にアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にＱ１４やＱ２４が連結することはない。
　Ｒｅ１、Ｒｅ２又はＲｅ３のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
　Ｒｅ２のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
　ｈ１は、化合物を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる点から、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましく、１が特に好ましい。
　ｈ２としては、化合物を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２又は３が特に好ましい。
　式Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑにおけるＡの他の形態としては、基（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）が挙げられる。
　（－Ａ１－Ｑ１２－）ｅ１Ｃ（Ｒｅ２）４－ｅ１－ｅ２（－Ｑ２２－Ｇ１）ｅ２　　…（ｇ２－９）
　－Ａ１－Ｑ１３－Ｎ（－Ｑ２３－Ｇ１）２　　…（ｇ２－１０）
　（－Ａ１－Ｑ１４－）ｈ１Ｚ４（－Ｑ２４－Ｇ１）ｈ２　　…（ｇ２－１１）
　（－Ａ１－Ｑ１５－）ｉ１Ｓｉ（Ｒｅ３）４－ｉ１－ｉ２（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ２　…（ｇ２－１２）
　－Ａ１－Ｑ２６－Ｇ１　　…（ｇ２－１３）
　－Ａ１－Ｑ１２－ＣＨ（－Ｑ２２－Ｇ１）－Ｓｉ（Ｒｅ３）３－ｉ３（－Ｑ２５－Ｇ１）ｉ３　　…（ｇ２－１４）
　ただし、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）においては、Ａ１側がＳｉ（Ｒ３）２、Ｓｉ（Ｒ４）２、又はＢ１１と結合し、Ｇ１側が［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］と結合する。
　Ｇ１は、下記基（ｇ３）であり、Ａが有する２以上のＧ１は同一であっても異なっていてもよい。Ｇ１以外の符号は、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）における符号と同じである。
　－Ｓｉ（Ｒ１３）３－ｋ３（－Ｑ３－）ｋ３　　…（ｇ３）
　ただし、基（ｇ３）においては、Ｓｉ側がＱ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５及びＱ２６に接続し、Ｑ３側が［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］に接続する。Ｒ１３は、アルキル基である。Ｑ３は、アルキレン基、炭素数２以上のアルキレン基の炭素－炭素原子間に－Ｃ（Ｏ）ＮＲ６－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＮＲ６－若しくは－Ｏ－を有する基、又は（ＯＳｉ（Ｒ９）２）ｐ－Ｏ－であり、２以上のＱ３は同一であっても異なっていてもよい。ｋ３は、２又は３である。Ｒ６は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又はフェニル基である。Ｒ９は、アルキル基、フェニル基又はアルコキシ基であり、２個のＲ９は同一であっても異なっていてもよい。ｐは、０～５の整数であり、ｐが２以上の場合、２以上の（ＯＳｉ（Ｒ９）２）は同一であっても異なっていてもよい。
　Ｑ３のアルキレン基の炭素数は、化合物を製造しやすい点、並びに、表面処理層の耐摩耗性がさらに優れる点から、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、２～２０がさらに好ましく、２～１０であってもよく、２～６であってもよい。例えば２、３、８、９、１１が挙げられる。また、前記炭素数は１～１０であってよく、１～６であってよく、１～４であってよい。ただし、炭素－炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は２である。
　Ｒ１３のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ９のアルキル基の炭素数は、化合物を製造しやすい点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２がさらに好ましい。
　Ｒ９のアルコキシ基の炭素数は、化合物の保存安定性に優れる点から、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。
　ｐは、０又は１が好ましい。
〔第１の化合物～第４の化合物の例〕
　以下に、第１の化合物～第４の化合物の具体例を詳述する。
　第１の化合物の具体例としては、以下の化合物（１）～（３）、及び（５）が挙げられる。中でも、第１の化合物は、化合物（１）であることが好ましい。ただし、化合物（１）～（３）、及び（５）中、第１の化合物の反応性シリル基の数は１である。
　第２の化合物の具体例として、以下の化合物（１）～（３）、（４Ａ）、及び（５）が挙げられる。中でも、第２の化合物は、化合物（１）が好ましい。ただし、化合物（１）～（５）中、第２の化合物の反応性シリル基の数は２以上である。
　第４の化合物の具体例として、以下の化合物（４Ｂ）が挙げられる。ただし、化合物（４Ｂ）中、第４の化合物の反応性シリル基の数は、末端当たり２以上である。
・化合物（１）
　下記基１ａと、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、炭素数３以上のアルキレン鎖又はポリアルキレンオキシド鎖である部分構造と、下記基１ｂと、を含む化合物。
　基１ａ：－Ｍ１Ｔ１ ３
　基１ｂ：－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ
　Ｍ１は、Ｓｉ、Ｓｎ、又はＧｅであり、
　Ｔ１は、それぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、上記式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　基１ａの詳細は、式（Ｃ１）中のＴ１１の説明におけるＴ１ ３Ｍ１－の詳細と同じである。
・化合物（２）
　炭素数２以上のアルキル基と、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、反応性シリル基と、を含む化合物。
・化合物（３）
　下記基３ａと、２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基を含む部分構造と、下記基３ｂと、を含み、前記部分構造は、２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基であるか、又は、２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、アルキレン鎖及びポリアルキレンオキシド鎖の少なくとも一方との組み合わせである、化合物。
　基３ａ：１価の環状のポリシロキサン残基又は１価のかご状のポリシロキサン残基
　基３ｂ：－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ
　Ｒ２は、それぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、
　Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎはそれぞれ独立に、０～２の整数である。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、上記式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
・化合物（４Ａ）、（４Ｂ）
　下記式（４Ａ）又は（４Ｂ）で表される化合物
　（ＲＴ１－ＲＳ－（－ＳｉＲＴ２ ２－）ｑ４）α－ＸＡ－ＲＨ β　　…（４Ａ）
　ＲＨ γ－ＸＡ－Ｏｐ４－ＲＳ－（－ＳｉＲＴ２ ２－）ｑ４－ＸＡ－ＲＨ γ　　…（４Ｂ）
　式（４Ａ）及び（４Ｂ）中、
　ＲＳは、それぞれ独立に、２価の直鎖オルガノシロキサン基であり、
　ＲＴ１は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ＲＴ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｐ４は、０又は１であり、
　ｑ４は、それぞれ独立に、０又は１であり、
　ＲＨは、下記式（Ｗ１）～（Ｗ４）のいずれかで表される基であり、
　上記ＲＨ中には、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が２つ以上存在し、
　ＸＡは、それぞれ独立して、単結合又は下記式（Ｗ５）で表される基であり、
　αは、１～９の整数であり、
　βは、１～９の整数であり、
　γは、それぞれ独立に、１～９の整数である。
　－（ＣＨ２ＣＲ１０（Ｒ１５）Ｘ１１－Ｓｉ（Ｒ２）ｎ８１Ｌ３－ｎ８１）ｔ－Ｒ１４
　　…（Ｗ１）
　－ＳｉＲａ１ ｋ８１Ｌｌ８１Ｒｃ１ ｍ８１　　…（Ｗ２）
　－ＣＲｄ１ ｋ８２Ｒｅ１ ｌ８２Ｒｆ１ ｍ８２　　…（Ｗ３）
　－ＮＲｇ１Ｒｈ１　　…（Ｗ４）
　式（Ｗ１）～（Ｗ４）中、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、
　ｎ８１は、（ＳｉＲ２ ｎ８１Ｌ３－ｎ８１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり、
　Ｘ１１は、それぞれ独立に、単結合又は２価の有機基であり；
　Ｒ１０は、それぞれ独立に、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｔは、それぞれ独立に、２以上の整数であり；
　Ｒ１４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は－Ｘ１１－Ｓｉ（Ｒ２）ｎ８１Ｌ３－ｎ８１であり；
　Ｒ１５は、それぞれ独立に、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基、又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　Ｒａ１は、それぞれ独立に、－Ｚ８１－ＳｉＲ２１ ｐ８１Ｌｑ８１Ｒ２３ ｒ８１であり；
　Ｚ８１は、それぞれ独立に、２価の有機基であり；
　Ｒ２１は、それぞれ独立に、－Ｚ１’－ＳｉＲ２１’ ｐ１’Ｌｑ１’Ｒ２３’ ｒ１’であり；
　Ｒ２３は、それぞれ独立に、１価の有機基であり；
　ｐ８１は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｑ８１は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｒ８１は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｐ８１＋ｑ８１＋ｒ８１は、３であり；
　Ｚ１’は、それぞれ独立に、２価の有機基であり；
　Ｒ２１’は、それぞれ独立に、－Ｚ１”－ＳｉＬｑ１”Ｒ２３” ｒ１”であり；
　Ｒ２３’は、それぞれ独立に、１価の有機基であり；
　ｐ１’は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｐ１’＋ｑ１’＋ｒ１’は、３であり；
　Ｚ１”は、それぞれ独立に、２価の有機基であり；
　Ｒ２３”は、それぞれ独立に、１価の有機基であり；
　ｑ１”は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｑ１”＋ｒ１”は、３であり；
　Ｒｃ１は、それぞれ独立に、１価の有機基であり；
　ｋ８１は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｌ８１は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｍ８１は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｋ８１＋ｌ８１＋ｍ８１は、３であり；
　Ｒｄ１は、それぞれ独立に、－Ｚ８２－ＣＲ７１ ｐ８２Ｒ７２ ｑ８２Ｒ７３ ｒ８２であり；
　Ｚ８２は、それぞれ独立に、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ７１は、それぞれ独立に、－Ｚ２’－ＣＲ３２’ ｑ２’Ｒ３３’ ｒ２’であり；
　Ｒ７２は、それぞれ独立に、－Ｚ８３－ＳｉＬｎ８２Ｒ３５ ３－ｎ８２であり；
　Ｒ７３は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ８２は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｑ８２は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｒ８２は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｐ８２＋ｑ８２＋ｒ８２は、３であり；
　Ｚ２’は、それぞれ独立に、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ３２’は、それぞれ独立に、－Ｚ８３－ＳｉＬｎ８２Ｒ３５ ３－ｎ８２であり；
　Ｒ３３’は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｑ２’＋ｒ２’は、３であり；
　Ｚ８３は、それぞれ独立に、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ３５は、それぞれ独立に、１価の有機基であり；
　ｎ８２は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　Ｒｅ１は、それぞれ独立に、－Ｚ８３－ＳｉＬｎ８２Ｒ３５ ３－ｎ８２であり；
　Ｒｆ１は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ８２は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｌ８２は、それぞれ独立に、０～３の整数であり；
　ｍ８２は、それぞれ独立に、０～３の整数である。
　ｋ８２＋ｌ８２＋ｍ８２は、３であり；
　Ｒｇ１及びＲｈ１は、それぞれ独立に、－Ｚ８４－ＳｉＬｎ８１Ｒ２ ３－ｎ８１、－Ｚ８４－ＳｉＲａ１ ｋ８１Ｌｌ８１Ｒｃ１ ｍ８１、又は－Ｚ８４－ＣＲｄ１ ｋ８２Ｒｅ１ ｌ８２Ｒｆ１ ｍ８２であり；
　Ｚ８４は、それぞれ独立に、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　ただし、式（Ｗ１）、（Ｗ２）、（Ｗ３）、及び（Ｗ４）中、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。
　Ｒ２及びＬは、上記式（Ｓ１）におけるＲ２及びＬと同様である。
　－（Ｒ５０）ｐ５－（Ｘ５１）ｑ５－　　…（Ｗ５）
　式（Ｗ５）中、
　Ｒ５０は、単結合、－（ＣＨ２）ｓ５－又はｏ－、ｍ－若しくはｐ－フェニレン基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　Ｘ５１は、－（Ｘ５２）ｌ５－であり、
　Ｘ５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－若しくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－ＮＲ５４－及び－（ＣＨ２）ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は１価の有機基であり、
　ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、（Ｒ５０）ｐ５及び（Ｘ５１）ｑ５の存在順序は任意である。
　ＸＡは、それぞれ独立して、単結合、炭素数１～２０のアルキレン基、－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－、－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－、又は－（ＣＨ２）ｓ５－Ｘ５３－（ＣＨ２）ｔ５－であることが好ましい。
　Ｘ５３は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ５４－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ５－ＣＯＮＲ５４－、又は－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ５－ＣＯ－であり、
　Ｒ５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数であり、
　ｕ５は、１～２０の整数であることが好ましい。
・化合物（５）
　下記式（５）で表される化合物。
　式（５）中、
　Ｙは、単結合又は＊－Ｓｉ（Ｒｓ２）２－Ｌｓ１－を表す。＊は酸素原子との結合手を表す。
　Ｚは、酸素原子又は炭素数１～１０の２価の炭化水素基を表す。
　Ｒａ９は、それぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基を表す。ただし、Ｒａ９の全てが炭化水素基の場合、Ｒａ９で表される炭化水素基はアルキル基である。
　Ｒｓ１、Ｒｓ２は、それぞれ独立に、炭素数１～１０のアルキル基を表す。
　Ｌｓ１は、炭素数１～１０の２価の炭化水素基を表す。
　Ｘは、下記式（Ｘ－１）～（Ｘ－３）のいずれかで表される基を表す。
　ｎ９は、１～１５０の数を表す。
　式（Ｘ－１）～（Ｘ－３）中、
　Ｌｘ１及びＬｘ２は、それぞれ独立に、炭素数１～２０の２価の炭化水素基を表し、該２価の炭化水素基に含まれるメチレン基（－ＣＨ２－）は、－Ｏ－又は－Ｏ－Ｓｉ（Ｒｘ７）２－に置き換わっていてもよい。
　Ｒｘ１～Ｒｘ７は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１０の炭化水素基を表す。
　Ｘａ１は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又はトリアルコキシシリルオキシ基を表す。
　Ｘａ２は、それぞれ独立に、トリアルキルシリル含有基、炭化水素鎖含有基、シロキサン骨格含有基、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又はトリアルコキシシリルオキシ基を表し、Ｘａ２が加水分解性基の場合、Ｘａ２とＸａ１とは、同一であっても異なっていてもよい。
　ｎ２は、１～５０の整数を表す。
　ｎ３は、２～５の数を表す。
　ｎ４は、０～５の数を表す。
　式（Ｘ－３）中、（Ｓｉ（Ｒｘ４）（－Ｌｘ２－Ｓｉ（Ｘａ２）（Ｘａ１）２）－Ｏ－）及び（Ｓｉ（Ｒｘ５）（Ｒｘ６）－Ｏ－）で表される単位の順序は任意である。
　以下、化合物（１）～（５）について説明する。
＜化合物（１）＞
　化合物（１）は、下記式（１Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
　［Ｔ１ ３Ｍ１－（Ｏ）ｒ－Ｚ１］ｐ１Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ　　…　　（１Ａ）
　式（１Ａ）中、
　Ｍ１は、Ｓｉ、Ｓｎ、又はＧｅであり、
　Ｔ１は、それぞれ独立に、炭化水素基又はトリアルキルシリルオキシ基であり、
　ｒは、０又は１であり、
　Ｚ１は、それぞれ独立に、アルキレン鎖若しくはポリアルキレンオキシド鎖であるか、又は、アルキレン鎖と２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基との組み合わせであり、Ａは、単結合又は（ｐ１＋ｑ）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数であり、
　ｐ１及びｑは、それぞれ独立に、１以上の整数である。
　ただし、Ｚ１が、それぞれ独立に、アルキレン鎖若しくはポリアルキレンオキシド鎖である場合には、Ａは、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基を含む（ｐ１＋ｑ）価の連結基である。
　Ｔ１及びＭ１は、上記基１ａにおけるＴ１及びＭ１と同様であるため、説明を省略する。
　Ｍ１はＳｉが好ましい。
　Ｔ１はトリアルキルシリルオキシ基が好ましく、ブチルジメチルシリルオキシ基、トリメチルシリルオキシ基又はトリエチルシリルオキシ基がより好ましい。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、上記式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　Ｚ１で表される、アルキレン鎖と２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基との組み合わせは、下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｄ３）で表されることが好ましい。

 

 
　式（Ｄ１）中、Ａｋ１及びＡｋ２はそれぞれ独立に、アルキレン鎖を意味する。Ｒ３は、式（Ｂ１）におけるＲ３と同じある。ｋ１１は１以上の数である。ｋ１２は０又は１である。
　式（Ｄ２）中、Ａｋ３はアルキレン鎖を意味する。Ｒ３は、式（Ｂ１）におけるＲ３と同じある。ｋ２１及びｋ２２はそれぞれ独立に、１以上の数である。
　式（Ｄ３）中、Ａｋ４はアルキレン鎖を意味する。Ｒ３は、式（Ｂ１）におけるＲ３と同じある。ｋ３１は１以上の数である。
　式（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｄ３）において、＊１は基１ａ側と連結し、＊２は基１ｂ側と連結する。
　Ａとしては、本開示の効果を損なわない基であればよく、例えば、エーテル性酸素原子又は２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、及び、上記基（３－１Ａ）、基（３－１Ｂ）、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）からＳｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎを除いた基が挙げられる。
　Ａは、トリプチセン構造を含んでいてもよい。トリプチセン構造とは、トリプチセンから２以上の水素を除いた部分構造をいう。
　また、Ａは、上記基（ｇ２－１）～基（ｇ２－１４）であってもよい。
　ｐ１は、１以上の整数である。表面処理層の撥水性がより優れる点から、ｐ１は１～６であることが好ましく、２～４であることが好ましい。ｐ１は１であってもよい。
　ｐ１が２以上である場合、複数の［Ｔ１ ３Ｍ１－（Ｏ）ｒ－Ｚ１］は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
　ｑは、１以上の整数である。表面処理層の耐摩耗性がより優れる点から、ｑは、１～１５であることが好ましく、１～６であることがより好ましく、２～６であることがさらに好ましく、２～４であることが特に好ましく、２又は３であることが極めて好ましい。ｑは１であってもよい。
　ｑが２以上である場合、複数の［Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基の好ましい態様は、前述した基Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑの好ましい態様と同様である。ただし、基Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑにおけるＡは式（１Ａ）の［Ｔ１ ３Ｍ１－（Ｏ）ｒ－Ｚ１］ｐ１に連結する。Ｚ１のＡに結合する側の末端がアルキレン鎖である場合、ＡのＺ１に結合する側の末端はアルキレン鎖ではない。Ｚ１のＡに結合する側の末端がポリアルキレンオキシド鎖である場合、ＡのＺ１に結合する側の末端はポリアルキレンオキシド鎖ではない。
　化合物（１）は、下記式（１Ｂ）で表される化合物であることが好ましい。
　式（１Ｂ）中、Ｔ１は、基１ａにおけるＴ１と同じある。
　Ｒ３は、式（Ｂ１）におけるＲ３と同じある。ｋ３１は、式（Ｄ３）におけるｋ３１と同じである。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基は、式（１Ａ）におけるＡ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基と同じである。
　Ａｋ４は、式（Ｄ３）におけるＡｋ４と同じである。
　化合物（１）は、下記式（１Ｃ）、式（１Ｄ）、又は式（１Ｅ）で表される化合物であることが好ましい。
　式（１Ｃ）、式（１Ｄ）、及び式（１Ｅ）中、Ｒ３は、式（Ｂ１）におけるＲ３と同じある。ｋ３１は、式（Ｄ３）におけるｋ３１と同じである。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基は、式（１Ａ）におけるＡ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基と同じである。
　Ａｋ４は、式（Ｄ３）におけるＡｋ４と同じである。
　化合物（１）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
　下記式中、ｎ１０は１以上の数であり、ｎ１０は１～６０の数が好ましく、３～５０の数であってもよく、５～３０の数であってもよく、７～２５の数であってもよい。
　下記式中、ｋは１～８０が好ましく、３～５０がより好ましく、３～３０がさらに好ましい。ｍは１～３０が好ましく、３～２０がより好ましく、３～１０がさらに好ましい。ｔは１～３０が好ましく、３～２０がより好ましく、３～１０がさらに好ましい。
　下記式中、ｎ１０は１以上の数であり、ｎ１０は１～６０の数が好ましく、３～５０の数であってもよく、５～３０の数であってもよく、７～２５の数であってもよい。
　下記式中、ｎ１０は１以上の数であり、ｎ１０は１～６０の数が好ましく、３～５０の数であってもよく、５～３０の数であってもよく、７～２５の数であってもよい。
＜化合物（２）＞
　化合物（２）において、アルキル基とは、非置換のアルキル基を意味する。アルキル基は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及び環状アルキル基のいずれであってもよいが、直鎖状アルキル基又は分岐鎖状アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は２～３０であることが好ましく、３～２８であることがより好ましく、４～２２であることがさらに好ましい。
　化合物中、アルキル基は１つのみ含まれていてもよく、２つ以上含まれていてもよい。
　アルキル基は１価の基であるため、化合物の末端に位置する。
　化合物（２）は、下記式（２Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
　（Ｔ２－Ｚ２）ｐ１Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ　　…　　（２Ａ）
　式（２Ａ）中、
　Ｔ２は、炭素数２以上のアルキル基であり、
　Ｚ２は、２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基であり、
　Ａは、単結合又は（ｐ１＋ｑ）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、０～２の整数であり、
　ｐ１及びｑは、それぞれ独立に、１以上の整数である。
　Ｔ２で表される炭素数２以上のアルキル基の好ましい態様は、上記のとおりである。
　Ｚ２で表される２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は、上記式（Ｂ１）で表される基が好ましい。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、上記式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基は、下記に示す内容以外、上記式（１Ａ）におけるＡ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基と同様である。
　ｐ１及びｑは、上記式（１Ａ）におけるｐ１及びｑと同様である。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基は、基（３－１Ａ）又は基（３－１Ｂ）が好ましく、基（３－１Ａ）がより好ましい。
　式（３－１Ａ）中、Ｑａは、単結合又は２価の連結基である。
　ただし、ＱａのＺ２と結合する側の末端は、オキシシリル基ではない。
　式（３－１Ａ）中、Ｘ３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である。
　ただし、Ｑａが単結合の場合、Ｘ３１のＺ２と結合する側の末端は、オキシシリル基ではない。上記以外の場合、Ｘ３１の末端は、オキシシリル基であってもよい。
　式（３－１Ａ）中、Ｑｂは、単結合又は２価の連結基である。
　ただし、Ｑａ及びＸ３１が単結合の場合、ＱｂのＺ２と結合する側の末端はオキシシリル基ではない。上記以外の場合、Ｑｂの末端は、オキシシリル基であってもよい。
　また、ｈが１であって、Ｑｂがアルキレン基である場合、Ｑａ－Ｘ３１のＱｂ側末端はアルキレン基ではない。
　式（３－１Ｂ）中、Ｑｃは、単結合又は２価の連結基である。
　ただし、ＱｃのＺ２と結合する側の末端は、オキシシリル基ではない。
　基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）が好ましい。
　ただし、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）のＺ２と結合する側の末端は、オキシシリル基ではない。
　基（３－１Ａ－１）において、Ｘ３２は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましく、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－がより好ましい。
　ｓ１は０であることが好ましく、Ｑｂ１は、炭素数２～６のアルキレン基が好ましい。
　基（３－１Ａ－２）において、Ｘ３３は、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましい。
　式（２Ａ）におけるＡは、基（ｇ２－１）～（ｇ２－７）であってもよい。
　ただし、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）においては、Ａ１側がＺ２と結合し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側が［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］と結合する。
　Ａの他の形態としては、基（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）が挙げられる。
　ただし、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）においては、Ａ１側がＺ２と結合し、Ｇ１側が［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］と結合する。
　化合物（２）は、下記式（２Ｂ)で表される化合物であることが好ましい。
　式（２Ｂ)中、Ｒ５１は、炭素数２以上のアルキル基である。
　Ｒ５２及びＲ５４はそれぞれ独立に、アルキレン基である。
　Ｒ５３は、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－である。
　Ｒ３は、式（Ｂ１）におけるＲ３と同じある。ｋ１は、式（Ｂ１）におけるｋ１と同じである。
　Ｘ３１（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｈ（－Ｒ３１）ｉで表される基は、基（３－１Ａ）におけるＸ３１（－Ｑｂ－Ｓｉ（Ｒ３）ｎＬ３－ｎ）ｈ（－Ｒ３１）ｉで表される基と同じである。
　ｔ１は、０又は１である。
　Ｒ５１で表されるアルキル基の好ましい態様は、上記アルキル基の欄で説明したとおりである。
　Ｒ５２で表されるアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、４～２０がさらに好ましく、５～１５が特に好ましい。
　Ｒ５４で表されるアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状又は環状であってもよい。アルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましく、１～３が特に好ましい。
　化合物（２）としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。下記式中、ｎ１０は１以上の数であり、ｎ１０は１～６０の数が好ましく、３～５０の数であってもよく、５～３０の数であってもよく、７～２５の数であってもよい。
＜化合物（３）＞
　化合物（３）は、下記式（３Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
　［Ｔ３－（Ｏ）ｒ－Ｚ３］ｐ１Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑ　　…（３Ａ）
　式（３Ａ）中、
　Ｔ３は、１価の環状のポリシロキサン残基又は１価のかご状のポリシロキサン残基であり、
　ｒは、０又は１であり、
　Ｚ３は、２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基であるか、又は、２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、アルキレン鎖及びポリアルキレンオキシド鎖の少なくとも一方との組み合わせであり、
　Ａは、単結合又は（ｐ１＋ｑ）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、１価の炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、０～２の整数であり、
　ｐ１及びｑは、それぞれ独立に、１以上の整数である。
　Ｒ２、Ｌ、及びｎは、上記式（Ｓ１）におけるＲ２、Ｌ、及びｎと同様である。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基は、下記に示す内容以外、上記式（１Ａ）におけるＡ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基と同様である。
　ｐ１及びｑは、上記式（１Ａ）におけるｐ１及びｑと同様である。
　１価の環状のポリシロキサン残基又は１価のかご状のポリシロキサン残基の詳細は、式（Ｃ１）のＴ１１の説明において上述した通りである。
　Ａ（Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ）ｑで表される基は、基（３－１Ａ）又は基（３－１Ｂ）が好ましく、基（３－１Ａ）がより好ましい。
　式（３－１Ａ）中、Ｑａは、単結合又は２価の連結基である。
　ただし、ＱａのＺ３と結合する側の末端は、アルキレン基、ポリアルキレンオキシド鎖、及び２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基のいずれでもない。
　Ｚ３のＡ側末端がアルキレン鎖である場合には、Ｑａは、アルキレン基以外の２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－Ｓ－を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、又は－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基が好ましく、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－Ｓ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、又は－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基がより好ましく、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基がさらに好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端がポリアルキレンオキシド鎖である場合には、Ｑａは、アルキレン基以外の２価の炭化水素基、２価の複素環基、－ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、又は－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基が好ましく、－Ｃ（Ｏ）－がより好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端が２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基である場合には、Ｑａは、アルキレン基以外の２価の炭化水素基、２価の複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒａ）２－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、－Ｓ－を有するアルキレン基、－ＯＣ（Ｏ）－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有するアルキレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基、又は－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－を有するアルキレン基が好ましい。
　式（３－１Ａ）中、Ｘ３１は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、２～８価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基、又は（ｈ＋ｉ＋１）価の環を有する基である。
　ただし、Ｑａが単結合の場合、Ｘ３１のＺ３と結合する側の末端は、アルキレン基、ポリアルキレンオキシド鎖、及び２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基のいずれでもない。上記以外の場合、Ｘ３１の末端は、アルキレン基、ポリアルキレンオキシド鎖、及び２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基のいずれであってもよい。
　式（３－１Ａ）中、Ｑｂは、単結合又は２価の連結基である。
　ただし、Ｑａ及びＸ３１が単結合の場合、ＱｂのＺ３と結合する側の末端はアルキレン基、ポリアルキレンオキシド鎖、及び２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基のいずれでもない。上記以外の場合、Ｑｂの末端は、アルキレン基、ポリアルキレンオキシド鎖、及び２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基のいずれであってもよい。
　式（３－１Ａ）中、Ｑａ、Ｘ３１、及びＱｂが単結合の場合、［Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］は、Ｚ３と直接結合し、Ｚ３はアルキレン鎖である。
　式（３－１Ｂ）中、Ｑｃは、単結合又は２価の連結基である。
　ただし、ＱｃのＺ３と結合する側の末端は、アルキレン基、ポリアルキレンオキシド鎖、及び２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基のいずれでもない。
　基（３－１Ａ）としては、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）が好ましい。
　ただし、基（３－１Ａ－１）～（３－１Ａ－７）のＺ３と結合する側の末端は、アルキレン基、ポリアルキレンオキシド鎖、及び２価のオルガノ（ポリ）シロキサン残基のいずれでもない。
　基（３－１Ａ－１）において、Ｚ３のＡ側末端がアルキレン鎖である場合には、Ｘ３２は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましく、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－がより好ましく、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－又は－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－がさらに好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端がポリアルキレンオキシド鎖である場合には、Ｘ３２は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましく、－Ｃ（Ｏ）－がより好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端が２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基である場合には、Ｘ３２は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましく、－Ｏ－がより好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端がアルキレン鎖である場合には、ｓ１が０であって、Ｑｂ１が単結合であるか、又は、ｓ１が１であって、Ｑｂ１が、炭素数２～６のアルキレン基であることが好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端がポリアルキレンオキシド鎖である場合には、ｓ１が１であって、Ｑｂ１が炭素数２～６のアルキレン基であることが好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端が２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基である場合には、ｓ１が１であって、Ｑｂ１が単結合であることが好ましい。
　基（３－１Ａ－２）において、Ｚ３のＡ側末端がアルキレン鎖又は２価の鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基である場合には、Ｘ３３は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、－Ｎ（Ｒｄ）ＳＯ２－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｎ（Ｒｄ）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、－ＯＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－、又は、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましい。
　Ｚ３のＡ側末端がポリアルキレンオキシド鎖である場合には、Ｘ３３は、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－、－ＳＯ２Ｎ（Ｒｄ）－、又は－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒｄ）－が好ましい。
　式（３Ａ）におけるＡは、基（ｇ２－１）～（ｇ２－７）であってもよい。
　ただし、式（ｇ２－１）～（ｇ２－７）においては、Ａ１側がＺ３と結合し、Ｑ２２、Ｑ２３、Ｑ２４、Ｑ２５又はＱ２６側が［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］と結合する。
　Ａの他の形態としては、基（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）が挙げられる。
　ただし、式（ｇ２－８）～（ｇ２－１４）においては、Ａ１側がＺ３と結合し、Ｇ１側が［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］と結合する。
　化合物（３）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。下記式中、ｎ１０は１以上の数であり、ｎ１０は１～６０の数が好ましく、３～５０の数であってもよく、５～３０の数であってもよく、７～２５の数であってもよい。
＜化合物（４Ａ）、（４Ｂ）＞
　化合物（４Ａ）及び（４Ｂ）において、
　ＸＡは、それぞれ独立に、
－（ＣＨ２）ｓ７－Ｏ－（ＣＨ２）ｔ７－、
－（ＣＨ２）ｓ７－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）ｔ７－、
－（ＣＨ２）ｓ７－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ７－ＣＯ－、又は
－（ＣＨ２）ｓ７－Ｏ－（ＣＨ２）ｕ７－ＣＯＮＲ５４－（ＣＨ２）ｔ７－
であることがより好ましい。
　Ｒ５４は、それぞれ独立に、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｓ７は、１～２０の整数であり、
　ｔ７は、１～２０の整数であり、
　ｕ７は、１～２０の整数である。
　ＸＡは、それぞれ独立に、下記式（Ｗ６）で表される基であることが好ましい。
　式（Ｗ６）中、Ｘａは、それぞれ独立に、単結合又は２価の有機基である。
　化合物（４Ａ）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
・（ＣＨ３）３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）１９－（ＣＨ２）１０－ＣＯＮＨ－ＣＨ２Ｃ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３｝３
＜化合物（５）＞
　本開示の表面処理剤が化合物（５）を含む場合、本開示の表面処理剤は、さらに金属化合物を含むことが好ましい。
　金属化合物は、下記式（Ｍ６ａ）又は（Ｍ６ｂ）で表される化合物であることが好ましい。
　式（Ｍ６ａ）中、
　Ｒｋ１は、シロキサン骨格含有基、炭化水素鎖含有基、又は加水分解性基を表し、
　複数のＸｋ１は、それぞれ独立に、加水分解性基を表す。
　Ｘｋ２は、シロキサン骨格含有基、炭化水素鎖含有基又は加水分解性基を表す。
　Ｒｋ１及びＸｋ１におけるシロキサン骨格含有基の元素数は、化合物（５）の（Ｒａ９）３Ｓｉ－Ｚ－（Ｓｉ（Ｒｓ１）２－Ｏ－）ｎ９－Ｙ－で表されるトリアルキルシリル基含有分子鎖の元素数より少なく、Ｒｋ１及びＸｋ１における炭化水素鎖含有基に含まれる炭化水素鎖の最長直鎖の炭素数は、化合物（５）の（Ｒａ９）３Ｓｉ－Ｚ－（Ｓｉ（Ｒｓ１）２－Ｏ－）ｎ９－Ｙ－で表されるトリアルキルシリル基含有分子鎖の元素数より少ない。
　Ｒｋ１及びＸｋ２がシロキサン骨格含有基又は炭化水素鎖含有基の場合、Ｒｋ１とＸｋ２とは同一であっても異なっていてもよい。
　Ｘｋ２が加水分解性基の場合、Ｘｋ２とＸｋ１とは同一でも異なっていてもよい。また、Ｒｋ１とＸｋ２は同一であっても異なっていてもよい。Ｍ４は、金属アルコキシドを形成しうる３価又は４価の金属原子を表す。ｍ１４は、Ｍ４に応じて、０又は１の整数を表す。
　式（Ｍ６ｂ）中、
　Ｒｋ３は、加水分解性シランオリゴマー残基を表し、
　Ｘｋ３は、加水分解性基、炭素数１～４の含フッ素アルキル基又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
　化合物（５）の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。下記式中、ｎ１０は１以上の数であり、ｎ１０は１～６０の数が好ましく、３～５０の数であってもよく、５～３０の数であってもよく、７～２５の数であってもよい。
〔液状媒体〕
　本開示の組成物は、液状媒体を含んでいてもよい。
　液状媒体は１種のみであってもよく、２種以上であってもよい。
　液状媒体は、有機溶媒が好ましい。
　有機溶媒としては、水素原子及び炭素原子のみからなる化合物、並びに、水素原子、炭素原子及び酸素原子のみからなる化合物が挙げられ、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、グリコール系有機溶媒、及びアルコール系有機溶媒が挙げられる。
　炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ヘキサデカン、イソヘキサン、イソオクタン、イソノナン、シクロヘプタン、シクロヘキサン、ビシクロヘキシル、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、ｐ－キシレン、ｏ－ジエチルベンゼン、ｍ－ジエチルベンゼン、ｐ－ジエチルベンゼン、ｎ－ブチルベンゼン、ｓｅｃ－ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ－ブチルベンゼンが挙げられる。
　ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、４－ヘプタノン、３，５，５－トリメチル－２－シクロヘキセン－１－オン、及び３，３，５－トリメチルシクロヘキサノン、イソホロンが挙げられる。
　エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサンが挙げられる。
　エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｔｅｒｔ‐ブチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、３－エトキシプロピオン酸エチル、乳酸エチルエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－３－メチルブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、プロピレングリコールジメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコ－ルメチルエ－テルアセテ－ト、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，４－ブタンジオールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサンジオールジアセテート、γ－ブチロラクトン、トリアセチン、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールモノイソブチレートが挙げられる。
　グリコール系有機溶媒の具体例としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ－２－エチルヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｔｅｒｔ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテルトリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、１，３－ブチレングリコール、プロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレングリコールｎ－ブチルエ－テル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
　アルコール系有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブタノール、ジアセトンアルコール、イソブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ペンタノール、３－メチル－１，３－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，３－ブチレングリコール、オクタンジオール、２，４－ジエチルペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、２－エチル－１－ヘキサノール、３，５，５－トリメチル－１－ヘキサノール、イソデカノール、イソトリデカノール、３－メトキシ－３－メチル－１－ブタノール、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、シクロヘキサノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコール、及びメチルシクロヘキサノールが挙げられる。
　また、有機溶媒としては、ハロゲン系有機溶媒、含窒素化合物、含硫黄化合物、シロキサン化合物、及び含フッ素有機溶媒が挙げられる。
　ハロゲン系有機溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ－クロロトルエン、ｍ－クロロトルエン、ｐ－クロロトルエン、ｍ－ジクロロベンゼン、１，２，３－トリクロロプロパンが挙げられる。
　含窒素化合物としては、ニトロベンゼン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノンが挙げられる。
　含硫黄化合物としては、二硫化炭素、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
　シロキサン化合物としては、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタエチルトリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、ヘキサエチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタエチルシクロテトラシロキサン、デカメチルテトラシロキサンが挙げられる。
　含フッ素有機溶媒としては、ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、ＡＧＣ社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、ペルフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、ペルフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、ペルフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、ペルフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）等のアルキルペルフルオロアルキルエーテル（ペルフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、ＡＧＣ社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））；ハイドロフルオロオレフィン（ＨＦＯ）（例えば、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ）（例えば、ＡＧＣ社製のアモレア（登録商標）ＡＳ－３００））、ケマーズ社製のオプテオン（登録商標）ＳＦ０１、ＳＦ０５、ＳＦ１０、ＳＦ３０、ＳＦ３３、ＳＦ７０、ＳＦ７９、ＳＦ８０）が挙げられる。
　液状媒体の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、５０～９９．９９９質量％が好ましく、８０～９９．９９質量％がより好ましく、９０～９９．９質量％がさらに好ましい。ウェットコーティング法に使用する本開示の組成物の場合には、液状媒体の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、９０～９９．９９質量％であってもよく、９５～９９．９８質量％であってもよく、９７～９９．９７質量％であってもよく、９８～９９．９５質量％であってもよい。
〔他の成分〕
　本開示の組成物は、液状媒体以外に、本開示の効果を損なわない範囲で他の成分を含んでいてもよい。
　他の成分としては、例えば、反応性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒、塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。
　触媒としては、任意の適切な酸又は塩基、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ等）、分子構造内に非共有電子対を有する含硫黄化合物、含窒素化合物（例えばスルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物）等を使用できる。
　酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、及びｐ－トルエンスルホン酸が挙げられる。
　また、塩基触媒としては、例えば、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム；及びトリエチルアミン、ジエチルアミン等の有機アミンが挙げられる。
　また、他の成分としては、加水分解性基を有する金属化合物（以下、加水分解性基を有する金属化合物を「特定金属化合物」とも記す。）も挙げられる。本開示の組成物が特定金属化合物を含むと、表面処理層の滑り性及び防汚性をより向上しうる。特定金属化合物としては、下記式（Ｍ１）～（Ｍ３）が挙げられる。
　Ｍ（Ｘｂ１）ｍ１１（Ｘｂ２）ｍ１２（Ｘｂ３）ｍ１３　　…（Ｍ１）
　Ｓｉ（Ｘｂ４）（Ｘｂ５）３　　　　　　…（Ｍ２）
　（Ｘｂ６）３Ｓｉ－（Ｙｂ１）－Ｓｉ（Ｘｂ７）３　　…（Ｍ３）
　式（Ｍ１）中、
　Ｍは、３価又は４価の金属原子を表す。
　Ｘｂ１は、それぞれ独立に、加水分解性基を表す。
　Ｘｂ２は、それぞれ独立に、シロキサン骨格含有基を表す。
　Ｘｂ３は、それぞれ独立に、炭化水素鎖含有基を表す。
　ｍ１１は、２～４の整数であり、
　ｍ１２及びｍ１３はそれぞれ独立に、０～２の整数であり、
　Ｍが３価の金属原子の場合、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３は３であり、Ｍが４価の金属原子の場合、ｍ１１＋ｍ１２＋ｍ１３は４である。
　式（Ｍ２）中、
　Ｘｂ４は、加水分解性シランオリゴマー残基を表す。
　Ｘｂ５は、それぞれ独立に、加水分解性基又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
　式（Ｍ３）中、
　Ｘｂ６及びＸｂ７は、それぞれ独立に、加水分解性基又は水酸基を表す。
　Ｙｂ１は、２価の有機基を表す。
　式（Ｍ１）中、Ｍで表される金属には、Ｓｉ、Ｇｅ等の半金属も包含される。Ｍとしては、３価金属及び４価金属が好ましく、Ａｌ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｎ、及びＺｒがより好ましく、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、及びＺｒがさらに好ましく、Ｓｉが特に好ましい。
　式（Ｍ１）中、Ｘｂ１で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のものが挙げられる。
　Ｘｂ２で表されるシロキサン骨格含有基は、シロキサン単位（－Ｓｉ－Ｏ－）を有し、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。シロキサン単位としては、ジアルキルシリルオキシ基が好ましく、ジメチルシリルオキシ基、ジエチルシリルオキシ基等が挙げられる。シロキサン骨格含有基におけるシロキサン単位の繰り返し数は、１以上であり、１～５が好ましく、１～４がより好ましく、１～３がさらに好ましい。
シロキサン骨格含有基は、シロキサン骨格の一部に２価の炭化水素基を含んでいてもよい。具体的には、シロキサン骨格の一部の酸素原子が２価の炭化水素基で置き換わっていてもよい。前記２価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等のアルキレン基が挙げられる。
　シロキサン骨格含有基の末端のケイ素原子には、加水分解性基、炭化水素基（好ましくはアルキル基）等が結合していてもよい。
　シロキサン骨格含有基の元素数は、１００以下が好ましく、５０以下がより好ましく、３０以下がさらに好ましい。前記元素数は１０以上が好ましい。
　シロキサン骨格含有基としては、＊－（Ｏ－Ｓｉ（ＣＨ３）２）ｎＣＨ３で表される基が好ましく、ここで、ｎは１～５の整数であり、＊は隣接原子との結合部位を表す。
　Ｘｂ３で表される炭化水素鎖含有基は、炭化水素鎖のみからなる基でもよく、炭化水素鎖の炭素原子－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基でもよい。炭化水素鎖は直鎖でも分岐鎖でもよく、直鎖が好ましい。炭化水素鎖は飽和炭化水素鎖でも不飽和炭化水素鎖でもよく、飽和炭化水素鎖が好ましい。炭化水素鎖含有基の炭素数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましく、１がさらに好ましい。炭化水素鎖含有基としては、アルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、又はプロピル基がより好ましい。
　ｍ１は３又は４であることが好ましい。
　式（Ｍ１）で表される化合物としては、ＭがＳｉである下記式（Ｍ１－１）～（Ｍ１－５）で表される化合物が好ましく、式（Ｍ１－１）で表される化合物がより好ましい。式（Ｍ１－１）で表される化合物としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、トリエトキシメチルシランが好ましい。
　Ｓｉ（Ｘｂ１）４　　　　　　　　　　　…（Ｍ１－１）
　ＣＨ３－Ｓｉ（Ｘｂ１）３ 　　　　　　　　…（Ｍ１－２）
　Ｃ２Ｈ５－Ｓｉ（Ｘｂ１）３　　　　　　　…（Ｍ１－３）
　ｎ－Ｃ３Ｈ７－Ｓｉ（Ｘｂ１）３　　　　　…（Ｍ１－４）
　（ＣＨ３）２ＣＨ－Ｓｉ（Ｘｂ１）３　　　…（Ｍ１－５）
　式（Ｍ２）中、Ｘｂ４で表される加水分解性シランオリゴマー残基に含まれるケイ素原子の数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、７以上がさらに好ましい。前記ケイ素原子の数は、１５以下が好ましく、１３以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基は、ケイ素原子に結合するアルコキシ基を有していてもよい。前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられ、メトキシ基及びエトキシ基が好ましい。加水分解性シランオリゴマー残基は、これらアルコキシ基の１種又は２種以上を有してもよく、１種を有することが好ましい。
　加水分解性シランオリゴマー残基としては、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）２）４Ｏ－＊等が挙げられる。ここで、＊は隣接原子との結合部位を表す。
　式（Ｍ２）中、Ｘｂ５で表される加水分解性基としては、上記反応性シリル基における［－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ］中のＬで示される加水分解性基と同様のもの、シアノ基、水素原子、アリル基が挙げられ、アルコキシ基又はイソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。
　Ｘｂ５としては、加水分解性基が好ましい。
　式（Ｍ２）で表される化合物としては、（Ｈ５Ｃ２Ｏ）３－Ｓｉ－（ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）２）４ＯＣ２Ｈ５等が挙げられる。
　式（Ｍ３）で表される化合物は、２価の有機基の両末端に反応性シリル基を有する化合物、すなわち、ビスシランである。
　式（Ｍ３）中、Ｘｂ６及びＸｂ７で表される加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアナト基、ハロゲン原子が挙げられ、アルコキシ基、イソシアナト基が好ましい。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
　式（Ｍ３）において、Ｘｂ６及びＸｂ７は互いに同じ基でもよく、互いに異なる基でもよい。入手しやすさの点で、Ｘｂ６及びＸｂ７は互いに同じ基であることが好ましい。
　式（Ｍ３）中、Ｙｂ１は、両末端の反応性シリル基を連結する２価の有機基である。２価の有機基のＹｂ１の炭素数は１～８が好ましく、１～３がより好ましい。
　Ｙｂ１としては、アルキレン基、フェニレン基、炭素原子間にエーテル性酸素原子を有するアルキレン基が挙げられる。例えば、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ６Ｈ４－が挙げられる。
　式（Ｍ３）で表される化合物としては、（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、（ＯＣＮ）３Ｓｉ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＮＣＯ）３、Ｃｌ３Ｓｉ（ＣＨ２）２ＳｉＣｌ３、（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ２）６Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３が挙げられる。
　本開示の組成物に含まれてもよい他の成分の含有量は、本開示の組成物の全量に対して、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。本開示の組成物が特定金属化合物を含む場合、特定金属化合物の含有量は本開示の組成物の全量に対して０．０１～３０質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．０５～５質量％がさらに好ましい。
　第１の化合物及び第２の化合物、又は第３の化合物と第４の化合物と、他の成分と、の合計含有量（以下、「固形分濃度」ともいう。）は、本開示の組成物の全量に対して、０．００１～４０質量％が好ましく、０．０１～２０質量％がより好ましく、０．１～１０質量％がさらに好ましい。本開示の組成物の固形分濃度は、加熱前の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出される値である。
［表面処理剤］
　本開示の表面処理剤は、上述の本開示の組成物からなる。本開示の表面処理剤は、基材の表面に付与され、表面処理層を形成するために用いられる。表面処理剤に含まれる各成分の詳細は、前記組成物に含まれる各成分の詳細と同じである。
　一態様において、本開示の表面処理剤は、防汚層を形成するために用いられることが好ましい。一態様において、本開示の表面処理剤は、物品の最表面に形成される防汚層を形成するために用いられることが好ましい。
［物品］
　一態様において、本開示の物品は、基材と、基材上に配置され、本開示の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む。一態様において、表面処理層は防汚層であることが好ましい。一態様において、表面処理層は物品の最表面に形成される防汚層であることが好ましい。
　表面処理層は、基材の表面の一部に形成されてもよく、基材の表面全体に形成されてもよい。表面処理層は、基材の表面に膜状に拡がっていてもよく、ドット状に点在していてもよい。
　表面処理層において、本開示の化合物は、反応性シリル基の一部又は全部の加水分解が進行し、かつ、シラノール基の脱水縮合反応が進行した状態で含まれる。
　表面処理層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましい。表面処理層の厚さが１ｎｍ以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面処理層の厚さが１００ｎｍ以下であれば、利用効率が高い。表面処理層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（製品名「ＡＴＸ－Ｇ」、ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。
　基材の種類は特に限定されず、例えば、撥水性の付与が求められている基材が挙げられる。基材として、例えば、他の物品（例えば、スタイラス）又は人の手指を接触させて使用することがある基材；操作時に人の手指で持つことがある基材；及び、他の物品（例えば、載置台）の上に置くことがある基材が挙げられる。
　基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、半導体、石、繊維、不織布、紙、木、毛皮、天然皮革、人工皮革、陶磁器、及びこれらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。
　基材としては、建材、装飾建材、インテリア用品、輸送機器（例えば、自動車）、看板、掲示板、飲用器、食器、水槽、観賞用器具（例えば、額、箱）、実験器具、家具、繊維製品、包装容器；アート、スポーツ、ゲーム等に使用する、ガラス又は樹脂；携帯電話（例えば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分（表示部を除く）に使用する、ガラス又は樹脂が挙げられる。基材の形状は、板状であってもよく、フィルム状であってもよい。
　基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラス又は透明樹脂が好ましい。
　基材は、一方の表面又は両面が、コロナ放電処理、プラズマ処理、プラズマグラフト重合処理等の表面処理が施された基材であってもよい。表面処理が施された基材は、表面処理層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、基材の表面処理層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。また、表面処理が施された基材は、後述する下地層が設けられる場合には、下地層との密着性がより優れ、表面処理層の耐摩耗性がより向上する。そのため、下地層が設けられる場合には、基材の下地層と接する側の表面に表面処理を施すことが好ましい。
　表面処理層は、基材の表面上に直接設けられていてもよく、基材と表面処理層との間に下地層が設けられていてもよい。表面処理層の撥水性及び耐摩耗性をより向上させる観点から、本開示の物品は、基材と、基材上に配置された下地層と、下地層上に配置された本開示の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含むことが好ましい。
　下地層は、ケイ素と、周期表の第１族元素、第２族元素、第４族元素、第５族元素、第１３族元素、及び第１５族元素からなる群から選択される少なくとも１つの特定元素とを含む酸化物を含む層が好ましい。
　周期表の第１族元素（以下、「第１族元素」ともいう。）とは、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムを意味する。第１族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リチウム、ナトリウム、カリウムが好ましく、ナトリウム、カリウムがより好ましい。下地層には、第１族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第２族元素（以下、「第２族元素」ともいう。）とは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバリウムを意味する。第２族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、マグネシウム、カルシウム、バリウムが好ましく、マグネシウム、カルシウムがより好ましい。下地層には、第２族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第４族元素（以下、「第４族元素」ともいう。）とは、チタン、ジルコニウム、及びハフニウムを意味する。第４族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、チタン、ジルコニウムが好ましく、チタンがより好ましい。下地層には、第４族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第５族元素（以下、「第５族元素」ともいう。）とは、バナジウム、ニオブ及びタンタルを意味する。第５族元素としては、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、バナジウムが特に好ましい。下地層には、第５族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第１３族元素（以下、「第１３族元素」ともいう。）とは、ホウ素、アルミニウム、ガリウム及びインジウムを意味する。第１３族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、ホウ素、アルミニウム、ガリウムが好ましく、ホウ素、アルミニウムがより好ましい。下地層には、第１３族元素が２種以上含まれていてもよい。
　周期表の第１５族元素（以下、「第１５族元素」ともいう。）とは、窒素、リン、ヒ素、アンチモン及びビスマスを意味する。第１５族元素としては、下地層上に表面処理層を欠陥なくより均一に形成できる観点、又は、サンプル間での下地層の組成のバラツキがより抑制される観点から、リン、アンチモン、ビスマスが好ましく、リン、ビスマスがより好ましい。下地層には、第１５族元素が２種以上含まれていてもよい。
　下地層に含まれる特定元素としては、第１族元素、第２族元素、第１３族元素が表面処理層の耐摩耗性がより優れるため好ましく、第１族元素、第２族元素がより好ましく、第１族元素がさらに好ましい。
　特定元素として、１種のみの元素が含まれていても２種以上の元素が含まれていてもよい。
　下地層に含まれる酸化物は、上記元素（ケイ素及び特定元素）単独の酸化物の混合物（例えば、酸化ケイ素と、特定元素の酸化物と、の混合物）であってもよいし、上記元素を２種以上含む複合酸化物であってもよいし、上記元素単独の酸化物と複合酸化物との混合物であってもよい。
　下地層中のケイ素のモル濃度に対する、下地層中の特定元素の合計モル濃度の比（特定元素／ケイ素）は、表面処理層の耐摩耗性がより優れる観点から、０．０２～２．９０であるのが好ましく、０．１０～２．００であるのがより好ましく、０．２０～１．８０であるのがさらに好ましい。
　下地層中の各元素のモル濃度（モル％）は、例えば、イオンスパッタリングを用いたＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）による深さ方向分析によって測定できる。
　下地層は、単層であっても複層であってもよい。下地層は、表面に凹凸を有していてもよい。
　下地層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍがより好ましく、２～２０ｎｍがさらに好ましい。下地層の厚さが上記下限値以上であれば、下地層による表面処理層の密着性がより向上して、表面処理層の耐摩耗性がより優れる。下地層の厚さが上記上限値以下であれば、下地層自体の耐摩耗性が優れる。
　下地層の厚さは、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）による下地層の断面観察によって測定される。
　下地層は、例えば、蒸着材料を用いた蒸着法、又は、ウェットコーティング法により形成できる。
　蒸着法で用いる蒸着材料は、ケイ素及び特定元素を含む酸化物を含有することが好ましい。
　蒸着材料の形態の具体例としては、粉体、溶融体、焼結体、造粒体、破砕体が挙げられ、取り扱い性の観点から、溶融体、焼結体、造粒体が好ましい。
　ここで、溶融体とは、蒸着材料の粉体を高温で溶融させた後、冷却固化して得られた固形物を意味する。焼結体とは、蒸着材料の粉体を焼成して得られた固形物を意味し、必要に応じて、蒸着材料の粉体の代わりに、粉体をプレス形成して成形体を用いてもよい。造粒体とは、蒸着材料の粉体と液状媒体（例えば、水、有機溶媒）とを混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて得られた固形物を意味する。
　蒸着材料は、例えば、以下の方法で製造できる。
・酸化ケイ素の粉体と、特定元素の酸化物の粉体と、を混合して、蒸着材料の粉体を得る方法。
・上記蒸着材料の粉体及び水を混練して粒子を得た後、粒子を乾燥させて、蒸着材料の造粒体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、水と、を混合した混合物を乾燥させた後、乾燥後の混合物又はこれをプレス成形した成形体を焼成して、焼結体を得る方法。
・ケイ素を含む粉体（例えば、酸化ケイ素からなる粉体、珪砂、シリカゲル）と、特定元素を含む粉体（例えば、特定元素の酸化物の粉体、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、シュウ酸塩、水酸化物）と、を高温で溶融させた後、溶融物を冷却固化して、溶融体を得る方法。
　蒸着材料を用いた蒸着法の具体例としては、真空蒸着法が挙げられる。真空蒸着法は、蒸着材料を真空槽内で蒸発させ、基材の表面に付着させる方法である。
　蒸着時の温度（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置するボートの温度）としては、１００～３，０００℃が好ましく、５００～３，０００℃がより好ましい。
　蒸着時の圧力（例えば、真空蒸着装置を用いる際には、蒸着材料を配置する槽内の圧力）としては、１Ｐａ以下が好ましく、０．１Ｐａ以下がより好ましい。
　蒸着材料を用いて下地層を形成する場合、１つの蒸着材料を用いてもよいし、異なる元素を含む２つ以上の蒸着材料を用いてもよい。
　蒸着材料の蒸発方法の具体例としては、高融点金属製抵抗加熱用ボート上で蒸着材料を溶融し、蒸発させる抵抗加熱法、電子ビームを蒸着材料に照射し、蒸着材料を直接加熱して表面を溶融し、蒸発させる電子銃法が挙げられる。蒸着材料の蒸発方法としては、局所的に加熱できるため高融点物質も蒸発できる点、電子ビームが当たっていないところは低温であるため容器との反応や不純物の混入のおそれがない観点から、電子銃法が好ましい。
　蒸着材料の蒸発方法としては、複数のボートを用いてもよく、単独のボートに全ての蒸着材料を入れて用いてもよい。蒸着方法は、共蒸着であってもよく、交互蒸着等でもよい。具体的には、シリカと特定源を同一のボートに混合して用いる例、シリカと特定元素源とを別々のボートに入れて共蒸着する例、同様に別々のボートに入れて交互蒸着する例が挙げられる。蒸着の条件、順番等は下地層の構成により適宜選択される。
　ウェットコーティング法では、ケイ素を含む化合物と、特定元素を含む化合物と、液状媒体と、を含むコーティング液を用いたウェットコーティング法によって、基材上に下地層を形成することが好ましい。
　ケイ素化合物の具体例としては、酸化ケイ素、ケイ酸、ケイ酸の部分縮合物、アルコキシシラン、アルコキシシランの部分加水分解縮合物が挙げられる。
　特定元素を含む化合物の具体例としては、特定元素の酸化物、特定元素のアルコキシド、特定元素の炭酸塩、特定元素の硫酸塩、特定元素の硝酸塩、特定元素のシュウ酸塩、特定元素の水酸化物が挙げられる。
　液状媒体としては、本開示の組成物に含まれていてもよい液状媒体と同様のものが挙げられる。
　液状媒体の含有量は、下地層の形成に使用するコーティング液の全量に対して、８０～９９．９９質量％が好ましく、９０～９９．９質量％がより好ましい。
　下地層を形成するためのウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
　コーティング液をウェットコーティングした後、塗膜を乾燥させるのが好ましい。塗膜の乾燥温度としては、２０～２００℃が好ましく、８０～１６０℃がより好ましい。
　本開示の物品は、表面処理層を最外層に有する光学材料であってもよい。
　光学材料としては、ディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる。
　光学材料としては、例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）等のディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したものが挙げられる。
　本開示の物品は、光学部材であることが好ましい。光学部材としては、例えば、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルムが挙げられる。
　また、光学部材としては、ＰＤＰ、ＬＣＤ等のディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯ等の光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面も挙げられる。
　特に、本開示の物品は、ディスプレイ又はタッチパネルであることが好ましい。
　本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。また、本開示の物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材としては、例えば、ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバーが挙げられる。内装材としては、例えば、インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材が挙げられる。
　本開示の物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えば、ガラス又は透明プラスチックである。また、本開示の物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に、ハードコート層、反射防止層等の機能性層が形成されていてもよい。反射防止層は、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれであってもよい。
　反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｔａ３Ｏ５，Ｎｂ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、及びＷＯ３が挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。本開示の物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛等を用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、液晶表示モジュール等を有していてもよい。
［物品の製造方法］
　本開示の物品の製造方法は、例えば、基材に対して、本開示の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造するという方法である。表面処理としては、ドライコーティング法及びウェットコーティング法が挙げられる。
　ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。ドライコーティング法としては、化合物の分解を抑える点、及び装置の簡便さの観点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄、鋼等の金属多孔体に、本開示の化合物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。本開示の化合物及び液状媒体を含む組成物を、鉄、鋼等の金属多孔体に含浸させ、液状媒体を乾燥させて、本開示の化合物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。
　ウェットコーティング法としては、例えば、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。
　表面処理層の耐摩耗性を向上させるために、必要に応じて、本開示の化合物と基材との反応を促進させるための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。
　例えば、水分を有する大気中で表面処理層が形成された基材を加熱して、加水分解性基の加水分解反応、基材の表面の水酸基等とシラノール基との反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、等の反応を促進できる。
　表面処理後、表面処理層中の化合物であって、他の化合物又は基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。除去する方法としては、例えば、表面処理層に溶媒をかけ流す方法、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法等が挙げられる。
　次に本開示の実施形態を実施例により具体的に説明するが、本開示の実施形態はこれらの実施例に限定されるものではない。例２～１１は実施例であり、例１は比較例である。
［化合物の準備］
　以下の化合物を準備した。
（化合物（Ｉ））
化合物（１－１）の合成
　ヘキサメチルシクロトリシロキサン（６５ｇ）に、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン、１０１ｇ）を加え、溶解するまで２５℃で攪拌した。次いで、トリメチルシラノールのリチウム塩（５．１ｇ）をＴＨＦ（２０ｇ）に懸濁させた溶液を添加し、２５℃で２時間攪拌した。次いで、クロロジメチルシラン（１０．５ｇ）を加え、２５℃で１時間攪拌した。ヘキサンと水とを加えて抽出した後、溶媒と低沸点成分を減圧留去し、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ヘキサン／ジクロロメタン）を行うことで、化合物（１－１）を２５ｇ得た。化合物（１－１）中、ｎ１０の平均値は１４であった。化合物（１－１）の構造は、以下のＮＭＲデータより確認した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：４．６３（ｈｅｐｔ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），０．２１－０．０８（ｍ，６Ｈ），０．０７－　－０．１２（ｍ，８７Ｈ）．
化合物（１－２）の合成
　化合物（１－１）（２．０ｇ）に、ジクロロメタン（２０ｇ）、１８－ブロモ－１－オクタデセン（１．０ｇ）を加え、均一になるまで２５℃で攪拌した。次いで、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量：３質量％、４．１ｍｇ）を加えて、２５℃で２時間攪拌した。低沸点成分を減圧留去した後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ヘキサン／ジクロロメタン）を行うことで、化合物（１－２）を１．２ｇ得た。化合物（１－２）中、ｎ１０の平均値は１４であった。化合物（１－２）の構造は、以下のＮＭＲデータより確認した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：３．４１（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），１．８５（ｐ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），１．７５－０．９５（ｍ，３０Ｈ），０．５３（ｓ，２Ｈ），０．３４－　－０．２５（ｍ，９３Ｈ）．
化合物（１－３）の合成
　化合物（１－２）（１．２ｇ）に、ＴＨＦ（２０ｇ）、アリルマグネシウムクロリド溶液（ＴＨＦ中、２．０Ｍ）（２０ｍＬ）、塩化銅（ＩＩ）（０．０２ｇ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。塩酸とヘキサンとを加えて抽出し、低沸点成分を減圧留去した後、シリカゲルを用いたフラッシュカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ヘキサン／ジクロロメタン）を行うことで、化合物（１－３）を１．１ｇ得た。化合物（１－３）中、ｎ１０の平均値は１４であった。化合物（１－３）の構造は、以下のＮＭＲデータより確認した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：５．７４（ｄｄｔ，Ｊ＝１６．９，１０．２，６．７Ｈｚ，１Ｈ），５．０１－４．７４（ｍ，２Ｈ），２．０８－１．８４（ｍ，２Ｈ），１．７５－０．９５（ｍ，３４Ｈ），０．４５（ｄｄ，Ｊ＝９．４，５．７Ｈｚ，２Ｈ）０．３４－　－０．２５（ｍ，９３Ｈ）．
化合物（Ｉ）の合成
　化合物（１－３）（１．１ｇ）に、ジクロロメタン（１０ｇ）を加えて溶解させた。次いで、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量：３質量％、４．１ｍｇ）、アニリン（２．６ｍｇ）、トリメトキシシラン（０．６０ｇ）を加え、５０℃で２時間攪拌した。溶媒を減圧留去することで、化合物（Ｉ）を１．１ｇ得た。化合物（Ｉ）中、ｎ１０の平均値は１４であった。化合物（Ｉ）の構造は、以下のＮＭＲデータより確認した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：３．５０（ｓ，９Ｈ），１．７５－０．９５（ｍ，３８Ｈ），０．６２－０．５４（ｍ，２Ｈ），０．４５（ｄｄ，Ｊ＝９．４，５．９Ｈｚ，２Ｈ），０．３４－　－０．２５（ｍ，９３Ｈ）．
（化合物（ＩＩ））
　国際公開第２０２３／０１７８３０号の実施例１に記載の方法により、化合物（ＩＩ）を合成した。カラム精製により、ｎ１０の平均値が１１である化合物（ＩＩ）を得た。
（化合物（ＩＩＩ））
　国際公開第２０２３／０１７８３０号の実施例３に記載の方法により、化合物（ＩＩＩ）を合成した。カラム精製により、ｎ１０の平均値が１１である化合物（ＩＩＩ）を得た。なお、国際公開第２０２３／０１７８３０号の合成例３で使用の２，２－ジアリル－ペンテン－１－アミンの代わりに１－アミノ－１０－ウンデセンを使用した。
（化合物（ＩＶ））
　国際公開第２０２３／０１７８３０号の実施例３に記載の方法により、化合物（ＩＶ）を合成した。カラム精製により、ｎ１０の平均値が６である化合物（ＩＶ）を得た。
（化合物（Ｖ））
　特開２０２４－０２５７５７号公報の合成例１６に記載の方法により、化合物（Ｖ）を合成した。
（化合物（ＶＩ））
　特開２０２４－０２５７５７号公報の合成例２６に記載の方法により、化合物（ＶＩ）を合成した。
［表面処理剤の調製及び物品の作製］
　表１に記載の割合の化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）、又は化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）をヘプタンと混合し、化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）、又は化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）の合計濃度が０．２質量％である表面処理剤を得た。基材に対して、表面処理剤を用いて表面処理を行った。表面処理方法としては、ウェットコーティング法を用いた。
（ウェットコーティング法）
　真空蒸着装置（アルバック機工社製ＶＴＲ－３５０Ｍ）内の銅製ハースに蒸着源として酸化ケイ素の３０ｇを配置した。真空蒸着装置内にガラス基材を配置し、真空蒸着装置内を５×１０－３Ｐａ以下の圧力になるまで排気した。上記ハースを約２，０００℃になるまで加熱し、基材の表面に酸化ケイ素を真空蒸着させた。これにより、基材上に、厚さ約２０ｎｍの酸化ケイ素層が形成された。
　酸化ケイ素層が形成された基材を酸化ケイ素層が表面になるように、スプレーコーター（株式会社アピロス製ＡＰＩ―９０ＲＳ）のサンプルステージ上に設置した。次に、調製した表面処理剤１３ｇをスプレーコーター内のシリンジに投入し、霧化圧１３０ｋＰａ、ノズル－サンプル表面間の距離５０ｍｍ、走査速度３００ｍｍ／秒でスプレー塗布した。その後、塗布された基材を１４０℃で３０分間加熱処理した。これにより、酸化ケイ素層の表面に表面処理層を有する物品を得た。
　次に、得られた物品の表面処理層について以下の評価を行った。
［評価］
＜水接触角＞
　物品の表面処理層上に、約２μＬの蒸留水を垂らし、接触角測定装置（ＤＭ－５００：製品名、協和界面科学社製）を用いて、水接触角を測定した。表面処理層上の５箇所で測定した平均値を、水接触角とした。なお、水接触角の算出には２θ法を用いた。
＜耐光性＞
　水銀ランプ（ＳＰ－９　２５０ＤＢ、ウシオ電機社製）に均一光照射ユニット（ウシオ社製）を取り付け、レンズから１７．５ｃｍの距離にサンプルを設置した。強度計（ＶＥＧＡ、ＯＰＨＩＲ社製）を用いて２００～８００ｎｍの光強度を測定したところ、２００ｍＷ／ｃｍ２であった。温度２０～４０℃、湿度３０～７５％の大気雰囲気下で、水銀ランプをサンプルに６時間照射した。透明被膜上の初期接触角をＡ１、照射後の液滴の接触角をＢＺとして、下記式に基づいて、照射前後の接触角の変化率を計算した。
　接触角変化率（％）＝｛（ＢＺ－Ａ１）／Ａ１｝×１００
　また、上記水銀ランプ（ウシオ電機社製「ＳＰ－９　２５０ＤＢ」）の分光放射照度は波長３００ｎｍ以下の領域に輝線を有していた。
　表１に、耐光性試験前の水接触角（初期水接触角）及び耐光性試験後の水接触角、並びに接触角変化率の評価結果を示す。表１において、化合物（Ｉ）の割合は、化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）との合計量に対する化合物（Ｉ）の質量割合を示す。また、化合物（ＩＩ）の割合は、化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）との合計量に対する化合物（ＩＩ）の質量割合を示す。化合物（ＩＩＩ）の割合は、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）との合計量に対する化合物（ＩＩＩ）の質量割合を示す。また、化合物（ＩＶ）の割合は、化合物（ＩＩＩ）と化合物（ＩＶ）との合計量に対する化合物（ＩＶ）の質量割合を示す。化合物（Ｖ）の割合は、化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）との合計量に対する化合物（Ｖ）の質量割合を示す。また、化合物（ＶＩ）の割合は、化合物（Ｖ）と化合物（ＶＩ）との合計量に対する化合物（ＶＩ）の質量割合を示す。
　表１に示すように、例２～１１で得た表面処理層は、耐光性試験後の水接触角の変化率が小さく、耐光性に優れる。中でも、化合物（ＩＩ）の割合が５５～９５質量％である例５～８、化合物（ＩＶ）の割合が６５質量％である例１０、及び化合物（ＶＩ）の割合が６５質量％である例１１は特に変化率が小さく、特に耐光性に優れる。
　本開示の組成物及び表面処理剤は、例えば、タッチパネルディスプレイ等の表示装置、光学素子、半導体素子、建築材料、自動車部品、ナノインプリント技術等における基材に対して用いることができる。また、組成物及び表面処理剤は、電車、自動車、船舶、航空機等の輸送機器におけるボディー、窓ガラス（フロントガラス、サイドガラス、リアガラス）、ミラー、バンパー等に対して用いることができる。さらに、組成物及び表面処理剤は、建築物外壁、テント、太陽光発電モジュール、遮音板、コンクリート等の屋外物品；漁網、虫取り網、水槽に対して用いることができる。また、組成物及び表面処理剤は、台所、風呂場、洗面台、鏡、トイレ周辺部品；シャンデリア、タイル等の陶磁器；人工大理石、エアコン等の各種屋内設備に対して用いることができる。また、組成物及び表面処理剤は、工場内の治具、内壁、配管等の防汚処理としても用いることができる。また、組成物及び表面処理剤は、ゴーグル、眼鏡、ヘルメット、パチンコ、繊維、傘、遊具、サッカーボールに対して用いることができる。また、組成物及び表面処理剤は、食品用包材、化粧品用包材、ポットの内部等の各種包材の付着防止剤としても用いることができる。また、組成物及び表面処理剤は、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、ディスプレイ（例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ）、タッチパネル、保護フィルム、及び反射防止フィルム等の光学部材に対して用いることができる。
（付記）
　本開示は以下の態様を含む。
＜１＞　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する第１の化合物、及び鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する第２の化合物を含むか、又は
　鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する第３の化合物、及び鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する第４の化合物を含む、組成物。
＜２＞　前記第１の化合物及び前記第３の化合物における１つの反応性シリル基、並びに前記第２の化合物及び前記第４の化合物における２つ以上の反応性シリル基は、それぞれ独立に、下記式（Ｓ１）で表される、前記＜１＞に記載の組成物。
　－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ　…（Ｓ１）
　Ｒ２はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
＜３＞　前記第１の化合物、前記第２の化合物、前記第３の化合物、及び前記第４の化合物における前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は、それぞれ独立に、下記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される、前記＜１＞又は＜２＞に記載の組成物。

　式（Ｂ１）中、
　Ｒ３はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、１以上の数であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位である。

　式（Ｂ２）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　＊は、隣接する原子との結合部位である。
＜４＞　前記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）において、ｋ１が１～６００の数である、前記＜３＞に記載の組成物。
＜５＞　前記第１の化合物が下記式（Ｃ１）で表される、前記＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載の組成物。

　式（Ｃ１）中、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　ｐ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１１は、（ｐ１＋１）価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、０～２の整数である。
＜６＞　前記第２の化合物が下記式（Ｃ２）で表される、前記＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の組成物。

　式（Ｃ２）中、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　ｐ１は、１以上の整数であり、
　Ａ１２は、（ｐ１＋ｑ１）価の連結基であり、
　ｑ１は、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
＜７＞　前記式（Ｃ２）において、ｑ１が２～４の整数である、前記＜６＞に記載の組成物。
＜８＞　前記第３の化合物が下記式（Ｃ３）で表される、前記＜１＞～＜７＞のいずれか１項に記載の組成物。

　式（Ｃ３）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　Ａ１３は、それぞれ独立に、２価の連結基であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
＜９＞　前記第４の化合物が下記式（Ｃ４）で表される、前記＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の組成物。

　式（Ｃ４）中、
　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
　Ａ１４は、それぞれ独立に、（ｑ１＋１）価の連結基であり、
　ｑ１は、それぞれ独立に、２以上の整数であり、
　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
＜１０＞　前記式（Ｃ４）において、ｑ１がそれぞれ独立に、２～４の整数である、前記＜９＞に記載の組成物。
＜１１＞　前記組成物が前記第１の化合物及び前記第２の化合物を含む場合、前記第１の化合物と前記第２の化合物の合計量に対する前記第２の化合物の量が５０～９７質量％であり、
　前記組成物が前記第３の化合物及び前記第４の化合物を含む場合、前記第３の化合物と前記第４の化合物の合計量に対する前記第４の化合物の量が５０～９７質量％である、
前記＜１＞～＜１０＞のいずれか１項に記載の組成物。
＜１２＞　さらに液状媒体を含む、前記＜１＞～＜１１＞のいずれか１項に記載の組成物。
＜１３＞　前記＜１＞～＜１２＞のいずれか１項に記載の組成物からなる表面処理剤。
＜１４＞　基材に対して、前記＜１３＞に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、前記基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
＜１５＞　基材と、前記基材上に配置され、前記＜１３＞に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
＜１６＞　光学部材である、前記＜１５＞に記載の物品。
＜１７＞　ディスプレイ又はタッチパネルである、前記＜１５＞に記載の物品。
　２０２３年１０月６日に出願された日本国特許出願２０２３－１７４７６０号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (18)

  1. 　２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する第１の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する第２の化合物を含むか、又は
    　２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する第３の化合物、及び２価の鎖状基と、前記２価の鎖状基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する第４の化合物を含む、組成物。
  2. 　前記第１の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される１つの反応性シリル基と、を有する化合物であり、
    　前記第２の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の一方の末端のみに連結される２つ以上の反応性シリル基と、を有する化合物であり、
    　前記第３の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに１つずつ連結される反応性シリル基と、を有する化合物であり、
    　前記第４の化合物が、鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基と、前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基の両末端のそれぞれに２つ以上連結される反応性シリル基と、を有する化合物である、
    請求項１に記載の組成物。
  3. 　前記第１の化合物及び前記第３の化合物における１つの反応性シリル基、並びに前記第２の化合物及び前記第４の化合物における２つ以上の反応性シリル基は、それぞれ独立に、下記式（Ｓ１）又は式（Ｓ３）で表される、請求項１に記載の組成物。
    　－Ｓｉ（Ｒ２）ｎＬ３－ｎ　…（Ｓ１）
    　－［Ｓｉ（Ｌ２）２－Ｐ］ｒ１－Ｓｉ（Ｌ２）３　…（Ｓ３）
    　式（Ｓ１）中、
    　Ｒ２はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、Ｌはそれぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、ｎは０～２の整数である。
    　式（Ｓ３）中、
    　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
    　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
    　ｒ１は、１～３の整数である。
  4. 　前記第１の化合物、前記第２の化合物、前記第３の化合物、及び前記第４の化合物における前記鎖状オルガノ（ポリ）シロキサン残基は、それぞれ独立に、下記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される、請求項２に記載の組成物。

    　式（Ｂ１）中、
    　Ｒ３はそれぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　ｋ１は、１以上の数であり、
    　＊は、隣接する原子との結合部位である。

    　式（Ｂ２）中、
    　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
    　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
    　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
    　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
    　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
    　＊は、隣接する原子との結合部位である。
  5. 　前記式（Ｂ１）又は（Ｂ２）において、ｋ１が１～６００の数である、請求項４に記載の組成物。
  6. 　前記第１の化合物が下記式（Ｃ１）、（Ｃ１－２）、（Ｃ１－３）、又は（Ｃ１－４）で表される、請求項１に記載の組成物。


    　式（Ｃ１）中、
    　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
    　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
    　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
    　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
    　ｐ１は、１以上の整数であり、
    　Ａ１１は、（ｐ１＋１）価の連結基であり、
    　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　ｎは、０～２の整数である。
    　式（Ｃ１－２）中、
    　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
    　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
    　ｒ１は、１～３の整数であり、
    　Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、及びＡ１１の定義は、式（Ｃ１）中の定義と同じである。


    　式（Ｃ１－３）中、
    　Ｂ１１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していない、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基；又は、分岐アルキル基を含む１価の基であり、ただし、Ｂ１１は反応性シリル基を含まず、
    　ｕ１は、１以上の整数であり、
    　Ａ１５は、（ｕ１＋１）価の連結基であり、
    　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
    　式（Ｃ１－４）中、
    　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
    　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
    　ｒ１は、１～３の整数であり、
    　Ｂ１１、ｕ１、及びＡ１５の定義は、式（Ｃ１－３）中の定義と同じである。
  7. 　前記第２の化合物が下記式（Ｃ２）、（Ｃ２－２）、（Ｃ２－３）、又は（Ｃ２－４）で表される、請求項１に記載の組成物。


    　式（Ｃ２）中、
    　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
    　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
    　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
    　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
    　ｐ１は、１以上の整数であり、
    　Ａ１２は、（ｐ１＋ｑ１）価の連結基であり、
    　ｑ１は、２以上の整数であり、
    　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
    　式（Ｃ２－２）中、
    　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
    　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
    　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
    　Ｔ１１、Ｂ、ｒ、Ｒ３、ｋ１、ｐ１、Ａ１2、及びｑ１の定義は、式（Ｃ２）中の定義と同じである。


    　式（Ｃ２－３）中、
    　Ｂ１１は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していない、Ｓｉ、Ｇｅ、及びＳｎからなる群より選択される少なくとも１つを含む１価の基；又は、分岐アルキル基を含む１価の基であり、ただし、Ｂ１１は反応性シリル基を含まず、
    　ｕ１は、１以上の整数であり、
    　Ａ１６は、（ｑ１＋ｕ１）価の連結基であり、
    　ｑ１は、２以上の整数であり、
    　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
    　式（Ｃ２－４）中、
    　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
    　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
    　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
    　Ｂ１１、ｕ１、Ａ１６、及びｑ１の定義は、式（Ｃ２－３）中の定義と同じである。
  8. 　前記式（Ｃ２）及び（Ｃ２－２）において、ｑ１が２～４の整数である、請求項７に記載の組成物。
  9. 　前記第３の化合物が下記式（Ｃ３）又は（Ｃ３－２）で表される、請求項１に記載の組成物。


    　式（Ｃ３）中、
    　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
    　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
    　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
    　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
    　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
    　Ａ１３は、それぞれ独立に、２価の連結基であり、
    　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
    　式（Ｃ３－２）中、
    　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
    　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
    　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
    　Ｒ４、ｋ１、及びＡ１３の定義は、式（Ｃ３）中の定義と同じである。
  10. 　前記第４の化合物が下記式（Ｃ４）又は（Ｃ４－２）で表される、請求項１に記載の組成物。


    　式（Ｃ４）中、
    　Ｒ４は、それぞれ独立に、炭化水素基又はＴ１１－Ｂｒ－（ＳｉＲ３ ２－Ｏ）ｋ１－であり、
    　Ｔ１１は、それぞれ独立に、１価の基であり、
    　Ｂは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－であり、
    　ｒは、それぞれ独立に、０又は１であり、
    　Ｒ３は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　ｋ１は、それぞれ独立に、１以上の数であり、
    　Ａ１４は、それぞれ独立に、（ｑ１＋１）価の連結基であり、
    　ｑ１は、それぞれ独立に、２以上の整数であり、
    　Ｒ２は、それぞれ独立に、炭化水素基であり、
    　Ｌは、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　ｎは、それぞれ独立に、０～２の整数である。
    　式（Ｃ４－２）中、
    　Ｌ２は、それぞれ独立に、加水分解性基、加水分解性基を有する基、水酸基、又は炭化水素基であり、
    　Ｌ２のうち、少なくとも４個のＬ２は、加水分解性基、加水分解性基を有する基、又は水酸基であり、
    　Ｐは、それぞれ独立に、酸素原子、又は、両隣のＳｉと結合する１つの炭素原子を有する有機基であり、
    　ｒ１は、それぞれ独立に、１～３の整数であり、
    　Ｒ４、ｋ１、Ａ１４、及びｑ１の定義は、式（Ｃ４）中の定義と同じである。
  11. 　前記式（Ｃ４）及び（Ｃ４－２）において、ｑ１がそれぞれ独立に、２～４の整数である、請求項１０に記載の組成物。
  12. 　前記組成物が前記第１の化合物及び前記第２の化合物を含む場合、前記第１の化合物と前記第２の化合物の合計量に対する前記第２の化合物の量が５０～９７質量％であり、
    　前記組成物が前記第３の化合物及び前記第４の化合物を含む場合、前記第３の化合物と前記第４の化合物の合計量に対する前記第４の化合物の量が５０～９７質量％である、
    請求項１に記載の組成物。
  13. 　さらに液状媒体を含む、請求項１に記載の組成物。
  14. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載の組成物からなる表面処理剤。
  15. 　基材に対して、請求項１４に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、前記基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
  16. 　基材と、前記基材上に配置され、請求項１４に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
  17. 　光学部材である、請求項１６に記載の物品。
  18. 　ディスプレイ又はタッチパネルである、請求項１６に記載の物品。
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