WO2024143904A1 - 센서 장치 - Google Patents

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WO2024143904A1
WO2024143904A1 PCT/KR2023/018734 KR2023018734W WO2024143904A1 WO 2024143904 A1 WO2024143904 A1 WO 2024143904A1 KR 2023018734 W KR2023018734 W KR 2023018734W WO 2024143904 A1 WO2024143904 A1 WO 2024143904A1
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WO
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shield
housing
collector
disposed
area
Prior art date
Application number
PCT/KR2023/018734
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English (en)
French (fr)
Inventor
최호민
Original Assignee
엘지이노텍 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Publication of WO2024143904A1 publication Critical patent/WO2024143904A1/ko

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Definitions

  • Embodiments relate to sensor devices.
  • the power steering system (Electronic Power System, hereinafter referred to as 'EPS') drives a motor from an electronic control unit according to driving conditions to ensure turning stability and provide rapid restoration, thereby ensuring driver safety. Makes driving possible.
  • 'EPS' Electronic Power System
  • the EPS includes a sensor device that measures steering shaft torque and steering angle to provide appropriate torque.
  • the sensor device is a device that measures the degree of twist of the torsion bar.
  • the torsion bar's steering shaft is an input shaft connected to the handle, an output shaft connected to the power transmission component on the wheel side, and a member connecting the input shaft and the output shaft.
  • a shield may be mounted on the outer surface of the housing to reduce the influence of external magnetic fields. If the shield is lifted or relocated from the housing due to an external impact, the performance of the sensor device may be adversely affected. You can.
  • the purpose of the embodiment is to provide a sensor device that can prevent the sensor from being influenced by external magnetism and prevent the position of the shield from being deformed.
  • an external magnetic field is prevented from flowing toward the collector through a shield spaced apart from the collector, and the external magnetic field is transmitted to prevent the sensor from being affected by the external magnetic field.
  • the embodiment has the advantage of preventing the shield from changing its position by moving in a direction perpendicular to the axial direction due to external force by providing a guide for fixing the shield.
  • the embodiment has the advantage of preventing the shield from being lifted by flowing in the axial direction due to external force by providing a cover that covers the shield.
  • the embodiment has the advantage that a chamfered surface is formed on the cover covering the shield, preventing the shield from getting caught in the cover when the shield is inserted into the inside of the cover.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a sensor device according to an embodiment
  • the first bent portion 340 is bent downward from the other side of the first area 310. As the size of the first bent portion 340 increases, the influence of an external magnetic field can be reduced.
  • the sixth area 430 includes a sixth part 431 bent vertically downward on the other side of the fourth area 410, and a seventh part 432 bent vertically in the sixth part 431. ) may include. And the sixth area 430 is disposed to face the eighth part 433, which is bent vertically downward from the seventh part 432, and the seventh part 432, which is bent vertically from the eighth part 433. It may include a ninth part 434 and a tenth part 435 that is bent vertically downward from the ninth part 434 and connected to the fifth region 420 .
  • the first collector 500 may include a first body 510, a first leg 520, and a first extension portion 530.
  • the first leg 520 is bent downward and disposed on both sides of the first body 510 toward the Hall sensor 700 .
  • the first extension portion 530 extends inside the first body 510.
  • the first extension 530 is arranged to overlap the stator 200 in the axial direction.
  • the inner edge of the first extension 530 is formed as a curved surface.
  • FIG. 10 is a cross-sectional side view of one side of the sensor device shown in FIG. 1.
  • first shield 300 and the second shield 400 each contact the side of the housing 800, so that the first shield 300 and the second shield 400 are each stably fixed to the housing 800. It can be.
  • the external magnetic field toward the stator 200 flows into the fifth region 420 of the second shield 400 and flows into the first collector ( It does not flow to 500) or the second collector 600, but is guided to the fourth area 410 and exits to the outside.
  • the fifth area 420 When viewed in the axial direction, the fifth area 420 completely covers the first collector 500, and since the first shield 300 is spaced apart from the first collector 500, the area facing the stator 200 It is possible to prevent an external magnetic field from flowing into the first collector 500.
  • Figure 14 is a diagram showing the magnetic field flow when there is an external magnetic field in the radial direction.
  • the housing 800 may include a first housing 810, a second housing 820, and a third housing 830.
  • the second housing 820 may be disposed between the first housing 810 and the second housing 820.
  • FIG. 17 is a diagram illustrating the first guide 811 and the first cover 812 disposed in the first housing 810.
  • This first guide 811 is disposed to protrude in the axial direction from the seventh surface S7.
  • the first guide 811 may include a first side guide 811a and a first inner guide 811b.
  • This first guide 811 may have a shape corresponding to the shape of the fifth region 420 of the second shield 400.
  • a pair of first side guides 811a are arranged to be spaced apart from each other.
  • the first inner guide 811b is connected to the ends of the pair of first side guides 811a. These first side guides 811a and first inner guides 811b form an accommodation space in the fifth area 420 of the second shield 400.
  • the first side guide 811a may be arranged in a straight line corresponding to the side of the fifth area 420.
  • the first inner guide 811b may be formed in a round shape corresponding to the inner edge of the fifth region 420.
  • the fifth area 420 moves along the seventh surface S7 and moves inside the first guide 811. It is located as
  • FIG. 18 is a diagram showing the second shield 400 fixed by the first guide 811 and the first cover 812.
  • the first side guide 811a is disposed to face and contact the side of the fifth area 420 .
  • the first inner guide 811b is disposed to face and contact the inner edge 401 of the fifth region 420. This first guide 811 fixes the second shield 400 so that it does not move in a direction perpendicular to the axial direction.
  • first cover 812 is arranged to overlap the fifth area 420 in the axial direction and fixes the second shield 400 in the axial direction to prevent the second shield 400 from being lifted by external force. prevent.
  • the second housing 820 may include an eighth surface S8 on one outer surface in the axial direction that contacts the first shield 300 .
  • the eighth surface S8 is disposed opposite to the second area 320 of the first shield 300.
  • the eighth surface S8 may contact the second area 320 of the first shield 300.
  • This second guide 821 is disposed to protrude in the axial direction from the eighth surface S8.
  • the second guide 821 may include a second side guide 821a.
  • the second guide 821 may have a shape corresponding to the shape of the second area 320 of the first shield 300.
  • a pair of second side guides 821a are arranged to be spaced apart from each other.
  • the second housing 820 may include a sliding portion 823.
  • the sliding portion 823 is in contact with the main gear and guides the rotation of the main gear.
  • the sliding portion 823 is connected to the ends of the pair of second side guides 821a.
  • These second side guides 821a and the sliding portion 823 form an accommodation space in the second area 320 of the first shield 300.
  • the second side guide 821a may be arranged in a straight line corresponding to the side surface of the second area 320.
  • the sliding portion 823 may be formed in a round shape.
  • the second region 320 moves along the eighth surface S8 and is located inside the second guide 821. It is located as
  • FIG. 20 is a diagram showing the second shield 400 fixed by the first guide 811 and the first cover 812.
  • the second side guide 821a is disposed to face and contact the side of the second area 320 .
  • the sliding portion 823 is disposed to face and contact the inner edge 321 of the second region 320.
  • the second guide 821 and the sliding portion 823 fix the first shield 300 so that it does not move in a direction perpendicular to the axial direction.
  • FIG. 21 is a diagram illustrating the first shield 300 and the third housing 830.
  • the third housing 830 may include a third cover 831.
  • the third cover 831 protrudes from the inner surface of the third housing 830 in the axial direction.
  • the third cover 831 is arranged to overlap the second area 320 of the first shield 300 in the axial direction.
  • the shape of the third cover 831 may be disposed to correspond overall to the second area 320.
  • This third cover 831 prevents the first shield 300 from lifting due to external force by fixing the first shield 300 in the axial direction.
  • Figure 22 is a side cross-sectional view taken along line A-A of Figure 15.
  • the first cover 812 of the first housing 810 includes a first inner surface 812a facing the first shield 300.
  • the first inner surface 812a may include a first chamfer surface 812b.
  • the first chamfer surface 812b may be formed up to the outer end of the first cover 812.
  • the first chamfer surface 812b is formed so that the axial thickness of the first cover 812 decreases as it goes toward the outside of the first cover 812.
  • This first chamfer surface 812b has the advantage of preventing the second shield 400 from getting caught in the first cover 812 when it is inserted into the first cover 812.
  • FIG. 23 is a diagram illustrating a second housing 820 including a second cover 822 according to a modified example.
  • the second housing 820 may include a second cover 822 along with a second guide 821.
  • the second cover 822 replaces the third cover 831 of the third housing 830 and serves to prevent the first shield 300 from being lifted in the axial direction.
  • the third cover 831 of the third housing 830 may be omitted.
  • the second cover 822 may be disposed at the axial end of the second guide 821.
  • the second cover 822 is spaced apart from the seventh surface S7 of the second housing 820 in the axial direction.
  • the second cover 822 may be arranged to overlap the seventh surface S7 in the axial direction.
  • the second cover 822 is arranged to overlap the second area 320 in the axial direction and fixes the first shield 300 in the axial direction, thereby preventing the first shield 300 from being lifted by external force. .
  • One surface of the second cover 822 may be disposed on the same plane as the sliding surface 823a of the sliding portion 823.
  • FIG. 24 is a diagram illustrating the third housing 830 that prevents the first shield 300 from lifting or bending.
  • the third housing 830 may include a side wall 832.
  • the side wall 832 may be arranged to overlap the second area 320 of the first shield 300 in the axial direction.
  • the end of the side wall 832 may be disposed adjacent to the second area 320 with a minimum gap G. Since the side wall 832 is located immediately adjacent to the second area 320, it can prevent the second area 320 from lifting or bending in the axial direction.
  • An end of the side wall 832 may include a second chamfer surface 832a.
  • the second chamfer surface 832a may be formed up to the outer end of the side wall 832.

Abstract

실시예는, 로터; 상기 로터와 대응되도록 배치되는 스테이터; 상기 스테이터의 일 측에 배치되는 제1 쉴드와 제2 쉴드; 상기 제1 쉴드 및 상기 제2 쉴드의 사이에 배치되는 제1 콜렉터 및 제2 콜렉터; 상기 제1 콜렉터와 상기 제2 콜렉터 사이에 배치되는 홀 센서; 및 상기 제1 콜렉터 및 상기 제2 콜렉터의 외측에 배치되는 제1 하우징 및 제2 하우징을 포함하고, 상기 제1 하우징은, 상기 제1 하우징의 외면에서 돌출되어 내측에 상기 제2 쉴드의 수용공간을 형성하는 제1 가이드를 포함하고, 상기 제2 하우징은, 상기 제2 하우징의 외면에서 돌출되어 내측에 상기 제1 쉴드의 수용공간을 형성하는 제2 가이드를 포함하되, 상기 제1 하우징은, 상기 제1 가이드에 배치되어 상기 제2 쉴드의 축방향으로 오버랩되는 제1 덮개를 포함하는 센서 장치를 제공할 수 있다.

Description

센서 장치
실시예는 센서 장치에 관한 것이다.
파워 스티어링 시스템(Electronic Power System, 이하, 'EPS'라 한다.)은 운행조건에 따라 전자제어장치(Electronic Control Unit)에서 모터를 구동하여 선회 안정성을 보장하고 신속한 복원력을 제공함으로써, 운전자로 하여금 안전한 주행을 가능하게 한다.
EPS는 적절한 토크를 제공하기 위하여, 조향축의 토크, 조향각 등을 측정하는 센서 장치를 포함한다. 센서 장치는 토션바의 비틀림 정도를 측정하는 장치이다. 토션바는 조향축은 핸들에 연결되는 입력축, 바퀴측의 동력전달구성과 연결되는 출력축 및 입력축과 출력축을 연결하는 부재이다.
센서 장치는 하우징, 로터, 스테이터 투스를 포함하는 스테이터 및 콜렉터를 포함한다. 이때, 콜렉터는 스테이터 투스의 외측에 배치된다. 때문에 외부 자기장이 생성될 때, 콜렉터가 외부 자기장의 통로 역할을 수행하여, 센서의 자속 값에 영향을 주는 문제가 있다. 이렇게 센서가 영향을 받으면, 센서 장치의 출력값에 변화가 발생하여 토션바의 비틀림 정도를 정확히 측정할 수 없는 문제가 발생한다.
한편, 센서 장치의 경우, 외부 자기장의 영향을 줄이기 위하여, 하우징의 외면에 쉴드가 장착될 수 있는데, 쉴드가 외부 충격에 의하여 하우징에서 들뜨거나 위치가 변경되는 경우, 센서 장치의 성능에 악영향을 미칠 수 있다.
실시예는 외부 자기에 의해 센서가 영향을 받는 것을 방지할 수 있으며, 쉴드의 위치가 변형되는 것을 방지할 수 있는 센서 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
실시예는, 로터와, 상기 로터와 대응되도록 배치되는 스테이터와, 상기 스테이터의 일 측에 배치되는 제1 쉴드와 제2 쉴드와, 상기 제1 쉴드 및 상기 제2 쉴드의 사이에 배치되는 제1 콜렉터 및 제2 콜렉터와, 상기 제1 콜렉터와 상기 제2 콜렉터 사이에 배치되는 홀 센서 및 상기 제1 콜렉터 및 상기 제2 콜렉터의 외측에 배치되는 제1 하우징 및 제2 하우징을 포함하고, 상기 제1 하우징은, 상기 제1 하우징의 외면에서 돌출되어 내측에 상기 제2 쉴드의 수용공간을 형성하는 제1 가이드를 포함하고, 상기 제2 하우징은, 상기 제2 하우징의 외면에서 돌출되어 내측에 상기 제1 쉴드의 수용공간을 형성하는 제2 가이드를 포함하되, 상기 제1 하우징은, 상기 제1 가이드에 배치되어 상기 제2 쉴드의 축방향으로 오버랩되는 제1 덮개를 포함하는 센서 장치를 제공할 수 있다.
실시예는, 콜렉터와 이격된 쉴드를 통해 콜렉터 측으로 외부 자계가 흐르는 것을 방지하고, 외부 자계를 흘려보내, 센서가 외부 자계에 의해 영향을 받는 것을 방지한다.
실시예는, 쉴드를 고정하는 가이드를 구비함으로써, 쉴드가 외력에 의해 축방향과 수직한 방향으로 유동하여 위치가 변경되는 것을 방지하는 이점이 있다.
실시예는, 쉴드를 덮는 덮개를 구비함으로써, 쉴드가 외력에 의해 축방향으로 유동하여 들뜨는 것을 방지하는 이점이 있다.
실시예는, 쉴드를 덮는 덮개에 챔퍼면이 형성되어, 쉴드가 덮개의 내측으로 삽입될 때, 덮개에 걸리지 않도록 유도하는 이점이 있다.
도 1은 실시예에 따른 센서 장치를 나타내는 사시도,
도 2는 도 1에서 도시한 센서 장치의 내부를 도시한 사시도,
도 3은 도 1에서 도시한 센서 장치의 제1 쉴드와 제2 쉴드를 도시한 사시도,
도 4는 제1 쉴드와, 제2 쉴드와, 제1 콜렉터와, 제2 콜렉터의 조립전 상태를 도시한 도면,
도 5는 제1 쉴드와, 제2 쉴드와, 제1 콜렉터와, 제2 콜렉터의 조립된 상태에서 측면도,
도 6은 제1 쉴드를 도시한 사시도,
도 7은 제2 쉴드를 도시한 사시도,
도 8은 제1 콜렉터를 도시한 사시도,
도 9는 제2 콜렉터를 도시한 사시도,
도 10은 도 1에서 도시한 센서 장치의 일측 측단면도,
도 11은 도 1에서 도시한 센서 장치의 타측 측단면도,
도 12는 외부 자계가 없는 경우 자계 흐름을 도시한 도면,
도 13은 축방향으로 외부 자계가 있는 경우 자계 흐름을 도시한 도면,
도 14는 반경방향으로 외부 자계가 있는 경우 자계 흐름을 도시한 도면,
도 15는 변형례에 따른 하우징을 도시한 센서 장치의 사시도,
도 16은 하우징과 제1 쉴드와 제2 쉴드의 분해도,
도 17은 제1 하우징에 배치된 제1 가이드와 제1 덮개를 도시한 도면,
도 18은 제1 가이드와 제1 덮개에 의해 고정되는 제2 쉴드를 도시한 도면,
도 19는 제2 하우징에 배치된 제2 가이드를 도시한 도면,
도 20은 제1 가이드와 제1 덮개에 의해 고정되는 제2 쉴드를 도시한 도면,
도 21은 제1 쉴드와 제3 하우징을 도시한 도면,
도 22는 도 15의 A-A를 기준으로 하는 측단면도,
도 23은 변형례에 따른 제2 하우징으로서, 제2 덮개를 포함하는 제2 하우징을 도시한 도면,
도 24는 제1 쉴드가 들뜨거나 휘는 것을 방지하는 제3 하우징을 도시한 도면이다.
이하, 센서 장치의 축 방향과 수직한 방향을 반경 방향이라 하고, 축중심으로 반경 방향의 반지름을 갖는 원을 따라가는 방향을 원주 방향이라 부른다.
도 1은 실시예에 따른 센서 장치를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1에서 도시한 센서 장치의 내부를 도시한 사시도이고, 도 3은 도 1에서 도시한 센서 장치의 제1 쉴드와 제2 쉴드를 도시한 사시도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 실시예에 따른 센서 장치는 로터(100)와, 스테이터(200), 제1 쉴드(300)와, 제2 쉴드(400)와 제1 콜렉터(500)와, 제2 콜렉터(600)와, 홀 센서(700)를 포함할 수 있다. 도면에서 x축은 축방향과 수직인 방향을 나타내며, y축은 축방향과 수직인 방향으로 x축이 나타내는 방향과 수직인 방향이며, z축은 축방향을 나타낸다.
여기서, 스테이터(200)는 출력축(미도시)과 연결되고, 스테이터(200)에 적어도 일부가 회전 가능하게 배치되는 로터(100)는 입력축(미도시)과 연결될 수 있으나 반드시 이에 한정되지 않는다. 이때, 로터(100)는 스테이터(200)에 대해 회전 가능하게 배치될 수 있다. 이하, 내측이라 함은 상기 반경방향을 기준으로 중심을 향하여 배치되는 방향을 의미하고, 외측이라 함은 내측과 반대되는 방향을 의미할 수 있다.
실시예에 따른 센서 장치는 외부 자계가 작동하는 환경에서, 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400)를 통해, 외부 자계가 제1 콜렉터(500)나 제2 콜렉터(600) 측으로 흐르지 않고, 빠져나갈 수 있도록 유도함으로써, 외부 자계가 홀 센서(700)에 영향을 미치는 것을 방지하는 특징이 있다.
로터(100)는 마그넷을 포함할 수 있다. 마그넷은 스테이터(200)의 내측에 배치될 수 있다. 마그넷은 별도의 홀더를 통해 입력축과 연결될 수 있다.
스테이터(200)의 외측에 하우징(10)이 배치된다. 하우징(80)은 상부 하우징(11)과 하부 하우징(12)을 포함할 수 있다. 스테이터(200)와, 제1 쉴드(300)와, 제2 쉴드(400)와 제1 콜렉터(500)와, 제2 콜렉터(600)는 하우징(80)에 고정될 수 있다.
제1 쉴드(300)는 축방향으로 스테이터(200)의 제1 측에서 제2 측을 향하여 걸쳐 배치될 수 있다. 제2 쉴드(400)는 축방향으로 스테이터(200)의 제2 측에서 제1 측을 향하여 걸쳐 배치될 수 있다. 제1 측이라 함은, 축방향으로 스테이터(200)의 일측을 나타내며, 제2 측이라 함은 축방향으로 스테이터(200)의 타측을 나타낸다.
제1 콜렉터(500) 및 제2 콜렉터(600)는 각각 홀 센서(700)와 대응되게 배치된다.
기판(S)은 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600) 사이에 배치될 수 있다.
홀 센서(700)는 기판(S)에 배치된다. 홀 센서(700)는 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600) 사이에 배치되어, 각각 스테이터(200)와 로터(100) 사이에 발생한 자기장의 변화를 검출한다. 홀 센서(700)는 Hall IC일 수 있다. 검출된 자기장의 변화를 기반으로 센서 장치는 토크를 측정한다.
제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400)는 위치가 다를 뿐, 형상과 크기가 동일할 수 있다. 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)도 위치가 다를 뿐 형상과 크기가 동일할 수 있다.
축방향을 기준하여, 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)는 각각 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400) 사이에 위치한다. 때문에 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)는 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400)를 통해 외부 자계로부터 보호받을 수 있다.
도 4는 제1 쉴드(300)와, 제2 쉴드(400)와, 제1 콜렉터(500)와, 제2 콜렉터(600)의 조립전 상태를 도시한 도면이다.
도 1 및 도 4를 참조하면, 제1 콜렉터(500)는 축방향으로 스테이터(200)의 일측에 조립된다. 제2 콜렉터(600)는 축방향으로 스테이터(200)의 타측에서 조립된다. 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400)는 반경방향으로 스테이터(200)의 외측에서 조립될 수 있다. 먼저, 제1 콜렉터(500) 및 제2 콜렉터(600)가 하우징(800)에 조립된 후, 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400)가 반경방향으로 진입하여 하우징(800)에 조립될 수 있다.
도 5는 제1 쉴드(300)와, 제2 쉴드(400)와, 제1 콜렉터(500)와, 제2 콜렉터(600)의 조립된 상태에서 측면도이다.
도 5를 참조하면, 제1 쉴드(300)는 제1 콜렉터(500) 및 제2 콜렉터(600)와 이격되어 배치된다. 제2 쉴드(400)도 제1 콜렉터(500) 및 제2 콜렉터(600)와 이격되어 배치된다. 이는 외부 자계가 제1 쉴드(300) 또는 제2 쉴드(400)를 통해, 제1 콜렉터(500) 및 제2 콜렉터(600) 측으로 흐르는 것을 방지하기 위한 것이다.
제1 쉴드(300)의 내측 단부가 스테이터(200)와 축방향으로 오버랩 영역을 형성하도록 오버랩되게 배치된다. 제2 쉴드(400)의 내측 단부도 스테이터(200)와 축방향으로 오버랩되게 배치된다.
축방향을 기준으로, 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)는 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400) 사이에 배치된다.
도 6은 제1 쉴드(300)를 도시한 사시도이다.
도 6을 참조하면, 제1 쉴드(300)는, 제1 영역(310)과, 제2 영역(320)과, 제3 영역(330)과, 제1 절곡부(340)를 포함한다. 제1 영역(310)과, 제2 영역(320)과, 제3 영역(330)과, 제1 절곡부(340)를 구분하여 설명하였으나, 서로 연결된 하나의 부재일 수 있다.
제1 영역(310)은 스테이터(200)의 제1 측에 위치한다. 제1 영역(310)은 축방향과 수직인 평면을 따라 배치될 수 있다. 제1 영역(310)의 크기를 크게 할수록 외부 자계에 의한 영향을 줄일 수 있다.
제2 영역(320)은 스테이터(200)의 제2 측에 위치한다. 제2 영역(320)도 축방향과 수직인 평면을 따라 배치될 수 있다. 제2 영역(320)의 내측 에지는 곡면을 갖는다.
제3 영역(330)은 제1 영역(310)과 제2 영역(320)을 연결한다. 제3 영역(330)은 복수 개의 절곡 영역을 포함할 수 있다. 제3 영역(330)의 복수의 절곡 영역 중 적어도 셋은 절곡방향이 서로 상이할 수 있다.
예를 들어, 제3 영역(330)은 제1 영역(310)의 일측에서 수직하게 하측으로 절곡되는 제1 파트(331)와, 제1 파트(331)에서 수직하게 절곡되는 제2 파트(332)를 포함할 수 있다. 그리고 제3 영역(330)은 제2 파트(332)에서 수직하게 하측으로 절곡되는 제3 파트(333)와, 제3 파트(333)에서 수직하게 절곡되어 제2 파트(332)를 대향하게 배치되는 제4 파트(334)와, 제4 파트(334)에서 수직하게 하향하여 절곡되어 제2 영역(320)과 연결되는 제5 파트(335)를 포함할 수 있다.
제2 파트(332)는 하우징(800)과 접촉하는 제1 접촉면(S1)을 형성한다. 제4 파트(334)는 하우징(800)과 접촉하는 제2 면(S2)을 형성한다. 그리고 제3 파트(333)는 하우징(800)과 접촉하면 제1 접촉면(S1)과 제2 면(S2)과 연결되는 제3 면(S3)을 형성한다.
제1 절곡부(340)는 제1 영역(310)의 타측에서 하향하여 절곡된다. 제1 절곡부(340)의 크기를 크게 할수록 외부 자계에 의한 영향을 줄일 수 있다.
도 7은 제2 쉴드(400)를 도시한 사시도이다.
도 7을 참조하면, 제2 쉴드(400)는, 제4 영역(410)과, 제5 영역(420)과, 제6 영역(430)과, 제2 절곡부(440)를 포함한다. 제4 영역(410)과, 제5 영역(420)과, 제6 영역(430)과, 제2 절곡부(440)를 구분하여 설명하였으나, 서로 연결된 하나의 부재일 수 있다.
제4 영역(410)은 스테이터(200)의 제2 측에 위치한다. 제4 영역(410)은 축방향과 수직인 평면을 따라 배치될 수 있다. 제4 영역(410)의 크기를 크게 할수록 외부 자계에 의한 영향을 줄일 수 있다.
제5 영역(420)은 스테이터(200)의 제1 측에 위치한다. 제5 영역(420)도 축방향과 수직인 평면을 따라 배치될 수 있다. 제5 영역(420)의 내측 에지는 곡면을 갖는다.
제6 영역(430)은 제4 영역(410)과 제5 영역(420)을 연결한다. 제6 영역(430)은 복수 개의 절곡 영역을 포함할 수 있다. 제6 영역(430)의 복수의 절곡 영역 중 적어도 셋은 절곡방향이 서로 상이할 수 있다.
예를 들어, 제6 영역(430)은 제4 영역(410)의 타측에서 수직하게 하측으로 절곡되는 제6 파트(431)와, 제6 파트(431)에서 수직하게 절곡되는 제7 파트(432)를 포함할 수 있다. 그리고 제6 영역(430)은 제7 파트(432)에서 수직하게 하측으로 절곡되는 제8 파트(433)와, 제8 파트(433)에서 수직하게 절곡되어 제7 파트(432)를 대향하게 배치되는 제9 파트(434)와, 제9 파트(434)에서 수직하게 하향하여 절곡되어 제5 영역(420)과 연결되는 제10 파트(435)를 포함할 수 있다.
제7 파트(432)는 하우징(800)과 접촉하는 제4 면(S4)을 형성한다. 제9 파트(434)는 하우징(800)과 접촉하는 제5 면(S5)을 형성한다. 그리고 제8 파트(433)는 하우징(800)과 접촉하면 제4 면(S4)과 제5 면(S5)과 연결되는 제6 면(S6)을 형성한다.
제2 절곡부(440)는 제4 영역(410)의 일측에서 상향하여 절곡된다. 제2 절곡부(440)의 크기를 크게 할수록 외부 자계에 의한 영향을 줄일 수 있다.
도 8은 제1 콜렉터(500)를 도시한 사시도이다.
도 8을 참조하면, 제1 콜렉터(500)는 제1 바디(510)와, 제1 레그(520)와, 제1 연장부(530)를 포함할 수 있다. 제1 레그(520)는 제1 바디(510)의 양 측에서 홀 센서(700)를 향하도록 하향하여 절곡되어 배치된다. 제1 연장부(530)는 제1 바디(510)의 내측으로 연장된다. 제1 연장부(530)는 스테이터(200)와 축방향으로 오버랩되게 배치된다. 제1 연장부(530)의 내측 에지는 곡면으로 형성된다.
도 9는 제2 콜렉터(600)를 도시한 사시도이다.
도 9를 참조하면, 제2 콜렉터(600)는 제2 바디(610)와, 제2 레그(620)와, 제2 연장부(630)를 포함할 수 있다. 제2 레그(620)는 제2 바디(610)의 양 측에서 홀 센서(700)를 향하도록 하향하여 절곡되어 배치된다. 제2 연장부(630)는 제2 바디(610)의 내측으로 연장된다. 제2 연장부(630)는 스테이터(200)와 축방향으로 오버랩되게 배치된다. 제2 연장부(630)의 내측 에지는 곡면으로 형성된다.
도 10은 도 1에서 도시한 센서 장치의 일측 측단면도이다.
도 6 및 도 10을 참조하면, 제1 쉴드(300)는 하우징(800)의 외측에 배치된다. 그리고 제1 쉴드(300)는 하우징(800)의 외면과 접촉한다. 제1 쉴드(300)의 제1 접촉면(S1)은 하우징(800)의 상면(801)과 접촉한다. 제1 쉴드(300)의 제2 면(S2)은 하우징(800)의 하면(802)과 접촉한다. 그리고 제1 쉴드(300)의 제3 면(S3)은 하우징(800)의 측면(803)과 접촉한다.
도 11은 도 1에서 도시한 센서 장치의 타측 측단면도이다.
도 7 및 도 11을 참조하면, 제2 쉴드(400)는 하우징(800)의 외측에 배치된다. 그리고 제2 쉴드(400)는 하우징(800)의 외면과 접촉한다. 제2 쉴드(400)의 제4 면(S4)은 하우징(800)의 상면(801)과 접촉한다. 제2 쉴드(400)의 제5 면(S5)은 하우징(800)의 하면(802)과 접촉한다. 그리고 제2 쉴드(400)의 제6 면(S6)은 하우징(800)의 측면(803)과 접촉한다.
이처럼, 하우징(800)의 측면에 제1 쉴드(300) 및 제2 쉴드(400)가 각각 접촉함으로써, 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400)가 각각 하우징(800)에 안정적으로 고정될 수 있다.
도 12는 외부 자계가 없는 경우 자계 흐름을 도시한 도면이다.
도 12를 참조하면(820), 외부 자계가 없는 경우, 로터(100)와 스테이터(200) 사이에서 발생하는 자계 흐름이 도 12의 K1과 같이, 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600) 사이에서만 발생한다. 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)는 로터(100)와 스테이터(200) 사이에서 발생하는 자기 흐름을 홀 센서(700)에 전달 한다.
도 13은 축방향으로 외부 자계가 있는 경우 자계 흐름을 도시한 도면이다.
도 6 및 도 13을 참조하면(820), 축방향으로 외부 자계가 있는 경우, 도 13의 K2에서 도시한 바와 같이, 스테이터(200)를 벗어난 위치에서 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)를 향하는 외부 자계는 제1 쉴드(300)의 제1 영역(310)으로 유입되어 제1 콜렉터(500)나 제2 콜렉터(600)로 흐르지 않고 제2 영역(320)으로 안내되어 외부로 빠져나간다.
제1 쉴드(300)의 제1 영역(310)이 축방향에서 볼 때, 제1 콜렉터(500)와 센서(700)와 제2 콜렉터(600)를 각각 덮고 있다. 구체적으로, 제1 영역(310)이 제1 콜렉터(500)의 제1 바디(510)와 제2 레그(520)와 축방향으로 오버랩되게 배치된다. 그리고 제1 쉴드(300)가 제1 콜렉터(500)와 이격된다. 이에 외부 자계가 제1 콜렉터(500) 측으로 흐르는 것을 막을 수 있다.
또한, 축방향으로 외부 자계가 있는 경우, 도 13의 K3에서 도시한 바와 같이, 스테이터(200)를 향하는 외부 자계는 제2 쉴드(400)의 제5 영역(420)으로 유입되어 제1 콜렉터(500)나 제2 콜렉터(600)로 흐르지 않고 제4 영역(410)으로 안내되어 외부로 빠져나간다.
제2 영역(320)이 제2 콜렉터(600)의 제2 연장부(630)와 축방향으로 오버랩되게 배치되고, 제2 영역(320)이 제2 콜렉터(600)와 이격되어 있으며, 제4 영역(410)이 제2 바디(610) 및 제2 레그(620)와 축방향으로 오버랩되게 배치되고 제4 영역(410)이 제2 콜렉터(600)와 이격되어 있기 때문에, 도 13에서 하측으로 상측으로 외부 자계가 발생할 때도 위와 같이 외부 자계가 제1 콜렉터(500)나 제2 콜렉터(600)로 흐르는 것을 방지할 수 있다.
축방향에서 바라볼 때, 제5 영역(420)이 제1 콜렉터(500)를 완전히 덮고 있고, 제1 쉴드(300)가 제1 콜렉터(500)와 이격되어 있기 때문에, 스테이터(200)를 향하는 외부 자계가 제1 콜렉터(500)로 흐르는 것을 방지할 수 있다.
이때, 제5 영역(420)의 크기는 제1 콜렉터(500)의 제1 연장부(530)를 축방향에서 볼 때, 모두 덮도록 제1 연장부(530)의 크기보다 크게 형성된다. 그리고 제5 영역(420)의 형상은 제1 연장부(530)의 형상과 대응되게 형성될 있다. 따라서, 축방향에서 바라볼 때, 제1 연장부(530)는 제1 영역(310)에 의해 완전히 가려지도록 제1 쉴드(300)가 배치된다.
도 14는 반경방향으로 외부 자계가 있는 경우 자계 흐름을 도시한 도면이다.
도 14를 참조하면(820), 반경방향으로 외부 자계가 있는 경우, 도 14의 K4에서 도시한 바와 같이, 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)를 향하는 외부 자계는 제1 쉴드(300)의 제1 절곡부(340)로 유입되어 제1 콜렉터(500)나 제2 콜렉터(600)로 흐르지 않고 안내되어 외부로 빠져나간다.
또한 제1 콜렉터(500)와 제2 콜렉터(600)를 향하는 또 다른 외부 자계도 제2 쉴드(400)로 유입되어 제1 콜렉터(500)나 제2 콜렉터(600)로 흐르지 않고 제2 절곡부(440)로 안내되어 외부로 빠져나간다.
아래 표1은 비교예에 따른 센서 장치에서 외부 자계에 따른 센싱값의 오프셋과 실시예에 따른 센서 장치에서 외부 자계에 따른 센싱값을 비교한 것이다.
여기서. 비교예는, 별도의 쉴드장치 없이 스테이터의 제1 측과 제2 측에 구분되어 배치된 콜렉터를 포함하는 센서 장치이다. 표1 에서 도시한 바와 같이, 축방향과 수직한 방향(제1 방향(x), 제2 방향(y))으로 작용하는 외부 자계의 경우, 비교예의 센싱값의 오프셋과 실시예의 센싱값의 오프셋이 거의 동등하게 나타남을 확인할 수 있다. 그러나 축방향으로 작용하는 외부 자계의 경우, 실시예에 따른 센서 장치의 오프셋이 비교예에 따른 센싱값의 오프셋의 1/40 수준으로 매우 낮게 나타나, 실시예가 비교예에 비하여 상대적으로 축방향으로 작용하는 외부 자계의 영향이 작은 것을 확인할 수 있다.
비교예 실시예
외부 자계에 대응한 센싱값의 오프셋(deg) 제1 방향(x) 0.00deg 0.01deg
제2 방향(y) 0.02deg 0.01deg
축방향(z) 0.40deg 0.01deg
도 15는 변형례에 따른 하우징(800)을 도시한 센서 장치의 사시도이고, 도 16은 하우징(800)과 제1 쉴드(300)와 제2 쉴드(400)의 분해도이다.
도 15 및 도 16을 참조하면, 하우징(800)은, 제1 하우징(810)과, 제2 하우징(820)과, 제3 하우징(830)을 포함할 수 있다. 축방향으로 제2 하우징(820)은 제1 하우징(810)과 제2 하우징(820) 사이에 배치될 수 있다.
제1 쉴드(300)는 축방향과 수직한 방향으로 하우징(800)에 장착될 수 있다. 제2 쉴드(400)도 축방향과 수직한 방향으로 하우징(800)에 장착될 수 있다.
도 17은 제1 하우징(810)에 배치된 제1 가이드(811)와 제1 덮개(812)를 도시한 도면이다.
도 17을 참조하면, 제1 하우징(810)은 축방향으로 일측 외면에 제2 쉴드(400)와 접촉하는 제7 면(S7)을 포함할 수 있다. 제7 면(S7)은 제2 쉴드(400)의 제5 영역(420)과 대향하여 배치된다. 제7 면(S7)은 제2 쉴드(400)의 제5 영역(420)에 접촉할 수 있다.
제1 하우징(810)은 제1 가이드(811)를 포함한다. 제1 가이드(811)는 제2 쉴드(400)의 제5 영역(420)을 제1 하우징(810)에 고정함으로써, 외력에 의해 제2 쉴드(400)가 축방향과 수직한 방향으로 유동하여 제2 쉴드(400)의 위치가 변경되는 것을 방지하는 역할을 한다.
이러한 제1 가이드(811)는 제7 면(S7)에서 축방향으로 돌출되어 배치된다. 제1 가이드(811)는 제1 사이드 가이드(811a)와 제1 내측 가이드(811b)를 포함할 수 있다. 이러한 제1 가이드(811)는 제2 쉴드(400)의 제5 영역(420)의 형상과 대응되는 형상을 가질 수 있다.
한 쌍의 제1 사이드 가이드(811a)는 서로 이격되어 배치된다. 제1 내측 가이드(811b)는 한 쌍의 제1 사이드 가이드(811a)의 단부에 연결된다. 이러한 제1 사이드 가이드(811a)와 제1 내측 가이드(811b)는 제2 쉴드(400)의 제5 영역(420)의 수용공간을 형성한다. 제1 사이드 가이드(811a)는 제5 영역(420)의 측면에 대응하여 직선 형태로 배치될 수 있다. 제1 내측 가이드(811b)는 제5 영역(420)의 내측 에지에 대응하여 라운드 형태로 형성될 수 있다.
제2 쉴드(400)가 축방향과 수직한 방향으로 제1 하우징(810)에 삽입되면, 제5 영역(420)이 제7 면(S7)을 따라 이동하면서, 제1 가이드(811)의 내측으로 위치한다.
제1 덮개(812)는 제1 가이드(811)의 축방향 단부에 배치될 수 있다. 제1 덮개(812)는 축방향으로 제7 면(S7)과 이격된다. 제1 덮개(812)는 제7 면(S7)과 축방향으로 오버랩되게 배치될 수 있다.
도 18은 제1 가이드(811)와 제1 덮개(812)에 의해 고정되는 제2 쉴드(400)를 도시한 도면이다.
도 17 및 도 18을 참조하며, 제1 사이드 가이드(811a)는 제5 영역(420)의 측면과 대향하여 접촉 가능하도록 배치된다. 제1 내측 가이드(811b)는 제5 영역(420)의 내측 에지(401)와 대향하여 접촉 가능하도록 배치된다. 이러한 제1 가이드(811)는 축방향과 수직한 방향으로 제2 쉴드(400)가 움직이지 않도록 고정한다.
아울러, 제1 덮개(812)가 제5 영역(420)과 축방향으로 오버랩되게 배치되어, 축방향으로 제2 쉴드(400)를 고정함으로써, 외력에 의해, 제2 쉴드(400)가 들뜨는 것을 방지한다.
도 19는 제2 하우징(820)에 배치된 제2 가이드(821)를 도시한 도면이다.
도 19를 참조하면, 제2 하우징(820)은 축방향으로 일측 외면에 제1 쉴드(300)와 접촉하는 제8 면(S8)을 포함할 수 있다. 제8 면(S8)은 제1 쉴드(300)의 제2 영역(320)과 대향하여 배치된다. 제8 면(S8)은 제1 쉴드(300)의 제2 영역(320)에 접촉할 수 있다.
제2 하우징(820)은 제2 가이드(821)를 포함한다. 제2 가이드(821)는 제1 쉴드(300)의 제2 영역(320)을 제2 하우징(820)에 고정함으로써, 외력에 의해 제1 쉴드(300)가 축방향과 수직한 방향으로 유동하여 제1 쉴드(300)의 위치가 변경되는 것을 방지하는 역할을 한다.
이러한 제2 가이드(821)는 제8 면(S8)에서 축방향으로 돌출되어 배치된다. 제2 가이드(821)는 제2 사이드 가이드(821a)를 포함할 수 있다. 제2 가이드(821)는 제1 쉴드(300)의 제2 영역(320)의 형상과 대응되는 형상을 가질 수 있다.
한 쌍의 제2 사이드 가이드(821a)는 서로 이격되어 배치된다. 제2 하우징(820)은 습동부(823)를 포함할 수 있다. 습동부(823)는 메인 기어와 접촉하여 메인 기어의 회전을 안내하는 곳이다. 습동부(823)는 한 쌍의 제2 사이드 가이드(821a)의 단부에 연결된다.
이러한 제2 사이드 가이드(821a)와 습동부(823)는 제1 쉴드(300)의 제2 영역(320)의 수용공간을 형성한다. 제2 사이드 가이드(821a)는 제2 영역(320)의 측면에 대응하여 직선 형태로 배치될 수 있다. 습동부(823)는 라운드 형태로 형성될 수 있다.
제1 쉴드(300)가 축방향과 수직한 방향으로 제2 하우징(820)에 삽입되면, 제2 영역(320)이 제8 면(S8)을 따라 이동하면서, 제2 가이드(821)의 내측으로 위치한다.
도 20은 제1 가이드(811)와 제1 덮개(812)에 의해 고정되는 제2 쉴드(400)를 도시한 도면이다.
도 19 및 도 20을 참조하며, 제2 사이드 가이드(821a)는 제2 영역(320)의 측면과 대향하여 접촉 가능하도록 배치된다. 습동부(823)는 제2 영역(320)의 내측 에지(321)와 대향하여 접촉 가능하도록 배치된다. 이러한 제2 가이드(821)와 습동부(823)는 축방향과 수직한 방향으로 제1 쉴드(300)가 움직이지 않도록 고정한다.
도 21은 제1 쉴드(300)와 제3 하우징(830)을 도시한 도면이다.
도 21을 참조하면, 제3 하우징(830)은 제3 덮개(831)를 포함할 수 있다. 제3 덮개(831)는 제3 하우징(830)의 내면에서 축방향으로 돌출된다. 제3 덮개(831)는 제1 쉴드(300)의 제2 영역(320)과 축방향으로 오버랩되게 배치된다. 축방향에서 바라볼 때, 제3 덮개(831)의 형상은 전체적으로 제2 영역(320)과 대응되게 배치될 수 있다.
이러한 제3 덮개(831)는, 축방향으로 제1 쉴드(300)를 고정함으로써, 외력에 의해, 제1 쉴드(300)가 들뜨는 것을 방지한다.
도 22는 도 15의 A-A를 기준으로 하는 측단면도이다.
도 22를 참조하면, 제1 하우징(810)의 제1 덮개(812)는 제1 쉴드(300)를 대향하는 제1 내면(812a)을 포함한다. 그리고 제1 내면(812a)은 제1 챔퍼면(812b)을 포함할 수 있다. 제1 챔퍼면(812b)은 제1 덮개(812)의 외측단까지 형성될 수 있다. 제1 챔퍼면(812b)은 제1 덮개(812)의 외측으로 갈수록 제1 덮개(812)의 축방향 두께가 작아지도록 형성된다. 이러한 제1 챔퍼면(812b)은 제2 쉴드(400)가 제1 덮개(812)의 내측으로 삽입될 때, 제1 덮개(812)에 걸리지 않도록 유도하는 이점이 있다.
도 23은 변형례에 따른 제2 하우징(820)으로서, 제2 덮개(822)를 포함하는 제2 하우징(820)을 도시한 도면이다.
도 23을 참조하면, 변형례에 따른 제2 하우징(820)으로서, 제2 가이드(821)와 함께 제2 덮개(822)를 포함할 수 있다. 제2 덮개(822)는 제3 하우징(830)의 제3 덮개(831)를 대체하여, 제1 쉴드(300)가 축방향으로 들뜨는 것을 방지하는 역할을 한다. 제2 하우징(820)에 제2 덮개(822)가 있는 경우, 제3 하우징(830)의 제3 덮개(831)는 생략될 수 있다.
제2 덮개(822)는 제2 가이드(821)의 축방향 단부에 배치될 수 있다. 제2 덮개(822)는 축방향으로 제2 하우징(820)의 제7 면(S7)과 이격된다. 제2 덮개(822)는 제7 면(S7)과 축방향으로 오버랩되게 배치될 수 있다.
제2 덮개(822)가 제2 영역(320)과 축방향으로 오버랩되게 배치되어, 축방향으로 제1 쉴드(300)를 고정함으로써, 외력에 의해, 제1 쉴드(300)가 들뜨는 것을 방지한다.
이러한 제2 덮개(822)의 일면은 습동부(823)의 습동면(823a)과 동일 평면상에 배치될 수 있다.
도 24는 제1 쉴드(300)가 들뜨거나 휘는 것을 방지하는 제3 하우징(830)을 도시한 도면이다.
도 24를 참조하면, 제3 하우징(830)은 측벽(832)을 포함할 수 있다. 측벽(832)은 축방향으로 제1 쉴드(300)의 제2 영역(320)과 오버랩되게 배치될 수 있다. 측벽(832)의 단부는 제2 영역(320)에 최소한의 갭(G)을 두고 인접하여 배치될 수 있다. 이러한 측벽(832)은 제2 영역(320)의 바로 인접하여 위치하기 때문에 제2 영역(320)이 축방향으로 들뜨거나 휘는 것을 방지할 수 있다. 측벽(832)의 단부는 제2 챔퍼면(832a)을 포함할 수 있다. 제2 챔퍼면(832a)은 측벽(832)의 외측 단부까지 형성될 있다.
제2 챔퍼면은 제1 쉴드(300)가 삽입될 때, 측벽(832)에 걸리지 않도록 유도하는 이점이 있다.
전술된 실시예는 차량용 또는 가전용 등 다양한 기기에 이용할 수 있다.

Claims (10)

  1. 로터;
    상기 로터와 대응되도록 배치되는 스테이터;
    상기 스테이터의 일 측에 배치되는 제1 쉴드와 제2 쉴드;
    상기 제1 쉴드 및 상기 제2 쉴드의 사이에 배치되는 제1 콜렉터 및 제2 콜렉터;
    상기 제1 콜렉터와 상기 제2 콜렉터 사이에 배치되는 홀 센서; 및
    상기 제1 콜렉터 및 상기 제2 콜렉터의 외측에 배치되는 제1 하우징 및 제2 하우징을 포함하고,
    상기 제1 하우징은, 상기 제1 하우징의 외면에서 돌출되어 내측에 상기 제2 쉴드의 수용공간을 형성하는 제1 가이드를 포함하고,
    상기 제2 하우징은, 상기 제2 하우징의 외면에서 돌출되어 내측에 상기 제1 쉴드의 수용공간을 형성하는 제2 가이드를 포함하되,
    상기 제1 하우징은, 상기 제1 가이드에 배치되어 상기 제2 쉴드의 축방향으로 오버랩되는 제1 덮개를 포함하는 센서 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 덮개는 상기 제2 쉴드를 대향하는 제1 내면을 포함하고, 상기 제1 내면은 상기 제1 덮개의 외측단까지 형성되는 제1 챔퍼면을 포함하는 센서 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 하우징은. 상기 제2 가이드에 배치되어 상기 제1 쉴드와 축방향으로 오버랩되게 배치되는 제2 덮개를 포함하는 센서 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 하우징에 결합하는 제3 하우징을 포함하고,
    상기 제3 하우징은 상기 제2 하우징의 수용공간에 배치된 제1 쉴드의 축방향으로 오버랩되게 배치되는 제3 덮개를 포함하는 센서 장치.
  5. 제3 항에 있어서,
    상기 제2 하우징은 상기 스테이터의 홀더에 결합하는 메인기어가 접촉하는 습동부를 포함하고,
    상기 제2 덮개와 상기 습동부는 연결되는 센서 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제2 덮개의 일면과 상기 습동부의 습동면은 동일 평면 상에 배치되는 센서 장치.
  7. 제3 항에 있어서,
    상기 제1 쉴드는 축방향으로 상기 스테이터의 제1 측에 위치되는 제1 영역, 상기 스테이터의 제2 측에 위치되는 제2 영역 및 상기 제1 영역과 상기 제2 영역을 연결하는 제3 영역을 포함하고,
    상기 제2 쉴드는 상기 축방향으로 상기 스테이터의 상기 제2 측에 위치되는 제4 영역, 상기 스테이터의 상기 제1 측에 위치되는 제5 영역 및 상기 제4 영역과 상기 제5 영역을 연결하는 제6 영역을 포함하는 센서 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 제5 영역은 상기 제1 가이드의 내측에 배치되고, 상기 제1 덮개와 축방향으로 오버랩되게 배치되는 센서 장치.
  9. 제7 항에 있어서,
    상기 제2 영역은 상기 제2 가이드의 내측에 배치되고, 상기 제2 덮개와 축방향으로 오버랩되게 배치되는 센서 장치.
  10. 제7 항에 있어서,
    상기 제1 가이드는 상기 제5 영역의 측면에 대응하게 배치되는 제1 사이드 가이드와, 상기 제5 영역의 내측 에지에 대응하게 배치되는 내측 가이드를 포함하고,
    상기 제2 가이드는 상기 제2 영역의 측면에 대응하게 배치되는 제2 사이드 가이드를 포함하는 센서 장치.
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