WO2024117242A1 - 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 - Google Patents

Abstract

支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する（メタ）アクリル重合体Ａを含む、平版印刷版原版。

Description

平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法

　本開示は、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。

　一般に、平版印刷版は、印刷過程でインクを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インクが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインク受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インク非受容部）として、平版印刷版の表面にインクの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインクを着肉させた後、紙などの被印刷体にインクを転写して印刷する方法である。
　この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の画像記録層を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版ともいう）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。

　従来の平版印刷版原版として、画像記録層にケイ素原子を含む置換基を有する化合物を含む平版印刷版原版が知られている（例えば、特開２００９－２３７３８１号公報、特開２００４－０２９６８０号公報、特開２００６－２３５３９０号公報、特開平０９－０５４４３２号公報参照）。

　本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、塗膜面状に優れた画像記録層を有する平版印刷版原版を提供することである。
　本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。

　本開示には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、
　前記画像記録層が、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する（メタ）アクリル重合体Ａを含む、平版印刷版原版。

＜２＞　支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、
　前記画像記録層が、下記式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体Ｂを含む、平版印刷版原版。

　式（Ｉ）中、Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^１３は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^１１及びＬ^１２はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し、Ｒｈはケイ素原子を２個以上含む置換基を表す。

＜３＞　機上現像型平版印刷版原版である、＜１＞又は＜２＞に記載の平版印刷版原版。
＜４＞　上記画像記録層が、樹脂粒子を更に含む＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜５＞　上記画像記録層が、発色剤を更に含む＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜６＞　上記（メタ）アクリル重合体Ａが、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位と、親水性基を側鎖に有する構成単位と、を含む共重合体である、＜１＞、＜３＞～＜５＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜７＞　上記（メタ）アクリル重合体Ａが、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位と、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位と、を含む共重合体である、＜１＞、＜３＞～＜６＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。

＜８＞　上記式（Ｉ）におけるＲｈが、下記式（Ｉａ）で表される構造を２個以上含む基である、＜２＞～＜５＞に記載の平版印刷版原版。

　式（Ｉａ）中、＊は、結合位置を表し、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアルキレンアリール基を表す。

＜９＞　上記重合体Ｂが、親水性基を側鎖に有する構成単位を更に有する、＜２＞～＜５＞のいずれか１つに記載の共重合体である平版印刷版原版。
＜１０＞　上記親水性基を側鎖に有する構成単位が、下記式（ａ４）で表される構成単位である、＜９＞に記載の平版印刷版原版。

　式（ａ４）中、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^９は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^２は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－を表し、Ｌ^３は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘは親水性基を表す。
＜１１＞　上記式（ａ４）中、Ｌ^２が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－を表す、＜１０＞に記載の平版印刷版原版。
＜１２＞　上記式（ａ４）中、Ｘで表される親水性基は、水酸基、ポリアルキレンオキシ基、又はこれらを２つ以上組み合わせた基である、＜１０＞又は＜１１＞に記載の平版印刷版原版。
＜１３＞　上記重合体Ｂが、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位を更に有する共重合体である＜２＞、＜３＞、＜８＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。
＜１４＞　上記式（Ｉ）におけるＬ^１１がエステル結合である、＜２＞、＜８＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版。

＜１５＞　＜３＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
　印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
　平版印刷版の作製方法。
＜１６＞　＜３＞～＜１４＞のいずれか１つに記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
　印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
　得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
　平版印刷方法。

　本開示の一実施形態によれば、塗膜面状に優れた画像記録層を有する平版印刷版原版を提供することができる。
　また、本開示の他の実施形態によれば、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。

本開示に好適に用いられるアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理における電解槽（ラジアル型セル）の一例を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における機械的粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。

　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
　また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
　また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　特に限定しない限りにおいて、本開示において組成物中の各成分は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上を併用してもよいものとする。また、特に限定しない限りにおいて、本開示においてポリマー又は重合体中の各構成単位は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上を併用してもよいものとする。
　更に、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位の量は、組成物中に各成分、又は、ポリマー中の各構成単位に該当する物質又は構成単位が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質、又は、ポリマー中に存在する該当する複数の各構成単位の合計量を意味する。
　更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　本開示において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は２色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
　本開示において、「耐刷性に優れる」とは、平版印刷版の印刷可能な枚数が多いことをいい、印刷の際のインクとして紫外線硬化型インク（ＵＶインク）を用いた場合の耐刷性を、以下、「ＵＶ耐刷性」ともいう。
　以下、本開示を詳細に説明する。

（平版印刷版原版）
　本開示に係る平版印刷版原版（単に「平版印刷版原版」ともいう。）の第一の実施態様は、支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する（メタ）アクリル重合体Ａを含む。
　本開示に係る平版印刷版原版の第二の実施態様は、支持体、及び、上記支持体上に画像記録層を有し、上記画像記録層が、下記式（Ｉ）で表される構成単位（ｂ１）を有する重合体Ｂを含む。

　式（Ｉ）中、Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^１３は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^１１及びＬ^１２はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し、Ｒｈはケイ素原子を２個以上含む置換基を表す。

　なお、本明細書において、特に断りなく、単に「本開示に係る平版印刷版原版」という場合は、上記第一の実施態様及び上記第二の実施態様の両方について述べるものとする。また、特に断りなく、単に「画像記録層」等という場合は、上記第一の実施態様及び上記第二の実施態様の両方の画像記録層等について述べるものとする。

　本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、塗膜面状に優れる画像記録層を有する平版印刷版原版を提供できることを見出した。
　上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
　上記第一の実施態様においては、上記画像記録層に含まれるケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する（メタ）アクリル重合体Ａは、側鎖の構造に起因して、画像記録層を形成する際に表面に偏在化しやすく、画像記録層の表面平滑性に寄与するものと考えられる。
　上記第二の実施態様においては、上記画像記録層に含まれる上記式（Ｉ）で表される構成単位（ｂ１）を有する重合体Ｂも、側鎖の構造に起因して、画像記録層を形成する際に表面に偏在化しやすく、画像記録層の表面平滑性に寄与するものと考えられる。
　これらの結果、表面を目視した際にムラが視認されにくくなり、塗膜面状に優れた画像記録層が得られるものと推定している。
　なお、以下、「塗膜面状」を、単に「面状」と称する場合もある。

　更に、本開示に係る平版印刷版原版が機上現像型平版印刷版原版である場合、画像記録層の表面に偏在化した（メタ）アクリル重合体Ａ又は重合体Ｂは、側鎖のケイ素原子の存在により、平版印刷版原版の表面（すなわち、画像記録層の表面）への湿し水の濡れ性、及び、画像記録層への湿し水浸透性を高められるものと考えられる。これにより、本開示に係る平版印刷版原版である機上現像型平版印刷版原版は、特異的に優れた機上現像性を示すものと推定される。
　ここで、「機上現像型平版印刷版原版」とは、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う「機上現像」に適用される平版印刷版原版を意味する。

〔ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する（メタ）アクリル重合体Ａ〕
　本開示に係る平版印刷版原版の第一実施形態では、画像記録層に、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する（メタ）アクリル重合体Ａを含む。
　（メタ）アクリル重合体Ａは、（メタ）アクリル樹脂鎖から構成された主鎖に、ケイ素原子を２個以上含む置換基を有する側鎖が結合した構造を有する。
　ケイ素原子を２個以上含む置換基としては、置換基を構成する原子団中に、ケイ素原子が２個以上含まれていれば、特に制限はない。ケイ素原子を２個以上含む置換基は、機上現像性の観点から、ケイ素原子を、ケイ素－酸素結合（Ｓｉ－Ｏ結合）として含むことが好ましい。ケイ素原子を２個以上含む置換基は、ケイ素－酸素結合を２個以上有することが好ましく、３個以上有することが好ましく、３個～１２個有することが好ましい。ケイ素原子を２個以上含む置換基は、ケイ素－酸素結合をポリシロキサン構造として含むことが好ましい。
　また、ケイ素原子を２個以上含む置換基は、機上現像性の観点から、分岐構造を有することが好ましく、ケイ素原子を中心に分岐する分岐構造を有することがより好ましい。

　ケイ素原子を２個以上含む置換基としては、下記式（ａ１）で表される構造を２個以上有する基であることが好ましい。

　上記式（ａ１）中、＊は結合位置を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアルキレンアリール基を表す。

　Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３で表されるアルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、炭素数３～１８の分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。上記アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
　Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３で表されるアルケニル基としては、例えば、炭素数２～１２のアルケニル基が挙げられる。上記アルケニル基としては、具体的には、ビニル基、１－プロペニル基、１－ブテニル基、１－メチル－１－プロペニル基、１－シクロペンテニル基、１－シクロヘキセニル基等が挙げられる。
　Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３で表されるアリール基としては、例えば、炭素数６～１２のアリール基が挙げられる。上記アリール基としては、具体的には、フェニル基、α－メチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３で表されるアルキレンアリール基としては、例えば、炭素数７～３０のアルキレンアリール基が挙げられる。

　式（ａ１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３はそれぞれ独立にアルキル基であることが好ましく、全て同じアルキル基であることがより好ましく、全て炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、全てメチル基であることが特に好ましい。

　ケイ素原子を２個以上含む置換基は、上記式（ａ１）で表される構造を３個以上含む基であることが好ましく、３個～６個含む基であることがより好ましい。

　ケイ素原子を２個以上含む置換基は、下記式（ａ２）で表される基であることが好ましい。

　上記式（ａ２）中、＊は、結合位置を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアルキレンアリール基を表す。
　式（ａ２）におけるＲ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、上記式（ａ１）におけるＲ^１、Ｒ^２、及びＲ^３と同義であり、好ましい態様も同様である。

　（メタ）アクリル重合体Ａは、より優れた機上現像性を得る観点から、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位と、親水性基を側鎖に有する構成単位と、を含む共重合体であることが好ましい。
　親水性基を側鎖に有する構成単位としては、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位であることが好ましい。つまり、（メタ）アクリル重合体Ａは、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位と、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位と、を含む共重合体であることが好ましい。

　ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位としては、例えば、式（ａ１）で表される構造を２個以上有する基、好ましくは、上記式（ａ２）で表される基を側鎖に有する構成単位が挙げられる。
　具体的には、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位は、下記式（ａ３）で表される構成単位であることが好ましい。

　式（ａ３）中、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアルキレンアリール基を表し、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^６は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^１はｐ＋１価の連結基を表し、ｐは２～１２の整数を表す。

　式（ａ３）におけるＲ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、上記式（ａ１）におけるＲ^１、Ｒ^２、及びＲ^３と同義であり、好ましい態様も同様である。

　Ｒ^４及びＲ^５で表されるアルキル基としては、例えば、炭素数１～１８の直鎖状、炭素数３～１８の分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。上記アルキル基として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
　Ｒ^４及びＲ^５としては、いずれも、水素原子であることが好ましい。

　Ｒ^６で表される一価の置換基としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、又はアリール基が挙げられる。上記アルキル基、アルケニル基、及びアリール基は、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３で表されるアルキル基、アルケニル基、及びアリール基とそれぞれ同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ^６としては、水素原子又はメチル基であることが好ましい。

　Ｌ^１で表されるｐ＋１価の連結基は、例えば、炭素数１～１０のｐ＋１価の炭化水素基が挙げられる。ｐ＋１価の連結基としては、炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている炭化水素基も好適に用いられる。炭化水素基としては、飽和炭化水素基が好ましい。ここで、炭素原子の一部を置換するヘテロ原子としては、例えば、ケイ素原子、酸素原子、及び窒素原子が挙げられ、中でも、ケイ素原子又は酸素原子が好ましい。
　Ｌ^１で表されるｐ＋１価の連結基は、分岐状の飽和炭化水素基であることが好ましく、分岐状の飽和炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子（好ましくはケイ素原子及び酸素原子）で置換されている分岐状の飽和炭化水素基も好ましい。
　ｐは、２～１２の整数であり、３～１２の整数が好ましい。

　ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位を形成するためのモノマー単位の具体例としては、Ｋ－１～Ｋ－１２で表される単量体（モノマー）が挙げられる。ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位を形成するモノマー単位の具体例は、これに限定されるものではない。
　以下の構造中、ｎは２～１０００の整数である。

　（メタ）アクリル重合体Ａに含まれる親水性基を側鎖に有する構成単位は、下記式（ａ４）で表される構成単位であることが好ましい。

　式（ａ４）中、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^９は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^２は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－を表し、Ｌ^３は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘは親水性基を表す。

　Ｒ^７及びＲ^８で表されるアルキル基は、上記式（ａ３）におけるＲ^４及びＲ^５で表されるアルキル基と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ^９で表される一価の置換基は、上記式（ａ３）におけるＲ^６で表される一価の置換基と同様であり、好ましい態様も同様である。

　Ｌ^３で表される二価の連結基は、Ｌ^２とＸとを連結しうる基であれば、特に制限はない。Ｌ^３で表される二価の連結基としては、アルキレン基が挙げられる。アルキレン基としては、炭素数２～１０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数４～８のアルキレン基であることがより好ましい。

　Ｘで表される親水性基は、水酸基、リン酸基、ポリアルキレンオキシ基、又はこれらを２つ以上組み合わせた基等が挙げられる。ここで、ポリアルキレンオキシ基としては、ポリエチレンオキシ基、ポリプロピレンオキシ基、ポリブチレンオキシ基、又は、これらを組み合わせた基が挙げられる。

　親水性基を側鎖に有する構成単位を形成するためのモノマー単位の具体例としては、Ｈ－１～Ｈ－２５で表される単量体（モノマー）が挙げられる。親水性基を側鎖に有する構成単位を形成するモノマー単位の具体例は、これに限定されるものではない。
　以下の構造中、ｎ及びｍはそれぞれ独立に２～１００の整数である。
　以下の構造中、「ｒａｎｄｏｍ」との記載は、複数種のポリアルキレンオキシ基がランダムで並んでいることを意味する。

　（メタ）アクリル重合体Ａは、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　（メタ）アクリル重合体Ａにおいて、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル重合体Ａの質量に対して、１００質量％であってもよく、１５質量％～７０質量％であることが好ましく、２０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２５質量％～５０質量％であることが更に好ましい。
　また、（メタ）アクリル重合体Ａは、親水性基を側鎖に有する構成単位を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　（メタ）アクリル重合体Ａにおいて、親水性基を側鎖に有する構成単位の含有量は、（メタ）アクリル重合体Ａの質量に対して、３０質量％～８５質量％であることが好ましく、４０質量％～８０質量％であることがより好ましく、５０質量％～７５質量％であることが更に好ましい。

　なお、（メタ）アクリル重合体Ａは、更に他の構成単位を含んでいてもよい。
　他の構成単位としては、例えば、カルボン酸基を側鎖に有する構成単位が挙げられる。カルボン酸基を側鎖に有する構成単位としては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、イタコン酸誘導体等が挙げられる。カルボン酸基を側鎖に有する構成単位は、既述の親水性基を側鎖に有する構成単位とは別の構成単位として含まれることが好ましい。
　他の構成単位としては、（メタ）アクリル酸アルキル（アルキル基の炭素数は１～２４）、スチレン誘導体、無水マレイン酸、無水マレイミド、（メタ）アクリロニトリル、ビニルエーテル誘導体、アルキル（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。
　（メタ）アクリル重合体Ａにおいて、他の構成単位の含有量は、（メタ）アクリル重合体Ａの質量に対して、０質量％～２０質量％であることが好ましい。

　（メタ）アクリル重合体Ａの重量平均分子量としては、面状に優れた画像記録層を得る観点から、５０００～１０００００が好ましく、８０００～６００００がより好ましい。

　（メタ）アクリル重合体Ａの具体例としては、後述する実施例に示すＰ－１～Ｐ－１０が挙げられる。（メタ）アクリル重合体Ａの具体例としては、これらの限定されるものではない。

　（メタ）アクリル重合体Ａの含有量は、画像記録層用塗布液の全質量に対し、０．００１質量％～０．１質量％とすることが好ましく、０．００２質量％～０．０１質量％とすることがより好ましい。

〔重合体Ｂ〕
　重合体Ｂは、下記式（Ｉ）で表される構成単位（ｂ１）を有する。

　式（Ｉ）中、Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^１３は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^１１及びＬ^１２はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し、Ｒｈはケイ素原子を２個以上含む置換基を表す。

　Ｒ^１１及びＲ^１２で表されるアルキル基は、上記式（ａ３）におけるＲ^４及びＲ^５で表されるアルキル基と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ^１３で表される一価の置換基は、上記式（ａ３）におけるＲ^６で表される一価の置換基と同様であり、好ましい態様も同様である。

　Ｌ^１１で表される二価の連結基は、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－（所謂、エステル結合）又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－が挙げられる。
　なお、Ｌ^１１で表される二価の連結基は、エステル結合である－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－であることが好ましい。

　Ｌ^１２で表される二価の連結基は、Ｌ^１１とＲｈとを連結しうる基であれば、特に制限はない。Ｌ^１２で表される二価の連結基としては、アルキレン基が挙げられる。アルキレン基は、式（ａ４）のＬ^３におけるアルキレン基と同様であり、好ましい態様も同様である。

　Ｒｈで表されるケイ素原子を２個以上含む置換基は、（メタ）アクリル重合体Ａにおけるケイ素原子を２個以上含む置換基と同様であり、好ましい態様も同様である。

　具体的には、式（Ｉ）におけるＲｈは、下記式（Ｉａ）で表される構造を２個以上含む基であることが好ましい。

　式（Ｉａ）中、＊は、結合位置を表し、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアルキレンアリール基を表す。
　ここで、式（Ｉａ）は、（メタ）アクリル重合体Ａにおける式（ａ１）と同義であり、好ましい態様も同様である。

　式（Ｉ）で表される構成単位（ｂ１）の具体例としては、（メタ）アクリル重合体Ａにおけるケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位の具体例であるＫ－１～Ｋ－１２で表される単量体（モノマー）に由来する構成単位が挙げられる。式（Ｉ）で表される構成単位（ｂ１）の具体例は、これに限定されるものではない。

　重合体Ｂは、親水性基を側鎖に有する構成単位を更に有することが好ましい。
　親水性基を側鎖に有する構成単位としては、一態様において、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位であることが好ましい。つまり、重合体Ｂは、一態様において、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位（ｂ２）を更に有する共重合体であることが好ましい。

　重合体Ｂにおける親水性基を側鎖に有する構成単位は、（メタ）アクリル重合体Ａにおける親水性基を側鎖に有する構成単位と同様であり、好ましい態様も同様である。
　即ち、重合体Ｂにおける親水性基を側鎖に有する構成単位の他の一態様として、上記式（ａ４）で表される構成単位が挙げられる。
　式（ａ４）中、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｌ^２、Ｌ^３及びＸの好ましい態様は、上記にて説明したとおりである。
　重合体Ｂにおける親水性基を側鎖に有する構成単位が、式（ａ４）で表される構成単位である場合、Ｌ^２は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－を表し、なかでも、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－であることが好ましい。
　また、重合体Ｂにおける親水性基を側鎖に有する構成単位が、式（ａ４）で表される構成単位である場合、式（ａ４）におけるＸで表される親水性基としては、水酸基、ポリアルキレンオキシ基、又はこれらを２つ以上組み合わせた基等が好ましく挙げられる。

　重合体Ｂにおける親水性基を側鎖に有する構成単位の具体例としては、（メタ）アクリル重合体Ａにおける親水性基を側鎖に有する構成単位の具体例であるＨ－１～Ｈ－４０で表される単量体（モノマー）に由来する構成単位が挙げられる。重合体Ｂにおける親水性基を側鎖に有する構成単位の具体例は、これに限定されるものではない。

　重合体Ｂは、上記式（Ｉ）で表される構成単位（ｂ１）を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　重合体Ｂにおいて、式（Ｉ）で表される構成単位（ｂ１）の含有量は、重合体Ｂの質量に対して、１００質量％であってもよく、１５質量％～７０質量％であることが好ましく、２０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２５質量％～５０質量％であることが更に好ましい。
　また、重合体Ｂは、親水性基を側鎖に有する構成単位を含む場合、親水性基を側鎖に有する構成単位（ｂ２）及び親水性基を側鎖に有する構成単位（ａ４）から選ばれる、親水性基を側鎖に有する構成単位を、１種単独で含んでいてもよいし、２種以上を含んでいてもよい。
　重合体Ｂにおいて、親水性基を側鎖に有する構成単位の含有量は、重合体Ｂの質量に対して、３０質量％～８５質量％であることが好ましく、４０質量％～８０質量％であることがより好ましく、５０質量％～７５質量％であることが更に好ましい。

　なお、重合体Ｂは、更に他の構成単位を含んでいてもよい。
　他の構成単位としては、例えば、カルボン酸基を側鎖に有する構成単位が挙げられる。カルボン酸基を側鎖に有する構成単位としては、例えば、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、イタコン酸誘導体等が挙げられる。カルボン酸基を側鎖に有する構成単位は、既述の親水性基を側鎖に有する構成単位とは別の構成単位として含まれることが好ましい。
　他の構成単位としては、（メタ）アクリル酸アルキル（アルキル基の炭素数は１～２４）、スチレン誘導体、無水マレイン酸、無水マレイミド、（メタ）アクリロニトリル、ビニルエーテル誘導体、アルキル（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。
　重合体Ｂにおいて、他の構成単位の含有量は、重合体Ｂの質量に対して、０質量％～２０質量％であることが好ましい。

　重合体Ｂの重量平均分子量としては、面状に優れた画像記録層を得る観点から、５０００～１０００００が好ましく、８０００～６００００がより好ましい。

　重合体Ｂの具体例としては、後述する実施例に示すＰ－１～Ｐ－１０が挙げられる。重合体Ｂの具体例としては、これらの限定されるものではない。

　重合体Ｂの含有量は、画像記録層用塗布液の全質量に対し、０．００１質量％～０．１質量％とすることが好ましく、０．００２質量％～０．０１質量％とすることがより好ましい。

　本開示に係る平版印刷版原版は、上述した（メタ）アクリル重合体Ａ又は重合体Ｂを含む画像記録層を有すること以外、特に制限はない。
　本開示に係る平版印刷版原版は、ポジ型の平版印刷版原版であってもよく、ネガ型の平版印刷版原版であってもよい。中でも、本開示における効果をより発揮する観点から、本開示に係る平版印刷版原版は、ネガ型の平版印刷版原版であることが好ましい。
　また、本開示に係る平版印刷版原版は、上述したような、優れた機上現像性が示されることから、機上現像型平版印刷版原版であることが好ましい。

　以下、本開示に係る平版印刷版原版における各構成要件の詳細について説明する。

＜画像記録層＞
　本開示に用いられる画像記録層としては、上述した（メタ）アクリル重合体Ａ又は重合体Ｂを含んでいれば、ポジ型の画像記録層であってもよく、ネガ型の画像記録層であってもよい。中でも、本開示における効果をより発揮する観点から、画像記録層は、ネガ型の画像記録層であることが好ましい。
　また、本開示に用いられる画像記録層としては、例えば、特開平７－２８５２７５号公報、特開２００３－３４５０１４号公報等に記載されたサーマルポジタイプであってもよいし、特開平７－２０６２５号公報、特開平１１－２１８９０３号公報等に記載されたサーマルネガタイプであってもよいし、特開２００１－１００４１２号、特開２００２－１６９２８２号公報、特開２００８－１５５０４号公報等に記載されたフォトポリネガタイプであってもよい。
　更に、本開示に用いられる画像記録層は、水溶性又は水分散性のネガ型の画像記録層であることが好ましい。また、本開示に係る平版印刷版原版は、機上現像性の観点から、画像記録層の未露光部が湿し水及び印刷インクの少なくともいずれかにより除去可能であることが好ましい。

　以下、機上現像型平版印刷版原版に好適なネガ型の画像記録層を例にとって、詳しく説明する。
　機上現像型平版印刷版原版に好適なネガ型の画像記録層は、上述の上述した（メタ）アクリル重合体Ａ又は重合体Ｂの他、例えば、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、発色剤、粒子、その他の成分等を含むことが好ましい。

〔赤外線吸収剤〕
　赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
　赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。

　これらの染料のうち好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。より好ましくは、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。

　赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。

　シアニン色素の具体例としては、特開２００１－１３３９６９号公報の段落００１７～００１９に記載の化合物、特開２００２－０２３３６０号公報の段落００１６～００２１、特開２００２－０４０６３８号公報の段落００１２～００３７に記載の化合物、好ましくは特開２００２－２７８０５７号公報の段落００３４～００４１、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００８０～００８６に記載の化合物、特に好ましくは特開２００７－９０８５０号公報の段落００３５～００４３に記載の化合物、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落０１０５～０１１３に記載の化合物が挙げられる。
　また、特開平５－５００５号公報の段落０００８～０００９、特開２００１－２２２１０１号公報の段落００２２～００２５に記載の化合物も好ましく使用することができる。
　顔料としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００７２～００７６に記載の化合物が好ましい。

　また、赤外線吸収剤としては、最外層の変色性化合物として後述する赤外線露光に起因して分解する分解性化合物も好適に用いられる。

　赤外線吸収剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、耐刷性の観点から、－５．２５０ｅＶ以下であることが好ましく、－５．３０ｅＶ以下であることがより好ましく、－５．８０ｅＶ以上－５．３５ｅＶ以下であることが更に好ましく、－５．６５ｅＶ以上－５．４０ｅＶ以下であることが特に好ましい。

　赤外線吸収剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、経時安定性、感度の向上及びＵＶ耐刷性の観点から、－３．７０ｅＶより小さいことが好ましく、－３．８０ｅＶより小さいことがより好ましく、－４．２０ｅＶ以上－３．８０ｅＶ未満であることが更に好ましく、－４．００ｅＶ以上－３．８０ｅＶ未満であることが特に好ましい。

　赤外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。

　赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．５質量％～５．０質量％がより好ましい。

〔重合開始剤〕
　重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の重合開始剤を用いることができる。
　重合開始剤としては、電子供与型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤及び電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。

［電子供与型重合開始剤（重合助剤）］
　電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
　電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。

　電子供与型重合開始剤は、ホウ素化合物を含むこが好ましく、ボレート塩化合物を含むことがより好ましく、テトラアリールボレート塩化合物を含むことが更に好ましく、テトラフェニルボレート塩化合物を含むことが特に好ましい。
　ボレート塩化合物としては、耐刷性の観点から、テトラアリールボレート塩化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート塩化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート塩化合物であることがより好ましい。
　また、ボレート塩化合物としては、耐刷性の観点から、１つ以上の電子供与性基又は電子求引性基を有するテトラアリールボレート塩化合物であることが好ましく、１つの電子供与性基又は電子求引性基を各アリール基に有するテトラアリールボレート塩化合物であることがより好ましい。
　電子供与性基としては、耐刷性の観点から、アルキル基、又は、アルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましい。
　電子求引性基としては、分解性の観点から、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アシル基、カルボキシ基等が挙げられる。
　ボレート塩化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
　また、ボレート塩化合物が有する対カチオンとしては、本明細書に記載している赤外吸収剤において、カチオン性のポリメチン色素であってもよい。例えば、シアニン色素の対カチオンとして上記ボレート塩化合物を用いてもよい。

　ボレート塩化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙
げられる。

　以下に、電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、Ｂ－１～Ｂ－９を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｂｕはｎ－ブチル基を表す。

　また、電子供与型重合開始剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、感度の向上の観点から、－６．００ｅＶ以上であることが好ましく、－５．９５ｅＶ以上であることがより好ましく、－５．９３ｅＶ以上であることが更に好ましく、－５．９０ｅＶより大きいことが特に好ましい。
　また、上限としては、－５．００ｅＶ以下であることが好ましく、－５．４０ｅＶ以下であることがより好ましい。

　電子供与型重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～３０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～２５質量％であることがより好ましく、０．１質量％～２０質量％であることが更に好ましい。
　また、画像記録層における電子供与型重合開始剤の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、赤外線吸収剤の含有量よりも多いことが好ましく、赤外線吸収剤の含有量の１．１倍～５倍であることがより好ましく、赤外線吸収剤の含有量の１．５倍～３倍であることが特に好ましい。

　本開示において、重合開始剤は、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物であってもよい。
　例えば、本開示において、電子供与型重合開始剤におけるアニオンと電子受容型重合開始剤におけるカチオンとが対塩を形成してなる化合物であることが好ましく、オニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることがより好ましく、ヨードニウムカチオン又はスルホニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが更に好ましく、ジアリールヨードニウムカチオン又はトリアリールスルホニウムカチオンとテトラアリールボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが特に好ましい。
　電子供与型重合開始剤におけるアニオン、及び、電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様としては、既述の電子供与型重合開始剤におけるアニオン及び既述の電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様と同様である。
　画像記録層が、電子供与型重合開始剤であるアニオンと、電子受容型重合開始剤であるカチオンと、を含む場合（つまり、上記対塩を形成している化合物を含む場合）、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
　また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物は、電子供与型重合開始剤として用いてもよいし、電子受容型重合開始剤として用いてもよい。
　また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物は、既述の電子供与型重合開始剤と併用してもよいし、既述の電子受容型重合開始剤と併用してもよい。

　機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、赤外線吸収剤及び電子供与型重合開始剤を更に含み、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値は、感度の向上及び耐刷性の観点から、０．７０ｅＶ以下であることが好ましく、０．６０ｅＶ以下であることがより好ましく、０．５０ｅＶ以下であることが更に好ましく、０．５０ｅＶ～－０．１０ｅＶであることが特に好ましい。
　なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯよりも高くなることを意味する。

　本開示において、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）及び最低空軌道（ＬＵＭＯ）のＭＯ（分子軌道）エネルギー計算は、以下の方法により行う。
　まず、計算対象となる化合物における遊離の対イオンは計算対象から除外する。例えば、カチオン性の一電子受容型重合剤、カチオン性の赤外線吸収剤では対アニオンを、アニオン性の一電子供与型重合剤では対カチオンをそれぞれ計算対象から除外する。ここでいう遊離とは、対象とする化合物とその対イオンが共有結合で連結されていないことを意味する。
　量子化学計算ソフトウェアＧａｕｓｓｉａｎ１６を用い、構造最適化はＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１Ｇ（ｄ））で行う。
　ＭＯエネルギー計算は、上記構造最適化で得た最適構造で量子化学計算ソフトウェアＧａｕｓｓｉａｎ１６を用い、ＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１＋Ｇ（ｄ，ｐ）／ＰＣＭ（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌ））で行う。なお、ヨウ素を含有する化合物は、ＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／ＤＧＤＺＶＰ／ＰＣＭ（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌ））条件にて計算する。
　ここでいう最適構造とは、ＤＦＴ計算で得られる全エネルギーが最も安定な構造を意味する。必要に応じて構造最適化を繰り返すことで、最安定構造を見出す。
　上記ＭＯエネルギー計算で得られたＭＯエネルギーＥｂａｒｅ（単位：ｈａｒｔｒｅｅ）を以下の公式により、本開示においてＨＯＭＯ及びＬＵＭＯの値として用いるＥｓｃａｌｅｄ（単位：ｅＶ）へ変換する。
　〔ＨＯＭＯの算出式〕　Ｅｓｃａｌｅｄ＝０．８２３１６８×２７．２１１４×Ｅｂａｒｅ－１．０７６３４
　〔ＬＵＭＯの算出式〕　Ｅｓｃａｌｅｄ＝０．８２０１３９×２７．２１１４×Ｅｂａｒｅ－１．０８６０３９
　なお、２７．２１１４は単にｈａｒｔｒｅｅをｅＶに変換するための係数であり、ＨＯＭＯを算出する際に用いる０．８２３１６８と－１．０７６３４、及び、ＵＭＯを算出する際に用いる０．８２０１３９と－１．０８６０３９とは調節係数であり、計算対象となる化合物のＨＯＭＯとＬＵＭＯの計算が実測の値に合うように定める。

［電子受容型重合開始剤］
　電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
　電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカル、カチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
　電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
　また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
　更に、電子受容型重合開始剤としては、感度の向上及びＵＶ耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、又は、ハロゲン化アルキル基を有する化合物であることが好ましく、ハロゲン化アルキル基を有する化合物であることがより好ましい。
　また、ハロゲン化アルキル基を有する化合物としては、感度の向上及びＵＶ耐刷性の観点から、パーハロゲノアルキルスルホニル基を有する化合物が好ましく、トリハロゲノメチルスルホニル基を有する化合物がより好ましく、トリブロモメチルスルホニル基を有する化合物であることが特に好ましい。

　上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
　これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。

　ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－メトキシフェニル－４－（２－メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－（２－メチルプロピル）フェニル－ｐ－トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４－ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝１－ペルフルオロブタンスルホナート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファー飛びス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。

　また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、ｐ－トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
　スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
　また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
　スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例としては、国際公開第２０１９／０１３２６８号に記載されているものが挙げられる。

　また、上記電子受容型重合開始剤としては、現像性、及び、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、下記式（ＩＩ）又は式（ＩＩＩ）で表される化合物を含むことが好ましく、式（ＩＩ）で表される化合物を含むことが特に好ましい。

　式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）中、Ｘ^Ａはハロゲン原子を表し、Ｒ^Ａ、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ２はそれぞれ独立に、炭素数１～２０の一価の炭化水素基を表す。

　式（ＩＩ）におけるＲ^Ａは、アリール基であることが好ましい。
　式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）におけるＸ^Ａとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及び
ヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
　また、式（ＩＩ）及び式（ＩＩＩ）において、Ｒ^Ａ、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ａ２はそれぞれ独立に、アリール基であることが好ましく、中でも、感度と保存安定性とのバランスに優れる観点から、アミド基で置換されているアリール基がより好ましい。

　また、上記電子受容型重合開始剤としては、式（ＩＶ）で表される化合物を含むことが特に好ましい。

　式（ＩＶ）中、Ｘ^Ａはハロゲン原子を表し、Ｒ^Ａ３及びＲ^Ａ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～２０までの１価の炭化水素基を表し、ｐＡ及びｑＡはそれぞれ独立に、１～５の整数を表す。ただし、ｐＡ＋ｑＡ＝２～６である。

　電子受容型重合開始剤の具体例としては、下記に示す化合物などが挙げられるが、本開示はこれらに限定されるものではない。
　以下の構造中、「Ｅｔ」はエチル基、「ｎＰｒ」はｎ－プロピル基、「ｎＢｕ」はｎ－ブチル基を、「Ｐｈ」はフェニル基を、「ｃＨｅｘ」はシクロヘキシル基を表す。

　電子受容型重合開始剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、感度の向上の観点から、－３．００ｅＶ以下であることが好ましく、－３．０２ｅＶ以下であることがより好ましい。
　また、下限としては、－３．８０ｅＶ以上であることが好ましく、－３．５０ｅＶ以上であることがより好ましい。

　電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

　電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．５質量％～３０質量％であることがより好ましく、０．８質量％～２０質量％であることが特に好ましい。

　機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、赤外線吸収剤及び電子受容型重合開始剤を更に含み、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値が、感度の向上及び耐刷性の観点から、１．００ｅＶ以下であることが好ましく、０．８０ｅＶ以下であることがより好ましく、０．７０ｅＶ以下であることが更に好ましく、０．７０ｅＶ～－０．１０ｅＶ以下であることが特に好ましく、０．７０ｅＶ～０．３０ｅＶであることが最も好ましい。
　なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯが、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯよりも高くなることを意味する。

〔重合性化合物〕
　本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
　重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。また、重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
　ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　重合性化合物の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）は、５０以上２，５００未満であることが好ましい。

　本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物、即ち、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
　中でも、重合性化合物としては、ＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、７官能以上の重合性化合物を含むことがより好ましく、１０官能以上の重合性化合物を含むことが更に好ましい。また、上記重合性化合物は、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）の（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。

　また、重合性化合物としては、機上現像性、及び、汚れ抑制性の観点から、２官能以下の重合性化合物を含むことが好ましく、２官能重合性化合物を含むことがより好ましく、２官能（メタ）アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。
　２官能以下の重合性化合物（好ましくは２官能重合性化合物）の含有量は、耐刷性、機上現像性、及び、汚れ抑制性の観点から、上記画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、５質量％～１００質量％であることが好ましく、１０質量％～１００質量％であることがより好ましく、５０％～１００質量％であることが特に好ましい。

＜＜オリゴマー＞＞
　画像記録層に含まれる重合性化合物としては、オリゴマーである重合性化合物（以下、単に「オリゴマー」ともいう。）を含有することが好ましい。
　本開示においてオリゴマーとは、分子量が６００以上１０，０００以下であり、かつ、重合性基を少なくとも１つ含む重合性化合物を表す。ここで、オリゴマーの分子量は、分子量分布を有する場合には、重量平均分子量を指す。
　耐薬品性、ＵＶ耐刷性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、１，０００以上５，０００以下であることが好ましい。

　また、ＵＶ耐刷性を向上させる観点から、１分子のオリゴマーにおける重合性基数は、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、６以上であることが更に好ましく、１０以上であることが特に好ましい。
　また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は２０以下であることが好ましい。

　ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が７以上であり、かつ、分子量が１，０００以上１０，０００以下であることが好ましく、重合性基の数が７以上２０以下であり、かつ、分子量が１，０００以上５，０００以下であることがより好ましい。
　なお、オリゴマーは、オリゴマーを製造する過程で生じる可能性のある、ポリマー成分を含有していてもよい。

　ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
　本開示においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基（カルボン酸基等）とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。

　オリゴマーの例であるウレタン結合を有する化合物としては、例えば、下記式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式（Ａｃ－１）で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。

　式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）中、Ｌ^１～Ｌ^４はそれぞれ独立に、炭素数２～２０の二価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
　Ｌ^１～Ｌ^４としては、それぞれ独立に、炭素数２～２０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数４～８のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐又は環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。

　式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）における波線部はそれぞれ独立に、下記式（Ａｅ－１）又は式（Ａｅ－２）で表される基における波線部と直接結合することが好ましい。

　式（Ａｅ－１）及び式（Ａｅ－２）中、Ｒはそれぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し、波線部分は式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）における波線部との結合位置を表す。

　また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。
　例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。

　オリゴマーの例であるエステル結合を有する化合物における重合性基の数は、３以上であることが好ましく、６以上であることが更に好ましい。

　オリゴマーの例であるエポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
　また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、２～６であることが好ましく、２～３であることがより好ましい。
　上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。

　オリゴマーの具体例を下記表に示すが、本開示において用いられるオリゴマーはこれに限定されるものではない。
　オリゴマーとしては、市販品を用いてもよく、ＵＡ５１０Ｈ、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｔ（いずれも共栄社化学（株）製）、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ７６２０ＥＡ（いずれも日本合成化学工業（株）製）、Ｕ－１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８８５、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６、ＥＢＥＣＲＹＬ８６０（いずれもダイセルオルネクス（株）製）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。

　オリゴマーの含有量は、耐薬品性、ＵＶ耐刷性、及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。

＜＜低分子重合性化合物＞＞
　重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
　オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、２量体、３量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
　また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を３つ以上有する重合性化合物、及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。

　本開示において低分子重合性化合物とは、分子量５０以上６００未満の重合性化合物を表す。ここで、低分子重合性化合物の分子量が分子量分布を有する場合には、重量平均分子量を指す。
　低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、１００以上６００未満であることが好ましく、３００以上６００未満であることがより好ましく、４００以上６００未満であることが更に好ましい。

　重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合（２種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量）、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比（オリゴマー／低分子重合性化合物）は、質量基準で、１０／１～１／１０であることが好ましく、１０／１～３／７であることがより好ましく、１０／１～７／３であることが更に好ましい。

　また、低分子重合性化合物としては、国際公開第２０１９／０１３２６８号の段落００８２～００８６に記載の重合性化合物も好適に用いることができる。

　重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
　中でも、画像記録層は、ＵＶ耐刷性の観点から、２種以上の重合性化合物を含むことが好ましい。
　重合性化合物の含有量（重合性化合物を２種以上含む場合は、重合性化合物の総含有量）は、画像記録層の全質量に対して、５質量％～７５質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、１５質量％～６０質量％であることが更に好ましい。

〔発色剤〕
　機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、発色剤を更に含むことが好ましく、酸発色剤を更に含むことがより好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
　本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。

　このような酸発色剤の例としては、特開２０１９－１８４１２号公報の０１８４～０１９１段落に記載された化合物が挙げられる。

　中でも、本開示に用いられる発色剤は、視認性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
　発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、４５０～６５０ｎｍの範囲に極大吸収を有することが好ましい。色味としては、赤、紫、青又は黒緑であることが好ましい。

　また、上記酸発色剤は、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
　上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
　また、上記ロイコ色素としては、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
　更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式（Ｌｅ－２）で表される化合物であることがより好ましい。

　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ_５～Ｘ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。

　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基又はモノアリールモノヘテロアリールアミノ基であることが更に好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
　また、上記ＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基又は少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基を有する二置換アミノ基であることが好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基を有する二置換アミノ基であることがより好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基とアリール基又はヘテロアリール基とを有するアミノ基であることが更に好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基と電子供与性基を有するアリール基又は電子供与性基を有するヘテロアリール基とを有するアミノ基であることが特に好ましい。
　なお、本開示において、フェニル基以外のアリール基又はヘテロアリール基におけるオルト位は、アリール基又はヘテロアリール基の他の構造との結合位置を１位とした場合の上記１位の隣の結合位置（例えば、２位等）を言うものとする。
　更に、上記アリール基又はヘテロアリール基が有する電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。

　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式（Ｌｅ－２）又は式（Ｌｅ－３）におけるＸ_５～Ｘ_１０はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＹ_１及びＹ_２は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１方がＣであることが好ましく、Ｙ_１及びＹ_２の両方がＣであることがより好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲａ_１は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。

　また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式（Ｌｅ－５）で表される化合物であることが更に好ましい。

　式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。

　式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）におけるＥＲＧ、Ｘ_１～Ｘ_４、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒａ_１、及び、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＥＲＧ、Ｘ_１～Ｘ_４、Ｙ_１、Ｙ_２、Ｒａ_１、及び、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４と同義であり、好ましい態様も同様である。

　更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式（Ｌｅ－８）で表される化合物であることが特に好ましい。

　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ_１～Ｘ_４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ_１及びＹ_２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ_１がＮである場合は、Ｘ_１は存在せず、Ｙ_２がＮである場合は、Ｘ_４は存在せず、Ｒａ_１～Ｒａ_４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表す。

　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＸ_１～Ｘ_４、Ｙ_１及びＹ_２は、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ_１～Ｘ_４、Ｙ_１及びＹ_２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－７）又は式（Ｌｅ－９）におけるＲａ_１～Ｒａ_４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ_１～Ｒｂ_４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
　また、式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ_１及びＲｃ_２はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基、又は、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基であることが好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基であることがより好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するフェニル基であることが更に好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。Ｒｃ_１及びＲｃ_２における上記置換基としては、後述する置換基が挙げられる。
　また、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｘ_１～Ｘ_４が水素原子であり、Ｙ_１及びＹ_２がＣであることが好ましい。
　更に、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｒｂ_１及びＲｂ_２がそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましい。
　更にまた、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｒｂ_１及びＲｂ_２がそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、電子供与性基を有するアリール基であることが更に好ましく、パラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。
　また、Ｒｂ_１、Ｒｂ_２、Ｒｃ_１及びＲｃ_２における上記電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。

　また、酸発色剤としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－１０）で表される化合物を含むことが好ましい。

　式（Ｌｅ－１０）中、Ａｒ_１はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ａｒ_２はそれぞれ独立に、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基、又は、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基を表す。

　式（Ｌｅ－１０）におけるＡｒ_１は、式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ_１及びＲｂ_２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－１０）におけるＡｒ_２は、式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｃ_１及びＲｃ_２と同義であり、好ましい態様も同様である。

　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
　また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、６～１０であることがより好ましく、６～８であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、及び、フェナントレニル基等が挙げられる。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるヘテロアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラゾイル基、及び、チオフェニル基等が挙げられる。

　また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。

　好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。

 
 

　酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ－３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４（以上、福井山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ－ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ－ＤＣＦ、ＰＩＮＫ－ＤＣＦ、ＲＥＤ－ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、ＴＨ－１０７（以上、保土ヶ谷化学（株）製）、ＯＤＢ、ＯＤＢ－２、ＯＤＢ－４、ＯＤＢ－２５０、ＯＤＢ－ＢｌａｃｋＸＶ、Ｂｌｕｅ－６３、Ｂｌｕｅ－５０２、ＧＮ－１６９、ＧＮ－２、Ｇｒｅｅｎ－１１８、Ｒｅｄ－４０、Ｒｅｄ－８（以上、山本化成（株）製）、クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、Ｈ－３０３５、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、Ｂｌｕｅ－６３、ＧＮ－１６９、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。

　好適に用いられるロイコ色素としては、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、以下の化合物が挙げられる。

　これらの発色剤は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
　発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％であることが好ましく、１質量％～５質量％であることがより好ましい。

〔粒子〕
　機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、機上現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。粒子としては、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。
　画像記録層は、機上現像性の観点から、有機粒子を含むことが好ましく、樹脂粒子を含むことがより好ましい。
　無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。

＜＜樹脂粒子＞＞
　樹脂粒子としては、例えば、付加重合型樹脂を含む粒子（即ち、付加重合型樹脂粒子）、重付加型樹脂を含む粒子（即ち、重付加型樹脂粒子）、重縮合型樹脂を含む粒子（即ち、重縮合型樹脂粒子）等が挙げられるが、中でも、付加重合型樹脂粒子、又は重付加型樹脂粒子が好ましい。
　また、樹脂粒子としては、熱融着が可能となる観点から、熱可塑性樹脂を含む粒子（即ち、熱可塑性樹脂粒子）であってもよい。

　また、樹脂粒子は、マイクロカプセル、ミクロゲル（即ち、架橋樹脂粒子）等の形態であってもよい。

　樹脂粒子としては、熱可塑性樹脂粒子、熱反応性樹脂粒子、重合性基を有する樹脂粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル（架橋樹脂粒子）よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有する樹脂粒子が好ましい。
　特に好ましい実施形態では、樹脂粒子は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含む。このような樹脂粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。

　熱可塑性樹脂粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　Ｎｏ．３３３０３、特開平９－１２３３８７号公報、同９－１３１８５０号公報、同９－１７１２４９号公報、同９－１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載の熱可塑性樹脂粒子が好ましい。

　熱可塑性樹脂粒子を構成する樹脂の具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。

　熱可塑性樹脂粒子としては、インク着肉性及びＵＶ耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、ニトリル基を有する構成単位を有する樹脂を含むことが好ましい。

　上記芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
　スチレン化合物としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、β－メチルスチレン、ｐ－メチル－β－メチルスチレン、α－メチルスチレン、及びｐ－メトキシ－β－メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。

　芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インク着肉性の観点から、後述するニトリル基を有する構成単位の含有量よりも多いことが好ましく、樹脂の全質量に対し、１５質量％～８５質量％であることがより好ましく、３０質量％～７０質量％であることが更に好ましい。

　ニトリル基を有する構成単位は、ニトリル基を有するモノマーを用いて導入されることが好ましい。
　ニトリル基を有するモノマーとしては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
　ニトリル基を有する構成単位としては、（メタ）アクリロニトリルにより形成される構成単位が好ましい。

　ニトリル基を有する構成単位の含有量は、インク着肉性の観点から、上記芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量よりも少ないことが好ましく、樹脂の全質量に対し、５５質量％～９０質量％であることがより好ましく、６０質量％～８５質量％であることがより好ましい。

　また、熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂が芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位を含む場合、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位の含有量比（芳香族ビニル化合物により形成される構成単位：ニトリル基を有する構成単位）としては、質量基準で５：５～９：１であることが好ましく、より好ましくは、６：４～８：２である。

　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
　Ｎ－ビニル複素環化合物としては、例えば、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカルバゾール、Ｎ－ビニルピロール、Ｎ－ビニルフェノチアジン、Ｎ－ビニルコハク酸イミド、Ｎ－ビニルフタルイミド、Ｎ－ビニルカプロラクタム、及びＮ－ビニルイミダゾールが挙げられ、Ｎ－ビニルピロリドンが好ましい。

　Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましい。

　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインク着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
　具体的には、熱可塑性樹脂における酸性基を有する構成単位の含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、０質量％であってもよい。
　また、熱可塑性樹脂の酸価は、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。
　本開示において、酸価はＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に準拠した測定法により求められる。

　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、インク着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
　上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
　疎水性基を含む構成単位としては、アルキル（メタ）アクリレート化合物、アリール（メタ）アクリレート化合物、又は、アラルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。

　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂における、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。

　熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
　親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
　上記親水性基としては、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。

　上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ（エチレンオキシド／プロピレンオキシド）構造であることが好ましい。
　また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
　上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、２以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、５～２００であることが更に好ましく、８～１５０であることが特に好ましい。

　また、機上現像性の観点から、上記親水性基として、後述する式Ｚで表される基が好ましい。
　熱可塑性樹脂が有する親水性基の中でも、下記式ＰＯにより表される基が好ましい。

　式ＰＯ中、Ｌ^Ｐはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、Ｒ^Ｐは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１～１００の整数を表す。
　式ＰＯ中、Ｌ^Ｐはそれぞれ独立に、エチレン基、１－メチルエチレン基又は２－メチルエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
　式ＰＯ中、Ｒ^Ｐは水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
　式ＰＯ中、ｎは１～１０の整数が好ましく、１～４の整数がより好ましい。

　親水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。

　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、その他の構成単位を更に含有してもよい。その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。

　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂における、その他の構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。

　熱反応性樹脂粒子としては、熱反応性基を有する樹脂粒子が挙げられる。熱反応性樹脂粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。

　熱反応性基を有する樹脂粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
　上記熱反応性基を有する樹脂としては、付加重合型樹脂、重付加型樹脂、又は重縮合型樹脂であってもよいし、熱可塑性樹脂であってもよい。

　マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１－２７７７４０号公報、特開２００１－２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部（好ましくは疎水性化合物）を内包したものが好ましい。樹脂粒子としてマイクロカプセルを含有する画像記録層は、画像記録層の構成成分のうち疎水性成分（即ち、疎水性化合物）をマイクロカプセルに内包し、親水性成分（即ち、親水性化合物）をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
　ミクロゲル（架橋樹脂粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
　画像記録層の構成成分を含むマイクロカプセルを得るためには、公知の合成法が適用できる。

　ミクロゲル（架橋樹脂粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
　画像記録層の構成成分を含むミクロゲルを得るためには、公知の合成法が適用できる。

　樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる重付加型樹脂粒子が好ましい。
　上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
　上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましい。また上記活性水素化合物としては、水を用いることができる。水を用いた場合、イソシアナト基と水との反応によって生じたアミンがウレア結合を形成し、粒子を形成することができる。
　分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、国際公開第２０１８０４３２５９号の段落０２３０～０２３４に記載の樹脂粒子が好ましく挙げられる。

　更に、樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたニトリル基を有する構成ユニット、及び、ｉｉ）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型樹脂粒子が好ましい。具体的には、特開２０１９－６４２６９号公報の段落０１５６に記載の粒子が好ましい。

＜＜式Ｚで表される基＞＞
　本開示における樹脂粒子は、親水性基として、下記式Ｚで表される基を有することが好ましい。
　＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ　式Ｚ
　式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
　また、式Ｚ中に含まれる親水性構造のいずれかが、ポリアルキレンオキシド構造を含むことが好ましい。

　上記式ＺにおけるＱは、炭素数１～２０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数１～１０の二価の連結基であることがより好ましい。
　また、上記式ＺにおけるＱは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを２以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。

　上記式ＺのＷにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に－ＣＨ_２ＣＨ_２ＮＲ^Ｗ－が結合した基であることが好ましい。なお、Ｒ^Ｗは、水素原子又はアルキル基を表す。
　上記式ＺのＷにおける疎水性構造を有する二価の基は、－Ｒ^ＷＡ－、－Ｏ－Ｒ^ＷＡ－Ｏ－、－Ｒ^ＷＮ－Ｒ^ＷＡ－ＮＲ^Ｗ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒ^ＷＡ－Ｏ－、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）－Ｒ^ＷＡ－Ｏ－であることが好ましい。なお、Ｒ^ＷＡはそれぞれ独立に、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数６～１２０のハロアルキレン基、炭素数６～１２０のアリーレン基、炭素数６～１２０のアルカーリレン基（アルキルアリール基から水素原子を１つ除いた二価の基）、又は、炭素数６～１２０のアラルキレン基を表す。

　上記式ＺのＹにおける親水性構造を有する一価の基は、－ＯＨ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｒ^Ｗ）－が結合した基であることが好ましい。中でも、親水性構造を有する一価の基としては、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ（Ｒ^Ｗ）－が結合した基が好ましい。
　上記式ＺのＹにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数６～１２０のハロアルキル基、炭素数６～１２０のアリール基、炭素数６～１２０のアルカーリル基（アルキルアリール基）、炭素数６～１２０のアラルキル基、－ＯＲ^ＷＢ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^ＷＢ、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ^ＷＢであることが好ましい。Ｒ^ＷＢは、炭素数６～２０を有するアルキル基を表す。

　上記式Ｚで表される基を有する樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Ｗが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Ｑがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Ｗは、ポリアルキレンオキシ基であり、Ｙが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
　なお、式Ｚで表される基は、樹脂粒子の分散性を高める分散性基として機能してもよい。

　本開示における樹脂粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基（好ましくはエチレン性不飽和基）を有することが好ましく、特に、表面に重合性基を有する樹脂粒子を含むことがより好ましい。重合性基を有する樹脂粒子を用いることで、耐刷性（好ましくはＵＶ耐刷性）が高められる。

　本開示における樹脂粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有する樹脂粒子であることが好ましい。
　上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
　上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基（スチリル基）、（メタ）アクリロキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基がより好ましく、（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。
　また、重合性基を有する樹脂粒子を構成する樹脂は、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
　なお、高分子反応により樹脂粒子の表面に重合性基を導入してもよい。

　また、樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する重付加型樹脂を含むことが好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する重付加型樹脂を含むことがより好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつ、ポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する重付加型樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。

　式（Ｉｓｏ）中、ｎは０～１０の整数を表す。

　上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、ｎ＝０、４，４－異性体を使用した例である。
　下記に示すように、上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する重付加型樹脂が形成される。

　また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物（活性水素を有する化合物）を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造を、ウレア結合を有する重付加型樹脂に導入することもできる。
　上記活性水素を有する化合物としては、既述の活性水素を有する化合物が好ましく挙げられる。

　また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式（ＰＥＴＡ）で表される基を有することがより好ましい。

　式（ＰＥＴＡ）中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。

＜＜樹脂粒子の合成＞＞
　樹脂粒子の合成法としては、特に制限はなく、既述した各種の樹脂にて粒子を合成しうる方法であればよい。樹脂粒子の合成法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、ソープフリー重合法、マイクロエマルション重合法等の、公知の樹脂粒子の合成法が挙げられる。
　その他、樹脂粒子の合成には、公知のマイクロカプセルの合成法、ミクロゲル（架橋樹脂粒子）の合成法等を用いてもよい。

＜＜粒子の平均粒径＞＞
　粒子の平均粒径は、０．０１μｍ～３．０μｍが好ましく、０．０３μｍ～２．０μｍがより好ましく、０．１０μｍ～１．０μｍが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
　粒子の平均粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子の円相当径とする。
　なお、本開示における粒子の平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。

　粒子（好ましくは樹脂粒子）は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　粒子（好ましくは樹脂粒子）の含有量は、現像性、及び、耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、５質量％～９０質量％が好ましく、１０質量％～９０質量％であることがより好ましく、２０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～９０質量％であることが特に好ましい。

〔その他の成分〕
　機上現像型平版印刷版原版における画像記録層は、既述の成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
　その他の成分としては、バインダーポリマー、発色剤、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の添加剤等が挙げられる。

　その他の成分としては、特開２００９－２５５４３４号公報の段落０１８１～０１９０に開示される着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、及び、低分子親水性化合物等が挙げられる。
　また、他の化合物としては、特開２０１２－１８７９０７号公報の段落０１９１～０２１７に開示される、疎水化前駆体（熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子）、低分子親水性化合物、感脂化剤（例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー）、及び、連鎖移動剤も挙げられる。

－バインダーポリマー－
　画像記録層は、必要に応じて、バインダーポリマーを含んでいてもよい。
　ここで、バインダーポリマーは、樹脂粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないポリマーを指す。
　また、バインダーポリマーは、感脂化剤におけるアンモニウム塩含有ポリマー及び界面活性剤として用いるポリマーを除く。

　バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマー（例えば、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール、ポリウレタン樹脂等）を好適に使用することができる。
　一例として、機上現像型平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー（以下、機上現像用バインダーポリマーともいう）について、詳細に記載する。
　機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ（アルキレンオキシド）を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ（アルキレンオキシド）含有繰返し単位で構成されるブロックと（アルキレンオキシド）非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
　ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
　ポリ（アルキレンオキシド）部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に（メタ）アクリル樹脂が好ましい。

　また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物（以下、星型高分子化合物ともいう。）が挙げられる。
　星型高分子化合物としては、例えば、特開２０１２－１４８５５５号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。

　星型高分子化合物は、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。星型高分子化合物が有する重合性基によって星型高分子化合物の分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
　重合性基としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基（スチリル基）などのエチレン性不飽和基、エポキシ基等が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、ビニルフェニル基（スチリル基）が重合反応性の観点でより好ましく、（メタ）アクリル基が特に好ましい。これらの基は、高分子反応、又は、共重合によってポリマーに導入することができる。具体的には、例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。

　バインダーポリマーの分子量は、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～３００，０００であることが更に好ましい。

　バインダーポリマーとしては、必要に応じて、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。
　中でも、画像記録層は、機上現像性の観点から、ポリビニルアセタールを含むことが好ましい。ポリビニルアセタールとしては、例えば、ポリビニルブチラール等が好適に挙げられる。

　バインダーポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

　バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましい。

〔画像記録層の形成〕
　本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落０１４２～段落０１４３に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、０．３ｇ／ｍ^２～３．０ｇ／ｍ^２が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
　溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン（２－ブタノン）、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、３－メトキシ－１－プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は１質量％～５０質量％であることが好ましい。
　塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、０．３ｇ／ｍ^２～３．０ｇ／ｍ^２が好ましい。
　また、本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層の膜厚は、０．１μｍ～３．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～２．０μｍであることがより好ましい。
　本開示において、平版印刷版原版における各層の膜厚は、平版印刷版原版の表面に対して垂直な方向に切断した切片を作製し、上記切片の断面を走査型顕微鏡（ＳＥＭ）により観察することにより確認される。

＜最外層＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層上に、最外層を有することが好ましい。
　また、最外層は、平版印刷版原版における支持体における画像記録層側の最外層である。
　最外層は、酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止等の機能を有していてもよい。
　最外層は、保護層とも呼ばれる。

－水溶性ポリマー－
　最外層は、現像除去性（より好ましくは、機上現像性）の観点から、水溶性ポリマーを含むことが好ましい。
　本開示において、水溶性ポリマーとは、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇ以上溶解し、かつ、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇのポリマーが溶解した溶液を２５℃に冷却しても析出しないポリマーをいう。
　最外層に用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
　変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開２００５－２５０２１６号公報及び特開２００６－２５９１３７号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。

　上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールが好ましいものとして挙げられる。中でも、水溶性ポリマーとしては、けん化度が５０％以上であるポリビニルアルコールを用いることが更に好ましい。
　上記けん化度は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、１００％以下であればよい。
　上記けん化度は、ＪＩＳ　Ｋ　６７２６：１９９４に記載の方法に従い測定される。

　上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルピロリドンも好ましいものとして挙げられる。
　親水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組み合わせて使用することも好ましい。

　水溶性ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

　最外層が水溶性ポリマーを含む場合、水溶性ポリマーの含有量は、最外層の全質量に対して、１質量％～９９質量％であることが好ましく、３質量％～９７質量％であることがより好ましく、５質量％～９５質量％であることが更に好ましい。

　最外層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有してもよい。
　無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式：３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・Ｈ_２Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
　好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式：Ａ（Ｂ，Ｃ）_２－５Ｄ_４Ｏ_１０（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）_２〔ただし、Ａは、Ｋ、Ｎａ、Ｃａのいずれか、Ｂ及びＣは、Ｆｅ（ＩＩ）、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｍｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｖのいずれかであり、Ｄは、Ｓｉ又はＡｌである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。

　雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母ＫＭｇ_３（ＡｌＳｉ_３Ｏ_１０）Ｆ_２、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ_２．５Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２等の非膨潤性雲母、及び、ＮａテトラシリリックマイカＮａＭｇ_２．５（Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２、Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ_２Ｌｉ（Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２、モンモリロナイト系のＮａ又はＬｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）_１／８Ｍｇ_２／５Ｌｉ_１／８（Ｓｉ_４Ｏ_１０）Ｆ_２等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。

　上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、１０Å～１５Å（１Å＝０．１ｎｍ）程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、正電荷不足を補償するために層間にＬｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｃａ^２＋、Ｍｇ^２＋等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがＬｉ^＋、Ｎａ^＋の場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。膨潤した状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。

　雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは２０以上であり、より好ましくは１００以上、特に好ましくは２００以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。
　雲母化合物のアスペクト比が大きい程、得られる酸素遮断効果が大きい。

　雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは０．３μｍ～２０μｍ、より好ましくは０．５μｍ～１０μｍ、特に好ましくは１μｍ～５μｍである。粒子の平均の厚さは、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０５μｍ以下、特に好ましくは０．０１μｍ以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが１ｎｍ～５０ｎｍ程度、面サイズ（長径）が１μｍ～２０μｍ程度である。

　無機層状化合物の含有量は、オーバーコート層の全固形分に対して、１質量％～６０質量％が好ましく、３質量％～５０質量％がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。
　上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。

－その他の成分－
　上記最外層は、疎水性ポリマー、変色性化合物、酸発生剤、添加剤等の他の成分を含んでいてもよい。
　以下、その他の成分について説明する。

・疎水性ポリマー
　上記最外層は、疎水性ポリマーを含むことが好ましい。
　疎水性ポリマーとは、７０℃、１００ｇの純水に対する１ｇ未満で溶解するか、又は、溶解しないポリマーをいう。
　疎水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル等）、これらのポリマーの原料モノマーを組み合わせた共重合体等が挙げられる。
　また、疎水性ポリマーとしては、ポリビニリデンクロライド樹脂を含むことが好ましい。
　更に、疎水性ポリマーとしては、スチレン－アクリル共重合体を含むことが好ましい。
　更にまた、疎水性ポリマーは、機上現像性の観点から、疎水性ポリマー粒子であることが好ましい。

　疎水性ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

　最外層が疎水性ポリマーを含む場合、疎水性ポリマーの含有量は、最外層の全質量に対して、１質量％～８０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましい。

・変色性化合物
　最外層は、変色性化合物を含んでいてもよい。
　本開示において「変色性化合物」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域（波長：４００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満）の吸収が変化する化合物をいう。つまり、本開示において「変色」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域（波長：４００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満）の吸収が変化することをいう。
　具体的には、本開示における変色性化合物は、（１）赤外線露光に起因して赤外線露光前より可視光領域の吸収が増加する化合物、（２）赤外線露光に起因して可視光領域の吸収を有するようになる化合物、（３）赤外線露光に起因して可視光領域に吸収を有しないようになる化合物が挙げられる。
　なお、本開示における赤外線は、７５０ｎｍ～１ｍｍの波長の光線であり、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長の光線であることが好ましい。

　変色性化合物としては、赤外線露光に起因して発色する化合物を含むことが好ましい。
　また、変色性化合物としては、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含むことが好ましく、中でも、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解する分解性化合物を含むことが好ましい。
　より具体的に言えば、本開示における変色性化合物は、赤外線露光に起因して分解し（より好ましくは、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解し）、赤外線露光前に比べて、可視光領域における吸収が増加するか、又は、吸収が短波長化し可視光領域に吸収を有するようになる化合物であることが好ましい。
　ここで、「電子移動により分解する」とは、赤外線露光によって変色性化合物のＨＯＭＯ（最高被占軌道）からＬＵＭＯ（最低空軌道）に励起した電子が、分子内の電子受容基（ＬＵＭＯと電位が近い基）に分子内電子移動し、それに伴って分解が生じることを意味する。

　以下、変色性化合物の一例である分解性化合物について説明する。
　分解性化合物は、赤外線波長域（７５０ｎｍ～１ｍｍの波長域、好ましくは７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長域）の少なくとも１部の光を吸収し、分解するものであればよいが、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長域に極大吸収を有する化合物であることが好ましい。
　より具体的には、分解性化合物は、赤外線露光に起因して分解し、５００ｎｍ～６００ｎｍの波長域に極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。

　分解性化合物は、露光部の視認性を高める観点から、赤外線露光により分解する基を有する、シアニン色素であることが好ましい。
　分解性化合物であるシアニン色素としては、国際公開第２０１９／２１９５６０号に記載の赤外線吸収性化合物を好適に用いることができる。

　また、上記変色性化合物は、酸発色剤を含んでいてもよい。
　酸発色剤としては、画像記録層において酸発色剤として記載したものを用いることができ、好ましい態様も同様である。

　変色性化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用してもよい。
　変色性化合物としては、既述の分解性化合物と後述の酸発生剤とを組み合わせて使用してもよい。

　最外層中の変色性化合物の含有量は、視認性の観点から、最外層の全質量に対し、０．１０質量％～５０質量％が好ましく、０．５０質量％～３０質量％がより好ましく、１．０　質量％～２０質量％が更に好ましい。

　上記最外層の上記変色性化合物の含有量Ｍ^Ｘと上記画像記録層の上記赤外線吸収剤の含有量Ｍ^Ｙとの比Ｍ^Ｘ／Ｍ^Ｙが、視認性の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上がより好ましく、０．３以上３．０以下が特に好ましい。

・酸発生剤
　上記最外層は、変色性化合物として酸発色剤を用いる場合に、酸発生剤を含むことが好ましい。
　本開示における「酸発生剤」とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、具体的には、赤外線露光によって分解し酸を発生する化合物をいう。
　発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のｐＫａが２以下の強酸であることが好ましい。酸発生剤から発生した酸によって、既述の酸発色剤が変色することができる。

　酸発生剤として具体的には、感度と安定性の観点から、オニウム塩化合物が好ましい。
　酸発生剤として好適なオニウム塩の具体例は、国際公開第２０１６／０４７３９２号の段落０１２１～段落０１２４に記載された化合物が挙げられる。
　中でも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムの、スルホン酸塩、カルボン酸塩、ＢＰｈ_４ ^－、ＢＦ_４ ^－、ＰＦ_６ ^－、ＣｌＯ_４ ^－などが好ましい。ここで、Ｐｈはフェニル基を表す。

　酸発生剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　最外層が酸発生剤を含む場合、酸発生剤の含有量は、最外層の全質量に対して、０．５質量％～３０質量％であることが好ましく、１質量％～２０質量％であることがより好ましい。

・添加剤
　上記最外層は、既述の成分以外にも、感脂化剤（例えば、画像記録層において記載した感脂化剤）、可塑剤、界面活性剤等の公知の添加物を含有してもよい。

　最外層は、公知の方法で塗布され、乾燥することで形成される。
　最外層の塗布量（固形分）は、０．０１ｇ／ｍ^２～１０ｇ／ｍ^２が好ましく、０．０２ｇ／ｍ^２～３ｇ／ｍ^２がより好ましく、０．１ｇ／ｍ^２～２．０ｇ／ｍ^２が特に好ましい。
　最外層の膜厚は、０．１μｍ～５．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～４．０μｍであることがより好ましい。

　最外層の膜厚は、後述する画像記録層の膜厚に対し、０．１倍～５．０倍であることが好ましく、０．２倍～３．０倍であることがより好ましい。

＜支持体＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
　支持体としては、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。
　支持体としては、親水性表面を有する支持体（以下、「親水性支持体」ともいう。）が好ましい。

　本開示における支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示における支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有することが好ましい。

　また、上記支持体は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましい。
　更に、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１５ｎｍ～１００ｎｍであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、１３ｎｍ以下であることが好ましい。

　図１は、アルミニウム支持体１２ａの一実施形態の模式的断面図である。
　アルミニウム支持体１２ａは、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０ａ（以後、単に「陽極酸化皮膜２０ａ」とも称する）とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体１２ａ中の陽極酸化皮膜２０ａが、アルミニウム板１８よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。

－陽極酸化皮膜－
　以下、陽極酸化皮膜２０ａの好ましい態様について説明する。
　陽極酸化皮膜２０ａは、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２ａを有する。マイクロポア２２ａは、画像記録層側の陽極酸化皮膜２０ａ表面（アルミニウム板１８側とは反対側の陽極酸化皮膜２０ａ表面）から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびる。

　陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径（平均開口径）は、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び、画像視認性のバランスの点から、１５ｎｍ～６０ｎｍがより好ましく、２０ｎｍ～５０ｎｍが更に好ましく、２５ｎｍ～４０ｎｍが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
　平均径が１０ｎｍを超える場合、耐刷性及び画像視認性に優れる。また、平均径が１００ｎｍ以下である場合、耐刷性に優れる。
　マイクロポア２２ａの平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を５０箇所測定し、平均した値である。
　なお、マイクロポア２２ａの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。

　マイクロポア２２ａの形状は特に制限されず、図１では、略直管状（略円柱状）であるが、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア２２ａの底部の形状は特に制限されず、曲面状（凸状）であっても、平面状であってもよい。

　支持体において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面からある深さの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置からある深さの位置までのびる小径孔部とから構成されていてもよい。
　例えば、図２に示すように、アルミニウム支持体１２ｂが、アルミニウム板１８と、大径孔部２４と小径孔部２６とから構成されるマイクロポア２２ｂを有する陽極酸化皮膜２０ｂとを含む形態であってもよい。
　例えば、陽極酸化皮膜２０ｂ中のマイクロポア２２ｂは、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１０００ｎｍ（深さＤ：図２参照）の位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置から更に深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部２６とから構成される。具体的には、例えば、特開２０１９－１６２８５５号公報の段落０１０７～０１１４に記載の態様を使用することができる。

－支持体の製造方法－
　本開示に用いられる支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程：アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程：粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程：陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム
板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
　以下、各工程の手順について詳述する。

＜＜粗面化処理工程＞＞
　粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。特開２０１９－１６２８５５号公報の段落００８６～０１０１に記載された方法で行うことができる。

＜＜陽極酸化処理工程＞＞
　陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、１００ｇ／Ｌ～３００ｇ／Ｌが挙げられる。
　陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ^２～６０Ａ／ｄｍ^２（好ましくは１Ａ／ｄｍ^２～６０Ａ／ｄｍ^２）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）、及び、皮膜量０．１ｇ／ｍ^２～５ｇ／ｍ^２（好ましくは０．２ｇ／ｍ^２～３ｇ／ｍ^２）が挙げられる。

＜＜ポアワイド処理＞＞
　ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径（ポア径）を拡大させる処理（孔径拡大処理）である。
　ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。

　支持体は、必要に応じて、画像記録層とは反対側の面に、特開平５－４５８８５号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平６－３５１７４号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物等を含むバックコート層を有していてもよい。

＜下塗り層＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層を有することが好ましい。なお、下塗り層は中間層と呼ばれることもある。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。

　下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、２種以上を混合して使用してもよい。

　下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
　支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＰＯ_３Ｈ_２、－ＯＰＯ_３Ｈ_２、－ＣＯＮＨＳＯ_２－、－ＳＯ_２ＮＨＳＯ_２－、－ＣＯＣＨ_２ＣＯＣＨ_３が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
　ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。

　具体的には、特開平１０－２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２－３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開２００５－２３８８１６号、特開２００５－１２５７４９号、特開２００６－２３９８６７号、特開２００６－２１５２６３号の各公報に記載の架橋性基（好ましくは、エチレン性不飽和結合基）、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
　より好ましいものとして、特開２００５－１２５７４９号及び特開２００６－１８８０３８号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。

　下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１ｍｍｏｌ～１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ～５．５ｍｍｏｌである。
　下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、１万～３０万がより好ましい。

－親水性化合物－
　下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
　親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
　親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
　また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物（例えば、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６－テトラヒドロキシ－ｐ－キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など）が好ましく挙げられる。

　親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
　また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
　上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、最外層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
　本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
　また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物（例えば、水溶液等）により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層（例えば、画像記録層又は下塗り層）に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
　下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を１１０°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。

　ヒドロキシカルボン酸とは、１分子中に１個以上のカルボキシ基と１個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる（岩波理化学辞典第５版、（株）岩波書店発行（１９９８）参照）。
　上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式（ＨＣ）で表されるものが好ましい。
　　Ｒ^ＨＣ（ＯＨ）_ｍｈｃ（ＣＯＯＭ^ＨＣ）_ｎｈｃ　　　　　　　式（ＨＣ）
　式（ＨＣ）中、Ｒ^ＨＣはｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基を表し、Ｍ^ＨＣはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、ｍｈｃ及びｎｈｃはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｍ^ＨＣは同じでも異なってもよい。

　式（ＨＣ）において、Ｒ^ＨＣで表されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基としては、ｍｈｃ＋ｎｈｃ価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び／又は連結基を有してもよい。
　炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２－ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－メチルベンジル基、１－メチル－１－フェニルエチル基、ｐ－メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１－プロペニルメチル基、２－ブテニル基、２－メチルアリル基、２－メチルプロペニルメチル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも１種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは１～５０である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの２価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。

　Ｍ^ＨＣで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
　また、Ｍ^ＨＣは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
　ｍｈｃとｎｈｃとの総数は、３以上が好ましく、３～８がより好ましく、４～６が更に好ましい。

　上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が６００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましく、３００以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、７６以上であることが好ましい。
　上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸（２－ヒドロキシ酪酸、３－ヒドロキシ酪酸、γ－ヒドロキシ酪酸等）、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体（サリチル酸、クレオソート酸（ホモサリチル酸、ヒドロキシ（メチル）安息香酸）、バニリン酸、シリング酸等）、ジヒドロキシ安息香酸誘導体（ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等）、トリヒドロキシ安息香酸誘導体（没食子酸等）、フェニル酢酸誘導体（マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等）、ヒドロケイヒ酸誘導体（メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等）等が挙げられる。

　これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を２個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を３個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を５個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を５個～８個有している化合物が特に好ましい。
　また、カルボキシ基を１個、ヒドロキシ基を２個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
　カルボキシ基を２個以上、ヒドロキシ基を１個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
　カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ２個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
　中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。

　親水性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．０質量％～３０質量％であることが特に好ましい。

　下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。

　下塗り層は、公知の方法で塗布される。
　下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ^２～３００ｍｇ／ｍ^２が好ましく、５ｍｇ／ｍ^２～２００ｍｇ／ｍ^２がより好ましい。

　本開示に係る平版印刷版原版は、上述した以外のその他の層を有していてもよい。
　その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を有することができる。例えば、支持体の画像記録層側とは反対側には、必要に応じてバックコート層が設けられていてもよい。

（平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法）
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）、及び、露光後の平版印刷版原版を印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程（機上現像工程）を含むことが好ましい。
　本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）と、印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（機上現像工程）と、得られた平版印刷版により印刷する工程（以下、「印刷工程」ともいう）と、を含むことが好ましい。

＜露光工程＞
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
　光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ^２～３００ｍＪ／ｃｍ^２であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
　画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。

　また、露光時のＳＤ（焦点深度）、Ｓｌｏｐｅ（レーザーの直線的な傾き）、Ｃｕｒｖｅ（レーザーの並び湾曲度）等の各パラメータ設定を別途行ってもよい。
　上記パラメータ設定においては、後述するインク及び湿し水を用いた現像を行ってもよいし、パラメータ設定用の画像状の露光を行ってもよいし、現像をインク及び湿し水以外の液で行ってもよい。上記インク及び湿し水以外の液としては、機上現像可能な液であればよく、例えば、現像液、フィニッシャー液、フィニッシャガム液等が挙げられる。
　また、現像をインク及び湿し水以外の液で行う場合、現像後に、版面を水等により洗浄してもよいし、画像部の視認性をより向上させるため、酸性溶液を版面に接触させてもよい。酸性溶液に含まれる酸としては、特に制限はないが、酢酸等のカルボン酸、クエン酸等のヒドロキシカルボン酸、及び、これらの塩等が好適に挙げられ、クエン酸が特に好ましい。また、酸性溶液の調製には、水、及び酸を溶解させる溶媒から選ばれる少なくとも１種を用いてもよい。

　酸性溶液の調製に用いられる溶媒としては、特に制限はないが、酸溶解性と機上現像性の観点から、水とエタノールからなる混合溶媒が好適に挙げられる。溶媒として、キッチン用アルコール除菌液を用いてもよい。上記現像、洗浄、及び、酸性溶液を接触させる方法には、特に制限はなく、公知の方法で行うことができる。例えば、スポンジ又はウエス等により版面に塗布する方法等が好適に挙げられる。

＜機上現像工程＞
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
　以下に、機上現像方式について説明する。

〔機上現像方式〕
　機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インクと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
　すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インクと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インク及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インク受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インクでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インクを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インク及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インク及び湿し水が好適に用いられる。

　本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源は上述したものが好ましく用いられる。

＜印刷工程＞
　本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インクを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
　印刷インクとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインクを用いることができる。また、印刷インクとしては、油性インク又は紫外線硬化型インク（ＵＶインク）が好ましく挙げられる。
　また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
　また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
　記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。

　本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、１００℃～５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。

＜他の態様＞
　本開示に係る平版印刷版の製版方法の別の態様は、本開示に係る平版印刷版原版を画像露光する工程（「画像露光工程」ともいう。）、及び、現像液を供給して上記未露光部を除去する現像工程（「現像液現像工程」ともいう。）を含む態様が挙げられる。
　上記製版方法を、以下「現像液処理方式」ともいう。
　本開示に係る平版印刷方法の別の態様は、本開示に係る平版印刷版原版を用いて平版印刷版を製版し、印刷する方法であり、本開示に係る平版印刷版原版を画像露光する工程（「画像露光工程」ともいう。）、現像液を供給して上記未露光部を除去する現像工程（「現像液現像工程」ともいう。）、及び、得られた平版印刷版により印刷する工程（「印刷工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
　「画像露光工程」、「現像液現像工程」、及び「印刷工程」は、いずれも、適用される平版印刷版原版に合わせ、公知の方法を適用すればよい。

　以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。

＜重合体Ｐ－１の合成例＞
　攪拌機、冷却管、窒素導入管、温度計を取り付けた２００ｍＬ三角フラスコに、モノメチルプロピレングリコール（富士フイルム和光純薬株式会社製）を１０．０ｇ入れて、内温を８０℃にして、窒素で置換した。モノマーＫ－１（商品名：サイラプレーンＴＭ－０７０１Ｔ　ＪＮＣ社製）を７．２ｇ、モノマーＨ－２３（２－ヒドロキシエチルメタクリレート　富士フイルム和光純薬株式会社製）を１０．８ｇ、２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル（富士フイルム和光純薬株式会社製）を０．７２ｇ、モノメチルプロピレングリコールを２８．８ｇ混合した溶液を２時間かけて滴下した。２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル０．０７ｇ、モノメチルプロピレングリコール３．３ｇの混合溶液を添加し、内温８０℃で１時間撹拌後、内温を１００℃にしてさらに２時間加熱し、重合体Ｐ－１を得た。
　得られた重合体Ｐ－１の重量平均分子量は２１６００、分子量分布は６．１（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＥｃｏＳＥＣ　ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ（東ソー社製））により溶離液ＴＨＦ、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、温度４０℃の測定条件にてポリスチレン換算で算出、使用カラムはＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー社製））であった。

＜重合体Ｐ－２の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－２４（２－ヒドロキシエチルアクリルアミド　東京化成工業株式会社製）に代えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－２を合成した。

＜重合体Ｐ－３の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－７（ｎ＝９）（商品名：ブレンマーＰＰ－５００　日油株式会社製）に代えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－３を合成した。

＜重合体Ｐ－４の合成例＞
　モノマーＫ－１の量を９．０ｇに変え、モノマーＨ－２３をモノマーＨ－７（ｎ＝９）（商品名：ブレンマーＰＰ－５００　日油株式会社製）に代え、モノマーＨ－７の量を９．０ｇにした以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－４を合成した。

＜重合体Ｐ－５の合成例＞
　モノマーＫ－１の量を１０．８ｇに変え、モノマーＨ－２３をモノマーＨ－７（ｎ＝９）（商品名：ブレンマーＰＰ－５００　日油株式会社製）に代え、モノマーＨ－７の量を７．２ｇにした以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－５を合成した。

＜重合体Ｐ－６の合成例＞
　モノマーＫ－１の量を５．４ｇに変え、モノマーＨ－２３をモノマーＨ－７（ｎ＝９）（商品名：ブレンマーＰＰ－５００　日油株式会社製）に代え、モノマーＨ－７の量を１２．６ｇにした以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－６を合成した。

＜重合体Ｐ－７の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－３（ｎ＝８）　（商品名：ブレンマーＰＥ－３５０
　日油株式会社製）に代え、モノマーＨ－３の量を１０．８ｇに変えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－７を合成した。

＜重合体Ｐ－８の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－３（ｎ＝８）　（商品名：ブレンマーＰＥ－３５０　日油株式会社製）に代え、モノマーＨ－３の量を０．８ｇに変えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－８を合成した。

＜重合体Ｐ－９の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－２５（ｎ＝６）　（商品名：ブレンマー１０ＰＰＢ－５００Ｂ　日油株式会社製）に代え、モノマーＨ－２５の量を１０．８ｇに変えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－９を合成した。

＜重合体Ｐ－１０の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－１４（ｍ＝３．５、ｎ＝２．５）　（商品名：ブレンマー５０ＰＥＰ－３００　日油株式会社製）に代え、モノマーＨ－１４の量を１０．８ｇに変えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－１０を合成した。

＜重合体Ｐ－１４の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－４（ｎ＝４）（商品名：ブレンマーＰＭＥ－２００　日油株式会社製）に代え、且つ、モノマーＨ－４の量を１０．８ｇに変えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－１４を合成した。

＜重合体Ｐ－１６の合成例＞
　モノマーＨ－２３を、モノマーＨ－４（ｎ＝４）（商品名：ブレンマーＰＭＥ－２００　日油株式会社製）に代え、且つ、モノマーＫ－１の量を５．４ｇに、モノマーＨ－４の量を１２．６ｇに変えた以外は、重合体Ｐ－１の合成例と同様にして、重合体Ｐ－１６を合成した。

　上述のようにして合成された重合体Ｐ－１～Ｐ－１０、Ｐ－１４及びＰ－１６の構造を以下に示す。また、以下に示す構造の重合体Ｐ－１１を用意した。
　なお、重合体Ｐ－１～Ｐ－１１、Ｐ－１４及びＰ－１６の重量平均分子量は、表３に示す。

　また、比較用重合体として、重合体Ｐ－１２（ＤＩＣ（株）製、メガファック（登録商標：Ｆ－１７６ＰＦ）と、下記構造の重合体Ｐ－１３と、重合体Ｐ－１５と、を用意した。
　なお、重合体Ｐ－１２、Ｐ－１３、及びＰ－１５の重量平均分子量は、表３に示す。

（実施例１～１６、１９、２５、２９、３０、比較例１～３、９：機上現像型平版印刷版原版）
＜支持体Ａの作製＞
（機械的粗面化処理（ブラシグレイン法））
　図５に示したような装置を使って、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ^３）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図５において、１はアルミニウム板、２及び４はローラ状ブラシ（本実施例において、束植ブラシ）、３は研磨スラリー液、５、６、７及び８は支持ローラである。
　機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、１分間当たりのブラシの回転数（ｒｐｍ：以下、同様）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。

（アルカリエッチング処理）
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ^２であった。

（酸性水溶液中でのデスマット処理）
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（電気化学的粗面化処理）
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図３に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図４に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ^２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ^２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。

（アルカリエッチング処理）
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ^２であった。

（酸性水溶液中でのデスマット処理）
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（電気化学的粗面化処理）
　塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図３に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図４に示すものを使用した。
　電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ^２であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ^２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。

（アルカリエッチング処理）
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ^２であった。

（酸性水溶液中でのデスマット処理）
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。

（第１段階の陽極酸化処理）
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
　なお、陽極酸化処理装置６１０において、アルミニウム板６１６は、図６中矢印で示すように搬送される。電解液６１８が貯溜された給電槽６１２にてアルミニウム板６１６は給電電極６２０によって（＋）に荷電される。そして、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２においてローラ６２２によって上方に搬送され、ニップローラ６２４によって下方に方向変換された後、電解液６２６が貯溜された電解処理槽６１４に向けて搬送され、ローラ６２８によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板６１６は、電解電極６３０によって（－）に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽６１４を出たアルミニウム板６１６は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置６１０において、ローラ６２２、ニップローラ６２４、及びローラ６２８によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２と電解処理槽６１４との槽間部において、上記ローラ６２２、６２４及び６２８により、山型及び逆Ｕ字型に搬送される。給電電極６２０と電解電極６３０とは、直流電源６３４に接続されている。給電槽６１２と電解処理槽６１４との間には、槽壁６３２が配置されている。

（ポアワイド処理）
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。

（第２段階の陽極酸化処理）
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

（第３段階の陽極酸化処理）
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第３段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

　以上の表面処理を経て、表１及び表２に記載の支持体Ａを得た。

　上記で得られた第２陽極酸化処理工程後のマイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径（ｎｍ）、小径孔部の連通位置における平均径（ｎｍ）、大径孔部及び小径孔部の深さ（ｎｍ）、ピット密度（マイクロポアの密度、単位；個／μｍ^２）、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み（ｎｍ）を、表２にまとめて示す。
　なお、マイクロポアの平均径（大径孔部及び小径孔部の平均径）は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（大径孔部及び小径孔部）の径を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合、及び、小径孔部中の拡径孔部の測定を行う場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
　マイクロポアの深さ（大径孔部及び小径孔部の深さ）は、支持体（陽極酸化皮膜）の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（大径孔部深さ観察：１５万倍、小径孔部深さ観察：５万倍）、得られた画像において、任意のマイクロポア２５個の深さを測定し、平均した値である。
　なお、表１中、第１陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）量と第２陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表１中の成分を含む水溶液である。

＜下塗り層Ａの形成＞
　支持体Ａ上に、下記組成の下塗り層用塗布液を乾燥塗布量が０．１ｇ／ｍ^２になるよう塗布して、下塗り層Ａを形成した。
－下塗り層用塗布液－
・下塗り層用化合物（上記Ｕ－１、１１％水溶液）：０．１０５０２部
・グルコン酸ナトリウム：０．０７００部
・界面活性剤（エマレックス（登録商標）　７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１５９部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株））：０．００１４９部
・水：２．８７１９部

＜画像記録層Ａの形成＞
　下塗り層Ａ上に、下記画像記録層Ａ用塗布液をバー塗布し、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ^２の画像記録層Ａを形成した。
－画像記録層Ａ用塗布液－
　赤外線吸収剤（下記ＩＲ－１）：０．０２７０部
　赤外線吸収剤（下記ＩＲ－２）：０．００８０部
　発色剤（下記Ｓ－１）：０．０３００部
　発色剤（下記Ｓ－２）：０．０１２０部
　オニウム系重合開始剤（下記Ｉ－１）：０．１０００部
　ボレート化合物（テトラフェニルホウ酸ナトリウム（ＴＰＢ））：０．０２００部
　重合性化合物（下記Ｍ－４）：０．２７２６部
　アニオン界面活性剤（下記Ａ－１）：０．０２００部
　下記表３に記載の重合体：表３に記載の量（添加量）
　２－ブタノン：４．９８３９部
　１－メトキシ－２－プロパノール：３．１００９部
　メタノール：３．１２３９部
　下記ミクロゲル液１：２．３２５６部

〔重合性化合物Ｍ－４の合成方法〕
　タケネートＤ－１６０Ｎ（ポリイソシアネート　トリメチロールプロパンアダクト体、三井化学（株）製、４．７部）、アロニックスＭ－４０３（東亞合成（株）製、タケネートＤ－１６０ＮのＮＣＯ価とアロニックスＭ－４０３の水酸基価が１：１となる量）、ｔ－ブチルベンゾキノン（０．０２部）、及びメチルエチルケトン（１１．５部）の混合溶液を６５℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタンＵ－６００（ビスマス系重縮合触媒、日東化成（株）製、０．１１部）を加え、６５℃で４時間加熱した。反応溶液を室温（２５℃）まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が５０質量％のウレタンアクリレート（重合性Ｍ－４）溶液を合成した。リサイクル型ＧＰＣ（機器：ＬＣ９０８－Ｃ６０、カラム：ＪＡＩＧＥＬ－１Ｈ－４０及び２Ｈ－４０（日本分析工業（株）製））を用いて、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の溶離液にて、ウレタンアクリレート溶液の分子量分画を実施した。重量平均分子量は２０，０００であった。

〔ミクロゲル液１の合成方法〕
－油相成分の調製－
　多官能イソシアネート化合物（ＰＭ－２００：万華化学社製）：６．６６ｇと、三井化学（株）製の「タケネート（登録商標）Ｄ－１１６Ｎ（トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）とｍ－キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）とポリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＯ９０）との付加物（下記構造）」の５０質量％酢酸エチル溶液：５．４６ｇと、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．２４ｇと、酢酸エチル：１４．４７ｇと、竹本油脂（株）製のパイオニン（登録商標）Ａ－４１－Ｃ：０．４５ｇを混合し、室温（２５℃）で１５分撹拌して油相成分を得た。

－水相成分の準備－
　水相成分として、蒸留水４７．２ｇを準備した。

－マイクロカプセル形成工程－
　油相成分に水相成分を添加して混合し、得られた混合物を、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１６分間乳化させて乳化物を得た。
　得られた乳化物に蒸留水１６．８ｇを添加し、得られた液体を室温で１０分撹拌した。
　次いで、撹拌後の液体を４５℃に加熱し、液温を４５℃に保持した状態で４時間撹拌することにより、上記液体から酢酸エチルを留去した。次いで、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．１２ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲル１の水分散液が得られた。ミクロゲル１の体積平均粒径はレーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ－９２０（（株）堀場製作所製）により測定したところ、１６５ｎｍであった。

＜最外層（保護層）Ａの形成＞
　画像記録層上に、下記保護層用塗布液をバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が０．１ｇ／ｍ^２の最外層（保護層）Ａを形成し、平版印刷版原版を作製した。
－保護層用塗布液－
　無機層状化合物分散液（１）：０．５６２５部
　親水性ポリマー（１）（下記化合物の２０％水溶液）：０．０８２５部
　メトローズＳＭ０４（メチルセルロース、信越化学工業（株）製、メトキシ置換度＝１．８）：０．０２５０部
　ラピゾールＡ－８０（アニオン界面活性剤、日油（株）製、８０％水溶液）：０．０００７部
　イオン交換水：４．３３００部

（実施例１７～１８、２６、３１、３２）
＜支持体Ｂの作製＞
　厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板（アルミニウム合金板）に対し、下記処理を施し、アルミニウム支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。

（アルカリエッチング処理）
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、及び、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ^２であった。

（酸性水溶液を用いたデスマット処理）
　次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。

（電気化学的粗面化処理）
　次に、塩酸濃度１３ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１５ｇ／Ｌ、及び、硫酸濃度１．０ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は２２℃で行った。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
　交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で３５Ａ／ｄｍ^２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で３００Ｃ／ｄｍ^２であり、電解処理は７５Ｃ／ｄｍ^２ずつ２．５秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。

（アルカリエッチング処理）
　電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、及び、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ^２であった。その後、水洗処理を行った。

（酸性水溶液を用いたデスマット処理）
　次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液としては、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は、３５℃であった。

（第１段階の陽極酸化処理）
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。電解液濃度１５０ｇ／Ｌ、温度５０℃、電流密度１５Ａ／ｄｍ２の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。

（ポアワイド処理）
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度４０℃、カセイソーダ濃度５質量％、及び、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。

（第２段階の陽極酸化処理）
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解液濃度１５０ｇ／Ｌ、温度５０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ^２の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体を作製した。

＜下塗り層Ｂの形成＞
　支持体Ｂ上に、下記組成の下塗り層用塗布液を乾燥塗布量が０．１ｇ／ｍ^２になるよう塗布して、下塗り層Ｂを形成した。
－下塗り層用塗布液－
・下塗り層用化合物（下記Ｕ－１、１１％水溶液）：０．０７８８部
・キレスト４００（キレート剤；キレスト（株）製）：０．０２８０部
・キレスト３ＥＡＦ（キレート剤；キレスト（株）製）：０．０４９９部
・界面活性剤（エマレックス（登録商標）　７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１５９部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株））：０．００１４９部
・水：２．８２１９部

＜画像記録層Ｂの形成＞
　下塗り層Ｂ上に、下記画像記録層Ｂ用塗布液をバー塗布し、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ^２の画像記録層Ｂを形成した。
－画像記録層Ｂ用塗布液－
　赤外線吸収剤（上記ＩＲ－１）：０．０２００部
　赤外線吸収剤（上記ＩＲ－２）：０．００５０部
　発色剤（上記Ｓ－１）：０．０３００部
　発色剤（上記Ｓ－２）：０．０１２０部
　オニウム系重合開始剤（上記Ｉ－１）：０．０９８１部
　ボレート化合物（テトラフェニルホウ酸ナトリウム（ＴＰＢ））：０．０２７０部
　重合性化合物（上記Ｍ－４、７０％）：０．３５３６部
　下記表３に記載の重合体：表３に記載の量（添加量）
　アニオン界面活性剤（上記Ａ－１、３０％）：０．１６２０部
　２－ブタノン：５．３１５５部
　１－メトキシ－２－プロパノール：２．８８２５部
　メタノール：２．３３９１部
　上記ミクロゲル液１：２．８７７９部

＜最外層Ｂ（保護層）の形成＞
　画像記録層Ｂ上に、下記保護層用塗布液をバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して、乾燥塗布量が０．４１ｇ／ｍ^２の最外層（保護層）Ｂを形成し、平版印刷版原版を作製した。
－保護層用塗布液－
　下記成分を混合し、保護層用塗布液を調製した。
　水：１．０１６１部
　メトローズＳＭ０４（メチルセルロース、信越化学工業（株）製、メトキシ置換度＝１．８）：０．０６００部
　ＦＳ－１０２（スチレン－アクリル樹脂、日本ペイント・インダストリアルコーティングス（株）製、Ｔｇ＝１０３℃、１７％水分散液）：０．１１７７部
　ラピゾールＡ－８０（アニオン界面活性剤、日油（株）製、８０％水溶液）：０．００６３部

（評価）
１．面状の評価
＜ムラの評価＞
　作製した平版印刷版原版を、４０ｃｍ×６２ｃｍに加工した。得られたサンプルの最外層側の表面を、７５０～１５００Ｌｕｘの白灯照射下で目視観察し、以下基準に沿って面状を評価した。結果を表３に示す。
－基準－
　Ａ：全面的にムラが視認されない。
　Ｂ：部分的に弱いムラが視認される。
　Ｃ：Ｂよりも広い領域にて部分的に弱いムラが視認される。
　Ｄ：全面に弱いムラが視認される。
　Ｅ：全面に強いムラが視認される。

＜ハジキの評価＞
　作製した平版印刷版原版のうち、上記画像記録層Ｂを有する実施例１７、１８、２６、３１、及び３２の平版印刷版原版については、面状の評価として、ムラの評価に加え、さらにハジキの評価を行った。
　実施例１７、１８、２６、３１、及び３２の平版印刷版原版を、１５ｃｍ×６２ｃｍに加工した。得られたサンプルの最外層側の表面を、７５０～１５００Ｌｕｘの白灯照射下で１０枚分目視観察し、塗布面に発生するハジキの合計個数を評価した。
　ハジキ個数が少ないほど、塗布面状が優れている。

２．機上現像性の評価
　作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のＫｏｄａｋ社製Ｍａｇｎｕｓ８００　Ｑｕａｎｔｕｍにて、出力２７Ｗ、外面ドラム回転数４５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（ｄｏｔ　ｐｅｒ　ｉｎｃｈ、１ｉｎｃｈは２．５４ｃｍ）の条件で露光（照射エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ^２相当）した。露光画像にはベタ画像、及び、ＡＭスクリーン（Ａｍｐｌｉｔｕｄｅ　Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ　Ｓｃｒｅｅｎ）５０％網点のチャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ－７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水Ｓ－Ｚ１（富士フイルム（株）製）２．０％の湿し水８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インクとしてＴ＆Ｋ　ＵＶ　ＯＦＳ　Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製）を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインクを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で特菱アート紙（連量：７６．５ｋｇ、三菱製紙（株）製）に２００枚印刷を行った。上記機上現像において、非画像部にインクが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数（以降、機上現像枚数ともいう）を求めた。機上現像枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。上記機上現像において、非画像部にインクが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として求めた。上記枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。結果を表３～表４に示す。

（実施例２０～２１、比較例４～５）
＜支持体Ｃ＞
　Ｓｉ：０．０６質量％、Ｆｅ：０．３０質量％、Ｃｕ：０．０１４質量％、Ｍｎ：０．００１質量％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理及びろ過を行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作成した。表面を平均１０ｍｍの厚さで面削機により削り取った後、５５０℃で、約５時間均熱保持し、温度４００℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を５００℃で行った後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板に仕上げた。このアルミニウム板を幅１０３０ｍｍにした後、以下に示す表面処理に供した。

－表面処理－
　表面処理は、以下の（ａ）～（ｊ）の各種処理を連続的に行うことにより実施した。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。

（ａ）機械的粗面化処理
　比重１．１２の研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は８μｍ、最大粒径は５０μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長は５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。

（ｂ）アルカリ剤によるエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度２．６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度７０℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を１０ｇ／ｍ^２溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。

（ｃ）デスマット処理
　温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。

（ｄ）電気化学的粗面化処理
　６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、液温８０℃であった。交流電源波形は図３に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図４に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ^２、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ２であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。

（ｅ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ^２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。

（ｆ）デスマット処理
　温度３０℃の硝酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）
　で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。

（ｇ）陽極酸化処理
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電電極長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度４３℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ^２であった。

（ｈ）アルカリ金属ケイ酸塩処理陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダの１質量％水溶液の処理層中へ、１０秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。

＜下塗り層Ｃの形成＞
　支持体Ｃ上に、下記組成の下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥し、下塗り層Ｃを形成した。乾燥後の下塗り層の被覆量は１５ｍｇ／ｍ^２であった。

－下塗り層用塗布液－
・下記高分子化合物１：０．３部
・メタノール：１００部
・水：１部

＜画像記録層Ｃ１の形成＞
　下塗り層Ｃ上に、以下の下部画像記録層用塗布液を塗布量が０．８５ｇ／ｍ^２になるよう塗布した後、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１４０℃で５０秒間乾燥し、その後、上部画像記録層用塗布液を塗布量が０．１５ｇ／ｍ^２になるよう塗布した後、１２０℃で１分間乾燥し、画像記録層Ｃ１を形成した。これにより、実施例２０及び比較例４の平版印刷版原版を得た。

－下部記録層用塗布液－
・Ｎ－（４－アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／アクリロニトリル／メタクリル酸メチル共重合体（共重合比：３５／３０／３５：重量平均分子量５００００）：２．３７部
・ｍ，ｐ－クレゾールノボラック：０．４７部
・シアニン染料Ａ（下記構造）：０．１３部
・４，４’－ビスヒドロキシフェニルスルホン：０．１１部
・無水テトラヒドロフタル酸：０．１５部
・ｐ－トルエンスルホン酸：０．０１部
・３－メトキシ－４－ジアゾジフェニルアミンヘキサフルオロホスフェート：０．０３部・クリスタルバイオレットの対アニオンをナフタレンスルホン酸に変えたもの：０．１０部
・下記表４に記載の重合体：０．０３５部
・メチルエチルケトン：２４部
・２－メトキシ－１－プロパノール：１３部
・γ－ブチロラクトン：１４部

－上部画像記録層用塗布液－
・ｍ，ｐ－クレゾールノボラック：０．２８５部
・メタクリル酸エチル／メタクリル酸イソブチル／メタクリル酸共重合体（共重合比：５０／２０／３０：重量平均分子量４２０００）：０．０６部
・シアニン染料Ａ（下記構造）：０．０７５部
・スルホン酸塩Ａ（下記構造）：０．０６０部
・下記表４に記載の重合体：０．０３５部
・メチルエチルケトン：１５．１部
・１－メトキシ－２－プロパノール：７．７部

＜画像記録層Ｃ２＞
　下塗り層Ｃ上に、以下の画像記録層Ｃ２用塗布液を塗布量が１．３ｇ／ｍ^２になるよう塗布したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１５０℃で４０秒間乾燥し、画像形成層Ｃ２を形成した。これにより、実施例２１及び比較例５の平版印刷版原版を得た。
－画像記録層Ｃ２用塗布液－
・ノボラック樹脂（ｍ－クレゾール／ｐ－クレゾール／フェノール＝３／２／５、Ｍｗ８，０００）：３．５部
・下記構造のノボラック樹脂：０．６８部
・赤外線吸収剤（上記シアニン染料Ａ）：０．０４５部
・エチルバイオレットの対アニオンを６－ヒドロキシ－β－ナフタレンスルホン酸にした染料：０．１５部
・ビスフェノールスルホン：０．３部
・テトラヒドロフタル酸：０．４部
・下記表４に記載の重合体：０．０２部
・メチルエチルケトン：３０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル：１５部
・γ－ブチロラクトン：１５部

（実施例２２、比較例６）
＜支持体Ｄの作製＞
　厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０）を用いて以下の（ａ）～（ｅ）の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。

（処理（ａ））
　厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０）の表面の圧延油を除去するため、１０質量％アルミン酸ソーダ水溶液を用いて５０℃で３０秒間、脱脂処理を施した後、毛径０．３ｍｍの束植ナイロンブラシ３本とメジアン径３０μｍのパミス－水懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ^３）を用いブラシ回転数２５０ｒｐｍでアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。

（処理（ｂ））
　この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに６０℃で２０％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ^２であった。

（処理（ｃ））
　次に、６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ^２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量１７５Ｃ／ｄｍ^２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。

（処理（ｄ））
　次に、塩酸０．５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）、液温５０℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量５０Ｃ／ｄｍ^２の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。

（処理（ｅ））
　この板を、１５％硫酸（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ^２で２．５ｇ／ｍ２の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥し支持体Ａとした。この基板の中心線平均粗さ（Ｒａ）を直径２μｍの針を用いて測定したところ、０．５１μｍであった。
　以上のようにして支持体Ｄを作製した。

＜下塗り層Ｄの形成＞
　支持体Ｄ上に、下記下塗り層用塗布液を、乾燥後の塗布量は５ｍｇ／ｍ^２となるように塗布し、１００℃１０秒間乾燥して、下塗り層Ｄを形成した。
－下塗り層用塗布液－
・下記構造の高分子化合物ａ－１（Ｍｗ：３５，０００）：０．０５ｇ
・メタノール：２７ｇ
・イオン交換水：３ｇ

＜画像記録層Ｄ＞
　下塗り層Ｄ上に、下記組成の画像記録層Ｄ用塗布液を調製し、乾燥後の塗布量が１．０ｇ／ｍ^２となるように塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で３４秒間乾燥して画像記録層Ｄを形成した。
－画像記録層Ｄ用塗布液－
・赤外線吸収剤（下記ＩＲ－１）：０．０４０部
・重合開始剤Ａ（下記Ｓ－１）：０．１０４部
・重合開始剤Ｂ（下記Ｉ－１）：０．１５３部
・メルカプト化合物（下記ＳＨ－１）：０．０３８部
・増感助剤（下記Ｔ－１）：０．１２１部
・重合性化合物（下記Ｍ－１）：０．５３５部
・ウレタン系バインダーポリマーＡ（下記ポリウレタン樹脂（Ｐ－１）、Ｍｗ：１０００００）：０．１０７部
・アクリル系バインダーポリマーＢ（下記アクリル樹脂Ｂ－１、Ｍｗ：１０００００）：０．２６７部　
・アクリル系バインダーポリマーＣ（下記アクリル樹脂Ｃ－１、Ｍｗ：１０００００）：０．１６０部
・銅フタロシアニン顔料分散物：０．７７５部
（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１５：６、分散溶媒：ＭＥＫ／ＭＦ部／ＭＡ＝　２／２／１、顔料固形分１５ｗｔ％）
・重合禁止剤（下記Ｑ－１）：０．００１５部
・下記表５に記載の重合体：０．０２部
・メチルエチルケトン：６．４８１部
・メタノール：２．７３８部
・１－メトキシ－２－プロパノール：５．１１９部

＜最外層（保護層）Ｄの形成＞
　画像記録層Ｄ上に、合成雲母（ソマシフＭＥＢ－３Ｌ、３．２％水分散液、コープケミカル（株）製）、ポリビニルアルコール（ゴーセランＣＫＳ－５０：ケン化度９９モル％、重合度３００、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業株式会社製）界面活性剤Ａ（日本エマルジョン社製、エマレックス７１０）及び界面活性剤Ｂ（アデカプルロニック（登録商標）Ｐ－８４：旭電化工業株式会社製）の混合水溶液（下部保護層用塗布液）を塗布し、温風式乾燥装置にて１２５℃で３０秒間乾燥させた。この混合水溶液（下部保護層用塗布液）中の合成雲母（固形分）／ポリビニルアルコール／界面活性剤Ａ／界面活性剤Ｂの含有量割合は、７．５／８９／２／１．５（質量部）であり、塗布量は（乾燥後の被覆量）は０．５ｇ／ｍ^２であった。
　得られた下部保護層上に、有機フィラー（アートパールＪ－７Ｐ、根上工業（株）製）、合成雲母（ソマシフＭＥＢ－３Ｌ、３．２％水分散液、コープケミカル（株）製）、ポリビニルアルコール（Ｌ－３２６６：ケン化度８７モル％、重合度３００、スルホン酸変性ポリビニルアルコール日本合成化学工業株式会社製）、増粘剤（セロゲンＦＳ－Ｂ、第一工業製薬（株）製）、高分子化合物Ａ（下記構造）、及び界面活性剤（日本エマルジョン社製、エマレックス７１０）の混合水溶液（上部保護層用塗布液）を塗布し、温風式乾燥装置にて１２５℃で３０秒間乾燥させた。この混合水溶液（上部保護層用塗布液）中の有機フィラー／合成雲母（固形分）／ポリビニルアルコール／増粘剤／高分子化合物Ａ／界面活性剤の含有量割合は、４．７／２．８／６７．４／１８．６／２．３／４．２（質量部）であり、塗布量は（乾燥後の被覆量）は１．８ｇ／ｍ^２であった。

（実施例２３、比較例７）
＜支持体Ｅの作製＞
　厚さ０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ_３で中和洗浄、水洗した。これをＶＡ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ^２の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ２ＳＯ４水溶液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ２ＳＯ４水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ２において５０秒間陽極酸化したところ、厚さが２．６ｇ／ｍ^２であった。これを支持体Ｅとした。

＜下塗り層Ｅの形成＞
　支持体Ｅ上に、下記の下塗り層用塗布液を、バーコーターを用いて乾燥後の塗布量２ｍｇ／ｍ^２となるよう塗布し、８０℃で２０秒間乾燥して、下塗り層Ｅを形成した。
－下塗り層用塗布液－
・ポリマー（下記構造）：０．３部
・純水：６０．０部　　　
・メタノール：９３９．７部

＜画像記録層Ｅ＞
　下塗り層Ｅ上に、バーコーターを用いて下記組成の画像記録層Ｅ用塗布液を、乾燥後の塗布量が１．３５ｇ／ｍ^２となるよう塗布し、９０℃で１分間乾燥し、画像記録層Ｅを形成した。
－画像記録層Ｅ用塗布液－
・デグサ社製ＰＬＥＸ６６６１－Ｏ：１．６９部　
・バインダーポリマーＰＰ－３（下記構造）：１．８７部
・増感色素Ｄ４０（下記構造）：０．１３部
・ＢＩＭＤ（黒金化成社製ヘキサアリールビスイミダゾール）：０．４６部
・ε－フタロシアニン（下記Ｆ－１）分散物（２５％ＭＥＫ分散液）：１．７０部
・メルカプト基含有ヘテロ環化合物ＳＨ－８（下記構造）：０．３４部
・下記表５に記載の重合体：０．０３部
・クペロンＡＬ（和光（株）社製）トリクレジルホスフェート１０％溶液：０．１２部
・メチルエチルケトン：２７．０部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル：２６．７部
・Ｓ－２３５８　Ｙｅｌｌｏｗ（大日精化工業（株）社製）：０．５０部

＜最外層（保護層）Ｅの形成＞
　画像記録層Ｅ上に、以下の保護層用水溶液を、乾燥後の塗布量が２．５ｇ／ｍ^２となるようにバーコーターで塗布し、１２０℃で１分間乾燥させ、最外層（保護層）Ｅを形成した。
－保護層用水溶液－
・ＰＶＡ１０５（ケン化度９８モル％、クラレ（株）製）：１．８０部
・ポリビニルピロリドン：０．４０部　
・ＥＭＡＬＥＸ７１０（日本乳化剤（株）製ノニオン界面活性剤）：０．０４部
・パイオニンＤ２３０（竹本油脂（株）製界面活性剤）：０．０５部
・ルビスコールＶ６４Ｗ（ＢＡＳＦ社製）：０．０６部
・下記構造のスルホン酸基含有ポリマー１３％水溶液：０．３６部
・純水：３６．０部

（実施例２４、比較例８）
＜支持体Ｆの作製＞
　厚さ０．０３ｍｍのアルミニウム板（ＪＩＳ　Ａ１０５０）を用いて以下の表面処理を行なった。

（電気化学的粗面化処理）
　６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、液温５０℃であった。電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ^２、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ^２であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。

（アルカリエッチング処理）
　アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．５０ｇ／ｍ^２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。

（デスマット処理）
　温度３０℃の硫酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。

（電気化学的粗面化処理）
　６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸５．０ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ含む。）、温度３５℃であった。電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ^２、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ^２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。

（陽極酸化処理）
　二段給電電解処理法の陽極酸化装置（第一及び第二電解部長各６ｍ、第一及び第二給電部長各３ｍ、第一及び第二給電極部長各２．４ｍ）を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液は、いずれも、硫酸濃度５０ｇ／Ｌ（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度２０℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ^２であった。

（親水化処理）
　純水にポリビニルホスホン酸（ＰＣＡＳ社製）を０．４質量％溶解させた５３℃の処理液に１０秒浸漬し、ニップローラにて余剰の処理液を除去した。この後に、カルシウムイオン濃度を２０～４００ｐｐｍ含む６０℃の井水にて４秒間水洗し、更に２５℃の純水で４秒間洗浄し、ニップロールにて余剰の純水を除去した。その後の乾燥工程にてアルミニウム板上の水分を完全に除去した
　得られた支持体Ｆの中心線平均粗さ（ＪＩＳ　Ｂ０６０１によるＲａ表示）を直径２μｍの針を用いて測定したところ０．２８μｍであった。

＜画像記録層Ｆの形成＞
　支持体Ｆ上に、下記組成の画像記録層Ｆ用塗布液を乾燥塗布質量が１．４ｇ／ｍ^２となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させて画像記録層Ｆを形成した。
－画像記録層Ｆ用塗布液－
・重合性化合物（化合物Ａ）：４．０部
・バインダーポリマー（バインダーＡ）（Ｍｗ＝５００００）：２．０部
・増感色素（Ｃ－１）：０．３２部
・重合開始剤（Ｄ－１）：０．６１部
・連鎖移動剤（Ｅ－１）：０．５７部
・Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩：０．０２０部
・ε―フタロシアニン顔料（Ｆ１）分散物：０．７１部
（顔料：１５部、分散剤　下記ポリマー（１）：１０部、
・溶剤：シクロヘキサノン／メトキシプロピルアセテート／１－メトキシ－２－プロパノール＝１５部／２０部／４０部
・下記表５に記載の重合体：０．０１６部
・メチルエチルケトン：４７部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル：４５部

＜最外層（保護層）Ｆの形成＞
　画像記録層Ｆ上に、下記組成の保護層用塗布液を、乾燥後の塗布量が２５ｇ／ｍ^２となるようにバー塗布した後、１２５℃で７０秒間オーブン乾燥し、最外層（保護層）Ｆを形成した。
－保護層用塗布液－
・下記雲母分散液：０．６ｇ
・スルホン酸変性ポリビニルアルコール（ゴーセランＣＫＳ－５０、日本合成化学（株）製（ケン化度：９９モル％、平均重合度：３００、変性度：約０．４モル％））：０．８ｇ
・ポリ（ビニルピロリドン／酢酸ビニル（１／１））（分子量：７万）：０．００１ｇ
・界面活性剤（エマレックス（登録商標）７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００２ｇ
・水：１３ｇ

（雲母分散液）
　水３６８ｇに合成雲母（ソマシフＭＥ－１００、コープケミカル社製、アスペクト比：１０００以上）３２ｇを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）０．５μｍになる迄分散し、雲母分散液を得た。

（評価）
１．面状の評価
　作製した平版印刷版原版を、４０ｃｍ×６２ｃｍに加工した。得られたサンプルの最外層側の表面を、７５０～１５００Ｌｕｘの白灯照射下で目視観察し、以下基準に沿って面状を評価した。結果を表５に示す。
－基準－
　Ａ：全面的にムラが視認されない
　Ｂ：部分的に弱いムラが視認される
　Ｃ：全面に弱いムラが視認される
　Ｄ：全面に強いムラが視認される

（実施例２７、２８）
＜支持体Ｇ＞
　厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板（アルミニウム合金板）に対し、下記（Ｊ－ａ）～（Ｊ－ｍ）の処理を施し、支持体Ｇを製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。

（Ｊ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
　図５に示したような装置を使って、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ^３）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図５において、３１はアルミニウム板、３２及び３４はローラ状ブラシ（本実施例においては、束植ブラシ）、３３は研磨スラリー液、３５、３６、３７及び３８は支持ローラである。
　機械的粗面化処理では、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は、３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。

（Ｊ－ｂ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％及びアルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ^２であった。

（Ｊ－ｃ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
　酸性水溶液として、液温３５℃の次工程の電気化学的粗面化処理に用いた硝酸の廃液をアルミニウム板にスプレーにて３秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。

（Ｊ－ｄ）硝酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
　６０Ｈｚの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した、液温３５℃の電解液を用いた。交流電源波形は図３に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図４に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ^２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ^２であった。

（Ｊ－ｅ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２７質量％及びアルミニウムイオン濃度２．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、３．５ｇ／ｍ^２であった。

（Ｊ－ｆ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
　酸性水溶液として、液温３０℃の硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液をアルミニウム板にスプレーにて３秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。

（Ｊ－ｇ）塩酸水溶液を用いた電気化学的粗面化処理
　６０Ｈｚの交流電圧を用いて、連続的に電気化学的粗面化処理を行った。電解液は、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した、液温３５℃の電解液を用いた。交流電源波形は図３に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図４に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ^２であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ^２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ^２であった。

（Ｊ－ｈ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度６０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。アルミニウム溶解量は、０．２ｇ／ｍ^２であった。

（Ｊ－ｉ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
　酸性水溶液として、液温３５℃の陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌ）の水溶液をアルミニウム板にスプレーにて４秒間吹き付けて、デスマット処理を行った。

（Ｊ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。電解液として１７０ｇ／Ｌ硫酸水溶液を用い、液温５０℃、電流密度３０Ａ／ｄｍ^２の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量０．３ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を形成した。

（Ｊ－ｋ）ポアワイド処理
　陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に、４０℃で３秒間浸漬し、ポアワイド処理を行った。

（Ｊ－ｌ）第２段階の陽極酸化処理
　図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。電解液として１７０ｇ／Ｌ硫酸水溶液を用い、液温５０℃、電流密度１３Ａ／ｄｍ^２の条件にて陽極酸化処理を行い、皮膜量２．６ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を形成した。

（Ｊ－ｍ）親水化処理
　非画像部の親水性を確保するため、アルミニウム板を、２．５質量％３号ケイ酸ソーダ水溶液に５０℃で７秒間浸漬してシリケート処理を施した。Ｓｉの付着量は８．５ｍｇ／ｍ^２であった。マイクロポアの平均径は３０ｎｍであった。
　支持体Ｇの陽極酸化皮膜表面のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値は７２．３であった。
　支持体Ｇの陽極酸化皮膜量は２．６ｇ／ｍ^２であった。

＜下塗り層Ｇの形成＞　
　上記で得た支持体Ｇ上に、下記組成の下塗り層塗布液Ｇを乾燥塗布量が２６ｍｇ／ｍ^２になるよう塗布して、下塗り層Ｇを形成した。

（下塗り層塗布液Ｇ）
・下塗り層用化合物（２）（下記構造）：０．１３部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸：０．０５部
・エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム：０．０５部
・ポリオキシエチレンラウリルエーテル：０．０３部
・水：６１．３９部

＜画像記録層Ｇの形成＞
　下塗り層Ｇ上に、下記組成の画像記録層Ｇ用塗布液をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥し、厚さ１．２μｍの画像記録層Ｇを形成した。
　画像記録層Ｇ用塗布液は、下記感光液Ｇ及びミクロゲル液（１）を塗布直前に混合し、撹拌することにより得た。
（感光液Ｇ）
・バインダーポリマー（１）（下記構造）の２３質量％１－メトキシ－２－プロパノール溶液：０．３７５０部
・バインダーポリマー（２）（下記構造）の２３質量％１－メトキシ－２－プロパノール溶液：０．３８３４部
・赤外線吸収剤（１）（下記構造）：０．０１８５部
・ボレート化合物（１）（テトラフェニルホウ酸ナトリウム）：０．００４０部
・重合開始剤（１）（下記構造）：０．１２５０部
・重合性化合物（１）（トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ＮＫエステルＡ－９３００ ４０％　２－ブタノン溶液、新中村化学工業（株）製）：０．２０５０部
・低分子親水性化合物（１）（トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート）：０．０２８７部
・低分子親水性化合物（２）（トリメチルグリシン）：０．０１４７部
・アニオン性界面活性剤１(下記構造）の３０質量%水溶液：０．２４０部
・紫外線吸収剤（１）（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ（株）社製）（下記構造）：０．０４０部
・重合体Ｐ－１４（上記構造）：０．００４部
・ホスホニウム化合物（１）（下記構造）：０．０２５部
・アンモニウム基含有ポリマー（１）（下記構造、還元比粘度４４ｍｌ／ｇ）：０．０３０部
・ベンジルジメチルオクチルアンモニウム・ＰＦ_６塩：０．０２３部
・２－ブタノン：５．３９１部
・１－メトキシ－２－プロパノール：３．１５４部
・メタノール：１．１１７部

（ミクロゲル液（１））
・ミクロゲル（１）（固形分濃度２１．８質量％）：２．２４３部
・１－メトキシ－２－プロパノール：０．６００部

（ミクロゲル（１）の作製）
　上記ミクロゲル液（１）に用いたミクロゲル（１）の調製法を以下に示す。

＜多価イソシアネート化合物（１）の調製＞
　イソホロンジイソシアネート１７．７８部（８０モル当量）と下記多価フェノール化合物（１）７．３５部（２０モル当量）との酢酸エチル（２５．３１部）懸濁溶液に、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）（ネオスタン　Ｕ－６００、日東化成（株）製）０．０４３部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。

＜ミクロゲル（１）の調製＞
　下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．２０部を加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２１．８質量％になるように調整し、ミクロゲル（１）の水分散液を得た。動的光散乱式粒径分布測定装置ＬＢ－５００（（株）堀場製作所製）を用いて、光散乱法により体積平均粒径を測定したところ、０．２８μｍであった。

（油相成分）
　（成分１）酢酸エチル：１２．０部
　（成分２）トリメチロールプロパン（６モル）とキシレンジイソシアネート（１８モル）を付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン（１モル、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学（株）製）：３．７６部
　（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０部
　（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４部
　（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ－４１－Ｃ、竹本油脂（株）製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２部

（水相成分）
　蒸留水：４６．８７部

＜バインダーポリマー（１）の合成＞
　三口フラスコに、１－メトキシ－２－プロパノール：７８．０ｇを秤取り、窒素気流下、７０℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーＰＭＥ－１００（メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日油（株）製）：５２．１ｇ、メチルメタクリレート：２１．８ｇ、メタクリル酸：１４．２ｇ、ヘキサキス（３－メルカプトプロピオン酸）ジペンタエリスリトール：２．１５ｇ、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．３８ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：５４ｇからなる混合溶液を２時間３０分かけて滴下した。滴下終了後、８０℃に昇温し、更に２時間反応を続けた。Ｖ－６０１：０．０４ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：４ｇから成る混合溶液を加え、９０℃に昇温して２．５時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
　上記の反応溶液に１－メトキシ－２－プロパノール：１３７．２ｇ、４－ヒドロキシテトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシド：０．２４ｇ、グリシジルメタクリレート：２６．０ｇ、テトラエチルアンモニウムブロミド：３．０ｇを加えてよく撹拌した後、９０℃にて加熱した。
　１８時間後、室温（２５℃）まで反応溶液を冷却した後、１－メトキシ－２－プロパノール：９９．４ｇを加えて希釈した。
　こうして得られたバインダーポリマー（１）は、固形分濃度：２３質量％、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量は３．５万であった。

＜バインダーポリマー（２）の合成＞
　三口フラスコに、１－メトキシ－２－プロパノール：７８．００ｇを秤取り、窒素気流下、７０℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーＰＭＥ－１００（メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日油（株）製）：６５．８ｇ、メチルメタクリレート：２８．４ｇ、メタクリル酸：２．８ｇ、ヘキサキス（３－メルカプトプロピオン酸）ジペンタエリスリトール：６．４ｇ、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル、富士フイルム和光純薬（株）製）：１．１ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：５５ｇからなる混合溶液を２時間３０分かけて滴下した。滴下終了後、８０℃に昇温し、更に２時間反応を続けた。２時間後、Ｖ－６０１：０．１１ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：１ｇから成る混合溶液を加え、９０℃に昇温して２．５時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
　上記の反応溶液に１－メトキシ－２－プロパノール：１７７．２ｇ、４－ヒドロキシテトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシド：０．２８ｇ、グリシジルメタクリレート：４６．０ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド：３．４ｇを加えてよく撹拌した後、９０℃にて加熱した。
　１８時間後、室温（２５℃）まで反応溶液を冷却した後、４－メトキシフェノール：０．０６ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：１１４．５ｇを加えて希釈した。
　こうして得られたバインダーポリマー（２）は、固形分濃度：２３質量％、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量は５．０万であった。

＜画像記録層Ｈの形成＞
　下塗り層Ｇ上に、下記組成の画像記録層Ｈ用塗布液をバー塗布し、１００℃で６０秒間オーブン乾燥し、厚さ１．２μｍの画像記録層Ｈを形成した。
　画像記録層Ｈ用塗布液は下記感光液Ｈ及びミクロゲル液（１）を塗布直前に混合し、撹拌することにより得た。

（感光液Ｈ）
・バインダーポリマー（１）（上記構造）の２３質量％１－メトキシ－２－プロパノール溶液：０．２８９１部
・バインダーポリマー（３）(下記構造）の２３質量％１－メトキシ－２－プロパノール溶液：０．４５７４部
・赤外線吸収剤（１）（下記構造）：０．０２７８部
・ボレート化合物（１）（テトラフェニルホウ酸ナトリウム）：０．０１５部
・重合開始剤（１）（下記構造）：０．２３４８部
・重合性化合物（１）（トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ＮＫエステルＡ－９３００ ４０％　２－ブタノン溶液、新中村化学工業（株）製）０．２８７５部
・低分子親水性化合物（１）（トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート）：０．０２８７部
・低分子親水性化合物（２）（トリメチルグリシン）：０．０１４７部
・アニオン性界面活性剤１　３０質量%水溶液(下記構造）：０．２５部
・紫外線吸収剤（１）（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ（株）社製）（下記構造）：０．０４部
・重合体Ｐ－１４（上記構造）：０．００４部
・ホスホニウム化合物（１）（下記構造）：０．０２０部
・２－ブタノン：５．３４６部
・１－メトキシ－２－プロパノール：３．１２８部
・メタノール：０．９６４部
・純水：０．０３６部

（ミクロゲル液（１））
・ミクロゲル（１）（固形分濃度２１．８質量％）：２．３４５部
・１－メトキシ－２－プロパノール：０．６５５部

（ミクロゲル（１）の作製）
　上記ミクロゲル（１）は、画像記録層Ｇ用塗布液に用いたミクロゲル（１）と同様にして作製した。

＜バインダーポリマー（３）の合成＞
　三口フラスコに、１－メトキシ－２－プロパノール：７８．００ｇを秤取り、窒素気流下、７０℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーＰＭＥ－１００（メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日本油脂（株）製）：５２．８ｇ、メチルメタクリレート：２．８ｇ、メタクリル酸：２５．０ｇ、ヘキサキス（３－メルカプトプロピオン酸）ジペンタエリスリトール：６．４ｇ、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル、和光純薬工業（株）製）：１．１ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：５５ｇからなる混合溶液を２時間３０分かけて滴下した。滴下終了後、８０℃に昇温し、更に２時間反応を続けた。２時間後、Ｖ－６０１：０．１１ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：１ｇから成る混合溶液を加え、９０℃に昇温して２．５時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
　上記の反応溶液に１－メトキシ－２－プロパノール：１７７．２ｇ、４－ヒドロキシテトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシド：０．２８ｇ、グリシジルメタクリレート：４６．０ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド：３．４ｇを加えてよく撹拌した後、９０℃にて加熱した。
　１８時間後、室温（２５℃）まで反応溶液を冷却した後、４－メトキシフェノールを０．０６ｇ、１－メトキシ－２－プロパノール：１１４．５ｇを加えて希釈した。
　こうして得られたバインダーポリマー（３）は、固形分濃度：２３質量％、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量は１．５万であった。

＜保護層Ｇの形成＞
　画像記録層Ｇ上に、下記組成の保護層塗布液Ｇをバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して厚さ０．１５μｍの保護層Ｇを形成した。

(保護層用塗布液Ｇ)
　無機層状化合物分散液（１）：１．７９９部
　親水性ポリマー（１）（下記化合物の２０％水溶液）：０．２６４部
　ポリビニルアルコール（日本合成化学工業（株）製ＣＫＳ５０、スルホン酸変性、けん化度９９モル％以上、重合度３００）６質量％水溶液：０．０１２部
　ポリビニルアルコール（（株）クラレ製ＰＶＡ－４０５、けん化度８１．５モル％、重合度５００）６質量％水溶液：０．００１部
　ラピゾールＡ－８０（アニオン界面活性剤、日油（株）製、８０％水溶液）：０．１４５部
　イオン交換水：５．３３７９部

（無機層状化合物分散液（１）の調製）
　イオン交換水１９３．６部に合成雲母ソマシフＭＥ－１００（コープケミカル（株）製）６．４部を添加し、ホモジナイザーを用いて体積平均粒子径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散して無機層状化合物分散液（１）を調製した。分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。

＜保護層Ｈの形成＞
　画像記録層Ｈ上に、下記組成の保護層塗布液Ｈをバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブン乾燥して厚さ０．１８μｍの保護層Ｈを形成した。

（保護層塗布液Ｈ）
・無機層状化合物分散液（１）：２．２１２部
・ポリビニルアルコール（ゴーセランＬ－３２６６、日本合成化学工業（株）製、スルホン酸変性、けん化度８５モル％）６質量％水溶液：１．４４０部
・リン酸：０．０２０部
・リン酸第二アンモニウム：０．０３２部
・界面活性剤（パイオニンＡ－３２－Ｂ（下記）、竹本油脂(株)製）４０質量％水溶液：０．０１４部
・界面活性剤（サーフィノール４６５（下記）、日信化学（株）製）：０．００６部
・純水：３．９５５部

（無機層状化合物分散液（１）の調製）
　イオン交換水１９３．６部に合成雲母ソマシフＭＥ－１００（コープケミカル（株）製）６．４部を添加し、ホモジナイザーを用いて体積平均粒子径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散して無機層状化合物分散液（１）を調製した。分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。

（評価）
１．面状の評価
　作製した平版印刷版原版を、４０ｃｍ×６２ｃｍに加工した。得られたサンプルの最外層側の表面を、７５０～１５００Ｌｕｘの白灯照射下で目視観察し、以下基準に沿って面状を評価した。結果を表３～表４に示す。
－基準－
　Ａ：全面的にムラが視認されない。
　Ｂ：部分的に弱いムラが視認される。
　Ｃ：Ｂよりも広い領域にて部分的に弱いムラが視認される。
　Ｄ：全面に弱いムラが視認される。
　Ｅ：全面に強いムラが視認される。

２．機上現像性の評価
　作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のＫｏｄａｋ社製Ｍａｇｎｕｓ８００　Ｑｕａｎｔｕｍにて、出力２７Ｗ、外面ドラム回転数４５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（dot per inch、１ｉｎｃｈは２．５４ｃｍ）の条件で露光（照射エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ^２相当）した。露光画像にはベタ画像、及び、ＡＭスクリーン（Ａｍ
ｐｌｉｔｕｄｅ　Ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ　Ｓｃｒｅｅｎ）５０％網点のチャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ－７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水Ｓ－Ｚ１（富士フイルム（株）製）２．０％の湿し水８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インクとしてＴ＆Ｋ　ＵＶ　ＯＦＳ　Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製）を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインクを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で特菱アート紙（連量：７６．５ｋｇ、三菱製紙（株）製）に２００枚印刷を行った。上記機上現像において、非画像部にインクが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数（以降、機上現像枚数ともいう）を求めた。機上現像枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。上記機上現像において、非画像部にインクが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として求めた。上記枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。結果を表６に示す。

　表３～表６に記載した結果から、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、面状に優れることが分かる。
　また、表３～表４に記載の結果から、実施例１～１９、２５～２６に係る平版印刷版原版は、比較例１～３、９に係る平版印刷版原版に比べ、機上現像性に優れることも分かる。

（酸発色させた画像記録層の評価）
　上記実施例１～１９、２５～２６に係る平版印刷版原版の機上現像性の評価において、ＳＤ値、Ｓｌｏｐｅ値、Ｃｕｒｖｅ値等の各パラメータ設定時の露光現像を、以下の条件で行った以外は、実施例１～１９、２５～２６と同様にして、平版印刷版原版の作製、及び、評価を行った。
　具体的には、平版印刷版原版を、予め定められた画像様に露光し、ＰＳフィニッシングガムＦＮ－６（富士フイルム（株）製）を染み込ませたスポンジ（３Ｍ社製）で軽く擦り現像を行い、次に、水を含ませたウエスにて版表面を洗浄し、その後、クエン酸（富士フイルム和光純薬（株）製）１０ｇとキッチン用アルコール除菌液（フマキラー（株）製）９０ｃｃを混合した酸性溶液をスポンジ（３Ｍ社製）に染み込ませ版面に均一に広げ、画像部を発色させた。
　実施例１～１９、２５～２６における機上現像性の評価結果は、対応する実施例１～１９、２５～２６における機上現像性の評価結果と同様であった。即ち、視認性向上の目的で、画像部を発色させた場合も、実施例の平版印刷版原版は、良好な機上現像性を有することが確認された。

〔符号の説明〕
　１２ａ，１２ｂ：アルミニウム支持体、１８：アルミニウム板、２０ａ，２０ｂ：陽極酸化皮膜、２２ａ，２２ｂ：マイクロポア、２４：大径孔部、２６：小径孔部、Ｄ：大径孔部の深さ、１：アルミニウム板、２及び４：ローラ状ブラシ、３：研磨スラリー液、５、６、７及び８：支持ローラ、５０：主電解槽、５１：交流電源、５２：ラジアルドラムローラ、５３ａ，５３ｂ：主極、５４：電解液供給口、５５：電解液、５６：補助陽極、５７：電解液通路、５８：補助陽極、６０：補助陽
極槽、６１０：陽極酸化処理装置、６１２：給電槽、６１４：電解処理槽、６１６：アルミニウム板、６１８，２６：電解液、６２０：給電電極、６２２，６２８：ローラ、６２４：ニップローラ、６３０：電解電極，６３２：槽壁、６３４：直流電源、Ｗ：アルミニウム板、Ｓ：給液方向、Ｅｘ：電解液排出方向、ｔａ：アノード反応時間、ｔｃ：カソード反応時間、ｔｐ：電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａ：アノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃ：カソードサイクル側のピーク時の電流、ＡＡ：アルミニウム板のアノード反応の電流、ＣＡ：アルミニウム板のカソード反応の電流

　２０２２年１１月３０日に出願された日本国特許出願２０２２－１９２２１１及び２０２３年７月１０日に出願された日本国特許出願２０２３－１１３２７７の開示は参照により本開示に取り込まれる。
　本開示に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本開示中に参照により取り込まれる。

Claims (16)

1. 　支持体、及び、前記支持体上に画像記録層を有し、
   　前記画像記録層が、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する（メタ）アクリル重合体Ａを含む、平版印刷版原版。
2. 　支持体、及び、前記支持体上に画像記録層を有し、
   　前記画像記録層が、下記式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体Ｂを含む、平版印刷版原版。
   
    
   　式（Ｉ）中、Ｒ^１１及びＲ^１２はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^１３は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^１１及びＬ^１２はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し、Ｒｈはケイ素原子を２個以上含む置換基を表す。
3. 　機上現像型平版印刷版原版である、請求項１又は請求項２に記載の平版印刷版原版。
4. 　前記画像記録層が、樹脂粒子を更に含む請求項３に記載の平版印刷版原版。
5. 　前記画像記録層が、発色剤を更に含む請求項３に記載の平版印刷版原版。
6. 　（メタ）アクリル重合体Ａが、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位と、親水性基を側鎖に有する構成単位と、を含む共重合体である、請求項１に記載の平版印刷版原版。
7. 　前記（メタ）アクリル重合体Ａが、ケイ素原子を２個以上含む置換基を側鎖に有する構成単位と、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位と、を含む共重合体である、請求項１に記載の平版印刷版原版。
8. 　前記式（Ｉ）におけるＲｈが、下記式（Ｉａ）で表される構造を２個以上含む基である、請求項２に記載の平版印刷版原版。
   
    
   　式（Ｉａ）中、＊は、結合位置を表し、Ｒ^１１、Ｒ^１２、及びＲ^１３はそれぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアルキレンアリール基を表す。
9. 　前記重合体Ｂが、親水性基を側鎖に有する構成単位を更に有する、請求項２に記載の共重合体である平版印刷版原版。
10. 　前記親水性基を側鎖に有する構成単位が、下記式（ａ４）で表される構成単位である、請求項９に記載の平版印刷版原版。
    
    　式（ａ４）中、Ｒ^７及びＲ^８はそれぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^９は水素原子又は一価の置換基を表し、Ｌ^２は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－を表し、Ｌ^３は単結合又は二価の連結基を表し、Ｘは親水性基を表す。
11. 　前記式（ａ４）中、Ｌ^２が－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－を表す、請求項１０に記載の平版印刷版原版。
12. 　前記式（ａ４）中、Ｘで表される親水性基は、水酸基、ポリアルキレンオキシ基、又はこれらを２つ以上組み合わせた基である、請求項１０に記載の平版印刷版原版。
13. 　前記重合体Ｂが、ポリアルキレンオキシ基を側鎖に有する構成単位を更に有する共重合体である、請求項２に記載の平版印刷版原版。
14. 　前記式（Ｉ）におけるＬ^１１がエステル結合である、請求項２又は請求項７に記載の平版印刷版原版。
15. 　請求項３に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
    　印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
    　平版印刷版の作製方法。
16. 　請求項３に記載の平版印刷版原版を、画像様に露光する工程と、
    　印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
    　得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
    　平版印刷方法。