WO2024084718A1 - プラズマ照射装置 - Google Patents

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WO2024084718A1
WO2024084718A1 PCT/JP2022/044535 JP2022044535W WO2024084718A1 WO 2024084718 A1 WO2024084718 A1 WO 2024084718A1 JP 2022044535 W JP2022044535 W JP 2022044535W WO 2024084718 A1 WO2024084718 A1 WO 2024084718A1
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WO
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electrode
tip
conductive path
discharge
path
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/044535
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English (en)
French (fr)
Inventor
吉博 中埜
裕次 松元
有美 杉山
伸一郎 曽根
郁実 野又
快彦 安部
Original Assignee
日本特殊陶業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本特殊陶業株式会社 filed Critical 日本特殊陶業株式会社
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
    • A61C19/00—Dental auxiliary appliances
    • A61C19/06—Implements for therapeutic treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches

Definitions

  • the present invention relates to a plasma irradiation device.
  • Patent Document 1 discloses a plasma irradiation device that irradiates plasma.
  • the plasma irradiation device is used in surgery such as dental treatment.
  • the area around the part of the plasma irradiation device that irradiates plasma is prone to debris from the target.
  • the nozzle including the part of the plasma irradiation device that irradiates plasma is made detachable. Therefore, even if debris from the target adheres to the nozzle, it is possible to replace just the nozzle.
  • the present invention aims to provide technology that makes it possible to replace the part that irradiates plasma and makes it easier for plasma to be irradiated from a plasma irradiation device.
  • the plasma irradiation device of the present invention is A gas guide path that guides gas toward the tip portion; A plasma irradiation device having a discharge unit that generates plasma in the gas guide path, A base portion that functions as a gripping portion;
  • the gas guide passage includes a tip portion and a discharge portion, and a detachable part is detachably attached to the base portion.
  • gas that has been converted into plasma in the discharge section is irradiated from the tip of the gas guide path of the plasma irradiation device towards the irradiation target, but the detachable part having the tip, which is prone to attracting debris from the irradiation target, can be replaced. Furthermore, because the discharge section is located on the detachable part side, the distance from the discharge section to the tip can be shortened. Therefore, with this configuration, the part that irradiates plasma can be replaced, and plasma can be easily irradiated from the tip of the gas guide path.
  • the discharge section may be composed only of a first electrode, a second electrode, and a dielectric including a dielectric layer interposed between the first electrode and the second electrode, and may generate plasma in the gas guide path in response to application of a voltage between the first electrode and the second electrode.
  • the discharge section can be simply configured with a first electrode, a second electrode, and a dielectric.
  • the discharge part may be disposed on the tip side of the detachable part.
  • the discharge section is located away from the tip end of the gas guide path in the detachable part toward the rear end, the plasma energy will attenuate and the amount of plasmatized gas will also decrease, which is not preferable. Therefore, in the above-mentioned plasma irradiation device, the discharge section is located on the tip end side of the gas guide path in the detachable part. As a result, the above-mentioned plasma irradiation device makes it even easier for the plasmatized gas to be irradiated from the tip end of the gas guide path.
  • the detachable part may have an insulating tip protection part that covers the tip surface of the discharge part.
  • the discharge part is positioned at the tip of the gas guide path in the detachable part, while protecting the tip surface of the discharge part from debris flying from the object to be irradiated, and improving the insulation on the tip side of the discharge part.
  • the tip of the dielectric may be positioned closer to the tip than both the first electrode and the second electrode, and may be exposed at the tip of the detachable part.
  • the discharge section can be positioned on the tip side of the gas guide path in the detachable part, while the dielectric ensures insulation on the tip side of the first electrode and the second electrode.
  • the discharge part may be hollow and form at least a part of the gas guide path.
  • the detachable part may have an insulating outer periphery protection part that covers the outer periphery of the discharge part.
  • This configuration can protect the outer periphery of the discharge part while improving the insulation on the outer periphery side of the discharge part.
  • the gas guide path may have a first flow path provided in the base and a second flow path provided in the detachable part.
  • the plasma irradiation device may have a first wiring electrically connected to the first electrode and a second wiring electrically connected to the second electrode.
  • the first wiring may have a first conductive path provided in the base and a second conductive path provided in the detachable part.
  • the second wiring may have a third conductive path provided in the base and a fourth conductive path provided in the detachable part.
  • the base may have a first connector portion connected to the detachable part.
  • the detachable part may have a second connector portion connected to the first connector portion.
  • One end of the first flow path, one end of the first conductive path, and one end of the third conductive path may each be provided in the first connector portion.
  • One end of the second flow path, one end of the second conductive path, and one end of the fourth conductive path may each be provided in the second connector portion.
  • gas can be supplied from the first flow path to the second flow path, and an electrical path can be formed to apply a voltage between the first electrode and the second electrode from the base side.
  • the base may have a boost circuit section that boosts an input voltage and applies the boosted voltage to the discharge section.
  • the voltage can be boosted near the discharge section, resulting in less power loss. Furthermore, with this configuration, there is no need to replace the boost section when replacing detachable parts.
  • the part that irradiates plasma is replaceable, and plasma can be easily irradiated from the plasma irradiation device.
  • FIG. 1 is a configuration diagram that illustrates a plasma irradiation system according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a side view illustrating a state before the detachable part is attached to the base.
  • FIG. 3 is a side cross-sectional view illustrating a state in which the detachable part is attached to the base.
  • FIG. 4 is a side cross-sectional view of the detachable part.
  • FIG. 5 is a side cross-sectional view of a detachable part according to the second embodiment.
  • FIG. 6 is a side cross-sectional view of a detachable part of the third embodiment.
  • FIG. 1 shows a plasma irradiation device 100 according to an embodiment of the present invention.
  • the plasma irradiation device 100 in FIG. 1 irradiates a minimally invasive, low-energy plasma P.
  • the plasma irradiation device 100 is configured as a surgical device capable of, for example, stopping bleeding of a biological tissue of a surgical target.
  • the plasma irradiation device 100 includes a plasma irradiation instrument 20, a gas supply device 102, and a power supply device 104.
  • the gas supply device 102 is a device that supplies an inert gas (hereinafter simply referred to as gas) such as helium gas.
  • gas an inert gas
  • the gas supply device 102 supplies the inert gas to a gas guide path 22 (described later) via, for example, a flexible pipe (not shown) interposed between the plasma irradiation device 20 and the gas supply device 102.
  • the gas supply device 102 includes, for example, a regulator that reduces the pressure of high-pressure gas supplied from a cylinder or the like, and a control unit that controls the flow rate.
  • the power supply device 104 is a device for applying a desired voltage between the first electrode 31 and the second electrode 32 of the discharge section 23 described later. As shown in FIG. 3, the first electrode 31 is electrically connected to the high potential side of a power supply (e.g., a commercial power supply or a battery) via the first wiring 36A. The second electrode 32 is electrically connected to the ground via the second wiring 36B. A boost circuit unit 39 for boosting the voltage is provided on the first wiring 36A and the second wiring 36B. The power supply device 104 applies an AC voltage of a predetermined frequency between the first electrode 31 and the second electrode 32 while keeping the second electrode 32 at the ground potential. The frequency of the high voltage generated by the power supply device 104 may be a frequency fixed to a constant value or may vary.
  • a power supply e.g., a commercial power supply or a battery
  • the voltage applied by the power supply device 104 between the second electrode 32 and the first electrode 31 may be a periodically changing voltage, and may be a sinusoidal AC voltage or a non-sinusoidal AC voltage (e.g., a rectangular wave, a triangular wave, etc.).
  • the plasma irradiation instrument 20 is an instrument that is held and used by, for example, an operator performing surgery.
  • the plasma irradiation instrument 20 is assumed to be used in a non-contact state with the target biological tissue, etc. As shown in FIG. 4, the plasma irradiation instrument 20 can be separated into a base 15 and a detachable part 12.
  • the base 15 is elongated in a predetermined direction (more specifically, the front-to-rear direction).
  • the base 15 functions as a gripping portion.
  • the base 15 has a first case 16.
  • the first case 16 forms the outer shell of the base 15.
  • the first case 16 is insulating and is made of, for example, a resin material.
  • the first case 16 is tubular and elongated in the predetermined direction (more specifically, the front-to-rear direction).
  • the detachable part 12 is detachably attached to the base 15 (more specifically, the tip of the base 15).
  • the detachable part 12 has a second case 17.
  • the second case 17 forms the outer shell of the detachable part 12.
  • the second case 17 has insulating properties and is made of, for example, a resin material.
  • the second case 17 is cylindrical.
  • the detachable part 12 has a discharge port 22B formed therein.
  • the plasma irradiation device 20 has a gas guide path 22 that guides gas toward its tip, and a discharge section 23 that generates plasma within the gas guide path 22.
  • the gas guide path 22 guides the gas supplied from the gas supply device 102 toward the tip of the gas guide path 22.
  • the gas guide path 22 has an inlet 22A for introducing gas, an outlet 22B for discharging gas, and a flow path 22C provided between the inlet 22A and the outlet 22B.
  • the gas guide path 22 is a guide path that introduces gas supplied from the gas supply device 102 from the inlet 22A and guides the gas introduced from the inlet 22A side to the outlet 22B through the space in the flow path 22C.
  • the outlet 22B is provided at the tip of the plasma irradiation device 100 and is open toward the front.
  • the gas guide path 22 discharges the flowing gas through the outlet 22B.
  • the outlet 22B corresponds to the "tip of the gas guide path 22."
  • the discharge part 23 is composed only of a first electrode 31, a second electrode 32, and a dielectric 33 including a dielectric layer 33A interposed between the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the discharge part 23 is hollow and constitutes at least a part of the gas guide path 22.
  • the discharge part 23 is elongated in the longitudinal direction (front-rear direction) of the base 15.
  • the discharge part 23 is provided in the detachable part 12.
  • the discharge part 23 is disposed on the tip (discharge port 22B) side of the detachable part 12. Note that the "tip side of the detachable part 12" means “the tip side of the center of the detachable part 12 in the front-rear direction (longitudinal direction of the base 15)."
  • the first electrode 31 functions as a discharge electrode.
  • the first electrode 31 and the second electrode 32 each extend along the longitudinal direction (front-to-rear direction) of the base 15.
  • the first electrode 31 and the second electrode 32 are integrally provided with the dielectric 33.
  • the first electrode 31 and the second electrode 32 are spaced apart from each other and are opposed to each other with the dielectric layer 33A of the dielectric 33 interposed therebetween.
  • the dielectric 33 is hollow and constitutes at least a part of the gas guide path 22.
  • the dielectric 33 is elongated in the longitudinal direction (front-to-rear direction) of the base 15.
  • the dielectric 33 can be made of a ceramic material such as alumina, a glass material, a resin material, or the like.
  • the tip of the dielectric 33 is located further towards the tip side than both the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the discharge unit 23 generates plasma in the gas guide path 22 in response to a voltage being applied between the first electrode 31 and the second electrode 32. More specifically, the discharge unit 23 functions to generate an electric field in the gas guide path 22 based on the potential difference between the first electrode 31 and the second electrode 32, and generate plasma (more specifically, low-temperature plasma) in the gas guide path 22 by discharge (more specifically, creeping discharge). The discharge unit 23 causes a creeping discharge in the gas guide path 22 in response to a periodically changing voltage being applied to the first electrode 31, and generates plasma (more specifically, low-temperature plasma).
  • the flow path 22C of the gas guide path 22 described above has a first flow path 35A provided in the base 15 and a second flow path 35B provided in the detachable part 12.
  • the first flow path 35A is arranged inside the first case 16.
  • the first flow path 35A is arranged closer to the gas supply device 102 than the second flow path 35B.
  • the second flow path 35B is arranged closer to the outlet 22B than the first flow path 35A.
  • Gas supplied from the gas supply device 102 side is introduced into the first flow path 35A.
  • the first flow path 35A flows the gas supplied from the gas supply device 102 side to the second flow path 35B side.
  • the second flow path 35B guides the gas supplied from the first flow path 35A side to the outlet 22B side and releases it from the outlet 22B.
  • the discharge unit 23 generates plasma in the second flow path 35B.
  • the plasma irradiation device 20 has a first wiring 36A electrically connected to the first electrode 31, and a second wiring 36B electrically connected to the second electrode 32.
  • a voltage based on the power supply device 104 is applied between the first wiring 36A and the second wiring 36B.
  • the voltage applied between the first wiring 36A and the second wiring 36B is applied between the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the first wiring 36A has a first conductive path 37A provided in the base 15 and a second conductive path 37B provided in the detachable part 12.
  • the second wiring 36B has a third conductive path 37C provided in the base 15 and a fourth conductive path 37D provided in the detachable part 12.
  • the first conductive path 37A and the third conductive path 37C are disposed in the first case 16.
  • the second conductive path 37B and the fourth conductive path 37D are disposed in the second case 17. Note that in FIG. 4, the specific wiring paths of the second conductive path 37B and the fourth conductive path 37D are omitted.
  • the base 15 has a first connector portion 38A.
  • the first connector portion 38A is provided at the tip portion of the base 15.
  • the detachable part 12 has a second connector portion 38B.
  • the second connector portion 38B is provided at the rear end portion of the detachable part 12.
  • the first connector portion 38A and the second connector portion 38B are connected to each other.
  • One end of the first flow path 35A is provided in the first connector portion 38A.
  • the other end of the first flow path 35A is provided with an inlet 22A.
  • One end of the first conductive path 37A and one end of the third conductive path 37C are each provided in the first connector portion 38A.
  • One end of the second flow path 35B is provided in the second connector portion 38B.
  • the other end of the second flow path 35B is provided with a discharge port 22B.
  • One end of the second conductive path 37B and one end of the fourth conductive path 37D are each provided in the second connector portion 38B.
  • the other end of the second conductive path 37B is electrically connected to the first electrode 31.
  • the other end of the fourth conductive path 37D is electrically connected to the second electrode 32.
  • the second connector portion 38B When the second connector portion 38B is connected to the first connector portion 38A, gas can be supplied from the first flow path 35A to the second flow path 35B, the second conductive path 37B is electrically connected to the first conductive path 37A, and the fourth conductive path 37D is electrically connected to the third conductive path 37C.
  • the first pipe section constituting the first flow path 35A and the second pipe section constituting the second flow path 35B are connected in a state in which gas leakage is prevented.
  • the first conductive path 37A and the second conductive path 37B are electrically connected to each other by being provided with a female terminal on one side and a male terminal on the other side, and the female terminal and the male terminal being connected.
  • the third conductive path 37C and the fourth conductive path 37D are electrically connected to each other by being provided with a female terminal on one side and a male terminal on the other side, and the female terminal and the male terminal being connected.
  • the base 15 has a boost circuit section 39 that boosts the input voltage and applies the boosted voltage to the discharge section 23.
  • the boost circuit section 39 is disposed within the first case 16.
  • the boost circuit section 39 has a step-up transformer.
  • the other end of the first conductive path 37A and the other end of the third conductive path 37C are electrically connected to the boost circuit section 39.
  • the boost circuit section 39 boosts the input voltage based on the power supply device 104 and applies the boosted voltage between the first conductive path 37A and the third conductive path 37C. In this way, the boost circuit section 39 applies a desired voltage between the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the boost circuit unit 39 functions as a high-frequency voltage generating circuit.
  • the boost circuit unit 39 applies an AC voltage of a predetermined frequency between the first electrode 31 and the second electrode 32 while keeping the second electrode 32 at ground potential.
  • the boost circuit unit 39 may employ various known circuits as long as they are capable of generating a high voltage (e.g., a high voltage with an amplitude of 0.5 kV to 10 kV) at a high frequency (e.g., about 20 kHz to 300 kHz).
  • the frequency of the high voltage generated by the boost circuit unit 39 may be a fixed frequency or may vary.
  • the voltage applied by the boost circuit unit 39 between the first electrode 31 and the second electrode 32 may be a periodically changing voltage, and may be a sine wave AC voltage or a non-sine wave AC voltage (e.g., a rectangular wave, a triangular wave, etc.).
  • the detachable part 12 has an outer periphery protective part 41.
  • the outer periphery protective part 41 has insulating properties and is made of, for example, a resin material.
  • the outer periphery protective part 41 covers the outer periphery of the hollow discharge part 23.
  • the outer periphery protective part 41 is cylindrical.
  • the outer periphery protective part 41 is disposed within the second case 17.
  • the outer periphery of the outer periphery protective part 41 is covered by the second case 17.
  • the second case 17 of the detachable part 12 has a tip protection part 42, as shown in FIG. 4.
  • the tip protection part 42 is insulating and is made of, for example, a resin material.
  • the tip protection part 42 covers the tip surface of the discharge part 23.
  • the tip protection part 42 is in contact with the tip surface of the discharge part 23 and is fixed to the tip surface of the discharge part 23.
  • the tip protection part 42 forms part of the gas guide path 22.
  • An outlet 22B is formed at the tip of the tip protection part 42.
  • the detachable part 12 has a switch 43.
  • the switch 43 is provided on the top side of the second case 17.
  • the switch 43 is an operation part that switches between a state in which the plasma irradiation device 100 (more specifically, the plasma irradiation instrument 20) irradiates plasma and a state in which the plasma irradiation is stopped.
  • the switch 43 is a push-type switch that irradiates plasma when pressed and stops plasma irradiation when released.
  • the peripheral configuration of the switch 43 (such as a circuit that controls the discharge of the discharge unit 23 based on the operation of the switch 43) is omitted in FIG. 4, but a general control circuit, etc. can be adopted.
  • the plasma irradiation device 100 has a gas guide path 22 that guides gas toward the tip, and a discharge unit 23 that generates plasma in the gas guide path 22.
  • the plasma irradiation device 100 includes a base 15 that functions as a gripping part, and a detachable part 12 that is detachably attached to the base 15.
  • the detachable part 12 has a tip (discharge port 22B) of the gas guide path 22, and the discharge unit 23.
  • the gas that has been plasmatized in the discharge unit 23 is irradiated from the tip of the gas guide path 22 of the plasma irradiation device 100 toward the irradiation target, but the detachable part 12 having the tip to which scattered matter from the irradiation target is likely to adhere can be replaced.
  • the discharge unit 23 is arranged on the detachable part 12 side, the distance from the discharge unit 23 to the tip can be shortened. Therefore, according to this configuration, the part that irradiates plasma becomes replaceable, and plasma is easily irradiated from the tip of the gas guide path 22.
  • the discharge section 23 is composed only of the first electrode 31, the second electrode 32, and a dielectric 33 including a dielectric layer 33A interposed between the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the discharge section 23 generates plasma in the gas guide path 22 in response to a voltage being applied between the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the discharge section 23 can be made to have a simple configuration composed of the first electrode 31, the second electrode 32, and the dielectric 33.
  • the discharge unit 23 is disposed on the tip end (discharge port 22B) side of the gas guide path 22 in the detachable part 12. If the discharge unit 23 is disposed away from the tip end of the gas guide path 22 in the detachable part 12 toward the rear end, this is not preferable because the plasma energy will attenuate and the amount of plasmatized gas will decrease. For this reason, in the plasma irradiation device 100, the discharge unit 23 is disposed on the tip end side of the gas guide path 22 in the detachable part 12. For this reason, in the plasma irradiation device 100, the plasmatized gas is more easily irradiated from the tip end of the gas guide path 22.
  • the detachable part 12 has an insulating tip protection part 42 that covers the tip surface of the discharge part 23.
  • the tip surface of the discharge part 23 can be protected from debris flying from the irradiation target, and the insulation on the tip side of the discharge part 23 can be improved.
  • the discharge section 23 is hollow and constitutes at least a part of the gas guide path 22.
  • the detachable part 12 has an insulating outer periphery protection section 41 that covers the outer periphery of the discharge section 23. With this configuration, it is possible to protect the outer periphery of the discharge section 23 while increasing the insulation on the outer periphery side of the discharge section 23.
  • the gas guide path 22 has a first flow path 35A provided in the base 15 and a second flow path 35B provided in the detachable part 12.
  • the plasma irradiation device 100 has a first wiring 36A electrically connected to the first electrode 31 and a second wiring 36B electrically connected to the second electrode 32.
  • the first wiring 36A has a first conductive path 37A provided in the base 15 and a second conductive path 37B provided in the detachable part 12.
  • the second wiring 36B has a third conductive path 37C provided in the base 15 and a fourth conductive path 37D provided in the detachable part 12.
  • the base 15 has a first connector portion 38A connected to the detachable part 12.
  • the detachable part 12 has a second connector portion 38B connected to the first connector portion 38A.
  • One end of the first flow path 35A, one end of the first conductive path 37A, and one end of the third conductive path 37C are each provided in the first connector portion 38A.
  • One end of the second flow path 35B, one end of the second conductive path 37B, and one end of the fourth conductive path 37D are each provided in the second connector portion 38B.
  • the first flow path 35A is in a state where gas can be supplied to the second flow path 35B, and an electrical path for applying a voltage between the first electrode 31 and the second electrode 32 from the base portion 15 side can be configured.
  • the base 15 has a boost circuit section 39 that boosts the input voltage and applies the boosted voltage to the discharge section 23.
  • the voltage can be boosted near the discharge section 23, so there is less power loss. Furthermore, with this configuration, there is no need to replace the boost section when replacing the detachable part 12.
  • Second embodiment In the second embodiment, an example will be described in which the tip surface of the discharge portion 23 is exposed.
  • the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
  • the detachable part 212 of the second embodiment shown in FIG. 5 corresponds to the configuration of the detachable part 12 of the first embodiment minus the tip protection part 42.
  • the second case 217 of the detachable part 212 forms the outer shell of the detachable part 212.
  • the second case 217 is cylindrical.
  • the second case 217 corresponds to the configuration of the second case 17 of the first embodiment minus the tip protection part 42.
  • the outer periphery of the discharge section 23 is covered by the outer periphery protection section 41.
  • the outer periphery of the outer periphery protection section 41 is covered by the second case 217.
  • the tip of the dielectric 33 in the discharge part 23 is exposed at the tip of the detachable part 212.
  • the tip of the dielectric 33 is positioned closer to the tip side than both the first electrode 31 and the second electrode 32. With this configuration, while the discharge part 23 is positioned closer to the tip side of the detachable part 212, the dielectric 33 can ensure insulation on the tip side of the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the plasma irradiation device of the third embodiment differs from the plasma irradiation device of the second embodiment in that it has a protective member 380 (see FIG. 6), but has other points in common.
  • the protective member 380 is attached to the detachable part 212 described in the second embodiment.
  • the protective member 380 is annular.
  • the protective member 380 is attached to the tip surface of the discharge part 23 (more specifically, the tip surface of the dielectric 33) so as not to block the discharge port 22B.
  • the protective member 380 covers the tip surface of the discharge part 23 (more specifically, the tip surface of the dielectric 33). With this configuration, the protective member 380 can protect the tip surface of the discharge part 23 while ensuring insulation on the tip side of the discharge part 23.
  • the boost circuit unit may be provided somewhere other than the base.
  • the boost circuit unit may be provided in a removable part, or may be provided further rearward than the base.
  • Gas may be supplied to the detachable part without passing through the base.

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Abstract

プラズマを照射する部位を交換可能とし、且つプラズマ照射装置からプラズマが照射されやすくする。プラズマ照射装置（１００）は、先端部に向かってガスを誘導するガス誘導路（２２）と、ガス誘導路（２２）内でプラズマを発生させる放電部（２３）と、を有する。プラズマ照射装置（１００）は、把持部として機能する基部（１５）と、基部（１５）に対して着脱可能に取り付けられる着脱部品（１２）と、を備える。着脱部品（１２）は、ガス誘導路（２２）の先端部と、放電部（２３）と、を有する。

Description

プラズマ照射装置
　本発明は、プラズマ照射装置に関する。
　特許文献１には、プラズマを照射するプラズマ照射装置が開示されている。プラズマ照射装置は、歯科治療などの手術に用いられる。プラズマ照射装置におけるプラズマを照射する部分の周辺では、照射対象からの飛散物が付着しやすい。しかし、特許文献１では、プラズマ照射装置におけるプラズマを照射する部分を含むノズルが、着脱可能となっている。このため、照射対象からの飛散物がノズルに付着しても、ノズルだけの交換が可能となっている。
特開２０２０－１０７７０号公報
　しかし、特許文献１の構成では、プラズマ発生部からノズルの先端（プラズマを照射する部位）までの距離が長くなりやすく、当該距離が長くなると、ノズルの先端（プラズマを照射する部位）からプラズマが照射されにくくなる。
　本発明は、プラズマを照射する部位を交換可能とし、且つプラズマ照射装置からプラズマが照射されやすい技術の提供を目的とする。
〔１〕本発明のプラズマ照射装置は、
　先端部に向かってガスを誘導するガス誘導路と、
　前記ガス誘導路内でプラズマを発生させる放電部と、を有するプラズマ照射装置であって、
　把持部として機能する基部と、
　前記ガス誘導路の前記先端部と、前記放電部と、を有し、前記基部に対して着脱可能に取り付けられる着脱部品と、を備える。
　上記プラズマ照射装置は、放電部でプラズマ化したガスが、プラズマ照射装置のガス誘導路の先端部から、照射対象に向けて照射されるが、照射対象からの飛散物が付着しやすい上記先端部を有する着脱部品を交換することができる。しかも、放電部が着脱部品側に配置されるため、放電部から上記先端部までの距離を短くすることができる。したがって、この構成によれば、プラズマを照射する部位が交換可能となり、且つガス誘導路の先端部からプラズマが照射されやすくなる。
〔２〕前記放電部は、第１電極、第２電極、及び前記第１電極と前記第２電極との間に介在する誘電体層を含む誘電体、のみによって構成され、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることに応じて前記ガス誘導路内でプラズマを発生させてもよい。
　この構成によれば、放電部を、第１電極と第２電極と誘電体とによって構成される簡素な構成とすることができる。
〔３〕前記〔２〕のプラズマ照射装置において、前記放電部は、前記着脱部品における前記先端部側に配置されてもよい。
　放電部が、着脱部品におけるガス誘導路の先端部から後端側に離れて配置されると、プラズマのエネルギーが減衰してプラズマ化したガスの量が減衰していくため好ましくない。そのため、上記プラズマ照射装置では、放電部が着脱部品におけるガス誘導路の先端部側に配置される。このため、上記プラズマ照射装置は、プラズマ化したガスがガス誘導路の先端部からより一層照射されやすくなる。
〔４〕前記〔２〕又は〔３〕のプラズマ照射装置において、前記着脱部品は、前記放電部の先端面を覆う絶縁性の先端保護部を有してもよい。
　この構成によれば、放電部を着脱部品におけるガス誘導路の先端部側に配置しつつも、放電部の先端面を照射対象からの飛散物から保護し、且つ放電部よりも先端側の絶縁性を高めることができる。
〔５〕前記〔２〕又は〔３〕のプラズマ照射装置において、前記誘電体の先端は、前記第１電極及び前記第２電極のいずれよりも前記先端部側に配置され、前記着脱部品の先端に露出してもよい。
　この構成によれば、放電部を着脱部品におけるガス誘導路の先端部側に配置しつつも、誘電体によって第１電極及び第２電極よりも先端側の絶縁性を確保することができる。
〔６〕前記〔２〕から〔５〕のいずれかのプラズマ照射装置において、前記放電部は、前記ガス誘導路の少なくとも一部を構成する中空状をなしてもよい。前記着脱部品は、前記放電部の外周を覆う絶縁性の外周保護部を有してもよい。
　この構成によれば、放電部の外周を保護しつつ、放電部よりも外周側の絶縁性を高めることができる。
〔７〕前記〔２〕から〔６〕のいずれかのプラズマ照射装置において、前記ガス誘導路は、前記基部に設けられる第１流路と、前記着脱部品に設けられる第２流路と、を有してもよい。前記プラズマ照射装置は、前記第１電極に電気的に接続される第１配線と、前記第２電極に電気的に接続される第２配線と、を有してもよい。前記第１配線は、前記基部に設けられる第１導電路と、前記着脱部品に設けられる第２導電路と、を有してもよい。前記第２配線は、前記基部に設けられる第３導電路と、前記着脱部品に設けられる第４導電路と、を有してもよい。前記基部は、前記着脱部品に接続される第１コネクタ部を有してもよい。前記着脱部品は、前記第１コネクタ部に接続される第２コネクタ部を有してもよい。前記第１流路の一端、前記第１導電路の一端、及び前記第３導電路の一端は、それぞれ前記第１コネクタ部に設けられてもよい。前記第２流路の一端、前記第２導電路の一端、及び前記第４導電路の一端は、それぞれ前記第２コネクタ部に設けられてもよい。前記第１コネクタ部に前記第２コネクタ部が接続されたときに、前記第１流路から前記第２流路にガスを供給可能な状態となり、前記第１導電路に前記第２導電路が電気的に接続され、前記第３導電路に前記第４導電路が電気的に接続されてもよい。
　この構成によれば、第１コネクタ部に第２コネクタ部が接続されるだけで、第１流路から第２流路にガスを供給可能な状態となり、基部側から第１電極と第２電極との間に電圧を印加する電気経路を構成することができる。
〔８〕前記〔１〕から〔７〕のいずれかのプラズマ照射装置において、前記基部は、入力電圧を昇圧して昇圧した電圧を前記放電部に印加する昇圧回路部を有してもよい。
　この構成によれば、基部よりも後方から昇圧された電力が供給される構成と比較して、放電部の近くで昇圧することができるため、電力損失が少ない。しかもこの構成によれば、着脱部品の交換時に昇圧部を交換しなくて済む。
　本発明によれば、プラズマを照射する部位が交換可能となり、且つプラズマ照射装置からプラズマが照射されやすくなる。
図１は、第１実施形態のプラズマ照射システムを概略的に例示する構成図である。 図２は、基部に着脱部品が取り付けられる前の状態を例示する側面図である。 図３は、基部に着脱部品が取り付けられた状態を例示する側断面図である。 図４は、着脱部品の側断面図である。 図５は、第２実施形態の着脱部品の側断面図である。 図６は、第３実施形態の着脱部品の側断面図である。
　１．第１実施形態
　　１－１．プラズマ照射装置１００の構成
　本発明の一例であるプラズマ照射装置１００を図１に示す。図１のプラズマ照射装置１００は、低侵襲の低エネルギーのプラズマＰを照射する。プラズマ照射装置１００は、例えば施術対象の生体組織に対して止血などを行い得る手術用装置として構成される。プラズマ照射装置１００は、プラズマ照射器具２０と、ガス供給装置１０２と、電源装置１０４と、を備える。
　ガス供給装置１０２は、ヘリウムガス等の不活性ガス（以下、単にガスともいう）を供給する装置である。ガス供給装置１０２は、例えば、プラズマ照射器具２０とガス供給装置１０２との間に介在する可撓性の管路（図示省略）を介して後述するガス誘導路２２に不活性ガスを供給する。ガス供給装置１０２は、例えばボンベ等から供給される高圧ガスを減圧するレギュレータと、流量制御を行う制御部とを含む。
　電源装置１０４は、後述する放電部２３の第１電極３１と第２電極３２との間に所望の電圧を印加するための装置である。図３に示すように、第１電極３１は、第１配線３６Ａを介して電源（例えば商用電源やバッテリ）の高電位側に電気的に接続されている。第２電極３２は、第２配線３６Ｂを介してグラウンドに電気的に接続されている。第１配線３６Ａ及び第２配線３６Ｂには、電圧を昇圧する昇圧回路部３９が設けられている。電源装置１０４は、第２電極３２をグラウンド電位に保ちながら、第１電極３１と第２電極３２との間に所定周波数の交流電圧を印加する。なお、電源装置１０４が発生させる高電圧の周波数は、一定値に固定された周波数であってもよく、変動してもよい。また、電源装置１０４が第２電極３２と第１電極３１との間に印加する電圧は、周期的に変化する電圧であればよく、正弦波の交流電圧であってもよく、非正弦波（例えば、矩形波、三角波など）の交流電圧であってもよい。
　　１－２．プラズマ照射器具２０の構成
　プラズマ照射器具２０は、例えば、手術を行う術者によって把持されて使用される器具である。プラズマ照射器具２０は、施術対象の生体組織等に対して非接触の状態で使用されることが想定されている。図４に示すように、プラズマ照射器具２０は、基部１５と、着脱部品１２とに分離可能である。
　基部１５は、図２に示すように、所定方向（より具体的には、先後方向）に長い形態をなしている。基部１５は、把持部として機能する。基部１５は、第１ケース１６を有する。第１ケース１６は、基部１５の外殻をなす。第１ケース１６は、絶縁性を有し、例えば樹脂材料を用いて構成される。第１ケース１６は、所定方向（より具体的には、先後方向）に長い筒状をなしている。基部１５（より具体的には、基部１５の先端部）には、着脱部品１２が着脱可能に取り付けられる。
　着脱部品１２は、図２に示すように、第２ケース１７を有する。第２ケース１７は、着脱部品１２の外殻をなす。第２ケース１７は、絶縁性を有し、例えば樹脂材料を用いて構成される。第２ケース１７は、筒状をなす。着脱部品１２には、放出口２２Ｂが形成されている。
　プラズマ照射器具２０は、図３に示すように、自身の先端部に向かってガスを誘導するガス誘導路２２と、ガス誘導路２２内でプラズマを発生させる放電部２３と、を有する。ガス誘導路２２は、ガス供給装置１０２から供給されたガスを、ガス誘導路２２の先端部に向かって誘導する。
　ガス誘導路２２は、図３に示すように、ガスを導入する導入口２２Ａと、ガスを放出する放出口２２Ｂと、導入口２２Ａと放出口２２Ｂとの間に設けられる流路２２Ｃと、を有する。ガス誘導路２２は、ガス供給装置１０２から供給されるガスを導入口２２Ａから導入し、導入口２２Ａ側から導入されたガスを流路２２Ｃ内の空間を通して放出口２２Ｂに誘導する誘導路となっている。放出口２２Ｂは、プラズマ照射装置１００の先端部に設けられ、先方に向かって開放されている。ガス誘導路２２は、流動するガスを放出口２２Ｂを介して放出する。放出口２２Ｂは、「ガス誘導路２２の先端部」に相当する。
　放電部２３は、図３及び図４に示すように、第１電極３１、第２電極３２、及び第１電極３１と第２電極３２との間に介在する誘電体層３３Ａを含む誘電体３３、のみによって構成される。放電部２３は、中空状をなしており、ガス誘導路２２の少なくとも一部を構成している。放電部２３は、基部１５の長手方向（先後方向）に長い形態をなしている。放電部２３は、着脱部品１２に設けられる。放電部２３は、着脱部品１２における先端部（放出口２２Ｂ）側に配置される。なお、「着脱部品１２における先端部側」は、「着脱部品１２における先後方向（基部１５の長手方向）の中心よりも先端部側」のことである。
　第１電極３１は、放電電極として機能する。第１電極３１及び第２電極３２は、それぞれ基部１５の長手方向（先後方向）に沿って延びる形態をなしている。第１電極３１及び第２電極３２は、誘電体３３と一体的に設けられている。第１電極３１及び第２電極３２は、互いに離間して配置され、誘電体３３の誘電体層３３Ａを介在させて互いに対向して配置される。
　誘電体３３は、中空状をなしており、ガス誘導路２２の少なくとも一部を構成している。誘電体３３は、基部１５の長手方向（先後方向）に長い形態をなしている。誘電体３３は、例えばアルミナなどのセラミック材料、ガラス材料、樹脂材料などを好適に用いることができる。誘電体３３の先端は、第１電極３１及び第２電極３２のいずれよりも先端側に配置されている。
　放電部２３は、第１電極３１と第２電極３２との間に電圧が印加されることに応じてガス誘導路２２内でプラズマを発生させる。より具体的には、放電部２３は、第１電極３１と第２電極３２との電位差に基づく電界をガス誘導路２２内で発生させて、放電（より具体的には、沿面放電）によるプラズマ（より具体的には、低温プラズマ）をガス誘導路２２内で発生させるように機能する。放電部２３は、周期的に変化する電圧が第１電極３１に印加されることに応じてガス誘導路２２内で沿面放電させ、プラズマ（より具体的には、低温プラズマ）を発生させる。
　上述したガス誘導路２２の流路２２Ｃは、基部１５に設けられる第１流路３５Ａと、着脱部品１２に設けられる第２流路３５Ｂと、を有する。第１流路３５Ａは、第１ケース１６の内部に配置される。第１流路３５Ａは、第２流路３５Ｂよりもガス供給装置１０２側に配置される。第２流路３５Ｂは、第１流路３５Ａよりも放出口２２Ｂ側に配置される。第１流路３５Ａには、ガス供給装置１０２側から供給されるガスが導入される。第１流路３５Ａは、ガス供給装置１０２側から供給されたガスを、第２流路３５Ｂ側に流す。第２流路３５Ｂは、第１流路３５Ａ側から供給されたガスを放出口２２Ｂ側に誘導し、放出口２２Ｂから放出させる。なお、放電部２３は、第２流路３５Ｂ内でプラズマを発生させる。
　プラズマ照射器具２０は、第１電極３１に電気的に接続される第１配線３６Ａと、第２電極３２に電気的に接続される第２配線３６Ｂと、を有する。第１配線３６Ａと第２配線３６Ｂとの間には、電源装置１０４に基づく電圧が印加される。第１配線３６Ａと第２配線３６Ｂとの間に印加された電圧は、第１電極３１と第２電極３２との間に印加される。
　第１配線３６Ａは、基部１５に設けられる第１導電路３７Ａと、着脱部品１２に設けられる第２導電路３７Ｂと、を有する。第２配線３６Ｂは、基部１５に設けられる第３導電路３７Ｃと、着脱部品１２に設けられる第４導電路３７Ｄと、を有する。第１導電路３７Ａ及び第３導電路３７Ｃは、第１ケース１６内に配置される。第２導電路３７Ｂ及び第４導電路３７Ｄは、第２ケース１７内に配置される。なお、図４では、第２導電路３７Ｂ及び第４導電路３７Ｄの具体的な配線経路が省略されている。
　基部１５は、第１コネクタ部３８Ａを有する。第１コネクタ部３８Ａは、基部１５の先端部に設けられる。着脱部品１２は、第２コネクタ部３８Ｂを有する。第２コネクタ部３８Ｂは、着脱部品１２の後端部に設けられる。第１コネクタ部３８Ａと第２コネクタ部３８Ｂは、互いに接続される。
　第１流路３５Ａの一端は、第１コネクタ部３８Ａに設けられる。第１流路３５Ａの他端には、導入口２２Ａが設けられる。第１導電路３７Ａの一端、及び第３導電路３７Ｃの一端は、それぞれ第１コネクタ部３８Ａに設けられる。
　第２流路３５Ｂの一端は、第２コネクタ部３８Ｂに設けられる。第２流路３５Ｂの他端には、放出口２２Ｂが設けられる。第２導電路３７Ｂの一端、及び第４導電路３７Ｄの一端は、それぞれ第２コネクタ部３８Ｂに設けられる。第２導電路３７Ｂの他端は、第１電極３１に電気的に接続される。第４導電路３７Ｄの他端は、第２電極３２に電気的に接続される。
　第１コネクタ部３８Ａに第２コネクタ部３８Ｂが接続されたときに、第１流路３５Ａから第２流路３５Ｂにガスを供給可能な状態となり、第１導電路３７Ａに第２導電路３７Ｂが電気的に接続され、第３導電路３７Ｃに第４導電路３７Ｄが電気的に接続される。
　例えば、第１流路３５Ａを構成する第１管部と、第２流路３５Ｂを構成する第２管部とが、ガス漏れを防止した状態で接続される。例えば、第１導電路３７Ａ及び第２導電路３７Ｂは、一方に雌端子が設けられ、他方に雄端子が設けられ、雌端子と雄端子が接続されることで互いに電気的に接続される。例えば、第３導電路３７Ｃ及び第４導電路３７Ｄは、一方に雌端子が設けられ、他方に雄端子が設けられ、雌端子と雄端子が接続されることで互いに電気的に接続される。
　基部１５は、入力電圧を昇圧して昇圧した電圧を放電部２３に印加する昇圧回路部３９を有する。昇圧回路部３９は、第１ケース１６内に配置される。昇圧回路部３９は、昇圧トランスを有する。昇圧回路部３９には、第１導電路３７Ａの他端及び第３導電路３７Ｃの他端が電気的に接続される。昇圧回路部３９は、電源装置１０４に基づく入力電圧を昇圧し、昇圧した電圧を第１導電路３７Ａと第３導電路３７Ｃとの間に印加する。これにより、昇圧回路部３９は、第１電極３１と第２電極３２との間に所望の電圧を印加する。
　昇圧回路部３９は、高周波電圧発生回路として機能する。昇圧回路部３９は、第２電極３２をグラウンド電位に保ちつつ、第１電極３１と第２電極３２との間に所定周波数の交流電圧を印加する。昇圧回路部３９は、高周波数（例えば、２０ｋＨｚ～３００ｋＨｚ程度）の高電圧（例えば、振幅が０．５ｋＶ～１０ｋＶの高電圧）を生成し得る回路であれば、公知の様々な回路を採用し得る。なお、昇圧回路部３９が発生させる高電圧の周波数は、一定値に固定された周波数であってもよく、変動してもよい。また、昇圧回路部３９が第１電極３１と第２電極３２との間に印加する電圧は、周期的に変化する電圧であればよく、正弦波の交流電圧であってもよく、非正弦波（例えば、矩形波、三角波など）の交流電圧であってもよい。
　着脱部品１２は、図４に示すように、外周保護部４１を有する。外周保護部４１は、絶縁性を有し、例えば樹脂材料を用いて構成される。外周保護部４１は、中空状をなす放電部２３の外周を覆う。外周保護部４１は、筒状をなしている。外周保護部４１は、第２ケース１７内に配置される。外周保護部４１の外周は、第２ケース１７に覆われる。
　着脱部品１２の第２ケース１７は、図４に示すように、先端保護部４２を有する。先端保護部４２は、絶縁性を有し、例えば樹脂材料を用いて構成される。先端保護部４２は、放電部２３の先端面を覆う。先端保護部４２は、放電部２３の先端面に接触しており、放電部２３の先端面に固定されている。先端保護部４２は、ガス誘導路２２の一部を構成している。先端保護部４２の先端部には、放出口２２Ｂが形成されている。
　着脱部品１２は、図４に示すように、スイッチ４３を有する。スイッチ４３は、第２ケース１７の上面側に設けられている。スイッチ４３は、プラズマ照射装置１００（より具体的には、プラズマ照射器具２０）からプラズマを照射する状態と、プラズマの照射を停止する状態とを切り替える操作部である。例えば、スイッチ４３は、押圧式スイッチであり、押圧状態でプラズマを照射する状態となり、押圧解除状態でプラズマの照射を停止する状態となる。なお、図４では、スイッチ４３の周辺構成（スイッチ４３の操作に基づいて放電部２３の放電等を制御する回路等）を省略しているが、一般的な制御回路等を採用することができる。
　　１－３．効果の例
　プラズマ照射装置１００は、先端部に向かってガスを誘導するガス誘導路２２と、ガス誘導路２２内でプラズマを発生させる放電部２３と、を有する。プラズマ照射装置１００は、把持部として機能する基部１５と、基部１５に対して着脱可能に取り付けられる着脱部品１２と、を備える。着脱部品１２は、上記ガス誘導路２２の先端部（放出口２２Ｂ）と、上記放電部２３と、を有する。このプラズマ照射装置１００は、放電部２３でプラズマ化したガスが、プラズマ照射装置１００のガス誘導路２２の先端部から、照射対象に向けて照射されるが、照射対象からの飛散物が付着しやすい当該先端部を有する着脱部品１２を交換することができる。しかも、放電部２３が着脱部品１２側に配置されるため、放電部２３から当該先端部までの距離を短くすることができる。したがって、この構成によれば、プラズマを照射する部位が交換可能となり、且つガス誘導路２２の先端部からプラズマが照射されやすくなる。
　更に、放電部２３は、第１電極３１、第２電極３２、及び第１電極３１と第２電極３２との間に介在する誘電体層３３Ａを含む誘電体３３、のみによって構成される。放電部２３は、第１電極３１と第２電極３２との間に電圧が印加されることに応じてガス誘導路２２内でプラズマを発生させる。この構成によれば、放電部２３を、第１電極３１と第２電極３２と誘電体３３とによって構成される簡素な構成とすることができる。
　更に、放電部２３は、着脱部品１２におけるガス誘導路２２の先端部（放出口２２Ｂ）側に配置される。放電部２３が、着脱部品１２におけるガス誘導路２２の先端部から後端側に離れて配置されると、プラズマのエネルギーが減衰してプラズマ化したガスの量が減衰していくため好ましくない。そのため、プラズマ照射装置１００では、放電部２３が着脱部品１２におけるガス誘導路２２の先端部側に配置される。このため、プラズマ照射装置１００は、プラズマ化したガスがガス誘導路２２の先端部からより一層照射されやすくなる。
　更に、着脱部品１２は、放電部２３の先端面を覆う絶縁性の先端保護部４２を有する。この構成によれば、放電部２３を着脱部品１２におけるガス誘導路２２の先端部（放出口２２Ｂ）側に配置しつつも、放電部２３の先端面を照射対象からの飛散物から保護し、且つ放電部２３よりも先端側の絶縁性を高めることができる。
　更に、放電部２３は、ガス誘導路２２の少なくとも一部を構成する中空状をなす。着脱部品１２は、放電部２３の外周を覆う絶縁性の外周保護部４１を有する。この構成によれば、放電部２３の外周を保護しつつ、放電部２３よりも外周側の絶縁性を高めることができる。
　更に、ガス誘導路２２は、基部１５に設けられる第１流路３５Ａと、着脱部品１２に設けられる第２流路３５Ｂと、を有する。プラズマ照射装置１００は、第１電極３１に電気的に接続される第１配線３６Ａと、第２電極３２に電気的に接続される第２配線３６Ｂと、を有する。第１配線３６Ａは、基部１５に設けられる第１導電路３７Ａと、着脱部品１２に設けられる第２導電路３７Ｂと、を有する。第２配線３６Ｂは、基部１５に設けられる第３導電路３７Ｃと、着脱部品１２に設けられる第４導電路３７Ｄと、を有する。基部１５は、着脱部品１２に接続される第１コネクタ部３８Ａを有する。着脱部品１２は、第１コネクタ部３８Ａに接続される第２コネクタ部３８Ｂを有する。第１流路３５Ａの一端、第１導電路３７Ａの一端、及び第３導電路３７Ｃの一端は、それぞれ第１コネクタ部３８Ａに設けられる。第２流路３５Ｂの一端、第２導電路３７Ｂの一端、及び第４導電路３７Ｄの一端は、それぞれ第２コネクタ部３８Ｂに設けられる。第１コネクタ部３８Ａに第２コネクタ部３８Ｂが接続されたときに、第１流路３５Ａから第２流路３５Ｂにガスを供給可能な状態となり、第１導電路３７Ａに第２導電路３７Ｂが電気的に接続され、第３導電路３７Ｃに第４導電路３７Ｄが電気的に接続される。この構成によれば、第１コネクタ部３８Ａに第２コネクタ部３８Ｂが接続されるだけで、第１流路３５Ａから第２流路３５Ｂにガスを供給可能な状態となり、基部１５側から第１電極３１と第２電極３２との間に電圧を印加する電気経路を構成することができる。
　更に、基部１５は、入力電圧を昇圧して昇圧した電圧を放電部２３に印加する昇圧回路部３９を有する。この構成によれば、基部１５よりも後方から昇圧された電力が供給される構成と比較して、放電部２３の近くで昇圧することができるため、電力損失が少ない。しかもこの構成によれば、着脱部品１２の交換時に昇圧部を交換しなくて済む。
　２．第２実施形態
　第２実施形態では、放電部２３の先端面が露出される例について説明する。なお、第２実施形態の説明では、第１実施形態と同じ構成については同じ符号を付し、詳しい説明を省略する。
　図５に示す第２実施形態の着脱部品２１２は、第１実施形態の着脱部品１２から先端保護部４２を除いた構成に相当する。着脱部品２１２の第２ケース２１７は、着脱部品２１２の外殻をなす。第２ケース２１７は、筒状をなす。第２ケース２１７は、第１実施形態の第２ケース１７から先端保護部４２を除いた構成に相当する。
　放電部２３の外周は、外周保護部４１によって覆われる。外周保護部４１の外周は、第２ケース２１７によって覆われる。
　放電部２３における誘電体３３の先端は、着脱部品２１２の先端に露出する。また、誘電体３３の先端は、第１電極３１及び第２電極３２のいずれよりも先端部側に配置される。この構成によれば、放電部２３を着脱部品２１２における先端部側に配置しつつも、誘電体３３によって第１電極３１及び第２電極３２よりも先端側の絶縁性を確保することができる。
　３．第３実施形態
　第３実施形態では、第２実施形態で説明した放電部２３の先端面に、保護部材を取り付けた例を説明する。なお、第３実施形態の説明では、第２実施形態と同じ構成については同じ符号を付し、詳しい説明を省略する。
　第３実施形態のプラズマ照射装置は、保護部材３８０（図６参照）を有する点で第２実施形態のプラズマ照射装置とは異なり、その他の点で共通する。図６に示すように、保護部材３８０は、第２実施形態で説明した着脱部品２１２に取り付けられる。保護部材３８０は、環状をなす。保護部材３８０は、放出口２２Ｂを塞がないように、放電部２３の先端面（より具体的には、誘電体３３の先端面）に取り付けられる。保護部材３８０は、放電部２３の先端面（より具体的には、誘電体３３の先端面）を覆う。この構成によれば、保護部材３８０によって、放電部２３の先端面を保護しつつ、放電部２３よりも先端側の絶縁性を確保することができる。
＜他の実施形態＞
　本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。また、上述した実施形態や後述する実施形態の様々な特徴は、矛盾しない組み合わせであればどのように組み合わされてもよい。
　昇圧回路部は、基部以外に設けられてもよい。例えば、昇圧回路部は、着脱部品に設けられてもよいし、基部よりも後端側に設けられてもよい。
　ガスは、基部を経由せずに、着脱部品に供給される構成であってもよい。
　なお、今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、今回開示された実施の形態に限定されるものではなく、請求の範囲によって示された範囲内又は請求の範囲と均等の範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
１２…着脱部品
１５…基部
２２…ガス誘導路
２２Ｂ…放出口（ガス誘導路の先端部）
２３…放電部
３１…第１電極
３２…第２電極
３３…誘電体
３３Ａ…誘電体層
３５Ａ…第１流路
３５Ｂ…第２流路
３６Ａ…第１配線
３６Ｂ…第２配線
３７Ａ…第１導電路
３７Ｂ…第２導電路
３７Ｃ…第３導電路
３７Ｄ…第４導電路
３８Ａ…第１コネクタ部
３８Ｂ…第２コネクタ部
３９…昇圧回路部
４１…外周保護部
４２…先端保護部
１００…プラズマ照射装置
２１２…着脱部品
Ｐ…プラズマ

Claims (8)

  1. 　先端部に向かってガスを誘導するガス誘導路と、
    　前記ガス誘導路内でプラズマを発生させる放電部と、を有するプラズマ照射装置であって、
    　把持部として機能する基部と、
    　前記ガス誘導路の前記先端部と、前記放電部と、を有し、前記基部に対して着脱可能に取り付けられる着脱部品と、を備える
    　プラズマ照射装置。
  2. 　前記放電部は、第１電極、第２電極、及び前記第１電極と前記第２電極との間に介在する誘電体層を含む誘電体、のみによって構成され、前記第１電極と前記第２電極との間に電圧が印加されることに応じて前記ガス誘導路内でプラズマを発生させる
    　請求項１に記載のプラズマ照射装置。
  3. 　前記放電部は、前記着脱部品における前記先端部側に配置される
    　請求項２に記載のプラズマ照射装置。
  4. 　前記着脱部品は、前記放電部の先端面を覆う絶縁性の先端保護部を有する
    　請求項２又は請求項３に記載のプラズマ照射装置。
  5. 　前記誘電体の先端は、前記第１電極及び前記第２電極のいずれよりも前記先端部側に配置され、前記着脱部品の先端に露出する
    　請求項２又は請求項３に記載のプラズマ照射装置。
  6. 　前記放電部は、前記ガス誘導路の少なくとも一部を構成する中空状をなし、
    　前記着脱部品は、前記放電部の外周を覆う絶縁性の外周保護部を有する
    　請求項２から請求項５のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。
  7. 　前記ガス誘導路は、前記基部に設けられる第１流路と、前記着脱部品に設けられる第２流路と、を有し、
    　前記プラズマ照射装置は、前記第１電極に電気的に接続される第１配線と、前記第２電極に電気的に接続される第２配線と、を有し、
    　前記第１配線は、前記基部に設けられる第１導電路と、前記着脱部品に設けられる第２導電路と、を有し、
    　前記第２配線は、前記基部に設けられる第３導電路と、前記着脱部品に設けられる第４導電路と、を有し、
    　前記基部は、前記着脱部品に接続される第１コネクタ部を有し、
    　前記着脱部品は、前記第１コネクタ部に接続される第２コネクタ部を有し、
    　前記第１流路の一端、前記第１導電路の一端、及び前記第３導電路の一端は、それぞれ前記第１コネクタ部に設けられ、
    　前記第２流路の一端、前記第２導電路の一端、及び前記第４導電路の一端は、それぞれ前記第２コネクタ部に設けられ、
    　前記第１コネクタ部に前記第２コネクタ部が接続されたときに、前記第１流路から前記第２流路にガスを供給可能な状態となり、前記第１導電路に前記第２導電路が電気的に接続され、前記第３導電路に前記第４導電路が電気的に接続される
    　請求項２から請求項６のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。
  8. 　前記基部は、入力電圧を昇圧して昇圧した電圧を前記放電部に印加する昇圧回路部を有する
    　請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のプラズマ照射装置。
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JP2022011605A (ja) * 2020-06-30 2022-01-17 日本特殊陶業株式会社 プラズマ照射装置

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