WO2024053394A1 - シールド導体、及び、開閉装置 - Google Patents

シールド導体、及び、開閉装置 Download PDF

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WO2024053394A1
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shield conductor
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high voltage
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健次 岡本
秀好 増井
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富士電機株式会社
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    • H02G—INSTALLATION OF ELECTRIC CABLES OR LINES, OR OF COMBINED OPTICAL AND ELECTRIC CABLES OR LINES
    • H02G5/00—Installations of bus-bars
    • H02G5/06—Totally-enclosed installations, e.g. in metal casings

Definitions

  • the present invention relates to a shield conductor and a switchgear using the same.
  • a gas insulated switchgear has a structure in which a high voltage conductor is placed in a metal sealed container.
  • a solid insulator called an insulating spacer is used to fix the high-voltage conductor at a predetermined position in a sealed container.
  • a sealed container is filled with SF 6 gas.
  • a high voltage conductor is provided in the center of the insulating spacer and is supported by the insulating spacer.
  • shield conductors larger than the diameter of the high-voltage conductor on both sides of the insulating spacer are attached. It will be done.
  • the insulating property of dry air was about 1/3 that of SF 6 , and the electric field strength on the surface of the shield conductor protruding from the outer peripheral surface of the high-voltage conductor became too high, which became the starting point of dielectric breakdown.
  • the present invention aims to provide a shield conductor with improved insulation properties, and a switchgear using the same.
  • a shield conductor according to one aspect of the present invention is a shield conductor used for electric field relaxation, and is characterized in that the surface of the shield conductor is coated with a resin containing nanofiller.
  • a switchgear includes a sealed container, an insulating spacer fixed inside the sealed container, a high voltage conductor disposed on both sides of the center of the insulating spacer, and a high voltage conductor attached to the high voltage conductor on both sides.
  • the above-described shield conductor having a diameter larger than that of the high-voltage conductor, and the surface of the shield conductor is coated with a resin containing nanofiller.
  • the shielded conductor can be preferably used in a switchgear using dry air, and the switchgear can be made more compact.
  • FIG. 2 is a sectional view of the opening/closing device according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of a conventional opening/closing device.
  • FIG. 1 is a sectional view of a switchgear 1 according to an embodiment of the present invention.
  • the switchgear 1 includes a sealed container 2, an insulating spacer 3 fixed inside the sealed container 2, a high voltage conductor 4 disposed on both sides of the center of the insulating spacer 3, and a high voltage conductor 4.
  • the shield conductor 5 has a diameter larger than that of the shield conductor 5.
  • the insulating spacer 3 is a solid insulator for fixing the high voltage conductor 4 at a predetermined position in the sealed container 2, and is, for example, in the shape of a cone as shown in FIG.
  • the shape of the insulating spacer 3 is not limited, and can be in various shapes, such as a disk shape, a configuration with axially symmetrical unevenness, or a configuration in which multiple (for example, three) high voltage conductors 4 penetrate. Applicable.
  • a metal flange 6 is attached to the outer peripheral edge of the insulating spacer 3.
  • the metal flange 6 is sandwiched between the connecting flange 7 of the sealed container 2, and the insulating spacer 3 is secured to the bolt 8. , fixed to the sealed container 2.
  • the material of the insulating spacer 3 is not limited, it has a structure in which an inorganic filler is mixed into a thermosetting resin.
  • the thermosetting resin epoxy resin can be preferably used.
  • the inorganic filler it is preferable to add at least one of alumina, silica, dolomite, titanium oxide, barium titanate, strontium titanate, and the like.
  • a conductor for supplying high voltage current is attached to the central axis A of the insulating spacer 3.
  • the conductors include an insulated spacer shield conductor 9 buried inside the insulated spacer 3, a high voltage conductor 4 that is integrated with the insulated spacer shield conductor 9, and is arranged to extend on both sides of the insulated spacer 3;
  • a shield conductor 5 is disposed on both sides of the insulating spacer 3 in the middle of the high voltage conductor 4 and has a diameter d2 larger than a diameter d1 of the high voltage conductor 4. Therefore, the shield conductor 5 protrudes from the outer peripheral surface of the high voltage conductor 4 in a ring shape.
  • the height of the shield conductor 5 protruding from the outer peripheral surface of the high voltage conductor 4 is not limited, it is approximately 5 mm to 30 mm. Note that, as shown in FIG. 1, the diameter d3 of the shield conductor 9 within the insulating spacer is also larger than the diameter d1 of the high voltage conductor 4.
  • the high voltage conductor 4 includes a first high voltage conductor 4a located between the shield conductor 9 in the insulating spacer and the shield conductor 5, and a first high voltage conductor 4a located outside the shield conductor 5 and extending in a direction away from the insulating spacer 3. It has a second high voltage conductor 4b.
  • the shield conductor 9 in the insulating spacer and the first high voltage conductor 4a are integrally formed and buried in the insulating spacer 3, and the shield conductor 5 and the second high voltage conductor 4b are connected to the first high voltage conductor 4a. , for example, it is possible to incorporate it by concavo-convex fitting.
  • the shield conductor 5 and the second high voltage conductor 4b may be formed integrally, or may be formed separately and assembled.
  • the materials of the shield conductor 9, high voltage conductor 4, and shield conductor 5 in the insulating spacer are not limited, they are formed of, for example, aluminum (Al) or an aluminum alloy. All of the conductors can be made of the same metal, or they can be made of different metals depending on the location or member.
  • the shield conductor 5 has an inner surface (first side surface) 5a close to the insulating spacer 3, an outer surface (second side surface) 5b far from the insulating spacer 3, and a space between the inner surface 5a and the outer surface 5b. and an outer circumferential surface 5c connecting the two.
  • a convex curved surface B1 is formed between the inner surface 5a and the outer circumferential surface 5c
  • a convex curved surface B2 is formed between the outer surface 5b and the outer circumferential surface 5c.
  • the space between the inner surface 5a, the outer surface 5b, and the outer circumferential surface 5c is a convexly curved surface and does not have a sharp shape, which can alleviate electric field concentration.
  • a gap T1 is provided between the inner surface 5a of the shield conductor 5 and the insulating spacer 3. As shown in FIG., the gap T1 has a size of about 5 mm to 30 mm. By setting the distance to this extent, the electric field strength can be appropriately relaxed. As shown in FIG. 1, in this embodiment, the surface of the shield conductor 5 is coated with a resin 10 containing nanofiller.
  • the inside of the sealed container 2 is filled with highly insulating SF 6 gas 11.
  • the shield conductors 5 arranged on both sides of the insulating spacer 3 in the direction of the central axis A are used to alleviate electric field concentration at the triple junction C where the insulating spacer 3, the high voltage conductor 4, and the SF 6 gas 11 are in contact with each other. established in
  • the insulating properties of dry air are as low as about 1/3 that of SF 6 gas, and the electric field strength on the surface of the shield conductor 5 shown in FIG. dielectric breakdown was likely to occur starting from
  • the insulation properties of dry air are about 1/3 or less lower than those of SF 6 gas, so it was necessary to increase the insulation distance to maintain the same insulation properties as SF 6 gas. .
  • more economical efficiency has been required, and it has been desired to make the switchgear more compact, making it difficult to make it larger. For this reason, as miniaturization is promoted, the electric field strength on the convex curved surface B1 of the shield conductor 5 becomes higher and higher, which becomes a weak point in terms of insulation.
  • the present inventors coated the surface of the shield conductor 5 with a resin 10 containing nanofiller, as shown in FIG. As a result, electron emission from the convex curved surface B1 of the shield conductor 5 can be suppressed, and the insulation properties of the shield conductor 5 can be improved.
  • the nanofiller-containing resin 10 of this embodiment only needs to be coated on the surface of the shield conductor 5, that is, it is not necessary to coat the surface of the high voltage conductor 4. This allows for relatively easy construction. Moreover, by coating the entire exposed surface of the shield conductor 5 with the resin 10, rather than coating the resin 10 containing nanofiller only on the convex curved surface B1 of the shield conductor 5 where the electric field strength is particularly high, The insulation of the shield conductor 5 can be effectively improved, and the workability is also excellent.
  • the shield conductor 5 can be provided separately from the high voltage conductor 4, and the shield conductor 5 whose surface is coated with the resin 10 containing nanofiller can be incorporated into the high voltage conductor 4.
  • the method of applying the resin 10 is not limited, but may include spray coating, brush coating, fluid dipping, and the like.
  • the resin material used for the nanofiller-containing resin 10 is a fluid insulating resin.
  • the insulating resin is preferably a thermosetting resin.
  • the thermosetting resin is an epoxy resin, a maleimide resin, a cyanate resin, or a mixture thereof. Among these, it is preferable to select an epoxy resin as the thermosetting resin.
  • the epoxy resin includes an epoxy resin base resin, a curing agent, and a curing accelerator.
  • the curing accelerator is arbitrarily selected.
  • the epoxy resin base an aliphatic epoxy resin, an alicyclic epoxy resin, or a mixture thereof can be used.
  • aliphatic epoxy resins include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, trifunctional or higher polyfunctional type epoxy resin, etc.
  • the present invention is not limited to these, and one kind of these can be used alone or two or more kinds can be used in combination.
  • alicyclic epoxy resins include monofunctional epoxy resins, bifunctional epoxy resins, trifunctional or higher functional epoxy resins, but are not limited to these. They can be used alone or in combination of two or more.
  • the curing agent for the thermosetting resin is not particularly limited as long as it reacts with the epoxy resin base material and can be cured.
  • the curing agent for the thermosetting resin is an aromatic acid anhydride, and specific examples thereof include phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, and the like.
  • the curing agent for the thermosetting resin is a cyclic aliphatic acid anhydride, specifically, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl anhydride. Examples include nadic acid.
  • the curing agent for the thermosetting resin is an aliphatic acid anhydride, and specific examples thereof include succinic anhydride, polyadipic anhydride, polysebacic anhydride, polyazelaic anhydride, and the like. Note that the curing agent for the thermosetting resin may be other than those listed above.
  • the curing accelerator imidazole or its derivatives, tertiary amines, borate esters, Lewis acids, organometallic compounds, organic acid metal salts, etc. can be used as appropriate, but are not limited to these. .
  • the nanofiller used in this embodiment will be explained.
  • the size and material of the nanofillers dispersed in the resin 10 are selected so that they can exhibit the effects of this embodiment, that is, the effect of promoting electron emission suppression and improving the insulation properties of the shield conductor 5. can be done.
  • the particle size of the nanofiller is preferably 100 nm or less, but even if the particle size exceeds 100 nm, if the same effect as in this embodiment can be obtained, the particle size falls under the nanofiller in this embodiment.
  • the particle size of the nanofiller is preferably 100 nm or less, more preferably 90 nm or less, and even more preferably 80 nm or less.
  • the particle size of the nanofiller is measured by averaging the particle size of a plurality of nanofillers (preferably 10 or more) using a SEM, but is not limited thereto.
  • the average of the maximum length and minimum length of the nanofiller is defined as the particle size of the nanofiller.
  • measurement data listed in a material manufacturer's catalog or the like is used.
  • existing dynamic light scattering methods, laser diffraction methods, centrifugal sedimentation methods, FFF methods, electrical detection methods, etc. can be applied to measure the particle size of nanofillers.
  • the nanofiller may have a cross section other than circular, for example, an ellipse or other irregular shape. In either case, the particle size of the nanofiller is measured as described above.
  • Nanofillers are inorganic fillers, and specifically include silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), boron nitride (BN), titanium oxide (TiO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), and titanium.
  • silica SiO 2
  • alumina Al 2 O 3
  • BN boron nitride
  • TiO 2 titanium oxide
  • strontium titanate SrTiO 3
  • titanium strontium titanate
  • barium acid BaTiO 3
  • silica, alumina, titanium oxide, or barium titanate can be preferably selected as the nanofiller.
  • the nanofiller is mixed into the resin 10 in an amount of about 5% by volume or less. More specifically, about 0.05% to 3% by volume is mixed. Thereby, the nanofiller can be appropriately dispersed in the resin 10 and can exhibit high insulation properties.
  • the resin 10 contains not only nanofiller, but also submicro (also referred to as "semi-micro") filler whose particle size is larger than nanofiller, taking into account workability and mechanical properties during coating. It is also possible to mix microfillers with a larger particle size than sub-microfillers.
  • the particle size of the sub-microfiller is 100 nm or more and 1 ⁇ m or less, preferably 200 nm to less than 1 ⁇ m. Further, the particle size of the microfiller is 1 ⁇ m or more. It is preferable that the total amount of nanofiller, submicrofiller, and microfiller is adjusted to 50% by volume or less.
  • the composition of the coating resin 10 is such that the above-mentioned thermosetting resin base, curing agent, curing accelerator, and inorganic filler such as nanofiller are combined with physical properties such as dielectric constant and heat resistance. The operator can make appropriate decisions to achieve the target value.
  • the thickness of the resin 10 is approximately several tens of ⁇ m to 100 ⁇ m. By forming the thickness of the resin 10 within this range, it is possible to improve workability and insulation.
  • the shield conductor 5 of this embodiment is applied, for example, to the switchgear 1 shown in FIG. 1, and is used for electric field relaxation.
  • an insulating spacer 3 is fixedly supported inside a sealed container 2, and a high voltage conductor 4 is attached to the center of the insulating spacer 3.
  • a shield conductor 5 having a larger diameter than the high voltage conductor 4 is provided on each of the high voltage conductors 4 located on both sides of the insulating spacer 3.
  • the surface of the shield conductor 5 is coated with a resin 10 containing nanofiller.
  • the average particle size of the SiO2 nanofiller shown in Table 1 was 50 nm. Further, the average particle size of the TiO 2 nanofiller shown in Table 1 was 40 nm. Further, the average particle size of the SrTiO 3 nanofiller shown in Table 1 was 70 nm. Moreover, the average particle size of the SiO 2 microfiller was 1.5 ⁇ m.
  • test method is based on the description in "Creepage flashover characteristics of gas insulated switchgear spacer model using novel functional insulating material" (IEEJ Dielectric Insulating Materials Study Group manuscript: Paper No. DEI-19-116).
  • the experimental results of the flashover characteristics using the single application method are shown in Table 2 below.
  • V 63.2 shown in Table 2 is the value at which the FOV occurrence probability is 63.2% based on the Weibull distribution of the FOV measured by measuring the instantaneous voltage that flashed over as FOV in an experiment using a single application method. It is.
  • Table 2 The parentheses in Table 2 indicate the rate of increase relative to V 63.2 in the comparative example. As shown in Table 2, the FOV improvement effect was observed in all of the reference examples compared to the comparative example.
  • a shield conductor 5 which increases the electric field strength of the convex curved surface of the shield conductor surface.
  • the present inventors coated the surface of the shield conductor 5 with a resin 10 containing nanofiller so that the electron emission suppressing effect based on the deep electron trap caused by the addition of nanoparticles could be obtained on the surface of the shield conductor. be.
  • the surface of the shield conductor with a resin containing nanofiller and also add nanofiller to the insulating spacer 3.
  • the sealed container 2 is filled with dry air 12, and it is preferable not to use a gas having a high global warming potential, such as SF 6 gas.
  • the surface of the shield conductor 5 is coated with the resin 10 containing nanofiller, so that electrons on the convex curved surface B1, which is the starting point of dielectric breakdown, are prevented. Release can be suppressed and insulation deterioration can be improved.
  • the switchgear 1 is made more compact, it is possible to improve the reduction in dielectric breakdown voltage caused by making the switchgear 1 more compact.
  • the insulation of the shield conductor 5 can be improved by using dry air and by making it more compact, and it is possible to use a gas with a high global warming potential such as SF6 gas. Therefore, it is possible to provide a switchgear 1 that can be made more compact.
  • the shield conductor of the present invention insulation properties can be improved, and it can be effectively applied to applications in which electric fields are relaxed.
  • a shielded conductor to a switchgear, it is possible to realize a switchgear that uses dry air and is compact.
  • Switchgear 2 Sealed container 3 : Insulating spacer 4 : High voltage conductor 4a : First high voltage conductor 4b : Second high voltage conductor 5 : Shield conductor 5a : Inner surface 5b : Outer surface 5c : Outer peripheral surface 6 : Metal flange 7: Connection flange 8: Bolt 9: Shield conductor in insulated spacer 11: SF 6 Gas 12: Dry air A: Central axis B1, B2: Convex curved surface T1: Gap

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Abstract

シールド導体の絶縁性を向上させたシールド導体、及び、それを用いた開閉装置を提供することを目的とする。本発明の一態様は、電界緩和に供されるシールド導体（５）であって、前記シールド導体の表面は、ナノフィラーを含有した樹脂（１０）で被覆されている、ことを特徴とする。また、本発明の一態様の開閉装置（１）は、密封容器（２）と、前記密封容器の内部に固定された絶縁スペーサ（３）と、前記絶縁スペーサの中心の両側に配置された高圧導体（４）と、両側の前記高圧導体に取り付けられ、前記高圧導体よりも径が大きいシールド導体（５）と、を有し、前記シールド導体の表面は、ナノフィラーを含有した樹脂（１０）で被覆されている、ことを特徴とする。

Description

シールド導体、及び、開閉装置
　本発明は、シールド導体、及び、それを用いた開閉装置に関する。
　下記特許文献に示すように、ガス絶縁開閉装置は、金属製の密封容器の中に、高圧導体が配置された構造を備えている。このようなガス絶縁開閉装置において、高圧導体を密封容器の所定の位置に固定するための絶縁スペーサと呼ばれる固体絶縁物が用いられている。従来において、密封容器内には、ＳＦ６ガスが充填されている。絶縁スペーサの中央部には高圧導体が設けられ絶縁スペーサに支持される。
　そして、絶縁スぺーサと、高圧導体と、ＳＦ６ガスとの三重点（トリプルジャンクション）での電界集中を緩和するために、絶縁スペーサの両側の高圧導体にはその径より大きいシールド導体が取り付けられる。
国際公開第２０１９／１１１８９１号 特開平１１－２１５６３０号公報 特開２００４－５６９２７号公報
　ところで、ＳＦ６ガスは、地球温暖化係数がＣＯ２の２万倍以上となるため、代替ガス化が推進されている。そこで、代替ガスのひとつとして、乾燥空気の採用が推進されている。
　しかしながら、乾燥空気の絶縁性は、ＳＦ６の約１／３であり、高圧導体の外周面から突出したシールド導体表面の電界強度が高くなりすぎて絶縁破壊の起点となった。
　また、より経済性が要求されるようになり、開閉装置のコンパクト化が望まれているが、コンパクト化を推進すれば、ますます、シールド導体表面の電界強度が高くなり、絶縁上の弱点となった。
　そこで本発明は、上記従来技術の問題点を鑑み、シールド導体の絶縁性を向上させたシールド導体、及び、それを用いた開閉装置を提供することを目的とする。
　本発明の一態様のシールド導体は、電界緩和に供されるシールド導体であって、前記シールド導体の表面は、ナノフィラーを含有した樹脂で被覆されている、ことを特徴とする。
　本発明の一態様の開閉装置は、密封容器と、前記密封容器の内部に固定された絶縁スペーサと、前記絶縁スペーサの中心の両側に配置された高圧導体と、両側の前記高圧導体に取り付けられ、前記高圧導体よりも径が大きい上記に記載のシールド導体と、を有し、前記シールド導体の表面は、ナノフィラーを含有した樹脂で被覆されている、ことを特徴とする。
　本発明によれば、絶縁性に優れたシールド導体にできる。本発明では、該シールド導体を乾燥空気を用いた開閉装置に好ましく用いることができ、開閉装置のコンパクト化を促進できる。
本実施の形態に係る開閉装置の断面図である。 従来例に係る開閉装置の断面図である。
　以下、本実施の形態に係る開閉装置について、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲内で適宜変形して実施することができる。
＜開閉装置１の概要＞
　図１は、本発明の実施の形態に係る開閉装置１の断面図である。図１に示すように、開閉装置１は、密封容器２と、密封容器２の内部に固定された絶縁スペーサ３と、絶縁スペーサ３の中心の両側に配置された高圧導体４と、高圧導体４よりも径が大きいシールド導体５と、を有して構成される。
［絶縁スペーサ３］
　絶縁スペーサ３は、高圧導体４を密封容器２の所定の位置に固定するための固体絶縁物であり、例えば、図１に示すコーン型である。ただし、絶縁スペーサ３の形状は限定されるものでなく、円盤型、軸対称の凹凸を設けた構成、或いは、複数本（例えば３本）の高圧導体４が貫通する構成など、様々な形状に適用可能である。
　図１に示すように、絶縁スペーサ３の外周縁部には金属フランジ６が取り付けられており、金属フランジ６は、密封容器２の連結フランジ７に挟まれて、絶縁スペーサ３が、ボルト８により、密封容器２に固定される。
　絶縁スペーサ３の材質を限定するものではないが、熱硬化性樹脂に無機フィラーを混入した構成である。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂を好ましく使用できる。また無機フィラーとしては、アルミナ、シリカ、ドロマイト、酸化チタン、チタン酸バリウム、及び、チタン酸ストロンチウム等のうち少なくとも１種を添加することが好ましい。
［導体］
　図１に示すように、絶縁スペーサ３の中心軸Ａには、高圧電流を通電するための導体が取り付けられている。導体は、絶縁スぺーサ３の内部に埋設された絶縁スペーサ内シールド導体９と、絶縁スペーサ内シールド導体９と一体的となり、絶縁スペーサ３の両側に延出して配置された高圧導体４と、高圧導体４の途中位置にて絶縁スペーサ３の両側に配置され、高圧導体４の径ｄ１よりも径ｄ２が大きいシールド導体５と、を有して構成される。このため、シールド導体５は、高圧導体４の外周面からリング状に突出している。高圧導体４の外周面からのシールド導体５の突出高さを限定するものではないが、５ｍｍ～３０ｍｍ程度である。なお、図１に示すように、絶縁スペーサ内シールド導体９の径ｄ３も、高圧導体４の径ｄ１より大きい。
　例えば、高圧導体４は、絶縁スペーサ内シールド導体９とシールド導体５との間に位置する第１の高圧導体４ａと、シールド導体５の外側に配置され、絶縁スペーサ３から離れる方向に延出する第２の高圧導体４ｂと、を有する。そして、絶縁スペーサ内シールド導体９と第１の高圧導体４ａとは一体的に形成されて絶縁スペーサ３内に埋設され、シールド導体５及び第２の高圧導体４ｂが、第１の高圧導体４ａに、例えば、凹凸嵌合により組み込むことが可能とされている。シールド導体５と第２の高圧導体４ｂは一体で形成され、或いは、別体で形成され組み立ててもよい。
　絶縁スペーサ内シールド導体９、高圧導体４、及びシールド導体５の材質を限定するものではないが、例えば、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金で形成される。導体のすべてを同じ金属で形成でき、或いは、場所や部材に応じて異なる金属で形成することもできる。
　シールド導体５は、絶縁スペーサ３と近い側の内側面（第１の側面）５ａと、絶縁スペーサ３から遠い側の外側面（第２の側面）５ｂと、内側面５ａ及び外側面５ｂの間をつなぐ外周面５ｃと、を有して構成される。そして、内側面５ａと外周面５ｃとの間が凸曲面Ｂ１で形成され、外側面５ｂと外周面５ｃとの間が凸曲面Ｂ２で形成される。このように、内側面５ａ及び外側面５ｂと外周面５ｃとの間は、凸型に湾曲した面であり、尖った形状とはなっておらず、電界集中を緩和できる。
　図１に示すように、シールド導体５の内側面５ａと絶縁スペーサ３との間には、隙間Ｔ１が設けられている。限定されるものではないが、隙間Ｔ１は、５ｍｍ～３０ｍｍ程度の大きさである。この程度の距離とすることで、電界強度の緩和を適切に図ることができる。
　図１に示すように、本実施の形態では、シールド導体５の表面は、ナノフィラーを含有した樹脂１０で被覆されている。
＜従来技術の課題、及び、本実施の形態に至る経緯＞
　これに対して、図２に示す従来例では、シールド導体５の表面には、ナノフィラーを含有した樹脂１０が被覆されておらず、シールド導体５の導体面が露出している。なお、図２において、図１と同じ符号は、同じ部材を示している。
　図２の従来例においては、密封容器２の内部に、絶縁性の高いＳＦ６ガス１１が充填されていた。絶縁スペーサ３の中心軸Ａ方向の両側に配置されたシールド導体５は、絶縁スペーサ３と、高圧導体４と、ＳＦ６ガス１１とが接する三重点（トリプルジャンクション）Ｃの電界集中を緩和するために設けられる。
　ところで、ＳＦ６ガス１１は、地球温暖化係数がＣＯ２の２万倍以上と高いことから、ＳＦ６ガス１１に代わって、乾燥空気の採用が推進されている。
　しかしながら、乾燥空気の絶縁性は、ＳＦ６ガスの約１／３と低く、図２に示すシールド導体５の表面の特に、三重点Ｃに近い側の凸曲面Ｂ１における電界強度が高くなり、ここを起点として絶縁破壊が生じやすかった。
　このように、乾燥空気の絶縁性は、ＳＦ６ガスの絶縁性に比べて１／３程度以下に低いため、ＳＦ６ガスと同様の絶縁性を保つには絶縁距離を増大する必要があった。しかしながら、近年、より経済性が要求されるようになり、開閉装置のコンパクト化が望まれており、大型化が困難であった。このため、コンパクト化を推進すれば、ますます、シールド導体５の凸曲面Ｂ１における電界強度が高くなり、絶縁上の弱点となった。
　そこで、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、図１に示すように、シールド導体５の表面を、ナノフィラーを含有した樹脂１０で被覆した。これにより、シールド導体５の凸曲面Ｂ１からの電子放出を抑制でき、シールド導体５の絶縁性を向上させるに至った。
＜ナノフィラーを含有した樹脂１０＞
　本実施の形態のナノフィラーを含有した樹脂１０は、図１に示すように、シールド導体５の表面にのみ被覆すればよく、すなわち、高圧導体４の表面にまで被覆することは必要でない。これにより、比較的容易に施工が可能である。また、シールド導体５の特に電界強度が高くなる凸曲面Ｂ１のみにナノフィラーを含有した樹脂１０を被覆する構成とするよりも、露出するシールド導体５の表面全域に樹脂１０を被覆することで、シールド導体５に対する絶縁性向上を効果的に図ることができ、且つ施工性にも優れる。また、例えば、シールド導体５を、高圧導体４とは別個に設けておき、ナノフィラーを含有した樹脂１０を表面に被覆したシールド導体５を、高圧導体４に組み込むことができる。また、樹脂１０の施工方法を限定するものではないが、スプレー塗装や刷毛塗り、或いは、流動浸漬等を提示できる。
　ナノフィラーを含有した樹脂１０に用いる樹脂材は、流体状の絶縁性樹脂である。絶縁性樹脂としては、熱硬化性樹脂であることが好ましい。例えば、熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂、シアネート樹脂、あるいはそれらの混合物である。このうち、熱硬化性樹脂として、エポキシ樹脂を選択することが好ましい。
　エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂主剤と、硬化剤と、硬化促進剤と、を含むことが好ましい。このうち、硬化促進剤は、任意に選択される。エポキシ樹脂主剤としては、脂肪族エポキシ樹脂、或いは、脂環式エポキシ樹脂、又は、これらの混合物を用いることができる。脂肪族エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、３官能以上の多官能型エポキシ樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、これらのうち１種を単独で、または２種類以上を混合して使用することができる。
　脂環式エポキシ樹脂としては、単官能型エポキシ樹脂、２官能型エポキシ樹脂、３官能以上の多官能型エポキシ樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものでなく、これらのうち１種を単独で、または２種類以上を混合して使用することができる。
　熱硬化性樹脂の硬化剤としては、エポキシ樹脂主剤と反応し、硬化しうるものであれば、特に限定されない。例えば、熱硬化性樹脂の硬化剤は、芳香族酸無水物であり、具体的には、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸等が挙げられる。あるいは、熱硬化性樹脂の硬化剤は、環状脂肪族酸無水物であり、具体的には、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸等が挙げられる。または、熱硬化性樹脂の硬化剤は、脂肪族酸無水物であり、具体的には、無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物等を挙げることができる。なお、熱硬化性樹脂の硬化剤としては上記に挙げたもの以外であってもよい。また、硬化促進剤としては、イミダゾール、もしくはその誘導体、三級アミン、ホウ酸エステル、ルイス酸、有機金属化合物、有機酸金属塩等を適宜用いることができるが、これらに限定されるものではない。
　本実施の形態に使用されるナノフィラーについて説明する。樹脂１０中に分散されるナノフィラーは、本実施の形態の効果、すなわち、電子放出抑制効果を促進でき、シールド導体５の絶縁性を高めることができる効果を発揮可能な大きさ及び材質が選択され得る。具体的には、ナノフィラーの粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましいが、１００ｎｍを超えても、本実施の形態と同等の効果が得られれば本実施の形態におけるナノフィラーに該当する。ただし、ナノフィラーの粒径は、１００ｎｍ以下とすることが好ましく、９０ｎｍ以下とすることがより好ましく、８０ｎｍ以下とすることが更に好ましい。
　限定されるものではないが、例えば、ナノフィラーの粒径の測定は、ＳＥＭにて、複数個（１０個以上が望ましい）のナノフィラーの粒径を平均化して求める。測定方法では、ナノフィラーの最大長さと最小長さの平均をナノフィラーの粒径と定義する。
　あるいは、材料メーカのカタログ等に記載された測定データが使用される。または、ナノフィラーの粒径の測定として、既存の、動的光散乱法、レーザ回折法、遠心沈降法、ＦＦＦ法、及び、電気的検知体法等を適用できる。
　ナノフィラーは、断面が円形以外、例えば、楕円形やそれ以外の不定形であってもよい。いずれの場合もナノフィラーの粒径の測定は、上記に従って行う。
　ナノフィラーは、無機フィラーであり、具体的には、シリカ（ＳｉＯ２）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、窒化ホウ素（ＢＮ）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）のうち、いずれか１種、又は２種以上を選択できる。このうち、ナノフィラーには、シリカ、アルミナ、酸化チタン、或いは、チタン酸バリウムが好ましく選択できる。
　限定されるものではないが、ナノフィラーは、樹脂１０中に、５体積程度％以下、混合される。より具体的には、０．０５体積％～３体積％程度混合される。これにより、ナノフィラーが樹脂１０中で適度に分散し、且つ高い絶縁性を発揮できる。
　また、樹脂１０中には、ナノフィラーのみでなく、被覆時の作業性や機械的物性を考慮して、ナノフィラーよりも粒径が大きいサブマイクロ（「セミマイクロ」と称することもできる）フィラーや、サブマイクロフィラーよりも粒径が大きいマイクロフィラーを混合できる。サブマイクロフィラーの粒径は、１００ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２００ｎｍ～１μｍ未満である。また、マイクロフィラーの粒径は１μｍ以上である。ナノフィラー、サブマイクロフィラー及びマイクロフィラーをすべて合わせて、５０体積％以下に調整することが好ましい。
　本実施の形態において、被覆する樹脂１０の組成は、上記した熱硬化性樹脂主剤、硬化剤、硬化促進剤、及び、ナノフィラー等の無機充填材を、誘電率及び耐熱性などの物性値が目的値を達成するように、作業者が適宜決定できる。
　限定されるものではないが、樹脂１０の厚みは、数１０μｍ～１００μｍ程度である。樹脂１０の厚みをこの程度の範囲で形成することで、施工性とともに絶縁性を向上させることができる。
＜ナノフィラーを含有した樹脂１０を被覆したシールド導体５＞
　本実施の形態のシールド導体５は、例えば、図１に示す開閉装置１に適用され、電界緩和に供される。図１に示すように、開閉装置１では、密封容器２の内部に絶縁スペーサ３が固定支持され、絶縁スペーサ３の中心に高圧導体４が取り付けられる。そして、絶縁スペーサ３の両側に位置する高圧導体４にそれぞれ、高圧導体４よりも径の大きいシールド導体５が設けられる。このような使用形態にあっては、高圧導体４の外周面から突出するシールド導体５の、絶縁スペーサ３に近い側の凸曲面Ｂ１での電界強度が高くなり絶縁破壊の起点となりやすい。
　そこで、本実施の形態では、シールド導体５の表面に、ナノフィラーを含有した樹脂１０を被覆した。これにより、絶縁破壊の起点となる凸曲面Ｂ１での電子放出を抑制でき、高い絶縁性を得ることができる。
＜フラッシオーバ―試験＞
　ところで、本発明者らは、絶縁スペーサ３に、ナノフィラー及びマイクロフィラーを添加した参照例と、ナノフィラーは添加せずにマイクロフィラーを添加した比較例を用いて、フラッシオーバ―特性を検証したところ、ナノフィラーを添加した参照例では、比較例に比べて、フラッシオーバ―特性を改善できることがわかった。
　実験に使用したナノフィラーを、以下の表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　参照例及び比較例ともに、ＳｉＯ２からなるマイクロフィラーを４７体積％添加し、参照例では、更に表１に示すナノフィラーをマイクロフィラーに対して１体積％添加した。
　表１に示すＳｉＯ２ナノフィラーの平均粒径は、５０ｎｍであった。また、表１に示すＴｉＯ２ナノフィラーの平均粒径は、４０ｎｍであった。また、表１に示すＳｒＴｉＯ３ナノフィラーの平均粒径は、７０ｎｍであった。また、ＳｉＯ２マイクロフィラーの平均粒径は１．５μｍであった。
　試験方法は、「新規機能性絶縁材料を用いたガス絶縁開閉装置スペーサモデルの沿面フラッシオーバ特性」（ＩＥＥＪ誘電絶縁材料研究会原稿：論文Ｎｏ．ＤＥＩ－１９－１１６）の記載による。
　単発印加方式によるフラッシオーバ―特性の実験結果が以下の表２に示されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２に示す「Ｖ６３．２」は、単発印加方式による実験において、フラッシオーバ―した瞬時電圧をＦＯＶとして測定し、そのＦＯＶのワイブル分布から、ＦＯＶ発生確率が、６３．２％となる値である。
　表２中の括弧書きは、比較例のＶ６３．２に対する上昇率を示す。表２に示すように、いずれの参照例においても比較例に比べてＦＯＶ向上効果が見られた。
　ナノフィラーを含有することでＦＯＶ向上効果が得られるのは、量子化学計算から得られるナノ粒子添加による深いトラップ準位形成に基づくと予測される。
　ここで、本実施の形態では、シールド導体５を備えており、これにより、シールド導体表面の凸曲面の電界強度が高まる。このため、ナノ粒子添加による深い電子トラップに基づく電子放出抑制効果がシールド導体表面で得られるように、本発明者らは、シールド導体５の表面を、ナノフィラーを含有する樹脂１０で被覆したのである。
　本実施の形態では、電子放出抑制効果をより高めるため、ナノフィラーを含有した樹脂を、シールド導体表面に被覆するとともに、絶縁スペーサ３にもナノフィラーを添加することが好適である。
＜樹脂１０を被覆したシールド導体５を有する開閉装置１＞
　本実施の形態における開閉装置１は、密封容器２内が乾燥空気１２で満たされており、ＳＦ６ガスに代表される地球温暖化係数が高いガスを用いないことが好ましい。
　本実施の形態では、乾燥空気１２を用いた構成であっても、シールド導体５の表面に、ナノフィラーを含有した樹脂１０を被覆したことで、絶縁破壊の起点となる凸曲面Ｂ１での電子放出を抑制でき絶縁性低下を改善できる。加えて、開閉装置１のコンパクト化を推進しても、コンパクト化による絶縁破壊電圧の低下を改善することができる。
　以上により、本実施の形態の開閉装置１においては、乾燥空気を用い且つコンパクト化によっても、シールド導体５の絶縁性を高めることができ、ＳＦ６ガス等の地球温暖化係数が高いガスを用いることなく、コンパクト化を促進可能な開閉装置１を提供できる。
　本出願は、２０２２年９月７日出願の特願２０２２－１４１８６３に基づく。この内容は、全てここに含めておく。
　本発明のシールド導体によれば、絶縁性を向上させることができ、効果的に、電界緩和に供する用途に適用できる。シールド導体を開閉装置に適用することで、乾燥空気を用い且つコンパクト化された開閉装置を実現できる。
１　　：開閉装置
２　　：密封容器
３　　：絶縁スペーサ
４　　：高圧導体
４ａ　：第１の高圧導体
４ｂ　：第２の高圧導体
５　　：シールド導体
５ａ　：内側面
５ｂ　：外側面
５ｃ　：外周面
６　　：金属フランジ
７　　：連結フランジ
８　　：ボルト
９　　：絶縁スペーサ内シールド導体
１１　：ＳＦ６ガス
１２　：乾燥空気
Ａ　　：中心軸
Ｂ１、Ｂ２　：凸曲面
Ｔ１　：隙間

 
 

Claims (4)

  1. 　電界緩和に供されるシールド導体であって、
    　前記シールド導体の表面は、ナノフィラーを含有した樹脂で被覆されている、
    　ことを特徴とするシールド導体。
  2. 　密封容器と、
    　前記密封容器の内部に固定された絶縁スペーサと、
    　前記絶縁スペーサの中心の両側に配置された高圧導体と、
    　両側の前記高圧導体に取り付けられ、前記高圧導体よりも径が大きいシールド導体と、を有して構成され、
    　前記シールド導体の表面は、ナノフィラーを含有した樹脂で被覆されている、ことを特徴とする開閉装置。
  3. 　前記シールド導体は、前記絶縁スペーサに近い側の第１の側面と、前記絶縁スペーサから遠い側の第２の側面と、前記第１の側面と前記第２の側面との間のつなぐ外周面と、を有し、前記第１の側面及び前記第２の側面と前記外周面との間が、凸曲面で形成され、
    　前記凸曲面は、前記ナノフィラーを含有した樹脂で被覆されている、ことを特徴とする請求項２に記載の開閉装置。
  4. 　前記ナノフィラーには、シリカ、アルミナ、窒化ホウ素、酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、及び、チタン酸バリウムのうち１種、或いは２種以上が選択される、ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のシールド導体及び開閉装置。
     
     

     
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