WO2024047258A1 - Sicherheitselement mit farberzeugenden nanostrukturen und herstellverfahren dafür - Google Patents

Sicherheitselement mit farberzeugenden nanostrukturen und herstellverfahren dafür Download PDF

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WO2024047258A1
WO2024047258A1 PCT/EP2023/074189 EP2023074189W WO2024047258A1 WO 2024047258 A1 WO2024047258 A1 WO 2024047258A1 EP 2023074189 W EP2023074189 W EP 2023074189W WO 2024047258 A1 WO2024047258 A1 WO 2024047258A1
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depressions
elevations
security element
areas
color
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PCT/EP2023/074189
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Moritz HÖFER
Christian Stöckl
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Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh
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Publication date
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    • B42D25/373Metallic materials

Definitions

  • the invention relates to a security element with color-producing nanostructures, which has: a structured layer which has a base area and depressions or raised elevations that are lowered relative to it, and a reflector layer arranged on the structured layer, the elevations or depressions in terms of their extents along the base area, their vertical extent perpendicular to the base area and their arrangement on the base area are designed as color-producing nanostructures and the structured layer has several areas that provide a colored motif or image, the areas preferably forming pixels.
  • the invention further relates to a method for producing a security element, the method comprising: producing a structured layer which has a base area and depressions or raised elevations that are lowered relative to it, and arranging a reflector layer on the structured layer, the elevations or depressions with respect to them Extensions along the base area, their vertical extent perpendicular to the base area and their arrangement on the base area are formed as color-producing nanostructures and the structured layer is formed with several areas that provide a colored motif or image, the areas preferably forming pixels.
  • Such a security element and such a method for producing it are known from DE 102012105571 Al.
  • Nanostructures with dimensions in the subwavelength range are known in the prior art, which make it possible to realize colored representations.
  • elevations or depressions are arranged on a base area. If this structure is mirrored, the color depends on structural parameters of the elevations/recesses if these are imaged as nanostructures, i.e. structures with dimensions below the wavelength of visible light.
  • Such structures are also known, for example, from DE 2009056934 Al, DE 102010048262 Al, DE 102010049832 Al, US 2012/236415 Al, WO 2019/140572 Al or WO 2019/180460 Al.
  • EP 3572852 A1 also discloses a security element with elevations/recesses that realize a color-producing nanostructure.
  • the subpixels which differ in terms of the heights/depths of the elevations/recesses, in order to achieve this by combining several , e.g. RGB subpixels to set a color to a pixel.
  • the formation of areas with individual vertical extensions that vary from area to area thus allows the creation of a colored image, for which the areas are in the form of Sub-pixels are formed.
  • the sub-pixels each create a color (e.g. red, green or blue) and together set the desired color of the pixel.
  • the invention is based on the object of specifying a security element based on color-producing nanostructures, which has an improved color effect and, in particular, does not require sub-pixels.
  • the security element has a structured layer which has a base area and, relative to it, lowered, concave depressions or raised, convex elevations. Insofar as deepening is mentioned below, this is only to be understood as an example.
  • a reflector layer is arranged on the structured layer.
  • the elevations or depressions are designed as color-producing nanostructures, as is known in the prior art and in particular in the already mentioned EP 3572852 A1 .
  • the vertical extent is their height in the case of elevations and their depth in the case of depressions.
  • the elevations or depressions can have top surfaces that are parallel to the base surface or a tangent to the base surface.
  • nanostructures refers to the vertical extents of the elevations/recesses, which are usually below 500 nm. The extents along the base area and the distances between Neighboring elevations/depressions, on the other hand, are usually in the micrometer range.
  • the nanostructure produces a colored motif or image and has several areas, in each area the vertical extent of the elevations or depressions varies along a direction according to a non-constant function. This creates a color in each of these areas when viewed from above, which is created as a mixed color by varying the vertical extent. This term expresses that the color is created by the mixture of the effects of the vertical extent of the elevations or depressions, which vary in area, i.e. of different sizes.
  • the term "mixed color” is to be distinguished from a color mixture, as is caused by several subpixels or pixels, because there the nanostructure produces exactly one in each area, i.e.
  • subpixel or pixel due to the non-varied extent of the elevations or depressions without a mixing effect
  • Single color and several pixels/subpixels mix their individual colors together.
  • the vertical extent of the elevations or depressions within an area e.g. pixels
  • the color of each area is created by a mixing effect and not as a single color.
  • each area for example each pixel, can provide a mixed color.
  • This color is set in the respective area by the variation of the vertical extent, in particular the area over which the variation extends and the distribution of the vertical extents in this area as well as the mean vertical extent, ie the mean value of the distribution.
  • the colors that contribute to the mixture are set, among other things, by the degree of variation in the vertical extent. If the vertical extent varies over a large area, more colors are combined into the mixed color than if the vertical extent varies over a smaller area.
  • the average depth of the varied vertical extent represents a color that is also in the middle of the same hue wavelength among the mixed colors, which are combined to form the mixed color. It is therefore preferred that for each area the center of the same hue wavelength of the (mixed) color that the area produces is set by the average depth of the varied vertical extent.
  • the areas, at least some of these areas, differ in terms of function.
  • the difference can lie in the range of variation in the vertical extents.
  • the difference can also lie in how the different vertical extents are distributed in the varied area, for example whether large vertical extents occur more frequently than small vertical extents. This then places the focus of the mixed color in relation to the covered variation range of hue-like wavelengths outside the center of the covered variation range of hue-like wavelengths. It is therefore preferred to combine different areas that differ in terms of the range of variation of the vertical extents and/or the distribution of different vertical extents in the varied area.
  • the distribution of the vertical extents is not symmetrical to the center of the covered variation range of the vertical extents.
  • a particularly good color mixture is obtained when the vertical extent of the elevations or depressions increases or decreases along the direction according to a gradient.
  • a range of wavelengths of the same hue is summarized, of which all wavelengths of the same hue contribute equally to the mixed color if the gradient is a linear gradient. Individual wavelengths of the same hue can contribute differently to the mixed color if the gradient is non-linear, for example quadratic, etc.
  • a particularly preferred embodiment results when these nanostructures are combined with microstructures, i.e. with microstructure elements that have dimensions at least in one direction above the wavelengths of the visible spectral range, for example of at least 5 pm, preferably 10 pm, 50 pm or more. It is then possible to design the areas as microstructure elements equipped with a height profile (i.e. variation of the height), for example inclined mirror surfaces. At least some areas differ from each other with regard to the height profile and/or the shape of the microstructure elements (in plan view of the ground plane).
  • the nanostructures are formed on the microstructure elements, the vertical extent of which varies across the respective microstructure element. In this embodiment, an area then corresponds to a microstructure element.
  • the vertical extent increases or decreases with the height of the microstructure element, for example the mirror surface, since then a particularly simple production is achieved, which exploits local differences in sensitivity of a photoresist that occur due to the microstructuring. It can then be found on the top edge of the Mirror either elevations/recesses with a larger vertical extent and on the lower edge of the mirror elevations/recesses with a smaller vertical extent, or vice versa. Between the top edge and the bottom edge of the mirror, the decrease in vertical extent runs parallel to the mirror inclination.
  • microstructural elements e.g. the mirror surfaces
  • the microstructural elements can be designed in such a way that they cause a bulging effect that is enhanced and colored by the coloring nanostructures, i.e. causes an improved 3D effect.
  • the direction along which the nanostructures vary with respect to the vertical extent is preferably aligned at a certain angle to the gradient of the height profile; it preferably follows this gradient. This can be used as an additional hidden security feature as it is not noticeable to the naked eye, but can be found during a machine-assisted analysis of the security element.
  • the nanostructures can be described using the following parameters:
  • the elevations/depressions can be arranged regularly or irregularly, which means a quasi-statistical distribution of the elevations/depressions on the base area.
  • the grid structure used is a relevant parameter, for example square grids, hexagonal grids, etc.
  • the distance between the structures i.e. the elevations/recesses affects the color effect.
  • the lateral dimensions of the elevations/depressions further characterize the embossed layer.
  • the elevations/recesses can be designed to be rotationally symmetrical in plan view, but also to extend along one direction. This direction can be constant, but can also vary.
  • the vertical extent of the elevations or depressions perpendicular to the base area is another parameter that has a particular impact on the color produced.
  • the basic shape of the elevations/recesses i.e. the appearance in top view, characterizes the embossed structure as well as the flank shape, i.e. the profile of the elevations/recesses in a section transverse to the base surface.
  • the flank shape i.e. the profile of the elevations/recesses in a section transverse to the base surface.
  • plan view square, hexagonal, circular, elliptical, rectangular, etc. basic shapes can be used.
  • the profile can have a sinusoidal shape, a parabola, a rectangular structure with approximately vertical flanks, etc.
  • the areas can particularly preferably be pixels of a displayed image or motif.
  • the areas particularly preferably form pixels, which are preferably in a regular pattern (e.g. square or hexagonal Grid) are arranged and create the colored motif. This applies to all further training courses or options described here.
  • the nanostructures can be overcoated with a dielectric material.
  • the dielectric material covers the depressions/prominences, which are preferably formed in an embossing lacquer layer.
  • the refractive index of the dielectric material is preferably identical to that of the embossing lacquer layer, but can also be different.
  • 1 shows a banknote with a security element
  • 2 shows a sectional view through the security element of FIG. 1, in a first embodiment
  • Fig. 6 is an SEM image of this security element.
  • Fig. 1 shows a top view of a document of value, in this case a banknote 2, which has a security element 4 which is intended to protect against counterfeiting of the document of value.
  • the security element 4 shows a colored image in a top view. For this purpose it has a structured surface, which can be seen from the sectional view in FIG.
  • the security element is built on a substrate 6, on which there is an embossing lacquer layer 8, into which a nanostructure 10 is embossed.
  • embossing lacquer layer 8 into which a nanostructure 10 is embossed.
  • the nanostructure 10 has a large number of depressions 12 and is provided with a reflector layer 14. Such nanostructures are generally known to those skilled in the art. They create a color when viewed from above.
  • the security element has at least two areas 16, 18, which differ with regard to the nanostructure 10, namely with regard to the vertical extent of the depressions 12 relative to a base surface 20, relative to which the depressions 12 are lowered.
  • the vertical extent i.e. the depth t of the depressions 12 increases along a direction 22.
  • the depth t varies along the direction 22 according to another function, namely an approximately sinusoidal function.
  • each well 12 influences the color effect that appears in plan view. Since different depths are arranged in the area 16 along the direction 22, a mixed color is created, as will be explained below with reference to FIG. Since a different function is used in area 18, a different mixed color is created.
  • the mixed color between the areas 16 and 18 also differs in the exemplary embodiment because the depth areas are different.
  • the depressions 12 are significantly shallower than in area 16.
  • a mixed color 18 is therefore created, which is composed of different wavelengths with regard to the wavelengths of the same hue than in area 16, in which deeper depressions 12 are used.
  • FIG. 2 shows, purely as an example, the formation of the nanostructure 10 with depressions that are lowered downwards relative to the base surface 20 (based on the illustration in FIG. 2).
  • a design in which elevations are arranged is also possible.
  • the height of these elevations is of course varied as a vertical extent.
  • a gradient course is particularly preferred for the variation of the vertical extent along the direction 22.
  • Such a gradient allows a continuous mixing of colors that are close to each other in color space.
  • the mixing ratio of the individual wavelengths of the same hue can be adjusted by the shape of the gradient, for example linear or square.
  • the distance between the depressions 12 or elevations can also be varied. This also influences the color that is created.
  • microstructure 24 is shown schematically in Figure 3.
  • the microstructure 24 is shown as a sequence of inclined micromirrors 25a-25d, with the individual micromirrors 25a-25d differing in their inclination relative to a base plane, which can be defined, for example, as the surface of the substrate 6 or is a plane parallel to it.
  • the nanostructure 10 is formed on each micromirror 25a-25d, which represents a microstructure element, which is then in turn covered with the reflector layer 14. 6 shows an SEM image of the microstructure 24.
  • a curved effect that is generated by the microstructure 24 can be supplemented by a color effect that goes beyond a uniform coloring, because the individual microstructure elements can produce an individual mixed color, depending on how the function along the direction 22 is selected .
  • This function is particularly preferably a gradient which is applied in such a way that it follows the shape of the microstructure, ie the gradient direction 22 corresponds to a surface profile of the microstructure 24, for example the inclination direction of the micromirrors 25a-25d.
  • the direction 22 runs as in FIG. 2 and the sectional representation of FIG.
  • FIG. 3 shows the sectional plane in which the gradient of the mirror inclination lies. It is marked schematically with 25e. 3 shows the simplified case that all micromirrors 25a-25d have a gradient 25e in the same direction, that is, they are all tilted in the same direction. Of course, this is not absolutely necessary.
  • Each microstructure element can have its own gradient direction. The direction 22 of the nanostructure 10 on the corresponding microstructure element is then adapted to this gradient direction, in particular aligned in the same direction.
  • the registration of the inclination gradients of the microstructure elements can be used as a hidden security element.
  • Steep micromirrors i.e. microstructure elements with a large height variation, then have a large gradient in the nanostructure, while microstructure elements with a small height variation have a smaller variation in the height of the depressions 12 or elevations.
  • the following values can be used as examples: In variant A this results in a depth variation T of 200 nm, in case B a depth variation of only 100 nm.
  • the mirrors 25a to 25d can be arranged from a small gradient for the micromirror 25d between, for example, 0 and 5° to a large gradient on the micromirror 25a of, for example, 30°.
  • the nanostructure 10 which, for example, produces a mixed color in the yellow range by forming the elevations or depressions in a hexagonal arrangement, with a grating period of 280 nm, an edge length of a square cross section of the depressions/elevations of 140 nm and a minimum depth of 80 nm become.
  • the variation in the vertical extent of the depressions 12 increases to different extents depending on the angle of inclination of the micromirror. For example, steeper mirrors show darker yellow tones, whereas flatter mirrors show lighter yellow tones. This enhances the plasticity of a three-dimensional appearance of the arching effect.
  • microstructure 24 using the example of micromirrors 25a to 25d.
  • other microstructures can also be used, for example with concave mirrors, Fresnel structures, lens structures, cushion structures, etc., whereby the local gradient, i.e. the height profile, of the microstructure elements can also specify the direction of the gradient for the depth variation of the nanostructures.
  • nanostructures 10 on microstructures 24 are arranged on microstructures 24. Due to an error when imprinting the nanostructures 10, their depth can change undesirably locally. By varying the depth and creating a mixed color, this is less noticeable, as the mixed color is not as significant due to errors in imprinting individual depressions/elevations.
  • FIG. 4 The effect of the depth variation is shown in FIG. 4.
  • the dependence of the same hue wavelength X on the depth t of the depressions 12 is plotted in a curve 30.
  • Varying the depth over a depth variation range T results automatically a wavelength mixture L.
  • Fig. 4 suggests a linear relationship.
  • no axis scales are entered because the relationship is non-linear.
  • Flatter structures do not automatically lead to shorter wavelengths.
  • the color changes from shallow to deep structures, i.e. with increasing structure depth, from pale yellow to rich yellow to gold.
  • the color changes from shallow to deep structures, i.e. with increasing structure depth, from orange to magenta to violet and blue to green.
  • the security element 4 can, as mentioned, be manufactured by embossing. Alternatively, photolithographic production takes place, whereby local differences in sensitivity of a photoresist that occur due to the microstructuring are exploited.
  • the exposure for the microstructure 24 has already taken place. This automatically prevents all depressions in the nanostructure 10 from being designed with the same vertical extent.
  • an illumination dose gradient (corresponding to the height profile of the microstructure elements) was already exposed into the photoresist. Comparatively little dose was placed at the top edge of each mirror, while more dose was placed in the paint at the lowest points of the mirror to achieve the mirror tilt. The photoresist is therefore increasingly faded from the top edge of the mirror; bleaching increases toward the lowest points of the elevation profile.
  • the already differently bleached paint therefore reacts differently to the same exposure dose, depending on how much dose was previously placed to produce the microstructure 24.
  • the depth is proportional to the dose already placed to create the microstructure 24 and is therefore automatically registered to the height of the microstructure.
  • a dose wedge is used for the exposure of the nanostructures 10 in order to vary the depth in a targeted manner.
  • This dose wedge must take into account the dose of the first exposure, i.e. the exposure carried out to the microstructure 24, as well as the shape and direction of the gradient that is to be realized for the course of the vertical extent.
  • embossing already mentioned with reference to FIGS. 2 and 3 can take place in an embossing varnish 8.
  • the nanostructures 10 are preferably overcoated with a dielectric material (not shown).
  • the dielectric material covers the depressions/elevations so that the nanostructure 10 is completely or partially flattened. This increases the durability and resistance to contamination of the security element.
  • the color effect can be additionally controlled because the refractive index of the dielectric material affects the color.
  • the refractive index of the dielectric material is preferably identical to that of the Layer in which the nanostructures 10 are formed, for example the embossing lacquer layer 8, can also be different.
  • the overcoating with the dielectric material can be carried out by applying and scraping off any excess material.
  • a deposition process for applying the dielectric material comes into consideration.

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement, das aufweist eine strukturierte Schicht (8), die eine Grundfläche (20) und gegenüber dieser abgesenkte Vertiefungen (12) oder angehobene Erhebungen aufweist, und eine auf der strukturierten Schicht (8) angeordnete Reflektorschicht (14), wobei die Vertiefungen (12) oder Erhebungen hinsichtlich ihrer Ausdehnungen längs der Grundfläche (20), ihrer vertikalen Erstreckung (t) senkrecht zur Grundfläche (20) und ihrer Anordnung auf der Grundfläche (20) als farberzeugende Nanostrukturen (10) ausgebildet sind, wobei die strukturierte Schicht (8) Bereiche (16, 18; 25a-d) aufweist, in denen jeweils die vertikale Erstreckung (t) der Vertiefungen (12) oder Erhebungen längs einer Richtung (22) gemäß einer nicht-konstanten Funktion variiert, so dass in jedem der Bereiche (16, 18; 25a-d) in Aufsicht eine Mischfarbe sichtbar ist.

Description

S i c h e r h e i t s e l e m e n t m i t f a rb e r z e u g e n d e n N a n o s t r u k t u r e n u n d H e r s t e l lv e r f a h r e n d a f ü r
Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement mit farberzeugenden Nanostrukturen, das aufweist: eine strukturierte Schicht, die eine Grundfläche und gegenüber dieser abgesenkte Vertiefungen oder angehobene Erhebungen aufweist, und eine auf der strukturierten Schicht angeordnete Reflektorschicht, wobei die Erhebungen oder Vertiefungen hinsichtlich ihrer Ausdehnungen längs der Grundfläche, ihrer vertikalen Erstreckung senkrecht zur Grundfläche und ihrer Anordnung auf der Grundfläche als farberzeugende Nanostrukturen ausgebildet sind und wobei die strukturierte Schicht mehrere Bereiche aufweist, die ein farbiges Motiv oder Bild bereitstellen, wobei die Bereiche bevorzugt Pixel bilden.
Die Erfindung betrifft weiter ein Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselements, wobei das Verfahren aufweist: Erzeugen einer strukturierte Schicht, die eine Grundfläche und gegenüber dieser abgesenkte Vertiefungen oder angehobene Erhebungen aufweist, und Anordnen einer Reflektorschicht auf der strukturierte Schicht, wobei die Erhebungen oder Vertiefungen hinsichtlich ihrer Ausdehnungen längs der Grundfläche, ihrer vertikalen Erstreckung senkrecht zur Grundfläche und ihrer Anordnung auf der Grundfläche als farberzeugende Nanostrukturen ausgebildet werden und wobei die strukturierte Schicht mit mehreren Bereichen ausgebildet wird, die ein farbiges Motiv oder Bild bereitstellen, wobei die Bereiche bevorzugt Pixel bilden.
Ein solches ein Sicherheitselement und ein derartiges Verfahren zum Herstellen sind aus der DE 102012105571 Al bekannt. Im Stand der Technik sind Nanostrukturen mit Abmessungen im Subwellenlängenbereich bekannt, die es erlauben, farbige Darstellungen zu realisieren. Dazu werden Erhebungen oder Vertiefungen auf einer Grundfläche angeordnet. Verspiegelt man diesen Aufbau, hängt die Farbe von Strukturparamenten der Erhebungen/Vertiefungen ab, wenn diese als Nanostrukturen, also Strukturen mit Abmessungen unterhalber der Wellenlänge des sichtbaren Lichts, abgebildet werden. Solche Strukturen sind beispielsweise auch aus der DE 2009056934 Al, DE 102010048262 Al, DE 102010049832 Al, US 2012/236415 Al, WO 2019/140572 Al oder WO 2019/180460 Al bekannt. Die EP 3572852 Al offenbart ebenfalls ein Sicherheitselement mit Erhebungen/Vertiefungen, die eine farberzeugende Nanostruktur realisieren.
Dabei ist es bekannt, die farberzeugenden Nanostrukturen in Bereichen vorzusehen, die Pixel oder Subpixel bilden. In jedem Pixel oder Subpixel ist eine vorbestimmte Ausbildung der Erhebungen/Vertiefungen hinsichtlich Ausdehnungen längs der Grundfläche, vertikalen Erstreckung senkrecht zur Grundfläche und Anordnung auf der Grundfläche vorzusehen - je nach Farbe, die das Pixel oder Subpixel erzeugen soll. Derartige Nanostrukturen erzeugen eine Farbe, die i.d.R. durch die vertikale Erstreckung beeinflusst wird. Im Stand der Technik ist es bekannt, in den Pixeln oder Subpixeln konstante vertikale Erstreckungen, also eine konstante Höhe im Fall von Erhebungen bzw. eine konstante Tiefe im Fall von Vertiefungen zu verwenden. Im Falle von Subpixel ist es z.B. in der bereits genannten DE 102012105571 Al (dort Fig. 14b und 14c) vorgesehen, die Subpixel, die sich hinsichtlich der Höhen/Tiefen der Erhebungen/Vertiefungen unterscheiden, zu verschach- teln, um durch die Kombination mehrerer, z.B. RGB-Subpixel zu einem Pixel eine Farbe einzustellen. Die Ausbildung von Bereichen mit individuellen und von Bereich zu Bereich verschiedenen vertikalen Erstreckungen erlaubt damit die Erzeugung eines farbigen Bildes, wozu die Bereiche in Form von Sub-Pixeln ausgebildet werden. Die Sub-Pixel erzeugen für sich jeweils eine Farbe (z.B. rot, grün oder blau) und stellen zusammen die gewünschte Farbe des Pixels ein.
Ausgehend hiervon liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement basierend auf farberzeugenden Nanostrukturen anzugeben, das einen verbesserten Farbeffekt hat und insbesondere ohne Sub-Pixel auskommt.
Die Erfindung ist in den unabhängigen Ansprüchen definiert. Die abhängigen Ansprüche betreffen bevorzugte Weiterbildungen.
Das Sicherheitselement weist eine strukturierte Schicht auf, die eine Grundfläche und gegenüber dieser abgesenkte, konkave Vertiefungen oder angehobene, konvexe Erhebungen aufweist. Soweit nachfolgend von Vertiefungen gesprochen wird, ist dies lediglich bespielhaft zu verstehen. Auf der strukturierten Schicht ist eine Reflektorschicht angeordnet. Die Erhebungen bzw. Vertiefungen sind hinsichtlich ihrer Strukturparameter, insbesondere ihrer Ausdehnungen längs der Grundfläche, ihrer vertikalen Erstreckung senkrecht zur Grundfläche und ihrer Anordnung auf der Grundfläche als farberzeugende Nanostrukturen ausgebildet, wie dies im Stand der Technik und insbesondere der bereits genannten EP 3572852 Al bekannt ist. Die vertikale Erstreckung ist im Fall der Erhebungen deren Höhe und im Fall der Vertiefungen deren Tiefe. Die Erhebungen bzw. Vertiefungen können Deckflächen haben, die parallel zur Grundfläche oder einer Tangente auf die Grundfläche liegen. Der Begriff „Nanostrukturen" bezieht sich dabei auf die vertikalen Erstreckungen der Erhebungen/Vertiefungen, die i.d.R. unterhalb 500 nm liegen. Die Ausdehnungen längs der Grundfläche und die Ab stände zwischen benachbarten Erhebungen/Vertiefungen sind hingegen i.d.R. im Bereich von Mikrometern.
Die Nanostruktur erzeugt ein farbiges Motiv oder Bild und weist dazu mehrere Bereiche auf, wobei in jedem Bereich die vertikale Erstreckung der Erhebungen oder Vertiefungen längs einer Richtung gemäß einer nicht-konstanten Funktion variiert. Dadurch entsteht in jedem dieser Bereiche in Aufsicht eine Farbe, die durch die Variation der vertikale Erstreckung als Mischfarbe entsteht. Dieser Begriff drückt aus, dass die Farbe durch die Mischung der Wirkung der im Bereich variierten, also verschieden großen, vertikalen Erstreckung der Erhebungen oder Vertiefungen erzeugt ist. Der Begriff „Mischfarbe" ist zu unterscheiden von einer Farbmischung, wie sie durch mehrere Subpixel oder Pixel bewirkt wird, denn dort erzeugt die Nanostruktur in jedem Bereich, also Subpixel oder Pixel, wegen der nicht-variierten Erstreckung der Erhebungen oder Vertiefungen ohne Mischeffekt genau eine Einzelfarbe und erst mehrere Pixel /Subpixel gemeinsam mischen ihre Einzelfarben. Durch die innerhalb eines Bereichs (z.B. Pixel) vorgesehene Variation der vertikalen Erstreckung der Erhebungen oder Vertiefungen entsteht die Farbe jedes Bereichs durch einen Mischeffekt und nicht als Einzelfarbe.
Hierdurch ist die Erzeugung eines Bildes vereinfacht, da für die Farberzeugung keine Strukturierung in Sub-Pixeln nötig ist, vielmehr kann jeder Bereich, beispielsweise bereits jedes Pixel, eine Mischfarbe bereitstellen. Diese Farbe ist im jeweiligen Bereich eingestellt durch die Variation der vertikalen Erstreckung, insbesondere den Bereich über den sich die Variation erstreckt und die Verteilung der vertikalen Erstreckungen in diesem Bereich sowie der mittleren vertikalen Erstreckung, d.h. den Mittelwert der Verteilung. Die zur Mischung beitragenden Farben sind dabei u.a. über den Grad der Variation der vertikalen Erstreckung eingestellt. Variiert die vertikale Erstreckung über einen großen Bereich, werden mehr Farben zur Mischfarbe zusammengefasst, als wenn die vertikale Erstreckung in einem kleineren Bereich variiert. Die mittlere Tiefe der variierten vertikalen Erstreckung stellt eine Farbe dar, die unter den gemischten Farben hinsichtlich der bunttongleichen Wellenlänge auch in der Mitte der bunttongleichen Wellenlänge liegt, welche zur Mischfarbe zusammengefasst werden. Es ist deshalb bevorzugt, dass für jeden Bereich die Mitte der bunttongleichen Wellenlänge der (Misch-)Farbe, die der Bereich erzeugt, durch die mittlere Tiefe der variierten vertikalen Erstreckung eingestellt ist.
Zur Erzeugung eines farbigen Bildes ist es besonders bevorzugt, dass die Bereiche, zumindest einige dieser Bereiche, sich hinsichtlich der Funktion unterscheiden. Der Unterschied kann in einer Variationsbreite der vertikalen Erstreckungen liegen. Der Unterschied kann aber auch darin liegen, wie die verschiedenen vertikalen Erstreckungen im variierten Bereich verteilt sind, ob beispielsweise große vertikale Erstreckungen häufiger vorkommen als geringe vertikale Erstreckungen. Dies legt dann den Schwerpunkt der Mischfarbe bezogen auf den abgedeckten Variationsbereich von bunttongleichen Wellenlängen außerhalb des Zentrums des abgedeckten Variationsbereiches der bunttongleichen Wellenlängen. Es ist deshalb bevorzugt, verschieden Bereiche zu kombinieren, die sich hinsichtlich der Variationsbreite der vertikalen Erstreckungen und/ oder die Verteilung verschiedener vertikaler Erstreckungen im variierten Bereich unterscheiden.
Optional ist weiter, insbesondere im letzteren Fall, die Verteilung der vertikalen Erstreckungen nicht symmetrisch zum Zentrum des abgedeckten Variationsbereiches der vertikalen Erstreckungen. Eine besonders gute Farbmischung erhält man, wenn die vertikale Erstreckung der Erhebungen oder Vertiefungen längs der Richtung gemäß einem Gradienten zu- oder abnimmt. Auf diese Weise wird ein Bereich bunttongleicher Wellenlängen zusammengefasst, von dem alle bunttongleichen Wellenlängen in gleichem Maße zur Mischfarbe beitragen, wenn der Gradient ein linearer Gradient ist. Einzelne bunttongleiche Wellenlängen können unterschiedlich zur Mischfarbe beitragen, wenn der Gradient nicht-linear ist, beispielsweise quadratisch etc.
Eine besonders bevorzugte Ausführung ergibt sich, wenn diese Nanostrukturen mit Mikrostrukturen kombiniert sind, also mit Mikrostrukturelementen, die mind, in eine Richtung Ausdehnungen oberhalb der Wellenlängen des sichtbaren Spektralbereichs, z.B. von mind. 5 pm, bevorzugt 10 pm, 50 pm oder mehr haben. Dann ist es möglich, die Bereiche jeweils als mit einem Höhenprofil (also Variation der Höhe) ausgestattete Mikrostrukturelemente, z.B. schräggestellte Spiegelflächen, auszubilden. Mindestens einige Bereiche unterscheiden sich voneinander hinsichtlich des Höhenprofils und/ oder der Form der Mikrostrukturelemente (in Draufsicht auf die Grundebene) voneinander. Auf den Mikrostrukturelementen sind die Nanostrukturen ausgebildet, deren vertikale Erstreckung über das jeweilige Mikrostrukturelement hinweg variiert. In dieser Ausführungsform entspricht ein Bereich dann einem Mikrostrukturelement.
Dabei ist es insbesondere bevorzugt, dass die vertikale Erstreckung mit der Höhe des Mikrostrukturelementes, z.B. der Spiegelfläche, zu- oder abnimmt, da dann eine besonders einfache Herstellung gegeben ist, welche lokale Empfindlichkeitsunterschiede eines Fotoresist, die aufgrund der Mikrostrukturierung auftreten, ausnutzt. Es finden sich dann an der Oberkante des Spiegels entweder Erhebungen/Vertiefungen mit größerer vertikaler Erstreckung und an der Unterkante des Spiegels Erhebungen/Vertiefungen mit geringerer vertikaler Erstreckung, oder umgekehrt. Zwischen der Oberkante und der Unterkante des Spiegels verläuft parallel zur Spiegelneigung die Abnahme der vertikalen Erstreckung.
Die Mikrostrukturelemente, z.B. die Spiegelflächen, können so ausgebildet werden, dass sie einen Wölbeffekt bewirken, der durch die farbgebenden Nanostrukturen verstärkt und farbig ist, d.h. einen verbesserten 3D-Effekt bewirkt.
Die Richtung, entlang der die Nanostrukturen hinsichtlich der vertikalen Erstreckung variieren, ist bevorzugt in einem bestimmten Winkel zum Gradienten des Höhenprofils ausgerichtet, bevorzugt folgt sie diesem Gradienten. Dies kann als zusätzliches verdecktes Sicherheitsmerkmal eingesetzt werden, da es mit dem bloßen Auge nicht wahrnehmbar ist, bei einer maschinell gestützten Analyse des Sicherheitselementes jedoch aufgefunden werden kann.
Weiter ist es in diesem Zusammenhang möglich, den Variationsbereich der vertikalen Erstreckung von einem Kippwinkel der Spiegelfläche abhängig zu gestalten. Dies kann bei konstanter oder bei variierter Spiegellänge längs dem Gradienten der Spiegelfläche geschehen.
Die Nanostrukturen lassen sich über folgende Parameter beschreiben:
Die Erhebungen/Vertiefungen können regelmäßig oder irregulär angeordnet werden, worunter eine quasi-statistische Verteilung der Erhebungen/Vertiefungen auf der Grundfläche gemeint ist. Bei einer regelmäßigen Anordnung ist die dabei verwendete Gitterstruktur ein relevanter Parameter, beispielsweise quadratische Grundgitter, hexagonale Grundgitter etc.
Der Abstand zwischen den Strukturen, d.h. den Erhebungen/Vertiefungen, wirkt sich auf den Farbeffekt aus. Dies gilt im Falle unregelmäßig angeordneter Erhebungen/Vertiefungen für den mittleren Abstand und/ oder die Flächendeckung, welche die Erhebungen/Vertiefungen auf der Grundfläche gegenüber den restlichen Bereichen der Grundfläche haben.
Die lateralen Abmessungen der Erhebungen/Vertiefungen charakterisieren die geprägte Schicht weiter. Die Erhebungen/Vertiefungen können in Draufsicht rotationssymmetrisch, aber auch entlang einer Richtung erstreckt ausgebildet werden. Diese Richtung kann konstant sein, kann aber auch variieren. Die vertikale Erstreckung der Erhebungen oder Vertiefungen senkrecht zur Grundfläche ist ein weiterer Parameter, der sich insbesondere auf die erzeugte Farbe auswirkt.
Die Grundform der Erhebungen/Vertiefungen, d.h. die Erscheinung in Draufsicht charakterisiert die geprägte Struktur ebenso, wie die Flankenform, d.h. das Profil der Erhebungen/Vertiefungen in einem Schnitt quer zur Grundfläche. In Draufsicht können quadratische, sechseckige, kreisförmige, elliptische, rechteckige etc. Grundformen verwendet werden. In der Schnittansicht kann das Profil Sinusform, eine Parabel, eine rechteckige Struktur mit annähernd senkrechten Flanken etc. haben.
Die Bereiche können besonderes bevorzugt Pixel eines dargestellten Bildes oder Motives sein. Besonders bevorzugt bilden die Bereiche Pixel, die bevorzugt in einem regelmäßigen Muster (z.B. quadratisches oder hexagonales Gitter) angeordnet sind und das farbige Motiv erzeugen. Dies gilt für alle hier beschriebenen Weiterbildungen oder Optionen.
Nach dem Aufbringen der Reflektorschicht können die Nanostrukturen mit einem dielektrischen Material überbeschichtet werden. Das dielektrische Material deckt die Vertiefungen /Erhöhungen, die bevorzugt in einer Prägelackschicht ausgebildet sind, ab. Der Brechungsindex des dielektrischen Materials ist bevorzugt identisch zu dem der Prägelackschicht, kann aber auch unterschiedlich sein.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen, die ebenfalls erfindungswesentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Diese Ausführungsbeispiele dienen lediglich der Veranschaulichung und sind nicht als einschränkend auszulegen. Beispielsweise ist eine Beschreibung eines Ausführungsbeispiels mit einer Vielzahl von Elementen oder Komponenten nicht dahingehend auszulegen, dass alle diese Elemente oder Komponenten zur Implementierung notwendig sind. Vielmehr können andere Ausführungsbeispiele auch alternative Elemente und Komponenten, weniger Elemente oder Komponenten oder zusätzliche Elemente oder Komponenten enthalten. Elemente oder Komponenten verschiedener Ausführungsbespiele können miteinander kombiniert werden, sofern nichts anderes angegeben ist. Modifikationen und Abwandlungen, welche für eines der Ausführungsbeispiele beschrieben werden, können auch auf andere Ausführungsbeispiele anwendbar sein. Zur Vermeidung von Wiederholungen werden gleiche oder einander entsprechende Elemente in verschiedenen Figuren mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet und nicht mehrmals erläutert. In den Figuren zeigen:
Fig. 1 eine Banknote mit einem Sicherheitselement, Fig. 2 eine Schnittdarstellung durch das Sicherheitselement der Fig. 1, in einer ersten Ausführungsform,
Fig. 3 eine ähnliche Schnittdarstellung einer zweiten Ausführungsform,
Fig. 4 ein Diagramm zur Erläuterung der Wirkungsweise der Ausführungsformen,
Fig. 5 eine Draufsicht auf das Sicherheitselement der zweiten Ausführungsform und
Fig. 6 eine REM- Aufnahme dieses Sicherheitselementes.
Fig. 1 zeigt in Draufsicht ein Wertdokument, in diesem Fall eine Banknote 2, die ein Sicherheitselement 4 aufweist, welches vor Fälschungen des Wertdokumentes schützen soll. Das Sicherheitselement 4 zeigt in Draufsicht ein farbiges Bild. Hierzu weist es eine strukturierte Oberfläche auf, die aus der Schnittdarstellung der Fig. 2 ersichtlich ist.
Das Sicherheitselement ist auf einem Substrat 6 auf geb aut, auf welchem sich eine Prägelackschicht 8 befindet, in welche eine Nanostruktur 10 eingeprägt ist. Eine bevorzugte Alternative zum Prägen wird nachfolgend noch erläutert.
Die Nanostruktur 10 weist eine Vielzahl an Vertiefungen 12 auf und ist mit einer Reflektorschicht 14 versehen. Derartige Nanostrukturen sind dem Fachmann grundsätzlich bekannt. Sie erzeugen in Draufsicht eine Farbe. Das Sicherheitselement weist mind, zwei Bereiche 16, 18 auf, die sich hinsichtlich der Nanostruktur 10 unterscheiden und zwar hinsichtlich der vertikalen Erstreckung der Vertiefungen 12 gegenüber einer Grundfläche 20, gegenüber der die Vertiefungen 12 abgesenkt sind.
Im Bereich 16 nimmt die vertikale Erstreckung, also die Tiefe t der Vertiefungen 12 längs einer Richtung 22 zu. Im Bereich 18 variiert die Tiefe t längs der Richtung 22 gemäß einer anderen Funktion, nämlich einer in etwa sinus-förmigen Funktion.
Die Tiefe t jeder Vertiefung 12 beeinflusst den Farbeffekt, der in Draufsicht erscheint. Da im Bereich 16 unterschiedliche Tiefen längs der Richtung 22 angeordnet sind, entsteht eine Mischfarbe, wie nachfolgen nach anhand der Fig. 4 erläutert werden wird. Da im Bereich 18 eine andere Funktion verwendet wird, entsteht eine andere Mischfarbe.
Die Mischfarbe zwischen den Bereichen 16 und 18 unterscheidet sich im Ausführungsbeispiel auch deshalb, weil die Tiefenbereiche unterschiedlich liegen. Im Bereich 18 sind die Vertiefungen 12 deutlich flacher, als im Bereich 16. Es entsteht deshalb eine Mischfarbe 18, die aus anderen Wellenlängen hinsichtlich der bunttongleichen Wellenlängen zusammengesetzt ist, als im Bereich 16, in dem tiefere Vertiefungen 12 verwendet sind.
Fig. 2 zeigt rein exemplarisch die Ausbildung der Nanostruktur 10 mit Vertiefungen, die gegenüber der Grundfläche 20 nach unten (bezogen auf die Darstellung der Fig. 2) abgesenkt sind. Gleichermaßen möglich ist auch eine Ausgestaltung, in der Erhöhungen angeordnet sind. Als vertikale Erstreckung wird dann natürlich die Höhe dieser Erhöhungen variiert. Besonders bevorzugt ist für die Variation der vertikalen Erstreckung längs der Richtung 22 ein Gradientenverlauf. Ein solcher Gradient erlaubt eine kontinuierliche Mischung von Farben, die im Farbraum nahe beieinander liegen. Durch die Form des Gradienten, beispielsweise linear oder quadratisch, kann das Mischungsverhältnis der einzelnen bunttongleichen Wellenlängen eingestellt werden. Gleichermaßen kann zusätzlich auch der Abstand zwischen den Vertiefungen 12 bzw. Erhöhungen variiert werden. Auch dies beeinflusst die Farbe, die entsteht.
Eine besonders vorteilhafte Kombination ergibt sich mit der Nanostruktur 10, wenn diese mit einer Mikrostruktur 24 kombiniert wird. Dies ist schematisch in Fig. 3 gezeigt. Hier ist die Mikrostruktur 24 als Abfolge von schräggestellten Mikrospiegeln 25a-25d gezeigt, wobei die einzelnen Mikrospiegel 25a-25d sich in der Schrägstellung gegenüber einer Grundebene, die beispielsweise als Oberfläche des Substrates 6 definiert sein kann oder eine dazu parallele Ebene ist, unterscheiden. Auf jedem Mikrospiegel 25a-25d, der ein Mikrostrukturelement darstellt, ist die Nanostruktur 10 ausgebildet, die dann wiederum mit der Reflektorschicht 14 abgedeckt ist. Fig. 6 zeigt eine REM- Aufnahme der Mikrostruktur 24.
Es ergibt sich dadurch eine Kombination der Effekte, welche von der Mikrostruktur 24 erzeugt wird und der Farbgebung in jedem einzelnen Mikrostrukturelement. Auf diese Weise kann beispielsweise ein Wölbeffekt, der von der Mikrostruktur 24 erzeugt wird zusätzlich um einen Farbeffekt ergänzt werden, der über eine gleichmäßige Einfärbung hinausgeht, denn die einzelnen Mikrostrukturelemente können eine individuelle Mischfarbe erzeugen, je nachdem wie die Funktion entlang der Richtung 22 gewählt wird. Besonders bevorzugt ist diese Funktion ein Gradient, der so angelegt wird, dass er der Form der Mikrostruktur folgt, d.h. die Gradientenrichtung 22 entspricht einem Oberflächenverlauf der Mikrostruktur 24, beispielsweise der Neigungsrichtung der Mikrospiegel 25a-25d. In der Darstellung der Fig. 3 verläuft damit die Richtung 22 wie in Fig. 2 und die Schnittdarstellung der Fig. 3 zeigt die Schnittebene, in der der Gradient der Spiegelneigung liegt. Er ist schematisch mit 25e eingezeichnet. Fig. 3 zeigt dabei den vereinfachten Fall, dass alle Mikrospiegel 25a-25d einen Gradienten 25e in derselben Richtung haben, d.h. alle in dieselbe Richtung geneigt sind. Dies ist natürlich nicht zwingend notwendig. Jedes Mikrostrukturelement kann eine eigene Gradientenrichtung haben. An diese Gradientenrichtung ist dann die Richtung 22 der Nanostruktur 10 auf dem entsprechenden Mikrostrukturelement angepasst, insbesondere in dieselbe Richtung ausgerichtet.
Die Registrierung der Neigungsgradienten der Mikrostrukturelemente, z.B. des Gradienten 25e eines Mikrospiegel 25d kann als verdecktes Sicherheitselement eingesetzt werden. Steilgestellte Mikrospiegel, also Mikrostrukturelemente mit einer großen Höhenvariation, weisen dann einen großen Gradienten in der Nanostruktur auf, während Mikrostrukturelemente mit einer geringen Höhenvariation eine geringere Variation in der Höhe der Vertiefungen 12 bzw. Erhöhungen haben. Beispielhaft können folgende Werte verwendet werden:
Figure imgf000015_0001
In Variante A ergibt sich damit eine Tiefenvariation T von 200 nm, im Fall B eine Tiefenvariation von nur 100 nm.
Zum Erzeugen eines Wölbeffekts können beispielsweise die Spiegel 25a bis 25d von einer geringen Steigung für den Mikrospiegel 25d zwischen z.B. 0 und 5° bis zu einer großen Steigung am Mikrospiegel 25a von z.B. 30° angeordnet werden. Durch die Nanostruktur 10, die beispielsweise eine Mischfarbe im Bereich Gelb erzeugt, indem die Erhöhungen oder Vertiefungen in einer hexagonalen Anordnung, mit einer Gitterperiode von 280 nm, einer Kantenlänge eines quadratischen Querschnittes der Vertiefungen/ Erhöhungen von 140 nm und einer Mindesttiefe von 80 nm ausgebildet werden. Die Variation der vertikalen Erstreckung der Vertiefungen 12 nimmt ausgehend von dem Mindesttiefenwert von 80 nm abhängig vom Neigungswinkel des Mikrospiegels unterschiedlich stark zu. Somit zeigen z.B. steiler gestellte Spiegel dunklere Gelbtöne, wohingegen die flacheren Spiegel hellere Gelbtöne liefern. Dies verstärkt die Plastizität einer dreidimensionalen Anmutung des Wölbeffektes.
Dies ist in Fig. 5 verdeutlicht. Hier liegen die steilgestellten Spiegel am mit 26 bezeichneten Rand, wohingegen die flachen Spiegel in dem mit 28 bezeichneten Zentrum der jeweiligen Zahl liegen. Gleichermaßen liegt im Bereich 26 eine dunklere Mischfarbe als im Bereich 28. Damit ergeben sich beispielsweise folgende Werte:
Figure imgf000016_0001
Figure imgf000017_0001
Natürlich lassen sich diese Verhältnisse auch umkehren und auf flachen Spiegel ein großer Gradient der Tiefenvariation verwenden und auf steilen Spiegeln ein geringer Gradient. Das hängt vom Design ab, je nach Mischfarbe, die erzeugt werden soll. Natürlich kann auch der Tiefenbereich auf den einzelnen Spiegeln unterschiedlich gewählt werden, so dass die Mischfarbe sich beispielsweise auch hinsichtlich der bunttongleichen Wellenlänge stärker unterscheidet.
Fig. 3 und 6 zeigen eine Mikrostruktur 24 am Beispiel von Mikrospiegeln 25a bis 25d. Natürlich können auch andere Mikrostrukturen, beispielsweise mit Hohlspiegeln, Fresnel-Strukturen, Linsenstrukturen, Kissenstrukturen, etc. verwendet werden, wobei jeweils die lokale Steigung, also das Höhenprofil, der Mikrostrukturelemente auch die Richtung des Gradienten für die Tiefenvariation der Nanostrukturen vorgeben kann.
Ein weiterer Vorteil der Anordnung von Nanostrukturen 10 auf Mikrostrukturen 24 liegt darin, dass Produktionsschwankungen ausgeglichen werden können. Durch einen Fehler beim Abprägen der Nanostrukturen 10 kann sich deren Tiefe unerwünscht lokal ändern. Durch die Variation der Tiefe und der Erzeugung einer Mischfarbe fällt derartiges weniger auf, da die Mischfarbe durch Fehler beim Abprägen einzelner Vertiefungen/Erhöhun- gen nicht so stark ins Gewicht fallen.
Die Wirkung der Tiefenvariation zeigt Fig. 4. Dort ist in einer Kurve 30 die Abhängigkeit der bunttongleichen Wellenlänge X von der Tiefe t der Vertiefungen 12 aufgetragen. Gleiches würde auch für eine Höhe von Erhebungen gelten. Variiert man die Tiefe über einen Tiefenvariationsbereich T ergibt sich automatisch eine Wellenlängenmischung L. Fig. 4 legt der Anschaulichkeit halber einen linearen Zusammenhang nahe. Es sind aber keine Achsenskalen eingetragen, denn der Zusammenhang ist nichtlinear. Flachere Strukturen führen nicht automatisch zu kürzeren Wellenlängen. Experimentelle Untersuchungen zeigen dass mit zunehmender Strukturtiefe verschiedene Farben bzw. „Buntheiten" überstrichen werden:
In einem Beispiel A ändert sich die Farbe von flachen zu tiefen Strukturen, d.h. mit zunehmender Strukturtiefe, von blassem Gelb über sattes Gelb hin zu Gold.
In einem Beispiel B ändert sich die Farbe von flachen zu tiefen Strukturen, d.h. mit zunehmender Strukturtiefe, von Orange über Magenta über Violett und Blau hin zu Grün.
Das Sicherheitselement 4 kann, wie erwähnt, durch Prägung gefertigt werden. Alternativ erfolgt eine fotolithographische Produktion, wobei lokale Empfindlichkeitsunterschiede eines Fotoresist, die aufgrund der Mikrostrukturierung auftreten, ausnutzt werden.
Um die unterschiedlichen vertikalen Erstreckungen der Vertiefungen bzw. Erhöhungen der Nanostrukturen zu erreichen, wird es dabei ausgenutzt, dass bereits die Belichtung für die Mikrostruktur 24 erfolgte. Dadurch wird automatisch vermieden, dass alle Vertiefungen der Nanostruktur 10 mit gleicher vertikaler Erstreckung ausgestaltet werden. Durch die Belichtung der Mikrostruktur wurde bereits ein Beleuchtungsdosisgradient (entsprechend dem Höhenprofil der Mikrostrukturelemente) in den Fotolack belichtet. An der Oberkante jedes Spiegels wurde vergleichsweise wenig Dosis platziert, während an den tiefsten Stellen des Spiegels mehr Dosis in den Lack eingebracht wurde, um die Spiegelneigung zu erreichen. Der Fotolack ist deshalb von der Oberkante des Spiegels weg hin zunehmend stark ausgeblichen; die Ausbleichung nimmt zu den tiefsten Stellen des Höhenprofils zu. Bei der Belichtung der Nanostruktur reagiert der bereits unterschiedlich ausgeblichene Lack deshalb unterschiedlich auf dieselbe Belichtungsdosis, je nachdem wieviel Dosis zuvor zur Erzeugung der Mikrostruktur 24 platziert wurde. Es damit möglich, für die Vertiefungen 12 der Nanostruktur 10 mit einer einheitlichen Belichtungsdosis zu arbeiten und dennoch unterschiedlich tiefe Vertiefungen 12 zu erhalten. Die Tiefe ist proportional zur bereits zur Erzeugung der Mikrostruktur 24 platzierten Dosis und somit automatisch registriert auf die Höhe der Mikrostruktur.
Für eine andere Variation der Tiefe der Nanostrukturen wird ein Dosiskeil für die Belichtung der Nanostrukturen 10 verwendet, um die Tiefe gezielt zu variieren. Dieser Dosiskeil muss die Dosis der ersten Belichtung, der d.h. zur Mikrostruktur 24 ausgeführten Belichtung berücksichtigen, ebenso wie die Form und Richtung des Gradienten, der für den Verlauf der vertikalen Erstreckung realisiert werden soll.
Alternativ zu einer fotolithografischen Realisierung kann die bereits anhand der Fig. 2 und 3 erwähnte Prägung in einem Prägelack 8 erfolgen.
Nach dem Aufbringen der Reflektorschicht 14 wird bevorzugt die Nanostrukturen 10 mit einem dielektrischen Material (nicht dargestellt) überbeschichtet. Das dielektrische Material deckt die Vertiefungen /Erhöhungen ab, so dass die Nanostruktur 10 ganz oder teilweise eingeebnet ist. Dies steigert die Beständigkeit und Verschmutzungsresistenz des Sicherheitselementes. Zudem kann der Farbeffekt zusätzlich gesteuert werden, da der Brechungsindex des dielektrischen Materials sich auf die Farbe auswirkt. Der Brechungsindex des dielektrischen Material ist bevorzugt identisch zu dem der Schicht, in der die Nanostrukturen 10 ausgebildet sind, z.B. der Prägelackschicht 8, kann aber auch unterschiedlich sein. Bei Nanostrukturen 10, die sich (wie in Fig. 2) auf einer ebenen Grundstruktur befinden, kann die Überbeschichtung mit dem dielektrischen Material durch Aufbringen und Abra- kein überschüssigen Materials erfolgen. Bei Nanostrukturen 10, die auf schrägen Spiegeln ausgebildet sind (wie in Fig. 4) kommt ein Abscheideverfahren zum Aufbringen des dielektrischen Materials in Frage.
Be zug sz e ichenli ste
2 Banknote
4 Sicherheitselement
6 Substrat
8 Prägelackschicht
10 Nanostruktur
12 Vertiefung
14 Reflektorschicht
16, 18 Bereich
20 Grundfläche
22 Richtung
24 Mikrostruktur
25a-d Mikrospiegel
25e Gradient
26, 28 Bereich
30 Kurve t Tiefe z bunttongleiche Wellenlänge
T Tiefenvariation
L Wellenlängenmischung

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e
1. Sicherheitselement, das aufweist eine strukturierte Schicht (8), die eine Grundfläche (20) und gegenüber dieser abgesenkte Vertiefungen (12) oder angehobene Erhebungen aufweist, und eine auf der strukturierten Schicht (8) angeordnete Reflektorschicht (14), wobei die Vertiefungen (12) oder Erhebungen hinsichtlich ihrer Ausdehnungen längs der Grundfläche (20), ihrer vertikalen Erstreckung (t) senkrecht zur Grundfläche (20) und ihrer Anordnung auf der Grundfläche (20) als farberzeugende Nanostrukturen (10) ausgebildet sind, wobei die strukturierte Schicht (8) mehrere Bereiche (16, 18; 25a-d) aufweist, die ein farbiges Motiv oder Bild bereitstellen, wobei die Bereiche (16, 18; 25a-d) bevorzugt Pixel bilden, da durch gekennzeichnet, dass in jedem der mehreren Bereiche (16, 18; 25a-d) die vertikale Erstreckung (t) der Vertiefungen (12) oder Erhebungen längs einer Richtung (22) gemäß einer nicht-konstanten Funktion variiert, so dass in jedem der mehreren Bereiche (16, 18; 25a-d) in Aufsicht eine Farbe, die durch die Variation der vertikale Erstreckung als Mischfarbe entsteht, sichtbar ist.
2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sich mind, einiger der Bereiche (16, 18; 25a-d) hinsichtlich der Funktion unterscheiden.
3. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die vertikale Erstreckung der Vertiefungen (12) oder Erhebungen längs der Richtung (22) gemäß einem Gradienten (25e) zu- oder abnimmt.
4. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in den Bereiche die Vertiefungen (12) oder Erhebungen dieselben Ausdehnungen längs der Grundfläche (20) und/ oder Anordnung auf der Grundfläche (20) haben.
5. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bereiche (25a-d) jeweils als Elemente einer Mikrostruktur (24) ausgebildet sind, insbesondere als schräggestellte Spiegelflächen, in denen die Grundfläche (20) gegenüber einer Grundebene gekippt ist, wobei sich mind, ein Teil der Bereiche (25a-d) hinsichtlich der Kippung und/ oder Form der Spiegelfläche voneinander unterscheiden.
6. Sicherheitselement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Richtung (22) in jedem Bereich (25a-d) einem Gradienten (25e) der Elemente der Mikrostruktur (24), insbesondere der Spiegelfläche folgt.
7. Sicherheitselement nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die vertikale Erstreckung (t) mit der Höhe der Spiegelfläche über der Grundebene zu- oder abnimmt.
8. Sicherheitselement nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Mikrostruktur (24) einen Wölbeffekt bewirkt.
9. Verfahren zum Herstellen eines Sicherheitselements, wobei das Verfahren aufweist
Erzeugen einer strukturierten Schicht (8), die eine Grundfläche (10) und gegenüber dieser abgesenkte Vertiefungen (12) oder angehobene Erhebungen aufweist, und Anordnen einer Reflektorschicht (14) auf der strukturierten Schicht (8), wobei die Vertiefungen (12) oder Erhebungen hinsichtlich ihrer Ausdehnungen längs der Grundfläche (20), ihrer vertikalen Erstreckung (t) senkrecht zur Grundfläche (20) und ihrer Anordnung auf der Grundfläche (20) als farberzeugende Nanostruktur (10) ausgebildet werden, die strukturierte Schicht (8) mit mehreren Bereichen (16, 18; 25a-d) ausgebildet wird, die ein farbiges Motiv oder Bild bereitstellen, wobei die Bereiche (16, 18; 25a-d) bevorzugt Pixel bilden, da durch gekennzeichnet, dass in jedem der mehreren Bereiche (16, 18; 25a-d) die vertikale Erstreckung (t) der Vertiefungen (12) oder Erhebungen längs einer Richtung (22) gemäß einer nicht-konstanten Funktion variiert, so dass in jedem der mehreren Bereiche (16, 18; 25a-d) in Aufsicht eine Farbe, die durch die Variation der vertikale Erstreckung als Mischfarbe entsteht, sichtbar wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass ein Sicherheitselement gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8 hergestellt wird.
PCT/EP2023/074189 2022-09-02 2023-09-04 Sicherheitselement mit farberzeugenden nanostrukturen und herstellverfahren dafür WO2024047258A1 (de)

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