WO2023186960A1 - Ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren - Google Patents

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WO2023186960A1
WO2023186960A1 PCT/EP2023/058102 EP2023058102W WO2023186960A1 WO 2023186960 A1 WO2023186960 A1 WO 2023186960A1 EP 2023058102 W EP2023058102 W EP 2023058102W WO 2023186960 A1 WO2023186960 A1 WO 2023186960A1
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measuring
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excitation signal
current
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PCT/EP2023/058102
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Cornelius RICHT
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Carl Zeiss Smt Gmbh
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    • G03F7/70216—Mask projection systems
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    • G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices

Definitions

  • the present invention relates to a control device for controlling and measuring an actuator of an optical system, an optical system with such a control device and a lithography system with such an optical system.
  • the present invention also relates to a method for controlling and measuring an actuator of an optical system.
  • the content of the priority application DE 102022203257.8 is fully incorporated by reference (incorporation by reference).
  • Microlithography systems are known that have actuable optical elements, such as microlens arrays or micromirror arrays. Microlithography is used to produce microstructured components, such as integrated circuits.
  • the microlithography process is carried out using a lithography system which has an illumination system and a projection system.
  • EUV lithography systems are currently being developed which use light with a wavelength in the range from 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm. Since most materials absorb light of this wavelength, reflective optics, i.e. mirrors, must be used in such EUV lithography systems instead of refracting optics, i.e. lenses, as was previously the case.
  • the image of a mask (reticle) illuminated by the lighting system is projected onto a light-sensitive mask using the projection system Layer (photoresist) coated and arranged in the image plane of the projection system, for example a silicon wafer, is projected in order to transfer the mask structure to the light-sensitive coating of the substrate.
  • the image of the mask on the substrate can be improved using actuable optical elements. For example, wavefront errors during exposure, which lead to enlarged and/or blurred images, can be compensated for. Such a correction using the optical element requires detection of the wavefront and signal processing to determine a respective position of an optical element, through which the wavefront can be corrected as desired.
  • the control signal for a respective optical element is amplified and output to the actuator of the optical element.
  • a PMN actuator (PMN; lead-magnesium-niobate) can be used as the actuator.
  • PMN a PMN actuator
  • a PMN actuator enables track positioning in the sub-micrometer or sub-nanometer range.
  • the actuator whose actuator elements are stacked on top of each other, experiences a force by applying a direct voltage that causes a certain linear expansion.
  • the position set by the DC voltage or DC voltage (DC; Direct Current) can be negatively influenced by external electromechanical crosstalk at the principle-dependent resonance points of the actuator controlled by the DC voltage. As a result of this electromechanical crosstalk, precise positioning can no longer be set in a stable manner. The higher the DC voltage applied, the stronger the mechanical resonances are.
  • a respective control signal which has a low-frequency control component for controlling the actuator and a higher-frequency measurement signal component for measuring the actuator.
  • a control signal is conventionally amplified by means of an output stage with a uniform gain over the frequency and applied to the actuator as a control voltage.
  • the control voltage and the resulting current can then be measured by other circuit parts.
  • the measured signals, especially the measured current are subject to strong noise. As a result, the desired accuracy cannot be easily achieved.
  • the conventional approach to calculating the impedance of the actuator over frequency is to carry out a Fourier transformation of the measured signals and then divide them in the frequency domain after the transformation.
  • one object of the present invention is to improve the control and measurement of an actuator of an optical system.
  • a control device for controlling and measuring an actuator for actuating an optical element of an optical system is proposed.
  • the control device comprises: a voltage measuring unit for providing a measurement voltage, which is indicative of a time-dependent voltage of the actuator controlled by means of an excitation signal based on a specific model, the excitation signal comprising at least one sinusoidal measurement signal component for measuring the impedance of the actuator, a Current measuring unit for providing a measuring current, which is indicative of a time-dependent current of the actuator controlled by the excitation signal, using a first matched filter unit for estimating a voltage amplitude and an associated phase of the measuring signal component resulting from the actuator the measurement voltage provided and the specific model of the excitation signal, a second matched filter unit for estimating a current amplitude and an associated phase of the measurement signal resulting from the actuator nal component using the provided measurement current and the specific model of the excitation signal, and a calculation unit which is set up to calculate the impedance of the actuator based on the estimated voltage amplitude, the estimated associated phase, the estimated current amplitude and the estimated added - to calculate the corresponding phase.
  • the present control device By calculating the impedance of the actuator, the present control device enables a quick and inline-capable determination of the impedance behavior of the actuator, in particular an impedance determination of the actuator installed in the lithography system.
  • the present control device for measuring the actuator advantageously dispenses with the relatively slow use of a Fourier transformation.
  • the actuator is excited using an excitation signal of which the model on which the excitation signal is based is known.
  • this model or specific model is known not only to the signal generator for generating the excitation signal, but also to the first matched filter unit and the second matched filter unit.
  • the calculation unit calculates the impedance of the actuator.
  • suitable remedies or countermeasures in particular active inline calibration or inline damping, can also be taken using the control signal.
  • the voltage measuring unit provides a measuring voltage by measuring or equating the measuring voltage with the control signal or by deriving the measuring voltage from the control signal in the event that the control signal is a voltage signal.
  • the provision of a measuring current is in particular designed by measuring or by equating the measuring current with the control signal or by deriving the measuring current from the control signal in the event that the control signal is a current signal.
  • the actuator is in particular a capacitive actuator, for example a PMN actuator (PMN; lead magnesium niobate) or a PZT actuator (PZT; lead zirconate titanate) or a LiNbO3 actuator (lithium niobate).
  • the actuator is in particular designed to actuate an optical element of the optical system.
  • the optical system is preferably a projection optics of the lithography system or projection exposure system. However, the optical system can also be a lighting system.
  • the projection exposure system can be an EUV lithography system. EUV stands for “Extreme Ultraviolet” and describes a wavelength of the working light between 0.1 nm and 30 nm.
  • the projection exposure system can also be a DUV lithography system. DUV stands for “Deep Ultraviolet” denotes a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm.
  • the first matched filter unit is set up to measure the voltage amplitude and the associated phase of the measurement signal component resulting from the actuator using the provided measurement voltage and the specific model of the excitation signal using a linear least square estimation.
  • the first matched filter unit is set up to carry out the linear least squares estimate based on a Moore-Penrose inverse, the Moore-Penrose inverse comprising coefficients which are suitable for this purpose. to compensate for a transfer function of the voltage measuring unit. By compensating the transfer function of the voltage measuring unit, the provision of the measuring voltage becomes more precise and consequently the impedance of the actuator can be calculated even more precisely.
  • the second matched filter unit is set up to determine the current amplitude and the associated phase of the measurement signal component resulting from the actuator using the measurement current provided and the specific model of the excitation signal using a linear least square -estimate to estimate.
  • the second matched filter unit is set up to carry out the linear least squares estimate based on a Moore-Penrose inverse, the Moore-Penrose inverse comprising coefficients which are suitable for forming a transfer function of the current measuring unit. GL A By compensating the transfer function of the current measuring unit, the provision of the measuring current becomes more precise and consequently the impedance of the actuator can be calculated even more precisely.
  • the control device comprises a signal generator, which is set up to provide the excitation signal with at least the sinusoidal measurement signal component for measuring the impedance of the actuator.
  • the signal generator is set up to provide the excitation signal in such a way that it includes a control signal component for setting a specific position of the controlled actuator and the sinusoidal measurement signal component for measuring the impedance of the actuator.
  • the signal generator is set up to provide the excitation signal as a broadband excitation signal with a plurality of sinusoidal measurement signal components for simultaneous measurement of the actuator at a plurality of different frequencies. In this way, the actuator can advantageously be measured at a large number of different frequencies and corresponding measures can be derived in a differentiated manner for the different frequencies.
  • the calculation unit is set up to calculate the complex impedance of the actuator by means of a phase shift between the phase associated with the voltage amplitude and the phase associated with the current amplitude and a quotient between the voltage amplitude and the current amplitude calculate.
  • the complex impedance is formed from the quotient of the voltage amplitude and the current amplitude as well as the phase difference.
  • the control device comprises a control unit coupled between the signal generator and the actuator.
  • the control unit is set up to output a time-dependent control voltage to the actuator for controlling the actuator depending on the excitation signal provided by the signal generator.
  • the control device of this embodiment can also be referred to as an amplifier stage for controlling an actuator with integrated current, voltage and impedance determination.
  • control unit has a frequency-dependent first transfer function and is set up by means of this to amplify the excitation signal having at least a first frequency range and a second frequency range in the control voltage for the actuator in such a way that the first frequency range has a higher frequency than the second frequency. frequency range experiences greater amplification by a certain factor.
  • voltage measuring unit is set up to provide the measuring voltage using a second transfer function based on an inverse of the first transfer function.
  • the current measuring unit is set up to provide the measuring current using a third transfer function based on an inverse of the first transfer function.
  • the first matched filter unit is preferably set up to carry out the linear least squares estimate based on a Moore-Penrose inverse, the Moore-Penrose inverse comprising coefficients which are suitable for the second To compensate for the transfer function of the voltage measuring unit.
  • the second matched filter unit is preferably set up to carry out the linear least squares estimate based on a Moore-Penrose inverse, the Moore-Penrose inverse comprising coefficients which are suitable for the third To compensate for the transfer function of the current measuring unit.
  • the present embodiment of the control device advantageously enables a high gain in the first frequency range for controlling the actuator and at the same time a high resolution in the second frequency range for measuring the actuator, in particular for measuring the impedance of the actuator.
  • the part of the control voltage in the first frequency range serves to control the actuator, ie in particular to control its deflection.
  • the first frequency range experiences a higher gain compared to the second frequency range in order to appropriately control the actuator.
  • the first frequency range is attenuated and the second frequency range is amplified, so that a high resolution is provided in the second frequency range for measuring the actuator.
  • the first frequency range is between 0 Hz and 1 kHz, preferably between 0 Hz and 500 Hz, more preferably between 0 Hz and 300 Hz.
  • the second frequency range is between 5 kHz and 100 kHz , preferably between 10 kHz and 100 kHz, more preferably between 10 kHz and 60 kHz.
  • the specific factor is between 100 and 2000, preferably between 500 and 1500, more preferably between 800 and 1200.
  • the control unit comprises an amplifier circuit, in particular a differential amplifier.
  • the respective unit for example the calculation unit, can be implemented using hardware and/or software. In the case of a hardware technical implementation, the unit can be designed as a device or as part of a device, for example as a computer or as a microprocessor or as part of the control device.
  • the unit can be designed as a computer program product, as a function, as a routine, as part of a program code or as an executable object.
  • an optical system with a number of actuable optical elements is proposed, each of the actuable An actuator is assigned to the number of optical elements, each actuator being assigned a control device for controlling the actuator according to the first aspect or according to one of the embodiments of the first aspect.
  • the optical system includes in particular a micromirror array and/or a microlens array with a large number of optical elements that can be actuated independently of one another.
  • groups of actuators can be defined, with all actuators in a group being assigned the same control device.
  • the optical system is designed as an illumination optics or as a projection optics of a lithography system.
  • the optical system has a vacuum housing in which the actuable optical elements, the associated actuators and the control device are arranged.
  • a lithography system is proposed which has an optical system according to the second aspect or according to one of the embodiments of the second aspect.
  • the lithography system is, for example, an EUV lithography system whose working light is in a wavelength range of 0.1 nm to 30 nm, or a DUV lithography system whose working light is in a wavelength range of 30 nm to 250 nm.
  • a method for controlling and measuring an actuator for actuating an optical element of an optical system comprises the steps: Providing a measurement voltage, which is indicative of a time-dependent voltage of the actuator controlled by means of an excitation signal based on a specific model, wherein the excitation signal comprises at least a sinusoidal measurement signal component for measuring the impedance of the actuator, Providing a Measuring current, which is indicative of a time-dependent current of the actuator controlled by means of the excitation signal, estimating a voltage amplitude and an associated phase of the measurement signal component resulting from the actuator using the measurement voltage provided and the specific model of the excitation signal by means of a first Matched filter unit, estimating a current amplitude and an associated phase of the measurement signal component resulting from the actuator using the provided measurement current and the specific model of the excitation signal by means of a second matched filter unit, and calculating the impedance of the actuator based on the estimated voltage amplitude, the estimated associated phase, the estimated current amplitude
  • FIG. 1 shows a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography
  • 2 shows a schematic representation of an embodiment of an optical system
  • 3 shows a schematic block diagram of an embodiment of a control device for controlling and measuring an actuator for actuating an optical element of an optical system
  • FIG. 4 shows a schematic view of an embodiment of a method for controlling and measuring an actuator for actuating an optical element of an optical system.
  • FIG. 1 shows an embodiment of a projection exposure system 1 (lithography system), in particular an EUV lithography system.
  • a lighting system 2 of the projection exposure system 1 has, in addition to a light or radiation source 3, lighting optics 4 for illuminating an object field 5 in an object plane 6.
  • the light source 3 can also be used as a module separate from the other lighting system 2 be provided.
  • the lighting system 2 does not include the light source 3.
  • a reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed.
  • the reticle 7 is held by a reticle holder 8.
  • the reticle holder 8 can be displaced via a reticle displacement drive 9, in particular in a scanning direction.
  • FIG. 1 A Cartesian coordinate system with an x-direction x, a y-direction y and a z-direction z is shown in FIG. 1 for explanation purposes.
  • the x direction x runs perpendicularly into the drawing plane.
  • the y-direction y runs horizontally and the z-direction z runs vertically.
  • the scanning direction runs along the y-direction y.
  • the z-direction z runs perpendicular to the object plane 6.
  • the projection exposure system 1 includes projection optics 10.
  • the projection optics 10 is used to image the object field 5 into an image field 11 in an image plane 12.
  • the image plane 12 runs parallel to the object plane 6. Alternatively, an angle other than 0° between the object plane 6 and the image plane 12 is also possible.
  • a structure on the reticle 7 is imaged on a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12.
  • the wafer 13 is held by a wafer holder 14.
  • the wafer holder 14 can be displaced in particular along the y direction y via a wafer displacement drive 15.
  • the displacement, on the one hand, of the reticle 7 via the reticle displacement drive 9 and, on the other hand, of the wafer 13 via the wafer displacement drive 15 can take place synchronized with one another.
  • the light source 3 is an EUV radiation source.
  • the light source 3 emits in particular EUV radiation 16, which is also referred to below as useful radiation, illumination radiation or illumination light.
  • the useful radiation 16 in particular has a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm.
  • the light source 3 can be a plasma source, for example an LPP source (Laser Produced Plasma, produced using a laser plasma) or a DPP source (Gas Discharged Produced Plasma). It can also be a synchrotron-based radiation source.
  • the light source 3 can be a free electron laser (FEL).
  • the illumination radiation 16, which emanates from the light source 3, is focused by a collector 17.
  • the collector 17 can be a collector with one or more ellipsoidal and/or hyperboloid reflection surfaces. The at least one reflection surface of the collector 17 can be in grazing incidence (GI), i.e.
  • the illumination radiation 16 is applied.
  • the collector 17 can be used to optimize its reflectivity the useful radiation and on the other hand can be structured and/or coated to suppress false light.
  • the illumination radiation 16 propagates through an intermediate focus in an intermediate focus plane 18.
  • the intermediate focus plane 18 can represent a separation between a radiation source module, having the light source 3 and the collector 17, and the illumination optics 4.
  • the lighting optics 4 comprises a deflection mirror 19 and, downstream of this in the beam path, a first facet mirror 20.
  • the deflection mirror 19 can be a flat deflection mirror or alternatively a mirror with an effect that influences the bundle beyond the pure deflection effect. Alternatively or additionally, the deflection mirror 19 can be designed as a spectral filter which separates a useful light wavelength of the illumination radiation 16 from false light of a wavelength that deviates from this. If the first facet mirror 20 is arranged in a plane of the illumination optics 4 that is optically conjugate to the object plane 6 as a field plane, this is also referred to as a field facet mirror.
  • the first facet mirror 20 includes a large number of individual first facets 21, which can also be referred to as field facets. Some of these first facets 21 are shown in FIG. 1 only as examples.
  • the first facets 21 can be designed as macroscopic facets, in particular as rectangular facets or as facets with an arcuate or part-circular edge contour.
  • the first facets 21 can be designed as flat facets or alternatively as convex or concave curved facets.
  • the first facets 21 themselves can also each be composed of a large number of individual mirrors, in particular a large number of micromirrors.
  • the first fa- cettenspiegel 20 can in particular be designed as a microelectromechanical system (MEMS system).
  • MEMS system microelectromechanical system
  • a second facet mirror 22 is located downstream of the first facet mirror 20 in the beam path of the illumination optics 4. If the second facet mirror 22 is arranged in a pupil plane of the illumination optics 4, it is also referred to as a pupil facet mirror. The second facet mirror 22 can also be arranged at a distance from a pupil plane of the lighting optics 4. In this case, the combination of the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22 is also referred to as a specular reflector. Specular reflectors are known from US 2006/0132747 A1, EP 1614 008 B1 and US 6,573,978. The second facet mirror 22 comprises a plurality of second facets 23.
  • the second facets 23 are also referred to as pupil facets.
  • the second facets 23 can also be macroscopic facets, which can have, for example, round, rectangular or even hexagonal edges, or alternatively they can be facets composed of micromirrors.
  • the second facets 23 can have flat or alternatively convex or concave curved reflection surfaces.
  • the lighting optics 4 thus forms a double faceted system. This basic principle is also known as the honeycomb condenser (Fly's Eye Integrator). It may be advantageous not to arrange the second facet mirror 22 exactly in a plane that is optically conjugate to a pupil plane of the projection optics 10.
  • the second facet mirror 22 can be arranged tilted relative to a pupil plane of the projection optics 10, as described for example in DE 102017220586 A1. With the help of the second facet mirror 22, the individual first facets 21 are imaged into the object field 5.
  • the second facet mirror 22 is the last beam-forming or actually the last mirror for the illumination radiation 16 in the beam path in front of the object field 5.
  • a transmission optics may be arranged, which contributes in particular to the imaging of the first facets 21 in the object field 5.
  • the transmission optics can have exactly one mirror, but alternatively also two or more mirrors, which are arranged one behind the other in the beam path of the illumination optics 4.
  • the transmission optics can in particular include one or two mirrors for perpendicular incidence (NI mirror, normal incidence mirror) and/or one or two mirrors for grazing incidence (GI mirror, grazing incidence mirror).
  • NI mirror perpendicular incidence
  • GI mirror grazing incidence mirror
  • the lighting optics 4 has exactly three mirrors after the collector 17, namely the deflection mirror 19, the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.
  • the deflection mirror 19 can also be omitted, so that the lighting optics 4 can then have exactly two mirrors after the collector 17, namely the first facet mirror 20 and the second facet mirror 22.
  • the imaging of the first facets 21 using the second Facets 23 or with the second facets 23 and a transmission optics in the object plane 6 is usually only an approximate image.
  • the projection optics 10 comprises a plurality of mirrors Mi, which are numbered consecutively according to their arrangement in the beam path of the projection exposure system 1. In the example shown in FIG. 1, the projection optics 10 comprises six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible.
  • the projection optics 10 is a double obscured optics.
  • the penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16.
  • the projection optics 10 has an image-side numerical aperture that is larger than 0.5 and which can also be larger than 0.6 and the For example, it can be 0.7 or 0.75.
  • Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without an axis of rotational symmetry.
  • the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one axis of rotational symmetry of the reflection surface shape.
  • the mirrors Mi just like the mirrors of the lighting optics 4, can have highly reflective coatings for the lighting radiation 16. These coatings can be designed as multilayer coatings, in particular with alternating layers of molybdenum and silicon.
  • the projection optics 10 has a large object image offset in the y direction y between a y coordinate of a center of the object field 5 and a y coordinate of the center of the image field 11.
  • This object image offset in the y direction y can be in be approximately as large as a z-distance between the object plane 6 and the image plane 12.
  • the projection optics 10 can in particular be anamorphic. In particular, it has different imaging scales ⁇ x, ⁇ y in the x and y directions x, y.
  • a positive image scale ⁇ means an image without image reversal.
  • a negative sign for the image scale ⁇ means an image with image reversal.
  • the projection optics 10 thus leads to a reduction in size in the x direction x, that is to say in the direction perpendicular to the scanning direction, in a ratio of 4:1.
  • the projection optics 10 leads to a reduction of 8:1 in the y direction y, that is to say in the scanning direction.
  • Other image scales are also possible. Image scales of the same sign and absolutely the same in the x and y directions x, y, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.
  • the number of intermediate image planes in the x and y directions x, y in the beam path between the object field 5 and the image field 11 can be the same or, depending on the design of the projection optics 10, can be different. Examples of projection optics with different numbers of such intermediate images in the x and y directions x, y are known from US 2018/0074303 A1.
  • One of the second facets 23 is assigned to exactly one of the first facets 21 to form an illumination channel for illuminating the object field 5. This can in particular result in lighting based on Köhler's principle.
  • the far field is broken down into a large number of object fields 5 using the first facets 21.
  • the first facets 21 generate a plurality of images of the intermediate focus on the second facets 23 assigned to them.
  • the first facets 21 are each imaged onto the reticle 7 by an assigned second facet 23, superimposed on one another, in order to illuminate the object field 5.
  • the illumination of the object field 5 is in particular as homogeneous as possible. It preferably has a uniformity error of less than 2%. Field uniformity can be achieved by overlaying different lighting channels.
  • the illumination of the entrance pupil of the projection optics 10 can be geometrically defined.
  • the intensity distribution in the entrance pupil of the projection optics 10 can be adjusted. This intensity distribution is also referred to as the lighting setting or lighting pupil filling.
  • a likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the illumination optics 4 can be achieved by redistributing the illumination channels. Further aspects and details of the illumination of the object field 5 and in particular the entrance pupil of the projection optics 10 are described below.
  • the projection optics 10 can in particular have a homocentric entrance pupil. This can be accessible. It can also be inaccessible.
  • the entrance pupil of the projection optics 10 cannot regularly be illuminated precisely with the second facet mirror 22. When imaging the projection optics 10, which images the center of the second facet mirror 22 telecentrically onto the wafer 13, the aperture beams often do not intersect at a single point. However, an area can be found in which the pairwise distance of the aperture beams becomes minimal.
  • This surface represents the entrance pupil or a surface conjugate to it in local space.
  • this surface shows a finite curvature.
  • the projection optics 10 have different positions of the entrance pupil for the tangential and sagittal beam paths.
  • an imaging element in particular an optical component of the transmission optics, should be provided between the second facet mirror 22 and the reticle 7. With the help of this optical element, the different positions of the tangential entrance pupil and the sagittal entrance pupil can be taken into account.
  • the second facet mirror 22 is arranged in a surface conjugate to the entrance pupil of the projection optics 10.
  • the first facet mirror 20 is tilted relative to the object plane 6.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the deflection mirror 19.
  • the first facet mirror 20 is arranged tilted to an arrangement plane that is defined by the second facet mirror 22.
  • 2 shows a schematic representation of an embodiment of an optical system 300 for a lithography system or projection exposure system. ge 1, as shown for example in Fig.1.
  • the optical system 300 of FIG. 2 can also be used, for example, in a DUV lithography system.
  • the optical system 300 of FIG. 2 has a plurality of actuable optical elements 310.
  • the optical system 300 is designed here as a micromirror array, the optical elements 310 being micromirrors. Each micromirror 310 can be actuated by means of an assigned actuator 200.
  • a respective micromirror 310 can be tilted about two axes and/or displaced in one, two or three spatial axes by means of the associated actuator 200. For reasons of clarity, the reference numbers are only shown for the top row of these elements.
  • the control device 100 controls the respective actuator 200, for example with a control voltage S. This sets a position of the respective micromirror 310.
  • the control device 100 is described in particular with reference to FIG. 3. 3 shows a schematic block diagram of an embodiment of a control device 100 for controlling and measuring an actuator 200 for actuating an optical element 310 of an optical system 300.
  • the 3 comprises a signal generator 110, a control unit 120 coupled to the signal generator 110 for controlling the actuator 200, a voltage measuring unit 130 coupled to the actuator 200, a current measuring unit 140 coupled to the actuator 200, a first matched Filter unit 150, a second matched filter unit 160 and a calculation unit 170.
  • the signal generator 110 is set up to provide an excitation signal y(t) based on a specific model M with at least one sinusoidal measurement component for measuring the impedance Z of the actuator 200.
  • “sinusoidal” is also understood to mean in particular “cosinusoidal”.
  • y(t) denotes the excitation signal, a the amplitude, f the frequency, t the time and ⁇ the phase.
  • the signal generator 110 is also set up to provide the excitation signal y(t) in such a way that the excitation signal y(t) contains a control signal component for setting a specific position of the controlled actuator 200 and the sinusoidal measurement signal component for measuring the impedance Z of the actuator 200 includes.
  • the signal generator 110 can be set up to generate the excitation signal y(t) as a broadband excitation signal with a plurality of sinusoidal measurement signal components for simultaneous measurement of the actuator 200 at a plurality of different frequencies to provide.
  • the excitation signal y(t) can additionally include a control signal component for setting a specific position of the controlled actuator 200.
  • the signal generator 110 is followed by the control unit 120.
  • the control unit 120 is coupled between the signal generator 110 and the actuator 200 and receives the excitation signal y(t) provided by the signal generator 110.
  • the control unit 120 is set up to output a time-dependent control voltage S to the actuator 200 for controlling the actuator 200 as a function of the excitation signal y(t) provided by the signal generator 110.
  • the voltage measuring unit 130 is coupled to the actuator 200 and is set up to provide a measuring voltage U.
  • the measuring voltage U is indicative of a time-dependent voltage u of the actuator 200 controlled by means of the excitation signal y(t).
  • the fact that the actuator 200 is controlled by means of the excitation signal y(t) includes the generation of the control voltage S based on the Excitation signal y(t) and the subsequent control of the actuator 200 with the generated control voltage S.
  • the first matched filter unit 150 which is connected downstream of the voltage measuring unit 130, is used to estimate a voltage amplitude a U and an associated phase ⁇ U of the voltage at the actuator 200 resulting measurement signal component using the provided measurement voltage U and the specific model M of the excitation signal y (t).
  • the first matched filter unit 150 uses in particular a linear least square estimation.
  • the first matched filter unit 150 is preferably set up to carry out the linear least squares estimate based on a Moore-Penrose inverse.
  • the Moore-Penrose inverse includes coefficients, which are suitable for compensating a transfer function of the voltage measuring unit 130.
  • the current measuring unit 140 is coupled to the actuator 200 and is set up to provide a measuring current I.
  • the measuring current I is indicative of a time-dependent current i of the actuator 200 controlled by the excitation signal y(t).
  • the current measuring unit 140 is followed by a second matched filter unit 160, which is used to estimate a current amplitude a I and an associated one Phase ⁇ I of the measurement signal component resulting from the actuator 200 is set up using the provided measurement current I and the specific model M of the excitation signal y(t).
  • the second matched filter unit 160 - analogous to the first matched filter unit 150 - uses a linear least squares estimate.
  • the second matched filter unit 160 is set up in particular to carry out the linear least square estimation based on a Moore-Penrose inverse.
  • This Moore-Penrose inverse has coefficients which are suitable for compensating the transfer function of the current measuring unit 140.
  • the calculation unit 170 is connected downstream of the first matched filter unit 150 and the second matched filter unit 160 and configured to calculate the impedance Z of the actuator 200 based on the estimated voltage amplitude aU, the estimated associated phase ⁇ U, the estimated current amplitude aI and the estimated associated phase ⁇ I .
  • the calculation unit 170 calculates in particular the complex impedance Z of the actuator 200 by means of a phase shift between the phase ⁇ U associated with the voltage amplitude a U and the phase ⁇ I associated with the current amplitude a I and a quotient between the voltage -Amplitude aU and the current amplitude a I.
  • the control unit 120 has a frequency-dependent first transfer function and is set up by means of this to amplify the excitation signal y(t) having at least a first frequency range and a second frequency range into the control voltage S for the actuator 200 in such a way that the The first frequency range experiences an amplification that is greater by a certain factor compared to the second frequency range.
  • the first frequency range is between 0 Hz and 1 kHz, preferably between 0 Hz and 500 Hz, more preferably between 0 Hz and 300 Hz.
  • the second frequency range is, for example, between 5 kHz and 100 kHz, preferably between 10 kHz and 100 kHz, more preferably between 10 kHz and 60 kHz.
  • the specific factor is, for example, between 100 and 2000, preferably between 500 and 1500, more preferably between 800 and 1200.
  • the voltage measuring unit 120 is set up to measure the measuring voltage U using an inverse of the first transfer function second transfer function
  • the current measuring unit 130 is set up to provide the measuring current I using a third transfer function based on an inverse of the first transfer function.
  • the first matched filter unit 150 is preferably set up to carry out the linear least square estimation based on a Moore-Penrose inverse, the Moore-Penrose inverse comprising coefficients which are set up to form the second transfer function the voltage measuring unit 130.
  • the second matched filter unit 160 is set up to carry out the linear least square estimation based on a Moore-Penrose inverse, the Moore-Penrose inverse comprising coefficients , which are suitable for compensating the third transfer function of the current measuring unit 130.
  • 4 shows a schematic view of an embodiment of a method for controlling and measuring an actuator 200 for actuating an optical element 310 of an optical system 300. An example of an optical system 300 is shown in FIG.
  • the optical system 300 is in particular part of a lithography system 1, which is shown, for example, in Fig.1.
  • the method according to FIG. 4 can be carried out in particular by a control device 100, as shown by way of example in FIG of the actuator 200 controlled by an excitation signal y(t) based on a specific model M.
  • the excitation signal y(t) includes at least one sinusoidal measurement signal component for measuring the impedance Z of the actuator 200.
  • a measurement current I is provided, which is indicative of a time-dependent current i of the actuator controlled by the excitation signal y(t).
  • tuator is 200.
  • a voltage amplitude aU and an associated phase ⁇ U of the measurement signal component resulting from the actuator 200 are determined using the provided measurement voltage U and the specific model M of the excitation signal y(t) by means of a first matched filter unit 150 estimated.
  • a current amplitude a I and an associated phase ⁇ I of the measurement signal component resulting from the actuator are determined using the provided measurement current I and the specific model M of the excitation signal y(t) using a second matched filter unit 160 estimated.
  • the impedance Z of the actuator 200 is calculated based on the estimated voltage amplitude aU, the estimated associated phase ⁇ U , the estimated current amplitude aI and the estimated associated phase ⁇ I .

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Abstract

Eine Ansteuervorrichtung (100) zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators zum Aktuieren (200) eines optischen Elementes (310) eines optischen Systems (300), mit einer Spannungsmesseinheit (130) zum Bereitstellen einer Messspannung (U), welche indikativ für eine zeitabhängige Spannung (u) des mittels eines auf einem bestimmten Modell (M) basierenden Anregungssignals (y(t)) angesteuerten Aktuators (200) ist, wobei das Anregungssignal (y(t)) zumindest einen sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz (Z) des Aktuators (200) umfasst, einer Strommesseinheit (140) zum Bereitstellen eines Messstroms (I), welcher indikativ für einen zeitabhängigen Strom (i) des mittels des Anregungssignals (y(t)) angesteuerten Aktuators (200) ist, einer ersten Matched-Filter-Einheit (150) zum Schätzen einer Spannungs-Amplitude (aU) und einer zugehörigen Phase (φU) des sich an dem Aktuator (200) ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der bereitgestellten Messspannung (U) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)), einer zweiten Matched-Filter-Einheit (160) zum Schätzen einer Strom-Amplitude (aI) und einer zugehörigen Phase (φI) des sich an dem Aktuator (200) ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung des bereitgestellten Messstroms (I) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)), und einer Berechnungseinheit (170), welche dazu eingerichtet ist, die Impedanz (Z) des Aktuators (200) basierend auf der geschätzten Spannungs-Amplitude (aU), der geschätzten zugehörigen Phase (φU), der geschätzten Strom-Amplitude (aI) und der geschätzten zugehörigen Phase (φI) zu berechnen.

Description

ANSTEUERVORRICHTUNG, OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN Die vorliegende Erfindung betrifft eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators eines optischen Systems, ein optisches System mit einer solchen Ansteuervorrichtung und eine Lithographieanlage mit einem solchen optischen System. Außerdem betrifft die vorliegende Erfindung ein Ver- fahren zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators eines optischen Sys- tems. Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 102022203257.8 wird durch Bezug- nahme vollumfänglich mit einbezogen (incorporation by reference). Es sind Mikrolithographieanlagen bekannt, die aktuierbare optische Elemente, wie beispielsweise Mikrolinsenarrays oder Mikrospiegelarrays aufweisen. Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographiepro- zess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungs- system und ein Projektionssystem aufweist. Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstel- lung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen entwi- ckelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, ins- besondere 13,5 nm, verwenden. Da die meisten Materialien Licht dieser Wellen- länge absorbieren, müssen bei solchen EUV-Lithographieanlagen reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu über- tragen. Mit aktuierbaren optischen Elementen lässt sich die Abbildung der Mas- ke auf dem Substrat verbessern. Beispielsweise lassen sich Wellenfrontfehler bei der Belichtung, die zu vergrößerten und/oder unscharfen Abbildungen führen, ausgleichen. Für eine solche Korrektur mittels des optischen Elements bedarf es einer Erfas- sung der Wellenfront und einer Signalverarbeitung zum Ermitteln einer jeweili- gen Position eines optischen Elements, durch welche sich die Wellenfront wie ge- wünscht korrigieren lässt. Im letzten Schritt wird das Ansteuersignal für ein je- weiliges optisches Element verstärkt und an den Aktuator des optischen Ele- ments ausgegeben werden. Als Aktuator kann beispielsweise ein PMN-Aktuator (PMN; Blei-Magnesium- Niobate) eingesetzt werden. Ein PMN-Aktuator ermöglicht eine Streckenpositio- nierung im Sub-Mikrometer-Bereich oder Sub-Nanometer-Bereich. Dabei erfährt der Aktuator, dessen Aktuator-Elemente aufeinandergestapelt sind, durch Anle- gen einer Gleichspannung eine Kraft, welche eine bestimmte Längenausdehnung verursacht. Die durch die Gleichspannung oder DC-Spannung (DC; Direct Cur- rent) eingestellte Position kann durch ein externes elektromechanisches Über- sprechen an den sich prinzipbedingt ergebenden Resonanzstellen des mit der Gleichspannung angesteuerten Aktuators negativ beeinflusst werden. In Folge dieses elektromechanischen Übersprechens ist eine präzise Positionierung nicht mehr stabil einstellbar. Dabei sind die mechanischen Resonanzen umso stärker, je höher die angelegte Gleichspannung ist. Diese Resonanzstellen können sich auch langfristig, zum Beispiel durch Temperaturdrift oder durch Klebedrift, wenn sich die mechanische Anbindung des Klebematerials ändert, oder durch Hysterese oder Alterung ändern. Beispielsweise in diesem Zusammenhang wäre eine Impedanzmessung hilfreich. Allerdings sind herkömmliche Impedanz-Messeinrichtungen häufig zu kostenin- tensiv und ferner nicht inline-fähig, d. h. sie können regelmäßig nicht in einer Li- thographieanlage eingesetzt werden. Ferner erweisen sich integrierte Impedanz- Messbrücken, welche zumeist für zu hohe Impedanz-Werte ausgelegt sind, für die vorliegende Anwendung in einer Lithographieanlage als nicht geeignet, da der hier interessierende Impedanz-Wertebereich mehrere Größenordnungen um- fasst und der interessierende Bereich nur ein Bruchteil des gesamten Bereichs ist. Außerdem ist bekannt, die Aktuatoren einer Lithographieanlage mittels eines jeweiligen Ansteuersignals anzusteuern, welches einen niederfrequenten An- steueranteil zur Ansteuerung des Aktuators und einen höherfrequenteren Mess- signalanteil zur Vermessung des Aktuators aufweist. Ein solches Ansteuersignal wird herkömmlicherweise mittels einer Endstufe mit einer über die Frequenz einheitlichen Verstärkung verstärkt und als Ansteuerspannung an den Aktuator angelegt. Die Ansteuerspannung sowie der sich ergebende Strom können dann von ande- ren Schaltungsteilen gemessen werden. Allerdings sind die gemessenen Signale, dabei im Speziellen der gemessene Strom, einem starken Rauschen unterworfen. Dadurch kann die gewünschte Genauigkeit nicht ohne Weiteres erreicht werden. Der herkömmliche Ansatz zur Berechnung der Impedanz des Aktuators über der Frequenz ist es, jeweils eine Fourier-Transformation der gemessenen Signale durchzuführen und diese im Anschluss an die Transformation im Frequenzbe- reich zu teilen. Dieses Vorgehen hat allerdings die folgenden Nachteile: Die Aus- wertung über die Fourier-Transformation ist wenig robust gegenüber Rauschen. Des Weiteren wird die Fourier-Transformation stets auf dem kompletten Fre- quenzspektrum durchgeführt, auch wenn das Messsignal nur eine einzelne Fre- quenz oder einen kleinen Frequenzbereich beinhaltet. Die Auswertung über die Fourier-Transformation erfordert im Speziellen bei niedrigen Frequenzen eine sehr lange Messzeit. Des Weiteren musss die Frequenz des Anregungssignals zu den Frequenzpunkten der Fourier-Transformation beziehungsweise zur Abtast- rate des Messsignals passen. Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, die Ansteuerung und Vermessung eines Aktuators eines optischen Systems zu verbessern. Gemäß einem ersten Aspekt wird eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators zum Aktuieren eines optischen Elementes eines optischen Systems vorgeschlagen. Die Ansteuervorrichtung umfasst: eine Spannungsmesseinheit zum Bereitstellen einer Messspannung, wel- che indikativ für eine zeitabhängige Spannung des mittels eines auf einem be- stimmten Modell basierenden Anregungssignals angesteuerten Aktuators ist, wobei das Anregungssignal zumindest einen sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz des Aktuators umfasst, eine Strommesseinheit zum Bereitstellen eines Messstroms, welcher indi- kativ für einen zeitabhängigen Strom des mittels des Anregungssignals ange- steuerten Aktuators ist, eine erste Matched-Filter-Einheit zum Schätzen einer Spannungs- Amplitude und einer zugehörigen Phase des sich an dem Aktuator ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der bereitgestellten Messspannung und des bestimmten Modells des Anregungssignals, eine zweite Matched-Filter-Einheit zum Schätzen einer Strom-Amplitude und einer zugehörigen Phase des sich an dem Aktuator ergebenden Messsig- nalanteils unter Verwendung des bereitgestellten Messstroms und des bestimm- ten Modells des Anregungssignals, und eine Berechnungseinheit, welche dazu eingerichtet ist, die Impedanz des Aktuators basierend auf der geschätzten Spannungs-Amplitude, der geschätzten zugehörigen Phase, der geschätzten Strom-Amplitude und der geschätzten zuge- hörigen Phase zu berechnen. Durch die Berechnung der Impedanz des Aktuators ermöglicht die vorliegende Ansteuervorrichtung eine schnelle und inline-fähige Ermittlung des Impedanz- verhaltens des Aktuators, insbesondere eine Impedanzermittlung des in der Li- thographieanlage verbauten Aktuators. Dabei verzichtet die vorliegende Ansteuervorrichtung zum Vermessen des Aktu- ators vorteilhafterweise auf die verhältnismäßig langsame Verwendung einer Fourier-Transformation. Demgegenüber erfolgt vorliegend die Anregung des Ak- tuators unter Verwendung eines Anregungssignals, von welchem das Modell, auf dem das Anregungssignal basiert, bekannt ist. Dieses Modell oder bestimmte Modell ist vorliegend nicht nur dem Signalgenerator zur Generierung des Anre- gungssignals, sondern auch der ersten Matched-Filter-Einheit und der zweiten Matched-Filter-Einheit bekannt. Dadurch dass der ersten Matched-Filter- Einheit und der zweiten Matched-Filter-Einheit das Modell des Anregungssig- nals bekannt ist, können die Spannungsamplitude und ihre zugehörige Phase sowie die Stromamplitude und ihre zugehörige Phase schnell und genau ge- schätzt werden. Basierend auf dieser sehr schnellen und genauen Ermittlung berechnet dann die Berechnungseinheit die Impedanz des Aktuators. Durch die Nutzung des Modells für das vorliegende Schätzen und Berechnen zur Bestim- mung der Impedanz wird die herkömmliche Vermessung des gesamten Spekt- rums und die anschließende Suche nach dem Anregungssignal vorteilhafterweise vermieden. Basierend auf dem ermittelten Impedanzverhalten des Aktuators können geeig- nete Abhilfen oder Gegenmaßnahmen, insbesondere eine aktive Inline- Kalibrierung oder Inline-Dämpfung, auch mittels des Ansteuersignals ergriffen werden. Insbesondere ist das Bereitstellen einer Messspannung durch die Spannungs- messeinheit ausgebildet durch ein Messen oder durch ein Gleichsetzen der Mess- spannung mit dem Ansteuersignal oder durch ein Ableiten der Messspannung von dem Ansteuersignal für den Fall, dass das Ansteuersignal ein Spannungs- signal ist. Das Bereitstellen eines Messtroms ist insbesondere ausgebildet durch ein Mes- sen oder durch ein Gleichsetzen des Messstroms mit dem Ansteuersignal oder durch ein Ableiten des Messstroms von dem Ansteuersignal für den Fall, dass das Ansteuersignal ein Stromsignal ist. Der Aktuator ist insbesondere ein kapazitiver Aktuator, beispielsweise ein PMN- Aktuator (PMN; Blei-Magnesium-Niobate) oder ein PZT-Aktuator (PZT; Blei- Zirkonat-Titanate) oder ein LiNbO3-Aktuator (Lithiumniobat). Der Aktuator ist insbesondere dazu eingerichtet, ein optisches Element des optischen Systems zu aktuieren. Beispiele für ein solches optisches Element umfassen Linsen, Spiegel und adaptive Spiegel. Das optische System ist bevorzugt eine Projektionsoptik der Lithographieanlage oder Projektionsbelichtungsanlage. Das optische System kann jedoch auch ein Beleuchtungssystem sein. Die Projektionsbelichtungsanlage kann eine EUV- Lithographieanlage sein. EUV steht für "Extreme Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Die Projektions- belichtungsanlage kann auch eine DUV-Lithographieanlage sein. DUV steht für "Deep Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Gemäß einer Ausführungsform ist die erste Matched-Filter-Einheit dazu einge- richtet, die Spannung-Amplitude und die zugehörige Phase des sich an dem Ak- tuator ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der bereitgestellten Messspannung und des bestimmten Modells des Anregungssignals mittels einer Linear-Least-Square-Schätzung zu schätzen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die erste Matched-Filter-Einheit da- zu eingerichtet, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore- Penrose-Inverse auszuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, eine Übertragungsfunktion der Spannungs- messeinheit zu kompensieren. Durch die Kompensation der Übertragungsfunktion der Spannungsmesseinheit wird die Bereitstellung des Messspannung genauer und folglich ist die Impedanz des Aktuators noch genauer berechenbar. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die zweite Matched-Filter-Einheit dazu eingerichtet, die Strom-Amplitude und die zugehörige Phase des sich an dem Aktuator ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung des bereitge- stellten Messstroms und des bestimmten Modells des Anregungssignals mittels einer Linear-Least-Square-Schätzung zu schätzen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die zweite Matched-Filter-Einheit dazu eingerichtet, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore- Penrose-Inverse auszuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, eine Übertragungsfunktion der Strommess- einheit zu kompensieren. GL A Durch die Kompensation der Übertragungsfunktion der Strommesseinheit wird die Bereitstellung des Messstroms genauer und folglich ist die Impedanz des Ak- tuators noch genauer berechenbar. Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Ansteuervorrichtung einen Signalgenerator, welcher dazu eingerichtet ist, das Anregungssignal mit zumin- dest dem sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz des Ak- tuators bereitzustellen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das bestimmte Model des Anre- gungssignals bestimmt durch die Gleichung y(t) =α * sin (2πft+φ) , in welcher y(t) das Anregungssignal, a die Amplitude, f die Frequenz, t die Zeit und φ die Phase bezeichnen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Signalgenerator dazu eingerich- tet, das Anregungssignal derart bereitzustellen, dass dieses einen Ansteuersig- nalanteil zur Einstellung einer bestimmten Position des angesteuerten Aktuators und den sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz des Ak- tuators umfasst. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das bestimmte Model des Anre- gungssignals bestimmt durch die Gleichung: y(t) =0+a α * sin (2πft+φ) in welcher y(t) das Anregungssignal, O den Ansteuersignalanteil, a die Amplitu- de, f die Frequenz, t die Zeit und φ die Phase bezeichnen. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der Signalgenerator dazu eingerich- tet, das Anregungssignal als ein breitbandiges Anregungssignal mit einer Mehr- zahl von sinusförmigen Messsignalanteilen zur gleichzeitigen Vermessung des Aktuators an einer Mehrzahl von unterschiedlichen Frequenzen bereitzustellen. Hierdurch kann der Aktuator vorteilhafterweise an einer Vielzahl von unter- schiedlichen Frequenzen vermessen werden und es können entsprechende Maß- nahmen für die unterschiedlichen Frequenzen differenziert abgleitet werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Berechnungseinheit dazu einge- richtet, die komplexe Impedanz des Aktuators mittels einer Phasenverschiebung zwischen der zur Spannungs-Amplitude zugehörigen Phase und der zur Strom- Amplitude zugehörigen Phase und einem Quotienten zwischen der Spannungs- Amplitude und der Strom-Amplitude zu berechnen. Hierbei wird die komplexe Impedanz aus dem Quotienten der Spannungs-Amplitude und der Strom- Amplitude sowie der Phasendifferenz gebildet. Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Ansteuervorrichtung eine zwischen den Signalgenerator und dem Aktuator gekoppelte Ansteuereinheit. Dabei ist die Ansteuereinheit dazu eingerichtet ist, eine zeitabhängige Ansteuer- spannung zur Ansteuerung des Aktuators in Abhängigkeit des von dem Signal- generator bereitgestellten Anregungssignals an den Aktuator auszugeben. Die Ansteuervorrichtung dieser Ausführungsform kann auch als Verstärkerstufe zur Ansteuerung eines Aktuators mit integrierter Strom-, Spannungs- und Im- pedanzermittlung bezeichnet werden. Gemäß einer weiteren Ausführungsform hat die Ansteuereinheit eine frequenz- abhängige erste Übertragungsfunktion und ist mittels dieser dazu eingerichtet, das Anregungssignals aufweisend zumindest einen ersten Frequenzbereich und einen zweiten Frequenzbereich derart in Ansteuerspannung für den Aktuator zu verstärken, dass der erste Frequenzbereich eine gegenüber dem zweiten Fre- quenzbereich um einen bestimmten Faktor größere Verstärkung erfährt. Weiter- hin ist die Spannungsmesseinheit dazu eingerichtet, die Messspannung unter Verwendung einer auf einer Inversen der ersten Übertragungsfunktion basie- renden zweiten Übertragungsfunktion bereitzustellen. Die Strommesseinheit ist dazu eingerichtet, den Messstrom unter Verwendung einer auf einer Inversen der ersten Übertragungsfunktion basierenden dritten Übertragungsfunktion be- reitzustellen. Dabei ist die erste Matched-Filter-Einheit vorzugsweise dazu ein- gerichtet, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose- Inverse auszuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, die zweite Übertragungsfunktion der Spannungsmes- seinheit zu kompensieren. Entsprechend ist die zweite Matched-Filter-Einheit vorzugsweise dazu eingerichtet, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inverse auszuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Ko- effizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, die dritte Übertragungsfunktion der Strommesseinheit zu kompensieren. Die vorliegende Ausführungsform der Ansteuervorrichtung ermöglicht vorteil- hafterweise eine hohe Verstärkung im ersten Frequenzbereich zur Ansteuerung des Aktuators und zugleich eine hohe Auflösung im zweiten Frequenzbereich zur Vermessung des Aktuators, insbesondere zur Messung der Impedanz des Aktua- tors. Dabei dient der Teil der Ansteuerspannung im ersten Frequenzbereich der Ansteuerung des Aktuators, d.h. insbesondere der Steuerung seiner Auslenkung. Hierbei erfährt der erste Frequenzbereich eine gegenüber dem zweiten Fre- quenzbereich höhere Verstärkung, um den Aktuator geeignet anzusteuern. Vor der jeweiligen Messung, d. h. vor der Spannungsmessung und der Strommes- sung, wird der erste Frequenzbereich gedämpft und der zweite Frequenzbereich wird verstärkt, so dass im zweiten Frequenzbereich eine hohe Auflösung zur Vermessung des Aktuators bereitgestellt wird. Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt der erste Frequenzbereich zwi- schen O Hz und 1 kHz, bevorzugt zwischen 0 Hz und 500 Hz, weiter bevorzugt zwischen 0 Hz und 300 Hz. Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt der zweite Frequenzbereich zwi- schen 5 kHz und 100 kHz, bevorzugt zwischen 10 kHz und 100 kHz, weiter be- vorzugt zwischen 10 kHz und 60 kHz. Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt der bestimmte Faktor zwischen 100 und 2000, bevorzugt zwischen 500 und 1500, weiter bevorzugt zwischen 800 und 1200. Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die Ansteuereinheit eine Ver- stärkerschaltung, insbesondere einen Differenzverstärker. Die jeweilige Einheit, zum Beispiel die Berechnungseinheit, kann hardwaretech- nisch und/oder auch softwaretechnisch implementiert sein. Bei einer hardware- technischen Implementierung kann die Einheit als Vorrichtung oder als Teil ei- ner Vorrichtung, zum Beispiel als Computer oder als Mikroprozessor oder als Teil der Steuervorrichtung ausgebildet sein. Bei einer software-technischen Im- plementierung kann die Einheit als Computerprogrammprodukt, als eine Funk- tion, als eine Routine, als Teil eines Programmcodes oder als ausführbares Ob- jekt ausgebildet sein. Gemäß einem zweiten Aspekt wird ein optisches System mit einer Anzahl an ak- tuierbaren optischen Elementen vorgeschlagen, wobei jedem der aktuierbaren optischen Elemente der Anzahl ein Aktuator zugeordnet ist, wobei jedem Aktua- tor eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern des Aktuators gemäß dem ersten Aspekt oder gemäß einer der Ausführungsformen des ersten Aspekts zugeordnet ist. Das optische System umfasst insbesondere ein Mikrospiegelarray und/oder ein Mikrolinsenarray mit einer Vielzahl an unabhängig voneinander aktuierbaren optischen Elementen. In Ausführungsformen lassen sich Gruppen von Aktuatoren definieren, wobei allen Aktuatoren einer Gruppe die gleiche Ansteuervorrichtung zugeordnet sind. Gemäß einer Ausführungsform ist das optische System als eine Beleuchtungsop- tik oder als eine Projektionsoptik einer Lithographieanlage ausgebildet. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das optische System ein Vakuum- gehäuse auf, in welchem die aktuierbaren optischen Elemente, die zugeordneten Aktuatoren und die Ansteuervorrichtung angeordnet sind. Gemäß einem dritten Aspekt wird eine Lithographieanlage vorgeschlagen, wel- che ein optisches System gemäß dem zweiten Aspekt oder gemäß einer der Aus- führungsformen des zweiten Aspekts aufweist. Die Lithographieanlage ist beispielsweise eine EUV-Lithographieanlage, deren Arbeitslicht in einem Wellenlängenbereich von 0,1 nm bis 30 nm liegt, oder eine DUV-Lithographieanlage, deren Arbeitslicht in einem Wellenlängenbereich von 30 nm bis 250 nm liegt. Gemäß einem vierten Aspekt wird ein Verfahren zum Ansteuern und zum Ver- messen eines Aktuators zum Aktuieren eines optischen Elementes eines opti- schen Systems vorgeschlagen. Das Verfahren umfasst die Schritte: Bereitstellen einer Messspannung, welche indikativ für eine zeitabhängige Spannung des mittels eines auf einem bestimmten Modell basierenden Anre- gungssignals angesteuerten Aktuators ist, wobei das Anregungssignal zumindest einen sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz des Aktua- tors umfasst, Bereitstellen eines Messstroms, welcher indikativ für einen zeitabhängi- gen Strom des mittels des Anregungssignals angesteuerten Aktuators ist, Schätzen einer Spannungs-Amplitude und einer zugehörigen Phase des sich an dem Aktuator ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der be- reitgestellten Messspannung und des bestimmten Modells des Anregungssignals mittels einer ersten Matched-Filter-Einheit, Schätzen einer Strom-Amplitude und einer zugehörigen Phase des sich an dem Aktuator ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung des bereitge- stellten Messstroms und des bestimmten Modells des Anregungssignals mittels einer zweiten Matched-Filter-Einheit, und Berechnen der Impedanz des Aktuators basierend auf der geschätzten Spannungs-Amplitude, der geschätzten zugehörigen Phase, der geschätzten Strom-Amplitude und der geschätzten zugehörigen Phase. Die für die vorgeschlagene Ansteuervorrichtung beschriebenen Ausführungsfor- men gelten für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend und umgekehrt. Wei- terhin gelten die Definitionen und Erläuterungen zu der Ansteuervorrichtung auch für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend. "Ein" ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht expli- zit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausfüh- rungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen- stand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungs- beispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzug- ten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert. Fig.1 zeigt einen schematischen Meridionalschnitt einer Projektionsbelichtungs- anlage für eine EUV-Projektionslithographie; Fig.2 zeigt eine schematische Darstellung einer Ausführungsform eines opti- schen Systems; Fig.3 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform einer An- steuervorrichtung zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators zum Ak- tuieren eines optischen Elementes eines optischen Systems; und Fig.4 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines Verfahrens zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators zum Aktuieren eines opti- schen Elementes eines optischen Systems. In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Be- zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendi- gerweise maßstabsgerecht sind. Fig.1 zeigt eine Ausführungsform einer Projektionsbelichtungsanlage 1 (Litho- graphieanlage), insbesondere einer EUV-Lithographieanlage. Eine Ausführung eines Beleuchtungssystems 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Licht- beziehungsweise Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Be- leuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Bei einer alternativen Ausführung kann die Lichtquelle 3 auch als ein zum sonstigen Beleuchtungssys- tem 2 separates Modul bereitgestellt sein. In diesem Fall umfasst das Beleuch- tungssystem 2 die Lichtquelle 3 nicht. Belichtet wird ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverla- gerungsantrieb 9, insbesondere in einer Scanrichtung, verlagerbar. In der Fig.1 ist zur Erläuterung ein kartesisches Koordinatensystem mit einer x- Richtung x, einer y-Richtung y und einer z-Richtung z eingezeichnet. Die x- Richtung x verläuft senkrecht in die Zeichenebene hinein. Die y-Richtung y ver- läuft horizontal und die z-Richtung z verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in der Fig.1 längs der y-Richtung y. Die z-Richtung z verläuft senkrecht zur Ob- jektebene 6. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projek- tionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bild- ebene 12 möglich. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhal- ter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y- Richtung y verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Reti- kelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverla- gerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen. Bei der Lichtquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Licht- quelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung 16 hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle han- deln, zum Beispiel um eine LPP-Quelle (Engl.: Laser Produced Plasma, mit Hilfe eines Lasers erzeugtes Plasma) oder um eine DPP-Quelle (Engl.: Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma). Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Lichtquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Engl.: Free-Electron-Laser, FEL) handeln. Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Lichtquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflä- chen handeln. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Engl.: Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln grö- ßer als 45°, oder im normalen Einfall (Engl.: Normal Incidence, NI), also mit Ein- fallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt wer- den. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht struktu- riert und/oder beschichtet sein. Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Lichtquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen. Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strah- lengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Umlenkspiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungs- strahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 an- geordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird die- ser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche auch als Feldfacetten be- zeichnet werden können. Von diesen ersten Facetten 21 sind in der Fig.1 nur beispielhaft einige dargestellt. Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein. Wie beispielsweise aus der DE 102008009600 A1 bekannt ist, können die ers- ten Facetten 21 selbst jeweils auch aus einer Vielzahl von Einzelspiegeln, insbe- sondere einer Vielzahl von Mikrospiegeln, zusammengesetzt sein. Der erste Fa- cettenspiegel 20 kann insbesondere als mikroelektromechanisches System (MEMS-System) ausgebildet sein. Für Details wird auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuch- tungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung y. Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall wird die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der US 2006/0132747 A1, der EP 1614 008 B1 und der US 6,573,978. Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet. Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die DE 102008009600 A1 verwiesen. Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav ge- krümmte Reflexionsflächen aufweisen. Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Wabenkondensor (Engl.: Fly's Eye Integra- tor) bezeichnet. Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist, anzuordnen. Insbesondere kann der zweite Facettenspiegel 22 gegenüber ei- ner Pupillenebene der Projektionsoptik 10 verkippt angeordnet sein, wie es zum Beispiel in der DE 102017220586 A1 beschrieben ist. Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungs- strahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5. Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Ob- jektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbil- dung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufwei- sen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Grazing Incidence Spiegel) um- fassen. Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der Fig.1 gezeigt ist, nach dem Kollektor 17 genau drei Spiegel, nämlich den Umlenkspiegel 19, den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22. Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 bezie- hungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Ob- jektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung. Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durch- nummeriert sind. Bei dem in der Fig.1 dargestellten Beispiel umfasst die Projektionsoptik 10 sechs Spiegel M1 bis M6. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso möglich. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Der vorletzte Spiegel M5 und der letz- te Spiegel M6 haben jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrah- lung 16. Die Projektionsoptik 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die größer ist als 0,5 und die auch größer sein kann als 0,6 und die beispielsweise 0,7 oder 0,75 betragen kann. Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotations- symmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hochreflektierende Beschichtungen für die Be- leuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer- Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Sili- zium, gestaltet sein. Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung y zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y- Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y- Richtung y kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebe- ne 6 und der Bildebene 12. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y- Richtung x, y auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaß- stab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr. Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung x, das heißt in Richtung senk- recht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1. Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung y, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1. Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung x, y, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich. Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung x, y im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwi- schenbilder in x- und y-Richtung x, y sind bekannt aus der US 2018/0074303 A1. Jeweils eine der zweiten Facetten 23 ist genau einer der ersten Facetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der ersten Facetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die ersten Facetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten zweiten Facetten 23. Die ersten Facetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten zweiten Facette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 ab- gebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homo- gen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuch- tungskanäle erreicht werden. Durch eine Anordnung der zweiten Facetten 23 kann geometrisch die Ausleuch- tung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Aus- wahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der zweiten Facetten 23, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting oder Beleuchtungspupillenfüllung bezeichnet. Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchte- ter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden. Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objekt- feldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrie- ben. Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein. Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem zwei- ten Facettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projek- tionsoptik 10, welche das Zentrum des zweiten Facettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung. Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Ein- trittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bau- element der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden. Bei der in der Fig.1 dargestellten Anordnung der Komponenten der Beleuch- tungsoptik 4 ist der zweite Facettenspiegel 22 in einer zur Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 konjugierten Fläche angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zur Objektebene 6 angeordnet. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom Umlenkspiegel 19 defi- niert ist. Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist. Fig.2 zeigt eine schematische Darstellung einer Ausführungsform eines opti- schen Systems 300 für eine Lithographieanlage oder Projektionsbelichtungsanla- ge 1, wie sie beispielsweise in Fig.1 gezeigt ist. Außerdem kann das optische Sys- tem 300 der Fig.2 beispielweise auch in einer DUV-Lithographieanlage einge- setzt werden. Das optische System 300 der Fig.2 hat eine Mehrzahl an aktuierbaren optischen Elementen 310. Das optische System 300 ist hier als ein Mikrospiegelarray aus- gebildet, wobei die optischen Elemente 310 Mikrospiegel sind. Jeder Mikrospie- gel 310 ist mittels eines zugeordneten Aktuators 200 aktuierbar. Beispielsweise kann ein jeweiliger Mikrospiegel 310 mittels des zugeordneten Aktuators 200 um zwei Achsen verkippt werden und/oder in einer, zwei oder drei Raumachsen ver- schoben werden. Aus Gründen der Übersicht sind die Bezugszeichen nur der obersten Reihe dieser Elemente eingezeichnet. Die Ansteuervorrichtung 100 steuert den jeweiligen Aktuator 200 beispielsweise mit einer Ansteuerspannung S an. Damit wird eine Position des jeweiligen Mik- rospiegels 310 eingestellt. Die Ansteuervorrichtung 100 ist insbesondere unter Bezugnahme auf die Fig.3 beschrieben. In der Fig.3 ist ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform einer Ansteuervorrichtung 100 zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators 200 zum Aktuieren eines optischen Elementes 310 eines optischen Systems 300 dargestellt. Die Ansteuervorrichtung 100 nach Fig.3 umfasst einen Signalgenerator 110, ei- ne mit dem Signalgenerator 110 gekoppelte Ansteuereinheit 120 zum Ansteuern des Aktuators 200, eine mit dem Aktuator 200 gekoppelte Spannungsmesseinheit 130, eine mit dem Aktuator 200 gekoppelte Strommesseinheit 140, eine erste Matched-Filter-Einheit 150, eine zweite Matched-Filter-Einheit 160 und eine Be- rechnungseinheit 170. Der Signalgenerator 110 ist dazu eingerichtet, ein auf einem bestimmten Modell M basierendes Anregungssignal y(t) mit zumindest einem sinusförmigen Mess- anteil zur Vermessung der Impedanz Z des Aktuators 200 bereitzustellen. Vor- liegend wird unter "sinusförmig" insbesondere auch "cosinusförmig" verstanden. Für den Fall, dass das Anregungssignal y(t) nur einen sinusförmigen Messsig- nalanteil zur Vermessung der Impedanz Z des Aktuators 200 umfasst, so ist das Modell M des Anregungssignals y(t) bestimmt durch die Gleichung y(t) =α * sin (2πft+φ)
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In obiger Gleichung bezeichnen y(t) das Anregungssignal, a die Amplitude, f die Frequenz, t die Zeit und φ die Phase. In Ausführungsformen ist der Signalgenerator 110 aber auch dazu eingerichtet, das Anregungssignal y(t) derart bereitzustellen, dass das Anregungssignal y(t) einen Ansteuersignalanteil zur Einstellung einer bestimmten Position des ange- steuerten Aktuators 200 und den sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermes- sung der Impedanz Z des Aktuators 200 umfasst. In diesen Fällen ist das Modell M des Anregungssignals y(t) bestimmt durch die Gleichung y(t) =0 + α * sin (2πft+φ) , in welcher y(t) das Anregungssignal, O den Ansteuersignalanteil, a die Amplitu- de, f die Frequenz, t die Zeit und φ die Phase bezeichnen. Außerdem kann der Signalgenerator 110 in Ausführungsformen dazu eingerich- tet sein, das Anregungssignal y(t) als ein breitbandiges Anregungssignal mit ei- ner Mehrzahl von sinusförmigen Messsignalanteilen zur gleichzeitigen Vermes- sung des Aktuators 200 an einer Mehrzahl von unterschiedlichen Frequenzen bereitzustellen. Auch in diesen Fällen kann das Anregungssignal y(t) zusätzlich einen Ansteuersignalanteil zur Einstellung einer bestimmten Position des ange- steuerten Aktuators 200 umfassen. Wie oben ausgeführt, ist dem Signalgenerator 110 die Ansteuereinheit 120 nach- geschaltet. Die Ansteuereinheit 120 ist zwischen dem Signalgenerator 110 und dem Aktuator 200 gekoppelt und empfängt das von dem Signalgenerator 110 be- reitgestellte Anregungssignal y(t). Hierbei ist die Ansteuereinheit 120 dazu ein- gerichtet, eine zeitabhängige Ansteuerspannung S zur Ansteuerung des Aktua- tors 200 in Abhängigkeit des von dem Signalgenerator 110 bereitgestellten Anre- gungssignals y(t) an den Aktuator 200 auszugeben. Die Spannungsmesseinheit 130 ist mit dem Aktuator 200 gekoppelt und zum Be- reitstellen einer Messspannung U eingerichtet. Die Messspannung U ist indika- tiv für eine zeitabhängige Spannung u des mittels des Anregungssignals y(t) an- gesteuerten Aktuators 200. Dass der Aktuator 200 mittels des Anregungssignals y(t) angesteuert wird, umfasst hierbei die Generierung der Ansteuerspannung S basierend auf dem Anregungssignals y(t) und die anschließende Ansteuerung des Aktuators 200 mit der generierten Ansteuerspannung S. Die der Spannungsmesseinheit 130 nachgeschaltete erste Matched-Filter-Einheit 150 ist zum Schätzen einer Spannungs-Amplitude aU und einer zugehörigen Phase φU des sich an dem Aktuator 200 ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der bereitgestellten Messspannung U und des bestimmten Modells M des Anregungssignals y(t) eingerichtet. Für dieses Schätzen verwendet die ers- te Matched-Filter-Einheit 150 insbesondere eine Linear-Least-Square- Schätzung. Hierbei ist die erste Matched-Filter-Einheit 150 vorzugsweise dazu eingerichtet, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose- Inversen auszuführen. Dabei umfasst die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten, welche dazu geeignet sind, eine Übertragungsfunktion der Spannungsmessein- heit 130 zu kompensieren. Die Strommesseinheit 140 ist mit dem Aktuator 200 gekoppelt und zum Bereit- stellen eines Messstroms I eingerichtet. Der Messstrom I ist indikativ für einen zeitabhängigen Strom i des mittels des Anregungssignals y(t) angesteuerten Ak- tuators 200. Der Strommesseinheit 140 ist eine zweite Matched-Filter-Einheit 160 nachgeschaltet, welche zum Schätzen einer Strom-Amplitude aI und einer zugehörigen Phase φI des sich an dem Aktuator 200 ergebenden Messsignalan- teils unter Verwendung des bereitgestellten Messstroms I und des bestimmten Modells M des Anregungssignals y(t) eingerichtet ist. Für dieses Schätzen ver- wendet die zweite Matched-Filter-Einheit 160 – analog der ersten Matched- Filter-Einheit 150 – eine Linear-Least-Square-Schätzung. Hierbei ist die zweite Matched-Filter-Einheit 160 insbesondere dazu eingerichtet, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inversen aus- zuführen. Diese Moore-Penrose-Inverse weist Koeffizienten auf, welche dazu ge- eignet sind, die Übertragungsfunktion der Strommesseinheit 140 zu kompensie- ren. Die Berechnungseinheit 170 ist der ersten Matched-Filter-Einheit 150 und der zweiten Matched-Filter-Einheit 160 nachgeschaltet und dazu eingerichtet, die Impedanz Z des Aktuators 200 basierend auf der geschätzten Spannungs- Amplitude aU, der geschätzten zugehörigen Phase φU, der geschätzten Strom- Amplitude aI und der geschätzten zugehörigen Phase φI zu berechnen. Hierbei berechnet die Berechnungseinheit 170 insbesondere die komplexe Impedanz Z des Aktuators 200 mittels einer Phasenverschiebung zwischen der zur Span- nungs-Amplitude aU zugehörigen Phase φU und der zur Strom-Amplitude aI zu- gehörigen Phase φI und einem Quotienten zwischen der Spannungs-Amplitude aU und der Strom-Amplitude aI. In Ausführungsformen hat die Ansteuereinheit 120 eine frequenzabhängige erste Übertragungsfunktion und ist mittels dieser dazu eingerichtet, das Anregungs- signal y(t) aufweisend zumindest einen ersten Frequenzbereich und einen zwei- ten Frequenzbereich derart in die Ansteuerspannung S für den Aktuator 200 zu verstärken, dass der erste Frequenzbereich eine gegenüber dem zweiten Fre- quenzbereich um einen bestimmten Faktor größere Verstärkung erfährt. Bei- spielsweise liegt der erste Frequenzbereich zwischen 0 Hz und 1 kHz, bevorzugt zwischen 0 Hz und 500 Hz, weiter bevorzugt zwischen 0 Hz und 300 Hz. Der zweite Frequenzbereich liegt beispielsweise zwischen 5 kHz und 100 kHz, bevor- zugt zwischen 10 kHz und 100 kHz, weiter bevorzugt zwischen 10 kHz und 60 kHz. Der bestimmte Faktor liegt beispielsweise zwischen 100 und 2000, bevor- zugt zwischen 500 und 1500, weiter bevorzugt zwischen 800 und 1200. In diesen Ausführungsformen ist die Spannungsmesseinheit 120 dazu eingerich- tet, die Messspannung U unter Verwendung einer auf einer Inversen der ersten Übertragungsfunktion basierenden zweiten Übertragungsfunktion bereitzustel- len, und die Strommesseinheit 130 ist dazu eingerichtet, den Messstrom I unter Verwendung einer auf einer Inversen der ersten Übertragungsfunktion basie- renden dritten Übertragungsfunktion bereitzustellen. Dann ist die erste Matched-Filter-Einheit 150 vorzugsweise dazu eingerichtet, die Linear-Least- Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inversen auszuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu eingerichtet sind, die zweite Übertragungsfunktion der Spannungsmesseinheit 130 zu kompensie- ren. Entsprechend ist die zweite Matched-Filter-Einheit 160 dazu eingerichtet, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inversen aus- zuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, die dritte Übertragungsfunktion der Strommesseinheit 130 zu kompensieren. Fig.4 zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform eines Verfahrens zum Ansteuern und Vermessen eines Aktuators 200 zum Aktuieren eines opti- schen Elementes 310 eines optischen Systems 300. Ein Beispiel für ein optisches System 300 ist in Fig.2 dargestellt. Das optische System 300 ist insbesondere Teil einer Lithographieanlage 1, welche beispielsweise in Fig.1 dargestellt ist. Das Verfahren gemäß Fig.4 ist insbesondere durch eine Ansteuervorrichtung 100, wie sie beispielhaft in Fig.3 gezeigt ist, ausführbar und umfasst die Schritte 401 bis 405: In Schritt 401 wird eine Messspannung U bereitgestellt, welche indikativ für ei- ne zeitabhängige Spannung u des mittels eines auf einem bestimmten Modell M basierenden Anregungssignals y(t) angesteuerten Aktuators 200 ist. Dabei um- fasst das Anregungssignal y(t) zumindest einen sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz Z des Aktuators 200. In Schritt 402 wird ein Messstrom I bereitgestellt, welcher indikativ für einen zeitabhängigen Strom i des mittels des Anregungssignals y(t) angesteuerten Ak- tuators 200 ist. In Schritt 403 werden eine Spannungs-Amplitude aU und eine zugehörige Phase φU des sich an dem Aktuator 200 ergebenden Messsignalanteils unter Verwen- dung der bereitgestellten Messspannung U und des bestimmten Modells M des Anregungssignals y(t) mittels einer ersten Matched-Filter-Einheit 150 geschätzt. In Schritt 404 werden eine Strom-Amplitude aI und eine zugehörigen Phase φI des sich an dem Aktuator ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung des bereitgestellten Messstroms I und des bestimmten Modells M des Anregungssig- nals y(t) mittels einer zweiten Matched-Filter-Einheit 160 geschätzt. In Schritt 405 wird die Impedanz Z des Aktuators 200 basierend auf der ge- schätzten Spannungs-Amplitude aU, der geschätzten zugehörigen Phase φU, der geschätzten Strom-Amplitude aI und der geschätzten zugehörigen Phase φI be- rechnet. Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrie- ben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.
BEZUGSZEICHENLISTE 1 Projektionsbelichtungsanlage 2 Beleuchtungssystem 3 Lichtquelle 4 Beleuchtungsoptik 5 Objektfeld 6 Objektebene 7 Retikel 8 Retikelhalter 9 Retikelverlagerungsantrieb 10 Projektionsoptik 11 Bildfeld 12 Bildebene 13 Wafer 14 Waferhalter 15 Waferverlagerungsantrieb 16 Beleuchtungsstrahlung 17 Kollektor 18 Zwischenfokusebene 19 Umlenkspiegel 20 erster Facettenspiegel 21 erste Facette 22 zweiter Facettenspiegel 23 zweite Facette 100 Ansteuervorrichtung 110 Signalgenerator 120 Ansteuereinheit 130 Spannungsmesseinheit 140 Strommesseinheit 150 erste Matched-Filter-Einheit 160 zweite Matched-Filter-Einheit 170 Berechnungseinheit 200 Aktuator 300 optisches System 310 optisches Element 401 Verfahrensschritt 402 Verfahrensschritt 403 Verfahrensschritt 404 Verfahrensschritt 405 Verfahrensschritt aI Strom-Amplitude aU Spannungs-Amplitude I Messstrom i Strom des Aktuators M Modell M1 Spiegel M2 Spiegel M3 Spiegel M4 Spiegel M5 Spiegel M6 Spiegel S Ansteuerspannung U Messspannung u Spannung des Aktuators y(t) Anregungssignal Z Impedanz φI Phase φU Phase

Claims

PATENTANSPRÜCHE 1. Ansteuervorrichtung (100) zum Ansteuern und zum Vermessen eines Ak- tuators (200) zum Aktuieren eines optischen Elementes (310) eines optischen Systems (300), mit: einer Spannungsmesseinheit (130) zum Bereitstellen einer Messspannung (U), welche indikativ für eine zeitabhängige Spannung (u) des mittels eines auf einem bestimmten Modell (M) basierenden Anregungssignals (y(t)) angesteuer- ten Aktuators (200) ist, wobei das Anregungssignal (y(t)) zumindest einen sinus- förmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz (Z) des Aktuators (200) umfasst, einer Strommesseinheit (140) zum Bereitstellen eines Messstroms (I), wel- cher indikativ für einen zeitabhängigen Strom (i) des mittels des Anregungssig- nals (y(t)) angesteuerten Aktuators (200) ist, einer ersten Matched-Filter-Einheit (150) zum Schätzen einer Spannungs- Amplitude (aU) und einer zugehörigen Phase (φU) des sich an dem Aktuator (200) ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der bereitgestellten Messspan- nung (U) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)), einer zweiten Matched-Filter-Einheit (160) zum Schätzen einer Strom- Amplitude (aI) und einer zugehörigen Phase (φI) des sich an dem Aktuator (200) ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung des bereitgestellten Mess- stroms (I) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)), und einer Berechnungseinheit (170), welche dazu eingerichtet ist, die Impe- danz (Z) des Aktuators (200) basierend auf der geschätzten Spannungs- Amplitude (aU), der geschätzten zugehörigen Phase (φU), der geschätzten Strom- Amplitude (aI) und der geschätzten zugehörigen Phase (φI) zu berechnen.
2. Ansteuervorrichtung nach Anspruch 1, wobei die erste Matched-Filter-Einheit (150) dazu eingerichtet ist, die Spannung- Amplitude (aU) und die zugehörige Phase (φU) des sich an dem Aktuator (200) ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der bereitgestellten Messspan- nung (U) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)) mittels einer Linear-Least-Square-Schätzung zu schätzen, wobei die erste Matched-Filter-Einheit (150) vorzugsweise dazu eingerichtet ist, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inversen aus- zuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, eine Übertragungsfunktion der Spannungsmesseinheit (130) zu kompensieren.
3. Ansteuervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die zweite Matched-Filter-Einheit (160) dazu eingerichtet ist, die Strom- Amplitude (aI) und die zugehörige Phase (φI) des sich an dem Aktuator (200) er- gebenden Messsignalanteils unter Verwendung des bereitgestellten Messstroms (I) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)) mittels einer Li- near-Least-Square-Schätzung zu schätzen, wobei die zweite Matched-Filter-Einheit (160) vorzugsweise dazu eingerichtet ist, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inversen aus- zuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, eine Übertragungsfunktion der Strommesseinheit (140) zu kom- pensieren.
4. Ansteuervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, ferner umfassend: einen Signalgenerator (110), welcher dazu eingerichtet ist, das Anregungs- signal (y(t)) mit zumindest dem sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz (Z) des Aktuators (200) bereitzustellen.
5. Ansteuervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das bestimmte Model (M) des Anregungssignals (y(t)) bestimmt ist durch die Gleichung: y(t) =α * sin (2πft+φ) in welcher y(t) das Anregungssignal, a die Amplitude, f die Frequenz, t die Zeit und φ die Phase bezeichnen.
6. Ansteuervorrichtung nach Anspruch 4, ferner umfassend: wobei der Signalgenerator (110) dazu eingerichtet ist, das Anregungssignal (y(t)) derart bereitzustellen, dass dieses (y(t)) einen Ansteuersignalanteil zur Einstel- lung einer bestimmten Position des angesteuerten Aktuators (200) und den si- nusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz (Z) des Aktuators (200) umfasst.
7. Ansteuervorrichtung nach Anspruch 6, wobei das bestimmte Model (M) des Anregungssignals (y(t)) bestimmt ist durch die Gleichung y(t) =0 + α * sin (2πft+φ)
Figure imgf000037_0001
in welcher y(t) das Anregungssignal, O den Ansteuersignalanteil, a die Amplitu- de, f die Frequenz, t die Zeit und φ die Phase bezeichnen.
8. Ansteuervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Signalgenerator (110) dazu eingerichtet ist, das Anregungssignal (y(t)) als ein breitbandiges Anregungssignal mit einer Mehrzahl von sinusförmigen Messsignalanteilen zur gleichzeitigen Vermessung des Aktuators (200) an einer Mehrzahl von unterschiedlichen Frequenzen bereitzustellen.
9. Ansteuervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Berechnungseinheit (170) dazu eingerichtet ist, die komplexe Impedanz (Z) des Aktuators (200) mittels einer Phasenverschiebung zwischen der zur Spannungs-Amplitude (aU) zugehörigen Phase (φU) und der zur Strom-Amplitude (aI) zugehörigen Phase (φI) und einem Quotienten zwischen der Spannungs- Amplitude (aU) und der Strom-Amplitude (aI) zu berechnen.
10. Ansteuervorrichtung nach einem der Ansprüche 4 bis 9, ferner umfassend: eine zwischen den Signalgenerator (110) und dem Aktuator (200) gekop- pelte Ansteuereinheit (120), welche dazu eingerichtet ist, eine zeitabhängige An- steuerspannung (S) zur Ansteuerung des Aktuators (200) in Abhängigkeit des von dem Signalgenerator (110) bereitgestellten Anregungssignals (y(t)) an den Aktuator (200) auszugeben.
11. Ansteuervorrichtung nach den Ansprüchen 2, 3 und 10, wobei die Ansteuereinheit (120) eine frequenzabhängige erste Übertragungs- funktion hat und mittels dieser dazu eingerichtet ist, das Anregungssignals (y(t)) aufweisend zumindest einen ersten Frequenzbereich und einen zweiten Fre- quenzbereich derart in das Ansteuerspannung (S) für den Aktuator (200) zu ver- stärken, dass der erste Frequenzbereich eine gegenüber dem zweiten Frequenz- bereich um einen bestimmten Faktor größere Verstärkung erfährt, wobei die Spannungsmesseinheit (120) dazu eingerichtet ist, die Messspannung (U) unter Verwendung einer auf einer Inversen der ersten Übertragungsfunktion basierenden zweiten Übertragungsfunktion bereitzustellen, und wobei die Strommesseinheit (130) dazu eingerichtet ist, den Messstrom (I) unter Verwendung einer auf einer Inversen der ersten Übertragungsfunktion basie- renden dritten Übertragungsfunktion bereitzustellen, wobei die erste Matched-Filter-Einheit (150) dazu eingerichtet ist, die Linear- Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inversen auszuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, die zweite Übertragungsfunktion der Spannungsmesseinheit (130) zu kom- pensieren, und wobei die zweite Matched-Filter-Einheit (160) vorzugsweise dazu eingerichtet ist, die Linear-Least-Square-Schätzung auf Basis einer Moore-Penrose-Inversen aus- zuführen, wobei die Moore-Penrose-Inverse Koeffizienten umfasst, welche dazu geeignet sind, die dritte Übertragungsfunktion der Strommesseinheit (140) zu kompensieren.
12. Optisches System (300) mit einer Anzahl an aktuierbaren optischen Ele- menten (310), wobei jedem der aktuierbaren optischen Elemente (310) der An- zahl ein Aktuator (200) zugeordnet ist, wobei jedem Aktuator (200) eine Ansteu- ervorrichtung (100) zum Ansteuern des Aktuators (200) gemäß einem der An- sprüche 1 bis 11 zugeordnet ist.
13. Optisches System nach Anspruch 12, wobei das optische System (300) als eine Beleuchtungsoptik (4) oder als eine Pro- jektionsoptik (10) einer Lithographieanlage (1) ausgebildet ist.
14. Lithographieanlage (1) mit einem optischen System (300) nach Anspruch 12 oder 13.
15. Verfahren zum Ansteuern und zum Vermessen eines Aktuators (200) zum Aktuieren eines optischen Elementes (310) eines optischen Systems (300), mit: Bereitstellen (401) einer Messspannung (U), welche indikativ für eine zeit- abhängige Spannung (u) des mittels eines auf einem bestimmten Modell (M) ba- sierenden Anregungssignals (y(t)) angesteuerten Aktuators (200) ist, wobei das Anregungssignal (y(t)) zumindest einen sinusförmigen Messsignalanteil zur Vermessung der Impedanz (Z) des Aktuators (200) umfasst, Bereitstellen (402) eines Messstroms (I), welcher indikativ für einen zeit- abhängigen Strom (i) des mittels des Anregungssignals (y(t)) angesteuerten Ak- tuators (200) ist, Schätzen (403) einer Spannungs-Amplitude (aU) und einer zugehörigen Phase (φU) des sich an dem Aktuator (200) ergebenden Messsignalanteils unter Verwendung der bereitgestellten Messspannung (U) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)) mittels einer ersten Matched-Filter-Einheit (150), Schätzen (404) einer Strom-Amplitude (aI) und einer zugehörigen Phase (φI) des sich an dem Aktuator (200) ergebenden Messsignalanteils unter Verwen- dung des bereitgestellten Messstroms (I) und des bestimmten Modells (M) des Anregungssignals (y(t)) mittels einer zweiten Matched-Filter-Einheit (160), und Berechnen (405) der Impedanz (Z) des Aktuators (200) basierend auf der geschätzten Spannungs-Amplitude (aU), der geschätzten zugehörigen Phase (φU), der geschätzten Strom-Amplitude (aI) und der geschätzten zugehörigen Phase (φI).
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