WO2023140354A1

WO2023140354A1 - 弾性波装置及びフィルタ装置

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Publication number: WO2023140354A1
Application number: PCT/JP2023/001709
Authority: WO
Inventors: 克也大門
Original assignee: 株式会社村田製作所
Priority date: 2022-01-21
Filing date: 2023-01-20
Publication date: 2023-07-27

Abstract

エッジ領域に質量付加膜が設けられた構成とした場合にも、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる、弾性波装置を提供する。　本発明に係る弾性波装置１０は、支持基板を含む支持部材と、支持部材上に設けられており、タンタル酸リチウムまたはニオブ酸リチウムからなる圧電層１４と、圧電層１４上に設けられており、１対のバスバー（第１，第２のバスバー２６，２７）と、複数の電極指（複数の第１，第２の電極指２８，２９）とを有するＩＤＴ電極１１とを備える。支持部材及び圧電層１４の積層方向に沿って見た平面視において、支持部材における、ＩＤＴ電極１１の少なくとも一部と重なる位置に音響反射部が設けられている。圧電層１４の厚みをｄ、隣り合う電極指同士の中心間距離をｐとした場合、ｄ／ｐが０．５以下である。一対のバスバーの一方のバスバーに複数の電極指のうち一部の電極指が接続されている。他方のバスバーに複数の電極指のうち残りの電極指が接続されている。一方のバスバーに接続されている一部の電極指、及び他方のバスバーに接続されている残りの電極指が互いに間挿し合っている。複数の電極指が延びる方向を電極指延伸方向、電極指延伸方向と直交する方向を電極指対向方向とし、電極指対向方向から見たときに、隣り合う電極指同士が重なり合う領域が交叉領域Ｆである。交叉領域Ｆと１対のバスバーとの間に位置する領域が１対のギャップ領域（第１，第２のギャップ領域Ｇａ，Ｇｂ）である。交叉領域Ｆが、中央領域Ｈと、中央領域Ｈを電極指延伸方向において挟むように配置されている１対のエッジ領域（第１，第２のエッジ領域Ｅａ，Ｅｂ）とを有する。弾性波装置１０は、１対のエッジ領域のうち少なくとも一方のエッジ領域及び該エッジ領域と隣接しているギャップ領域にわたり設けられており、かつ電極指対向方向に沿って並んでいる複数の質量付加膜（第１，第２の質量付加膜２４，２５）をさらに備える。複数の質量付加膜が、隣り合う電極指間の少なくとも一部に位置しないように設けられている。

Description

弾性波装置及びフィルタ装置

　本発明は、弾性波装置及びフィルタ装置に関する。

　従来、弾性波装置は、携帯電話器のフィルタなどに広く用いられている。近年においては、下記の特許文献１に記載のような、厚み滑りモードのバルク波を用いた弾性波装置が提案されている。この弾性波装置においては、支持体上に圧電層が設けられている。圧電層上に、対となる電極が設けられている。対となる電極は圧電層上において互いに対向しており、かつ互いに異なる電位に接続される。上記電極間に交流電圧を印加することにより、厚み滑りモードのバルク波を励振させている。

　下記の特許文献２においては、ピストンモードを利用する弾性波装置の例が開示されている。この弾性波装置では、圧電基板上にＩＤＴ電極（Ｉｎｔｅｒｄｉｇｉｔａｌ　Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ）が設けられている。ＩＤＴ電極は、中央領域及び１対のエッジ領域を有する。１対のエッジ領域は、複数の電極指が延びる方向において、中央領域を挟み互いに対向している。１対のエッジ領域においては、ＩＤＴ電極上に、誘電体層などが設けられている。これにより、複数の電極指が延びる方向において、音速が異なる複数の領域を構成することによって、ピストンモードを成立させる。それによって、横モードの抑制が図られている。

米国特許第１０４９１１９２号明細書特開２０１２－１８６８０８号公報

　本発明者は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置におけるエッジ領域に、質量付加膜としての誘電体層を設けることにより、ロスの劣化を抑制できる一方で、共振周波数付近及び反共振周波数付近において、不要波が生じることに着目した。

　本発明の目的は、エッジ領域に質量付加膜が設けられた構成とした場合にも、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる、弾性波装置及びフィルタ装置を提供することにある。

　本発明に係る弾性波装置は、支持基板を含む支持部材と、前記支持部材上に設けられており、タンタル酸リチウムまたはニオブ酸リチウムからなる圧電層と、前記圧電層上に設けられており、１対のバスバーと、複数の電極指とを有するＩＤＴ電極とを備え、前記支持部材及び前記圧電層の積層方向に沿って見た平面視において、前記支持部材における、前記ＩＤＴ電極の少なくとも一部と重なる位置に音響反射部が設けられており、前記圧電層の厚みをｄ、隣り合う前記電極指同士の中心間距離をｐとした場合、ｄ／ｐが０．５以下であり、前記一対のバスバーの一方のバスバーに前記複数の電極指のうち一部の電極指が接続されており、他方のバスバーに前記複数の電極指のうち残りの電極指が接続されており、前記一方のバスバーに接続されている前記一部の電極指、及び前記他方のバスバーに接続されている前記残りの電極指が互いに間挿し合っており、前記複数の電極指が延びる方向を電極指延伸方向、前記電極指延伸方向と直交する方向を電極指対向方向とし、前記電極指対向方向から見たときに、前記隣り合う電極指同士が重なり合う領域が交叉領域であり、前記交叉領域と前記１対のバスバーとの間に位置する領域が１対のギャップ領域であり、前記交叉領域が、中央領域と、前記中央領域を前記電極指延伸方向において挟むように配置されている１対のエッジ領域とを有し、前記１対のエッジ領域のうち少なくとも一方のエッジ領域及び該エッジ領域と隣接している前記ギャップ領域にわたり設けられており、かつ前記電極指対向方向に沿って並んでいる複数の質量付加膜をさらに備え、前記複数の質量付加膜が、前記隣り合う電極指間の少なくとも一部に位置しないように設けられている。

　本発明に係るフィルタ装置のある広い局面では、少なくとも１つの直列腕共振子及び少なくとも１つの並列腕共振子を有するフィルタ装置であって、前記少なくとも１つの直列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第１の弾性波共振子と、前記少なくとも１つの並列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第２の弾性波共振子とが備えられており、前記第１の弾性波共振子及び前記第２の弾性波共振子がそれぞれ、本発明に従い構成されている弾性波装置であり、前記第２の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の厚みが、前記第１の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の厚みよりも薄い。

　本発明に係るフィルタ装置の他の広い局面では、少なくとも１つの直列腕共振子及び少なくとも１つの並列腕共振子を有するフィルタ装置であって、前記少なくとも１つの直列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第１の弾性波共振子と、前記少なくとも１つの並列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第２の弾性波共振子とが備えられており、前記第１の弾性波共振子及び前記第２の弾性波共振子がそれぞれ、本発明に従い構成されている弾性波装置であり、前記第２の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の平面視における面積の平均値が、前記第１の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の平面視における面積の平均値よりも大きい。

　本発明に係るフィルタ装置のさらに他の広い局面では、少なくとも１つの直列腕共振子及び少なくとも１つの並列腕共振子を含む、複数の弾性波共振子を有するフィルタ装置であって、前記直列腕共振子及び前記並列腕共振子のうち少なくとも１つの弾性波共振子が、本発明に従い構成されている弾性波装置である。

　本発明によれば、エッジ領域に質量付加膜が設けられた構成とした場合にも、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる、弾性波装置及びフィルタ装置を提供することができる。

図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２は、図１中のＩ－Ｉ線に沿う模式的断面図である。図３は、第１の比較例の弾性波装置の模式的平面図である。図４は、本発明の第１の実施形態、第１の比較例及び第２の比較例におけるアドミッタンス周波数特性を示す図である。図５は、第１の比較例における、不要波の励振強度を示す図である。図６は、質量付加膜の寸法を説明するための模式的平面図である。図７は、質量付加膜におけるギャップ領域に位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法と、アドミッタンス周波数特性との関係を示す図である。図８は、質量付加膜におけるギャップ領域に位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法と、リターンロスとの関係を示す図である。図９は、第１の実施形態における質量付加膜の材料として、酸化ケイ素が用いられてる場合、酸化タンタルが用いられている場合、及び第１の比較例におけるリターンロスを示す図である。図１０は、本発明の第１の実施形態の変形例に係る弾性波装置の模式的正面断面図である。図１１は、本発明の第２の実施形態及び第１の比較例における、質量付加膜の材料として酸化ケイ素が用いられている場合のアドミッタンス周波数特性を示す図である。図１２は、本発明の第２の実施形態及び第１の比較例における、質量付加膜の材料として酸化タンタルが用いられている場合のアドミッタンス周波数特性を示す図である。図１３は、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法と、アドミッタンス周波数特性との関係を示す図である。図１４は、本発明の第３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１５は、本発明の第４の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１６は、本発明の第２の実施形態及び第４の実施形態の変形例におけるアドミッタンス周波数特性を示す図である。図１７は、本発明の第５の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１８は、本発明の第６の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図１９は、第１の参考例の弾性波装置の模式的平面図である。図２０は、本発明の第１の実施形態、第６の実施形態及び第１の参考例におけるアドミッタンス周波数特性を示す図である。図２１は、本発明の第７の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２２は、本発明の第８の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２３は、本発明の第８の実施形態の変形例に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２４は、本発明の第９の実施形態に係るフィルタ装置の回路図である。図２５は、本発明の第１０の実施形態に係るフィルタ装置の回路図である。図２６は、本発明の第１０の実施形態における、第４の弾性波共振子の模式的平面図である。図２７は、本発明の第１０の実施形態における、第３の弾性波共振子及び第４の弾性波共振子のアドミッタンス周波数特性を示す図である。図２８は、本発明の第１１の実施形態における、第５の弾性波共振子の模式的平面図である。図２９は、本発明の第１１の実施形態における第５の弾性波共振子、並びに第２の参考例及び第３の参考例の弾性波共振子においての、アドミッタンス周波数特性を示す図である。図３０は、本発明の第１２の実施形態における、第６の弾性波共振子の模式的平面図である。図３１は、本発明の第１２の実施形態における第３の弾性波共振子、第５の弾性波共振子及び第６の弾性波共振子においての、アドミッタンス周波数特性を示す図である。図３２（ａ）は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の外観を示す略図的斜視図であり、図３２（ｂ）は、圧電層上の電極構造を示す平面図である。図３３は、図３２（ａ）中のＡ－Ａ線に沿う部分の断面図である。図３４（ａ）は、弾性波装置の圧電膜を伝搬するラム波を説明するための模式的正面断面図であり、図３４（ｂ）は、弾性波装置における、圧電膜を伝搬する厚み滑りモードのバルク波を説明するための模式的正面断面図である。図３５は、厚み滑りモードのバルク波の振幅方向を示す図である。図３６は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の共振特性を示す図である。図３７は、隣り合う電極の中心間距離をｐ、圧電層の厚みをｄとした場合のｄ／ｐと共振子としての比帯域との関係を示す図である。図３８は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の平面図である。図３９は、スプリアスが現れている参考例の弾性波装置の共振特性を示す図である。図４０は、比帯域と、スプリアスの大きさとしての１８０度で規格化されたスプリアスのインピーダンスの位相回転量との関係を示す図である。図４１は、ｄ／２ｐと、メタライゼーション比ＭＲとの関係を示す図である。図４２は、ｄ／ｐを限りなく０に近づけた場合のＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，θ，ψ）に対する比帯域のマップを示す図である。図４３は、音響多層膜を有する弾性波装置の正面断面図である。

　以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。

　なお、本明細書に記載の各実施形態は、例示的なものであり、異なる実施形態間において、構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることを指摘しておく。

　図１は、本発明の第１の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。図２は、図１中のＩ－Ｉ線に沿う模式的断面図である。

　図１に示すように、弾性波装置１０は、圧電性基板１２と、ＩＤＴ電極１１とを有する。図２に示すように、圧電性基板１２は、支持部材１３と、圧電層１４とを有する。本実施形態では、支持部材１３は、支持基板１６と、絶縁層１５とを含む。支持基板１６上に絶縁層１５が設けられている。絶縁層１５上に圧電層１４が設けられている。もっとも、支持部材１３は支持基板１６のみにより構成されていてもよい。

　圧電層１４は第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂを有する。第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂは互いに対向している。第１の主面１４ａ及び第２の主面１４ｂのうち、第２の主面１４ｂが支持部材１３側に位置している。

　支持基板１６の材料としては、例えば、シリコンなどの半導体や、酸化アルミニウムなどのセラミックスなどを用いることができる。絶縁層１５の材料としては、酸化ケイ素または酸化タンタルなどの、適宜の誘電体を用いることができる。圧電層１４は、例えば、ＬｉＮｂＯ_３層などのニオブ酸リチウム層またはＬｉＴａＯ_３層などのタンタル酸リチウム層である。圧電層１４は、結晶軸として、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸を有する。

　図２に示すように、絶縁層１５に凹部が設けられている。絶縁層１５上に、凹部を塞ぐように、圧電層１４が設けられている。これにより、中空部が構成されている。この中空部が空洞部１０ａである。本実施形態では、支持部材１３の一部及び圧電層１４の一部が、空洞部１０ａを挟み互いに対向するように、支持部材１３と圧電層１４とが配置されている。もっとも、支持部材１３における凹部は、絶縁層１５及び支持基板１６にわたり設けられていてもよい。あるいは、支持基板１６のみに設けられた凹部が、絶縁層１５により塞がれていてもよい。凹部は圧電層１４に設けられていても構わない。なお、空洞部１０ａは、支持部材１３に設けられた貫通孔であってもよい。

　図１に示すように、ＩＤＴ電極１１は、１対のバスバーと、複数の電極指とを有する。１対のバスバーは、具体的には、第１のバスバー２６及び第２のバスバー２７である。第１のバスバー２６及び第２のバスバー２７は互いに対向している。複数の電極指は、具体的には、複数の第１の電極指２８及び複数の第２の電極指２９である。複数の第１の電極指２８の一端はそれぞれ、第１のバスバー２６に接続されている。複数の第２の電極指２９の一端はそれぞれ、第２のバスバー２７に接続されている。複数の第１の電極指２８及び複数の第２の電極指２９は互いに間挿し合っている。ＩＤＴ電極１１は、単層の金属膜からなっていてもよく、あるいは、積層金属膜からなっていてもよい。

　以下においては、第１のバスバー２６及び第２のバスバー２７を、単にバスバーと記載することがある。第１の電極指２８及び第２の電極指２９を、単に電極指と記載することがある。複数の電極指が延びる方向を電極指延伸方向とし、隣り合う電極指同士が互いに対向する方向を電極指対向方向としたときに、本実施形態においては、電極指延伸方向及び電極指対向方向は直交する。

　電極指対向方向から見たときに、隣り合う電極指同士が重なり合う領域は交叉領域Ｆである。交叉領域Ｆは、ＩＤＴ電極１１の構成に基づいて定義される、圧電層１４の領域である。交叉領域Ｆは、中央領域Ｈと、１対のエッジ領域とを有する。１対のエッジ領域は、電極指延伸方向において、中央領域Ｈを挟むように配置されている。

　１対のエッジ領域は、具体的には、第１のエッジ領域Ｅａ及び第２のエッジ領域Ｅｂである。第１のエッジ領域Ｅａは第１のバスバー２６側に位置している。第２のエッジ領域Ｅｂは第２のバスバー２７側に位置している。

　交叉領域Ｆと１対のバスバーとの間に位置する領域は、１対のギャップ領域である。１対のギャップ領域は、具体的には、第１のギャップ領域Ｇａ及び第２のギャップ領域Ｇｂである。第１のギャップ領域Ｇａは、第１のバスバー２６及び第１のエッジ領域Ｅａの間に位置している。第２のギャップ領域Ｇｂは、第２のバスバー２７及び第２のエッジ領域Ｅｂの間に位置している。各ギャップ領域は、交叉領域Ｆと同様に、ＩＤＴ電極１１の構成に基づいて定義される、圧電層１４の領域である。

　以下においては、第１のエッジ領域Ｅａ及び第２のエッジ領域Ｅｂを、単にエッジ領域と記載することがある。同様に、第１のギャップ領域Ｇａ及び第２のギャップ領域Ｇｂを、単にギャップ領域と記載することがある。さらに、以下においては、平面視においてエッジ領域と重なるように部材が設けられている場合に、単に、該部材がエッジ領域に設けられていると記載することがある。例えば、該部材が圧電層１４上に直接的に設けられていない場合にも、該部材がエッジ領域に設けられていると記載することがある。ギャップ領域についても同様である。

　本明細書において平面視とは、図２における上方に相当する方向から、支持部材１３及び圧電層１４の積層方向に沿って見ることをいう。なお、図２においては、例えば、支持基板１６及び圧電層１４のうち、圧電層１４側が上方である。

　図１に示すように、圧電層１４の第１の主面１４ａには、複数の質量付加膜が設けられている。複数の質量付加膜は、具体的には、第１の質量付加膜２４及び複数の第２の質量付加膜２５である。より具体的には、複数の第１の質量付加膜２４は、第１のエッジ領域Ｅａ及び第１のギャップ領域Ｇａにわたり設けられている。複数の第１の質量付加膜２４は、電極指対向方向に沿って並んでいる。

　本明細書において、複数の質量付加膜が電極指対向方向に沿って並んでいるとは、電極指延伸方向から見たときに、複数の質量付加膜が電極指対向方向に並んでいることをいう。本実施形態では、平面視において、複数の第１の質量付加膜２４の中心同士を結ぶ仮想線は、電極指対向方向と平行に延びている。もっとも、隣り合う第１の質量付加膜２４におけるそれぞれの中心の、電極指延伸方向における位置は、互いに異なっていてもよい。

　複数の第２の質量付加膜２５は、第２のエッジ領域Ｅｂ及び第２のギャップ領域Ｇｂにわたり設けられている。複数の第２の質量付加膜２５は、電極指対向方向に沿って並んでいる。なお、複数の第１の質量付加膜２４及び複数の第２の質量付加膜２５のうち、少なくとも一方が設けられていればよい。以下においては、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５を、単に質量付加膜と記載することがある。

　複数の質量付加膜が電極指対向方向に沿って並んでいる構成においては、複数の質量付加膜が配置されている、電極指対向方向における周期は特に限定されない。例えば、質量付加膜と平面視において重なっている電極指が、全ての電極指であってもよく、電極指対向方向における１本おきの電極指であってもよい。本実施形態では、各第１の質量付加膜２４は、各第２の電極指２９の先端部を覆うように設けられている。各第２の質量付加膜２５は、各第１の電極指２８の先端部を覆うように設けられている。

　複数の第１の質量付加膜２４及び複数の第２の質量付加膜２５は、隣り合う電極指間の少なくとも一部に位置しないように設けられている。言い換えれば、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５はいずれも、隣り合う電極指間の少なくとも一部に設けられていない。すなわち、第１のエッジ領域Ｅａにおいては、圧電層１４における、電極指間に位置する部分の少なくとも一部は、第１の質量付加膜２４から露出している。同様に、第２のエッジ領域Ｅｂにおいては、圧電層１４における、電極指間に位置する部分の少なくとも一部は、第２の質量付加膜２５から露出している。より詳細には、本実施形態では、各質量付加膜が平面視において重なっている電極指は、１本のみである。

　本実施形態の弾性波装置１０は、厚み滑りモードのバルク波を利用可能に構成された弾性波共振子である。より具体的には、弾性波装置１０においては、圧電層１４の厚みをｄ、隣り合う電極指同士の中心間距離をｐとした場合、ｄ／ｐが０．５以下である。これにより、厚み滑りモードのバルク波が好適に励振される。なお、電極指対向方向から見たときに、隣り合う電極指同士が重なり合う領域であり、かつ隣り合う電極指同士の中心間の領域が励振領域である。各励振領域において、厚み滑りモードのバルク波が励振される。励振領域は、具体的には、ＩＤＴ電極１１の構成に基づいて定義される、圧電層１４の領域である。

　図２に示す空洞部１０ａは、本発明における音響反射部である。音響反射部により、弾性波のエネルギーを圧電層１４側に効果的に閉じ込めることができる。音響反射部は、平面視において、支持部材における、ＩＤＴ電極の少なくとも一部と重なる位置に設けられていればよい。例えば、支持部材の表面上に、音響反射部として、後述する、音響多層膜などの音響反射膜が設けられていてもよい。

　本実施形態の特徴は、複数の質量付加膜が、隣り合う電極指間の少なくとも一部に位置しないように設けられていることにある。それによって、質量付加膜が設けられていることにより生じる不要波を抑制することができる。なお、該不要波は、共振周波数付近または反共振周波数付近において生じる。よって、本実施形態では、エッジ領域に質量付加膜が設けられた構成とした場合にも、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。この効果の詳細を、本実施形態と、第１の比較例及び第２の比較例とを比較することにより、以下において説明する。

　第１の比較例は、図３に示すように、１対の質量付加膜１１４及び質量付加膜１１５が、隣り合う電極指間の全てに設けられている点において、第１の実施形態と異なる。具体的には、第１の比較例においては、質量付加膜１１４は、第１のエッジ領域Ｅａ及び第１のギャップ領域Ｇａにわたり設けられている。質量付加膜１１５は、第２のエッジ領域Ｅｂ及び第２のギャップ領域Ｇｂにわたり設けられている。各質量付加膜は、平面視において、複数の電極指と、電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている。

　第２の比較例は、質量付加膜が設けられていない点において第１の実施形態と異なる。第１の実施形態の構成を有する弾性波装置、第１の比較例の弾性波装置及び第２の比較例の弾性波装置のそれぞれにおいて、アドミッタンス周波数特性を測定した。

　図４は、第１の実施形態、第１の比較例及び第２の比較例におけるアドミッタンス周波数特性を示す図である。なお、図４中の二点鎖線により囲んだ周波数帯域付近のアドミッタンスが小さい場合には、弾性波共振子のロスは小さい。もっとも、二点鎖線の位置は一例であって、二点鎖線以外の周波数も、弾性波共振子のロスの大きさとの相関関係を有することがある。図４中の矢印Ｍ１は、不要波が生じる共振周波数付近の周波数を示す。矢印Ｍ２は、不要波が生じる反共振周波数付近の周波数を示す。他の周波数特性を示す図においても同様である。

　図４に示すように、第１の比較例においては矢印Ｍ１及び矢印Ｍ２に示す周波数付近に、不要波に起因する大きなリップルが生じている。一方で、第２の比較例においては、矢印Ｍ１及び矢印Ｍ２に示す周波数付近には、不要波に起因するリップルは生じていない。よって、第１の比較例における、共振周波数付近及び反共振周波数付近に生じる不要波は、質量付加膜が設けられていることに起因することがわかる。

　一方で、第１の実施形態においては、第１の比較例よりも、共振周波数付近及び反共振周波数付近に生じる不要波が抑制されていることがわかる。これは以下の理由による。

　図５は、第１の比較例における、不要波の励振強度を示す図である。

　第１の比較例においては、質量付加膜が電極指間の部分に設けられた領域において、不要波の励振強度が特に大きい。他方、質量付加膜が電極指と積層されている領域においては、不要波の励振強度が小さい。そして、図１に示す第１の実施形態においては、複数の第１の質量付加膜２４及び複数の第２の質量付加膜２５は、隣り合う電極指間の少なくとも一部に位置しないように設けられている。それによって、質量付加膜が設けられていることにより生じる不要波を抑制することができる。すなわち、共振周波数付近及び反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。

　加えて、図４に示すように、第１の実施形態においては、第２の比較例よりも、ロスの劣化を抑制できていることがわかる。これは、第１の実施形態において、複数の第１の質量付加膜２４及び複数の第２の質量付加膜２５が設けられていることによる。それによって、弾性波が各バスバー側に漏洩することを抑制でき、ロスの劣化を抑制することができる。

　さらに、第１の実施形態の構成を有する複数の弾性波装置を用意した。複数の弾性波装置の間においては、第１の質量付加膜２４の寸法が互いに異なり、かつ第２の質量付加膜２５の寸法が互いに異なる。具体的には、上記複数の弾性波装置においては、図６に示す、第１の質量付加膜２４の寸法Ｌ１が互いに異なる。

　より具体的には、寸法Ｌ１は、第１の質量付加膜２４における第１のギャップ領域Ｇａに位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法である。同様に、第２の質量付加膜２５の寸法Ｌ１も、第２の質量付加膜２５における第２のギャップ領域Ｇｂに位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法であるとする。上記の各弾性波装置においては、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５の寸法Ｌ１は同じである。そして、上記複数の弾性波装置においてそれぞれ、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５の寸法Ｌ１は、１μｍ、２μｍ、３μｍ、４μｍ、５μｍまたは７μｍとした。

　他方、上記複数の弾性波装置においては、図６に示す、第１の質量付加膜２４の寸法Ｌ２は同じである。より具体的には、寸法Ｌ２は、第１の質量付加膜２４における電極指間の領域に位置する部分の電極指対向方向に沿う寸法である。なお、図６に示す第１の質量付加膜２４は、一方の電極指間の領域、平面視において電極指に重なる領域、及び他方の電極指間の領域にわたり設けられている。寸法Ｌ２は、第１の質量付加膜２４における、２つの電極指間の領域のうち一方に位置する部分の寸法である。

　同様に、第２の質量付加膜２５の寸法Ｌ２も、第２の質量付加膜２５における電極指間の領域に位置する部分の電極指対向方向に沿う寸法であるとする。そして、上記複数の弾性波装置においては、第２の質量付加膜２５の寸法Ｌ２は同じである。上記複数の弾性波装置において、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５の寸法Ｌ２は０．５μｍとした。

　上記複数の弾性波装置において、第１の質量付加膜２４の厚みは同じである。同様に、上記複数の弾性波装置において、第２の質量付加膜２５の厚みは同じである。上記複数の弾性波装置において、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５の厚みは５０ｎｍとした。用意した上記複数の弾性波装置のアドミッタンス周波数特性及びリターンロスを測定した。

　図７は、質量付加膜におけるギャップ領域に位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法と、アドミッタンス周波数特性との関係を示す図である。図８は、質量付加膜におけるギャップ領域に位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法と、リターンロスとの関係を示す図である。すなわち、図７及び図８は、上記寸法Ｌ１と、アドミッタンス周波数特性及びリターンロスとの関係を示している。

　図７及び図８に示すように、質量付加膜におけるギャップ領域に位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法が大きくなるほど、不要波が生じる周波数が低くなっていることがわかる。そして、該寸法が大きくなるほど、不要波が生じる周波数は共振周波数から遠ざかっていることがわかる。

　質量付加膜におけるギャップ領域に位置する部分の電極指延伸方向に沿う寸法が、２μｍ以上であることが好ましい。それによって、不要波が生じる周波数を、共振周波数から効果的に遠ざけることができる。これにより、弾性波装置がフィルタ装置に用いられた場合において、フィルタ特性に対する不要波の影響を抑制することができる。従って、フィルタ特性の劣化を抑制することができる。

　ところで、第１の実施形態においては、質量付加膜及び電極指が積層されている部分においては、圧電層１４、電極指及び質量付加膜が、圧電層１４、電極指及び質量付加膜の順序で積層されている。もっとも、該部分において、圧電層１４、質量付加膜及び電極指が、圧電層１４、質量付加膜及び電極指の順序で積層されていてもよい。

　第１の質量付加膜２４は、平面視において、第１の電極指２８及び第２の電極指２９のうち第２の電極指２９のみと重なっている。第２の質量付加膜２５は、平面視において、第１の電極指２８及び第２の電極指２９のうち第１の電極指２８のみと重なっている。なお、第１の質量付加膜２４は、平面視において第１の電極指２８と重なっていてもよい。第２の質量付加膜２５は、平面視において第２の電極指２９と重なっていてもよい。

　図４、図７や図８に示した第１の実施形態の結果は、質量付加膜としての第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５が、酸化ケイ素からなる場合の結果である。本明細書において、ある部材がある材料からなるとは、弾性波装置の電気的特性が劣化しない程度の微量な不純物が含まれる場合を含む。なお、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５は、例えば、酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化タングステン、酸化ハフニウムからなる群から選択される少なくとも１種の材料からなっていればよい。もっとも、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５の材料は上記に限定されない。

　ここで、質量付加膜の材料として、酸化ケイ素が用いられている場合と、酸化タンタルが用いられている場合とのリターンロスを比較した。より具体的には、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５の材料として、ＳｉＯ_２が用いられてる場合と、Ｔａ_２Ｏ_５が用いられている場合のリターンロスを比較した。図３に示した第１の比較例のリターンロスも併せて示す。

　図９は、第１の実施形態における質量付加膜の材料として、酸化ケイ素が用いられてる場合、酸化タンタルが用いられている場合、及び第１の比較例におけるリターンロスを示す図である。なお、図９中の二点鎖線により囲んだ周波数帯域付近のリターンロスが小さい場合には、弾性波共振子のロスは小さい。もっとも、二点鎖線の位置は一例である。

　図９中の矢印Ｍ１により示す共振周波数付近の不要波は、質量付加膜の材料が酸化ケイ素である場合、及び酸化タンタルである場合に限らず、第１の比較例よりも抑制されていることがわかる。なお、質量付加膜の材料が酸化タンタルである場合、不要波はより一層抑制されている。一方で、質量付加膜の材料が酸化ケイ素である場合、及び酸化タンタルである場合において、ロスの大きさは同等である。

　質量付加膜における、電極指と積層されている部分の厚みは、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。同様に、質量付加膜における、電極指と積層されていない部分の厚みは、５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であることが好ましい。なお、質量付加膜の材料として酸化ケイ素が用いられている場合には、上記のそれぞれの部分の厚みは、２５ｎｍ以上、７５ｎｍ以下であることがより好ましい。質量付加膜の材料として酸化タンタルが用いられている場合には、上記のそれぞれ部分の厚みは、５ｎｍ以上、３５ｎｍ以下であることがより好ましい。

　第１の実施形態では、図６に示す第１の質量付加膜２４の寸法Ｌ２は０ではない。第２の質量付加膜２５においても同様である。なお、本発明においては、第１の質量付加膜２４及び第２の質量付加膜２５の寸法Ｌ２は０であってもよい。もっとも、質量付加膜の寸法Ｌ２が０より大きいことにより、横モードを効果的に抑制することができる。質量付加膜の寸法Ｌ２は、電極指間の領域の電極指対向方向に沿う寸法よりも小さければよい。

　ところで、図２に示すように、第１の実施形態では、ＩＤＴ電極１１は、圧電層１４の第１の主面１４ａに直接的に設けられている。もっとも、これに限定されるものではない。例えば、図１０に示す第１の実施形態の変形例においては、圧電層１４の第１の主面１４ａに、誘電体膜３３が設けられている。誘電体膜３３上にＩＤＴ電極１１が設けられている。この場合には、誘電体膜３３の厚みを調整することにより、弾性波装置の比帯域を容易に調整することができる。

　誘電体膜３３の材料としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素または酸窒化ケイ素などを用いることができる。本変形例においても、第１の実施形態と同様に、質量付加膜が設けられていることによる不要波を抑制できる。よって、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。

　本変形例における、ＩＤＴ電極１１が圧電層１４の第１の主面１４ａに、誘電体膜３３を介して間接的に設けられている構成は、本発明に係る本変形例以外の構成に適用することもできる。

　第１の実施形態においては、圧電層１４は、Ｚカットのニオブ酸リチウムからなる。もっとも、圧電層１４は、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなっていてもよい。この例を、第２の実施形態により示す。なお、第２の実施形態の弾性波装置は、圧電層１４の材料以外の点においては、第１の実施形態の弾性波装置１０と同様の構成を有する。

　第２の実施形態の構成を有する弾性波装置と、図３に示した第１の比較例において、アドミッタンス周波数特性を比較した。なお、質量付加膜の材料としてＳｉＯ_２が用いられている場合、及びＴａ_２Ｏ_５が用いられている場合のそれぞれにおいて、上記比較を行った。当該比較においては、第１の比較例における圧電層は、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる。

　図１１は、第２の実施形態及び第１の比較例における、質量付加膜の材料として酸化ケイ素が用いられている場合のアドミッタンス周波数特性を示す図である。図１２は、第２の実施形態及び第１の比較例における、質量付加膜の材料として酸化タンタルが用いられている場合のアドミッタンス周波数特性を示す図である。

　図１１及び図１２に示すように、第２の実施形態においては、第１の比較例よりも、反共振周波数付近において、不要波が抑制されていることがわかる。

　さらに、第２の実施形態の構成を有する複数の弾性波装置を用意した。上記複数の弾性波装置の間においては、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が互いに異なる。なお、上記の各弾性波装置においては、第１のギャップ領域Ｇａ及び第２のギャップ領域Ｇｂの電極指延伸方向に沿う寸法は同じである。上記複数の弾性波装置においてそれぞれ、第１のギャップ領域Ｇａ及び第２のギャップ領域Ｇｂの電極指延伸方向に沿う寸法は、０．５μｍ、１μｍ、１．５μｍ、２μｍまたは２．５μｍとした。上記複数の弾性波装置のアドミッタンス周波数特性を測定した。

　図１３は、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法と、アドミッタンス周波数特性との関係を示す図である。

　図１３に示すように、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が大きいほど、ロスが小さくなっていることがわかる。特に、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が１μｍ以上である場合に、ロスが小さくなっていることがわか。このことから、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が、１μｍ以上であることが好ましい。これにより、ロスの劣化を効果的に抑制することができる。

　第１の実施形態及び第２の実施形態においては、複数の質量付加膜の平面視における面積は、いずれも同じである。そして、複数の質量付加膜は、平面視において、バスバーと重なっていない。もっとも、これらに限定されるものではない。以下において、質量付加膜の構成が第１の実施形態及び第２の実施形態と異なる例を、第３の実施形態及び第４の実施形態により示す。

　質量付加膜以外の点においては、第３の実施形態及び第４の実施形態の弾性波装置は、第１の実施形態の弾性波装置１０と同様の構成を有する。第３の実施形態及び第４の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、質量付加膜が設けられていることによる不要波を抑制できる。よって、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。

　図１４は、第３の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態においては、複数の第１の質量付加膜２４の電極指延伸方向に沿う寸法が互いに異なる。そのため、複数の第１の質量付加膜２４の平面視おける面積が互いに異なる。同様に、複数の第２の質量付加膜２５の電極指延伸方向に沿う寸法が互いに異なる。そのため、複数の第２の質量付加膜２５の平面視おける面積が互いに異なる。

　もっとも、複数の第１の質量付加膜２４が、平面視における面積が異なる少なくとも１つの第１の質量付加膜２４を含んでいればよい。同様に、複数の第２の質量付加膜２５が、平面視における面積が異なる少なくとも１つの第２の質量付加膜２５を含んでいればよい。

　本実施形態においては、質量付加膜毎に、生じる不要波の周波数が異なる。このように、不要波の周波数をばらつかせることができるため、全体として、不要波を抑制することができる。

　なお、弾性表面波を利用する弾性波装置の場合には、複数の電極指全体により、弾性表面波を励振させる。これに対して、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の場合には、圧電層１４に１対の第１の電極指２８及び第２の電極指２９が設けられている部分が、１つの共振子として機能する。該弾性波装置の構成は、このような複数の共振子が、並列に接続された構成に相当する。よって、本発明では、質量付加膜の面積が一様ではなくとも、周波数特性における波形は崩れ難い。すなわち、電気的特性を劣化させずして、不要波を抑制することができる。

　図１５は、第４の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態においては、複数の第１の質量付加膜２４が、第１のギャップ領域Ｇａから、第１のバスバー２６と平面視において重なる部分に至っている。より具体的には、複数の第１の質量付加膜２４は、第１のエッジ領域Ｅａ、第１のギャップ領域Ｇａ及び第１のバスバー２６が設けられている領域にわたり設けられている。同様に、複数の第２の質量付加膜２５が、平面視において、第２のバスバー２７と重なっている。

　本実施形態では、圧電層１４、バスバー及び質量付加膜が、圧電層１４、バスバー及び質量付加膜の順序において積層されている。もっとも、圧電層１４、質量付加膜及びバスバーが、圧電層１４、質量付加膜及びバスバーの順序において積層されていてもよい。

　なお、第３の実施形態及び第４の実施形態においては、圧電層１４の材料として、Ｚカットのニオブ酸リチウムが用いられている。もっとも、圧電層１４の材料として、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムが用いられていてもよい。あるいは、圧電層１４の材料として、タンタル酸リチウムが用いられていてもよい。

　ここで、圧電層１４が回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる点のみにおいて第４の実施形態と異なる、第４の実施形態の変形例の構成を有する弾性波装置を用意した。さらに、第２の実施形態の構成を有する弾性波装置を用意した。これらのアドミッタンス周波数特性を測定した。

　図１６は、第２の実施形態及び第４の実施形態の変形例におけるアドミッタンス周波数特性を示す図である。

　図１６に示すように、第４の実施形態の変形例においては、第２の実施形態と同様に、反共振周波数付近において、不要波を抑制することができている。このように、平面視において質量付加膜がバスバーと重なっているか否かによっては、不要波を抑制する効果に大差はないことがわかる。

　例えば、弾性波装置の製造時においては、質量付加膜を設ける際のアライメントずれによって、質量付加膜の位置がずれることがある。もっとも、第４の実施形態及びその変形例では、質量付加膜が平面視においてバスバーと重なっている。そして、第４の実施形態及びその変形例のいずれにおいても、質量付加膜に起因する不要波を抑制することができる。このように、質量付加膜の位置がずれたとしても、影響は小さい。よって、本発明においては、製造時のアライメントずれによる影響を小さくすることができる。

　第１～第４の実施形態においては、質量付加膜は電極指の先端部と積層されている。そして、質量付加膜及び電極指が積層されている部分においては、圧電層１４、電極指及び質量付加膜が、この順序で積層されている。もっとも、これらに限定されるものではない。以下において、質量付加膜の構成が第１～第４の実施形態と異なる例を、第５～第７の実施形態により示す。

　質量付加膜以外の点においては、第５～第７の実施形態の弾性波装置は、第１の実施形態の弾性波装置１０と同様の構成を有する。第５～第７の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、質量付加膜が設けられていることによる不要波を抑制できる。よって、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。

　図１７は、第５の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態においては、第１の質量付加膜２４が、平面視において、第２の電極指２９の先端部を三方向において囲んでいる。第１の質量付加膜２４は、第２の電極指２９と接している。もっとも、第１の質量付加膜２４は、平面視において、第２の電極指２９とは重なっていない。第１の質量付加膜２４の平面視における形状は、Ｕ字状の形状である。

　より具体的には、複数の電極指は、第１の面１１ａ及び第２の面１１ｂと、側面１１ｃとを有する。第１の面１１ａ及び第２の面１１ｂは、厚み方向において互いに対向している。第１の面１１ａ及び第２の面１１ｂのうち、第２の面１１ｂが圧電層１４側の面である。側面１１ｃは、第１の面１１ａ及び第２の面１１ｂに接続されている。第１の質量付加膜２４は、第２の電極指２９の側面１１ｃと接している。

　同様に、第２の質量付加膜２５が、平面視において、第１の電極指２８の先端部を三方向において囲んでいる。第２の質量付加膜２５は、第１の電極指２８の側面１１ｃと接している。もっとも、第２の質量付加膜２５は、平面視において、第１の電極指２８とは重なっていない。第２の質量付加膜２５の平面視における形状は、Ｕ字状の形状である。

　なお、複数の質量付加膜が、平面視において、電極指の先端部を三方向において囲んでいる、少なくとも１つの質量付加膜を含んでいればよい。

　本実施形態では、質量付加膜は、平面視において電極指の先端部と重なっていない。それによって、電極指の先端部における質量付加が小さくなる。これにより、弾性波装置の耐電力性を高めることができる。

　図１８は、第６の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態においては、第１の質量付加膜２４が、平面視において、第２の電極指２９の先端部を三方向において囲んでいる。もっとも、第１の質量付加膜２４は、第２の電極指２９とは接していない。そして、第１の質量付加膜２４は、平面視において、第２の電極指２９とは重なっていない。

　同様に、第２の質量付加膜２５が、平面視において、第１の電極指２８の先端部を三方向において囲んでいる。第２の質量付加膜２５は、第１の電極指２８の側面と接していない。そして、第２の質量付加膜２５は、平面視において、第１の電極指２８とは重なっていない。

　本実施形態においても、第５の実施形態と同様に、弾性波装置の耐電力性を高めることができる。

　ここで、第１の実施形態と、第６の実施形態と、第１の参考例とにおいて、アドミッタンス周波数特性を比較した。第１の参考例は、図１９に示すように、エッジ領域に質量付加膜１２４及び質量付加膜１２５が設けられていない点において、第１の実施形態と異なる。なお、第１の参考例においては、ギャップ領域には第１の実施形態と同様に、質量付加膜１２４及び質量付加膜１２５が設けられている。

　図２０は、第１の実施形態、第６の実施形態及び第１の参考例におけるアドミッタンス周波数特性を示す図である。

　図２０に示すように、第１の実施形態、第６の実施形態及び第１の参考例においては、共振周波数付近において不要波が抑制されている。さらに、第１の実施形態及び第６の実施形態においては、第１の参考例よりも、ロスが小さいことがわかる。このように、第１の実施形態及び第６の実施形態では、エッジ領域に質量付加膜が設けられているため、ロスの劣化を抑制することができる。

　図２１は、第７の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態においては、第１の質量付加膜２４は、平面視において、第２の電極指２９の先端部と重なっている。より具体的には、第１の質量付加膜２４及び第２の電極指２９が積層されている部分においては、圧電層１４、第１の質量付加膜２４及び第２の電極指２９が、圧電層１４、第１の質量付加膜２４及び第２の電極指２９の順序で積層されている。

　同様に、第２の質量付加膜２５は、平面視において、第１の電極指２８の先端部と重なっている。より具体的には、第２の質量付加膜２５及び第１の電極指２８が積層されている部分においては、圧電層１４、第２の質量付加膜２５及び第１の電極指２８が、この順序で積層されている。

　本実施形態では、圧電層１４と、電極指の先端部との間に、質量付加膜が設けられている。それによって、電極指に加わる電界が抑制される。これにより、弾性波装置の耐電力性を高めることができる。

　第５～第７の実施形態においては、第１の実施形態と同様に、圧電層１４の材料として、Ｚカットのニオブ酸リチウムが用いられている。もっとも、圧電層１４の材料として、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムが用いられていてもよい。あるいは、圧電層１４の材料として、タンタル酸リチウムが用いられていてもよい。

　図２２は、第８の実施形態に係る弾性波装置の模式的平面図である。

　本実施形態は、圧電層１４上に誘電体膜４５が設けられている点において第１の実施形態と異なる。誘電体膜４５はＩＤＴ電極１１及び複数の質量付加膜を覆っている。よって、質量付加膜及び誘電体膜４５が積層されている部分において、圧電層１４、質量付加膜及び誘電体膜４５が、圧電層１４、質量付加膜及び誘電体膜４５の順序で積層されている。上記の点以外においては、本実施形態の弾性波装置は第１の実施形態の弾性波装置１０と同様の構成を有する。

　ＩＤＴ電極１１は誘電体膜４５により保護される。これにより、ＩＤＴ電極１１が破損し難い。誘電体膜４５の厚みを調整することにより、周波数を容易に調整することもできる。加えて、本実施形態においても、第１の実施形態と同様に、質量付加膜が設けられていることによる不要波を抑制できる。よって、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。

　誘電体膜４５には、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素または酸窒化ケイ素などを用いることができる。もっとも、誘電体膜４５の材料は上記に限定されない。

　なお、質量付加膜及び誘電体膜４５の積層の順序は上記に限定されない。例えば、図２３に示す第８の実施形態の変形例においては、質量付加膜及び誘電体膜４５が積層されている部分において、圧電層１４、誘電体膜４５及び質量付加膜が、圧電層１４、誘電体膜４５及び質量付加膜の順序で積層されている。この場合においても、第８の実施形態と同様に、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。

　第８の実施形態及びその変形例においては、第１の実施形態と同様に、圧電層１４の材料として、Ｚカットのニオブ酸リチウムが用いられている。もっとも、圧電層１４の材料として、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムが用いられていてもよい。あるいは、圧電層１４の材料として、タンタル酸リチウムが用いられていてもよい。

　本発明に係る弾性波装置は、例えば、フィルタ装置に用いることができる。この例を以下において示す。

　図２４は、本発明の第９の実施形態に係るフィルタ装置の回路図である。

　フィルタ装置５０はラダー型フィルタである。フィルタ装置５０は、第１の信号端子５２及び第２の信号端子５３と、複数の直列腕共振子及び複数の並列腕共振子とを有する。本実施形態においては、全ての直列腕共振子及び全ての並列腕共振子が弾性波共振子である。そして、全ての弾性波共振子が本発明に係る弾性波装置である。もっとも、フィルタ装置５０における少なくとも１つの弾性波共振子が、本発明に係る弾性波装置であればよい。

　第１の信号端子５２及び第２の信号端子５３は、例えば、電極パッドとして構成されていてもよく、あるいは、配線として構成されていてもよい。本実施形態においては、第２の信号端子５３はアンテナ端子である。アンテナ端子はアンテナに接続される。

　フィルタ装置５０の複数の直列腕共振子は、具体的には、直列腕共振子Ｓ１、直列腕共振子Ｓ２及び直列腕共振子Ｓ３である。複数の並列腕共振子は、具体的には、並列腕共振子Ｐ１及び並列腕共振子Ｐ２である。

　第１の信号端子５２及び第２の信号端子５３の間に、直列腕共振子Ｓ１、直列腕共振子Ｓ２及び直列腕共振子Ｓ３が互いに直列に接続されている。直列腕共振子Ｓ１及び直列腕共振子Ｓ２の間の接続点とグラウンド電位との間に、並列腕共振子Ｐ１が接続されている。直列腕共振子Ｓ２及び直列腕共振子Ｓ３の間の接続点とグラウンド電位との間に、並列腕共振子Ｐ２が接続されている。なお、フィルタ装置５０の回路構成は上記に限定されない。本発明に係るフィルタ装置５０がラダー型フィルタである場合、該フィルタ装置５０は、少なくとも１つの直列腕共振子と、少なくとも１つの並列腕共振子とを有していればよい。

　あるいは、フィルタ装置５０は、例えば、縦結合共振子型弾性波フィルタを含んでいてもよい。この場合、フィルタ装置５０は、例えば、縦結合共振子型弾性波フィルタに接続された直列腕共振子または並列腕共振子を含んでいてもよい。該直列腕共振子または該並列腕共振子が本発明に係る弾性波装置であればよい。

　本実施形態においては、全ての弾性波共振子が圧電性基板を共有している。圧電性基板における圧電層は、例えば、Ｚカットのニオブ酸リチウムからなっていてもよく、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなっていてもよい。あるいは、圧電層は、タンタル酸リチウムからなっていてもよい。各弾性波共振子が個別の圧電性基板を有していても構わない。

　フィルタ装置５０の通過帯域を構成する並列腕共振子の反共振周波数は、フィルタ装置５０の通過帯域内に位置する。よって、フィルタ装置５０における通過帯域内の電気的特性に対し、並列腕共振子における反共振周波数付近に生じる不要波の影響が大きい。フィルタ装置５０の通過帯域を構成する直列腕共振子の共振周波数は、フィルタ装置５０の通過帯域内に位置する。よって、フィルタ装置５０における通過帯域内の電気的特性に対し、直列腕共振子における共振周波数付近に生じる不要波の影響も大きい。

　本実施形態では、各並列腕共振子及び各直列腕共振子は、本発明に係る弾性波装置である。そして、各並列腕共振子には、例えば、反共振周波数付近において不要波を抑制できる弾性波装置を用いればよい。各直列腕共振子には、例えば、共振周波数付近において不要波を抑制できる弾性波装置を用いればよい。これにより、フィルタ装置５０の通過帯域内の電気的特性に対する不要波の影響を抑制することができる。加えて、第１の実施形態などの弾性波装置を直列腕共振子または並列腕共振子に用いた場合には、該弾性波共振子においてロスの劣化も抑制することができる。従って、フィルタ装置５０のフィルタ特性の劣化を抑制することができる。

　ここで、フィルタ装置５０の直列腕共振子のうち、本発明に係る弾性波装置である直列腕共振子を第１の弾性波共振子とする。フィルタ装置５０の並列腕共振子のうち、本発明に係る弾性波装置である並列腕共振子を第２の弾性波共振子とする。フィルタ装置５０が、少なくとも１つの第１の弾性波共振子及び少なくとも１つの第２の弾性波共振子を有することが好ましい。それによって、フィルタ特性の劣化をより確実に抑制することができる。

　本実施形態では、第２の弾性波共振子の複数の質量付加膜の厚みは、第１の弾性波共振子の複数の質量付加膜の厚みよりも薄い。質量付加膜の厚みが薄い場合、反共振周波数付近の、質量付加膜に起因する不要波は抑制される。よって、本実施形態においては、フィルタ特性の劣化を効果的に抑制することができる。

　例えば、並列腕共振子において高域側の周波数に不要波が生じた場合には、直列腕共振子において高域側の周波数に不要波が生じた場合よりも、フィルタ特性に対する影響が大きい。これに対して、本実施形態では、第２の弾性波共振子の複数の質量付加膜の平面視における面積の平均値が、第１の弾性波共振子の複数の質量付加膜の平面視における面積の平均値よりも大きい。質量付加膜の面積が大きい場合、高域側の周波数において生じる不要波が抑制される。よって、本実施形態においては、フィルタ特性の劣化をより一層抑制することができる。

　図２５は、第１０の実施形態に係るフィルタ装置の回路図である。

　フィルタ装置６０はラダー型フィルタである。本実施形態は、回路構成及び各弾性波共振子の構成において、第９の実施形態と異なる。

　フィルタ装置６０の複数の直列腕共振子は、具体的には、直列腕共振子Ｓ１１、直列腕共振子Ｓ１２、直列腕共振子Ｓ１３及び直列腕共振子Ｓ１４である。複数の並列腕共振子は、具体的には、並列腕共振子Ｐ１１、並列腕共振子Ｐ１２及び並列腕共振子Ｐ１３である。

　第１の信号端子５２及び第２の信号端子５３の間に、直列腕共振子Ｓ１１、直列腕共振子Ｓ１２、直列腕共振子Ｓ１３及び直列腕共振子Ｓ１４が互いに直列に接続されている。直列腕共振子Ｓ１１及び直列腕共振子Ｓ１２の間の接続点とグラウンド電位との間に、並列腕共振子Ｐ１１が接続されている。直列腕共振子Ｓ１２及び直列腕共振子Ｓ１３の間の接続点とグラウンド電位との間に、並列腕共振子Ｐ１２が接続されている。直列腕共振子Ｓ１３及び直列腕共振子Ｓ１４の間の接続点とグラウンド電位との間に、並列腕共振子Ｐ１３が接続されている。

　本実施形態においては、全ての弾性波共振子が圧電性基板を共有している。より具体的には、本実施形態における圧電性基板の圧電層は、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる。

　ここで、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる圧電層を有する、本発明に係る弾性波装置である弾性波共振子を、第３の弾性波共振子とする。本実施形態では、第３の弾性波共振子は、第２の実施形態に係る弾性波装置である。フィルタ装置６０においては、全ての並列腕共振子が、第３の弾性波共振子である。

　フィルタ装置６０の各第３の弾性波共振子においては、図１を援用して示すように、第１のエッジ領域Ｅａ及び第１のギャップ領域Ｇａにわたり、第１の質量付加膜２４が設けられている。なお、本実施形態では、第１のギャップ領域Ｇａの、電極指延伸方向における全てに第１の質量付加膜２４が設けられている。よって、第１の質量付加膜２４における第１のギャップ領域Ｇａに設けられている部分の電極指延伸方向に沿う寸法は、第１のギャップ領域Ｇａの電極指延伸方向に沿う寸法と同じである。

　同様に、第２のエッジ領域Ｅｂ及び第２のギャップ領域Ｇｂにわたり、第２の質量付加膜２５が設けられている。第２の質量付加膜２５における第２のギャップ領域Ｇｂに設けられている部分の電極指延伸方向に沿う寸法は、第２のギャップ領域Ｇｂの電極指延伸方向に沿う寸法と同じである。なお、各質量付加膜は、各ギャップ領域の、電極指延伸方向における一部に設けられていてもよい。

　他方、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる圧電層を有し、質量付加膜を有しない弾性波装置である弾性波共振子を、第４の弾性波共振子とする。なお、図２６に示すように、第４の弾性波共振子は、第３の弾性波共振子と同様に、ＩＤＴ電極１１を有する。フィルタ装置６０においては、全ての直列腕共振子が、第４の弾性波共振子である。本実施形態では、第３の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法は、第４の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法よりも大きい。

　単体の第３の弾性波共振子及び第４の弾性波共振子をそれぞれ用意し、アドミッタンス周波数特性を測定した。

　図２７は、第１０の実施形態における、第３の弾性波共振子及び第４の弾性波共振子のアドミッタンス周波数特性を示す図である。

　第３の弾性波共振子は第２の実施形態に係る弾性波装置であり、図２７に示すように、共振周波数付近において、不要波は抑制されている。さらに、第３の弾性波共振子では、７０００ＭＨｚ付近において不要波が抑制されており、かつ７６００ＭＨｚ付近の高域側の周波数を含めてロスが小さい。これは、第３の弾性波共振子において、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が大きいことによる。より詳細には、図１３に示したように、第３の弾性波共振子では、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が大きいほど、ロスの劣化を抑制できる。

　本実施形態のように、第３の弾性波共振子をフィルタ装置に用いる場合には、第３の弾性波共振子を並列腕共振子として用いることが好ましい。並列腕共振子における高域側の周波数のロスが大きい場合には、直列腕共振子における高域側の周波数のロスが大きい場合よりも、フィルタ特性に対する影響は大きい。そして、第３の並列腕共振子を並列腕共振子として用いた場合には、該並列腕共振子おける高域側の周波数のロスを抑制することができる。それによって、フィルタ特性を改善することができる。

　並列腕共振子として用いた、第３の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が、直列腕共振子として用いた、第４の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法よりも大きいことが好ましい。それによって、第３の弾性波共振子のロスの劣化をより確実に抑制することができる。従って、フィルタ装置６０におけるフィルタ特性をより確実に改善することができる。

　なお、第４の弾性波共振子は質量付加膜を有しないため、質量付加膜に起因する不要波は生じない。そのため、図２７に示すように、共振周波数付近における不要波の強度は小さい。

　加えて、第４の弾性波共振子においては、７６００ＭＨｚ付近の高域側の周波数以外では、ロスは特に劣化していない。これは、第４の弾性波共振子の圧電層に、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムが用いられていることによる。さらに、第４の弾性波共振子において、質量付加膜が設けられていないことによる。より具体的には、平面視において、質量付加膜が電極指の先端と重なっていないことによる。第４の弾性波共振子が直列腕共振子として用いられていることによって、フィルタ装置６０におけるフィルタ特性は劣化し難い。

　もっとも、例えば、少なくとも１つの並列腕共振子が第３の弾性波共振子であり、少なくとも１つの直列腕共振子が第４の弾性波共振子であってもよい。この場合においても、フィルタ装置６０における、第３の弾性波共振子においては、共振周波数付近または反共振周波数付近において不要波を抑制することができる。そして、フィルタ装置６０のフィルタ特性の劣化を抑制することができる。

　全ての第４の弾性波共振子が直列腕共振子であることが好ましい。この場合、フィルタ装置６０のフィルタ特性の劣化をより確実に抑制することができる。

　以下において、各弾性波共振子の構成のみが第１０の実施形態と異なる、第１１の実施形態及び第１２の実施形態を示す。なお、第１１の実施形態及び第１２の実施形態においては、全ての弾性波共振子が圧電性基板を共有している。もっとも、各弾性波共振子が個別の圧電性基板を有していても構わない。

　第１１の実施形態においては、全ての並列腕共振子は、第１０の実施形態と同様に、第３の弾性波共振子である。一方で、全ての直列腕共振子は、第５の弾性波共振子である。

　本発明に係る弾性波装置である第３の弾性波共振子においては、共振周波数付近または反共振周波数付近において不要波を抑制することができる。加えて、高域側の周波数におけるロスの劣化を抑制することができる。そして、第１１の実施形態においても、第１０の実施形態と同様に、並列腕共振子として、第３の弾性波共振子が用いられている。これらにより、第１１の実施形態に係るフィルタ装置のフィルタ特性の劣化を抑制することができる。

　以下において、第５の弾性波共振子について説明する。

　図２８は、第１１の実施形態における、第５の弾性波共振子の模式的平面図である。

　第５の弾性波共振子においては、圧電性基板１２の圧電層１４は、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる。第５の弾性波共振子は、ＩＤＴ電極１１と、１対の質量付加膜１０４及び質量付加膜１０５とを有する。質量付加膜１０４及び質量付加膜１０５は、帯状の形状を有する。

　質量付加膜１０４は、第１のギャップ領域Ｇａに設けられており、かつ交叉領域Ｆには設けられていない。質量付加膜１０４は、平面視において、複数の電極指と、電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている。

　なお、第１１の実施形態では、第１のギャップ領域Ｇａの、電極指延伸方向における全てに質量付加膜１０４が設けられている。よって、質量付加膜１０４の電極指延伸方向に沿う寸法は、第１のギャップ領域Ｇａの電極指延伸方向に沿う寸法と同じである。

　同様に、質量付加膜１０５は、第２のギャップ領域Ｇｂに設けられており、かつ交叉領域Ｆには設けられていない。質量付加膜１０５は、平面視において、複数の電極指と、電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている。質量付加膜１０５の電極指延伸方向に沿う寸法は、第２のギャップ領域Ｇｂの電極指延伸方向に沿う寸法と同じである。

　なお、第５の弾性波共振子においては、各質量付加膜は、各ギャップ領域の、電極指延伸方向における一部に設けられていてもよい。あるいは、第５の弾性波共振子では、平面視において、質量付加膜１０４及び質量付加膜１０５のうち少なくとも一方が、バスバーと重なっていてもよい。第５の弾性波共振子においては、質量付加膜は、第１のギャップ領域Ｇａ及び第２のギャップ領域Ｇｂのうち少なくとも一方に設けられていればよい。

　単体の第５の弾性波共振子を用意し、アドミッタンス周波数特性を測定した。さらに、質量付加膜の位置ずれによる、アドミッタンス周波数特性に対する影響を検討した。具体的には、第２の参考例及び第３の参考例の弾性波共振子を用意し、それぞれの弾性波共振子のアドミッタンス周波数特性を測定した。なお、上記の位置ずれは、質量付加膜を設ける際のアライメントずれなどに起因する。

　第２の参考例の弾性波共振子では、各質量付加膜が、ギャップ領域の全体及びエッジ領域の一部に設けられている。より具体的には、該弾性波共振子においては、質量付加膜は、エッジ領域の一部において、平面視したときに、複数の電極指と、電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている。より詳細には、該弾性波共振子における質量付加膜の電極指延伸方向に沿う寸法は、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法よりも１５０ｎｍ大きい。

　第３の参考例の弾性波共振子では、質量付加膜は、ギャップ領域の、電極指延伸方向における一部に設けられている。より具体的には、該弾性波共振子においては、質量付加膜は、電極指の先端と接しており、かつバスバーとは接していない。より詳細には、該弾性波共振子における質量付加膜の電極指延伸方向に沿う寸法は、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法よりも１５０ｎｍ小さい。

　図２９は、第１１の実施形態における第５の弾性波共振子、並びに第２の参考例及び第３の参考例の弾性波共振子においての、アドミッタンス周波数特性を示す図である。

　図２９に示すように、第５の弾性波共振子においては、７６００ＭＨｚ付近の高域側の周波数以外では、ロスは特に劣化していない。これは、第５の弾性波共振子の圧電層に、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムが用いられていることによる。さらに、第５の弾性波共振子において、平面視したときに、質量付加膜が電極指の先端と重なっていないことによる。

　同様に、第２の参考例及び第３の参考例においても、７６００ＭＨｚ付近の高域側の周波数以外では、ロスの劣化は小さい。これらのことから、質量付加膜の位置ずれが１５０ｎｍ程度のずれであれば、特性の差は小さいことがわかる。

　直列腕共振子においては、高域側の周波数におけるロスが大きくとも、フィルタ特性に対する影響は小さい。そして、上記のように、第５の弾性波共振子においては、７６００ＭＨｚ付近の高域側の周波数以外では、ロスは特に劣化していない。よって、第５の弾性波共振子が直列腕共振子として用いられていることにより、フィルタ特性は劣化し難い。

　さらに、第３の弾性波共振子及び第５の弾性波共振子において、ロスの効果的に改善することができる質量付加膜の厚み、及びギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法を検討した。

　第３の弾性波共振子においては、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が１．５μｍ程度である場合に、ロスを効果的に改善することができる。そして、質量付加膜の厚みが２５ｎｍ以上、３５ｎｍ以下である場合において、ロスを効果的に改善することができる。

　一方で、第５の弾性波共振子においては、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が３μｍ程度である場合に、ロスを効果的に改善することができる。そして、質量付加膜の厚みが１５ｎｍ以上、２５ｎｍ以下である場合において、ロスを効果的に改善することができる。

　これらのことから、並列腕共振子である第３の弾性波共振子の質量付加膜の厚みが、直列腕共振子である第５の弾性波共振子の質量付加膜の厚みよりも厚いことが好ましい。並列腕共振子である第３の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が、直列腕共振子である第５の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法以下であることが好ましい。それによって、第３の弾性波共振子及び第５の弾性波共振子において、ロスを改善することができる。これにより、フィルタ装置におけるフィルタ特性を改善することができる。

　なお、本発明に係るフィルタ装置においては、少なくとも１つの第３の弾性波共振子が、並列腕共振子であることが好ましい。もっとも、第３の弾性波共振子は直列腕共振子であってもよい。一方で、少なくとも１つの第５の弾性波共振子が、直列腕共振子であることが好ましい。もっとも、第５の弾性波共振子は並列腕共振子であってもよい。

　以下において、第１２の実施形態に係るフィルタ装置の構成を説明する。第１２の実施形態においては、第３～第５の弾性波共振子に加え、第６の弾性波共振子が設けられている。

　より具体的には、図２５を援用すると、直列腕共振子Ｓ１１及び並列腕共振子Ｐ１１が第３の弾性波共振子である。直列腕共振子Ｓ１２が第４の弾性波共振子である。直列腕共振子Ｓ１３及び並列腕共振子Ｐ１２が第５の弾性波共振子である。直列腕共振子Ｓ１４及び並列腕共振子Ｐ１３が第６の弾性波共振子である。このように、第６の弾性波共振子は、直列腕共振子として用いられていてもよく、並列腕共振子として用いられていてもよい。なお、ここで示した第３～第６の弾性波共振子の配置は一例であって、第３～第６の弾性波共振子の配置は上記に限定されない。

　第１２の実施形態のフィルタ装置においても、第１０の実施形態及び第１１の実施形態と同様に、本発明に係る弾性波装置である第３の弾性波共振子が用いられている。よって、フィルタ装置における弾性波共振子の、共振周波数付近または反共振周波数付近において、不要波を抑制することができる。従って、フィルタ特性の劣化を抑制することができる。

　以下において、第６の弾性波共振子について説明する。

　図３０は、第１２の実施形態における、第６の弾性波共振子の模式的平面図である。

　第６の弾性波共振子においては、圧電性基板１２の圧電層１４は、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる。第６の弾性波共振子は、ＩＤＴ電極１１と、１対の質量付加膜１１４及び質量付加膜１１５とを有する。質量付加膜１１４及び質量付加膜１１５は、帯状の形状を有する。

　質量付加膜１１４は、第１のエッジ領域Ｅａ及び第１のギャップ領域Ｇａにわたり設けられている。質量付加膜１１４は、平面視において、複数の電極指と、電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている。

　なお、第１２の実施形態では、第１のギャップ領域Ｇａの、電極指延伸方向における全てに質量付加膜１１４が設けられている。よって、質量付加膜１１４における第１のギャップ領域Ｇａに設けられている部分の電極指延伸方向に沿う寸法は、第１のギャップ領域Ｇａの電極指延伸方向に沿う寸法と同じである。

　同様に、質量付加膜１１５は、第２のエッジ領域Ｅｂ及び第２のギャップ領域Ｇｂにわたり設けられている。質量付加膜１１５は、平面視において、複数の電極指と、電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている。質量付加膜１１５における第２のギャップ領域Ｇｂに設けられている部分の電極指延伸方向に沿う寸法は、第２のギャップ領域Ｇｂの電極指延伸方向に沿う寸法と同じである。

　なお、第６の弾性波共振子においては、各質量付加膜における各ギャップ領域に設けられている部分は、各ギャップ領域の、電極指延伸方向における一部に位置していてもよい。あるいは、第６の弾性波共振子においては、質量付加膜１１４及び質量付加膜１１５のうち少なくとも一方が、平面視において、バスバーと重なっていてもよい。第６の弾性波共振子においては、質量付加膜が、１対のエッジ領域のうち少なくとも一方のエッジ領域、及び該エッジ領域と隣接しているギャップ領域にわたり設けられていればよい。

　単体の第６の弾性波共振子を用意し、アドミッタンス周波数特性を測定した。なお、第３の弾性波共振子及び第５の弾性波共振子のアドミッタンス周波数特性も合わせて示す。

　図３１は、第１２の実施形態における第３の弾性波共振子、第５の弾性波共振子及び第６の弾性波共振子においての、アドミッタンス周波数特性を示す図である。

　図３１に示すように、第３の弾性波共振子及び第５の弾性波共振子においては、反共振周波数付近において、不要波が抑制されている。一方で、第６の弾性波共振子においては、反共振周波数付近において、不要波が生じている。これは、質量付加膜１１４及び質量付加膜１１５に起因する不要波である。

　もっとも、第１２の実施形態のフィルタ装置においては、第６の弾性波共振子以外に、第３～第５の弾性波共振子が設けられている。それによって、不要波のフィルタ特性に対する影響を小さくすることができる。加えて、図３１に示すように、第６の弾性波共振子においては、ロスは小さい。従って、本実施形態においては、フィルタ装置におけるフィルタ特性の劣化を抑制することができる。

　さらに、第６の弾性波共振子において、ロスの効果的に改善することができる質量付加膜の厚み、及びギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法を検討した。

　第６の弾性波共振子においては、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が３μｍ程度である場合に、ロスを効果的に改善することができる。そして、質量付加膜の厚みが１０ｎｍ以上、２０ｎｍ以下である場合において、ロスを効果的に改善することができる。

　一方で、上記のように、第５の弾性波共振子においては、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が３μｍ程度である場合に、ロスを効果的に改善することができる。そして、質量付加膜の厚みが１５ｎｍ以上、２５ｎｍ以下である場合において、ロスを効果的に改善することができる。

　これらのことから、並列腕共振子として第６の弾性波共振子を用い、直列腕共振子として第５の弾性波共振子を用いた場合、第６の弾性波共振子の質量付加膜の厚みが、第５の弾性波共振子の質量付加膜の厚みよりも薄いことが好ましい。それによって、第５の弾性波共振子及び第６の弾性波共振子において、ロスを改善することができる。よって、フィルタ装置におけるフィルタ特性の劣化を、より確実に抑制することができる。

　第５の弾性波共振子及び第６の弾性波共振子においてはいずれも、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が３μｍ程度である場合に、ロスを効果的に改善することができる。なお、ギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が長い場合、質量付加膜の面積を大きくし易い。そして、質量付加膜の面積が大きい場合、高域側の周波数において生じる不要波が抑制される。

　このことから、並列腕共振子である第６の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法が、直列腕共振子である第５の弾性波共振子におけるギャップ領域の電極指延伸方向に沿う寸法以上であることが好ましい。これにより、第６の弾性波共振子において、質量付加膜に起因する不要波を抑制することができる。よって、フィルタ装置におけるフィルタ特性の劣化を、より確実に抑制することができる。

　以下において、厚み滑りモードの詳細を説明する。なお、後述するＩＤＴ電極における「電極」は、本発明における電極指に相当する。以下の例における支持部材は、本発明における支持基板に相当する。

　図３２（ａ）は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の外観を示す略図的斜視図であり、図３２（ｂ）は、圧電層上の電極構造を示す平面図であり、図３３は、図３２（ａ）中のＡ－Ａ線に沿う部分の断面図である。

　弾性波装置１は、ＬｉＮｂＯ_３からなる圧電層２を有する。圧電層２は、ＬｉＴａＯ_３からなるものであってもよい。ＬｉＮｂＯ_３やＬｉＴａＯ_３のカット角は、Ｚカットであるが、回転ＹカットやＸカットであってもよい。圧電層２の厚みは、特に限定されないが、厚み滑りモードを効果的に励振するには、４０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。圧電層２は、対向し合う第１，第２の主面２ａ，２ｂを有する。第１の主面２ａ上に、電極３及び電極４が設けられている。ここで電極３が「第１電極」の一例であり、電極４が「第２電極」の一例である。図３２（ａ）及び図３２（ｂ）では、複数の電極３が、第１のバスバー５に接続されている複数の第１の電極指である。複数の電極４は、第２のバスバー６に接続されている複数の第２の電極指である。複数の電極３及び複数の電極４は、互いに間挿し合っている。電極３及び電極４は、矩形形状を有し、長さ方向を有する。この長さ方向と直交する方向において、電極３と、隣りの電極４とが対向している。電極３，４の長さ方向、及び、電極３，４の長さ方向と直交する方向はいずれも、圧電層２の厚み方向に交叉する方向である。このため、電極３と、隣りの電極４とは、圧電層２の厚み方向に交叉する方向において対向しているともいえる。また、電極３，４の長さ方向が図３２（ａ）及び図３２（ｂ）に示す電極３，４の長さ方向に直交する方向と入れ替わってもよい。すなわち、図３２（ａ）及び図３２（ｂ）において、第１のバスバー５及び第２のバスバー６が延びている方向に電極３，４を延ばしてもよい。その場合、第１のバスバー５及び第２のバスバー６は、図３２（ａ）及び図３２（ｂ）において電極３，４が延びている方向に延びることとなる。そして、一方電位に接続される電極３と、他方電位に接続される電極４とが隣り合う１対の構造が、上記電極３，４の長さ方向と直交する方向に、複数対設けられている。ここで電極３と電極４とが隣り合うとは、電極３と電極４とが直接接触するように配置されている場合ではなく、電極３と電極４とが間隔を介して配置されている場合を指す。また、電極３と電極４とが隣り合う場合、電極３と電極４との間には、他の電極３，４を含む、ホット電極やグラウンド電極に接続される電極は配置されない。この対数は、整数対である必要はなく、１．５対や２．５対などであってもよい。電極３，４間の中心間距離すなわちピッチは、１μｍ以上、１０μｍ以下の範囲が好ましい。また、電極３，４の幅、すなわち電極３，４の対向方向の寸法は、５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下の範囲であることが好ましく、１５０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下の範囲であることがより好ましい。なお、電極３，４間の中心間距離とは、電極３の長さ方向と直交する方向における電極３の寸法（幅寸法）の中心と、電極４の長さ方向と直交する方向における電極４の寸法（幅寸法）の中心とを結んだ距離となる。

　また、弾性波装置１では、Ｚカットの圧電層を用いているため、電極３，４の長さ方向と直交する方向は、圧電層２の分極方向に直交する方向となる。圧電層２として他のカット角の圧電体を用いた場合には、この限りでない。ここにおいて、「直交」とは、厳密に直交する場合のみに限定されず、略直交（電極３，４の長さ方向と直交する方向と分極方向とのなす角度が例えば９０°±１０°の範囲内）でもよい。

　圧電層２の第２の主面２ｂ側には、絶縁層７を介して支持部材８が積層されている。絶縁層７及び支持部材８は、枠状の形状を有し、図３３に示すように、貫通孔７ａ，８ａを有する。それによって、空洞部９が形成されている。空洞部９は、圧電層２の励振領域Ｃの振動を妨げないために設けられている。従って、上記支持部材８は、少なくとも１対の電極３，４が設けられている部分と重ならない位置において、第２の主面２ｂに絶縁層７を介して積層されている。なお、絶縁層７は設けられずともよい。従って、支持部材８は、圧電層２の第２の主面２ｂに直接または間接に積層され得る。

　絶縁層７は、酸化ケイ素からなる。もっとも、酸化ケイ素の他、酸窒化ケイ素、アルミナなどの適宜の絶縁性材料を用いることができる。支持部材８は、Ｓｉからなる。Ｓｉの圧電層２側の面における面方位は（１００）や（１１０）であってもよく、（１１１）であってもよい。支持部材８を構成するＳｉは、抵抗率４ｋΩｃｍ以上の高抵抗であることが望ましい。もっとも、支持部材８についても適宜の絶縁性材料や半導体材料を用いて構成することができる。

　支持部材８の材料としては、例えば、酸化アルミニウム、タンタル酸リチウム、ニオブ酸リチウム、水晶などの圧電体、アルミナ、マグネシア、サファイア、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、炭化ケイ素、ジルコニア、コージライト、ムライト、ステアタイト、フォルステライトなどの各種セラミック、ダイヤモンド、ガラスなどの誘電体、窒化ガリウムなどの半導体などを用いることができる。

　上記複数の電極３，４及び第１，第２のバスバー５，６は、Ａｌ、ＡｌＣｕ合金などの適宜の金属もしくは合金からなる。弾性波装置１では、電極３，４及び第１，第２のバスバー５，６は、Ｔｉ膜上にＡｌ膜を積層した構造を有する。なお、Ｔｉ膜以外の密着層を用いてもよい。

　駆動に際しては、複数の電極３と、複数の電極４との間に交流電圧を印加する。より具体的には、第１のバスバー５と第２のバスバー６との間に交流電圧を印加する。それによって、圧電層２において励振される厚み滑りモードのバルク波を利用した、共振特性を得ることが可能とされている。また、弾性波装置１では、圧電層２の厚みをｄ、複数対の電極３，４のうちいずれかの隣り合う電極３，４の中心間距離をｐとした場合、ｄ／ｐは０．５以下とされている。そのため、上記厚み滑りモードのバルク波が効果的に励振され、良好な共振特性を得ることができる。より好ましくは、ｄ／ｐは０．２４以下であり、その場合には、より一層良好な共振特性を得ることができる。

　弾性波装置１では、上記構成を備えるため、小型化を図ろうとして、電極３，４の対数を小さくしたとしても、Ｑ値の低下が生じ難い。これは、両側の反射器における電極指の本数を少なくしても、伝搬ロスが少ないためである。また、上記電極指の本数を少なくできるのは、厚み滑りモードのバルク波を利用していることによる。弾性波装置で利用したラム波と、上記厚み滑りモードのバルク波の相違を、図３４（ａ）及び図３４（ｂ）を参照して説明する。

　図３４（ａ）は、日本公開特許公報　特開２０１２－２５７０１９号公報に記載のような弾性波装置の圧電膜を伝搬するラム波を説明するための模式的正面断面図である。ここでは、圧電膜２０１中を矢印で示すように波が伝搬する。ここで、圧電膜２０１では、第１の主面２０１ａと、第２の主面２０１ｂとが対向しており、第１の主面２０１ａと第２の主面２０１ｂとを結ぶ厚み方向がＺ方向である。Ｘ方向は、ＩＤＴ電極の電極指が並んでいる方向である。図３４（ａ）に示すように、ラム波では、波が図示のように、Ｘ方向に伝搬していく。板波であるため、圧電膜２０１が全体として振動するものの、波はＸ方向に伝搬するため、両側に反射器を配置して、共振特性を得ている。そのため、波の伝搬ロスが生じ、小型化を図った場合、すなわち電極指の対数を少なくした場合、Ｑ値が低下する。

　これに対して、図３４（ｂ）に示すように、弾性波装置１では、振動変位は厚み滑り方向であるから、波は、圧電層２の第１の主面２ａと第２の主面２ｂとを結ぶ方向、すなわちＺ方向にほぼ伝搬し、共振する。すなわち、波のＸ方向成分がＺ方向成分に比べて著しく小さい。そして、このＺ方向の波の伝搬により共振特性が得られるため、反射器の電極指の本数を少なくしても、伝搬損失は生じ難い。さらに、小型化を進めようとして、電極３，４からなる電極対の対数を減らしたとしても、Ｑ値の低下が生じ難い。

　なお、厚み滑りモードのバルク波の振幅方向は、図３５に示すように、圧電層２の励振領域Ｃに含まれる第１領域４５１と、励振領域Ｃに含まれる第２領域４５２とで逆になる。図３５では、電極３と電極４との間に、電極４が電極３よりも高電位となる電圧が印加された場合のバルク波を模式的に示してある。第１領域４５１は、励振領域Ｃのうち、圧電層２の厚み方向に直交し圧電層２を２分する仮想平面ＶＰ１と、第１の主面２ａとの間の領域である。第２領域４５２は、励振領域Ｃのうち、仮想平面ＶＰ１と、第２の主面２ｂとの間の領域である。

　上記のように、弾性波装置１では、電極３と電極４とからなる少なくとも１対の電極が配置されているが、Ｘ方向に波を伝搬させるものではないため、この電極３，４からなる電極対の対数は複数対ある必要はない。すなわち、少なくとも１対の電極が設けられてさえおればよい。

　例えば、上記電極３がホット電位に接続される電極であり、電極４がグラウンド電位に接続される電極である。もっとも、電極３がグラウンド電位に、電極４がホット電位に接続されてもよい。弾性波装置１では、少なくとも１対の電極は、上記のように、ホット電位に接続される電極またはグラウンド電位に接続される電極であり、浮き電極は設けられていない。

　図３６は、図３３に示す弾性波装置の共振特性を示す図である。なお、この共振特性を得た弾性波装置１の設計パラメータは以下の通りである。

　圧電層２：オイラー角（０°，０°，９０°）のＬｉＮｂＯ_３、厚み＝４００ｎｍ。
　電極３と電極４の長さ方向と直交する方向に視たときに、電極３と電極４とが重なっている領域、すなわち励振領域Ｃの長さ＝４０μｍ、電極３，４からなる電極の対数＝２１対、電極間中心距離＝３μｍ、電極３，４の幅＝５００ｎｍ、ｄ／ｐ＝０．１３３。
　絶縁層７：１μｍの厚みの酸化ケイ素膜。
　支持部材８：Ｓｉ。

　なお、励振領域Ｃの長さとは、励振領域Ｃの電極３，４の長さ方向に沿う寸法である。

　弾性波装置１では、電極３，４からなる電極対の電極間距離は、複数対において全て等しくした。すなわち、電極３と電極４とを等ピッチで配置した。

　図３６から明らかなように、反射器を有しないにも関わらず、比帯域が１２．５％である良好な共振特性が得られている。

　ところで、上記圧電層２の厚みをｄ、電極３と電極４との電極の中心間距離をｐとした場合、前述したように、弾性波装置１では、ｄ／ｐは０．５以下、より好ましくは０．２４以下である。これを、図３７を参照して説明する。

　図３６に示した共振特性を得た弾性波装置と同様に、但しｄ／ｐを変化させ、複数の弾性波装置を得た。図３７は、このｄ／ｐと、弾性波装置の共振子としての比帯域との関係を示す図である。

　図３７から明らかなように、ｄ／ｐ＞０．５では、ｄ／ｐを調整しても、比帯域は５％未満である。これに対して、ｄ／ｐ≦０．５の場合には、その範囲内でｄ／ｐを変化させれば、比帯域を５％以上とすることができ、すなわち高い結合係数を有する共振子を構成することができる。また、ｄ／ｐが０．２４以下の場合には、比帯域を７％以上と高めることができる。加えて、ｄ／ｐをこの範囲内で調整すれば、より一層比帯域の広い共振子を得ることができ、より一層高い結合係数を有する共振子を実現することができる。従って、ｄ／ｐを０．５以下とすることにより、上記厚み滑りモードのバルク波を利用した、高い結合係数を有する共振子を構成し得ることがわかる。

　図３８は、厚み滑りモードのバルク波を利用する弾性波装置の平面図である。弾性波装置８０では、圧電層２の第１の主面２ａ上において、電極３と電極４とを有する１対の電極が設けられている。なお、図３８中のＫが交叉幅となる。前述したように、本発明の弾性波装置では、電極の対数は１対であってもよい。この場合においても、上記ｄ／ｐが０．５以下であれば、厚み滑りモードのバルク波を効果的に励振することができる。

　弾性波装置１では、好ましくは、複数の電極３，４において、いずれかの隣り合う電極３，４が対向している方向に視たときに重なっている領域である励振領域Ｃに対する、上記隣り合う電極３，４のメタライゼーション比ＭＲが、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５を満たすことが望ましい。その場合には、スプリアスを効果的に小さくすることができる。これを、図３９及び図４０を参照して説明する。図３９は、上記弾性波装置１の共振特性の一例を示す参考図である。矢印Ｂで示すスプリアスが、共振周波数と反共振周波数との間に現れている。なお、ｄ／ｐ＝０．０８として、かつＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，０°，９０°）とした。また、上記メタライゼーション比ＭＲ＝０．３５とした。

　メタライゼーション比ＭＲを、図３２（ｂ）を参照して説明する。図３２（ｂ）の電極構造において、１対の電極３，４に着目した場合、この１対の電極３，４のみが設けられるとする。この場合、一点鎖線で囲まれた部分が励振領域Ｃとなる。この励振領域Ｃとは、電極３と電極４とを、電極３，４の長さ方向と直交する方向すなわち対向方向に見たときに電極３における電極４と重なり合っている領域、電極４における電極３と重なり合っている領域、及び、電極３と電極４との間の領域における電極３と電極４とが重なり合っている領域である。そして、この励振領域Ｃの面積に対する、励振領域Ｃ内の電極３，４の面積が、メタライゼーション比ＭＲとなる。すなわち、メタライゼーション比ＭＲは、メタライゼーション部分の面積の励振領域Ｃの面積に対する比である。

　なお、複数対の電極が設けられている場合、励振領域の面積の合計に対する全励振領域に含まれているメタライゼーション部分の割合をＭＲとすればよい。

　図４０は弾性波装置１の形態に従って、多数の弾性波共振子を構成した場合の比帯域と、スプリアスの大きさとしての１８０度で規格化されたスプリアスのインピーダンスの位相回転量との関係を示す図である。なお、比帯域については、圧電層の膜厚や電極の寸法を種々変更し、調整した。また、図４０は、ＺカットのＬｉＮｂＯ_３からなる圧電層を用いた場合の結果であるが、他のカット角の圧電層を用いた場合においても、同様の傾向となる。

　図４０中の楕円Ｊで囲まれている領域では、スプリアスが１．０と大きくなっている。図４０から明らかなように、比帯域が０．１７を超えると、すなわち１７％を超えると、スプリアスレベルが１以上の大きなスプリアスが、比帯域を構成するパラメータを変化させたとしても、通過帯域内に現れる。すなわち、図３９に示す共振特性のように、矢印Ｂで示す大きなスプリアスが帯域内に現れる。よって、比帯域は１７％以下であることが好ましい。この場合には、圧電層２の膜厚や電極３，４の寸法などを調整することにより、スプリアスを小さくすることができる。

　図４１は、ｄ／２ｐと、メタライゼーション比ＭＲと、比帯域との関係を示す図である。上記弾性波装置において、ｄ／２ｐと、ＭＲが異なる様々な弾性波装置を構成し、比帯域を測定した。図４１の破線Ｄの右側のハッチングを付して示した部分が、比帯域が１７％以下の領域である。このハッチングを付した領域と、付していない領域との境界は、ＭＲ＝３．５（ｄ／２ｐ）＋０．０７５で表される。すなわち、ＭＲ＝１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５である。従って、好ましくは、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５である。その場合には、比帯域を１７％以下としやすい。より好ましくは、図４１中の一点鎖線Ｄ１で示すＭＲ＝３．５（ｄ／２ｐ）＋０．０５の右側の領域である。すなわち、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０５であれば、比帯域を確実に１７％以下にすることができる。

　図４２は、ｄ／ｐを限りなく０に近づけた場合のＬｉＮｂＯ_３のオイラー角（０°，θ，ψ）に対する比帯域のマップを示す図である。図４２のハッチングを付して示した部分が、少なくとも５％以上の比帯域が得られる領域であり、当該領域の範囲を近似すると、下記の式（１）、式（２）及び式（３）で表される範囲となる。

　（０°±１０°，０°～２０°，任意のψ）　　…式（１）
　（０°±１０°，２０°～８０°，０°～６０°（１－（θ－５０）^２／９００）^１／２）　または　（０°±１０°，２０°～８０°，［１８０°－６０°（１－（θ－５０）^２／９００）^１／２］～１８０°）　　…式（２）
　（０°±１０°，［１８０°－３０°（１－（ψ－９０）^２／８１００）^１／２］～１８０°，任意のψ）　　…式（３）

　従って、上記式（１）、式（２）または式（３）のオイラー角範囲の場合、比帯域を十分に広くすることができ、好ましい。圧電層２がタンタル酸リチウム層である場合も同様である。

　図４３は、音響多層膜を有する弾性波装置の正面断面図である。

　弾性波装置８１では、圧電層２の第２の主面２ｂに音響多層膜８２が積層されている。音響多層膜８２は、音響インピーダンスが相対的に低い低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅと、音響インピーダンスが相対的に高い高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄとの積層構造を有する。音響多層膜８２を用いた場合、弾性波装置１における空洞部９を用いずとも、厚み滑りモードのバルク波を圧電層２内に閉じ込めることができる。弾性波装置８１においても、上記ｄ／ｐを０．５以下とすることにより、厚み滑りモードのバルク波に基づく共振特性を得ることができる。なお、音響多層膜８２においては、その低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅ及び高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄの積層数は特に限定されない。低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅよりも、少なくとも１層の高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄが圧電層２から遠い側に配置されておりさえすればよい。

　上記低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅ及び高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄは、上記音響インピーダンスの関係を満たす限り、適宜の材料で構成することができる。例えば、低音響インピーダンス層８２ａ，８２ｃ，８２ｅの材料としては、酸化ケイ素または酸窒化ケイ素などを挙げることができる。また、高音響インピーダンス層８２ｂ，８２ｄの材料としては、アルミナ、窒化ケイ素または金属などを挙げることができる。

　第１～第８の実施形態及び各変形例の弾性波装置においては、例えば、支持部材及び圧電層の間に、音響反射膜としての、図４３に示す音響多層膜８２が設けられていてもよい。具体的には、支持部材の少なくとも一部及び圧電層の少なくとも一部が、音響多層膜８２を挟み互いに対向するように、支持部材と圧電層とが配置されていてもよい。この場合、音響多層膜８２において、低音響インピーダンス層と高音響インピーダンス層とが交互に積層されていればよい。音響多層膜８２が、弾性波装置における音響反射部であってもよい。

　厚み滑りモードのバルク波を利用する第１～第８の実施形態及び各変形例の弾性波装置においては、上記のように、ｄ／ｐが０．５以下であることが好ましく、０．２４以下であることがより好ましい。それによって、より一層良好な共振特性を得ることができる。さらに、厚み滑りモードのバルク波を利用する第１～第８の実施形態及び各変形例の弾性波装置における励振領域においては、上記のように、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５を満たすことが好ましい。この場合には、スプリアスをより確実に抑制することができる。

　厚み滑りモードのバルク波を利用する第１～第８の実施形態及び各変形例の弾性波装置における圧電層は、ニオブ酸リチウム層またはタンタル酸リチウム層であることが好ましい。そして、該圧電層を構成しているニオブ酸リチウムまたはタンタル酸リチウムのオイラー角（φ，θ，ψ）が、上記の式（１）、式（２）または式（３）の範囲にあることが好ましい。この場合、比帯域を十分に広くすることができる。

１…弾性波装置
２…圧電層
２ａ，２ｂ…第１，第２の主面
３，４…電極
５，６…第１，第２のバスバー
７…絶縁層
７ａ…貫通孔
８…支持部材
８ａ…貫通孔
９…空洞部
１０…弾性波装置
１０ａ…空洞部
１１…ＩＤＴ電極
１１ａ，１１ｂ…第１，第２の面
１１ｃ…側面
１２…圧電性基板
１３…支持部材
１４…圧電層
１４ａ，１４ｂ…第１，第２の主面
１５…絶縁層
１６…支持基板
２４，２５…第１，第２の質量付加膜
２６，２７…第１，第２のバスバー
２８，２９…第１，第２の電極指
３３…誘電体膜
４５…誘電体膜
５０…フィルタ装置
５２，５３…第１，第２の信号端子
６０…フィルタ装置
８０，８１…弾性波装置
８２…音響多層膜
８２ａ，８２ｃ，８２ｅ…低音響インピーダンス層
８２ｂ，８２ｄ…高音響インピーダンス層
１０４，１０５，１１４，１１５，１２４，１２５…質量付加膜
２０１…圧電膜
２０１ａ，２０１ｂ…第１，第２の主面
４５１，４５２…第１，第２領域
Ｃ…励振領域
Ｅａ，Ｅｂ…第１，第２のエッジ領域
Ｆ…交叉領域
Ｇａ，Ｇｂ…第１，第２のギャップ領域
Ｈ…中央領域
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ１１～Ｐ１３…並列腕共振子
Ｓ１～Ｓ３，Ｓ１１～Ｓ１４…直列腕共振子
ＶＰ１…仮想平面

Claims

　支持基板を含む支持部材と、
　前記支持部材上に設けられており、タンタル酸リチウムまたはニオブ酸リチウムからなる圧電層と、
　前記圧電層上に設けられており、１対のバスバーと、複数の電極指と、を有するＩＤＴ電極と、
を備え、
　前記支持部材及び前記圧電層の積層方向に沿って見た平面視において、前記支持部材における、前記ＩＤＴ電極の少なくとも一部と重なる位置に音響反射部が設けられており、
　前記圧電層の厚みをｄ、隣り合う前記電極指同士の中心間距離をｐとした場合、ｄ／ｐが０．５以下であり、
　前記一対のバスバーの一方のバスバーに前記複数の電極指のうち一部の電極指が接続されており、他方のバスバーに前記複数の電極指のうち残りの電極指が接続されており、前記一方のバスバーに接続されている前記一部の電極指、及び前記他方のバスバーに接続されている前記残りの電極指が互いに間挿し合っており、
　前記複数の電極指が延びる方向を電極指延伸方向、前記電極指延伸方向と直交する方向を電極指対向方向とし、前記電極指対向方向から見たときに、前記隣り合う電極指同士が重なり合う領域が交叉領域であり、前記交叉領域と前記１対のバスバーとの間に位置する領域が１対のギャップ領域であり、前記交叉領域が、中央領域と、前記中央領域を前記電極指延伸方向において挟むように配置されている１対のエッジ領域と、を有し、
　前記１対のエッジ領域のうち少なくとも一方のエッジ領域及び該エッジ領域と隣接している前記ギャップ領域にわたり設けられており、かつ前記電極指対向方向に沿って並んでいる複数の質量付加膜をさらに備え、
　前記複数の質量付加膜が、前記隣り合う電極指間の少なくとも一部に位置しないように設けられている、弾性波装置。
　前記複数の質量付加膜が、一方の前記エッジ領域及び一方の前記ギャップ領域にわたり設けられている複数の第１の質量付加膜と、他方の前記エッジ領域及び他方の前記ギャップ領域にわたり設けられている複数の第２の質量付加膜と、を含む、請求項１に記載の弾性波装置。
　前記複数の質量付加膜が、前記電極指と積層されている部分を有する前記質量付加膜を含み、
　前記質量付加膜及び前記電極指が積層されている部分において、前記圧電層、前記電極指及び前記質量付加膜が、前記圧電層、前記電極指及び前記質量付加膜の順序で積層されている、請求項１または２に記載の弾性波装置。
　前記複数の質量付加膜が、前記電極指と積層されている部分を有する前記質量付加膜を含み、
　前記質量付加膜及び前記電極指が積層されている部分において、前記圧電層、前記質量付加膜及び前記電極指が、前記圧電層、前記質量付加膜及び前記電極指の順序で積層されている、請求項１または２に記載の弾性波装置。
　前記電極指と積層されている部分を有する前記質量付加膜が、前記電極指の先端部と積層されている部分を有する、請求項３または４に記載の弾性波装置。
　前記複数の質量付加膜が、平面視において、前記電極指の先端部を三方向において囲んでいる前記質量付加膜を含む、請求項１または２に記載の弾性波装置。
　同じ前記エッジ領域及び前記ギャップ領域に設けられている前記複数の質量付加膜が、平面視における面積が異なる少なくとも１つの前記質量付加膜を含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　少なくとも１つの前記質量付加膜が、前記ギャップ領域から、該ギャップ領域に隣接する前記バスバーと平面視において重なる部分に至っている、請求項１～７のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法が、１μｍ以上である、請求項１～８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法が、２μｍ以上であり、前記ギャップ領域において、前記質量付加膜の前記電極指延伸方向に沿う寸法が、２μｍ以上である、請求項９に記載の弾性波装置。
　前記圧電層上に、前記ＩＤＴ電極を覆うように誘電体膜が設けられている、請求項１～１０のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記誘電体膜及び前記質量付加膜が積層されている部分において、前記圧電層、前記質量付加膜及び前記誘電体膜が、前記圧電層、前記質量付加膜及び前記誘電体膜の順序で積層されている、請求項１１に記載の弾性波装置。
　前記誘電体膜及び前記質量付加膜が積層されている部分において、前記圧電層、前記誘電体膜及び前記質量付加膜が、前記圧電層、前記誘電体膜及び前記質量付加膜の順序で積層されている、請求項１１に記載の弾性波装置。
　前記誘電体膜が酸化ケイ素からなる、請求項１１～１３のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記質量付加膜が、酸化ケイ素、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化タングステン、酸化ハフニウムからなる群から選択される少なくとも１種の材料からなる、請求項１～１４のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　ｄ／ｐが０．２４以下である、請求項１～１５のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　隣り合う前記電極指同士が対向している方向から見たときに、隣り合う前記電極指が重なり合う領域であり、かつ隣り合う前記電極指同士の中心間の領域が励振領域であり、前記励振領域に対する、前記複数の電極指のメタライゼーション比をＭＲとしたときに、ＭＲ≦１．７５（ｄ／ｐ）＋０．０７５を満たす、請求項１～１６のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記圧電層を構成しているニオブ酸リチウムまたはタンタル酸リチウムのオイラー角（φ，θ，ψ）が、以下の式（１）、式（２）または式（３）の範囲にある、請求項１～１７のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　（０°±１０°，０°～２０°，任意のψ）　　…式（１）
　（０°±１０°，２０°～８０°，０°～６０°（１－（θ－５０）^２／９００）^１／２）　または　（０°±１０°，２０°～８０°，［１８０°－６０°（１－（θ－５０）^２／９００）^１／２］～１８０°）　　…式（２）
　（０°±１０°，［１８０°－３０°（１－（ψ－９０）^２／８１００）^１／２］～１８０°，任意のψ）　　…式（３）
　前記音響反射部が、空洞部であり、前記支持部材の一部及び前記圧電層の一部が、前記空洞部を挟み互いに対向するように、前記支持部材と前記圧電層とが配置されている、請求項１～１８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記音響反射部が、相対的に音響インピーダンスが高い高音響インピーダンス層と、相対的に音響インピーダンスが低い低音響インピーダンス層と、を含む、音響反射膜であり、前記支持部材の少なくとも一部及び前記圧電層の少なくとも一部が、前記音響反射膜を挟み互いに対向するように、前記支持部材と前記圧電層とが配置されている、請求項１～１８のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　前記圧電層が、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる、請求項１～２０のいずれか１項に記載の弾性波装置。
　少なくとも１つの直列腕共振子及び少なくとも１つの並列腕共振子を有するフィルタ装置であって、
　前記少なくとも１つの直列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第１の弾性波共振子と、
　前記少なくとも１つの並列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第２の弾性波共振子と、
を備え、
　前記第１の弾性波共振子及び前記第２の弾性波共振子がそれぞれ、請求項１～２１のいずれか１項に記載の弾性波装置であり、
　前記第２の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の厚みが、前記第１の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の厚みよりも薄い、フィルタ装置。
　少なくとも１つの直列腕共振子及び少なくとも１つの並列腕共振子を有するフィルタ装置であって、
　前記少なくとも１つの直列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第１の弾性波共振子と、
　前記少なくとも１つの並列腕共振子に含まれる少なくとも１つの第２の弾性波共振子と、
を備え、
　前記第１の弾性波共振子及び前記第２の弾性波共振子がそれぞれ、請求項１～２１のいずれか１項に記載の弾性波装置であり、
　前記第２の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の平面視における面積の平均値が、前記第１の弾性波共振子の前記複数の質量付加膜の平面視における面積の平均値よりも大きい、フィルタ装置。
　少なくとも１つの直列腕共振子及び少なくとも１つの並列腕共振子を含む、複数の弾性波共振子を有するフィルタ装置であって、
　前記直列腕共振子及び前記並列腕共振子のうち少なくとも１つの弾性波共振子が、請求項２１に記載の弾性波装置である、フィルタ装置。
　前記直列腕共振子及び前記並列腕共振子が、少なくとも１つの第３の弾性波共振子と、少なくとも１つの第４の弾性波共振子と、を含み、
　前記第３の弾性波共振子が前記弾性波装置であり、
　前記第４の弾性波共振子が、前記支持部材と、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる前記圧電層と、前記交叉領域及び前記１対のギャップ領域を含む前記ＩＤＴ電極と、を有し、かつ前記質量付加膜を有しない、請求項２４に記載のフィルタ装置。
　少なくとも１つの前記第３の弾性波共振子が、前記並列腕共振子であり、
　全ての前記第４の弾性波共振子が前記直列腕共振子であり、
　前記並列腕共振子である前記第３の弾性波共振子における前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法が、前記第４の弾性波共振子における前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法よりも大きい、請求項２５に記載のフィルタ装置。
　前記直列腕共振子及び前記並列腕共振子が、少なくとも１つの第３の弾性波共振子と、少なくとも１つの第５の弾性波共振子と、を含み、
　前記第３の弾性波共振子が前記弾性波装置であり、
　前記第５の弾性波共振子が、前記支持部材と、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる前記圧電層と、前記交叉領域及び前記１対のギャップ領域を含む前記ＩＤＴ電極と、前記質量付加膜と、を有し、
　前記第５の弾性波共振子において、前記質量付加膜が、前記１対のギャップ領域のうち少なくとも一方のギャップ領域に設けられており、前記交叉領域に設けられておらず、かつ平面視において、前記複数の電極指と、前記電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている、請求項２４～２６のいずれか１項に記載のフィルタ装置。
　少なくとも１つの前記第３の弾性波共振子が、前記並列腕共振子であり、
　少なくとも１つの前記第５の弾性波共振子が、前記直列腕共振子であり、
　前記並列腕共振子である前記第３の弾性波共振子の前記質量付加膜の厚みが、前記直列腕共振子である前記第５の弾性波共振子の前記質量付加膜の厚みよりも厚く、
　前記並列腕共振子である前記第３の弾性波共振子における前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法が、前記直列腕共振子である前記第５の弾性波共振子における前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法以下である、請求項２７に記載のフィルタ装置。
　前記直列腕共振子及び前記並列腕共振子が、少なくとも１つの第３の弾性波共振子と、少なくとも１つの第６の弾性波共振子と、を含み、
　前記第３の弾性波共振子が前記弾性波装置であり、
　前記第６の弾性波共振子が、前記支持部材と、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる前記圧電層と、前記交叉領域及び前記１対のギャップ領域を含む前記ＩＤＴ電極と、前記質量付加膜と、を有し、
　前記第６の弾性波共振子において、前記質量付加膜が、前記１対のエッジ領域のうち少なくとも一方のエッジ領域、及び該エッジ領域と隣接している前記ギャップ領域にわたり設けられており、かつ平面視において、前記複数の電極指と、前記電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられている、請求項２４～２８のいずれか１項に記載のフィルタ装置。
　前記直列腕共振子及び前記並列腕共振子が、少なくとも１つの第５の弾性波共振子を含み、
　前記第５の弾性波共振子が、前記支持部材と、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる前記圧電層と、前記交叉領域及び前記１対のギャップ領域を含む前記ＩＤＴ電極と、前記質量付加膜と、を有し、
　前記第５の弾性波共振子において、前記質量付加膜が、前記１対のギャップ領域のうち少なくとも一方のギャップ領域に設けられており、前記交叉領域に設けられておらず、かつ平面視において、前記複数の電極指と、前記電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられており、
　少なくとも１つの前記第５の弾性波共振子が、前記直列腕共振子であり、
　少なくとも１つの前記第６の弾性波共振子が、前記並列腕共振子であり、
　前記並列腕共振子である前記第６の弾性波共振子の前記質量付加膜の厚みが、前記直列腕共振子である前記第５の弾性波共振子の前記質量付加膜の厚みよりも薄く、
　前記並列腕共振子である前記第６の弾性波共振子における前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法が、前記直列腕共振子である前記第５の弾性波共振子における前記ギャップ領域の前記電極指延伸方向に沿う寸法以上である、請求項２９に記載のフィルタ装置。
　前記直列腕共振子及び前記並列腕共振子が、少なくとも１つの第５の弾性波共振子を含み、
　前記第５の弾性波共振子が、前記支持部材と、回転Ｙカットのニオブ酸リチウムからなる前記圧電層と、前記交叉領域及び前記１対のギャップ領域を含む前記ＩＤＴ電極と、前記質量付加膜と、を有し、
　前記第５の弾性波共振子において、前記質量付加膜が、前記１対のギャップ領域のうち少なくとも一方のギャップ領域に設けられており、前記交叉領域に設けられておらず、かつ平面視において、前記複数の電極指と、前記電極指間の領域とに重なるように、連続的に設けられており、
　前記第５の弾性波共振子及び前記第６の弾性波共振子のうち少なく１つの弾性波共振子の、少なくとも１つの前記質量付加膜が、前記ギャップ領域から、該ギャップ領域に隣接する前記バスバーと平面視において重なる部分に至っている、請求項２９または３０に記載のフィルタ装置。