WO2022210145A1

WO2022210145A1 - 化粧料

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Publication number: WO2022210145A1
Application number: PCT/JP2022/013395
Authority: WO
Inventors: 海仁榮; 志保岩見; 百合香西田; ジャスミンカン
Original assignee: 株式会社資生堂
Priority date: 2021-03-30
Filing date: 2022-03-23
Publication date: 2022-10-06
Also published as: EP4316602A1; US20240148626A1; JP2022154698A

Abstract

［課題］紫外線防御効果、特に光劣化を改善できる化粧料を提供する。［解決手段］ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤、サリチル酸ブチルオクチル、およびアルキレンオキシド誘導体を含んでなる化粧料を用いる。

Description

化粧料

　本発明は、ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤、サリチル酸ブチルオクチル、およびアルキレンオキシド誘導体を含んでなる化粧料に関する。

　紫外線の害から皮膚を守ることはスキンケア、ボディケアにおける重要な課題の一つであり、紫外線が皮膚に与える悪影響を最小限に抑えるために種々のＵＶケア化粧料が開発されている。ＵＶケア化粧料の一種である日焼け止め化粧料（サンスクリーン化粧料）は、紫外線吸収剤や紫外線散乱剤を配合することによりＵＶＡおよびＵＶＢの皮膚への到達を遮り、紫外線の害から皮膚を守る。そのため、夏のプールや海での水浴、冬のスキー等の野外活動における過酷な紫外線条件であっても紫外線防御効果を有するＵＶケア化粧料が依然として望まれている。

　紫外線吸収剤にはいくつか種類があり、例えば、メトキシケイヒ酸エチルヘキシルおよびオクトクリレンがある。メトキシケイヒ酸エチルヘキシルおよびオクトクリレンは、主にＵＶＢ領域に吸収波長を持つ液状の紫外線吸収剤であり、優れた紫外線吸収能や入手容易性から非常に多くの日焼け止め化粧料に使用されている。

　しかしながら、これらの紫外線吸収剤は、敏感肌の使用者には皮膚に刺激を与えることが知られている。また、敏感肌によらず、顔に適用した場合には、皮脂や汗などにより皮膚上を紫外線吸収剤が移動し、目尻等から眼に侵入して、眼にしみるような痛みを与えることが問題となっている。

　従って、メトキシケイヒ酸エチルヘキシルや、オクトクリレンの代わりの紫外線吸収剤を用いて、優れた紫外線吸収効果を有する化粧料の開発が望まれている。

　特許文献１には、紫外線吸収剤と、セバシン酸ジイソプロピルと、エチルヘキシルメトキシクリレンおよびサリチル酸ブチルオクチルから選択される少なくとも１種の油剤とを含有する日焼け止め組成物が開示されているが、アルキレンオキシド誘導体を含む化粧料については何ら開示されておらず、光安定性に乏しい紫外線吸収剤を配合した場合に、光照射によって、その紫外線防御能が低下するという欠点（以下、「光劣化」ともいう）を改善できることについても何ら記載されていない。

特開２０１６－１１２９０号公報

　本発明者らは、驚くべきことに、ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤、サリチル酸ブチルオクチル、およびアルキレンオキシド誘導体を含んでなる化粧料を用いることにより、紫外線防御効果、特に光劣化を改善できる、化粧料が得られることを見出した。本発明はこれらの知見に基づくものである。

　従って、本発明は、（Ａ）ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤、（Ｂ）サリチル酸ブチルオクチル、および（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体を含んでなる化粧料を開示する。

　本発明によれば、以下の発明が提供される。
（１）（Ａ）ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤、
（Ｂ）サリチル酸ブチルオクチル、および
（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体
を含んでなる、化粧料。
（２）前記（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体が下記式（Ｉ）で表される化合物である、（１）に記載の化粧料：

（式中、
　ＡＯは炭素数３～４のオキシアルキレン基、ＥＯはオキシエチレン基、ｐおよびｑはそれぞれ炭素数３～４のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、１≦ｐ≦７０および１≦ｑ≦７０であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、２０～８０質量％であり、
　オキシアルキレン基とオキシエチレン基とがブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよく、
　Ｒ^１およびＲ^２は同一もしくは異なっていてもよい炭素数１～４の炭化水素基または水素原子であり、Ｒ^１およびＲ^２の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が０．１５以下である）。
（３）前記（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体において、オキシアルキレン基とオキシエチレン基とがランダム状に付加しているものである、（２）に記載の化粧料。
（４）化粧料中のメトキシケイヒ酸エチルヘキシルの配合量が、化粧料の全量に対して、２質量％以下である、（１）～（３）のいずれかに記載の化粧料。
（５）化粧料中のオクトクリレンの配合量が、化粧料の全量に対して、２質量％以下である、（１）～（４）のいずれかに記載の化粧料。
（６）油性化粧料である、（１）～（５）のいずれかに記載の化粧料。
（７）油中水型乳化化粧料である、（１）～（６）のいずれかに記載の化粧料。
（８）日焼け止め化粧料である、（１）～（７）のいずれかに記載の化粧料。

　本発明の化粧料を用いることにより、紫外線防御効果、特に光劣化を改善できる、化粧料を得ることができる点で有利である。

発明の具体的説明

　本発明は、
（Ａ）ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤、
（Ｂ）サリチル酸ブチルオクチル、および
（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体
を含んでなる、化粧料である。

（Ａ）紫外線吸収剤
　本発明の化粧料には（Ａ）ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤が含まれる。本発明の化粧料に含まれる紫外線吸収剤には、ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンの他に日焼け止め化粧料に通常用いられるものを使用することができる。

　ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンの他に使用可能な紫外線吸収剤としては、特に限定されるものではないが、一般に化粧料に用いられる紫外線吸収剤を広く挙げることができる。具体例としては、安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ケイヒ酸誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β－ジフェニルアクリレート誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンジリデンショウノウ誘導体、フェニルベンゾイミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、フェニルベンゾトリアゾール誘導体、アントラニル誘導体、イミダゾリン誘導体、ベンザルマロナート誘導体、４，４－ジアリールブタジエン誘導体等が挙げられる。

　安息香酸誘導体としては、パラ－アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）エチル、エチル－ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、エチルヘキシル－ジメチルＰＡＢＡ、グリセリルＰＡＢＡ、ＰＥＧ－２５－ＰＡＢＡ、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル等が挙げられる。

　サリチル酸誘導体としては、ホモサレート、エチルヘキシルサリチレート（サリチル酸エチルヘキシル）、ジプロピレングリコールサリチレート、ＴＥＡサリチラート等が挙げられる。

　ケイヒ酸誘導体としては、オクチルメトキシシンナメート、メトキシケイヒ酸イソプロピル、メトキシケイヒ酸イソアミル、シンノキセート、ＤＥＡメトキシシンナメート、メチルケイヒ酸ジイソプロピル、グリセリル－エチルヘキサノエート－ジメトキシシンナメート、ジ－（２－エチルヘキシル）－４’－メトキシベンザルマロネート等が挙げられる。

　ジベンゾイルメタン誘導体としては、５－（３，３－ジメチル－２－ノルボルニリデン）－３－ペンタン－２－オン等が挙げられる。

　β，β－ジフェニルアクリレート誘導体としては、エトクリレン等が挙げられる。

　ベンゾフェノン誘導体としては、ベンゾフェノン－１、ベンゾフェノン－２、ベンゾフェノン－３またはオキシベンゾン、ベンゾフェノン－４、ベンゾフェノン－５、ベンゾフェノン－６、ベンゾフェノン－８、ベンゾフェノン－９、ベンゾフェノン－１２等が挙げられる。

　ベンジリデンショウノウ誘導体としては、３－ベンジリデンショウノウ、４－メチルベンジリデンショウノウ、ベンジリデンショウノウスルホン酸、メト硫酸ショウノウベンザルコニウム、テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ等が挙げられる。

　フェニルベンゾイミダゾール誘導体としては、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム等が挙げられる。

　トリアジン誘導体としては、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、２，４，６－トリス（ジイソブチル－４’－アミノベンザルマロナート）－ｓ－トリアジン、２，４，６－トリス［４－（２－エチルヘキシルオキシカルボニル）アニリノ］－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。

　フェニルベンゾトリアゾール誘導体としては、ドロメトリゾールトリシロキサン、メチレンビス（ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール）等が挙げられる。

　アントラニル誘導体としては、アントラニル酸メンチル等が挙げられる。

　イミダゾリン誘導体としては、エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート等が挙げられる。

　ベンザルマロナート誘導体としては、ベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。

　４，４－ジアリールブタジエン誘導体としては、１，１－ジカルボキシ（２，２’－ジメチルプロピル）－４，４－ジフェニルブタジエン等が挙げられる。

　本発明に係る化粧料に配合される（Ａ）紫外線吸収剤の配合量は、特に限定されるものではないが、化粧料全量に対して、５～４０質量％、より好ましくは６～４０質量％、さらにより好ましくは７～３０質量％である。前記（Ａ）紫外線吸収剤は一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。

　本発明に係る化粧料に配合される（Ａ）紫外線吸収剤中のｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンの配合量は、特に限定されるものではないが、化粧料全量に対して、０．５～５質量％、より好ましくは０．５～４質量％、さらにより好ましくは１～２．５質量％である。

　本発明の化粧料の好ましい態様によれば、本発明の化粧料中のメトキシケイヒ酸エチルヘキシルの配合量が、化粧料の全量に対して、２質量％以下であり、より好ましくは１質量％以下であり、さらに好ましくは０．５質量％以下である。また、本発明の化粧料は、メトキシケイヒ酸エチルヘキシルを含まないか、もしくは実質的に含まない態様も包含する。

　本発明の化粧料の好ましい態様によれば、本発明の化粧料中のオクトクリレンの配合量が、化粧料の全量に対して、２質量％以下であり、より好ましくは１質量％以下であり、さらに好ましくは０．５質量％以下である。また、本発明の化粧料は、オクトクリレンを含まないか、もしくは実質的に含まない態様も包含する。

　本発明の化粧料の好ましい態様によれば、本発明の化粧料中のメトキシケイヒ酸エチルヘキシルおよびオクトクリレンの合計配合量が、化粧料の全量に対して、３質量％以下であり、より好ましくは２質量％以下であり、さらに好ましくは１質量％以下である。

（Ｂ）サリチル酸ブチルオクチル
　本発明の化粧料には（Ｂ）サリチル酸ブチルオクチルが含まれる。本発明の化粧料に用いられるサリチル酸ブチルオクチルは、ＨＡＬＬＢＲＩＴＥ　ＢＨＢ（商品名：ＨａｌｌＳｔａｒ製）等の市販品を利用することができる。

　本発明の化粧料に含まれる（Ｂ）サリチル酸ブチルオクチルの配合量は、特に限定されるものではないが、好ましくは、化粧料の全量に対して、１～１０質量％であり、より好ましくは、化粧料の全量に対して、２～８質量％である。本発明の化粧料に含まれるサリチル酸ブチルオクチルの配合量を、化粧料の全量に対して、２～８質量％とすることにより、紫外線防御効果、特に光劣化を更に改善することができる。

（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体
　本発明の化粧料には（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体が含まれる。本発明の化粧料に含まれる（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体は、特に限定されるものではないが、好ましくは下記式（Ｉ）で表される化合物である。

（式中、
　ＡＯは炭素数３～４のオキシアルキレン基、ＥＯはオキシエチレン基、ｐおよびｑはそれぞれ炭素数３～４のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、１≦ｐ≦７０、１≦ｑ≦７０であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、２０～８０質量％であり、
　オキシアルキレン基とオキシエチレン基とがブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよく、
　Ｒ^１およびＲ^２は同一もしくは異なっていてもよい炭素数１～４の炭化水素基または水素原子であり、Ｒ^１およびＲ^２の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が０．１５以下である）。

　上記式（Ｉ）で表される化合物において、ＡＯは炭素数３～４のオキシアルキレン基であり、例えば、オキシプロピレン基、オキシブチレン基、オキシイソブチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基などが挙げられ、好ましくは、オキシプロピレン基またはオキシブチレン基が挙げられる。ｐは炭素数３～４のオキシアルキレン基の平均付加モル数であり、１≦ｐ≦７０、好ましくは２≦ｐ≦２０である。ｑはオキシエチレン基の平均付加モル数であり、１≦ｑ≦７０、好ましくは２≦ｑ≦２０である。また、（ｐ＋ｑ）として、好ましくは８～１００である。

　また、上記式（Ｉ）で表される化合物において、炭素数３～４のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は、２０～８０質量％であることが好ましい。エチレンオキシドおよび炭素数３～４のアルキレンオキシドの付加する順序は特に限定されるものではない。また、オキシエチレン基と炭素数３～４のオキシアルキレン基とはブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよいが、好ましくはランダム状に付加しているものである。ここで、ブロック状とは、２段ブロックのみならず、３段ブロックも含まれる。

　Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ同種のものを用いても、炭素原子数１～４の炭化水素基と水素原子とが混在しても、異種の炭素原子数１～４の炭化水素基が混在してもよい。但し、Ｒ^１およびＲ^２の炭化水素基のうち、炭化水素基と水素原子の存在割合は、炭化水素基の数（Ｘ）に対する水素原子の数（Ｙ）の割合Ｙ／Ｘが０.１５以下であり、好ましくは０.０６以下である。

　具体的なアルキレンオキシド誘導体としては、例えば、ポリオキシエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（９モル）ポリオキシプロピレン（２モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（１４モル）ポリオキシプロピレン（７モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（６モル）ポリオキシプロピレン（１４モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（１５モル）ポリオキシプロピレン（５モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（２５モル）ポリオキシプロピレン（２５モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（９モル）ポリオキシブチレン（２モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（１４モル）ポリオキシブチレン（７モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジエチルエーテル、ポリオキシエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジプロピルエーテル、ポリオキシエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジブチルエーテル、ポリオキシエチレン（３６モル）ポリオキシプロピレン（４１モル）ジメチルエーテル等が挙げられ、これらの中でも、ポリオキシエチレン（９モル）ポリオキシプロピレン（２モル）ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン（１４モル）ポリオキシプロピレン（７モル）ジメチルエーテル、またはポリオキシエチレン（３６モル）ポリオキシプロピレン（４１モル）ジメチルエーテルが好ましく、ポリオキシエチレン（９モル）ポリオキシプロピレン（２モル）ジメチルエーテルが特に好ましい。

　本発明のアルキレンオキシド誘導体は公知の方法で製造することができる。例えば、水酸基を有している化合物にエチレンオキシドおよび炭素数３～４のアルキレンオキシドを付加重合した後、ハロゲン化アルキルをアルカリ触媒の存在下にエーテル反応させることによって得ることができる。

　本発明の化粧料に含まれる（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体の配合量は、特に限定されるものではないが、好ましくは、化粧料の全量に対して、１～１５質量％であり、より好ましくは、化粧料の全量に対して、８～１２質量％である。アルキレンオキシド誘導体の配合量を、化粧料の全量に対して、１～１５質量％とすることにより、紫外線防御効果、特に光劣化を更に改善することができる。

（Ｄ）エステル油
　本発明の化粧料には、（Ｄ）エステル油が含まれることが光劣化の改善の観点から好ましい。本発明において、（Ｄ）エステル油は、サリチル酸ブチルオクチルおよび紫外線吸収剤以外のエステル油を意味する。本発明の化粧料に含まれる（Ｄ）エステル油は、特に限定されるものではないが、例えば、コハク酸ジエチルヘキシル、安息香酸アルキル（Ｃ１２～１５）、安息香酸フェネチル、セバシン酸ジイソプロピル、２－エチルヘキサン酸セチル、トリ－２エチルヘキサン酸グリセリル、アジピン酸ジブチル、パルミチン酸－２－エチルヘキシル、パルミチン酸イソプロピル、ミリスチン酸イソプロピル、ステアリン酸イソプロピル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン酸－２－エチルヘキシル、イソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸ブチル、イソステアリン酸デシル、イソステアリン酸ラウリル、イソデカン酸イソデシル、イソノナン酸イソデシル、イソノナン酸イソトリデシル、イソノナン酸イソノニル、ジオクタン酸ネオペンチルグリコ－ル、トリ－２－エチルヘキサン酸グリセリル、ジカプリン酸プロピレングリコ－ル、ジカプリン酸プロピレングリコ－ル、トリ（カプリル・カプリン）酸グリセリン、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、テトラ－２－エチルヘキサン酸ペンタエリスリット、ジペンタエリスリット脂肪酸エステルが挙げられ、これらの中でも、コハク酸ジエチルヘキシル、安息香酸アルキル（Ｃ１２～１５）、またはセバシン酸ジエチルヘキシルを含むことが好ましく、コハク酸ジエチルヘキシルおよび安息香酸アルキル（Ｃ１２～１５）を組み合わせを含むことがより好ましい。

　本発明の化粧料に含まれる（Ｄ）エステル油の配合量は、特に限定されるものではないが、好ましくは、化粧料の全量に対して、５～３０質量％であり、より好ましくは、化粧料の全量に対して、５～２５質量％である。
　本発明の化粧料に含まれる（Ｄ）エステル油がコハク酸ジエチルヘキシルおよび／または安息香酸アルキル（Ｃ１２～１５）を含む場合に、コハク酸ジエチルヘキシルおよび／または安息香酸アルキル（Ｃ１２～１５）の配合量（両方含む場合はそれぞれの配合量の和）が、化粧料の全量に対して、５～１０質量％とすることが好ましい。これにより、紫外線防御効果、特に光劣化を更に改善することができる。

　本発明の化粧料には、上記成分以外に、他の任意成分として、例えば、無機粉末、有機粉末、水溶性高分子、油溶性高分子、ロウ類、アルコール類、炭化水素油、脂肪酸、高級アルコール、脂肪酸エステル、シリコーン油、界面活性剤、薬剤等が含まれてもよい。

　本発明の化粧料に含まれていてもよい無機粉末は、化粧料の分野で用いられている粉体であれば特に限定されない。具体例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、硫酸バリウム、酸化鉄、タルク、マイカ、セリサイト、カオリン、雲母チタン、紺青、酸化クロム、水酸化クロム、シリカ等から選択される１種または２種以上が挙げられる。

　紫外線散乱剤としては、特に、１．５以上の屈折率を有する粉体、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムを用いるのが光学的特性から好ましい。

　紫外線散乱剤は、表面疎水化処理することにより、油中への分散性や耐水性が向上することから、表面疎水化処理された紫外線散乱剤が好ましく含まれてもよい。表面処理の方法としては、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルポリシロキサン等のシリコーン処理；アルキルシラン処理；パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルコール等によるフッ素処理；Ｎ－アシルグルタミン酸等によるアミノ酸処理；その他、レシチン処理；金属石鹸処理；脂肪酸処理；アルキルリン酸エステル処理等が挙げられる。

　本発明の化粧料に含まれていてもよい紫外線散乱剤は、特に限定されないが、通常は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下のものが好ましく、より好ましくは８０ｎｍ以下である。平均一次粒子径が１００ｎｍを大きく超える場合は白浮きや白残りの原因となる傾向がみられる。なお、本発明における平均一次粒子径とは、例えば、透過電子顕微鏡写真から、粒子の長軸と短軸の相加平均として求められる値である。

　紫外線散乱剤の粒子形状は特に限定されるものでなく、一次粒子の状態であっても、凝集した二次集合体を形成したものでもよい。また球状、楕円形状、破砕状等の形状の別も特に限定されるものでない。

　本発明の化粧料に含まれていてもよい水溶性高分子としては、２－アクリルアミド－２－メチルプロパンスルホン酸（以下、「ＡＭＰＳ」と略記する）のホモポリマー、あるいはコポリマーが挙げられる。コポリマーは、ビニルピロリドン、アクリル酸アミド、アクリル酸ナトリウム、アクリル酸ヒドロキシエチル等のコモノマーとからなるコポリマーである。すなわち、ＡＭＰＳホモポリマー、ビニルピロリドン／ＡＭＰＳ共重合体、ジメチルアクリルアミド／ＡＭＰＳ共重合体、アクリル酸アミド／ＡＭＰＳ共重合体、アクリル酸ナトリウム／ＡＭＰＳ共重合体等が例示される。

　さらには、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウム、アクリル酸ナトリウム／アクリル酸アルキル／メタクリル酸ナトリウム／メタクリル酸アルキル共重合体、カラギーナン、ペクチン、マンナン、カードラン、コンドロイチン硫酸、デンプン、グリコーゲン、アラビアガム、ヒアルロン酸ナトリウム、トラガントガム、キサンタンガム、ムコイチン硫酸、ヒドロキシエチルグアガム、カルボキシメチルグアガム、グアガム、デキストラン、ケラト硫酸、ローカストビーンガム、サクシノグルカン、キチン、キトサン、カルボキシメチルキチン、寒天等が例示される。

　油溶性高分子としては、トリメチルシロキシケイ酸、アルキル変性シリコーン、ポリアミド変性シリコーン、ジメチコンクロスポリマー、（ジメチコン／ビニルジメチコン）クロスポリマー、ポリメチルシルセスキオキサン等が例示される。

　ロウ類としては、例えば、ミツロウ、カンデリラロウ、カルナウバロウ、ホホバロウ等が例示される。

　アルコール類としては、エタノール、イソプロパノールなどの低級アルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３－ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリブチレングリコールなどの多価アルコール等が例示される。

　炭化水素油としては、流動パラフィン、オゾケライト、スクワラン、プリスタン、パラフィン、セレシン、スクワレン、ワセリン、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス、フィッシャートロプッシュワックス等が例示される。

　脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、アラキドン酸等が例示される。

　高級アルコールとしては、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、アラキルアルコール、バチルアルコール、キミルアルコール、カルナービルアルコール、セリルアルコール、コリヤニルアルコール、ミリシルアルコール、ラクセリルアルコール、エライジルアルコール、イソステアリルグリセリルエーテル、オクチルアルコール、トリアコンチルアルコール、セラキルアルコール、セトステアリルアルコール、オレイルアルコール、ラノリンアルコール、水添ラノリンアルコール、イソステアリルアルコール、ヘキシルデカノール、オクチルデカノール等が例示される。

　シリコーン油としては、メチルポリシロキサン、オクタメチルシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等を例示することができる。好ましくは、オクタメチルシクロテトラシロキサンおよびデカメチルシクロペンタシロキサン等が例示される。

　界面活性剤は、アニオン性、カチオン性、ノニオン性、または両性の界面活性剤が挙げられ、シリコーン系または炭化水素系の界面活性剤が含まれる。

　紫外線散乱剤以外の粉末成分としては、ナイロンやアクリル系のポリマー球状粉末、シリカ粉末、シリコーン粉末、金属を含まない表面処理剤で表面処理された金属酸化物粉末等が例示される。

　薬剤としては、Ｌ－アスコルビン酸およびその誘導体の塩、グリチルリチン酸ジカリウム、グリチルリチン酸モノアンモニウム等のグリチルリチン酸およびその誘導体、グリチルレチン酸ステアリルなどのグリチルレチン酸およびその誘導体、アラントイン、トラネキサム酸およびその誘導体の塩、アルコキシサリチル酸およびその誘導体の塩、グルタチオンおよびその誘導体の塩、アラントイン、アズレンなどが例示される。

　本発明の化粧料の一つの好ましい態様によれば、油性化粧料である。ここで、油性化粧料とは油相一相の系（無水）または油中水型の化粧料を意味するものである。

　本発明の化粧料のより好ましい態様によれば、油中水型乳化化粧料である。

　本発明の化粧料の別の好ましい態様によれば、日焼け止め化粧料であり、当該日焼け止め化粧料は、油性化粧料であっても、油中水型乳化化粧料であってもよい。具体的な剤型としては、日焼け止め乳液、日焼け止めクリームといった剤型であり、各剤型に適した常法を用いて製造することができる。

　以下の例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。配合量は特記しない限り、質量％で示す。

　下記表１および２に示す組成を有する化粧料（実施例１～６および比較例１～６）を常法により調製して、残存率（％）を下記の方法に基づき算出した。また、算出した残存率（％）については表１および２に記載した。

（１）残存率の算出
　各化粧料（実施例１～６および比較例１～６）について、以下の方法で日焼け止め化粧料の光安定性（紫外線吸収能の安定性）を評価した。各試料について、ＰＭＭＡ基板にサンプルを塗布し、５００－２８０ｎｍの吸光度を測定した。その基板にＳＰＦ測定装置「ＳＰＦ　ＭＡＳＴＥＲ」（登録商標）（資生堂）でＵＶを紅斑ＵＶ光度１６ＭＥＤ（Minimal Erythema dose）（最小紅斑量）／分／ｃｍ^２の紫外線量を照射した後、同様に吸光度を測定し、照射前後の前記波長領域における吸光度積算値の変化（光照射後の紫外線吸収能の残存率）（in vitro）を次式に従って算出した。
光照射後の残存率（％）＝（光照射後の吸光度積算値）／（光照射前の吸光度積算値）×１００

　また、残存率を下記の評価基準に基づき、「Ａ」～「Ｄ」の評価を下記表１および２に付した。
＜評価基準＞
Ａ：残存率が９０％以上である
Ｂ：残存率が８５％以上９０％未満である
Ｃ：残存率が８０％以上８５％未満である
Ｄ：残存率が８０％未満である

※表中の数値は質量％を表す。

※表中の数値は質量％を表す。

　表１および２の結果から、本発明の範囲に含まれる化粧料（実施例１～６）は、残存率の評価結果が「Ａ」または「Ｂ」であり、高い残存率を示した。一方、本発明の範囲には含まれない化粧料（比較例１～６）は、残存率の評価結果が「Ｃ」または「Ｄ」であり、低い残存率を示した。したがって、本発明の化粧料は、紫外線防御効果、特に光劣化を改善できることが分かった。

処方例１：サンスクリーン
　本発明の化粧料の範囲に含まれるサンスクリーンの例を下記に処方例１として示す。

Claims

（Ａ）ｔ－ブチルメトキシジベンゾイルメタンを含んでなる紫外線吸収剤、
（Ｂ）サリチル酸ブチルオクチル、および
（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体
を含んでなる、化粧料。
　前記（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体が下記式（Ｉ）で表される化合物である、請求項１に記載の化粧料：

（式中、
　ＡＯは炭素数３～４のオキシアルキレン基、ＥＯはオキシエチレン基、ｐおよびｑはそれぞれ炭素数３～４のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、１≦ｐ≦７０および１≦ｑ≦７０であり、オキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合が、２０～８０質量％であり、
　オキシアルキレン基とオキシエチレン基とがブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよく、
　Ｒ^１およびＲ^２は同一もしくは異なっていてもよい炭素数１～４の炭化水素基または水素原子であり、Ｒ^１およびＲ^２の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が０．１５以下である）。
　前記（Ｃ）アルキレンオキシド誘導体において、オキシアルキレン基とオキシエチレン基とがランダム状に付加しているものである、請求項２に記載の化粧料。
　化粧料中のメトキシケイヒ酸エチルヘキシルの配合量が、化粧料の全量に対して、２質量％以下である、請求項１～３のいずれか一項に記載の化粧料。
　化粧料中のオクトクリレンの配合量が、化粧料の全量に対して、２質量％以下である、請求項１～４のいずれか一項に記載の化粧料。
　油性化粧料である、請求項１～５のいずれか一項に記載の化粧料。
　油中水型乳化化粧料である、請求項１～６のいずれか一項に記載の化粧料。
　日焼け止め化粧料である、請求項１～７のいずれか一項に記載の化粧料。