WO2022181073A1 - Acoustic wave module - Google Patents

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幸一郎 川崎
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株式会社村田製作所
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    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/25Constructional features of resonators using surface acoustic waves

Abstract

An acoustic wave module (100) comprises an acoustic wave device (110), a mounting substrate (50), a sealing resin (80), and solder bumps (70a, 70b). The acoustic wave device (110) comprises a piezoelectric substrate (10), a function element (60), a support portion (20), a cover portion (30), wiring patterns (62a, 62b), cover wires (69a, 69b), and through electrodes (64a, 64b). The piezoelectric substrate (10), the support portion (20), and the cover portion (30) form a hollow space (Ar). A surface (S1) of the piezoelectric substrate (10) is exposed from the sealing resin (80). The solder bumps (70a, 70b) are formed at positions that do not overlap the through electrodes (64a, 64b) when the acoustic wave device (100) is seen in plan view.

Description

弾性波モジュールAcoustic wave module
 本発明は、弾性波装置を搭載した弾性波モジュールに関し、より特定的には、基板への実装時における熱応力の影響を低減可能な弾性波モジュールのパッケージ構造に関する。 The present invention relates to an acoustic wave module equipped with an acoustic wave device, and more particularly to a package structure of an acoustic wave module capable of reducing the effects of thermal stress when mounted on a substrate.
 携帯電話あるいはスマートフォンなどの電子機器において、弾性表面波(SAW:Surface Acoustic Wave)あるいはバルク波(BAW:Bulk Acoustic Wave)共振子を用いた弾性波装置を搭載した弾性波モジュールが使用されている。近年、電子機器の小型化、薄型化が進められており、それに伴って弾性波装置自体についても小型化、低背化が望まれている。これを実現するために、たとえば国際公開第2015/159465号(特許文献1)に示されるように、弾性波装置のチップそのものをパッケージとして利用するWLP(Wafer Level Package)構造が提案されている。 In electronic devices such as mobile phones and smartphones, elastic wave modules equipped with elastic wave devices using surface acoustic wave (SAW) or bulk acoustic wave (BAW) resonators are used. 2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have become smaller and thinner, and along with this trend, acoustic wave devices themselves are also desired to be smaller and thinner. In order to achieve this, a WLP (Wafer Level Package) structure has been proposed in which the chip itself of the acoustic wave device itself is used as a package, as disclosed in International Publication No. 2015/159465 (Patent Document 1), for example.
 一般的なWLP構造を有する弾性波装置では、圧電性基板と、圧電性基板表面の周囲に配置された支持部と、支持部上に設けられたカバー部とで形成される中空空間において、圧電性基板上に複数の機能素子が配置された構成を有している。弾性表面波(SAW)装置の場合には、機能素子として櫛歯状電極(IDT:Inter Digital Transducer)が配置される。 In an acoustic wave device having a general WLP structure, a piezoelectric element is generated in a hollow space formed by a piezoelectric substrate, a support portion arranged around the surface of the piezoelectric substrate, and a cover portion provided on the support portion. It has a configuration in which a plurality of functional elements are arranged on a flexible substrate. In the case of a surface acoustic wave (SAW) device, a comb-like electrode (IDT: Inter Digital Transducer) is arranged as a functional element.
 特開2004-208326号公報(特許文献2)には、弾性表面波素子が熱硬化性樹脂組成物により封止された構成を有する弾性波装置について開示されている。また、特許文献2では、弾性表面波素子に熱硬化性樹脂組成物を被覆後、弾性表面波素子に含まれる圧電性基板の主面が露出するまで、熱硬化性樹脂組成物を研削する。これにより、弾性波装置自体の低背化を図ることができる。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-208326 (Patent Document 2) discloses an acoustic wave device having a structure in which a surface acoustic wave element is sealed with a thermosetting resin composition. In Patent Document 2, after the surface acoustic wave element is coated with the thermosetting resin composition, the thermosetting resin composition is ground until the main surface of the piezoelectric substrate included in the surface acoustic wave element is exposed. As a result, it is possible to reduce the height of the elastic wave device itself.
国際公開第2015/159465号WO2015/159465 特開2004-208326号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-208326
 このようなWLP構造を有する弾性波装置を搭載した弾性波モジュールでは、はんだにより弾性波装置と実装基板とを電気的に接続する手法(リフロー)が採用される場合がある。この場合、はんだが溶融(無応力化)する温度まで弾性波装置および実装基板を高温で加熱し、その後常温まで冷却してはんだが固化することで、はんだボールにより弾性波装置および実装基板の導電体が互いに電気的に接続される。 A method (reflow) of electrically connecting the acoustic wave device and the mounting board by soldering may be adopted in the acoustic wave module equipped with the acoustic wave device having such a WLP structure. In this case, the elastic wave device and the mounting board are heated to a temperature at which the solder melts (unstressed), and then cooled to room temperature to solidify the solder. The bodies are electrically connected to each other.
 実装基板を高温で加熱する工程において、熱硬化性樹脂組成物は膨張し、融解状態となったはんだを圧迫する。その後、常温まで冷却する工程において、はんだは、圧迫された状態の形状を保ったまま固化することとなる。このように、加熱の前後において、熱硬化性樹脂組成物が収縮する際に、はんだの形状が異なることにより、圧電性基板に対して応力(以下、「熱応力」とも称する。)が発生する。 In the process of heating the mounting board at a high temperature, the thermosetting resin composition expands and presses the melted solder. After that, in the process of cooling down to room temperature, the solder solidifies while maintaining the shape of the compressed state. As described above, when the thermosetting resin composition shrinks before and after heating, stress (hereinafter also referred to as "thermal stress") is generated in the piezoelectric substrate due to the difference in the shape of the solder. .
 熱硬化性樹脂組成物が研削されず、圧電性基板が熱硬化性樹脂組成物により固定される場合、圧電性基板の機械的強度が向上するため、当該熱応力が生じても圧電性基板は、破損しない場合がある。しかしながら、特許文献2が示すように、低背化を実現するために、熱硬化性樹脂組成物が研削され、圧電性基板の主面が露出する場合、圧電性基板は熱硬化性樹脂組成物により固定されることがない。すなわち、はんだの形状が変形することによる熱応力の発生により、圧電性基板は破損し易くなる。 When the thermosetting resin composition is not ground and the piezoelectric substrate is fixed by the thermosetting resin composition, the mechanical strength of the piezoelectric substrate is improved. , may not be damaged. However, as disclosed in Patent Document 2, when the thermosetting resin composition is ground to expose the main surface of the piezoelectric substrate in order to achieve a low profile, the piezoelectric substrate is made of the thermosetting resin composition. is not fixed by That is, the piezoelectric substrate is likely to break due to thermal stress caused by deformation of the solder.
 本発明は、このような課題を解決するためになされたものであって、その目的は、WLP構造を有する弾性波装置が搭載された弾性波モジュールにおいて、実装工程で生じる熱応力を低減することである。 The present invention has been made to solve such problems, and its object is to reduce the thermal stress generated in the mounting process in an acoustic wave module in which an acoustic wave device having a WLP structure is mounted. is.
 本発明に係る弾性波装置を備える弾性波モジュールは、弾性波装置が実装される実装基板と、弾性波装置の少なくとも一部を被覆し、実装基板上に配置される封止樹脂と、弾性波装置と実装基板とを電気的に接続するはんだバンプとを備える。弾性波装置は、圧電性基板と、圧電性基板上に形成される複数の機能素子と、圧電性基板上において、複数の機能素子が形成された領域の周囲に配置された支持部と、支持部を介して圧電性基板と対向配置されるカバー部と、圧電性基板上に形成され、複数の機能素子の一部と電気的に接続された配線パターンと、カバー部上に形成された第1導電部と、配線パターンと第1導電部との間には、配線パターンと第1導電部とを電気的に接続する第2導電部とを備える。圧電性基板、支持部およびカバー部によって中空空間Arが形成され、中空空間Ar内に複数の機能素子が配置される。圧電性基板が有する第1面は、封止樹脂から露出する。はんだバンプは、弾性波装置を平面視した場合に第2導電部と重ならない位置に形成される。 An elastic wave module including an elastic wave device according to the present invention comprises a mounting substrate on which the elastic wave device is mounted, a sealing resin that covers at least a part of the elastic wave device and is arranged on the mounting substrate, and an elastic wave Solder bumps are provided for electrically connecting the device and the mounting substrate. An acoustic wave device includes a piezoelectric substrate, a plurality of functional elements formed on the piezoelectric substrate, a support portion arranged on the piezoelectric substrate around a region in which the plurality of functional elements are formed, and a support member. a cover portion arranged to face the piezoelectric substrate via a portion; a wiring pattern formed on the piezoelectric substrate and electrically connected to a part of the plurality of functional elements; A first conductive portion and a second conductive portion electrically connecting the wiring pattern and the first conductive portion are provided between the wiring pattern and the first conductive portion. A hollow space Ar is formed by the piezoelectric substrate, the supporting portion, and the cover portion, and a plurality of functional elements are arranged in the hollow space Ar. A first surface of the piezoelectric substrate is exposed from the sealing resin. The solder bump is formed at a position that does not overlap the second conductive portion when the elastic wave device is viewed from above.
 本発明によれば、WLP構造を有する弾性波装置において、弾性波装置を平面視したときに、実装基板との接続に用いられるはんだバンプが、配線パターンと第1導電部とを電気的に接続する第2導電部と重ならない位置に形成される。これにより、実装工程で生じる熱応力を低減することが可能となる。 According to the present invention, in the acoustic wave device having the WLP structure, when the acoustic wave device is viewed from above, the solder bumps used for connection with the mounting substrate electrically connect the wiring pattern and the first conductive portion. It is formed at a position not overlapping with the second conductive portion. This makes it possible to reduce the thermal stress generated in the mounting process.
実施の形態1に従う弾性波装置を搭載した弾性波モジュールの断面図である。1 is a cross-sectional view of an elastic wave module equipped with an elastic wave device according to Embodiment 1; FIG. 比較例の弾性波装置を搭載した弾性波モジュールの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of an elastic wave module equipped with an elastic wave device of a comparative example; 図2の比較例の弾性波モジュールにおいて、冷却過程で生じる熱応力を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining thermal stress generated in the cooling process in the elastic wave module of the comparative example in FIG. 2; 変形例2における圧電性基板と支持部との接触部を拡大した図である。FIG. 11 is an enlarged view of a contact portion between a piezoelectric substrate and a support portion in Modification 2; 弾性波装置のZY面およびXY面の断面図である。It is sectional drawing of the ZY plane and XY plane of an elastic wave apparatus. 図5に示す弾性波装置の比較例である。It is a comparative example of the elastic wave device shown in FIG. 貫通電極の配置に関する変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification regarding arrangement|positioning of a penetration electrode.
 以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The same or corresponding parts in the drawings are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.
 [実施の形態1]
 図1は、実施の形態1に従う弾性波装置110を搭載した弾性波モジュール100の断面図である。なお、本実施の形態における弾性波装置110は、機能素子としてIDT電極を含む弾性表面波装置を例として説明するが、弾性波装置はバルク波を用いるものであってもよい。
[Embodiment 1]
FIG. 1 is a cross-sectional view of elastic wave module 100 equipped with elastic wave device 110 according to the first embodiment. Acoustic wave device 110 in the present embodiment will be described as an example of a surface acoustic wave device including an IDT electrode as a functional element, but the acoustic wave device may use bulk waves.
 以降の説明においては、実装基板50の厚さ方向をZ軸方向とし、Z軸方向に垂直な面をX軸およびY軸で規定する。また、各図におけるZ軸の正方向を上面側、負方向を下面側と称する場合がある。 In the following description, the thickness direction of the mounting board 50 is defined as the Z-axis direction, and the plane perpendicular to the Z-axis direction is defined as the X-axis and the Y-axis. In addition, the positive direction of the Z-axis in each drawing may be referred to as the upper surface side, and the negative direction thereof as the lower surface side.
 図1を参照して、弾性波装置110は、圧電性基板10と、蓋体40と、機能素子60と、配線パターン62a,62bと、貫通電極64a,64bと、カバー上配線69a,69bとを備える。蓋体40は、支持部20とカバー部30とを備える。実装基板50は、接続端子52a,52bを備える。弾性波装置110と実装基板50とは、はんだバンプ70a,70bを介して、互いに接続される。実装基板50上には、封止樹脂80が充填されている。 Referring to FIG. 1, elastic wave device 110 includes piezoelectric substrate 10, lid 40, functional element 60, wiring patterns 62a and 62b, through electrodes 64a and 64b, and wirings 69a and 69b on the cover. Prepare. The lid body 40 includes a support portion 20 and a cover portion 30 . The mounting substrate 50 includes connection terminals 52a and 52b. Acoustic wave device 110 and mounting substrate 50 are connected to each other via solder bumps 70a and 70b. A sealing resin 80 is filled on the mounting substrate 50 .
 圧電性基板10は、たとえば、タンタル酸リチウム(LiTaO3)やニオブ酸リチウム(LiNbO3)などの圧電材料からなる圧電基板である。もしくは、アルミナ、シリコン(Si)、およびサファイアからなる支持基板に、上述の圧電材料からなる圧電薄膜を積層した積層基板であってもよい。さらに、圧電薄膜と支持基板の間に、酸化ケイ素や窒化ケイ素などからなる1層以上の絶縁膜を挟んだ積層基板であってもよい。一方で、実装基板50は、フェノールあるいはエポキシ等の樹脂により形成される。 The piezoelectric substrate 10 is, for example, a piezoelectric substrate made of a piezoelectric material such as lithium tantalate (LiTaO3) or lithium niobate (LiNbO3). Alternatively, it may be a laminated substrate in which a piezoelectric thin film made of the above piezoelectric material is laminated on a support substrate made of alumina, silicon (Si), and sapphire. Furthermore, a laminated substrate in which one or more layers of insulating films made of silicon oxide, silicon nitride, or the like are interposed between the piezoelectric thin film and the support substrate may be used. On the other hand, the mounting board 50 is made of resin such as phenol or epoxy.
 圧電性基板10のZ軸の負方向側の主面には、少なくとも1つの機能素子60が配置されている。機能素子60として、たとえばアルミニウム、銅、銀、金、チタン、タングステン、白金、クロム、ニッケル、モリブデンの少なくとも一種からなる単体金属、またはこれらを主成分とする合金などの電極材を用いて形成された一対のIDT電極が含まれる。圧電性基板10とIDT電極とによって弾性表面波共振子が形成される。導電性を有する配線パターン62a,62b,貫通電極64a,64b,カバー上配線69a,69bは、たとえば、銅あるいはアルミなどの金属で形成される。 At least one functional element 60 is arranged on the main surface of the piezoelectric substrate 10 on the negative direction side of the Z axis. Functional element 60 is formed using, for example, an electrode material such as a single metal made of at least one of aluminum, copper, silver, gold, titanium, tungsten, platinum, chromium, nickel, and molybdenum, or an alloy containing these as main components. Also included is a pair of IDT electrodes. A surface acoustic wave resonator is formed by the piezoelectric substrate 10 and the IDT electrodes. The conductive wiring patterns 62a, 62b, the through electrodes 64a, 64b, and the wirings 69a, 69b on the cover are made of metal such as copper or aluminum.
 圧電性基板10において、機能素子60が形成された領域の周囲には、樹脂製の支持部20が設けられている。この支持部20を介して、圧電性基板10の機能素子60が配置されている主面にカバー部30を対向配置することによって、IDT電極を含む複数の機能素子60の周囲に中空空間Arが形成される。これにより圧電性基板10の中空空間Arに隣接する部分において、弾性表面波が伝搬するようになっている。カバー部30のZ軸の負方向側の主面には、カバー上配線69a,69bが形成されている。カバー上配線69aは、はんだバンプ70aと貫通電極64aとを電気的に結合させる。また、カバー上配線69bは、はんだバンプ70bと貫通電極64bとを電気的に結合させる。 In the piezoelectric substrate 10, a support portion 20 made of resin is provided around the region where the functional element 60 is formed. A hollow space Ar is formed around the plurality of functional elements 60 including the IDT electrodes by arranging the cover 30 so as to face the main surface of the piezoelectric substrate 10 on which the functional elements 60 are arranged via the support 20 . It is formed. As a result, the surface acoustic wave propagates in the portion of the piezoelectric substrate 10 adjacent to the hollow space Ar. On- cover wirings 69a and 69b are formed on the main surface of the cover portion 30 on the negative direction side of the Z-axis. The cover wiring 69a electrically couples the solder bump 70a and the through electrode 64a. In addition, the on-cover wiring 69b electrically couples the solder bump 70b and the through electrode 64b.
 圧電性基板10のZ軸の負方向側の主面には、機能素子60間を電気的に接続するための配線パターン62a,62bが配置されている。この配線パターン62aは、支持部20およびカバー部30を貫通する貫通電極(ビア)64aを介してカバー上配線69aと電気的に接続される。また、配線パターン62bは、支持部20およびカバー部30を貫通する貫通電極(ビア)64bを介してカバー上配線69bと電気的に接続される。カバー上配線69aは、貫通電極64aとの接続部分から弾性波装置110のY軸の正方向に延伸し、はんだバンプ70aに接続される。また、カバー上配線69bは、貫通電極64bとの接続部分から弾性波装置110のY軸の負方向に延伸し、はんだバンプ70bに接続される。はんだバンプ70a,70bは、実装基板50上の接続端子52a,52bに電気的にそれぞれ接続される。 Wiring patterns 62a and 62b for electrically connecting the functional elements 60 are arranged on the main surface of the piezoelectric substrate 10 on the negative direction side of the Z axis. The wiring pattern 62a is electrically connected to the on-cover wiring 69a via a through electrode (via) 64a penetrating through the supporting portion 20 and the cover portion 30. As shown in FIG. In addition, the wiring pattern 62b is electrically connected to the on-cover wiring 69b via a through electrode (via) 64b penetrating through the supporting portion 20 and the cover portion 30. As shown in FIG. The wiring 69a on the cover extends in the positive direction of the Y-axis of the elastic wave device 110 from the connection portion with the through electrode 64a and is connected to the solder bump 70a. In addition, the wiring 69b on the cover extends in the negative direction of the Y-axis of the acoustic wave device 110 from the connection portion with the through electrode 64b and is connected to the solder bump 70b. Solder bumps 70a and 70b are electrically connected to connection terminals 52a and 52b on mounting substrate 50, respectively.
 実施の形態1における弾性波モジュール100を形成する工程において、弾性波装置110が実装基板50に実装された後、実装基板50上に、弾性波装置110の周囲を覆うように封止樹脂80が充填される。これにより、弾性波モジュール100の機械的強度が向上する。また、実施の形態1における弾性波モジュール100では、弾性波モジュール100を低背化するために、弾性波装置110よりもZ軸の正方向側に充填された封止樹脂80を研削する。これにより、圧電性基板10の有する面S1が露出する。すなわち、封止樹脂80は、図1に示すように、面S1以外の弾性波装置110が有する面を被覆する状態となる。なお、面S1は、本開示の「第1面」に対応する。また、本実施の形態において、支持部20とカバー部30とが別体として設けられているが、一体として設けられていてもよい。 In the process of forming elastic wave module 100 in Embodiment 1, after elastic wave device 110 is mounted on mounting substrate 50 , sealing resin 80 is applied on mounting substrate 50 so as to cover the periphery of elastic wave device 110 . be filled. Thereby, the mechanical strength of the elastic wave module 100 is improved. Further, in the elastic wave module 100 according to the first embodiment, the sealing resin 80 filled on the positive direction side of the Z-axis with respect to the elastic wave device 110 is ground in order to reduce the height of the elastic wave module 100 . As a result, the surface S1 of the piezoelectric substrate 10 is exposed. That is, as shown in FIG. 1, the sealing resin 80 is in a state of covering surfaces of the elastic wave device 110 other than the surface S1. Note that the surface S1 corresponds to the "first surface" of the present disclosure. Moreover, in the present embodiment, the support portion 20 and the cover portion 30 are provided as separate members, but they may be provided as an integrated unit.
 ここで、実施の形態1における弾性波モジュール100においては、はんだバンプ70aは、弾性波装置110を平面視した場合に、貫通電極64aと重ならない位置に形成されている。同様に、はんだバンプ70bは、弾性波装置110を平面視した場合に、貫通電極64bと重ならない位置に形成されている。なお、実施の形態1において、カバー上配線69a,69bは本開示における「第1導電部」に対応し、貫通電極64a,64bは本開示における「第2導電部」に対応する。また、弾性波モジュール100は、実装基板50上に、弾性波装置110に加えて、他の弾性波装置または弾性波装置以外の装置(チップ部品や半導体装置など)をさらに実装し、それらを封止してもよい。 Here, in the elastic wave module 100 according to Embodiment 1, the solder bumps 70a are formed at positions that do not overlap the through electrodes 64a when the elastic wave device 110 is viewed from above. Similarly, the solder bumps 70b are formed at positions that do not overlap the through electrodes 64b when the acoustic wave device 110 is viewed from above. In the first embodiment, the wirings 69a and 69b on the cover correspond to the "first conductive portion" in the present disclosure, and the through electrodes 64a and 64b correspond to the "second conductive portion" in the present disclosure. Further, in the elastic wave module 100, in addition to the elastic wave device 110, other elastic wave devices or devices other than the elastic wave device (chip components, semiconductor devices, etc.) are further mounted on the mounting substrate 50 and sealed. You can stop.
 図2は、比較例の弾性波装置110#を搭載した弾性波モジュール100#の断面図である。図2の比較例の弾性波装置110#においては、図1の弾性波装置110と比較して、カバー部30上にカバー上配線69a,69bが設けられておらず、支持部20およびカバー部30内の貫通電極64a,64bとはんだバンプ70a,70bとが直接接続されている点が異なっている。その結果、はんだバンプ70a,70bは、弾性波装置110を平面視した場合に、貫通電極64a,64bとそれぞれ重なる位置に形成されている。 FIG. 2 is a cross-sectional view of an elastic wave module 100# equipped with an elastic wave device 110# of a comparative example. In elastic wave device 110# of the comparative example in FIG. 2, unlike elastic wave device 110 in FIG. The difference is that through electrodes 64a and 64b in 30 are directly connected to solder bumps 70a and 70b. As a result, the solder bumps 70a and 70b are formed at positions overlapping the through electrodes 64a and 64b, respectively, when the elastic wave device 110 is viewed from above.
 図1および図2に示される弾性波装置110,110#を実装基板50に実装するリフロー工程では、はんだバンプ70a,70bに示されるペースト状のはんだを塗布し、次に実装すべき弾性波装置を所定位置に載せて、その状態で高温の炉内で加熱する。これによって、はんだが溶融し、その後常温まで冷却することにより弾性波装置と実装基板50とが電気的に接続される。なお、ペースト状のはんだに代えて、粉末状のはんだを含んだフラックスを弾性波装置と実装基板50との間に挟んだ状態で加熱する場合もある。 In the reflow process for mounting the acoustic wave devices 110 and 110# shown in FIGS. 1 and 2 on the mounting board 50, the paste-like solder shown on the solder bumps 70a and 70b is applied, and then the acoustic wave device to be mounted is applied. is placed on a predetermined position and heated in a high-temperature furnace in that state. As a result, the solder is melted and then cooled to room temperature, whereby the elastic wave device and the mounting substrate 50 are electrically connected. Instead of paste solder, flux containing powder solder may be sandwiched between the acoustic wave device and the mounting board 50 and heated.
 上述の通り、弾性波装置では、低背化を実現するために、充填された封止樹脂80はZ軸の正方向側が研削され、圧電性基板10が有する面S1が露出している。すなわち、圧電性基板10は、Z軸の正方向側において固定されていない状態である。 As described above, in order to reduce the height of the elastic wave device, the filled sealing resin 80 is ground on the positive side of the Z axis, and the surface S1 of the piezoelectric substrate 10 is exposed. That is, the piezoelectric substrate 10 is not fixed on the positive direction side of the Z-axis.
 図3は、図2の比較例の弾性波モジュール100#において、冷却過程で生じる熱応力を説明するための図である。図3を参照して、左図(A)は加熱過程における状態を示した図であり、右図(B)は冷却過程における状態を示した図である。左図(A)に示すように、加熱する工程において、封止樹脂80は膨張し、はんだバンプ70aを圧迫する。その結果、圧迫されたはんだバンプ70aは、右図(B)に示されるようにZ軸方向に延伸するように変形する。 FIG. 3 is a diagram for explaining the thermal stress generated during the cooling process in elastic wave module 100# of the comparative example in FIG. With reference to FIG. 3, the left diagram (A) shows the state during the heating process, and the right diagram (B) shows the state during the cooling process. As shown in left figure (A), in the heating process, the sealing resin 80 expands and presses the solder bumps 70a. As a result, the compressed solder bumps 70a are deformed so as to extend in the Z-axis direction as shown in the right figure (B).
 常温まで冷却される工程において、はんだバンプ70aは、右図(B)に示される圧迫された状態のまま固化する。冷却において封止樹脂80が収縮する過程において、固化したはんだバンプ70aは、Z軸の正方向側に配置される貫通電極64aおよび配線パターン62aをZ軸の正方向に押し上げる。これにより、配線パターン62aと圧電性基板10との接続部分において応力集中が発生し、圧電性基板10における破損が発生する原因となる場合がある。 In the process of cooling to room temperature, the solder bumps 70a are solidified while being pressed as shown in the right figure (B). In the process of shrinking the sealing resin 80 during cooling, the solidified solder bumps 70a push up the through electrodes 64a and the wiring patterns 62a arranged on the positive side of the Z axis in the positive direction of the Z axis. As a result, stress concentration occurs at the connecting portion between the wiring pattern 62a and the piezoelectric substrate 10, which may cause damage to the piezoelectric substrate 10. FIG.
 一方、図1に示した実施の形態1における弾性波装置110においては、はんだバンプ70a,70bが貫通電極64a,64bにそれぞれ直接接続されるのではなく、カバー上配線69a,69bを介してそれぞれ接続されている。カバー上配線69a,69bは、カバー部30の主面に沿う方向(図中のY軸方向)に延伸して長さを有するため、はんだバンプ70a,70bからZ軸の正方向に押し上げられても、貫通電極64a,64bおよび配線パターン62a,62bをZ軸の正方向側に押し上げることはない。 On the other hand, in the elastic wave device 110 according to the first embodiment shown in FIG. 1, the solder bumps 70a and 70b are not directly connected to the through electrodes 64a and 64b, respectively, but through the wirings 69a and 69b on the cover. It is connected. Since the wirings 69a and 69b on the cover extend in the direction along the main surface of the cover portion 30 (the Y-axis direction in the drawing) and have a length, they are pushed up from the solder bumps 70a and 70b in the positive direction of the Z-axis. However, the through electrodes 64a and 64b and the wiring patterns 62a and 62b are not pushed up in the positive direction of the Z axis.
 すなわち、実施の形態1においては、弾性波装置110を平面視した場合に、はんだバンプ70a,70bが貫通電極64a,64bとそれぞれ重なる位置に形成されていないため、はんだバンプ70a,70bがZ軸の正方向側に延伸するように変形しても、貫通電極64a,64bは、はんだバンプ70a,70bの変形によって影響を直接的に受けない。したがって、実施の形態1のような構成とすることによって、配線パターン62a,62bと圧電性基板10との間の応力集中を低減することができる。 That is, in the first embodiment, when the acoustic wave device 110 is viewed from above, the solder bumps 70a and 70b are not formed at positions overlapping the through electrodes 64a and 64b, respectively. , the through electrodes 64a and 64b are not directly affected by the deformation of the solder bumps 70a and 70b. Therefore, the stress concentration between the wiring patterns 62a and 62b and the piezoelectric substrate 10 can be reduced by adopting the configuration of the first embodiment.
 また、はんだバンプ70a,70bが弾性波装置110を平面視した場合に、中空空間Arと重なる位置に形成されることにより、中空空間Arと重ならない位置に形成されることと比較して、はんだバンプ70aとはんだバンプ70bとの間の距離が短くなり、弾性波装置110の幅(図中のY軸方向の寸法)を小さくすることができる。これにより、圧電性基板10上において、設計の自由度が増加するとともに、装置の小型化にも寄与する。 In addition, when the elastic wave device 110 is viewed from above, the solder bumps 70a and 70b are formed at positions overlapping with the hollow space Ar. The distance between the bumps 70a and the solder bumps 70b is shortened, and the width of the acoustic wave device 110 (dimension in the Y-axis direction in the drawing) can be reduced. This increases the degree of design freedom on the piezoelectric substrate 10 and contributes to miniaturization of the device.
 (変形例1)
 実施の形態1の図1~図3において、弾性波装置110を平面視した場合に、はんだバンプ70a,70bおよび貫通電極64a,64bとの位置関係について説明した。図4は、変形例1における圧電性基板10と支持部20との接触部を拡大した図である。
(Modification 1)
1 to 3 of Embodiment 1, the positional relationship between the solder bumps 70a and 70b and the through electrodes 64a and 64b when the acoustic wave device 110 is viewed from above has been described. FIG. 4 is an enlarged view of the contact portion between the piezoelectric substrate 10 and the support portion 20 in Modification 1. As shown in FIG.
 図4に示される実施の形態1の変形例1の弾性波モジュール100Bは、配線パターン62aと圧電性基板10との間に配置される樹脂層31をさらに備える。樹脂層31の硬度は、配線パターン62aの硬度よりも小さい。すなわち、樹脂層31の材質は、配線パターン62aの材質よりも柔らかい。 The elastic wave module 100B of Modification 1 of Embodiment 1 shown in FIG. 4 further includes a resin layer 31 arranged between the wiring pattern 62a and the piezoelectric substrate 10. The hardness of the resin layer 31 is smaller than that of the wiring pattern 62a. That is, the material of the resin layer 31 is softer than the material of the wiring pattern 62a.
 そのため、Z軸の正方向側に押し上げられるように配線パターン62aに対して熱応力が発生したとしても、樹脂層31はZ軸の正方向側に押し上げられる力を吸収する。すなわち、樹脂層31は、配線パターン62aと圧電性基板10との間においてクッションとしての役割を果たす。樹脂層31は、配線パターン62bと圧電性基板10との間においても配置されてもよい。 Therefore, even if thermal stress is generated in the wiring pattern 62a so as to push it up in the positive direction of the Z axis, the resin layer 31 absorbs the force pushed up in the positive direction of the Z axis. That is, the resin layer 31 functions as a cushion between the wiring pattern 62a and the piezoelectric substrate 10. As shown in FIG. The resin layer 31 may be arranged between the wiring pattern 62b and the piezoelectric substrate 10 as well.
 変形例1のような構成とすることにより、配線パターン62a,62bと圧電性基板10との間の応力集中を低減することができる。 By adopting a configuration like Modification 1, stress concentration between the wiring patterns 62a and 62b and the piezoelectric substrate 10 can be reduced.
 (貫通電極の配置)
 図1~図4においては、はんだバンプ70a,70bが弾性波装置110を平面視した場合に貫通電極64a,64bとそれぞれ重ならない構成について説明した。以下では、貫通電極の配置について説明する。
(Arrangement of Through Silicon Via)
1 to 4, the configuration in which the solder bumps 70a and 70b do not overlap the through electrodes 64a and 64b when the acoustic wave device 110 is viewed from above has been described. The arrangement of the through electrodes will be described below.
 図5は、弾性波装置110のZY面およびXY面の断面図である。図5(A)は、弾性波装置110のZY面における断面図であり、図5(B)は、図5(A)の線II-IIにおけるXY面の断面図である。 FIG. 5 is a cross-sectional view of the ZY plane and the XY plane of the elastic wave device 110. FIG. 5A is a cross-sectional view of the elastic wave device 110 along the ZY plane, and FIG. 5B is a cross-sectional view along the line II-II of FIG. 5A along the XY plane.
 図5(B)を参照して、支持部20は、弾性波装置110を平面視した場合に、矩形枠形状を有する。すなわち、支持部20は、矩形枠形状の長辺を形成する領域20La,20Lbと、矩形枠形状の短辺を形成する領域20Sa,20Sbとを含む。図1にて説明した中空空間Arを形成するために支持部20の内側に空間が形成される。そのため、図5(B)に示すように線II-IIのXY平面における支持部20の形状は、枠形状となる。 With reference to FIG. 5(B), the support portion 20 has a rectangular frame shape when the elastic wave device 110 is viewed from above. That is, the support portion 20 includes regions 20La and 20Lb forming long sides of the rectangular frame shape and regions 20Sa and 20Sb forming short sides of the rectangular frame shape. A space is formed inside the support portion 20 to form the hollow space Ar described in FIG. Therefore, as shown in FIG. 5B, the shape of the support portion 20 on the XY plane along the line II-II is a frame shape.
 図5(B)に示されるように、弾性波装置110は複数の貫通電極64a~64dと、複数のはんだバンプ70a~70dとを備える。支持部20において、領域20Laには、貫通電極64a,64cが配置され、領域20Lbには、貫通電極64b,64dが配置される。貫通電極64a~64cは、カバー上配線69a~69dを介してはんだバンプ70a~70dとそれぞれ接続する。図6は、図5に示す弾性波装置110の比較例である。比較例の弾性波装置では、支持部20において、領域20Saに、貫通電極64a,64bが配置される。また、領域20Sbには、貫通電極64c,64dが配置される。 As shown in FIG. 5(B), the acoustic wave device 110 includes a plurality of through electrodes 64a-64d and a plurality of solder bumps 70a-70d. In the support portion 20, through electrodes 64a and 64c are arranged in the region 20La, and through electrodes 64b and 64d are arranged in the region 20Lb. The through electrodes 64a-64c are connected to the solder bumps 70a-70d through the wirings 69a-69d on the cover, respectively. FIG. 6 is a comparative example of the elastic wave device 110 shown in FIG. In the elastic wave device of the comparative example, through electrodes 64a and 64b are arranged in the region 20Sa of the supporting portion 20. As shown in FIG. Through electrodes 64c and 64d are arranged in the region 20Sb.
 上述の通り、弾性波モジュールは、リフロー工程において加熱処理および冷却処理がされる。加熱処理および冷却処理において、封止樹脂80のみならず実装基板50および圧電性基板10においても、膨張と収縮が発生する。図3の例では、はんだバンプ70aの変形によるZ軸方向における熱応力について説明したが、実装基板50および圧電性基板10が膨張および収縮することにより、弾性波モジュール100ではY軸方向における熱応力も発生する。 As mentioned above, the acoustic wave module undergoes heat treatment and cooling treatment in the reflow process. In the heat treatment and cooling treatment, expansion and contraction occur not only in the sealing resin 80 but also in the mounting substrate 50 and the piezoelectric substrate 10 . In the example of FIG. 3, the thermal stress in the Z-axis direction due to the deformation of the solder bumps 70a has been described. also occurs.
 Y軸方向における熱応力は、たとえば、実装基板50の収縮により、はんだバンプ70a~70dが内側に引っ張られることにより発生する。上述の通り、圧電性基板10の材質は、実装基板50の材質と異なる材質であるため、温度変化における圧電性基板10の線膨張係数と実装基板50の線膨張係数とは異なる。そのため、実装基板50の線膨張係数が圧電性基板10の線膨張係数よりも大きい場合、冷却処理において圧電性基板10よりも実装基板50の方が収縮する度合いが大きくなる。 The thermal stress in the Y-axis direction is generated, for example, by the shrinkage of the mounting substrate 50, which pulls the solder bumps 70a to 70d inward. As described above, since the material of the piezoelectric substrate 10 is different from the material of the mounting substrate 50, the coefficient of linear expansion of the piezoelectric substrate 10 and the coefficient of linear expansion of the mounting substrate 50 are different from each other under temperature change. Therefore, when the linear expansion coefficient of the mounting substrate 50 is larger than that of the piezoelectric substrate 10, the degree of contraction of the mounting substrate 50 is greater than that of the piezoelectric substrate 10 during the cooling process.
 この場合、図5(A)を参照してはんだバンプ70aは、実装基板50の収縮により、Y軸の正方向側に引っ張られる。また、はんだバンプ70bは、実装基板50の収縮により、Y軸の負方向側に引っ張られる。すなわち、弾性波装置110では、弾性波装置110が内側に向かって引っ張られる熱応力が発生する。 In this case, referring to FIG. 5(A), the shrinkage of the mounting substrate 50 causes the solder bumps 70a to be pulled in the positive direction of the Y axis. Also, the solder bumps 70b are pulled in the negative direction of the Y-axis due to the shrinkage of the mounting substrate 50 . That is, in the elastic wave device 110, thermal stress is generated that pulls the elastic wave device 110 inward.
 図5(B)に参照されるように、XY平面における弾性波装置110の形状は、長辺と短辺を含む矩形である。一般的に、実装基板50の収縮は等方性を有することから、短辺方向(Y方向)に対する収縮の度合いよりも長辺方向(X方向)に対する収縮の度合いの方が大きくなる。 As shown in FIG. 5(B), the shape of the elastic wave device 110 on the XY plane is a rectangle including long sides and short sides. Generally, since the shrinkage of the mounting board 50 is isotropic, the degree of shrinkage in the long side direction (X direction) is greater than the degree of shrinkage in the short side direction (Y direction).
 そのため、本実施の形態における弾性波モジュール100では、貫通電極64a,64cが、長辺を形成する領域20Laと重なる位置に形成される。また、貫通電極64b,64dが長辺を形成する領域20Lbと重なる位置に形成される。このように、図5の例では、支持部20において、複数の貫通電極64a~64dと対となるはんだバンプ70a~70dがY軸方向に並ぶようにして配置される。これにより、領域20Sa,20Sbに貫通電極が形成されて、複数の貫通電極64a~64dと対となるはんだバンプ70a~70dがX軸方向に並ぶようにして配置される場合(図6の比較例)と比較して、弾性波モジュール100の機械的強度が向上する。 Therefore, in the elastic wave module 100 of the present embodiment, the through electrodes 64a and 64c are formed at positions overlapping the regions 20La forming the long sides. Further, the through electrodes 64b and 64d are formed at positions overlapping with the regions 20Lb forming the long sides. In this manner, in the example of FIG. 5, in the supporting portion 20, the solder bumps 70a to 70d paired with the plurality of through electrodes 64a to 64d are arranged in the Y-axis direction. As a result, the through electrodes are formed in the regions 20Sa and 20Sb, and the solder bumps 70a to 70d paired with the plurality of through electrodes 64a to 64d are arranged in the X-axis direction (comparative example in FIG. 6). ), the mechanical strength of the acoustic wave module 100 is improved.
 図7は、貫通電極の配置に関する変形例を示す図である。図1~図5では、貫通電極64a~64hが支持部20に形成される例について説明した。図7に示されるように、貫通電極64a~64hは、支持部20の内部ではなく中空空間Arに形成されてもよい。すなわち、貫通電極64a~64hは、弾性波装置110を平面視した場合に中空空間Arと重なる領域に支持部20に被覆されることなく剥き出しの状態となるように形成される。貫通電極64a~64hは、弾性波装置110を平面視した場合にカバー部30と重ならない位置に形成されてもよい。すなわち、貫通電極64a~64hは、支持部20の外側に形成されてもよい。 FIG. 7 is a diagram showing a modification regarding the arrangement of through electrodes. 1 to 5, an example in which the through electrodes 64a to 64h are formed in the support portion 20 has been described. As shown in FIG. 7, the through electrodes 64a to 64h may be formed in the hollow space Ar instead of inside the support portion 20. As shown in FIG. That is, the through electrodes 64a to 64h are formed so as to be exposed without being covered with the support portion 20 in the region overlapping the hollow space Ar when the elastic wave device 110 is viewed from above. The through electrodes 64a to 64h may be formed at positions that do not overlap the cover portion 30 when the elastic wave device 110 is viewed from above. That is, the through electrodes 64a to 64h may be formed outside the support portion 20. FIG.
 今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The embodiments disclosed this time should be considered illustrative in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the scope of the claims rather than the above description, and is intended to include all changes within the meaning and scope equivalent to the scope of the claims.
 10 圧電性基板、20 支持部、20La,20Lb,20Sa,20Sb 領域、30 カバー部、31 樹脂層、50 実装基板、52a,52b 接続端子、62a,62b 配線パターン、60 機能素子、64a~64h 貫通電極、69a,69b カバー上配線、70a~70h はんだバンプ、80 封止樹脂、100 弾性波モジュール、110,110A,110B 弾性波装置、S1 面、Ar 中空空間。 10 Piezoelectric substrate, 20 Support portion, 20 La, 20 Lb, 20 Sa, 20 Sb Regions, 30 Cover portion, 31 Resin layer, 50 Mounting substrate, 52 a, 52 b Connection terminals, 62 a, 62 b Wiring patterns, 60 Functional elements, 64 a to 64 h Penetration Electrodes, 69a, 69b: Wiring on the cover, 70a to 70h: Solder bumps, 80: Sealing resin, 100: Elastic wave module, 110, 110A, 110B: Elastic wave device, S1: Surface, Ar: Hollow space.

Claims (6)

  1.  弾性波装置を備える弾性波モジュールであって、前記弾性波モジュールは、
     前記弾性波装置が実装される実装基板と、
     前記弾性波装置の少なくとも一部を被覆し、前記実装基板上に配置される封止樹脂と、
     前記弾性波装置と前記実装基板とを電気的に接続するはんだバンプとを備え、
     前記弾性波装置は、
      第1面を有する圧電性基板と、
      前記圧電性基板上に形成される複数の機能素子と、
      前記圧電性基板上において、前記複数の機能素子が形成された領域の周囲に配置された支持部と、
      前記支持部を介して前記圧電性基板と対向配置されるカバー部と、を備える蓋体と、
      前記圧電性基板上に形成され、前記複数の機能素子の一部と電気的に接続された配線パターンと、
      前記カバー部上に形成され、前記はんだバンプと接続された第1導電部と、
      前記配線パターンと前記第1導電部との間には、前記配線パターンと前記第1導電部とを電気的に接続する第2導電部とを備え、
      前記圧電性基板、前記支持部および前記カバー部によって中空空間が形成され、前記中空空間内に前記複数の機能素子が配置され、
     前記第1面は、前記封止樹脂から露出し、
     前記はんだバンプは、前記弾性波装置を平面視した場合に前記第2導電部と重ならない位置に形成される、弾性波モジュール。
    An elastic wave module comprising an elastic wave device, the elastic wave module comprising:
    a mounting substrate on which the elastic wave device is mounted;
    a sealing resin covering at least a portion of the acoustic wave device and arranged on the mounting substrate;
    a solder bump for electrically connecting the acoustic wave device and the mounting board;
    The elastic wave device is
    a piezoelectric substrate having a first surface;
    a plurality of functional elements formed on the piezoelectric substrate;
    a support portion disposed around the region in which the plurality of functional elements are formed on the piezoelectric substrate;
    a lid body including a cover portion arranged to face the piezoelectric substrate via the support portion;
    a wiring pattern formed on the piezoelectric substrate and electrically connected to a part of the plurality of functional elements;
    a first conductive portion formed on the cover portion and connected to the solder bump;
    a second conductive portion electrically connecting the wiring pattern and the first conductive portion between the wiring pattern and the first conductive portion;
    A hollow space is formed by the piezoelectric substrate, the support portion, and the cover portion, and the plurality of functional elements are arranged in the hollow space,
    The first surface is exposed from the sealing resin,
    The elastic wave module, wherein the solder bump is formed at a position not overlapping the second conductive portion when the elastic wave device is viewed from above.
  2.  前記複数の機能素子には、IDT(Inter Digital Transducer)電極が含まれており、前記圧電性基板と前記IDT電極により弾性表面波共振子が形成される、請求項1に記載の弾性波モジュール。 The elastic wave module according to claim 1, wherein the plurality of functional elements include IDT (Inter Digital Transducer) electrodes, and the piezoelectric substrate and the IDT electrodes form a surface acoustic wave resonator.
  3.  前記はんだバンプは、前記弾性波装置を平面視した場合に前記中空空間と重なる領域に形成される、請求項1または請求項2に記載の弾性波モジュール。 The elastic wave module according to claim 1 or 2, wherein the solder bumps are formed in a region overlapping with the hollow space when the elastic wave device is viewed from above.
  4.  前記弾性波装置は、前記配線パターンと前記圧電性基板との間に配置される樹脂層をさらに備える、請求項1~3のいずれか1項に記載の弾性波モジュール。 The elastic wave module according to any one of claims 1 to 3, wherein the elastic wave device further comprises a resin layer arranged between the wiring pattern and the piezoelectric substrate.
  5.  前記支持部は、前記弾性波装置を平面視した場合に、長辺を形成する第1領域と短辺を形成する第2領域とを含む矩形枠形状を有し、
     前記はんだバンプは、前記第1導電部を介して前記第2導電部と接続され、
     前記第2導電部は、前記弾性波装置を平面視した場合に前記第1領域と重なる位置に形成される、請求項1~4のいずれか1項に記載の弾性波モジュール。
    The support portion has a rectangular frame shape including a first region forming long sides and a second region forming short sides when the acoustic wave device is viewed from above,
    the solder bump is connected to the second conductive portion through the first conductive portion;
    The elastic wave module according to any one of claims 1 to 4, wherein the second conductive portion is formed at a position overlapping with the first region when the elastic wave device is viewed from above.
  6.  前記第2導電部は、前記弾性波装置を平面視した場合に前記中空空間と重なる領域に形成される、請求項1~4のいずれか1項に記載の弾性波モジュール。 The elastic wave module according to any one of claims 1 to 4, wherein the second conductive portion is formed in a region overlapping with the hollow space when the elastic wave device is viewed from above.
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012182604A (en) * 2011-03-01 2012-09-20 Panasonic Corp Elastic wave filter component
WO2014013831A1 (en) * 2012-07-19 2014-01-23 株式会社村田製作所 Module and module manufacturing method
JP2015156626A (en) * 2014-01-16 2015-08-27 京セラ株式会社 Acoustic wave element, demultiplexer, and communication device
JP2016123020A (en) * 2014-12-25 2016-07-07 京セラ株式会社 Acoustic wave element and communication device
WO2018143045A1 (en) * 2017-02-03 2018-08-09 株式会社村田製作所 Surface acoustic wave device
WO2019044309A1 (en) * 2017-08-31 2019-03-07 株式会社村田製作所 Elastic wave device and elastic wave module equipped with same
WO2020130051A1 (en) * 2018-12-20 2020-06-25 株式会社村田製作所 Elastic wave element and elastic wave device
WO2021010164A1 (en) * 2019-07-16 2021-01-21 株式会社村田製作所 Electronic component and method for manufacture of electronic component

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012182604A (en) * 2011-03-01 2012-09-20 Panasonic Corp Elastic wave filter component
WO2014013831A1 (en) * 2012-07-19 2014-01-23 株式会社村田製作所 Module and module manufacturing method
JP2015156626A (en) * 2014-01-16 2015-08-27 京セラ株式会社 Acoustic wave element, demultiplexer, and communication device
JP2016123020A (en) * 2014-12-25 2016-07-07 京セラ株式会社 Acoustic wave element and communication device
WO2018143045A1 (en) * 2017-02-03 2018-08-09 株式会社村田製作所 Surface acoustic wave device
WO2019044309A1 (en) * 2017-08-31 2019-03-07 株式会社村田製作所 Elastic wave device and elastic wave module equipped with same
WO2020130051A1 (en) * 2018-12-20 2020-06-25 株式会社村田製作所 Elastic wave element and elastic wave device
WO2021010164A1 (en) * 2019-07-16 2021-01-21 株式会社村田製作所 Electronic component and method for manufacture of electronic component

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