WO2022055232A1 - 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법 - Google Patents

곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법 Download PDF

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WO2022055232A1
WO2022055232A1 PCT/KR2021/012170 KR2021012170W WO2022055232A1 WO 2022055232 A1 WO2022055232 A1 WO 2022055232A1 KR 2021012170 W KR2021012170 W KR 2021012170W WO 2022055232 A1 WO2022055232 A1 WO 2022055232A1
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film
curved reflector
shielding
tungsten
thin film
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최치원
김정환
조성동
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주식회사 피앤씨솔루션
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Definitions

  • the present invention relates to an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film, and more particularly, to an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film using an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector.
  • radiation can be largely divided into ionizing radiation and non-ionizing radiation.
  • radiation means ionizing radiation.
  • Ionizing radiation includes alpha rays, beta rays, protons, neutrons, gamma rays, and x-rays, and can directly or indirectly ionize matter.
  • Non-ionizing radiation generally refers to radiation with low energy that cannot form ions or has a very low probability of forming ions when passing through a material, and includes infrared rays, visible rays, and ultraviolet rays.
  • gamma rays and x-rays are high-energy electromagnetic waves and have very strong penetrating power. These gamma rays or x-rays can be blocked through a metal material having a high density such as concrete or tungsten, iron, or lead, but when a metal material is used, there is a problem in that the weight or volume of the shielding body increases due to their high density.
  • Gamma rays or x-rays can change the main structure of DNA or proteins by acting directly on atoms or molecules, and when acting on the germ cells of living things, they can induce mutations and increase the probability of causing malformations. It can cause diseases such as cancer.
  • thermal neutrons radiate the surrounding material and pollute the surrounding environment with radioactivity. Therefore, in the field where radiation is utilized, a radiation shield that shields radiation harmful to the human body and the environment must be installed.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating a manufacturing process of a conventional radiation shielding sheet
  • FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of powder particles in the internal structure of a conventional radiation shielding sheet
  • FIG. 3 is a conventional radiation shielding sheet. It is a diagram showing the configuration of different powder particles in the internal structure of the sheet.
  • the conventional method of manufacturing a radiation shielding sheet includes forming a radiation shield into powder, mixing the radiation shield with a binder after the powder process, and molding the mixed material into a sheet shape after the mixing process. made by the process At this time, the conventional radiation shielding sheet is generally manufactured by blending with synthetic rubber or resin, etc., and as shown in FIGS.
  • the present invention has been proposed to solve the above problems of the previously proposed methods, and a curved reflector on which a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned and disposed, and a front surface of the film disposed on the curved reflector
  • a shielding material spraying part for dispersing tungsten nanopowder to the (front)
  • an adhesive resin spraying part for dispersing an adhesive material resin for safe fixation of the film together with the shielding material spraying part
  • the structure of the curved reflector and air Air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector to ensure reproducibility of shielding performance according to the manufacturing process with a new shielding material dispersion technology in which particles of tungsten nanopowder dispersed in the flow are evenly dispersed
  • An object of the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of
  • the present invention minimizes the problem of particle scattering by using the existing dispersion method on a flat surface, and by allowing the tungsten powder particles to be dispersed on the film by riding the air flow, the distribution of tungsten powder particles is evenly
  • Another object of the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, which increases the amount of tungsten particle filling and improves the shielding performance.
  • the present invention can effectively shield radiation without using lead, which is harmful to the human body, by manufacturing a thin film shielding film using tungsten powder particles, and convenience of use and
  • Another object of the present invention is to provide an apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector, so that the efficiency can be further improved.
  • a curved reflector on which a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned;
  • a shielding material spraying unit for dispersing tungsten nanopowders to the front of the film disposed on the curved reflection band
  • It is characterized in that it includes an adhesive resin spraying part for dispersing a resin, which is an adhesive material, for safe fixing of the film together with the shielding material spraying part.
  • the curved reflector Preferably, the curved reflector
  • the particles of the tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit may be configured in a curved structure in which the particles may be dispersed in an air flow without being scattered.
  • the film comprises:
  • PE polyethylene
  • the shielding material spraying unit comprises:
  • the tungsten nanopowder is sprayed to the front of the film disposed on the curved reflector
  • the tungsten nanopowder which is a shielding material, may be dispersed through a nozzle at the end of the air pressurization method.
  • the shielding material spraying unit More preferably, the shielding material spraying unit,
  • a nozzle for dispersing the tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film is configured by an air pressure method, and the nozzle may be configured as a 1.5 mm air nozzle for dispersing the tungsten nanopowder.
  • the shielding material spraying unit comprises:
  • One or two may be used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film disposed on the curved reflection band.
  • the adhesive resin spraying unit More preferably, the adhesive resin spraying unit,
  • the resin which is an adhesive material, is dispersed, and may be equally dispersed by operating at the same time as the shielding material spraying unit for dispersing the tungsten nanopowder.
  • the adhesive resin spraying unit Even more preferably, the adhesive resin spraying unit,
  • Thermosetting resin may be used.
  • the adhesive resin spraying part is characterized in that it comprises the step of dispersing the resin, which is an adhesive material, for safe fixing of the film together with the dispersion of the tungsten nanopowder in the shielding material spraying part of step (2).
  • step (1) Preferably, in step (1),
  • the curved reflective band may have a curved structure in which particles of tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit are not dispersed and the particles are dispersed through an air flow.
  • the film comprises:
  • PE polyethylene
  • step (2) the ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ ⁇
  • the shielding material spraying part is positioned on the curved reflection band and sprays the tungsten nanopowder to the front of the film, but the tungsten nanopowder, which is the shielding material, may be dispersed through the nozzle at the end of the air pressurization method.
  • the shielding material spraying unit More preferably, the shielding material spraying unit,
  • a nozzle for dispersing the tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film is configured by an air pressure method, and the nozzle may be configured as a 1.5 mm air nozzle for dispersing the tungsten nanopowder.
  • the shielding material spraying unit comprises:
  • One or two may be used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film disposed on the curved reflection band.
  • step (3) More preferably, in step (3),
  • the adhesive resin spraying unit disperses the resin, which is an adhesive material, for safe fixation of the film, and operates simultaneously with the shielding material spraying unit for dispersing tungsten nanopowder to be equally dispersed.
  • the adhesive resin spraying unit Even more preferably, the adhesive resin spraying unit,
  • Thermosetting resin may be used.
  • the problem of particle scattering is minimized by using the dispersion method in the existing flat table, and the air By allowing the tungsten powder particles to be dispersed on the film by riding the flow of
  • the thin film shielding film manufacturing apparatus and method of the air pressurized tungsten powder filling process technology using the curved reflector of the present invention the thin film shielding film is manufactured using tungsten powder particles without using lead, which is harmful to the human body. It is possible to effectively shield radiation and to further improve the convenience and efficiency of use through the manufacture of a thin film shielding film with excellent economical efficiency.
  • FIG. 1 is a view illustrating a manufacturing process of a conventional radiation shielding sheet.
  • Figure 2 is a view showing the configuration of the powder particles in the internal structure of the conventional radiation shielding sheet.
  • 3 is a view showing the configuration of other powder particles in the internal structure of the conventional radiation shielding sheet.
  • FIG. 4 is a view showing the configuration of a thin film shielding film manufacturing apparatus of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention as a functional block.
  • FIG. 5 is a view showing a schematic configuration of an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a view showing a comparative configuration of a general flat plate and a curved reflector in an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a view showing the particle distribution diagram of the thin film shielding film produced by the thin film shielding film manufacturing apparatus of the air pressure type tungsten powder filling process technology using the curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 8 is a view showing the flow of the thin film shielding film manufacturing method of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a view showing the configuration of a thin film shielding film manufacturing apparatus of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention as a functional block
  • FIG. 5 is an embodiment of the present invention
  • It is a view showing a schematic configuration of a thin film shielding film manufacturing apparatus of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector
  • FIG. 6 is an air pressurized tungsten powder filling using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is an air pressurized tungsten powder filling using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a thin film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention It is a view showing the particle distribution diagram of the thin film shielding film produced by the shielding film manufacturing apparatus. 4 to 7, the thin film shielding film manufacturing apparatus 100 of the air pressurized tungsten powder filling process technology using the curved reflector according to an embodiment of the present invention, the curved reflector 110 , a shielding material spraying unit 120 , and an adhesive resin spraying unit 130 may be included.
  • the curved reflector 110 has a configuration in which the film 101 to be manufactured as a thin film shielding film is positioned and disposed.
  • the curved reflector 110 has a curved structure in which particles of tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit 120, which will be described later, are not dispersed, and the particles can be dispersed in an air flow.
  • the film 101 to be manufactured as a thin film shielding film may be disposed on the curved reflector 110 and made of a thin polyethylene (PE) film material manufactured as a thin film shielding film.
  • PE polyethylene
  • the film 101 is a flexible thin film, and it can be understood that various plastic materials such as PP and PVC are used in addition to the polyethylene film material.
  • the shielding material spraying unit 120 is configured to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110 .
  • the shielding material spraying unit 120 sprays tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110, but injects the tungsten nanopowder, which is the shielding material, to the end of the shielding material in an air pressurized manner. It can be dispersed through the nozzle.
  • the shielding material spraying unit 120 constitutes a nozzle for dispersing tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film 101 in an air pressurization method, but the nozzle is a 1.5 mm air nozzle for dispersing the tungsten nanopowder.
  • one or two shielding material spraying units 120 may be used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110 .
  • the adhesive resin spraying unit 130 is configured to disperse a resin that is an adhesive material for safe fixation of the film 101 together with the shielding material spraying unit 120 .
  • the adhesive resin spraying unit 130 disperses the resin, which is an adhesive material, for the safe fixation of the film 101, but operates simultaneously with the shielding material spraying unit 120 for dispersing the tungsten nanopowder to be equally dispersed.
  • the adhesive resin spraying unit 130 may use a thermosetting resin.
  • the thin film shielding film manufacturing apparatus 100 of the air pressurized tungsten powder filling process technology using the curved reflector according to the present invention is a dispersion method of the air pressurized shielding material using the curved reflector 110.
  • the tungsten nanopowder is dispersed through a 1.5 mm small air nozzle of the shielding material spraying part 120, and the adhesive resin spraying part 130 is the same as the adhesive material in a small amount at the same time for the safe fixation of the film 101 It can be operated to disperse evenly.
  • the shielding material spraying unit 120 disperses the tungsten nanopowder in a pair, and at the same time, the adhesive resin is sprayed in a small amount from the adhesive resin spraying unit 130 at the same time to form a thin film shielding film particle distribution diagram may function to be evenly distributed.
  • FIG. 6 shows a comparative configuration of a general flat plate and a curved reflector in an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • the dispersion method when used on a flat surface, there is a problem in that the particles are scattered as shown in the figure on the right. However, as shown on the left, it functions to prevent scattering of particles by using the curved reflector 110 so that the particles can be dispersed by riding the air flow well.
  • FIG. 7 shows a particle distribution diagram of a thin film shielding film manufactured by an apparatus for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention.
  • the distribution of particles is definitely good, and the amount of related particle filling is increased to improve the shielding performance, and the reproducibility of the shielding performance that varies according to the manufacturing process can be obtained
  • the method for manufacturing a thin film shielding film of an air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector according to an embodiment of the present invention includes placing the film on the curved reflector and arranging (S110) , dispersing the tungsten nanopowder to the front of the film (S120), and dispersing the resin, which is an adhesive material, for safe fixation of the film together with the dispersion of the tungsten nanopowder (S130). there is.
  • a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned and disposed on the curved reflective band 110 .
  • the curved reflector 110 has a curved structure in which the particles of tungsten nanopowder dispersed from the shielding material spraying unit 120 are not scattered and the particles can be dispersed by riding the air flow.
  • the film 101 may be formed of a thin polyethylene (PE) film material disposed on the curved reflector 110 and manufactured as a thin film shielding film.
  • PE polyethylene
  • step S120 the shielding material spraying unit 120 disperses the tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflective band 110 through step S110 .
  • the shielding material spraying unit 120 is positioned on the curved reflector 110 and sprays the tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed, but the tungsten nanopowder as the shielding material is air pressurized. is dispersed through the nozzle at the end.
  • the shielding material spraying unit 120 constitutes a nozzle for dispersing the tungsten nanopowder, which is a shielding material, on the film 101 in an air pressurization method, wherein the nozzle is a 1.5 mm air nozzle for dispersing the tungsten nanopowder.
  • one or two shielding material spraying units 120 may be used to disperse the tungsten nanopowder to the front of the film 101 disposed on the curved reflector 110 .
  • step S130 the adhesive resin spraying unit 130 disperses the resin as an adhesive material for safe fixation of the film 101 together with the dispersion of the tungsten nanopowder in the shielding material spraying unit 120 in step S120 .
  • the adhesive resin spraying unit 130 disperses the resin, which is an adhesive material, for safe fixation of the film 101, but operates simultaneously with the shielding material spraying unit 120 for dispersing tungsten nanopowder to disperse the same.
  • the adhesive resin spraying unit 130 may use a thermosetting resin.
  • the apparatus and method for manufacturing a thin film shielding film of the air pressurized tungsten powder filling process technology using a curved reflector is a curved reflection in which a film to be manufactured as a thin film shielding film is positioned and disposed Adhesive dispersing the resin, an adhesive material, for safe fixation of the film together with the shielding material spraying part that disperses tungsten nanopowder to the front of the film positioned on the base and the curved reflector, and the shielding material spraying part
  • the structure of the curved reflection band and the new shielding material dispersion technology in which the particles of tungsten nanopowder dispersed in the air flow are evenly dispersed to ensure the reproducibility of the shielding performance according to the manufacturing process
  • the existing dispersion method on a flat surface, the problem of particle scattering is minimized, and the tungsten powder particles are dispersed on the film by riding the air flow, so that

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Abstract

본 발명에서 제안하고 있는 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 따르면, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대와, 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부와, 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하여 구성함으로써, 곡면 반사대의 구조와 공기 흐름을 타고 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 고르게 분산되는 새로운 차폐 재료의 분산 기술로 제작과정의 공정에 따른 차폐성능의 재현성이 확보될 수 있도록 할 수 있다.

Description

곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법
본 발명은 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 방사선은 의료, 산업 및 연구의 다양한 분야에 많은 유익을 주면서도 잘못 사용되면 직접적으로 인체에 피해를 줄 수 있다. 따라서 현대사회에서 방사선은 절대적으로 필요하지만 동시에 불필요한 방사선은 반드시 차폐를 해주어야 한다. 이러한 관점에서, 효율성과 신뢰성이 있는 방사선 차폐체 및 이를 이용한 차단막은 방사선의 안전에 있어서 매우 중요하다.
한편, 방사선은 크게 전리 방사선과 비전리 방사선으로 나뉠 수 있는데, 일반적으로 방사선은 전리 방사선을 의미한다. 전리 방사선에는 알파선, 베타선, 양성자, 중성자, 감마선, x-선 등이 있으며, 직간접으로 물질을 이온화시킬 수 있다. 비전리 방사선은 일반적으로 에너지가 작아 물질을 통과할 때 이온을 만들지 못하거나 이온을 만들 확률이 매우 적은 방사선을 가리키며, 적외선, 가시광선 및 자외선 등이 있다.
전리 방사선 중 감마선이나 x-선은 에너지가 높은 전자기파로서, 투과력이 매우 강한 특징이 있다. 이러한 감마선이나 x-선은 콘크리트 또는 텅스텐, 철, 납과 같은 밀도가 높은 금속물질을 통해서 차단할 수 있으나, 금속물질을 사용하는 경우, 이들의 고밀도로 인하여 차폐체의 중량이나 부피가 커지는 문제가 있다.
감마선이나 x-선은 원자나 분자에 직접 작용하여 DNA나 단백질의 주요 구조를 변경시킬 수 있고, 생물의 생식세포에 작용하는 경우 돌연변이를 유도하여 기형을 유발할 확률을 증가시킬 수 있으며, 성체에 작용하는 경우 암 등의 질환을 발생시킬 수 있다. 또한, 열중성자는 주위의 물질을 방사화시켜 주위 환경을 방사능으로 오염시키는 문제가 있다. 따라서, 방사선이 활용되는 분야에서는 인체와 환경에 유해한 방사선을 차폐하는 방사선 차단막이 필수적으로 설치되어야 한다.
도 1은 종래의 방사선 차폐시트의 제작 과정을 설명하기 위해 도시한 도면이고, 도 2는 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 분말 입자의 구성을 도시한 도면이며, 도 3은 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 다른 분말 입자의 구성을 도시한 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 방산선 차폐시트의 제작 방법은, 방사선 차폐물을 분말로 형성하고, 분말 과정 이후 방사선 차폐물과 바인더를 혼합하며, 혼합 과정 후에 혼합된 재료를 시트 형상으로 성형하는 과정으로 이루어진다. 이때, 종래의 방사선 차폐시트는 일반적으로 합성고무 또는 수지 등과 배합하여 제조되며, 제조된 방사선 차폐시트의 내부 구조는 도 2 및 도 3에 각각 도시된 바와 같이, 분말입자가 고르게 분산되지 않아 제작과정의 공정에 따라 차폐성능의 재현성을 담보하지 못하는 문제가 있었다. 대한민국 등록특허공보 제10-1591965호가 선행기술 문헌으로 개시되고 있다.
본 발명은 기존에 제안된 방법들의 상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대와, 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부와, 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하여 구성함으로써, 곡면 반사대의 구조와 공기 흐름을 타고 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 고르게 분산되는 새로운 차폐 재료의 분산 기술로 제작과정의 공정에 따른 차폐성능의 재현성이 확보될 수 있도록 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은, 기존의 평면대에서의 분산방식을 사용함에 따라 입자가 산재되는 문제점을 최소화하고, 공기의 흐름을 타고 텅스텐 분말 입자가 필름 상에 분산되도록 함으로써, 텅스텐 분말 입자의 분포도가 고르게 되고, 관련 텅스텐 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상될 수 있도록 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
뿐만 아니라, 본 발명은, 텅스텐 분말 입자를 사용하여 박막 차폐필름을 제조함으로써, 인체에 유해한 납을 사용하지 않고도 방사선을 효과적으로 차폐할 수 있고, 경제성이 우수한 박막 차폐필름의 제조를 통한 사용의 편의성 및 효율성이 더욱 향상될 수 있도록 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치는,
곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치로서,
박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대;
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부; 및
상기 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 곡면 반사대는,
상기 차폐 재료 분사부로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성될 수 있다.
바람직하게는, 상기 필름은,
상기 곡면 반사대에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다.
바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킬 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,
공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.
더욱 더 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 접착 수지 분사부는,
상기 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다.
더욱 더 바람직하게는, 상기 접착 수지 분사부는,
열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법은,
곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법으로서,
(1) 곡면 반사대에 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 단계;
(2) 차폐 재료 분사부가 상기 단계 (1)을 통해 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계; 및
(3) 접착 수지 분사부가 상기 단계 (2)의 차폐 재료 분사부의 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계를 포함하는 것을 그 구성상의 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 단계 (1)에서는,
상기 곡면 반사대가 상기 차폐 재료 분사부로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성될 수 있다.
바람직하게는, 상기 필름은,
상기 곡면 반사대에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다.
바람직하게는, 상기 단계 (2)에서는,
상기 차폐 재료 분사부가 상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킬 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,
공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.
더욱 더 바람직하게는, 상기 차폐 재료 분사부는,
상기 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.
더욱 바람직하게는, 상기 단계 (3)에서는,
상기 접착 수지 분사부가 상기 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다.
더욱 더 바람직하게는, 상기 접착 수지 분사부는,
열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.
본 발명에서 제안하고 있는 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 따르면, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대와, 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부와, 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하여 구성함으로써, 곡면 반사대의 구조와 공기 흐름을 타고 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 고르게 분산되는 새로운 차폐 재료의 분산 기술로 제작과정의 공정에 따른 차폐성능의 재현성이 확보될 수 있도록 할 수 있다.
또한, 본 발명의 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 따르면, 기존의 평면대에서의 분산방식을 사용함에 따라 입자가 산재되는 문제점을 최소화하고, 공기의 흐름을 타고 텅스텐 분말 입자가 필름 상에 분산되도록 함으로써, 텅스텐 분말 입자의 분포도가 고르게 되고, 관련 텅스텐 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상될 수 있도록 할 수 있다.
뿐만 아니라, 본 발명의 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법에 따르면, 텅스텐 분말 입자를 사용하여 박막 차폐필름을 제조함으로써, 인체에 유해한 납을 사용하지 않고도 방사선을 효과적으로 차폐할 수 있고, 경제성이 우수한 박막 차폐필름의 제조를 통한 사용의 편의성 및 효율성이 더욱 향상될 수 있도록 할 수 있다.
도 1은 종래의 방사선 차폐시트의 제작 과정을 설명하기 위해 도시한 도면.
도 2는 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 분말 입자의 구성을 도시한 도면.
도 3은 종래의 방사선 차폐시트의 내부 구조에서의 다른 분말 입자의 구성을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 구성을 기능블록으로 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에서, 일반 평면대와 곡면 반사대의 비교 구성을 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에 의해 제작된 박막 차폐필름의 입자 분포도를 도시한 도면.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법의 흐름을 도시한 도면.
<부호의 설명>
100: 본 발명의 일실시예에 따른 박막 차폐필름 제작 장치
110: 곡면 반사대
120: 차폐 재료 분사부
130: 접착 수지 분사부
S110: 곡면 반사대에 필름이 위치하여 배치되는 단계
S120: 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계
S130: 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명함에 있어, 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 유사한 기능 및 작용을 하는 부분에 대해서는 도면 전체에 걸쳐 동일한 부호를 사용한다.
덧붙여, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 ‘연결’ 되어 있다고 할 때, 이는 ‘직접적으로 연결’ 되어 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 ‘간접적으로 연결’ 되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성요소를 ‘포함’ 한다는 것은, 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 구성을 기능블록으로 도시한 도면이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 개략적인 구성을 도시한 도면이며, 도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에서, 일반 평면대와 곡면 반사대의 비교 구성을 도시한 도면이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에 의해 제작된 박막 차폐필름의 입자 분포도를 도시한 도면이다. 도 4 내지 도 7에 각각 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치(100)는, 곡면 반사대(110), 차폐 재료 분사부(120), 및 접착 수지 분사부(130)를 포함하여 구성될 수 있다.
곡면 반사대(110)는, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름(101)이 위치하여 배치되는 구성이다. 이러한 곡면 반사대(110)는 후술하게 될 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성될 수 있다.
또한, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름(101)은 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다. 이러한 필름(101)은 플렉시블 형태의 박막 필름으로서, 폴리에틸렌 필름 소재 이외에도 PP, PVC 등의 플라스틱 소재가 다양하게 사용되는 것으로 이해될 수 있다.
차폐 재료 분사부(120)는, 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 구성이다. 이러한 차폐 재료 분사부(120)는 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킬 수 있다.
또한, 차폐 재료 분사부(120)는 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.
또한, 차폐 재료 분사부(120)는 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.
접착 수지 분사부(130)는, 차폐 재료 분사부(120)와 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 구성이다. 이러한 접착 수지 분사부(130)는 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다. 여기서, 접착 수지 분사부(130)는 열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치의 개략적인 구성을 나타내고 있다. 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치(100)는 곡면 반사대(110)를 이용한 공기 가압식 차폐 재료의 분산 방식으로, 차폐 재료 분사부(120)의 1.5㎜ 작은 공기 노즐을 통해 텅스텐 나노 분말을 분산하고, 접착 수지 분사부(130)는 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 동시에 적은 양으로 동일하게 분산시키도록 작동될 수 있다. 여기서, 차폐 재료 분사부(120)는 쌍의 조합으로 텅스텐 나노 분말을 분산하고, 이와 동시에 접착 수지 분사부(130)에서 접착제 수지를 동시에 적은 양으로 동일하게 분사시켜 제조되는 박막 차폐필름의 입자 분포도가 고르게 분산되도록 기능할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에서, 일반 평면대와 곡면 반사대의 비교 구성을 나타내고 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 일반적으로 평면대에서 분산방식을 사용하면 오른쪽 그림과 같이 입자가 산재되는 문제점이 발생된다. 그러나 왼쪽과 같이 공기의 흐름을 잘 타고 입자가 분산될 수 있도록 곡면 반사대(110)를 이용함에 따란 입자의 산재가 방지되도록 기능하게 된다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치에 의해 제작된 박막 차폐필름의 입자 분포도를 나타낸다. 도 7에 도시된 바와 같이, 곡면 반사대(110)를 이용한 공기 가압식 분산 방식을 이용함에 따라 입자의 분포도가 확실히 좋으며, 관련 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상되고 제작과정마다 달라지는 차폐성능의 재현성도 확보할 수 있다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법의 흐름을 도시한 도면이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법은, 곡면 반사대에 필름이 위치하여 배치되는 단계(S110), 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계(S120), 및 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계(S130)를 포함하여 구현될 수 있다.
단계 S110에서는, 곡면 반사대(110)에 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치된다. 이러한 단계 S110에서는 곡면 반사대(110)가 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성된다. 여기서, 필름(101)은 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성될 수 있다.
단계 S120에서는, 차폐 재료 분사부(120)가 단계 S110을 통해 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산한다. 이러한 단계 S120에서는 차폐 재료 분사부(120)가 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시킨다. 여기서, 차폐 재료 분사부(120)는 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성될 수 있다.
또한, 차폐 재료 분사부(120)는 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용될 수 있다.
단계 S130에서는, 접착 수지 분사부(130)가 단계 S120의 차폐 재료 분사부(120)의 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산한다. 이러한 단계 S130에서는 접착 수지 분사부(130)가 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시킬 수 있다. 여기서, 접착 수지 분사부(130)는 열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법은, 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 곡면 반사대와, 곡면 반사대에 위치하여 배치된 필름의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부와, 차폐 재료 분사부와 함께 필름의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부를 포함하여 구성함으로써, 곡면 반사대의 구조와 공기 흐름을 타고 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 고르게 분산되는 새로운 차폐 재료의 분산 기술로 제작과정의 공정에 따른 차폐성능의 재현성이 확보될 수 있도록 할 수 있으며, 또한, 기존의 평면대에서의 분산방식을 사용함에 따라 입자가 산재되는 문제점을 최소화하고, 공기의 흐름을 타고 텅스텐 분말 입자가 필름 상에 분산되도록 함으로써, 텅스텐 분말 입자의 분포도가 고르게 되고, 관련 텅스텐 입자 충전량도 늘어나 차폐 성능이 향상될 수 있도록 할 수 있으며, 특히, 텅스텐 분말 입자를 사용하여 박막 차폐필름을 제조함으로써, 인체에 유해한 납을 사용하지 않고도 방사선을 효과적으로 차폐할 수 있고, 경제성이 우수한 박막 차폐필름의 제조를 통한 사용의 편의성 및 효율성이 더욱 향상될 수 있도록 할 수 있게 된다.
이상 설명한 본 발명은 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 다양한 변형이나 응용이 가능하며, 본 발명에 따른 기술적 사상의 범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (16)

  1. 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치(100)로서,
    박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름(101)이 위치하여 배치되는 곡면 반사대(110);
    상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 차폐 재료 분사부(120); 및
    상기 차폐 재료 분사부(120)와 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 접착 수지 분사부(130)를 포함하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 곡면 반사대(110)는,
    상기 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 필름(101)은,
    상기 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 차폐 재료 분사부(120)는,
    상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 차폐 재료 분사부(120)는,
    공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 차폐 재료 분사부(120)는,
    상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  7. 제4항에 있어서, 상기 접착 수지 분사부(130)는,
    상기 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 접착 수지 분사부(130)는,
    열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치.
  9. 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법으로서,
    (1) 곡면 반사대(110)에 박막 차폐필름으로 제조되기 위한 필름이 위치하여 배치되는 단계;
    (2) 차폐 재료 분사부(120)가 상기 단계 (1)을 통해 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산하는 단계; 및
    (3) 접착 수지 분사부(130)가 상기 단계 (2)의 차폐 재료 분사부(120)의 텅스텐 나노 분말의 분산과 함께 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 단계 (1)에서는,
    상기 곡면 반사대(110)가 상기 차폐 재료 분사부(120)로부터 분산되는 텅스텐 나노 분말의 입자가 산재되지 않고 공기의 흐름(air flow)을 타고 입자가 분산될 수 있는 곡면 구조로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 필름(101)은,
    상기 곡면 반사대(110)에 배치되어 박막 차폐필름으로 제조되는 박막의 폴리에틸렌(PE) 필름 소재로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단계 (2)에서는,
    상기 차폐 재료 분사부(120)가 상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분사하되, 공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 말단의 노즐을 통해 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 차폐 재료 분사부(120)는,
    공기 가압 방식으로 차폐 재료인 텅스텐 나노 분말을 필름(101)에 분산시키기 위한 노즐을 구성하되, 상기 노즐은 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위한 1.5㎜ 공기 노즐로 구성되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 차폐 재료 분사부(120)는,
    상기 곡면 반사대(110)에 위치하여 배치된 필름(101)의 전면(front)으로 텅스텐 나노 분말을 분산시키기 위해 하나 또는 둘이 사용되는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 단계 (3)에서는,
    상기 접착 수지 분사부(130)가 상기 필름(101)의 안전한 정착을 위해 접착제 재질인 수지를 분산하되, 텅스텐 나노 분말을 분산시키는 상기 차폐 재료 분사부(120)와 동시에 작동되어 동일하게 분산시키는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 접착 수지 분사부(130)는,
    열경화성 수지(Thermosetting resin)를 사용하는 것을 특징으로 하는, 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 방법.
PCT/KR2021/012170 2020-09-09 2021-09-07 곡면반사대를 이용한 공기 가압식 텅스텐 분말 충전 공정기술의 박막 차폐필름 제작 장치 및 방법 WO2022055232A1 (ko)

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