WO2022045361A1 - Method for producing composition - Google Patents

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WO2022045361A1
WO2022045361A1 PCT/JP2021/031952 JP2021031952W WO2022045361A1 WO 2022045361 A1 WO2022045361 A1 WO 2022045361A1 JP 2021031952 W JP2021031952 W JP 2021031952W WO 2022045361 A1 WO2022045361 A1 WO 2022045361A1
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solvent
resin
polymer
particulate
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勇輔 小沼
宏司 西岡
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住友化学株式会社
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    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a composition capable of forming a film that can be used as a substrate material compatible with a printed circuit board for a high frequency band or an antenna substrate, the composition, a dispersion liquid capable of forming the composition, and the film.
  • a copper-clad laminate called CCL has a structure in which copper foils are laminated on both surfaces of a resin layer via an adhesive.
  • the transmission loss of the CCL can be suppressed by reducing the dielectric loss of the resin layer serving as the transmission line, particularly the dielectric loss tangent and the relative permittivity.
  • the step (1) is a step of dissolving the cycloolefin polymer (B) in the first solvent to obtain a cycloolefin polymer (B) solution (hereinafter, may be referred to as a polymer (B) solution).
  • the dielectric property means a property related to dielectric including dielectric loss, relative permittivity and dielectric loss tangent, and that the dielectric property is enhanced or improved is, for example, dielectric loss, relative permittivity and / or. It shows that the dielectric loss tangent is reduced.
  • the mechanical property means the mechanical property including the bending resistance and the elastic modulus, and when the mechanical property is enhanced or improved, for example, the bending resistance and / or the elastic modulus is increased. Show that.
  • m is an integer of 0 or more. From the viewpoint that the particle size and CTE of the film can be easily reduced, the mechanical properties such as surface smoothness, heat resistance and bending resistance of the film can be easily improved, and the film can be easily obtained, the upper limit of m is preferably 3 or less. It is an integer, more preferably an integer of 2 or less, and even more preferably an integer of 1 or less.
  • An aryl group such as a phenyl group, a trill group, or a naphthyl group; an aralkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group; a group in which a part of the hydrogen atom of the alkyl group, the aryl group or the aralkyl group is substituted with a halogen atom and the like can be mentioned. Be done.
  • an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group is preferable from the viewpoint of easily enhancing the water absorption resistance, heat resistance, dielectric property and mechanical property of the film and easily reducing the CTE of the film.
  • Examples of the cycloolefin represented by the formula (I) include norbornene, 5-methylnorbornene, 5-ethylnorbornene, 5-butylnorbornene, 5-phenylnorbornene, 5-benzylnorbornene, tetracyclododecene and tricyclodecene. , Tricycloundecene, pentacyclopentadecene, pentacyclohexadecene, 8-methyltetracyclododecene, 8-ethyltetracyclododecene and the like.
  • Examples thereof include ethylbenzene, isopropenylpropylbenzene, isopropenylbutylbenzene, isopropenylpentylbenzene, isopropenylhexylbenzene, isopropenyloctylbenzene, isopropenylnaphthalene, isopropenylanthracene and the like.
  • styrene, methylstyrene or dimethylstyrene is preferable, and styrene is more preferable, from the viewpoints of easy availability of the raw material monomer, easy reduction of CTE of the film, and easy improvement of mechanical properties such as bending resistance. ..
  • the aromatic vinyl compound having 8 to 20 carbon atoms one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
  • the polymer (B) is made from ethylene, propylene and styrene from the viewpoints of easy availability of a raw material monomer, easy reduction of CTE of a film, and easy improvement of mechanical properties such as bending resistance. It may contain a monomer unit (II) derived from at least one selected from the group consisting of ethylene and styrene, more preferably a monomer unit (II) derived from at least one selected from the group consisting of ethylene and styrene. preferable.
  • the ratio (Mw / Mn) of Mw of the polymer (B) to the number average molecular weight (hereinafter, the number average molecular weight may be abbreviated as Mn) is preferably 2. 5 or less, more preferably 2.2 or less, still more preferably 2.0 or less, even more preferably 1.95 or less, particularly preferably 1.90 or less, preferably 1.30 or more, still more preferably 1. It is 50 or more, more preferably 1.60 or more, and particularly preferably 1.65 or more.
  • Mw and Mn can be determined by gel permeation chromatography (hereinafter, may be abbreviated as GPC) measurement and converted to standard polystyrene, and can be determined, for example, by the method described in Examples.
  • the Tg of the polymer (B) is the softening temperature measured by TMA based on JIS K7196, and can be measured by, for example, the method described in Examples.
  • a cyclopentadienyl group preferably a cyclopentadienyl group, a methylcyclopentadienyl group, a tetramethylcyclopentadienyl group, an n-butylcyclopentadienyl group, an isobutylcyclopentadienyl group, an indenyl group, a methylindenyl group.
  • a fluorenyl group may be mentioned.
  • D 1 and D 2 are halogenated hydrocarbon groups
  • D 1 and D 2 are halogenated hydrocarbon groups
  • D 1 and D 2 are halogenated hydrocarbon groups.
  • R 1 to R 6 are hydrocarbon groups, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10. Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group and n-hexyl group.
  • any of the boron compounds represented by the formula ( ⁇ 1), the formula ( ⁇ 2) or the formula ( ⁇ 3) can be used.
  • B represents a boron atom in a trivalent valence state
  • Q1 to Q3 are independent of each other, a halogen atom, a hydrocarbon group containing a carbon atom, and a halogenation having 1 to 20 carbon atoms. It represents a hydrocarbon group, a substituted silyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms, which may be the same or different.
  • Q1 to Q3 are independent of each other, preferably a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • ferrosenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 1,1'-dimethylferrosenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, silver tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and triphenylmethyl tetrakis.
  • Examples thereof include (pentafluorophenyl) borate, triphenylmethyltetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, and preferably triphenylmethyltetrakis (pentafluorophenyl) borate.
  • B represents boron in a trivalent valence state
  • Q1 to Q4 are the same as Q1 to Q3 in the above formula ( ⁇ 1).
  • L represents a neutral Lewis base
  • (L—H) + represents a Bronsted acid.
  • the molar ratio of the co-catalyst / transition metal complex ( ⁇ ) is preferably 0.01 to 10,000, more preferably 0.5 to 2,000.
  • the concentration of the transition metal complex ( ⁇ ) is preferably 0.0001 to 5 mmol / L, more preferably 0.001 to 1 mmol / L.
  • the amount of the catalyst component used is preferably 0.00001 to 1 mol%, more preferably 0.0001 to 0.1 mol%, based on the total amount of all the monomers used.
  • Ra [4 ⁇ ( ⁇ DA- ⁇ DB) 2 + ( ⁇ PA- ⁇ PB) 2 + ( ⁇ HA- ⁇ HB) 2 ] 0.5 ... (Y)
  • HSP value and the distance between the HSP values are as defined above, and can be obtained according to the above method.
  • the first solvent is preferably a solvent in which the resin (A) does not dissolve.
  • the particle size of the particulate polymer (B) can be easily reduced and the dispersibility can be easily improved.
  • the upper limit of the distance between the HSP values of the second solvent and the polymer (B) is preferably 30.0 or less, more preferably 25.0 or less, still more preferably 20.0.
  • the distance between the HSP values of the second solvent and the polymer (B) is not more than the above upper limit, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that the dispersibility of the particles can be easily improved. It is easy to improve the particle dispersibility of the film to be obtained.
  • the distance between the HSP values of the second solvent and the polymer (B) is preferably larger than the interaction radius of the polymer (B).
  • the polymer (B) is difficult to dissolve in the second solvent, so that the particle size of the particulate polymer (B) in the particulate polymer (B) dispersion can be easily reduced and the dispersibility can be improved. Easy to improve.
  • the HSP value distance between the second solvent and the resin (A) is preferably 10.0 or less, more preferably 9.5 or less, still more preferably 9.0 or less, and particularly preferably 8. It is 5.5 or less, preferably 0.01 or more, and more preferably 0.1 or more.
  • the distance between the HSP values is not more than the above upper limit, the affinity between the second solvent and the resin (A) can be improved. Therefore, in the obtained composition and film, a particulate polymer (B) having a small particle size is used. ) Is easy to disperse.
  • the distance between the HSP values of the second solvent and the resin (A) is preferably smaller than the interaction radius of the resin (A).
  • the content of the first solvent is not more than the above upper limit, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that it is easy to reduce the particle size and improve the dispersibility of the particles. As a result, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness, mechanical properties and the like of the obtained film. Further, when the content of the first solvent is at least the above lower limit, it is easy to prepare the dispersion liquid.
  • the resin (A) is a polymer different from the polymer (B).
  • the resin (A) is a cycloolefin-based resin
  • it may be a cycloolefin-based resin having a different type from the polymer (B), for example, a different type of monomer unit constituting the resin, its content, and the like.
  • the polyimide-based resin suitable as the resin (A) includes a resin containing a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter, may be referred to as a polyimide resin), and a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group. It is meant to include a resin to be used (hereinafter, may be referred to as a polyamide-imide resin) and a precursor before producing a polyimide-based resin by imidization.
  • the precursor before producing the polyimide resin is a polyamic acid.
  • a "repeating structural unit” may be referred to as a "constituent unit”.
  • the "constituent unit derived from” may be simply referred to as "unit", and for example, the constituent unit derived from a compound may be referred to as a compound unit.
  • X in the formula (1) include, for example, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a propylene group, a 1,2-butanediyl group, and a 1,3-butanediyl group.
  • 1,12-Dodecandyl group, 2-methyl-1,2-propanediyl group, 2-methyl-1,3-propanediyl group and other linear or branched alkylene groups with divalent acyclic Examples include aliphatic groups.
  • the hydrogen atom in the divalent acyclic aliphatic group may be substituted with a halogen atom, and the carbon atom may be substituted with a hetero atom, for example, an oxygen atom, a nitrogen atom or the like.
  • alkyl fluoride group is preferably an alkyl fluoride group, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkyl fluoride group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a methyl group or a trifluoromethyl group.
  • Pentyl group 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group.
  • Etc. which may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include the same as above.
  • the X in the formula (1) when X in the formula (1) includes a structure represented by the formula (2) and / or the formula (3), the X in the formula (1) is the formula (2). And / or the ratio of the structural unit represented by the formula (3) is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably, with respect to the total molar amount of the structural unit represented by the formula (1). Is 70 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more, and preferably 100 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by the formula (2) and / or the formula (3) is in the above range, X in the formula (1) can easily reduce the CTE of the film, and has heat resistance, dielectric properties and dielectric properties.
  • Y represents a tetravalent organic group independently of each other, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably 4 having a cyclic structure and 4 to 40 carbon atoms.
  • the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure.
  • the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or a halogenated hydrocarbon group, in which case the carbon number of these groups is preferably 1 to 8. Is.
  • the polyimide-based resin of the present invention may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other.
  • Y the group (structure) represented by the formulas (31) to (38); the hydrogen atom in the group represented by the formulas (34) to (38) is a methyl group, an ethyl group, or n-propyl.
  • R 27 to R 30 represent hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms independently of each other.
  • the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include those exemplified above as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the formulas (2) and (3).
  • R 27 to R 30 are more preferably hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms independently of each other. , Hydrogen atom is more preferable.
  • Y in the formula (1) when Y in the formula (1) includes at least one selected from the group consisting of the structures represented by the formulas (31) to (33), the formula (1) is used.
  • Y is selected from the group consisting of the structures represented by the formulas (31) to (33), and the ratio of the constituent units represented by at least one is the total mole of the constituent units represented by the formula (1).
  • the amount it is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more, and preferably 100 mol% or less.
  • tetracarboxylic acid compound examples include pyromellitic anhydride (hereinafter, may be abbreviated as PMDA), 4,4'-(4,4'-isopropylidene diphenoxy), and diphthalic anhydride (hereinafter, BPADA).
  • PMDA pyromellitic anhydride
  • BPADA diphthalic anhydride
  • the reaction between the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound may be carried out under conditions of an inert atmosphere (nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc.) or reduced pressure, if necessary, and the reaction may be carried out under the conditions of the inert atmosphere (nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc.), for example, the nitrogen atmosphere or the argon atmosphere. It is preferably carried out with stirring in a tightly controlled dehydration solvent.
  • alicyclic amines such as N-propylhexahydroazepine (monocyclic); azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and Alicyclic amines such as azabicyclo [3.2.2] nonane (polycyclic); as well as pyridine, 2-methylpyridine (2-picolin), 3-methylpyridine (3-picolin), 4-methylpyridine (4).
  • the method of adding the resin (A) to the particulate polymer (B) dispersion is not particularly limited, and the resin (A) may be added at once, or the resin (A) may be added in a plurality of times. You may.
  • the present invention can obtain a composition having a small particle size and excellent dispersibility even when the distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) is relatively large. can. Therefore, in the production method and composition of the present invention, the distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) is preferably 6.0 or more, more preferably 7.0 or more, still more preferably 8.0. That is all.
  • the distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) is preferably 30 or less, more preferably 25 or less, still more preferably 20 or less, from the viewpoint of the affinity between the resin and the polymer.
  • the content of the particulate polymer (B) is in the above range, the particle dispersibility, dielectric loss tangent and relative permittivity of the film can be easily reduced, and the surface smoothness and mechanical properties can be easily improved.
  • the dispersibility of the particulate polymer (B) is high, and as a result, the physical characteristics of the film, for example, the surface roughness of the film, the thermal conductivity (or thermal diffusivity), etc. It is easy to reduce the variation of.
  • the film of the present invention is also suitably used for other industrial materials such as automobile parts and electric / electronic parts; optical materials such as lenses, prisms, optical fibers, and recording media.
  • the present invention can be carried out at a temperature of 50 to 350 ° C., preferably 70 to 300 ° C.
  • the composition can be uniformly dried and the surface smoothness of the obtained film can be improved. Therefore, when the film is used as the resin layer of CCL, the copper foil and the resin layer are used. Peeling with and can be effectively suppressed.
  • heating may be performed at 200 to 450 ° C., preferably 200 to 350 ° C.
  • the drying or heating time is preferably 5 minutes to 10 hours, more preferably 10 minutes to 5 hours.
  • the coating film may be dried under inert atmosphere conditions such as in nitrogen or argon, under vacuum or reduced pressure conditions, and / or under ventilation.
  • the coating film may be continuously dried after the coating film is peeled off from the base material during the stepwise drying, and after all the drying is completed, the coating film is applied from the base material ( The film) may be peeled off.
  • the coating film may be peeled off from the substrate after the first step of drying to perform the second and subsequent drying steps, or the coating film (film) may be peeled off from the substrate after all the drying steps are completed. good.
  • the first step of drying may be pre-drying.
  • ⁇ H was set to 7.2 MPa 0.5
  • ⁇ D of toluene was set to 18.0 MPa 0.5
  • ⁇ P was set to 1.4 MPa 0.5
  • ⁇ H was set to 2.0 MPa 0.5 .
  • HSP of cycloolefin copolymer The solubility of the cycloolefin copolymer in various solvents was evaluated. For the evaluation of solubility, use a solvent with a known solubility parameter in a transparent container (refer to the HSPiP database, solvent used: methyl chloride, 1,4-dichlorobenzene, chloroform, toluene, p-xylene, GBL, DMAc, NMP. , Water, acetone, diiodomethane, butyl benzoate) 10 mL and 0.1 g of cycloolefin copolymer were added to prepare a mixed solution.
  • ⁇ Meso-type two-chain / Racemo-type two-chain> The ratio of the meso-type two-chain of the norbornene two-chain to the racemo-type two-chain (meso-type two-chain / racemo-type two-chain) of the cycloolefin copolymer obtained in the production example is the above-mentioned NB content using 13 C-NMR. It was measured under the same conditions as the measurement of.
  • the meso-type / racemo-type two-chain of the norbornene two-chain is based on 1,1,2,2-tetrachloroethane (74.24 ppm), and is described in “RAWendt, G.Fink, Macromol.Chem.
  • GPC column TSKgel GMH6-HT (inner diameter 7.8 mm, length 300 mm) (manufactured by Tosoh Corporation) 3 connected mobile phase: orthodichlorobenzene (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade) 2,6 -Di-tert-butyl-4-methylphenol (hereinafter, may be referred to as BHT) was added and used at a concentration of 0.1 w / V, that is, 0.1 g / 100 mL.
  • BHT 2,6 -Di-tert-butyl-4-methylphenol
  • a dispersion sample was prepared using the cycloolefin copolymer fine particle powder obtained in the comparative example, and the median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the dispersion sample was determined by scattering particle size distribution measurement using laser diffraction. .. Specifically, 0.01 g of the cycloolefin copolymer fine particle powder obtained in the comparative example and 5 mL of GBL were added to a glass cell having a capacity of 9 mL and mixed, and then ultrasonically treated for 5 minutes using ultrasonic cleaning. Then, a dispersion sample containing the particulate cycloolefin copolymer was obtained.
  • the obtained dispersion sample was measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device (manufactured by Rika Tanaka Co., Ltd., model: SALD-2100, refractive index: 1.70-0.20i), and the particles were measured.
  • the median diameter of the state cycloolefin copolymer was determined.
  • CTE of cycloolefin copolymer The CTE of the cycloolefin copolymer obtained in the production example was measured under the following conditions using TMA, and the CTE at 50 ° C to 100 ° C was calculated.
  • the temperature in the system was kept at 60 ° C., and ethylene was continuously supplied to keep the pressure in the system at the starting value.
  • 5.0 mL of water was added to stop the polymerization, and the solution in the autoclave was withdrawn.
  • 1,500 g of toluene and 100 g of magnesium sulfate were added and stirred, and then 100 mL of water was added and stirred, and the solid was removed by filtration.
  • the obtained liquid was added dropwise to acetone, and the precipitated powder was isolated by filtration. The isolated powder was further washed with acetone and dried under reduced pressure at 120 ° C.
  • a cycloolefin copolymer After 2 hours from the start of the polymerization, 3.0 mL of water was added to stop the polymerization, and the solution in the autoclave was withdrawn. The obtained liquid was added dropwise to acetone in the extracted solution, and the precipitated powder was isolated by filtration. The isolated powder was further washed with acetone and dried under reduced pressure at 150 ° C. for 2 hours to obtain 198.3 g of a cycloolefin copolymer.
  • the NB content was 96.3 mol%
  • Mw was 79,000
  • Mw / Mn was 1.83
  • Tg was more than 300 ° C.
  • the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and the polyamic acid used in Example 2 is 6.0 or more, the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and toluene is 2.1, and the distance between the cycloolefin copolymer and the cycloolefin copolymer is 2.
  • the distance between the HSP values with DMAc was 11.5.
  • the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer used in Example 2 and the polyimide resin obtained by imidizing the polyamic acid was 6.0 or more.
  • the content of the particulate cycloolefin copolymer was 30.0% by mass with respect to the total mass of the liquid crystal polyester and the particulate cycloolefin copolymer.
  • the obtained composition was subjected to salivation molding on a copper foil to prepare a coating film at a linear speed of 0.4 m / min.
  • the coating film was heated at 60 ° C. for 4 hours to obtain a laminate having a copper foil and a liquid crystal polyester precursor-cycloolefin copolymer composite film, and then the laminate was fixed with a metal frame and further under a nitrogen atmosphere, 310. By heating the laminate at ° C.
  • Example 4 The cycloolefin copolymer obtained in Production Example 2 was dissolved in toluene at a concentration of 2% by mass to obtain a cycloolefin copolymer solution. 100.0 g of the obtained cycloolefin copolymer solution and 98.0 g of DMAc were mixed and distilled off under reduced pressure at 50 hPa and 80 ° C. for 2 hours to distill off toluene to obtain a particulate cycloolefin copolymer dispersion. The toluene content of the obtained dispersion was 0.6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of DMAc.
  • the content of the particulate cycloolefin copolymer was 33.3% by mass with respect to the total mass of the polyamic acid and the particulate cycloolefin copolymer.
  • the obtained composition was subjected to salivation molding on a glass substrate to prepare a coating film at a linear speed of 0.4 m / min.
  • the coating film is heated at 70 ° C. for 60 minutes, the polyamic acid-cycloolefin copolymer composite film is peeled off from the glass substrate, the film is fixed with a metal frame, and the polyamic acid is gradually increased to 360 ° C. in 30 minutes under a nitrogen atmosphere.
  • the polyamic acid was imidized to obtain a polyimide-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 30 ⁇ m.
  • the average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the composite film was 0.15 ⁇ m.
  • the CTE of the obtained composite film was 21 ppm / K, and the surface smoothness was also excellent.
  • the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and the polyamic acid used in Example 4 is 6.0 or more, and the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and toluene is 2.1.

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Abstract

Provided is a method for producing a composition including: a particulate cycloolefin-based polymer having a small particle size; a resin; and a solvent. The method for producing a composition including a resin (A), a particulate cycloolefin-based polymer (B), and a solvent comprises: a step (1) for dissolving a cycloolefin-based polymer (B) in a first solvent to obtain a cycloolefin-based polymer (B) solution; a step (2) for bringing the cycloolefin-based polymer (B) solution into contact with a second solvent and then distilling off the first solvent to obtain a dispersion liquid including the particulate cycloolefin-based polymer (B); and a step (3) for adding the resin (A) to the dispersion liquid.

Description

組成物の製造方法Method for producing the composition
 高周波帯域用のプリント回路基板やアンテナ基板に対応可能な基板材料などに利用できるフィルムを形成可能な組成物の製造方法及び該組成物、該組成物を形成可能な分散液、並びに該フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing a composition capable of forming a film that can be used as a substrate material compatible with a printed circuit board for a high frequency band or an antenna substrate, the composition, a dispersion liquid capable of forming the composition, and the film.
 5Gと称される第5世代移動通信システムの本格的な普及に伴い、高周波帯域に対応できるプリント回路やアンテナに利用可能なプリント配線基板などが要求されている。しかし、高周波帯域になると基板材料由来の伝送損失が顕著に影響してくるため、伝送損失を抑制可能な基板材料の選択が重要となる。例えば、CCLと称される銅張積層板は樹脂層の両表面に接着剤を介して銅箔が積層された構造等を有する。該CCLの伝送損失は、伝送路となる樹脂層の誘電損失、特に誘電正接や比誘電率を低減することにより抑制し得る。
 この誘電正接や比誘電率の低い基板材料としては、シクロオレフィン系ポリマーが知られており、このシクロオレフィン系ポリマーを他の樹脂と複合化させたフィルムが検討されている。例えば、特許文献1には、特定の樹脂(A)、シクロオレフィンポリマー(B)、相溶化剤(C)、及び溶媒を含む組成物、並びに該組成物から形成されたフィルムが記載されている。しかし、特許文献1のような組成物から形成された複合フィルムは機械的特性が十分ではなかった。
With the full-scale spread of the 5th generation mobile communication system called 5G, there is a demand for printed circuits that can handle high frequency bands and printed wiring boards that can be used for antennas. However, in the high frequency band, the transmission loss derived from the substrate material has a significant effect, so it is important to select a substrate material that can suppress the transmission loss. For example, a copper-clad laminate called CCL has a structure in which copper foils are laminated on both surfaces of a resin layer via an adhesive. The transmission loss of the CCL can be suppressed by reducing the dielectric loss of the resin layer serving as the transmission line, particularly the dielectric loss tangent and the relative permittivity.
A cycloolefin-based polymer is known as a substrate material having a dielectric loss tangent or a low relative permittivity, and a film in which this cycloolefin-based polymer is composited with another resin has been studied. For example, Patent Document 1 describes a composition containing a specific resin (A), a cycloolefin polymer (B), a compatibilizer (C), and a solvent, and a film formed from the composition. .. However, the composite film formed from the composition as in Patent Document 1 has insufficient mechanical properties.
特開2017-125176号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-125176
 本発明者らは、フィルムの機械的特性を向上させるために、シクロオレフィン系ポリマーを微粒子化した複合樹脂組成物の製造を検討したところ、粒子の凝集に起因して粒子径が大きくなる場合があることがわかった。 The present inventors have studied the production of a composite resin composition in which a cycloolefin polymer is atomized in order to improve the mechanical properties of the film, and as a result, the particle size may become large due to the aggregation of the particles. It turned out that there was.
 従って、本発明の目的は、粒子径の小さい粒子状シクロオレフィン系ポリマー、樹脂及び溶媒を含む組成物の製造方法及び該組成物、並びに該組成物を形成可能な分散液を提供することにある。
 本発明の他の目的は、粒子径の小さい粒子状シクロオレフィン系ポリマー及び樹脂を含むフィルムを提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a composition containing a particulate cycloolefin polymer having a small particle size, a resin and a solvent, the composition, and a dispersion liquid capable of forming the composition. ..
Another object of the present invention is to provide a film containing a particulate cycloolefin-based polymer and a resin having a small particle size.
 本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、樹脂(A)、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物の製造方法において、特定の工程(1)~(3)を含むと、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下の好適な形態が含まれる。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor has made specific steps (1) to (1) to (1) in a method for producing a composition containing a resin (A), a particulate cycloolefin polymer (B) and a solvent. We have found that the above problems can be solved by including 3), and have completed the present invention. That is, the present invention includes the following suitable forms.
[1]樹脂(A)、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物の製造方法であって、
 シクロオレフィン系ポリマー(B)を第1溶媒に溶解させてシクロオレフィン系ポリマー(B)溶液を得る工程(1);
 該シクロオレフィン系ポリマー(B)溶液を第2溶媒に接触させた後、第1溶媒を留去して、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含む分散液を得る工程(2);及び
 該分散液に樹脂(A)を添加する工程(3)を含む、製造方法。
[2]シクロオレフィン系ポリマー(B)の第1溶媒に対する溶解度は、シクロオレフィン系ポリマー(B)の第2溶媒に対する溶解度よりも大きい、[1]に記載の製造方法。
[3]第2溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない溶媒である、[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]第2溶媒とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は8.5以上である、[1]~[3]のいずれかに記載の製造方法。
[5]第1溶媒とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は4.0以下である、[1]~[4]のいずれかに記載の製造方法。
[6]樹脂(A)とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は6以上である、[1]~[5]のいずれかに記載の製造方法。
[7]前記組成物は、該組成物に含まれる樹脂(A)と粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)との合計質量に対して5~50質量%の粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含む、[1]~[6]のいずれかに記載の製造方法。
[8]前記シクロオレフィン系ポリマー(B)溶液は、該溶液の質量に対して0.01~20質量%のシクロオレフィン系ポリマー(B)を含む、[1]~[7]のいずれかに記載の製造方法。
[9]シクロオレフィン系ポリマー(B)は、式(I):
[1] A method for producing a composition containing a resin (A), a particulate cycloolefin polymer (B), and a solvent.
Step (1) of dissolving a cycloolefin polymer (B) in a first solvent to obtain a cycloolefin polymer (B) solution;
After contacting the cycloolefin polymer (B) solution with the second solvent, the first solvent is distilled off to obtain a dispersion liquid containing the particulate cycloolefin polymer (B) (2); A production method comprising a step (3) of adding a resin (A) to a dispersion liquid.
[2] The production method according to [1], wherein the solubility of the cycloolefin polymer (B) in the first solvent is larger than the solubility of the cycloolefin polymer (B) in the second solvent.
[3] The production method according to [1] or [2], wherein the second solvent is a solvent in which the cycloolefin polymer (B) is insoluble.
[4] The production method according to any one of [1] to [3], wherein the distance between the HSP values of the second solvent and the cycloolefin polymer (B) is 8.5 or more.
[5] The production method according to any one of [1] to [4], wherein the distance between the HSP values of the first solvent and the cycloolefin polymer (B) is 4.0 or less.
[6] The production method according to any one of [1] to [5], wherein the distance between the HSP values of the resin (A) and the cycloolefin polymer (B) is 6 or more.
[7] The composition is a particulate cycloolefin polymer (B) in an amount of 5 to 50% by mass with respect to the total mass of the resin (A) and the particulate cycloolefin polymer (B) contained in the composition. The production method according to any one of [1] to [6], which comprises.
[8] The cycloolefin polymer (B) solution is any of [1] to [7] containing 0.01 to 20% by mass of the cycloolefin polymer (B) with respect to the mass of the solution. The manufacturing method described.
[9] The cycloolefin polymer (B) has the formula (I) :.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
[式(I)中、mは0以上の整数を表し、R~R18は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~20の炭化水素基を表し、R11~R14が複数存在する場合、それらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、R16とR17とは互いに結合し、それらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい]
で表されるシクロオレフィン由来の単量体単位(I)を含む、[1]~[8]のいずれかに記載の製造方法。
[10]前記分散液は、メジアン径が0.01~15μmの粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含む、[1]~[9]のいずれかに記載の製造方法。
[11]樹脂(A)のガラス転移温度は180℃以上である、[1]~[10]のいずれかに記載の製造方法。
[12]樹脂(A)は、ポリイミド系樹脂、液晶ポリマー、フッ素系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、及びマレイミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1つの樹脂である、[1]~[11]のいずれかに記載の製造方法。
[13]粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む分散液であって、
 該溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解する第1溶媒と、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない第2溶媒とを含み、
 粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)のメジアン径が0.01~15μmである、分散液。
[14]樹脂(A)、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物であって、
 該溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解する第1溶媒と、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない第2溶媒とを含み、
 粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)のメジアン径が0.01~15μmである、組成物。
[15]樹脂(A)及び粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含むフィルムであって、
 粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)の平均一次粒子径は15μm以下である、フィルム。
[16]樹脂(A)とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は6以上である、[15]に記載のフィルム。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
[In the formula (I), m represents an integer of 0 or more, R 7 to R 18 represent hydrogen atoms, halogen atoms or hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms independently of each other, and R 11 to R 14 If there are more than one, they may be the same or different from each other, and R 16 and R 17 may bond to each other and form a ring with the carbon atoms they bond to.]
The production method according to any one of [1] to [8], which comprises a monomer unit (I) derived from cycloolefin represented by.
[10] The production method according to any one of [1] to [9], wherein the dispersion liquid contains a particulate cycloolefin polymer (B) having a median diameter of 0.01 to 15 μm.
[11] The production method according to any one of [1] to [10], wherein the glass transition temperature of the resin (A) is 180 ° C. or higher.
[12] The resin (A) is at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin, a liquid crystal polymer, a fluororesin, an aromatic polyether resin, and a maleimide resin, [1] to [ 11] The manufacturing method according to any one of.
[13] A dispersion liquid containing a particulate cycloolefin polymer (B) and a solvent.
The solvent contains a first solvent in which the cycloolefin polymer (B) is dissolved and a second solvent in which the cycloolefin polymer (B) is not dissolved.
A dispersion liquid in which the median diameter of the particulate cycloolefin polymer (B) is 0.01 to 15 μm.
[14] A composition comprising a resin (A), a particulate cycloolefin polymer (B), and a solvent.
The solvent contains a first solvent in which the cycloolefin polymer (B) is dissolved and a second solvent in which the cycloolefin polymer (B) is not dissolved.
A composition in which the median diameter of the particulate cycloolefin polymer (B) is 0.01 to 15 μm.
[15] A film containing the resin (A) and the particulate cycloolefin polymer (B).
A film having an average primary particle size of 15 μm or less for the particulate cycloolefin polymer (B).
[16] The film according to [15], wherein the distance between the HSP values of the resin (A) and the cycloolefin polymer (B) is 6 or more.
 本発明の製造方法によれば、粒子径の小さい粒子状シクロオレフィン系ポリマー、樹脂及び溶媒を含む組成物を得ることができる。また本発明のフィルムは、粒子径の小さい粒子状シクロオレフィン系ポリマー及び樹脂を含むことができる。 According to the production method of the present invention, a composition containing a particulate cycloolefin polymer having a small particle size, a resin and a solvent can be obtained. Further, the film of the present invention can contain a particulate cycloolefin-based polymer and a resin having a small particle size.
[組成物の製造方法]
 本発明の製造方法は、樹脂(A)、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物の製造方法であり、シクロオレフィン系ポリマー(B)を第1溶媒に溶解させてシクロオレフィン系ポリマー(B)溶液を得る工程(1);該シクロオレフィン系ポリマー(B)溶液を第2溶媒に接触させた後、第1溶媒を留去して、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含む分散液(以下、粒子状ポリマー(B)分散液ということがある)を得る工程(2);及び該分散液に樹脂(A)を添加する工程(3)を含む。
[Method for producing composition]
The production method of the present invention is a method for producing a composition containing a resin (A), a particulate cycloolefin polymer (B) and a solvent, and the cycloolefin polymer (B) is dissolved in a first solvent to form a cycloolefin. Step (1) to obtain a system polymer (B) solution; after contacting the cycloolefin polymer (B) solution with a second solvent, the first solvent is distilled off to obtain a particulate cycloolefin polymer (B). (2); includes a step (2) of obtaining a dispersion liquid containing the above (hereinafter, may be referred to as a particulate polymer (B) dispersion liquid); and a step (3) of adding the resin (A) to the dispersion liquid.
 本発明者らは、組成物の製造方法において、工程(1)~(3)を含むと、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)の凝集を抑制でき、粒子径の小さい組成物が得られることを見出した。さらに、得られる組成物は、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)の分散性に優れることも見出した。 The present inventors can suppress the aggregation of the particulate cycloolefin polymer (B) by including the steps (1) to (3) in the method for producing the composition, and can obtain a composition having a small particle size. I found. Furthermore, it has been found that the obtained composition is excellent in dispersibility of the particulate cycloolefin polymer (B).
[工程(1)]
 工程(1)は、シクロオレフィン系ポリマー(B)を第1溶媒に溶解させてシクロオレフィン系ポリマー(B)溶液(以下、ポリマー(B)溶液ということがある)を得る工程である。
[Step (1)]
The step (1) is a step of dissolving the cycloolefin polymer (B) in the first solvent to obtain a cycloolefin polymer (B) solution (hereinafter, may be referred to as a polymer (B) solution).
 <シクロオレフィン系ポリマー(B)>
 シクロオレフィン系ポリマー(B)(以下、単にポリマー(B)ということがある)を構成する単量体単位は、特に限定されないが、粒子状ポリマー(B)の粒子径を低減しやすく、組成物から得られるフィルムの表面平滑性、耐吸水性、誘電特性及び機械的特性を高めやすく、かつ線膨張係数(以下、CTEと称することがある)を低減しやすい観点から、ポリマー(B)は、式(I)
<Cycloolefin polymer (B)>
The monomer unit constituting the cycloolefin polymer (B) (hereinafter, may be simply referred to as the polymer (B)) is not particularly limited, but the particle size of the particulate polymer (B) can be easily reduced, and the composition The polymer (B) is a polymer (B) from the viewpoint of easily improving the surface smoothness, water absorption resistance, dielectric property and mechanical property of the film obtained from the above, and easily reducing the linear expansion coefficient (hereinafter, may be referred to as CTE). Equation (I)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
[式(I)中、mは0以上の整数を表し、
~R18は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~20の炭化水素基を表し、R11~R14が複数存在する場合、それらは互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、R16とR17とは互いに結合し、それらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい]
で表されるシクロオレフィン由来の単量体単位(I)を含むことが好ましい。なお、以下、「粒子状ポリマー(B)の粒子径」を単に「粒子径」ということがあり、「組成物から形成されたフィルム」を単に「フィルム」ということがある。また、本明細書において、誘電特性とは、誘電損失、比誘電率及び誘電正接を含む誘電に関する特性を意味し、誘電特性が高まる又は向上するとは、例えば、誘電損失、比誘電率及び/又は誘電正接が低減することを示す。また、本明細書において、機械的特性とは、屈曲耐性及び弾性率を含む機械的な特性を意味し、機械的特性が高まる又は向上するとは、例えば、屈曲耐性及び/又は弾性率が高くなることを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
[In equation (I), m represents an integer of 0 or more,
R 7 to R 18 represent hydrogen atoms, halogen atoms or hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms independently of each other, and when a plurality of R 11 to R 14 are present, they may be the same as each other. They may be different, and R 16 and R 17 may bond to each other and form a ring with the carbon atoms they bond to.]
It is preferable to contain the monomer unit (I) derived from cycloolefin represented by. Hereinafter, the "particle diameter of the particulate polymer (B)" may be simply referred to as "particle diameter", and the "film formed from the composition" may be simply referred to as "film". Further, in the present specification, the dielectric property means a property related to dielectric including dielectric loss, relative permittivity and dielectric loss tangent, and that the dielectric property is enhanced or improved is, for example, dielectric loss, relative permittivity and / or. It shows that the dielectric loss tangent is reduced. Further, in the present specification, the mechanical property means the mechanical property including the bending resistance and the elastic modulus, and when the mechanical property is enhanced or improved, for example, the bending resistance and / or the elastic modulus is increased. Show that.
 式(I)において、mは0以上の整数である。粒子径及びフィルムのCTEを低減しやすく、かつフィルムの表面平滑性、耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性を高めやすく、入手も容易である観点からは、mの上限は好ましくは3以下の整数、より好ましくは2以下の整数、さらに好ましくは1以下の整数である。 In equation (I), m is an integer of 0 or more. From the viewpoint that the particle size and CTE of the film can be easily reduced, the mechanical properties such as surface smoothness, heat resistance and bending resistance of the film can be easily improved, and the film can be easily obtained, the upper limit of m is preferably 3 or less. It is an integer, more preferably an integer of 2 or less, and even more preferably an integer of 1 or less.
 R~R18の置換基の一員である炭素数1~20の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチール基等のアラルキル基;上記アルキル基、アリール基及びアラルキル基の水素原子の一部がハロゲン原子で置換された基等が挙げられる。これらの中でも、フィルムの耐吸水性、耐熱性、誘電特性及び機械的特性を高めやすく、かつフィルムのCTEを低減しやすい観点から、アルキル基、アリール基又はアラルキル基であることが好ましい。すなわち、R~R18は、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、炭素数6~20のアリール基又は炭素数7~20のアラルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基であることがより好ましい。 Examples of the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which is a member of the substituents of R 7 to R 18 , include an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group and a dodecyl group. An aryl group such as a phenyl group, a trill group, or a naphthyl group; an aralkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group; a group in which a part of the hydrogen atom of the alkyl group, the aryl group or the aralkyl group is substituted with a halogen atom and the like can be mentioned. Be done. Among these, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group is preferable from the viewpoint of easily enhancing the water absorption resistance, heat resistance, dielectric property and mechanical property of the film and easily reducing the CTE of the film. That is, R 7 to R 18 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and are preferably a hydrogen atom or an aralkyl group having 1 to 20 carbon atoms. More preferably, it is an alkyl group of ~ 10.
 式(I)で表されるシクロオレフィンとしては、例えば、ノルボルネン、5-メチルノルボルネン、5-エチルノルボルネン、5-ブチルノルボルネン、5-フェニルノルボルネン、5-ベンジルノルボルネン、テトラシクロドデセン、トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシクロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、8-メチルテトラシクロドデセン、8-エチルテトラシクロドデセンなどが挙げられる。これらの中でも、原料モノマーの入手容易性、粒子径及びフィルムのCTEの低減、並びにフィルムの表面平滑性、耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性向上の観点から、ノルボルネンであることが好ましい。式(I)で表されるシクロオレフィンは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the cycloolefin represented by the formula (I) include norbornene, 5-methylnorbornene, 5-ethylnorbornene, 5-butylnorbornene, 5-phenylnorbornene, 5-benzylnorbornene, tetracyclododecene and tricyclodecene. , Tricycloundecene, pentacyclopentadecene, pentacyclohexadecene, 8-methyltetracyclododecene, 8-ethyltetracyclododecene and the like. Among these, norbornene is preferable from the viewpoint of easy availability of raw material monomers, reduction of particle size and CTE of the film, and improvement of mechanical properties such as surface smoothness, heat resistance and bending resistance of the film. The cycloolefin represented by the formula (I) may be used alone or in combination of two or more.
 本発明の一実施形態において、ポリマー(B)は、単量体単位(I)の二連鎖構造を含むことが好ましい。該二連鎖構造を含むことにより、単量体単位(I)の含有量が同程度のポリマーに比べて、耐熱性を向上しやすい。なお、二連鎖構造の有無は、13C-NMRスペクトル分析により判定することができる。例えば、テトラシクロデセン-エチレン共重合体の場合、テトラシクロデセンの孤立鎖であるエチレン-テトラシクロデセン-エチレン連鎖由来のシグナルは、54.7ppm付近及び51.1ppm付近に現れ、endo-exo結合のテトラシクロデセンの二連鎖であるエチレン-テトラシクロデセン-テトラシクロデセン-エチレン連鎖由来のシグナルは、51.5ppm付近及び50.8ppm付近に、exo-exo結合のエチレン-テトラシクロデセン-テトラシクロデセン-エチレン連鎖由来のシグナルは、55.3ppm付近及び54.3ppm付近に現れるので、55ppm近辺及び50ppm近辺のシグナルのパターンで判定することができる。 In one embodiment of the invention, the polymer (B) preferably comprises a two-chain structure of monomeric units (I). By including the two-chain structure, the heat resistance is likely to be improved as compared with a polymer having the same content of the monomer unit (I). The presence or absence of the two-chain structure can be determined by 13 C-NMR spectrum analysis. For example, in the case of a tetracyclodecene-ethylene copolymer, signals derived from the ethylene-tetracyclodecene-ethylene chain, which is an isolated chain of tetracyclodecene, appear at around 54.7 ppm and around 51.1 ppm, and endo-exo bond. Ethylene-tetracyclodecene-tetracyclodecene-ethylene chain-derived signals, which are two chains of tetracyclodecene, are located near 51.5 ppm and around 50.8 ppm, and are exo-exo-bonded ethylene-tetracyclodecene-tetracyclo. Since the signal derived from the decene-ethylene chain appears at around 55.3 ppm and around 54.3 ppm, it can be determined by the signal pattern around 55 ppm and around 50 ppm.
 単量体単位(I)の二連鎖構造には、下記構造式(II-1)又は下記構造式(II-2)で表されるメソ型二連鎖、及び/又は、下記構造式(III-1)又は下記構造式(III-2)で表されるラセモ型二連鎖が含まれる。 The two-chain structure of the monomer unit (I) includes a meso-type two-chain structure represented by the following structural formula (II-1) or the following structural formula (II-2), and / or the following structural formula (III-). 1) or a racemo type two chain represented by the following structural formula (III-2) is included.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 メソ型二連鎖とラセモ型二連鎖との比(以下、メソ型二連鎖/ラセモ型二連鎖と称することがある)は、好ましくは0.50以下、より好ましくは0.40以下、さらに好ましくは0.30以下、特に好ましくは0.20以下であり、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.05以上である。メソ型二連鎖とラセモ型二連鎖との比が上記範囲であると、フィルムの機械的特性及び耐熱性を高めやすい。メソ型二連鎖とラセモ型二連鎖との比は、例えば13C-NMRを用いて、「R.A.Wendt,G.Fink,Macromol.Chem.Phys.,2001,202,3490」及び「特開2008-285656号公報」に記載の帰属に基づいて算出でき、具体的には実施例に記載の方法により算出できる。なお、メソ型二連鎖とラセモ型二連鎖を上記範囲に調整する方法としては、モノマーの嵩高さに対して、適切な配位子の広さを持った触媒を選択する方法等がある。前記触媒としては、例えば、特開平9-183809号公報に記載された触媒を用いることができる。 The ratio of the meso-type two-chain to the racemo-type two-chain (hereinafter, may be referred to as meso-type two-chain / racemo-type two-chain) is preferably 0.50 or less, more preferably 0.40 or less, still more preferably. It is 0.30 or less, particularly preferably 0.20 or less, preferably 0.01 or more, and more preferably 0.05 or more. When the ratio of the meso-type two-chain to the racemic-type two-chain is within the above range, the mechanical properties and heat resistance of the film can be easily improved. The ratio of the meso-type two-chain to the racemic-type two-chain is, for example, using 13 C-NMR in "RA Wendt, G. Fink, Macromol. Chem. Phys., 2001, 202, 3490" and "Special. It can be calculated based on the attribution described in "Kai 2008-285656", and specifically, it can be calculated by the method described in Examples. As a method for adjusting the meso-type two-chain and the racemo-type two-chain within the above range, there is a method of selecting a catalyst having an appropriate ligand width with respect to the bulkiness of the monomer. As the catalyst, for example, the catalyst described in JP-A-9-183809 can be used.
 ポリマー(B)における前記単量体単位(I)の含有量は、ポリマー(B)を構成する繰り返し単位の合計モル量に対して、好ましくは60mol%以上、より好ましくは65mol%以上、さらに好ましくは70mol%以上、特に好ましくは75mol%以上であり、好ましくは100mol%以下、より好ましくは99mol%以下、さらに好ましくは98mol%以下である。単量体単位(I)の含有量が上記の下限以上であると、ガラス転移温度(以下、Tgと称することがある)を高めやすいため、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性を向上しやすい。単量体単位(I)の含有量が上記の上限以下であると、屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい。単量体単位(I)の含有量は、13C-NMRを用いて、「R.A.Wendt,G.Fink,Macromol.Chem.Phys.,2001,202,3490」に記載の帰属に基づいて算出でき、例えば実施例に記載の方法により算出できる。 The content of the monomer unit (I) in the polymer (B) is preferably 60 mol% or more, more preferably 65 mol% or more, still more preferably 65 mol% or more, based on the total molar amount of the repeating units constituting the polymer (B). Is 70 mol% or more, particularly preferably 75 mol% or more, preferably 100 mol% or less, more preferably 99 mol% or less, still more preferably 98 mol% or less. When the content of the monomer unit (I) is equal to or higher than the above lower limit, the glass transition temperature (hereinafter, may be referred to as Tg) is likely to be increased, so that the CTE of the film is easily reduced, and the heat resistance and bending are easy. It is easy to improve mechanical properties such as resistance. When the content of the monomer unit (I) is not more than the above upper limit, it is easy to enhance mechanical properties such as bending resistance. The content of the monomeric unit (I) is based on the attribution described in "RA Wendt, G. Fink, Macromol. Chem. Phys., 2001, 202, 3490" using 13 C-NMR. It can be calculated, for example, by the method described in Examples.
 ポリマー(B)は、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい観点から、エチレン、炭素数3~20の直鎖状α-オレフィン、及び炭素数8~20の芳香族ビニル化合物からなる群から選択される少なくとも1つに由来する単量体単位(II)を含むことが好ましく、エチレンに由来する単量体単位(II)を含むことがより好ましい。 The polymer (B) has ethylene, a linear α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, and 8 to 20 carbon atoms from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and enhancing mechanical properties such as bending resistance. It preferably contains a monomer unit (II) derived from at least one selected from the group consisting of aromatic vinyl compounds, and more preferably contains a monomer unit (II) derived from ethylene.
 炭素数3~20の直鎖状α-オレフィンとしては、例えば、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-ヘプテン、1-オクテン、1-ノネン、1-デセン等が挙げられる。これらの中でも、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい観点から、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン又は1-オクテンであることが好ましく、プロピレンであることがより好ましい。炭素数3~20の直鎖状α-オレフィンは、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。なお、「直鎖状α-オレフィン」とは、α位に炭素-炭素不飽和二重結合を有する直鎖状のオレフィンをいう。 Examples of the linear α-olefin having 3 to 20 carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene and the like. .. Among these, propylene, 1-butene, 1-hexene or 1-octene is preferable, and propylene is preferable, from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily enhancing the mechanical properties such as bending resistance. More preferred. As the linear α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. The "linear α-olefin" refers to a linear olefin having a carbon-carbon unsaturated double bond at the α-position.
 炭素数8~20の芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、エチルスチレン、tert-ブチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ジフェニルエチレン、イソプロペニルベンゼン、イソプロペニルトルエン、イソプロペニルエチルベンゼン、イソプロペニルプロピルベンゼン、イソプロペニルブチルベンゼン、イソプロペニルペンチルベンゼン、イソプロペニルヘキシルベンゼン、イソプロペニルオクチルベンゼン、イソプロペニルナフタレン、イソプロペニルアントラセン等が挙げられる。これらの中でも、原料モノマーの入手容易性、及びフィルムのCTEを低減しやすく、かつ屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい観点から、好ましくはスチレン、メチルスチレンまたはジメチルスチレン、より好ましくはスチレンである。炭素数8~20の芳香族ビニル化合物は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the aromatic vinyl compound having 8 to 20 carbon atoms include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, ethylstyrene, tert-butylstyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, diphenylethylene, isopropenylbenzene, isopropenyltoluene and isopropenyl. Examples thereof include ethylbenzene, isopropenylpropylbenzene, isopropenylbutylbenzene, isopropenylpentylbenzene, isopropenylhexylbenzene, isopropenyloctylbenzene, isopropenylnaphthalene, isopropenylanthracene and the like. Among these, styrene, methylstyrene or dimethylstyrene is preferable, and styrene is more preferable, from the viewpoints of easy availability of the raw material monomer, easy reduction of CTE of the film, and easy improvement of mechanical properties such as bending resistance. .. As the aromatic vinyl compound having 8 to 20 carbon atoms, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
 本発明の一実施形態において、ポリマー(B)は、原料モノマーの入手容易性、及びフィルムのCTEを低減しやすく、かつ屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい観点から、エチレン、プロピレン及びスチレンからなる群から選択される少なくとも1つに由来する単量体単位(II)、より好ましくはエチレン及びスチレンからなる群から選択される少なくとも1つに由来する単量体単位(II)を含むことが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the polymer (B) is made from ethylene, propylene and styrene from the viewpoints of easy availability of a raw material monomer, easy reduction of CTE of a film, and easy improvement of mechanical properties such as bending resistance. It may contain a monomer unit (II) derived from at least one selected from the group consisting of ethylene and styrene, more preferably a monomer unit (II) derived from at least one selected from the group consisting of ethylene and styrene. preferable.
 ポリマー(B)における前記単量体単位(II)の含有量は、ポリマー(B)を構成する繰り返し単位の合計モル量に対して、好ましくは0mol%以上、より好ましくは0.01mol%以上、さらに好ましくは1mol%以上、さらにより好ましくは2mol%以上であり、好ましくは40mol%以下、より好ましくは35mol%以下、さらに好ましくは30mol%以下、特に好ましくは25mol%以下である。単量体単位(II)の含有量が上記の下限以上であると、フィルムの屈曲耐性等の機械的特性、加工性・成形性を高めやすい。単量体単位(II)の含有量が上記の上限以下であると、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性を向上しやすい。 The content of the monomer unit (II) in the polymer (B) is preferably 0 mol% or more, more preferably 0.01 mol% or more, based on the total molar amount of the repeating units constituting the polymer (B). It is more preferably 1 mol% or more, still more preferably 2 mol% or more, preferably 40 mol% or less, more preferably 35 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less, and particularly preferably 25 mol% or less. When the content of the monomer unit (II) is at least the above lower limit, it is easy to improve mechanical properties such as bending resistance of the film, processability and moldability. When the content of the monomer unit (II) is not more than the above upper limit, it is easy to reduce the CTE of the film and to improve the mechanical properties such as heat resistance and bending resistance.
 本発明の一実施形態において、耐熱性、加工性及び屈曲耐性等の機械的特性を向上しやすく、かつ粒子径及びCTEを低減しやすい観点から、ポリマー(B)は、シクロオレフィン系コポリマーであることが好ましく、式(I)で表されるシクロオレフィン由来の単量体単位(I)とエチレン、炭素数3~20の直鎖状α-オレフィン及び炭素数8~20の芳香族ビニル化合物からなる群から選択される少なくとも1つに由来する単量体単位(II)とを含むシクロオレフィン系コポリマーであることがより好ましく、ノルボルネンに由来する単量体単位(I)とエチレンに由来する単量体単位(II)とを含むエチレン-ノルボルネン共重合体、又はノルボルネンに由来する単量体単位(I)とスチレンに由来する単量体単位(II)とを含むスチレン-ノルボルネン共重合体であることがさらに好ましい。 In one embodiment of the present invention, the polymer (B) is a cycloolefin-based polymer from the viewpoint of easily improving mechanical properties such as heat resistance, processability and bending resistance, and easily reducing the particle size and CTE. It is preferable that the monomer unit (I) derived from cycloolefin represented by the formula (I) is composed of ethylene, a linear α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic vinyl compound having 8 to 20 carbon atoms. More preferably, it is a cycloolefin-based polymer containing a monomer unit (II) derived from at least one selected from the group, and a monomer unit (I) derived from norbornene and a simple polymer derived from ethylene. An ethylene-norbornene copolymer containing a weight unit (II) or a styrene-norbornene copolymer containing a monomer unit (I) derived from norbornene and a monomer unit (II) derived from styrene. It is more preferable to have.
 ポリマー(B)は、その他の単量体単位(III)を含んでいてもよい。その他の単量体単位(III)としては、例えば、ブタジエン又はイソプレン等の共役ジエン;1,4-ペンタジエン等の非共役ジエン;アクリル酸;アクリル酸メチル又はアクリル酸エチル等のアクリル酸エステル;メタクリル酸;メタクリル酸メチル又はメタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル;酢酸ビニル等が挙げられる。その他の単量体単位(III)は単独又は二種以上組合せて使用できる。
 なお、ポリマー(B)は単独又は二種以上組合せて使用できる。
The polymer (B) may contain other monomeric units (III). Other monomeric units (III) include, for example, conjugated diene such as butadiene or isoprene; non-conjugated diene such as 1,4-pentadien; acrylic acid; acrylic acid ester such as methyl acrylate or ethyl acrylate; methacrylic. Acids; methacrylic acid esters such as methyl methacrylate or ethyl methacrylate; vinyl acetate and the like. The other monomer unit (III) can be used alone or in combination of two or more.
The polymer (B) can be used alone or in combination of two or more.
 本発明の一実施形態において、ポリマー(B)の重量平均分子量(以下、重量平均分子量をMwと略すことがある)は、好ましくは30,000以上、より好ましくは50,000以上、さらに好ましくは70,000以上、特に好ましくは90,000以上であり、好ましくは2,000,000以下、より好ましくは1,000,000以下、さらに好ましくは700,000以下である。Mwが上記の下限以上であると、耐熱性を高めやすく、かつ強度を向上しやすい。Mwが上記の上限以下であると、機械的特性及び成形性を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the weight average molecular weight of the polymer (B) (hereinafter, the weight average molecular weight may be abbreviated as Mw) is preferably 30,000 or more, more preferably 50,000 or more, still more preferably. It is 70,000 or more, particularly preferably 90,000 or more, preferably 2,000,000 or less, more preferably 1,000,000 or less, still more preferably 700,000 or less. When Mw is at least the above lower limit, heat resistance is likely to be increased and strength is likely to be improved. When Mw is not more than the above upper limit, mechanical properties and moldability are likely to be improved.
 本発明の一実施形態において、ポリマー(B)のMwと数平均分子量(以下、数平均分子量をMnと略すことがある)との比(Mw/Mn)は、ポリスチレン換算で、好ましくは2.5以下、より好ましくは2.2以下、さらに好ましくは2.0以下、さらにより好ましくは1.95以下、特に好ましくは1.90以下であり、好ましくは1.30以上、より好ましくは1.50以上、さらに好ましくは1.60以上、特に好ましくは1.65以上である。Mw/Mn比が上記の上限以下であると、フィルムの機械的特性を高めやすく、また上記の下限以上であると成形性を高めやすい。なお、Mw及びMnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPCと略すことがある)測定を行い、標準ポリスチレン換算により求めることができ、例えば実施例に記載の方法により求められる。 In one embodiment of the present invention, the ratio (Mw / Mn) of Mw of the polymer (B) to the number average molecular weight (hereinafter, the number average molecular weight may be abbreviated as Mn) is preferably 2. 5 or less, more preferably 2.2 or less, still more preferably 2.0 or less, even more preferably 1.95 or less, particularly preferably 1.90 or less, preferably 1.30 or more, still more preferably 1. It is 50 or more, more preferably 1.60 or more, and particularly preferably 1.65 or more. When the Mw / Mn ratio is not more than the above upper limit, it is easy to improve the mechanical properties of the film, and when it is more than the above lower limit, it is easy to improve the moldability. In addition, Mw and Mn can be determined by gel permeation chromatography (hereinafter, may be abbreviated as GPC) measurement and converted to standard polystyrene, and can be determined, for example, by the method described in Examples.
 本発明の一実施形態において、CTEが低減されたフィルムを得られやすい観点から、ポリマー(B)の屈折率は、好ましくは1.600以下、より好ましくは1.570以下、さらに好ましくは1.550以下であり、好ましくは1.500以上、より好ましくは1.520以上である。ポリマー(B)の屈折率は屈折計により測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 In one embodiment of the present invention, the refractive index of the polymer (B) is preferably 1.600 or less, more preferably 1.570 or less, still more preferably 1. It is 550 or less, preferably 1.500 or more, and more preferably 1.520 or more. The refractive index of the polymer (B) can be measured by a refractometer, for example, by the method described in Examples.
 本発明の一実施形態において、ポリマー(B)のCTEは、好ましくは58ppm/K以下、より好ましくは55ppm/K以下、さらに好ましくは50ppm/K以下であり、好ましくは0ppm/K以上、より好ましくは0.01ppm/K以上、さらに好ましくは1ppm/K以上、さらにより好ましくは5ppm/K以上である。ポリマー(B)のCTEが上記の上限以下であると、得られるフィルムのCTEを低減しやすい。また、銅フィルムと貼り合せて銅張積層板を作製する場合には、積層フィルムの剥がれ防止の観点から、フィルムのCTEを20ppm/K前後に調整することが好ましい。混合する樹脂のCTEに応じて、最適なCTEを有するポリマー(B)を選択することができる。なお、CTEは、例えば熱機械分析(以下、TMAと称することがある)により測定でき、実施例に記載の方法により求められる。 In one embodiment of the present invention, the CTE of the polymer (B) is preferably 58 ppm / K or less, more preferably 55 ppm / K or less, still more preferably 50 ppm / K or less, preferably 0 ppm / K or more, more preferably. Is 0.01 ppm / K or more, more preferably 1 ppm / K or more, still more preferably 5 ppm / K or more. When the CTE of the polymer (B) is not more than the above upper limit, it is easy to reduce the CTE of the obtained film. Further, when a copper-clad laminate is produced by laminating with a copper film, it is preferable to adjust the CTE of the film to around 20 ppm / K from the viewpoint of preventing the laminated film from peeling off. The polymer (B) having the optimum CTE can be selected according to the CTE of the resin to be mixed. The CTE can be measured by, for example, thermomechanical analysis (hereinafter, may be referred to as TMA), and can be obtained by the method described in Examples.
 本発明の一実施形態において、ポリマー(B)のガラス転移温度及び融点の少なくともいずれか一方は100℃以上であることが好ましい。ポリマー(B)のTgは、好ましくは100℃以上、より好ましくは140℃以上、さらに好ましくは160℃以上、さらにより好ましくは180℃以上、特に好ましくは200℃以上、特により好ましくは220℃以上、特にさらに好ましくは240℃以上、最も好ましくは260℃以上であり、好ましくは500℃以下、より好ましくは400℃以下、さらに好ましくは320℃以下である。また、ポリマー(B)が融点を有する結晶性ポリマーである場合、ポリマー(B)の融点が、好ましくは100℃以上、より好ましくは140℃以上、さらに好ましくは160℃以上、さらにより好ましくは180℃以上、特に好ましくは200℃以上、特により好ましくは220℃以上、特にさらに好ましくは240℃以上、最も好ましくは260℃以上であり、好ましくは500℃以下、より好ましくは400℃以下、さらに好ましくは350℃以下である。ポリマー(B)のTg及び融点の少なくともいずれか一方が上記の下限以上であると、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性をより高めやすい。ポリマー(B)のTg及び融点の少なくともいずれか一方が上記の上限以下であると、機械的特性、特に反復屈曲耐性が高めやすい。ポリマー(B)のTgは、JIS K 7196に基づき、TMAにより測定した軟化温度であり、例えば実施例に記載の方法により測定できる。なお、ポリマー(B)のTg又は融点を調整する方法は、特に限定されないが、例えば単量体単位(I)の含有量、ポリマー(B)のMw、結晶化度等を適宜調整する方法が挙げられる。単量体単位(I)の含有量、ポリマー(B)のMw、及び結晶化度からなる群から選択される少なくとも1つが大きくなるほど、ポリマー(B)のTgや融点が高くなる傾向がある。ポリマー(B)の融点は、例えば示差走査熱量計(DSC、株式会社日立ハイテクサイエンス製)を用いて、これにより得られる融解曲線から融解ピーク温度を測定することにより求めることができる。 In one embodiment of the present invention, at least one of the glass transition temperature and the melting point of the polymer (B) is preferably 100 ° C. or higher. The Tg of the polymer (B) is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher, still more preferably 160 ° C. or higher, still more preferably 180 ° C. or higher, particularly preferably 200 ° C. or higher, and particularly more preferably 220 ° C. or higher. In particular, it is more preferably 240 ° C. or higher, most preferably 260 ° C. or higher, preferably 500 ° C. or lower, more preferably 400 ° C. or lower, still more preferably 320 ° C. or lower. When the polymer (B) is a crystalline polymer having a melting point, the melting point of the polymer (B) is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher, still more preferably 160 ° C. or higher, still more preferably 180 ° C. or higher. ° C. or higher, particularly preferably 200 ° C. or higher, particularly more preferably 220 ° C. or higher, particularly preferably 240 ° C. or higher, most preferably 260 ° C. or higher, preferably 500 ° C. or lower, more preferably 400 ° C. or lower, still more preferable. Is 350 ° C. or lower. When at least one of the Tg and the melting point of the polymer (B) is at least one of the above lower limit, it is easy to reduce the CTE of the film and to further improve the mechanical properties such as heat resistance and bending resistance. When at least one of the Tg and the melting point of the polymer (B) is not more than or equal to the above upper limit, the mechanical properties, particularly the resistance to repeated bending, are likely to be enhanced. The Tg of the polymer (B) is the softening temperature measured by TMA based on JIS K7196, and can be measured by, for example, the method described in Examples. The method for adjusting the Tg or melting point of the polymer (B) is not particularly limited, but for example, a method for appropriately adjusting the content of the monomer unit (I), Mw of the polymer (B), the degree of crystallinity, and the like can be used. Can be mentioned. The larger the content of the monomer unit (I), the Mw of the polymer (B), and at least one selected from the group consisting of the degree of crystallinity, the higher the Tg and melting point of the polymer (B) tend to be. The melting point of the polymer (B) can be determined by measuring the melting peak temperature from the melting curve obtained by using, for example, a differential scanning calorimeter (DSC, manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation).
 工程(1)において、第1溶媒に溶解させるポリマー(B)の形態は特に限定されず、例えば粒子状、繊維状、シート状、ペレット状などであってもよい。 In the step (1), the form of the polymer (B) to be dissolved in the first solvent is not particularly limited, and may be, for example, particulate, fibrous, sheet-like, pellet-like or the like.
 <シクロオレフィン系ポリマー(B)の製造方法>
 ポリマー(B)の製造方法は特に限定されないが、式(IV)で表される遷移金属錯体(α)を一成分として使用してなる触媒の存在下、ポリマー(B)を形成する単量体、例えば式(I)で表されるシクロオレフィン、前記エチレン、炭素数3~20の直鎖状α-オレフィン、及び炭素数8~20の芳香族ビニル化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つの単量体、及び任意に前記その他の単量体を重合させることにより製造することが好ましい。本発明におけるポリマー(B)の製造では、式(IV)で表される遷移金属錯体(α)を用いるため、ポリマー(B)中の単量体単位(I)の含有量を顕著に増加させやすく、Tgを上記範囲内に調整しやすい。
<Manufacturing method of cycloolefin polymer (B)>
The method for producing the polymer (B) is not particularly limited, but the monomer forming the polymer (B) in the presence of a catalyst using the transition metal complex (α) represented by the formula (IV) as one component. At least one single selected from the group consisting of, for example, a cycloolefin represented by the formula (I), the ethylene, a linear α-olefin having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic vinyl compound having 8 to 20 carbon atoms. It is preferably produced by polymerizing a weight and optionally the other monomer. In the production of the polymer (B) in the present invention, since the transition metal complex (α) represented by the formula (IV) is used, the content of the monomer unit (I) in the polymer (B) is significantly increased. It is easy to adjust Tg within the above range.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

[式(IV)中、Mは元素の周期律表の第4族の遷移金属元素を表し、
Cpはシクロペンタジエニル骨格を有する基を表し、
Aは元素の周期律表の第16族の原子を表し、
Tは元素の周期律表の第14族の原子を表し、
及びDは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数6~20のアリールオキシ基又は炭素数2~20の2置換アミノ基を表し、それらは同一であってもよく、異なってもよい。
~Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数6~20のアリールオキシ基、炭素数2~20の2置換アミノ基又は炭素数1~20のシリル基を表し、それらは同一であってもよく、異なってもよく、さらにそれらは任意に結合して環を形成してもよい。]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

[In equation (IV), M represents a Group 4 transition metal element in the Periodic Table of the Elements.
Cp represents a group having a cyclopentadienyl skeleton and represents
A represents a group 16 atom in the periodic table of elements,
T represents an atom of Group 14 in the periodic table of elements.
D 1 and D 2 are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and 6 to 20 carbon atoms. It represents an aryloxy group or a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms, which may be the same or different.
R 1 to R 6 are a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryl having 6 to 20 carbon atoms. Represents an oxy group, a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms or a silyl group having 1 to 20 carbon atoms, which may be the same or different, and they may be arbitrarily bonded to form a ring. You may. ]
 Mは、元素の周期律表(IUPAC無機化学命名法改訂版1989)の第4族の遷移金属元素であり、例えば、チタニウム原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子等が挙げられる。 M is a transition metal element of Group 4 of the Periodic Table of Elements (IUPAC Inorganic Chemistry Naming Method Revised Edition 1989), and examples thereof include a titanium atom, a zirconium atom, and a hafnium atom.
 Cpは、シクロペンタジエニル骨格を有する基であり、例えば、シクロペンタジエニル、置換シクロペンタジエニル、インデニル、置換インデニル、フルオレニル、置換フルオレニル等が挙げられる。具体例としては、シクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、n-プロピルシクロペンタジエニル基、n-ブチルシクロペンタジエニル基、イソブチルシクロペンタジエニル基、フェニルシクロペンタジエニル基、インデニル基、メチルインデニル基、n-プロピルインデニル基、n-ブチルインデニル基、イソブチルインデニル基、フェニルインデニル基、フルオレニル基、メチルフルオレニル基、n-プロピルフルオレニル基、フェニルフルオレニル基、ジメチルフルオレニル基等が挙げられる。これらの中でも、好ましくはシクロペンタジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、n-ブチルシクロペンタジエニル基、イソブチルシクロペンタジエニル基、インデニル基、メチルインデニル基又はフルオレニル基が挙げられる。 Cp is a group having a cyclopentadienyl skeleton, and examples thereof include cyclopentadienyl, substituted cyclopentadienyl, indenyl, substituted indenyl, fluorenyl, substituted fluorenyl and the like. Specific examples include a cyclopentadienyl group, a methylcyclopentadienyl group, a tetramethylcyclopentadienyl group, an n-propylcyclopentadienyl group, an n-butylcyclopentadienyl group, and an isobutylcyclopentadienyl group. , Phenylcyclopentadienyl group, indenyl group, methylindenyl group, n-propylindenyl group, n-butylindenyl group, isobutylindenyl group, phenylindenyl group, fluorenyl group, methylfluorenyl group, n -A propylfluorenyl group, a phenylfluorenyl group, a dimethylfluorenyl group and the like can be mentioned. Among these, preferably a cyclopentadienyl group, a methylcyclopentadienyl group, a tetramethylcyclopentadienyl group, an n-butylcyclopentadienyl group, an isobutylcyclopentadienyl group, an indenyl group, a methylindenyl group. Alternatively, a fluorenyl group may be mentioned.
 Aは、元素の周期律表の第16族の原子であり、例えば、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。これらの中でも、酸素原子であることが好ましい。 A is an atom of Group 16 in the periodic table of elements, and examples thereof include an oxygen atom and a sulfur atom. Among these, an oxygen atom is preferable.
 Tは、元素の周期律表の第14族の原子であり、例えば、炭素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、炭素原子又はケイ素原子であることが好ましい。 T is an atom of Group 14 of the periodic table of elements, and examples thereof include a carbon atom, a silicon atom, and a germanium atom. Among these, a carbon atom or a silicon atom is preferable.
 D、Dは、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数6~20のアリールオキシ基又は炭素数2~20の2置換アミノ基であり、それらは同一であってもよく、異なってもよい。これらの中でも、ハロゲン原子であることが好ましい。 D 1 and D 2 are independent of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon number of carbon atoms. It is an aryloxy group of 6 to 20 or a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms, which may be the same or different. Among these, a halogen atom is preferable.
 D、Dがハロゲン原子である場合の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Specific examples of cases where D 1 and D 2 are halogen atoms include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
 D、Dが炭化水素基である場合、その炭素数は好ましくは1~10である。前記炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、ナフチル基、ベンジル基等が挙げられる。 When D 1 and D 2 are hydrocarbon groups, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 to 10. Examples of the hydrocarbon group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group and n-hexyl. Examples thereof include a group, an n-octyl group, a phenyl group, a 2-methylphenyl group, a 3-methylphenyl group, a 4-methylphenyl group, a naphthyl group, a benzyl group and the like.
 D、Dがハロゲン化炭化水素基である場合の具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、1,1-ジフルオロエチル基、1,2-ジフルオロエチル基、1,1,2-トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、1-クロロエチル基、1,1-ジクロロエチル基、1,2-ジクロロエチル基、1,1,2-トリクロロエチル基、1,1,2,2-テトラクロロエチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、1-ブロモエチル基、1,1-ジブロモエチル基、1,2-ジブロモエチル基、1,1,2-トリブロモエチル基、1,1,2,2-テトラブロモエチル基、2-フルオロフェニル基、3-フルオロフェニル基、4-フルオロフェニル基、2,3-ジフルオロフェニル基、2,4-ジフルオロフェニル基、2,5-ジフルオロフェニル基、2,6-ジフルオロフェニル基、2,3,4-トリフルオロフェニル基、2,3,5-トリフルオロフェニル基、2,3,6-トリフルオロフェニル基、2,3,4,5-テトラフルオロフェニル基、2,3,4,6-テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、2-クロロフェニル基、3-クロロフェニル基、4-クロロフェニル基、2,3-ジクロロフェニル基、2,4-ジクロロフェニル基、2,5-ジクロロフェニル基、2,6-ジクロロフェニル基、2,3,4-トリクロロフェニル基、2,3,5-トリクロロフェニル基、2,3,6-トリクロロフェニル基、2,3,4,5-テトラクロロフェニル基、2,3,4,6-テトラクロロフェニル基、ペンタクロロフェニル基、2-ブロモフェニル基、3-ブロモフェニル基、4-ブロモフェニル基、2,3-ジブロモフェニル基、2,4-ジブロモフェニル基、2,5-ジブロモフェニル基、2,6-ジブロモフェニル基、2,3,4-トリブロモフェニル基、2,3,5-トリブロモフェニル基、2,3,6-トリブロモフェニル基、2,3,4,5-テトラブロモフェニル基、2,3,4,6-テトラブロモフェニル基、ペンタブロモフェニル基等が挙げられる。 Specific examples of cases where D 1 and D 2 are halogenated hydrocarbon groups include a fluoromethyl group, a difluoromethyl group, a 1-fluoroethyl group, a 1,1-difluoroethyl group, and a 1,2-difluoroethyl group. 1,1,2-trifluoroethyl group, tetrafluoroethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group, 1-chloroethyl group, 1,1-dichloroethyl group, 1,2-dichloroethyl group, 1,1,2 -Trichloroethyl group, 1,1,2,2-tetrachloroethyl group, bromomethyl group, dibromomethyl group, 1-bromoethyl group, 1,1-dibromoethyl group, 1,2-dibromoethyl group, 1,1,2 -Tribromoethyl group, 1,1,2,2-tetrabromoethyl group, 2-fluorophenyl group, 3-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, 2,3-difluorophenyl group, 2,4-difluoro Phenyl group, 2,5-difluorophenyl group, 2,6-difluorophenyl group, 2,3,4-trifluorophenyl group, 2,3,5-trifluorophenyl group, 2,3,6-trifluorophenyl Group, 2,3,4,5-tetrafluorophenyl group, 2,3,4,6-tetrafluorophenyl group, pentafluorophenyl group, 2-chlorophenyl group, 3-chlorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2, 3-Dichlorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,5-dichlorophenyl group, 2,6-dichlorophenyl group, 2,3,4-trichlorophenyl group, 2,3,5-trichlorophenyl group, 2,3 6-Trichlorophenyl group, 2,3,4,5-tetrachlorophenyl group, 2,3,4,6-tetrachlorophenyl group, pentachlorophenyl group, 2-bromophenyl group, 3-bromophenyl group, 4-bromophenyl Group, 2,3-dibromophenyl group, 2,4-dibromophenyl group, 2,5-dibromophenyl group, 2,6-dibromophenyl group, 2,3,4-tribromophenyl group, 2,3,5 -Tribromophenyl group, 2,3,6-tribromophenyl group, 2,3,4,5-tetrabromophenyl group, 2,3,4,6-tetrabromophenyl group, pentabromophenyl group and the like. Be done.
 D、Dがアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペントキシ基、ネオペントキシ基、n-ヘキソキシ基、n-オクトキシ基等が挙げられる。 Specific examples of the cases where D 1 and D 2 are alkoxy groups include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group and n-. Examples thereof include a pentoxy group, a neopentoxy group, an n-hexoxy group, an n-octoxy group and the like.
 D、Dがアリールオキシ基である場合の具体例としては、フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、3-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。 Specific examples of the cases where D 1 and D 2 are aryloxy groups include a phenoxy group, a 2-methylphenoxy group, a 3-methylphenoxy group, a 4-methylphenoxy group, a naphthyloxy group and the like.
 D、Dが2置換アミノ基である場合の2置換アミノ基とは、置換基が2個結合したアミノ基である。その具体例としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ-n-ブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ-sec-ブチルアミノ基、ジ-tert-ブチルアミノ基、ジ-n-ヘキシルアミノ基、ジ-n-オクチルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。 When D 1 and D 2 are disubstituted amino groups, the disubstituted amino group is an amino group in which two substituents are bonded. Specific examples thereof include dimethylamino group, diethylamino group, di-n-propylamino group, diisopropylamino group, di-n-butylamino group, diisobutylamino group, di-sec-butylamino group and di-tert-butyl. Examples thereof include an amino group, a di-n-hexylamino group, a di-n-octylamino group, and a diphenylamino group.
 R~Rは、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1~20のアルコキシ基、炭素数6~20のアリールオキシ基、炭素数2~20の2置換アミノ基又は炭素数1~20のシリル基を表し、それらは同一であってもよく、異なってもよく、さらにそれらは任意に結合して環を形成してもよい。これらの中でも、炭素数1~20の炭化水素基であることが好ましい。 R 1 to R 6 are independent of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon number of carbon atoms. It represents an aryloxy group of 6 to 20, a disubstituted amino group of 2 to 20 carbon atoms or a silyl group of 1 to 20 carbon atoms, which may be the same or different, and they may be optionally bonded. May form a ring. Among these, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
 R~Rが炭化水素基である場合、炭素数は1~10であることが好ましい。その具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基、n-ヘキシル基、n-オクチル基、フェニル基、2-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、4-メチルフェニル基、2,3-ジメチルフェニル基、2,4-ジメチルフェニル基、2,5-ジメチルフェニル基、2,6-ジメチルフェニル基、2,3,4-トリメチルフェニル基、2,3,5-トリメチルフェニル基、2,3,6-トリメチルフェニル基、2,3,4,5-テトラメチルフェニル基、2,3,4,6-テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基等が挙げられる。 When R 1 to R 6 are hydrocarbon groups, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10. Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group and n-hexyl group. , N-octyl group, phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2,5-dimethylphenyl group , 2,6-dimethylphenyl group, 2,3,4-trimethylphenyl group, 2,3,5-trimethylphenyl group, 2,3,6-trimethylphenyl group, 2,3,4,5-tetramethylphenyl Groups, 2,3,4,6-tetramethylphenyl group, pentamethylphenyl group and the like can be mentioned.
 R~Rがハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、及び2置換アミノ基である場合の具体例としては、D、Dがハロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、及び2置換アミノ基である場合の具体例として上記に例示したものが挙げられる。 Specific examples of cases where R 1 to R 6 are a halogen atom, a halogenated hydrocarbon group, an alkoxy group, an aryloxy group, and a disubstituted amino group include D 1 and D 2 as a halogen atom and a halogenated hydrocarbon group. As specific examples in the case of an alkoxy group, an aryloxy group, and a disubstituted amino group, those exemplified above can be mentioned.
 R~Rがシリル基である場合の具体例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ-n-プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ-n-ブチルシリル基、トリイソブチルシリル基、トリ-sec-ブチルシリル基、トリ-tert-ブチルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。 Specific examples of cases where R 1 to R 6 are silyl groups include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a tri-n-propylsilyl group, a triisopropylsilyl group, a tri-n-butylsilyl group, a triisobutylsilyl group, and a tri. Examples thereof include -sec-butylsilyl group, tri-tert-butylsilyl group and triphenylsilyl group.
 このような、式(IV)で表される化合物の具体例としては、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(ジメチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(n-プロピルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(n-ブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(イソブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フェニルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(ジメチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(n-プロピルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(n-ブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(イソブチルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フェニルシクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(メチルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(ジメチルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(トリメチルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(テトラメチルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(n-プロピルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(n-ブチルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(イソブチルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド、イソプロピリデン(フェニルシクロペンタジエニル)(2-フェノキシ)チタニウムジクロライド等が挙げられる。 Specific examples of such a compound represented by the formula (IV) include isopropanol (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride and isopropyridene (methylcyclo). Pentazienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (dimethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropi Reden (trimethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (tetramethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) ) Titanium dichloride, isopropylidene (n-propylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (n-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl -5-Methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (isobutylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (phenylcyclopentadienyl) (3) -Tert-Butyl-5-methyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (methylcyclopentadienyl) (3- tert-Butyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (dimethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropyridene (trimethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl- 2-Phenoxy) Titanium dichloride, isopropanol (tetramethylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropyridene (n-propylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2) -Phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (n-butylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropyridene (isobutylcyclope) Ntadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (phenylcyclopentadienyl) (3-tert-butyl-2-phenoxy) Titanium dichloride, isopropylidene (cyclopentadienyl) (2- Phenoxy) Titanium Dichloride, Isopropyridene (Methylcyclopentadienyl) (2-Phenoxy) Titanium Dichloride, Isopropylidene (dimethylcyclopentadienyl) (2-Phenoxy) Titanium Dichloride, Isopropyridene (trimethylcyclopentadienyl) (2) -Phenoxy) Titanium Dichloride, Isopropyridene (Tetramethylcyclopentadienyl) (2-Phenoxy) Titanium Dichloride, Isopropyridene (n-propylcyclopentadienyl) (2-Phenoxy) Titanium Dichloride, Isopropyridene (n-Butylcyclo) Examples thereof include pentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropylidene (isobutylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride, isopropyridene (phenylcyclopentadienyl) (2-phenoxy) titanium dichloride and the like.
 また、上記の具体例におけるチタニウムをジルコニウムあるいはハフニウムに変更した化合物、及び、それらを含めイソプロピリデンをジメチルシリレン、ジフェニルシリレン、メチレンに変更した化合物についても同様に例示できる。更に、ジクロライドをジブロマイド、ジアイオダイド、ジメチル、ジベンジル、ジメトキシド、ジエトキシドに変更した化合物についても、同様に例示することができる。 Further, the compound in which titanium is changed to zirconium or hafnium in the above specific example, and the compound in which isopropridene is changed to dimethylsilylene, diphenylcilylene, and methylene including them can be similarly exemplified. Further, a compound in which dichloride is changed to dibromide, diiodide, dimethyl, dibenzyl, dimethoxydo, or diethoxyde can be similarly exemplified.
 上記の式(IV)で表される遷移金属錯体(α)は、種々の助触媒と組合せて、本発明の一実施形態に係るポリマー(B)を製造するための触媒として使用できる。助触媒とは、遷移金属錯体(α)と相互作用をして、環状オレフィン、アルケニル芳香族炭化水素に対する重合活性種を生成せしめる化合物のことである。その例としては、有機アルミニウム化合物(β)及び/又は下記式(γ1)~式(γ3)のいずれかで表されるホウ素化合物(γ)を挙げることができるが、これらの助触媒を使用することにより生成する重合活性種の構造は明らかではない。 The transition metal complex (α) represented by the above formula (IV) can be used as a catalyst for producing the polymer (B) according to the embodiment of the present invention in combination with various co-catalysts. The cocatalyst is a compound that interacts with the transition metal complex (α) to produce a polymerization active species for cyclic olefins and alkenyl aromatic hydrocarbons. Examples thereof include organoaluminum compounds (β) and / or boron compounds (γ) represented by any of the following formulas (γ1) to (γ3), and these co-catalysts are used. The structure of the polymerization active species produced by this is not clear.
式(γ1) BQ
式(γ2) J(BQ
式(γ3) (L-H)(BQ
[式(γ1)~式(γ3)中、Bは3価の原子価状態のホウ素原子を表し、
~Qは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基、炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1~20の置換シリル基、炭素数1~20のアルコキシ基又は炭素数2~20の2置換アミノ基を表し、
は、無機又は有機のカチオンを表し、
Lは、中性ルイス塩基を表し、(L-H)はブレンステッド酸を表す。]
Equation (γ1) BQ 1 Q 2 Q 3
Equation (γ2) J + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 )
Equation (γ3) (L—H) + (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 )
[In the formulas (γ1) to (γ3), B represents a boron atom in a trivalent valence state.
Q1 to Q4 are independent of each other, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted silyl group having 1 to 20 carbon atoms, and 1 to 20 carbon atoms. Represents a 20 alkoxy group or a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms.
J + represents an inorganic or organic cation
L represents a neutral Lewis base and (L—H) + represents a Bronsted acid. ]
 前記有機アルミニウム化合物(β)としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。具体的には、式(β1)で表される有機アルミニウム化合物、式(β2)で表される構造を有する環状のアルミノキサン及び式(β3)で表される構造を有する線状のアルミノキサンが挙げられ、これらは単独でも、あるいは2種以上を混合して用いることができる。 As the organoaluminum compound (β), a known organoaluminum compound can be used. Specific examples thereof include organoaluminum compounds represented by the formula (β1), cyclic aluminoxane having a structure represented by the formula (β2), and linear aluminoxane having a structure represented by the formula (β3). , These can be used alone or in combination of two or more.
式(β1)E AlZ3-a
式(β2){-Al(E)-O-}
式(β3)E{-Al(E)-O-}AlE
[式(β1)~式(β3)中、E、E及びEは、互いに独立に、炭素数1~8の炭化水素基を表し、全てのE、全てのE及び全てのEは同一であってもよく、異なっていてもよく、Zは水素又はハロゲンを表し、全てのZは同一であってもよく、異なっていてもよく、aは0~3の整数を表し、bは2以上の整数を表し、cは1以上の整数を表す。]
Equation (β1) E 1 a AlZ 3-a
Equation (β2) {-Al (E 2 ) -O-} b
Equation (β3) E 3 {-Al (E 3 ) -O-} c AlE 3 2
[In formulas (β1) to (β3), E1 , E2 and E3 represent hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms independently of each other , and all E1, all E2 and all. E 3 may be the same or different, Z may represent hydrogen or halogen, all Z may be the same or different, and a represents an integer of 0-3. , B represent an integer of 2 or more, and c represents an integer of 1 or more. ]
 式(β1)の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム;ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド;メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド;ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。これらの中でも、好ましくはトリアルキルアルミニウムが挙げられ、より好ましくはトリエチルアルミニウム又はトリイソブチルアルミニウムが挙げられる。 Specific examples of the formula (β1) include trialkylaluminum such as trimethylaluminum, triethylaluminum, tripropylaluminum, triisobutylaluminum, and trihexylaluminum; dimethylaluminum chloride, diethylaluminum chloride, dipropylaluminum chloride, diisobutylaluminum chloride, and the like. Dialkylaluminum chloride such as dihexylaluminum chloride; alkylaluminum dichloride such as methylaluminum dichloride, ethylaluminum dichloride, propylaluminum dichloride, isobutylaluminum dichloride, hexylaluminum dichloride; dimethylaluminum hydride, diethylaluminum hydride, dipropylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride , Dialkylaluminum hydride such as dihexylaluminum hydride and the like. Among these, trialkylaluminum is preferable, and triethylaluminum or triisobutylaluminum is more preferable.
 式(β2)、式(β3)における、E、Eの具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基が挙げられる。これらの中でも、好ましくはメチル基又はイソブチル基が挙げられる。bは2以上の整数であり、好ましくは2~40の整数である。cは1以上の整数であり、好ましくは1~40の整数である。 Specific examples of E 2 and E 3 in the formula (β2) and the formula (β3) include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, an n-pentyl group and neopentyl. Examples thereof include an alkyl group such as a group. Among these, a methyl group or an isobutyl group is preferable. b is an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 40. c is an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 40.
 上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に限定されず、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム、例えば、トリメチルアルミニウム等を適当な有機溶剤、例えば、ベンゼン、脂肪族炭化水素などに溶かした溶液を水と接触させて作る方法、トリアルキルアルミニウム、例えば、トリメチルアルミニウム等を、結晶水を含んでいる金属塩、例えば、硫酸銅水和物等に接触させて作る方法が例示できる。 The above aluminoxane is made by various methods. The method is not particularly limited, and it may be produced according to a known method. For example, a method for making a solution of trialkylaluminum, for example, trimethylaluminum, etc. in a suitable organic solvent, for example, benzene, an aliphatic hydrocarbon, etc., in contact with water, trialkylaluminum, for example, trimethylaluminum, etc. An example is a method of making the solution by contacting it with a metal salt containing water of crystallization, for example, copper sulfate hydrate.
 ホウ素化合物(γ)としては、式(γ1)、式(γ2)又は式(γ3)で表されるホウ素化合物のいずれかを用いることができる。 As the boron compound (γ), any of the boron compounds represented by the formula (γ1), the formula (γ2) or the formula (γ3) can be used.
 式(γ1)において、Bは3価の原子価状態のホウ素原子を表し、Q~Qは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素原子を含む炭化水素基、炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基、炭素数1~20の置換シリル基、炭素数1~20のアルコキシ基又は炭素数2~20の2置換アミノ基を表し、それらは同一であってもよく、異なっていてもよい。Q~Qは、互いに独立に、好ましくはハロゲン原子、炭素数1~20の炭化水素基、又は、炭素数1~20のハロゲン化炭化水素基である。 In the formula (γ1), B represents a boron atom in a trivalent valence state, and Q1 to Q3 are independent of each other, a halogen atom, a hydrocarbon group containing a carbon atom, and a halogenation having 1 to 20 carbon atoms. It represents a hydrocarbon group, a substituted silyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms or a disubstituted amino group having 2 to 20 carbon atoms, which may be the same or different. .. Q1 to Q3 are independent of each other, preferably a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or a halogenated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
 式(γ1)で表されるホウ素化合物の具体例としては、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,5,6-テトラフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,4,5-テトラフルオロフェニル)ボラン、トリス(3,4,5-トリフルオロフェニル)ボラン、トリス(2,3,4-トリフルオロフェニル)ボラン、フェニルビス(ペンタフルオロフェニル)ボラン等が挙げられ、好ましくはトリス(ペンタフルオロフェニル)ボランが挙げられる。 Specific examples of the boron compound represented by the formula (γ1) include tris (pentafluorophenyl) borane, tris (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) borane, and tris (2,3,4,5-). Examples thereof include tetrafluorophenyl) borane, tris (3,4,5-trifluorophenyl) borane, tris (2,3,4-trifluorophenyl) borane, phenylbis (pentafluorophenyl) borane, and the like, and tris is preferable. (Pentafluorophenyl) Borane can be mentioned.
 式(γ2)において、Bは3価の原子価状態のホウ素原子を表し、Q~Qは上記の式(γ1)におけるQ~Qと同様である。また、Jは無機又は有機のカチオンを表す。 In the formula (γ2), B represents a boron atom in a trivalent valence state, and Q1 to Q4 are the same as Q1 to Q3 in the above formula (γ1). Further, J + represents an inorganic or organic cation.
 Jにおける無機のカチオンとしては、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオン等が挙げられる。
 Jにおける有機のカチオンとしては、トリフェニルメチルカチオン等が挙げられる。
 (BQとしては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン、テトラキス(2,3,5,6-テトラフルオロフェニル)ボレートアニオン、テトラキス(2,3,4,5-テトラフルオロフェニル)ボレートアニオン、テトラキス(3,4,5-トリフルオロフェニル)ボレートアニオン、テトラキス(2,2,4-トリフルオロフェニル)ボレートアニオン、フェニルビス(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン、テトラキス(3,5-ビストリフルオロメチルフェニル)ボレートアニオン等が挙げられる。
Examples of the inorganic cation in J + include a ferrosenium cation, an alkyl-substituted ferrosenium cation, and a silver cation.
Examples of the organic cation in J + include triphenylmethyl cation and the like.
(BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) -As tetrakis (pentafluorophenyl) borate anion, tetrakis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl) borate anion, tetrakis (2,3,4,5- Tetrafluorophenyl) borate anion, tetrakis (3,4,5-trifluorophenyl) borate anion, tetrakis (2,2,4-trifluorophenyl) borate anion, phenylbis (pentafluorophenyl) borate anion, tetrakis (3) , 5-Bistrifluoromethylphenyl) Borate anion and the like.
 これらの具体的な組合せとしては、フェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、1,1’-ジメチルフェロセニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、銀テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルメチルテトラキス(3,5-ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート等が挙げられ、好ましくはトリフェニルメチルテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートが挙げられる。 Specific combinations thereof include ferrosenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 1,1'-dimethylferrosenium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, silver tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and triphenylmethyl tetrakis. Examples thereof include (pentafluorophenyl) borate, triphenylmethyltetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, and preferably triphenylmethyltetrakis (pentafluorophenyl) borate.
 式(γ3)において、Bは3価の原子価状態のホウ素を表し、Q~Qは上記の式(γ1)におけるQ~Qと同様である。また、Lは中性ルイス塩基を表し、(L-H)はブレンステッド酸を表す。 In the formula (γ3), B represents boron in a trivalent valence state, and Q1 to Q4 are the same as Q1 to Q3 in the above formula (γ1). Further, L represents a neutral Lewis base, and (L—H) + represents a Bronsted acid.
 式(γ3)において、ブレンステッド酸である(L-H)としては、トリアルキル置換アンモニウムアニオン、N,N-ジアルキルアニリニウムアニオン、ジアルキルアンモニウムアニオン、トリアリ-ルホスホニウムアニオン等が挙げられる。
 (BQとしては、前述と同様のものが挙げられる。
In the formula (γ3), examples of the Bronsted acid (L—H) + include trialkyl-substituted ammonium anions, N, N-dialkylanilinium anions, dialkylammonium anions, and triallylphosphonium anions.
As (BQ 1 Q 2 Q 3 Q 4 ) - , the same as described above can be mentioned.
 これらの具体的な組合せとしては、トリエチルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(3,5-ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N-ジエチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(3,5-ビストリフルオロメチルフェニル)ボレート、ジ-iso-プロピルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(メチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、トリ(ジメチルフェニル)ホスホニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等が挙げられる。これらの中でも、トリ(n-ブチル)アンモニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、又は、N,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートであることが好ましい。 Specific combinations thereof include triethylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tripropylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, and tri (n-butyl). ) Ammonium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-diethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-2 , 4,6-Pentamethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, N, N-dimethylanilinium tetrakis (3,5-bistrifluoromethylphenyl) borate, di-iso-propylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate , Dicyclohexylammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, triphenylphosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (methylphenyl) phosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tri (dimethylphenyl) phosphonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, etc. Can be mentioned. Among these, tri (n-butyl) ammonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate or N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate is preferable.
 助触媒としては、有機アルミニウム化合物(β)及び化合物(γ)を併用することが好ましい。 As the co-catalyst, it is preferable to use organoaluminum compound (β) and compound (γ) in combination.
 式(IV)で表される遷移金属錯体(α)、有機アルミニウム化合物(β)及び/又は化合物(γ)は、重合時に任意の順序で投入し使用することができるが、それらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得られた反応物を用いてもよい。 The transition metal complex (α) represented by the formula (IV), the organoaluminum compound (β) and / or the compound (γ) can be charged and used in any order at the time of polymerization, but any of them can be used. You may use the reaction product obtained by contacting the combination of the above in advance.
 助触媒/遷移金属錯体(α)のモル比は、好ましくは0.01~10,000、より好ましくは0.5~2,000である。触媒成分を溶液状態で使用する場合、遷移金属錯体(α)の濃度は、好ましくは0.0001~5mmol/L、より好ましくは0.001~1mmol/Lである。触媒成分の使用量は、使用される全モノマーの合計量に対して、好ましくは0.00001~1mol%、より好ましくは0.0001~0.1mol%である。 The molar ratio of the co-catalyst / transition metal complex (α) is preferably 0.01 to 10,000, more preferably 0.5 to 2,000. When the catalyst component is used in solution, the concentration of the transition metal complex (α) is preferably 0.0001 to 5 mmol / L, more preferably 0.001 to 1 mmol / L. The amount of the catalyst component used is preferably 0.00001 to 1 mol%, more preferably 0.0001 to 0.1 mol%, based on the total amount of all the monomers used.
 本発明の一実施形態に係るポリマー(B)の重合法としては、特に限定されず、例えば、バッチ式又は連続式の気相重合法、塊状重合法、適当な溶媒を使用しての溶液重合法あるいはスラリー重合法等、任意の方法を採用することができる。 The polymerization method of the polymer (B) according to the embodiment of the present invention is not particularly limited, and for example, a batch type or continuous type gas phase polymerization method, a bulk polymerization method, or a solution weight using an appropriate solvent is used. Any method such as a legal method or a slurry polymerization method can be adopted.
 溶媒を使用する場合、触媒を失活させないという条件の各種の溶媒が使用可能であり、このような溶媒の例としては、ベンゼン、トルエン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒;ジクロロメタン、二塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒などが挙げられる。 When a solvent is used, various solvents can be used under the condition that the catalyst is not inactivated, and examples of such a solvent include hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, pentane, hexane, heptane, and cyclohexane; Examples thereof include halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and ethylene dichloride.
 また、溶媒を使用する場合、重合中の系内のエチレン分圧は、例えば50~400kPa、好ましくは50~300kPaであり、水素分圧は好ましくは0~100kPaである。なお、系内にエチレン及び水素を投入する場合、水素分圧での加圧を実施した後、エチレン分圧での加圧を実施することが好ましい。また、式(I)で表されるシクロオレフィンの溶液を重合反応槽に投入した後、さらにトルエンを投入してもよい。 When a solvent is used, the ethylene partial pressure in the system during polymerization is, for example, 50 to 400 kPa, preferably 50 to 300 kPa, and the hydrogen partial pressure is preferably 0 to 100 kPa. When ethylene and hydrogen are introduced into the system, it is preferable to pressurize with the partial pressure of hydrogen and then pressurize with the partial pressure of ethylene. Further, after the solution of the cycloolefin represented by the formula (I) is charged into the polymerization reaction tank, toluene may be further charged.
 重合温度は、好ましくは50℃以上、より好ましくは50~150℃、さらに好ましくは50℃~100℃である。なお、重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。 The polymerization temperature is preferably 50 ° C. or higher, more preferably 50 to 150 ° C., and even more preferably 50 ° C. to 100 ° C. A chain transfer agent such as hydrogen can also be added to adjust the molecular weight of the polymer.
 <第1溶媒>
 工程(1)で使用される第1溶媒は、ポリマー(B)が溶解可能であれば、特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、キシレン等の炭化水素系溶媒;ジクロロメタン、二塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの中でも、炭化水素系溶媒が好ましい。第1溶媒が炭化水素系溶媒を含むと、ポリマー(B)と第1溶媒との溶解性が高まるため、粒子状ポリマー(B)の粒子径を低減しやすく、かつ分散性を向上しやすい。結果として、平滑な表面、高粒子分散性、高耐熱性、高機械的特性及び低CTEを有するフィルムが得られやすい(以下、「結果として」以降の効果の記載を省略することがある)。第1溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。
<First solvent>
The first solvent used in the step (1) is not particularly limited as long as the polymer (B) can be dissolved, and is a hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, pentane, hexane, heptane, cyclohexane, and xylene; Examples thereof include halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and ethylene dichloride. Of these, hydrocarbon solvents are preferred. When the first solvent contains a hydrocarbon solvent, the solubility of the polymer (B) and the first solvent is enhanced, so that the particle size of the particulate polymer (B) can be easily reduced and the dispersibility can be easily improved. As a result, it is easy to obtain a film having a smooth surface, high particle dispersibility, high heat resistance, high mechanical properties and low CTE (hereinafter, the description of the effect after "as a result" may be omitted). The first solvent can be used alone or in combination of two or more.
 第1溶媒は、上記の通り、ポリマー(B)が溶解する溶媒である。ここで、本明細書では、「溶解する」か「溶解しない」かの評価は、実施例における<溶解性の評価>に記載の方法に従って行うことができる。 As described above, the first solvent is a solvent in which the polymer (B) is dissolved. Here, in the present specification, the evaluation of "dissolving" or "not dissolving" can be performed according to the method described in <Evaluation of solubility> in Examples.
 本発明の一実施形態において、第1溶媒とポリマー(B)とのHSP値間距離が好ましくは4.0以下、より好ましくは3.0以下、さらに好ましくは2.5以下である。該HSP値間距離が上記の上限以下であると、第1溶媒とポリマー(B)との溶解性が高まるため、粒子状ポリマー(B)の粒子径を低減しやすく、かつ分散性を向上しやすい。HSP値間距離の下限は通常0を超える。 In one embodiment of the present invention, the distance between the HSP values of the first solvent and the polymer (B) is preferably 4.0 or less, more preferably 3.0 or less, still more preferably 2.5 or less. When the distance between the HSP values is not more than the above upper limit, the solubility of the first solvent and the polymer (B) is increased, so that the particle size of the particulate polymer (B) can be easily reduced and the dispersibility is improved. Cheap. The lower limit of the distance between HSP values usually exceeds 0.
 HSPはハンセン溶解度パラメータ(δ)であり、(δD,δP,δH)の3次元のパラメータで定義され、式(X):
δ=(δD)+(δP)+(δH)  ・・・(X)
[式(X)中、δDはLоndоn分散力項を示し、δPは分子分極項(双極子間力項)を示し、δHは水素結合項を表す]
により表される。HSPに係る詳細は、「PROPERTIES OF POLYMERS」(著者:D.W.VANKREVELEN、発行所:ELSEVIER SCIENTFIC PUBLISHING COMPANY、1989年発行、第5版)に記載されている。ハンセン溶解度パラメータのδD,δP、及びδHは、ハンセン溶解度パラメータを提案したハンセン博士のグループによって開発されたプログラムであるHSPiP(Hansen Sоlubility Parameters in Practice)を用いて計算することができ、例えば実施例に記載のVer.4.1.07等を用いることができる。以下にハンセン溶解球法の詳細を説明する。対象となる成分をHSP値が既知の溶媒に溶解させ、当該成分の特定の溶媒に対する溶解性を評価する。溶解性の評価は、それぞれ対象とする成分が溶媒に溶解したか否かを目視で判定して行う。これを複数の溶媒について行う。この溶媒の種類は、δtが幅広く異なる溶媒を用いることが好ましく、より具体的には、好ましくは10種以上、より好ましくは15種以上、さらに好ましくは18種以上である。次に、得られた溶解性の評価結果をHSPiPに入力することで得られたHansen球の中心座標(δd,δp,δh)を、対象とする組成のHSPとする。また、HSPは上記の方法の他、例えばHSPiPのデータベースの数値や文献値を用いてもよく、HSPiPを使用して構造式から求めてもよい。なお、本明細書において、ハンセン溶解度パラメータの値をHSP値と称し、該HSP値は、25℃における値を表す。樹脂(A)のHSP値、ポリマー(B)のHSP値、及び溶媒のHSP値は、ぞれぞれ、上記のいずれかの方法により求めてもよく、例えば実施例に記載の方法により求められる。
HSP is a Hansen solubility parameter (δ), defined by a three-dimensional parameter of (δD, δP, δH), and the formula (X) :.
δ 2 = (δD) 2 + (δP) 2 + (δH) 2 ... (X)
[In equation (X), δD represents the Lоndоn dispersion force term, δP represents the molecular polarization term (dipole interpole force term), and δH represents the hydrogen bond term].
Represented by. Details of HSP are described in "PROPERTIES OF POLYMERS" (Author: WDVANKREVEREN, Publisher: ELSEVIER SCIENTFIC PUBLISHING COMPANY, 1989, 5th edition). The Hansen solubility parameters δD, δP, and δH can be calculated using HSPiP (Hansen Sоlubility Parameters in Practice), a program developed by Dr. Hansen's group who proposed the Hansen solubility parameter, for example, in Examples. The described Ver. 4.1.07 and the like can be used. The details of the Hansen-dissolved sphere method will be described below. The component of interest is dissolved in a solvent having a known HSP value, and the solubility of the component in a specific solvent is evaluated. The solubility is evaluated by visually determining whether or not the target component is dissolved in the solvent. This is done for multiple solvents. As the type of the solvent, it is preferable to use a solvent having a wide range of δt, more specifically, 10 kinds or more, more preferably 15 kinds or more, still more preferably 18 kinds or more. Next, the center coordinates (δd, δp, δh) of the Hansen sphere obtained by inputting the obtained solubility evaluation result into HSPiP are used as the HSP having the target composition. In addition to the above methods, HSP may be obtained from a structural formula using, for example, numerical values or literature values in a database of HSPiP, or HSPiP may be used. In the present specification, the value of the Hansen solubility parameter is referred to as an HSP value, and the HSP value represents a value at 25 ° C. The HSP value of the resin (A), the HSP value of the polymer (B), and the HSP value of the solvent may be obtained by any of the above methods, for example, by the method described in Examples. ..
 二つの物質のハンセン溶解度パラメータ(以下、HSPと略すことがある)の距離をHSP値間距離という。HSP間距離(Ra)は、両物質の親和性を表す指標であって、その値が小さい程、両物質の親和性が高いことを示す。逆に、Raの値が大きい程、両物質の親和性が低いこと、すなわち、相溶しがたいことを示す。
 HSP値間距離は、二つの物質A及びBのそれぞれのハンセン溶解度パラメータδA及びδBを、
δA=(δDA,δPA,δHA)
δB=(δDB,δPB,δHB)
と仮定すれば、HSP間距離(Ra)は、式(Y):
Ra=[4×(δDA‐δDB)+(δPA‐δPB)+(δHA‐δHB)0.5  ・・・(Y)
により計算することができる。
 なお、本明細書において、HSP値及びHSP値間距離は上記に定義した通りであり、上記方法に従って求めることができる。
The distance between the Hansen solubility parameters (hereinafter, may be abbreviated as HSP) of two substances is called the distance between HSP values. The distance between HSPs (Ra) is an index showing the affinity between the two substances, and the smaller the value, the higher the affinity between the two substances. On the contrary, the larger the Ra value, the lower the affinity between the two substances, that is, the more difficult it is to be compatible.
The distance between the HSP values determines the Hansen solubility parameters δA and δB of the two substances A and B, respectively.
δA = (δDA, δPA, δHA)
δB = (δDB, δPB, δHB)
Assuming that the distance between HSPs (Ra) is the equation (Y) :.
Ra = [4 × (δDA-δDB) 2 + (δPA-δPB) 2 + (δHA-δHB) 2 ] 0.5 ... (Y)
Can be calculated by.
In this specification, the HSP value and the distance between the HSP values are as defined above, and can be obtained according to the above method.
 本発明の一実施形態において、第1溶媒とポリマー(B)とのHSP値間距離が、ポリマー(B)の相互作用半径よりも小さいことが好ましい。このような関係であると、ポリマー(B)が第1溶媒に溶解されやすいため、粒子状のポリマー(B)の粒子径を低減しやすく、かつ分散性を向上しやすい。また、本明細書において、相互作用半径とは、ある特定のポリマーを溶解し得る複数の溶媒、すなわち良溶媒のハンセン溶解度パラメータを3次元のHSP空間にプロットすると、各良溶媒のプロットは互いに似たところ、言い換えると、近い位置、すなわち座標に球状に集まる傾向があり、その球、すなわちハンセンの溶解球の半径を指す。相互作用半径が大きい溶質は多くの溶媒に溶けやすく、相互作用半径が小さい溶質は少数の溶媒に溶けやすく、多数の溶媒に溶け難いといえる。未知の特定のポリマーに対しては、各種の溶媒が良溶媒であるか、貧溶媒であるかを、溶解性試験を行って調べ、その結果をHSPiPに入力することにより、当該ポリマーの相互作用半径が算出される。本明細書において、「相互作用半径」は上記に定義した通りであり、上記方法に従って求めることができる。 In one embodiment of the present invention, it is preferable that the distance between the HSP values of the first solvent and the polymer (B) is smaller than the interaction radius of the polymer (B). With such a relationship, the polymer (B) is easily dissolved in the first solvent, so that the particle size of the particulate polymer (B) can be easily reduced and the dispersibility can be easily improved. Further, in the present specification, the interaction radius is a plurality of solvents capable of dissolving a specific polymer, that is, when the Hansen solubility parameter of a good solvent is plotted in a three-dimensional HSP space, the plots of the good solvents are similar to each other. In other words, it tends to gather in a spherical shape at a close position, that is, at the coordinates, and refers to the radius of the sphere, that is, the Hansen solubility sphere. It can be said that a solute having a large interaction radius is easily soluble in many solvents, and a solute having a small interaction radius is easily soluble in a small number of solvents and difficult to be soluble in many solvents. For a specific unknown polymer, it is investigated whether various solvents are good solvents or poor solvents by conducting a solubility test, and the results are input to HSPiP to interact with the polymers. The radius is calculated. In the present specification, the "radius of interaction" is as defined above and can be determined according to the above method.
 本発明の一実施形態において、ポリマー(B)の第1溶媒に対する溶解度は、ポリマー(B)の第2溶媒に対する溶解度よりも大きいことが好ましい。このような関係であると、粒子径が小さく、かつ分散性が良好な粒子状ポリマー(B)が得られやすい。なお、ポリマー(B)の溶媒に対する溶解度は、以下の方法で測定できる。サンプル瓶にポリマー(B)1,000mgと溶媒3mLとを加え、室温下で2時間撹拌する。次いで、固相と液相とを濾過により分別し、固相を減圧下、80℃で2時間乾燥させた後の質量:X(mg)を測定し、下記式により、溶解度Y(mg/mL)を求めることができる。
   Y=(1,000-X)/3
 なお、例えば本明細書の定義で、ポリマー(B)が、第1溶媒に「溶解する」に相当し、第2溶媒に「溶解しない」に相当する場合、明らかに第1溶媒に対する溶解度の方が大きいため、溶解度を測定しなくてもよい。
In one embodiment of the present invention, the solubility of the polymer (B) in the first solvent is preferably greater than the solubility of the polymer (B) in the second solvent. With such a relationship, it is easy to obtain a particulate polymer (B) having a small particle size and good dispersibility. The solubility of the polymer (B) in the solvent can be measured by the following method. Add 1,000 mg of polymer (B) and 3 mL of solvent to the sample bottle, and stir at room temperature for 2 hours. Next, the solid phase and the liquid phase were separated by filtration, and the solid phase was dried at 80 ° C. for 2 hours under reduced pressure, and then the mass: X (mg) was measured, and the solubility Y (mg / mL) was measured by the following formula. ) Can be obtained.
Y = (1,000-X) / 3
In addition, for example, in the definition of the present specification, when the polymer (B) corresponds to "soluble" in the first solvent and "insoluble" in the second solvent, the solubility in the first solvent is clearly higher. Therefore, it is not necessary to measure the solubility.
 本発明の一実施形態において、第1溶媒は、樹脂(A)が溶解しない溶媒であることが好ましい。このような溶媒であると、粒子状ポリマー(B)の粒子径を低減しやすく、かつ分散性を向上しやすい。 In one embodiment of the present invention, the first solvent is preferably a solvent in which the resin (A) does not dissolve. With such a solvent, the particle size of the particulate polymer (B) can be easily reduced and the dispersibility can be easily improved.
 本発明の一実施形態において、第1溶媒と樹脂(A)とのHSP値間距離は、好ましくは5.0以上、より好ましくは6.0以上、さらに好ましくは7.0以上、さらにより好ましくは8.0以上、特に好ましくは9.0以上である。該HSP値間距離が上記の下限以上であると、樹脂(A)が第1溶媒に溶解されにくいため、粒子状ポリマー(B)の粒子径を低減しやすく、かつ分散性を向上しやすい。第1溶媒と樹脂(A)とのHSP値間距離の上限は、好ましくは30.0以下、より好ましくは27.0以下、さらに好ましくは25.0以下、さらにより好ましくは23.0以下、特に好ましくは21.0以下である。第1溶媒と樹脂(A)とのHSP値間距離が上記の上限以下であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすいことから、粒子の分散性を向上しやすく、また得られるフィルムの粒子分散性を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the distance between the HSP values of the first solvent and the resin (A) is preferably 5.0 or more, more preferably 6.0 or more, still more preferably 7.0 or more, still more preferably. Is 8.0 or more, particularly preferably 9.0 or more. When the distance between the HSP values is not more than the above lower limit, the resin (A) is less likely to be dissolved in the first solvent, so that the particle size of the particulate polymer (B) can be easily reduced and the dispersibility can be easily improved. The upper limit of the distance between the HSP values of the first solvent and the resin (A) is preferably 30.0 or less, more preferably 27.0 or less, still more preferably 25.0 or less, still more preferably 23.0 or less. It is particularly preferably 21.0 or less. When the distance between the HSP values of the first solvent and the resin (A) is not more than the above upper limit, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that the dispersibility of the particles can be easily improved and obtained. It is easy to improve the particle dispersibility of the film.
 本発明の一実施形態において、第1溶媒と樹脂(A)とのHSP値間距離は、樹脂(A)の相互作用半径よりも大きいことが好ましい。このような関係であると、樹脂(A)が第1溶媒に溶解されにくいため、粒子状ポリマー(B)の凝集体の形成を抑制しやすく、また、粒子径が低減されやすいことから分散性を向上しやすい。さらに、得られるフィルムの表面平滑性、粒子分散性、耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性を高めやすく、CTEを低減しやすい。 In one embodiment of the present invention, the distance between the HSP values of the first solvent and the resin (A) is preferably larger than the interaction radius of the resin (A). With such a relationship, the resin (A) is difficult to dissolve in the first solvent, so that it is easy to suppress the formation of aggregates of the particulate polymer (B), and the particle size is easily reduced, so that the dispersion is dispersible. Easy to improve. Further, it is easy to improve mechanical properties such as surface smoothness, particle dispersibility, heat resistance and bending resistance of the obtained film, and it is easy to reduce CTE.
 <シクロオレフィン系ポリマー(B)溶液>
 ポリマー(B)溶液は、該溶液の質量に対して、好ましくは0.01~20質量%のポリマー(B)を含む。ポリマー(B)溶液中のポリマー(B)の含有量は、該溶液の質量に対して、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上、さらに好ましくは0.1質量%以上、さらにより好ましくは0.5質量%以上であり、好ましくは20質量%以下、より好ましくは10質量%以下、さらに好ましくは5質量%以下である。該溶液中のポリマー(B)の含有量が上記の下限以上であると、組成物を調整しやすい。また該溶液中のポリマー(B)の含有量が上記の上限以下であると、粒子状ポリマー(B)の粒子径が小さく、かつ分散性を高めやすい。
<Cycloolefin polymer (B) solution>
The polymer (B) solution contains preferably 0.01 to 20% by mass of the polymer (B) with respect to the mass of the solution. The content of the polymer (B) in the polymer (B) solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, still more preferably 0.1% by mass, based on the mass of the solution. % Or more, more preferably 0.5% by mass or more, preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, still more preferably 5% by mass or less. When the content of the polymer (B) in the solution is at least the above lower limit, the composition can be easily adjusted. Further, when the content of the polymer (B) in the solution is not more than the above upper limit, the particle size of the particulate polymer (B) is small and the dispersibility is easily improved.
 ポリマー(B)を第1溶媒に溶解させる方法は、特に限定されないが、例えばポリマー(B)に対して第1溶媒を加えてもよいし、第1溶媒に対してポリマー(B)を加えてもよいし、その両方であってもよい。また、ポリマー(B)に対する第1溶媒の溶解度に応じて、加熱等により溶解させてもよい。 The method for dissolving the polymer (B) in the first solvent is not particularly limited, but for example, the first solvent may be added to the polymer (B), or the polymer (B) may be added to the first solvent. It may be either or both. Further, it may be dissolved by heating or the like depending on the solubility of the first solvent in the polymer (B).
[工程(2)]
 工程(2)は、前記ポリマー(B)溶液を第2溶媒に接触させた後、第1溶媒を留去して、粒子状ポリマー(B)を含む分散液を得る工程である。
[Step (2)]
The step (2) is a step of contacting the polymer (B) solution with the second solvent and then distilling off the first solvent to obtain a dispersion liquid containing the particulate polymer (B).
 <第2溶媒>
 第2溶媒は、ポリマー(B)溶液との接触により、粒子状ポリマー(B)が生成し得る溶媒であれば、特に限定されず、例えばDMAc、DMF等のアミド系溶媒;GBL、γ-バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;N―メチルピロリドン(以下、NMPと略すことがある)等のピロリドン系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすく、粒子状ポリマー(B)の粒子径が小さく、かつ分散性を高めやすい観点から、アミド系溶媒、ラクトン系溶媒及びピロリドン系溶媒からなる群から選択される少なくとも1つであることが好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ポリマー(B)分散液には水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。
<Second solvent>
The second solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that can produce the particulate polymer (B) by contact with the polymer (B) solution, and is, for example, an amide-based solvent such as DMAc or DMF; GBL, γ-valero. A lactone-based solvent such as lactone; a sulfur-containing solvent such as dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; a carbonate-based solvent such as ethylene carbonate and propylene carbonate; a pyrrolidone-based solvent such as N-methylpyrrolidone (hereinafter, may be abbreviated as NMP). Solvents; and combinations thereof. Among these, from the viewpoints of easily suppressing the aggregation of the particulate polymer (B), having a small particle size of the particulate polymer (B), and easily improving the dispersibility, the amide-based solvent, the lactone-based solvent and the pyrrolidone-based solvent are selected. It is preferably at least one selected from the group of These solvents can be used alone or in combination of two or more. Further, the polymer (B) dispersion liquid may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent and the like.
 本発明の一実施形態において、第2溶媒は、ポリマー(B)が溶解しない溶媒であることが好ましい。このような溶媒であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすいため、粒子径を低減しやすく、かつ粒子の分散性を向上しやすい。 In one embodiment of the present invention, the second solvent is preferably a solvent in which the polymer (B) does not dissolve. With such a solvent, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that it is easy to reduce the particle size and improve the dispersibility of the particles.
 本発明の一実施形態において、第2溶媒とポリマー(B)とのHSP値間距離は好ましくは8.5以上、より好ましくは9.0以上、さらに好ましくは10.0以上、さらにより好ましくは11.0以上である。該HSP値間距離が上記の下限以上であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすく、また、粒子径を低減しやすいことから粒子の分散性を向上しやすい。結果として、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性、耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性等を高めやすい。第2溶媒とポリマー(B)とのHSP値間距離の上限は、好ましくは30.0以下、より好ましくは25.0以下、さらに好ましくは20.0である。該第2溶媒とポリマー(B)とのHSP値間距離が上記の上限以下であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすいことから、粒子の分散性を向上しやすく、また得られるフィルムの粒子分散性を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the distance between the HSP values of the second solvent and the polymer (B) is preferably 8.5 or more, more preferably 9.0 or more, still more preferably 10.0 or more, still more preferably 10.0 or more. It is 11.0 or more. When the distance between the HSP values is at least the above lower limit, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), and it is easy to reduce the particle size, so that the dispersibility of the particles is easy to be improved. As a result, it is easy to improve mechanical properties such as particle dispersibility, surface smoothness, heat resistance and bending resistance of the obtained film. The upper limit of the distance between the HSP values of the second solvent and the polymer (B) is preferably 30.0 or less, more preferably 25.0 or less, still more preferably 20.0. When the distance between the HSP values of the second solvent and the polymer (B) is not more than the above upper limit, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that the dispersibility of the particles can be easily improved. It is easy to improve the particle dispersibility of the film to be obtained.
 本発明の一実施形態において、第2溶媒とポリマー(B)とのHSP値間距離は、ポリマー(B)の相互作用半径よりも大きいことが好ましい。このような関係であると、ポリマー(B)が第2溶媒に溶解されにくいため、粒子状ポリマー(B)分散液中の粒子状ポリマー(B)の粒子径を低減しやすく、かつ分散性を向上しやすい。 In one embodiment of the present invention, the distance between the HSP values of the second solvent and the polymer (B) is preferably larger than the interaction radius of the polymer (B). With such a relationship, the polymer (B) is difficult to dissolve in the second solvent, so that the particle size of the particulate polymer (B) in the particulate polymer (B) dispersion can be easily reduced and the dispersibility can be improved. Easy to improve.
 本発明の一実施形態において、第2溶媒は、樹脂(A)が溶解する溶媒であることが好ましい。このような溶媒であると、得られる組成物及びフィルム中に、小さい粒子径で粒子状ポリマー(B)が分散しやすい。また、該組成物から形成されたフィルムは後述の海島構造を形成しやすい。 In one embodiment of the present invention, the second solvent is preferably a solvent in which the resin (A) is dissolved. With such a solvent, the particulate polymer (B) is likely to be dispersed in the obtained composition and film with a small particle size. In addition, the film formed from the composition tends to form the sea-island structure described later.
 本発明の一実施形態において、第2溶媒と樹脂(A)とのHSP値距離は、好ましくは10.0以下、より好ましくは9.5以下、さらに好ましくは9.0以下、特に好ましくは8.5以下であり、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.1以上である。該HSP値間距離が上記の上限以下であると、第2溶媒と樹脂(A)との親和性が向上し得るため、得られる組成物及びフィルム中に、小さい粒子径で粒子状ポリマー(B)が分散しやすい。 In one embodiment of the present invention, the HSP value distance between the second solvent and the resin (A) is preferably 10.0 or less, more preferably 9.5 or less, still more preferably 9.0 or less, and particularly preferably 8. It is 5.5 or less, preferably 0.01 or more, and more preferably 0.1 or more. When the distance between the HSP values is not more than the above upper limit, the affinity between the second solvent and the resin (A) can be improved. Therefore, in the obtained composition and film, a particulate polymer (B) having a small particle size is used. ) Is easy to disperse.
 本発明の一実施形態において、第2溶媒と樹脂(A)とのHSP値間距離は、樹脂(A)の相互作用半径よりも小さいことが好ましい。このような関係であると、樹脂(A)が第2溶媒に溶解されやすいため、得られる組成物及びフィルム中に、小さい粒子径で粒子状ポリマー(B)が分散しやすい。 In one embodiment of the present invention, the distance between the HSP values of the second solvent and the resin (A) is preferably smaller than the interaction radius of the resin (A). With such a relationship, the resin (A) is easily dissolved in the second solvent, so that the particulate polymer (B) is easily dispersed in the obtained composition and film with a small particle size.
 <接触及び留去>
 工程(2)において、ポリマー(B)溶液を第2溶媒と接触させる方法は、特に限定されないが、例えばポリマー(B)溶液と第2溶媒とを混合する方法が挙げられる。具体的には、第2溶媒に対して、ポリマー(B)溶液を添加する方法、ポリマー(B)溶液に対して、第2溶媒を添加する方法が例示できる。このように接触させることにより、第2溶媒と第1溶媒との混合液中に、粒子径が小さい粒子状ポリマー(B)を析出又は分散させることができる。なお、粒子状ポリマー(B)の凝集が生じない範囲であれば、工程(2)中、任意のタイミングで樹脂(A)を少量添加してもよい。
<Contact and distilling>
In the step (2), the method of contacting the polymer (B) solution with the second solvent is not particularly limited, and examples thereof include a method of mixing the polymer (B) solution and the second solvent. Specifically, a method of adding the polymer (B) solution to the second solvent and a method of adding the second solvent to the polymer (B) solution can be exemplified. By contacting in this way, the particulate polymer (B) having a small particle size can be precipitated or dispersed in the mixed solution of the second solvent and the first solvent. A small amount of the resin (A) may be added at any time during the step (2) as long as the particulate polymer (B) does not aggregate.
 第2溶媒と接触させるポリマー(B)溶液の使用量は、第2溶媒の使用量1質量部に対して、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは0.1質量部以上、さらに好ましくは0.3質量部以上、特に好ましくは0.7質量部以上であり、好ましくは100質量部以下、より好ましくは10質量部以下、さらに好ましくは3質量部以下、特に好ましくは1.5質量部以下である。第2溶媒と接触させるポリマー(B)溶液の使用量が上記の範囲であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすいため、粒子径を低減しやすく、かつ粒子の分散性を向上しやすい。 The amount of the polymer (B) solution to be brought into contact with the second solvent is preferably 0.01 part by mass or more, more preferably 0.1 part by mass or more, still more preferably, with respect to 1 part by mass of the amount of the second solvent used. Is 0.3 parts by mass or more, particularly preferably 0.7 parts by mass or more, preferably 100 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less, still more preferably 3 parts by mass or less, and particularly preferably 1.5 parts by mass. It is less than a part. When the amount of the polymer (B) solution to be brought into contact with the second solvent is within the above range, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that the particle size is easily reduced and the dispersibility of the particles is improved. It's easy to do.
 工程(2)において、ポリマー(B)溶液を第2溶媒と接触させた後、第1溶媒を留去する。第1溶媒の留去により、粒子状ポリマー(B)の分散安定性を高めることができる。また、第1溶媒の留去により、ポリマー(B)がさらに析出してもよい。第1溶媒は少なくとも部分的に留去又は除去すればよく、粒子状ポリマー(B)分散液中に第1溶媒が残存していてもよい。ポリマー(B)の凝集を抑制しやすく、かつ分散液を調製しやすい観点から、粒子状ポリマー(B)分散液中に第1溶媒が部分的に残存又は一部含有していることが好ましい。 In step (2), the polymer (B) solution is brought into contact with the second solvent, and then the first solvent is distilled off. Distillation of the first solvent can enhance the dispersion stability of the particulate polymer (B). Further, the polymer (B) may be further precipitated by distilling off the first solvent. The first solvent may be distilled off or removed at least partially, and the first solvent may remain in the particulate polymer (B) dispersion. From the viewpoint of easily suppressing the aggregation of the polymer (B) and easily preparing the dispersion liquid, it is preferable that the first solvent partially remains or is partially contained in the particulate polymer (B) dispersion liquid.
 工程(2)において、第1溶媒を留去する方法としては、特に限定されず、エバポレータ等を用いて減圧留去する方法が例示される。留去時の圧力及び温度については、第1溶媒と第2溶媒の沸点等の特性に応じて適宜選択できる。本製造方法では、第1溶媒と第2溶媒の混合液から第1溶媒を留去するため、通常、第1溶媒の沸点は第2溶媒の沸点よりも低い。このようにして、粒子径の小さい粒子状ポリマー(B)が分散した粒子状ポリマー(B)分散液を得ることができる。 In the step (2), the method for distilling off the first solvent is not particularly limited, and a method for distilling off under reduced pressure using an evaporator or the like is exemplified. The pressure and temperature at the time of distillation can be appropriately selected according to the characteristics such as the boiling points of the first solvent and the second solvent. In this production method, since the first solvent is distilled off from the mixed solution of the first solvent and the second solvent, the boiling point of the first solvent is usually lower than the boiling point of the second solvent. In this way, a particulate polymer (B) dispersion liquid in which the particulate polymer (B) having a small particle diameter is dispersed can be obtained.
 <粒子状ポリマー(B)分散液>
 第1溶媒留去後に得られる粒子状ポリマー(B)分散液に含まれる第1溶媒の含有量は、第2溶媒の含有量100質量部に対して、好ましくは120質量部以下、より好ましくは100質量部以下、さらに好ましくは60質量部以下、さらにより好ましくは45質量部以下、特に好ましくは40質量部以下、特により好ましくは35質量部以下、特にさらに好ましくは30質量部以下、特にさらにより好ましくは30質量部未満、最も好ましくは25質量部以下であり、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは0.05質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上である。第1溶媒の含有量が上記の上限以下であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすいため、粒子径を低減しやすく、かつ粒子の分散性を向上しやすい。結果として、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。また、第1溶媒の含有量が上記の下限以上であると、分散液を調製しやすい。
<Particulate polymer (B) dispersion liquid>
The content of the first solvent contained in the particulate polymer (B) dispersion obtained after distilling off the first solvent is preferably 120 parts by mass or less, more preferably 120 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the content of the second solvent. 100 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less, still more preferably 45 parts by mass or less, particularly preferably 40 parts by mass or less, particularly more preferably 35 parts by mass or less, particularly still more preferably 30 parts by mass or less, particularly further. It is more preferably less than 30 parts by mass, most preferably 25 parts by mass or less, preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.05 parts by mass or more, still more preferably 0.1 parts by mass or more. When the content of the first solvent is not more than the above upper limit, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that it is easy to reduce the particle size and improve the dispersibility of the particles. As a result, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness, mechanical properties and the like of the obtained film. Further, when the content of the first solvent is at least the above lower limit, it is easy to prepare the dispersion liquid.
 本発明の一実施形態において、粒子状ポリマー(B)分散液に含まれる溶媒の含有量は、該分散液の質量に対して、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上、特に好ましくは95質量%以上であり、好ましくは99.99質量%以下、より好ましくは99.9質量%以下、さらに好ましくは99質量%以下、特に好ましくは95質量%以下である。溶媒の含有量が上記の範囲であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすいため、粒子径を低減しやすく、かつ粒子の分散性を向上しやすい。結果として、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the content of the solvent contained in the particulate polymer (B) dispersion is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and further, with respect to the mass of the dispersion. It is preferably 90% by mass or more, particularly preferably 95% by mass or more, preferably 99.99% by mass or less, more preferably 99.9% by mass or less, still more preferably 99% by mass or less, and particularly preferably 95% by mass. It is as follows. When the content of the solvent is in the above range, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that it is easy to reduce the particle size and improve the dispersibility of the particles. As a result, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness, mechanical properties and the like of the obtained film.
 本発明の一実施形態において、粒子状ポリマー(B)分散液に含まれる溶媒は、本発明の効果を損なわない範囲で、第1溶媒と第2溶媒以外の他の溶媒を含んでいてもよい。他の溶媒としては、特に限定されず、慣用の溶媒を使用することができる。本発明の一実施形態において、第1溶媒と第2溶媒との合計質量は、分散液に含まれる溶媒の質量に対して、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上、さらにより好ましくは95質量%以上であり、好ましくは100質量%以下である。第1溶媒と第2溶媒との合計質量が上記の範囲であると、粒子状ポリマー(B)の凝集を抑制しやすいため、粒子径を低減しやすく、かつ粒子の分散性を向上しやすい。結果として、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the solvent contained in the particulate polymer (B) dispersion may contain other solvents other than the first solvent and the second solvent as long as the effects of the present invention are not impaired. .. The other solvent is not particularly limited, and a conventional solvent can be used. In one embodiment of the present invention, the total mass of the first solvent and the second solvent is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably, with respect to the mass of the solvent contained in the dispersion liquid. Is 90% by mass or more, more preferably 95% by mass or more, and preferably 100% by mass or less. When the total mass of the first solvent and the second solvent is in the above range, it is easy to suppress the aggregation of the particulate polymer (B), so that it is easy to reduce the particle size and improve the dispersibility of the particles. As a result, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness, mechanical properties and the like of the obtained film.
 第1溶媒留去後に得られる粒子状ポリマー(B)分散液に含まれる粒子状ポリマー(B)の含有量は、該ポリマー(B)分散液の質量に対して、好ましくは0.01質量%以上、より好ましくは0.1質量%以上、さらに好ましくは1質量%以上であり、好ましくは50質量%以下、より好ましくは30質量%以下、さらに好ましくは10質量%以下、特に好ましくは5質量%以下である。粒子状ポリマー(B)の含有量が上記の範囲であると、組成物中の粒子の分散性を向上しやすいため、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。 The content of the particulate polymer (B) contained in the particulate polymer (B) dispersion obtained after distilling off the first solvent is preferably 0.01% by mass with respect to the mass of the polymer (B) dispersion. The above is more preferably 0.1% by mass or more, further preferably 1% by mass or more, preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, still more preferably 10% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass. % Or less. When the content of the particulate polymer (B) is in the above range, the dispersibility of the particles in the composition is likely to be improved, so that the particle dispersibility, surface smoothness, mechanical properties, etc. of the obtained film are likely to be improved. ..
 前記粒子状ポリマー(B)分散液は、メジアン径が0.01~15μmの粒子状ポリマー(B)を含むことが好ましい。粒子状ポリマー(B)のメジアン径は、好ましくは0.01μm以上、より好ましくは0.03μm以上、さらに好ましくは0.05μm以上であり、好ましくは15μm以下、より好ましくは10μm以下、さらに好ましくは5μm以下、さらにより好ましくは3μm以下、特に好ましくは1μm以下、特により好ましくは0.8μm以下、特にさらに好ましくは0.5μm以下である。分散液中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径が上記の下限以上であると、組成物から形成されるフィルムの誘電特性を高めやすく、またフィルムを製造しやすい。分散液中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径が上記の上限以下であると、組成物から形成されるフィルムの粒子分散性、表面平滑性、耐吸水性及び屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい。なお、分散液中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径は、レーザー回析を用いた散乱式粒度分布測定により求めることができ、例えば実施例に記載の方法により求めることができる。なお、本明細書において、メジアン径とはD50とも称され、その値よりもサイズの小さい側の粒子状シクロオレフィンコポリマー(B)の粒子数と、大きい側の粒子数とが等しい値を示す。また、本明細書において「粒子径」は、特記しない限り、メジアン径及び/又は平均一次粒子径を含む意味である。 The particulate polymer (B) dispersion liquid preferably contains a particulate polymer (B) having a median diameter of 0.01 to 15 μm. The median diameter of the particulate polymer (B) is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.03 μm or more, still more preferably 0.05 μm or more, preferably 15 μm or less, more preferably 10 μm or less, still more preferably. It is 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, particularly preferably 1 μm or less, particularly more preferably 0.8 μm or less, and particularly preferably 0.5 μm or less. When the median diameter of the particulate polymer (B) in the dispersion is not more than the above lower limit, it is easy to improve the dielectric properties of the film formed from the composition, and it is easy to manufacture the film. When the median diameter of the particulate polymer (B) in the dispersion is not more than the above upper limit, the film formed from the composition has mechanical properties such as particle dispersibility, surface smoothness, water absorption resistance and bending resistance. Easy to raise. The median diameter of the particulate polymer (B) in the dispersion can be determined by a scattering type particle size distribution measurement using laser diffraction, for example, by the method described in Examples. In the present specification, the median diameter is also referred to as D50, and indicates a value in which the number of particles of the particulate cycloolefin copolymer (B) on the smaller side than the value is equal to the number of particles on the larger side. Further, in the present specification, "particle diameter" means to include a median diameter and / or an average primary particle diameter unless otherwise specified.
[工程(3)]
 工程(3)は、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)分散液に樹脂(A)を添加する工程である。
[Step (3)]
The step (3) is a step of adding the resin (A) to the particulate cycloolefin polymer (B) dispersion liquid.
 <樹脂(A)>
 樹脂(A)はポリマー(B)とは異なるポリマーである。樹脂(A)がシクロオレフィン系樹脂である場合は、ポリマー(B)とは異なる種類、例えば樹脂を構成する単量体単位の種類やその含有量等が異なるシクロオレフィン系樹脂であればよい。
<Resin (A)>
The resin (A) is a polymer different from the polymer (B). When the resin (A) is a cycloolefin-based resin, it may be a cycloolefin-based resin having a different type from the polymer (B), for example, a different type of monomer unit constituting the resin, its content, and the like.
 樹脂(A)としては、特に限定されず、例えばジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、キシレン樹脂、フラン樹脂、アニリン樹脂、アセトン-ホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、マレイミド樹脂、マレイミド-シアン酸エステル樹脂、シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリベンズイミダゾール樹脂、及びポリカルボジイミド樹脂から選択される熱硬化性樹脂;オレフィン系樹脂;アクリル系樹脂;スチレン系樹脂;ゴム系樹脂;フッ素系樹脂;ビニル系樹脂;汎用エンジニアリングプラスチック;液晶ポリマー、芳香族ポリエーテル系樹脂などのスーパーエンジニアリングプラスチック;ポリアミド樹脂;ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂などのポリイミド系樹脂;並びに生分解性プラスチックなどが挙げられる。これらの中でも、フィルムの耐熱性及び誘電特性を高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂、液晶ポリマー、フッ素系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、及びマレイミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1つの樹脂であることが好ましく、ポリイミド系樹脂及び/又は液晶ポリマーであることがより好ましい。樹脂(A)は単独又は二種以上組合せて使用できる。 The resin (A) is not particularly limited, and for example, diallyl phthalate resin, silicone resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, melamine resin, urea resin, xylene resin, furan resin, aniline resin, acetone-formaldehyde resin. Thermocurable resin selected from alkyd resin, maleimide resin, maleimide-cyanic acid ester resin, cyanate ester resin, benzoxazine resin, polybenzimidazole resin, and polycarbodiimide resin; olefin resin; acrylic resin; styrene Resins; rubber resins; fluororesins; vinyl resins; general-purpose engineering plastics; super engineering plastics such as liquid crystal polymers and aromatic polyether resins; polyamide resins; polyimide resins such as polyimide resins and polyamideimide resins; Examples include biodegradable plastics. Among these, at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin, a liquid crystal polymer, a fluororesin, an aromatic polyether resin, and a maleimide resin from the viewpoint of easily improving the heat resistance and dielectric properties of the film. Is preferable, and a polyimide resin and / or a liquid crystal polymer is more preferable. The resin (A) can be used alone or in combination of two or more.
 樹脂(A)のTgは、好ましくは100℃以上、より好ましくは150℃以上、さらに好ましくは180℃以上、さらにより好ましくは200℃以上、特に好ましくは300℃以上、特により好ましくは350℃以上であり、好ましくは550℃以下である。樹脂(A)のTgが上記の下限以上であると、得られるフィルムの表面平滑性、粒子分散性及び耐熱性を高めやすく、かつCTEを低減しやすい。樹脂(A)のTgが上記の上限以下であると、機械的特性を高めやすい。樹脂(A)のTgは、例えば動的粘弾性測定(以下、DMA測定と略すことがある)を行うことで求められ、実施例に記載の方法により測定できる。 The Tg of the resin (A) is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 150 ° C. or higher, still more preferably 180 ° C. or higher, still more preferably 200 ° C. or higher, particularly preferably 300 ° C. or higher, and particularly more preferably 350 ° C. or higher. It is preferably 550 ° C. or lower. When the Tg of the resin (A) is at least the above lower limit, the surface smoothness, particle dispersibility and heat resistance of the obtained film can be easily improved, and the CTE can be easily reduced. When the Tg of the resin (A) is not more than the above upper limit, the mechanical properties are likely to be enhanced. The Tg of the resin (A) can be obtained, for example, by performing dynamic viscoelasticity measurement (hereinafter, may be abbreviated as DMA measurement), and can be measured by the method described in Examples.
 樹脂(A)のMwは、ポリスチレン換算で、好ましくは50,000以上、より好ましくは100,000以上、さらに好ましくは150,000以上、さらにより好ましくは200,000以上、特に好ましくは250,000以上、特により好ましくは300,000以上であり、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは800,000以下、さらに好ましくは700,000以下、さらにより好ましくは500,000以下、特に好ましくは450,000以下である。樹脂(A)のMwが上記の下限以上であると、得られるフィルムの表面平滑性、粒子分散性、耐熱性及び機械的特性を高めやすく、かつCTEを低減しやすい。樹脂(A)のMwが上記の上限以下であると、成形性を高めやすい。なお、樹脂(A)のMwは、例えばGPC測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により求められる。 The Mw of the resin (A) is preferably 50,000 or more, more preferably 100,000 or more, still more preferably 150,000 or more, still more preferably 200,000 or more, and particularly preferably 250,000 in terms of polystyrene. The above is particularly preferably 300,000 or more, preferably 1,000,000 or less, more preferably 800,000 or less, still more preferably 700,000 or less, still more preferably 500,000 or less, and particularly preferably. It is 450,000 or less. When the Mw of the resin (A) is at least the above lower limit, the surface smoothness, particle dispersibility, heat resistance and mechanical properties of the obtained film can be easily improved, and the CTE can be easily reduced. When the Mw of the resin (A) is not more than the above upper limit, the moldability is likely to be improved. The Mw of the resin (A) can be obtained by, for example, GPC measurement and converted to standard polystyrene, and can be obtained by, for example, the method described in Examples.
 樹脂(A)として好適なポリイミド系樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する樹脂(以下、ポリイミド樹脂ということがある)、及びイミド基及びアミド基の両方を含む繰り返し構造単位を含有する樹脂(以下、ポリアミドイミド樹脂ということがある)、並びにイミド化によりポリイミド系樹脂を製造する前の前駆体を含む意味である。該ポリイミド樹脂を製造する前の前駆体はポリアミック酸である。なお、本明細書において、「繰り返し構造単位」を「構成単位」ということがある。また、「由来の構成単位」を単に「単位」ということがあり、例えば化合物由来の構成単位を化合物単位などということがある。 The polyimide-based resin suitable as the resin (A) includes a resin containing a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter, may be referred to as a polyimide resin), and a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group. It is meant to include a resin to be used (hereinafter, may be referred to as a polyamide-imide resin) and a precursor before producing a polyimide-based resin by imidization. The precursor before producing the polyimide resin is a polyamic acid. In addition, in this specification, a "repeating structural unit" may be referred to as a "constituent unit". Further, the "constituent unit derived from" may be simply referred to as "unit", and for example, the constituent unit derived from a compound may be referred to as a compound unit.
 本発明の好適な実施形態において、樹脂(A)は、式(1): In a preferred embodiment of the present invention, the resin (A) is represented by the formula (1) :.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
[式(1)中、Xは2価の有機基を表し、Yは4価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有するポリイミド系樹脂であることが好ましい。このようなポリイミド系樹脂であると、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
[In formula (1), X represents a divalent organic group, Y represents a tetravalent organic group, and * represents a bond].
It is preferable that the polyimide resin has a structural unit represented by. With such a polyimide-based resin, it is easy to reduce the CTE of the film, and it is easy to improve mechanical properties such as heat resistance and bending resistance.
 式(1)中のXは、互いに独立に2価の有機基を表し、好ましくは炭素数2~100の2価の有機基を表す。2価の有機基としては、例えば2価の芳香族基、2価の脂肪族基等が挙げられ、2価の脂肪族基としては、例えば2価の非環式脂肪族基又は2価の環式脂肪族基が挙げられる。これらの中でも、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、2価の環式脂肪族基及び2価の芳香族基が好ましく、2価の芳香族基がより好ましい。2価の有機基は、有機基中の水素原子がハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はハロゲン化炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、これらの基の炭素数は好ましくは1~8である。なお、本明細書において、2価の芳香族基は芳香族基を有する2価の有機基であり、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。また、2価の脂肪族基は脂肪族基を有する2価の有機基であり、その構造の一部にその他の置換基を含んでいてもよいが、芳香族基は含まない。 X in the formula (1) represents a divalent organic group independently of each other, and preferably represents a divalent organic group having 2 to 100 carbon atoms. Examples of the divalent organic group include a divalent aromatic group and a divalent aliphatic group, and examples of the divalent aliphatic group include a divalent acyclic aliphatic group or a divalent aliphatic group. Cyclic aliphatic groups can be mentioned. Among these, a divalent cyclic aliphatic group and a divalent aromatic group are preferable, and a divalent aromatic group is preferable from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance and mechanical properties. More preferred. In the divalent organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or a halogenated hydrocarbon group, in which case the carbon number of these groups is preferably 1. ~ 8. In the present specification, the divalent aromatic group is a divalent organic group having an aromatic group, and an aliphatic group or another substituent may be contained in a part of the structure thereof. Further, the divalent aliphatic group is a divalent organic group having an aliphatic group, and a part of the structure thereof may contain other substituents, but does not contain an aromatic group.
 本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。式(1)中のXとしては、例えば式(2)~式(8)で表される基(構造);式(5)~式(8)で表される基中の水素原子がメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基などが挙げられる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. As X in the formula (1), for example, the group (structure) represented by the formulas (2) to (8); the hydrogen atom in the group represented by the formulas (5) to (8) is a methyl group. , Ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group substituted group and the like.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
[式(2)及び式(3)中、R及びRは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、R及びRに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Wは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-COO-、-OOC-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表し、nは0~4の整数であり、tは0~4の整数であり、uは0~4の整数であり、*は結合手を表す。
式(4)中、環Aは炭素数3~8のシクロアルカン環を表し、
は炭素数1~20のアルキル基を表し、
rは0以上であって(環Aの炭素数-2)以下の整数を表し、
S1及びS2は、互いに独立に、0~20の整数を表し、
*は結合手を表す。]
[In the formulas (2) and (3 ), Ra and R b are independent of each other, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. The hydrogen atoms contained in Ra and R b may be substituted with halogen atoms independently of each other, and W is independent of each other, single -bonded, -O-, -CH 2- . , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -COO-, -OOC-, -SO 2- , -S -, -CO- or -N (R c )-, R c represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom, and n represents 0 to 0 to. 4 is an integer, t is an integer of 0 to 4, u is an integer of 0 to 4, and * represents a bond.
In formula (4), ring A represents a cycloalkane ring having 3 to 8 carbon atoms.
R d represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
r represents an integer greater than or equal to 0 and less than or equal to (the number of carbon atoms in ring A-2).
S1 and S2 represent integers from 0 to 20 independently of each other.
* Represents a bond. ]
 式(1)中のXの他の例としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、プロピレン基、1,2-ブタンジイル基、1,3-ブタンジイル基、1,12-ドデカンジイル基、2-メチル-1,2-プロパンジイル基、2-メチル-1,3-プロパンジイル基等の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基などの2価の非環式脂肪族基が挙げられる。2価の非環式脂肪族基中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、炭素原子はヘテロ原子、例えば酸素原子、窒素原子等で置換されていてもよい。 Other examples of X in the formula (1) include, for example, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, a propylene group, a 1,2-butanediyl group, and a 1,3-butanediyl group. , 1,12-Dodecandyl group, 2-methyl-1,2-propanediyl group, 2-methyl-1,3-propanediyl group and other linear or branched alkylene groups with divalent acyclic Examples include aliphatic groups. The hydrogen atom in the divalent acyclic aliphatic group may be substituted with a halogen atom, and the carbon atom may be substituted with a hetero atom, for example, an oxygen atom, a nitrogen atom or the like.
 これらの中でも、フィルムの高い誘電特性、低CTE、かつ高耐熱性及び高い機械的特性を達成しやすい観点から、本発明におけるポリイミド系樹脂は、式(1)中のXとして、式(2)で表される構造及び/又は式(3)で表される構造を含むことが好ましく、式(2)で表される構造を含むことがより好ましい。 Among these, the polyimide-based resin in the present invention is represented by the formula (2) as X in the formula (1) from the viewpoint of easily achieving high dielectric properties, low CTE, high heat resistance and high mechanical properties of the film. It is preferable to include a structure represented by and / or a structure represented by the formula (3), and it is more preferable to include a structure represented by the formula (2).
 式(2)及び式(3)において、各ベンゼン環又はシクロヘキサン環の結合手は、-W-を基準に、それぞれ、オルト位、メタ位又はパラ位、もしくはα位、β位又はγ位のいずれに結合していてもよく、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくはメタ位又はパラ位、もしくはβ位又はγ位、より好ましくはパラ位、もしくはγ位に結合することができる。R及びRは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6~12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基及びビフェニル基等が挙げられる。R及びRに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中でも、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び誘電特性を高めやすい観点から、R及びRは、互いに独立に、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数1~6のフッ化アルキル基であることが好ましく、炭素数1~3のアルキル基又は炭素数1~3のフッ化アルキル基であることがより好ましく、メチル基又はトリフルオロメチル基であることがさらに好ましい。 In the formulas (2) and (3), the bond of each benzene ring or cyclohexane ring is at the ortho-position, meta-position or para-position, or α-position, β-position or γ-position, respectively, based on −W—. It may be bonded to any of them, and from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily increasing the heat resistance and mechanical properties, it is preferably in the meta-position or para-position, or β-position or γ-position, and more preferably in the para-position. , Or can be bound to the γ position. R a and R b independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group, and 2 -Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Examples include groups and cyclohexyloxy groups. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group and a biphenyl group. The hydrogen atom contained in Ra and R b may be substituted with a halogen atom independently of each other, and examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Among these, from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance and the dielectric property, Ra and R b are independent of each other and have an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. It is preferably an alkyl fluoride group, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms or an alkyl fluoride group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a methyl group or a trifluoromethyl group.
 式(2)及び式(3)において、t及びuは、互いに独立に、0~4の整数であり、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は1である。 In the formulas (2) and (3), t and u are integers of 0 to 4 independently of each other, which is preferable from the viewpoints that the CTE of the film can be easily reduced and the heat resistance and mechanical properties can be easily improved. Is an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
 式(2)及び式(3)において、Wは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-COO-、-OOC-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性、特に屈曲耐性を高めやすい観点から、好ましくは単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-COO-、-OOC-又は-CO-を表し、より好ましくは単結合、-O-、-CH-、-C(CH-又は-C(CF-を表す。Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表す。炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基及びn-デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、上記と同様のものが挙げられる。 In equations (2) and (3), W is single-bonded independently of each other, -O-, -CH 2-, -CH 2 - CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH). 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -COO-, -OOC-, -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R c ) -reduces the CTE of the film. Single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 are preferable from the viewpoint of easy to increase heat resistance and mechanical properties, especially bending resistance. -, -COO-, -OOC- or -CO-, more preferably single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2 -or-C (CF 3 ) 2- .. R c represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-. Pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group. Etc., which may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include the same as above.
 式(2)及び式(3)において、nは、0~4の整数であり、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくは0~3の整数、より好ましくは1又は2である。nが2以上の場合、複数のW、R、及びtは互いに同一であってもよく、異なっていてもよく、-W-を基準とした各ベンゼン環の結合手の位置も同一であってもよく、異なっていてもよい。 In the formulas (2) and (3), n is an integer of 0 to 4, and is preferably an integer of 0 to 3 from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily increasing the heat resistance and mechanical properties. , More preferably 1 or 2. When n is 2 or more, the plurality of Ws, Ras, and ts may be the same or different from each other, and the positions of the bonds of each benzene ring with respect to −W— are also the same. It may or may not be different.
 本発明におけるポリイミド系樹脂が、式(1)中のXとして、式(2)で表される構造と式(3)で表される構造の両方を含む場合、式(2)におけるW、n、R、R、t及びuは、互いに独立に、式(3)におけるW、n、R、R、t及びuと同一であってもよく、異なっていてもよい。 When the polyimide-based resin in the present invention contains both the structure represented by the formula (2) and the structure represented by the formula (3) as X in the formula (1), W and n in the formula (2). , R a , R b , t and u may be the same as or different from W, n, R a , R b , t and u in the formula (3) independently of each other.
 式(4)において、環Aは炭素数3~8のシクロアルカン環を表す。シクロアルカン環としては、例えばシクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環が挙げられ、好ましくは炭素数4~6のシクロアルカン環が挙げられる。環Aにおいて、各結合手は、互いに隣接していてもよいし、隣接していなくてもよい。例えば、環Aがシクロヘキサン環である場合、2つの結合手はα位、β位又はγ位の位置関係にあってもよく、好ましくはβ位又はγ位の位置関係にあってもよい。 In the formula (4), the ring A represents a cycloalkane ring having 3 to 8 carbon atoms. Examples of the cycloalkane ring include a cyclopropane ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, and a cyclooctane ring, and a cycloalkane ring having 4 to 6 carbon atoms is preferable. In ring A, the bonds may or may not be adjacent to each other. For example, when the ring A is a cyclohexane ring, the two bonds may be in the positional relationship of the α-position, the β-position, or the γ-position, and may be preferably in the positional relationship of the β-position or the γ-position.
 式(4)中のRは炭素数1~20のアルキル基を表す。炭素数1~20のアルキル基としては、R~R18における炭素数1~20の炭化水素基として上記に例示のものが挙げられ、好ましくは炭素数1~10のアルキル基を表す。式(4)中のrは0以上であって(環Aの炭素数-2)以下の整数を表す。rは好ましくは0以上であり、好ましくは4以下である。式(4)中のS1及びS2は、互いに独立に、0~20の整数を表す。S1及びS2は、互いに独立に、好ましくは0以上、より好ましくは2以上であり、好ましくは15以下である。 R d in the formula (4) represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include those exemplified above as the hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R7 to R18, and preferably represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. In equation (4), r represents an integer of 0 or more and (number of carbon atoms of ring A-2) or less. r is preferably 0 or more, and preferably 4 or less. S1 and S2 in the formula (4) represent integers of 0 to 20 independently of each other. S1 and S2 are independent of each other, preferably 0 or more, more preferably 2 or more, and preferably 15 or less.
 式(2)~式(4)で表される構造の具体例としては、式(4’)及び式(9)~式(30)で表される構造が挙げられる。なお、これらの式中、*は結合手を表す。 Specific examples of the structures represented by the formulas (2) to (4) include the structures represented by the formulas (4') and the formulas (9) to (30). In these equations, * represents a bond.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 本発明の好適な実施形態において、式(1)中のXとして、式(2)及び/又は式(3)で表される構造を含む場合、式(1)中のXが式(2)及び/又は式(3)で表される構成単位の割合は、式(1)で表される構成単位の総モル量に対して、好ましくは30mol%以上、より好ましくは50mol%以上、さらに好ましくは70mol%以上、特に好ましくは90mol%以上であり、好ましくは100mol%以下である。式(1)中のXが式(2)及び/又は式(3)で表される構成単位の割合が上記の範囲であると、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、誘電特性及び機械的特性を高めやすい。式(1)中のYが式(2)及び/又は式(3)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, when X in the formula (1) includes a structure represented by the formula (2) and / or the formula (3), the X in the formula (1) is the formula (2). And / or the ratio of the structural unit represented by the formula (3) is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably, with respect to the total molar amount of the structural unit represented by the formula (1). Is 70 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more, and preferably 100 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by the formula (2) and / or the formula (3) is in the above range, X in the formula (1) can easily reduce the CTE of the film, and has heat resistance, dielectric properties and dielectric properties. It is easy to improve the mechanical characteristics. The ratio of the structural unit in which Y in the formula (1) is represented by the formula (2) and / or the formula (3) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or calculated from the charging ratio of the raw materials. You can also do it.
 式(1)において、Yは、互いに独立に4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4~40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子がハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はハロゲン化炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、これらの基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明のポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。Yとしては、式(31)~式(38)で表される基(構造);式(34)~式(38)で表される基中の水素原子がメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;4価の炭素数1~8の鎖式炭化水素基などが挙げられる。 In the formula (1), Y represents a tetravalent organic group independently of each other, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably 4 having a cyclic structure and 4 to 40 carbon atoms. Represents a valence organic group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. In the organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or a halogenated hydrocarbon group, in which case the carbon number of these groups is preferably 1 to 8. Is. The polyimide-based resin of the present invention may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other. As Y, the group (structure) represented by the formulas (31) to (38); the hydrogen atom in the group represented by the formulas (34) to (38) is a methyl group, an ethyl group, or n-propyl. Group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group substituted group; tetravalent chain type with 1 to 8 carbon atoms. Examples include a hydrocarbon group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

[式(31)~式(33)中、R19~R26は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R19~R26に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
及びVは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-COO-、-OOC-、-SO-、-S-、-CO-、-N(R)-、式(a)又は式(b)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009

[In formulas (31) to (33), R 19 to R 26 have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms independently of each other. Hydrogen atoms representing an aryl group and contained in R 19 to R 26 may be substituted with halogen atoms independently of each other.
V 1 and V 2 are independent of each other, single bond, -O-, -CH 2-, -CH 2 - CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C. (CF 3 ) 2- , -COO-, -OOC-, -SO 2- , -S-, -CO-, -N (R j )-, formula (a) or formula (b)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(式(a)中、R27~R30は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、Zは-C(CH-又は-C(CF-を表し、iは1~3の整数であり、*は結合手を表す)を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表し、e及びdは、互いに独立に、0~2の整数を表し、fは1~3の整数を表し、g及びhは、互いに独立に、0~4の整数を表し、*は結合手を表す]
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(In the formula (a), R 27 to R 30 represent hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms independently of each other, and Z is -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2 . -Represents i , i is an integer of 1 to 3, * represents a bond), and Rj is a monovalent number of carbon atoms 1 to 12 that may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Representing a hydrocarbon group, e and d represent an integer of 0 to 2 independently of each other, f represents an integer of 1 to 3, and g and h represent an integer of 0 to 4 independently of each other. * Represents a bond]
 これらの中でも、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、本発明におけるポリイミド系樹脂は、式(1)中のYとして、式(31)で表される構造、式(32)で表される構造又は式(33)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つの構造を含むことが好ましく、式(31)で表される構造を含むことがより好ましい。 Among these, the polyimide-based resin in the present invention is represented by the formula (31) as Y in the formula (1) from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance and mechanical properties. It preferably contains at least one structure selected from the group consisting of a structure, a structure represented by the formula (32) or a structure represented by the formula (33), and preferably includes a structure represented by the formula (31). Is more preferable.
 式(31)~式(33)において、R19~R26は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基及び炭素数6~12のアリール基としてはそれぞれ、式(2)及び式(3)における炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基及び炭素数6~12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。R19~R26に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては上記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、フィルムの耐熱性及び誘電特性を高めやすい観点から、R19~R26は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。 In formulas (31) to (33), R 19 to R 26 are independent of each other, a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl having 6 to 12 carbon atoms. Represents a group. As the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and carbon having 1 to 6 carbon atoms in the formulas (2) and (3), respectively. Examples of the alkoxy group having the number 1 to 6 and the aryl group having the number of carbons 6 to 12 are exemplified above. The hydrogen atoms contained in R 19 to R 26 may be substituted with halogen atoms independently of each other, and examples of the halogen atoms include those mentioned above. Among these, from the viewpoint of easily improving the heat resistance and dielectric properties of the film, R 19 to R 26 are preferably hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms independently of each other, and hydrogen atoms or 1 to 3 carbon atoms are preferable. Alkyl groups are more preferred, and hydrogen atoms are even more preferred.
 式(31)において、V及びVは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-COO-、-OOC-、-SO-、-S-、-CO-、-N(R)-、式(a)又は式(b)を表し、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくは単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-COO-、-OOC-又は-CO-を表し、より好ましくは単結合、-O-、-C(CH-又は-C(CF-を表す。Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表す。炭素数1~12の一価の炭化水素基としては、上記に例示のものが挙げられる。 In formula (31), V 1 and V 2 are single-bonded independently of each other, -O-, -CH 2-, -CH 2 - CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ). ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -COO-, -OOC-, -SO 2- , -S-, -CO-, -N (R j )-, equation (a) or equation (b) ), Which is preferable from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily increasing the heat resistance and mechanical properties, preferably single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C. (CF 3 ) 2- , -COO-, -OOC- or -CO-, more preferably single bond, -O-, -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- .. R j represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include those exemplified above.
 式(31)において、e及びdは、互いに独立に、0~2の整数を表し、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくは0又は1であり、より好ましくはe+d=1である。 In the formula (31), e and d represent integers of 0 to 2 independently of each other, and are preferably 0 or 1 from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily increasing the heat resistance and mechanical properties. Yes, more preferably e + d = 1.
 式(32)において、fは1~3の整数を表し、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくは1又は2、より好ましくは1である。 In the formula (32), f represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2, more preferably 1, from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily increasing the heat resistance and mechanical properties.
 式(33)において、g及びhは、互いに独立に、0~4の整数を表し、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくは0~2の整数であり、より好ましくは0又は1であり、さらに好ましくはg+h=0~2の整数である。 In the formula (33), g and h represent integers of 0 to 4 independently of each other, and are preferably 0 to 2 from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily increasing the heat resistance and mechanical properties. It is an integer, more preferably 0 or 1, and even more preferably an integer of g + h = 0 to 2.
 式(a)において、R27~R30は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。炭素数1~6のアルキル基としては、式(2)及び(3)における炭素数1~6のアルキル基として上記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、R27~R30は、互いに独立に、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。 In formula (a), R 27 to R 30 represent hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms independently of each other. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include those exemplified above as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in the formulas (2) and (3). Among these, from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance and mechanical properties, R 27 to R 30 are more preferably hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms independently of each other. , Hydrogen atom is more preferable.
 式(a)において、Zは-C(CH-又は-C(CF-を表す。Zがこのような構造であると、フィルムの耐熱性、誘電特性及び機械的特性を高めやすい。iは1~3の整数を表し、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性及び機械的特性を高めやすい観点から、好ましくは1又は2である。iが2以上の場合、複数のZ及びR27~R30は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 In formula (a), Z represents -C (CH 3 ) 2- or -C (CF 3 ) 2- . When Z has such a structure, it is easy to improve the heat resistance, the dielectric property and the mechanical property of the film. i represents an integer of 1 to 3, and is preferably 1 or 2 from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily increasing the heat resistance and mechanical properties. When i is 2 or more, the plurality of Z and R 27 to R 30 may be the same as each other or may be different from each other.
 式(31)~式(33)で表される構造の具体例としては、式(39)~式(51)で表される構造が挙げられる。なお、これらの式中、*は結合手を表す。 Specific examples of the structures represented by the formulas (31) to (33) include the structures represented by the formulas (39) to (51). In these equations, * represents a bond.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 本発明の一実施形態において、式(1)中のYとして、式(31)~式(33)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つを含む場合、式(1)中のYが式(31)~式(33)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つで表される構成単位の割合は、式(1)で表される構成単位の総モル量に対して、好ましくは30mol%以上、より好ましくは50mol%以上、さらに好ましくは70mol%以上、特に好ましくは90mol%以上であり、好ましくは100mol%以下である。式(1)中のYが式(31)~式(33)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つで表される構成単位の割合が上記の範囲であると、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、耐吸水性、誘電特性及び機械的特性を高めやすい。式(1)中のYが式(31)~式(33)で表される構造からなる群から選択される少なくとも1つで表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, when Y in the formula (1) includes at least one selected from the group consisting of the structures represented by the formulas (31) to (33), the formula (1) is used. Y is selected from the group consisting of the structures represented by the formulas (31) to (33), and the ratio of the constituent units represented by at least one is the total mole of the constituent units represented by the formula (1). With respect to the amount, it is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more, and preferably 100 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by at least one selected from the group consisting of the structures represented by the formulas (31) to (33) in the formula (1) is within the above range, the film is formed. It is easy to reduce CTE and to improve heat resistance, water absorption resistance, dielectric property and mechanical property. The ratio of the structural unit represented by at least one selected from the group consisting of the structures represented by the formulas (31) to (33) in the formula (1) is determined by using, for example, 1 H-NMR. It can be measured or calculated from the raw material charge ratio.
 本発明におけるポリイミド系樹脂は、式(1)で表される構成単位の他に、式(52)で表される構成単位、式(53)で表される構成単位、及び式(54)で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも1つを含んでいてもよい。 The polyimide-based resin in the present invention has a structural unit represented by the formula (52), a structural unit represented by the formula (53), and a structural unit represented by the formula (54), in addition to the structural unit represented by the formula (1). It may contain at least one selected from the group consisting of the represented building blocks.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
[式(52)及び式(53)中、Yは4価の有機基を表し、
は3価の有機基を表し、
及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、
*は結合手を表す。
式(54)中、G及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、
*は結合手を表す。]
[In the formula (52) and the formula (53), Y 1 represents a tetravalent organic group.
Y 2 represents a trivalent organic group
X 1 and X 2 represent divalent organic groups independently of each other.
* Represents a bond.
In formula (54), G and X represent divalent organic groups independently of each other.
* Represents a bond. ]
 本発明の好適な実施形態では、式(52)及び式(53)において、Yは式(1)におけるYと同義であり、X及びXは、式(1)におけるXと同義である。式(53)におけるYは式(1)におけるYの結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基であることが好ましい。Yとしては、式(31)~式(38)で表される基(構造)の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基;3価の炭素数1~8の鎖式炭化水素基などが挙げられる。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のY又はYを含み得、複数種のY又はYは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 In a preferred embodiment of the invention, in formulas (52) and (53), Y 1 is synonymous with Y in formula (1), and X 1 and X 2 are synonymous with X in formula (1). be. It is preferable that Y 2 in the formula (53) is a group in which any one of the bonds of Y in the formula (1) is replaced with a hydrogen atom. As Y 2 , a group in which any one of the bonds of the groups (structures) represented by the formulas (31) to (38) is replaced with a hydrogen atom; a chain hydrocarbon having a trivalent carbon number of 1 to 8 is used. The group etc. can be mentioned. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may contain a plurality of types of Y 1 or Y 2 , and the plurality of types of Y 1 or Y 2 may be the same as or different from each other.
 式(54)において、Gは、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは炭素数1~8の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数1~8の炭化水素基で置換されていてもよい、炭素数2~100の2価の有機基であり、より好ましくは炭素数1~8の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数1~8の炭化水素基で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数2~100の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Gの有機基としては、例えば式(31)~式(38)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が挙げられ、好ましくは式(39)~式(51)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基などが挙げられる。
 式(54)中のXは式(1)におけるXと同義であり、ポリイミド系樹脂が式(1)で表される構成単位と式(54)で表される構成単位とを含む場合、各構成単位におけるXは同一であってもよく、異なっていてもよい。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のX又はGを含み得、複数種のX又はGは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
In formula (54), G is a divalent organic group independently of each other, preferably substituted with a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. It may be a divalent organic group having 2 to 100 carbon atoms, more preferably substituted with a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. It represents a good, divalent organic group having a cyclic structure and having 2 to 100 carbon atoms. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. Examples of the organic group of G include a group in which two non-adjacent groups are replaced with hydrogen atoms and a divalent chain carbonization having 6 or less carbon atoms among the bonds of the groups represented by the formulas (31) to (38). A hydrogen group can be mentioned, and preferably, among the bonds of the groups represented by the formulas (39) to (51), a group in which two non-adjacent groups are replaced with a hydrogen atom can be mentioned.
X in the formula (54) is synonymous with X in the formula (1), and when the polyimide resin contains a structural unit represented by the formula (1) and a structural unit represented by the formula (54), each X in the structural unit may be the same or different. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may contain a plurality of types of X or G, and the plurality of types of X or G may be the same as or different from each other.
 本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1)で表される構成単位、並びに、場合により式(52)で表される構成単位、式(53)で表される構成単位及び式(54)で表される構成単位から選択される少なくとも1つの構成単位からなる。また、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、耐吸水性及び誘電特性を高めやすい観点から、上記ポリイミド系樹脂において、式(1)で表される構成単位の割合は、ポリイミド系樹脂に含まれる全構成単位、例えば式(1)で表される構成単位、並びに、場合により式(52)で表される構成単位、式(53)で表される構成単位及び式(54)で表される構成単位から選択される少なくとも1つの構成単位の総モル量に基づいて、好ましくは80mol%以上、より好ましくは90mol%以上、さらに好ましくは95mol%以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式(1)で表される構成単位の割合の上限は100mol%以下である。なお、上記割合は、例えば、H-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。また、本発明におけるポリイミド系樹脂は、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、耐吸水性及び誘電特性を高めやすい観点から、好ましくはポリイミド樹脂である。 In one embodiment of the present invention, the polyimide resin is a structural unit represented by the formula (1), and in some cases, a structural unit represented by the formula (52), a structural unit represented by the formula (53), and a structural unit represented by the formula (53). It consists of at least one structural unit selected from the structural units represented by the formula (54). Further, from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance, water absorption resistance and dielectric properties, the ratio of the structural unit represented by the formula (1) in the polyimide resin is the polyimide resin. All the structural units included, for example, the structural unit represented by the formula (1), and in some cases, the structural unit represented by the formula (52), the structural unit represented by the formula (53), and the table by the formula (54). It is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, still more preferably 95 mol% or more, based on the total molar amount of at least one constituent unit selected from the constituent units. In the polyimide resin, the upper limit of the ratio of the structural unit represented by the formula (1) is 100 mol% or less. The above ratio can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials. Further, the polyimide resin in the present invention is preferably a polyimide resin from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance, water absorption resistance and dielectric properties.
 本発明の一実施形態において、本発明におけるポリイミド系樹脂は、例えば上記の含ハロゲン原子置換基等によって導入することができる、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を含有していてもよい。ポリイミド系樹脂がハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を含有する場合、耐熱性及び誘電特性に加え、光学特性を高めやすい。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin in the present invention may contain a halogen atom, preferably a fluorine atom, which can be introduced by, for example, the above-mentioned halogen-containing atom substituent or the like. When the polyimide resin contains a halogen atom, preferably a fluorine atom, it is easy to improve the optical property in addition to the heat resistance and the dielectric property. Preferred fluorine-containing substituents for containing a fluorine atom in the polyimide-based resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.
 ポリイミド系樹脂がハロゲン原子を含有する場合、ポリイミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは0.1~40質量%、より好ましくは1~35質量%、さらに好ましくは5~30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、フィルムの耐熱性及び誘電特性を高めやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、CTEを低減でき、また合成がしやすくなる。 When the polyimide-based resin contains a halogen atom, the content of the halogen atom in the polyimide-based resin is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 1 to 35% by mass, based on the mass of the polyimide-based resin. More preferably, it is 5 to 30% by mass. When the content of halogen atoms is at least the above lower limit, the heat resistance and dielectric properties of the film are likely to be improved. When the content of the halogen atom is not more than the above upper limit, the CTE can be reduced and the synthesis becomes easy.
 ポリイミド系樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは95%以上であり、通常100%以下である。フィルムの光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization ratio of the polyimide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, further preferably 95% or more, and usually 100% or less. From the viewpoint of easily improving the optical properties of the film, the imidization ratio is preferably at least the above lower limit. The imidization ratio indicates the ratio of the molar amount of the imide bond in the polyimide resin to the value twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. When the polyimide resin contains a tricarboxylic acid compound, the value is twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin, and the molar amount of the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound. The ratio of the molar amount of the imide bond in the polyimide resin to the total of the above is shown. The imidization rate can be determined by an IR method, an NMR method, or the like.
 本発明におけるポリイミド系樹脂は、上記の通り、ポリイミド系樹脂をイミド化する前の前駆体を包含する。ポリイミド系樹脂がポリアミック酸の場合、ポリアミック酸は式(1’):
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013
[式(1’)中、Y及びXはそれぞれ、式(1)におけるY及びXを表す]
で表される構成単位を含む。
As described above, the polyimide-based resin in the present invention includes a precursor before imidizing the polyimide-based resin. When the polyimide resin is a polyamic acid, the polyamic acid is the formula (1'):
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000013
[In equation (1'), Y and X represent Y and X in equation (1), respectively]
Includes building blocks represented by.
 <樹脂(A)の製造方法>
 樹脂(A)は、市販品を用いてもよく、慣用の方法により製造してもよい。本発明の一実施形態では、前記樹脂(A)はポリイミド系樹脂であることが好ましい。ポリイミド系樹脂の製造方法は特に限定されないが、例えば、ポリイミド系樹脂は、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とを反応させてポリアミック酸を得る工程、及び該ポリアミック酸をイミド化する工程を含む方法により製造できる。また、樹脂(A)がポリアミック酸である場合、ポリアミック酸を得る工程を実施すればよい。なお、テトラカルボン酸化合物の他に、ジカルボン酸化合物、トリカルボン酸化合物を反応させてもよい。
<Manufacturing method of resin (A)>
The resin (A) may be a commercially available product or may be produced by a conventional method. In one embodiment of the present invention, the resin (A) is preferably a polyimide resin. The method for producing the polyimide resin is not particularly limited, and the polyimide resin is, for example, by a method including a step of reacting a diamine compound with a tetracarboxylic acid compound to obtain a polyamic acid and a step of imidizing the polyamic acid. Can be manufactured. When the resin (A) is a polyamic acid, the step of obtaining the polyamic acid may be carried out. In addition to the tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound or a tricarboxylic acid compound may be reacted.
 ポリイミド系樹脂の合成に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound used for synthesizing the polyimide resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride. Can be mentioned. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound in addition to the dianhydride.
 テトラカルボン酸化合物の具体例としては、無水ピロメリット酸(以下、PMDAと略すことがある)、4,4’-(4,4’-イソプロピリデンジフェノキシ)ジフタル酸無水物(以下、BPADAと略すことがある)、1,4,5,8-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下、BPDAと略すことがある)、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(以下、6FDAと略すことがある)、4,4’-オキシジフタル酸無水物(以下、ODPAと略すことがある)、2,2’,3,3’-、2,3,3’,4’-又は3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3’,3,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3’,3,4’-ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、3,3”,4,4”-、2,3,3”,4”-又は2,2”,3,3”-p-テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェニル)-プロパン二無水物、ビス(2,3-又は3.4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、1,1-ビス(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2,7,8-、1,2,6,7-又は1,2,9,10-フェナンスレン-テトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)テトラフルオロプロパン二無水物、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物(以下、HPMDAと略すことがある)、2,3,5,6-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビス(2,3-ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルメタン二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(以下、CBDAと略すことがある)、ノルボルナン-2-スピロ-α’-スピロ-2”-ノルボルナン-5,5’,6,6’-テトラカルボン酸無水物、p-フェニレンビス(トリメリテート無水物)、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-アントラセンテトラカルボン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロナフタレン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、2,6-又は2,7-ジクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7-(又は1,4,5,8-)テトラクロロナフタレン-1,4,5,8-(又は2,3,6,7-)テトラカルボン酸二無水物、2,3,8,9-、3,4,9,10-、4,5,10,11-又は5,6,11,12-ペリレン-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピロリジン-2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物、チオフェン-2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物、ビス(2,3-又は3,4-ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物などが挙げられる。これらの中でも、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、耐吸水性、誘電特性及び機械的特性を高めやすい観点から、PMDA、BPDA、6FDA、BPADA、ODPA、HPMDA、CBDA、p-フェニレンビス(トリメリテート無水物)が好ましい。これらのテトラカルボン酸化合物は単独又は二種以上組合せて使用できる。 Specific examples of the tetracarboxylic acid compound include pyromellitic anhydride (hereinafter, may be abbreviated as PMDA), 4,4'-(4,4'-isopropylidene diphenoxy), and diphthalic anhydride (hereinafter, BPADA). (May be abbreviated), 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride (hereinafter, may be abbreviated as BPDA), 4,4'-(Hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (hereinafter, may be abbreviated as 6FDA), 4,4'-oxydiphthalic acid anhydride (hereinafter, may be abbreviated as ODPA), 2,2 ', 3,3'-, 2,3,3', 4'-or 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3', 3,4'-biphenyltetracarboxylic Acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,3', 3,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ) Ether dianhydride, 3,3 ", 4,4"-, 2,3,3 ", 4"-or 2,2 ", 3,3" -p-terphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2 , 2-Bis (2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl) -propane dianhydride, bis (2,3- or 3.4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 1,1-bis (2,3- or 3.4-dicarboxyphenyl) 2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2,7,8-,1,2,6,7- or 1,2,9,10-phenanthrene-tetracarboxylic acid di Anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) tetrafluoropropane dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride (hereinafter, may be abbreviated as HPMDA), 2,3,5,6-Cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride, cyclopentane -1,2,3,4-tetracarboxylic acid dianhydride, 4,4'-bis (2,3-dicarboxyphenoxy) diphenylmethane dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride (Hereinafter, sometimes abbreviated as CBDA), norbornan-2-spiro-α'-spiro-2 "-norbornan-5,5', 6,6'-tetracarboxylic acid anhydride, p-phenylenebis (trimeritate) Anhydride), 3,3', 4,4'-diphenylsulfonate Tracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-anthracentetracarboxylic acid dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5 , 6-Tetracarboxylic acid dianhydride, 2,6- or 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,6,7-(or 1,4) , 5,8-) Tetrachloronaphthalene-1,4,5,8- (or 2,3,6,7-) Tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,8,9-,3,4,9 , 10-, 4,5,10,11-or 5,6,11,12-perylene-tetracarboxylic acid dianhydride, pyrazine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dianhydride, pyrrolidine-2 , 3,4,5-Tetracarboxylic acid dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic acid dianhydride, bis (2,3- or 3,4-dicarboxyphenyl) sulfonate dianhydride And so on. Among these, PMDA, BPDA, 6FDA, BPADA, ODPA, HPMDA, CBDA, p-phenylene bis from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance, water absorption resistance, dielectric property and mechanical property. (Trimericate anhydride) is preferable. These tetracarboxylic acid compounds can be used alone or in combination of two or more.
 ポリイミド系樹脂の合成に用いられるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、芳香環を有するジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、脂肪族基を有するジアミンを表し、その構造の一部にその他の置換基を含んでいてもよいが、芳香環は有しない。 Examples of the diamine compound used for synthesizing the polyimide resin include aliphatic diamines, aromatic diamines and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents a diamine having an aromatic ring, and an aliphatic group or another substituent may be contained in a part of the structure thereof. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferable. Further, the "aliphatic diamine" represents a diamine having an aliphatic group, and may contain other substituents as a part of its structure, but does not have an aromatic ring.
 ジアミン化合物の具体例としては、1,4-ジアミノシクロヘキサン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ジメチルビフェニル(以下、m-TBと略すことがある)、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジメチルビフェニル、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(以下、TFMBと略すことがある)、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(以下、1,3-APBと略すことがある)、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(以下、1,4-APBと略すことがある)、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2’-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジヒドロキシ-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2-ビス-[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)]ビフェニル、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[1-(4-アミノフェノキシ)]ビフェニル、ビス[1-(3-アミノフェノキシ)]ビフェニル、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)]ベンゾフェノン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)]ベンゾフェノン、2,2-ビス-[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス-[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’-メチレンジ-o-トルイジン、4,4’-メチレンジ-2,6-キシリジン、4,4’-メチレン-2,6-ジエチルアニリン、4,4’-メチレンジアニリン、3,3’-メチレンジアニリン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、3,3’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエタン、3,3’-ジアミノジフェニルエタン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジアミノジフェニルメタン、3,3-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、ベンジジン、3,3’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメトキシベンジジン、4,4”-ジアミノ-p-テルフェニル、3,3”-ジアミノ-p-テルフェニル、m-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン(p-PDAと略すことがある)、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(BAPPと略すことがある)、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、レゾルシノール-ビス(3-アミノフェニル)エーテル、4,4’-[1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、ビス(p-アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(p-β-アミノ-tert-ブチルフェニル)エーテル、ビス(p-β-メチル-δ-アミノペンチル)ベンゼン、p-ビス(2-メチル-4-アミノペンチル)ベンゼン、p-ビス(1,1-ジメチル-5-アミノペンチル)ベンゼン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン、2,4-ビス(β-アミノ-tert-ブチル)トルエン、2,4-ジアミノトルエン、m-キシレン-2,5-ジアミン、p-キシレン-2,5-ジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、ピペラジン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ビシクロヘキサン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4”-ジアミノ-p-ターフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)-2,5-ジ-tert-ブチルベンゼン、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4-ビス[2-(4-アミノフェニル)-2-プロピル]ベンゼン、2,4-ジアミノ-3,5-ジエチルトルエン、2,6-ジアミノ-3,5-ジエチルトルエン、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-(ヘキサフルオロプロピリデン)ジアニリン、1,2-ジアミノエタン、1,3-ジアミノプロパン、1,4-ジアミノブタン、1,5-ジアミノペンタン、1,6-ジアミノヘキンサン、1,2-ジアミノプロパン、1,2-ジアミノブタン、1,3-ジアミノブタン、2-メチル-1,2-ジアミノプロパン、2-メチル-1,3-ジアミノプロパン、1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン、2’-メトキシ-4,4’-ジアミノベンズアニリド、4,4’-ジアミノベンズアニリド、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、9,9-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]フルオレン、9,9-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]フルオレン、4,4’-ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’-ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、2,5-ジアミノ-1,3,4-オキサジアゾール、ビス[4,4’-(4-アミノフェノキシ)]ベンズアニリド、ビス[4,4’-(3-アミノフェノキシ)]ベンズアニリド、2,6-ジアミノピリジン、2,5-ジアミノピリジンなどが挙げられる。これらの中でも、フィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、耐吸水性、誘電特性及び機械的特性を高めやすい観点から、1,4-ジアミノシクロヘキサン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、TFMB、4,4’-メチレンジアニリン、3,3’-メチレンジアニリン、p-PDAともいう、BAPP、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン、4,4’-ジアミノ-2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ビシクロヘキサン、m-TB、4,4”-ジアミノ-p-ターフェニル、ビス(4-アミノフェニル)テレフタレート、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)-2,5-ジ-tert-ブチルベンゼン、1,3-APB、1,4-APB、レゾルシノール-ビス(3-アミノフェニル)エーテル、4,4’-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4-ビス[2-(4-アミノフェニル)-2-プロピル]ベンゼン、2,4-ジアミノ-3,5-ジエチルトルエン、2,6-ジアミノ-3,5-ジエチルトルエン、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-(ヘキサフルオロプロピリデン)ジアニリンなどが好ましい。ジアミン化合物は単独又は二種以上組合せて使用できる。 Specific examples of the diamine compound include 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-diamino-2,2'-dimethylbiphenyl (hereinafter, may be abbreviated as m-TB), and 4,4'-diamino-3. , 3'-dimethylbiphenyl, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (hereinafter abbreviated as TFMB), 4,4'-diaminodiphenyl ether, 1,3-bis (3-Aminophenoxy) benzene (hereinafter, may be abbreviated as 1,3-APB), 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (hereinafter, may be abbreviated as 1,4-APB), 1 , 3-Bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3' -Dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2-bis- [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, bis [4- (4-aminophenoxy)] biphenyl, bis [4- (3- (3-aminophenoxy)] Aminophenoxy) Biphenyl, bis [1- (4-aminophenoxy)] biphenyl, bis [1- (3-aminophenoxy)] biphenyl, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4- (4-aminophenoxy)] 3-Aminophenoxy) phenyl] methane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy)] benzophenone, Bis [4- (3-aminophenoxy)] benzophenone, 2,2-bis- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis- [4- (3-aminophenoxy) phenyl ] Hexafluoropropane, 4,4'-methylenedi-o-toluidine, 4,4'-methylenedi-2,6-xylidine, 4,4'-methylene-2,6-diethylaniline, 4,4'-methylenedi. Aniline, 3,3'-methylenedianiline, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylethane, 3,3'-diaminodiphenylethane, 4,4 '-Diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,3-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, benzidine, 3,3'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxybenze Gin, 4,4 "-diamino-p-terphenyl, 3,3" -diamino-p-terphenyl, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine (sometimes abbreviated as p-PDA), 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane (sometimes abbreviated as BAPP), 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, resorcinol- Bis (3-aminophenyl) ether, 4,4'-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline, 4,4'-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline , Bis (p-aminocyclohexyl) methane, bis (p-β-amino-tert-butylphenyl) ether, bis (p-β-methyl-δ-aminopentyl) benzene, p-bis (2-methyl-4-) Aminopentyl) benzene, p-bis (1,1-dimethyl-5-aminopentyl) benzene, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, 2,4-bis (β-amino-tert-butyl) Toluene, 2,4-diaminotoluene, m-xylene-2,5-diamine, p-xylene-2,5-diamine, m-xylylene diamine, p-xylylene diamine, piperazine, 4,4'-diamino- 2,2'-bis (trifluoromethyl) bicyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4 "-diamino-p-terphenyl, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 1,4-bis ( 4-Aminophenoxy) -2,5-di-tert-butylbenzene, 4,4'-(1,3-phenylenediisopropyridene) bisaniline, 1,4-bis [2- (4-aminophenyl) -2 -Propyl] benzene, 2,4-diamino-3,5-diethyltoluene, 2,6-diamino-3,5-diethyltoluene, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'- (Hexafluoropropyridene) dianiline, 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexinsan, 1,2-diaminopropane , 1,2-Diaminobutane, 1,3-diaminobutane, 2-methyl-1,2-diaminopropane, 2-methyl-1,3-diaminopropane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1, 4-Bis (Aminomethi) Le) Cyclohexane, norbornandiamine, 2'-methoxy-4,4'-diaminobenzanilide, 4,4'-diaminobenzanilide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3) -Aminophenoxy) phenyl] sulfone, 9,9-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] fluorene, 9,9-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] fluorene, 4,4'-diamino Diphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole, bis [4, Examples thereof include 4'-(4-aminophenoxy)] benzanilide, bis [4,4'-(3-aminophenoxy)] benzanilide, 2,6-diaminopyridine, and 2,5-diaminopyridine. Among these, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, TFMB, 4 from the viewpoint of easily reducing the CTE of the film and easily improving the heat resistance, water absorption resistance, dielectric property and mechanical property. , 4'-methylenedianiline, 3,3'-methylenedianiline, also called p-PDA, benzene, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoro) Methyl) bicyclohexane, m-TB, 4,4 "-diamino-p-terphenyl, bis (4-aminophenyl) terephthalate, 1,4-bis (4-aminophenoxy) -2,5-di-tert- Butylbenzene, 1,3-APB, 1,4-APB, resorcinol-bis (3-aminophenyl) ether, 4,4'-(1,3-phenylenediisopropyridene) bisaniline, 1,4-bis [2 -(4-Aminophenyl) -2-propyl] benzene, 2,4-diamino-3,5-diethyltoluene, 2,6-diamino-3,5-diethyltoluene, 4,4'-bis (3-amino) Phenoxy) biphenyl, 4,4'-(hexafluoropropyridene) dianiline and the like are preferable. The diamine compound can be used alone or in combination of two or more.
 なお、上記ポリイミド系樹脂は、フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記の樹脂合成に用いられるテトラカルボン酸化合物に加えて、他のテトラカルボン酸、ジカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。 In addition to the tetracarboxylic acid compounds used in the resin synthesis, the polyimide-based resin contains other tetracarboxylic acids, dicarboxylic acids, tricarboxylic acids, and anhydrides thereof, as long as the various physical properties of the film are not impaired. The derivative may be further reacted.
 他のテトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Examples of other tetracarboxylic acids include water adducts of the anhydrides of the above tetracarboxylic acid compounds.
 ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、単独又は2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、テレフタル酸;イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’-ビフェニルジカルボン酸;3,3’-ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。 Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and they may be used alone or in combination of two or more. Specific examples include a dicarboxylic acid compound of terephthalic acid; isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms, and 2 Compounds in which one benzoic acid is linked by a single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or a phenylene group, and their compounds. Examples include acid chloride compounds.
 トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、単独又は2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and they may be used alone or in combination of two or more. Specific examples include anhydrate of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalentricarboxylic acid-2,3-anhydride; a single bond of phthalic anhydride and benzoic acid, -O-. , -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or compounds linked with a phenylene group.
 ポリイミド系樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びトリカルボン酸化合物の使用量は、所望とする樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。
 本発明の好適な実施形態においては、ジアミン化合物の使用量は、テトラカルボン酸化合物1molに対して、好ましくは0.94mol以上、より好ましくは0.96mol以上、さらに好ましくは0.98mol以上、特に好ましくは0.99mol以上であり、好ましくは1.20mol以下、より好ましくは1.10mol以下、さらに好ましくは1.05mol以下、特に好ましくは1.02mol以下である。テトラカルボン酸化合物に対するジアミン化合物の使用量が上記の範囲であると、得られるフィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、耐吸水性、誘電特性、機械的特性及び光学特性を高めやすい。
In the production of the polyimide-based resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound, the dicarboxylic acid compound and the tricarboxylic acid compound to be used can be appropriately selected according to the ratio of each structural unit of the desired resin.
In a preferred embodiment of the present invention, the amount of the diamine compound used is preferably 0.94 mol or more, more preferably 0.96 mol or more, still more preferably 0.98 mol or more, particularly preferably 0.98 mol or more, relative to 1 mol of the tetracarboxylic acid compound. It is preferably 0.99 mol or more, preferably 1.20 mol or less, more preferably 1.10 mol or less, still more preferably 1.05 mol or less, and particularly preferably 1.02 mol or less. When the amount of the diamine compound used with respect to the tetracarboxylic dian compound is in the above range, the CTE of the obtained film can be easily reduced, and the heat resistance, water absorption resistance, dielectric property, mechanical property and optical property can be easily improved.
 ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物との反応温度は、特に限定されず、例えば5~200℃であってもよく、反応時間も特に限定されず、例えば30分~72時間程度であってもよい。本発明の好適な実施形態においては、反応温度は、好ましくは5~50℃、より好ましくは10~40℃であり、反応時間は、好ましくは3~24時間である。このような反応温度及び反応時間であると、得られるフィルムのCTEを低減しやすく、かつ耐熱性、耐吸水性、誘電特性、機械的特性及び光学特性を高めやすい。 The reaction temperature of the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound is not particularly limited and may be, for example, 5 to 200 ° C., and the reaction time is also not particularly limited and may be, for example, about 30 minutes to 72 hours. In a preferred embodiment of the invention, the reaction temperature is preferably 5-50 ° C, more preferably 10-40 ° C, and the reaction time is preferably 3-24 hours. With such a reaction temperature and reaction time, it is easy to reduce the CTE of the obtained film, and it is easy to improve heat resistance, water absorption resistance, dielectric property, mechanical property and optical property.
 ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物との反応は、溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;フェノール、クレゾール等のフェノール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン(以下、GBLと略すことがある)、γ-バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N-ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと略すことがある)、N,N-ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略すことがある)等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;N-メチルピロリドン等のピロリドン系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、フェノール系溶媒、アミド系溶媒、ピロリドン系溶媒を好適に使用できる。 The reaction between the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound is preferably carried out in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and is, for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, and the like. Alcohol-based solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; phenolic solvents such as phenol and cresol; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone (hereinafter, may be abbreviated as GBL), Ester-based solvents such as γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methylisobutylketone; fats such as pentane, hexane, and heptane. Group hydrocarbon solvent; alicyclic hydrocarbon solvent such as ethylcyclohexane; aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene; nitrile solvent such as acetonitrile; ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine such as chloroform and chlorobenzene Containing solvent; Amid-based solvent such as N, N-dimethylacetamide (hereinafter, may be abbreviated as DMAc), N, N-dimethylformamide (hereinafter, may be abbreviated as DMF); Sulfur-containing solvent; carbonate solvent such as ethylene carbonate and propylene carbonate; pyrrolidone solvent such as N-methylpyrrolidone; and combinations thereof. Among these, a phenol-based solvent, an amide-based solvent, and a pyrrolidone-based solvent can be preferably used from the viewpoint of solubility.
 ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物との反応は、必要に応じて、不活性雰囲気(窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等)又は減圧の条件下において行ってもよく、不活性雰囲気例えば、窒素雰囲気又はアルゴン雰囲気等の下、厳密に制御された脱水溶媒中で撹拌しながら行うことが好ましい。 The reaction between the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound may be carried out under conditions of an inert atmosphere (nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc.) or reduced pressure, if necessary, and the reaction may be carried out under the conditions of the inert atmosphere (nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc.), for example, the nitrogen atmosphere or the argon atmosphere. It is preferably carried out with stirring in a tightly controlled dehydration solvent.
 イミド化工程では、イミド化触媒を用いてイミド化しても、加熱によりイミド化しても、これらを組合せてもよい。イミド化工程で使用するイミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N-エチルピペリジン、N-プロピルピペリジン、N-ブチルピロリジン、N-ブチルピペリジン、及びN-プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2-メチルピリジン(2-ピコリン)、3-メチルピリジン(3-ピコリン)、4-メチルピリジン(4-ピコリン)、2-エチルピリジン、3-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2,4-ジメチルピリジン、2,4,6-トリメチルピリジン、3,4-シクロペンテノピリジン、5,6,7,8-テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。加熱によるイミド化工程は、ポリアミック酸が溶解した溶媒中で行ってもよく、後述のようにフィルム化した状態で行ってもよい。 In the imidization step, imidization may be performed using an imidization catalyst, imidization may be performed by heating, or a combination thereof may be used. Examples of the imidization catalyst used in the imidization step include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidine, N-propylpiperidin, N-butylpyrolidin and N-butylpiperidine. And alicyclic amines such as N-propylhexahydroazepine (monocyclic); azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and Alicyclic amines such as azabicyclo [3.2.2] nonane (polycyclic); as well as pyridine, 2-methylpyridine (2-picolin), 3-methylpyridine (3-picolin), 4-methylpyridine (4). -Picolin), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7, Examples include aromatic amines such as 8-tetrahydroisoquinoline and isoquinoline. Further, from the viewpoint of facilitating the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidization reaction, and specific examples thereof include acetic anhydride, propionic anhydride, aliphatic acid anhydrides such as butyric anhydride, and aromatics such as phthalic acid. Acid anhydride and the like can be mentioned. The imidization step by heating may be carried out in a solvent in which a polyamic acid is dissolved, or may be carried out in a filmed state as described later.
 本発明の一実施形態では、イミド化する場合、反応温度は、通常20~250℃であり、反応時間は好ましくは30分~24時間、より好ましくは1~12時間である。 In one embodiment of the present invention, when imidized, the reaction temperature is usually 20 to 250 ° C., and the reaction time is preferably 30 minutes to 24 hours, more preferably 1 to 12 hours.
 ポリイミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製して単離してもよく、好ましい態様では、樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 The polyimide-based resin may be separated and purified by a conventional method, for example, a separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, or column chromatography, or a separation means combining these, which is preferable. In the embodiment, it can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to the reaction solution containing the resin, precipitating the resin, and performing concentration, filtration, drying and the like.
 樹脂(A)の好適な液晶ポリマーとしては、液晶性ポリエステルが挙げられ、好ましくは以下の式(a1)、(a2)及び(a3)で表される構造単位を含む液晶ポリエステルが挙げられる。
 -O-Ar-CO-   (a1)
 -CO-Ar-CO-  (a2)
 -X-Ar-Y-  (a3)
[式(a1)~式(a3)中、Arは、1,4-フェニレン基、2,6-ナフチレン基又は4,4’-ビフェニレン基を表し、
Arは、1,4-フェニレン基、1,3-フェニレン基又は2,6-ナフチレン基を表し、
Arは、1,4-フェニレン基又は1,3-フェニレン基を表し、
Xは-NH-を表し、
Yは、-O-又はNH-を表す。]
Suitable liquid crystal polymers of the resin (A) include liquid crystal polyesters, and preferably liquid crystal polyesters containing structural units represented by the following formulas (a1), (a2) and (a3).
-O-Ar 1 -CO- (a1)
-CO-Ar 2 -CO- (a2)
-X-Ar 3 -Y- (a3)
[In the formulas (a1) to (a3), Ar 1 represents a 1,4-phenylene group, a 2,6-naphthylene group or a 4,4'-biphenylene group.
Ar 2 represents a 1,4-phenylene group, a 1,3-phenylene group or a 2,6-naphthylene group.
Ar 3 represents a 1,4-phenylene group or a 1,3-phenylene group.
X represents -NH-
Y represents —O— or NH—. ]
 前記液晶ポリエステルの全構造単位100モル%に対して、式(a1)で表される構造単位の含有量が30~80モル%、式(a2)で表される構造単位の含有量が10~35モル%、式(a3)で表される構造単位の含有量が10~35モル%である液晶ポリエステルが好ましい。 The content of the structural unit represented by the formula (a1) is 30 to 80 mol%, and the content of the structural unit represented by the formula (a2) is 10 to 10 to 100 mol% of the total structural unit of the liquid crystal polyester. Liquid crystal polyester having a content of 35 mol% and a structural unit represented by the formula (a3) of 10 to 35 mol% is preferable.
 式(a1)で表される構造単位は、芳香族ヒドロキシカルボン酸由来の構造単位、式(a2)で表される構造単位は、芳香族ジカルボン酸由来の構造単位、式(a3)で表される構造単位は、芳香族ジアミン、フェノール性水酸基を有する芳香族アミン由来の構造単位である。 The structural unit represented by the formula (a1) is a structural unit derived from an aromatic hydroxycarboxylic acid, and the structural unit represented by the formula (a2) is a structural unit derived from an aromatic dicarboxylic acid, represented by the formula (a3). The structural unit is an aromatic diamine or a structural unit derived from an aromatic amine having a phenolic hydroxyl group.
 本実施形態においては、前記Arが2,6-ナフチレン基であり、前記Arが1,3-フェニレン基であり、前記Arが1,4-フェニレン基であり、前記Yが-O-である液晶ポリエステルが好ましい。 In the present embodiment, Ar 1 is a 2,6-naphthylene group, Ar 2 is a 1,3-phenylene group, Ar 3 is a 1,4-phenylene group, and Y is −O. The liquid crystal polyester which is − is preferable.
 式(a1)で表される構造単位としては、p-ヒドロキシ安息香酸、2-ヒドロキシ-6-ナフトエ酸、4-ヒドロキシ-4’-ビフェニルカルボン酸由来の構造単位などが挙げられる。液晶ポリエステルは、2種以上の前記構造単位を含んでいてもよい。これらのうち、2-ヒドロキシ-6-ナフトエ酸由来の構造単位が好ましい。
 当該液晶ポリエステルの全構造単位100モル%に対して、式(a1)で表される構造単位の含有量は、好ましくは30モル%以上80モル%以下であり、より好ましくは40モル%以上70モル%以下であり、さらに好ましくは45モル%以上65モル%以下である。
Examples of the structural unit represented by the formula (a1) include p-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-6-naphthoic acid, and structural units derived from 4-hydroxy-4'-biphenylcarboxylic acid. The liquid crystal polyester may contain two or more kinds of the structural units. Of these, structural units derived from 2-hydroxy-6-naphthoic acid are preferred.
The content of the structural unit represented by the formula (a1) is preferably 30 mol% or more and 80 mol% or less, more preferably 40 mol% or more and 70, with respect to 100 mol% of the total structural unit of the liquid crystal polyester. It is mol% or less, more preferably 45 mol% or more and 65 mol% or less.
 式(a2)で表される構造単位としては、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸由来の構造単位などが挙げられる。液晶ポリエステルは、2種以上の前記構造単位を含んでいてもよい。これらのうち、イソフタル酸由来の構造単位が好ましい。
 当該液晶ポリエステルの全構造単位100モル%に対して、式(a2)で表される構造単位の含有量は、好ましくは10モル%以上35モル%以下であり、より好ましくは15モル%以上30モル%以下であり、さらに好ましくは17.5モル%以上27.5モル%以下である。
Examples of the structural unit represented by the formula (a2) include terephthalic acid, isophthalic acid, and structural units derived from 2,6-naphthalenedicarboxylic acid. The liquid crystal polyester may contain two or more kinds of the structural units. Of these, structural units derived from isophthalic acid are preferred.
The content of the structural unit represented by the formula (a2) is preferably 10 mol% or more and 35 mol% or less, and more preferably 15 mol% or more and 30% with respect to 100 mol% of the total structural unit of the liquid crystal polyester. It is 17.5 mol% or more, more preferably 27.5 mol% or less, and more preferably 17.5 mol% or more.
 式(a3)で表される構造単位としては、3-アミノフェノール、4-アミノフェノール、1,4-フェニレンジアミン、1,3-フェニレンジアミン、4-アミノ安息香酸由来の構造単位などが挙げられる。液晶ポリエステルは、2種以上の前記構造単位を含んでいてもよい。これらのうち、4-アミノフェノール由来の構造単位が好ましい。
 当該液晶ポリエステルの全構造単位100モル%に対して、式(a3)で表される構造単位の含有量は、好ましくは10モル%以上35モル%以下であり、より好ましくは15モル%以上30モル%以下であり、さらに好ましくは17.5モル%以上27.5モル%以下である。
Examples of the structural unit represented by the formula (a3) include 3-aminophenol, 4-aminophenol, 1,4-phenylenediamine, 1,3-phenylenediamine, and structural units derived from 4-aminobenzoic acid. .. The liquid crystal polyester may contain two or more kinds of the structural units. Of these, structural units derived from 4-aminophenol are preferable.
The content of the structural unit represented by the formula (a3) is preferably 10 mol% or more and 35 mol% or less, and more preferably 15 mol% or more and 30% with respect to 100 mol% of the total structural unit of the liquid crystal polyester. It is 17.5 mol% or more, more preferably 27.5 mol% or less, and more preferably 17.5 mol% or more.
 本実施形態で使用される液晶ポリエステルは、例えば、特開2019-163431号公報に記載の方法により製造することができる。
The liquid crystal polyester used in this embodiment can be produced, for example, by the method described in JP-A-2019-163431.
 <樹脂(A)の添加>
 工程(3)において、添加する樹脂(A)は固体、好ましくは粉体の形態であってもよく、樹脂(A)を所定の溶媒、例えば第2溶媒に溶かしたワニスの形態であってもよい。本発明の一実施形態では、工程(3)において、ポリイミド樹脂又はポリアミック酸を固体、好ましくは粉体の形態又はワニスの形態で添加することができる。樹脂(A)をワニスの形態で添加する場合、ワニス中の樹脂(A)の含有量は、該ワニスの質量に対して、好ましくは0.1質量%以上、より好ましくは1質量%以上、さらに好ましくは5質量%以上、さらにより好ましくは10質量%以上であり、好ましくは50質量%以下、より好ましくは30質量%以下、さらに好ましくは20質量%以下である。該ワニス中の樹脂(A)の含有量が上記の範囲であると、膜形成が容易となるため、フィルム製造の観点から有利である。
<Addition of resin (A)>
In the step (3), the resin (A) to be added may be in the form of a solid, preferably powder, or may be in the form of a varnish in which the resin (A) is dissolved in a predetermined solvent, for example, a second solvent. good. In one embodiment of the invention, in step (3), the polyimide resin or polyamic acid can be added in the form of a solid, preferably powder or varnish. When the resin (A) is added in the form of a varnish, the content of the resin (A) in the varnish is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, based on the mass of the varnish. It is more preferably 5% by mass or more, still more preferably 10% by mass or more, preferably 50% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, still more preferably 20% by mass or less. When the content of the resin (A) in the varnish is in the above range, film formation is facilitated, which is advantageous from the viewpoint of film production.
 工程(3)で添加する樹脂(A)は、粒子状ポリマー(B)分散液中のポリマー(B)と樹脂(A)との合計質量に対して、好ましくは50質量%以上、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは65質量%以上であり、好ましくは95質量%以下、より好ましくは93質量%以下、さらに好ましくは90質量%以下である。工程(3)で添加する樹脂(A)の含有量が上記の下限以上であると、膜形成が容易となるため、フィルム製造の観点から有利である。また、工程(3)で添加する樹脂(A)の含有量が上記の上限以下であると、分散液及び組成物中の粒子状ポリマー(B)の分散性が向上しやすいため、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。 The resin (A) added in the step (3) is preferably 50% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total mass of the polymer (B) and the resin (A) in the particulate polymer (B) dispersion. It is 60% by mass or more, more preferably 65% by mass or more, preferably 95% by mass or less, more preferably 93% by mass or less, still more preferably 90% by mass or less. When the content of the resin (A) added in the step (3) is at least the above lower limit, film formation becomes easy, which is advantageous from the viewpoint of film production. Further, when the content of the resin (A) added in the step (3) is not more than the above upper limit, the dispersibility of the particulate polymer (B) in the dispersion liquid and the composition is likely to be improved, so that the obtained film can be obtained. It is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness, mechanical properties, etc.
 該粒子状ポリマー(B)分散液に樹脂(A)を添加する方法は、特に限定されず、樹脂(A)を一度に添加してもよく、樹脂(A)を複数回にわけて添加してもよい。 The method of adding the resin (A) to the particulate polymer (B) dispersion is not particularly limited, and the resin (A) may be added at once, or the resin (A) may be added in a plurality of times. You may.
 本発明の製造方法は、本発明の効果を損なわない範囲で、工程(1)~(3)以外の工程を含んでいてもよく、樹脂(A)及びポリマー(B)以外のポリマー又は添加剤を加えてもよい。添加剤としては、例えば酸化防止剤、難燃剤、架橋剤、界面活性剤、相溶化剤、イミド化触媒、耐候剤、滑剤、抗ブロッキング剤、帯電防止剤、防曇剤、無滴剤、顔料、フィラーなどが挙げられる。添加剤は単独又は二種以上を組合せて使用できる。 The production method of the present invention may include steps other than steps (1) to (3) as long as the effects of the present invention are not impaired, and polymers or additives other than the resin (A) and the polymer (B). May be added. Additives include, for example, antioxidants, flame retardants, cross-linking agents, surfactants, compatibilizers, imidization catalysts, weathering agents, lubricants, antiblocking agents, antistatic agents, antifogging agents, drip-free agents, pigments. , Fillers and the like. Additives can be used alone or in combination of two or more.
 <組成物>
 本発明の製造方法は、工程(1)~(3)を含むため、粒子状ポリマー(B)の粒子径が小さい組成物を形成できる。また、粒子状ポリマー(B)の分散性に優れた、好ましくは分散性が均一な組成物を得ることができる。そのため、得られる組成物は粒子径が小さく、かつ分散性又は分散安定性に優れている。
<Composition>
Since the production method of the present invention includes steps (1) to (3), it is possible to form a composition having a small particle size of the particulate polymer (B). In addition, it is possible to obtain a composition having excellent dispersibility of the particulate polymer (B), preferably having uniform dispersibility. Therefore, the obtained composition has a small particle size and is excellent in dispersibility or dispersion stability.
 本発明の一実施形態において、本発明は、樹脂(A)とポリマー(B)とのHSP値間距離が比較的大きくても、粒子径が小さくかつ分散性に優れた組成物を得ることができる。そのため、本発明の製造方法及び組成物において、樹脂(A)とポリマー(B)とのHSP値間距離は、好ましくは6.0以上、より好ましくは7.0以上、さらに好ましくは8.0以上である。また樹脂(A)とポリマー(B)とのHSP値間距離は、樹脂とポリマー間の親和性の観点から、好ましくは30以下、より好ましくは25以下、さらに好ましくは20以下である。 In one embodiment of the present invention, the present invention can obtain a composition having a small particle size and excellent dispersibility even when the distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) is relatively large. can. Therefore, in the production method and composition of the present invention, the distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) is preferably 6.0 or more, more preferably 7.0 or more, still more preferably 8.0. That is all. The distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) is preferably 30 or less, more preferably 25 or less, still more preferably 20 or less, from the viewpoint of the affinity between the resin and the polymer.
 本発明の製造方法により得られる組成物は、該組成物に含まれる樹脂(A)と粒子状ポリマー(B)との合計質量に対して、好ましくは1~50質量%の粒子状ポリマー(B)を含む。粒子状ポリマー(B)の含有量は、樹脂(A)と粒子状ポリマー(B)との合計質量に対して、通常1質量%以上、好ましくは5質量%以上、より好ましくは7質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上であり、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは35質量%以下である。該組成物に含まれる粒子状ポリマー(B)の含有量が上記の下限以上であると、分散液及び組成物中の粒子状ポリマー(B)の分散性が高めやすいため、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。また、該組成物に含まれる粒子状ポリマー(B)の含有量が上記の上限以下であると、膜形成が容易となるため、フィルム製造の観点から有利である。なお、フィルム中の粒子の分散性が高いと熱伝導率(又は熱拡散率)及びCTEの均一性が高くなるため、例えばCCLの樹脂層として該フィルムを使用した場合に、フィルムと銅箔との剥がれを抑制しやすくなる。 The composition obtained by the production method of the present invention is preferably 1 to 50% by mass of the particulate polymer (B) with respect to the total mass of the resin (A) and the particulate polymer (B) contained in the composition. )including. The content of the particulate polymer (B) is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more, based on the total mass of the resin (A) and the particulate polymer (B). It is more preferably 10% by mass or more, preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 35% by mass or less. When the content of the particulate polymer (B) contained in the composition is at least the above lower limit, the dispersibility of the particulate polymer (B) in the dispersion liquid and the composition is likely to be enhanced, so that the particles of the obtained film are obtained. It is easy to improve dispersibility, surface smoothness, mechanical properties, etc. Further, when the content of the particulate polymer (B) contained in the composition is not more than the above upper limit, film formation becomes easy, which is advantageous from the viewpoint of film production. If the dispersibility of the particles in the film is high, the thermal conductivity (or thermal diffusivity) and the uniformity of CTE will be high. Therefore, for example, when the film is used as the resin layer of CCL, the film and the copper foil are used. It becomes easier to suppress the peeling of the film.
 本発明の一実施形態において、組成物に含まれるポリイミド系樹脂(A)及び粒子状ポリマー(B)の合計質量は、好ましくは1質量%以上、より好ましくは3質量%以上、さらに好ましくは5質量%以上であり、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは30質量%以下、さらにより好ましくは20質量%以下、特に好ましくは10質量%以下である。組成物に含まれるポリイミド系樹脂(A)及び粒子状ポリマー(B)の合計質量が上記の範囲であると、粒子状ポリマー(B)の分散性が高めやすいため、得られるフィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the total mass of the polyimide resin (A) and the particulate polymer (B) contained in the composition is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, still more preferably 5. It is 5% by mass or more, preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 30% by mass or less, still more preferably 20% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or less. When the total mass of the polyimide resin (A) and the particulate polymer (B) contained in the composition is in the above range, the dispersibility of the particulate polymer (B) is likely to be enhanced, so that the particle dispersibility of the obtained film is easy to increase. , Surface smoothness, mechanical properties, etc. can be easily improved.
 本発明の製造方法により得られる組成物に含まれる第1溶媒の含有量は、第2溶媒の含有量100質量部に対して、好ましくは120質量部以下、より好ましくは100質量部以下、さらに好ましくは60質量部以下、さらにより好ましくは45質量部以下、特に好ましくは40質量部以下、特により好ましくは35質量部以下、特にさらに好ましくは30質量部以下、特にさらにより好ましくは30質量部未満、最も好ましくは25質量部以下であり、好ましくは0.01質量部以上、より好ましくは0.05質量部以上、さらに好ましくは0.1質量部以上である。第1溶媒の含有量が上記の上限以下であると、得られるフィルム中の粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性を高めやすい。また、第1溶媒の含有量が上記の下限以上であると、組成物を調製しやすい。 The content of the first solvent contained in the composition obtained by the production method of the present invention is preferably 120 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass or less, and further, with respect to 100 parts by mass of the second solvent. It is preferably 60 parts by mass or less, further preferably 45 parts by mass or less, particularly preferably 40 parts by mass or less, particularly more preferably 35 parts by mass or less, particularly still more preferably 30 parts by mass or less, and particularly still more preferably 30 parts by mass. Less than, most preferably 25 parts by mass or less, preferably 0.01 parts by mass or more, more preferably 0.05 parts by mass or more, still more preferably 0.1 parts by mass or more. When the content of the first solvent is not more than the above upper limit, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness and mechanical properties in the obtained film. Further, when the content of the first solvent is at least the above lower limit, it is easy to prepare the composition.
 本発明の一実施形態において、本発明の製造方法により得られる組成物に含まれる溶媒の含有量は、上記粒子状ポリマー(B)分散液に含まれる溶媒の含有量と同様の範囲から選択できる。組成物に含まれる溶媒の含有量が上記の範囲であると、得られるフィルム中の粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the content of the solvent contained in the composition obtained by the production method of the present invention can be selected from the same range as the content of the solvent contained in the particulate polymer (B) dispersion. .. When the content of the solvent contained in the composition is in the above range, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness and mechanical properties in the obtained film.
 本発明の一実施形態において、組成物に含まれる溶媒に対する第1溶媒と第2溶媒との合計質量は、上記粒子状ポリマー(B)分散液に含まれる溶媒に対する第1溶媒と第2溶媒との合計質量と同様の範囲から選択できる。組成物に含まれる第1溶媒と第2溶媒との合計質量が上記の範囲であると、得られるフィルム中の粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the total mass of the first solvent and the second solvent with respect to the solvent contained in the composition is the first solvent and the second solvent with respect to the solvent contained in the particulate polymer (B) dispersion liquid. It can be selected from the same range as the total mass of. When the total mass of the first solvent and the second solvent contained in the composition is in the above range, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness and mechanical properties in the obtained film.
 本発明における組成物中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径は、上記の分散液中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径と同様の範囲から選択できる。組成物中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径を求める方法は特に限定されないが、例えば遠心沈式粒度分布測定装置や超音波減衰式粒度分布測定装置により求めることができる。工程(3)において、粒子状ポリマー(B)の粒子径に影響を及ぼさない範囲の量で、樹脂(A)を粒子状ポリマー(B)分散液に添加して組成物を形成する場合、分散液中の粒子径を測定して、これを組成物中の粒子径とすることもできる。 The median diameter of the particulate polymer (B) in the composition in the present invention can be selected from the same range as the median diameter of the particulate polymer (B) in the above dispersion. The method for determining the median diameter of the particulate polymer (B) in the composition is not particularly limited, but can be determined by, for example, a centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device or an ultrasonic attenuation type particle size distribution measuring device. In the step (3), when the resin (A) is added to the dispersion liquid of the particulate polymer (B) in an amount within a range that does not affect the particle size of the particulate polymer (B) to form a composition, it is dispersed. It is also possible to measure the particle size in the liquid and use this as the particle size in the composition.
 本発明における組成物は、必要に応じて、上記に例示の添加剤を含むことができる。本発明の一実施形態において、本発明における組成物は、本発明の上記方法により製造されるため、相溶化剤を含んでいなくても、粒子状ポリマー(B)の粒子径が小さく、かつ分散性に優れている。そのため、本発明における組成物において、相溶化剤の含有量は、樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは5質量部以下、より好ましくは1質量部以下、さらに好ましくは0.1質量部以下、さらにより好ましくは0.1質量部未満、特に好ましくは0.05質量部以下、特により好ましくは0.01質量部以下、特にさらに好ましくは0.001質量部以下であり、最も好ましくは0質量部であってもよい。また、例えば樹脂(A)がポリアミック酸のようなポリイミド系樹脂前駆体であり、フィルム製造時に熱イミド化が必要な場合には、相溶化剤によるイミド化の阻害や、加熱による相溶化剤の変質によるフィルムの特性悪化を防ぐ観点から、相溶化剤の含有量は、上記範囲の中でも、0.1質量部未満であることが好ましい。該相溶化剤の上記含有量は、樹脂(A)100質量部に代えて、樹脂(A)とポリマー(B)との合計100質量部を基準とした含有量としてもよい。 The composition in the present invention may contain the additives exemplified above, if necessary. In one embodiment of the present invention, since the composition of the present invention is produced by the above method of the present invention, the particle size of the particulate polymer (B) is small and the particle size of the particulate polymer (B) is small even if it does not contain a compatibilizer. Excellent dispersibility. Therefore, in the composition of the present invention, the content of the compatibilizer is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 1 part by mass or less, and further preferably 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A). More than parts, still more preferably less than 0.1 parts by mass, particularly preferably 0.05 parts by mass or less, particularly more preferably 0.01 parts by mass or less, and even more preferably 0.001 parts by mass or less, most preferably. May be 0 parts by mass. Further, for example, when the resin (A) is a polyimide resin precursor such as polyamic acid and thermal imidization is required at the time of film production, inhibition of imidization by a compatibilizer or a compatibilizer by heating may be used. From the viewpoint of preventing deterioration of the characteristics of the film due to deterioration, the content of the compatibilizer is preferably less than 0.1 part by mass within the above range. The content of the compatibilizer may be based on 100 parts by mass of the total of the resin (A) and the polymer (B) instead of 100 parts by mass of the resin (A).
[分散液]
 本発明は、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む分散液であって、該溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解する第1溶媒と、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない第2溶媒とを含み、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)のメジアン径が0.01~15μmである分散液を包含する。粒子状ポリマー(B)、第1溶媒及び第2溶媒は、上記に記載のものが例示できる。本発明の分散液は、粒子径の小さい粒子状ポリマー(B)が分散、好ましくは均一分散している。
 本発明の分散液において、粒子状ポリマー(B)のメジアン径は、上述の粒子状ポリマー(B)分散液中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径と同様の範囲から選択できる。
 本発明の好適な実施形態では、本発明の分散液は、上記の粒子状ポリマー(B)分散液であることが好ましい。
[Dispersion]
The present invention is a dispersion liquid containing a particulate cycloolefin polymer (B) and a solvent, wherein the solvent is a first solvent in which the cycloolefin polymer (B) is dissolved and the cycloolefin polymer (B). A dispersion liquid containing an insoluble second solvent and having a median diameter of 0.01 to 15 μm of the particulate cycloolefin polymer (B) is included. Examples of the particulate polymer (B), the first solvent and the second solvent include those described above. In the dispersion liquid of the present invention, the particulate polymer (B) having a small particle size is dispersed, preferably uniformly dispersed.
In the dispersion liquid of the present invention, the median diameter of the particulate polymer (B) can be selected from the same range as the median diameter of the particulate polymer (B) in the above-mentioned particulate polymer (B) dispersion liquid.
In a preferred embodiment of the present invention, the dispersion liquid of the present invention is preferably the above-mentioned particulate polymer (B) dispersion liquid.
[組成物]
 本発明は、樹脂(A)、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物であって、該溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解する第1溶媒と、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない第2溶媒とを含み、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)のメジアン径が0.01~15μmである組成物を包含する。樹脂(A)、粒子状ポリマー(B)、第1溶媒及び第2溶媒は、上記に記載のものが例示できる。本発明の組成物は、小さい粒子径を有する粒子状ポリマー(B)と樹脂(A)とを含み、好ましくは、樹脂(A)に対して、粒子状ポリマー(B)が分散、好ましくは均一分散している。そのため、本発明の組成物は、粒子分散性、耐吸水性、誘電特性、表面平滑性及び屈曲耐性等の機械的特性に優れるフィルムを形成可能である。
 本発明の組成物において、粒子状ポリマー(B)のメジアン径は、上述の組成物中の粒子状ポリマー(B)のメジアン径と同様の範囲から選択できる。
 本発明の好適な実施形態では、本発明の組成物は、本発明の製造方法により得られる上記組成物であることが好ましい。
[Composition]
The present invention is a composition containing a resin (A), a particulate cycloolefin polymer (B) and a solvent, wherein the solvent is a first solvent in which the cycloolefin polymer (B) is dissolved and a cycloolefin-based solvent. It contains a second solvent in which the polymer (B) is insoluble, and includes a composition in which the median diameter of the particulate cycloolefin polymer (B) is 0.01 to 15 μm. Examples of the resin (A), the particulate polymer (B), the first solvent and the second solvent include those described above. The composition of the present invention contains a particulate polymer (B) having a small particle size and a resin (A), and the particulate polymer (B) is preferably dispersed and preferably uniform with respect to the resin (A). It is dispersed. Therefore, the composition of the present invention can form a film having excellent mechanical properties such as particle dispersibility, water absorption resistance, dielectric properties, surface smoothness and bending resistance.
In the composition of the present invention, the median diameter of the particulate polymer (B) can be selected from the same range as the median diameter of the particulate polymer (B) in the above-mentioned composition.
In a preferred embodiment of the present invention, the composition of the present invention is preferably the above-mentioned composition obtained by the production method of the present invention.
[フィルム]
 本発明は、樹脂(A)及び粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含むフィルムであって、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)の平均一次粒子径は15μm以下であるフィルムを包含する。樹脂(A)、粒子状ポリマー(B)、第1溶媒及び第2溶媒は、上記に記載のものが例示できる。本発明のフィルムは、小さい粒子径を有する粒子状ポリマー(B)と樹脂(A)とを含み、好ましくは、樹脂(A)に対して、粒子状ポリマー(B)が分散、好ましくは均一分散している。
[the film]
The present invention includes a film containing the resin (A) and the particulate cycloolefin polymer (B), wherein the average primary particle size of the particulate cycloolefin polymer (B) is 15 μm or less. Examples of the resin (A), the particulate polymer (B), the first solvent and the second solvent include those described above. The film of the present invention contains a particulate polymer (B) and a resin (A) having a small particle size, and the particulate polymer (B) is preferably dispersed, preferably uniformly dispersed, with respect to the resin (A). is doing.
 本発明のフィルムにおいて、粒子状ポリマー(B)の平均一次粒子径は15μm以下であり、好ましくは10μm以下、より好ましくは5μm以下、さらに好ましくは3μm以下、さらにより好ましくは1μm以下、特に好ましくは0.8μm以下、特により好ましくは0.5μm以下であり、好ましくは0.01μm以上、より好ましくは0.03μm以上、さらに好ましくは0.05μm以上である。粒子状ポリマー(B)の平均一次粒子径が上記の下限以上であると、フィルムの機械的特性を高めやすい。粒子状ポリマー(B)の平均一次粒子が上記の上限以下であると、フィルムの粒子分散性、表面平滑性、耐吸水性及び屈曲耐性等の機械的特性を高めやすい。なお、粒子状ポリマー(B)の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により観察した画像解析により求めることができ、例えば実施例に記載の方法により求めることができる。 In the film of the present invention, the average primary particle size of the particulate polymer (B) is 15 μm or less, preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less, still more preferably 3 μm or less, still more preferably 1 μm or less, and particularly preferably. It is 0.8 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.03 μm or more, still more preferably 0.05 μm or more. When the average primary particle diameter of the particulate polymer (B) is at least the above lower limit, it is easy to improve the mechanical properties of the film. When the average primary particles of the particulate polymer (B) are not more than the above upper limit, it is easy to enhance mechanical properties such as particle dispersibility, surface smoothness, water absorption resistance and bending resistance of the film. The average primary particle diameter of the particulate polymer (B) can be determined by image analysis observed with an electron microscope, and can be determined, for example, by the method described in Examples.
 本発明の好適な実施形態では、本発明のフィルムは、海島構造を有し、樹脂(A)が海、粒子状ポリマー(B)が島であることが好ましい。このようなフィルムは、耐熱性及び機械的特性を高めやすく、かつCTE、誘電正接及び比誘電率を低減しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the film of the present invention preferably has a sea-island structure, the resin (A) being the sea, and the particulate polymer (B) being the islands. Such a film tends to enhance heat resistance and mechanical properties, and tends to reduce CTE, dielectric loss tangent and relative permittivity.
 本発明の一実施形態において、本発明のフィルムは、樹脂(A)と粒子状ポリマー(B)とのHSP値間距離が比較的大きくても、耐熱性及び機械的特性に優れ、かつCTE、誘電正接及び比誘電率を低減できる。樹脂(A)とポリマー(B)とのHSP値間距離は好ましくは6以上であり、該HSP値間距離は上記[組成物]の項に記載の範囲から選択できる。樹脂(A)とポリマー(B)とのHSP値間距離を上記の下限以上にすることで、粒子状ポリマー(B)をフィルム中に均一に分散させやすくすることができる。 In one embodiment of the present invention, the film of the present invention is excellent in heat resistance and mechanical properties even when the distance between the HSP values of the resin (A) and the particulate polymer (B) is relatively large, and the CTE. Dielectric loss tangent and relative permittivity can be reduced. The distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) is preferably 6 or more, and the distance between the HSP values can be selected from the range described in the above [Composition] section. By setting the distance between the HSP values of the resin (A) and the polymer (B) to be equal to or higher than the above lower limit, the particulate polymer (B) can be easily dispersed uniformly in the film.
 本発明の一実施形態において、本発明のフィルムは、低いCTEを有することができる。該フィルムのCTEは、用途に合せて適宜設計することができる。銅フィルムと貼り合せてCCLを作製する場合には、積層フィルムの剥がれ防止の観点から、フィルムのCTEを20ppm/K前後に調整することが好ましい。フィルムのCTEは、混合する樹脂(A)及び粒子状ポリマー(B)のCTEや混合量等により、調整可能である。CTE低減の観点からは、Tgの高い粒子状ポリマー(B)を混合することが好ましい。なお、CTEは、TMAにより測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 In one embodiment of the invention, the film of the invention can have a low CTE. The CTE of the film can be appropriately designed according to the application. When CCL is produced by laminating with a copper film, it is preferable to adjust the CTE of the film to around 20 ppm / K from the viewpoint of preventing peeling of the laminated film. The CTE of the film can be adjusted by the CTE of the resin (A) and the particulate polymer (B) to be mixed, the mixing amount, and the like. From the viewpoint of reducing CTE, it is preferable to mix the particulate polymer (B) having a high Tg. The CTE can be measured by TMA, for example, by the method described in Examples.
 本発明におけるフィルムの厚さは、用途に応じて適宜選択でき、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上、さらに好ましくは20μm以上であり、好ましくは500μm以下、より好ましくは300μm以下、さらに好ましくは100μm以下、特に好ましくは80μm以下である。フィルムの厚さは、膜厚計等を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。なお、本発明のフィルムが多層フィルムである場合、上記厚さは単層部分の厚さを表す。 The thickness of the film in the present invention can be appropriately selected depending on the intended use, and is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, still more preferably 20 μm or more, preferably 500 μm or less, more preferably 300 μm or less, still more preferably. It is 100 μm or less, particularly preferably 80 μm or less. The thickness of the film can be measured using a film thickness meter or the like, and can be measured, for example, by the method described in Examples. When the film of the present invention is a multilayer film, the above thickness represents the thickness of the single layer portion.
 本発明の好適な実施形態において、本発明のフィルムは、本発明の上記組成物から形成されたものであることが好ましい。このようなフィルムは、好ましくは本発明の組成物から溶媒を除去して形成されるため、本発明の組成物と含まれる成分、例えば樹脂(A)、ポリマー(B)及び添加剤などの種類や割合は同様である。
 例えば、粒子状ポリマー(B)の含有量は、フィルムに含まれる粒子状ポリマー(B)及び樹脂(A)の合計質量に対して、通常1質量%以上、好ましくは5質量%以上、より好ましくは10質量%以上、さらに好ましくは15質量%以上であり、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、さらに好ましくは35質量%以下である。粒子状ポリマー(B)の含有量が上記範囲であると、フィルムの粒子分散性、誘電正接及び比誘電率を低減しやすく、かつ表面平滑性及び機械的特性を高めやすい。また、粒子状ポリマー(B)が分散したフィルムにおいては、粒子状ポリマー(B)の分散性が高いため、結果としてフィルムの物性、例えばフィルムの表面荒れや熱伝導率(又は熱拡散率)等のバラツキを低減しやすい。
In a preferred embodiment of the present invention, the film of the present invention is preferably formed from the above composition of the present invention. Since such a film is preferably formed by removing the solvent from the composition of the present invention, the types of components contained in the composition of the present invention, such as the resin (A), the polymer (B) and the additive, etc. And the proportions are similar.
For example, the content of the particulate polymer (B) is usually 1% by mass or more, preferably 5% by mass or more, more preferably, with respect to the total mass of the particulate polymer (B) and the resin (A) contained in the film. Is 10% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 35% by mass or less. When the content of the particulate polymer (B) is in the above range, the particle dispersibility, dielectric loss tangent and relative permittivity of the film can be easily reduced, and the surface smoothness and mechanical properties can be easily improved. Further, in the film in which the particulate polymer (B) is dispersed, the dispersibility of the particulate polymer (B) is high, and as a result, the physical characteristics of the film, for example, the surface roughness of the film, the thermal conductivity (or thermal diffusivity), etc. It is easy to reduce the variation of.
 本発明の一実施形態において、フィルムに含まれるポリイミド系樹脂(A)及び粒子状ポリマー(B)の合計質量は、該フィルムの質量に対して、好ましくは40質量%以上、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは80質量%以上、特に好ましくは90質量%以上であり、好ましくは100質量%以下である。フィルムに含まれるポリイミド系樹脂(A)及び粒子状ポリマー(B)の合計質量が上記の下限以上であると、フィルムの粒子分散性、表面平滑性及び機械的特性等を高めやすい。 In one embodiment of the present invention, the total mass of the polyimide resin (A) and the particulate polymer (B) contained in the film is preferably 40% by mass or more, more preferably 60% by mass, based on the mass of the film. % Or more, more preferably 80% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more, and preferably 100% by mass or less. When the total mass of the polyimide resin (A) and the particulate polymer (B) contained in the film is at least the above lower limit, it is easy to improve the particle dispersibility, surface smoothness, mechanical properties and the like of the film.
 本発明のフィルムは、単層フィルムであってもよく、本発明のフィルムからなる層を少なくとも1層含む多層フィルムであってもよい。該多層フィルムは他の層(又は他のフィルム)を含むことができる。このような場合にも全ての層を含めて本発明のフィルムと称する。他の層としては、例えば機能層などが挙げられる。該機能層としては、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、保護層などが例示できる。機能層は単独又は二種以上組合せて使用できる。 The film of the present invention may be a single-layer film or a multilayer film containing at least one layer made of the film of the present invention. The multilayer film can include other layers (or other films). Even in such a case, the film of the present invention includes all the layers. Examples of the other layer include a functional layer and the like. Examples of the functional layer include a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, and a protective layer. The functional layer can be used alone or in combination of two or more.
 本発明のフィルムは、通常工業的に採用されている方法によって、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、オゾン処理等の表面処理が施されていてもよい。 The film of the present invention may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment, flame treatment, plasma treatment, ozone treatment, etc. by a method usually industrially adopted.
 本発明の製造方法、分散液、組成物及びフィルムは、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。また、上記以外の実施形態の構成や方法等を任意に採用して組合せてもよく、上記の1つの実施形態に係る構成や方法等を上記の他の実施形態に係る構成や方法等に適用してもよい。 The production method, dispersion, composition and film of the present invention are not limited to the above-mentioned embodiments, and various changes can be made without departing from the gist of the present invention. Further, the configurations and methods of embodiments other than the above may be arbitrarily adopted and combined, and the configurations and methods according to the above one embodiment are applied to the configurations and methods according to the other embodiments described above. You may.
 本発明の一実施形態にかかるフィルムは、低誘電損失に加え、従来のシクロオレフィン系ポリマーを含む複合フィルムよりも表面平滑性に優れ、CTEも低減することができる。さらに耐熱性及び機械的特性にも優れる。そのため、高周波帯域用のプリント回路基板やアンテナ基板に対応可能な基板材料などに好適に利用できる。例えばCCLは、樹脂層の両表面に接着剤を介して銅箔が積層された構造を有する。本発明のフィルムを該樹脂層として使用する場合、表面平滑性が高く、またCTEが低減されているため、従来のものと比較し、銅箔と樹脂層との剥がれを有効に抑制できる。また、機械的特性、特に屈曲耐性に優れるため、塑性変形に強く、巻き癖が付きにくく、またフレキシブル基板材料にも使用できる。
 本発明のフィルムは、その他、自動車部品、電気・電子部品等の工業材料;レンズ、プリズム、光ファイバー、記録媒体等の光学材料等にも好適に用いられる。
In addition to the low dielectric loss, the film according to the embodiment of the present invention has excellent surface smoothness and can reduce CTE as compared with the conventional composite film containing a cycloolefin polymer. It also has excellent heat resistance and mechanical properties. Therefore, it can be suitably used as a substrate material compatible with a printed circuit board for a high frequency band and an antenna substrate. For example, CCL has a structure in which copper foils are laminated on both surfaces of a resin layer via an adhesive. When the film of the present invention is used as the resin layer, the surface smoothness is high and the CTE is reduced, so that peeling between the copper foil and the resin layer can be effectively suppressed as compared with the conventional film. Further, since it has excellent mechanical properties, particularly bending resistance, it is resistant to plastic deformation, does not easily have curl, and can be used as a flexible substrate material.
The film of the present invention is also suitably used for other industrial materials such as automobile parts and electric / electronic parts; optical materials such as lenses, prisms, optical fibers, and recording media.
[フィルムの製造方法]
 本発明のフィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)樹脂(A)、シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物を調製する組成物調製工程、
(b)組成物を基材に塗布して塗膜を形成する塗布工程、及び
(c)塗布された液(塗膜)を乾燥させて、フィルムを形成するフィルム形成工程
を含む方法によって製造することができる。樹脂(A)がポリイミド系樹脂である場合、熱イミド化を行う際には、イミド化反応を完了させる工程が含まれてもよい。
[Film manufacturing method]
The method for producing the film of the present invention is not particularly limited, but for example, the following steps:
(A) Composition preparation step for preparing a composition containing the resin (A), the cycloolefin polymer (B) and the solvent,
It is produced by a method including (b) a coating step of applying the composition to a substrate to form a coating film, and (c) a film forming step of drying the applied liquid (coating film) to form a film. be able to. When the resin (A) is a polyimide resin, a step of completing the imidization reaction may be included in the thermal imidization.
 <組成物調製工程>
 組成物調製工程は、例えば、樹脂(A)、粒子状ポリマー(B)及び溶媒、並びに任意に前記添加剤を混合することにより組成物を調製すればよい。特に本発明における組成物の上記製造方法を用いることが好ましい。本発明の上記製造方法を用いることで、粒子状ポリマー(B)の粒子径が小さく、かつ粒子の分散性に優れたフィルムを形成できる。
<Composition preparation process>
In the composition preparation step, for example, the composition may be prepared by mixing the resin (A), the particulate polymer (B) and the solvent, and optionally the additive. In particular, it is preferable to use the above-mentioned method for producing the composition in the present invention. By using the above-mentioned production method of the present invention, it is possible to form a film having a small particle size of the particulate polymer (B) and excellent particle dispersibility.
 <塗布工程及びフィルム形成工程>
 塗布工程は、組成物調製工程で得られた組成物を基材に塗布して塗膜を形成する工程である。
<Coating process and film forming process>
The coating step is a step of applying the composition obtained in the composition preparation step to the substrate to form a coating film.
 塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上に組成物を塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーン印刷コーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、カーテンコート法、スロットコート法、流涎成形法等が挙げられる。 In the coating process, the composition is applied onto the substrate by a known coating method to form a coating film. Known coating methods include, for example, wire bar coating method, reverse coating, roll coating method such as gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen printing coating method, fountain coating method, dipping method. , Spray method, curtain coating method, slot coating method, hypersalivation forming method and the like.
 基材の例としては、銅板(銅箔含む)、SUS板(SUS箔、SUSベルト含む)、ガラス基板、PETフィルム、PENフィルム、他のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム等が挙げられる。中でも、耐熱性に優れる観点から、好ましくは銅板、SUS板、ガラス基板、PETフィルム、PENフィルム等が挙げられ、フィルムとの密着性及びコストの観点から、より好ましくは銅板、SUS板、ガラス基板又はPETフィルム等が挙げられる。 Examples of the base material include a copper plate (including copper foil), a SUS plate (including SUS foil and SUS belt), a glass substrate, a PET film, a PEN film, another polyimide resin film, a polyamide resin film and the like. Among them, copper plate, SUS plate, glass substrate, PET film, PEN film and the like are preferable from the viewpoint of excellent heat resistance, and copper plate, SUS plate, glass substrate and the like are more preferable from the viewpoint of adhesion to the film and cost. Alternatively, a PET film or the like can be mentioned.
 フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、基材から剥離することによって、フィルムを形成することができる。本発明の一実施形態において、基材が銅箔の場合には、塗膜を銅箔から剥離することなくフィルムを形成し、得られた銅箔上にフィルムが積層された積層体を銅張積層板に用いることもできる。剥離する場合、剥離後にさらにフィルムを乾燥する乾燥工程を行ってもよい。塗膜の乾燥は、樹脂(A)の耐熱性などに応じて適宜選択できるが、本発明の一実施形態では、50~450℃、好ましくは55~400℃、より好ましくは70℃~380℃の温度にて行うことができ、本発明の別の実施形態では、50~350℃、好ましくは70~300℃の温度にて行うことができる。本発明の好適な実施形態では、段階的に乾燥を行うことが好ましい。段階的に乾燥を行うことにより、組成物を均一に乾燥することができ、得られるフィルムの表面平滑性が向上し得るため、該フィルムをCCLの樹脂層として使用する場合、銅箔と樹脂層との剥がれを有効に抑制できる。例えば、50~150℃の比較的低温下で加熱した後、200~450℃、好ましくは200~350℃で加熱してもよい。乾燥又は加熱の時間は、好ましくは5分~10時間、より好ましくは10分~5時間である。このような範囲で段階的に低温から高温に加熱することにより、得られるフィルムの表面平滑性を向上しやすい。必要に応じて、窒素やアルゴン中等の不活性雰囲気条件下、真空もしくは減圧条件下、及び/又は通風下において塗膜の乾燥を行ってもよい。
 段階的に乾燥を行う場合、段階的な乾燥の間で、基材から塗膜を剥離後、塗膜の乾燥を継続してもよく、全ての乾燥が終了してから基材から塗膜(フィルム)を剥離してもよい。例えば1段階目の乾燥後に基材から塗膜を剥離して2段階目以降の乾燥を行ってもよいし、すべての乾燥段階が終了した後に基材から塗膜(フィルム)を剥離してもよい。なお、1段階目の乾燥は予備乾燥であってよい。
In the film forming step, the film can be formed by drying the coating film and peeling it from the substrate. In one embodiment of the present invention, when the base material is a copper foil, a film is formed without peeling the coating film from the copper foil, and a laminate in which the film is laminated on the obtained copper foil is copper-clad. It can also be used for laminated boards. In the case of peeling, a drying step of further drying the film may be performed after the peeling. The drying of the coating film can be appropriately selected depending on the heat resistance of the resin (A) and the like, but in one embodiment of the present invention, it is 50 to 450 ° C., preferably 55 to 400 ° C., more preferably 70 ° C. to 380 ° C. In another embodiment of the present invention, it can be carried out at a temperature of 50 to 350 ° C., preferably 70 to 300 ° C. In a preferred embodiment of the present invention, it is preferable to carry out drying step by step. By performing the drying step by step, the composition can be uniformly dried and the surface smoothness of the obtained film can be improved. Therefore, when the film is used as the resin layer of CCL, the copper foil and the resin layer are used. Peeling with and can be effectively suppressed. For example, after heating at a relatively low temperature of 50 to 150 ° C., heating may be performed at 200 to 450 ° C., preferably 200 to 350 ° C. The drying or heating time is preferably 5 minutes to 10 hours, more preferably 10 minutes to 5 hours. By gradually heating from a low temperature to a high temperature in such a range, the surface smoothness of the obtained film can be easily improved. If necessary, the coating film may be dried under inert atmosphere conditions such as in nitrogen or argon, under vacuum or reduced pressure conditions, and / or under ventilation.
In the case of stepwise drying, the coating film may be continuously dried after the coating film is peeled off from the base material during the stepwise drying, and after all the drying is completed, the coating film is applied from the base material ( The film) may be peeled off. For example, the coating film may be peeled off from the substrate after the first step of drying to perform the second and subsequent drying steps, or the coating film (film) may be peeled off from the substrate after all the drying steps are completed. good. The first step of drying may be pre-drying.
 基材が銅箔である場合、例えば、銅箔を、第二塩化鉄溶液等でエッチング除去することで、基材である銅箔からフィルムを剥離してよい。 When the base material is a copper foil, for example, the film may be peeled off from the copper foil as the base material by etching and removing the copper foil with a ferric chloride solution or the like.
 本発明の一実施形態において、組成物中の樹脂(A)がポリイミド系樹脂前駆体(例えばポリアミック酸)であり、フィルム製造時にポリイミド系樹脂を生成する場合、該組成物を基材に塗布後、加熱により熱イミド化することが好ましい。該加熱により、溶媒を除去する乾燥と熱イミド化を同時に行うことができる。乾燥及びイミド化温度は、通常50~450℃の範囲であり、平滑なフィルムを得やすい観点からは、段階的に加熱を行うことが好ましい。例えば、50~150℃の比較的低温下で加熱して溶媒を除去した後、300~450℃の範囲の温度まで段階的に加熱してもよい。加熱の時間は、例えば上記範囲と同様の範囲から選択できる。 In one embodiment of the present invention, when the resin (A) in the composition is a polyimide resin precursor (for example, polyamic acid) and a polyimide resin is produced during film production, after the composition is applied to a substrate. , It is preferable to heat imidize by heating. By the heating, drying for removing the solvent and thermal imidization can be performed at the same time. The drying and imidization temperature is usually in the range of 50 to 450 ° C., and from the viewpoint of easily obtaining a smooth film, it is preferable to perform heating step by step. For example, the solvent may be removed by heating at a relatively low temperature of 50 to 150 ° C., and then gradually heated to a temperature in the range of 300 to 450 ° C. The heating time can be selected from the same range as the above range, for example.
 本発明のフィルムが多層フィルムである場合には、例えば、共押出加工法、押出ラミネート法、熱ラミネート法、ドライラミネート法等の多層フィルム形成法により製造することができる。 When the film of the present invention is a multilayer film, it can be produced by, for example, a multilayer film forming method such as a coextrusion processing method, an extrusion laminating method, a thermal laminating method, or a dry laminating method.
 以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。まず測定方法について説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples. First, the measurement method will be described.
 <ノルボルネン(NB)含有量>
 製造例で得られたシクロオレフィンコポリマーにおけるノルボルネン由来の単量体単位の含有量(「NB含有量」ともいう)は、13C-NMRを用いて測定した。13C-NMR測定条件は、以下の通りである。
 装置:Bruker社製のAVANCE600、10mmクライオプローブ
 測定温度:135℃
 測定方法:プロトンデカップリング法
 濃度:100mg/mL
 積算回数:1024回
 パルス幅:45度
 パルス繰り返し時間:4秒
 化学シフト値基準:テトラメチルシラン
 溶媒:1,2-ジクロロベンゼン-dと1,1,2,2-テトラクロロエタン-dとの体積比85:15の混合溶媒
 シクロオレフィンコポリマー中のNB含有量は、1,2-ジクロロベンゼン(127.68ppm)を基準とし、「R.A.Wendt,G.Fink,Macromol.Chem.Phys.,2001,202,3490」に記載の帰属に基づいて算出した。具体的には、13C-NMRを用いて測定されたスペクトルチャートのケミカルシフト値44.0-52.0ppmに観測されるシグナル積分値:IC2,C3(ノルボルネン環の2、3位の炭素原子に由来)、ケミカルシフト値27.0-33.0ppmに観測されるシグナル積分値:IC5,C6+ICE(ノルボルネン環の5、6位の炭素原子と、エチレン部の炭素原子とに由来)より、以下の式から求めた。
 NB含有量(mol%)=IC2,C3/(IC5,C6+ICE)×100
<Norbornene (NB) content>
The content of the monomer unit derived from norbornene (also referred to as “NB content”) in the cycloolefin copolymer obtained in the production example was measured using 13 C-NMR. 13 C-NMR measurement conditions are as follows.
Equipment: Bruker AVANCE 600, 10mm cryoprobe Measurement temperature: 135 ° C
Measurement method: Proton decoupling method Concentration: 100 mg / mL
Number of integrations: 1024 Pulse width: 45 degrees Pulse repetition time: 4 seconds Chemical shift value Criteria: Tetramethylsilane Solvent: 1,2-dichlorobenzene-d 4 and 1,1,2,2-tetrachloroethane-d 2 The NB content in the mixed solvent cycloolefin copolymer having a volume ratio of 85:15 is based on 1,2-dichlorobenzene (127.68 ppm) as "RA Wendt, G. Fink, Macromol. Chem. Phys. It was calculated based on the attribution described in ", 2001, 202, 3490". Specifically, the signal integral value observed at the chemical shift value of 44.0-52.0 ppm in the spectrum chart measured using 13 C-NMR: IC2, C3 (carbon at the 2nd and 3rd positions of the norbornene ring). (Derived from the atom), signal integrated value observed at a chemical shift value of 27.0-33.0 ppm: IC5 , C6 + ICE (derived from the carbon atom at the 5th and 6th positions of the norbornene ring and the carbon atom of the ethylene part ) From the following formula.
NB content (mol%) = IC2, C3 / ( IC5, C6 + ICE ) x 100
 <ハンセン溶解度パラメータ(HSP)及びHSP値間距離>
 製造例で得られたシクロオレフィンコポリマー、ポリイミド系樹脂、液晶ポリエステル及び溶媒のハンセン溶解度パラメータ(HSP)、並びにHSP値間距離は以下のように求めた。
<Distance between Hansen solubility parameter (HSP) and HSP value>
The Hansen solubility parameter (HSP) of the cycloolefin copolymer, polyimide resin, liquid polyester and solvent obtained in the production example, and the distance between HSP values were determined as follows.
(溶媒のハンセン溶解度パラメータ(HSP))
 溶媒のHSP値は、HSPiP(Ver.4.1.07)のデータベースの数値を用い、GBLのδDは18.0MPa0.5、δPは16.6MPa0.5、δHは7.4MPa0.5とし、DMAcのδDは16.8MPa0.5、δPは11.5MPa0.5、δHは9.4MPa0.5とし、NMPのδDは18.0MPa0.5、δPは12.3MPa0.5、δHは7.2MPa0.5とし、トルエンのδDは18.0MPa0.5、δPは1.4MPa0.5、δHは2.0MPa0.5とした。
(Hansen solubility parameter (HSP) of solvent)
For the HSP value of the solvent, the values in the database of HSPiP (Ver. 4.1.07) were used, and δD of GBL was 18.0 MPa 0.5 , δP was 16.6 MPa 0.5 , and δH was 7.4 MPa 0. The DMAc δD is 16.8 MPa 0.5 , the δP is 11.5 MPa 0.5 , the δH is 9.4 MPa 0.5 , the NMP δD is 18.0 MPa 0.5 , and the δP is 12.3 MPa 0 . 5.5, δH was set to 7.2 MPa 0.5 , δD of toluene was set to 18.0 MPa 0.5 , δP was set to 1.4 MPa 0.5 , and δH was set to 2.0 MPa 0.5 .
(シクロオレフィンコポリマーのHSP)
 シクロオレフィンコポリマーの各種溶媒への溶解性を評価した。溶解性の評価は、透明の容器に溶解度パラメータが既知の溶媒(HSPiPのデータベースを参照、使用した溶媒:塩化メチル、1,4-ジクロロベンゼン、クロロホルム、トルエン、p-キシレン、GBL、DMAc、NMP、水、アセトン、ジヨードメタン、安息香酸ブチル) 10mLとシクロオレフィンコポリマー 0.1gとを入れて混合液を調製した。得られた混合液に対して累計6時間超音波処理を施した。超音波処理後の混合液の外観を目視にて観察し、得られた観察結果から下記の評価基準に基づいて、それぞれの樹脂の溶媒への溶解性を評価した。
(評価基準)
2:室温で混合液の外観は白濁、沈殿が発生しているが、50℃に加温して攪拌子で30分攪拌することで混合液の外観が透明になる。
1:室温で混合液の外観は透明である。
0:室温で混合液の外観は白濁、沈殿が発生しており、50℃に加温して攪拌子で30分攪拌しても混合液の外観が透明にならない。
(HSP of cycloolefin copolymer)
The solubility of the cycloolefin copolymer in various solvents was evaluated. For the evaluation of solubility, use a solvent with a known solubility parameter in a transparent container (refer to the HSPiP database, solvent used: methyl chloride, 1,4-dichlorobenzene, chloroform, toluene, p-xylene, GBL, DMAc, NMP. , Water, acetone, diiodomethane, butyl benzoate) 10 mL and 0.1 g of cycloolefin copolymer were added to prepare a mixed solution. The obtained mixed solution was subjected to ultrasonic treatment for a total of 6 hours. The appearance of the mixed solution after the ultrasonic treatment was visually observed, and the solubility of each resin in the solvent was evaluated based on the following evaluation criteria from the obtained observation results.
(Evaluation criteria)
2: The appearance of the mixed solution is cloudy and precipitates at room temperature, but the appearance of the mixed solution becomes transparent by heating to 50 ° C. and stirring with a stirrer for 30 minutes.
1: The appearance of the mixture is transparent at room temperature.
0: The appearance of the mixed solution is cloudy and precipitates at room temperature, and the appearance of the mixed solution does not become transparent even when heated to 50 ° C. and stirred with a stirrer for 30 minutes.
 得られたシクロオレフィンコポリマーの溶媒への溶解性の評価結果から、HSPiPを用い、上述のハンセン溶解球法によりHSP値を算出した。 From the evaluation results of the solubility of the obtained cycloolefin copolymer in a solvent, the HSP value was calculated by the above-mentioned Hansen-dissolved sphere method using HSPiP.
(ポリイミド樹脂のHSP)
 ポリイミド系樹脂の各種溶媒への溶解性を評価した。溶解性の評価は、透明の容器に溶解度パラメータが既知の溶媒(HSPiPのデータベースを参照、使用した溶媒:アセトン、トルエン、エタノール、テトラヒドロフラン、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサン、GBL、エチルアセテート、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、1-ブタノール、N-メチルホルムアミド、1-メチルナフタレン、ブロモベンゼン、1-メチルイミダゾール、ピラゾール、酢酸) 10mLとポリイミド樹脂 0.1gとを入れて混合液を調製した。得られた混合液に対して累計6時間超音波処理を施した。超音波処理後の混合液の外観を目視にて観察し、得られた観察結果から下記の評価基準に基づいて、それぞれの樹脂の溶媒への溶解性を評価した。
(評価基準)
1:混合液の外観は白濁している。
0:混合液の外観は透明である。
(HSP of polyimide resin)
The solubility of the polyimide resin in various solvents was evaluated. For evaluation of solubility, use a solvent with known solubility parameters in a transparent container (see HSPiP database, solvents used: acetone, toluene, ethanol, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, hexane, GBP, ethyl. Prepare a mixed solution by adding 10 mL of acetate, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, 1-butanol, N-methylformamide, 1-methylnaphthalene, bromobenzene, 1-methylimidazole, pyrazole, acetic acid) and 0.1 g of polyimide resin. did. The obtained mixed solution was subjected to ultrasonic treatment for a total of 6 hours. The appearance of the mixed solution after the ultrasonic treatment was visually observed, and the solubility of each resin in the solvent was evaluated based on the following evaluation criteria from the obtained observation results.
(Evaluation criteria)
1: The appearance of the mixed solution is cloudy.
0: The appearance of the mixed solution is transparent.
 得られたポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性の評価結果から、HSPiPを用い、上述のハンセン溶解球法によりHSP値を算出した。 From the evaluation result of the solubility of the obtained polyimide resin in the solvent, the HSP value was calculated by the above-mentioned Hansen-dissolved sphere method using HSPiP.
(液晶ポリエステルのHSP)
 HSPiP(Ver.4.1.07)を用い、構造式からHSPを求めた。
(Liquid crystal polyester HSP)
Using HSPiP (Ver. 4.1.07), HSP was obtained from the structural formula.
(HSP値間距離)
 二つの物質のHSP値間距離(Ra)は、式(Y)に従って求めた。
(Distance between HSP values)
The distance (Ra) between the HSP values of the two substances was determined according to the formula (Y).
 <メソ型二連鎖/ラセモ型二連鎖>
 製造例で得られたシクロオレフィンコポリマーのノルボルネン二連鎖のメソ型二連鎖とラセモ型二連鎖との比(メソ型二連鎖/ラセモ型二連鎖)は、13C-NMRを用いて上記NB含有量の測定と同様の条件にて測定した。
 前記ノルボルネン二連鎖のメソ型二連鎖/ラセモ型二連鎖は、1,1,2,2-テトラクロロエタン(74.24ppm)を基準とし、「R.A.Wendt,G.Fink,Macromol.Chem.Phys.,2001,202,3490」及び「特開2008-285656号公報」に記載の帰属に基づいて算出した。具体的には、メソ型二連鎖/ラセモ型二連鎖は、13C-NMRを用いて測定されたスペクトルチャートのケミカルシフト値27.5-28.4ppmに観測されるシグナル積分値:IC5,C6-m(メソ型二連鎖のノルボルネン環の5、6位の炭素原子に由来)、ケミカルシフト値28.4-29.6ppmに観測されるシグナル積分値:IC5,C6-r(ラセモ型二連鎖のノルボルネン環の5、6位の炭素原子に由来)より、以下の式から求めた。
   メソ型二連鎖/ラセモ型二連鎖=IC5,C6-m/IC5,C6-r
<Meso-type two-chain / Racemo-type two-chain>
The ratio of the meso-type two-chain of the norbornene two-chain to the racemo-type two-chain (meso-type two-chain / racemo-type two-chain) of the cycloolefin copolymer obtained in the production example is the above-mentioned NB content using 13 C-NMR. It was measured under the same conditions as the measurement of.
The meso-type / racemo-type two-chain of the norbornene two-chain is based on 1,1,2,2-tetrachloroethane (74.24 ppm), and is described in “RAWendt, G.Fink, Macromol.Chem. It was calculated based on the attribution described in "Phys., 2001, 202, 3490" and "Japanese Patent Laid-Open No. 2008-285656". Specifically, the meso-type two-chain / racemo-type two-chain has a signal integral value observed at a chemical shift value of 27.5-28.4 ppm in the spectrum chart measured using 13 C-NMR: IC5 . C6 -m (derived from carbon atoms at positions 5 and 6 of the meso-type two-chain norbornene ring), signal integrated values observed at a chemical shift value of 28.4-29.6 ppm: IC5 , C6 -r (racemo type) It was obtained from the following formula from the carbon atom at the 5th and 6th positions of the two-chain norbornene ring).
Meso-type two-chain / Racemo-type two-chain = IC5 , C6 -m / I C5, C6 -r
 <屈折率>
 製造例で得られたシクロオレフィンコポリマーの屈折率は、真空プレス機で厚さ100μmに成形したシート状の試料を用いて、下記条件で測定することにより求めた。
 機器:(株)アタゴ製 アッベ屈折計、TYPE-3
 光源波長:589.3nm
 中間液:1-ブロモナフタレン
 測定温度:23±1℃
<Refractive index>
The refractive index of the cycloolefin copolymer obtained in the production example was determined by measuring under the following conditions using a sheet-shaped sample formed to a thickness of 100 μm with a vacuum press.
Equipment: Abbe refractometer manufactured by Atago Co., Ltd., TYPE-3
Light source wavelength: 589.3 nm
Intermediate solution: 1-bromonaphthalene Measurement temperature: 23 ± 1 ° C
 <ガラス転移温度>
 (シクロオレフィンコポリマー)
 製造例で得られたシクロオレフィンコポリマーのTgは、JIS K7196に基づき、TMAにより軟化温度を測定することにより求められた。具体的には、シクロオレフィンコポリマーを真空プレス機でシート状に成型した試料(厚さ:1.0mm)を下記条件で測定し、圧子が試料に沈み込む際の変位のオンセットを軟化温度とした。
 装置:(株)日立ハイテクサイエンス製、TMA/SS6200
 圧子径:1mm
 荷重:780mN
 温度プログラム:20℃から380℃まで5℃/分の速度で昇温
<Glass transition temperature>
(Cycloolefin copolymer)
The Tg of the cycloolefin copolymer obtained in the production example was determined by measuring the softening temperature by TMA based on JIS K7196. Specifically, a sample (thickness: 1.0 mm) obtained by molding a cycloolefin copolymer into a sheet with a vacuum press is measured under the following conditions, and the onset of displacement when the indenter sinks into the sample is defined as the softening temperature. did.
Equipment: TMA / SS6200 manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation
Indenter diameter: 1 mm
Load: 780mN
Temperature program: Temperature rise from 20 ° C to 380 ° C at a rate of 5 ° C / min
 (ポリイミド系樹脂及び液晶ポリエステル)
 製造例で得られたポリイミド系樹脂及び液晶ポリエステルのTgは、以下の測定により求められた。TA Instrument社製、DMA Q800を用い、次のような試料及び条件下で測定して、損失弾性率と保存弾性率の値の比であるtanδ曲線を得た後、tanδ曲線のピークの最頂点からTgを算出した。
 試料:長さ5-15mm、幅5mm
 実験モード:DMA Multi-Frequency-Strain
 実験モード詳細条件:
 (1)Clamp:Tension:Film
 (2)Amplitude:5μm
 (3)Frequncy:10Hz(全温度区間で変動なし)
 (4)Preload Force:0.01N
 (5)Force Track:125N
  温度条件:(1)昇温範囲:常温~400℃、(2)昇温速度:5℃/分
  主要収集データ:(1)保存弾性率(Storage modulus、E’)、(2)損失弾性率(Loss modulus、E”)、(3)tanδ(E”/E’)
(Polyimide resin and liquid crystal polyester)
The Tg of the polyimide resin and the liquid crystal polyester obtained in the production example was determined by the following measurements. Using DMA Q800 manufactured by TA Instrument, measurement under the following samples and conditions was performed to obtain a tan δ curve, which is the ratio of the loss modulus to the storage modulus, and then the peak of the tan δ curve peaked. Tg was calculated from.
Sample: length 5-15 mm, width 5 mm
Experimental mode: DMA Multi-Freequency-Strine
Detailed experimental mode conditions:
(1) Clamp: Tension: Film
(2) Implement: 5 μm
(3) Frequency: 10Hz (no fluctuation in all temperature sections)
(4) Preload Force: 0.01N
(5) Force Track: 125N
Temperature conditions: (1) Temperature rise range: Room temperature to 400 ° C., (2) Temperature rise rate: 5 ° C./min Main collected data: (1) Storage modulus (E'), (2) Loss elastic modulus (Loss modulus, E "), (3) tanδ (E" / E')
 <シクロオレフィンコポリマーのMw及びMn>
 製造例で得られたシクロオレフィンコポリマーのポリスチレン換算のMw及びMnは、GPCを用いて測定した。GPC測定は下記条件で行い、ISO16014-1の記載に基づき、クロマトグラム上のベースラインを規定してピークを指定した。
<Mw and Mn of cycloolefin copolymer>
The polystyrene-equivalent Mw and Mn of the cycloolefin copolymer obtained in the production example were measured using GPC. The GPC measurement was performed under the following conditions, and the peak was specified by defining the baseline on the chromatogram based on the description of ISO16014-1.
 (GPC装置及びソフトウェア)
  装置:HLC-8121GPC/HT(東ソー(株)製)
  測定ソフト:GPC-8020 modelII データ収集 Version 4.32(東ソー(株)製)
  解析ソフト:GPC-8020 modelII データ解析 Version 4.32(東ソー(株)製)
(GPC device and software)
Equipment: HLC-8121GPC / HT (manufactured by Tosoh Corporation)
Measurement software: GPC-8020 modelII data collection Version 4.32 (manufactured by Tosoh Corporation)
Analysis software: GPC-8020 modelII data analysis Version 4.32 (manufactured by Tosoh Corporation)
 (測定条件)
  GPCカラム:TSKgel GMH6-HT (内径7.8mm、長さ300mm)(東ソー(株)製) 3本連結
  移動相:オルトジクロロベンゼン(富士フイルム和光純薬(株)製、特級)に2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール(以下、BHTと記載することがある)を0.1w/V、すなわち0.1g/100mLの濃度で添加して使用した。
  流速:1mL/分
  カラムオーブン温度:140℃
  オートサンプラー温度:140℃
  システムオーブン温度:40℃
  検出:示差屈折率検出器(RID)
  RIDセル温度:140℃
  試料溶液注入量:300μL
  GPCカラム校正用標準物質:東ソー(株)製標準ポリスチレンを下記表1のような組合せで量り取り、組合せごとに移動相と同組成のオルトジクロロベンゼン 5mLを加え、室温で2時間溶解させて調製した。得られたGPCカラム校正用標準物質を用いてカラムの校正を行ってから、以下に示すように、試料の測定を実施した。
(Measurement condition)
GPC column: TSKgel GMH6-HT (inner diameter 7.8 mm, length 300 mm) (manufactured by Tosoh Corporation) 3 connected mobile phase: orthodichlorobenzene (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade) 2,6 -Di-tert-butyl-4-methylphenol (hereinafter, may be referred to as BHT) was added and used at a concentration of 0.1 w / V, that is, 0.1 g / 100 mL.
Flow rate: 1 mL / min Column oven temperature: 140 ° C
Autosampler temperature: 140 ° C
System oven temperature: 40 ° C
Detection: Differential Refractometer Detector (RID)
RID cell temperature: 140 ° C
Sample solution injection amount: 300 μL
Standard material for GPC column calibration: Standard polystyrene manufactured by Tosoh Corporation is weighed in the combination shown in Table 1 below, 5 mL of ortodichlorobenzene having the same composition as the mobile phase is added to each combination, and the mixture is dissolved at room temperature for 2 hours to prepare. did. The column was calibrated using the obtained GPC column calibration standard material, and then the sample was measured as shown below.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
 (試料溶液調製条件)
  溶媒:オルトジクロロベンゼン(富士フイルム和光純薬(株)製、特級)に、BHTを0.1w/V、すなわち0.1g/100mLの濃度で添加して使用した。
  試料溶液濃度:1mg/mL
  溶解用自動振とう器:DF-8020(東ソー(株)製)
  溶解条件:5mgの試料を1,000meshのSUS製の金網袋に封入し、試料を封入した金網袋を試験管に入れ、さらに前記移動相と同組成のオルトジクロロベンゼン 5mLを加え、試験管にアルミホイルで蓋をし、試験管をDF-8020にセットし、60往復/分の撹拌速度で140℃にて120分間撹拌した。攪拌後の溶液を試料として、GPC測定を行った。
(Sample solution preparation conditions)
Solvent: BHT was added to orthodichlorobenzene (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade) at a concentration of 0.1 w / V, that is, 0.1 g / 100 mL.
Sample solution concentration: 1 mg / mL
Automatic shaker for melting: DF-8020 (manufactured by Tosoh Corporation)
Dissolution conditions: A 5 mg sample is enclosed in a 1,000 mesh SUS wire mesh bag, the wire mesh bag containing the sample is placed in a test tube, and 5 mL of orthodichlorobenzene having the same composition as the mobile phase is added to the test tube. The lid was covered with aluminum foil, the test tube was set in DF-8020, and the mixture was stirred at 140 ° C. for 120 minutes at a stirring rate of 60 reciprocating / min. GPC measurement was performed using the stirred solution as a sample.
 <ポリイミド樹脂のMw>
 製造例で得られたポリイミド樹脂のポリスチレン換算のMwは、GPCを用いて測定した。GPC測定は下記条件で行った。
 GPC測定
(1)前処理方法
 サンプルにDMF溶離液(10mmol/L臭化リチウム添加DMF溶液)を濃度2mg/mLとなるように加え、80℃にて30分間攪拌しながら加熱し、冷却後、0.45μmメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
(2)測定条件
カラム:TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(内径6.0mm、長さ150mm、3本連結)
溶離液:DMF(10mmol/Lの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/分
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<Mw of polyimide resin>
The polystyrene-equivalent Mw of the polyimide resin obtained in the production example was measured using GPC. GPC measurement was performed under the following conditions.
GPC measurement (1) Pretreatment method Add DMF eluent (10 mmol / L lithium bromide-added DMF solution) to the sample to a concentration of 2 mg / mL, heat with stirring at 80 ° C. for 30 minutes, cool, and then cool. The solution filtered by a 0.45 μm membrane filter was used as a measurement solution.
(2) Measurement condition column: TSKgel SuperAWM-H x 2 + SuperAW2500 x 1 (inner diameter 6.0 mm, length 150 mm, 3 connected)
Eluent: DMF (10 mmol / L lithium bromide added)
Flow rate: 1.0 mL / min Detector: RI detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene
<液晶ポリエステルのMw>
 液晶ポリエステルのMwは、GPCにて、次の条件で測定した。
(1)前処理方法
 液晶ポリエステル約4.86mgにペンタフルオロフェノール約2mLを加え2時間加熱撹拌し、そのまま撹拌しながら40~50℃に冷却した。撹拌しながらクロロホルム約4.24mLを加え、0.45μmメンブランフィルターでろ過したものを測定溶液とした。
(2)GPC装置
 東ソー(株)製、HLC8220GPC
(3)測定条件
 カラム:TSKgel SuperHM-H×2
 (内径6.0mm、長さ150mm、2本連結)
 溶離液:ペンタフルオロフェノール(PFP)/クロロホルム(質量比35/65)
 流量:0.4mL/分
 検出器:示差屈折率(RI)検出器
 カラム温度:40℃
 注入量:20μL
 分子量標準:標準ポリスチレン
<Liquid crystal polyester Mw>
The Mw of the liquid crystal polyester was measured by GPC under the following conditions.
(1) Pretreatment method Approximately 2 mL of pentafluorophenol was added to approximately 4.86 mg of liquid crystal polyester, and the mixture was heated and stirred for 2 hours, and then cooled to 40 to 50 ° C. while stirring as it was. Approximately 4.24 mL of chloroform was added with stirring, and the solution filtered through a 0.45 μm membrane filter was used as the measurement solution.
(2) GPC equipment HLC8220GPC manufactured by Tosoh Corporation
(3) Measurement conditions Column: TSKgel SuperHM-H × 2
(Inner diameter 6.0 mm, length 150 mm, two connected)
Eluent: Pentafluorophenol (PFP) / chloroform (mass ratio 35/65)
Flow rate: 0.4 mL / min Detector: Differential refractometer (RI) detector Column temperature: 40 ° C
Injection volume: 20 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene
 <複合フィルムの厚さ>
 実施例及び比較例で得られた複合フィルムの厚さは、デジマチックインジケータ((株)ミツトヨ製、ID-C112XBS)を使用し、フィルムの任意の5点以上の厚さを測定し、それらの平均値を厚さとした。
<Thickness of composite film>
For the thickness of the composite film obtained in Examples and Comparative Examples, a Digimatic Indicator (ID-C112XBS, manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.) was used to measure the thickness of any 5 or more points of the film, and the thickness thereof was measured. The average value was taken as the thickness.
 <溶解性の評価>
 実施例及び比較例で使用した溶媒に、シクロオレフィンコポリマー、ポリイミド樹脂及び液晶ポリエステルが溶解するか否かの評価は以下のように行った。
 まず、30mLのガラス製スクリュー管に溶媒 9.9gを量り取り、さらにマグネチックスターラーを入れて撹拌する。そこにポリマー又は樹脂 0.1gを加え、24℃で24時間攪拌する。24時間撹拌後、目視で固体が確認できない、かつ溶液が透明の場合は「溶解する」と評価した。一方、目視で固体を確認できる、又は、溶液が不透明の場合は「溶解しない」と評価した。
<Evaluation of solubility>
The evaluation of whether or not the cycloolefin copolymer, the polyimide resin and the liquid crystal polyester were dissolved in the solvents used in Examples and Comparative Examples was performed as follows.
First, 9.9 g of the solvent is weighed in a 30 mL glass screw tube, and a magnetic stirrer is further added and stirred. 0.1 g of the polymer or resin is added thereto, and the mixture is stirred at 24 ° C. for 24 hours. After stirring for 24 hours, if the solid could not be visually confirmed and the solution was transparent, it was evaluated as "dissolved". On the other hand, if the solid can be visually confirmed or the solution is opaque, it is evaluated as "not soluble".
<粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の溶媒含量>
 実施例及び比較例で得られた粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の溶媒含量は、ガスクロマトグラフィーにより測定した。具体的には下記条件で測定を行い、一点検量により粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の溶媒含量を算出した。
 装置:Agilent 7890Bガスクロマトグラフ(アジレント・テクノロジー(株)製)
 カラム:DB-5(アジレント・テクノロジー(株)製)
 キャリアガス:ヘリウム
 注入口温度:200℃
 検出器温度:250℃
 内部標準液:ベンジルアルコール
 溶媒:クロロホルム
<Solvent content in particulate cycloolefin copolymer dispersion>
The solvent content in the particulate cycloolefin copolymer dispersions obtained in Examples and Comparative Examples was measured by gas chromatography. Specifically, the measurement was carried out under the following conditions, and the solvent content in the particulate cycloolefin copolymer dispersion was calculated from one inspection amount.
Equipment: Agilent 7890B gas chromatograph (manufactured by Agilent Technologies)
Column: DB-5 (manufactured by Agilent Technologies, Inc.)
Carrier gas: Helium inlet temperature: 200 ° C
Detector temperature: 250 ° C
Internal standard: Benzyl alcohol Solvent: Chloroform
 <分散液中の粒子状シクロオレフィンコポリマーの粒子径>
 (実施例の粒子)
 実施例で得られた粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径を、レーザー回折を用いた散乱式粒度分布測定により求めた。
 具体的には、容量3.5mLのガラス製セルに、実施例で得られた粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液を入れ、さらにGBL、NMP又はDMAcを添加して(分散液と同溶媒を用いて)1000倍希釈し、粒子状シクロオレフィンコポリマーを含有する分散液試料を得た。得られた分散液試料をレーザー回析/散乱式粒度分布測定装置(Malvern Panalytical社製、型式:NanоZS、屈折率:1.70-0.20i)を用いて測定し、粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径を求めた。
 (比較例の粒子)
 比較例で得られたシクロオレフィンコポリマー微粒子粉を用いて分散液試料を調製し、該分散液試料中の粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径を、レーザー回折を用いた散乱式粒度分布測定により求めた。
 具体的には、容量9mLのガラス製セルに、比較例で得られたシクロオレフィンコポリマー微粒子粉 0.01gとGBL 5mLとを加えて混合した後、超音波洗浄を用いて5分間超音波処理をし、粒子状シクロオレフィンコポリマーを含有する分散液試料を得た。得られた分散液試料を、レーザー回析/散乱式粒度分布測定装置(田中理化(株)製、型式:SALD-2100、屈折率:1.70-0.20i)を用いて測定し、粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径を求めた。
<Particulate particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the dispersion>
(Particles of Examples)
The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the particulate cycloolefin copolymer dispersion obtained in the examples was determined by the scattering type particle size distribution measurement using laser diffraction.
Specifically, the particulate cycloolefin copolymer dispersion obtained in the example was placed in a glass cell having a capacity of 3.5 mL, and GBL, NMP or DMAc was further added (using the same solvent as the dispersion). ) Diluted 1000 times to obtain a dispersion sample containing the particulate cycloolefin copolymer. The obtained dispersion sample was measured using a laser diffraction / scattering type particle size distribution measuring device (manufactured by Malvern Panasonic, model: NanоZS, refractive index: 1.70-0.20i), and the particulate cycloolefin copolymer was measured. The median diameter was calculated.
(Particles of comparative example)
A dispersion sample was prepared using the cycloolefin copolymer fine particle powder obtained in the comparative example, and the median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the dispersion sample was determined by scattering particle size distribution measurement using laser diffraction. ..
Specifically, 0.01 g of the cycloolefin copolymer fine particle powder obtained in the comparative example and 5 mL of GBL were added to a glass cell having a capacity of 9 mL and mixed, and then ultrasonically treated for 5 minutes using ultrasonic cleaning. Then, a dispersion sample containing the particulate cycloolefin copolymer was obtained. The obtained dispersion sample was measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring device (manufactured by Rika Tanaka Co., Ltd., model: SALD-2100, refractive index: 1.70-0.20i), and the particles were measured. The median diameter of the state cycloolefin copolymer was determined.
 <複合フィルム中のシクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径>
 実施例1~4で得られた複合フィルムは走査型透過電子顕微鏡(STEM)を用いて、比較例1~4で得られた複合フィルムは走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて、複合フィルムの断面観察を行い、観察された断面の画像から50個以上の粒子の粒子径を測定し、それらの平均値を平均一次粒子径とした。
 (STEM観察測定条件)
装置名:日本FEI(株)製 HeLiоsG4UX(剥片作成装置)
    (株)日立ハイテク社製S―5500(STEM観察用)
加速電圧:30kv
倍率:20000倍
 (SEM観察測定条件)
装置名:(株)キーエンス製 VE9800
加速電圧:2.0kv
倍率:500倍
<Average primary particle size of cycloolefin copolymer in composite film>
The composite films obtained in Examples 1 to 4 were used with a scanning transmission electron microscope (STEM), and the composite films obtained with Comparative Examples 1 to 4 were used with a scanning electron microscope (SEM). Cross-sectional observation was performed, the particle size of 50 or more particles was measured from the image of the observed cross section, and the average value thereof was taken as the average primary particle size.
(STEM observation measurement conditions)
Device name: HeLiоsG4UX (flake making device) manufactured by Japan FEI Co., Ltd.
Hitachi High-Tech Co., Ltd. S-5500 (for STEM observation)
Acceleration voltage: 30kv
Magnification: 20000 times (SEM observation measurement conditions)
Device name: VE9800 manufactured by KEYENCE CORPORATION
Acceleration voltage: 2.0kv
Magnification: 500 times
 <CTE>
(複合フィルムのCTE)
 実施例及び比較例で得られた複合フィルムのCTEは、TMAにより測定した。具体的には、下記条件で測定を行い、50℃から100℃におけるCTEを算出した。
 装置:(株)日立ハイテクサイエンス製 TMA/SS7100
 圧子(プローブ)径:3.5mm
 荷重:50.0mN
 温度プログラム:20℃から130℃まで5℃/分の速度で昇温
 試験片:40mm×10mm×50μmの直方体
<CTE>
(CTE of composite film)
The CTEs of the composite films obtained in Examples and Comparative Examples were measured by TMA. Specifically, the measurement was performed under the following conditions, and the CTE at 50 ° C to 100 ° C was calculated.
Equipment: TMA / SS7100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation
Indenter (probe) diameter: 3.5 mm
Load: 50.0mN
Temperature program: Temperature rise from 20 ° C to 130 ° C at a rate of 5 ° C / min Specimen: 40 mm × 10 mm × 50 μm rectangular parallelepiped
(シクロオレフィンコポリマーのCTE)
 製造例で得られたシクロオレフィンコポリマーのCTEは、TMAを用いて、下記条件で測定を行い、50℃から100℃におけるCTEを算出した。
 装置:(株)日立ハイテクサイエンス製 TMA/SS6200
 圧子(プローブ)径:3.5mm 荷重:38.5mN
 温度プログラム:20℃から130℃まで5℃/分の速度で昇温
 試験片:10mm×10mm×1mmの直方体
(CTE of cycloolefin copolymer)
The CTE of the cycloolefin copolymer obtained in the production example was measured under the following conditions using TMA, and the CTE at 50 ° C to 100 ° C was calculated.
Equipment: TMA / SS6200 manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation
Indenter (probe) diameter: 3.5 mm Load: 38.5 mN
Temperature program: Temperature rise from 20 ° C to 130 ° C at a rate of 5 ° C / min Specimen: 10 mm × 10 mm × 1 mm rectangular parallelepiped
 <試薬の詳細>
 シクロオレフィンコポリマーの合成には、住友化学(株)製のトルエン、富士フイルム和光純薬(株)製のスチレン、荒川化学工業(株)製の2-ノルボルネン(以下、NBという)、東ソー・ファインケム(株)製のトリイソブチルアルミニウム(以下、TIBAという)、AGC(株)製のN,N-ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(以下、ABという)を用いた。
<Details of reagents>
Toluene manufactured by Sumitomo Chemical Industries, Ltd., styrene manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 2-norbornene manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. (hereinafter referred to as NB), and Toso Finechem Co., Ltd. are used for the synthesis of cycloolefin copolymers. Triisobutylaluminum (hereinafter referred to as TIBA) manufactured by AGC Co., Ltd. and N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (hereinafter referred to as AB) manufactured by AGC Co., Ltd. were used.
 トルエンは、モレキュラーシーブス13X(ユニオン昭和(株)製)と活性アルミナ(住友化学(株)製、NKHD-24)とを用いて脱水し、次いで、窒素ガスを吹き込んで溶存酸素を除去したものを使用した。 Toluene was dehydrated using Molecular Sieves 13X (manufactured by Union Showa Co., Ltd.) and activated alumina (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., NKHD-24), and then nitrogen gas was blown into the toluene to remove dissolved oxygen. used.
 NBは、トルエンに溶解させた後、モレキュラーシーブス13X(ユニオン昭和(株)製)と活性アルミナ(住友化学(株)製、NKHD-24)とを用いて脱水し、次いで、窒素ガスを吹き込んで溶存酸素を除去したものを使用した(以下、NB溶液という)。なお、NB溶液中のNB濃度は、ガスクロマトグラフィーを用いて測定した。 After dissolving NB in toluene, it is dehydrated using Molecular Sieves 13X (manufactured by Union Showa Co., Ltd.) and activated alumina (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., NKHD-24), and then nitrogen gas is blown into the NB. A solution from which dissolved oxygen was removed was used (hereinafter referred to as NB solution). The NB concentration in the NB solution was measured by using gas chromatography.
 イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(3-tert-ブチル-5-メチル-2-フェノキシ)チタンジクロリド(以下、錯体という)は、特開平9-183809号公報に記載の方法に従って合成したものを使用した。 Isopropyridene (cyclopentadienyl) (3-tert-butyl-5-methyl-2-phenoxy) Titanium dichloride (hereinafter referred to as a complex) is synthesized according to the method described in JP-A-9-183809. did.
[シクロオレフィンコポリマーの製造]
 <製造例1>
 内部を減圧乾燥したオートクレーブに、NB溶液 1,501mL(NB濃度:3.00mol/L)を加え、60℃に昇温した。系内を攪拌しながら、エチレン分圧:100kPaで加圧した後、TIBAのヘキサン溶液 4.0mL(濃度:1.0mol/L)と、AB 0.16gと、錯体のトルエン溶液 10.0mL(濃度:10mmol/L)とを加え、エチレンとNBとの重合を開始した。重合中は系内の温度を60℃に保ち、また、エチレンを連続的に供給して系内の圧力を開始時の値に保った。重合開始から3時間経過後、水 5.0mLを加えて重合を停止し、オートクレーブ内の溶液を抜き出した。抜き出された溶液に、トルエン 1,500gと、硫酸マグネシウム 100gとを加えて攪拌し、次いで、水 100mLを加えて攪拌し、固体を濾過により除去した。得られた液体をアセトンに滴下し、析出した粉末を濾過により単離した。単離された粉末を更にアセトンで洗浄し、減圧下、120℃で2時間乾燥して、メジアン径335μmのシクロオレフィンコポリマー 210.0gを得た。得られたシクロオレフィンコポリマーにおいて、NB含有量は84.1mol%であり、Tgは293℃であり、Mwは521,000であり、Mw/Mnは1.87であり、CTEは49.4ppm/Kであった。該シクロオレフィンコポリマーのδDは17.7MPa0.5であり、δPは2.1MPa0.5であり、δHは3.9MPa0.5であり、メソ型二連鎖/ラセモ型二連鎖は0.19であり、屈折率は1.538であった。製造例1の合成条件を表2に示す。
[Manufacturing of cycloolefin copolymer]
<Manufacturing example 1>
To the autoclave whose inside was dried under reduced pressure, 1,501 mL (NB concentration: 3.00 mol / L) of the NB solution was added, and the temperature was raised to 60 ° C. After pressurizing with ethylene partial pressure: 100 kPa while stirring the inside of the system, 4.0 mL (concentration: 1.0 mol / L) of hexane solution of TIBA, 0.16 g of AB, and 10.0 mL of toluene solution of the complex ( Concentration: 10 mmol / L) was added to initiate polymerization of ethylene and NB. During the polymerization, the temperature in the system was kept at 60 ° C., and ethylene was continuously supplied to keep the pressure in the system at the starting value. After 3 hours had passed from the start of the polymerization, 5.0 mL of water was added to stop the polymerization, and the solution in the autoclave was withdrawn. To the extracted solution, 1,500 g of toluene and 100 g of magnesium sulfate were added and stirred, and then 100 mL of water was added and stirred, and the solid was removed by filtration. The obtained liquid was added dropwise to acetone, and the precipitated powder was isolated by filtration. The isolated powder was further washed with acetone and dried under reduced pressure at 120 ° C. for 2 hours to obtain 210.0 g of a cycloolefin copolymer having a median diameter of 335 μm. In the obtained cycloolefin copolymer, the NB content is 84.1 mol%, Tg is 293 ° C., Mw is 521,000, Mw / Mn is 1.87, and CTE is 49.4 ppm /. It was K. The cycloolefin copolymer has a δD of 17.7 MPa 0.5 , a δP of 2.1 MPa 0.5 , a δH of 3.9 MPa 0.5 , and a meso-type two-chain / racemo-type two-chain of 0. It was 19, and the refractive index was 1.538. Table 2 shows the synthesis conditions of Production Example 1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
 <製造例2>
 内部を減圧乾燥したオートクレーブに、NB溶液 1,427mL(NB濃度:3.00mol/L)、スチレン 55.2mLを加え、80℃に昇温した。系内を攪拌しながら、TIBAのヘキサン溶液 3.0mL(濃度:1.0mol/L)と、AB 0.32gと、錯体のトルエン溶液 15.0mL(濃度:10mmol/L)とを加え、NBとスチレンの重合を開始した。重合中は系内の温度を80℃に保った。重合開始から2時間経過後、水 3.0mLを加えて重合を停止し、オートクレーブ内の溶液を抜き出した。抜き出された溶液に、得られた液体をアセトンに滴下し、析出した粉末を濾過により単離した。単離された粉末を更にアセトンで洗浄し、減圧下、150℃で2時間乾燥して、シクロオレフィンコポリマー 198.3gを得た。得られたシクロオレフィンコポリマーにおいて、NB含有量は96.3mol%であり、Mwは79,000であり、Mw/Mnは1.83であり、Tgは300℃超であった。また、該シクロオレフィンコポリマーのδDは17.7MPa0.5であり、δPは2.1MPa0.5であり、δHは3.9MPa0.5であった。製造例2の合成条件を表3に示す。
<Manufacturing example 2>
To the autoclave whose inside was dried under reduced pressure, 1,427 mL of NB solution (NB concentration: 3.00 mol / L) and 55.2 mL of styrene were added, and the temperature was raised to 80 ° C. While stirring the inside of the system, add 3.0 mL (concentration: 1.0 mol / L) of hexane solution of TIBA, 0.32 g of AB, and 15.0 mL (concentration: 10 mmol / L) of toluene solution of the complex, and NB. And styrene polymerization was started. The temperature in the system was kept at 80 ° C. during the polymerization. After 2 hours from the start of the polymerization, 3.0 mL of water was added to stop the polymerization, and the solution in the autoclave was withdrawn. The obtained liquid was added dropwise to acetone in the extracted solution, and the precipitated powder was isolated by filtration. The isolated powder was further washed with acetone and dried under reduced pressure at 150 ° C. for 2 hours to obtain 198.3 g of a cycloolefin copolymer. In the obtained cycloolefin copolymer, the NB content was 96.3 mol%, Mw was 79,000, Mw / Mn was 1.83, and Tg was more than 300 ° C. The δD of the cycloolefin copolymer was 17.7 MPa 0.5 , the δP was 2.1 MPa 0.5 , and the δH was 3.9 MPa 0.5 . Table 3 shows the synthesis conditions of Production Example 2.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
[ポリイミド樹脂の合成]
 セパラブルフラスコにシリカゲル管、攪拌装置及び温度計を取り付けた反応器と、オイルバスとを準備した。乾燥窒素を用いてこのフラスコ内を窒素雰囲気にした後、6FDA 75.52gと、TFMB 54.44gとを投入した。これを400rpmで攪拌しながらDMAc 519.84gを加え、フラスコの内容物が均一な溶液になるまで攪拌を続けた。続いて、オイルバスを用いて容器内温度が20~30℃の範囲になるように調整しながらさらに20時間攪拌を続け、反応させてポリアミック酸を生成させた。30分後、撹拌速度を100rpmに変更した。20時間攪拌後、反応系温度を室温に戻し、DMAc 649.8gを加えてポリマー濃度が10質量%となるように調整した。さらに、ピリジン 32.27g、無水酢酸 41.65gを加え、室温で10時間攪拌してイミド化を行った。反応容器からポリイミドワニスを取り出した。得られたポリイミドワニスをメタノール中に滴下して再沈殿を行い、得られた粉体を加熱乾燥して溶媒を除去し、固形分としてポリイミド樹脂を得た。得られたポリイミド樹脂のδDは18.1MPa0.5であり、δPは8.3MPa0.5であり、δHは9.3MPa0.5であった。また、該ポリイミド樹脂のMwは334,300であり、Tgは361℃であった。
[Synthesis of polyimide resin]
A reactor equipped with a silica gel tube, a stirrer and a thermometer in a separable flask, and an oil bath were prepared. After making the inside of the flask a nitrogen atmosphere using dry nitrogen, 75.52 g of 6FDA and 54.44 g of TFMB were added. While stirring this at 400 rpm, 519.84 g of DMAc was added, and stirring was continued until the contents of the flask became a uniform solution. Subsequently, stirring was continued for another 20 hours while adjusting the temperature inside the container to be in the range of 20 to 30 ° C. using an oil bath, and the reaction was carried out to generate a polyamic acid. After 30 minutes, the stirring speed was changed to 100 rpm. After stirring for 20 hours, the reaction system temperature was returned to room temperature, and 649.8 g of DMAc was added to adjust the polymer concentration to 10% by mass. Further, 32.27 g of pyridine and 41.65 g of acetic anhydride were added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours for imidization. The polyimide varnish was taken out from the reaction vessel. The obtained polyimide varnish was dropped into methanol for reprecipitation, and the obtained powder was heated and dried to remove the solvent to obtain a polyimide resin as a solid content. The δD of the obtained polyimide resin was 18.1 MPa 0.5, the δP was 8.3 MPa 0.5 , and the δH was 9.3 MPa 0.5 . The Mw of the polyimide resin was 334,300, and the Tg was 361 ° C.
[ポリアミック酸の合成]
 セパラブルフラスコにシリカゲル管、攪拌装置及び温度計を取り付けた反応器と、オイルバスとを準備した。このフラスコ内に、BPDA 27.83gと、PMDA 13.76gと、m-TB 34.00gとを投入した。これを400rpmで攪拌しながら、DMAc 428.35gを加え、フラスコの内容物が均一な溶液になるまで攪拌を続けた。続いて、オイルバスを用いて容器内温度が20~30℃の範囲になるように調整しながらさらに3時間攪拌を続け、反応させて溶媒に分散した状態のポリアミック酸溶液を得た。
[Synthesis of polyamic acid]
A reactor equipped with a silica gel tube, a stirrer and a thermometer in a separable flask, and an oil bath were prepared. 27.83 g of BPDA, 13.76 g of PMDA, and 34.00 g of m-TB were placed in this flask. While stirring this at 400 rpm, 428.35 g of DMAc was added, and stirring was continued until the contents of the flask became a uniform solution. Subsequently, stirring was continued for another 3 hours while adjusting the temperature inside the container to be in the range of 20 to 30 ° C. using an oil bath, and the reaction was carried out to obtain a polyamic acid solution dispersed in a solvent.
[液晶ポリエステルの合成]
 攪拌装置、トルクメータ、窒素ガス導入管、温度計及び還流冷却器を備えた反応器に、6-ヒドロキシ-2-ナフトエ酸 940.9g、N-アセチル-4-アミノフェノール 377.9g、イソフタル酸 415.3g及び無水酢酸 867.8gを入れ、反応器内のガスを窒素ガスで置換した後、窒素ガス気流下、撹拌しながら、室温から140℃まで60分かけて昇温し、140℃で3時間還流させた。次いで、副生酢酸及び未反応の無水酢酸を留去しながら、150℃から300℃まで5時間かけて昇温し、300℃で30分保持した後、反応器から内容物を取り出し、室温まで冷却した。得られた固形物を、粉砕機で粉砕して、粉末状の液晶ポリエステル(L1)を得た。
 液晶ポリエステル(L1)を、窒素雰囲気下、室温から160℃まで2時間20分かけて昇温し、次いで160℃から180℃まで3時間20分かけて昇温し、180℃で5時間保持することにより、固相重合させた後、冷却し、次いで、粉砕機で粉砕して、粉末状の液晶ポリエステル(L2)を得た。
 液晶ポリエステル(L2)を窒素雰囲気下、室温から180℃まで1時間25分かけて昇温し、次いで180℃から255℃まで6時間40分かけて昇温し、255℃で5時間保持することにより、固相重合させた後、冷却して、粉末状の液晶ポリエステル(L)を得た。得られた液晶ポリエステル(L)のδDは20.9MPa0.5であり、δPは8.3MPa0.5であり、δHは4.7MPa0.5であった。また、該液晶ポリエステルのMwは180,000あり、Tgは190℃であった。
 液晶ポリエステル(L) 8質量部を、NMP 92質量部に加え、窒素雰囲気下、140℃で4時間攪拌して、液晶ポリエステル溶液を調製した。
[Synthesis of liquid crystal polyester]
Reactor equipped with stirrer, torque meter, nitrogen gas introduction tube, thermometer and reflux condenser, 6-hydroxy-2-naphthoic acid 940.9 g, N-acetyl-4-aminophenol 377.9 g, isophthalic acid After adding 415.3 g and 867.8 g of anhydrous acetic acid and replacing the gas in the reactor with nitrogen gas, the temperature was raised from room temperature to 140 ° C. over 60 minutes with stirring under a nitrogen gas stream at 140 ° C. It was refluxed for 3 hours. Then, while distilling off by-product acetic acid and unreacted acetic anhydride, the temperature was raised from 150 ° C. to 300 ° C. over 5 hours, held at 300 ° C. for 30 minutes, and then the contents were taken out from the reactor and brought to room temperature. Cooled. The obtained solid matter was pulverized with a pulverizer to obtain a powdery liquid crystal polyester (L1).
The liquid crystal polyester (L1) is heated from room temperature to 160 ° C. over 2 hours and 20 minutes under a nitrogen atmosphere, then heated from 160 ° C. to 180 ° C. over 3 hours and 20 minutes, and held at 180 ° C. for 5 hours. As a result, solid-phase polymerization was carried out, the mixture was cooled, and then the mixture was pulverized with a pulverizer to obtain a powdery liquid crystal polyester (L2).
The temperature of the liquid crystal polyester (L2) is raised from room temperature to 180 ° C. for 1 hour and 25 minutes under a nitrogen atmosphere, then the temperature is raised from 180 ° C. to 255 ° C. for 6 hours and 40 minutes, and the temperature is maintained at 255 ° C. for 5 hours. After solid-phase polymerization, the mixture was cooled to obtain a powdery liquid crystal polyester (L). The δD of the obtained liquid crystal polyester (L) was 20.9 MPa 0.5, the δP was 8.3 MPa 0.5 , and the δH was 4.7 MPa 0.5 . The liquid crystal polyester had a Mw of 180,000 and a Tg of 190 ° C.
8 parts by mass of liquid crystal polyester (L) was added to 92 parts by mass of NMP, and the mixture was stirred at 140 ° C. for 4 hours under a nitrogen atmosphere to prepare a liquid crystal polyester solution.
[実施例1]
 製造例1で得られたシクロオレフィンコポリマーをトルエン中に2質量%の濃度で溶解して、シクロオレフィンコポリマー溶液を得た。
 得られたシクロオレフィンコポリマー溶液 100.0gとGBL 98.0gとを混合し、50hPa、80℃で2時間減圧留去してトルエンを留去し、粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液を得た。得られた分散液のトルエン含有量は、GBL 100質量部に対して0.6質量部であった。上記方法にて測定した粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径は0.14μmであった。
 得られた分散液 30.0g(粒子状シクロオレフィンコポリマー 2.0質量%)に、上記で得られたポリイミド樹脂 1.2gを添加することで、ポリイミド-シクロオレフィンコポリマー混合溶液として、組成物を得た。得られた組成物において、粒子状シクロオレフィンコポリマーの含有量は、ポリイミド樹脂と粒子状シクロオレフィンコポリマーとの合計質量に対して33.3質量%であった。
 得られた組成物をガラス基板上において流涎成形し、線速0.4m/分で塗膜を成形した。70℃で60分、塗膜を加熱させ、ガラス基板からフィルムを剥離した後、金枠でフィルムを固定し更に200℃で1時間加熱することにより、厚さ50μmのポリイミド-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。得られた複合フィルム中の粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は0.16μmであった。また、得られた複合フィルムのCTEは47ppm/Kであり、フィルム表面の平滑性にも優れていた。
 実施例1で使用したシクロオレフィンコポリマーとポリイミド樹脂とのHSP値間距離は8.3であり、該シクロオレフィンコポリマーとトルエンとのHSP値間距離は2.1であり、該シクロオレフィンコポリマーとGBLとのHSP値間距離は14.9であり、ポリイミド樹脂とトルエンとのHSP値間距離は10.0であり、ポリイミド樹脂とGBLとのHSP値間距離は8.5であった。
 上記溶解性の評価方法により、シクロオレフィンコポリマーは、トルエンに溶解し、GBLに溶解しなかった。また、ポリイミド樹脂は、GBLに溶解し、トルエンに溶解しなかった。
[Example 1]
The cycloolefin copolymer obtained in Production Example 1 was dissolved in toluene at a concentration of 2% by mass to obtain a cycloolefin copolymer solution.
100.0 g of the obtained cycloolefin copolymer solution and 98.0 g of GBL were mixed and distilled off under reduced pressure at 50 hPa and 80 ° C. for 2 hours to distill off toluene to obtain a particulate cycloolefin copolymer dispersion. The toluene content of the obtained dispersion was 0.6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of GBL. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the particulate cycloolefin copolymer dispersion measured by the above method was 0.14 μm.
By adding 1.2 g of the polyimide resin obtained above to 30.0 g of the obtained dispersion (2.0% by mass of the particulate cycloolefin copolymer), a composition can be obtained as a polyimide-cycloolefin copolymer mixed solution. Obtained. In the obtained composition, the content of the particulate cycloolefin copolymer was 33.3% by mass with respect to the total mass of the polyimide resin and the particulate cycloolefin copolymer.
The obtained composition was salivated on a glass substrate, and a coating film was formed at a linear velocity of 0.4 m / min. The coating film is heated at 70 ° C. for 60 minutes, the film is peeled off from the glass substrate, the film is fixed with a metal frame, and the film is further heated at 200 ° C. for 1 hour to obtain a polyimide-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 50 μm. Got The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the obtained composite film was 0.16 μm. The CTE of the obtained composite film was 47 ppm / K, and the smoothness of the film surface was also excellent.
The distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and the polyimide resin used in Example 1 is 8.3, the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and toluene is 2.1, and the distance between the cycloolefin copolymer and GBP is 2.1. The distance between the HSP values was 14.9, the distance between the HSP values of the polyimide resin and toluene was 10.0, and the distance between the HSP values of the polyimide resin and GBL was 8.5.
By the above solubility evaluation method, the cycloolefin copolymer was dissolved in toluene and not in GBL. Further, the polyimide resin was dissolved in GBL and not in toluene.
[比較例1]
 実施例1と同様にしてシクロオレフィンコポリマー溶液を得た。
 得られたシクロオレフィンコポリマー溶液 100.0gとGBL 98.0gを混合し、100℃で20hPaまで段階な減圧留去し、強制循環式オーブン200℃にて乾燥することにより、トルエン及びGBLを除去し、シクロオレフィンコポリマー微粒子粉1を得た。上記方法により測定した分散液試料中の粒子状シクロオレフィンコポリマー1のメジアン径は20μmであった。
 シクロオレフィンコポリマー微粒子粉1 0.6gをGBL 29.4gに分散させた後、上記で得られたポリイミド樹脂 1.2gを添加することで、ポリイミド-シクロオレフィンコポリマー混合溶液として、組成物を得た。
 得られた組成物をガラス基板上において流涎成形により、線速0.4m/分で塗膜を成形した。70℃で60分、塗膜を加熱させ、ガラス基板からフィルムを剥離した後、金枠でフィルムを固定し更に200℃で1時間加熱することにより、厚さ50μmのポリイミド-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。得られた複合フィルム中の粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は22μmであった。
[Comparative Example 1]
A cycloolefin copolymer solution was obtained in the same manner as in Example 1.
Toluene and GBL were removed by mixing 100.0 g of the obtained cycloolefin copolymer solution and 98.0 g of GBL, distilling off the pressure at 100 ° C. to 20 hPa in a stepwise manner, and drying in a forced circulation oven at 200 ° C. , Cycloolefin copolymer fine particle powder 1 was obtained. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer 1 in the dispersion sample measured by the above method was 20 μm.
A composition was obtained as a polyimide-cycloolefin copolymer mixed solution by dispersing 10.6 g of cycloolefin copolymer fine particle powder in 29.4 g of GBL and then adding 1.2 g of the polyimide resin obtained above. ..
The obtained composition was subjected to salivation molding on a glass substrate to form a coating film at a linear speed of 0.4 m / min. The coating film is heated at 70 ° C. for 60 minutes, the film is peeled off from the glass substrate, the film is fixed with a metal frame, and the film is further heated at 200 ° C. for 1 hour to obtain a polyimide-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 50 μm. Got The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the obtained composite film was 22 μm.
[比較例2]
 上記方法により合成したシクロオレフィンコポリマーを乳鉢とすり棒にて粉砕し、目視で樹脂粒子の凝集部が無くなるようにして、シクロオレフィンコポリマー微粒子粉2を得た。上記方法により測定した分散液試料中の粒子状シクロオレフィンコポリマー2のメジアン径は24μmであった。
 シクロオレフィンコポリマー微粒子粉2を用いたこと以外は比較例1と同様にして、ポリイミド-シクロオレフィンコポリマー混合溶液としての組成物及び厚さ50μmのポリイミド-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。得られた複合フィルム中の粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は25μmであった。
[Comparative Example 2]
The cycloolefin copolymer synthesized by the above method was pulverized with a mortar and a mortar, and the agglomerated portion of the resin particles was visually eliminated to obtain a cycloolefin copolymer fine particle powder 2. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer 2 in the dispersion sample measured by the above method was 24 μm.
A composition as a polyimide-cycloolefin copolymer mixed solution and a polyimide-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 50 μm were obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the cycloolefin copolymer fine particle powder 2 was used. The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the obtained composite film was 25 μm.
[比較例3]
 上記方法により合成したシクロオレフィンコポリマーを乾式ボールミルにて20分間粉砕し、シクロオレフィンコポリマー微粒子粉3を得た。上記方法により測定した分散液試料中の粒子状シクロオレフィンコポリマー3のメジアン径は22μmであった。
 シクロオレフィンコポリマー微粒子粉3を用いたこと以外は比較例1と同様にして、ポリイミド-シクロオレフィンコポリマー混合溶液としての組成物及び厚さ50μmのポリイミド-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。得られた複合フィルム中の粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は25μmであった。
[Comparative Example 3]
The cycloolefin copolymer synthesized by the above method was pulverized with a dry ball mill for 20 minutes to obtain a cycloolefin copolymer fine particle powder 3. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer 3 in the dispersion sample measured by the above method was 22 μm.
A composition as a polyimide-cycloolefin copolymer mixed solution and a polyimide-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 50 μm were obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the cycloolefin copolymer fine particle powder 3 was used. The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the obtained composite film was 25 μm.
[実施例2]
 実施例1と同様にしてシクロオレフィンコポリマー溶液を得た。
 得られたシクロオレフィンコポリマー溶液 100.0gとDMAc 98.0gとを混合し、50hPa、80℃で2時間減圧留去して、トルエンを留去し、粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液を得た。得られた分散液のトルエン含有量は、DMAc 100質量部に対して0.6質量部であった。上記方法にて測定した粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径は0.14μmであった。
 得られた粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液30.0g(粒子状シクロオレフィンコポリマー 2.0質量%)にポリアミック酸溶液 6.6gを添加して、ポリアミック酸-シクロオレフィンコポリマー混合溶液として、組成物を得た。得られた組成物において、粒子状シクロオレフィンコポリマーの含有量は、ポリアミック酸と粒子状シクロオレフィンコポリマーとの合計質量に対して37.7質量%であった。
 得られた組成物をガラス基板上において流涎成形により、線速0.4m/分で塗膜を作製した。70℃で60分、塗膜を加熱させ、ガラス基板からポリアミック酸-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを剥離した後、金枠でフィルムを固定し更に大気下、360℃まで段階的に30分でポリアミック酸-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを加熱することにより、ポリアミック酸はイミド化され、厚さ25μmのポリイミド-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。
 複合フィルム中における粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は0.15μmであった。また、得られた複合フィルムのCTEは24ppm/Kであり、表面の平滑性にも優れていた。
 実施例2で使用したシクロオレフィンコポリマーとポリアミック酸とのHSP値間距離は6.0以上であり、該シクロオレフィンコポリマーとトルエンとのHSP値間距離は2.1であり、該シクロオレフィンコポリマーとDMAcとのHSP値間距離は11.5であった。また、実施例2で使用したシクロオレフィンコポリマーと、ポリアミック酸をイミド化して得られたポリイミド樹脂とのHSP値間距離は6.0以上であった。
 上記溶解性の評価方法により、実施例2で使用したシクロオレフィンコポリマーは、トルエンに溶解し、DMAcに溶解しなかった。実施例2で使用したポリアミック酸は、DMAcに溶解し、トルエンに溶解しなかった。
[Example 2]
A cycloolefin copolymer solution was obtained in the same manner as in Example 1.
100.0 g of the obtained cycloolefin copolymer solution and 98.0 g of DMAc were mixed and distilled off under reduced pressure at 50 hPa and 80 ° C. for 2 hours to distill off toluene to obtain a particulate cycloolefin copolymer dispersion. The toluene content of the obtained dispersion was 0.6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of DMAc. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the particulate cycloolefin copolymer dispersion measured by the above method was 0.14 μm.
6.6 g of a polyamic acid solution was added to 30.0 g of the obtained particulate cycloolefin copolymer dispersion (2.0% by mass of the particulate cycloolefin copolymer) to prepare a composition as a polyamic acid-cycloolefin copolymer mixed solution. Obtained. In the obtained composition, the content of the particulate cycloolefin copolymer was 37.7% by mass with respect to the total mass of the polyamic acid and the particulate cycloolefin copolymer.
The obtained composition was subjected to salivation molding on a glass substrate to prepare a coating film at a linear speed of 0.4 m / min. The coating film is heated at 70 ° C. for 60 minutes, the polyamic acid-cycloolefin copolymer composite film is peeled off from the glass substrate, the film is fixed with a metal frame, and the polyamic acid is gradually heated to 360 ° C. in 30 minutes. -By heating the cycloolefin copolymer composite film, the polyamic acid was imidized to obtain a polyimide-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 25 μm.
The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the composite film was 0.15 μm. The CTE of the obtained composite film was 24 ppm / K, and the surface smoothness was also excellent.
The distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and the polyamic acid used in Example 2 is 6.0 or more, the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and toluene is 2.1, and the distance between the cycloolefin copolymer and the cycloolefin copolymer is 2. The distance between the HSP values with DMAc was 11.5. Further, the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer used in Example 2 and the polyimide resin obtained by imidizing the polyamic acid was 6.0 or more.
According to the above solubility evaluation method, the cycloolefin copolymer used in Example 2 was dissolved in toluene and not in DMAc. The polyamic acid used in Example 2 was soluble in DMAc and not in toluene.
[実施例3]
 実施例1と同様にしてシクロオレフィンコポリマー溶液を得た。
 得られたシクロオレフィンコポリマー溶液 100.0gとNMP 98.0gとを混合し、50hPa、80℃で2時間減圧留去して、トルエンを留去し、粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液を得た。得られた分散液のトルエン含有量は、NMP 100質量部に対して0.6質量部であった。上記方法にて測定した粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径は0.14μmであった。
 得られた粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液30.0g(粒子状シクロオレフィンコポリマー 2.0質量%)に液晶ポリエステル溶液 17.5gを添加して、液晶ポリエステル-シクロオレフィンコポリマー混合溶液として、組成物を得た。得られた組成物において、粒子状シクロオレフィンコポリマーの含有量は、液晶ポリエステルと粒子状シクロオレフィンコポリマーとの合計質量に対して30.0質量%であった。
 得られた組成物を銅箔上において流涎成形により、線速0.4m/分で塗膜を作製した。60℃で4時間、塗膜を加熱させ、銅箔と液晶ポリエステル前駆体-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムとを有する積層体を得た後、金枠で前記積層体を固定し更に窒素雰囲気下、310℃で4時間、前記積層体を加熱することにより、銅箔と液晶ポリエステル-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムとを有する積層体を得た。得られた前記積層体を第二塩化鉄溶液に10分間浸漬させ銅箔をエッチング除去することで、厚さ30μmの液晶ポリエステル-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。
 複合フィルム中における粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は0.17μmであった。また、得られた複合フィルムのCTEは47ppm/Kであり、表面の平滑性にも優れていた。
 実施例3で使用したシクロオレフィンコポリマーと液晶ポリエステルとのHSP値間距離は8.9であり、該シクロオレフィンコポリマーとトルエンとのHSP値間距離は2.1であり、該シクロオレフィンコポリマーとNMPとのHSP値間距離は11.3であり、液晶ポリエステルとトルエンとのHSP値間距離は9.4であり、液晶ポリエステルとNMPとのHSP値間距離は7.5であった。
 上記溶解性の評価方法により、実施例3で使用したシクロオレフィンコポリマーは、トルエンに溶解し、NMPに溶解しなかった。実施例3で使用した液晶ポリエステルは、NMPに溶解し、トルエンに溶解しなかった。
[Example 3]
A cycloolefin copolymer solution was obtained in the same manner as in Example 1.
100.0 g of the obtained cycloolefin copolymer solution and 98.0 g of NMP were mixed and distilled off under reduced pressure at 50 hPa and 80 ° C. for 2 hours to distill off toluene to obtain a particulate cycloolefin copolymer dispersion. The toluene content of the obtained dispersion was 0.6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of NMP. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the particulate cycloolefin copolymer dispersion measured by the above method was 0.14 μm.
To 30.0 g of the obtained particulate cycloolefin copolymer dispersion (2.0% by mass of the particulate cycloolefin copolymer), 17.5 g of a liquid crystal polyester solution was added to prepare a composition as a liquid crystal polyester-cycloolefin copolymer mixed solution. Obtained. In the obtained composition, the content of the particulate cycloolefin copolymer was 30.0% by mass with respect to the total mass of the liquid crystal polyester and the particulate cycloolefin copolymer.
The obtained composition was subjected to salivation molding on a copper foil to prepare a coating film at a linear speed of 0.4 m / min. The coating film was heated at 60 ° C. for 4 hours to obtain a laminate having a copper foil and a liquid crystal polyester precursor-cycloolefin copolymer composite film, and then the laminate was fixed with a metal frame and further under a nitrogen atmosphere, 310. By heating the laminate at ° C. for 4 hours, a laminate having a copper foil and a liquid crystal polyester-cycloolefin copolymer composite film was obtained. The obtained laminate was immersed in a ferric chloride solution for 10 minutes to remove the copper foil by etching to obtain a liquid crystal polyester-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 30 μm.
The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the composite film was 0.17 μm. The CTE of the obtained composite film was 47 ppm / K, and the surface smoothness was also excellent.
The distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and the liquid crystal polyester used in Example 3 is 8.9, the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and toluene is 2.1, and the distance between the cycloolefin copolymer and NMP is 2.1. The distance between the HSP values was 11.3, the distance between the HSP values of the liquid crystal polyester and toluene was 9.4, and the distance between the HSP values of the liquid crystal polyester and NMP was 7.5.
According to the above solubility evaluation method, the cycloolefin copolymer used in Example 3 was dissolved in toluene and not in NMP. The liquid crystal polyester used in Example 3 was dissolved in NMP and not in toluene.
[比較例4]
 比較例1と同様にして、シクロオレフィンコポリマー微粒子粉1を得た。上記方法により測定した分散液試料中の粒子状シクロオレフィンコポリマー1のメジアン径は20μmであった。
 シクロオレフィンコポリマー微粒子粉 1gをNMP 49gに分散させた後、上記で得られた液晶ポリエステル溶液に28.7g添加することで、液晶ポリエステル-シクロオレフィンコポリマー混合溶液として、組成物を得た。得られた組成物において、粒子状シクロオレフィンコポリマーの含有量は、液晶ポリエステルと粒子状シクロオレフィンコポリマーとの合計質量に対して30.0質量%であった。
 得られた組成物を銅箔上において流涎成形により、線速0.4m/分で塗膜を作製した。60℃で4時間、塗膜を加熱させ、銅箔と液晶ポリエステル前駆体-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムとを有する積層体を得た後、金枠で前記積層体を固定し更に窒素雰囲気下、310℃で4時間、前記積層体を加熱することにより、銅箔と液晶ポリエステル-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムとを有する積層体を得た。得られた前記積層体を第二塩化鉄溶液に10分間浸漬させ銅箔をエッチング除去することで、厚さ30μmの液晶ポリエステル-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。
 複合フィルム中の粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は23μmであった。
[Comparative Example 4]
The cycloolefin copolymer fine particle powder 1 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer 1 in the dispersion sample measured by the above method was 20 μm.
After 1 g of cycloolefin copolymer fine particle powder was dispersed in 49 g of NMP, 28.7 g was added to the liquid polyester solution obtained above to obtain a composition as a liquid crystal polyester-cycloolefin copolymer mixed solution. In the obtained composition, the content of the particulate cycloolefin copolymer was 30.0% by mass with respect to the total mass of the liquid crystal polyester and the particulate cycloolefin copolymer.
The obtained composition was subjected to salivation molding on a copper foil to prepare a coating film at a linear speed of 0.4 m / min. The coating film was heated at 60 ° C. for 4 hours to obtain a laminate having a copper foil and a liquid crystal polyester precursor-cycloolefin copolymer composite film, and then the laminate was fixed with a metal frame and further under a nitrogen atmosphere, 310. By heating the laminate at ° C. for 4 hours, a laminate having a copper foil and a liquid crystal polyester-cycloolefin copolymer composite film was obtained. The obtained laminate was immersed in a ferric chloride solution for 10 minutes to remove the copper foil by etching to obtain a liquid crystal polyester-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 30 μm.
The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the composite film was 23 μm.
[実施例4]
 製造例2で得られたシクロオレフィンコポリマーをトルエン中に2質量%の濃度で溶解して、シクロオレフィンコポリマー溶液を得た。
 得られたシクロオレフィンコポリマー溶液 100.0gとDMAc 98.0gを混合し、50hPa、80℃で2時間減圧留去して、トルエンを留去し、粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液を得た。得られた分散液のトルエン含有量は、DMAc100質量部に対して0.6質量部であった。上記方法にて測定した粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液中の粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径は0.13μmであった。
 得られた粒子状シクロオレフィンコポリマー分散液30.0g(粒子状シクロオレフィンコポリマー 2.0質量%)にポリアミック酸溶液 8.0gを添加して、ポリアミック酸-シクロオレフィンコポリマー混合溶液として、組成物を得た。得られた組成物において、粒子状シクロオレフィンコポリマーの含有量は、ポリアミック酸と粒子状シクロオレフィンコポリマーとの合計質量に対して33.3質量%であった。
 得られた組成物をガラス基板上において流涎成形により、線速0.4m/分で塗膜を作製した。70℃で60分、塗膜を加熱させ、ガラス基板からポリアミック酸-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを剥離した後、金枠でフィルムを固定し更に窒素雰囲気下、360℃まで段階的に30分でポリアミック酸-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを加熱することにより、ポリアミック酸はイミド化され、厚さ30μmのポリイミド-シクロオレフィンコポリマー複合フィルムを得た。
 複合フィルム中における粒子状シクロオレフィンコポリマーの平均一次粒子径は0.15μmであった。また、得られた複合フィルムのCTEは21ppm/Kであり、表面の平滑性にも優れていた。
 実施例4で使用したシクロオレフィンコポリマーとポリアミック酸とのHSP値間距離は6.0以上であり、該シクロオレフィンコポリマーとトルエンとのHSP値間距離は2.1であり、該シクロオレフィンコポリマーとDMAcとのHSP値間距離は11.5であった。また、実施例4で使用したシクロオレフィンコポリマーと、ポリアミック酸をイミド化して得られたポリイミド樹脂とのHSP値間距離は6.0以上であった。
 上記溶解性の評価方法により、実施例4で使用したシクロオレフィンコポリマーは、トルエンに溶解し、DMAcに溶解しなかった。実施例4で使用したポリアミック酸は、DMAcに溶解し、トルエンに溶解しなかった。
[Example 4]
The cycloolefin copolymer obtained in Production Example 2 was dissolved in toluene at a concentration of 2% by mass to obtain a cycloolefin copolymer solution.
100.0 g of the obtained cycloolefin copolymer solution and 98.0 g of DMAc were mixed and distilled off under reduced pressure at 50 hPa and 80 ° C. for 2 hours to distill off toluene to obtain a particulate cycloolefin copolymer dispersion. The toluene content of the obtained dispersion was 0.6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of DMAc. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the particulate cycloolefin copolymer dispersion measured by the above method was 0.13 μm.
8.0 g of a polyamic acid solution was added to 30.0 g of the obtained particulate cycloolefin copolymer dispersion (2.0% by mass of the particulate cycloolefin copolymer) to prepare a composition as a polyamic acid-cycloolefin copolymer mixed solution. Obtained. In the obtained composition, the content of the particulate cycloolefin copolymer was 33.3% by mass with respect to the total mass of the polyamic acid and the particulate cycloolefin copolymer.
The obtained composition was subjected to salivation molding on a glass substrate to prepare a coating film at a linear speed of 0.4 m / min. The coating film is heated at 70 ° C. for 60 minutes, the polyamic acid-cycloolefin copolymer composite film is peeled off from the glass substrate, the film is fixed with a metal frame, and the polyamic acid is gradually increased to 360 ° C. in 30 minutes under a nitrogen atmosphere. By heating the acid-cycloolefin copolymer composite film, the polyamic acid was imidized to obtain a polyimide-cycloolefin copolymer composite film having a thickness of 30 μm.
The average primary particle size of the particulate cycloolefin copolymer in the composite film was 0.15 μm. The CTE of the obtained composite film was 21 ppm / K, and the surface smoothness was also excellent.
The distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and the polyamic acid used in Example 4 is 6.0 or more, and the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer and toluene is 2.1. The distance between the HSP values with DMAc was 11.5. Further, the distance between the HSP values of the cycloolefin copolymer used in Example 4 and the polyimide resin obtained by imidizing the polyamic acid was 6.0 or more.
According to the above solubility evaluation method, the cycloolefin copolymer used in Example 4 was dissolved in toluene and not in DMAc. The polyamic acid used in Example 4 was soluble in DMAc and not in toluene.
 実施例及び比較例において、粒子状シクロオレフィンコポリマーの分散液中のメジアン径及びフィルム中の平均一次粒子径を表4に示した。また、組成物調製に使用した樹脂(A)の種類、及び組成物調製時の微粒子の形態も表4に示した。なお、実施例及び比較例で得られた組成物中の粒子状シクロオレフィンコポリマーのメジアン径は、分散液中のメジアン径と同じであった。これは実施例及び比較例では粒子状シクロオレフィンコポリマーの粒子径に影響しない範囲の量で樹脂(A)を分散液に添加して組成物を形成したためである。 In Examples and Comparative Examples, Table 4 shows the median diameter in the dispersion liquid of the particulate cycloolefin copolymer and the average primary particle diameter in the film. Table 4 also shows the types of the resin (A) used for preparing the composition and the morphology of the fine particles at the time of preparing the composition. The median diameter of the particulate cycloolefin copolymer in the compositions obtained in Examples and Comparative Examples was the same as the median diameter in the dispersion liquid. This is because, in Examples and Comparative Examples, the resin (A) was added to the dispersion in an amount within a range not affecting the particle size of the particulate cycloolefin copolymer to form a composition.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
 表4に示されるように、実施例1~4で得られた粒子状シクロオレフィンコポリマーの分散液又は組成物中のメジアン径、及びフィルム中の平均一次粒子径は、比較例1~4と比べ、顕著に小さいことが確認された。 As shown in Table 4, the median diameter in the dispersion or composition of the particulate cycloolefin copolymers obtained in Examples 1 to 4 and the average primary particle diameter in the film are compared with those in Comparative Examples 1 to 4. , It was confirmed that it was remarkably small.

Claims (16)

  1.  樹脂(A)、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物の製造方法であって、
     シクロオレフィン系ポリマー(B)を第1溶媒に溶解させてシクロオレフィン系ポリマー(B)溶液を得る工程(1);
     該シクロオレフィン系ポリマー(B)溶液を第2溶媒に接触させた後、第1溶媒を留去して、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含む分散液を得る工程(2);及び
     該分散液に樹脂(A)を添加する工程(3)を含む、製造方法。
    A method for producing a composition containing a resin (A), a particulate cycloolefin polymer (B), and a solvent.
    Step (1) of dissolving a cycloolefin polymer (B) in a first solvent to obtain a cycloolefin polymer (B) solution;
    After contacting the cycloolefin polymer (B) solution with the second solvent, the first solvent is distilled off to obtain a dispersion liquid containing the particulate cycloolefin polymer (B) (2); A production method comprising a step (3) of adding a resin (A) to a dispersion liquid.
  2.  シクロオレフィン系ポリマー(B)の第1溶媒に対する溶解度は、シクロオレフィン系ポリマー(B)の第2溶媒に対する溶解度よりも大きい、請求項1に記載の製造方法。 The production method according to claim 1, wherein the solubility of the cycloolefin polymer (B) in the first solvent is larger than the solubility of the cycloolefin polymer (B) in the second solvent.
  3.  第2溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない溶媒である、請求項1又は2に記載の製造方法。 The production method according to claim 1 or 2, wherein the second solvent is a solvent in which the cycloolefin polymer (B) is insoluble.
  4.  第2溶媒とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は8.5以上である、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 3, wherein the distance between the HSP values of the second solvent and the cycloolefin polymer (B) is 8.5 or more.
  5.  第1溶媒とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は4.0以下である、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 4, wherein the distance between the HSP values of the first solvent and the cycloolefin polymer (B) is 4.0 or less.
  6.  樹脂(A)とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は6以上である、請求項1~5のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 5, wherein the distance between the HSP values of the resin (A) and the cycloolefin polymer (B) is 6 or more.
  7.  前記組成物は、該組成物に含まれる樹脂(A)と粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)との合計質量に対して5~50質量%の粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含む、請求項1~6のいずれかに記載の製造方法。 The composition contains 5 to 50% by mass of the particulate cycloolefin polymer (B) with respect to the total mass of the resin (A) and the particulate cycloolefin polymer (B) contained in the composition. The manufacturing method according to any one of claims 1 to 6.
  8.  前記シクロオレフィン系ポリマー(B)溶液は、該溶液の質量に対して0.01~20質量%のシクロオレフィン系ポリマー(B)を含む、請求項1~7のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 7, wherein the cycloolefin-based polymer (B) solution contains 0.01 to 20% by mass of the cycloolefin-based polymer (B) with respect to the mass of the solution.
  9.  シクロオレフィン系ポリマー(B)は、式(I):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    [式(I)中、mは0以上の整数を表し、R~R18は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1~20の炭化水素基を表し、R11~R14が複数存在する場合、それらは同一であってもよく、異なっていてもよく、R16とR17とは互いに結合し、それらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい]
    で表されるシクロオレフィン由来の単量体単位(I)を含む、請求項1~8のいずれかに記載の製造方法。
    The cycloolefin polymer (B) has the formula (I) :.
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    [In the formula (I), m represents an integer of 0 or more, R 7 to R 18 represent hydrogen atoms, halogen atoms or hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms independently of each other, and R 11 to R 14 If there are more than one, they may be the same or different, and R 16 and R 17 may bond to each other and form a ring with the carbon atoms they bond to.]
    The production method according to any one of claims 1 to 8, which comprises a monomer unit (I) derived from cycloolefin represented by.
  10.  前記分散液は、メジアン径が0.01~15μmの粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含む、請求項1~9のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 9, wherein the dispersion contains a particulate cycloolefin polymer (B) having a median diameter of 0.01 to 15 μm.
  11.  樹脂(A)のガラス転移温度は180℃以上である、請求項1~10のいずれかに記載の製造方法。 The production method according to any one of claims 1 to 10, wherein the glass transition temperature of the resin (A) is 180 ° C. or higher.
  12.  樹脂(A)は、ポリイミド系樹脂、液晶ポリマー、フッ素系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、及びマレイミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1つの樹脂である、請求項1~11のいずれかに記載の製造方法。 The resin (A) is any one of claims 1 to 11, wherein the resin (A) is at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin, a liquid crystal polymer, a fluororesin, an aromatic polyether resin, and a maleimide resin. The manufacturing method described in.
  13.  粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む分散液であって、
     該溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解する第1溶媒と、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない第2溶媒とを含み、
     粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)のメジアン径が0.01~15μmである、分散液。
    A dispersion liquid containing a particulate cycloolefin polymer (B) and a solvent.
    The solvent contains a first solvent in which the cycloolefin polymer (B) is dissolved and a second solvent in which the cycloolefin polymer (B) is not dissolved.
    A dispersion liquid in which the median diameter of the particulate cycloolefin polymer (B) is 0.01 to 15 μm.
  14.  樹脂(A)、粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)及び溶媒を含む組成物であって、
     該溶媒は、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解する第1溶媒と、シクロオレフィン系ポリマー(B)が溶解しない第2溶媒とを含み、
     粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)のメジアン径が0.01~15μmである、組成物。
    A composition comprising a resin (A), a particulate cycloolefin polymer (B), and a solvent.
    The solvent contains a first solvent in which the cycloolefin polymer (B) is dissolved and a second solvent in which the cycloolefin polymer (B) is not dissolved.
    A composition in which the median diameter of the particulate cycloolefin polymer (B) is 0.01 to 15 μm.
  15.  樹脂(A)及び粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)を含むフィルムであって、
     粒子状シクロオレフィン系ポリマー(B)の平均一次粒子径は15μm以下である、フィルム。
    A film containing the resin (A) and the particulate cycloolefin polymer (B).
    A film having an average primary particle size of 15 μm or less for the particulate cycloolefin polymer (B).
  16.  樹脂(A)とシクロオレフィン系ポリマー(B)とのHSP値間距離は6以上である、請求項15に記載のフィルム。 The film according to claim 15, wherein the distance between the HSP values of the resin (A) and the cycloolefin polymer (B) is 6 or more.
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