WO2022008173A1 - Water-guiding system and lithography apparatus - Google Patents

Water-guiding system and lithography apparatus Download PDF

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WO2022008173A1
WO2022008173A1 PCT/EP2021/065941 EP2021065941W WO2022008173A1 WO 2022008173 A1 WO2022008173 A1 WO 2022008173A1 EP 2021065941 W EP2021065941 W EP 2021065941W WO 2022008173 A1 WO2022008173 A1 WO 2022008173A1
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WO
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section
water
flange
wall
annular groove
Prior art date
Application number
PCT/EP2021/065941
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German (de)
French (fr)
Inventor
Jasmin Biehler
Christoph Mueller
Original Assignee
Carl Zeiss Smt Gmbh
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Publication date
Application filed by Carl Zeiss Smt Gmbh filed Critical Carl Zeiss Smt Gmbh
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
    • G03F7/70891—Temperature
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L23/00—Flanged joints
    • F16L23/16—Flanged joints characterised by the sealing means
    • F16L23/18—Flanged joints characterised by the sealing means the sealing means being rings
    • F16L23/22—Flanged joints characterised by the sealing means the sealing means being rings made exclusively of a material other than metal

Definitions

  • the present invention relates to a water-bearing system for a lithography plant and a lithography plant with such a water-bearing system.
  • Microlithography is used to produce microstructured components such as integrated circuits.
  • the microphotography process is carried out using a lithography system which has an illumination system and a projection system.
  • the image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by the projection system onto a substrate coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, for example a silicon wafer, in order to project the mask structure onto the light-sensitive coating of the to transfer substrate.
  • a lithography system which has an illumination system and a projection system.
  • the image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by the projection system onto a substrate coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, for example a silicon wafer, in order to project the mask structure onto the light-sensitive coating of the to transfer substrate.
  • a light-sensitive layer photoresist
  • EUV lithography systems (Engl .: extreme ultraviolet, EUV) are currently being developed, which light with a wavelength in the range from 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm, use.
  • EUV lithography systems because of the high absorption of most materials by light of this wavelength, reflective optics, ie mirrors, instead of--refractive optics, ie lenses, are used, as has been the case up to now.
  • coolers can are set, which are made of an ahrminium alloy.
  • a supply line for supplying cooling water to the cooler can be flanged to a cooler of this type.
  • Seals made of metal or plastic can be used between the cooler and the supply line.
  • O-rings can be used as seals.
  • water molecules that are already escaping, for example in the form of steam, can lead to vacuum collapses at at least 10 9 mbar.
  • Fully desalinated water can be used as the cooling water, but this can attack the materials used, in particular the aluminum alloy of the cooler. In addition, fully desalinated water can release ions from the materials it flows through and thus have a corrosion-promoting effect. If the corrosion products are now deposited on a flange surface of the cooler and on the seal, an unfavorable seal geometry, for example a seal with a circular or oval cross section, can result in the seal being infiltrated with the corrosion products and thus in a leaks in the cooling system.
  • seals with a circular or oval cross-section are particularly critical, where dead water zones can form.
  • narrow gaps filled with water and ions can form between the seal and the flange surface of the cooler.
  • annular seal in particular an O-ring, which only bears flat on the flange surface
  • a dead water zone can form in the form of a wedge-shaped gap.
  • Deposits are thermodynamically favored in such crevices, since there is less flow and, in addition, lower limit energies for the nucleation of precipitations have to be overcome.
  • If there are precipitates in the form of corrosion products they can undermine the seal and push it away.
  • the corrosion products take up a larger volume than the original material and may be slightly porous. This means that cooling water can ultimately escape from the water-carrying system, for example as molecules or, in the case of advanced corrosion, as drops. The water-carrying system then becomes leaky. This is to be avoided.
  • an object of the present invention is to provide an improved water-carrying system for a lithography system.
  • the water-carrying system includes a cooler, which includes a flange surface, a line for supplying cooling water to the cooler or for discharging cooling water from the cooler, the line having a flange portion which abuts the flange surface, and a seal do gs Device which comprises a disk-shaped axial compression section and a disk-shaped radial compression section, the axial compression section being compressed axially between the flange surface and the flange section in such a way that the axial compression section rests flat on the flange surface and on the flange section, wherein the flange section comprises a first annular groove in which the sealing device is accommodated, and wherein the sealing device is pressed radially in the first annular groove with the aid of the radial pressing section.
  • the water-carrying system is preferably a cooling system.
  • the water-carrying system can be a cooling system for a collector of an EUV light source.
  • the cooler is preferably made of an aluminum alloy.
  • the cooler can be called an aluminum cooler.
  • a large number of cooling channels are provided in the cooler, through which cooling water, in particular deionized water, flows in order to cool a component of the lithography system, for example the collector or other mechanical components that are required to ensure the functionality of the collector. to cool.
  • the line can be a supply line or a discharge line.
  • the cooler preferably has at least one supply line and one discharge line.
  • the conduit includes a tubular base portion to which the flange portion is molded or attached.
  • the line is rotationally symmetrical to a central or symmetrical axis.
  • the flange section runs around the axis of symmetry in the form of a disk.
  • the line and the flange section have a central opening through which the cooling water can be routed.
  • the sealing device is preferably elastic, in particular federelas table, deformable.
  • the sealing device can be made of a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber or other suitable material.
  • the fact that the axial compression section is "disk-shaped" means in the present case that the compression section has a flat and at the same time cylindrical geometry, which is broken through in the middle by an opening.
  • the axial compression section is preferably constructed rotationally symmetrically to a central or symmetrical axis of the sealing device. However, this is not absolutely necessary. a rotational However, the symmetrical design makes it easier to install the sealing device, since confusion can be ruled out (Poka Yoke principle).
  • the sealing device is associated with an axial direction oriented along the axis of symmetry and a radial direction oriented perpendicular to and away from the axis of symmetry.
  • the fact that the axial compression section bears "flatly" on the flange surface and on the flange section means in the present case that there is no punctiform or linear contact surface between the axial compression section and the flange surface or between the axial compression section and the flange section, but rather a disk-shaped contact surface .
  • the axial swage portion includes a first surface associated with the flange portion and a second surface associated with the flange surface, the first surface and the second surface being spaced apart and parallel to each other.
  • the first surface "associating" with the flange portion means that the first surface abuts the flange portion.
  • the first surface and the second surface are positioned spaced apart from each other as viewed along the axial direction of the sealing device.
  • the first surface and the second surface each form a plane. These two levels are placed parallel to each other.
  • the axial compression section has a central opening through which the cooling water passes.
  • the central breakthrough is preferably cylindrical.
  • the breakthrough completely breaches the sealing device.
  • the opening is rotationally symmetrical to the axis of symmetry of the sealing device. However, this is not absolutely necessary.
  • the opening can also have a polygonal geometry. The cooling water can flow through the opening.
  • the flange section includes a first annular groove in which the sealing device is accommodated, the sealing device including a disk-shaped radial compression section, and the sealing device being compressed radially in the first annular groove with the aid of the radial compression section.
  • the sealing device is pressed between two cylindrical walls of the first annular groove.
  • the axial compression section rests on a first wall and the radial compression section on a second wall.
  • the radial compression section does not contact the flange surface of the cooler.
  • the first annular groove comprises a cylindrical first wall and a second wall spaced radially from the first wall, the axial compression section bearing against the first wall, and the radial compression section bearing on the second wall in order to To compress sealing device in the first annular groove radially.
  • the sealing device is thus arranged between the first wall and the second wall. Viewed along the radial direction, the sealing device is elastically, in particular resiliently, deformed, so that it is jammed in the first annular groove.
  • the first annular groove comprises an ERS ⁇ te wall connecting the second wall third wall which is oriented parallel to the flange, wherein the sealing device anhegt to the first wall to the second wall and the third wall.
  • the axial compression section preferably bears against the first wall and the third wall.
  • the radial pressing section on the other hand, is only in contact with the second wall.
  • the radial compression section preferably does not contact the third wall.
  • the radial compression section rests exclusively on the second wall.
  • the radial clench portion has no contact with the flange surface of the radiator or to the third wall of the first annular groove of the flan ⁇ schabitess on.
  • the clench portion comprises axial viewed along an axial direction has a greater thickness than the radial Ver ⁇ pressing portion.
  • the radial clench is, as the axial clench portion, ⁇ slices shaped and rotates completely around the axial clench.
  • the radial clench is ent ⁇ long the axial direction at the axial center considered to clench ⁇ sorted.
  • the sealing device is constructed mirror-symmetrically to a plane running centrally through the sealing device, viewed along the axial direction.
  • At least one ventilation section is provided on the radial compression section, which completely breaks through the radial compression section.
  • the vent cutout can have a semi-circular geometry, for example. However, the vent cutout can have any shape or geometry. With the aid of the ventilation section, it is possible to completely ventilate the first annular groove or to apply a vacuum. Any number of ventilation cutouts can be provided, which are preferably distributed uniformly around a circumference of the radial compression section. For example, two, three, four, five or six such vent cutouts are provided.
  • the ventilation cutouts can also be formed as bores breaking through the radial compression section.
  • the flange section includes a second annular groove in which a sealing element, in particular an O-ring, a flat seal or a seal with a square or x-shaped cross section, is accommodated, the sealing element being axially pressed between the flange surface and the flange section .
  • a sealing element in particular an O-ring, a flat seal or a seal with a square or x-shaped cross section
  • a linear contact is provided between the sealing element and the flange surface or between the sealing element and the flange section.
  • the sealing element is arranged after the sealing device, so that the Sealing element with the help of you do gs device is shielded from the cooling water.
  • the second annular groove and the first annular groove are arranged such that the second annular groove rotates ⁇ forth around the first annular groove.
  • the second annular groove can encircle the first annular groove in any desired shape.
  • the annular grooves do not have a ring mig especially in the special case nikför ⁇ , umfact signed.
  • the first annular groove could have a ring shape
  • the second annular groove has a square shape, for example with from ⁇ rounded corners.
  • the first annular groove is so bezüghch the radial direction tet betrach ⁇ disposed within the second annular groove.
  • the sealing device is constructed Rotati ⁇ onssymmetrisch to a symmetry axis.
  • the sealing device is a one-piece ⁇ , in particular a centrein Divisioniges, component.
  • “In one piece” or “in one piece” means in the present case in particular that the axial compression section and the radial compression section form a common component and are not composed of different components.
  • “Ma ⁇ terialein Workshopig” means herein that the sealing device Runaway ⁇ is based, formed from the same material, for example, a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber, or the like. Furthermore, a lithography system with such a water-carrying system is proposed.
  • the water-bearing system can be, for example a collector ⁇ tors of an EUV light source of the lithography system, a cooling system.
  • the Lithographieanla ⁇ ge can be a EUV lithography apparatus or DUV lithography system.
  • EUV stands for "Extreme Ultraviolet” and denotes a wavelength of Ar ⁇ beitslicht between 0.1 nm and 30 nm.
  • DUV stands for "Deep Ultraviolet” and denotes a wavelength of Schwarz between 30 nm and 250 nm.
  • the lithography system can carry several such water Systems include ⁇ sen.
  • More möghche implementations of the invention include non-combinations ex ⁇ plicitly mentioned previously or below the off ⁇ bezüghch exemplary embodiments or features of the described embodiments.
  • the person skilled in the art will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention. Further advantageous refinements and aspects of the invention are the subject matter of the dependent claims and of the exemplary embodiments of the invention described below. The invention is explained in more detail below on the basis of preferred embodiments with reference to the attached figures.
  • FIG. 1A shows a schematic view of an embodiment of an EUV lithography system
  • FIG. 1B shows a schematic view of an embodiment of a DUV lithography system
  • FIG. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a water-carrying system for the lithography system according to FIG. 1A or 1B;
  • FIG. 3 shows the detailed view III according to FIG. 2;
  • FIG. 4 shows a schematic top view of an embodiment of a sealing device for the water-conducting system according to FIG. 2;
  • Fig. 5 shows a schematic sectional view of the sealing device according to section line V-V of Fig. 4.
  • FIG. 1A is a schematic view of an EUV lithography apparatus 100A, which includes a beam shaping ungs- and illumination system 102 and a projection system 104 ⁇ .
  • EUV stands for "extreme ultraviolet” (Engl .: ext ⁇ reme ultraviolet, EUV), and denotes a wavelength of the Ulhchts Zvi ⁇ rule 0.1 nm and 30 nm.
  • the beam shaping and illumination system 102 and projection system 104 are each in a vacuum housing, not shown, is provided, with each vacuum housing being evacuated using an evacuation device, not shown.
  • the vacuum enclosures are surrounded by a non-illustrated machine room, in which the drive ⁇ elements for mechanical process, or adjusting optical elements are provided. Furthermore, electric Steue ⁇ can stanchions and the like can be provided in this engine room.
  • the EUV lithography system 100A has an EUV light source 106A.
  • EUV light source 106A may, for example, a plasma source (or Syn ⁇ chrotron) be provided, which radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), so nm, for example, in the wavelength range of 5 nm to 30 which emits.
  • the EUV radiation 108A is collimated and the desired operating wavelength is filtered out of the EUV radiation 108A.
  • the generated by the EUV light source 106A EUV radiation 108A has a relatively low transmissivity by air, which is why the beam guide spaces in the beam forming and ⁇ illumination system and the projection system 104 ated evaku ⁇ 102nd
  • the beam shaping and illumination system 102 shown in FIG. 1A has five mirrors 110,112,114,116,118. After passing through the beam shaping and illumination system 102 , the EUV radiation 108A is directed onto a photomask (reticle) 120 .
  • the photomask 120 is also ⁇ if formed as a reflective optical element and can outside of the system tems 102, 104 can be arranged. Furthermore, the EUV radiation 108A can be directed onto the photomask 120 by means of a mirror 122 .
  • the photomask 120 has a structure which ver means of the projection system 104 onto a wafer 124 ⁇ réellet or the like is imaged.
  • the projection system 104 (also referred to as a projection objective) has six mirrors M1 to M6 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124.
  • individual mirrors Ml may be arranged to an optical axis 126 of projection system 104 is ⁇ symmetrically to M6 of the projection system 104th
  • the number of the mirrors Ml to M6 of the EUV lithography apparatus 100A not be shown to the number ⁇ limits. More or fewer mirrors M1 to M6 can also be provided.
  • the mirrors M1 to M6 are usually curved on their front side for beam shaping.
  • Fig. 1B is a schematic view of a DUV lithography system 100B which includes a beam shaping ungs- and illumination system 102 and a projection system 104 ⁇ .
  • DUV stands for "deep ultraviolet” (DUV) and designates a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm.
  • the beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 can - as already with reference to Fig be ben of a machine room with appropriate propulsion devices ⁇ vice - described. 1A.
  • the DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B.
  • a DUV light source 106B an ArF excimer laser can be provided, for example, which radiation 108B in the DUV range, for example at 193 nm emit ⁇ advantage.
  • the beam shaping and illumination system 102 shown in FIG. 1B guides the DUV radiation 108B onto a photomask 120.
  • the photomask 120 is designed as a transmissive optical element and can be arranged outside of the systems 102, 104.
  • the photomask 120 has a structure which is reduced by means of the projection system 104 onto a wafer 124 or the same ⁇ imaged.
  • the projection system 104 has a plurality of lenses 128 and/or mirrors 130 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124 .
  • individual lenses 128 and/or mirrors 130 of the projection system 104 can be arranged symmetrically to an optical axis 126 of the projection system 104 .
  • the number of lenses 128 and 130 levels of DUV lithography tool 100B is not limited to the number shown. More or fewer lenses 128 and/or mirrors 130 can also be provided.
  • the mirrors 130 are typically curved on their front side for beam shaping.
  • An air gap between the last lens 128 and the wafer 124 may be replaced by a liquid medium 132, which has a refractive index> 1 to ⁇ .
  • the liquid medium 132 can be, for example, ultrapure water.
  • Such a structure is also referred to as immersion lithography and has an increased photolithographic resolution.
  • the medium 132 can also be referred to as an immersion liquid.
  • FIG. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a water-carrying system 200 for an EUV lithography system 100A or for a DUV lithography system 100B.
  • FIG. 3 shows the detailed view III according to FIG. 2.
  • the water-carrying system 200 can be a cooling system which is suitable for cooling any components of the EUV lithography system 100A or of the DUV lithography system 100B.
  • the water-carrying system 200 can be, for example, a cooling system of a collector of an EUV light source 106A as mentioned above.
  • the water-carrying system 200 includes a cooler 202, which is made of an aluminum alloy minium. However, the cooler 202 can also be made of stainless steel, copper or any other suitable material.
  • the cooler 202 has a multiplicity of cooling channels 204, only one of which is shown in FIG. Cooling water 206 circulates in the cooling channels 204, in particular deionized water.
  • the cooling channel 204 shown in FIG. 2 is rotationally symmetrical to a central or symmetrical axis 208 .
  • a flange surface 210 is provided on the cooler 202 .
  • the flange surface 210 can be, for example, a ground surface of the cooler 202 with a defined surface roughness.
  • the flange surface 210 can encircle the axis of symmetry 208 in an annular manner.
  • the water-carrying system 200 has a line 212 .
  • the line 212 may be a supply line for supplying the cooling water 206 to the radiator 202 or a discharge line for discharging the cooling water 206 from the radiator 202 .
  • the line 212 includes a tubular base section 214 and a plate-shaped or disk-shaped flange portion 216, the section on the base 214 is formed.
  • the flange portion 216 may have any shape.
  • the flange portion 216 can also be oval or polygonal, for example.
  • the flange section 216 can be rotationally symmetrical to the axis of symmetry 208 . However, the flange section 216 can also be constructed asymmetrically.
  • the base from section 214 and the flange portion 216 can be integral, in particular special one-piece material, be connected to each other. However, this is not mandatory. "In one piece” or “in one piece” means here that the base section 214 and the flange section 216 form a common component and are not composed of different components. "One piece of material” means here that the base section 214 and the flange section 216 are made of the same material throughout.
  • the conduit 212 can be made of stainless steel. However, the base section 214 and the flange section 216 can also be two separate components which are welded to one another, for example.
  • the flange portion 216 is pressed against the flange surface 210 of the cooler 202 ge.
  • a screw connection (not shown) can be provided, which presses the flange section 216 against the flange surface 210 .
  • the flange section 216 comprises a flange surface 218 which, for example, runs annularly around the axis of symmetry 208 and rests against the flange surface 210 .
  • the flange surface 218 can be a ground surface with a defined surface roughness.
  • a first annular groove 220 which is open in the direction of the flange surface 210 and runs around the axis of symmetry 208 in a rotationally symmetrical manner, is provided on the flange section 216 . Starting from the axis of symmetry 208 , the first annular groove 220 extends in a radial direction R into the flange section 216 .
  • the first annular groove 220 includes a first wall 222 which cylin derform around the axis of symmetry 208 runs around. The first wall 222 is placed along an axial direction A oriented along the axis of symmetry 208 as viewed spaced from the flange surface 210 .
  • the first annular groove 220 also includes a second wall 224, which is also cylindrical.
  • the second wall 224 is also placed at a distance from the flange surface 210 when viewed in the axial direction A.
  • the second wall 224 is placed further away from the axis of symmetry 208 than the first wall 222.
  • the walls 222, 224 are connected to one another by means of a third wall 226 extending along the radial direction R.
  • the third wall 226 is disk-shaped, for example, and is oriented parahelically to the flange surfaces 210, 218. However, the third wall 226 can have any geometry.
  • the flange section 216 includes a second annular groove 228.
  • the second annular groove 228 is arranged further away from the axis of symmetry 208 than the first annular groove 220 viewed in the radial direction R.
  • the second annular groove 228 thus runs around the first annular groove 220.
  • the second annular groove 228 includes a zy-cylindrical first wall 230 and a cylindrical second wall 232, which run completely around the axis of symmetry 208.
  • the cylindrical second wall 232 is arranged at a greater distance from the axis of symmetry 208 than the first wall 230, viewed along the radial direction R R extends in the direction of the second wall 232, connected to each other.
  • the walls 224 , 230 are provided on a rib 236 that runs annularly around the axis of symmetry 208 .
  • the rib 236 does not contact the flange surface 210 .
  • the rib 236 separates the first annular groove 220 from the second annular groove 228.
  • the first wall 222 is provided on a ring-shaped rieachse 208 around the symmetry rib 238 is provided.
  • the rib 238 does not contact the flange surface 210 and is spaced along the axial direction A therefrom.
  • a fluid-tight seal is required between the flange portion 216 and the flange face 210 .
  • Examples of such a seal can be screw connections with seals made of metal or plastic.
  • O-rings, flat seals or seals with an x-shaped cross section can be used as seals.
  • special attention must be paid to the seal due to the high vacuum requirements.
  • the water-carrying system 200 does not drip, but water molecules that are already escaping, for example in the form of steam, can lead to vacuum collapses at 10 6 to 10 11 mbar.
  • the cooling water 206 used is deionized water, which can attack the materials used, in particular the aluminum alloy of the cooler 202 .
  • fully desalinated water can release ions from the materials it flows through and thus have a corrosion-promoting effect. If corrosion products are now deposited on the flange surface 210 and the seal, a leak in the water-carrying system 200 can occur if the seal has an unfavorable geometry, for example if it is ring-shaped.
  • seals are critical, in particular seals with a circular cross-section, where dead water zones can form.
  • narrow gaps can form between the seal and the flange surface 210, which are filled with water and ions.
  • an annular seal in particular an O-ring, which only bears linearly against the flange surface 210, a dead water zone can form in the form of a wedge-shaped gap.
  • the EUV radiation 108A is collected and prepared by the collector for projection.
  • For heat removal cooling water 206 through the cooler 202 and further components of the KoUektors ⁇ mechanism that can and below a support structure located above, performed. Between the line 212 and the flange 210 are spent as a seal to be ver ⁇ ⁇ powered internal knowledge of the applicant, two O rings.
  • a sealing element 240 is accommodated in the second annular groove 228 .
  • the sealing element 240 can be an O-ring or have any other desired geometry.
  • the sealing element 240 is pressed between the flange surface 210 and the third wall 234 of the second annular groove 228 .
  • the improved sealing concept includes a sealing device 300 accommodated in the first annular groove 220.
  • the sealing device 300 is on the one hand in the axial direction A between the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220 and on the other hand in the radial direction R between the walls 222, 224 of the first annular groove 220 is pressed.
  • a gap 242 is provided between the sealing element 240 and the sealing device 300 .
  • Fig. 4 shows a schematic plan view of an embodiment of a sealing device 300 as mentioned above.
  • Fig. 5 shows a schematic sectional view of the sealing device 300 according to section line V-V of Fig. 4 hereinafter reference is made to Figs. 4 and 5 simultaneously.
  • the sealing device 300 is disk-shaped and constructed rotationally symmetrically to a central or symmetrical axis 302 .
  • the axis of symmetry 302 is arranged coaxially with the axis of symmetry 208 .
  • the sealing device 300 is a one-piece, in particular a one-piece material, construction part.
  • the sealing device 300 can be made of a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber or the like.
  • the sealing device 300 includes a disk-shaped axial compression section 304 which, in the installed state of the sealing device 300 , is compressed along the axial direction A between the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220 .
  • "Disc-shaped" is to be understood as meaning a flat cylindrical geometry.
  • the axial compression section 304 is elastically deformed.
  • the axial pressing section 304 includes a cylindrical opening 306 which is constructed rotationally symmetrically to the axis of symmetry 302 .
  • a diameter d306 of the opening preferably corresponds to a diameter of the cooling channel 204.
  • the cooling water 206 can flow through the opening 306.
  • the axial compression section 304 has a thickness t304 viewed along the axial direction A.
  • the axial compression section 304 also includes a diameter d304 that is larger than the diameter d306.
  • the axial compression section 304 comprises a first surface 308 running annularly around the axis of symmetry 302 and a second surface 310 running annularly around the axis of symmetry 302.
  • the surfaces 308, 310 are arranged parallel to one another. Viewed along the axial direction A, the surfaces 308, 310 are positioned spaced apart from each other.
  • the sealing device 300 includes a radial compression section 312.
  • the axial compression section 304 and the radial compression section 312 are formed in one piece, in particular in one piece of material.
  • the radial compression section 312 bears against the rib 236, in particular the second wall 224 of the rib 236. Since the axial compression section 304 rests against the first wall 222 , compression of the sealing device 300 along the radial direction R is possible with the aid of the radial compression section 312 . In this case, however, the radial compression section 312 rests neither on the flange surface 210 nor on the third wall 226 of the first annular groove 220 .
  • the radial swage section 312 includes a thickness t312 that is less than the thickness t304 of the axial swage section 304 .
  • the radial compression section 312 is positioned centrally on the axial compression section 304 . That is, the sealing device 300 is constructed mirror-symmetrical to a plane 314 . This leads to a poka yoke effect. That is, the sealing device 300 cannot be assembled incorrectly.
  • the radial compression section 312 has a diameter d312 that is larger than the diameter d304 of the axial compression section 304 .
  • the radial pressing section 312 comprises a first surface 316 running annularly around the axis of symmetry 302 and a second surface 318 running annularly around the axis of symmetry 302.
  • the surfaces 316, 318 are arranged parahelically to one another. Viewed along the axial direction A, the surfaces 316, 318 are positioned spaced apart from each other.
  • Vent cutouts 320 , 322 , 324 , 326 are provided on the edge of the radial compression section 312 .
  • the number of vent cutouts 320, 322 , 324 , 326 are provided on the edge of the radial compression section 312 .
  • vent cutout 320, 322, 324, 326 is arbitrary. For example, only one vent cutout 320, 322, 324, 326 may be provided. Two, three, four, five, six or more vent cutouts 320, 322, 324, 326 may also be provided.
  • the Ent ventilation cutouts 320, 322, 324, 326 break through the radial Verpressab section 312 along the axial direction A completely.
  • the vent cut- te 320, 322, 324, 326 have a semicircular geometry. However, the ventilation cutouts 320, 322, 324, 326 can have any geometry.
  • the sealing element 240 and the sealing device 300 are inserted or pressed into the annular grooves 220, 228 assigned to them. Since the sealing element 240 is attached to the second annular groove 228 on the outside.
  • the sealing device 300 is arranged between the walls 222, 224 of the first annular groove 220.
  • the sealing device 300 is pressed slightly between the walls 222, 224 in such a way that the sealing device 300 can no longer fall out of the first annular groove 220.
  • the flange section 216 of the line 212 is then pressed against the flange surface 210 of the cooler 202 .
  • a screw connection (not shown) can be provided between the flange section 216 and the cooler 202 .
  • the sealing element 240 is pressed along the axial direction A in such a way that the sealing element 240 rests essentially with a linear contact on the flange surface 210 and on the third wall 234 of the second annular groove 228 in a fluid-tight sealing manner .
  • the sealing device 300 is also compressed along the axial direction A.
  • FIG. Since the axial compression section 304 has the two parallel surfaces 308, 310 which abut the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220, there is a gap between the sealing device 300 and the flange surface 210 or the third wall 226 a surface contact is realized. This surface contact makes it more difficult for dead water zones to form and corrosion products to infiltrate the sealing device 300. sword.
  • the axial compression section 304 is compressed, it deviates slightly along the radial direction R. Since the radial compression section 312 is supported on the second wall 224 of the first annular groove, the sealing device 300 is also compressed radially.
  • annular grooves 220, 228, in particular provided between the sealing device 300 and the sealing member 240 Zvi ⁇ c region 242 is evacuated. Because the sealing device 300 has the ventilation cutouts 320, 322, 324, 326, the intermediate space 242 can be completely evacuated, so that no air pockets remain.

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Abstract

The invention relates to a water-guiding system (200), in particular a cooling system, for lithography apparatus (100A, 100B), comprising a cooler (202) having a flange surface (210), a line (212) for supplying cooling water (206) to the cooler (202) or for discharging cooling water (206) from the cooler (202), wherein the line (212) has a flange section (216) that is in contact with the flange surface (210), and a sealing device (300) having a disc-shaped axial pressing section (304) and a disc-shaped radial pressing section (312), wherein the axial pressing section (304) is pressed axially between the flange surface (210) and the flange section (216) in such a way that the axial pressing section (304) is in planar contact with the flange surface (210) and the flange section (216), wherein the flange section (216) has a first ring groove (220) in which the sealing device (300) is accommodated, and wherein the sealing device (300) is pressed radially in the first ring groove (220) using the radial pressing section (312).

Description

WASSERFÜHRENDES SYSTEM UND LITHOGRAPHIE ANLAGE WATER CONVEYING SYSTEM AND LITHOGRAPHY PLANT
Die vorliegende Erfindung betrifft ein wasserführendes System für eine Litho graphieanlage und eine Lithographieanlage mit einem derartigen wasserfüh renden System. The present invention relates to a water-bearing system for a lithography plant and a lithography plant with such a water-bearing system.
Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 10 2020 208 496.3 wird durch Bezug nahme vollumfänglich mit einbezogen (incorporation by reference). The content of the priority application DE 10 2020 208 496.3 is fully incorporated by reference.
Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrohthogra- phieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Be leuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Sub strat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Microlithography is used to produce microstructured components such as integrated circuits. The microphotography process is carried out using a lithography system which has an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by the projection system onto a substrate coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, for example a silicon wafer, in order to project the mask structure onto the light-sensitive coating of the to transfer substrate.
Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstel lung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, ein gesetzt werden. Driven by the pursuit of ever smaller structures in the production of integrated circuits, EUV lithography systems (Engl .: extreme ultraviolet, EUV) are currently being developed, which light with a wavelength in the range from 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm, use. In such EUV lithography systems, because of the high absorption of most materials by light of this wavelength, reflective optics, ie mirrors, instead of--refractive optics, ie lenses, are used, as has been the case up to now.
Zum Kühlen von Komponenten einer derartigen EUV-Lithographieanlage, wie beispielsweise einem Kollektor einer EUV-Lichtquelle, können Kühler einge- setzt werden, die aus einer Ahrminiumlegierung gefertigt sind. An einen derar tigen Kühler kann eine Zuleitung zum Zuleiten von Kühlwasser zu dem Kühler angeflanscht sein. Zwischen dem Kühler und der Zuleitung können Dichtungen aus Metall oder Kunststoff eingesetzt werden. Beispielsweise können ORinge als Dichtungen eingesetzt werden. Im EUV-Bereich ist aufgrund seiner hohen Vakuumanforderungen ein besonderes Augenmerk auf die Abdichtung zu le gen. Dabei ist zu beachten, dass bereits austretende Wassermoleküle, bei spielsweise in Form von Dampf, zu Vakuum einbrüchen bei mindestens 109 mbar führen können. To cool components of such an EUV lithography system, such as a collector of an EUV light source, coolers can are set, which are made of an ahrminium alloy. A supply line for supplying cooling water to the cooler can be flanged to a cooler of this type. Seals made of metal or plastic can be used between the cooler and the supply line. For example, O-rings can be used as seals. In the EUV area, due to the high vacuum requirements, particular attention must be paid to the seal. It should be noted that water molecules that are already escaping, for example in the form of steam, can lead to vacuum collapses at at least 10 9 mbar.
Als Kühlwasser kann vollentsalztes Wasser verwendet werden, welches jedoch die verwendeten Materialien, insbesondere die Aluminiumlegierung des Küh lers, angreifen kann. Zusätzlich kann vollentsalztes Wasser Ionen aus den durchflossenen Materialien herauslösen und wirkt damit korrosionsfördernd. Werden nun die Korrosionsprodukte an einer Flanschfläche des Kühlers und an der Dichtung abgelagert, so kann es bei einer ungünstigen Geometrie der Dich tung, beispielsweise bei einer Dichtung mit einem kreisförmigen oder ovalen Querschnitt, zu einer Unterwanderung der Dichtung mit den Korrosionspro dukten und damit zu einer Undichtigkeit des Kühlsystems kommen. Fully desalinated water can be used as the cooling water, but this can attack the materials used, in particular the aluminum alloy of the cooler. In addition, fully desalinated water can release ions from the materials it flows through and thus have a corrosion-promoting effect. If the corrosion products are now deposited on a flange surface of the cooler and on the seal, an unfavorable seal geometry, for example a seal with a circular or oval cross section, can result in the seal being infiltrated with the corrosion products and thus in a leaks in the cooling system.
Hinsichtlich einer Undichtigkeit kritisch sind insbesondere Dichtungen mit einem kreisförmigen oder ovalen Querschnitt, an denen sich Totwasserzonen bilden können. Hierbei können sich zwischen der Dichtung und der FlanschfLä- che des Kühlers schmale Spalte ausbilden, die mit Wasser und Ionen gefüllt sind. Im Falle der Verwendung einer ringförmigen Dichtung, insbesondere ei nes O -Rings, die nur hnienförmig an der Flanschfläche anliegt, kann sich so eine Totwasserzone in Form eines keilförmigen Spalts bilden. In solchen Spal ten sind Ablagerungen thermodynamisch bevorzugt, da es weniger Durchfluss gibt und zusätzhch geringere Grenzenergien zur Nukleation von Ausscheidun gen überwunden werden müssen. Liegen Ausscheidungen in Form von Korrosionsprodukten vor, können diese die Dichtung unterwandern und wegdrücken. Die Korrosionsprodukte nehmen dabei ein größeres Volumen als das ursprüngliche Material ein und sind gege benenfalls leicht porös. Somit kann letztlich Kühlwasser, beispielsweise als Mo leküle, oder bei fortgeschrittener Korrosion als Tropfen, aus dem wasserfüh renden System austreten. Das wasserführende System wird dann undicht. Dies gilt es zu vermeiden. In terms of leakage, seals with a circular or oval cross-section are particularly critical, where dead water zones can form. In this case, narrow gaps filled with water and ions can form between the seal and the flange surface of the cooler. If an annular seal is used, in particular an O-ring, which only bears flat on the flange surface, a dead water zone can form in the form of a wedge-shaped gap. Deposits are thermodynamically favored in such crevices, since there is less flow and, in addition, lower limit energies for the nucleation of precipitations have to be overcome. If there are precipitates in the form of corrosion products, they can undermine the seal and push it away. The corrosion products take up a larger volume than the original material and may be slightly porous. This means that cooling water can ultimately escape from the water-carrying system, for example as molecules or, in the case of advanced corrosion, as drops. The water-carrying system then becomes leaky. This is to be avoided.
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung da rin, ein verbessertes wasserführendes System für eine Lithographieanlage be reitzustellen. Against this background, an object of the present invention is to provide an improved water-carrying system for a lithography system.
Demgemäß wird ein wasserführendes System, insbesondere ein Kühlsystem, für eine Lithographieanlage vorgeschlagen. Das wasserführende System um fasst einen Kühler, welche eine Flanschfläche umfasst, eine Leitung zum Zu führen von Kühlwasser zu dem Kühler oder zum Abführen von Kühlwasser von dem Kühler, wobei die Leitung einen Flanschabschnitt aufweist, welcher an der Flanschfläche anliegt, und eine Dich tun gs Vorrichtung, welche einen scheiben förmigen axialen Verpressabschnitt und einen scheibenförmigen radialen Ver- pressabschnitt umfasst, wobei der axiale Verpressabschnitt derart axial zwi schen der Flanschfläche und dem Flanschabschnitt verpresst ist, dass der axia le Verpressabschnitt jeweils flächig an der Flanschfläche und an dem Flansch abschnitt anliegt, wobei der Flanschabschnitt eine erste Ringnut umfasst, in welcher die Dichtungsvorrichtung aufgenommen ist, und wobei die Dichtungs vorrichtung mit Hilfe des radialen Verpressabschnitts radial in der ersten Ringnut verpresst ist. Accordingly, a water-carrying system, in particular a cooling system, is proposed for a lithography system. The water-carrying system includes a cooler, which includes a flange surface, a line for supplying cooling water to the cooler or for discharging cooling water from the cooler, the line having a flange portion which abuts the flange surface, and a seal do gs Device which comprises a disk-shaped axial compression section and a disk-shaped radial compression section, the axial compression section being compressed axially between the flange surface and the flange section in such a way that the axial compression section rests flat on the flange surface and on the flange section, wherein the flange section comprises a first annular groove in which the sealing device is accommodated, and wherein the sealing device is pressed radially in the first annular groove with the aid of the radial pressing section.
Dadurch, dass der axiale Verpressabschnitt sowohl flächig an der Flanschfläche als auch flächig an dem Flanschabschnitt anliegt, wird die Bildung von Tot- wasserzonen im Kontaktbereich zwischen der Dichtungsvorrichtung und der Flanschfläche oder dem Flanschabschnitt zuverlässig verhindert. Undichtigkei ten an dem wasserführenden System werden somit vermieden. Due to the fact that the axial pressing section bears flat against the flange surface as well as flat against the flange section, the formation of dead reliably prevents water zones in the contact area between the sealing device and the flange surface or the flange section. Leaks in the water-carrying system are thus avoided.
Das wasserführende System ist bevorzugt ein Kühlsystem. Insbesondere kann das wasserführende System ein Kühlsystem eines Kollektors einer EUV- Lichtquelle sein. Der Kühler ist vorzugsweise aus einer Aluminiumlegierung gefertigt. Der Kühler kann als Aluminiumkühler bezeichnet werden. In dem Kühler ist eine Vielzahl an Kühlkanälen vorgesehen, welche mit Hilfe von Kühlwasser, insbesondere mit Hilfe von vollentsalztem Wasser, durchströmt werden, um ein Bauteil der Lithographieanlage, beispielsweise den Kollektor oder andere mechanische Bauteile, die zur Gewährleistung der Funktionalität des KoUektors benötigt werden, zu kühlen. Die Leitung kann eine Zuführlei tung oder eine Abführleitung sein. Bevorzugt weist der Kühler zumindest eine Zuführleitung und eine Abführleitung auf. Die Leitung umfasst einen rohrför migen Basis ab schnitt, an welchem der Flanschabschnitt angeformt oder ange bracht ist. Die Leitung ist rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmet rieachse aufgebaut. Der Flanschabschnitt läuft scheibenförmig um die Sym metrieachse um. Die Leitung und der Flanschabschnitt haben einen zentralen Durchbruch, durch den das Kühlwasser geführt werden kann. The water-carrying system is preferably a cooling system. In particular, the water-carrying system can be a cooling system for a collector of an EUV light source. The cooler is preferably made of an aluminum alloy. The cooler can be called an aluminum cooler. A large number of cooling channels are provided in the cooler, through which cooling water, in particular deionized water, flows in order to cool a component of the lithography system, for example the collector or other mechanical components that are required to ensure the functionality of the collector. to cool. The line can be a supply line or a discharge line. The cooler preferably has at least one supply line and one discharge line. The conduit includes a tubular base portion to which the flange portion is molded or attached. The line is rotationally symmetrical to a central or symmetrical axis. The flange section runs around the axis of symmetry in the form of a disk. The line and the flange section have a central opening through which the cooling water can be routed.
Die Dichtungsvorrichtung ist vorzugsweise elastisch, insbesondere federelas tisch, verformbar. Beispielsweise kann die Dichtungsvorrichtung aus einem Perfluorkautschuk, einem Silikonkautschuk, Gummi oder aus einem anderen geeigneten Material gefertigt sein. Dass der axiale Verpressabschnitt "schei benförmig" ist, bedeutet vorliegend, dass der Verpressabschnitt eine flache und gleichzeitig zyhnderförmige Geometrie aufweist, welche mittig von einem Durchbruch durchbrochen ist. Der axiale Verpressabschnitt ist vorzugsweise rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse der Dichtungsvor richtung aufgebaut. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderhch. Ein rotations- symmetrischer Aufbau erleichtert jedoch den Einbau der Dichtungs Vorrich tung, da eine Verwechslung ausgeschlossen werden kann (Poka Yoke Prinzip). The sealing device is preferably elastic, in particular federelas table, deformable. For example, the sealing device can be made of a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber or other suitable material. The fact that the axial compression section is "disk-shaped" means in the present case that the compression section has a flat and at the same time cylindrical geometry, which is broken through in the middle by an opening. The axial compression section is preferably constructed rotationally symmetrically to a central or symmetrical axis of the sealing device. However, this is not absolutely necessary. a rotational However, the symmetrical design makes it easier to install the sealing device, since confusion can be ruled out (Poka Yoke principle).
Vorzugsweise ist der Dichtungsvorrichtung eine Axialrichtung zugeordnet, die entlang der Symmetrieachse orientiert ist, und eine Radialrichtung, welche senkrecht zu der Symmetrieachse und von dieser weg orientiert ist. Dass der axiale Verpressabschnitt jeweils "flächig" an der Flanschfläche und an dem Flanschabschnitt anliegt, bedeutet vorhegend, dass zwischen dem axialen Ver pressabschnitt und der Flanschfläche oder zwischen dem axialen Verpressab schnitt und dem Flanschabschnitt keine punktförmige oder linienförmige, son dern eine scheibenförmige Kontaktfläche vorgesehen ist. Preferably, the sealing device is associated with an axial direction oriented along the axis of symmetry and a radial direction oriented perpendicular to and away from the axis of symmetry. The fact that the axial compression section bears "flatly" on the flange surface and on the flange section means in the present case that there is no punctiform or linear contact surface between the axial compression section and the flange surface or between the axial compression section and the flange section, but rather a disk-shaped contact surface .
Gemäß einer Ausführungsform umfasst der axiale Verpressabschnitt eine erste Oberfläche, welche dem Flanschabschnitt zugeordnet ist, und eine zweite Ober fläche, welche der Flanschfläche zugeordnet ist, wobei die erste Oberfläche und die zweite Oberfläche beabstandet voneinander und parallel zueinander ange ordnet sind. According to one embodiment, the axial swage portion includes a first surface associated with the flange portion and a second surface associated with the flange surface, the first surface and the second surface being spaced apart and parallel to each other.
Dass die erste Oberfläche dem Flanschabschnitt "zugeordnet" ist, bedeutet vor liegend, dass die erste Oberfläche an dem Flanschabschnitt anliegt. Analoges gilt für die zweite Oberfläche. Die erste Oberfläche und die zweite Oberfläche sind entlang der Axialrichtung der Dichtungsvorrichtung betrachtet voneinan der beabstandet positioniert. Dabei bilden die erste Oberfläche und die zweite Oberfläche jeweils eine Ebene aus. Diese beiden Ebenen sind parallel zueinan der platziert. As used herein, the first surface "associating" with the flange portion means that the first surface abuts the flange portion. The same applies to the second surface. The first surface and the second surface are positioned spaced apart from each other as viewed along the axial direction of the sealing device. The first surface and the second surface each form a plane. These two levels are placed parallel to each other.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist der axiale Verpressabschnitt einen zentralen Durchbruch auf, durch welchen das Kühlwasser hindurchtritt. Der zentrale Durchbruch ist vorzugsweise zylinderförmig. Der Durchbruch durchbricht die Dichtungs Vorrichtung vollständig. Der Durchbruch ist rotati onssymmetrisch zu der Symmetrieachse der Dichtungsvorrichtung aufgebaut. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderhch. Der Durchbruch kann auch eine vieleckige Geometrie aufweisen. Durch den Durchbruch hindurch kann das Kühlwasser strömen. According to a further embodiment, the axial compression section has a central opening through which the cooling water passes. The central breakthrough is preferably cylindrical. The breakthrough completely breaches the sealing device. The opening is rotationally symmetrical to the axis of symmetry of the sealing device. However, this is not absolutely necessary. The opening can also have a polygonal geometry. The cooling water can flow through the opening.
Der Flanschabschnitt umfasst eine erste Ringnut, in welcher die Dichtungsvor richtung aufgenommen ist, wobei die Dichtungsvorrichtung einen scheibenför migen radialen Verpressabschnitt umfasst, und wobei die Dichtungsvorrich- tung mit Hilfe des radialen Verpressabschnitts radial in der ersten Ringnut verpresst ist. The flange section includes a first annular groove in which the sealing device is accommodated, the sealing device including a disk-shaped radial compression section, and the sealing device being compressed radially in the first annular groove with the aid of the radial compression section.
Das heißt, die Dichtungsvorrichtung ist zwischen zwei zyhnderförmigen Wan dungen der ersten Ringnut verpresst. Dabei hegt an einer ersten Wandung der axiale Verpressabschnitt und an einer zweiten Wandung der radiale Verpress abschnitt an. Dabei kontaktiert der radiale Verpressabschnitt die Flanschflä che des Kühlers nicht. This means that the sealing device is pressed between two cylindrical walls of the first annular groove. The axial compression section rests on a first wall and the radial compression section on a second wall. The radial compression section does not contact the flange surface of the cooler.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die erste Ringnut eine zylin derförmige erste Wandung und eine radial von der ersten Wandung beab- standet angeordnete zweite Wandung, wobei der axiale Verpressabschnitt an der ersten Wandung anliegt, und wobei der radiale Verpressabschnitt an der zweiten Wandung anliegt, um die Dichtungsvorrichtung in der ersten Ringnut radial zu verpressen. According to a further embodiment, the first annular groove comprises a cylindrical first wall and a second wall spaced radially from the first wall, the axial compression section bearing against the first wall, and the radial compression section bearing on the second wall in order to To compress sealing device in the first annular groove radially.
Die Dichtungsvorrichtung ist somit zwischen der ersten Wandung und der zweiten Wandung angeordnet. Entlang der Radialrichtung betrachtet ist die Dichtungsvorrichtung elastisch, insbesondere federelastisch, verformt, so dass diese sich in der ersten Ringnut verklemmt. Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die erste Ringnut eine die ers¬ te Wandung mit der zweiten Wandung verbindende dritte Wandung, welche parallel zu der Flanschfläche orientiert ist, wobei die Dichtungsvorrichtung an der ersten Wandung, an der zweiten Wandung und an der dritten Wandung anhegt. The sealing device is thus arranged between the first wall and the second wall. Viewed along the radial direction, the sealing device is elastically, in particular resiliently, deformed, so that it is jammed in the first annular groove. According to a further embodiment, the first annular groove comprises an ERS ¬ te wall connecting the second wall third wall which is oriented parallel to the flange, wherein the sealing device anhegt to the first wall to the second wall and the third wall.
Vorzugsweise liegt der axiale Verpressabschnitt an der ersten Wandung und an der dritten Wandung an. Der radiale Verpressabschnitt hingegen liegt nur an der zweiten Wandung an. Der radiale Verpressabschnitt kontaktiert die dritte Wandung bevorzugt nicht. The axial compression section preferably bears against the first wall and the third wall. The radial pressing section, on the other hand, is only in contact with the second wall. The radial compression section preferably does not contact the third wall.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt der radiale Verpressabschnitt ausschließhch an der zweiten Wandung an. According to a further embodiment, the radial compression section rests exclusively on the second wall.
Das heißt, der radiale Verpressabschnitt weist keinen Kontakt mit der Flansch- fläche des Kühlers oder mit der dritten Wandung der ersten Ringnut des Flan¬ schabschnitts auf. That is, the radial clench portion has no contact with the flange surface of the radiator or to the third wall of the first annular groove of the flan ¬ schabschnitts on.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der axiale Verpressabschnitt entlang einer Axialrichtung betrachtet eine größere Dicke als der radiale Ver¬ pressabschnitt. According to a further embodiment of the clench portion comprises axial viewed along an axial direction has a greater thickness than the radial Ver ¬ pressing portion.
Der radiale Verpressabschnitt ist, wie der axiale Verpressabschnitt, scheiben¬ förmig und läuft um den axialen Verpressabschnitt vollständig um. The radial clench is, as the axial clench portion, ¬ slices shaped and rotates completely around the axial clench.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der radiale Verpressabschnitt ent¬ lang der Axialrichtung betrachtet mittig an dem axialen Verpressabschnitt an¬ geordnet. Das heißt, die Dichtungsvorrichtung ist spiegelsymmetrisch zu einer entlang der Axialrichtung betrachtet mittig durch die Dichtungsvorrichtung verlaufen den Ebene aufgebaut. According to a further embodiment, the radial clench is ent ¬ long the axial direction at the axial center considered to clench ¬ sorted. This means that the sealing device is constructed mirror-symmetrically to a plane running centrally through the sealing device, viewed along the axial direction.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist an dem radialen Verpressabschnitt zumindest ein Entlüftungsabschnitt vorgesehen, welcher den radialen Ver pressabschnitt vollständig durchbricht. According to a further embodiment, at least one ventilation section is provided on the radial compression section, which completely breaks through the radial compression section.
Der Entlüftungsausschnitt kann beispielsweise eine halbkreisförmige Geomet rie aufweisen. Der Entlüftungsausschnitt kann jedoch eine beliebige Form oder Geometrie aufweisen. Mit Hilfe des Entlüftungsabschnitts ist es möghch, die erste Ringnut vollständig zu entlüften oder mit einem Vakuum zu beaufschla gen. Es kann eine beliebige Anzahl an Entlüftungsausschnitten vorgesehen sein, die vorzugsweise gleichmäßig um einen Umfang des radialen Verpressab- schnitts verteilt angeordnet sind. Beispielsweise sind zwei, drei, vier, fünf oder sechs derartige Entlüftungsausschnitte vorgesehen. Die Entlüftungsausschnit te können auch als den radialen Verpressabschnitt durchbrechende Bohrungen ausgebildet sein. The vent cutout can have a semi-circular geometry, for example. However, the vent cutout can have any shape or geometry. With the aid of the ventilation section, it is possible to completely ventilate the first annular groove or to apply a vacuum. Any number of ventilation cutouts can be provided, which are preferably distributed uniformly around a circumference of the radial compression section. For example, two, three, four, five or six such vent cutouts are provided. The ventilation cutouts can also be formed as bores breaking through the radial compression section.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der Flanschabschnitt eine zweite Ringnut, in welcher ein Dichtungselement, insbesondere ein O-Ring, eine Flachdichtung oder eine Dichtung mit quadratischem oder x-förmigem Querschnitt, aufgenommen ist, wobei das Dichtungselement zwischen der Flanschfläche und dem Flanschabschnitt axial verpresst ist. According to a further embodiment, the flange section includes a second annular groove in which a sealing element, in particular an O-ring, a flat seal or a seal with a square or x-shaped cross section, is accommodated, the sealing element being axially pressed between the flange surface and the flange section .
Zwischen dem Dichtungselement und der Flanschfläche beziehungsweise zwi schen dem Dichtungselement und dem Flanschabschnitt ist jeweils ein linien förmiger Kontakt vorgesehen. Bezüglich der Radialrichtung betrachtet ist das Dichtungselement nach der Dichtungsvorrichtung angeordnet, so dass das Dichtungselement mit Hilfe der Dich tun gs Vorrichtung von dem Kühlwasser abgeschirmt ist. A linear contact is provided between the sealing element and the flange surface or between the sealing element and the flange section. With regard to the radial direction, the sealing element is arranged after the sealing device, so that the Sealing element with the help of you do gs device is shielded from the cooling water.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die zweite Ringnut und die erste Ringnut derart angeordnet, dass die zweite Ringnut um die erste Ringnut her¬ umläuft. According to a further embodiment, the second annular groove and the first annular groove are arranged such that the second annular groove rotates ¬ forth around the first annular groove.
Die zweite Ringnut kann die erste Ringnut in einer beliebigen Form umlaufen. Die Ringnuten müssen nicht ringförmig, insbesondere im Sonderfall kreisför¬ mig, umeinanderlaufen. Beispielsweise könnte die erste Ringnut eine Ringform haben und die zweite Ringnut eine quadratische Form, beispielsweise mit ab¬ gerundeten Ecken. Die erste Ringnut ist bezüghch der Radialrichtung betrach¬ tet also innerhalb der zweiten Ringnut angeordnet. The second annular groove can encircle the first annular groove in any desired shape. The annular grooves do not have a ring mig especially in the special case kreisför ¬, umeinanderlaufen. For example, the first annular groove could have a ring shape, and the second annular groove has a square shape, for example with from ¬ rounded corners. The first annular groove is so bezüghch the radial direction tet betrach ¬ disposed within the second annular groove.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Dichtungsvorrichtung rotati¬ onssymmetrisch zu einer Symmetrieachse aufgebaut. According to a further embodiment, the sealing device is constructed Rotati ¬ onssymmetrisch to a symmetry axis.
Durch diesen rotationssymmetrischen Aufbau kann eine Fehlmontage der Dichtungsvorrichtung ausgeschlossen werden. Due to this rotationally symmetrical structure, incorrect assembly of the sealing device can be ruled out.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Dichtungsvorrichtung ein ein¬ teiliges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bauteil. According to a further embodiment, the sealing device is a one-piece ¬, in particular a materialeinstückiges, component.
"Einteilig" oder "einstückig" bedeutet vorliegend insbesondere, dass der axiale Verpressabschnitt und der radiale Verpressabschnitt ein gemeinsames Bauteil bilden und nicht aus unterschiedlichen Bauteilen zusammengesetzt sind. "Ma¬ terialeinstückig" bedeutet vorliegend, dass die Dichtungsvorrichtung durchge¬ hend aus demselben Material, beispielsweise aus einem PerfLuorkautschuk, einem Silikonkautschuk, Gummi oder dergleichen, gebildet ist. Ferner wird eine Lithographieanlage mit einem derartigen wasserführenden System vor geschlagen. "In one piece" or "in one piece" means in the present case in particular that the axial compression section and the radial compression section form a common component and are not composed of different components. "Ma ¬ terialeinstückig" means herein that the sealing device Runaway ¬ is based, formed from the same material, for example, a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber, or the like. Furthermore, a lithography system with such a water-carrying system is proposed.
Das wasserführende System kann beispielsweise ein Kühlsystem eines Kollek¬ tors einer EUV-Lichtquelle der Lithographieanlage sein. Die Lithographieanla¬ ge kann eine EUV-Lithographieanlage oder eine DUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für "Extreme Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Ar¬ beitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. DUV steht für "Deep Ultraviolet" und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitshchts zwischen 30 nm und 250 nm. Die Lithographieanlage kann mehrere derartige wasserführende Systeme umfas¬ sen. The water-bearing system can be, for example a collector ¬ tors of an EUV light source of the lithography system, a cooling system. The Lithographieanla ¬ ge can be a EUV lithography apparatus or DUV lithography system. EUV stands for "Extreme Ultraviolet" and denotes a wavelength of Ar ¬ beitslicht between 0.1 nm and 30 nm. DUV stands for "Deep Ultraviolet" and denotes a wavelength of Arbeitshcht between 30 nm and 250 nm. The lithography system can carry several such water Systems include ¬ sen.
"Ein" ist vorhegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die ge¬ nannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abwei¬ chungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteihges ange¬ geben ist. As used herein, "a" is not necessarily meant to be limited to just one element. Rather, a plurality of elements, such as two, three or more, can also be provided. Also any other measure word used here is not to be understood that a limitation to the precise ge ¬ called number of elements is given. Rather numerical deviate ¬ tions are up and possible below, enter unless Gegenteihges be ¬.
Die für das wasserführende System beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Lithographieanlage entsprechend und umgekehrt. The embodiments and features described for the water-carrying system apply correspondingly to the proposed lithography system and vice versa.
Weitere möghche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht ex¬ plizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüghch der Aus¬ führungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen stand der Unter ansprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausfüh rungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von be vorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert. More möghche implementations of the invention include non-combinations ex ¬ plicitly mentioned previously or below the off ¬ bezüghch exemplary embodiments or features of the described embodiments. The person skilled in the art will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention. Further advantageous refinements and aspects of the invention are the subject matter of the dependent claims and of the exemplary embodiments of the invention described below. The invention is explained in more detail below on the basis of preferred embodiments with reference to the attached figures.
Fig. 1A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV- Lithographieanlagei 1A shows a schematic view of an embodiment of an EUV lithography system
Fig. 1B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV- Lithographieanlagei 1B shows a schematic view of an embodiment of a DUV lithography system
Fig. 2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines wasserführenden Systems für die Lithographieanlage gemäß Fig. 1A oder Fig. 1B; FIG. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a water-carrying system for the lithography system according to FIG. 1A or 1B;
Fig. 3 zeigt die Detailansicht III gemäß Fig. 2; FIG. 3 shows the detailed view III according to FIG. 2;
Fig. 4 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Dich tungsvorrichtung für das wasserführende System gemäß Fig. 2; und FIG. 4 shows a schematic top view of an embodiment of a sealing device for the water-conducting system according to FIG. 2; and
Fig. 5 zeigt eine schematische Schnittansicht der Dichtungsvorrichtung gemäß der Schnittlinie V-V der Fig. 4. Fig. 5 shows a schematic sectional view of the sealing device according to section line V-V of Fig. 4.
In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Be zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Fer ner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht not wendigerweise maßstabsgerecht sind. Fig. 1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlform ungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektions¬ system 104 umfasst. Dabei steht EUV für "extremes Ultraviolett" (Engl.: ext¬ reme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitshchts zwi¬ schen 0,1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum- Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum -Gehäuse mit Hilfe einer nicht dar¬ gestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum -Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebs¬ vorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elementen vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steue¬ rungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein. In the figures, elements that are the same or have the same function have been provided with the same reference symbols, unless otherwise stated. Furthermore, it should be noted that the representations in the figures are not necessarily to scale. Fig. 1A is a schematic view of an EUV lithography apparatus 100A, which includes a beam shaping ungs- and illumination system 102 and a projection system 104 ¬. Here, EUV stands for "extreme ultraviolet" (Engl .: ext ¬ reme ultraviolet, EUV), and denotes a wavelength of the Arbeitshchts Zvi ¬ rule 0.1 nm and 30 nm. The beam shaping and illumination system 102 and projection system 104 are each in a vacuum housing, not shown, is provided, with each vacuum housing being evacuated using an evacuation device, not shown. The vacuum enclosures are surrounded by a non-illustrated machine room, in which the drive ¬ elements for mechanical process, or adjusting optical elements are provided. Furthermore, electric Steue ¬ can stanchions and the like can be provided in this engine room.
Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Syn¬ chrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 30 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt, und die gewünschte Betriebswellenlänge wird aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV- Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahl¬ formungs- und Beleuchtungs System 102 und im Projektionssystem 104 evaku¬ iert sind. The EUV lithography system 100A has an EUV light source 106A. When EUV light source 106A may, for example, a plasma source (or Syn ¬ chrotron) be provided, which radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), so nm, for example, in the wavelength range of 5 nm to 30 which emits. In the beamforming and illumination system 102, the EUV radiation 108A is collimated and the desired operating wavelength is filtered out of the EUV radiation 108A. The generated by the EUV light source 106A EUV radiation 108A has a relatively low transmissivity by air, which is why the beam guide spaces in the beam forming and ¬ illumination system and the projection system 104 ated evaku ¬ 102nd
Das in Fig. 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf eine Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist eben¬ falls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Sys- teme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 ver¬ kleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird. The beam shaping and illumination system 102 shown in FIG. 1A has five mirrors 110,112,114,116,118. After passing through the beam shaping and illumination system 102 , the EUV radiation 108A is directed onto a photomask (reticle) 120 . The photomask 120 is also ¬ if formed as a reflective optical element and can outside of the system tems 102, 104 can be arranged. Furthermore, the EUV radiation 108A can be directed onto the photomask 120 by means of a mirror 122 . The photomask 120 has a structure which ver means of the projection system 104 onto a wafer 124 ¬ kleinert or the like is imaged.
Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel Ml bis M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel Ml bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 ange¬ ordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel Ml bis M6 der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl be¬ schränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel Ml bis M6 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel Ml bis M6 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt. The projection system 104 (also referred to as a projection objective) has six mirrors M1 to M6 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124. In this case, individual mirrors Ml may be arranged to an optical axis 126 of projection system 104 is ¬ symmetrically to M6 of the projection system 104th It should be noted that the number of the mirrors Ml to M6 of the EUV lithography apparatus 100A not be shown to the number ¬ limits. More or fewer mirrors M1 to M6 can also be provided. Furthermore, the mirrors M1 to M6 are usually curved on their front side for beam shaping.
Fig. 1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlform ungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektions¬ system 104 umfasst. Dabei steht DUV für "tiefes Ultraviolett" (Engl.: deep ult- raviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu Fig. 1A beschrieben - von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umge¬ ben sein. Fig. 1B is a schematic view of a DUV lithography system 100B which includes a beam shaping ungs- and illumination system 102 and a projection system 104 ¬. DUV stands for "deep ultraviolet" (DUV) and designates a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 can - as already with reference to Fig be ben of a machine room with appropriate propulsion devices ¬ vice - described. 1A.
Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emit¬ tiert. Das in Fig. 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder der¬ gleichen abgebildet wird. The DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B. As a DUV light source 106B an ArF excimer laser can be provided, for example, which radiation 108B in the DUV range, for example at 193 nm emit ¬ advantage. The beam shaping and illumination system 102 shown in FIG. 1B guides the DUV radiation 108B onto a photomask 120. The photomask 120 is designed as a transmissive optical element and can be arranged outside of the systems 102, 104. The photomask 120 has a structure which is reduced by means of the projection system 104 onto a wafer 124 or the same ¬ imaged.
Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es soll¬ te beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 128 und Spiegel 130 der DUV- Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 128 und/oder Spiegel 130 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 130 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt. The projection system 104 has a plurality of lenses 128 and/or mirrors 130 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124 . In this case, individual lenses 128 and/or mirrors 130 of the projection system 104 can be arranged symmetrically to an optical axis 126 of the projection system 104 . It should ¬ te be noted that the number of lenses 128 and 130 levels of DUV lithography tool 100B is not limited to the number shown. More or fewer lenses 128 and/or mirrors 130 can also be provided. Furthermore, the mirrors 130 are typically curved on their front side for beam shaping.
Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 auf¬ weist. Das flüssige Medium 132 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photohthographische Auflösung auf. Das Medium 132 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden. An air gap between the last lens 128 and the wafer 124 may be replaced by a liquid medium 132, which has a refractive index> 1 to ¬. The liquid medium 132 can be, for example, ultrapure water. Such a structure is also referred to as immersion lithography and has an increased photolithographic resolution. The medium 132 can also be referred to as an immersion liquid.
Fig. 2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines wasserführenden Systems 200 für eine EUV-Lithographieanlage 100A oder für eine DUV-Lithographieanlage 100B. Fig. 3 zeigt die Detailansicht III gemäß der Fig. 2. Nachfolgend wird auf die Fig. 2 und 3 gleichzeitig Bezug genommen. Das wasserführende System 200 kann ein Kühlsystem sein, welches geeignet ist, beliebige Komponenten der EUV-Lithographieanlage 100A oder der DUV- Lithographieanlage 100B zu kühlen. Das wasserführende System 200 kann beispielsweise ein Kühlsystem eines Kollektors einer wie zuvor erwähnten EUV-Lichtquelle 106A sein. FIG. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a water-carrying system 200 for an EUV lithography system 100A or for a DUV lithography system 100B. FIG. 3 shows the detailed view III according to FIG. 2. In the following, reference is made to FIGS. 2 and 3 at the same time. The water-carrying system 200 can be a cooling system which is suitable for cooling any components of the EUV lithography system 100A or of the DUV lithography system 100B. The water-carrying system 200 can be, for example, a cooling system of a collector of an EUV light source 106A as mentioned above.
Das wasserführende System 200 umfasst einen Kühler 202, der aus einer Alu miniumlegierung gefertigt ist. Der Kühler 202 kann jedoch auch aus Edelstahl, Kupfer oder aus einem anderen geeigneten Material gefertigt sein. Der Kühler 202 weist eine Vielzahl an Kühlkanälen 204 auf, von denen in der Fig. 2 nur einer gezeigt ist. In den Kühlkanälen 204 zirkuliert Kühlwasser 206, insbeson dere vollentsalztes Wasser. Der in der Fig. 2 gezeigte Kühlkanal 204 ist rotati onssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse 208 aufgebaut. An dem Kühler 202 ist eine Flanschfläche 210 vorgesehen. Die Flanschfläche 210 kann beispielsweise eine geschliffene Oberfläche des Kühlers 202 mit einer definier ten Oberflächenrauigkeit sein. Die Flanschfläche 210 kann ringförmig um die Symmetrieachse 208 umlaufen. The water-carrying system 200 includes a cooler 202, which is made of an aluminum alloy minium. However, the cooler 202 can also be made of stainless steel, copper or any other suitable material. The cooler 202 has a multiplicity of cooling channels 204, only one of which is shown in FIG. Cooling water 206 circulates in the cooling channels 204, in particular deionized water. The cooling channel 204 shown in FIG. 2 is rotationally symmetrical to a central or symmetrical axis 208 . A flange surface 210 is provided on the cooler 202 . The flange surface 210 can be, for example, a ground surface of the cooler 202 with a defined surface roughness. The flange surface 210 can encircle the axis of symmetry 208 in an annular manner.
Weiterhin weist das wasserführende System 200 eine Leitung 212 auf. Die Lei tung 212 kann eine Zuführleitung zum Zuführen des Kühlwassers 206 zu dem Kühler 202 oder eine Abführleitung zum Abführen des Kühlwassers 206 von dem Kühler 202 sein. Die Leitung 212 umfasst einen rohrförmigen Basisab schnitt 214 sowie einen tellerförmigen oder scheibenförmigen Flanschabschnitt 216, der an den Basis ab schnitt 214 angeformt ist. Der Flanschabschnitt 216 kann eine behebige Form aufweisen. Der Flanschabschnitt 216 kann beispiels weise auch oval oder vieleckig sein. Der Flanschabschnitt 216 kann rotations symmetrisch zu der Symmetrieachse 208 aufgebaut sein. Der Flanschabschnitt 216 kann jedoch auch unsymmetrisch aufgebaut sein. Der Basis ab schnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 können einteilig, insbe sondere materialeinstückig, miteinander verbunden sein. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. "Einteilig" oder "einstückig" bedeutet vorliegend, dass der Basis ab schnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 ein gemeinsames Bauteil bilden und nicht aus unterschiedlichen Bauteilen zusammengesetzt sind. "Ma terialeinstückig" bedeutet vorliegend, dass der Basisabschnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 durchgehend aus demselben Material gefertigt sind. Die Leitung 212 kann aus Edelstahl gefertigt sein. Der Basisabschnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 können jedoch auch zwei voneinander getrennte Bauteile sein, die beispielsweise miteinander verschweißt sind. Furthermore, the water-carrying system 200 has a line 212 . The line 212 may be a supply line for supplying the cooling water 206 to the radiator 202 or a discharge line for discharging the cooling water 206 from the radiator 202 . The line 212 includes a tubular base section 214 and a plate-shaped or disk-shaped flange portion 216, the section on the base 214 is formed. The flange portion 216 may have any shape. The flange portion 216 can also be oval or polygonal, for example. The flange section 216 can be rotationally symmetrical to the axis of symmetry 208 . However, the flange section 216 can also be constructed asymmetrically. The base from section 214 and the flange portion 216 can be integral, in particular special one-piece material, be connected to each other. However, this is not mandatory. "In one piece" or "in one piece" means here that the base section 214 and the flange section 216 form a common component and are not composed of different components. "One piece of material" means here that the base section 214 and the flange section 216 are made of the same material throughout. The conduit 212 can be made of stainless steel. However, the base section 214 and the flange section 216 can also be two separate components which are welded to one another, for example.
Der Flanschabschnitt 216 ist gegen die Flanschfläche 210 des Kühlers 202 ge presst. Hierzu kann eine Verschraubung (nicht gezeigt) vorgesehen sein, wel che den Flanschabschnitt 216 gegen die Flanschfläche 210 drückt. Der Flanschabschnitt 216 umfasst eine beispielsweise ringförmig um die Symmet rieachse 208 umlaufende Flanschfläche 218, die an der Flanschfläche 210 an- liegt. Die Flanschfläche 218 kann eine geschliffene Oberfläche mit einer defi nierten Oberflächenrauigkeit sein. The flange portion 216 is pressed against the flange surface 210 of the cooler 202 ge. For this purpose, a screw connection (not shown) can be provided, which presses the flange section 216 against the flange surface 210 . The flange section 216 comprises a flange surface 218 which, for example, runs annularly around the axis of symmetry 208 and rests against the flange surface 210 . The flange surface 218 can be a ground surface with a defined surface roughness.
An dem Flanschabschnitt 216 ist eine in Richtung der Flanschfläche 210 offene und rotationssymmetrisch um die Symmetrieachse 208 umlaufende erste Ringnut 220 vorgesehen. Die erste Ringnut 220 erstreckt sich ausgehend von der Symmetrieachse 208 in einer Radialrichtung R in den Flanschabschnitt 216 hinein. Die erste Ringnut 220 umfasst eine erste Wandung 222, welche zylin derförmig um die Symmetrieachse 208 umläuft. Die erste Wandung 222 ist ent lang einer Axialrichtung A, die entlang der Symmetrieachse 208 orientiert ist, betrachtet beabstandet von der Flanschfläche 210 platziert. Die erste Ringnut 220 umfasst ferner eine zweite Wandung 224, welche ebenfalls zyhnderförmig ist. Auch die zweite Wandung 224 ist entlang der Axialrichtung A betrachtet beabstandet von der Flanschfläche 210 platziert. Entlang der Radialrichtung R betrachtet ist die zweite Wandung 224 weiter von der Symmetrieachse 208 weg platziert als die erste Wandung 222. Die Wandungen 222, 224 sind mit Hilfe einer sich entlang der Radialrichtung R erstreckenden dritten Wandung 226 miteinander verbunden. Die dritte Wandung 226 ist beispielsweise scheiben förmig und ist parahel zu den Flanschflächen 210, 218 orientiert. Die dritte Wandung 226 kann jedoch eine beliebige Geometrie aufweisen. A first annular groove 220 , which is open in the direction of the flange surface 210 and runs around the axis of symmetry 208 in a rotationally symmetrical manner, is provided on the flange section 216 . Starting from the axis of symmetry 208 , the first annular groove 220 extends in a radial direction R into the flange section 216 . The first annular groove 220 includes a first wall 222 which cylin derform around the axis of symmetry 208 runs around. The first wall 222 is placed along an axial direction A oriented along the axis of symmetry 208 as viewed spaced from the flange surface 210 . The first annular groove 220 also includes a second wall 224, which is also cylindrical. The second wall 224 is also placed at a distance from the flange surface 210 when viewed in the axial direction A. Along the radial direction R considered, the second wall 224 is placed further away from the axis of symmetry 208 than the first wall 222. The walls 222, 224 are connected to one another by means of a third wall 226 extending along the radial direction R. The third wall 226 is disk-shaped, for example, and is oriented parahelically to the flange surfaces 210, 218. However, the third wall 226 can have any geometry.
Der Flanschabschnitt 216 umfasst eine zweite Ringnut 228. Die zweite Ringnut 228 ist entlang der Radialrichtung R betrachtet weiter von der Symmetrieachse 208 entfernt angeordnet als die erste Ringnut 220. Die zweite Ringnut 228 läuft somit um die erste Ringnut 220 um. Die zweite Ringnut 228 umfasst eine zy linderförmige erste Wandung 230 sowie eine zylinderförmige zweite Wandung 232, welche vollständig um die Symmetrieachse 208 umlaufen. Dabei ist die zylinderförmige zweite Wandung 232 entlang der Radialrichtung R betrachtet weiter von der Symmetrieachse 208 beabstandet angeordnet als die erste Wan dung 230. Die Wandungen 230, 232 sind mit Hilfe einer dritten Wandung 234, die sich ausgehend von der ersten Wandung 230 entlang der Radialrichtung R in Richtung der zweiten Wandung 232 erstreckt, miteinander verbunden. The flange section 216 includes a second annular groove 228. The second annular groove 228 is arranged further away from the axis of symmetry 208 than the first annular groove 220 viewed in the radial direction R. The second annular groove 228 thus runs around the first annular groove 220. The second annular groove 228 includes a zy-cylindrical first wall 230 and a cylindrical second wall 232, which run completely around the axis of symmetry 208. The cylindrical second wall 232 is arranged at a greater distance from the axis of symmetry 208 than the first wall 230, viewed along the radial direction R R extends in the direction of the second wall 232, connected to each other.
Die Wandungen 224, 230 sind an einer ringförmig um die Symmetrieachse 208 umlaufenden Rippe 236 vorgesehen. Die Rippe 236 kontaktiert die Flanschflä- che 210 nicht. Die Rippe 236 trennt die erste Ringnut 220 von der zweiten Ringnut 228. Die erste Wandung 222 ist an einer ringförmig um die Symmet rieachse 208 umlaufenden Rippe 238 vorgesehen. Die Rippe 238 kontaktiert die Flanschfläche 210 nicht und ist entlang der Axialrichtung A von dieser beab standet angeordnet. The walls 224 , 230 are provided on a rib 236 that runs annularly around the axis of symmetry 208 . The rib 236 does not contact the flange surface 210 . The rib 236 separates the first annular groove 220 from the second annular groove 228. The first wall 222 is provided on a ring-shaped rieachse 208 around the symmetry rib 238 is provided. The rib 238 does not contact the flange surface 210 and is spaced along the axial direction A therefrom.
Zwischen dem Flanschabschnitt 216 und der Flanschfläche 210 ist eine fluid dichte Abdichtung erforderlich. Beispiele für eine derartige Abdichtung können Schraubverbindungen mit Dichtungen aus MetaU oder Kunststoff sein. Bei- spiels weise können O -Ringe, Flach dich tungen oder Dichtungen mit einem x- förmigen Querschnitt als Dichtungen eingesetzt werden. Im EUV-Bereich ist aufgrund seiner hohen Vakuumanforderungen ein besonderes Augenmerk auf die Abdichtung zu legen. Hier genügt es nicht, dass das wasserführende System 200 nicht tropft, sondern bereits austretende Wassermoleküle, beispielsweise in Form von Dampf, können zu Vakuumeinbrüchen bei 106 bis 10 11 mbar führen. A fluid-tight seal is required between the flange portion 216 and the flange face 210 . Examples of such a seal can be screw connections with seals made of metal or plastic. At- For example, O-rings, flat seals or seals with an x-shaped cross section can be used as seals. In the EUV area, special attention must be paid to the seal due to the high vacuum requirements. Here it is not enough that the water-carrying system 200 does not drip, but water molecules that are already escaping, for example in the form of steam, can lead to vacuum collapses at 10 6 to 10 11 mbar.
Wie zuvor erwähnt, wird als Kühlwasser 206 vollentsalztes Wasser verwendet, das die verwendeten Materialien, insbesondere die Aluminiumlegierung des Kühlers 202, angreifen kann. Zusätzlich kann vollentsalztes Wasser Ionen aus den durchflossenen Materialien herauslösen und wirkt damit korrosionsför dernd. Werden nun Korrosionsprodukte an der Flanschfläche 210 und der Dichtung abgelagert, so kann es bei einer ungünstigen Geometrie der Dichtung, beispielsweise bei einer Ringform, zu einer Undichtigkeit des wasserführenden Systems 200 kommen. As previously mentioned, the cooling water 206 used is deionized water, which can attack the materials used, in particular the aluminum alloy of the cooler 202 . In addition, fully desalinated water can release ions from the materials it flows through and thus have a corrosion-promoting effect. If corrosion products are now deposited on the flange surface 210 and the seal, a leak in the water-carrying system 200 can occur if the seal has an unfavorable geometry, for example if it is ring-shaped.
Hinsichtlich einer Undichtigkeit kritisch sind beispielsweise Dichtungen, ins besondere Dichtungen mit einem kreisförmigen Querschnitt, an denen sich Totwasserzonen bilden können. Hierbei können sich zwischen der Dichtung und der Flanschfläche 210 schmale Spalte ausbilden, die mittels Wasser und Ionen gefüllt sind. Im Falle der Verwendung einer ringförmigen Dichtung, ins besondere eines O-Rings, die nur linienförmig an der Flanschfläche 210 anliegt, kann sich so eine Totwasserzone in Form eines keilförmigen Spalts bilden. With regard to leakage, for example, seals are critical, in particular seals with a circular cross-section, where dead water zones can form. Here narrow gaps can form between the seal and the flange surface 210, which are filled with water and ions. If an annular seal is used, in particular an O-ring, which only bears linearly against the flange surface 210, a dead water zone can form in the form of a wedge-shaped gap.
In solchen Spalten sind Ablagerungen thermodynamisch bevorzugt, da es weni ger Durchfluss gibt und zusätzlich geringere Grenzenergien zur Nukleation von Ausscheidungen überwunden werden müssen. Weiterhin führen Spalte auch zur Spaltkorrosion, also zu einem zusätzlichen Auflösen des jeweiligen Metalls an dieser Stelle, wodurch wiederum weitere Ionen in das Kühlwasser 206 ge langen, die an dieser Stelle auskristallisieren können. Das System fördert sich sozusagen selbst, wenn ungünstige Faktoren vorliegen. Liegen Ausscheidungen vor, können diese die Dichtung unterwandern und wegdrücken. Korrosionspro¬ dukte nehmen dabei ein größeres Volumen als das ursprüngliche Material ein und sind gegebenenfalls leicht porös. Somit kann letzthch Kühlwasser 206, bei¬ spielsweise als Moleküle oder bei fortgeschrittener Korrosion als Tropfen, aus dem wasserführenden System 200 austreten. Das wasserführende System 200 wird undicht. Deposits are thermodynamically favored in such fissures, since there is less flow and, in addition, lower limit energies have to be overcome for the nucleation of precipitations. Furthermore, crevices also lead to crevice corrosion, ie to an additional dissolution of the respective metal at this point, as a result of which further ions get into the cooling water 206 and can crystallize out at this point. The system promotes itself even if there are unfavorable factors. If there are excretions, they can undermine the seal and push it away. Korrosionspro ¬-products company while a larger volume than the original material, and are optionally slightly porous. Thus letzthch cooling water 206, game instance of leaving as molecules or in advanced corrosion than drop, from the water-bearing system 200 in ¬. The water-carrying system 200 is leaking.
Durch die Anwendung des wasserführenden Systems 200 im EUV-Bereich, ins¬ besondere in der EUV-Lichtquelle 106A, wo die EUV-Strahlung 108A erzeugt wird, kommt es zu erhöhten Temperaturen durch den Betrieb der EUV- Lichtquelle 106A und insbesondere zu einer Zinn-Kontamination durch die Er¬ zeugung der EUV-Strahlung 108A. Die EUV-Strahlung 108A wird von dem Kollektor zur Projektion eingesammelt und vorbereitet. Zur Wärmeabfuhr wird Kühlwasser 206 durch die Kühler 202 des KoUektors und weiterer Mechanik¬ bauteile, die sich oberhalb und unterhalb einer Tragstruktur befinden können, geführt. Zwischen der Leitung 212 und der Flanschfläche 210 werden nach be¬ triebsinternen Kenntnissen der Anmelderin zwei O -Ringe als Dichtung ver¬ wendet. The application of the water-bearing system 200 in the EUV range, special into ¬ in the EUV light source 106A, where the EUV radiation 108A is generated, it comes to elevated temperatures by the operation of the EUV light source 106A, and more particularly to a tin He contamination by the ¬ generation of EUV radiation 108A. The EUV radiation 108A is collected and prepared by the collector for projection. For heat removal cooling water 206 through the cooler 202 and further components of the KoUektors ¬ mechanism that can and below a support structure located above, performed. Between the line 212 and the flange 210 are spent as a seal to be ver ¬ ¬ powered internal knowledge of the applicant, two O rings.
Durch dieses Dichtungsdesign und die Prozessbedingungen mittels Durchflus¬ ses von vollentsalztem Wasser als Kühlwasser 206 bei erhöhten Temperaturen, kann es zu möglichen Schädigungen des Materials und der Oberfläche an der Flanschfläche 210 des Kühlers 202 und schlussendhch zur Unterwanderung der O-Ringe kommen. Vollentsalztes Wasser kontaminiert innerhalb weniger Tage stark, so dass es nicht mehr als vollentsalztes Wasser vorhegt, sondern mit Ionen angereichert ist. Wird das wasserführende System 200 undicht, droht ein Ausfall beim Kunden. Zur Reparatur muss die Flanschfläche 210 des Kühlers 202 überarbeitet werden, was mit einem Materialabtrag einhergeht. Dies ist nur innerhalb der Toleranzen möglich, so dass es auch zum Ausfall von Kühlern 202 als Schrott und damit erhöhten Kosten kommt. Dies gilt es zu vermeiden. By this sealing design and the process conditions by means Durchflus ¬ ses of deionized water as the cooling water 206 at elevated temperatures, it may be possible damage of the material and the surface on the flange 210 of the cooler 202 and schlussendhch come to the infiltration of the O-rings. Fully desalinated water becomes heavily contaminated within a few days, so that it is no longer present as fully desalinated water, but is enriched with ions. If the water-carrying system 200 leaks, there is a risk of customer failure. For the repair, the flange surface 210 of the cooler 202 has to be reworked, which involves material removal. This is only possible within the tolerances, so it can also lead to failure Coolers 202 come as scrap and thus increased costs. This is to be avoided.
Um die vorgenannten Nachteile, nämlich die Totwasserzone sowie die Überar beitung oder Verschrottung des Kühlers 202, zu vermeiden, wird nachfolgend ein verbessertes Dichtungskonzept vor geschlagen. In der zweiten Ringnut 228 ist ein Dichtungselement 240 aufgenommen. Das Dichtungselement 240 kann ein O-Ring sein oder jede andere beliebige Geometrie aufweisen. Das Dich tungselement 240 ist zwischen der Flanschfläche 210 und der dritten Wandung 234 der zweiten Ringnut 228 verpresst. In order to avoid the aforementioned disadvantages, namely the dead water zone and the revision or scrapping of the cooler 202, an improved sealing concept is proposed below. A sealing element 240 is accommodated in the second annular groove 228 . The sealing element 240 can be an O-ring or have any other desired geometry. The sealing element 240 is pressed between the flange surface 210 and the third wall 234 of the second annular groove 228 .
Das verbesserte Dichtungskonzept umfasst eine in der ersten Ringnut 220 auf genommene Dichtungsvorrichtung 300. Die Dichtungsvorrichtung 300 ist zum einen in der Axialrichtung A zwischen der Flanschfläche 210 und der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 und zum anderen in der Radialrichtung R zwischen den Wandungen 222, 224 der ersten Ringnut 220 verpresst. Zwi schen dem Dichtungselement 240 und der Dichtungsvorrichtung 300 ist ein Zwischenraum 242 vorgesehen. The improved sealing concept includes a sealing device 300 accommodated in the first annular groove 220. The sealing device 300 is on the one hand in the axial direction A between the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220 and on the other hand in the radial direction R between the walls 222, 224 of the first annular groove 220 is pressed. A gap 242 is provided between the sealing element 240 and the sealing device 300 .
Fig. 4 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer wie zuvor erwähnten Dichtungsvorrichtung 300. Fig. 5 zeigt eine schematische Schnittansicht der Dichtungs Vorrichtung 300 gemäß der Schnittlinie V-V der Fig. 4 nachfolgend wird auf die Fig. 4 und 5 gleichzeitig Bezug genommen. Fig. 4 shows a schematic plan view of an embodiment of a sealing device 300 as mentioned above. Fig. 5 shows a schematic sectional view of the sealing device 300 according to section line V-V of Fig. 4 hereinafter reference is made to Figs. 4 and 5 simultaneously.
Die Dichtungsvorrichtung 300 ist scheibenförmig und rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse 302 aufgebaut. In einem in den Fig. 2 und 3 gezeigten eingebauten Zustand der Dichtungsvorrichtung 300 ist die Symmet rieachse 302 koaxial zu der Symmetrieachse 208 angeordnet. Die Dichtungs vorrichtung 300 ist ein einteiliges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bau- teil. Die Dichtungsvorrichtung 300 kann aus einem Perfluorkautschuk, einem Silikonkautschuk, Gummi oder dergleichen gefertigt sein. The sealing device 300 is disk-shaped and constructed rotationally symmetrically to a central or symmetrical axis 302 . In an installed state of the sealing device 300 shown in FIGS. 2 and 3, the axis of symmetry 302 is arranged coaxially with the axis of symmetry 208 . The sealing device 300 is a one-piece, in particular a one-piece material, construction part. The sealing device 300 can be made of a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber or the like.
Die Dichtungsvorrichtung 300 umfasst einen scheibenförmigen axialen Ver- pressabschnitt 304, welcher in dem eingebauten Zustand der Dichtungs Vorrich tung 300 entlang der Axialrichtung A zwischen der Flanschfläche 210 und der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 verpresst ist. Unter "scheiben förmig" ist vorhegend eine flache zylinderförmige Geometrie zu verstehen. Hierbei wird der axiale Verpressabschnitt 304 elastisch verformt. Der axiale Verpressabschnitt 304 umfasst einen zyhnderförmigen Durchbruch 306, der rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 302 aufgebaut ist. Ein Durch messer d306 des Durchbruchs entspricht dabei bevorzugt einem Durchmesser des Kühlkanals 204. Durch den Durchbruch 306 kann das Kühlwasser 206 hindurchströmen. Innenseitig hegt der Durchbruch 306 an der Rippe 238, ins besondere an der ersten Wandung 222 der Rippe 238 an. Der axiale Verpress abschnitt 304 weist entlang der Axialrichtung A betrachtet eine Dicke t304 auf. Der axiale Verpressabschnitt 304 umfasst ferner einen Durchmesser d304, der größer als der Durchmesser d306 ist. The sealing device 300 includes a disk-shaped axial compression section 304 which, in the installed state of the sealing device 300 , is compressed along the axial direction A between the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220 . "Disc-shaped" is to be understood as meaning a flat cylindrical geometry. Here, the axial compression section 304 is elastically deformed. The axial pressing section 304 includes a cylindrical opening 306 which is constructed rotationally symmetrically to the axis of symmetry 302 . A diameter d306 of the opening preferably corresponds to a diameter of the cooling channel 204. The cooling water 206 can flow through the opening 306. On the inside, the opening 306 rests on the rib 238, in particular on the first wall 222 of the rib 238. The axial compression section 304 has a thickness t304 viewed along the axial direction A. The axial compression section 304 also includes a diameter d304 that is larger than the diameter d306.
Der axiale Verpressabschnitt 304 umfasst eine ringförmig um die Symmetrie achse 302 umlaufende erste Oberfläche 308 sowie eine ringförmig um die Symmetrieachse 302 umlaufende zweite Oberfläche 310. Die Oberflächen 308, 310 sind parallel zueinander angeordnet. Entlang der Axialrichtung A betrach tet, sind die Oberflächen 308, 310 voneinander beabstandet positioniert. The axial compression section 304 comprises a first surface 308 running annularly around the axis of symmetry 302 and a second surface 310 running annularly around the axis of symmetry 302. The surfaces 308, 310 are arranged parallel to one another. Viewed along the axial direction A, the surfaces 308, 310 are positioned spaced apart from each other.
Neben dem axialen Verpressabschnitt 304 umfasst die Dichtungsvorrichtung 300 einen radialen Verpressabschnitt 312. Der axiale Verpressabschnitt 304 und der radiale Verpressabschnitt 312 sind einteihg, insbesondere materialein stückig, ausgebildet. In dem eingebauten Zustand der Dichtungsvorrichtung 300 liegt der radiale Verpressabschnitt 312 an der Rippe 236, insbesondere an der zweiten Wandung 224 der Rippe 236, an. Da der axiale Verpressabschnitt 304 an der ersten Wandung 222 anliegt, ist mit Hilfe des radialen Verpressab- schnitts 312 ein Verpressen der Dichtungsvorrichtung 300 entlang der Radial richtung R möglich. Dabei hegt der radiale Verpressabschnitt 312 jedoch weder an der Flanschfläche 210 noch an der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 an. In addition to the axial compression section 304, the sealing device 300 includes a radial compression section 312. The axial compression section 304 and the radial compression section 312 are formed in one piece, in particular in one piece of material. In the installed state of the sealing device 300, the radial compression section 312 bears against the rib 236, in particular the second wall 224 of the rib 236. Since the axial compression section 304 rests against the first wall 222 , compression of the sealing device 300 along the radial direction R is possible with the aid of the radial compression section 312 . In this case, however, the radial compression section 312 rests neither on the flange surface 210 nor on the third wall 226 of the first annular groove 220 .
Der radiale Verpressabschnitt 312 umfasst eine Dicke t312, die kleiner als die Dicke t304 des axialen Verpressabschnitts 304 ist. Bezüglich der Axialrichtung A ist der radiale Verpressabschnitt 312 mittig an dem axialen Verpressab schnitt 304 positioniert. Das heißt, die Dichtungsvorrichtung 300 ist spiegel symmetrisch zu einer Ebene 314 aufgebaut. Dies führt zu einem Poka Yoke Ef fekt. Das heißt, dass die Dichtungs Vorrichtung 300 nicht falsch montiert wer den kann. Der radiale Verpressabschnitt 312 weist einen Durchmesser d312 auf, der größer als der Durchmesser d304 des axialen Verpressabschnitts 304 ist. The radial swage section 312 includes a thickness t312 that is less than the thickness t304 of the axial swage section 304 . With respect to the axial direction A, the radial compression section 312 is positioned centrally on the axial compression section 304 . That is, the sealing device 300 is constructed mirror-symmetrical to a plane 314 . This leads to a poka yoke effect. That is, the sealing device 300 cannot be assembled incorrectly. The radial compression section 312 has a diameter d312 that is larger than the diameter d304 of the axial compression section 304 .
Der radiale Verpressabschnitt 312 umfasst eine ringförmig um die Symmetrie achse 302 umlaufende erste Oberfläche 316 sowie eine ringförmig um die Symmetrieachse 302 umlaufende zweite Oberfläche 318. Die Oberflächen 316, 318 sind parahel zueinander angeordnet. Entlang der Axialrichtung A betrach tet, sind die Oberflächen 316, 318 voneinander beabstandet positioniert. The radial pressing section 312 comprises a first surface 316 running annularly around the axis of symmetry 302 and a second surface 318 running annularly around the axis of symmetry 302. The surfaces 316, 318 are arranged parahelically to one another. Viewed along the axial direction A, the surfaces 316, 318 are positioned spaced apart from each other.
An dem radialen Verpressabschnitt 312 sind randseitig Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 vorgesehen. Die Anzahl der Entlüftungsausschnitte 320,Vent cutouts 320 , 322 , 324 , 326 are provided on the edge of the radial compression section 312 . The number of vent cutouts 320,
322, 324, 326 ist beliebig. Beispielsweise kann nur ein Entlüftungsausschnitt 320, 322, 324, 326 vorgesehen sein. Es können auch zwei, drei, vier, fünf, sechs oder mehr Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 vorgesehen sein. Die Ent lüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 durchbrechen den radialen Verpressab schnitt 312 entlang der Axialrichtung A vollständig. Die Entlüftungsausschnit- te 320, 322, 324, 326 weisen eine halbkreisförmige Geometrie auf. Die Entlüf tungsausschnitte 320, 322, 324, 326 können jedoch eine beliebige Geometrie aufweisen. 322, 324, 326 is arbitrary. For example, only one vent cutout 320, 322, 324, 326 may be provided. Two, three, four, five, six or more vent cutouts 320, 322, 324, 326 may also be provided. The Ent ventilation cutouts 320, 322, 324, 326 break through the radial Verpressab section 312 along the axial direction A completely. The vent cut- te 320, 322, 324, 326 have a semicircular geometry. However, the ventilation cutouts 320, 322, 324, 326 can have any geometry.
Die Funktionahtät der Dichtungsvorrichtung 300 wird nachfolgend erläutert. Zunächst werden das Dichtungselement 240 und die Dichtungsvorrichtung 300 in die ihnen zugeordneten Ringnuten 220, 228 eingelegt oder eingedrückt. Da bei hegt das Dichtelement 240 außenseitig an der zweiten Ringnut 228 an. Die Dichtungsvorrichtung 300 wird zwischen den Wandungen 222, 224 der ersten Ringnut 220 angeordnet. Dabei wird die Dichtungsvorrichtung 300 zwischen den Wandungen 222, 224 leicht verpresst, derart, dass die Dichtungsvorrich- tung 300 nicht mehr aus der ersten Ringnut 220 herausfallen kann. The functionality of the sealing device 300 is explained below. First, the sealing element 240 and the sealing device 300 are inserted or pressed into the annular grooves 220, 228 assigned to them. Since the sealing element 240 is attached to the second annular groove 228 on the outside. The sealing device 300 is arranged between the walls 222, 224 of the first annular groove 220. The sealing device 300 is pressed slightly between the walls 222, 224 in such a way that the sealing device 300 can no longer fall out of the first annular groove 220.
Anschließend wird der Flanschabschnitt 216 der Leitung 212 gegen die Flanschfläche 210 des Kühlers 202 gepresst. Hierzu kann eine Schraubverbin dung (nicht gezeigt) zwischen dem Flanschabschnitt 216 und dem Kühler 202 vorgesehen sein. Bei dem Pressen des Flanschabschnitts 216 gegen die Flanschfläche 210 wird das Dichtungselement 240 entlang der Axialrichtung A verpresst, derart, dass das Dichtungselement 240 im Wesentlichen jeweils mit einem linienförmigen Kontakt an der Flanschfläche 210 und an der dritten Wandung 234 der zweiten Ringnut 228 fluiddicht dichtend anliegt. The flange section 216 of the line 212 is then pressed against the flange surface 210 of the cooler 202 . For this purpose, a screw connection (not shown) can be provided between the flange section 216 and the cooler 202 . When the flange section 216 is pressed against the flange surface 210, the sealing element 240 is pressed along the axial direction A in such a way that the sealing element 240 rests essentially with a linear contact on the flange surface 210 and on the third wall 234 of the second annular groove 228 in a fluid-tight sealing manner .
Die Dichtungs Vorrichtung 300 wird ebenfalls entlang der Axialrichtung A ver presst. Da der axiale Verpressabschnitt 304 die beiden parallel zueinander an geordneten Oberflächen 308, 310 aufweist, welche an der Flanschfläche 210 und an der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 anliegen, wird zwi schen der Dichtungsvorrichtung 300 und der Flanschfläche 210 beziehungswei se der dritten Wandung 226 ein flächiger Kontakt verwirklicht. Durch diesen flächigen Kontakt wird die Bildung von Totwasserzonen erschwert und ein Un terwandern der Dichtungsvorrichtung 300 durch Korrosionsprodukte wird er- schwert. Bei dem Verpressen des axialen Verpressabschnitts 304 weicht dieser geringfügig entlang der Radialrichtung R aus. Da sich der radiale Verpressab- schnitt 312 an der zweiten Wandung 224 der ersten Ringnut abstützt, wird die Dichtungs Vorrichtung 300 auch radial verpresst. The sealing device 300 is also compressed along the axial direction A. FIG. Since the axial compression section 304 has the two parallel surfaces 308, 310 which abut the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220, there is a gap between the sealing device 300 and the flange surface 210 or the third wall 226 a surface contact is realized. This surface contact makes it more difficult for dead water zones to form and corrosion products to infiltrate the sealing device 300. sword. When the axial compression section 304 is compressed, it deviates slightly along the radial direction R. Since the radial compression section 312 is supported on the second wall 224 of the first annular groove, the sealing device 300 is also compressed radially.
Abschließend werden die Ringnuten 220, 228, insbesondere der zwischen der Dichtungsvorrichtung 300 und dem Dichtungselement 240 vorgesehene Zwi¬ schenraum 242, evakuiert. Dadurch, dass die Dichtungsvorrichtung 300 die Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 aufweist, kann der Zwischenraum 242 vollständig evakuiert werden, so dass keine Lufttaschen verbleiben. Finally, the annular grooves 220, 228, in particular provided between the sealing device 300 and the sealing member 240 Zvi ¬ c region 242 is evacuated. Because the sealing device 300 has the ventilation cutouts 320, 322, 324, 326, the intermediate space 242 can be completely evacuated, so that no air pockets remain.
Mittels eines neuen Dichtungsdesigns in Form der Dichtungs Vorrichtung 300, welche flächig auf der Flanschfläche 210 aufliegt, wird eine mögliche Totwas¬ serzone abgedeckt und damit eine Anlagerung von Korrosionsprodukten an der Flanschfläche 210, welche zu einer Unterwanderung der Dichtungsvorrichtung 300 führen kann, vermieden oder zumindest erschwert. Zusätzhch ermöglicht die Dichtungsvorrichtung 300 eine axiale Verpressung entlang der Axialrich¬ tung A sowie eine radiale Verpressung entlang der Radialrichtung R. Ferner weist die Dichtungsvorrichtung 300 im Vergleich zu einem ORing entlang der Radialrichtung R betrachtet eine größere verpresste Länge, nämlich die Ober¬ flächen 308, 310, auf. Using a new gasket design in the form of sealing device 300, which rests flat on the flange 210, a possible Totwas ¬ Serzone is covered, and thus a deposition of corrosion products on the flange 210, which can lead to an undermining of the sealing apparatus 300, are avoided or at least difficult. Zusätzhch enables the sealing device 300, an axial compression along the Axialrich ¬ tung A as well as a radial compression along the radial direction R. Further, the sealing device 300 in comparison with an O-ring along the radial direction R considers a larger compressed length, namely the upper ¬ surfaces 308, 310, on.
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen be¬ schrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar. BEZUGSZEICHENLISTE Although the present invention has been described using exemplary embodiments, it can be modified in many ways. REFERENCE LIST
100A EUV-Lithographieanlage 100A EUV lithography system
100B DUV-Lithographieanlage 100B DUV lithography system
102 Strahlformungs- und Beleuchtungssystem102 beam shaping and illumination system
104 Projektionssystem 104 projection system
106A EUV-Lichtquelle 106A EUV light source
106B DUV-Lichtquelle 106B DUV light source
108A EUV-Strahlung 108A EUV radiation
108B DUV-Strahlung 108B DUV radiation
110 Spiegel 110 mirrors
112 Spiegel 112 mirrors
114 Spiegel 114 mirrors
116 Spiegel 116 mirrors
118 Spiegel 118 mirrors
120 Photomaske 120 photomask
122 Spiegel 122 mirrors
124 Wafer 124 wafers
126 optische Achse 126 optical axis
128 Linse 128 lens
130 Spiegel 130 mirrors
132 Medium 132 media
200 wasserführendes System 202 Kühler 204 Kühlkanal 206 Kühlwasser 208 Symmetrieachse 210 FlanschfLäche 200 water-carrying system 202 cooler 204 cooling channel 206 cooling water 208 axis of symmetry 210 flange surface
212 Leitung 212 line
214 Basis ab schnitt Flanschabschnitt214 base section flange section
Flanschfläche flange face
220 Ringnut 220 ring groove
222 Wandung 222 wall
224 Wandung 224 wall
226 Wandung 226 wall
228 Ringnut 228 ring groove
230 Wandung 230 wall
232 Wandung 232 wall
234 Wandung 234 wall
236 Rippe 236 rib
238 Rippe 238 rib
240 Dichtungselement240 sealing element
242 Zwischenraum 242 space
300 Dichtungsvorrichtung300 sealing device
302 Symmetrieachse 302 axis of symmetry
304 Verpressabschnitt304 swage section
306 Durchbruch 306 breakthrough
308 Oberfläche 308 surface
310 Oberfläche 310 surface
312 Verpressabschnitt312 grout section
314 Ebene 314 level
316 Oberfläche 316 surface
318 Oberfläche 318 surface
320 Entlüftungsausschnitt320 vent cutout
322 Entlüftungsausschnitt322 vent cutout
324 Entlüftungsausschnitt324 vent cutout
326 Entlüftungsausschnitt 326 vent cutout
A Axialrichtung d304 Durchmesser d306 Durchmesser d312 Durchmesser Ml Spiegel M2 Spiegel A axial direction d304 diameter d306 diameter d312 diameter Ml mirror M2 mirror
M3 Spiegel M4 Spiegel M5 Spiegel M6 Spiegel R Radialrichtung t304 Dicke t312 Dicke M3 mirror M4 mirror M5 mirror M6 mirror R radial direction t304 thickness t312 thickness

Claims

PATENTANSPRÜCHE PATENT CLAIMS
1. Wasserführendes System (200), insbesondere Kühlsystem, für eine Litho¬ graphieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Kühler (202), welcher eine Flanschfläche (210) umfasst, eine Leitung (212) zum Zuführen von Kühlwasser (206) zu dem Kühler (202) oder zum Abführen von Kühlwasser (206) von dem Kühler (202), wobei die Leitung (212) einen Flanschabschnitt (216) aufweist, welcher an der Flanschfläche (210) anliegt, und eine Dichtungsvorrichtung (300), welche einen scheibenförmigen axialen Verpressabschnitt (304) und einen scheibenförmigen radialen Verpressab- schnitt (312) umfasst, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) derart axial zwischen der Flanschfläche (210) und dem Flanschabschnitt (216) verpresst ist, dass der axi¬ ale Verpressabschnitt (304) jeweils flächig an der Flanschfläche (210) und an dem Flanschabschnitt (216) anhegt, wobei der Flanschabschnitt (216) eine erste Ringnut (220) umfasst, in wel¬ cher die Dichtungsvorrichtung (300) aufgenommen ist, und wobei die Dichtungsvorrichtung (300) mit Hilfe des radialen Verpressab- schnitts (312) radial in der ersten Ringnut (220) verpresst ist. 1. Water-conducting system (200), in particular cooling system for a Litho ¬ graphieanlage (100A, 100B) comprising a cooler (202) having a flange surface includes (210) a conduit (212) for supplying cooling water (206) to the radiator (202) or for discharging cooling water (206) from the radiator (202), the pipe (212) having a flange section (216) which abuts the flange surface (210) and a sealing device (300) which comprises a disk-shaped axial pressing section (304) and a disk-shaped radial pressing section (312), the axial pressing section (304) being pressed axially between the flange surface (210) and the flange section (216) in such a way that the axi ¬ ale pressing section ( 304) each flat on the flange surface (210) and on the flange portion (216), wherein the flange portion (216) comprises a first annular groove (220), in wel ¬ cher the sealing device (300) is accommodated, and wherein the sealing device (300) is pressed radially in the first annular groove (220) with the aid of the radial pressing section (312).
2. Wasserführendes System nach Anspruch 1, wobei der axiale Verpressab¬ schnitt (304) eine erste Oberfläche (308), welche dem Flanschabschnitt (216) zugeordnet ist, und eine zweite Oberfläche (310), welche der Flanschfläche (210) zugeordnet ist, umfasst, und wobei die erste Oberfläche (308) und die zweite Oberfläche (310) beabstandet voneinander und parallel zueinander an¬ geordnet sind. 2. Water-conducting system according to claim 1, wherein the axial Verpressab ¬ section (304) has a first surface (308) which is associated with the flange section (216) and a second surface (310) which is associated with the flange surface (210), comprises, and wherein the first surface (308) and the second surface (310) spaced apart and parallel to each other are arranged at ¬ .
3. Wasserführendes System nach Anspruch 1 oder 2, wobei der axiale Ver- pressabschnitt (304) einen zentralen Durchbruch (306) aufweist, durch welchen das Kühlwasser (206) hindurchtritt. 3. Water-carrying system according to claim 1 or 2, wherein the axial compression section (304) has a central opening (306) through which the cooling water (206) passes.
4. Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1 - 3, wobei die erste Ringnut (220) eine zylinderförmige erste Wandung (222) und eine radial von der ersten Wandung (222) beabstandet angeordnete zweite Wandung (224) um fasst, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) an der ersten Wandung (222) anliegt, und wobei der radiale Verpressabschnitt (312) an der zweiten Wan dung (224) anliegt, um die Dichtungsvorrichtung (300) in der ersten Ringnut (220) radial zu verpressen. 4. Water-conveying system according to one of claims 1 - 3, wherein the first annular groove (220) comprises a cylindrical first wall (222) and a second wall (224) arranged at a distance radially from the first wall (222), the axial compression section (304) abuts the first wall (222), and wherein the radial compression section (312) abuts the second wall (224) to compress the sealing device (300) radially in the first annular groove (220).
5. Wasserführendes System nach Anspruch 4, wobei die erste Ringnut (220) eine die erste Wandung (222) mit der zweiten Wandung (224) verbindende drit te Wandung (226) umfasst, welche parallel zu der Flanschfläche (210) orientiert ist, und wobei die Dichtungs Vorrichtung (300) an der ersten Wandung (222), an der zweiten Wandung (224) und an der dritten Wandung (226) anliegt. 5. Water-conducting system according to claim 4, wherein the first annular groove (220) comprises a third wall (226) connecting the first wall (222) to the second wall (224), which is oriented parallel to the flange surface (210), and wherein the sealing device (300) abuts the first wall (222), the second wall (224) and the third wall (226).
6. Wasserführendes System nach Anspruch 4 oder 5, wobei der radiale Ver pressabschnitt (312) ausschließlich an der zweiten Wandung (224) anliegt. 6. Water-bearing system according to claim 4 or 5, wherein the radial compression section (312) bears exclusively against the second wall (224).
7. Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1 - 6, wobei der axia le Verpressabschnitt (304) entlang einer Axialrichtung (A) betrachtet eine grö ßere Dicke (t304) als der radiale Verpressabschnitt (312) umfasst. 7. Water-conducting system according to one of claims 1 - 6, wherein the axia le pressing section (304) viewed along an axial direction (A) comprises a greater thickness (t304) than the radial pressing section (312).
8. Wasserführendes System nach Anspruch 7, wobei der radiale Verpressab schnitt (312) entlang der Axialrichtung (A) betrachtet mittig an dem axialen Verpressabschnitt (304) angeordnet ist. 8. Water-conducting system according to claim 7, wherein the radial Verpressab section (312) viewed along the axial direction (A) is arranged centrally on the axial Verpressabschnitt (304).
9. Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1 - 8, wobei an dem radialen Verpressabschnitt (312) zumindest ein Entlüftungsausschnitt (320, 322, 324, 326) vorgesehen ist, welcher den radialen Verpressabschnitt (312) vollständig durchbricht. 9. Water-carrying system according to one of claims 1 - 8, wherein at least one ventilation cutout (320, 322, 324, 326) is provided on the radial compression section (312), which completely breaks through the radial compression section (312).
10. Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1 - 9, wobei der Flanschabschnitt (216) eine zweite Ringnut (228) umfasst, in welcher ein Dich¬ tungselement (240), insbesondere ein ORing, eine Flachdichtung oder eine Dichtung mit quadratischem oder c-förmigem Querschnitt, aufgenommen ist, und wobei das Dichtungselement (240) zwischen der FlanschfLäche (210) und dem Flanschabschnitt (216) axial verpresst ist. 10. Water-conducting system according to one of claims 1 - 9, wherein the flange section (216) comprises a second annular groove (228) in which a seal ¬ processing element (240), in particular an O-ring, a flat seal or a seal with a square or c- shaped cross-section, and wherein the sealing element (240) is axially compressed between the flange surface (210) and the flange section (216).
11. Wasserführendes System nach Anspruch 10, wobei die zweite Ringnut (228) und die erste Ringnut (220) derart angeordnet sind, dass die zweite Ringnut (228) um die erste Ringnut (220) herumläuft. 11. Water-conducting system according to claim 10, wherein the second annular groove (228) and the first annular groove (220) are arranged such that the second annular groove (228) runs around the first annular groove (220).
12. Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1 - 11, wobei die Dichtungsvorrichtung (300) rotationssymmetrisch zu einer Symmetrieachse (302) auf geh aut ist. 12. Water-carrying system according to one of claims 1-11, wherein the sealing device (300) is rotationally symmetrical to an axis of symmetry (302) on haut.
13. Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1 - 12, wobei die Dichtungsvorrichtung (300) ein einteihges, insbesondere ein materialeinstücki¬ ges, Bauteil ist. 13. Water-conducting system according to one of claims 1-12, wherein the sealing device (300) is a one-piece, in particular a material one-piece ¬ tot component.
14. Lithographieanlage (100A, 100B) mit einem wasserführenden System (200) nach einem der Ansprüche 1 - 13. 14. Lithography system (100A, 100B) with a water-carrying system (200) according to any one of claims 1 - 13.
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