DE102020208496A1 - WATER CONDUCTING SYSTEM AND LITHOGRAPHY PLANT - Google Patents

WATER CONDUCTING SYSTEM AND LITHOGRAPHY PLANT Download PDF

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    • F16L23/22—Flanged joints characterised by the sealing means the sealing means being rings made exclusively of a material other than metal

Abstract

Ein wasserführendes System (200), insbesondere ein Kühlsystem, für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Kühler (202), welcher eine Flanschfläche (210) umfasst, eine Leitung (212) zum Zuführen von Kühlwasser (206) zu dem Kühler (202) oder zum Abführen von Kühlwasser (206) von dem Kühler (202), wobei die Leitung (212) einen Flanschabschnitt (216) aufweist, welcher an der Flanschfläche (210) anliegt, und eine Dichtungsvorrichtung (300), welche einen scheibenförmigen axialen Verpressabschnitt (304) umfasst, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) derart axial zwischen der Flanschfläche (210) und dem Flanschabschnitt (216) verpresst ist, dass der axiale Verpressabschnitt (304) jeweils flächig an der Flanschfläche (210) und an dem Flanschabschnitt (216) anliegt.A water-carrying system (200), in particular a cooling system, for a lithography system (100A, 100B), having a cooler (202) which includes a flange surface (210), a line (212) for supplying cooling water (206) to the cooler (202) or for discharging cooling water (206) from the cooler (202), the line (212) having a flange section (216) which abuts the flange surface (210), and a sealing device (300) which has a disc-shaped axial compression section (304), wherein the axial compression section (304) is compressed axially between the flange surface (210) and the flange section (216) in such a way that the axial compression section (304) is flat on the flange surface (210) and on the flange section (216) is present.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein wasserführendes System für eine Lithographieanlage und eine Lithographieanlage mit einem derartigen wasserführenden System.The present invention relates to a water-carrying system for a lithography system and a lithography system with such a water-carrying system.

Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographieprozess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungssystem und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuchtungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektionssystems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispielsweise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen.Microlithography is used to produce microstructured components such as integrated circuits. The microlithography process is carried out using a lithography system which has an illumination system and a projection system. The image of a mask (reticle) illuminated by the illumination system is projected by the projection system onto a substrate coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, for example a silicon wafer, in order to place the mask structure on the light-sensitive coating of the substrate transferred to.

Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV-Lithographieanlagen (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) entwickelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 nm bis 30 nm, insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von - wie bisher - brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden.Driven by the striving for ever smaller structures in the production of integrated circuits, EUV lithography systems (English: extreme ultraviolet, EUV) are currently being developed, which emit light with a wavelength in the range from 0.1 nm to 30 nm, in particular 13.5 nm , use. In such EUV lithography systems, because of the high absorption of light of this wavelength by most materials, reflective optics, ie mirrors, must be used instead of—as hitherto—refractive optics, ie lenses.

Zum Kühlen von Komponenten einer derartigen EUV-Lithographieanlage, wie beispielsweise einem Kollektor einer EUV-Lichtquelle, können Kühler eingesetzt werden, die aus einer Aluminiumlegierung gefertigt sind. An einen derartigen Kühler kann eine Zuleitung zum Zuleiten von Kühlwasser zu dem Kühler angeflanscht sein. Zwischen dem Kühler und der Zuleitung können Dichtungen aus Metall oder Kunststoff eingesetzt werden. Beispielsweise können O-Ringe als Dichtungen eingesetzt werden. Im EUV-Bereich ist aufgrund seiner hohen Vakuumanforderungen ein besonderes Augenmerk auf die Abdichtung zu legen. Dabei ist zu beachten, dass bereits austretende Wassermoleküle, beispielsweise in Form von Dampf, zu Vakuumeinbrüchen bei mindestens 10-9 mbar führen können.To cool components of such an EUV lithography system, such as a collector of an EUV light source, coolers made from an aluminum alloy can be used. A supply line for supplying cooling water to the cooler can be flanged onto such a cooler. Seals made of metal or plastic can be used between the cooler and the supply line. For example, O-rings can be used as seals. In the EUV area, special attention must be paid to the seal due to the high vacuum requirements. It should be noted that water molecules that are already escaping, for example in the form of steam, can lead to vacuum collapses of at least 10 -9 mbar.

Als Kühlwasser kann vollentsalztes Wasser verwendet werden, welches jedoch die verwendeten Materialien, insbesondere die Aluminiumlegierung des Kühlers, angreifen kann. Zusätzlich kann vollentsalztes Wasser Ionen aus den durchflossenen Materialien herauslösen und wirkt damit korrosionsfördernd. Werden nun die Korrosionsprodukte an einer Flanschfläche des Kühlers und an der Dichtung abgelagert, so kann es bei einer ungünstigen Geometrie der Dichtung, beispielsweise bei einer Dichtung mit einem kreisförmigen oder ovalen Querschnitt, zu einer Unterwanderung der Dichtung mit den Korrosionsprodukten und damit zu einer Undichtigkeit des Kühlsystems kommen.Fully desalinated water can be used as cooling water, but this can attack the materials used, in particular the aluminum alloy of the cooler. In addition, fully desalinated water can release ions from the materials it flows through and thus have a corrosion-promoting effect. If the corrosion products are now deposited on a flange surface of the cooler and on the seal, an unfavorable seal geometry, for example a seal with a circular or oval cross section, can result in the corrosion products infiltrating the seal and thus causing the seal to leak cooling system.

Hinsichtlich einer Undichtigkeit kritisch sind insbesondere Dichtungen mit einem kreisförmigen oder ovalen Querschnitt, an denen sich Totwasserzonen bilden können. Hierbei können sich zwischen der Dichtung und der Flanschfläche des Kühlers schmale Spalte ausbilden, die mit Wasser und Ionen gefüllt sind. Im Falle der Verwendung einer ringförmigen Dichtung, insbesondere eines O-Rings, die nur linienförmig an der Flanschfläche anliegt, kann sich so eine Totwasserzone in Form eines keilförmigen Spalts bilden. In solchen Spalten sind Ablagerungen thermodynamisch bevorzugt, da es weniger Durchfluss gibt und zusätzlich geringere Grenzenergien zur Nukleation von Ausscheidungen überwunden werden müssen.In terms of leakage, seals with a circular or oval cross-section are particularly critical, where dead water zones can form. Small gaps filled with water and ions can form between the seal and the flange surface of the cooler. If an annular seal is used, in particular an O-ring, which only bears linearly against the flange surface, a dead water zone can form in the form of a wedge-shaped gap. Deposits are thermodynamically favored in such fissures, since there is less flow and, in addition, lower limit energies have to be overcome for the nucleation of precipitations.

Liegen Ausscheidungen in Form von Korrosionsprodukten vor, können diese die Dichtung unterwandern und wegdrücken. Die Korrosionsprodukte nehmen dabei ein größeres Volumen als das ursprüngliche Material ein und sind gegebenenfalls leicht porös. Somit kann letztlich Kühlwasser, beispielsweise als Moleküle, oder bei fortgeschrittener Korrosion als Tropfen, aus dem wasserführenden System austreten. Das wasserführende System wird dann undicht. Dies gilt es zu vermeiden.If there are precipitates in the form of corrosion products, they can undermine the seal and push it away. The corrosion products take up a larger volume than the original material and may be slightly porous. This means that cooling water can ultimately escape from the water-carrying system, for example as molecules or, in the case of advanced corrosion, as drops. The water-carrying system then becomes leaky. This is to be avoided.

Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, ein verbessertes wasserführendes System für eine Lithographieanlage bereitzustellen.Against this background, an object of the present invention is to provide an improved water-carrying system for a lithography system.

Demgemäß wird ein wasserführendes System, insbesondere ein Kühlsystem, für eine Lithographieanlage vorgeschlagen. Das wasserführende System umfasst einen Kühler, welche eine Flanschfläche umfasst, eine Leitung zum Zuführen von Kühlwasser zu dem Kühler oder zum Abführen von Kühlwasser von dem Kühler, wobei die Leitung einen Flanschabschnitt aufweist, welcher an der Flanschfläche anliegt, und eine Dichtungsvorrichtung, welche einen scheibenförmigen axialen Verpressabschnitt umfasst, wobei der axiale Verpressabschnitt derart axial zwischen der Flanschfläche und dem Flanschabschnitt verpresst ist, dass der axiale Verpressabschnitt jeweils flächig an der Flanschfläche und an dem Flanschabschnitt anliegt.Accordingly, a water-carrying system, in particular a cooling system, is proposed for a lithography system. The water-carrying system includes a cooler, which includes a flange surface, a pipe for supplying cooling water to the cooler or for discharging cooling water from the cooler, the pipe having a flange portion which abuts the flange surface, and a sealing device which has a disk-shaped comprises an axial compression section, wherein the axial compression section is compressed axially between the flange surface and the flange section in such a way that the axial compression section bears flat against the flange surface and against the flange section.

Dadurch, dass der axiale Verpressabschnitt sowohl flächig an der Flanschfläche als auch flächig an dem Flanschabschnitt anliegt, wird die Bildung von Totwasserzonen im Kontaktbereich zwischen der Dichtungsvorrichtung und der Flanschfläche oder dem Flanschabschnitt zuverlässig verhindert. Undichtigkeiten an dem wasserführenden System werden somit vermieden.Due to the fact that the axial compression section bears flat against both the flange surface and the flange section, the formation of dead water zones in the contact area between the sealing device and the flange surface or the flange section is reliably prevented. Leaks in the water-carrying system are thus avoided.

Das wasserführende System ist bevorzugt ein Kühlsystem. Insbesondere kann das wasserführende System ein Kühlsystem eines Kollektors einer EUV-Lichtquelle sein. Der Kühler ist vorzugsweise aus einer Aluminiumlegierung gefertigt. Der Kühler kann als Aluminiumkühler bezeichnet werden. In dem Kühler ist eine Vielzahl an Kühlkanälen vorgesehen, welche mit Hilfe von Kühlwasser, insbesondere mit Hilfe von vollentsalztem Wasser, durchströmt werden, um ein Bauteil der Lithographieanlage, beispielsweise den Kollektor oder andere mechanische Bauteile, die zur Gewährleistung der Funktionalität des Kollektors benötigt werden, zu kühlen. Die Leitung kann eine Zuführleitung oder eine Abführleitung sein. Bevorzugt weist der Kühler zumindest eine Zuführleitung und eine Abführleitung auf. Die Leitung umfasst einen rohrförmigen Basisabschnitt, an welchem der Flanschabschnitt angeformt oder angebracht ist. Die Leitung ist rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse aufgebaut. Der Flanschabschnitt läuft scheibenförmig um die Symmetrieachse um. Die Leitung und der Flanschabschnitt haben einen zentralen Durchbruch, durch den das Kühlwasser geführt werden kann.The water-carrying system is preferably a cooling system. In particular, the water-carrying system can be a cooling system for a collector of an EUV light source. The cooler is preferably made of an aluminum alloy. The cooler can be called an aluminum cooler. A large number of cooling channels are provided in the cooler, through which cooling water, in particular deionized water, flows in order to cool a component of the lithography system, for example the collector or other mechanical components that are required to ensure the functionality of the collector. to cool. The line can be a supply line or a discharge line. The cooler preferably has at least one supply line and one discharge line. The conduit includes a tubular base portion to which the flange portion is molded or attached. The line is rotationally symmetrical to a central or symmetrical axis. The flange section runs around the axis of symmetry in the form of a disk. The line and the flange section have a central opening through which the cooling water can be routed.

Die Dichtungsvorrichtung ist vorzugsweise elastisch, insbesondere federelastisch, verformbar. Beispielsweise kann die Dichtungsvorrichtung aus einem Perfluorkautschuk, einem Silikonkautschuk, Gummi oder aus einem anderen geeigneten Material gefertigt sein. Dass der axiale Verpressabschnitt „scheibenförmig“ ist, bedeutet vorliegend, dass der Verpressabschnitt eine flache und gleichzeitig zylinderförmige Geometrie aufweist, welche mittig von einem Durchbruch durchbrochen ist. Der axiale Verpressabschnitt ist vorzugsweise rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse der Dichtungsvorrichtung aufgebaut. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Ein rotationssymmetrischer Aufbau erleichtert jedoch den Einbau der Dichtungsvorrichtung, da eine Verwechslung ausgeschlossen werden kann (Poka Yoke Prinzip).The sealing device is preferably elastic, in particular resilient, deformable. For example, the sealing device can be made of a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber or other suitable material. The fact that the axial compression section is “disc-shaped” means in the present case that the compression section has a flat and at the same time cylindrical geometry, which is broken through in the middle by an opening. The axial compression section is preferably designed to be rotationally symmetrical to a central or symmetrical axis of the sealing device. However, this is not mandatory. However, a rotationally symmetrical design makes it easier to install the sealing device, since confusion can be ruled out (Poka Yoke principle).

Vorzugsweise ist der Dichtungsvorrichtung eine Axialrichtung zugeordnet, die entlang der Symmetrieachse orientiert ist, und eine Radialrichtung, welche senkrecht zu der Symmetrieachse und von dieser weg orientiert ist. Dass der axiale Verpressabschnitt jeweils „flächig“ an der Flanschfläche und an dem Flanschabschnitt anliegt, bedeutet vorliegend, dass zwischen dem axialen Verpressabschnitt und der Flanschfläche oder zwischen dem axialen Verpressabschnitt und dem Flanschabschnitt keine punktförmige oder linienförmige, sondern eine scheibenförmige Kontaktfläche vorgesehen ist.Preferably, the sealing device is associated with an axial direction oriented along the axis of symmetry and a radial direction oriented perpendicular to and away from the axis of symmetry. The fact that the axial compression section bears "flatly" against the flange surface and the flange section means in the present case that there is no punctiform or linear contact surface between the axial compression section and the flange surface or between the axial compression section and the flange section, but rather a disk-shaped contact surface.

Gemäß einer Ausführungsform umfasst der axiale Verpressabschnitt eine erste Oberfläche, welche dem Flanschabschnitt zugeordnet ist, und eine zweite Oberfläche, welche der Flanschfläche zugeordnet ist, wobei die erste Oberfläche und die zweite Oberfläche beabstandet voneinander und parallel zueinander angeordnet sind.According to one embodiment, the axial swage portion includes a first surface associated with the flange portion and a second surface associated with the flange surface, the first surface and the second surface being spaced apart and parallel to each other.

Dass die erste Oberfläche dem Flanschabschnitt „zugeordnet“ ist, bedeutet vorliegend, dass die erste Oberfläche an dem Flanschabschnitt anliegt. Analoges gilt für die zweite Oberfläche. Die erste Oberfläche und die zweite Oberfläche sind entlang der Axialrichtung der Dichtungsvorrichtung betrachtet voneinander beabstandet positioniert. Dabei bilden die erste Oberfläche und die zweite Oberfläche jeweils eine Ebene aus. Diese beiden Ebenen sind parallel zueinander platziert.The fact that the first surface is “associated” with the flange section means here that the first surface is in contact with the flange section. The same applies to the second surface. The first surface and the second surface are positioned spaced apart from each other as viewed along the axial direction of the sealing device. The first surface and the second surface each form a plane. These two planes are placed parallel to each other.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist der axiale Verpressabschnitt einen zentralen Durchbruch auf, durch welchen das Kühlwasser hindurchtritt.According to a further embodiment, the axial compression section has a central opening through which the cooling water passes.

Der zentrale Durchbruch ist vorzugsweise zylinderförmig. Der Durchbruch durchbricht die Dichtungsvorrichtung vollständig. Der Durchbruch ist rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse der Dichtungsvorrichtung aufgebaut. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. Der Durchbruch kann auch eine vieleckige Geometrie aufweisen. Durch den Durchbruch hindurch kann das Kühlwasser strömen.The central breakthrough is preferably cylindrical. The breakthrough completely breaches the sealing device. The breakthrough is constructed rotationally symmetrically to the axis of symmetry of the sealing device. However, this is not mandatory. The opening can also have a polygonal geometry. The cooling water can flow through the opening.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der Flanschabschnitt eine erste Ringnut, in welcher die Dichtungsvorrichtung aufgenommen ist, wobei die Dichtungsvorrichtung einen scheibenförmigen radialen Verpressabschnitt umfasst, und wobei die Dichtungsvorrichtung mit Hilfe des radialen Verpressabschnitts radial in der ersten Ringnut verpresst ist.According to a further embodiment, the flange section includes a first annular groove in which the sealing device is accommodated, the sealing device including a disk-shaped radial compression section, and the sealing device being compressed radially in the first annular groove with the aid of the radial compression section.

Das heißt, die Dichtungsvorrichtung ist zwischen zwei zylinderförmigen Wandungen der ersten Ringnut verpresst. Dabei liegt an einer ersten Wandung der axiale Verpressabschnitt und an einer zweiten Wandung der radiale Verpressabschnitt an. Dabei kontaktiert der radiale Verpressabschnitt die Flanschfläche des Kühlers nicht.This means that the sealing device is pressed between two cylindrical walls of the first annular groove. The axial compression section bears against a first wall and the radial compression section bears against a second wall. The radial pressing section does not contact the flange surface of the cooler.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die erste Ringnut eine zylinderförmige erste Wandung und eine radial von der ersten Wandung beabstandet angeordnete zweite Wandung, wobei der axiale Verpressabschnitt an der ersten Wandung anliegt, und wobei der radiale Verpressabschnitt an der zweiten Wandung anliegt, um die Dichtungsvorrichtung in der ersten Ringnut radial zu verpressen.According to a further embodiment, the first annular groove comprises a cylindrical first wall and a second wall arranged at a radial distance from the first wall, wherein the axial compression section bears against the first wall, and wherein the radial compression section bears against the second wall in order to seal the sealing device in the to compress the first ring groove radially.

Die Dichtungsvorrichtung ist somit zwischen der ersten Wandung und der zweiten Wandung angeordnet. Entlang der Radialrichtung betrachtet ist die Dichtungsvorrichtung elastisch, insbesondere federelastisch, verformt, so dass diese sich in der ersten Ringnut verklemmt.The sealing device is thus arranged between the first wall and the second wall. Viewed along the radial direction, the sealing device is elastically, in particular resiliently, deformed, so that it is jammed in the first annular groove.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die erste Ringnut eine die erste Wandung mit der zweiten Wandung verbindende dritte Wandung, welche parallel zu der Flanschfläche orientiert ist, wobei die Dichtungsvorrichtung an der ersten Wandung, an der zweiten Wandung und an der dritten Wandung anliegt. According to a further embodiment, the first annular groove comprises a third wall which connects the first wall to the second wall and is oriented parallel to the flange surface, the sealing device bearing against the first wall, the second wall and the third wall.

Vorzugsweise liegt der axiale Verpressabschnitt an der ersten Wandung und an der dritten Wandung an. Der radiale Verpressabschnitt hingegen liegt nur an der zweiten Wandung an. Der radiale Verpressabschnitt kontaktiert die dritte Wandung bevorzugt nicht.The axial compression section preferably bears against the first wall and the third wall. The radial pressing section, on the other hand, is only in contact with the second wall. The radial compression section preferably does not contact the third wall.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform liegt der radiale Verpressabschnitt ausschließlich an der zweiten Wandung an.According to a further embodiment, the radial pressing section bears exclusively against the second wall.

Das heißt, der radiale Verpressabschnitt weist keinen Kontakt mit der Flanschfläche des Kühlers oder mit der dritten Wandung der ersten Ringnut des Flanschabschnitts auf.That is, the radial swage portion has no contact with the flange face of the cooler or with the third wall of the first annular groove of the flange portion.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der axiale Verpressabschnitt entlang einer Axialrichtung betrachtet eine größere Dicke als der radiale Verpressabschnitt.According to a further embodiment, the axial compression section, viewed along an axial direction, has a greater thickness than the radial compression section.

Der radiale Verpressabschnitt ist, wie der axiale Verpressabschnitt, scheibenförmig und läuft um den axialen Verpressabschnitt vollständig um.Like the axial pressing section, the radial pressing section is disk-shaped and runs completely around the axial pressing section.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der radiale Verpressabschnitt entlang der Axialrichtung betrachtet mittig an dem axialen Verpressabschnitt angeordnet.According to a further embodiment, the radial compression section is arranged centrally on the axial compression section, viewed along the axial direction.

Das heißt, die Dichtungsvorrichtung ist spiegelsymmetrisch zu einer entlang der Axialrichtung betrachtet mittig durch die Dichtungsvorrichtung verlaufenden Ebene aufgebaut.This means that the sealing device is constructed mirror-symmetrically to a plane running centrally through the sealing device, viewed along the axial direction.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist an dem radialen Verpressabschnitt zumindest ein Entlüftungsabschnitt vorgesehen, welcher den radialen Verpressabschnitt vollständig durchbricht.According to a further embodiment, at least one ventilation section is provided on the radial compression section, which completely breaks through the radial compression section.

Der Entlüftungsausschnitt kann beispielsweise eine halbkreisförmige Geometrie aufweisen. Der Entlüftungsausschnitt kann jedoch eine beliebige Form oder Geometrie aufweisen. Mit Hilfe des Entlüftungsabschnitts ist es möglich, die erste Ringnut vollständig zu entlüften oder mit einem Vakuum zu beaufschlagen. Es kann eine beliebige Anzahl an Entlüftungsausschnitten vorgesehen sein, die vorzugsweise gleichmäßig um einen Umfang des radialen Verpressabschnitts verteilt angeordnet sind. Beispielsweise sind zwei, drei, vier, fünf oder sechs derartige Entlüftungsausschnitte vorgesehen. Die Entlüftungsausschnitte können auch als den radialen Verpressabschnitt durchbrechende Bohrungen ausgebildet sein.The ventilation cutout can have a semi-circular geometry, for example. However, the vent cutout can have any shape or geometry. With the aid of the ventilation section, it is possible to completely ventilate the first annular groove or to apply a vacuum. Any number of ventilation cutouts can be provided, which are preferably distributed uniformly around a circumference of the radial compression section. For example, two, three, four, five or six such vent cutouts are provided. The ventilation cutouts can also be formed as bores breaking through the radial compression section.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst der Flanschabschnitt eine zweite Ringnut, in welcher ein Dichtungselement, insbesondere ein O-Ring, eine Flachdichtung oder eine Dichtung mit quadratischem oder x-förmigem Querschnitt, aufgenommen ist, wobei das Dichtungselement zwischen der Flanschfläche und dem Flanschabschnitt axial verpresst ist.According to a further embodiment, the flange section includes a second annular groove in which a sealing element, in particular an O-ring, a flat seal or a seal with a square or x-shaped cross section, is accommodated, the sealing element being axially pressed between the flange surface and the flange section .

Zwischen dem Dichtungselement und der Flanschfläche beziehungsweise zwischen dem Dichtungselement und dem Flanschabschnitt ist jeweils ein linienförmiger Kontakt vorgesehen. Bezüglich der Radialrichtung betrachtet ist das Dichtungselement nach der Dichtungsvorrichtung angeordnet, so dass das Dichtungselement mit Hilfe der Dichtungsvorrichtung von dem Kühlwasser abgeschirmt ist.A linear contact is provided between the sealing element and the flange surface or between the sealing element and the flange section. Viewed with respect to the radial direction, the sealing element is arranged after the sealing device, so that the sealing element is shielded from the cooling water by means of the sealing device.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind die zweite Ringnut und die erste Ringnut derart angeordnet, dass die zweite Ringnut um die erste Ringnut herumläuft.According to a further embodiment, the second ring groove and the first ring groove are arranged in such a way that the second ring groove runs around the first ring groove.

Die zweite Ringnut kann die erste Ringnut in einer beliebigen Form umlaufen. Die Ringnuten müssen nicht ringförmig, insbesondere im Sonderfall kreisförmig, umeinanderlaufen. Beispielsweise könnte die erste Ringnut eine Ringform haben und die zweite Ringnut eine quadratische Form, beispielsweise mit abgerundeten Ecken. Die erste Ringnut ist bezüglich der Radialrichtung betrachtet also innerhalb der zweiten Ringnut angeordnet.The second annular groove can encircle the first annular groove in any desired shape. The annular grooves do not have to run around one another in a ring, in particular in a circle in the special case. For example, the first annular groove could have an annular shape and the second annular groove could have a square shape, for example with rounded corners. Viewed from the radial direction, the first annular groove is therefore arranged inside the second annular groove.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Dichtungsvorrichtung rotationssymmetrisch zu einer Symmetrieachse aufgebaut.According to a further embodiment, the sealing device is constructed rotationally symmetrically to an axis of symmetry.

Durch diesen rotationssymmetrischen Aufbau kann eine Fehlmontage der Dichtungsvorrichtung ausgeschlossen werden.Due to this rotationally symmetrical structure, incorrect assembly of the sealing device can be ruled out.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Dichtungsvorrichtung ein einteiliges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bauteil.According to a further embodiment, the sealing device is a one-piece component, in particular a component made of one piece of material.

„Einteilig“ oder „einstückig“ bedeutet vorliegend insbesondere, dass der axiale Verpressabschnitt und der radiale Verpressabschnitt ein gemeinsames Bauteil bilden und nicht aus unterschiedlichen Bauteilen zusammengesetzt sind. „Materialeinstückig“ bedeutet vorliegend, dass die Dichtungsvorrichtung durchgehend aus demselben Material, beispielsweise aus einem Perfluorkautschuk, einem Silikonkautschuk, Gummi oder dergleichen, gebildet ist."In one piece" or "in one piece" means in the present case in particular that the axial compression section and the radial compression section form a common component and not from below different components are assembled. In the present context, “in one piece” means that the sealing device is formed continuously from the same material, for example from a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber or the like.

Ferner wird eine Lithographieanlage mit einem derartigen wasserführenden System vorgeschlagen.A lithography system with such a water-carrying system is also proposed.

Das wasserführende System kann beispielsweise ein Kühlsystem eines Kollektors einer EUV-Lichtquelle der Lithographieanlage sein. Die Lithographieanlage kann eine EUV-Lithographieanlage oder eine DUV-Lithographieanlage sein. EUV steht für „Extreme Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. DUV steht für „Deep Ultraviolet“ und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Die Lithographieanlage kann mehrere derartige wasserführende Systeme umfassen.The water-carrying system can be, for example, a cooling system for a collector of an EUV light source in the lithography system. The lithography system can be an EUV lithography system or a DUV lithography system. EUV stands for "Extreme Ultraviolet" and designates a wavelength of the working light between 0.1 nm and 30 nm. DUV stands for "Deep Ultraviolet" and designates a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm. The lithography system can include several such water-bearing systems .

„Ein“ ist vorliegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist."A" is not necessarily to be understood as being limited to exactly one element. Rather, a plurality of elements, such as two, three or more, can also be provided. Any other count word used here should also not be understood to mean that there is a restriction to precisely the stated number of elements. Rather, numerical deviations upwards and downwards are possible, unless otherwise stated.

Die für das wasserführende System beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für die vorgeschlagene Lithographieanlage entsprechend und umgekehrt.The embodiments and features described for the water-carrying system apply correspondingly to the proposed lithography system and vice versa.

Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht explizit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausführungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.Further possible implementations of the invention also include combinations of features or embodiments described above or below with regard to the exemplary embodiments that are not explicitly mentioned. The person skilled in the art will also add individual aspects as improvements or additions to the respective basic form of the invention.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungsbeispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.

  • 1A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV-Lithographieanlage;
  • 1B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV-Lithographieanlage;
  • 2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines wasserführenden Systems für die Lithographieanlage gemäß 1A oder 1B;
  • 3 zeigt die Detailansicht III gemäß 2;
  • 4 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer Dichtungsvorrichtung für das wasserführende System gemäß 2; und
  • 5 zeigt eine schematische Schnittansicht der Dichtungsvorrichtung gemäß der Schnittlinie V-V der 4.
Further advantageous refinements and aspects of the invention are the subject matter of the dependent claims and of the exemplary embodiments of the invention described below. The invention is explained in more detail below on the basis of preferred embodiments with reference to the enclosed figures.
  • 1A shows a schematic view of an embodiment of an EUV lithography system;
  • 1B shows a schematic view of an embodiment of a DUV lithography system;
  • 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a water-carrying system for the lithography system according to FIG 1A or 1B ;
  • 3 shows the detailed view III according to 2 ;
  • 4 shows a schematic plan view of an embodiment of a sealing device for the water-conducting system according to FIG 2 ; and
  • 5 shows a schematic sectional view of the sealing device according to section line VV of FIG 4 .

In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise maßstabsgerecht sind.Elements that are the same or have the same function have been provided with the same reference symbols in the figures, unless otherwise stated. Furthermore, it should be noted that the representations in the figures are not necessarily to scale.

1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht EUV für „extremes Ultraviolett“ (Engl.: extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0,1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vorgesehen, wobei jedes Vakuum-Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Evakuierungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum-Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebsvorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elementen vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein. 1A shows a schematic view of an EUV lithography system 100A, which includes a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 . EUV stands for "extreme ultraviolet" (English: extreme ultraviolet, EUV) and designates a wavelength of the working light between 0.1 nm and 30 nm. The beam shaping and illumination system 102 and the projection system 104 are each in a vacuum chamber, not shown Housing provided, each vacuum housing is evacuated by means of an evacuation device, not shown. The vacuum housings are surrounded by a machine room, not shown, in which drive devices are provided for mechanically moving or adjusting optical elements. Furthermore, electrical controls and the like can also be provided in this machine room.

Die EUV-Lithographieanlage 100A weist eine EUV-Lichtquelle 106A auf. Als EUV-Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV-Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 30 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebündelt, und die gewünschte Betriebswellenlänge wird aus der EUV-Strahlung 108A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projektionssystem 104 evakuiert sind.The EUV lithography system 100A has an EUV light source 106A. A plasma source (or a synchrotron) can be provided as the EUV light source 106A, for example, which emits radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), ie for example in the wavelength range from 5 nm to 30 nm. In the beamforming and illumination system 102, the EUV radiation 108A is collimated and the desired operating wavelength is filtered out of the EUV radiation 108A. The EUV radiation 108A generated by the EUV light source 106A has a relatively low transmissivity through air, which is why the beam guidance spaces in the beam shaping and lighting system 102 and in the projection system 104 are evacuated.

Das in 1A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf eine Photomaske (Engl.: reticle) 120 geleitet. Die Photomaske 120 ist ebenfalls als reflektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Photomaske 120 gelenkt werden. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.This in 1A The beam shaping and illumination system 102 shown has five mirrors 110, 112, 114, 116, 118. After passing through the beam shaping and illumination system 102 , the EUV radiation 108A is directed onto a photomask (reticle) 120 . The photomask 120 is also designed as a reflective optical element and can be arranged outside of the systems 102, 104. Furthermore, the EUV radiation 108A can be directed onto the photomask 120 by means of a mirror 122 . The photomask 120 has a structure which is imaged on a wafer 124 or the like in reduced form by means of the projection system 104 .

Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel M1 bis M6 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Spiegel M1 bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel M1 bis M6 der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel M1 bis M6 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel M1 bis M6 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The projection system 104 (also referred to as a projection lens) has six mirrors M1 to M6 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124 . In this case, individual mirrors M1 to M6 of the projection system 104 can be arranged symmetrically to an optical axis 126 of the projection system 104 . It should be noted that the number of mirrors M1 to M6 of the EUV lithography tool 100A is not limited to the illustrated number. More or fewer mirrors M1 to M6 can also be provided. Furthermore, the mirrors M1 to M6 are usually curved on their front side for beam shaping.

1B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 100B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für „tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultraviolet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Projektionssystem 104 können - wie bereits mit Bezug zu 1A beschrieben - von einem Maschinenraum mit entsprechenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein. 1B FIG. 12 shows a schematic view of a DUV lithography system 100B, which comprises a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104. FIG. DUV stands for "deep ultraviolet" (Engl .: deep ultraviolet, DUV) and denotes a wavelength of the working light between 30 nm and 250 nm 1A described - be surrounded by a machine room with appropriate drive devices.

Die DUV-Lithographieanlage 100B weist eine DUV-Lichtquelle 106B auf. Als DUV-Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emittiert.The DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B. An ArF excimer laser, for example, can be provided as the DUV light source 106B, which emits radiation 108B in the DUV range at, for example, 193 nm.

Das in 1B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Photomaske 120. Die Photomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeordnet sein. Die Photomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.This in 1B The beam shaping and illumination system 102 shown directs the DUV radiation 108B onto a photomask 120. The photomask 120 is designed as a transmissive optical element and can be arranged outside of the systems 102, 104. The photomask 120 has a structure which is imaged on a wafer 124 or the like in reduced form by means of the projection system 104 .

Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Photomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zu einer optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 128 und Spiegel 130 der DUV-Lithographieanlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 128 und/oder Spiegel 130 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 130 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.The projection system 104 has a plurality of lenses 128 and/or mirrors 130 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124 . In this case, individual lenses 128 and/or mirrors 130 of the projection system 104 can be arranged symmetrically to an optical axis 126 of the projection system 104 . It should be noted that the number of lenses 128 and mirrors 130 of the DUV lithography tool 100B is not limited to the number illustrated. More or fewer lenses 128 and/or mirrors 130 can also be provided. Furthermore, the mirrors 130 are typically curved on their front side for beam shaping.

Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 132 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein solcher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. Das Medium 132 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden.An air gap between the last lens 128 and the wafer 124 can be replaced by a liquid medium 132 having a refractive index>1. The liquid medium 132 can be, for example, ultrapure water. Such a structure is also referred to as immersion lithography and has an increased photolithographic resolution. The medium 132 can also be referred to as an immersion liquid.

2 zeigt eine schematische Schnittansicht einer Ausführungsform eines wasserführenden Systems 200 für eine EUV-Lithographieanlage 100A oder für eine DUV-Lithographieanlage 100B. 3 zeigt die Detailansicht III gemäß der 2. Nachfolgend wird auf die 2 und 3 gleichzeitig Bezug genommen. 2 shows a schematic sectional view of an embodiment of a water-carrying system 200 for an EUV lithography system 100A or for a DUV lithography system 100B. 3 shows the detailed view III according to FIG 2 . The following will refer to the 2 and 3 referenced at the same time.

Das wasserführende System 200 kann ein Kühlsystem sein, welches geeignet ist, beliebige Komponenten der EUV-Lithographieanlage 100A oder der DUV-Lithographieanlage 100B zu kühlen. Das wasserführende System 200 kann beispielsweise ein Kühlsystem eines Kollektors einer wie zuvor erwähnten EUV-Lichtquelle 106A sein.The water-carrying system 200 can be a cooling system that is suitable for cooling any components of the EUV lithography system 100A or the DUV lithography system 100B. The water-carrying system 200 can be, for example, a cooling system of a collector of an EUV light source 106A as mentioned above.

Das wasserführende System 200 umfasst einen Kühler 202, der aus einer Aluminiumlegierung gefertigt ist. Der Kühler 202 kann jedoch auch aus Edelstahl, Kupfer oder aus einem anderen geeigneten Material gefertigt sein. Der Kühler 202 weist eine Vielzahl an Kühlkanälen 204 auf, von denen in der 2 nur einer gezeigt ist. In den Kühlkanälen 204 zirkuliert Kühlwasser 206, insbesondere vollentsalztes Wasser. Der in der 2 gezeigte Kühlkanal 204 ist rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse 208 aufgebaut. An dem Kühler 202 ist eine Flanschfläche 210 vorgesehen. Die Flanschfläche 210 kann beispielsweise eine geschliffene Oberfläche des Kühlers 202 mit einer definierten Oberflächenrauigkeit sein. Die Flanschfläche 210 kann ringförmig um die Symmetrieachse 208 umlaufen.The water-carrying system 200 includes a cooler 202 made of an aluminum alloy. However, the cooler 202 can also be made of stainless steel, copper or any other suitable material. The cooler 202 has a multiplicity of cooling channels 204, of which in FIG 2 only one is shown. Cooling water 206, in particular deionized water, circulates in the cooling channels 204. The Indian 2 The cooling channel 204 shown is constructed rotationally symmetrically to a central or symmetrical axis 208 . A flange surface 210 is provided on the cooler 202 . The flange surface 210 can, for example, be a ground surface of the cooler 202 with a defined surface roughness. The flange surface 210 can encircle the axis of symmetry 208 in an annular manner.

Weiterhin weist das wasserführende System 200 eine Leitung 212 auf. Die Leitung 212 kann eine Zuführleitung zum Zuführen des Kühlwassers 206 zu dem Kühler 202 oder eine Abführleitung zum Abführen des Kühlwassers 206 von dem Kühler 202 sein. Die Leitung 212 umfasst einen rohrförmigen Basisabschnitt 214 sowie einen tellerförmigen oder scheibenförmigen Flanschabschnitt 216, der an den Basisabschnitt 214 angeformt ist. Der Flanschabschnitt 216 kann eine beliebige Form aufweisen. Der Flanschabschnitt 216 kann beispielsweise auch oval oder vieleckig sein. Der Flanschabschnitt 216 kann rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 208 aufgebaut sein. Der Flanschabschnitt 216 kann jedoch auch unsymmetrisch aufgebaut sein.Furthermore, the water-carrying system 200 has a line 212 . The line 212 can be a A supply line for supplying the cooling water 206 to the radiator 202 or a discharge line for discharging the cooling water 206 from the radiator 202. Conduit 212 includes a tubular base portion 214 and a dish-shaped or disc-shaped flange portion 216 molded to base portion 214 . The flange portion 216 can have any shape. The flange section 216 can also be oval or polygonal, for example. The flange section 216 can be rotationally symmetrical to the axis of symmetry 208 . However, the flange section 216 can also be constructed asymmetrically.

Der Basisabschnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 können einteilig, insbesondere materialeinstückig, miteinander verbunden sein. Dies ist jedoch nicht zwingend erforderlich. „Einteilig“ oder „einstückig“ bedeutet vorliegend, dass der Basisabschnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 ein gemeinsames Bauteil bilden und nicht aus unterschiedlichen Bauteilen zusammengesetzt sind. „Materialeinstückig“ bedeutet vorliegend, dass der Basisabschnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 durchgehend aus demselben Material gefertigt sind. Die Leitung 212 kann aus Edelstahl gefertigt sein. Der Basisabschnitt 214 und der Flanschabschnitt 216 können jedoch auch zwei voneinander getrennte Bauteile sein, die beispielsweise miteinander verschweißt sind.The base section 214 and the flange section 216 can be connected to one another in one piece, in particular in one piece of material. However, this is not mandatory. In the present case, “in one piece” or “in one piece” means that the base section 214 and the flange section 216 form a common component and are not composed of different components. “One-piece material” means here that the base section 214 and the flange section 216 are continuously manufactured from the same material. The conduit 212 can be made of stainless steel. However, the base section 214 and the flange section 216 can also be two separate components which are welded to one another, for example.

Der Flanschabschnitt 216 ist gegen die Flanschfläche 210 des Kühlers 202 gepresst. Hierzu kann eine Verschraubung (nicht gezeigt) vorgesehen sein, welche den Flanschabschnitt 216 gegen die Flanschfläche 210 drückt. Der Flanschabschnitt 216 umfasst eine beispielsweise ringförmig um die Symmetrieachse 208 umlaufende Flanschfläche 218, die an der Flanschfläche 210 anliegt. Die Flanschfläche 218 kann eine geschliffene Oberfläche mit einer definierten Oberflächenrauigkeit sein.The flange portion 216 is pressed against the flange face 210 of the radiator 202 . A screw connection (not shown) can be provided for this purpose, which presses the flange section 216 against the flange surface 210 . The flange section 216 comprises a flange surface 218 which runs around the axis of symmetry 208 in a ring, for example, and rests against the flange surface 210 . The flange surface 218 can be a ground surface with a defined surface roughness.

An dem Flanschabschnitt 216 ist eine in Richtung der Flanschfläche 210 offene und rotationssymmetrisch um die Symmetrieachse 208 umlaufende erste Ringnut 220 vorgesehen. Die erste Ringnut 220 erstreckt sich ausgehend von der Symmetrieachse 208 in einer Radialrichtung R in den Flanschabschnitt 216 hinein. Die erste Ringnut 220 umfasst eine erste Wandung 222, welche zylinderförmig um die Symmetrieachse 208 umläuft. Die erste Wandung 222 ist entlang einer Axialrichtung A, die entlang der Symmetrieachse 208 orientiert ist, betrachtet beabstandet von der Flanschfläche 210 platziert. Die erste Ringnut 220 umfasst ferner eine zweite Wandung 224, welche ebenfalls zylinderförmig ist. Auch die zweite Wandung 224 ist entlang der Axialrichtung A betrachtet beabstandet von der Flanschfläche 210 platziert. Entlang der Radialrichtung R betrachtet ist die zweite Wandung 224 weiter von der Symmetrieachse 208 weg platziert als die erste Wandung 222. Die Wandungen 222, 224 sind mit Hilfe einer sich entlang der Radialrichtung R erstreckenden dritten Wandung 226 miteinander verbunden. Die dritte Wandung 226 ist beispielsweise scheibenförmig und ist parallel zu den Flanschflächen 210, 218 orientiert. Die dritte Wandung 226 kann jedoch eine beliebige Geometrie aufweisen.A first annular groove 220 , which is open in the direction of the flange surface 210 and runs around the axis of symmetry 208 in a rotationally symmetrical manner, is provided on the flange section 216 . Starting from the axis of symmetry 208 , the first annular groove 220 extends in a radial direction R into the flange section 216 . The first annular groove 220 comprises a first wall 222 which runs around the axis of symmetry 208 in a cylindrical manner. The first wall 222 is spaced from the flange surface 210 as viewed along an axial direction A oriented along the axis of symmetry 208 . The first annular groove 220 also includes a second wall 224, which is also cylindrical. The second wall 224 is also placed at a distance from the flange surface 210 when viewed in the axial direction A. Viewed along the radial direction R, the second wall 224 is placed further away from the axis of symmetry 208 than the first wall 222. The walls 222, 224 are connected to one another by means of a third wall 226 extending along the radial direction R. The third wall 226 is disk-shaped, for example, and is oriented parallel to the flange surfaces 210 , 218 . However, the third wall 226 can have any geometry.

Der Flanschabschnitt 216 umfasst eine zweite Ringnut 228. Die zweite Ringnut 228 ist entlang der Radialrichtung R betrachtet weiter von der Symmetrieachse 208 entfernt angeordnet als die erste Ringnut 220. Die zweite Ringnut 228 läuft somit um die erste Ringnut 220 um. Die zweite Ringnut 228 umfasst eine zylinderförmige erste Wandung 230 sowie eine zylinderförmige zweite Wandung 232, welche vollständig um die Symmetrieachse 208 umlaufen. Dabei ist die zylinderförmige zweite Wandung 232 entlang der Radialrichtung R betrachtet weiter von der Symmetrieachse 208 beabstandet angeordnet als die erste Wandung 230. Die Wandungen 230, 232 sind mit Hilfe einer dritten Wandung 234, die sich ausgehend von der ersten Wandung 230 entlang der Radialrichtung R in Richtung der zweiten Wandung 232 erstreckt, miteinander verbunden.The flange section 216 includes a second annular groove 228. The second annular groove 228 is arranged further away from the axis of symmetry 208 than the first annular groove 220 viewed in the radial direction R. The second annular groove 228 thus runs around the first annular groove 220. The second annular groove 228 includes a cylindrical first wall 230 and a cylindrical second wall 232, which run completely around the axis of symmetry 208. The cylindrical second wall 232 is arranged at a greater distance from the axis of symmetry 208 than the first wall 230, viewed along the radial direction R extends in the direction of the second wall 232, connected to each other.

Die Wandungen 224, 230 sind an einer ringförmig um die Symmetrieachse 208 umlaufenden Rippe 236 vorgesehen. Die Rippe 236 kontaktiert die Flanschfläche 210 nicht. Die Rippe 236 trennt die erste Ringnut 220 von der zweiten Ringnut 228. Die erste Wandung 222 ist an einer ringförmig um die Symmetrieachse 208 umlaufenden Rippe 238 vorgesehen. Die Rippe 238 kontaktiert die Flanschfläche 210 nicht und ist entlang der Axialrichtung A von dieser beabstandet angeordnet.The walls 224 , 230 are provided on a rib 236 that runs annularly around the axis of symmetry 208 . Rib 236 does not contact flange surface 210 . The rib 236 separates the first annular groove 220 from the second annular groove 228. The first wall 222 is provided on a rib 238 running annularly around the axis of symmetry 208. The rib 238 does not contact the flange surface 210 and is spaced along the axial direction A therefrom.

Zwischen dem Flanschabschnitt 216 und der Flanschfläche 210 ist eine fluiddichte Abdichtung erforderlich. Beispiele für eine derartige Abdichtung können Schraubverbindungen mit Dichtungen aus Metall oder Kunststoff sein. Beispielsweise können O-Ringe, Flachdichtungen oder Dichtungen mit einem x-förmigen Querschnitt als Dichtungen eingesetzt werden. Im EUV-Bereich ist aufgrund seiner hohen Vakuumanforderungen ein besonderes Augenmerk auf die Abdichtung zu legen. Hier genügt es nicht, dass das wasserführende System 200 nicht tropft, sondern bereits austretende Wassermoleküle, beispielsweise in Form von Dampf, können zu Vakuumeinbrüchen bei 10-6 bis 10-11 mbar führen.A fluid tight seal is required between the flange portion 216 and the flange face 210 . Examples of such a seal can be screw connections with seals made of metal or plastic. For example, O-rings, flat seals or seals with an x-shaped cross section can be used as seals. In the EUV area, special attention must be paid to the seal due to the high vacuum requirements. Here it is not enough that the water-carrying system 200 does not drip, but water molecules that are already escaping, for example in the form of steam, can lead to vacuum drops at 10 -6 to 10 -11 mbar.

Wie zuvor erwähnt, wird als Kühlwasser 206 vollentsalztes Wasser verwendet, das die verwendeten Materialien, insbesondere die Aluminiumlegierung des Kühlers 202, angreifen kann. Zusätzlich kann vollentsalztes Wasser Ionen aus den durchflossenen Materialien herauslösen und wirkt damit korrosionsfördernd. Werden nun Korrosionsprodukte an der Flanschfläche 210 und der Dichtung abgelagert, so kann es bei einer ungünstigen Geometrie der Dichtung, beispielsweise bei einer Ringform, zu einer Undichtigkeit des wasserführenden Systems 200 kommen.As previously mentioned, the cooling water 206 used is deionized water, which can attack the materials used, in particular the aluminum alloy of the cooler 202 . In addition, fully desalinated water can release ions from the materials it flows through and is therefore corrosive promoting. If corrosion products are now deposited on the flange surface 210 and the seal, a leak in the water-carrying system 200 can occur if the seal has an unfavorable geometry, for example if it is ring-shaped.

Hinsichtlich einer Undichtigkeit kritisch sind beispielsweise Dichtungen, insbesondere Dichtungen mit einem kreisförmigen Querschnitt, an denen sich Totwasserzonen bilden können. Hierbei können sich zwischen der Dichtung und der Flanschfläche 210 schmale Spalte ausbilden, die mittels Wasser und Ionen gefüllt sind. Im Falle der Verwendung einer ringförmigen Dichtung, insbesondere eines O-Rings, die nur linienförmig an der Flanschfläche 210 anliegt, kann sich so eine Totwasserzone in Form eines keilförmigen Spalts bilden.Seals, for example, in particular seals with a circular cross section, on which dead water zones can form, are critical with regard to a leak. Here narrow gaps can form between the seal and the flange surface 210, which are filled with water and ions. If an annular seal is used, in particular an O-ring, which only bears linearly against the flange surface 210, a dead water zone can form in the form of a wedge-shaped gap.

In solchen Spalten sind Ablagerungen thermodynamisch bevorzugt, da es weniger Durchfluss gibt und zusätzlich geringere Grenzenergien zur Nukleation von Ausscheidungen überwunden werden müssen. Weiterhin führen Spalte auch zur Spaltkorrosion, also zu einem zusätzlichen Auflösen des jeweiligen Metalls an dieser Stelle, wodurch wiederum weitere Ionen in das Kühlwasser 206 gelangen, die an dieser Stelle auskristallisieren können. Das System fördert sich sozusagen selbst, wenn ungünstige Faktoren vorliegen. Liegen Ausscheidungen vor, können diese die Dichtung unterwandern und wegdrücken. Korrosionsprodukte nehmen dabei ein größeres Volumen als das ursprüngliche Material ein und sind gegebenenfalls leicht porös. Somit kann letztlich Kühlwasser 206, beispielsweise als Moleküle oder bei fortgeschrittener Korrosion als Tropfen, aus dem wasserführenden System 200 austreten. Das wasserführende System 200 wird undicht.Deposits are thermodynamically favored in such fissures, since there is less flow and, in addition, lower limit energies have to be overcome for the nucleation of precipitations. Furthermore, crevices also lead to crevice corrosion, that is to say to an additional dissolution of the respective metal at this point, as a result of which further ions get into the cooling water 206 and can crystallize out at this point. The system promotes itself, so to speak, when unfavorable factors are present. If there are excretions, they can undermine the seal and push it away. Corrosion products take up a larger volume than the original material and may be slightly porous. Consequently, cooling water 206 can ultimately escape from the water-carrying system 200, for example as molecules or, in the case of advanced corrosion, as drops. The water-carrying system 200 is leaking.

Durch die Anwendung des wasserführenden Systems 200 im EUV-Bereich, insbesondere in der EUV-Lichtquelle 106A, wo die EUV-Strahlung 108A erzeugt wird, kommt es zu erhöhten Temperaturen durch den Betrieb der EUV-Lichtquelle 106A und insbesondere zu einer Zinn-Kontamination durch die Erzeugung der EUV-Strahlung 108A. Die EUV-Strahlung 108A wird von dem Kollektor zur Projektion eingesammelt und vorbereitet. Zur Wärmeabfuhr wird Kühlwasser 206 durch die Kühler 202 des Kollektors und weiterer Mechanikbauteile, die sich oberhalb und unterhalb einer Tragstruktur befinden können, geführt. Zwischen der Leitung 212 und der Flanschfläche 210 werden nach betriebsinternen Kenntnissen der Anmelderin zwei O-Ringe als Dichtung verwendet.The use of the water-carrying system 200 in the EUV area, in particular in the EUV light source 106A, where the EUV radiation 108A is generated, results in increased temperatures due to the operation of the EUV light source 106A and in particular in tin contamination the generation of the EUV radiation 108A. The EUV radiation 108A is collected and prepared by the collector for projection. For heat dissipation, cooling water 206 is conducted through the cooler 202 of the collector and other mechanical components that can be located above and below a supporting structure. According to the applicant's in-house knowledge, two O-rings are used as a seal between the line 212 and the flange surface 210 .

Durch dieses Dichtungsdesign und die Prozessbedingungen mittels Durchflusses von vollentsalztem Wasser als Kühlwasser 206 bei erhöhten Temperaturen, kann es zu möglichen Schädigungen des Materials und der Oberfläche an der Flanschfläche 210 des Kühlers 202 und schlussendlich zur Unterwanderung der O-Ringe kommen. Vollentsalztes Wasser kontaminiert innerhalb weniger Tage stark, so dass es nicht mehr als vollentsalztes Wasser vorliegt, sondern mit Ionen angereichert ist. Wird das wasserführende System 200 undicht, droht ein Ausfall beim Kunden. Zur Reparatur muss die Flanschfläche 210 des Kühlers 202 überarbeitet werden, was mit einem Materialabtrag einhergeht. Dies ist nur innerhalb der Toleranzen möglich, so dass es auch zum Ausfall von Kühlern 202 als Schrott und damit erhöhten Kosten kommt. Dies gilt es zu vermeiden.This seal design and the process conditions by means of the flow of fully desalinated water as cooling water 206 at elevated temperatures can lead to possible damage to the material and the surface on the flange surface 210 of the cooler 202 and ultimately to infiltration of the O-rings. Fully desalinated water becomes heavily contaminated within a few days so that it is no longer available as fully desalinated water but is enriched with ions. If the water-carrying system 200 leaks, there is a risk of customer failure. For the repair, the flange surface 210 of the cooler 202 has to be reworked, which involves material removal. This is only possible within the tolerances, so that coolers 202 also fail as scrap, and the costs are increased as a result. This is to be avoided.

Um die vorgenannten Nachteile, nämlich die Totwasserzone sowie die Überarbeitung oder Verschrottung des Kühlers 202, zu vermeiden, wird nachfolgend ein verbessertes Dichtungskonzept vorgeschlagen. In der zweiten Ringnut 228 ist ein Dichtungselement 240 aufgenommen. Das Dichtungselement 240 kann ein O-Ring sein oder jede andere beliebige Geometrie aufweisen. Das Dichtungselement 240 ist zwischen der Flanschfläche 210 und der dritten Wandung 234 der zweiten Ringnut 228 verpresst.In order to avoid the aforementioned disadvantages, namely the dead water zone and the reworking or scrapping of the cooler 202, an improved sealing concept is proposed below. A sealing element 240 is accommodated in the second annular groove 228 . The sealing element 240 can be an O-ring or have any other desired geometry. The sealing element 240 is pressed between the flange surface 210 and the third wall 234 of the second annular groove 228 .

Das verbesserte Dichtungskonzept umfasst eine in der ersten Ringnut 220 aufgenommene Dichtungsvorrichtung 300. Die Dichtungsvorrichtung 300 ist zum einen in der Axialrichtung A zwischen der Flanschfläche 210 und der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 und zum anderen in der Radialrichtung R zwischen den Wandungen 222, 224 der ersten Ringnut 220 verpresst. Zwischen dem Dichtungselement 240 und der Dichtungsvorrichtung 300 ist ein Zwischenraum 242 vorgesehen.The improved sealing concept includes a sealing device 300 accommodated in the first annular groove 220. The sealing device 300 is on the one hand in the axial direction A between the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220 and on the other hand in the radial direction R between the walls 222, 224 the first annular groove 220 is pressed. An intermediate space 242 is provided between the sealing element 240 and the sealing device 300 .

4 zeigt eine schematische Aufsicht einer Ausführungsform einer wie zuvor erwähnten Dichtungsvorrichtung 300. 5 zeigt eine schematische Schnittansicht der Dichtungsvorrichtung 300 gemäß der Schnittlinie V-V der 4 nachfolgend wird auf die 4 und 5 gleichzeitig Bezug genommen. 4 shows a schematic plan view of an embodiment of a sealing device 300 as mentioned above. 5 shows a schematic sectional view of the sealing device 300 according to the section line VV of FIG 4 in the following, reference is made to the 4 and 5 referenced at the same time.

Die Dichtungsvorrichtung 300 ist scheibenförmig und rotationssymmetrisch zu einer Mittel- oder Symmetrieachse 302 aufgebaut. In einem in den 2 und 3 gezeigten eingebauten Zustand der Dichtungsvorrichtung 300 ist die Symmetrieachse 302 koaxial zu der Symmetrieachse 208 angeordnet. Die Dichtungsvorrichtung 300 ist ein einteiliges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bauteil. Die Dichtungsvorrichtung 300 kann aus einem Perfluorkautschuk, einem Silikonkautschuk, Gummi oder dergleichen gefertigt sein.The sealing device 300 is disc-shaped and constructed rotationally symmetrically to a central axis or axis of symmetry 302 . In one in the 2 and 3 shown installed state of the sealing device 300, the axis of symmetry 302 is arranged coaxially to the axis of symmetry 208. The sealing device 300 is a one-piece component, in particular a one-piece material component. The sealing device 300 can be made of a perfluoro rubber, a silicone rubber, rubber or the like.

Die Dichtungsvorrichtung 300 umfasst einen scheibenförmigen axialen Verpressabschnitt 304, welcher in dem eingebauten Zustand der Dichtungsvorrichtung 300 entlang der Axialrichtung A zwischen der Flanschfläche 210 und der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 verpresst ist. Unter „scheibenförmig“ ist vorliegend eine flache zylinderförmige Geometrie zu verstehen. Hierbei wird der axiale Verpressabschnitt 304 elastisch verformt. Der axiale Verpressabschnitt 304 umfasst einen zylinderförmigen Durchbruch 306, der rotationssymmetrisch zu der Symmetrieachse 302 aufgebaut ist. Ein Durchmesser d306 des Durchbruchs entspricht dabei bevorzugt einem Durchmesser des Kühlkanals 204. Durch den Durchbruch 306 kann das Kühlwasser 206 hindurchströmen. Innenseitig liegt der Durchbruch 306 an der Rippe 238, insbesondere an der ersten Wandung 222 der Rippe 238 an. Der axiale Verpressabschnitt 304 weist entlang der Axialrichtung A betrachtet eine Dicke t304 auf. Der axiale Verpressabschnitt 304 umfasst ferner einen Durchmesser d304, der größer als der Durchmesser d306 ist.The sealing device 300 comprises a disc-shaped axial compression section 304, which in the installed state of the seal device 300 is pressed along the axial direction A between the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220 . In the present case, “disc-shaped” is to be understood as meaning a flat cylindrical geometry. Here, the axial compression section 304 is elastically deformed. The axial pressing section 304 includes a cylindrical opening 306 which is constructed rotationally symmetrically to the axis of symmetry 302 . A diameter d306 of the opening preferably corresponds to a diameter of the cooling channel 204. The cooling water 206 can flow through the opening 306. The opening 306 rests against the rib 238 on the inside, in particular against the first wall 222 of the rib 238 . Viewed along the axial direction A, the axial compression section 304 has a thickness t304. The axial compression section 304 also includes a diameter d304 that is larger than the diameter d306.

Der axiale Verpressabschnitt 304 umfasst eine ringförmig um die Symmetrieachse 302 umlaufende erste Oberfläche 308 sowie eine ringförmig um die Symmetrieachse 302 umlaufende zweite Oberfläche 310. Die Oberflächen 308, 310 sind parallel zueinander angeordnet. Entlang der Axialrichtung A betrachtet, sind die Oberflächen 308, 310 voneinander beabstandet positioniert.The axial pressing section 304 comprises a first surface 308 running annularly around the axis of symmetry 302 and a second surface 310 running annularly around the axis of symmetry 302. The surfaces 308, 310 are arranged parallel to one another. Viewed along the axial direction A, the surfaces 308, 310 are positioned spaced apart from each other.

Neben dem axialen Verpressabschnitt 304 umfasst die Dichtungsvorrichtung 300 einen radialen Verpressabschnitt 312. Der axiale Verpressabschnitt 304 und der radiale Verpressabschnitt 312 sind einteilig, insbesondere materialeinstückig, ausgebildet. In dem eingebauten Zustand der Dichtungsvorrichtung 300 liegt der radiale Verpressabschnitt 312 an der Rippe 236, insbesondere an der zweiten Wandung 224 der Rippe 236, an. Da der axiale Verpressabschnitt 304 an der ersten Wandung 222 anliegt, ist mit Hilfe des radialen Verpressabschnitts 312 ein Verpressen der Dichtungsvorrichtung 300 entlang der Radialrichtung R möglich. Dabei liegt der radiale Verpressabschnitt 312 jedoch weder an der Flanschfläche 210 noch an der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 an.In addition to the axial compression section 304, the sealing device 300 includes a radial compression section 312. The axial compression section 304 and the radial compression section 312 are formed in one piece, in particular in one piece of material. In the installed state of the sealing device 300, the radial compression section 312 is in contact with the rib 236, in particular with the second wall 224 of the rib 236. Since axial compression section 304 rests against first wall 222 , compression of sealing device 300 along radial direction R is possible with the aid of radial compression section 312 . In this case, however, the radial compression section 312 rests neither on the flange surface 210 nor on the third wall 226 of the first annular groove 220 .

Der radiale Verpressabschnitt 312 umfasst eine Dicke t312, die kleiner als die Dicke t304 des axialen Verpressabschnitts 304 ist. Bezüglich der Axialrichtung A ist der radiale Verpressabschnitt 312 mittig an dem axialen Verpressabschnitt 304 positioniert. Das heißt, die Dichtungsvorrichtung 300 ist spiegelsymmetrisch zu einer Ebene 314 aufgebaut. Dies führt zu einem Poka Yoke Effekt. Das heißt, dass die Dichtungsvorrichtung 300 nicht falsch montiert werden kann. Der radiale Verpressabschnitt 312 weist einen Durchmesser d312 auf, der größer als der Durchmesser d304 des axialen Verpressabschnitts 304 ist.The radial swage section 312 includes a thickness t312 that is less than the thickness t304 of the axial swage section 304 . With respect to the axial direction A, the radial compression section 312 is positioned centrally on the axial compression section 304 . This means that the sealing device 300 is constructed mirror-symmetrically to a plane 314 . This leads to a poka yoke effect. That is, the sealing device 300 cannot be assembled incorrectly. The radial compression section 312 has a diameter d312 that is larger than the diameter d304 of the axial compression section 304 .

Der radiale Verpressabschnitt 312 umfasst eine ringförmig um die Symmetrieachse 302 umlaufende erste Oberfläche 316 sowie eine ringförmig um die Symmetrieachse 302 umlaufende zweite Oberfläche 318. Die Oberflächen 316, 318 sind parallel zueinander angeordnet. Entlang der Axialrichtung A betrachtet, sind die Oberflächen 316, 318 voneinander beabstandet positioniert.The radial pressing section 312 comprises a first surface 316 running annularly around the axis of symmetry 302 and a second surface 318 running annularly around the axis of symmetry 302. The surfaces 316, 318 are arranged parallel to one another. Viewed along the axial direction A, the surfaces 316, 318 are positioned spaced apart from each other.

An dem radialen Verpressabschnitt 312 sind randseitig Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 vorgesehen. Die Anzahl der Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 ist beliebig. Beispielsweise kann nur ein Entlüftungsausschnitt 320, 322, 324, 326 vorgesehen sein. Es können auch zwei, drei, vier, fünf, sechs oder mehr Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 vorgesehen sein. Die Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 durchbrechen den radialen Verpressabschnitt 312 entlang der Axialrichtung A vollständig. Die Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 weisen eine halbkreisförmige Geometrie auf. Die Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 können jedoch eine beliebige Geometrie aufweisen.Vent cutouts 320 , 322 , 324 , 326 are provided on the edge of the radial compression section 312 . The number of vent cutouts 320, 322, 324, 326 is arbitrary. For example, only one vent cutout 320, 322, 324, 326 may be provided. Two, three, four, five, six or more vent cutouts 320, 322, 324, 326 may also be provided. The ventilation cutouts 320, 322, 324, 326 completely break through the radial compression section 312 along the axial direction A. The vent cutouts 320, 322, 324, 326 have a semi-circular geometry. However, the vent cutouts 320, 322, 324, 326 can have any geometry.

Die Funktionalität der Dichtungsvorrichtung 300 wird nachfolgend erläutert. Zunächst werden das Dichtungselement 240 und die Dichtungsvorrichtung 300 in die ihnen zugeordneten Ringnuten 220, 228 eingelegt oder eingedrückt. Dabei liegt das Dichtelement 240 außenseitig an der zweiten Ringnut 228 an. Die Dichtungsvorrichtung 300 wird zwischen den Wandungen 222, 224 der ersten Ringnut 220 angeordnet. Dabei wird die Dichtungsvorrichtung 300 zwischen den Wandungen 222, 224 leicht verpresst, derart, dass die Dichtungsvorrichtung 300 nicht mehr aus der ersten Ringnut 220 herausfallen kann.The functionality of the sealing device 300 is explained below. First, the sealing element 240 and the sealing device 300 are inserted or pressed into the annular grooves 220, 228 assigned to them. The sealing element 240 rests against the second annular groove 228 on the outside. The sealing device 300 is arranged between the walls 222, 224 of the first annular groove 220. The sealing device 300 is pressed slightly between the walls 222, 224 in such a way that the sealing device 300 can no longer fall out of the first annular groove 220.

Anschließend wird der Flanschabschnitt 216 der Leitung 212 gegen die Flanschfläche 210 des Kühlers 202 gepresst. Hierzu kann eine Schraubverbindung (nicht gezeigt) zwischen dem Flanschabschnitt 216 und dem Kühler 202 vorgesehen sein. Bei dem Pressen des Flanschabschnitts 216 gegen die Flanschfläche 210 wird das Dichtungselement 240 entlang der Axialrichtung A verpresst, derart, dass das Dichtungselement 240 im Wesentlichen jeweils mit einem linienförmigen Kontakt an der Flanschfläche 210 und an der dritten Wandung 234 der zweiten Ringnut 228 fluiddicht dichtend anliegt.The flange section 216 of the line 212 is then pressed against the flange surface 210 of the cooler 202 . For this purpose, a screw connection (not shown) can be provided between the flange section 216 and the cooler 202 . When the flange section 216 is pressed against the flange surface 210, the sealing element 240 is pressed along the axial direction A in such a way that the sealing element 240 rests essentially with a linear contact on the flange surface 210 and on the third wall 234 of the second annular groove 228 in a fluid-tight sealing manner .

Die Dichtungsvorrichtung 300 wird ebenfalls entlang der Axialrichtung A verpresst. Da der axiale Verpressabschnitt 304 die beiden parallel zueinander angeordneten Oberflächen 308, 310 aufweist, welche an der Flanschfläche 210 und an der dritten Wandung 226 der ersten Ringnut 220 anliegen, wird zwischen der Dichtungsvorrichtung 300 und der Flanschfläche 210 beziehungsweise der dritten Wandung 226 ein flächiger Kontakt verwirklicht. Durch diesen flächigen Kontakt wird die Bildung von Totwasserzonen erschwert und ein Unterwandern der Dichtungsvorrichtung 300 durch Korrosionsprodukte wird erschwert. Bei dem Verpressen des axialen Verpressabschnitts 304 weicht dieser geringfügig entlang der Radialrichtung R aus. Da sich der radiale Verpressabschnitt 312 an der zweiten Wandung 224 der ersten Ringnut abstützt, wird die Dichtungsvorrichtung 300 auch radial verpresst.The sealing device 300 is also compressed along the axial direction A. Since the axial compression section 304 has the two surfaces 308, 310 arranged parallel to one another, which bear against the flange surface 210 and the third wall 226 of the first annular groove 220, there is a planar contact between the sealing device 300 and the flange surface 210 or the third wall 226 realized. This planar contact makes it more difficult for dead water zones to form, and it makes it more difficult for corrosion products to penetrate the sealing device 300 . When the axial compression section 304 is compressed, it deviates slightly along the radial direction R. Since the radial compression section 312 is supported on the second wall 224 of the first annular groove, the sealing device 300 is also compressed radially.

Abschließend werden die Ringnuten 220, 228, insbesondere der zwischen der Dichtungsvorrichtung 300 und dem Dichtungselement 240 vorgesehene Zwischenraum 242, evakuiert. Dadurch, dass die Dichtungsvorrichtung 300 die Entlüftungsausschnitte 320, 322, 324, 326 aufweist, kann der Zwischenraum 242 vollständig evakuiert werden, so dass keine Lufttaschen verbleiben.Finally, the annular grooves 220, 228, in particular the intermediate space 242 provided between the sealing device 300 and the sealing element 240, are evacuated. Because the sealing device 300 has the ventilation cutouts 320, 322, 324, 326, the intermediate space 242 can be completely evacuated, so that no air pockets remain.

Mittels eines neuen Dichtungsdesigns in Form der Dichtungsvorrichtung 300, welche flächig auf der Flanschfläche 210 aufliegt, wird eine mögliche Totwasserzone abgedeckt und damit eine Anlagerung von Korrosionsprodukten an der Flanschfläche 210, welche zu einer Unterwanderung der Dichtungsvorrichtung 300 führen kann, vermieden oder zumindest erschwert. Zusätzlich ermöglicht die Dichtungsvorrichtung 300 eine axiale Verpressung entlang der Axialrichtung A sowie eine radiale Verpressung entlang der Radialrichtung R. Ferner weist die Dichtungsvorrichtung 300 im Vergleich zu einem O-Ring entlang der Radialrichtung R betrachtet eine größere verpresste Länge, nämlich die Oberflächen 308, 310, auf.A possible dead water zone is covered by means of a new sealing design in the form of the sealing device 300, which lies flat on the flange surface 210, and thus the accumulation of corrosion products on the flange surface 210, which can lead to the sealing device 300 being infiltrated, is avoided or at least made more difficult. In addition, the sealing device 300 enables an axial compression along the axial direction A and a radial compression along the radial direction R. Furthermore, the sealing device 300 compared to an O-ring viewed along the radial direction R has a greater compressed length, namely the surfaces 308, 310, on.

Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrieben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.Although the present invention has been described using exemplary embodiments, it can be modified in many ways.

BezugszeichenlisteReference List

100A100A
EUV-LithographieanlageEUV lithography system
100B100B
DUV-LithographieanlageDUV lithography system
102102
Strahlformungs- und BeleuchtungssystemBeam shaping and lighting system
104104
Projektionssystemprojection system
106A106A
EUV-LichtquelleEUV light source
106B106B
DUV-LichtquelleDUV light source
108A108A
EUV-StrahlungEUV radiation
108B108B
DUV-StrahlungDUV radiation
110110
Spiegelmirror
112112
Spiegelmirror
114114
Spiegelmirror
116116
Spiegelmirror
118118
Spiegelmirror
120120
Photomaskephotomask
122122
Spiegelmirror
124124
Waferwafers
126126
optische Achseoptical axis
128128
Linselens
130130
Spiegelmirror
132132
Mediummedium
200200
wasserführendes Systemwater-carrying system
202202
Kühlercooler
204204
Kühlkanalcooling channel
206206
Kühlwassercooling water
208208
Symmetrieachseaxis of symmetry
210210
Flanschflächeflange face
212212
Leitungmanagement
214214
Basisabschnittbase section
216216
Flanschabschnittflange section
218218
Flanschflächeflange face
220220
Ringnutring groove
222222
Wandungwall
224224
Wandungwall
226226
Wandungwall
228228
Ringnutring groove
230230
Wandungwall
232232
Wandungwall
234234
Wandungwall
236236
Ripperib
238238
Ripperib
240240
Dichtungselementsealing element
242242
Zwischenraumspace
300300
Dichtungsvorrichtungsealing device
302302
Symmetrieachseaxis of symmetry
304304
Verpressabschnittgrouting section
306306
Durchbruchbreakthrough
308308
Oberflächesurface
310310
Oberflächesurface
312312
Verpressabschnittgrouting section
314314
Ebenelevel
316316
Oberflächesurface
318318
Oberflächesurface
320320
Entlüftungsausschnittvent cutout
322322
Entlüftungsausschnittvent cutout
324324
Entlüftungsausschnittvent cutout
326326
Entlüftungsausschnitt vent cutout
AA
Axialrichtungaxial direction
d304d304
Durchmesserdiameter
d306d306
Durchmesserdiameter
d312d312
Durchmesserdiameter
M1M1
Spiegelmirror
M2M2
Spiegelmirror
M3M3
Spiegelmirror
M4M4
Spiegelmirror
M5M5
Spiegelmirror
M6M6
Spiegelmirror
RR
Radialrichtungradial direction
t304t304
Dickethickness
t312t312
Dickethickness

Claims (15)

Wasserführendes System (200), insbesondere Kühlsystem, für eine Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Kühler (202), welcher eine Flanschfläche (210) umfasst, eine Leitung (212) zum Zuführen von Kühlwasser (206) zu dem Kühler (202) oder zum Abführen von Kühlwasser (206) von dem Kühler (202), wobei die Leitung (212) einen Flanschabschnitt (216) aufweist, welcher an der Flanschfläche (210) anliegt, und eine Dichtungsvorrichtung (300), welche einen scheibenförmigen axialen Verpressabschnitt (304) umfasst, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) derart axial zwischen der Flanschfläche (210) und dem Flanschabschnitt (216) verpresst ist, dass der axiale Verpressabschnitt (304) jeweils flächig an der Flanschfläche (210) und an dem Flanschabschnitt (216) anliegt.Having a water-carrying system (200), in particular a cooling system, for a lithography system (100A, 100B). a cooler (202) which comprises a flange surface (210), a line (212) for supplying cooling water (206) to the radiator (202) or for discharging cooling water (206) from the radiator (202), the line (212) having a flange portion (216) which is attached to the flange surface (210) is applied, and a sealing device (300) which comprises a disk-shaped axial compression section (304), the axial compression section (304) being compressed axially between the flange surface (210) and the flange section (216) in such a way that the axial compression section (304) is flat against the flange surface (210) and the flange portion (216). Wasserführendes System nach Anspruch 1, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) eine erste Oberfläche (308), welche dem Flanschabschnitt (216) zugeordnet ist, und eine zweite Oberfläche (310), welche der Flanschfläche (210) zugeordnet ist, umfasst, und wobei die erste Oberfläche (308) und die zweite Oberfläche (310) beabstandet voneinander und parallel zueinander angeordnet sind.water-carrying system claim 1 , wherein the axial swage portion (304) includes a first surface (308) associated with the flange portion (216) and a second surface (310) associated with the flange surface (210), and wherein the first surface (308 ) and the second surface (310) are spaced from and parallel to each other. Wasserführendes System nach Anspruch 1 oder 2, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) einen zentralen Durchbruch (306) aufweist, durch welchen das Kühlwasser (206) hindurchtritt.water-carrying system claim 1 or 2 , wherein the axial compression section (304) has a central opening (306) through which the cooling water (206) passes. Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1-3, wobei der Flanschabschnitt (216) eine erste Ringnut (220) umfasst, in welcher die Dichtungsvorrichtung (300) aufgenommen ist, wobei die Dichtungsvorrichtung (300) einen scheibenförmigen radialen Verpressabschnitt (312) umfasst, und wobei die Dichtungsvorrichtung (300) mit Hilfe des radialen Verpressabschnitts (312) radial in der ersten Ringnut (220) verpresst ist.Water-carrying system according to one of Claims 1 - 3 , wherein the flange section (216) comprises a first annular groove (220) in which the sealing device (300) is accommodated, the sealing device (300) comprising a disk-shaped radial compression section (312), and the sealing device (300) being pressed with the aid of the radial pressing section (312) is pressed radially in the first annular groove (220). Wasserführendes System nach Anspruch 4, wobei die erste Ringnut (220) eine zylinderförmige erste Wandung (222) und eine radial von der ersten Wandung (222) beabstandet angeordnete zweite Wandung (224) umfasst, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) an der ersten Wandung (222) anliegt, und wobei der radiale Verpressabschnitt (312) an der zweiten Wandung (224) anliegt, um die Dichtungsvorrichtung (300) in der ersten Ringnut (220) radial zu verpressen.water-carrying system claim 4 , wherein the first annular groove (220) comprises a cylindrical first wall (222) and a second wall (224) arranged at a radial distance from the first wall (222), the axial compression section (304) bearing against the first wall (222), and wherein the radial compression section (312) bears against the second wall (224) in order to radially compress the sealing device (300) in the first annular groove (220). Wasserführendes System nach Anspruch 5, wobei die erste Ringnut (220) eine die erste Wandung (222) mit der zweiten Wandung (224) verbindende dritte Wandung (226) umfasst, welche parallel zu der Flanschfläche (210) orientiert ist, und wobei die Dichtungsvorrichtung (300) an der ersten Wandung (222), an der zweiten Wandung (224) und an der dritten Wandung (226) anliegt.water-carrying system claim 5 , wherein the first annular groove (220) comprises a third wall (226) connecting the first wall (222) to the second wall (224), which is oriented parallel to the flange surface (210), and wherein the sealing device (300) on the first wall (222), against the second wall (224) and against the third wall (226). Wasserführendes System nach Anspruch 5 oder 6, wobei der radiale Verpressabschnitt (312) ausschließlich an der zweiten Wandung (224) anliegt.water-carrying system claim 5 or 6 , wherein the radial compression section (312) bears exclusively against the second wall (224). Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 4-7, wobei der axiale Verpressabschnitt (304) entlang einer Axialrichtung (A) betrachtet eine größere Dicke (t304) als der radiale Verpressabschnitt (312) umfasst.Water-carrying system according to one of Claims 4 - 7 , wherein the axial compression portion (304) viewed along an axial direction (A) comprises a greater thickness (t304) than the radial compression portion (312). Wasserführendes System nach Anspruch 8, wobei der radiale Verpressabschnitt (312) entlang der Axialrichtung (A) betrachtet mittig an dem axialen Verpressabschnitt (304) angeordnet ist.water-carrying system claim 8 , wherein the radial compression section (312) viewed along the axial direction (A) is arranged centrally on the axial compression section (304). Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 4-9, wobei an dem radialen Verpressabschnitt (312) zumindest ein Entlüftungsausschnitt (320, 322, 324, 326) vorgesehen ist, welcher den radialen Verpressabschnitt (312) vollständig durchbricht.Water-carrying system according to one of Claims 4 - 9 , wherein at least one ventilation cutout (320, 322, 324, 326) is provided on the radial compression section (312), which completely breaks through the radial compression section (312). Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 4-10, wobei der Flanschabschnitt (216) eine zweite Ringnut (228) umfasst, in welcher ein Dichtungselement (240), insbesondere ein O-Ring, eine Flachdichtung oder eine Dichtung mit quadratischem oder x-förmigem Querschnitt, aufgenommen ist, und wobei das Dichtungselement (240) zwischen der Flanschfläche (210) und dem Flanschabschnitt (216) axial verpresst ist.Water-carrying system according to one of Claims 4 - 10 , wherein the flange section (216) comprises a second annular groove (228) in which a sealing element (240), in particular an O-ring, a flat gasket or a gasket with a square or x-shaped cross-section, and wherein the sealing element (240) is axially compressed between the flange face (210) and the flange section (216). Wasserführendes System nach Anspruch 11, wobei die zweite Ringnut (228) und die erste Ringnut (220) derart angeordnet sind, dass die zweite Ringnut (228) um die erste Ringnut (220) herumläuft.water-carrying system claim 11 , wherein the second annular groove (228) and the first annular groove (220) are arranged such that the second annular groove (228) runs around the first annular groove (220). Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1-12, wobei die Dichtungsvorrichtung (300) rotationssymmetrisch zu einer Symmetrieachse (302) aufgebaut ist.Water-carrying system according to one of Claims 1 - 12 , wherein the sealing device (300) is constructed rotationally symmetrical to an axis of symmetry (302). Wasserführendes System nach einem der Ansprüche 1-13, wobei die Dichtungsvorrichtung (300) ein einteiliges, insbesondere ein materialeinstückiges, Bauteil ist.Water-carrying system according to one of Claims 1 - 13 , wherein the sealing device (300) is a one-piece component, in particular a one-piece material component. Lithographieanlage (100A, 100B) mit einem wasserführenden System (200) nach einem der Ansprüche 1-14.Lithography system (100A, 100B) with a water-bearing system (200) according to one of Claims 1 - 14 .
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