WO2021115641A1 - Optisches system, sowie heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements in einem optischen system - Google Patents

Optisches system, sowie heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements in einem optischen system Download PDF

Info

Publication number
WO2021115641A1
WO2021115641A1 PCT/EP2020/073207 EP2020073207W WO2021115641A1 WO 2021115641 A1 WO2021115641 A1 WO 2021115641A1 EP 2020073207 W EP2020073207 W EP 2020073207W WO 2021115641 A1 WO2021115641 A1 WO 2021115641A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optical
optical element
heating
optical system
radiation
Prior art date
Application number
PCT/EP2020/073207
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Andrea Berner
Susanne Beder
André DIRAUF
Hans Michael STIEPAN
Peter Klopfleisch
Original Assignee
Carl Zeiss Smt Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Smt Gmbh filed Critical Carl Zeiss Smt Gmbh
Priority to EP20767478.9A priority Critical patent/EP4073588A1/de
Priority to KR1020227023217A priority patent/KR20220113459A/ko
Publication of WO2021115641A1 publication Critical patent/WO2021115641A1/de
Priority to US17/805,757 priority patent/US20220299732A1/en

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/181—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
    • G02B7/1815—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation with cooling or heating systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G02B17/082—Catadioptric systems using three curved mirrors
    • G02B17/0832—Catadioptric systems using three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which not all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry, e.g. at least one of the mirrors is warped, tilted or decentered with respect to the other elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/102—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type for infrared and ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/262—Optical details of coupling light into, or out of, or between fibre ends, e.g. special fibre end shapes or associated optical elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/181—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
    • G03F7/70891—Temperature
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00—Ohmic-resistance heating
    • H05B3/84—Heating arrangements specially adapted for transparent or reflecting areas, e.g. for demisting or de-icing windows, mirrors or vehicle windshields
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B23/00—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
    • G02B23/02—Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices involving prisms or mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/0944—Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
    • H05B2203/032—Heaters specially adapted for heating by radiation heating

Definitions

  • the invention relates to an optical system and a heating arrangement and a method for heating an optical element in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure system.
  • Microlithography is used to manufacture microstructured components such as integrated circuits or LCDs.
  • the micro-lithography process is carried out in what is known as a projection exposure system, which has an illumination device and a projection lens.
  • mirrors are used as optical components for the imaging process due to the lack of availability of suitable transparent refractive materials.
  • a problem that arises in practice is that the EUV mirrors heat up and the associated thermal expansion or deformation as a result of absorption of the radiation emitted by the EUV light source, which in turn impair the imaging properties of the optical system can.
  • ultra-low expansion material a material with ultra-low thermal expansion
  • the temperature-dependent coefficient of thermal expansion has a zero crossing, in the vicinity of which there is no or only negligible thermal expansion of the mirror substrate material.
  • Another approach involves the use of a heating arrangement based on infrared radiation.
  • a heating arrangement based on infrared radiation.
  • an active mirror heating can take place in phases comparatively low absorption of EUV useful radiation, this active mirror heating being reduced accordingly with increasing absorption of the EUV useful radiation.
  • an EUV mirror is exposed to changing intensities of the incident electromagnetic radiation when the microlithographic projection exposure system is in operation, also in terms of location, e.g. due to the use of lighting settings with over the optical effective surface of the respective EUV Mirror varying intensity.
  • This object is achieved by the optical system, the heating arrangement and the method according to the features of the independent claims.
  • An optical system in particular in a microlithographic projection exposure system, has
  • At least one optical element which has an optical active surface and is designed for a working wavelength of less than 30 nm;
  • a heating arrangement for heating this optical element which has a plurality of IR radiators for exposing the optical effective surface with IR radiation, these IR radiators for the variable setting of different heating profiles in the optical element can be switched on and off independently of one another;
  • At least one beam-shaping unit for beam-shaping the IR radiation directed by the IR radiators onto the optical active surface.
  • the invention is based in particular on the concept of avoiding or at least reducing thermally induced deformations of an optical element (in particular a mirror) in an optical system by using a suitable heating arrangement based on IR radiators - and in particular depending on the currently used lighting setting selected - segmented heating profile is set.
  • the heating arrangement according to the invention has a plurality of IR emitters that can be switched on and off independently of one another and also at least one beam shaping unit for beam shaping of the IR radiation directed by the IR emitters onto the optical active surface.
  • a suitable heating profile can then be set in the optical element or mirror during operation of the optical system, depending on the currently selected lighting setting.
  • the aforementioned lighting setting is, for example, a dipole setting with horizontally arranged lighting poles
  • a heating profile that is complementary to this lighting setting or the temperature distribution generated thereby in the optical element ie with irradiation among other things also of the vertically opposite segments
  • a further advantage of the invention is that comparatively complex process steps in the production of the optical element, such as the attachment of heating wires that can be charged with electrical current, can be dispensed with.
  • the beam shaping unit has at least one microstructured element, in particular at least one diffractive optical element or at least one refractive optical element.
  • the invention is not limited to this, so that in further embodiments a beam shaping unit can also be implemented, e.g. using diaphragms.
  • the beam shaping unit has a plurality of beam shaping segments for applying IR radiation to different segments of the optical effective surface of the optical element.
  • the relevant segments illuminated on the optical effective surface of the optical element can have different geometric shapes and different dimensions.
  • each of these beam-shaping segments can be assigned to one of the IR radiators.
  • the beam shaping segments te alternatively be formed on several separate (in particular microstructured) elements or as separate areas on a common (in particular special microstructured) element.
  • the beam shaping segments can be different areas on a diffractive optical element (DOE).
  • DOE diffractive optical element
  • the optical system has a multi-fiber head which has a multi-fiber connector for connecting optical fibers, wherein IR radiation from one of the IR radiators can be fed in via each of these optical fibers.
  • Such a configuration is advantageous, among other things, in that a comparatively simple adjustment is made possible, while at the same time compliance with permitted mechanical tolerances with regard to the optical fibers used for coupling in radiation can be guaranteed.
  • the at least one beam shaping unit is integrated into the multifiber head.
  • the heating arrangement furthermore has at least one beam deflection unit between the beam shaping unit and the optical element.
  • a beam deflection unit (which in particular can be configured as an optical telescope) can in particular take into account a decrease in the diffraction efficiency of a diffractive optical element that typically takes place towards higher diffraction angles. In that larger deflection angles are provided by the said beam deflection unit and the load on the DOE itself is relieved to that extent, ie it has to be operated only in an angular range with a sufficiently high diffraction efficiency.
  • the at least one beam deflection unit is integrated into the multifiber head.
  • the optical system has a useful beam path, the heating arrangement being arranged outside this useful beam path.
  • the optical system also has a cooling unit for cooling the heating arrangement, with which additional cooling can be achieved in view of possibly high power densities in the area of the heating arrangement.
  • the optical element is a mirror.
  • the optical element is designed for a working wavelength of less than 15 nm.
  • the invention further relates to a heating arrangement for heating an optical element, in particular for use in an optical system having the features described above
  • a plurality of IR radiators for applying IR radiation to the active optical surface of the optical element these IR radiators being able to be switched on and off independently of one another for the variable setting of different heating profiles in the optical element, and
  • the invention also relates to a method for heating an optical element in an optical system, different heating profiles being set in the optical element using a heating arrangement having the features described above.
  • the heating of the optical element takes place in such a way that a heating profile set with the heating arrangement is selected as a function of an illumination setting used in the optical system.
  • the heating of the optical element takes place in such a way that a local and / or temporal variation of a temperature distribution in the optical element is reduced.
  • the optical element is a mirror.
  • the optical element is designed for a working wavelength of less than 30 nm, in particular less than 15 nm.
  • FIG. 1 shows a schematic representation of the possible structure of a heating arrangement according to the invention for heating an optical element in an optical system
  • FIGS. 2a-2d show schematic representations to explain possible embodiments of a diffractive optical element used in a heating arrangement according to the invention
  • FIG. 3 shows a schematic representation to illustrate possible heating profiles that can be adjusted with a heating arrangement according to the invention on the optical active surface of an optical element
  • FIG. 4 shows a schematic representation of the possible structure of a heating arrangement for heating an optical element in an optical system in a further embodiment
  • FIG. 5 shows a schematic representation of the possible structure of a microlithographic projection exposure system designed for operation in the EUV.
  • FIG. 5 initially shows a schematic representation of a projection exposure system 500 designed for operation in the EUV, in which the invention can be implemented, for example.
  • an illumination device of the projection exposure system 500 has a field facet mirror 503 and a pupil facet mirror 504.
  • the light from a light source unit which in the example comprises an EUV light source (plasma light source) 501 and a collector mirror 502, is directed onto the field facet mirror 503.
  • a first telescope mirror 505 and a second telescope mirror 506 are arranged in the light path after the pupil facet mirror 504.
  • a deflecting mirror 507 is arranged, which objectively directs the radiation impinging on it onto an object field in the object plane of a projection comprising six mirrors 521-526.
  • a reflective structure-bearing mask 531 is arranged on a mask table 530, which is imaged with the aid of the projection objective in an image plane in which a substrate 541 coated with a light-sensitive layer (photoresist) is located on a wafer table 540.
  • a light-sensitive layer photoresist
  • the electromagnetic radiation hitting the optical effective surface of the mirror is partially absorbed and, as explained above, leads to heating and the associated thermal expansion or deformation, which in turn adversely affects the imaging properties of the optical system can result.
  • the heating arrangement according to the invention or the method for heating an optical element can be applied, for example, to any mirror of the microlithographic projection exposure system of FIG. Fig. 1 shows a schematic illustration to explain the possible construction of an arrangement according to the invention for heating an optical element in a first embodiment.
  • the heating arrangement according to the invention has, in particular, a plurality of IR radiators 101, 102, 103, 104, which can also be present in larger or smaller numbers.
  • the IR emitters 101, 102, 103, 104 can be designed as IR lasers or IR LEDs, for example.
  • the IR radiation generated by the IR emitters 101-104 strikes according to FIG. 1 via a microlens array 120, optionally provided for generating a collimated beam path, onto a beam shaping unit labeled "130" and from this onto the optical effective surface of a ( in Fig. 1 not shown) optical element or mirror.
  • the beam shaping unit 130 has at least one microstructured element, in particular at least one diffractive optical element (DOE) or at least one refractive optical element (ROE).
  • the beam shaping unit 130 preferably has a plurality of beam shaping segments, each of these beam shaping segments being assigned to one of the IR emitters 101-104. These beam shaping segments cause both beam shaping and beam deflection with regard to the IR radiation to be directed onto the optical effective surface of the optical element to be heated and can in turn be implemented as different areas on one and the same microstructured element or DOE, as only schematically shown in FIG 2a-2d are shown for different embodiments of beam shaping units 231-234. In further embodiments, corresponding beam shaping segments can also be implemented on separate microstructured elements or DOEs.
  • the optical system further has a multi-fiber head 110, which has a multi-fiber connector 115 for connecting optical fibers, with IR radiation from each of the IR emitters 101, 102, 103, 104 being able to be supplied via each of these optical fibers .
  • these are also Microlens array 120 and the beam shaping unit 130 integrated in the multifiber head 110.
  • the configuration with multi-fiber head 110 is advantageous, among other things, in that a comparatively simple adjustment is made possible, while at the same time compliance with permitted mechanical tolerances with regard to the optical fibers used for coupling radiation can be ensured.
  • FIG. 3 shows a schematic representation to illustrate possible heating profiles which can be generated with the inventive fleece arrangement from FIG. 1 on the respective optical element or mirror.
  • each of the segments of the relevant heating profile is assigned a respective beam shaping segment in the beam shaping unit of the fleece arrangement, so that by switching the IR radiator assigned to the respective beam shaping segment on or off it is determined whether the relevant de fleece segment is in the currently set heating profile is actively heated or not.
  • FIG. 4 shows a schematic illustration to explain the structure of a fleece arrangement according to the invention in a further embodiment, with components that are analogous or essentially functionally identical in comparison to FIG. 1 with reference numbers increased by “300”.
  • a beam deflection unit e.g. in the form of an optical telescope 440 (in the exemplary embodiment of the Galileo type) is additionally provided in the beam path after the beam shaping unit 430 (whereas according to FIG entire beam deflection is provided by the beam shaping unit 130).
  • the effect of the beam deflection unit or the optical telescope 440 is, as indicated in FIG. 4, an increase in the overall deflection angle achieved by the flexure arrangement, with the result that the beam shaping unit 430 is relieved and with regard to its optical effect on the area of smaller deflection angles for which is about a diffracti- ves optical element (DOE) has a greater diffraction efficiency, can be restricted.
  • the relevant deflection angle can typically be increased by a multiple (for example by a factor of 5) through the additional effect of the beam deflection unit or the telescope 440.
  • a cooling unit for cooling the heating arrangement (possibly having high power densities) according to FIG. 1 or FIG. 4 can also be provided.
  • the invention has also been described on the basis of specific embodiments, numerous variations and alternative embodiments will be apparent to the person skilled in the art, e.g. by combining and / or exchanging features of individual embodiments. Accordingly, it is understood by a person skilled in the art that such variations and alternative embodiments are also covered by the present invention, and the scope of the invention is limited only in the sense of the attached patent claims and their equivalents.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein optisches System, sowie eine Heizanordnung und ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System. Ein optisches System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, weist wenigstens ein optisches Element, welches eine optische Wirkfläche aufweist und für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm ausgelegt ist, eine Heizanordnung zum Heizen dieses optischen Elements, welche eine Mehrzahl von IR-Strahlern (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) zur Beaufschlagung der optischen Wirkfläche mit IR-Strahlung aufweist, wobei diese IR-Strahler zur variablen Einstellung unterschiedlicher Heizprofile in dem optischen Element unabhängig voneinander ein- und ausschaltbar sind, und wenigstens eine Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) zur Strahlungsformung der von den IR-Strahlern auf die optische Wirkfläche gelenkten IR-Strahlung auf.

Description

Optisches System, sowie Heizanordnunq und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der Deutschen Patent anmeldung DE 10 2019 219 289.0, angemeldet am 11. Dezember 2019. Der Inhalt dieser DE-Anmeldung wird durch Bezugnahme („incorporation by reference“) mit in den vorliegenden Anmeldungstext aufgenommen.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein optisches System sowie eine Heizanordnung und ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage.
Stand der Technik
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD’s, angewendet. Der Mikro lithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) proji- ziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Sub strats zu übertragen.
In für den EUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d.h. bei Wellenlän gen von z.B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit ge eigneter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Kompo nenten für den Abbildungsprozess verwendet.
Ein in der Praxis auftretendes Problem ist, dass die EUV-Spiegel u.a. infolge Absorption der von der EUV-Lichtquelle emittierten Strahlung eine Erwärmung und eine damit einhergehende thermische Ausdehnung bzw. Deformation er fahren, welche wiederum eine Beeinträchtigung der Abbildungseigenschaften des optischen Systems zur Folge haben kann.
Zur Vermeidung von durch Wärmeeinträge in einen EUV-Spiegel verursachten Oberflächendeformationen und damit einhergehenden optischen Aberrationen sind diverse Ansätze bekannt.
Unter anderem ist es bekannt, als Spiegelsubstratmaterial ein Material mit ultraniedriger thermischer Expansion („Ultra-Low-Expansion-Material“), z.B. ein unter der Bezeichnung ULE™ von der Firma Corning Inc. vertriebenes Titanium-Silicatglas, zu verwenden und in einem der optischen Wirkfläche nahen Bereich die sogenannte Nulldurchgangstemperatur (= „Zero-Crossing- Temperatur“) einzustellen. Bei dieser Zero-Crossing-Temperatur, welche z.B. für ULE™ bei etwa q= 30°C liegt, weist der thermische Ausdehnungskoeffizient in seiner Temperaturabhängigkeit einen Nulldurchgang auf, in dessen Umge bung keine oder nur eine vernachlässigbare thermische Ausdehnung des Spiegelsubstratmaterials erfolgt.
Mögliche weitere Ansätze zur Vermeidung von durch Wärmeeinträge in einen EUV-Spiegel verursachten Oberflächendeformationen beinhalten ein unmittel bares elektrisches Heizen oder auch ein aktives direktes Kühlen, wobei solche Ansätze zum einen mit einem erhöhten konstruktiven Aufwand aufgrund erfor- derlicher Zuführungen (z.B. Stromzuführungen oder Kühlwasserzuführungen) einhergehen und zum anderen auch Probleme aufgrund des typischerweise begrenzten Bauraums auftreten können.
Ein weiterer Ansatz beinhaltet den Einsatz einer Heizanordnung auf Basis von Infrarotstrahlung. Mit einer solchen Heizanordnung kann in Phasen ver gleichsweise geringer Absorption von EUV-Nutzstrahlung eine aktive Spie gelerwärmung erfolgen, wobei diese aktive Spiegelerwärmung mit steigender Absorption der EUV-Nutzstrahlung entsprechend zurückgefahren wird.
In der Praxis tritt jedoch das weitere Problem auf, dass ein EUV-Spiegel im Betrieb der mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage wechselnden Intensitäten der auftreffenden elektromagnetischen Strahlung auch in örtlicher Hinsicht ausgesetzt ist, z.B. aufgrund der Verwendung von Beleuchtungs- settings mit über die optische Wirkfläche des jeweiligen EUV-Spiegels variie render Intensität.
Zum Stand der Technik wird lediglich beispielhaft auf DE 102017207 862 A1 , DE 102013204427 A1 und DE 102017205405 A1 verwiesen.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches System sowie eine Heizanordnung und ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, bereitzustellen, welche eine wirksame Vermei dung von durch Wärmeeinträge in dem optischen Element verursachten Ober flächendeformationen und damit einhergehenden optischen Aberrationen ermöglichen. Diese Aufgabe wird durch das optische System, die Heizanordnung sowie das Verfahren gemäß den Merkmalen der nebengeordneten Patentansprüche gelöst.
Ein optisches System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projekti onsbelichtungsanlage, weist auf
- wenigstens ein optisches Element, welches eine optische Wirkfläche auf weist und für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm ausgelegt ist;
- eine Heizanordnung zum Heizen dieses optischen Elements, welche eine Mehrzahl von IR-Strahlern zur Beaufschlagung der optischen Wirkfläche mit IR-Strahlung aufweist, wobei diese IR-Strahler zur variablen Einstellung unterschiedlicher Heizprofile in dem optischen Element unabhängig von einander ein- und ausschaltbar sind; und
- wenigstens eine Strahlformungseinheit zur Strahlformung der von den IR- Strahlern auf die optische Wirkfläche gelenkten IR-Strahlung.
Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, in einem optischen System thermisch induzierte Deformationen eines optischen Elements (insbe sondere eines Spiegels) dadurch zu vermeiden oder zumindest zu reduzieren, dass über eine auf IR-Strahlern basierende Heizanordnung ein jeweils geeig netes - und insbesondere abhängig von dem aktuell verwendeten Beleuch- tungssetting gewähltes - segmentiertes Heizprofil eingestellt wird.
Hierzu weist die erfindungsgemäße Heizanordnung eine Mehrzahl von unab hängig voneinander ein- und ausschaltbaren IR-Strahlern sowie auch wenigs tens eine Strahlformungseinheit zur Strahlformung der von den IR-Strahlern auf die optische Wirkfläche gelenkten IR-Strahlung auf. Durch geeignete An steuerung der IR-Strahler kann dann im Betrieb des optischen Systems ein je nach aktuell gewähltem Beleuchtungssetting geeignetes Heizprofil in dem opti schen Element bzw. Spiegel eingestellt werden. Handelt es sich bei besagtem Beleuchtungssetting beispielsweise um ein Dipolsetting mit horizontal angeordneten Beleuchtungspolen, so kann über die erfindungsgemäße Heizanordnung ein zu diesem Beleuchtungssetting bzw. der dadurch in dem optischen Element generierten Temperaturverteilung kom plementäres Heizprofil (d.h. mit Bestrahlung u.a. auch der vertikal einander gegenüberliegenden Segmente) auf der optischen Wirkfläche auf dem opti schen Element bzw. Spiegel erzeugt werden, um im Ergebnis eine örtlich mög lichst homogene Temperaturverteilung in dem optischen Element zu erzielen und dementsprechend thermisch induzierte Deformationen wirksam zu vermei den.
Ein weiterer Vorteil der Erfindung ist, dass vergleichsweise aufwändige Pro zessschritte bei der Herstellung des optischen Elements wir etwa die Anbrin gung von mit elektrischem Strom beaufschlagbaren Heizdrähten entbehrlich sind.
In Ausführungsformen der Erfindung weist die Strahlformungseinheit wenigs tens ein mikrostrukturiertes Element, insbesondere wenigstens ein diffraktives optisches Element oder wenigstens ein refraktives optisches Element, auf. Die Erfindung ist jedoch hierauf nicht beschränkt, so dass in weiteren Ausführungs formen auch eine Strahlformungseinheit z.B. unter Verwendung von Blenden realsiert werden kann.
Gemäß einer Ausführungsform weist die Strahlformungseinheit eine Mehrzahl von Strahlformungssegmenten zur Beaufschlagung unterschiedlicher Segmente der optischen Wirkfläche des optischen Elements mit IR-Strahlung auf. Je nach konkreter Ausgestaltung der Strahlformungssegmente können die betreffenden, auf der optischen Wirkfläche des optischen Elements beleuchte ten Segmente voneinander verschiedene geometrische Formen und unter schiedliche Abmessungen besitzen.
Insbesondere kann jedes dieser Strahlformungssegmente jeweils einem der IR-Strahler zugeordnet sein. Des Weiteren können die Strahlformungssegmen- te alternativ auf mehreren separaten (insbesondere mikrostrukturierten) Elementen oder auch als separate Bereiche auf einem gemeinsamen (insbe sondere mikrostrukturierten) Element ausgebildet sein.
Insbesondere kann es sich bei den Strahlformungssegmenten um unterschied liche Bereiche auf einem diffraktiven optischen Element (DOE) handeln. Die er findungsgemäße flexible und individuelle Anpassung des jeweils eingestellten Heizprofils an das aktuell verwendete Beleuchtungssetting kann dann in solcher Weise erfolgen, dass die jeweils bestimmten Strahlformungssegmen ten auf dem DOE (zur Bestrahlung bestimmter Segmente auf der Oberfläche des optischen Elements bzw. Spiegels) zugeordneten IR-Strahler eingeschaltet und andere IR-Strahler in Abhängigkeit von dem betreffenden Beleuchtungs setting ausgeschaltet werden.
Gemäß einer Ausführungsform weist das optische System einen Multifaserkopf auf, welcher einen Multifaserkonnektor zum Anschluss optischer Fasern auf weist, wobei über jede dieser optischen Fasern IR-Strahlung von jeweils einem der IR-Strahler zuführbar ist.
Eine solche Ausgestaltung ist u.a. insofern vorteilhaft, als eine vergleichsweise einfache Justage ermöglicht wird, wobei zugleich die Einhaltung erlaubter mechanischer Toleranzen hinsichtlich der zur Strahlungseinkopplung verwen deten optischen Fasern gewährleistet werden kann.
Gemäß einer Ausführungsform ist die wenigstens eine Strahlformungseinheit in den Multifaserkopf integriert.
Gemäß einer Ausführungsform weist die Heizanordnung ferner wenigstens eine Strahlablenkungseinheit zwischen der Strahlformungseinheit und dem op tischen Element auf. Über eine solche Strahlablenkungseinheit (welche insbe sondere als optisches Teleskop ausgestaltet sein kann) kann insbesondere einer typischerweise zu höheren Beugungswinkeln hin erfolgenden Abnahme der Beugungseffizienz eines diffraktiven optischen Elements Rechnung getra- gen werden, indem größere Ablenkwinkel durch besagte Strahlablenkungs einheit bereitgestellt werden und das DOE selbst insoweit entlastet, d.h. ledig lich in einem Winkelbereich mit ausreichend hoher Beugungseffizienz betrie ben werden muss.
Gemäß einer Ausführungsform ist die wenigstens eine Strahlablenkungseinheit in den Multifaserkopf integriert.
Gemäß einer Ausführungsform weist das optische System einen Nutzstrahlen gang auf, wobei die Heizanordnung außerhalb dieses Nutzstrahlengangs an geordnet ist.
Gemäß einer Ausführungsform weist das optische System ferner eine Kühl einheit zur Kühlung der Heizanordnung auf, womit angesichts gegebenenfalls hoher Leistungsdichten im Bereich der Heizanordnung eine zusätzliche Kühlung erzielt werden kann.
Gemäß einer Ausführungsform ist das optische Element ein Spiegel.
Gemäß einer Ausführungsform ist das optische Element für eine Arbeitswellen länge von weniger als 15nm ausgelegt.
Die Erfindung betrifft weiter eine Heizanordnung zum Heizen eines optischen Elements, insbesondere zur Verwendung in einem optischen System mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen, mit
- einer Mehrzahl von IR-Strahlern zur Beaufschlagung der optischen Wirk fläche des optischen Elements mit IR-Strahlung, wobei diese IR-Strahler zur variablen Einstellung unterschiedlicher Heizprofile in dem optischen Element unabhängig voneinander ein- und ausschaltbar sind, und
- wenigstens einer Strahlformungseinheit zur Strahlungsformung der von den IR-Strahlern auf die optische Wirkfläche gelenkten IR-Strahlung. Die Erfindung betrifft weiter auch ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, wobei unterschiedliche Heizprofile in dem optischen Element unter Verwendung einer Heizanordnung mit den vor stehend beschriebenen Merkmalen eingestellt werden.
Gemäß einer Ausführungsform erfolgt das Heizen des optischen Elements derart, dass ein mit der Heizanordnung eingestelltes Heizprofil in Abhängigkeit von einem in dem optischen System verwendeten Beleuchtungssetting gewählt wird.
Gemäß einer Ausführungsform erfolgt das Heizen des optischen Elements derart, dass eine örtliche und/oder zeitliche Variation einer Temperaturvertei lung in dem optischen Element reduziert wird.
Gemäß einer Ausführungsform ist das optische Element ein Spiegel.
Gemäß einer Ausführungsform ist das optische Element für eine Arbeitswellen länge von weniger als 30nm, insbesondere weniger als 15nm, ausgelegt.
Zu Vorteilen und weiteren bevorzugten Ausgestaltungen des Verfahrens wird auf die o.g. Ausführungen im Zusammenhang mit der erfindungsgemäßen Heizanordnung Bezug genommen.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert. KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Es zeigen:
Figur 1 eine schematische Darstellung des möglichen Aufbaus einer erfindungsgemäßen Heizanordnung zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System;
Figur 2a-2d schematische Darstellungen zur Erläuterung möglicher Ausführungsformen eines in einer erfindungsgemäßen Heizanordnung eingesetzten diffraktiven optischen Elements;
Figur 3 eine schematische Darstellung zur Veranschaulichung möglicher, mit einer erfindungsgemäßen Heizanordnung auf der optischen Wirkfläche eines optischen Elements ein stellbarer Heizprofile;
Figur 4 eine schematische Darstellung des möglichen Aufbaus einer Heizanordnung zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System in einer weiteren Ausführungs form; und
Figur 5 eine schematische Darstellung des möglichen Aufbaus einer für den Betrieb im EUV ausgelegten mikrolithographi schen Projektionsbelichtungsanlage. DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
Fig. 5 zeigt zunächst eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage 500, in der die Erfindung bei spielsweise realisierbar ist.
Gemäß Fig. 5 weist eine Beleuchtungseinrichtung der Projektions belichtungsanlage 500 einen Feldfacettenspiegel 503 und einen Pupillenfacet tenspiegel 504 auf. Auf den Feldfacettenspiegel 503 wird das Licht einer Licht quelleneinheit, welche im Beispiel eine EUV-Lichtquelle (Plasmalichtquelle) 501 und einen Kollektorspiegel 502 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacettenspiegel 504 sind ein erster Teleskopspiegel 505 und ein zwei ter Teleskopspiegel 506 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Um lenk spiegel 507 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebene eines sechs Spiegel 521-526 umfassenden Projektions objektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 531 auf einem Maskentisch 530 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 541 auf einem Wafertisch 540 befindet.
Im Betrieb des optischen Systems bzw. der mikrolithographischen Projektions belichtungsanlage wird die auf die optische Wirkfläche der Spiegel auftreffende elektromagnetische Strahlung zum Teil absorbiert und führt wie eingangs erläutert zu einer Erwärmung und einer damit einhergehenden thermischen Ausdehnung bzw. Deformation, welche wiederum eine Beeinträchtigung der Abbildungseigenschaften des optischen Systems zur Folge haben kann. Die erfindungsgemäße Heizanordnung bzw. das Verfahren zum Heizen eines opti schen Elements kann z.B. auf einen beliebigen Spiegel der mikrolithographi schen Projektionsbelichtungsanlage von Fig. 5 angewendet werden. Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung zur Erläuterung des möglichen Auf baus einer erfindungsgemäßen Anordnung zum Heizen eines optischen Elements in einer ersten Ausführungsform.
Gemäß Fig. 1 weist die erfindungsgemäße Heizanordnung insbesondere eine Mehrzahl von IR-Strahlern 101, 102, 103, 104 auf, welche auch in größerer oder kleinerer Anzahl vorhanden sein können auf. Die IR-Strahler 101, 102, 103, 104 können z.B. als IR-Laser oder IR-LEDs ausgestaltet sein. Die von den IR-Strahlern 101-104 erzeugte IR-Strahlung trifft gemäß Fig. 1 über ein - optional zur Erzeugung eines kollimierten Strahlengangs vorgesehenes - Mikrolinsen-Array 120 auf eine mit „130“ bezeichnete Strahlformungseinheit und von dieser auf die optische Wirkfläche eines (in Fig. 1 nicht dargestellten) optischen Elements bzw. Spiegels.
Die Strahlformungseinheit 130 weist wenigstens ein mikrostrukturiertes Element, insbesondere wenigstens ein diffraktives optisches Element (DOE) oder wenigstens ein refraktives optisches Element (ROE) auf. Vorzugsweise weist die Strahlformungseinheit 130 eine Mehrzahl von Strahlformungsseg menten auf, wobei jedes dieser Strahlformungssegmente jeweils einem der IR- Strahler 101-104 zugeordnet ist. Diese Strahlformungssegmente bewirken sowohl eine Strahlformung als auch eine Strahlablenkung hinsichtlich der auf die optische Wirkfläche des zu heizenden optischen Elements zu lenkenden IR-Strahlung und können wiederum als unterschiedliche Bereiche auf ein- und demselben mikrostrukturierten Element bzw. DOE realisiert sein, wie lediglich schematisch in Fig. 2a-2d für unterschiedliche Ausführungsformen von Strahl formungseinheiten 231-234 dargestellt. In weiteren Ausführungsformen können entsprechende Strahlformungssegmente auch auf separaten mikrostrukturier ten Elementen bzw. DOEs realisiert sein.
Gemäß Fig. 1 weist das optische System weiter einen Multifaserkopf 110 auf, welcher einen Multifaserkonnektor 115 zum Anschluss optischer Fasern auf weist, wobei über jede dieser optischen Fasern IR-Strahlung von jeweils einem der IR-Strahler 101, 102, 103, 104 zuführbar ist. Gemäß Fig. 1 sind auch das Mikrolinsen-Array 120 und die Strahlformungseinheit 130 in den Multifaserkopf 110 integriert.
Die Ausgestaltung mit Multifaserkopf 110 ist u.a. insofern vorteilhaft, als eine vergleichsweise einfache Justage ermöglicht wird, wobei zugleich die Einhal tung erlaubter mechanischer Toleranzen hinsichtlich der zur Strahlungs einkopplung verwendeten optischen Fasern gewährleistet werden kann.
Fig. 3 zeigt eine schematische Darstellung zur Veranschaulichung möglicher Heizprofile, welche mit der erfindungsgemäßen Fleizanordnung von Fig. 1 auf dem jeweiligen optischen Element bzw. Spiegel erzeugbar sind. Dabei ist typi scherweise jedem der Segmente des betreffenden Heizprofils jeweils ein Strahlformungssegment in der Strahlformungseinheit der Fleizanordnung zugeordnet, so dass durch Ein- bzw. Ausschalten des dem jeweiligen Strahl formungssegment zugeordneten IR-Strahlers festgelegt wird, ob das betreffen de Fleizsegment in dem aktuell eingestellten Heizprofil aktiv beheizt wird oder nicht.
Fig. 4 zeigt eine schematische Darstellung zur Erläuterung des Aufbaus einer erfindungsgemäßen Fleizanordnung in einer weiteren Ausführungsform, wobei im Vergleich zu Fig. 1 analoge bzw. im Wesentlichen funktionsgleiche Kompo nenten mit um „300“ erhöhten Bezugsziffern bezeichnet sind.
Die Fleizanordnung gemäß Fig. 4 unterscheidet sich von derjenigen aus Fig. 1 dadurch, dass im Strahlengang nach der Strahlformungseinheit 430 zusätzlich eine Strahlablenkungseinheit z.B. in Form eines optischen Teleskops 440 (im Ausführungsbeispiel vom Galilei-Typ) vorgesehen ist (wohingegen gemäß Fig. 1 die gesamte Strahlablenkung durch die Strahlformungseinheit 130 bereit gestellt wird). Die Wirkung der Strahlablenkungseinheit bzw. des optischen Teleskops 440 ist wie in Fig. 4 angedeutet eine Steigerung der insgesamt durch die Fleizanordnung erzielten Ablenkwinkel mit der Folge, dass die Strahl formungseinheit 430 insoweit entlastet wird und hinsichtlich ihrer optischen Wirkung auf den Bereich kleinerer Ablenkwinkel, für welche etwa ein diffrakti- ves optisches Element (DOE) eine größere Beugungseffizienz aufweist, beschränkt werden kann. Dabei kann typischerweise der betreffende Ablenk winkel durch die zusätzliche Wirkung der Strahlablenkungseinheit bzw. des Teleskops 440 um ein Mehrfaches (z.B. um einen Faktor 5) vergrößert werden.
In Ausführungsformen kann ferner eine Kühleinheit zur Kühlung der (gegebe nenfalls hohe Leistungsdichten aufweisenden) Heizanordnung gemäß Fig. 1 bzw. Fig. 4 vorgesehen sein. Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alterna tive Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungs- formen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äqui valente beschränkt ist.

Claims

Patentansprüche
1. Optisches System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projekti onsbelichtungsanlage, mit
• wenigstens einem optischen Element, welches eine optische Wirk fläche aufweist und für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm ausgelegt ist;
• einer Heizanordnung zum Heizen dieses optischen Elements, welche eine Mehrzahl von IR-Strahlern (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) zur Beaufschlagung der optischen Wirkfläche mit IR- Strahlung aufweist, wobei diese IR-Strahler zur variablen Einstellung unterschiedlicher Heizprofile in dem optischen Element unabhängig voneinander ein- und ausschaltbar sind; und
• wenigstens einer Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) zur Strahlungsformung der von den IR-Strahlern (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) auf die optische Wirkfläche gelenkten IR- Strahlung.
2. Optisches System nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) wenigstens ein mikro strukturiertes Element, insbesondere wenigstens ein diffraktives optisches Element (DOE) oder wenigstens ein refraktives optisches Element (ROE), aufweist.
3. Optisches System nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) eine Mehrzahl von Strahlformungssegmenten zur Beaufschlagung unterschiedlicher Segmente der optischen Wirkfläche des optischen Elements mit IR-Strahlung aufweist.
4. Optisches System nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass jedes dieser Strahlformungssegmente jeweils einem der IR-Strahler (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) zugeordnet ist.
5. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese einen Multifaserkopf (110, 410) aufweist, welcher einen Multifaserkonnektor zum Anschluss optischer Fasern auf weist, wobei über jede dieser optischen Fasern IR-Strahlung von jeweils einem der IR-Strahler zuführbar ist.
6. Optisches System nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens eine Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) in den Multifaserkopf (110, 410) integriert ist.
7. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Fleizanordnung ferner wenigstens eine Strahl ablenkungseinheit zwischen der Strahlformungseinheit (430) und dem opti schen Element aufweist.
8. Optisches System nach Anspruch 7 sowie Anspruch 5 oder 6, dadurch ge kennzeichnet, dass die Strahlablenkungseinheit in den Multifaserkopf (410) integriert ist.
9. Optisches System nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass diese Strahlablenkungseinheit ein optisches Teleskop (440) aufweist.
10. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass dieses einen Nutzstrahlengang aufweist, wobei die Fleizanordnung außerhalb dieses Nutzstrahlengangs angeordnet ist.
11. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass dieses ferner eine Kühleinheit zur Kühlung der Fleizanordnung aufweist.
12. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element ein Spiegel ist.
13. Optisches System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element für eine Arbeitswellenlänge von weniger als 15nm ausgelegt ist.
14. Heizanordnung zum Heizen eines optischen Elements, insbesondere zur Verwendung in einem optischen System nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit
• einer Mehrzahl von IR-Strahlern (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) zur Beaufschlagung der optischen Wirkfläche des optischen Elements mit IR-Strahlung, wobei diese IR-Strahler zur variablen Einstellung unterschiedlicher Heizprofile in dem optischen Element unabhängig voneinander ein- und ausschaltbar sind; und
• wenigstens einer Strahlformungseinheit (130, 231, 232, 233, 234, 430) zur Strahlungsformung der von den IR-Strahlern (101, 102, 103, 104, 401, 402, 403, 404) auf die optische Wirkfläche gelenkten IR- Strahlung.
15. Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen Sys tem, wobei unterschiedliche Heizprofile in dem optischen Element unter Verwendung einer Heizanordnung nach Anspruch 14 eingestellt werden.
16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass das Heizen des optischen Elements derart erfolgt, dass ein mit der Heizanordnung ein gestelltes Heizprofil in Abhängigkeit von einem in dem optischen System verwendeten Beleuchtungssetting gewählt wird.
17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass das Heizen des optischen Elements derart erfolgt, dass eine örtliche und/oder zeitliche Variation einer Temperaturverteilung in dem optischen Element reduziert wird.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element ein Spiegel ist.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass das optische Element für eine Arbeitswellenlänge von weniger als
30nm, insbesondere weniger als 15nm, ausgelegt ist.
PCT/EP2020/073207 2019-12-11 2020-08-19 Optisches system, sowie heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements in einem optischen system WO2021115641A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP20767478.9A EP4073588A1 (de) 2019-12-11 2020-08-19 Optisches system, sowie heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements in einem optischen system
KR1020227023217A KR20220113459A (ko) 2019-12-11 2020-08-19 광학 시스템, 가열 장치, 및 광학 시스템의 광학 요소를 가열하기 위한 방법
US17/805,757 US20220299732A1 (en) 2019-12-11 2022-06-07 Optical system, heating arrangement, and method for heating an optical element in an optical system

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019219289.0A DE102019219289A1 (de) 2019-12-11 2019-12-11 Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
DE102019219289.0 2019-12-11

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US17/805,757 Continuation US20220299732A1 (en) 2019-12-11 2022-06-07 Optical system, heating arrangement, and method for heating an optical element in an optical system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2021115641A1 true WO2021115641A1 (de) 2021-06-17

Family

ID=72355945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2020/073207 WO2021115641A1 (de) 2019-12-11 2020-08-19 Optisches system, sowie heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements in einem optischen system

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20220299732A1 (de)
EP (1) EP4073588A1 (de)
KR (1) KR20220113459A (de)
DE (1) DE102019219289A1 (de)
WO (1) WO2021115641A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022208204A1 (de) 2022-08-08 2023-08-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021206203A1 (de) 2021-06-17 2022-12-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements
DE102023202609A1 (de) 2022-05-11 2023-11-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Heizvorrichtung und optisches System, insbesondere EUV-Lithographiesystem
DE102022205814A1 (de) 2022-06-08 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betreiben einer Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsanlage
DE102022114974A1 (de) 2022-06-14 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System
DE102022114969A1 (de) 2022-06-14 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System
WO2023241849A1 (de) 2022-06-14 2023-12-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system
DE102022209455A1 (de) 2022-09-09 2024-03-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Heizanordnung, sowie optisches System und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements
DE102022212570A1 (de) 2022-11-24 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Heizvorrichtung und optisches System, insbesondere EUV-Lithographiesystem

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012216284A1 (de) * 2011-09-27 2013-03-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US20140185024A1 (en) * 2011-09-29 2014-07-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102013204427A1 (de) 2013-03-14 2014-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur thermischen Aktuierung eines Spiegels, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102017207862A1 (de) 2017-05-10 2017-07-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Heizlichtquelle und Verfahren zum Heizen einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage
DE102018206404A1 (de) * 2018-04-25 2018-06-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Heizvorrichtung und Verfahren
DE102017205405A1 (de) 2017-03-30 2018-10-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080204682A1 (en) * 2005-06-28 2008-08-28 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
DE102012213794A1 (de) * 2012-08-03 2014-02-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Maskeninspektionsverfahren und Maskeninspektionssystem für EUV-Masken
DE102015201020A1 (de) * 2015-01-22 2016-07-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit Manipulator sowie Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage
DE102021206203A1 (de) * 2021-06-17 2022-12-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012216284A1 (de) * 2011-09-27 2013-03-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
US20140185024A1 (en) * 2011-09-29 2014-07-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102013204427A1 (de) 2013-03-14 2014-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur thermischen Aktuierung eines Spiegels, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102017205405A1 (de) 2017-03-30 2018-10-04 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102017207862A1 (de) 2017-05-10 2017-07-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einer Heizlichtquelle und Verfahren zum Heizen einer Komponente der Projektionsbelichtungsanlage
DE102018206404A1 (de) * 2018-04-25 2018-06-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Heizvorrichtung und Verfahren

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022208204A1 (de) 2022-08-08 2023-08-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage

Also Published As

Publication number Publication date
EP4073588A1 (de) 2022-10-19
DE102019219289A1 (de) 2021-06-17
US20220299732A1 (en) 2022-09-22
KR20220113459A (ko) 2022-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2021115641A1 (de) Optisches system, sowie heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements in einem optischen system
DE102013204427A1 (de) Anordnung zur thermischen Aktuierung eines Spiegels, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102018206404A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Heizvorrichtung und Verfahren
DE102020207752A1 (de) Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements
WO2019174996A1 (de) Strahlformungs- und beleuchtungssystem für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren
DE102020207748A1 (de) Optisches System, insbesondere in einermikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102014206765A1 (de) Spiegelanordnung, Projektionsobjektiv und EUV-Lithographieanlage
DE102012207866A1 (de) Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie
WO2024052260A1 (de) Heizanordnung, sowie optisches system und verfahren zum heizen eines optischen elements
DE102013215197A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit temperierbaren optischen Elementen und Verfahren zum Betrieb einer derartigen Anlage
DE102015223795A1 (de) Verfahren zum Bearbeiten eines optischen Elements
DE102012206153A1 (de) Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102011006003A1 (de) Beleuchtungsoptik zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie
DE102011104543A1 (de) Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur mikrolithographischen Projektion einer Maske
EP4212962A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum bestimmen des erwärmungszustandes eines optischen elements in einem optischen system für die mikrolithographie
WO2020057873A1 (de) Baugruppe eines optischen systems, insbesondere in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage, sowie verfahren zum betreiben eines solchen optischen systems
DE102021200788A1 (de) Optisches System, sowie Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems
DE102021206203A1 (de) Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements
DE102012213937A1 (de) Spiegel-Austauscharray
DE102021200790A1 (de) Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie Spiegel und optisches System
DE102017210218A1 (de) Spiegelanordnung, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102022212570A1 (de) Heizvorrichtung und optisches System, insbesondere EUV-Lithographiesystem
WO2022171321A1 (de) Verfahren zum heizen eines optischen elements in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage, sowie optisches system
WO2022161659A1 (de) Optisches system, sowie verfahren zum betreiben eines optischen systems
DE102021208487A1 (de) Optisches System, sowie Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 20767478

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20227023217

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2020767478

Country of ref document: EP

Effective date: 20220711