WO2020258461A1 - 紫外光清洁装置 - Google Patents

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    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/0121—Operation of devices; Circuit arrangements, not otherwise provided for in this subclass

Definitions

  • the energy conversion member includes a spectrum modulation layer, and the spectrum modulation layer is used to reduce the energy of the ultraviolet light.
  • the rare earth material includes at least one of yttrium, scandium, lanthanum, and cerium.
  • the thickness of the transparent material ranges from 0.1 to 1 mm.
  • FIG. 1 is a first schematic diagram of an ultraviolet light cleaning device provided by an embodiment of the application
  • FIG. 2 is a schematic diagram of a spectral modulation layer provided by an embodiment of the application.
  • the present application addresses the technical problem of damage to the substrate during the cleaning process in the existing ultraviolet light cleaning, and the embodiments of the present application are used to solve this problem.
  • the ultraviolet light source 14 is used to emit ultraviolet light to clean the substrate 12;
  • the spectrum modulation layer is attached to the drive assembly and moves with the drive assembly.
  • the drive assembly is arranged between the plane where the ultraviolet light source is located and the plane where the carrier platform is located, so that the drive assembly Drive the spectrum modulation layer to move, so that the conversion area or the transmission area of the spectrum modulation layer is aligned with the ultraviolet light source, and when the drive assembly is set, the drive assembly does not affect the ultraviolet light to the substrate as a standard, for example, the spectral modulation layer is
  • the projection on the carrying platform is greater than the projection of the ultraviolet light source on the carrying platform, so that the part of the spectral modulation layer that exceeds the ultraviolet light source is attached to the driving component, so that the projection of the driving component on the carrying platform and the projection of the ultraviolet light source on the carrying platform do not overlap Therefore, the driving component drives the movement of the spectrum modulation layer, and the driving component does not affect the ultraviolet light source to illuminate the substrate.
  • the spectrum modulation layer can be set to multiple layers, and the energy of ultraviolet light can be converted through the cooperation of multiple spectrum modulation layers.
  • the spectrum modulation layer is set as the first spectrum modulation layer and the second spectrum modulation layer.
  • the first spectrum modulation layer and the second spectrum modulation layer can be used separately, or the first spectrum modulation layer and the second spectrum modulation layer can be stacked so that the first spectrum modulation layer and the second spectrum modulation layer work at the same time to convert ultraviolet The energy of light.
  • the driving assembly 35 includes a driving body 353, a first telescopic rod 351, and a second telescopic rod 352, the first telescopic rod 351 and the first spectral modulation layer 331 connection.
  • the first telescopic rod is used to drive the first spectrum modulation layer to move.

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Abstract

本申请提供一种紫外光清洁装置，该紫外光清洁装置通过在紫外光源与承载平台之间设置能量转换构件，使能量转换构件将紫外光的能量转换为特定能量，在紫外光能量较大时，将紫外光的能量转换为低于紫外光的能量的特定能量，从而在清洁基板的同时，避免损伤基板，解决了现有紫外光清洁存在清洁过程中损伤基板的技术问题。

Description

紫外光清洁装置 技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其是涉及一种紫外光清洁装置。
 背景技术
紫外光清洁技术是指利用有机化合物的光敏氧化作用去除黏附在材料表面的有机物质，在基板进行镀膜和光阻涂布等制程前往往需要对基板表面进行照射，以清洁基板表面。
但在一些制程中，使用紫外光清洁基板表面时，会因为紫外光照射能量较大，造成对基板表面的损伤，例如在铜制程中会出现损伤铜膜的问题，从而造成显示问题。
所以，现有紫外光清洁存在清洁过程中损伤基板的技术问题。
 技术问题
本申请提供一种紫外光清洁装置，用于解决现有紫外光清洁存在清洁过程中损伤基板的技术问题。
 技术解决方案
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
本申请提供一种紫外光清洁装置，该紫外光清洁装置包括：
承载平台，用于承载基板；
紫外光源，用于发出紫外光清洁所述基板；
能量转换构件，设置于所述紫外光源与所述承载平台之间，用于将所述紫外光的能量转换为特定能量。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述能量转换构件包括光谱调制层，所述光谱调制层用于降低所述紫外光的能量。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述光谱调制层包括转换区和透过区，所述转换区用于在需要转换紫外光的能量时，对应所述紫外光源，所述透过区用于在使用紫外光直接照射所述基板时，对应所述紫外光源，且所述转换区和透过区在承载平台上的投影面积大于所述紫外光源在承载平台上的投影面积。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述能量转换构件还包括驱动组件，所述驱动组件与所述光谱调制层连接，所述驱动组件用于驱动所述光谱调制层移动。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述光谱调制层贴合在所述驱动组件上，并随所述驱动组件移动。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述能量转换构件还包括控制组件，所述控制组件用于在需要转换所述紫外光时，控制所述驱动组件工作。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述透过区与所述转换区设有透明材料，所述转换区的透明材料掺杂有稀土配合物。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述透明材料包括聚氨酯树脂、乙烯-聚醋酸乙烯酯共聚物、有机玻璃中的至少一种。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述稀土配合物包括配体和稀土材料，所述配体用于吸收所述紫外光的能量并将所述紫外光的能量传递给稀土材料，所述稀土材料用于吸收所述配体发出的光并发出非紫外光。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述稀土材料包括钇、钪、镧、铈中的至少一种。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述配体包括δ电子、π电子、孤对电子、非键n电子中的至少一种。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述透明材料的厚度范围包括0.1至1毫米。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述转换区内所述稀土配合物的成分比例范围包括10%至60%。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述光谱调制层包括第一光谱调制层和第二光谱调制层，所述第一光谱调制层用于将所述紫外光的能量转换为第一能量，所述第二光谱调制层用于将所述紫外光的能量转换为第二能量。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述能量转换构件还包括选择组件，所述选择组件用于根据清洁基板的最小能量和基板所能承受的最大能量选择所述光谱调制层。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述第一光谱调制层包括第一透明材料，所述第一透明材料掺杂第一稀土配合物，所述第二光谱调制层包括第二透明材料，所述第二透明材料掺杂第二稀土配合物，所述第一透明材料与所述第二透明材料相同，所述第一稀土配合物与所述第二稀土配合物不同。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述第一稀土配合物与所述第二稀土配合物种类不同。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述第一稀土配合物的成分比例与所述第二稀土配合物的成分比例不同。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述第一光谱调制层与所述第二光谱调制层厚度不同。
在本申请提供的紫外光清洁装置中，所述第一光谱调制层与所述第二光谱调制层的成分相同。
 有益效果
本申请提供一种紫外光清洁装置，该紫外光清洁装置包括承载平台、紫外光源、能量转换构件，所述承载平台用于承载基板，所述紫外光源用于发出紫外光清洁所述基板，所述能量转换构件设置于所述紫外光源与所述承载平台之间，用于将所述紫外光的能量转换为特定能量；通过在所述紫外光源与所述承载平台之间设置能量转换构件，使所述能量转换构件将紫外光的能量转换为特定能量，在紫外光能量较大时，将紫外光的能量转换为低于紫外光的能量的特定能量，从而在清洁基板的同时，避免损伤基板，解决了现有紫外光清洁存在清洁过程中损伤基板的技术问题。
 附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的紫外光清洁装置的第一示意图；
图2为本申请实施例提供的光谱调制层的示意图；
图3为本申请实施例提供的紫外光清洁装置的第二示意图。
 本发明的实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本申请针对现有紫外光清洁存在清洁过程中损伤基板的技术问题，本申请实施例用以解决该问题。
如图1所示，本申请实施例提供一种紫外光清洁装置，该紫外光清洁装置包括：
承载平台11，用于承载基板12；
紫外光源14，用于发出紫外光清洁所述基板12；
能量转换构件13，设置于所述紫外光源14与所述承载平台11之间，用于将所述紫外光的能量转换为特定能量。
本申请实施例提供一种紫外光清洁装置，该紫外光清洁装置包括承载平台、紫外光源、能量转换构件，所述承载平台用于承载基板，所述紫外光源用于发出紫外光清洁所述基板，所述能量转换构件设置于所述紫外光源与所述承载平台之间，用于将所述紫外光的能量转换为特定能量；通过在所述紫外光源与所述承载平台之间设置能量转换构件，使所述能量转换构件将紫外光的能量转换为特定能量，在紫外光能量较大时，将紫外光的能量转换为低于紫外光的能量的特定能量，从而在清洁基板的同时，避免损伤基板，解决了现有紫外光清洁存在清洁过程中损伤基板的技术问题。
需要说明的是，特定能量指低于紫外光的能量的能量或者高于紫外光的能量的能量，特定能量的数值根据实际将基板清洁的能量与将基板损伤的能量综合决定，例如特定能量为大于将基板清洁的能量且小于将基板损伤的能量，且特定能量包括特定光线的能量，例如红外光的能量。
在一种实施例中，所述能量转换构件包括光谱调制层，所述光谱调制层设置于所述紫外光源与所述承载平台之间，所述光谱调制层用于降低所述紫外光的能量，考虑到紫外光较大时，会损伤基板，将光谱调制层设置在紫外光与承载平台之间，使得紫外光经过光谱调制层时，会被光谱调制层降低紫外光的能量，进而发出较低能量的光线，从而避免紫外光损伤基板。
在一种实施例中，如图2所示，所述光谱调制层包括转换区211和透过区212，所述转换区211用于在需要转换紫外光的能量时，对应所述紫外光源，所述透过区212用于在使用紫外光直接照射所述基板时，对应所述紫外光源，且所述转换区和透过区在承载平台上的投影面积大于所述紫外光源在承载平台上的投影面积；在对基板进行清洁时，考虑到会出现紫外光的能量能清洁基板且不会损伤基板的情况，可在光谱调制层上设置透过区，使得紫外光通过所述透过区直接照射基板，而不会改变紫外光源的能量；而对于紫外光的能量会损伤基板情况，可使得转换区对应所述紫外光源，从而使得紫外光在经过转换区后降低能量，从而使得经过转换区发光的光的能量不会损伤基板。
在一种实施例中，所述能量转换构件还包括驱动组件，所述驱动组件与所述光谱调制层连接，所述驱动组件用于驱动所述光谱调制层移动，为了实现光谱调制层的转换区与透过区的移动，以使转换区或者透过区对齐紫外光源，可使光谱调制层与驱动组件连接，使用驱动组件来驱动光谱调制层的移动。
在一种实施例中，所述驱动组件固定于所述承载平台，所述驱动平台通过伸缩杆与所述光谱调制层连接，通过驱动所述伸缩杆驱动所述光谱调制层移动，以使转换区或者透过区对齐紫外光源。
在一种实施例中，所述光谱调制层贴合在所述驱动组件上，并随所述驱动组件移动，通过将驱动组件设置在紫外光源所在平面与承载平台所在平面之间，使得驱动组件带动光谱调制层移动，从而使得光谱调制层的转换区或者透过区对齐所述紫外光源，且在设置驱动组件时，以驱动组件不影响紫外光照射至基板为标准，例如使光谱调制层在承载平台上的投影大于所述紫外光源在承载平台上的投影，使光谱调制层超出紫外光源的部分贴合驱动组件，使驱动组件在承载平台上的投影与紫外光源在承载平台上投影无重合，从而使得驱动组件带动光谱调制层移动，且驱动组件不影响紫外光源照射基板。
在一种实施例中，所述能量转换构件还包括控制组件，所述控制组件用于在需要转换所述紫外光时，控制所述驱动组件工作；在需要转换所述紫外光时，通过控制组件控制驱动组件工作，使得驱动组件驱动所述光谱调制层移动，从而使得紫外光的能量经过光谱调制层转换为特定能量或者直接通过。
在一种实施例中，所述透过区与所述转换区设有透明材料，所述转换区的透明材料掺杂有稀土配合物，在透过区设置透明材料，使得紫外光源对齐所述透过区时，紫外光直接通过光谱调制层，从而直接照射基板，在转换区设置透明材料，并在透明材料中掺杂稀土配合物，使得紫外光的能量在经过转换区后下降，避免紫外光直接照射基板损伤基板。
在一种实施例中，所述透明材料包括聚氨酯树脂、乙烯-聚醋酸乙烯共聚物、有机玻璃中的至少一种，使用透明材料除了可使紫外光直接透过，还可以避免外界以及清洁掉的异物污染紫外光源，透明材料可选择耐辐射的高分子材料，或者选择高透光率的无机玻璃材料，以不影响紫外光透过为标准选择透明材料。
在一种实施例中，所述稀土配合物包括配体和稀土材料，所述配体用于吸收所述紫外光的能量并将所述紫外光的能量传递给稀土材料，所述稀土材料用于吸收所述配体发出的光并发出非紫外光；将稀土配合物分为配体和稀土材料，通过控制稀土材料和配体的成分比例，可使得光谱调制层将紫外光的能量转换为不同的光的能量。
在一种实施例中，所述稀土材料包括钇、钪、镧、铈中的至少一种，所述稀土材料可选取钇、钪和15种镧系稀土材料中的至少一种。
在一种实施例中，所述配体包括δ电子、π电子、孤对电子、非键n电子中的至少一种。
在一种实施例中，所述透明材料的厚度范围包括0.1至1毫米，通过控制透明材料的厚度范围，使得透明材料不会过厚，从而造成透明材料阻挡紫外光的透过。
在一种实施例中，所述转换区内所述稀土配合物的成分比例范围包括10%至60%。
如图3所示，本申请实施例提供一种紫外光清洁装置，该紫外光清洁装置包括承载平台11、紫外光源14和能量转换构件，所述承载平台11上设有基板12，所述能量转换构件包括光谱调制层33、驱动组件35、控制组件36和选择组件37，所述选择构件37用于根据清洁基板的最小能量和基板所能承受的最大能量选择所述光谱调制层33，所述光谱调制层33与所述驱动组件35连接，所述驱动组件35与所述控制组件36连接，所述控制组件36与所述选择组件37连接，所述选择组件37与所述基板12连接。
需要说明的是，清洁基板的最小能量指紫外光照射到基板上将基板清洁干净的最小能量，基板所能承受的最大能量指将基板破坏的最小能量。
在一种实施例中，如图3所示，所述光谱调制层33包括第一光谱调制层331和第二光谱调制层332，所述第一光谱调制层331用于将所述紫外光的能量转换为第一能量，所述第二光谱调制层332用于将所述紫外光的能量转换为第二能量，考虑到对不同基板需要使用不同的能量来清洁，可将光谱调制层设置为多层，使得不同光谱调制层将紫外光的能量转换为不同能量，例如在需要得到第一能量时，使用第一光谱调制层将紫外光的能量转换为第一能量，在需要得到第二能量时，使用第二光谱调制层将紫外光的能量转换为第二能量。
在一种实施例中，可将光谱调制层设为多层，并通过多个光谱调制层的配合来转换紫外光的能量，例如将光谱调制层设为第一光谱调制层和第二光谱调制层，可分开使用第一光谱调制层和第二光谱调制层，也可将第一光谱调制层与第二光谱调制层层叠设置，使得第一光谱调制层与第二光谱调制层同时工作转换紫外光的能量。
在一种实施例中，如图3所示，选择构件用于存储基板的相关数据，所述相关数据包括但不限于清洁基板的最小能量和基板所能承受的最大能量，所述选择构件连接所述基板，在获取所述基板的尺寸后提取出清洁基板的最小能量和基板所能承受的最大能量的相关数据，并将该相关数据传递给控制组件，控制组件在获取到该相关数据后控制驱动组件工作，所述驱动组件驱动对应光谱调制层移动，以转换紫外光的能量。
在一种实施例中，如图3所示，所述驱动组件35包括驱动本体353、第一伸缩杆351和第二伸缩杆352，所述第一伸缩杆351与所述第一光谱调制层331连接，在需要使用第一光谱调制层时，使用第一伸缩杆驱动第一光谱调制层移动，所述第二伸缩杆352与所述第二光谱调制层332连接，在需要使用第二光谱调制层时，使用第二伸缩杆驱动第二光谱调制层移动，即可根据选择组件的数据来使用驱动组件驱动不同的光谱调制层工作，从而使得紫外光的能量转换为不同能量，实现对不同的基板的清洁并不损伤基板。
在一种实施例中，如图3所示，所述第二光谱调制层332包括转换区3321和透过区3322，所述第一光谱调制层中转换区与透过区与第二光谱调制层中转换区和透过区的大小与设置方式一致，在对应使用第一光谱调制层时，可移动第一光谱调制层使第一光谱调制层的转换区对应紫外光源，同时移动第二光谱调制层使第二光谱调制层的透过区对应紫外光源，从而使用第一光谱调制层转换紫外光，相应使用第二光谱调制层时，可移动第一光谱调制层使其透过区对应紫外光源、移动第二光谱调制层使其转换区对应紫外光源；无需在使用一光谱调制层时移出其他光谱调制层，只需简单移动各个光谱调制层使其配合使用，即可实现对相应基板使用相应光谱调制层转换紫外光。
在一种实施例中，所述第一光谱调制层包括第一透明材料，所述第一透明材料掺杂第一稀土配合物，所述第二光谱调制层包括第二透明材料，所述第二透明材料掺杂第二稀土配合物，所述第一透明材料与所述第二透明材料相同，所述第一稀土配合物与所述第二稀土配合物不同；为了对不同基板使用对应不同的光谱调制层，在设置光谱调制层时，可使用相同的透明材料，在透明材料中掺杂不同的稀土配合物，使得对不同的基板，可使用不同的光谱调制层转换紫外光，保证紫外光清洁基板的同时，避免紫外光损伤基板。
在一种实施例中，所述第一稀土配合物与所述第二稀土配合物种类不同，通过使用不同的稀土配合物掺杂，使得第一光谱调制层与第二光谱调制层转换得到的能量不同，从而使得第一光谱调制层与第二光谱调制层可对应不同基板使用。
在一种实施例中，所述第一稀土配合物的成分比例与所述第二稀土配合物的成分比例不同，可控制稀土配合物的种类相同，改变稀土配合物的成分比例，使得第一光谱调制层与第二光谱调制层转换紫外光得到的能量不同；或者控制稀土配合物的种类不同，且稀土配合物的成分比例不同，以使第一光谱调制层与第二光谱调制层转换紫外光得到的能量不同。
在一种实施例中，所述第一光谱调制层与所述第二光谱调制层厚度不同，可控制第一光谱调制层与第二光谱调制层的成分相同，例如第一光谱调制层与第二光谱调制层内稀土配合物的种类相同，且稀土配合物的成分比例相同，但控制第一光谱调制层与第二光谱调制层的厚度不同，使第一光谱调制层与第二光谱调制层转换紫外光得到的能量不同；或者所述第一光谱调制层与所述第二光谱调制层厚度不同，且所述第一光谱调制层与第二光谱调制层的成分不同，根据需求设置第一光谱调制层和第二光谱调制层的参数，从而使第一光谱调制层与第二光谱调制层转换紫外光得到的能量不同。
在本申请实施例中，所述紫外光包括波长为172纳米、185纳米和254纳米的紫外光波长，但不限于此。
根据以上实施例可知：
本申请实施例提供一种紫外光清洁装置，该紫外光清洁装置包括承载平台、紫外光源、能量转换构件，所述承载平台用于承载基板，所述紫外光源用于发出紫外光清洁所述基板，所述能量转换构件设置于所述紫外光源与所述承载平台之间，用于将所述紫外光的能量转换为特定能量；通过在所述紫外光源与所述承载平台之间设置能量转换构件，使所述能量转换构件将紫外光的能量转换为特定能量，在紫外光能量较大时，将紫外光的能量转换为低于紫外光的能量的特定能量，从而在清洁基板的同时，避免损伤基板，解决了现有紫外光清洁存在清洁过程中损伤基板的技术问题。
综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (20)

  1. 一种紫外光清洁装置，其包括：
    承载平台，用于承载基板；
    紫外光源，用于发出紫外光清洁所述基板；
    能量转换构件，设置于所述紫外光源与所述承载平台之间，用于将所述紫外光的能量转换为特定能量。
  2. 如权利要求1所述的紫外光清洁装置，其中，所述能量转换构件包括光谱调制层，所述光谱调制层用于降低所述紫外光的能量。
  3. 如权利要求2所述的紫外光清洁装置，其中，所述光谱调制层包括转换区和透过区，所述转换区用于在需要转换紫外光的能量时，对应所述紫外光源，所述透过区用于在使用紫外光直接照射所述基板时，对应所述紫外光源，且所述转换区和透过区在承载平台上的投影面积大于所述紫外光源在承载平台上的投影面积。
  4. 如权利要求3所述的紫外光清洁装置，其中，所述能量转换构件还包括驱动组件，所述驱动组件与所述光谱调制层连接，所述驱动组件用于驱动所述光谱调制层移动。
  5. 如权利要求4所述的紫外光清洁装置，其中，所述光谱调制层贴合在所述驱动组件上，并随所述驱动组件移动。
  6. 如权利要求5所述的紫外光清洁装置，其中，所述能量转换构件还包括控制组件，所述控制组件用于在需要转换所述紫外光时，控制所述驱动组件工作。
  7. 如权利要求3所述的紫外光清洁装置，其中，所述透过区与所述转换区设有透明材料，所述转换区的透明材料掺杂有稀土配合物。
  8. 如权利要求7所述的紫外光清洁装置，其中，所述透明材料包括聚氨酯树脂、乙烯-聚醋酸乙烯酯共聚物、有机玻璃中的至少一种。
  9. 如权利要求7所述的紫外光清洁装置，其中，所述稀土配合物包括配体和稀土材料，所述配体用于吸收所述紫外光的能量并将所述紫外光的能量传递给稀土材料，所述稀土材料用于吸收所述配体发出的光并发出非紫外光。
  10. 如权利要求9所述的紫外光清洁装置，其中，所述稀土材料包括钇、钪、镧、铈中的至少一种。
  11. 如权利要求9所述的紫外光清洁装置，其中，所述配体包括δ电子、π电子、孤对电子、非键n电子中的至少一种。
  12. 如权利要求7所述的紫外光清洁装置，其中，所述透明材料的厚度范围包括0.1至1毫米。
  13. 如权利要求7所述的紫外光清洁装置，其中，所述转换区内所述稀土配合物的成分比例范围包括10%至60%。
  14. 如权利要求2所述的紫外光清洁装置，其中，所述光谱调制层包括第一光谱调制层和第二光谱调制层，所述第一光谱调制层用于将所述紫外光的能量转换为第一能量，所述第二光谱调制层用于将所述紫外光的能量转换为第二能量。
  15. 如权利要求14所述的紫外光清洁装置，其中，所述能量转换构件还包括选择组件，所述选择组件用于根据清洁基板的最小能量和基板所能承受的最大能量选择所述光谱调制层。
  16. 如权利要求14所述的紫外光清洁装置，其中，所述第一光谱调制层包括第一透明材料，所述第一透明材料掺杂第一稀土配合物，所述第二光谱调制层包括第二透明材料，所述第二透明材料掺杂第二稀土配合物，所述第一透明材料与所述第二透明材料相同，所述第一稀土配合物与所述第二稀土配合物不同。
  17. 如权利要求16所述的紫外光清洁装置，其中，所述第一稀土配合物与所述第二稀土配合物种类不同。
  18. 如权利要求16所述的紫外光清洁装置，其中，所述第一稀土配合物的成分比例与所述第二稀土配合物的成分比例不同。
  19. 如权利要求14所述的紫外光清洁装置，其中，所述第一光谱调制层与所述第二光谱调制层厚度不同。
  20. 如权利要求19所述的紫外光清洁装置，其中，所述第一光谱调制层与所述第二光谱调制层的成分相同。
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