WO2020136849A1

WO2020136849A1 - 表示装置及び表示装置の製造方法

Info

Publication number: WO2020136849A1
Application number: PCT/JP2018/048352
Authority: WO
Inventors: 康浅岡; 豪鎌田
Original assignee: シャープ株式会社
Priority date: 2018-12-27
Filing date: 2018-12-27
Publication date: 2020-07-02
Also published as: US11329105B2; CN113196875A; US20200212122A1

Abstract

光吸収部材（１）は、第１の二色性色素（２）及び第２の二色性色素（３）を含み、第１の二色性色素（２）の吸収ピーク波長は、第１発光層（５ＢＨ）の第１の発光ピーク波長と第２発光層（５ＧＨ）の第２の発光ピーク波長との間であり、第２の二色性色素（３）の吸収ピーク波長は、第２発光層（５ＧＨ）の第２の発光ピーク波長と第３発光層（５ＲＨ）の第３の発光ピーク波長との間であり、第１の二色性色素（２）の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素（３）の分子の吸収軸方向は、第１電極（６）の法線方向（ＨＬ）となす角度が、７０度以上９０度以下である。

Description

表示装置及び表示装置の製造方法

　本発明は、表示装置と、表示装置の製造方法とに関する。

　近年、さまざまな表示装置が開発されており、特に、ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode：有機発光ダイオード）を備えた表示装置や、無機発光ダイオードまたはＱＬＥＤ（Quantum dot Light Emitting Diode：量子ドット発光ダイオード）を備えた表示装置は、低消費電力化、薄型化および高画質化などを実現できる点から、高い注目を浴びている。

　このような表示装置においては、発光層からの光をユーザー側に効率よく出射するため、比較的高い反射率を有する材料からなる反射電極が備えられている。しかしながら、例えば、室外における強い太陽光下や室内における強い照明光下などの強い外光下においては、この反射電極による外光の反射が原因で、表示装置のコントラスト比が低下し、表示品質の低下の問題が生じていた。

　このような外光反射を抑制するために、円偏光板を表示装置の表面に備えた構成も提案されているが、このような構成の場合、円偏光板によって、ユーザー側に出射される光の約半分が吸収されてしまい、表示装置の輝度低下の問題が生じてしまう。

　特許文献１には、アゾ化合物を含有した偏光機能を有する基材からなる偏光素子を用いることで、表示装置のコントラスト比の向上及び色純度を高めることができると記載されている。

国際公開公報「ＷＯ２０１４／１９６４１４」（２０１４年１２月１１日公開）

　しかしながら、特許文献１に記載されているアゾ化合物を含有した偏光機能を有する基材からなる偏光素子を備えた表示装置の場合、発光層からの発光ピーク波長が前記偏光素子の吸収波長領域と重なっている。したがって、このような構成によっては、光の利用効率の高い表示装置を実現することはできない。また、表示装置の輝度低下の問題も生じてしまう。

　本発明は、前記の問題点に鑑みてなされたものであり、明所コントラスト比、色純度及び光の利用効率が高く、輝度低下を抑制した表示装置と、表示装置の製造方法とを提供することを目的とする。

　本発明の表示装置は、前記の課題を解決するために、
　基板と、第１の発光ピーク波長を有する第１発光層を備えた第１発光素子と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長を有する第２発光層を備えた第２発光素子と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長を有する第３発光層を備えた第３発光素子と、を含む表示装置であって、
　前記基板上には、複数のアクティブ素子を形成するアクティブ素子層と、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子と、光吸収部材とが、前記基板側からこの順に備えられ、
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子のそれぞれは、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に形成された、前記第１発光層、前記第２発光層及び前記第３発光層中の何れかの該当する発光層とを含み、
　前記光吸収部材は、少なくとも第１の二色性色素及び第２の二色性色素を含み、
　前記第１の二色性色素の吸収ピーク波長は、前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間であり、
　前記第２の二色性色素の吸収ピーク波長は、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間であり、
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記第１電極の法線方向となす角度が、７０度以上９０度以下であることを特徴としている。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記の課題を解決するために、
　第１の発光ピーク波長と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長と、を含む光を出射する表示装置の製造方法であって、
　前記第１の発光ピーク波長を含む光を出射する第１発光層と、前記第２の発光ピーク波長を含む光を出射する第２発光層と、前記第３の発光ピーク波長を含む光を出射する第３発光層と、を形成する発光層を形成する工程と、
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１の二色性色素と、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２の二色性色素と、樹脂とを含む光吸収部材を形成する工程と、を含むことを特徴としている。

　本発明の表示装置の製造方法は、前記の課題を解決するために、
　第１の発光ピーク波長と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長と、を含む光を出射する表示装置の製造方法であって、
　前記第１の発光ピーク波長を含む光を出射する第１発光層と、前記第２の発光ピーク波長を含む光を出射する第２発光層と、前記第３の発光ピーク波長を含む光を出射する第３発光層と、を形成する発光層を形成する工程と、
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１の二色性色素と、第１樹脂とを含む第１光吸収部材を形成する工程と、
　前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２の二色性色素と、第２樹脂とを含む第２光吸収部材を形成する工程と、を含むことを特徴としている。

　本発明の一態様によれば、明所コントラスト比、色純度及び光の利用効率が高く、輝度低下を抑制した表示装置と、表示装置の製造方法とを提供できる。

（ａ）は、実施形態１の表示装置の概略構成を示す図であり、（ｂ）は、実施形態１の表示装置に備えられた、第１電極、バンク及びアクティブマトリクス基板を示す図である。（ａ）は、実施形態１の表示装置に備えられた各色の発光層を示す図であり、（ｂ）は、実施形態１の表示装置に備えられた各色の発光層から出射された光のスペクトルを示す図である。（ａ）は、実施形態１の表示装置に備えられた各色の発光層と光吸収部材との位置関係を示す図であり、（ｂ）は、実施形態１の表示装置に備えられた光吸収部材の厚さ方向に沿った断面を示す図であり、（ｃ）は、実施形態１の表示装置に備えられた光吸収部材を上側から見た上面図であり、（ｄ）は、実施形態１の表示装置に備えられた各色の発光層から出射された光のスペクトル及び光吸収部材の吸収スペクトルを示す図である。（ａ）は、二色性色素の分子の吸収軸方向の第１電極の法線方向に対する傾き角度を示す図であり、（ｂ）は、前記傾き角度による規格化偏光反射率の変化を示す図である。（ａ）は、実施形態１の表示装置に備えられた各色の発光層から出射された光の光吸収部材通過後のスペクトルの変化を示す図であり、（ｂ）は、実施形態１の表示装置に入射される外光の光吸収部材通過後のスペクトルの変化を示す図である。（ａ）は、第１の二色性色素の分子の吸収軸方向と光吸収特性とを説明するための図であり、（ｂ）は、第２の二色性色素の分子の吸収軸方向と光吸収特性とを説明するための図であり、（ｃ）は、従来の偏光板の一般的な偏光透過率を示す図であり、（ｄ）は、実施形態１の表示装置に備えられた光吸収部材の偏光透過率を示す図である。（ａ）は、実施形態２の表示装置の概略構成を示す図であり、（ｂ）は、実施形態２の表示装置に備えられた光吸収部材の厚さ方向に沿った断面を示す図であり、（ｃ）は、実施形態２の表示装置に備えられた光吸収部材を上側から見た上面図である。（ａ）は、実施形態３の表示装置の概略構成を示す図であり、（ｂ）は、実施形態３の表示装置に備えられた光吸収部材の厚さ方向に沿った断面を示す図であり、（ｃ）は、実施形態３の表示装置に備えられた光吸収部材を上側から見た上面図である。（ａ）は、実施形態４の表示装置の概略構成を示す図であり、（ｂ）は、実施形態４の表示装置に備えられた光吸収部材の厚さ方向に沿った断面を示す図であり、（ｃ）は、実施形態４の表示装置に備えられた光吸収部材を上側から見た上面図である。実施形態５の表示装置の概略構成を示す図である。実施形態６の表示装置の概略構成を示す図である。

　本発明の実施の形態について図１から図１１に基づいて説明すれば、次の通りである。以下、説明の便宜上、特定の実施形態にて説明した構成と同一の機能を有する構成については、同一の符号を付記し、その説明を省略する場合がある。

　〔実施形態１〕
　図１の（ａ）は、実施形態１の表示装置２０の概略構成を示す図であり、図１の（ｂ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた、第１電極６、バンク７及びアクティブマトリクス基板２１を示す図である。

　図１の（ａ）に図示するように、アクティブマトリクス基板２１上には、画素毎に区分けされ、画素毎に個別の電圧を印加することができる画素電極としての第１電極６が形成されている。バンク７は、複数の第１電極６のそれぞれの端部と、隣接する第１電極６間の領域とを覆うように形成されている。そして、第１電極６上であって、バンク７に囲まれた部分、すなわち、バンク７の開口部分には、正孔輸送層８や発光層５が形成されている。それから、バンク７と発光層５とを覆うように、電子輸送層９が形成されており、電子輸送層９を覆うように、共通電極としての第２電極１０が形成されている。

　本実施形態においては、正孔輸送層８をバンク７の開口部分にのみ島状に形成した場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、正孔輸送層８は、バンク７の開口部分とバンク７とを跨って一つの共通層として形成されてもよい。

　第１電極６と、正孔輸送層８と、青色発光層５ＢＨと、電子輸送層９と、第２電極１０とが重畳するように形成された部分が、青色発光素子である第１発光素子である。また、第１電極６と、正孔輸送層８と、緑色発光層５ＧＨと、電子輸送層９と、第２電極１０とが重畳するように形成された部分が、緑色発光素子である第２発光素子である。また、第１電極６と、正孔輸送層８と、赤色発光層５ＲＨと、電子輸送層９と、第２電極１０とが重畳するように形成された部分が、赤色発光素子である第３発光素子である。

　第２電極１０上には、封止層１１が形成されており、封止層１１上には、接着剤層１２を介して光吸収部材１が形成されている。

　なお、実施形態１の表示装置２０は、必要に応じて、第２電極１０より上層にカラーフィルター層を備えていてもよい。なお、本明細書における上層とは、表示装置の光出射側に存在する視認者のより近くに存在する層を意味し、図１においては、図１中のより上側に存在する層を意味する。

　第１電極６は導電性材料からなり、正孔輸送層８に正孔を注入する正孔注入層（ＨＩＬ）の機能を有してもよい。一方、第２電極１０も導電性材料からなり、電子輸送層９に電子を注入する電子注入層（ＥＩＬ）の機能を有してもよい。また、正孔輸送層８が正孔注入層（ＨＩＬ）の機能を兼ねていてもよく、電子輸送層９が、電子注入層（ＥＩＬ）の機能を兼ねていてもよい。

　本実施形態においては、第１電極６が陽極で、第２電極１０が陰極である場合を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、第１電極６が陰極で、第２電極１０が陽極であってもよく、この場合には、正孔輸送層（ＨＴＬ）８は陽極側に形成され、電子輸送層（ＥＴＬ）９は陰極側に形成される。

　なお、本実施形態においては、表示装置２０がトップエミッション型である場合を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、表示装置はボトムエミッション型であってもよく、ボトムエミッション型である場合には、光の出射側に設けられる後述する光吸収部材１の配置位置が表示装置２０とは反対側となる。

　表示装置２０は、トップエミッション型であるため、上層である第２電極１０は光透過性材料で形成し、下層である第１電極６は光反射性材料で形成した。

　第１電極６としては、可視光の反射率の高い金属材料である、例えば、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇなどを用いることができる。また、可視光の反射率が高いのであれば、第１電極６としては、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）とＡｇを含む合金とを積層して用いてもよい。もしくは、反射率の高いＡｌやＡｇなどの金属と、透過率の高いＩＴＯなどの導電性材料を積層しても良い。

　第２電極１０としては、可視光の透過率が高い光透過性材料である、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＺｎＯ、ＡＺＯ（aluminum-doped zinc oxide）、ＢＺＯ(boron-doped zinc oxide)などを用いることができる。もしくは、銀ナノワイヤーや、グラフェン、マグネシウムと銀の合金などを用いることもできる。

　なお、本実施形態においては、第１電極６と第２電極１０との間に、正孔輸送層８、発光層５及び電子輸送層９を形成した場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、例えば、第１電極６と正孔輸送層８との間に、正孔注入層（ＨＩＬ）が備えられていてもよく、電子輸送層９と第２電極１０との間に、電子注入層（ＥＩＬ）が備えられていてもよい。さらに、発光層５と正孔輸送層８との間に、電子ブロッキング層が備えられていてもよく、発光層５と電子輸送層９との間に、正孔ブロッキング層が備えられていてもよい。また、発光層５以外の層である正孔注入層、正孔輸送層８、電子輸送層９、電子注入層、電子ブロッキング層、正孔ブロッキング層は、適宜省いてもよい。また、発光層５以外の層である正孔注入層、正孔輸送層８、電子輸送層９、電子注入層、電子ブロッキング層、正孔ブロッキング層は、発光層５と同様に島状に形成されてもよく、第２電極１０と同様に一つの共通層として表示領域の全面に形成されてもよい。

　バンク７は、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。

　封止層１１は透光性であり、透光性無機膜、透光性有機膜または、透光性無機膜と透光性有機膜との積層膜で形成してもよい。本実施形態においては、第２電極１０を覆う第１透光性無機膜と、第１透光性無機膜よりも上側に形成される透光性有機膜と、透光性有機膜を覆う第２透光性無機膜との積層膜を封止層として用いることで、水、酸素などの異物の青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子への浸透を防いでいる。

　なお、第１透光性無機膜及び第２透光性無機膜はそれぞれ、例えば、ＣＶＤにより形成される、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。透光性有機膜は、第１透光性無機膜及び第２透光性無機膜よりも厚い、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。

　封止層１１上には、ＯＣＡ（ＯｐｔｉｃａｌＣｌｅａｒＡｄｈｅｓｉｖｅ）またはＯＣＲ（ＯｐｔｉｃａｌＣｌｅａｒＲｅｓｉｎ）からなる接着材層１２を介して、後述する光吸収部材１が貼り付けられている。

　図１の（ａ）に図示する実施形態１の表示装置２０は、図１の（ｂ）に図示するアクティブマトリクス基板２１を備えている。

　アクティブマトリクス基板２１は、基板３３と、樹脂層３４と、バリア層３５と、半導体膜３６と、無機絶縁膜３７（ゲート絶縁膜）と、無機絶縁膜３８と、無機絶縁膜３９と、平坦化膜４０とを含む。

　図１の（ｂ）に図示しているように、アクティブマトリクス基板２１においては、半導体膜３６と、半導体膜３６よりも上層の無機絶縁膜３７（ゲート絶縁膜）と、無機絶縁膜３７よりも上層のゲート電極層ＧＥと、ゲート電極層ＧＥよりも上層の無機絶縁膜３８と、無機絶縁膜３８よりも上層の容量電極層ＣＥと、容量電極層ＣＥよりも上層の無機絶縁膜３９と、無機絶縁膜３９よりも上層の、ソース・ドレイン電極を含むソース・ドレイン電極層ＳＨと、ソース・ドレイン電極層ＳＨよりも上層の平坦化膜４０とが備えられている。

　アクティブ素子としての薄膜トランジスタ素子（ＴＦＴ素子）は、半導体膜３６と、無機絶縁膜３７（ゲート絶縁膜）と、ゲート電極層ＧＥと、無機絶縁膜３８と、無機絶縁膜３９と、ソース・ドレイン電極層ＳＨとを含み、半導体膜３６と、無機絶縁膜３７（ゲート絶縁膜）と、ゲート電極層ＧＥと、無機絶縁膜３８と、無機絶縁膜３９と、ソース・ドレイン電極層ＳＨとをアクティブ素子層とも称する。

　図１の（ａ）及び図１の（ｂ）に図示しているように、実施形態１の表示装置２０においては、基板３３上に、複数のアクティブ素子を形成するアクティブ素子層と、平坦化膜４０と、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子と、光吸収部材１とが、基板３３側からこの順に備えられている。

　基板３３としては、比較的高温工程である複数のアクティブ素子を形成するアクティブ素子層の形成工程に耐えられるガラス基板などを用いることができる。

　樹脂層３４の材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂等を挙げることができるが、これに限定されることはない。

　実施形態１の表示装置２０の場合、樹脂層３４を備えているので、下記のような工程を行うことで、フレキシブル表示装置とすることができる。例えば、基板３３越しに樹脂層３４にレーザー光を照射して、基板３３と樹脂層３４との間の結合力を低下させ、基板３３を樹脂層３４から剥離し（Ｌａｓｅｒ　Ｌｉｆｔ　Ｏｆｆ工程（ＬＬＯ工程））、樹脂層３４における基板３３を剥離した面にＰＥＴなどからなるフレキシブル基板（図示せず）を貼り合せることで、フレキシブル表示装置としてもよい。また、基板３３越しに樹脂層３４にレーザー光を照射して、基板３３と樹脂層３４との間の結合力を低下させ、基板３３を樹脂層３４から剥離し（Ｌａｓｅｒ　Ｌｉｆｔ　Ｏｆｆ工程（ＬＬＯ工程））、樹脂層３４を基板として用いることで、フレキシブル表示装置としてもよい。

　本実施形態においては、樹脂層３４を備えている場合を一例に挙げて説明したが、フレキシブル表示装置化する必要がない場合や上述したＬＬＯ工程以外の方法でフレキシブル表示装置化する場合などには、樹脂層３４は必要ではない。

　バリア層３５は、表示装置２０の使用時に、水分や不純物が、アクティブ素子や青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子に到達することを防ぐ層であり、例えば、ＣＶＤにより形成される、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、あるいは酸窒化シリコン膜、またはこれらの積層膜で構成することができる。

　半導体膜３６は、例えば低温ポリシリコン（ＬＴＰＳ）あるいは酸化物半導体で構成される。なお、図１の（ｂ）では、半導体膜３６をチャネルとするＴＦＴ素子がトップゲート構造で示されているが、ボトムゲート構造でもよい。

　ゲート電極層ＧＥ、容量電極層ＣＥ及びソース・ドレイン電極層ＳＨは、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）の少なくとも１つを含む金属の単層膜あるいは積層膜によって構成される。

　無機絶縁膜３７・３８・３９は、例えば、ＣＶＤ法によって形成された、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）膜、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜あるいは酸窒化シリコン膜またはこれらの積層膜によって構成することができる。

　平坦化膜（層間絶縁膜）４０は、例えば、ポリイミド樹脂やアクリル樹脂等の塗布可能な感光性有機材料によって構成することができる。

　図２の（ａ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨを示す図であり、図２の（ｂ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨから出射された光のスペクトルを示す図である。

　図２の（ａ）及び図２の（ｂ）に図示しているように、青色発光層５ＢＨからは第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）を含む光５Ｂが出射され、緑色発光層５ＧＨからは第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）を含む光５Ｇが出射され、赤色発光層５ＲＨからは第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）を含む光５Ｒが出射される。

　本実施形態においては、表示装置２０が、青色、緑色及び赤色の光をそれぞれ発光する３種類の発光層５、すなわち、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨを備えている場合を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、それぞれ異なる色の光を発光する４種類以上の発光層を備えていてもよい。

　本実施形態においては、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨは、量子ドット（ナノ粒子）からなる発光層であり、例えば、ＣｄＳｅ／ＣｄＳ、ＣｄＳｅ／ＺｎＳ、ＩｎＰ／ＺｎＳ、ＺｎＴｅ－ＺｎＳｅ／ＺｎＳ、ＺｎＴｅ－ＺｎＳ／ＺｎＳ及びＣＩＧＳ／ＺｎＳの何れかを用いることができ、量子ドット（ナノ粒子）の粒径は２～１０ｎｍ程度である。なお、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨとで、互いに発光する光の中心波長を異なるようにするため、それぞれの発光層において、量子ドット（ナノ粒子）の粒径を異なるようにしてもよく、互いに異なる種類の量子ドット（ナノ粒子）を用いてもよい。さらに、非Ｃｄ系の量子ドット（ナノ粒子）からなる発光層、例えば、青色発光層（ＺｎＳｅ）、緑色発光層（ＩｎＰ）及び赤色発光層（ＩｎＰ）の場合、発光スペクトルがブロードで色純度が悪いが、光吸収部材１と組み合わせて使用することで、表示色域の拡大が可能となる。

　以上のように、本実施形態においては、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨとして、量子ドット（ナノ粒子）からなる発光層を用いた場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨとして、ＯＬＥＤ用の発光層を用いてもよい。

　なお、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨの配置は、特に限定されず、例えば、サイドバイサイド（ｓｉｄｅ　ｂｙ　ｓｉｄｅ）配置、タンデム（ｔａｎｄｅｍ）配置または、複数の配置パターンを混合した配置などであってもよい。

　図３の（ａ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨと光吸収部材１との位置関係を示す図であり、図３の（ｂ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた光吸収部材１の厚さ方向（Ｚ方向）に沿った断面を示す図であり、図３の（ｃ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた光吸収部材１を上側から見た上面図であり、図３の（ｄ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｂ・５Ｇ・５Ｒのスペクトル及び光吸収部材１の吸収スペクトル１Ｐ・１Ｐ’を示す図である。

　図３の（ａ）に図示するように、青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂは、光吸収部材１を通過した後には、光５Ｂ’となり、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇは、光吸収部材１を通過した後には、光５Ｇ’となり、赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒは、光吸収部材１を通過した後には、光５Ｒ’となる。一方、実施形態１の表示装置２０の外側から入射される外光ＬＴは、光吸収部材１を通過した後には、外光ＬＴ’となる。

　図３の（ｂ）、図３の（ｃ）及び図３の（ｄ）に図示するように、光吸収部材１は、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）と第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）との間に吸収ピーク波長（λ_１＝４９０ｎｍ）を有する第１の二色性色素２と、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）と第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）との間に吸収ピーク波長（λ_２＝５８５ｎｍ）を有する第２の二色性色素３と、を含む。

　本実施形態においては、発光ピーク波長が４４５ｎｍである青色発光層５ＢＨと、発光ピーク波長が５４０ｎｍである緑色発光層５ＧＨと、発光ピーク波長が６４０ｎｍである赤色発光層５ＲＨを備えている場合を一例に挙げて説明したが、各色発光層の発光ピーク波長はこれに限定されることはない。また、本実施形態においては、各色発光層の発光ピーク波長である４４５ｎｍ、５４０ｎｍ及び６４０ｎｍに合わせて、吸収ピーク波長が４９０ｎｍである第１の二色性色素２と、吸収ピーク波長が５８５ｎｍである第２の二色性色素３とを用いた場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、吸収ピーク波長が、各色発光層の発光ピーク波長の間にある二色性色素であればその種類は特に限定されない。

　なお、第１の二色性色素２及び第２の二色性色素３としては、例えば、アゾ系、アントラキノン系、キノフタロン系、ジオキサジン系などが利用可能であり、色素系偏光板やゲストホスト液晶などにおいて利用されている色素も利用可能である。

　図４の（ａ）は、第１の二色性色素２の分子の長軸方向（吸収軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の長軸方向（吸収軸方向）の第１電極６の視認者Ｖ側に延伸する法線方向ＨＬ、すなわち、第１電極６の光吸収部材１側に延伸する法線方向ＨＬに対する傾き角度α１・α２を示す図であり、図４の（ｂ）は、傾き角度α１・α２による規格化偏光反射率の変化を示す図である。なお、傾き角度は９０度以下となるように吸収軸方向を設定する。

　図４の（ａ）においては、図１の（ａ）に図示する表示装置２０の構成中、第１電極６、発光層５、発光層５の発光面５Ｈ及び光吸収部材１のみを図示している。第１の二色性色素２の分子の長軸方向の第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度はα１であり、第２の二色性色素３の分子の長軸方向の第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度はα２である。ここでは、傾き角度の基準を第１電極６の法線方向ＨＬとしているが、これに限定されることはなく、傾き角度の基準は、発光層５の法線方向、より具体的には、発光層５の発光面５Ｈの法線方向としてもよい。なお、第１電極６の法線方向ＨＬと発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）とは、略一致する。

　図４の（ｂ）は、二色性色素２・３の分子の長軸方向の第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度による規格化偏光反射率の変化を示す図である。

　規格化偏光反射率は、図４の（ａ）に図示するように、第１の二色性色素２の分子の長軸方向（吸収軸方向）または、第２の二色性色素３の分子の長軸方向（吸収軸方向）に略平行な方向に振幅する光の光吸収部材１への入射前の強度と、光吸収部材１に入射され、第１電極６で反射された後、再び光吸収部材１を介して出射された光の強度との比を規格化したものである。なお、吸収の少ない方向と吸収の大きい方向の吸収係数の比である２色性色素の２色性比は１：１０で計算を行った。

　第１の二色性色素２及び第２の二色性色素３の吸収係数は、第１電極６の法線方向ＨＬから見た第１の二色性色素２の分子及び第２の二色性色素３の分子の長さに比例する。図４の（ｂ）に図示するように、第１の二色性色素２の分子の長軸方向の第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１または第２の二色性色素３の分子の長軸方向の第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α２が、７０度以上９０度以下である場合には、第１電極６の法線方向ＨＬから見た第１の二色性色素２の分子及び第２の二色性色素３の分子の長さに大きな変化は生じず、規格化偏光反射率の変化が少ないことがわかる。

　そこで、図３の（ｂ）に図示するように、光吸収部材１に含まれる第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面に対する傾き角度、すなわち、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１・α２が、７０度以上９０度以下となるようにした。また、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）に対して垂直であることがさらに好ましい。

　なお、本実施形態においては、図４の（ａ）に図示するように、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向の図４の（ａ）の上方向（視認者Ｖ側方向）である第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１・α２が７０度以上９０度以下である場合を、下記で記載する別表現を考慮し、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、第１電極６の法線方向となす角度、すなわち、第１電極６の法線方向とのより小さい方の角度が、７０度以上９０度以下であると表現することとする。

　図４の（ａ）に図示する第１の二色性色素２及び第２の二色性色素３の分子の第１電極６に対する配向状態は、第１の二色性色素２及び第２の二色性色素３の分子それぞれの吸収軸方向が２方向（図４の（ａ）に図示する分子の長軸方向（吸収軸方向）と、図４の（ａ）に図示する分子の長軸方向（吸収軸方向）と反対方向）存在することと、第１電極６の法線方向が２方向（図４の（ａ）の上方向（視認者Ｖ側方向）と、図４の（ａ）の上方向（視認者Ｖ側方向）と反対方向）存在することから、以下のように表現することもできる。

　図４の（ａ）に図示する第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、図４の（ａ）の上方向（視認者Ｖ側方向）と反対方向である第１電極６の法線方向に対する傾き角度が、９０度以上１１０度以下であると表現してもよい。

　また、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向を図４の（ａ）に図示する分子の長軸方向（吸収軸方向）と反対方向とした場合であって、図４の（ａ）の上方向（視認者Ｖ側方向）である第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度が、９０度以上１１０度以下であると表現してもよい。

　さらに、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向を図４の（ａ）に図示する分子の長軸方向（吸収軸方向）と反対方向とした場合であって、図４の（ａ）の上方向（視認者Ｖ側方向）と反対方向である第１電極６の法線方向に対する傾き角度が、７０度以上９０度以下であると表現してもよい。

　本実施形態においては、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向を、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対して７０度以上９０度以下にするため、透明樹脂で形成された基体（図示せず）、すなわち、光透過性基材上に、水平配向膜（図示せず）を形成し、前記水平配向膜上に、第１の二色性色素２と、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液を、塗布し、硬化することで、光吸収部材１を作製した。なお、前記硬化は、熱硬化であっても、光硬化であってもよく、熱硬化と光硬化とを同時に行ってもよい。

　前記水平配向膜によって、透明樹脂４に含まれる液晶性モノマーが、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対して７０度以上９０度以下に配向されるので、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）も図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対して７０度以上９０度以下に配向される。なお、透明樹脂４に含まれる液晶性モノマーのみで満足できる分子配向を得られる場合には、前記水平配向膜は形成しなくでもよい。

　図３の（ｃ）に図示するように、光吸収部材１に含まれる第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面内においてはランダムである。これは、光吸収部材１に含まれる第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向が、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）から見た際には、ランダムであることを意味する。

　なお、本実施形態においては、別途作製した光吸収部材１を、接着剤層１２を介して封止層１１上に形成している場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、封止層１１と光吸収部材１との接着性が良好である場合には、封止層１１を基体として、封止層１１上に水平配向膜（図示せず）を形成し、前記水平配向膜上に、第１の二色性色素２と、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液を、塗布し、硬化することで、光吸収部材１を作製してもよい。また、第１の二色性色素２と、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーとの配向を制御するために、前記水平配向膜に配向処理を別途行ってもよく、このような配向処理方法としては、ラビングや偏光ＵＶ照射などを用いることができるが、これに限定されることはない。

　図３の（ｄ）に図示するように、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇの第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）と青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂの第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）との差は、青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂのスペクトルの半値全幅と緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇのスペクトルの半値全幅との平均値より大きい（（ＦＷＨＭ_Ｂ＋ＦＷＨＭ_Ｇ）／２＜λ_Ｇ－λ_Ｂ）ことが好ましい。また、赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒの第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）と緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇの第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）との差は、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇのスペクトルの半値全幅と赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒのスペクトルの半値全幅との平均値より大きい（（ＦＷＨＭ_Ｇ＋ＦＷＨＭ_Ｒ）／２＜λ_Ｒ－λ_Ｇ）ことが好ましい。

　また、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇの第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）と青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂの第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）との差（λ_Ｇ－λ_Ｂ）及び赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒの第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）と緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇの第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）との差（λ_Ｒ－λ_Ｇ）は、５０ｎｍ以上であることが好ましい。

　このような条件を満たす、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨと、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）と第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）との間に吸収ピーク波長（λ_１＝４９０ｎｍ）を有する第１の二色性色素２と、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）と第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）との間に吸収ピーク波長（λ_２＝５８５ｎｍ）を有する第２の二色性色素３と、を組み合わせて用いることにより、青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂ、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇ及び赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒの第１の二色性色素２及び第２の二色性色素３による吸収を抑制することができる。

　また、第２の二色性色素３の吸収ピーク波長（λ_２＝５８５ｎｍ）と第１の二色性色素２の吸収ピーク波長（λ_１＝４９０ｎｍ）との差（λ_２－λ_１）は、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇのスペクトルの半値全幅（ＦＷＨＭ_Ｇ）より大きいことが好ましい。

　このような条件を満たす、青色発光層５ＢＨ、緑色発光層５ＧＨ及び赤色発光層５ＲＨと、吸収ピーク波長（λ_１＝４９０ｎｍ）を有する第１の二色性色素２と、吸収ピーク波長（λ_２＝５８５ｎｍ）を有する第２の二色性色素３と、を組み合わせて用いることにより、最も明るく認識される緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇの第１の二色性色素２及び第２の二色性色素３による吸収を抑制することができる。

　図５の（ａ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂ、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇ及び赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒと、光吸収部材１を通過した後の光５Ｂ’、光５Ｇ’及び光５Ｒ’とのスペクトルの変化を示す図である。図５の（ｂ）は、実施形態１の表示装置２０に入射される外光ＬＴの光吸収部材１通過後のスペクトルの変化を示す図である。

　図５の（ａ）に図示するように、青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂ、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇ及び赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒと、光吸収部材１を通過した後の光５Ｂ’、光５Ｇ’及び光５Ｒ’とから、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）及び第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）における光吸収部材１による光の吸収は、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）及び第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）以外の領域における光吸収部材１による光の吸収より小さいことがわかる。したがって、光吸収部材１によって大きな輝度の低下は生じない。

　また、図５の（ａ）に図示するように、青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂは、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）より長波長側の光が光吸収部材１によって吸収され、光吸収部材１を通過した後の光５Ｂ’となっている。緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇは、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）より長波長側及び短波長側の光が光吸収部材１によって吸収され、光吸収部材１を通過した後の光５Ｇ’となっている。赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒは、第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）より短波長側の光が光吸収部材１によって吸収され、光吸収部材１を通過した後の光５Ｒ’となっている。

　青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂ中、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）より長波長側の光と、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇ中、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）より短波長側の光とは、混色による色純度の低下を招く光成分であるから、光吸収部材１によってこのような光成分を吸収することで、色純度を向上させることができる。また、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇ中、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）より長波長側の光と、赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒ中、第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）より短波長側の光とは、混色による色純度の低下を招く光成分であるから、光吸収部材１によってこのような光成分を吸収することで、色純度を向上させることができる。

　また、図５の（ａ）に図示するように、光吸収部材１を通過した後の光５Ｂ’、光５Ｇ’及び光５Ｒ’それぞれのスペクトルの半値全幅は、青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂ、緑色発光層５ＧＨから出射された光５Ｇ及び赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒそれぞれのスペクトルの半値全幅より狭くなっている。

　図３の（ａ）に図示するように、実施形態１の表示装置２０に入射される外光ＬＴは、吸収ピーク波長（λ_１＝４９０ｎｍ）を有する第１の二色性色素２と、吸収ピーク波長（λ_２＝５８５ｎｍ）を有する第２の二色性色素３とを含む光吸収部材１を通過後には、外光ＬＴ’となる。この外光ＬＴ’は可視光の反射率の高い第１電極６によって反射され、再び光吸収部材１を通過後にユーザー側に出射される。

　図５の（ｂ）は、実施形態１の表示装置２０に入射される外光ＬＴが光吸収部材１を２回通過後の外光ＬＴ’’のスペクトルの変化を示す図である。図示しているように、光吸収部材１を２回通過後の外光ＬＴ’’は、光吸収部材１の吸収スペクトル１Ｐ・１Ｐ’以外の部分の波長領域の光で構成される。

　以上のように、光吸収部材１を備えた表示装置２０においては、例えば、室外における強い太陽光下や室内における強い照明光下などの強い外光下においても、可視光の反射率の高い第１電極６によって反射される反射光を抑制できるので、コントラスト比の高い表示装置２０を実現できる。

　本実施形態においては、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）より短波長側の光を吸収する第１吸収剤として、４１０ｎｍより短波長側の光を吸収する吸収剤を接着材層１２に混合しているので、図５の（ｂ）に図示しているように、光吸収部材１を２回通過後の外光ＬＴ’’には、４１０ｎｍより短波長側の光成分は含まれていない。なお、第１吸収剤は、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）より短波長側の光を吸収するものであれば、特に限定されず、例えば、４００ｎｍより短波長側の光を吸収する吸収剤であっても、３６０ｎｍより短波長側の光を吸収する吸収剤であってもよい。

　また、本実施形態においては、第１吸収剤を接着材層１２に混合している場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、第１吸収剤は、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子より上層（視認者側）の少なくとも一つの層、すなわち、封止層１１、接着剤層１２及び光吸収部材１の少なくとも一つの層に含まれていてもよい。また、第１吸収剤は使用しなくてもよい。

　さらに、第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）より長波長側の光を吸収する第２吸収剤が、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子より上層（視認者側）の少なくとも一つの層、すなわち、封止層１１、接着剤層１２及び光吸収部材１の少なくとも一つの層に含まれていてもよい。また、第２吸収剤は使用しなくてもよい。

　以上のように、第１の吸収剤もしくは第２の吸収剤を用いることにより、青色発光層５ＢＨから出射された光５Ｂもしくは赤色発光層５ＲＨから出射された光５Ｒの透過スペクトルが先鋭化し、色純度をさらに向上させることができる。また、紫外線や赤外線による表示装置２０の劣化を抑制することが可能となる。また、第１吸収剤を用いることで、表示装置２０は、表示に不要な波長領域の光であり、かつ、ユーザーの目に悪影響を及ぼす短波長領域の光をユーザー側に出射しない。また、第２吸収剤を用いることで、表示装置２０は、表示に不要な長波長領域の光をユーザー側に出射しない。

　また、図１の（ａ）に図示する光吸収部材１における青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子と対向する面と反対側の面、すなわち、光吸収部材１における接着剤層１２が形成されている面とは反対側の面は、表面処理されていることが好ましい。なお、前記表面処理としては、例えば、防眩処理、低反射コート、防汚処理、防キズ及び帯電防止処理などがある。すなわち、光吸収部材１における接着剤層１２が形成されている面とは反対側の面は、反射防止、防汚、防キズ及び帯電防止の何れかの特性を有する面である。

　図６の（ａ）は、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向と光吸収特性とを説明するための図であり、図６の（ｂ）は、第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向と光吸収特性とを説明するための図であり、図６の（ｃ）は、従来の偏光板の一般的な偏光透過率を示す図であり、図６の（ｄ）は、実施形態１の表示装置２０に備えられた光吸収部材１の偏光透過率を示す図である。

　図６の（ａ）図示するように、第１の二色性色素２の分子の吸収軸（吸収の遷移モーメントとも称する）方向（図中上下方向の何れか一方）は、第１の二色性色素２の分子の長軸方向である。第１の二色性色素２は、第１の二色性色素２の分子の吸収軸と平行な方向に振動するＳ偏光の吸収係数が、第１の二色性色素２の分子の吸収軸と垂直な方向に振動するＰ偏光の吸収係数より大きい。

　また、図６の（ｂ）図示するように、第２の二色性色素３の分子の吸収軸（吸収の遷移モーメントとも称する）方向（図中上下方向の何れか一方）は、第２の二色性色素３の分子の長軸方向である。第２の二色性色素３は、第２の二色性色素３の分子の吸収軸と平行な方向に振動するＳ偏光の吸収係数が、第１の二色性色素２の分子の吸収軸と垂直な方向に振動するＰ偏光の吸収係数より大きい。

　図６の（ｃ）に図示するように、従来の偏光板を通過した光は、可視光波長域（３８０～６８０ｎｍ）全体において、例えば、Ｐ偏光の偏光透過率が高ければ、Ｓ偏光の偏光透過率は低い偏光特性を示す。

　一方、図６の（ｄ）に図示するように、実施形態１の表示装置２０に備えられた光吸収部材１は、吸収ピーク波長（λ_１＝４９０ｎｍ）を有する第１の二色性色素２と、吸収ピーク波長（λ_２＝５８５ｎｍ）を有する第２の二色性色素３とを含むので、可視光波長域（３８０～６８０ｎｍ）において、該当吸収波長以外の波長領域の光の偏光透過率は高い。

　また、光吸収部材１における第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対して７０度以上９０度以下に配向され、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）から見た際には、ランダムであるので、光吸収部材１の前記該当吸収波長領域においてもＰ偏光の吸収は殆ど生じず、Ｓ偏光の吸収のみが大きい。

　以上のように、実施形態１の表示装置２０からユーザー（視認者）側に出射される光は、光吸収部材１前記該当吸収波長領域以外において、Ｐ偏光及びＳ偏光の両方を含む無偏光の光となるため、ユーザーが偏光サングラス越しに表示装置２０を見ても、あらゆる角度で明暗が変わらずに良好な表示となる。

　〔実施形態２〕
　次に、図７に基づき、本発明の実施形態２について説明する。本実施形態の表示装置２０ａに備えられた光吸収部材１３は、第１の二色性色素２を含む第１光吸収部材１３ａと、第２の二色性色素３を含む第２光吸収部材１３ｂとで構成される点において、実施形態１とは異なり、その他については実施形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図７の（ａ）は、実施形態２の表示装置２０ａの概略構成を示す図であり、図７の（ｂ）は、実施形態２の表示装置２０ａに備えられた光吸収部材１３の厚さ方向（図中Ｚ方向）に沿った断面を示す図であり、図７の（ｃ）は、実施形態２の表示装置２０ａに備えられた光吸収部材１３を上側から見た上面図である。

　図７の（ａ）に図示するように、実施形態２の表示装置２０ａは、光吸収部材１３を備えている。

　図７の（ｂ）に図示するように、光吸収部材１３は、第１の二色性色素２を含む第１光吸収部材１３ａと、第２の二色性色素３を含む第２光吸収部材１３ｂとで構成される。第１光吸収部材１３ａに含まれる第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面に対する傾き角度、すなわち、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１が、７０度以上９０度以下となるようにした。また、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向は、第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）に対して垂直であることがさらに好ましい。第２光吸収部材１３ｂに含まれる第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）も、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面に対する傾き角度、すなわち、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α２が、７０度以上９０度以下となるようにした。また、第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向も、第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）に対して垂直であることがさらに好ましい。

　本実施形態においては、第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向を、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α２が、７０度以上９０度以下にするため、透明樹脂で形成された第１基体（図示せず）すなわち、第１の光透過性基材上に、水平配向膜（図示せず）を形成し、前記水平配向膜上に、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液を、塗布し、硬化することで、光吸収部材１３ａを作製した。なお、前記硬化は、熱硬化であっても、光硬化であってもよく、熱硬化と光硬化とを同時に行ってもよい。

　また、本実施形態においては、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向を、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１が、７０度以上９０度以下にするため、透明樹脂で形成された第２基体（図示せず）、すなわち、第２の光透過性基材上に、水平配向膜（図示せず）を形成し、前記水平配向膜上に、第１の二色性色素２と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液を、塗布し、硬化することで、光吸収部材１３ｂを作製した。なお、前記硬化は、熱硬化であっても、光硬化であってもよく、熱硬化と光硬化とを同時に行ってもよい。

　なお、透明樹脂４に含まれる液晶性モノマーのみで満足できる分子配向を得られる場合には、前記水平配向膜は形成しなくでもよい。

　図７の（ｃ）に図示するように、光吸収部材１３に含まれる第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面内においては、ランダムである。これは、光吸収部材１３に含まれる第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向が、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）から見た際には、ランダムであることを意味する。

　なお、本実施形態においては、別途作製した光吸収部材１３を、接着剤層１２を介して封止層１１上に形成している場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、封止層１１と光吸収部材１３との接着性が良好である場合には、封止層１１を第１基体として、封止層１１上に水平配向膜（図示せず）を形成し、前記水平配向膜上に、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液を、塗布し、硬化することで、光吸収部材１３ａを作製し、光吸収部材１３ａを第２基体として、光吸収部材１３ａ上に水平配向膜（図示せず）を形成し、前記水平配向膜上に、第１の二色性色素２と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液を、塗布し、硬化することで、光吸収部材１３ｂを作製してもよい。また、前記水平配向膜に配向処理を別途行ってもよく、このような配向処理方法としては、ラビングや偏光ＵＶ照射などを用いることができるが、これに限定されることはない。

　光吸収部材１３は、別部材として形成された、第１の二色性色素２を含む第１光吸収部材１３ａと、第２の二色性色素３を含む第２光吸収部材１３ｂとで構成されるので、第１の二色性色素２と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液と、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーを含む透明樹脂４の前駆体とを含む塗布液とを別々で準備すればよいので、前記２種類の異なる塗布液を作製する際に、溶媒の選択幅が広がる。

　本実施形態においては、図４の（ａ）に図示するように、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向の図４の（ａ）の上方向（視認者Ｖ側方向）である第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１・α２が７０度以上９０度以下である場合を、上述した実施形態１における別表現を考慮し、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、第１電極６の法線方向となす角度（第１電極６の法線方向とのより小さい方の角度）が、７０度以上９０度以下であると表現することとする。

　〔実施形態３〕
　次に、図８に基づき、本発明の実施形態３について説明する。本実施形態の表示装置２０ｂに備えられた光吸収部材１４は、λ／４位相差層２５をさらに備えており、λ／４位相差層２５は、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子とより近い側に配置され、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、λ／４位相差層２５の光軸に対して４５度の向きに配されている点において、実施形態１及び２とは異なり、その他については実施形態１及び２において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１及び２の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図８の（ａ）は、実施形態３の表示装置２０ｂの概略構成を示す図であり、図８の（ｂ）は、実施形態３の表示装置２０ｂに備えられた光吸収部材１４の厚さ方向（図中Ｚ方向）に沿った断面を示す図であり、図８の（ｃ）は、実施形態３の表示装置２０ｂに備えられた光吸収部材１４を上側から見た上面図である。

　図８の（ａ）に図示するように、実施形態３の表示装置２０ｂは、光吸収部材１４を備えている。

　図８の（ｂ）に図示するように、光吸収部材１４は、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子とより近い側に、λ／４位相差層２５を備えており、λ／４位相差層２５上には、延伸された光吸収部材１’を備えている。

　延伸された光吸収部材１’は、第１の二色性色素２と、第２の二色性色素３と、透明樹脂４’の前駆体とを含む、塗布液を基体上に塗布及び硬化した後、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向が１方向（例えば、図中のＸ方向）に配向するように、前記基体と前記基体上に硬化された塗布液とを、例えば、図中左右方向に延伸して得ることができる。

　上記においては、第１の二色性色素２と、第２の二色性色素３と、透明樹脂４’の前駆体とを含む塗布液を基体上に塗布及び硬化した後に延伸して光吸収部材１’を作製する場合について説明したが、これに限定されることはない。

　例えば、光吸収部材１４は、透明樹脂４’としてポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂を用いて、先にポリビニルアルコール樹脂のみを延伸した後、延伸されたポリビニルアルコール樹脂に第１の二色性色素２及び第２の二色性色素３を含侵させて、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向をＰＶＡ分子鎖に平行に吸着配向させたものを、基体としてのλ／４位相差層２５に貼り合せて形成してもよい。

　さらに、延伸を行わずに、基体としてのλ／４位相差層２５上に水平配向膜を形成し、第１の二色性色素２と、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーとの配向を制御するために、前記水平配向膜に配向処理を別途行い、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向が１方向に配向するように、光吸収部材１４を形成してもよい。このような配向処理方法としては、ラビングや偏光ＵＶ照射などを用いることができるが、これに限定されることはない。

　延伸された光吸収部材１’が含む第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面に対する傾き角度、すなわち、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１・α２が、７０度以上９０度以下となるようにした。また、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）に対して垂直であることがさらに好ましい。

　図８の（ｃ）に図示するように、延伸された光吸収部材１’が含む第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面内においても、１方向（例えば、図中のＸ方向）に配向されている。すなわち、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）から見た際にも、１方向に配向されている。

　図８の（ｃ）に図示するように、延伸された光吸収部材１’と、λ／４位相差層２５とは、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向が、発光層５の法線方向から見てλ／４位相差層２５の光軸（遅相軸）に対して４５度の向きに配されるように、位置合わせし固定することで、光吸収部材１４を作製することができる。

　光吸収部材１４によれば、円偏光板と同じ原理で外光を効率的に吸収することができる。また、光吸収部材１４は延伸によって、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）を、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対して７０度以上９０度以下に配向するとともに、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）から見た際にも１方向（例えば、図中のＸ方向）に配向しているので、水平配向膜や液晶性モノマーなどを用いる必要がない。

　〔実施形態４〕
　次に、図９に基づき、本発明の実施形態４について説明する。本実施形態の表示装置２０ｃに備えられた光吸収部材１５は、λ／４位相差層２５をさらに備えており、λ／４位相差層２５は、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子とより近い側に配置され、延伸された第１光吸収部材１３ａ’に含まれる第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び延伸された第２光吸収部材１３ｂ’に含まれる第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向は、λ／４位相差層２５の光軸に対して４５度の向きに配されている点において、実施形態３とは異なり、その他については実施形態３において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態３の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図９の（ａ）は、実施形態４の表示装置２０ｃの概略構成を示す図であり、図９の（ｂ）は、実施形態４の表示装置２０ｃに備えられた光吸収部材１５の厚さ方向（図中Ｚ方向）に沿った断面を示す図であり、図９の（ｃ）は、実施形態４の表示装置２０ｃに備えられた光吸収部材１５を上側から見た上面図である。

　図９の（ａ）に図示するように、実施形態４の表示装置２０ｃは、光吸収部材１５を備えている。

　図９の（ｂ）に図示するように、光吸収部材１５は、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子とより近い側に、λ／４位相差層２５を備えており、λ／４位相差層２５上には、延伸された第２光吸収部材１３ｂ’と、延伸された第１光吸収部材１３ａ’とを備えている。

　延伸された第１光吸収部材１３ａ’は、第１の二色性色素２と、透明樹脂４’の前駆体とを含む塗布液を第１基体上に塗布及び硬化した後、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向が１方向（例えば、図中のＸ方向）に配向するように、前記第１基体と前記第１基体上に硬化された塗布液とを、例えば、図中左右方向に延伸して得ることができる。

　延伸された第２光吸収部材１３ｂ’は、第２の二色性色素３と、透明樹脂４’の前駆体とを含む塗布液を第２基体上に塗布及び硬化した後、第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向が１方向（例えば、図中のＸ方向）に配向するように、前記第２基体と前記第２基体上に硬化された塗布液とを、例えば、図中左右方向に延伸して得ることができる。

　なお、延伸は、第１光吸収部材１３ａ’または第２光吸収部材１３ｂ’ごとに行ってもよく、２枚の光吸収部材を重ねて一度に行ってもよい。

　延伸された第１光吸収部材１３ａ’が含む第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び延伸された第２光吸収部材１３ｂ’が含む第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面に対する傾き角度、すなわち、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対する傾き角度α１・α２が、７０度以上９０度以下となるようにした。また、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）に対して垂直であることがさらに好ましい。

　図９の（ｃ）に図示するように、延伸された第１光吸収部材１３ａ’が含む第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び延伸された第２光吸収部材１３ｂ’が含む第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）は、図中のＸ方向及びＹ方向に沿って形成される平面内においても、１方向（例えば、図中のＸ方向）に配向されている。すなわち、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）から見た際にも、１方向に配向されている。

　図９の（ｃ）に図示するように、延伸された第１光吸収部材１３ａ’と、延伸された第２光吸収部材１３ｂ’と、λ／４位相差層２５とは、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向が、発光層５の法線方向から見てλ／４位相差層２５の光軸（遅相軸）に対して４５度の向きに配されるように、位置合わせし固定することで、光吸収部材１５を作製することができる。

　光吸収部材１５によれば、円偏光板と同じ原理で外光を効率的に吸収することができる。また、光吸収部材１５は延伸によって、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）及び第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向（分子の長軸方向）を、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬに対して７０度以上９０度以下に配向するとともに、図４の（ａ）に図示する第１電極６の法線方向ＨＬと略一致する発光層５の法線方向（発光層５の発光面５Ｈの法線方向）から見た際にも１方向（例えば、図中のＸ方向）に配向しているので、水平配向膜や液晶性モノマーなどを用いる必要がない。

　また、光吸収部材１５は、別部材として形成された、第１の二色性色素２を含む第１光吸収部材１３ａ’と、第２の二色性色素３を含む第２光吸収部材１３ｂ’とを含むので、第１の二色性色素２と、透明樹脂４’の前駆体とを含む塗布液と、第２の二色性色素３と、透明樹脂４’の前駆体とを含む塗布液とを別々で準備すればよいので、前記２種類の異なる塗布液を作製する際に、溶媒の選択幅が広がる。

　上記においては、第１の二色性色素２と、透明樹脂４’の前駆体とを含む塗布液または、第２の二色性色素３と、透明樹脂４’の前駆体とを含む塗布液を基体上に塗布及び硬化した後に延伸して光吸収部材を作製する場合について説明したが、これに限定されることはない。

　例えば、第１光吸収部材１３ａ’は、透明樹脂４’（第１樹脂）としてポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂を用いて、先にポリビニルアルコール樹脂のみを延伸した後、延伸されたポリビニルアルコール樹脂に第１の二色性色素２を含侵させて、第１の二色性色素２の分子の吸収軸方向をＰＶＡ分子鎖に平行に吸着配向させて形成してもよい。第２光吸収部材１３ｂ’についても同様に、透明樹脂４’（第２樹脂）としてポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂を用いて、先にポリビニルアルコール樹脂のみを延伸した後、延伸されたポリビニルアルコール樹脂に第２の二色性色素３を含侵させて、第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向をＰＶＡ分子鎖に平行に吸着配向させて形成してもよい。

　なお、光吸収部材１５は、第１光吸収部材１３ａ’と第２光吸収部材１３ｂ’とを貼り合せるとともに、第１光吸収部材１３ａ’及び第２光吸収部材１３ｂ’の何れか一方と、基体としてのλ／４位相差層２５とを貼り合せて、作製することができる。

　さらに、延伸を行わずに、基体としてのλ／４位相差層２５上に水平配向膜を形成し、第１の二色性色素２と、第２の二色性色素３と、液晶性モノマーとの配向を制御するために、前記水平配向膜に配向処理を別途行い、第２の二色性色素３と、透明樹脂４’の前駆体と、液晶性モノマーとを含む塗布液を前記基体上に塗布及び硬化して、第２の二色性色素３を一軸方向に配向させ、その上に第１の二色性色素２と、透明樹脂４’の前駆体と、液晶性モノマーとを含む塗布液を塗布及び硬化して、第１の二色性色素２を第２の二色性色素３の分子の吸収軸方向と平行に配向するように形成してもよい。なお、必要に応じて、第２の二色性色素３と、透明樹脂４’の前駆体と、液晶性モノマーとを含む塗布液を塗布硬化した後に、水平配向膜を塗布及び配向処理した後に、第１の二色性色素２と、透明樹脂４’の前駆体と、液晶性モノマーとを含む塗布液を塗布及び硬化してもよい。配向処理方法としては、ラビングや偏光ＵＶ照射などを用いることができるが、これに限定されることはない。

　〔実施形態５〕
　次に、図１０に基づき、本発明の実施形態５について説明する。本実施形態の表示装置２０ｄにおいては、光吸収部材１が封止層（第１封止層）１１と封止層（第２封止層）１６との間に配置されている点において、実施形態１から４とは異なり、その他については実施形態１から４において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１から４の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１０は、実施形態５の表示装置２０ｄの概略構成を示す図である。

　図１０に図示しているように、表示装置２０ｄにおいては、光吸収部材１が封止層（第１封止層）１１と封止層（第２封止層）１６との間に配置されている。

　本実施形態においては、光吸収部材１を一例に挙げて説明するが、これに限定されることはなく、光吸収部材１３、光吸収部材１４または、光吸収部材１５が封止層（第１封止層）１１と封止層（第２封止層）１６との間に配置されてもよい。

　封止層１１及び封止層１６は透光性であり、透光性無機膜、透光性有機膜または、透光性無機膜と透光性有機膜との積層膜で形成してもよい。

　本実施形態においては、封止層１１及び封止層１６を透光性無機膜で形成したがこれに限定されることはない。

　上記構成によれば、光吸収部材１を水分や酸素等による劣化から保護することができる。

　また、図示してないが、封止層（第２封止層）１６は、表示装置２０ｄの表示領域の外側の額縁領域において、光吸収部材１の端部と接し、かつ、封止層（第１封止層）１１の表面と接するように形成されていてもよい。すなわち、封止層１６は、封止層１１上に形成された光吸収部材１を覆うように形成されている。

　〔実施形態６〕
　次に、図１１に基づき、本発明の実施形態６について説明する。本実施形態の表示装置２０ｅにおいては、接着材層１２に第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９を混合した接着材層１２ａを用いている点において、実施形態１とは異なり、その他については実施形態１において説明したとおりである。説明の便宜上、実施形態１の図面に示した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付し、その説明を省略する。

　図１１は、実施形態６の表示装置２０ｅの概略構成を示す図である。

　図１１に図示するように、本実施形態の表示装置２０ｅにおいては、接着材層１２に第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９を混合した接着材層１２ａを用いている。

　第１のナノ粒子１８は、第１の発光ピーク波長（λ_Ｂ＝４４５ｎｍ）と第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）との間に吸収ピーク波長（λ_１＝４９０ｎｍ）を有し、第２のナノ粒子１９は、第２の発光ピーク波長（λ_Ｇ＝５４０ｎｍ）と第３の発光ピーク波長（λ_Ｒ＝６４０ｎｍ）との間に吸収ピーク波長（λ_２＝５８５ｎｍ）を有する。

　本実施形態においては、接着材層１２に第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９の両方を混合した場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、接着材層１２に第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９の一方のみを混合してもよい。

　また、本実施形態においては、接着材層１２に第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９を混合した場合を一例に挙げて説明したが、これに限定されることはなく、第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９の少なくとも一方は、青色発光層５ＢＨを含む第１発光素子、緑色発光層５ＧＨを含む第２発光素子及び赤色発光層５ＲＨを含む第３発光素子より上層（視認者側）の少なくとも一つの層、すなわち、封止層１１、接着剤層１２ａ及び光吸収部材１の少なくとも一つの層に含まれていてもよい。

　なお、第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９の一例としては、銀ナノ粒子などを挙げることができるが、これに限定されることはない。

　第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９の少なくとも一方を含む表示装置２０ｅは、第１のナノ粒子１８及び第２のナノ粒子１９がナノサイズであるため、外光を散乱しない。また、不要な外光を吸収し発光光の利用効率を下げないので、外光下でもさらに高いコントラスト比を実現できる。

　〔まとめ〕
　〔態様１〕
　基板と、第１の発光ピーク波長を有する第１発光層を備えた第１発光素子と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長を有する第２発光層を備えた第２発光素子と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長を有する第３発光層を備えた第３発光素子と、を含む表示装置であって、
　前記基板上には、複数のアクティブ素子を形成するアクティブ素子層と、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子と、光吸収部材とが、前記基板側からこの順に備えられ、
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子のそれぞれは、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に形成された、前記第１発光層、前記第２発光層及び前記第３発光層中の何れかの該当する発光層とを含み、
　前記光吸収部材は、少なくとも第１の二色性色素及び第２の二色性色素を含み、
　前記第１の二色性色素の吸収ピーク波長は、前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間であり、
　前記第２の二色性色素の吸収ピーク波長は、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間であり、
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記第１電極の法線方向となす角度が、７０度以上９０度以下である表示装置。

　〔態様２〕
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記発光層の法線方向に対して垂直である態様１に記載の表示装置。

　〔態様３〕
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記発光層の法線方向から見た際に、ランダムである態様１または２に記載の表示装置。

　〔態様４〕
　前記光吸収部材は、λ／４位相差層をさらに備えており、
　前記λ／４位相差層は、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子とより近い側に配置され、
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記発光層の法線方向から見て前記λ／４位相差層の光軸に対して４５度の向きに配されている態様１または２に記載の表示装置。

　〔態様５〕
　前記第２の発光ピーク波長と前記第１の発光ピーク波長との差は、前記第１発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅と前記第２発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅との平均値より大きく、
　前記第３の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との差は、前記第２発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅と前記第３発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅との平均値より大きい態様１から４の何れかに記載の表示装置。

　〔態様６〕
　前記第２の二色性色素の吸収ピーク波長と前記第１の二色性色素の吸収ピーク波長との差は、前記第２発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅より大きい態様１から５の何れかに記載の表示装置。

　〔態様７〕
　前記第２の発光ピーク波長と前記第１の発光ピーク波長との差と、前記第３の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との差は、５０ｎｍ以上である態様１から６の何れかに記載の表示装置。

　〔態様８〕
　前記光吸収部材は、第１光吸収部材と、第２光吸収部材とで構成され、
　前記第１光吸収部材は、前記第１の二色性色素を含み、
　前記第２光吸収部材は、前記第２の二色性色素を含む態様１から７の何れかに記載の表示装置。

　〔態様９〕
　前記光吸収部材と、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子との間には、第１封止層が備えられている態様１から８の何れかに記載の表示装置。

　〔態様１０〕
　前記光吸収部材に対して、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側とは反対側に、第２封止層が備えられている態様１から９の何れかに記載の表示装置。

　〔態様１１〕
　前記光吸収部材と、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子との間には、第１封止層が備えられ、
　前記光吸収部材に対して、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側とは反対側に、第２封止層が備えられ、
　前記第１封止層と前記第２封止層とは、無機膜であり、
　額縁領域において、前記第２封止層は、前記光吸収部材の端部と接し、前記第１封止層の表面と接する態様１から８の何れかに記載の表示装置。

　〔態様１２〕
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１のナノ粒子と、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２のナノ粒子と、の少なくとも一方が、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層に含まれている態様１から１１の何れかに記載の表示装置。

　〔態様１３〕
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層は、前記光吸収部材または、前記光吸収部材の前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側に備えられた接着材層である態様１２に記載の表示装置。

　〔態様１４〕
　前記第１の発光ピーク波長よりも短波長側の光を吸収する第１吸収剤が、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層に含まれている態様１から１３の何れかに記載の表示装置。

　〔態様１５〕
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層は、前記光吸収部材または、前記光吸収部材の前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側に備えられた接着材層である態様１４に記載の表示装置。

　〔態様１６〕
　前記第３の発光ピーク波長よりも長波長側の光を吸収する第２吸収剤が、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層に含まれている態様１から１５の何れかに記載の表示装置。

　〔態様１７〕
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層は、前記光吸収部材または、前記光吸収部材の前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側に備えられた接着材層である態様１６に記載の表示装置。

　〔態様１８〕
　前記光吸収部材における前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子と対向する面と反対側の面は、反射防止、防汚、防キズ及び帯電防止の何れかの特性を有する面である態様１から１７の何れかに記載の表示装置。

　〔態様１９〕
　前記第１発光層、前記第２発光層及び前記第３発光層は、量子ドットを含む発光層である態様１から１８の何れかに記載の表示装置。

　〔態様２０〕
　第１の発光ピーク波長と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長と、を含む光を出射する表示装置の製造方法であって、
　前記第１の発光ピーク波長を含む光を出射する第１発光層と、前記第２の発光ピーク波長を含む光を出射する第２発光層と、前記第３の発光ピーク波長を含む光を出射する第３発光層と、を形成する発光層を形成する工程と、
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１の二色性色素と、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２の二色性色素と、樹脂とを含む光吸収部材を形成する工程と、を含む表示装置の製造方法。

　〔態様２１〕
　第１の発光ピーク波長と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長と、を含む光を出射する表示装置の製造方法であって、
　前記第１の発光ピーク波長を含む光を出射する第１発光層と、前記第２の発光ピーク波長を含む光を出射する第２発光層と、前記第３の発光ピーク波長を含む光を出射する第３発光層と、を形成する発光層を形成する工程と、
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１の二色性色素と、第１樹脂とを含む第１光吸収部材を形成する工程と、
　前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２の二色性色素と、第２樹脂とを含む第２光吸収部材を形成する工程と、を含む表示装置の製造方法。

　〔態様２２〕
　前記光吸収部材を形成する工程においては、前記第１の二色性色素と、前記第２の二色性色素と、前記樹脂の前駆体とを含む、塗布液を基体上に塗布及び硬化する態様２０に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様２３〕
　前記第１光吸収部材を形成する工程においては、前記第１の二色性色素と、前記第１樹脂の前駆体とを含む、第１塗布液を第１基体上に塗布及び硬化し、
　前記第２光吸収部材を形成する工程においては、前記第２の二色性色素と、前記第２樹脂の前駆体とを含む、第２塗布液を第２基体上に塗布及び硬化する態様２１に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様２４〕
　前記光吸収部材は、液晶性モノマーをさらに含む態様２２または２３に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様２５〕
　前記塗布液を前記基体上に塗布及び硬化する工程の前に、前記基体上に水平配向膜を形成する態様２２から２４の何れかに記載の表示装置の製造方法。

　〔態様２６〕
　前記塗布液を前記基体上に塗布及び硬化する工程の前に、前記基体上に水平配向膜を形成し、
　前記水平配向膜表面に前記液晶性モノマーが一軸方向に配列するように表面処理を行う態様２４に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様２７〕
　前記基体は、光透過性基材であり、
　前記光吸収部材を形成する工程においては、
　前記第１の二色性色素と前記第２の二色性色素と前記樹脂の前駆体とが混合された塗布液を前記光透過性基材上に塗布及び硬化する工程の後に、前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が１方向に配向するように、前記光透過性基材と前記光透過性基材上に硬化された塗布液とを延伸する態様２２に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様２８〕
　前記第１塗布液を前記第１基体上に塗布及び硬化する工程及び前記第２塗布液を前記第２基体上に塗布及び硬化する工程の後に、
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向と前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が１方向に配向するように、硬化された前記第１塗布液と前記第２塗布液とを延伸し、前記第１光吸収部材及び前記第２光吸収部材を形成する態様２３に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様２９〕
　前記第１基体は、第１の光透過性基材であり、
　前記第２基体は、第２の光透過性基材であり、
　前記第１塗布液を前記第１の光透過性基材上に塗布及び硬化する工程の後に、前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向が１方向に配向するように、前記第１の光透過性基材と、前記第１の光透過性基材上に硬化された前記第１塗布液とを延伸し、前記第１光吸収部材を形成し、
　前記第２塗布液を前記第２の光透過性基材上に塗布及び硬化する工程の後に、前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が前記１方向に配向するように、前記第２の光透過性基材と、前記第２の光透過性基材上に硬化された前記第２塗布液とを延伸し、前記第２光吸収部材を形成する態様２３に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様３０〕
　前記光吸収部材を形成する工程は、
　後から含侵する前記第１の二色性色素の分子及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が、１方向に配向するように、前記樹脂を延伸する工程と、
　延伸された前記樹脂に前記第１の二色性色素及び前記第２の二色性色素を含侵する工程と、
　前記第１の二色性色素及び前記第２の二色性色素が含侵された前記樹脂を、光透過性基材である基体に貼り合せる工程と、を含む態様２０に記載の表示装置の製造方法。

　〔態様３１〕
　前記第１光吸収部材を形成する工程及び前記第２光吸収部材を形成する工程は、
　後から含侵する前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向が、１方向に配向するように、前記第１樹脂を延伸する工程と、
　延伸された前記第１樹脂に前記第１の二色性色素を含侵する工程と、
　後から含侵する前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が、前記１方向に配向するように、前記第２樹脂を延伸する工程と、
　延伸された前記第２樹脂に前記第２の二色性色素を含侵する工程と、
　前記第１の二色性色素が含侵された前記第１樹脂と前記第２の二色性色素が含侵された前記第２樹脂とを貼り合せる工程と、
　前記第１の二色性色素が含侵された前記第１樹脂及び前記第２の二色性色素が含侵された前記第２樹脂の何れか一方と、光透過性基材である基体とを貼り合せる工程と、を含む態様２１に記載の表示装置の製造方法。

　〔付記事項〕
　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

　本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に利用することができる。

　１、１３、１４、１５、　光吸収部材
　１’　　　　　　　延伸された光吸収部材
　１Ｐ　　　　　　　第１の二色性色素の吸収波長
　１Ｐ’　　　　　　第２の二色性色素の吸収波長
　２　　　　　　　　第１の二色性色素（第１の二色性色素の分子）
　３　　　　　　　　第２の二色性色素（第２の二色性色素の分子）
　４　　　　　　　　液晶性モノマーを含む透明樹脂（樹脂、第１樹脂、第２樹脂）
　４‘　　　　　　　透明樹脂（樹脂、第１樹脂、第２樹脂）
　５　　　　　　　　発光層
　５Ｈ　　　　　　　発光面
　５Ｂ　　　　　　　第１発光層から出射された光
　５Ｇ　　　　　　　第２発光層から出射された光
　５Ｒ　　　　　　　第３発光層から出射された光
　５ＢＨ　　　　　　第１発光層
　５ＧＨ　　　　　　第２発光層
　５ＲＨ　　　　　　第３発光層
　５Ｂ’　　　　　　光吸収部材を通過した後の第１発光層からの光
　５Ｇ’　　　　　　光吸収部材を通過した後の第２発光層からの光
　５Ｒ’　　　　　　光吸収部材を通過した後の第３発光層からの光
　６　　　　　　　　第１電極
　７　　　　　　　　バンク
　８　　　　　　　　正孔輸送層
　９　　　　　　　　電子輸送層
　１０　　　　　　　第２電極
　１１　　　　　　　封止層（第１封止層）
　１２　　　　　　　接着材層
　１２ａ　　　　　　第１のナノ粒子及び第２のナノ粒子を含む接着材層
　１３ａ　　　　　　第１光吸収部材
　１３ｂ　　　　　　第２光吸収部材
　１３ａ’　　　　　延伸された第１光吸収部材
　１３ｂ’　　　　　延伸された第２光吸収部材
　１６　　　　　　　封止層（第２封止層）
　１８　　　　　　　第１のナノ粒子
　１９　　　　　　　第２のナノ粒子
　２０、２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、２０ｄ、２０ｅ　表示装置
　２１　　　　　　　アクティブマトリクス基板
　２５　　　　　　　λ／４位相差層
　３３　　　　　　　基板
　３４　　　　　　　樹脂層
　３５　　　　　　　バリア層
　３６　　　　　　　半導体層
　３７、３８、３９　無機絶縁膜
　４０　　　　　　　平坦化膜
　ＧＥ　　　　　　　ゲート電極層
　ＣＥ　　　　　　　容量電極層
　ＳＨ　　　　　　　ソース・ドレイン電極層
　ＬＴ　　　　　　　外光
　ＬＴ’　　　　　　光吸収部材を通過した後の外光
　ＬＴ’’　　　　　光吸収部材を２回通過後の外光
　ＨＬ　　　　　　　第１電極の法線方向
　α１・α２　　　　二色性色素の分子の吸収軸方向の傾き角度
　Ｖ　　　　　　　　視認者

Claims

　基板と、第１の発光ピーク波長を有する第１発光層を備えた第１発光素子と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長を有する第２発光層を備えた第２発光素子と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長を有する第３発光層を備えた第３発光素子と、を含む表示装置であって、
　前記基板上には、複数のアクティブ素子を形成するアクティブ素子層と、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子と、光吸収部材とが、前記基板側からこの順に備えられ、
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子のそれぞれは、第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に形成された、前記第１発光層、前記第２発光層及び前記第３発光層中の何れかの該当する発光層とを含み、
　前記光吸収部材は、少なくとも第１の二色性色素及び第２の二色性色素を含み、
　前記第１の二色性色素の吸収ピーク波長は、前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間であり、
　前記第２の二色性色素の吸収ピーク波長は、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間であり、
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記第１電極の法線方向となす角度が、７０度以上９０度以下であることを特徴とする表示装置。
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記発光層の法線方向に対して垂直であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記発光層の法線方向から見た際に、ランダムであることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
　前記光吸収部材は、λ／４位相差層をさらに備えており、
　前記λ／４位相差層は、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子とより近い側に配置され、
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向は、前記発光層の法線方向から見て前記λ／４位相差層の光軸に対して４５度の向きに配されていることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
　前記第２の発光ピーク波長と前記第１の発光ピーク波長との差は、前記第１発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅と前記第２発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅との平均値より大きく、
　前記第３の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との差は、前記第２発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅と前記第３発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅との平均値より大きいことを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の表示装置。
　前記第２の二色性色素の吸収ピーク波長と前記第１の二色性色素の吸収ピーク波長との差は、前記第２発光層から出射された光のスペクトルの半値全幅より大きいことを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の表示装置。
　前記第２の発光ピーク波長と前記第１の発光ピーク波長との差と、前記第３の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との差は、５０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の表示装置。
　前記光吸収部材は、第１光吸収部材と、第２光吸収部材とで構成され、
　前記第１光吸収部材は、前記第１の二色性色素を含み、
　前記第２光吸収部材は、前記第２の二色性色素を含むことを特徴とする請求項１から７の何れか１項に記載の表示装置。
　前記光吸収部材と、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子との間には、第１封止層が備えられていることを特徴とする請求項１から８の何れか１項に記載の表示装置。
　前記光吸収部材に対して、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側とは反対側に、第２封止層が備えられていることを特徴とする請求項１から９の何れか１項に記載の表示装置。
　前記光吸収部材と、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子との間には、第１封止層が備えられ、
　前記光吸収部材に対して、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側とは反対側に、第２封止層が備えられ、
　前記第１封止層と前記第２封止層とは、無機膜であり、
　額縁領域において、前記第２封止層は、前記光吸収部材の端部と接し、前記第１封止層の表面と接することを特徴とする請求項１から８の何れか１項に記載の表示装置。
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１のナノ粒子と、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２のナノ粒子と、の少なくとも一方が、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層に含まれていることを特徴とする請求項１から１１の何れか１項に記載の表示装置。
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層は、前記光吸収部材または、前記光吸収部材の前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側に備えられた接着材層であることを特徴とする請求項１２に記載の表示装置。
　前記第１の発光ピーク波長よりも短波長側の光を吸収する第１吸収剤が、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層に含まれていることを特徴とする請求項１から１３の何れか１項に記載の表示装置。
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層は、前記光吸収部材または、前記光吸収部材の前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側に備えられた接着材層であることを特徴とする請求項１４に記載の表示装置。
　前記第３の発光ピーク波長よりも長波長側の光を吸収する第２吸収剤が、前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層に含まれていることを特徴とする請求項１から１５の何れか１項に記載の表示装置。
　前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子より視認者側の少なくとも一つの層は、前記光吸収部材または、前記光吸収部材の前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子が備えられている側に備えられた接着材層であることを特徴とする請求項１６に記載の表示装置。
　前記光吸収部材における前記第１発光素子、前記第２発光素子及び前記第３発光素子と対向する面と反対側の面は、反射防止、防汚、防キズ及び帯電防止の何れかの特性を有する面であることを特徴とする請求項１から１７の何れか１項に記載の表示装置。
　前記第１発光層、前記第２発光層及び前記第３発光層は、量子ドットを含む発光層であることを特徴とする請求項１から１８の何れか１項に記載の表示装置。
　第１の発光ピーク波長と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長と、を含む光を出射する表示装置の製造方法であって、
　前記第１の発光ピーク波長を含む光を出射する第１発光層と、前記第２の発光ピーク波長を含む光を出射する第２発光層と、前記第３の発光ピーク波長を含む光を出射する第３発光層と、を形成する発光層を形成する工程と、
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１の二色性色素と、前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２の二色性色素と、樹脂とを含む光吸収部材を形成する工程と、を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
　第１の発光ピーク波長と、前記第１の発光ピーク波長より長い第２の発光ピーク波長と、前記第２の発光ピーク波長より長い第３の発光ピーク波長と、を含む光を出射する表示装置の製造方法であって、
　前記第１の発光ピーク波長を含む光を出射する第１発光層と、前記第２の発光ピーク波長を含む光を出射する第２発光層と、前記第３の発光ピーク波長を含む光を出射する第３発光層と、を形成する発光層を形成する工程と、
　前記第１の発光ピーク波長と前記第２の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第１の二色性色素と、第１樹脂とを含む第１光吸収部材を形成する工程と、
　前記第２の発光ピーク波長と前記第３の発光ピーク波長との間に吸収ピーク波長を有する第２の二色性色素と、第２樹脂とを含む第２光吸収部材を形成する工程と、を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
　前記光吸収部材を形成する工程においては、前記第１の二色性色素と、前記第２の二色性色素と、前記樹脂の前駆体とを含む、塗布液を基体上に塗布及び硬化することを特徴とする請求項２０に記載の表示装置の製造方法。
　前記第１光吸収部材を形成する工程においては、前記第１の二色性色素と、前記第１樹脂の前駆体とを含む、第１塗布液を第１基体上に塗布及び硬化し、
　前記第２光吸収部材を形成する工程においては、前記第２の二色性色素と、前記第２樹脂の前駆体とを含む、第２塗布液を第２基体上に塗布及び硬化することを特徴とする請求項２１に記載の表示装置の製造方法。
　前記光吸収部材は、液晶性モノマーをさらに含むことを特徴とする請求項２２または２３に記載の表示装置の製造方法。
　前記塗布液を前記基体上に塗布及び硬化する工程の前に、前記基体上に水平配向膜を形成することを特徴とする請求項２２から２４の何れか１項に記載の表示装置の製造方法。
　前記塗布液を前記基体上に塗布及び硬化する工程の前に、前記基体上に水平配向膜を形成し、
　前記水平配向膜表面に前記液晶性モノマーが一軸方向に配列するように表面処理を行うことを特徴とする請求項２４に記載の表示装置の製造方法。
　前記基体は、光透過性基材であり、
　前記光吸収部材を形成する工程においては、
　前記第１の二色性色素と前記第２の二色性色素と前記樹脂の前駆体とが混合された塗布液を前記光透過性基材上に塗布及び硬化する工程の後に、前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が１方向に配向するように、前記光透過性基材と前記光透過性基材上に硬化された塗布液とを延伸することを特徴とする請求項２２に記載の表示装置の製造方法。
　前記第１塗布液を前記第１基体上に塗布及び硬化する工程及び前記第２塗布液を前記第２基体上に塗布及び硬化する工程の後に、
　前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向と前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が１方向に配向するように、硬化された前記第１塗布液と前記第２塗布液とを延伸し、前記第１光吸収部材及び前記第２光吸収部材を形成することを特徴とする請求項２３に記載の表示装置の製造方法。
　前記第１基体は、第１の光透過性基材であり、
　前記第２基体は、第２の光透過性基材であり、
　前記第１塗布液を前記第１の光透過性基材上に塗布及び硬化する工程の後に、前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向が１方向に配向するように、前記第１の光透過性基材と、前記第１の光透過性基材上に硬化された前記第１塗布液とを延伸し、前記第１光吸収部材を形成し、
　前記第２塗布液を前記第２の光透過性基材上に塗布及び硬化する工程の後に、前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が前記１方向に配向するように、前記第２の光透過性基材と、前記第２の光透過性基材上に硬化された前記第２塗布液とを延伸し、前記第２光吸収部材を形成することを特徴とする請求項２３に記載の表示装置の製造方法。
　前記光吸収部材を形成する工程は、
　後から含侵する前記第１の二色性色素の分子及び前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が、１方向に配向するように、前記樹脂を延伸する工程と、
　延伸された前記樹脂に前記第１の二色性色素及び前記第２の二色性色素を含侵する工程と、
　前記第１の二色性色素及び前記第２の二色性色素が含侵された前記樹脂を、光透過性基材である基体に貼り合せる工程と、を含むことを特徴とする請求項２０に記載の表示装置の製造方法。
　前記第１光吸収部材を形成する工程及び前記第２光吸収部材を形成する工程は、
　後から含侵する前記第１の二色性色素の分子の吸収軸方向が、１方向に配向するように、前記第１樹脂を延伸する工程と、
　延伸された前記第１樹脂に前記第１の二色性色素を含侵する工程と、
　後から含侵する前記第２の二色性色素の分子の吸収軸方向が、前記１方向に配向するように、前記第２樹脂を延伸する工程と、
　延伸された前記第２樹脂に前記第２の二色性色素を含侵する工程と、
　前記第１の二色性色素が含侵された前記第１樹脂と前記第２の二色性色素が含侵された前記第２樹脂とを貼り合せる工程と、
　前記第１の二色性色素が含侵された前記第１樹脂及び前記第２の二色性色素が含侵された前記第２樹脂の何れか一方と、光透過性基材である基体とを貼り合せる工程と、を含むことを特徴とする請求項２１に記載の表示装置の製造方法。