WO2020022410A1 - 透明導電膜用保護膜形成組成物 - Google Patents

透明導電膜用保護膜形成組成物 Download PDF

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conductive film
protective film
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浩康 田村
直也 西村
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    • H05B33/26—Light sources with substantially two-dimensional [2D] radiating surfaces characterised by the composition or arrangement of the conductive material used as an electrode
    • H05B33/28—Light sources with substantially two-dimensional [2D] radiating surfaces characterised by the composition or arrangement of the conductive material used as an electrode of translucent electrodes

Definitions

  • the present invention relates to a composition for forming a protective film for a transparent conductive film.
  • a polymer containing a repeating unit having a triazine ring and an aromatic ring has a high refractive index, and the polymer alone has high heat resistance, high transparency, high refractive index, and high solubility. It has already been found that it can achieve low volume shrinkage and is suitable as a film-forming composition for producing an electronic device (Patent Document 1).
  • ITO indium tin oxide
  • IZO indium zinc oxide
  • the transparent conductive film material By the way, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), and the like have been mainly used as the transparent conductive film material, and these are standard materials showing good optical transparency and conductivity. It has become.
  • complicated processes such as sputtering, high vacuum, and high temperature annealing are required. Therefore, there is a problem that a special device is required and the cost is high.
  • electronic devices are becoming more flexible and lighter by using plastic substrates and the like, and are required to have durability against physical stress such as bending. Techniques for forming ITO and IZO films on flexible substrates are also being studied, but the fragility and fragility of inorganic oxides has not been improved.
  • a transparent conductive film having a conductive nanostructure (percolation structure of metal nanoparticles or metal nanowires, metal mesh structure, etc.) has been developed as a material having excellent durability against physical stress.
  • These transparent conductive films have the advantage that, in addition to flexibility, they can be prepared by a wet process using metal nanoparticles or metal nanowire dispersions (Patent Documents 1 to 3), and only increase the amount of metal contained. It has the advantage that its electrical resistance can be reduced.
  • the film becomes cloudy due to irregular reflection of light, not only loses its optical transparency, but also deteriorates the surface due to the metal and deteriorates the structure. There is a problem that the conductivity is reduced by the destruction.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and has an object to provide a protective film forming composition for a transparent conductive film which is excellent in light resistance and provides a film capable of improving the visibility of the transparent conductive film. I do.
  • compositions containing a triazine ring-containing hyperbranched polymer and providing a film capable of improving the visibility of a transparent conductive film Patent Document 5
  • Patent Document 5 a composition comprising a predetermined triazine ring-containing hyperbranched polymer blocked with a fluorine atom-containing arylamino group, a crosslinking agent having a molecular weight of 1,000 or more, and an ultraviolet absorber
  • they have found that they provide a film having excellent light resistance and capable of improving the visibility of a transparent conductive film, and completed the present invention.
  • a triazine ring-containing hyper having a repeating unit structure represented by the following formula (1), having at least one triazine ring terminal, and at least a part of the triazine ring terminal being blocked with a fluorine atom-containing arylamino group.
  • a protective film forming composition for a transparent conductive film comprising: a branch polymer; a crosslinking agent A having a molecular weight of 1,000 or more; and an ultraviolet absorber.
  • R and R ′ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or an aralkyl group
  • Ar is selected from the group consisting of groups represented by formulas (2) to (13).
  • R 1 to R 92 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfone group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 93 and R 92 94 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • W 1 and W 2 are each independently a single bond
  • R 97 is a hydrogen atom or carbon atom 1 represents an alkyl group of 1-10.
  • X 1 and X 2 are each independently a single bond, one carbon atom It represents a 10 alkylene group or a group represented by the formula (14) of.
  • R 98 to R 101 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfone group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, Y 1 and Y 1 2 independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the fluorine atom-containing arylamino group is a protective film forming composition for a transparent conductive film represented by the formula (15): (In the formula, R 102 represents a fluorine atom or a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.) 3.
  • the fluorine atom-containing arylamino group is a protective film forming composition for a transparent conductive film represented by the formula (16): (In the formula, R 102 represents the same meaning as described above.) 4.
  • R 2 is a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, wherein the composition for forming a protective film for a transparent conductive film is 2 or 3; 5.
  • Ar is a protective film forming composition for a transparent conductive film according to any one of 1 to 4, represented by formula (17): 6.
  • a protective film for a transparent conductive film which is for a transparent conductive film having a conductive nanostructure
  • the conductive nanostructure is a protective film for a transparent conductive film of 12, which is a silver nanowire, 14.
  • a transparent electrode comprising a transparent conductive film, and 11 transparent conductive film protective films formed on the transparent conductive film;
  • An electronic device comprising: a transparent conductive film; and 11 transparent conductive film protective films formed on the transparent conductive film. 16.
  • the protective film formed by using the composition for forming a protective film for a transparent conductive film of the present invention is excellent in light resistance, and has high transparency and refractive index. Therefore, the protective film is used as a protective film for a transparent conductive film such as ITO and silver nanowires. By using, the visibility can be improved and the deterioration can be suppressed.
  • the protective film forming composition for a transparent conductive film according to the present invention contains a triazine ring-containing hyperbranched polymer containing a repeating unit represented by the following formula (1).
  • R and R ′ each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group, but from the viewpoint of further increasing the refractive index, both are preferably hydrogen atoms.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is not particularly limited, but is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 10 in consideration of further increasing the heat resistance of the polymer. Is even more preferred.
  • the structure may be any of a chain, a branch, and a ring.
  • alkyl group examples include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, cyclopropyl, n-butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, cyclobutyl, 1-methyl-cyclopropyl, 2-methyl-cyclopropyl , N-pentyl, 1-methyl-n-butyl, 2-methyl-n-butyl, 3-methyl-n-butyl, 1,1-dimethyl-n-propyl, 1,2-dimethyl-n-propyl, , 2-Dimethyl-n-propyl, 1-ethyl-n-propyl, cyclopentyl, 1-methyl-cyclobutyl, 2-methyl-cyclobutyl, 3-methyl-cyclobutyl, 1,2-dimethyl-cyclopropyl, 2,3- Dimethyl-cyclopropyl, 1-ethyl-cyclopropyl, 2-ethyl-cyclopropyl,
  • the carbon number of the alkoxy group is not particularly limited, but is preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 10 and more preferably 1 to 3 in consideration of further increasing the heat resistance of the polymer.
  • the structure of the alkyl moiety may be any of a chain, a branch, and a ring.
  • alkoxy group examples include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, s-butoxy, t-butoxy, n-pentoxy, 1-methyl-n-butoxy, 2-methyl-n -Butoxy, 3-methyl-n-butoxy, 1,1-dimethyl-n-propoxy, 1,2-dimethyl-n-propoxy, 2,2-dimethyl-n-propoxy, 1-ethyl-n-propoxy, n -Hexyloxy, 1-methyl-n-pentyloxy, 2-methyl-n-pentyloxy, 3-methyl-n-pentyloxy, 4-methyl-n-pentyloxy, 1,1-dimethyl-n-butoxy, 1,2-dimethyl-n-butoxy, 1,3-dimethyl-n-butoxy, 2,2-dimethyl-n-butoxy, 2,3-dimethyl-n-butoxy 3,3-dimethyl-n-butoxy, 1-ethoxy,
  • the carbon number of the aryl group is not particularly limited, it is preferably 6 to 40, and more preferably 6 to 16 carbon atoms, and still more preferably 6 to 13 in consideration of further increasing the heat resistance of the polymer.
  • Specific examples of the aryl group include phenyl, o-chlorophenyl, m-chlorophenyl, p-chlorophenyl, o-fluorophenyl, p-fluorophenyl, o-methoxyphenyl, p-methoxyphenyl, p-nitrophenyl, p-cyanophenyl, ⁇ -naphthyl, ⁇ -naphthyl, o-biphenylyl, m-biphenylyl, p-biphenylyl, 1-anthryl, 2-anthryl, 9-anthryl, 1-phenanthryl, 2-phenanthryl, 3-phenanthryl, 4 -Phenanthryl, 9
  • the number of carbon atoms in the aralkyl group is not particularly limited, but is preferably 7 to 20 carbon atoms, and the alkyl portion thereof may be any of straight-chain, branched and cyclic. Specific examples thereof include benzyl, p-methylphenylmethyl, m-methylphenylmethyl, o-ethylphenylmethyl, m-ethylphenylmethyl, p-ethylphenylmethyl, 2-propylphenylmethyl, 4-isopropylphenylmethyl, 4-isobutylphenylmethyl, ⁇ -naphthylmethyl group and the like.
  • Ar represents at least one selected from the group represented by formulas (2) to (13).
  • R 1 to R 92 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a branched chain having 1 to 10 carbon atoms.
  • R 93 and R 94 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a branched structure
  • W 1 and W 2 represent Each independently represents a single bond
  • CR 95 R 96 R 95 and R 96 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms (provided that these are taken together;
  • C O, O, S, SO, SO 2 , or NR 97
  • R 97 is a hydrogen atom or a branched structure having 1 to 10 carbon atoms. Represents an alkyl group which may be possessed).
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • X 1 and X 2 each independently represent a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a branched structure, or a group represented by the formula (14).
  • R 98 to R 101 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxyl group, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms, or a branched chain having 1 to 10 carbon atoms.
  • Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or an alkylene group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms.
  • the halogen atom, alkyl group, and alkoxy group include the same as those described above.
  • Examples of the alkylene group which may have a branched structure having 1 to 10 carbon atoms include methylene, ethylene, propylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, and the like.
  • R 1 to R 92 and R 98 to R 101 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, an alkyl group which may have a branched structure having 1 to 5 carbon atoms, or a 1 to 5 carbon atom.
  • An alkoxy group which may have a branched structure of 5 is preferable, and a hydrogen atom is more preferable.
  • Ar is preferably at least one of formulas (2) and (5) to (13), and is preferably of formulas (2), (5), (7), (8), and (11) to (13). ) Is more preferable.
  • Specific examples of the aryl groups represented by the above formulas (2) to (13) include, but are not limited to, those represented by the following formulas.
  • an aryl group represented by the following formula is more preferable because a polymer having a higher refractive index can be obtained.
  • Ar is preferably an m-phenylene group represented by the formula (17).
  • the triazine ring-containing hyperbranched polymer used in the present invention has at least one triazine ring terminal, and at least a part of the triazine ring terminal is blocked with a fluorine atom-containing arylamino group.
  • a fluorine atom-containing arylamino group examples include the same as described above, and a phenyl group is particularly preferable.
  • the fluorine atom-containing group include a fluorine atom-containing hydrocarbon group such as a fluorine atom and a fluoroalkyl group, and a fluorine atom and a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms are preferable.
  • the fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms may be linear, branched or cyclic, and includes, for example, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, a heptafluoropropyl group 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) ethyl group, nonafluoro Butyl group, 4,4,4-trifluorobutyl group, undecafluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, 2,2,3,3 , 4,4,5,5-octafluoropentyl group, tridecafluorohexyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexyl group,
  • a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and particularly a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable.
  • Perfluoroalkyl groups are more preferred, and trifluoromethyl groups are most preferred.
  • the number of fluorine atom-containing groups is not particularly limited, and may be any number that can be substituted on the aryl group. However, considering the balance between the maintenance of the refractive index and the solubility in a solvent, 1 to 4 Are preferred, 1-2 are more preferred, and 1 is even more preferred.
  • Suitable examples of the fluorine atom-containing arylamino group include those represented by the formula (15), and particularly preferred are those represented by the formula (16) having a fluorine atom-containing group at the para-position to the amino group.
  • R 102 represents a fluorine atom or a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
  • fluorine atom-containing arylamino group examples include those represented by the following formula, but are not limited thereto.
  • the fluorine atom-containing arylamino group can be introduced by using a corresponding fluorine atom-containing arylamino compound in the production method described below.
  • Specific examples of the fluorine atom-containing arylamino compound include 4-fluoroaniline, 4-trifluoromethylaniline, 4-pentafluoroethylaniline and the like.
  • particularly preferred triazine ring-containing hyperbranched polymers include those represented by formulas (18) to (21).
  • the weight average molecular weight of the triazine ring-containing hyperbranched polymer is not particularly limited, but is preferably from 500 to 500,000, more preferably from 500 to 100,000. 2,000 or more is preferred, and 50,000 or less is preferred, 30,000 or less is more preferred, and 10,000 or less is preferred from the viewpoint of increasing solubility and decreasing the viscosity of the obtained solution. Is even more preferred.
  • the weight average molecular weight in the present invention is an average molecular weight obtained by gel permeation chromatography (hereinafter, referred to as GPC) analysis in terms of standard polystyrene.
  • the triazine ring-containing hyperbranched polymer of the present invention can be produced according to the method disclosed in Patent Document 1 described above.
  • a triazine ring-containing hyperbranched polymer (20) is obtained by reacting a triazine compound (22) and an aryldiamino compound (23) in an appropriate organic solvent, And a fluorine atom-containing aniline compound (24).
  • the charge ratio of the aryldiamino compound (23) is arbitrary as long as the desired polymer can be obtained.
  • 0.01 to 10 equivalents of the aryldiamino compound (23) is added to 1 equivalent of the triazine compound (22). Is preferred, and 1 to 5 equivalents is more preferred.
  • the aryldiamino compound (23) may be added neat or in a solution dissolved in an organic solvent, but the latter method is preferable in consideration of easiness of operation and control of the reaction. .
  • the reaction temperature may be appropriately set in the range from the melting point of the solvent used to the boiling point of the solvent, but is preferably about -30 to 150 ° C, more preferably -10 to 100 ° C.
  • organic solvent various solvents usually used in this type of reaction can be used, and examples thereof include tetrahydrofuran, dioxane, dimethyl sulfoxide; N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, Hexamethylphosphoramide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-piperidone, N, N-dimethylethyleneurea, N, N, N ′, N′-tetramethylmalonamide, N-methylcaprolactam, N-acetylpyrrolidine, N, N-diethylacetamide, N-ethyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylpropionamide, N, N-dimethylisobutylamide, N-methylformamide, N, N'-dimethylpropyleneurea Amide solvents, and mixtures thereof.
  • N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, and a mixture thereof are preferable, and particularly, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone Is preferred.
  • various bases usually used during or after the polymerization may be added.
  • the base include potassium carbonate, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium ethoxide, sodium acetate, lithium carbonate, lithium hydroxide, lithium oxide, potassium acetate, magnesium oxide, oxide Calcium, barium hydroxide, trilithium phosphate, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, cesium fluoride, aluminum oxide, ammonia, n-propylamine, trimethylamine, triethylamine, diisopropylamine, diisopropylethylamine, N-methylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethyl-N-methylpiperidine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, N-methylmorpholine and the like.
  • the amount of the base to be added is preferably 1 to 100 equivalents, more preferably 1 to 10 equivalents, per 1 equivalent of the triazine compound (22).
  • These bases may be used in the form of an aqueous solution. It is preferable that no raw material components remain in the obtained polymer, but some raw materials may remain as long as the effects of the present invention are not impaired. After completion of the reaction, the product can be easily purified by a reprecipitation method or the like.
  • the amount of the terminal blocking agent used is preferably about 0.05 to 10 equivalents, more preferably 0.1 to 5 equivalents, per equivalent of the halogen atom derived from the excess triazine compound not used in the polymerization reaction. Preferably, 0.5 to 2 equivalents are even more preferred.
  • the reaction solvent and the reaction temperature the same conditions as described in the first-stage reaction of the above scheme 1 can be mentioned, and the terminal blocking agent may be charged at the same time as the aryl diamino compound (23). Note that an end-capping may be performed with two or more kinds of groups using an arylamino compound having no fluorine atom. Examples of the aryl group of the arylamino compound having no substituent include the same ones as described above.
  • the composition of the present invention contains a crosslinking agent A having a molecular weight of 1,000 or more, preferably 1,200 or more, more preferably 1,500 or more. Thereby, the film density of the protective film can be increased, and the resistance to high temperature and high humidity can be improved.
  • the composition of the present invention preferably contains a crosslinking agent B having a molecular weight of less than 1,000 together with the crosslinking agent A. By adding the crosslinking agent B, the film density of the protective film can be further increased, and the resistance to high temperature and high humidity can be further improved.
  • the molecular weight of the crosslinking agent B is preferably 900 or less, more preferably 800 or less.
  • cross-linking agents A and B examples include a melamine compound having a cross-linking group such as a methylol group or a methoxymethyl group as a cross-linking group, a substituted urea compound, a compound containing a cross-linking group such as an epoxy group or an oxetane group, and a block.
  • a melamine compound having a cross-linking group such as a methylol group or a methoxymethyl group as a cross-linking group
  • a substituted urea compound such as an epoxy group or an oxetane group
  • a compound containing a cross-linking group such as an epoxy group or an oxetane group
  • a block examples include a melamine compound having a cross-linking group such as a methylol group or a methoxymethyl group as a cross-linking group, a substituted urea compound, a compound containing a cross-linking
  • compounds containing an epoxy group, a blocked isocyanate group, and a (meth) acryl group are preferable from the viewpoint of heat resistance and storage stability, and in particular, a compound having a blocked isocyanate group and photocuring without using an initiator.
  • Polyfunctional epoxy compounds and / or polyfunctional (meth) acrylic compounds which give possible compositions are preferred. Note that these polyfunctional compounds need to have at least two cross-linking groups, but preferably have three or more cross-linking groups.
  • the polyfunctional epoxy compound is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. Specific examples thereof include tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,2-epoxy-4- (epoxyethyl) cyclohexane, glycerol triglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl.
  • epoxy resins YH-434 and YH434L manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. having at least two epoxy groups, Epolide GT-401 and GT-403 which are epoxy resins having a cyclohexene oxide structure are available.
  • the polyfunctional (meth) acrylic compound is not particularly limited as long as it has two or more (meth) acrylic groups in one molecule. Specific examples thereof include ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and ethoxylated glycerin tri (meth) acrylate.
  • the polyfunctional (meth) acrylic compound can be obtained as a commercial product, and specific examples thereof include NK esters A-200, A-400, A-600, A-1000, and A-9300.
  • UV-1700B, UV-6300B, UV-7 10B, UV-7550V, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7640B, UV-7650B all manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
  • EBECRYL600, 605, 645, 648, 860, 1606, 3500, 3603, and 3608 which are epoxy acrylates.
  • 3700, 3701, 3702, 3703, 708, the 6040 can also be used like.
  • the acid anhydride compound is not particularly limited as long as it is a carboxylic anhydride obtained by dehydrating and condensing two molecules of carboxylic acid.
  • Specific examples thereof include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methylnadic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, Octyl succinic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, etc.
  • a compound containing a blocked isocyanate has two or more blocked isocyanate groups in one molecule in which an isocyanate group (—NCO) is blocked by an appropriate protecting group, and when exposed to a high temperature during thermosetting, There is no particular limitation as long as the protecting group (block portion) is thermally dissociated and comes off, and the generated isocyanate group causes a cross-linking reaction with the resin.
  • an isocyanate group (—NCO)
  • the protecting group block portion
  • the generated isocyanate group causes a cross-linking reaction with the resin.
  • two of the groups represented by the following formula per molecule may be used. Compounds having the above (these groups may be the same or different) may be mentioned.
  • R b represents an organic group in the block portion.
  • Such a compound can be obtained, for example, by reacting a compound having two or more isocyanate groups per molecule with a suitable blocking agent.
  • Examples of the compound having two or more isocyanate groups in one molecule include polyisocyanates such as isophorone diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), and trimethylhexamethylene diisocyanate, and dimers thereof. And trimers, and reaction products thereof with diols, triols, diamines or triamines.
  • the blocking agent examples include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, 2-ethoxyhexanol, 2-N, N-dimethylaminoethanol, 2-ethoxyethanol and cyclohexanol; phenol, o-nitrophenol Phenols such as p-chlorophenol, o-, m- or p-cresol; lactams such as ⁇ -caprolactam; oximes such as acetone oxime, methyl ethyl ketone oxime, methyl isobutyl ketone oxime, cyclohexanone oxime, acetophenone oxime and benzophenone oxime.
  • Pyrazoles such as pyrazole, 3,5-dimethylpyrazole and 3-methylpyrazole; and thiols such as dodecanethiol and benzenethiol.
  • the compound containing the blocked isocyanate is also available as a commercial product, and specific examples thereof include B-830, B-815N, B-842N, B-870N, B-874N, B-882N, and B-882N. 7005, B-7030, B-7075, B-5010 (all manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethanes Inc.), Duranate (registered trademark) 17B-60PX, TPA-B80E, MF-B60X, MF-K60X, E402-B80T (above, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), Karenz MOI-BM (registered trademark) (above, manufactured by Showa Denko KK) and the like.
  • the aminoplast compound is not particularly limited as long as it has two or more methoxymethylene groups in one molecule.
  • Cymel series such as hexamethoxymethyl melamine ⁇ CYMEL (registered trademark) 303, tetrabutoxymethyl glycoluril ⁇ 1170, tetramethoxymethyl benzoguanamine ⁇ 1123 (all manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd.), and methylated melamine resins.
  • Nikarac registered trademark
  • MW-30HM MW-390
  • MW-100LM MX-750LM
  • methylated urea resins MX-270, MX-280, MX-290 And melamine-based compounds
  • Nikalac series manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.
  • the oxetane compound is not particularly limited as long as it has two or more oxetanyl groups in one molecule.
  • OXT-221, OX-SQ-H, and OX-SC containing oxetane group (these are Toa Gosei Co., Ltd. )).
  • the phenoplast compound has two or more hydroxymethylene groups in one molecule, and when exposed to a high temperature during thermosetting, a crosslinking reaction proceeds with a hyperbranched polymer used in the present invention by a dehydration condensation reaction. Is what you do.
  • phenoplast compound examples include 2,6-dihydroxymethyl-4-methylphenol, 2,4-dihydroxymethyl-6-methylphenol, bis (2-hydroxy-3-hydroxymethyl-5-methylphenyl) methane, Bis (4-hydroxy-3-hydroxymethyl-5-methylphenyl) methane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dihydroxymethylphenyl) propane, bis (3-formyl-4-hydroxyphenyl) methane And bis (4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl) formylmethane, ⁇ , ⁇ -bis (4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl) -4-formyltoluene and the like.
  • the phenoplast compound is also available as a commercial product, and specific examples thereof include 26DMPC, 46DMOC, DM-BIPC-F, DM-BIOC-F, TM-BIP-A, BISA-F, BI25X-DF, BI25X-TPA (all manufactured by Asahi Organic Materials Industry Co., Ltd.) and the like.
  • the crosslinking agent A preferably has a molecular weight of 1,000 or more due to a long chain length between crosslinking groups, and specifically has a polyether structure, a polyester structure, a polyurethane structure, or the like. It is preferred that the length of the chain between the cross-linking groups becomes longer.
  • examples of the crosslinking agent A include NK esters A-GLY-20E, ATM-35E, AT-20E, 23G, A-BPE-20, BPE-900, and BPE-1300N ( Above, Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), EBECRYL 204, 205, 210, 215, 230, 244, 245, 270, 284, 285, 264, 265, 294 / 25HD, 1259, 1290, 4820, 8254, 8301R, 8405, 8465, 8296, 8307, 8411, 8701, 8800, 8804, 9260, 9277EA, KRM8200, 8452, 8528, 8667, 8904, 436, 438, 446, 450, 525, 183 , 846, 1870, 884, 885, 860, 3708 (all manufactured by Daicel Ornex), UV-1700B, UV-6300B, UV-7510B,
  • Alonix M-303, M-305, M-305, M-306, M-400, and M-402 are examples of the crosslinking agent B having a molecular weight of less than 1,000.
  • M-403, M-404, M-405, M-406, M-450, M-452 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A-9300, and A- 9300-1CL, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMPT, A-TMP, A-TMMT, A-DPH, 1G, 2G, 3G, 4G, 9G, 14G, ABE-300, A-BPE-4, A-BPE-6, A-BPE-10, A-BPE-20, A-BPE-30, BPE-80N , BPE-100N, BPE-200, BPE-500 (or more, EBECRYL # 11, 40, 135, 140, 145, 150, 180, 800, 853, 860, 1142, 4858, 5129
  • Aronix M-303, M-305, M-305, M-306, M-400, M-402, M-403, M-404, M-405, M-406, M-450, M-452 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A-9300, A-9300-1CL (all manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD DN-0075 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like are preferable.
  • cross-linking agents A and B polyfunctional (meth) acrylic compounds are preferred because they can suppress a decrease in the refractive index due to the blending of the cross-linking agent, and the curing reaction proceeds rapidly.
  • the crosslinking agents A and B may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the crosslinking agent A to be used is preferably 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing hyperbranched polymer, but considering solvent resistance, the lower limit is preferably 1 part by mass, more preferably The upper limit is preferably 5 parts by mass, and more preferably 20 parts by mass in consideration of controlling the refractive index.
  • the amount of the crosslinking agent B to be used is preferably from 100 to 3,000 parts by mass, more preferably from 1,000 to 2,000 parts by mass, based on 100 parts by mass of the crosslinking agent A from the viewpoint of further improving the optical properties of the transparent conductive film and preventing a remarkable decrease in the refractive index. Parts by mass are more preferred.
  • the composition of the present invention contains an ultraviolet absorber in addition to the above-described triazine ring-containing hyperbranched polymer and a crosslinking agent. Thereby, the deterioration of the triazine ring-containing hyperbranched polymer in the cured film due to the influence of ultraviolet rays or the like can be suppressed, and the light resistance can be improved.
  • the ultraviolet absorber for example, organic compounds such as benzotriazole-based compounds, benzophenone-based compounds, triazine-based compounds, cyclic iminoester-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, malonic ester compounds, and salicylic acid phenylester-based compounds, and titanium oxide
  • organic compounds such as benzotriazole-based compounds, benzophenone-based compounds, triazine-based compounds, cyclic iminoester-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, malonic ester compounds, and salicylic acid phenylester-based compounds, and titanium oxide
  • examples include inorganic particles that absorb ultraviolet light, such as fine particles, zinc oxide fine particles, and tin oxide fine particles.
  • a benzotriazole-based compound and a triazine-based compound are preferred, and a hydroxyphenylbenzotriazole-based compound is more preferred, from the viewpoint of improving the weather resistance of the obtained cured film and also preventing coloring of the cured
  • the ultraviolet absorber examples include 2- (5-methyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole and 2- [2-hydroxy-3,5-bis ( ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzo.
  • Triazoles such as triazole and 2- (3,5-di-t-butyl-2-hydroxyphenyl) benzotriazole; 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2,2 ′ Benzophenones such as -dihydroxy-4-methoxybenzophenone; [2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2,2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol, 2- [4-[(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl) oxy] -2-hydroxyphenyl] -4,6-bis (2, 4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine, 2- [4-[(2-hydroxy
  • UV absorbers may be used. Specific examples thereof include TINUVIN (registered trademark) PS, 99-2, 99-DW, 109, 328, 329, 384-2, and 384-2. 400, 400-DW, 405, 460, 477, 477-DW, 479, 900, 928, 1130, 111FDL (all manufactured by BASF Japan Ltd.), ADK STAB LA-29 LA-31, LA-31RG, LA-31G, LA-32, LA-36RG, LA-46, 1413, LA-F70 (all manufactured by ADEKA Corporation), Newcoat UVA-101, UVA-102, UVA-103, UVA-104, Vanaresin UVA-5080, UVA-5080 (OHV20), UVA-55T, UV -5MHB, the UVA-7075, the UVA-7075 (OHV20), the UVA-73T (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), RUVA-93 (manufactured by Otsuka Chemical
  • the UV absorbers may be used alone or in combination of two or more.
  • the amount of the ultraviolet absorber to be used is preferably 0.1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the triazine ring-containing hyperbranched polymer.
  • the lower limit thereof is as follows. It is preferably 1 part by mass, more preferably 5 parts by mass, and further from the viewpoint of preventing the refractive index of the cured film from lowering and preventing coloring, the upper limit is preferably 30 parts by mass, more preferably 20 parts by mass. .
  • composition of the present invention is preferably used by adding various solvents to dissolve the triazine ring-containing hyperbranched polymer.
  • the solvent may be the same as or different from the solvent used during the polymerization. This solvent is not particularly limited as long as compatibility with the polymer is not impaired.
  • usable solvents include toluene, p-xylene, o-xylene, m-xylene, ethylbenzene, styrene, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoethyl ether , Ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dip Pyrene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene
  • the solid content concentration in the composition is not particularly limited as long as it does not affect storage stability, and may be appropriately set according to the thickness of the target film. Specifically, from the viewpoint of solubility and storage stability, the solid concentration is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.2 to 40% by mass.
  • an initiator corresponding to each crosslinking agent may be blended.
  • a polyfunctional epoxy compound and / or a polyfunctional (meth) acrylic compound is used as a crosslinking agent, photocuring proceeds without using an initiator to give a cured film.
  • an initiator may be used.
  • a photoacid generator or a photobase generator can be used.
  • the photoacid generator may be appropriately selected from known ones and used, and for example, onium salt derivatives such as diazonium salts, sulfonium salts and iodonium salts can be used.
  • aryldiazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate, and 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate; diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-methylphenyl) Diaryliodonium salts such as iodonium hexafluorophosphate and di (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate; triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, diphenyl-4-thiophenoxy Phenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4-thiophenoxy Phenylsulfonium hex
  • onium salts commercially available products may be used, and specific examples thereof include San-Aid SI-60, SI-80, SI-100, SI-60L, SI-80L, SI-100L, SI-L145, SI-L. L150, SI-L160, SI-L110, SI-L147 (above, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), UVI-6950, UVI-6970, UVI-6974, UVI-6990, UVI-6992 (above, union carbide) Co., Ltd.), CPI-100P, CPI-100A, CPI-200K, CPI-200S (manufactured by Sun Apro Co., Ltd.), Adeka Optomer SP-150, SP-151, SP-170, SP-171 (manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Irgacure 261 (BASF), CI-2481, CI-2624, CI-26 9, CI-2064 (all manufactured by Nippo
  • the photobase generator may be appropriately selected from known ones and used.
  • a Co-amine complex oxime carboxylate ester, carbamate ester type, quaternary ammonium salt type photobase generator, or the like may be used. it can. Specific examples thereof include 2-nitrobenzylcyclohexylcarbamate, triphenylmethanol, O-carbamoylhydroxylamide, O-carbamoyloxime, [[(2,6-dinitrobenzyl) oxy] carbonyl] cyclohexylamine, bis [[(2 -Nitrobenzyl) oxy] carbonyl] hexane 1,6-diamine, 4- (methylthiobenzoyl) -1-methyl-1-morpholinoethane, (4-morpholinobenzoyl) -1-benzyl-1-dimethylaminopropane, N- (2-nitrobenzyloxycarbonyl) pyrrolidine, hexaamminecobalt (III) tri
  • a photoacid generator or a photobase generator When a photoacid generator or a photobase generator is used, it is preferably used in an amount of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polyfunctional epoxy compound. It is. If necessary, the epoxy resin curing agent may be blended in an amount of 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional epoxy compound.
  • a photoradical polymerization initiator when a polyfunctional (meth) acrylic compound is used, a photoradical polymerization initiator can be used.
  • the photo-radical polymerization initiator may be appropriately selected and used from known ones, and examples thereof include acetophenones, benzophenones, benzoylbenzoate of Michler, amiloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthone.
  • a photo-cleavable photo-radical polymerization initiator is preferable.
  • the photo-cleavable photo-radical polymerization initiator is described in the latest UV curing technology (p. 159, publisher: Kazuhiro Takasu, publisher: Technical Information Association, 1991).
  • photo-radical polymerization initiators include, for example, trade names: Irgacure 127, 184, 369, 379, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, OXE01, OXE02, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24 manufactured by BASF. -61, Darocure 1116, 1173, manufactured by BASF.
  • a photoradical polymerization initiator When a photoradical polymerization initiator is used, it is preferably used in an amount of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the polyfunctional (meth) acrylate compound. Range.
  • a polyfunctional thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule is added. Is also good. Specifically, a polyfunctional thiol compound represented by the following formula is preferable.
  • the above L represents a divalent to tetravalent organic group, preferably a divalent to tetravalent aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms or a divalent to tetravalent heterocyclic group, And a trivalent group having an isocyanuric acid skeleton (1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione ring) represented by the following formula: .
  • N represents an integer of 2 to 4 corresponding to the valence of L.
  • Specific compounds include 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane and 1,3,5-tris (3-mercaptobutyryloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4 , 6- (1H, 3H, 5H) -trione, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), trimethylolethanetris (3-mercaptobutyrate) and the like.
  • polyfunctional thiol compounds can also be obtained as commercial products, and examples thereof include Karenz MT-BD1, Karenz MT NR1, Karenz MT PE1, TPMB, and TEMB (all manufactured by Showa Denko KK). These polyfunctional thiol compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • a polyfunctional thiol compound When a polyfunctional thiol compound is used, its addition amount is not particularly limited as long as it does not adversely affect the obtained protective film. % By mass, more preferably 0.1 to 6% by mass.
  • the film-forming composition of the present invention may contain other components, such as a leveling agent and a surfactant, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • a leveling agent or the surfactant include polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenol ether, and polyoxyethylene octyl phenol ether.
  • Polyoxyethylene alkyl allyl ethers such as oxyethylene nonylphenol ether, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, sorbitan trioleate, sorbitan Sorbitan fatty acid esters such as tristearate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, Nonionic surfactants such as polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as oxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, and polyoxyethylene sorbitan tristearate; EF301, EF303, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Denka Kasei Co., Ltd.
  • the amount of the surfactant to be used is preferably 0.001 to 5 parts by mass, more preferably 0.01 to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 to 2 parts by mass based on 100 parts by mass of the triazine ring-containing hyperbranched polymer. More preferred.
  • the above-mentioned other components can be added at any step when preparing the composition of the present invention.
  • the protective film for a transparent conductive film of the present invention is obtained by applying the above-mentioned composition for forming a protective film for a transparent conductive film to a transparent conductive film, heating and evaporating the solvent if necessary, and then heating or irradiating with light.
  • the thickness of the protective film is preferably from 10 to 1,000 nm, more preferably from 50 to 200 nm.
  • the lower limit of the range of the refractive index of the protective film is preferably 1.45, more preferably 1.50, and even more preferably 1.55.
  • the upper limit is not particularly limited, but is about 1.95 to 2.00.
  • the haze value of the transparent conductive film on which the protective film of the present invention is formed is preferably 1.5% or less, more preferably 1.0% or less.
  • the method of applying the composition is arbitrary, and examples thereof include a spin coating method, a dip method, a flow coating method, an ink jet method, a spray method, a bar coating method, a gravure coating method, a slit coating method, a roll coating method, a transfer printing method, and a brush. Coating, a blade coating method, an air knife coating method and the like can be employed.
  • the transparent conductive film examples include a transparent conductive film having a conductive nanostructure such as an ITO film, an IZO film, a metal nanoparticle, a metal nanowire, and a metal nanomesh.
  • a transparent conductive film having a conductive nanostructure is preferred.
  • the metal constituting the conductive nanostructure is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, copper, nickel, platinum, cobalt, iron, zinc, ruthenium, rhodium, palladium, cadmium, osmium, iridium, and alloys thereof.
  • a transparent conductive film having silver nanoparticles, silver nanowires, silver nanomesh, gold nanoparticle, gold nanowire, gold nanomesh, copper nanoparticle, copper nanowire, copper nanomesh, or the like is preferable, and in particular, a transparent conductive film having silver nanowires is preferable.
  • Membranes are preferred.
  • the heating temperature is not particularly limited for the purpose of evaporating the solvent, and the heating can be performed, for example, at 40 to 400 ° C.
  • the heating method is not particularly limited, and for example, the solvent may be evaporated using a hot plate or an oven under an appropriate atmosphere such as an atmosphere, an inert gas such as nitrogen, or a vacuum.
  • the sintering temperature and the sintering time may be selected under conditions suitable for the target electronic device process step, and the sintering conditions may be selected so that the physical properties of the obtained film conform to the required characteristics of the electronic device.
  • the conditions for light irradiation are not particularly limited, and appropriate irradiation energy and time may be employed depending on the triazine ring-containing hyperbranched polymer and the crosslinking agent to be used. For example, it can be performed at 50 to 1,000 mJ / cm 2 . Light irradiation is preferably performed in the atmosphere or in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen.
  • the protective film of the present invention is particularly suitable as a protective film for a transparent conductive film having a conductive nanostructure.
  • a transparent conductive film having a conductive nanostructure is liable to be clouded due to irregular reflection of light due to the conductive nanostructure, and may have poor visibility.
  • the protective film of the present invention has high transparency and a high refractive index, it is possible to prevent clouding due to irregular reflection of light of the transparent conductive film using the conductive nanostructure, and improve visibility. Furthermore, since it has light resistance, high heat resistance, and high temperature and humidity resistance, it can contribute to prevention of deterioration of the transparent conductive film.
  • DPHA dipentaerythritol penta and hexaacrylate
  • ATM35E ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate
  • I2959 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (Irgacure 2959, manufactured by BASF Japan K.K.)
  • NR1 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione (Karenz MT NR1 manufactured by Showa Denko KK) )
  • F559 Surfactant (megafax F-559, manufactured by DIC Corporation)
  • T900 UV absorb
  • m-phenylenediamine [2] (6.00 g, 0.055 mol, manufactured by AminoChem) and 78.88 g of dimethylacetamide (DMAc, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.), and the atmosphere was replaced with nitrogen.
  • DMAc dimethylacetamide
  • M-phenylenediamine [2] was dissolved in DMAc.
  • the mixture was cooled to ⁇ 10 ° C. with an ethanol-dry ice bath, and 2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine [1] (9.22 g, 0.05 mol, manufactured by Eponic Degussa) was cooled to a bath temperature.
  • FIG. 1 shows the measurement result of the 1 H-NMR spectrum of TDF111.
  • the weight average molecular weight Mw of TDF111 measured by GPC in terms of polystyrene was 3,300, and the polydispersity Mw / Mn was 4.4.
  • Example 2-1 and Comparative Examples 2-1 and 2-2 Each composition obtained in Example 1-1, Comparative Example 2-1 and Comparative Example 2-2 was stirred at room temperature (about 25 ° C.) for 30 minutes, and then coated with the silver nanowire obtained in Production Example 2. The film was spin-coated at 200 rpm for 5 seconds and 1,500 rpm for 30 seconds using a spin coater, and dried at 80 ° C. for 1 minute using a hot plate. Thereafter, the coating film was irradiated with UV light having an exposure amount of 400 mJ / cm 2 in the atmosphere to be light-cured, thereby producing a protective film. Subsequently, a substrate for a light resistance test was manufactured by attaching the protective film surface and the glass via an adhesive sheet of 3M Optically Clear Adhesive 8146-2 (manufactured by 3M Company).
  • 3M Optically Clear Adhesive 8146-2 manufactured by attaching the protective film surface and the glass via an adhesive sheet of 3M Optically Clear Adhesive 814
  • the protective film produced in Example 2-1 has a low rate of increase in b * after long-time light irradiation and is excellent in light resistance.

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Abstract

例えば下記式［４］で示されるような、フッ素原子含有アリールアミノ基で封止されているトリアジン環含有ハイパーブランチポリマー、分子量１，０００以上の架橋剤Ａ、および紫外線吸収剤を含む組成物は、耐光性に優れるとともに、透明導電膜の視認性を改善し得る膜を与え、透明導電膜用保護膜形成組成物として好適である。

Description

透明導電膜用保護膜形成組成物
　本発明は、透明導電膜用保護膜形成組成物に関する。
　近年、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、タッチパネル、光半導体（ＬＥＤ）素子、固体撮像素子、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池、および有機薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等の電子デバイスを開発する際に、高機能な高分子材料が要求されるようになってきた。
　求められる具体的な特性としては、１）耐熱性、２）透明性、３）高屈折率、４）高溶解性、５）低体積収縮率、６）高温高湿耐性、７）高膜硬度などが挙げられる。
　この点に鑑み、本発明者らは、トリアジン環および芳香環を有する繰り返し単位を含む重合体が高屈折率を有し、ポリマー単独で高耐熱性、高透明性、高屈折率、高溶解性、低体積収縮を達成でき、電子デバイスを作製する際の膜形成用組成物として好適であることを既に見出している（特許文献１）。
　ところで、透明導電膜材料としては、従来、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等が主に用いられており、これらは良好な光学的透明性および導電性を示す標準材料となっている。しかし、これらの無機酸化物膜を得るためには、スパッタリング、高真空下、高温アニール等の複雑なプロセスを必要とする。そのため特殊な機器が必要であり、コストがかかるという問題がある。
　近年、電子デバイスは、プラスチック基板等の使用によるフレキシブル化、軽量化が進行しつつあり、曲げ等の物理的応力への耐久性が必要とされている。フレキシブル基板へのＩＴＯやＩＺＯの製膜技術も検討されつつあるが、無機酸化物の脆弱性かつ損傷しやすいという性質は改善されていない。
　上述したフレキシブル化の進行とともに、物理的応力への耐久性に優れた材料として、導電性ナノ構造（金属ナノ粒子や金属ナノワイヤのパーコレーション構造、金属メッシュ構造等）を有する透明導電膜が開発されている。
　これらの透明導電膜は、フレキシブル性に加え、金属ナノ粒子や金属ナノワイヤ分散液を用いてウェットプロセスで作製できるという利点を有するとともに（特許文献１～３）、含有する金属量を増加するのみでその電気抵抗を低くすることが可能であるという利点を有している。
　その反面、低抵抗化のために膜中の金属量を増加させると、光の乱反射によって膜が白濁化してその光学的透明性を失うのみならず、金属に起因する表面の劣化や構造体の破壊によって導電性が低下するという問題がある。
国際公開第２０１０／１２８６６１号 特開２００９－５０５３５８号公報 特開２０１３－７７２３４号公報 特開２０１０－１０８８７７号公報 国際公開第２０１５／０９３５１０号
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、耐光性に優れるとともに、透明導電膜の視認性を改善し得る膜を与える透明導電膜用保護膜形成組成物を提供することを目的とする。
　本発明者らは、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを含み、透明導電膜の視認性を改善し得る膜を与える組成物を既に報告しており（特許文献５）、その知見を基に、耐光性向上等の観点から鋭意検討を重ねた結果、フッ素原子含有アリールアミノ基で封止されている所定のトリアジン環含有ハイパーブランチポリマー、分子量１，０００以上の架橋剤、および紫外線吸収剤を含む組成物が、耐光性に優れるとともに、透明導電膜の視認性を改善し得る膜を与えることを見出し、本発明を完成した。
　すなわち、本発明は、
１．　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含み、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、このトリアジン環末端の少なくとも一部がフッ素原子含有アリールアミノ基で封止されているトリアジン環含有ハイパーブランチポリマー、分子量１，０００以上の架橋剤Ａ、および紫外線吸収剤を含むことを特徴とする透明導電膜用保護膜形成組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 ｛式中、ＲおよびＲ'は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアラルキル基を表し、Ａｒは、式（２）～（１３）で示される基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 ［式中、Ｒ1～Ｒ92は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン基、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｗ1およびＷ2は、それぞれ独立に単結合、－Ｃ(Ｒ95)(Ｒ96)－（Ｒ95およびＲ96は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ95およびＲ96がともにアルキル基である場合、これらは互いに結合してこれらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい。）、－Ｃ(Ｏ)－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ(Ｏ)－、－Ｓ(Ｏ)2－または－Ｎ(Ｒ97)－（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。）を表し、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に単結合、炭素数１～１０のアルキレン基または式（１４）で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 （式中、Ｒ98～Ｒ101は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン基、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立に単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。）］｝
２．　前記フッ素原子含有アリールアミノ基が、式（１５）で示される１の透明導電膜用保護膜形成組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （式中、Ｒ102は、フッ素原子または炭素数１～１０のフルオロアルキル基を表す。）
３．　前記フッ素原子含有アリールアミノ基が、式（１６）で示される２の透明導電膜用保護膜形成組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式中、Ｒ102は、前記と同じ意味を表す。）
４．　前記Ｒ102が、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基である２または３の透明導電膜用保護膜形成組成物、
５．　前記Ａｒが、式（１７）で示される１～４のいずれかの透明導電膜用保護膜形成組成物、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 ６．　前記紫外線吸収剤が、トリアジン系またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である１～５のいずれかの透明導電膜用保護膜形成組成物、
７．　前記架橋剤Ａが、多官能（メタ）アクリル化合物を含む１～６のいずれかの透明導電膜用保護膜形成組成物、
８．　分子量１，０００未満の架橋剤Ｂを含む１～７のいずれかの透明導電膜用保護膜形成組成物、
９．　前記架橋剤Ｂが、多官能（メタ）アクリル化合物を含む８の透明導電膜用保護膜形成組成物、
１０．　溶媒を含む１～９のいずれかの透明導電膜用保護膜形成組成物、
１１．　１～１０のいずれかの透明導電膜用保護膜形成組成物から得られる透明導電膜用保護膜、
１２．　導電性ナノ構造を有する透明導電膜用である１１の透明導電膜用保護膜、
１３．　前記導電性ナノ構造が、銀ナノワイヤである１２の透明導電膜用保護膜、
１４．　透明導電膜と、この透明導電膜上に形成された１１の透明導電膜用保護膜とを備える透明電極、
１５．　透明導電膜と、この透明導電膜上に形成された１１の透明導電膜用保護膜とを備える電子デバイス、
１６．　有機エレクトロルミネッセンスディスプレイである１５の電子デバイス
を提供する。
　本発明の透明導電膜用保護膜形成組成物を用いて形成される保護膜は、耐光性に優れるとともに、透明性および屈折率が高いため、ＩＴＯや銀ナノワイヤ等の透明導電膜の保護膜として使用することで、視認性を改善することができるとともに、その劣化を抑制することができる。
合成例１で得られた高分子化合物［４］の1Ｈ－ＮＭＲスペクトル図である。
［トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー］
　本発明に係る透明導電膜用保護膜形成組成物は、下記式（１）で表される繰り返し単位を含むトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　上記式中、ＲおよびＲ′は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、またはアラルキル基を表すが、屈折率をより高めるという観点から、ともに水素原子であることが好ましい。
　本発明において、アルキル基の炭素数としては特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、その構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
　アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、シクロブチル、１－メチル－シクロプロピル、２－メチル－シクロプロピル、ｎ－ペンチル、１－メチル－ｎ－ブチル、２－メチル－ｎ－ブチル、３－メチル－ｎ－ブチル、１，１－ジメチル－ｎ－プロピル、１，２－ジメチル－ｎ－プロピル、２，２－ジメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－ｎ－プロピル、シクロペンチル、１－メチル－シクロブチル、２－メチル－シクロブチル、３－メチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロプロピル、２，３－ジメチル－シクロプロピル、１－エチル－シクロプロピル、２－エチル－シクロプロピル、ｎ－ヘキシル、１－メチル－ｎ－ペンチル、２－メチル－ｎ－ペンチル、３－メチル－ｎ－ペンチル、４－メチル－ｎ－ペンチル、１，１－ジメチル－ｎ－ブチル、１，２－ジメチル－ｎ－ブチル、１，３－ジメチル－ｎ－ブチル、２，２－ジメチル－ｎ－ブチル、２，３－ジメチル－ｎ－ブチル、３，３－ジメチル－ｎ－ブチル、１－エチル－ｎ－ブチル、２－エチル－ｎ－ブチル、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロピル、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロピル、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロピル、シクロヘキシル、１－メチル－シクロペンチル、２－メチル－シクロペンチル、３－メチル－シクロペンチル、１－エチル－シクロブチル、２－エチル－シクロブチル、３－エチル－シクロブチル、１，２－ジメチル－シクロブチル、１，３－ジメチル－シクロブチル、２，２－ジメチル－シクロブチル、２，３－ジメチル－シクロブチル、２，４－ジメチル－シクロブチル、３，３－ジメチル－シクロブチル、１－ｎ－プロピル－シクロプロピル、２－ｎ－プロピル－シクロプロピル、１－イソプロピル－シクロプロピル、２－イソプロピル－シクロプロピル、１，２，２－トリメチル－シクロプロピル、１，２，３－トリメチル－シクロプロピル、２，２，３－トリメチル－シクロプロピル、１－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－１－メチル－シクロプロピル、２－エチル－２－メチル－シクロプロピル、２－エチル－３－メチル－シクロプロピル基等が挙げられる。
　上記アルコキシ基の炭素数は特に限定されるものではないが、１～２０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数１～１０がより好ましく、１～３がより一層好ましい。また、そのアルキル部分の構造は、鎖状、分岐状、環状のいずれでもよい。
　アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、イソブトキシ、ｓ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ、１－メチル－ｎ－ブトキシ、２－メチル－ｎ－ブトキシ、３－メチル－ｎ－ブトキシ、１，１－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、２，２－ジメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－ｎ－プロポキシ、ｎ－ヘキシルオキシ、１－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、２－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、３－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、４－メチル－ｎ－ペンチルオキシ、１，１－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，２－ジメチル－ｎ－ブトキシ、２，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、３，３－ジメチル－ｎ－ブトキシ、１－エチル－ｎ－ブトキシ、２－エチル－ｎ－ブトキシ、１，１，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１，２，２－トリメチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－１－メチル－ｎ－プロポキシ、１－エチル－２－メチル－ｎ－プロポキシ基等が挙げられる。
　上記アリール基の炭素数は特に限定されるものではないが、６～４０が好ましく、ポリマーの耐熱性をより高めることを考慮すると、炭素数６～１６がより好ましく、６～１３がより一層好ましい。
　アリール基の具体例としては、フェニル、ｏ－クロルフェニル、ｍ－クロルフェニル、ｐ－クロルフェニル、ｏ－フルオロフェニル、ｐ－フルオロフェニル、ｏ－メトキシフェニル、ｐ－メトキシフェニル、ｐ－ニトロフェニル、ｐ－シアノフェニル、α－ナフチル、β－ナフチル、ｏ－ビフェニリル、ｍ－ビフェニリル、ｐ－ビフェニリル、１－アントリル、２－アントリル、９－アントリル、１－フェナントリル、２－フェナントリル、３－フェナントリル、４－フェナントリル、９－フェナントリル基等が挙げられる。
　アラルキル基の炭素数は特に限定されるものではないが、炭素数７～２０が好ましく、そのアルキル部分は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　その具体例としては、ベンジル、ｐ－メチルフェニルメチル、ｍ－メチルフェニルメチル、ｏ－エチルフェニルメチル、ｍ－エチルフェニルメチル、ｐ－エチルフェニルメチル、２－プロピルフェニルメチル、４－イソプロピルフェニルメチル、４－イソブチルフェニルメチル、α－ナフチルメチル基等が挙げられる。
　上記Ａｒは、式（２）～（１３）で示される群から選ばれる少なくとも１種を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　上記Ｒ1～Ｒ92は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表し、Ｗ1およびＷ2は、それぞれ独立に、単結合、ＣＲ95Ｒ96（Ｒ95およびＲ96は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基（ただし、これらは一緒になって環を形成していてもよい。）を表す。）、Ｃ＝Ｏ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ2、またはＮＲ97（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基を表す。）を表す。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　なお、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
　また、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、単結合、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基、または式（１４）で示される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　上記Ｒ98～Ｒ101は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基を表し、Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立に、単結合または炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基を表す。これらハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基としては上記と同様のものが挙げられる。
　炭素数１～１０の分岐構造を有していてもよいアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等が挙げられる。
　これらの中でも、Ｒ1～Ｒ92およびＲ98～Ｒ101としては、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、炭素数１～５の分岐構造を有していてもよいアルキル基、または炭素数１～５の分岐構造を有していてもよいアルコキシ基が好ましく、水素原子がより好ましい。
　特に、Ａｒとしては、式（２）、（５）～（１３）で示される少なくとも１種が好ましく、式（２）、（５）、（７）、（８）、（１１）～（１３）で示される少なくとも１種がより好ましい。上記式（２）～（１３）で表されるアリール基の具体例としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　これらの中でも、より高い屈折率のポリマーが得られることから、下記式で示されるアリール基がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　特に、低極性溶剤等の有機溶媒に対するポリマーの溶解性をより高めることを考慮すると、Ａｒとしては、式（１７）で示されるｍ－フェニレン基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　また、本発明で用いるトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーは、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、このトリアジン環末端の少なくとも一部がフッ素原子含有アリールアミノ基で封止されている。
　アリール基としては、上記と同様のものが挙げられるが、特に、フェニル基が好ましい。
　フッ素原子含有基としては、フッ素原子、フルオロアルキル基等のフッ素原子含有炭化水素基などが挙げられるが、フッ素原子、炭素数１～１０のフルオロアルキル基が好ましい。
　炭素数１～１０のフルオロアルキル基としては、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基、２，２，２－トリフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチル基、ノナフルオロブチル基、４，４，４－トリフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６－ウンデカフルオロヘキシル基、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－デカフルオロヘキシル基、３，３，４，４，５，５，６，６，６－ノナフルオロヘキシル基等が挙げられる。
　特に、屈折率を維持しつつトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの低極性溶媒等に対する溶解性を高めることを考慮すると、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基が好ましく、特に、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が最適である。
　フッ素原子含有基の数は特に限定されるものではなく、アリール基上に置換可能な任意の数とすることができるが、屈折率維持と溶媒に対する溶解性とのバランスを考慮すると、１～４個が好ましく、１～２個がより好ましく、１個がより一層好ましい。
　好適なフッ素原子含有アリールアミノ基としては、式（１５）で示されるものが挙げられ、特に、アミノ基に対してパラ位にフッ素原子含有基を有する式（１６）で示されるものが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （式中、Ｒ102は、フッ素原子または炭素数１～１０のフルオロアルキル基を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、Ｒ102は、上記と同じ意味を表す。）
　具体的なフッ素原子含有アリールアミノ基としては、下記式で示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　なお、フッ素原子含有アリールアミノ基は、後述の製造法において、対応するフッ素原子含有アリールアミノ化合物を用いて導入することができる。
　フッ素原子含有アリールアミノ化合物の具体例としては、４－フルオロアニリン、４－トリフルオロメチルアニリン、４－ペンタフルオロエチルアニリン等が挙げられる。
　本発明において、特に好適なトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーとしては、式（１８）～（２１）で示されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、Ｒ，Ｒ′、Ｒ1～Ｒ4、およびＲ102は、上記と同じ意味を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （式中、Ｒ1～Ｒ4およびＲ102は、上記と同じ意味を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式中、Ｒ102は、上記と同じ意味を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 （式中、Ｒ102は、上記と同じ意味を表す。）
　トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの重量平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００～５００，０００が好ましく、５００～１００，０００がより好ましく、より耐熱性を向上させるとともに、収縮率を低くするという点から、２，０００以上が好ましく、より溶解性を高め、得られた溶液の粘度を低下させるという点から、５０，０００以下が好ましく、３０，０００以下がより好ましく、１０，０００以下がより一層好ましい。
　なお、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣという）分析による標準ポリスチレン換算で得られる平均分子量である。
　本発明のトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーは、上述した特許文献１に開示された手法に準じて製造することができる。
　例えば、下記スキーム１に示されるように、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー（２０）は、トリアジン化合物（２２）およびアリールジアミノ化合物（２３）を適当な有機溶媒中で反応させた後、末端封止剤であるフッ素原子含有アニリン化合物（２４）と反応させて得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 （式中、Ｘは、それぞれ独立にハロゲン原子を表し、Ｒ102は、上記と同じ意味を表す。）
　上記反応において、アリールジアミノ化合物（２３）の仕込み比は、目的とするポリマーが得られる限り任意であるが、トリアジン化合物（２２）１当量に対し、アリールジアミノ化合物（２３）０．０１～１０当量が好ましく、１～５当量がより好ましい。
　アリールジアミノ化合物（２３）は、ニートで加えても、有機溶媒に溶かした溶液で加えてもよいが、操作の容易さや反応のコントロールのし易さなどを考慮すると、後者の手法が好適である。
　反応温度は、用いる溶媒の融点から溶媒の沸点までの範囲で適宜設定すればよいが、特に、－３０～１５０℃程度が好ましく、－１０～１００℃がより好ましい。
　有機溶媒としては、この種の反応において通常用いられる種々の溶媒を用いることができ、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピペリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチレン尿素、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチルマロン酸アミド、Ｎ－メチルカプロラクタム、Ｎ－アセチルピロリジン、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ－エチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルプロピオン酸アミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルイソブチルアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ’－ジメチルプロピレン尿素等のアミド系溶媒、およびそれらの混合溶媒が挙げられる。
　中でもＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、およびそれらの混合系が好ましく、特に、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好適である。
　また、上記スキーム１の１段階目の反応では、重合時または重合後に通常用いられる種々の塩基を添加してもよい。
　この塩基の具体例としては、炭酸カリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムエトキシド、酢酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウム、酸化リチウム、酢酸カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化バリウム、リン酸三リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、フッ化セシウム、酸化アルミニウム、アンモニア、ｎ－プロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ－メチルピペリジン、２，２，６，６－テトラメチル－Ｎ－メチルピペリジン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、Ｎ－メチルモルホリン等が挙げられる。
　塩基の添加量は、トリアジン化合物（２２）１当量に対して１～１００当量が好ましく、１～１０当量がより好ましい。なお、これらの塩基は水溶液にして用いてもよい。
　得られる重合体には、原料成分が残存していないことが好ましいが、本発明の効果を損なわなければ一部の原料が残存していてもよい。
　反応終了後、生成物は再沈法等によって容易に精製できる。
　フッ素原子含有アニリン化合物（２４）を用いた末端封止方法としては、公知の方法を採用すればよい。
　この場合、末端封止剤の使用量は、重合反応に使われなかった余剰のトリアジン化合物由来のハロゲン原子１当量に対し、０．０５～１０当量程度が好ましく、０．１～５当量がより好ましく、０．５～２当量がより一層好ましい。
　反応溶媒や反応温度としては、上記スキーム１の１段階目の反応で述べたのと同様の条件が挙げられ、また、末端封止剤は、アリールジアミノ化合物（２３）と同時に仕込んでもよい。
　なお、フッ素原子を有しないアリールアミノ化合物を用い、２種類以上の基で末端封止を行ってもよい。この置換基を有しないアリールアミノ化合物のアリール基としては上記と同様のものが挙げられる。
［架橋剤］
　本発明の組成物は、分子量１，０００以上、好ましくは分子量１，２００以上、より好ましくは分子量１，５００以上の架橋剤Ａを含有する。これによって、保護膜の膜密度を高め、高温高湿耐性を向上させることができる。
　また、本発明の組成物は、上記架橋剤Ａとともに、分子量１，０００未満の架橋剤Ｂを含有することが好ましい。架橋剤Ｂを加えることによって、保護膜の膜密度をより高め、高温高湿耐性をさらに向上させることができる。架橋剤Ｂの分子量は、９００以下が好ましく、８００以下がより好ましい。
　架橋剤ＡおよびＢとしては、架橋形成基としてメチロール基、メトキシメチル基等の架橋形成基を有するメラミン系化合物、置換尿素系化合物、エポキシ基またはオキセタン基等の架橋形成基を含有する化合物、ブロック化イソシアナートを含有する化合物、酸無水物を有する化合物、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、アミノプラスト化合物、フェノプラスト化合物等が挙げられる。これらのうち、耐熱性や保存安定性の観点からエポキシ基、ブロックイソシアネート基、（メタ）アクリル基を含有する化合物が好ましく、特に、ブロックイソシアネート基を有する化合物や、開始剤を用いなくとも光硬化可能な組成物を与える多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物が好ましい。
　なお、これらの多官能化合物は少なくとも２個の架橋形成基を有する必要があるが、３個以上の架橋形成基を有することが好ましい。
　多官能エポキシ化合物は、エポキシ基を１分子中２個以上有するものであれば特に限定されない。その具体例としては、トリス（２，３－エポキシプロピル）イソシアヌレート、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２－エポキシ－４－（エポキシエチル）シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、２，６－ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１，１，３－トリス［ｐ－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］プロパン、１，２－シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４，４'－メチレンビス（Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、ビスフェノール－Ａ－ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等が挙げられる。
　また、市販品として、少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であるＹＨ－４３４、ＹＨ４３４Ｌ（東都化成（株）製）、シクロヘキセンオキサイド構造を有するエポキシ樹脂であるエポリードＧＴ－４０１、同ＧＴ－４０３、同ＧＴ－３０１、同ＧＴ－３０２、セロキサイド２０２１、同３０００（ダイセル化学工業（株）製）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂であるエピコート（現、ｊＥＲ）１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂であるエピコート（現、ｊＥＲ）８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂であるエピコート（現、ｊＥＲ）１５２、同１５４（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂であるＥＯＣＮ－１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、同１０２０、同１０２５、同１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート（現、ｊＥＲ）１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）、脂環式エポキシ樹脂であるデナコールＥＸ－２５２（ナガセケムテックス（株）製）、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ製）、アラルダイトＣＹ－１８２、同ＣＹ－１９２、同ＣＹ－１８４（以上、ＣＩＢＡ－ＧＥＩＧＹ Ａ.Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、ＤＩＣ（株）製）、エピコート（現、ｊＥＲ）８７１、同８７２（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ－５６６１、ＥＤ－５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）、脂肪族ポリグリシジルエーテルであるデナコールＥＸ－６１１、同ＥＸ－６１２、同ＥＸ－６１４、同ＥＸ－６２２、同ＥＸ－４１１、同ＥＸ－５１２、同ＥＸ－５２２、同ＥＸ－４２１、同ＥＸ－３１３、同ＥＸ－３１４、同ＥＸ－３２１（ナガセケムテックス（株）製）等を用いることもできる。
　多官能（メタ）アクリル化合物は、（メタ）アクリル基を１分子中２個以上有するものであれば特に限定されない。その具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、トリス（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ε－カプロラクトン変性トリス－（２－（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ポリグリセリンモノエチレンオキサイドポリ（メタ）アクリレート、ポリグリセリンポリエチレングリコールポリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　また、多官能（メタ）アクリル化合物は市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステルＡ－２００、同Ａ－４００、同Ａ－６００、同Ａ－１０００、同Ａ－９３００、同Ａ－９３００－１ＣＬ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＴＭＭ－３、同Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、同Ａ－ＴＭＰ、同Ａ－ＴＭＭＴ、同Ａ－ＤＰＨ、同ＵＡ－５３Ｈ、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同２３Ｇ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－６、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同Ａ－ＢＰＥ－３０、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００Ｎ、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００、同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ、同Ａ－ＧＬＹ－３Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、同Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同Ａ－ＴＭＰＴ－３ＥＯ、同Ａ－ＴＭＰＴ－９ＥＯ、同ＡＴＭ－４Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ、同ＡＴ－２０Ｅ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ－１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ－３３０、同ＲＰ－１０４０（以上、日本化薬（株）製）、アロニックスＭ－２１０、同Ｍ－３０３、同Ｍ－３０５、同Ｍ－３０６、同Ｍ－３０９、同Ｍ－３０６、同Ｍ－３１０、同Ｍ－３１３、同Ｍ－３１５、同Ｍ－３２１、同Ｍ－３５０、同Ｍ－３６０、同Ｍ－４００、同Ｍ－４０２、同Ｍ－４０３、同Ｍ－４０４、同Ｍ－４０５、同Ｍ－４０６、同Ｍ－４０８、同Ｍ－４５０、同Ｍ－４５２、同Ｍ－４６０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ、同ＮＰＧＤＡ、同ＰＥＴ３０（以上、日本化薬（株）製）、ＮＫエステル　Ａ－ＤＰＨ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＤＣＰ、同Ａ－ＨＤ－Ｎ、同ＴＭＰＴ、同ＤＣＰ、同ＮＰＧ、同ＨＤ－Ｎ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＮＫオリゴ　Ｕ－１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＮＫポリマー　バナレジンＧＨ－１２０３（新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ１１、同４０、同１３５、同１４０、同１４５、同１５０、同１８０、同１１４２、ＯＴＡ４８０、ＩＲＲ２１４－Ｋ、ＰＥＧ４００ＤＡ－Ｄ（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）等が挙げられる。
　また、多官能（メタ）アクリル化合物として、多官能ウレタンアクリレートであるＥＢＥＣＲＹＬ２０４、同２０５、同２１０、同２１５、同２２０、同２３０、同２４４、同２４５、同２７０、同２８４、同２８５、同２６４、同２６５、同２９４／２５ＨＤ、同１２５９、同１２９０、同４８２０、同４８５８、同５１２０、同８２１０、同８２５４、同８３０１Ｒ、同８４０５、同８４６５、同８２９６、同８３０７、同８４０２、同８３１１、同８４１１、同８７０１、同８８００、同８８０４、同８８０７、同９２６０、同９２７０、同９２７７ＥＡ、ＫＲＭ７７３５、同８２００、同８４５２、同８５２８、同８６６７、同８９０４（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＵＶ－１７００Ｂ，ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－７５１０Ｂ、ＵＶ－７５５０Ｖ、ＵＶ－７５５０Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６１０Ｂ、ＵＶ－７６２０ＥＡ、ＵＶ－７６３０Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ、ＵＶ－７６５０Ｂ、（以上、日本合成化学工業（株）製）；多官能ポリエステルアクリレートであるＥＢＥＣＲＹＬ４３６、同４３８、同４４６、同４５０、同５２４、同５２５、同８００、同８１０、同８１１、同８１２、同１８３０、同８４６、同８５１、同８５２、同８５３、同１８７０、同８８４、同８８５（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）；エポキシアクリレートであるＥＢＥＣＲＹＬ６００、同６０５、同６４５、同６４８、同８６０、同１６０６、同３５００、同３６０３、同３６０８、同３７００、同３７０１、同３７０２、同３７０３、同３７０８、同６０４０（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）等を使用することもできる。
　酸無水物化合物は、２分子のカルボン酸を脱水縮合させたカルボン酸無水物であれば特に限定されない。その具体例としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、オクチル無水コハク酸、ドデセニル無水コハク酸等の分子内に１個の酸無水物基を有するもの；１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、３，４－ジカルボキシ－１，２，３，４－テトラヒドロ－１－ナフタレンコハク酸二無水物、ビシクロ［３．３．０］オクタン－２，４，６，８－テトラカルボン酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロ－３－フラニル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等の分子内に２個の酸無水物基を有するものなどが挙げられる。
　ブロック化イソシアネートを含有する化合物は、イソシアネート基（－ＮＣＯ）が適当な保護基によりブロックされたブロック化イソシアネート基を１分子中２個以上有し、熱硬化の際の高温に曝されると、保護基（ブロック部分）が熱解離して外れ、生じたイソシアネート基が樹脂との間で架橋反応を起こすものであれば特に限定されず、例えば、下記式で示される基を１分子中２個以上（なお、これらの基は同一のものでも、また各々異なっているものでもよい。）有する化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （式中、Ｒbはブロック部の有機基を表す。）
　このような化合物は、例えば、１分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物に対して適当なブロック剤を反応させて得ることができる。
　１分子中２個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス（４－シクロヘキシルイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシアネート、これらの二量体および三量体、並びにこれらとジオール類、トリオール類、ジアミン類またはトリアミン類との反応物等が挙げられる。
　ブロック剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ－ブタノール、２－エトキシヘキサノール、２－Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエタノール、２－エトキシエタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；フェノール、ｏ－ニトロフェノール、ｐ－クロロフェノール、ｏ－、ｍ－またはｐ－クレゾール等のフェノール類；ε－カプロラクタム等のラクタム類；アセトンオキシム、メチルエチルケトンオキシム、メチルイソブチルケトンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、アセトフェノンオキシム、ベンゾフェノンオキシム等のオキシム類；ピラゾール、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチルピラゾール等のピラゾール類；ドデカンチオール、ベンゼンチオール等のチオール類等が挙げられる。
　ブロック化イソシアネートを含有する化合物は市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、Ｂ－８３０、Ｂ－８１５Ｎ、Ｂ－８４２Ｎ、Ｂ－８７０Ｎ、Ｂ－８７４Ｎ、Ｂ－８８２Ｎ、Ｂ－７００５、Ｂ－７０３０、Ｂ－７０７５、Ｂ－５０１０（以上、三井化学ポリウレタン（株）製）、デュラネート（登録商標）１７Ｂ－６０ＰＸ、同ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、同ＭＦ－Ｂ６０Ｘ、同ＭＦ－Ｋ６０Ｘ、同Ｅ４０２－Ｂ８０Ｔ（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、カレンズＭＯＩ－ＢＭ（登録商標）（以上、昭和電工（株）製）等が挙げられる。
　アミノプラスト化合物は、メトキシメチレン基を１分子中２個以上有するものであれば特に限定されない。例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン　ＣＹＭＥＬ（登録商標）３０３、テトラブトキシメチルグリコールウリル　同１１７０、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン　同１１２３（以上、日本サイテックインダストリーズ（株）製）等のサイメルシリーズ、メチル化メラミン樹脂であるニカラック（登録商標）ＭＷ－３０ＨＭ、同ＭＷ－３９０、同ＭＷ－１００ＬＭ、同ＭＸ－７５０ＬＭ、メチル化尿素樹脂である同ＭＸ－２７０、同ＭＸ－２８０、同ＭＸ－２９０（以上、（株）三和ケミカル製）等のニカラックシリーズ等のメラミン系化合物が挙げられる。
　オキセタン化合物は、オキセタニル基を１分子中２個以上有するものであれば特に限定されず、例えば、オキセタン基を含有するＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ－Ｈ、ＯＸ－ＳＣ（以上、東亜合成（株）製）等が挙げられる。
　フェノプラスト化合物は、ヒドロキシメチレン基を１分子中２個以上有し、そして熱硬化の際の高温に曝されると、本発明で用いるハイパーブランチポリマーとの間で脱水縮合反応により架橋反応が進行するものである。フェノプラスト化合物としては、例えば、２，６－ジヒドロキシメチル－４－メチルフェノール、２，４－ジヒドロキシメチル－６－メチルフェノール、ビス（２－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－３－ヒドロキシメチル－５－メチルフェニル）メタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジヒドロキシメチルフェニル）プロパン、ビス（３－ホルミル－４－ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）ホルミルメタン、α，α－ビス（４－ヒドロキシ－２，５－ジメチルフェニル）－４－ホルミルトルエン等が挙げられる。
　フェノプラスト化合物は市販品としても入手が可能であり、その具体例としては、２６ＤＭＰＣ、４６ＤＭＯＣ、ＤＭ－ＢＩＰＣ－Ｆ、ＤＭ－ＢＩＯＣ－Ｆ、ＴＭ－ＢＩＰ－Ａ、ＢＩＳＡ－Ｆ、ＢＩ２５Ｘ－ＤＦ、ＢＩ２５Ｘ－ＴＰＡ（以上、旭有機材工業（株）製）等が挙げられる。
　架橋剤Ａは、架橋形成基間の鎖長が長いことにより分子量が１，０００以上となっているものが好ましく、具体的にはポリエーテル構造、ポリエステル構造、ポリウレタン構造等を有していることにより架橋形成基間の鎖長が長くなっているものが好ましい。上述した架橋剤のうち、架橋剤Ａとしては、ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ、同ＡＴ－２０Ｅ、同２３Ｇ、同Ａ－ＢＰＥ－２０同ＢＰＥ－９００、同ＢＰＥ－１３００Ｎ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ２０４、同２０５、同２１０、同２１５、同２３０、同２４４、同２４５、同２７０、同２８４、同２８５、同２６４、同２６５、同２９４／２５ＨＤ、同１２５９、同１２９０、同４８２０、同８２５４、同８３０１Ｒ、同８４０５、同８４６５、同８２９６、同８３０７、同８４１１、同８７０１、同８８００、同８８０４、同９２６０、同９２７７ＥＡ、ＫＲＭ８２００、同８４５２、同８５２８、同８６６７、同８９０４、同４３６、同４３８、同４４６、同４５０、同５２５、同１８３０、同８４６、同１８７０、同８８４、同８８５、同８６０、同３７０８（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＵＶ－１７００Ｂ，ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ－７５１０Ｂ、ＵＶ－７５５０Ｖ、ＵＶ－７５５０Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６１０Ｂ、ＵＶ－７６２０ＥＡ、ＵＶ－７６３０Ｂ、ＵＶ－７６４０Ｂ、ＵＶ－７６５０Ｂ、（以上、日本合成化学（株）製）等が挙げられる。これらのうち、ＮＫエステルＡ－ＧＬＹ－２０Ｅ、同ＡＴＭ－３５Ｅ等が好ましい。
　また、上述した架橋剤のうち、分子量１，０００未満の架橋剤Ｂとしては、アロニックスＭ－３０３，同Ｍ－３０５、同Ｍ－３０５、同Ｍ－３０６、同Ｍ－４００、同Ｍ－４０２、同Ｍ－４０３、同Ｍ－４０４、同Ｍ－４０５、同Ｍ－４０６、同Ｍ－４５０、同Ｍ－４５２（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＡ－９３００、同Ａ－９３００－１ＣＬ、同Ａ－ＴＭＭ－３、同Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、同Ａ－ＴＭＰＴ、同Ａ－ＴＭＰ、同Ａ－ＴＭＭＴ、同Ａ－ＤＰＨ、同１Ｇ、同２Ｇ、同３Ｇ、同４Ｇ、同９Ｇ、同１４Ｇ、同ＡＢＥ－３００、同Ａ－ＢＰＥ－４、同Ａ－ＢＰＥ－６、同Ａ－ＢＰＥ－１０、同Ａ－ＢＰＥ－２０、同Ａ－ＢＰＥ－３０、同ＢＰＥ－８０Ｎ、同ＢＰＥ－１００Ｎ、同ＢＰＥ－２００、同ＢＰＥ－５００（以上、新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ　１１、同４０、同１３５、同１４０、同１４５、同１５０、同１８０、同８００、同８５３、同８６０、同１１４２、同４８５８、同５１２９、同８２１０、同６００、同６０５、同６４５、同６４８、同１６０６、同３５００、同３６０３、同３６０８、同３７００、同３７０１、同３７０２、同３７０３、同６０４０ＯＴＡ　４８０（以上、ダイセル・オルネクス（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＮ－００７５（日本化薬（株）製）等が挙げられる。これらのうち、アロニックスＭ－３０３、同Ｍ－３０５、同Ｍ－３０５、同Ｍ－３０６、同Ｍ－４００、同Ｍ－４０２、同Ｍ－４０３、同Ｍ－４０４、同Ｍ－４０５、同Ｍ－４０６、同Ｍ－４５０、同Ｍ－４５２（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステルＡ－９３００、同Ａ－９３００－１ＣＬ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＮ－００７５（日本化薬（株）製）等が好ましい。
　架橋剤ＡおよびＢとしては、架橋剤配合による屈折率低下を抑制し得るとともに、硬化反応が速やかに進行するという点から、多官能（メタ）アクリル化合物が好適である。
　架橋剤ＡおよびＢは、それぞれ単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　架橋剤Ａの使用量は、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー１００質量部に対して０．１～３０質量部が好ましいが、溶剤耐性を考慮すると、その下限は、好ましくは１質量部、より好ましくは５質量部であり、屈折率をコントロールすることを考慮すると、その上限は好ましくは２５質量部、より好ましくは２０質量部である。
　架橋剤Ｂの使用量は、透明導電膜の光学特性をより高めるとともに、屈折率の著しい低下を防止するという観点から、架橋剤Ａ１００質量部に対して１００～３０００質量部が好ましく、１０００～２０００質量部がより好ましい。
［紫外線吸収剤］
　本発明の組成物は、上述したトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーおよび架橋剤に加え、紫外線吸収剤を含む。これにより、紫外線などの影響による硬化膜中のトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの劣化を抑制し、耐光性を向上させることができる。
　紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、環状イミノエステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、マロン酸エステル化合物、サリチル酸フェニルエステル系化合物等の有機化合物や、酸化チタン微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化錫微粒子等の紫外線を吸収する無機微粒子などが挙げられる。
　これらの中でも、得られる硬化膜の耐候性を向上させるとともに、硬化膜の着色をも防止するという点から、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましく、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系化合物がより好ましい。
　紫外線吸収剤の具体例としては、２－（５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類；２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；［２－（４，６－ジフェニル－１，３，５－トリアジン－２，２－イル）－５－［（ヘキシル）オキシ］－フェノール、２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－ドデシルオキシプロピル）オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－トリデシルオキシプロピル）オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－［４－［（２－ヒドロキシ－３－（２’－エチル）ヘキシル）オキシ］－２－ヒドロキシフェニル］－４，６－ビス（２，４－ジメチルフェニル）－１，３，５－トリアジン、２－（２－ヒドロキシ－４－［１－オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）－４，６－ビス（４－フェニルフェニル）－１，３，５－トリアジン等のヒドロキシフェニルトリアジン類；（２－エトキシ－２’－エチルオキサリック酸ビスアニリド等のシュウ酸アニリド類；フェニルサリシレート、ｐ－ｔ－ブチルフェニルサリシレート、ｐ－オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸類；２，２’－ｐ－フェニレンビス（３，１－ベンゾオキサジン－４－オン）等の環状イミノエステル類；１，３－ビス［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］－２，２－ビス［［（２－シアノ－３，３－ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル］プロパン等のシアノアクリレート類；テトラエチル－２，２’－（１，４－フェニレンジメチリジン）ビスマロネート等のマロン酸エステル類などが挙げられる。
　紫外線吸収剤は市販品を用いてもよく、その具体例としては、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９－２、同９９－ＤＷ、同１０９、同３２８、同３２９、同３８４－２、同４００、同４００－ＤＷ、同４０５、同４６０、同４７７、同４７７－ＤＷ、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、アデカスタブＬＡ－２９、同ＬＡ－３１、同ＬＡ－３１ＲＧ、同ＬＡ－３１Ｇ、同ＬＡ－３２、同ＬＡ－３６ＲＧ、同ＬＡ－４６、同１４１３、同ＬＡ－Ｆ７０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ニューコートＵＶＡ－１０１、同ＵＶＡ－１０２、同ＵＶＡ－１０３、同ＵＶＡ－１０４、バナレジンＵＶＡ－５０８０、同ＵＶＡ－５０８０（ＯＨＶ２０）、同ＵＶＡ－５５Ｔ、同ＵＶＡ－５ＭＨＢ、同ＵＶＡ－７０７５、同ＵＶＡ－７０７５（ＯＨＶ２０）、同ＵＶＡ－７３Ｔ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＲＵＶＡ－９３（大塚化学（株）製）等が挙げられる。
　上記紫外線吸収剤は単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　紫外線吸収剤の使用量は、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー１００質量部に対して、０．１～１００質量部が好ましいが、得られる硬化膜の耐光性をより高めることを考慮すると、その下限は、好ましくは１質量部、より好ましくは５質量部であり、さらには、硬化膜の屈折率低下防止や着色防止という点から、その上限は好ましくは３０質量部、より好ましくは２０質量部である。
［溶媒］
　本発明の組成物には、各種の溶媒を添加し、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを溶解させて使用することが好ましい。この場合、溶媒は重合時に用いた溶媒と同じものでも別のものでもよい。この溶媒は、ポリマーとの相溶性を損なわなければ特に限定されない。
　使用可能な溶媒の具体例としては、トルエン、ｐ－キシレン、ｏ－キシレン、ｍ－キシレン、エチルベンゼン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコ－ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、トリメチレングリコール、１－メトキシ－２－ブタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、γ－ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－ブチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、アリルアルコール、ｎ－プロパノール、２－メチル－２－ブタノール、イソブタノール、ｎ－ブタノール、２－メチル－１－ブタノール、１－ペンタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－エチルヘキサノール、１－メトキシ－２－プロパノール、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリジノン等が挙げられる。これらは１種単独で用いても、２種以上混合して用いてもよい。
　この際、組成物中の固形分濃度は、保存安定性に影響を与えない範囲であれば特に限定されず、目的とする膜の厚みに応じて適宜設定すればよい。具体的には、溶解性および保存安定性の観点から、固形分濃度０．１～５０質量％が好ましく、より好ましくは０．２～４０質量％である。
［開始剤］
　本発明の組成物には、それぞれの架橋剤に応じた開始剤を配合することもできる。なお、上述のとおり、架橋剤として多官能エポキシ化合物および／または多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合、開始剤を使用せずとも光硬化が進行して硬化膜を与えるものであるが、その場合に開始剤を使用しても差し支えない。
　多官能エポキシ化合物を架橋剤として用いる場合には、光酸発生剤や光塩基発生剤を用いることができる。
　光酸発生剤は公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩等のオニウム塩誘導体を用いることができる。その具体例としては、フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、４－メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩；ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４－メチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（４－メトキシフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４，４'－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４'－ビス（ジフェニルスルフォニオ）フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロホスフェート、４，４'－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４'－ビス［ジ（β－ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド－ビス－ヘキサフルオロホスフェート、４－［４'－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－［４'－（ベンゾイル）フェニルチオ］フェニル－ジ（４－フルオロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート等のトリアリールスルホニウム塩などが挙げられる。
　これらのオニウム塩は市販品を用いてもよく、その具体例としては、サンエイドＳＩ－６０、ＳＩ－８０、ＳＩ－１００、ＳＩ－６０Ｌ、ＳＩ－８０Ｌ、ＳＩ－１００Ｌ、ＳＩ－Ｌ１４５、ＳＩ－Ｌ１５０、ＳＩ－Ｌ１６０、ＳＩ－Ｌ１１０、ＳＩ－Ｌ１４７（以上、三新化学工業（株）製）、ＵＶＩ－６９５０、ＵＶＩ－６９７０、ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０、ＵＶＩ－６９９２（以上、ユニオンカーバイド社製）、ＣＰＩ－１００Ｐ、ＣＰＩ－１００Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ、ＣＰＩ－２００Ｓ（以上、サンアプロ（株）製）、アデカオプトマーＳＰ－１５０、ＳＰ－１５１、ＳＰ－１７０、ＳＰ－１７１（以上、旭電化工業（株）製）、イルガキュア２６１（ＢＡＳＦ社製）、ＣＩ－２４８１、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２０６４（以上、日本曹達（株）製）、ＣＤ－１０１０、ＣＤ－１０１１、ＣＤ－１０１２（以上、サートマー社製）、ＤＳ－１００、ＤＳ－１０１、ＤＡＭ－１０１、ＤＡＭ－１０２、ＤＡＭ－１０５、ＤＡＭ－２０１、ＤＳＭ－３０１、ＮＡＩ－１００、ＮＡＩ－１０１、ＮＡＩ－１０５、ＮＡＩ－１０６、ＳＩ－１００、ＳＩ－１０１、ＳＩ－１０５、ＳＩ－１０６、ＰＩ－１０５、ＮＤＩ－１０５、ＢＥＮＺＯＩＮ　ＴＯＳＹＬＡＴＥ、ＭＢＺ－１０１、ＭＢＺ－３０１、ＰＹＲ－１００、ＰＹＲ－２００、ＤＮＢ－１０１、ＮＢ－１０１、ＮＢ－２０１、ＢＢＩ－１０１、ＢＢＩ－１０２、ＢＢＩ－１０３、ＢＢＩ－１０９（以上、みどり化学（株）製）、ＰＣＩ－０６１Ｔ、ＰＣＩ－０６２Ｔ、ＰＣＩ－０２０Ｔ、ＰＣＩ－０２２Ｔ（以上、日本化薬（株）製）、ＩＢＰＦ、ＩＢＣＦ（三和ケミカル（株）製）等が挙げられる。
　光塩基発生剤も公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、Ｃｏ－アミン錯体系、オキシムカルボン酸エステル系、カルバミン酸エステル系、四級アンモニウム塩系光塩基発生剤等を用いることができる。その具体例としては、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２’－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２'，４'－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン等が挙げられる。
　また、光塩基発生剤は市販品を用いてもよく、その具体例としては、ＴＰＳ－ＯＨ、ＮＢＣ－１０１、ＡＮＣ－１０１（以上、みどり化学（株）製）等が挙げられる。
　光酸発生剤または光塩基発生剤を用いる場合、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して、０．１～１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１～１０質量部の範囲である。
　なお、必要に応じてエポキシ樹脂硬化剤を、多官能エポキシ化合物１００質量部に対して１～１００質量部の量で配合してもよい。
　一方、多官能（メタ）アクリル化合物を用いる場合には、光ラジカル重合開始剤を用いることができる。光ラジカル重合開始剤は、公知のものから適宜選択して用いればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイドおよびチオキサントン類等が挙げられる。
　特に、光開裂型の光ラジカル重合開始剤が好ましい。光開裂型の光ラジカル重合開始剤については、最新ＵＶ硬化技術（第１５９頁、発行人：高薄一弘、発行所：（株）技術情報協会、１９９１年発行）に記載されている。
　市販の光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ＢＡＳＦ社製　商品名：イルガキュア１２７、１８４、３６９、３７９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４－６１、ダロキュア１１１６、１１７３、ＢＡＳＦ社製　商品名：ルシリンＴＰＯ、ＵＣＢ社製　商品名：ユベクリルＰ３６、フラテツリ・ランベルティ社製　商品名：エザキュアーＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等が挙げられる。
　光ラジカル重合開始剤を用いる場合、多官能（メタ）アクリレート化合物１００質量部に対して、０．１～１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは０．１～１０質量部の範囲である。
［架橋促進剤］
　さらに、本発明の組成物には、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーと架橋剤との反応を促進させることなどを目的として、分子内に２個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合物を添加してもよい。
　具体的には、下記式で示される多官能チオール化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　上記Ｌは、２～４価の有機基を表すが、２～４価の炭素数２～１２の脂肪族基または２～４価のヘテロ環含有基が好ましく、２～４価の炭素数２～８の脂肪族基、または下記式で示されるイソシアヌル酸骨格（１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン環）を有する３価の基がより好ましい。
　上記ｎは、Ｌの価数に対応して２～４の整数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、「・」は、酸素原子との結合部を示す。）
　具体的な化合物としては、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）等が挙げられる。
　これらの多官能チオール化合物は、市販品として入手することもでき、例えば、カレンズＭＴ－ＢＤ１、カレンズＭＴ　ＮＲ１、カレンズＭＴ　ＰＥ１、ＴＰＭＢ、ＴＥＭＢ（以上、昭和電工（株）製）等が挙げられる。
　これらの多官能チオール化合物は、１種単独で用いても、２種以上組み合わせて用いてもよい。
　多官能チオール化合物を用いる場合、その添加量としては、得られる保護膜に悪影響を及ぼさない限り特に限定されるものではないが、本発明では、固形分１００質量％中に、０．０１～１０質量％が好ましく、０．１～６質量％がより好ましい。
［その他の成分］
　本発明の膜形成用組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の成分、例えば、レベリング剤、界面活性剤等を含んでもよい。
　レベリング剤または界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤；商品名エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製（旧（株）ジェムコ製））、商品名メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－０８、Ｒ－３０、Ｒ－４０、Ｒ－４３、Ｆ－５５３、Ｆ－５５４、Ｆ－５５６、Ｆ－５５９、ＲＳ－７５、ＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、商品名アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（旭硝子（株）製）等のフッ素系界面活性剤；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０２、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７０、ＢＹＫ－３７５、ＢＹＫ－３７８（ビックケミー・ジャパン（株）製）等が挙げられる。
　これらは１種単独で、または２種以上組み合わせて使用してもよい。界面活性剤の使用量は、トリアジン環含有ハイパーブランチポリマー１００質量部に対して０．００１～５質量部が好ましく、０．０１～５質量部がより好ましく、０．１～２質量部がより一層好ましい。
　なお、上記その他の成分は、本発明の組成物を調製する際の任意の工程で添加することができる。
［透明導電膜用保護膜］
　本発明の透明導電膜用保護膜は、上述した透明導電膜用保護膜形成組成物を透明導電膜に塗布し、必要に応じて加熱して溶媒を蒸発させた後、加熱または光照射することによって形成することができる。
　この場合、保護膜の膜厚は、１０～１，０００ｎｍが好ましく、５０～２００ｎｍがより好ましい。
　保護膜の屈折率の範囲は、下限値は、好ましくは１．４５、より好ましくは１．５０、より一層好ましくは１．５５である。上限値は、特に限定されないが、１．９５～２．００程度である。
　また、本発明の保護膜を形成した透明導電膜のヘイズ値は、１．５％以下が好ましく、１．０％以下がより好ましい。
　組成物の塗布方法は任意であり、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の方法を採用できる。
　透明導電膜としては、ＩＴＯフィルム、ＩＺＯフィルム、金属ナノ粒子，金属ナノワイヤ，金属ナノメッシュ等の導電性ナノ構造を有する透明導電膜が挙げられるが、金属ナノ粒子，金属ナノワイヤ，金属ナノメッシュ等の導電性ナノ構造を有する透明導電膜が好ましい。導電性ナノ構造を構成する金属は特に限定されないが、銀、金、銅、ニッケル、白金、コバルト、鉄、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、カドミウム、オスミウム、イリジウム、これらの合金等が挙げられる。すなわち、銀ナノ粒子、銀ナノワイヤ、銀ナノメッシュ、金ナノ粒子、金ナノワイヤ、金ナノメッシュ、銅ナノ粒子、銅ナノワイヤ、銅ナノメッシュ等を有する透明導電膜が好ましく、特に銀ナノワイヤを有する透明導電膜が好ましい。
　加熱温度は、溶媒を蒸発させる目的では特に限定されず、例えば４０～４００℃で行うことができる。加熱方法は特に限定されず、例えば、ホットプレートやオーブンを用いて、大気、窒素等の不活性ガス、真空中等の適切な雰囲気下で溶媒を蒸発させればよい。焼成温度および焼成時間は、目的とする電子デバイスのプロセス工程に適合した条件を選択すればよく、得られる膜の物性値が電子デバイスの要求特性に適合するような焼成条件を選択すればよい。
　光照射する場合の条件も特に限定されず、用いるトリアジン環含有ハイパーブランチポリマーおよび架橋剤に応じて、適宜な照射エネルギーおよび時間を採用すればよい。例えば、５０～１，０００ｍＪ／ｃｍ2で行うことができる。また、光照射は大気または窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。
　本発明の保護膜は、特に、導電性ナノ構造を有する透明導電膜の保護膜として好適である。導電性ナノ構造を有する透明導電膜は、導電性ナノ構造によって光の乱反射が起こるため白濁化しやすく、視認性が劣ることがある。本発明の保護膜は透明性および屈折率が高いため、導電性ナノ構造を使用した透明導電膜の光の乱反射に起因する白濁化を防止して、視認性を改善することができる。さらに、耐光性や、高耐熱性、高温高湿耐性を有しているため、透明導電膜の劣化防止にも貢献することができる。
　以下、合成例、製造例、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。なお、実施例で用いた各測定装置は以下のとおりである。
［1Ｈ－ＮＭＲ］
　装置：Ｖａｒｉａｎ　ＮＭＲ　Ｓｙｓｔｅｍ　４００ＮＢ（４００ＭＨｚ）
　　　　ＪＥＯＬ－ＥＣＡ７００（７００ＭＨｚ）
　測定溶媒：ＤＭＳＯ－ｄ６
　基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）（δ０．０ｐｐｍ）
［ＧＰＣ］
　装置：東ソー（株）製　ＨＬＣ－８２００　ＧＰＣ
　カラム：Ｓｈｏｄｅｘ　ＫＦ－８０４Ｌ＋ＫＦ－８０５Ｌ
　カラム温度：４０℃
　溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
　検出器：ＵＶ（２５４ｎｍ）
　検量線：標準ポリスチレン
［エリプソメーター］
　装置：ジェー・エー・ウーラム・ジャパン（株）製　多入射角分光エリプソメーターＶＡＳＥ
［キセノン耐光性試験機］
　装置：Ｑ－Ｌａｂ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製　Ｑ－ＳＵＮ　Ｘｅ－１－Ｂ
［分光測色計］
　装置：コニカミノルタジャパン（株）製　ＣＭ－３７００Ａ
　下記例で使用した化合物は、以下のとおりである。
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタおよびヘキサアクリレート（日本化薬（株）製　ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＮ－００７５）
ＡＴＭ３５Ｅ：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製　ＮＫエステル　ＡＴＭ－３５Ｅ）
Ｉ２９５９：１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン（ＢＡＳＦジャパン（株）製　Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９）
ＮＲ１：１，３，５－トリス（３－メルカプトブチルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン（昭和電工（株）製　カレンズＭＴ　ＮＲ１）
Ｆ５５９：界面活性剤（ＤＩＣ（株）製　メガファック　Ｆ－５５９）
Ｔ９００：紫外線吸収剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製Ｔｉｎｕｖｉｎ　９００）
［１］トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーの合成
［合成例１］高分子化合物［４］の合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　２００ｍＬ四口フラスコに、ｍ－フェニレンジアミン［２］（６．００ｇ，０．０５５ｍｏｌ、ＡｍｉｎｏＣｈｅｍ社製）、およびジメチルアセトアミド７８．８８ｇ（ＤＭＡｃ，純正化学（株）製）を加え、窒素置換した後、ｍ－フェニレンジアミン［２］をＤＭＡｃに溶解させた。その後、エタノール－ドライアイス浴により－１０℃まで冷却し、２，４，６－トリクロロ－１，３，５－トリアジン［１］（９．２２ｇ，０．０５ｍｏｌ、エポニックデグザ社製）をバス温が０℃以上にならないよう確認しながら投入した。１時間撹拌後、反応溶液を、予めＤＭＡｃ６４．１６ｇを加え、窒素置換後、オイルバスで８５℃に設定した５００ｍＬ四口フラスコに滴下した。１時間撹拌後、４－トリフルオロメチルアニリン［３］（２３．９０ｇ，０．１５ｍｏｌ、Ｔｉａｎｊｉｎ　Ｊｉａｈａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製）を滴下し、３時間撹拌した。その後、室温まで降温し、ｎ－プロピルアミン（１３．０ｇ、東京化成工業（株）製）を滴下し、１時間撹拌後、撹拌を停止した。反応溶液をイオン交換水（９１０ｇ）に滴下して再沈殿させた。沈殿物をろ過し、ＴＨＦ（７３．７５ｇ）に再溶解させ、その溶液を、メタノール（３００ｇ）およびイオン交換水（２００ｇ）の混合溶液中に滴下し、再度、再沈殿させた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥機で１２０℃、６時間乾燥し、目的とする高分子化合物［４］（以下、ＴＤＦ１１１という）１６．７ｇを得た。ＴＤＦ１１１の1Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図１に示す。
　ＴＤＦ１１１のＧＰＣによるポリスチレン換算で測定される重量平均分子量Ｍｗは３，３００、多分散度Ｍｗ／Ｍｎは４．４であった。
［２］銀ナノワイヤ液の調製
［製造例１］
　ＣｌｅａｒＯｈｍ　ＩＮＫ－Ｎ　Ｇ４－０１（Ｃａｍｂｒｉｏｓ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）、ＣｌｅａｒＯｈｍ　Ｄｉｌｕｅｎｔ－Ｎ　０２（Ｃａｍｂｒｉｏｓ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）、ＣｌｅａｒＯｈｍ　ＳＦＴ－Ｅ　０２（Ｃａｍｂｒｉｏｓ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）を質量比３７．６／３７．６／２４．８で配合し、１晩撹拌して銀ナノワイヤ液を調製した。
［３］銀ナノワイヤ塗布フィルムの作製
［製造例２］
　製造例１で得られた銀ナノワイヤ液を、１００×１００ｍｍのＰＥＴ基板（ルミラー　Ｔ６０（ＴＯＲＡＹ（株）製））上にスピンコーターを用いて２００ｒｐｍで５秒、８００ｒｐｍで６０秒スピンコートし、ホットプレートを用いて１２０℃で５分間乾燥し、銀ナノワイヤ塗布フィルムを作製した。
［４］透明導電膜用保護膜形成組成物の調製
［実施例１－１および比較例１－１，１－２］
　下記表１に示した配合で各成分を酢酸ノルマルプロピル（ＮＰＡＣ）／プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）混合溶媒（質量比７０／３０）に溶解し、固形分（組成物中の溶媒成分以外の全成分）濃度５質量％の組成物を調製した。なお、表１中の各配合量は質量部を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
［５］透明導電膜用保護膜の作製
［実施例２－１および比較例２－１，２－２］
　上記実施例１－１、比較例２－１および比較例２－２で得られた各組成物を、室温（およそ２５℃）で３０分間撹拌した後、製造例２で得られた銀ナノワイヤ塗布フィルム上にスピンコーターを用いて２００ｒｐｍで５秒、１，５００ｒｐｍで３０秒スピンコートし、ホットプレートを用いて８０℃で１分間乾燥した。その後、この塗膜を大気下、露光量４００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ光を照射して光硬化させ、保護膜を作製した。
　続いて３Ｍ　Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ　８１４６－２（３Ｍ　Ｃｏｍｐａｎｙ製）の接着シートを介して保護膜面とガラスとを貼り付けることで、耐光性試験用の基板を作製した。
［耐光性試験の評価］
　上記で得られた各保護膜について、キセノン耐光性試験を行った。ガラス面から光を入光させ、照度０．５５Ｗ／ｍ2、温度６０℃の条件で光照射し、分光測色計の透過測定にて照射時間におけるｂ*を評価した。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
　表２に示されるように、実施例２－１で作製した保護膜は、長時間光照射後のｂ*の上昇率が低く、耐光性に優れていることがわかる。

Claims (16)

  1. 　下記式（１）で表される繰り返し単位構造を含み、少なくとも１つのトリアジン環末端を有し、このトリアジン環末端の少なくとも一部がフッ素原子含有アリールアミノ基で封止されているトリアジン環含有ハイパーブランチポリマー、分子量１，０００以上の架橋剤Ａ、および紫外線吸収剤を含むことを特徴とする透明導電膜用保護膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ｛式中、ＲおよびＲ'は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはアラルキル基を表し、
    　Ａｒは、式（２）～（１３）で示される基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基を表す。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［式中、Ｒ1～Ｒ92は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン基、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
    　Ｒ93およびＲ94は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、
    　Ｗ1およびＷ2は、それぞれ独立に単結合、－Ｃ(Ｒ95)(Ｒ96)－（Ｒ95およびＲ96は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表し、Ｒ95およびＲ96がともにアルキル基である場合、これらは互いに結合してこれらが結合する炭素原子とともに環を形成してもよい。）、－Ｃ(Ｏ)－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ(Ｏ)－、－Ｓ(Ｏ)2－または－Ｎ(Ｒ97)－（Ｒ97は、水素原子または炭素数１～１０のアルキル基を表す。）を表し、
    　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に単結合、炭素数１～１０のアルキレン基または式（１４）で表される基を表す。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ98～Ｒ101は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、スルホン基、炭素数１～１０のアルキル基または炭素数１～１０のアルコキシ基を表し、
    　Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立に単結合または炭素数１～１０のアルキレン基を表す。）］｝
  2. 　前記フッ素原子含有アリールアミノ基が、式（１５）で示される請求項１記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ102は、フッ素原子または炭素数１～１０のフルオロアルキル基を表す。）
  3. 　前記フッ素原子含有アリールアミノ基が、式（１６）で示される請求項２記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ｒ102は、前記と同じ意味を表す。）
  4. 　前記Ｒ102が、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基である請求項２または３記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
  5. 　前記Ａｒが、式（１７）で示される請求項１～４のいずれか１項記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
  6. 　前記紫外線吸収剤が、トリアジン系またはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤である請求項１～５のいずれか１項記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
  7. 　前記架橋剤Ａが、多官能（メタ）アクリル化合物を含む請求項１～６のいずれか１項記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
  8. 　分子量１，０００未満の架橋剤Ｂを含む請求項１～７のいずれか１項記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
  9. 　前記架橋剤Ｂが、多官能（メタ）アクリル化合物を含む請求項８記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
  10. 　溶媒を含む請求項１～９のいずれか１項記載の透明導電膜用保護膜形成組成物。
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項記載の透明導電膜用保護膜形成組成物から得られる透明導電膜用保護膜。
  12. 　導電性ナノ構造を有する透明導電膜用である請求項１１記載の透明導電膜用保護膜。
  13. 　前記導電性ナノ構造が、銀ナノワイヤである請求項１２記載の透明導電膜用保護膜。
  14. 　透明導電膜と、この透明導電膜上に形成された請求項１１記載の透明導電膜用保護膜とを備える透明電極。
  15. 　透明導電膜と、この透明導電膜上に形成された請求項１１記載の透明導電膜用保護膜とを備える電子デバイス。
  16. 　有機エレクトロルミネッセンスディスプレイである請求項１５記載の電子デバイス。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022228449A1 (zh) * 2021-04-29 2022-11-03 上海瑞暨新材料科技有限公司 一种聚酰亚胺树脂的制备方法及其薄膜

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006352073A (ja) * 2005-05-20 2006-12-28 Fujifilm Holdings Corp 導電性パターン材料、透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、透明導電性シート、エレクトロルミネッセンス素子、及び平面光源システム
JP2008155387A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 積層体
WO2016194926A1 (ja) * 2015-06-03 2016-12-08 日産化学工業株式会社 トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物
WO2017094643A1 (ja) * 2015-11-30 2017-06-08 日産化学工業株式会社 トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物
JP2017187775A (ja) * 2016-04-05 2017-10-12 凸版印刷株式会社 調光シート

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017141444A (ja) 2016-02-09 2017-08-17 大日本印刷株式会社 電離放射線硬化性樹脂組成物、これを用いた光学積層体、前面板、及び画像表示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006352073A (ja) * 2005-05-20 2006-12-28 Fujifilm Holdings Corp 導電性パターン材料、透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜、光学フィルター、透明導電性シート、エレクトロルミネッセンス素子、及び平面光源システム
JP2008155387A (ja) * 2006-12-21 2008-07-10 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 積層体
WO2016194926A1 (ja) * 2015-06-03 2016-12-08 日産化学工業株式会社 トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物
WO2017094643A1 (ja) * 2015-11-30 2017-06-08 日産化学工業株式会社 トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物
JP2017187775A (ja) * 2016-04-05 2017-10-12 凸版印刷株式会社 調光シート

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022228449A1 (zh) * 2021-04-29 2022-11-03 上海瑞暨新材料科技有限公司 一种聚酰亚胺树脂的制备方法及其薄膜

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