WO2019244530A1

WO2019244530A1 - 液晶表示装置

Info

Publication number: WO2019244530A1
Application number: PCT/JP2019/019646
Authority: WO
Inventors: 幸一井桁; 絢香樋口; 英博園田
Original assignee: Japan Display Inc
Current assignee: Japan Display Inc
Priority date: 2018-06-22
Filing date: 2019-05-17
Publication date: 2019-12-26
Anticipated expiration: 2020-12-22

Abstract

液晶表示装置に関して、配向膜の端部形状のムラを改善でき、装置小型化等に寄与できる技術を提供する。液晶表示装置は、トランジスタおよび第１配向膜を有する第１基板と、第１基板と対向し、第２配向膜を有する第２基板と、第１配向膜と第２配向膜との間に形成された液晶層と、平面視で複数の画素を含む表示領域と、平面視で表示領域の外側に有する額縁領域と、少なくとも第１基板において、平面視で第１配向膜の少なくとも第１方向（Ｙ方向）の端部の外側に有し、第１配向膜の広がりを規制する規制部ＤＭ１とを備える。規制部ＤＭ１における第１配向膜に接する内端部Ｅ１は、平面視で第２方向（Ｘ方向）に沿って凹凸形状を有する。

Description

液晶表示装置

　本発明は、液晶表示装置の技術に関する。また、本発明は、液晶層の配向膜の技術に関する。

　液晶表示装置では、基板間に液晶層を有し、液晶層では、配向膜間に液晶分子を有する。液晶表示装置の製造方法および製造プロセスでは、基板上に配向膜を形成する工程を有する。この工程では、基板面上に配向膜ワニスが塗布される。塗布された配向膜ワニスの領域における端部の形状については、一般的に制御が難しい。

　先行技術例として、特開２０１６－１１９９４号公報（特許文献１）、特開２０１５－１４８７４９号公報（特許文献２）が挙げられる。特許文献１では、液晶表示装置は、液晶層の周囲を囲むシール部においてジグザグに延びる部材を有する旨が記載されている。特許文献２では、液晶表示装置は、シール材の内側において、第１配向膜を取り囲んで配置された枠を構成する材料が、第１配向膜を形成する塗布液に対して低溶解性で且つ高撥水性の有機材料である旨が記載されている。

特開２０１６－１１９９４号公報特開２０１５－１４８７４９号公報

　液晶表示装置における配向膜の領域の端部の形状に関して、１つの対策の技術としては、端部形状を制御しやすいように、基板上で配向膜の領域の端部の外側に、枠や壁等の形状の規制部（配向膜規制部）を設ける技術が挙げられる。この規制部によって、配向膜ワニスが外側へ無用に広がることが規制される。これにより、表示領域としては無効な領域（非表示領域と記載する）の増大も防止される。

　しかしながら、配向膜の外側に規制部を設ける構成でも、規制部の内端側に接する配向膜ワニス端部では、配向膜ワニスの跳ね返りによるムラが生じる場合がある。配向膜ワニスは例えば溶媒材料に溶質である配向材が混合した溶液である。このムラがある部分（ムラ領域）は、非表示領域となる。そのため、このムラ領域が多くなるほど、実装上非効率となる。すなわち、液晶表示装置における小型化や高密度実装への要求に関しては、不利となる。例えば、表示領域の外側の額縁領域をなるべく狭くして表示画面をなるべく大きくする構成（いわゆる狭額縁構成）に関しては、不利となる。従来技術例の液晶表示装置では、上記のような配向膜の端部形状のムラ、および狭額縁構成に関して、改善余地がある。

　本発明の目的は、液晶表示装置に関して、配向膜の端部形状のムラを改善でき、装置小型化や高密度実装に寄与できる技術を提供することである。

　本発明のうち代表的な実施の形態は、液晶表示装置であって、以下に示す構成を有することを特徴とする。一実施の形態の液晶表示装置は、トランジスタおよび第１配向膜を有する第１基板と、前記第１基板と対向し、第２配向膜を有する第２基板と、前記第１配向膜と前記第２配向膜との間に形成された液晶層と、前記第１基板、前記第２基板、および前記液晶層によって構成され、平面視で複数の画素を含む表示領域と、平面視で前記表示領域の外側に有する額縁領域と、少なくとも前記第１基板において、平面視で前記第１配向膜の少なくとも第１方向の端部の外側に形成され前記第１配向膜の広がりを規制する規制部と、を備え、前記規制部の前記第１配向膜に接する内端部は、平面視で前記第１方向に交差する第２方向に沿って凹凸形状を有する。

　本発明のうち代表的な実施の形態によれば、液晶表示装置に関して、配向膜の端部形状のムラを改善でき、装置小型化や高密度実装に寄与できる。

本発明の実施の形態１の液晶表示装置で、前面の構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、第１方向と厚さ方向との断面（Ｙ－Ｚ面）での主要部の構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、筐体の前面における、額縁領域や規制部等の領域の概略構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、規制部の平面視（Ｘ－Ｙ面）での概略構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、規制部の第１方向と厚さ方向との断面（Ｙ－Ｚ面）での構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の第１方向と厚さ方向との断面（Ｙ－Ｚ面）での構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、規制部の詳細構造例に関する平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、規制部の詳細構造例に関する平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、インクジェット方式を利用した規制部の形成方法に関する概略構成を示す図である。実施の形態１の液晶表示装置で、実装例の主要部の断面（Ｙ－Ｚ面）の構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、封止部に関する断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、封止部に関する断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、封止部に関する断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す図である。実施の形態１に対する第１比較例の液晶表示装置における、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１に対する第２比較例の液晶表示装置における、規制部の平面視の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置における、前面の概略構成を示す図である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置で、規制部の第１方向と厚さ方向との断面（Ｙ－Ｚ面）での構成を示す図である。本発明の実施の形態２の液晶表示装置で、実装例の主要部の断面（Ｙ－Ｚ面）の構成を示す図である。実施の形態２の液晶表示装置で、規制部の平面視の概略構成を示す図である。本発明の実施の形態３の液晶表示装置における、第１方向と厚さ方向との断面（Ｙ－Ｚ面）での主要部の構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、図２６の第１基板側の規制部に関する平面視での構成例を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第１構成例の規制部等の平面視の詳細構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第２構成例の規制部等の平面視の詳細構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第１変形例の規制部等の平面視の詳細構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第２変形例の規制部等の平面視の詳細構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第３変形例および第４変形例における規制部等の平面視の構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第５変形例の規制部等の平面視の構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第６変形例の規制部等の平面視の構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第７変形例の規制部等の平面視の構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第８変形例の規制部等の平面視の構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第９変形例の規制部等の平面視の構成を示す図である。実施の形態３の液晶表示装置で、第１０変形例の規制部等の平面視の構成を示す図である。実施の形態３に対する比較例の液晶表示装置で、規制部および封止部の平面視での概略構成を示す図である。

　以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において同一部には原則として同一符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。図面では、わかりやすく示すために、断面ハッチングを省略する場合があり、また、各部の長さや形状等を模式的に表す場合がある。説明上の方向として、Ｘ方向（第２方向）、Ｙ方向（第１方向）、Ｚ方向（厚さ方向）を用いる。Ｘ方向およびＹ方向は、液晶表示装置の主面を構成する、直交する２つの方向であり、Ｘ方向は短辺や画面内水平方向等に対応する方向であり、Ｙ方向は長辺や画面内垂直方向等に対応する方向である。Ｚ方向は、Ｘ方向およびＹ方向による面に対して垂直な方向であり、厚さ方向に対応する。また、説明上、平面視とは、主に、Ｚ方向でＸ－Ｙ平面をみる場合を指す。

　（実施の形態１）
　図１～図２３を用いて、本発明の実施の形態１の液晶表示装置について説明する。実施の形態１の液晶表示装置は、配向膜の外側に配向膜規制部を有し、この配向膜規制部における配向膜に接する内端部は、平面視で凹凸形状を有する（図４等）。

　［（１）液晶表示装置－前面］
　図１は、実施の形態１の液晶表示装置１の構成として、表示面がある側である前面をＺ方向から平面視したＸ－Ｙ平面での構成を示す。この液晶表示装置１は、例えばスマートフォン等の携帯情報端末装置に適用される液晶表示パネルモジュールに相当する。なお、特に、Ｘ方向として、図示の左側を方向Ｘ１、右側を方向Ｘ２として示し、Ｙ方向として、図示の上側を方向Ｙ１、下側を方向Ｙ２として示す。

　図１で、液晶表示装置１のうち、前面側から見て、カバー部材ＣＶＭを有する。カバー部材ＣＶＭは、液晶表示装置本体を保護する部材である。なお、変形例として、カバー部材ＣＶＭが無い形態も可能である。図１の液晶表示装置本体のカバー部材ＣＶＭの前面は、概略的に長方形であり、長方形の表示領域ＤＡと、その表示領域ＤＡの外側（外周）にある額縁領域ＦＡとを有する。図１では、平面視で表示領域ＤＡと額縁領域ＦＡとの境界を破線で示している。表示領域ＤＡは、画像が表示される表示面に対応し、行列状に複数の画素が構成されている。

　［（２）液晶表示装置－断面］
　図２は、実施の形態１の液晶表示装置１で、図１のＡ－Ａ線に対応する、Ｙ方向とＺ方向との断面（Ｙ－Ｚ面）で、主要部の構成を模式的に示す。なお、Ｚ方向として、図示の上側を方向Ｚ１、下側を方向Ｚ２として示す。液晶表示装置１は、Ｚ方向で下側（方向Ｚ２）から上側（方向Ｚ１）へ順に、バックライトモジュールＢＬＭ、光学素子層ＯＤ１、第１基板ＳＢ１、配向膜ＡＬとして第１配向膜ＡＬ１、液晶層ＬＱ、配向膜ＡＬとして第２配向膜ＡＬ２、第２基板ＳＢ２、光学素子層ＯＤ２、カバー部材ＣＶＭを有している。なお、液晶層ＬＱの厚さは、実際には第１基板ＳＢ１や第２基板ＳＢ２よりも薄い。液晶表示装置本体の外側にさらに剛性の筐体等が設けられてもよい。

　第１基板ＳＢ１は、トランジスタＴＲや各種の電極（導体パターン）等が配列されているアレイ基板である。第２基板ＳＢ２は、第１基板ＳＢ１に対向し、カラーフィルタ等が配列されている対向基板である。Ｚ方向で、第１基板ＳＢ１の第１面ｓｆ１と第２基板ＳＢ２の第２面ｓｆ２とが対向して、それらの間に液晶層ＬＱ等を介するように、配置されている。封止部ＳＬは、第１基板ＳＢ１の第１面ｓｆ１と第２基板ＳＢ２の第２面ｓｆ２との間を接着し、内側に液晶層ＬＱを封止している。液晶層ＬＱは、画素に対応付けられた液晶セルが構成されている。第１基板ＳＢ１、第２基板ＳＢ２、および液晶層ＬＱ、後述する画素電極等によって、表示領域ＤＡが構成されている。表示領域ＤＡは、平面視で液晶層ＬＱに重畳している。表示領域ＤＡ内には、画素毎に画素領域ＰＡを有する。図２では、Ｙ方向（方向Ｙ２）で最も外側の端にある画素領域ＰＡとその画素領域ＰＡ内のトランジスタＴＲの例を示している。表示領域ＤＡは、各画素の光学的な特性の均一性が確保される領域である。

　第１基板ＳＢ１の第１面ｓｆ１は、例えばトランジスタＴＲ等の上側にある絶縁膜ＩＮＳ１の面である。絶縁膜ＩＮＳ１の第１面ｓｆ１上（方向Ｚ１）には、配向膜（第１配向膜）ＡＬ１、規制部ＤＭ１、封止部ＳＬ等が形成されている。第２基板ＳＢ２の第２面ｓｆ２は、例えば絶縁膜ＩＮＳ２の面である。第２面ｓｆ２上（方向Ｚ２）には、配向膜（第２配向膜）ＡＬ２、規制部ＤＭ２、封止部ＳＬ等が形成されている。なお、本明細書における「・・・上に形成されている」とは、何かの部材を介して形成されている形態も含む。

　液晶層ＬＱおよび表示領域ＤＡの外側にある額縁領域ＦＡ内には、封止部ＳＬを有する。封止部ＳＬは、接着材等で構成され、第１基板ＳＢ１の絶縁膜ＩＮＳ１と第２基板ＳＢ２の絶縁膜ＩＮＳ２とを接着し、内側に液晶層ＬＱの液晶分子を封止している。

　また、額縁領域ＦＡには、規制部ＤＭを有する。図２の構成例では、特に、Ｙ方向で封止部ＳＬよりも内側の位置に、規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）を有する。第１基板ＳＢ１側では、第１配向膜ＡＬ１の端部に隣接して規制部ＤＭ１を有する。第２基板ＳＢ２側では、第２配向膜ＡＬ２の端部に隣接して規制部ＤＭ２を有する。規制部ＤＭ１は、第１配向膜ＡＬ１の広がりを規制する。規制部ＤＭ２は、第２配向膜ＡＬ２の広がりを規制する。

　Ｙ方向で、第１基板ＳＢ１は、第２基板ＳＢ２よりも長く、延長領域ＥＡを有する。図２では、延長領域ＥＡは、第２基板ＳＢ２の端部から第１基板ＳＢ１の端部までの領域として示す。また、表示領域ＤＡの外側で、第２基板ＳＢ２の端部から内側には、非表示領域ＮＡを有する。非表示領域ＮＡには、配向膜ＡＬ１，ＡＬ２の端部領域や、規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）、封止部ＳＬ等が含まれている。表示領域ＤＡの各画素（画素領域ＰＡ）の表示の均一性を確保するために、これらの要素は非表示領域ＮＡに含まれる。

　第１基板ＳＢ１の延長領域ＥＡでは、封止部ＳＬ等の外側の位置に、露出する状態で、回路部ＣＣが設けられている。回路部ＣＣは、第１基板ＳＢ１内の電極や配線と接続されている端子部や、その端子部にさらに接続される配線や、その配線に接続される集積回路（例えばＩＣチップ）等を含む。回路部ＣＣには、フレキシブルプリント回路基板等が接続されてもよい。回路部ＣＣは、液晶表示装置１の駆動回路等を構成する。延長領域ＥＡでは、このように回路部ＣＣが実装されている場合がある。

　第１基板ＳＢ１は、Ｚ方向の下側（方向Ｚ２）の面に光学素子層ＯＤ１が配置され、光学素子層ＯＤ１の下側の面にバックライトモジュールＢＬＭが配置されている。バックライトモジュールＢＬＭは、発光し、Ｚ方向の上側の方向Ｚ１へ光（一点鎖線矢印で模式的に示す）を供給する。バックライトモジュールＢＬＭからの光は、Ｚ方向で、第１基板ＳＢ１、液晶層ＬＱ、第２基板ＳＢ２等を透過し、液晶セルで光学的に変調され、画素の可視光として、ユーザの目に入射される。第２基板ＳＢ２は、Ｚ方向の上側（方向Ｚ１）の面に光学素子層ＯＤ２が配置され、光学素子層ＯＤ２の上側の面にカバー部材ＣＶＭが配置されている。光学素子層ＯＤ１および光学素子層ＯＤ２は、それぞれ、偏光板を含み、必要に応じて位相差板等を含んでもよい。

　図２の構成例では、第１基板ＳＢ１および第２基板ＳＢ２の両方で、Ｙ方向では同じ位置に、規制部ＤＭ１，ＤＭ２が設けられている。規制部ＤＭ１は、配向膜ＡＬ１の端部の広がりを規制するために、第１面ｓｆ１上、Ｚ方向で上側（方向Ｚ１）に盛り上がった枠や壁のような形状を有する。規制部ＤＭ１は、その形状において配向膜ＡＬ１の端部と接する側面を有する。規制部ＤＭ１の高さは、配向膜ＡＬ１の端部の高さよりも高いと好ましい。同様に、規制部ＤＭ２は、配向膜ＡＬ２の端部の広がりを規制するために、第２面ｓｆ２上、Ｚ方向で下側（方向Ｚ２）に盛り上がった形状を有する。但し、規制部ＤＭ１，ＤＭ２の形状は、盛り上がった形状に限定されない。

　［（３）画素および回路構成］
　液晶表示装置１の公知の画素や回路の構成例については以下である。表示領域ＤＡのＸ－Ｙ面において、複数の画素が行列状に配列されている。画素は、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色の副画素から成る。副画素には、スイッチング素子としてのトランジスタＴＲ（図２）、液晶層ＬＱの液晶セル、画素電極、共通電極、およびカラーフィルタ等が対応付けられて設けられている。１つの画素は、走査線と映像信号線とが交差する部分に構成されている。副画素の開口部には色毎のカラーフィルタが、非開口部にはトランジスタＴＲや遮光膜等が配置されている。トランジスタＴＲは、例えば薄膜トランジスタで構成され、ゲート端子に走査線が接続され、ソース端子に映像信号線が接続され、ドレイン端子に画素電極が接続されている。

　走査線は、走査線駆動回路に接続されており、複数本の走査線がＸ方向に並列に延在している。走査線駆動回路は、画素を選択するための走査信号を走査線に供給する。映像信号線は、映像信号線駆動回路に接続されており、複数本の映像信号線がＹ方向に並列に延在している。映像信号線駆動回路は、副画素の階調を制御するための映像信号を映像信号線に供給する。画素電極と共通電極との間には、液晶セルおよび保持容量を有し、液晶セルを介して電気的に接続されている。共通電極は、共通電極駆動回路に接続されている。共通電極駆動回路は、共通電圧を共通電極に供給する。各駆動回路は、制御回路と接続されている。制御回路は、画像信号に基づいて、各回路の駆動制御等を行う。駆動回路や制御回路は、例えば図２の回路部ＣＣによって実装されている。

　トランジスタＴＲのオン状態では、画素電極に、映像信号に応じた電圧が印加され、画素電極と共通電極との間の電位差に応じて、液晶セルの電界が形成される。これにより、液晶セルでは、バックライトモジュールＢＬＭからの光に基づいて、可視光の変調が制御される。

　［（４－１）前面構成］
　図３は、実施の形態１の液晶表示装置１の前面（Ｘ－Ｙ面）における、額縁領域ＦＡや規制部ＤＭ１等の領域の概略構成を示す。対応して下側には、断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す。また、図３では、後述のインクジェット方式を利用した規制部ＤＭ１の形成方法に関する概略構成も示す。表示領域ＤＡの外周にある額縁領域ＦＡにおいて、Ｙ方向の下側（方向Ｙ２）には第１外周領域Ｌ１（下辺部と対応する）を有し、上側（方向Ｙ１）には第２外周領域Ｌ２（上辺部と対応する）を有し、Ｘ方向の左側（方向Ｘ１）には第３外周領域Ｌ３（左辺部と対応する）を有し、右側（方向Ｘ２）には第４外周領域Ｌ４（右辺部と対応する）を有する。

　背面側の第１基板ＳＢ１と前面側の第２基板ＳＢ２との重なりにおいて、第１基板ＳＢ１の延長領域ＥＡとしては、Ｙ方向の下辺部側に第１延長領域ＥＡ１を有する。回路領域ＣＡとしては、第１外周領域Ｌ１（第１延長領域ＥＡ１）に、第１回路領域ＣＡ１を有する。第１外周領域Ｌ１には、非表示領域ＮＡ１を有する。第１回路領域ＣＡ１には、第１駆動回路部ＣＤ１を含む。第１駆動回路部ＣＤ１は、液晶表示装置１の駆動回路等が実装される部分であり、図２の回路部ＣＣと対応しており、前述の端子部等を含む。他の外周領域には、第１駆動回路部ＣＤ１のような露出する回路部（端子部等）を有さない。

　表示領域ＤＡの外周にある額縁状の実装領域３０１は、規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）および封止部ＳＬが実装される領域を示す。この実装領域３０１の範囲内に、規制部ＤＭおよび封止部ＳＬが含まれている。実装領域３０１は非表示領域ＮＡとなる。なお、主に規制部ＤＭ１について説明するが、規制部ＤＭ１と規制部ＤＭ２とで同様の構成である。

　規制部ＤＭ１は、下辺規制部ＤＭ１１、上辺規制部ＤＭ１２、左辺規制部ＤＭ１３、右辺規制部ＤＭ１４を有する。実装領域３０１において、Ｙ方向の下側（方向Ｙ２）の下辺部には、下辺規制部ＤＭ１１を含み、上側（方向Ｙ１）の上辺部には、上辺規制部ＤＭ１２を含む。実装領域３０１において、Ｘ方向の左側（方向Ｘ１）の左辺部には、左辺規制部ＤＭ１３を含み、右側（方向Ｘ２）の右辺部には、右辺規制部ＤＭ１４を含む。

　下辺規制部ＤＭ１１および上辺規制部ＤＭ１２は、第１規制部ＤＭＡで構成され、左辺規制部ＤＭ１３および右辺規制部ＤＭ１４は、第２規制部ＤＭＢで構成されている。第１規制部ＤＭＡを、円の連なりの領域のイメージで示す。第２規制部ＤＭＢを、直線状の領域のイメージで示す。第１規制部ＤＭＡは、後述の凹凸形状（図４）を有する。第２規制部ＤＭＢは、後述の直線形状（図２０）を有する。第１規制部ＤＭＡの全体の幅Ｈ１、特にＹ方向の幅を、幅Ｈ１１で示す。第２規制部ＤＭＢの全体の幅Ｈ１、特にＸ方向の幅を、幅Ｈ１２で示す。実施の形態１では幅Ｈ１１と幅Ｈ１２とを同じとするが、変形例では幅Ｈ１１と幅Ｈ１２とを異ならせてもよい。

　実施の形態１の図３の構成例では、以下の理由から、このように２種類の形状の規制部ＤＭ（第１規制部ＤＭＡ，第２規制部ＤＭＢ）を設けている。額縁領域ＦＡのうち、第１外周領域Ｌ１では、第１回路領域ＣＡ１の第１駆動回路部ＣＤ１等を実装する必要があるため、他の外周領域に比べ、第１延長領域ＥＡ１を含め、幅が大きくなりやすい。狭額縁構成の場合、第１外周領域Ｌ１のＹ方向の長さをなるべく小さくしたい。そのため、Ｙ方向の第１外周領域Ｌ１および第２外周領域Ｌ２では、非表示領域ＮＡの低減に有効である第１規制部ＤＭＡを適用する。

　額縁領域ＦＡのうち、左右辺部に対応する第３外周領域Ｌ３および第４外周領域Ｌ４では、駆動回路等の実装領域が狭い、または無い。例えば、第３外周領域Ｌ３および第４外周領域Ｌ４では、狭額縁構成のため、走査線に接続される走査線駆動回路が、第１基板ＳＢ１内部に実装されている。よって、第３外周領域Ｌ３および第４外周領域Ｌ４では、Ｘ方向の幅が、第１外周領域Ｌ１等のＹ方向の幅に比べて狭い。そのため、左右辺部では、従来技術例と同様であり、配向膜ＡＬの規制力が強い第２規制部ＤＭＢを適用する。言い換えると、この第２規制部ＤＭＢの規制力によって、配向膜ワニスが規制部を乗り越えてしまう等の不具合を、より防止できる。第１外周領域Ｌ１等では、第３外周領域Ｌ３等に比べて幅低減の重要性が高いので、第１規制部ＤＭＡを適用する。

　実施の形態１では、規制部ＤＭの作用を含めて実現される狭額縁構成として、第１外周領域Ｌ１（第１回路領域ＣＡ１）のＹ方向の長さは、１０００μｍ以下である。

　［（４－２）前面構成－変形例］
　図３の前面構成に限らず可能である。実施の形態１の変形例の液晶表示装置１では、第１規制部ＤＭＡのみを設けてもよい。例えば、額縁領域ＦＡのうち、４つの辺部（外周領域）のうちすべてに第１規制部ＤＭＡを設けてもよい。また、変形例では、額縁領域ＦＡのうち、上辺部および下辺部のみに第１規制部ＤＭＡを設けてもよい。また、変形例では、額縁領域ＦＡのうち、下辺部（第１外周領域Ｌ１）のみに第１規制部ＤＭＡを設けてもよい。また、変形例では、額縁領域ＦＡのうち左右辺部では規制部ＤＭを設けない構成としてもよい。

　図２２は、実施の形態１の変形例の液晶表示装置１の前面（Ｘ－Ｙ面）の構成を示す。この変形例の構成では、第１基板ＳＢ１と第２基板ＳＢ２との重なりにおいて、第１基板ＳＢ１の延長領域ＥＡとしては、Ｙ方向の下辺部側に第１延長領域ＥＡ１を有し、上辺部側に第２延長領域ＥＡ２を有する。回路領域ＣＡとしては、第１外周領域Ｌ１（第１延長領域ＥＡ１）に第１回路領域ＣＡ１を有し、第２外周領域Ｌ２（第２延長領域ＥＡ２）に第２回路領域ＣＡ２を有する。そして、この構成では、額縁領域ＦＡのうちＹ方向の下辺部および上辺部に第１規制部ＤＭＡ（下辺規制部ＤＭ１１および上辺規制部ＤＭ１２）を設ける。また、この構成では、額縁領域ＦＡのうち左右辺部には規制部ＤＭを設けない。

　［（５）規制部－平面視］
　図４は、実施の形態１の液晶表示装置１で、第１基板ＳＢ１側の規制部ＤＭ１（特に図３の下辺規制部ＤＭ１１、第１規制部ＤＭＡに対応する）の平面視（Ｘ－Ｙ面）での概略構成を示す。第２基板ＳＢ２側の規制部ＤＭ２もこれと同様の構成である。図４では、規制部ＤＭ１の形状に関するモデル形状を示し、実際の形状は、形成方法等に応じて、図４の形状から異なってもよい。この規制部ＤＭ１１の形状は、概略的に、Ｘ方向に沿って凹凸形状であり、図示のように、Ｘ方向に延在する複数の円の連なりで構成されている。複数の円は相互に連続しており、円間の隙間は無い。

　この規制部ＤＭ１１の形状は、配置中心位置を表す中心線Ｃ１に対して対称形状であるが、非対称形状であっても良い。規制部ＤＭ１１は、内端部Ｅ１、外端部Ｅ２を有する。内端部Ｅ１は、表示領域ＤＡに向き、配向膜ＡＬ１に接する側の端部である。外端部Ｅ２は、内端部Ｅ１に対して反対側の端部である。図４では、内端部Ｅ１におけるＹ方向（方向Ｙ１）で最も内側に出た位置を線ａ１で示し、外端部Ｅ２におけるＹ方向（方向Ｙ２）で最も外側に出た位置を線ａ２で示す。

　内端部Ｅ１は、配向膜ＡＬ１の広がりを規制して跳ね返りのムラを抑制するための凹凸形状を有する。内端部Ｅ１は、その凹凸形状がある部分と対応している。図４では、内端部Ｅ１の凹凸形状において中心線Ｃ１側に近い端の線を線ｂ１で示す。外端部Ｅ２の凹凸形状で中心線Ｃ１側に近い端の線を線ｂ２で示す。また、図４では、内端部Ｅ１の凹凸形状におけるＹ方向の中心線ｃ１、および内端部Ｅ２の凹凸形状におけるＹ方向の中心線ｃ２を示す。

　内端部Ｅ１の凹凸形状は、凹部４１、凸部４２を有する。Ｘ方向に複数の凹部４１および複数の凸部４２を有し、凹部４１と凸部４２とが交互に配置されている。複数の各々の凹部４１は、所定の間隔ｐｔ１で配置されている。複数の各々の凸部４２は、所定の間隔ｐｔ１で配置されている。凹部４１は、線ａ１と線ｂ１との間で、方向Ｙ２に入り込んでいる部分であり、Ｘ方向で両隣の凸部４２の間にある。凸部４２は、線ａ１と線ｂ１との間で、方向Ｙ１に出ている部分であり、Ｘ方向で両隣の凹部４１の間にある。なお、凸部４２は規制部材料で構成されているが、凹部４１は規制部材料以外の部分である。内端部Ｅ１の凹凸形状は、言い換えると、側面において複数の円弧が連続している形状である。

　幅Ｈ１は、規制部ＤＭ１の全体でのＹ方向の幅（全体幅）を示す。幅Ｈ２は、規制部ＤＭ１の中心線Ｃ１から内端部Ｅ１側の半分でのＹ方向の幅を示す。幅Ｗ１は、第１幅として、内端部Ｅ１（凹凸形状）、凹部４１および凸部４２のＹ方向の幅を示す。幅Ｗ２は、第２幅として、内端部Ｅ１の凹凸形状に沿った方向の各位置（例えば位置ｐ１～ｐ４等）での規制部ＤＭ１のＹ方向の幅における最大となる幅を示す。幅Ｗ２は、特に、凸部４２の先端の位置（最も内側に出た位置）ｐ４での幅である。本例では、幅Ｗ２＝幅Ｈ１となっているが、これに限定されない。

　実施の形態１で、規制部ＤＭ１の形状は、幅Ｗ１が幅Ｗ２以下である条件（Ｗ１≦Ｗ２）を満たす。また、対応して、凹凸形状（凹部４１、凸部４２）の形成の大きさについては、間隔ｐｔ１が所定の間隔の範囲内にある。実施の形態１では、幅Ｗ１は、特に、１００μｍ以下である（Ｗ１≦１００μｍ）。

　図４の規制部ＤＭ１の変形例として、その規制部ＤＭ１の形状は、中心線Ｃ１から内端部Ｅ１側の半分のみを持つ形状としてもよい。この規制部ＤＭ１は、外端部Ｅ２側では、凹凸形状を持たず、直線状等の任意の形状を持つ。この規制部ＤＭ１では、幅Ｗ２＝幅Ｈ２となる。凸部４２の形状は、一定の半径の円に限らず、楕円や自由曲面等でもよい。

　また、図４で、方向４０１（方向Ｙ２と対応する）は、第１面ｓｆ１上の配向膜ＡＬ１の形成の際の配向膜ワニスの主な広がりの方向を示す。この配向膜ワニスの広がりは、内端部Ｅ１に当たってせき止められ、跳ね返りが生じる。方向４０２は、方向４０１とは反対の方向（方向Ｙ１と対応する）であり、配向膜ワニスの主な跳ね返りの方向を示す。配向膜ワニスは、凸部４２の曲面（方向４０１に対して斜面）に当たった場合、その曲面の方向に沿って反射して凹部４１に入り込む。このような内端部Ｅ１の凹凸形状によって、方向４０２（方向Ｙ１）への配向膜ワニスの跳ね返りが低減され、跳ね返りによるムラ領域の幅が低減される。詳しくは後述の図１３、図１４で示す。

　図４の規制部ＤＭ１の凹凸形状は、各種の方法で形成可能である。実施の形態１では、特に、インクジェット方式の液晶表示装置製造方法（規制部形成方法を含む）を用いて、図４の規制部ＤＭ１の凹凸形状を形成する。すなわち、製造時、第１基板ＳＢ１上に規制部ＤＭ１を形成する工程の際に、インクジェット装置のヘッドから、規制部ＤＭ１を構成する規制部材料の液滴が吐出される。この液滴が、図４のうちの各円形に対応する。インクジェット装置のヘッドから複数の液滴をＸ方向で連続的に吐出する制御によって、図４のような規制部ＤＭ１を形成できる。第１面ｓｆ１上に吐出された規制部材料の液滴は、温度制御による乾燥等によって固化される。

　規制部ＤＭ１の材料（規制部材料）は、配向膜ＡＬ１や封止部ＳＬとの関係性に基づいて選択される。特に、規制部材料は、配向膜ＡＬ１の材料（配向膜ワニス）に対する撥液性を持つ。配向膜ワニスは、例えば溶媒に溶質である配向材が混合した溶液である。規制部材料は、例えば有機材料である。この撥液性とは、固化した状態の規制部材料が、配向膜ワニスと相溶性が悪い（言い換えると非相溶性が高い）ことである。この相溶性が悪い場合、規制部材料と配向膜ワニスとの両物質が分離して撥液現象が生じる。これにより、規制部ＤＭ１は、配向膜ＡＬ１の広がりおよび跳ね返りを、より効果的に低減できる。規制部ＤＭ２についても同様である。

　より撥液現象の具体例について説明をする。配向膜材料の溶媒には、化合物の溶解性が高いＮ－メチル－２－ピロリドン等の環状アミド系溶媒やγ－ブチロラクトン等の環状エステル系溶媒が利用される。しかし、環状アミド系溶媒と環状エステル系溶媒は、互いに相溶性が高いポリイミド材料が異なる。一般的に、配向膜材料には、以下の化学式（１）又は（２）に記載されたポリアミド酸又はポリアミド酸エステルをイミド化したポリイミドが利用される。しかし、ポリアミド酸とポリアミド酸エステルは、互いに相溶性の高い有機溶媒が異なる。具体的には、ポリアミド酸（式（１）のＲ^ａがアルキル基、又は式（２））は、環状エステル系溶媒にも溶解するが、環状アミド系溶媒の方が、相溶性が高い。一方で、ポリアミド酸エステル（式（１）のＲ^ａがアルキル基）は、環状アミド系溶媒と相溶性が悪く、環状エステル系溶媒と相溶性が良い。

　式（１）及び（２）において、Ａｒは有機基であり、Ｒ^ａ及びＲ^ｂは、それぞれ独立に水素又は炭素数１～６のアルキル基である。

　例えば配向膜材料に一定量（例えば、固形分全体において２０質量％以上）のポリアミド酸エステルを含む場合、配向膜ワニスの主溶媒は、γ－ブチロラクトンを用いる。よって、規制部をポリアミド酸で形成すれば、配向膜ワニスのγ－ブチロラクトンと規制部の相溶性が悪い。よって、配向膜ワニスが規制部を乗り越えにくい。一方、配向膜材料において、ポリアミド酸が多量の場合（例えば、固形分全体において、８０質量％以上）、配向膜ワニスの主溶媒は、Ｎ－メチル－２－ピロリドンを用いる。よって、規制部をポリアミド酸エステルで形成すれば、配向膜ワニスのＮ－メチル－２－ピロリドンと規制部の相溶性が悪い。よって、配向膜ワニスが規制部を乗り越えにくい。なお、最終的に各ポリアミド酸又はポリアミド酸エステルは、製造過程でポリイミドに変化する。

　上述の記載を換言すれば、表示装置としては、配向膜と規制部の一方がポリアミド酸由来のポリイミドであり、他方がポリアミド酸エステル由来のポリイミドであると好ましい。なお、上述の記載は、配向膜ワニスの撥液現象の一例を述べただけである。よって、配向膜ワニスが規制部を乗り越えにくいのであれば、配向膜及び規制部は他の材料で形成されてもよい。

　［（６）規制部－断面］
　図５は、実施の形態１で、図４のＣ－Ｃ線に対応する、規制部ＤＭ１（特に下辺規制部ＤＭ１１）のＹ方向とＺ方向との断面（Ｙ－Ｚ面）での概略構成を示す。図５では、第１基板ＳＢ１の絶縁膜ＩＮＳ１の上面である第１面ｓｆ１上における、規制部ＤＭ１および配向膜ＡＬ１の端部を示す。第１面ｓｆ１は、配向膜ＡＬ１および規制部ＤＭ１の下地面であり、同じ高さ位置にある。

　図５の規制部ＤＭ１の断面形状は、図示の通り、概略的に凹形状であり、Ｙ方向の中心位置ｙ０で低くなっており、内端部Ｅ１および外端部Ｅ２と対応する外側の位置ｙ１，ｙ２に近い位置で高くなっている。図５では、Ｚ方向の配向膜ＡＬ１の厚さを厚さＴ２、規制部ＤＭ１の厚さを厚さＴ１で示す。配向膜ＡＬ１の厚さＴ２よりも規制部ＤＭ１の厚さＴ１の方が大きい（Ｔ２＜Ｔ１）。言い換えると、規制部ＤＭ１の方が配向膜ＡＬ１よりも高い。実施の形態１では、特に、規制部ＤＭ１の厚さＴ１は、１０００ｎｍ以下としている（Ｔ１≦１０００ｎｍ）。好ましくは、厚さＴ１は１５０ｎｍ以上である。

　図５の規制部ＤＭ１は、インクジェット方式を用いて形成されている。すなわち、インクジェット装置のヘッドのノズルから、方向Ｚ２で、第１面ｓｆ１に対し、規制部材料の液滴が吐出されることで、第１基板ＳＢ１上に規制部材料が塗布される。その液滴が乾燥等によって固化されることで、規制部ＤＭ１が形成される。この際、公知のコーヒーステイン現象と同様の原理（中央部に対し外周部の溶質の濃度が高くなる等の原理）によって、この規制部ＤＭ１の凹形状が形成される。規制部ＤＭ２についてもこれと同様である。

　規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１では、配向膜ＡＬ１の端部がせき止められて、厚さＴ２の高さよりも上方の位置まで盛り上がっている。配向膜ＡＬ１の端部における、規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１に接する部分では、跳ね返りのムラが生じる。このムラが生じる領域を、図５ではムラ領域５０１として示す。このムラ領域５０１は、非表示領域ＮＡに含まれる。

　なお、図５では特にある凸部４２の位置での断面を示しており、配向膜ＡＬ１の端部の高さが、規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１の高さ（厚さＴ１）以下となっている場合を示す。規制部ＤＭ１と配向膜ＡＬ１の端部との形状の関係は、図５の例に限らず可能である。配向膜ＡＬ１の端部の高さが、規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１の高さ（厚さＴ１）よりも大きくなってもよい。

　図６は、図５に対する変形例における規制部ＤＭ１および配向膜ＡＬ１の断面の形状の概略構成を示す。図６の構成例では、配向膜ＡＬ１の端部が、規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１の高さ（厚さＴ１）を超えて盛り上がった形状となっている。図６では特にある凹部４１の位置（例えば図４のＤ－Ｄ線）での断面を示す。この盛り上がった端部は、非表示領域ＮＡ内となるので、表示領域ＤＡには影響しない。また、他の構成例では、配向膜ＡＬ１の端部が、規制部ＤＭ１の凹形状内部に入り込んでもよい。

　図２３は、変形例における規制部ＤＭ１および配向膜ＡＬ１の断面の形状の概略構成を示す。この規制部ＤＭ１の断面形状は、図示の通り、概略的に凸形状であり、Ｙ方向の中心位置ｙ０で高くなっており、外側の位置ｙ１，ｙ２で低くなっている。このような規制部ＤＭ１の形状でも、同様に、配向膜端部ムラ低減の効果が得られる。

　［（７－１）規制部－変形例］
　図７は、実施の形態１の変形例の液晶表示装置１で、規制部ＤＭ１の平面視の概略構成を示す。図７の規制部ＤＭ１は、図４の規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１側の半分の構成に対応する。外端部Ｅ２は直線状となっている。この内端部Ｅ１の凹凸形状は、言い換えると、複数の半円の繰り返しによる形状である。

　［（７－２）規制部－変形例］
　図８は、他の変形例で、規制部ＤＭ１の平面視の概略構成を示す。図８の規制部ＤＭ１は、内端部Ｅ１において、波形状を有する。この内端部Ｅ１の凹凸形状では、凸部４２は、中心線ｃ１に対し、方向Ｙ１に出る曲面を持ち、凹部４１は反対に方向Ｙ２に入り込む曲面を持つ。この波形状は、サイン波等の形状としてもよい。

　［（７－３）規制部－変形例］
　図９は、他の変形例で、規制部ＤＭ１の平面視の概略構成を示す。図９の規制部ＤＭ１の形状は、Ｙ方向の２つの位置の中心線ｊ１，ｊ２に沿って、それぞれ、Ｘ方向に複数の円の連なりが配置されている。各位置の中心線ｊ１，ｊ２では、複数の円の各円は、所定の間隔ｐｔ２で円間に隙間を設けながら断続的に配置されている。２つの中心線ｊ１，ｊ２上の２列の円群を合わせた形状でみると、各円は、所定の間隔ｐｔ３で配置されている。この規制部ＤＭ１は、全体でみると、内端部Ｅ１に凹部４１および凸部４２が構成されている。

　凹部４１は、一方の内側寄りの中心線ｊ１上におけるＸ方向で隣り合う２つの円と、それらの間にある他方の中心線ｊ２上の円とで形成されている。凸部４２は、中心線ｊ２上の２つの円の間にある中心線ｊ１上の１つの円の一部によって形成されている。幅Ｈ３は、一方の中心線ｊ１上の円の列における幅（１つの円の最大の幅）を示す。他方の中心線ｊ２上の円の列における幅も、幅Ｈ３と同じである。図９の構成例では各円のサイズが同じ場合を示すが、これに限らず可能である。図９の構成で、図４の場合と同様に、幅Ｗ１、幅Ｗ２をとることができる。幅Ｗ１は、図示の通りであり、一方の線上の円の内端と他方の線上の円の内端との距離に対応する。幅Ｗ２は、図示の通りであり、２つの列における２つの円が連続している部分における最大の幅となる。

　この変形例の規制部ＤＭ１の形状も、特にインクジェット方式での形成が可能である。すなわち、インクジェット装置のヘッドから、２つの中心線ｊ１，ｊ２の位置でそれぞれ、規制部材料の液滴を吐出するように、ヘッド位置またはノズル位置等を制御すればよい。また、インクジェット装置で、走査中にヘッドのノズルから液滴を吐出する際の間隔や液滴の大きさ（圧力等）を制御すればよい。インクジェット装置による制御によって、規制部ＤＭの凹凸形状の詳細形状が制御可能である。上記のような２列での液滴群の形成に限らず、３列以上での形成としてもよい。また、従来のインクジェット装置で、Ｘ方向に沿って複数の液滴を吐出する際に、Ｙ方向での位置ズレが生じる場合には、その位置ズレの特性を利用して、このような規制部ＤＭの凹凸形状を形成することができる。

　［（７－４）規制部－変形例］
　図１０は、他の変形例で、規制部ＤＭ１の平面視の概略構成を示す。この図１０の規制部ＤＭ１の形状は、中心線Ｃ１に沿ってＹ方向（方向Ｙ１，Ｙ２）に波状に蛇行または振動する形状である。この構成では内端部Ｅ１および外端部Ｅ２の両方に凹凸形状を有する。内端部Ｅ１には、凹部４１、凸部４２を有し、波の曲線による斜面を持つ。この構成でも幅Ｗ１および幅Ｗ２を同様にとることができる。この規制部ＤＭ１の形状は、例えば、製造時に製造装置によって規制部材料をＸ方向に沿って塗布する際に、Ｙ方向の位置の蛇行や振動を制御することで、形成可能である。

　［（７－５）規制部－変形例］
　図１１は、他の変形例で、規制部ＤＭ１の平面視の概略構成を示す。この規制部ＤＭ１の形状は、内端部Ｅ１において、台形状の凹部４１および凸部４２を有する。この凹部４１および凸部４２の台形は、Ｘ方向に延在する短辺と、その短辺からＹ方向に対して斜めとなる斜辺とを有する。この構成でも幅Ｗ１および幅Ｗ２を同様にとることができる。外端部Ｅ２側でも内端部Ｅ１側と同様の形状としてもよい。

　［（７－６）規制部－変形例］
　図１２は、他の変形例で、規制部ＤＭ１の平面視の概略構成を示す。この規制部ＤＭ１の形状は、内端部Ｅ１において、三角形状の凹部４１および凸部４２を有する。この凹部４１および凸部４２の三角形は、Ｙ方向に対して斜めとなる斜辺を有する。この構成でも幅Ｗ１および幅Ｗ２を同様にとることができる。外端部Ｅ２側でも内端部Ｅ１側と同様の形状としてもよい。上記のような各種の変形例の規制部でも、配向膜の広がりの規制および跳ね返りのムラ低減に関する相応の効果が得られる。

　［比較例（１）］
　図２０は、実施の形態１に対する第１比較例の液晶表示装置における規制部２０１、および実施の形態１での第２規制部ＤＭＢ（図３）について、実施の形態１の第１規制部ＤＭＡとの比較で、平面視の概略構成を示す。この規制部２０１（第２規制部ＤＭＢ）は、一方向（例えばＸ方向）に所定の幅Ｈ１（Ｈ１＝Ｗ２）で延在する直線状である。この規制部２０１（第２規制部ＤＭＢ）の内端部Ｅ１は、第１幅である幅Ｗ１（特に幅Ｗ１２とする）を考えた場合、実質的に０である（Ｗ１＝Ｗ１２≒０）。

　実施の形態１における第１規制部ＤＭＡの内端部Ｅ１の凹凸形状は、所定の大きさ以上で幅Ｗ１（特に幅Ｗ１１とする）を設ける。第１規制部ＤＭＡの内端部Ｅ１の第１幅（幅Ｗ１１）は、規制部２０１（第２規制部ＤＭＢ）の内端部Ｅ１の第１幅（幅Ｗ１２）よりも大きい（Ｗ１１＞Ｗ１２）。これにより、実施の形態１の第１規制部ＤＭＡでは、少なくとも規制部２０１（第２規制部ＤＭＢ）の場合よりも、配向膜ワニスの跳ね返りのムラを低減する効果が得られる。

　［比較例（２）］
　図２１は、実施の形態１に対する第２比較例の液晶表示装置における規制部２０２の平面視の概略構成を、実施の形態１の第１規制部ＤＭＡとの比較で示す。この規制部２０２の形状は、Ｘ方向に延在する中心線Ｃ１に沿って所定の幅で延在するジグザグ形状である。幅Ｈ４は、ジグザグの方向に垂直な方向での幅を示す。このジグザグ形状の側面部（内端部および外端部）は、三角波形状である。この規制部２０２における凹部２４１および凸部２４２を考える。また、この凹部２４１および凸部２４２における第１幅（幅Ｗ１、特に幅Ｗ１３とする）および第２幅（幅Ｗ２、特に幅Ｗ２３とする）を考える。規制部２０２では、この幅Ｗ１（Ｗ１３）は幅Ｗ２（Ｗ２３）よりも大きい（Ｗ１＞Ｗ２）。一方、実施の形態１の規制部ＤＭ１では、この幅Ｗ１（Ｗ１１）は幅Ｗ２以下である（Ｗ１≦Ｗ２）。

　また、この規制部２０２のジグザグ形状のＸ方向での凸部２４２の間隔を間隔ｐｔ４で示す。この規制部２０２における凹凸の形成の間隔ｐｔ４は、実施の形態１での規制部ＤＭ１の凹凸の間隔ｐｔ１よりも大きい（ｐｔ４＞ｐｔ１）。言い換えると、実施の形態１での規制部ＤＭ１の凹凸形状は、このような規制部２０２のジグザグ形状よりも小さいスケールで形成されている。このような規制部２０２の場合、内端部側で、ジグザグ形状のうちの各々の斜面では、直線状である。このような規制部２０２の場合、規制部２０２の幅Ｈ１と、配向膜ワニスの跳ね返りのムラの幅とを含めた総合的な幅を考えた場合、その総合的な幅が大きく、非表示領域を低減する効果は得られない。

　［（８）規制部－作用］
　図１３、図１４を用いて、規制部ＤＭ１の凹凸形状の作用や効果についてより詳しく説明する。図１３は、図２０のような第１比較例の規制部２０１と、実施の形態１での規制部ＤＭ１（第１規制部ＤＭＡ）の構成例とで対比して、平面視の概略構成を示す。図１３の上側の（Ａ）では、平らな第１面ｓｆ１上における、第１配向膜ＡＬ１の端部に対応する、配向膜ワニスの領域１３１と、直線状の規制部２０１とを示す。規制部２０１は、Ｘ方向に延在している。配向膜ワニスに対応する塗布液は、基本的に、方向Ｙ２に対応する方向４０１で広がる。その配向膜ワニスは、方向４０２に跳ね返される。これにより、配向膜ワニスのムラ領域１３２が生じる。このムラ領域１３２では、Ｘ方向の各位置で、材料の跳ね返りの度合いが異なっており、厚さや形状にムラがある。ムラ領域１３２のＹ方向の幅を幅Ｍ１で示す。

　（Ａ）に対応して、右側には、規制部２０１等の断面を示す。規制部２０１の幅Ｈ１と、ムラ領域１３２の幅Ｍ１とを総合した幅（Ｈ１＋Ｍ１）を示す。ムラ領域１３２は、画素の光学的な特性の均一性を確保できないので、非表示領域ＮＡに含まれる。これにより、その分、表示領域ＤＡが小さくなり、額縁領域ＦＡが大きくなる。

　図１３の下側の（Ｂ）には、同様に、平らな第１面ｓｆ１上における、第１配向膜ＡＬ１の端部に対応する、配向膜ワニスの領域１３３と、凹凸形状の規制部ＤＭ１とを示す。この規制部ＤＭ１の形状は、図４のモデル形状に基づいて、インクジェット方式での形成時に、Ｙ方向で所定の範囲内での位置ズレがある場合の形状例を示す。配向膜ワニスに対応する塗布液は、基本的に、方向Ｙ２に対応する方向４０１で広がる。その配向膜ワニスは、規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１に当たって、反対の方向４０２に跳ね返される。これにより、配向膜ワニスのムラ領域１３４が生じる。ムラ領域１３４のＹ方向の幅を幅Ｍ２で示す。幅Ｍ２は、幅Ｍ１よりも小さくなっている（Ｍ２＜Ｍ１）。

　配向膜ワニスが内端部Ｅ１に当たって跳ね返される際、内端部Ｅ１の凹凸形状によって、Ｘ方向の各位置での材料の跳ね返りの差が小さくなるように緩和されている。配向膜ワニスは、凹部４１および凸部４２の曲面（斜面）に当たって、その曲面（斜面）に応じた方向に反射される。言い換えると、塗布液の波エネルギーは、内端部Ｅ１の凹凸形状によって、方向４０１および方向４０２とは異なる斜めの各方向に分散される。この結果、ムラ領域１３４の幅Ｍ２が、幅Ｍ１よりも小さくなる。なお、幅Ｍ２は、内端部Ｅ１の凹凸形状におけるＹ方向で最も内側に出た部分の位置から、ムラ領域１３３の最も内側の位置までの長さとしている。

　（Ｂ）に対応して、右側には、規制部ＤＭ１等の断面を示す。規制部ＤＭ１の幅Ｈ１と、ムラ領域１３４の幅Ｍ２とを総合した幅（Ｈ１＋Ｍ２）を示す。この総合的な幅（Ｈ１＋Ｍ２）は、比較例の総合的な幅（Ｈ１＋Ｍ１）よりも小さい。このように、実施の形態１では、規制部ＤＭ１の全体の幅Ｈ１を規制部２０１の全体の幅Ｈ１と同じとした場合でも、ムラ領域１３４の幅Ｍ２をより小さく抑えることができる。実施の形態１では、ムラ領域１３４の幅Ｍ２を含む総合的な幅（Ｈ１＋Ｍ２）を小さく抑えることができる。よって、その分、非表示領域ＮＡ（額縁領域ＦＡ）を小さく、表示領域ＤＡを大きくすることができる。

　図１４は、規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１の凹凸形状に対する、配向膜ワニスの跳ね返りに関して模式的に示す。（Ａ）は、規制部ＤＭ１の形状の第１例の場合を示し、図４のモデル形状に基づいている。（Ｂ）は、規制部ＤＭ１の形状の第２例の場合を示し、図９の変形例の形状に基づいている。それぞれ、１つのリング状の円形は、インクジェット方式の１つの液滴に対応している。（Ａ）で、配向膜ワニスの分子は、各矢印で示す方向４０１（方向Ｙ２）で、内端部Ｅ１の凸部４２の曲面（斜面）４２ａに当たり、その曲面４２ａの傾きの方向に応じた方向に反射される。分子の当たった位置に応じて異なる各方向に分子が反射される。反射された分子は、さらに曲面４２ａに当たった場合には同様に反射される。ある分子は、凹部４１の奥に入り込むように反射され、ある分子は、凹部４１から方向Ｙ１へ戻るように反射される。（Ｂ）で、同様に、配向膜ワニスの分子は、各矢印で示す方向４０１（方向Ｙ２）で、内端部Ｅ１の凸部４２の曲面（斜面）４２ａや凹部４１の曲面（斜面）４１ａに当たり、その曲面４２ａや曲面４１ａの傾きの方向に応じた方向に反射される。このように、配向膜ワニスの分子の跳ね返りの方向が分散されるので、全体でみるとムラ領域１３４の幅Ｍ２が小さくなる。

　［（９）規制部形成方法］
　図３や図１５を用いて、実施の形態１の液晶表示装置１での規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）の形成方法について説明する。実施の形態１では、インクジェット方式を用いて、第１基板ＳＢ１の第１面ｓｆ１上に図４のような凹凸形状の規制部ＤＭ１を形成する。規制部ＤＭ１や配向膜ＡＬ１の形成方法の概要は以下である。

　（１）予め、第１基板ＳＢ１の絶縁膜ＩＮＳ１（図２）までが形成されているとする。（２）製造装置として、インクジェット装置は、第１基板ＳＢ１の絶縁膜ＩＮＳ１の第１面ｓｆ１上に、規制部材料（ワニス）の液滴の吐出によって、規制部材料を塗布する。（３）製造装置は、第１基板ＳＢ１上の規制部材料を、乾燥等によって固化する。これにより、規制部ＤＭ１が形成される。

　（４）次に、製造装置は、第１基板ＳＢ１の絶縁膜ＩＮＳ１の第１面ｓｆ１上において、規制部ＤＭ１よりも内側の領域に、第１配向膜ＡＬ１の配向膜ワニスを塗布する。この工程では例えばインクジェット装置が用いられる。インクジェット装置は、その領域に、配向膜ワニスの液滴の吐出によって、配向膜ワニスを塗布する。その際、規制部ＤＭ１によって、前述のように、配向膜ワニスの無用な広がりが規制され、端部のムラが抑制される。

　（５）製造装置は、第１基板ＳＢＩ上の第１配向膜ＡＬ１の配向膜ワニスを、乾燥等によって固化する。（６）製造装置は、第１基板ＳＢ１上の規制部材料、および、第１基板ＳＢＩ上の第１配向膜ＡＬ１の配向膜ワニスを、焼成等によって反応させる。（７）製造装置は、例えば光配向方式を用いて配向膜ＡＬ１を配向処理する。これにより、配向膜ＡＬ１が形成される。第２基板ＳＢ２側の規制部ＤＭ２および配向膜ＡＬ２についても上記と同様に形成可能である。

　さらに、規制部ＤＭ１の形成方法の詳細は以下である。この形成方法では、インクジェット方式の特性を利用して、規制部ＤＭ１の凹凸形状を容易かつ効率的に形成する。この形成方法では、特に、インクジェット方式のヘッド用のレールが伸びる方向である主走査方向と、それに交差する副走査方向との精度の違いを利用して、２種類の規制部を形成する。主走査方向及び副走査方向の概要は、例えば米国公開公報２０１４／００６２０７６の図３に開示されている。

　前述の図３の前面構成において、実線矢印で示す方向ＤＩＲ１は、インクジェット方式のヘッドの主走査方向を示し、破線矢印で示す方向ＤＩＲ２は、そのヘッドの副走査方向を示す。この形成方法では、方向ＤＩＲ１はＹ方向と対応させており、方向ＤＩＲ２はＸ方向と対応させている。インクジェット装置は、材料の塗布の際、線順次に走査を行う。インクジェット装置は、ヘッドをインクジェット装置のレールに沿って、方向ＤＩＲ１で線状に主走査をする。そして、インクジェット装置は、１本の線の走査が終わる毎に、ヘッドを方向ＤＩＲ２に移動させるように副走査をする。インクジェット装置は、ヘッドの主走査において、ヘッドのノズルから、材料の液滴を吐出する。インクジェット装置は、走査において、規制部ＤＭ１を形成する領域と形成しない領域とで、規制部材料の吐出の有無等を制御する。

　図３で、第３外周領域Ｌ３や第４外周領域Ｌ４のように、第２規制部ＤＭＢを形成する領域では、方向ＤＩＲ１に沿ってヘッドから規制部材料の液滴が連続的に吐出される。これにより、直線状の第２規制部ＤＭＢが形成できる。また、第１外周領域Ｌ１や第２外周領域Ｌ２のように、第１規制部ＤＭＡを形成する領域では、方向ＤＩＲ１に沿って、その領域上に来た時に、ヘッドから規制部材料の液滴が吐出される。第１規制部ＤＭＡの領域はＸ方向に延在しているので、インクジェット装置は、方向ＤＩＲ２の副走査によって対応する。

　方向ＤＩＲ１の主走査では、キャリッジレールに沿ってヘッドの連続的な移動が可能であるが、方向ＤＩＲ２の副走査では、ヘッド又は被吐出媒体の機械的な移動が必要であるため、方向ＤＩＲ１の主走査よりも移動の精度が劣る。すなわち、副走査の方向ＤＩＲ２では、材料の形成（吐出）の位置や間隔の精度が、主走査の方向ＤＩＲ１よりも劣る。そこで、この形成方法では、第１規制部ＤＭＡの凹凸形状の領域および方向を、ヘッドの副走査の方向ＤＩＲ２と対応させている。副走査の方向ＤＩＲ２では、ヘッドの機械的な駆動による移動が行われる。これに対応して、第１規制部ＤＭＡを形成する領域におけるＸ方向の液滴の吐出の位置や間隔が決まる。この間隔は、第２規制部ＤＭＢの領域におけるＹ方向の液滴の吐出の間隔よりも広くなる。これにより、第１規制部ＤＭＡにおける凹凸形状が形成できる。

　なお、公知のインクジェット装置では、走査時、キャリッジレールに沿ってヘッド（インクジェットヘッド）を移動させながら、ヘッドのノズルから下方に液滴が吐出される。ヘッドにおける、液滴の吐出間隔やノズルの配置位置等については各種の構成が可能であり、それらを利用することでも、規制部ＤＭの凹凸形状を形成可能である。

　図１５は、さらに、製造方法の一例についての説明図を示す。図１５では、マザー基板１５０上において、複数の液晶表示装置本体（または第１基板ＳＢ１等）がまとめて形成され、カットによって個々の液晶表示装置本体が構成される場合について、平面視の概略構成を示す。番号＃１～＃３等は、個々の液晶表示装置本体の部分を示す。個々の液晶表示装置本体は、第１基板ＳＢ１上の規制部ＤＭ１を含む。

　規制部ＤＭ１の形成時、方向ＤＩＲ１（Ｙ方向と対応する）では、上記のようにインクジェット方式の主走査が行われ、方向ＤＩＲ２（Ｘ方向と対応する）では、副走査が行われる。これにより、複数の液晶表示装置本体に関して、Ｘ方向に延在する第１規制部ＤＭＡ、およびＹ方向に延在する第２規制部ＤＭＢがまとめて形成される。形成後、マザー基板１５０からのカットによって、個々の液晶表示装置本体が取り出される。個々の液晶表示装置本体では、外周における４つの辺が形成される。

　個々の液晶表示装置本体（液晶表示装置１）の一部として、規制部ＤＭ１の角部１５１について、拡大して下側に示す。この拡大図で、第１規制部ＤＭＡと第２規制部ＤＭＢとの２種類の規制部ＤＭにおける、複数の液滴の円の配置の密度や間隔等の違いについて、模式的に示している。例えば右辺部（第４外周領域Ｌ４）に対応する第２規制部ＤＭＢ（右辺規制部ＤＭ１４）では、主走査の方向ＤＩＲ１において、複数の液滴の円が、第１規制部ＤＭＡよりも、密に配置されている。例えば下辺部（第１外周領域Ｌ１）に対応する第１規制部ＤＭＡ（下辺規制部ＤＭ１１）では、副走査の方向ＤＩＲ２において、複数の液滴の円が、第２規制部ＤＭＡよりも、疎に配置されている。これにより、第１規制部ＤＭＡでは内端部Ｅ１が凹凸形状となり、第２規制部ＤＭＢでは内端部Ｅ１が概略直線状となっている。

　なお、この拡大図の構成イメージに限らず、ヘッドからの液滴の吐出の数や間隔や大きさ（圧力等）、ヘッドやノズルが走査する位置や数等について制御することで、各種の構成が可能である。他の形成方法の例としては、第１規制部ＤＭＡについて、ヘッドの主走査の方向ＤＩＲ１を適用する。その場合に、インクジェット装置は、主走査時、ヘッドからの規制部材料の液滴の吐出の間隔を制御する。これにより、規制部ＤＭ１の凹凸形状を形成可能である。

　［（１０）規制部－実装構成例］
　図１６は、実施の形態１の液晶表示装置１で、規制部ＤＭを含む主要部の実装構成例について、断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す。図１６の実装構成例は、インクジェット方式で規制部ＤＭを形成する場合に対応している。第１基板ＳＢ１において、Ｚ方向（方向Ｚ１）でトランジスタＴＲ上の絶縁膜ＩＮＳ１１を有する。絶縁膜ＩＮＳ１１は、トランジスタＴＲの端子電極ＥＳ（例えばソース端子電極）を覆っている。絶縁膜ＩＮＳ１１は、Ｙ方向で、表示領域ＤＡ、非表示領域ＮＡ、および延長領域ＥＡにわたって形成されている。

　絶縁膜ＩＮＳ１１上には、平坦化膜ＰＦ１を有する。平坦化膜ＰＦ１は、絶縁膜ＩＮＳ１２で構成されている。平坦化膜ＰＦ１は、Ｙ方向で、表示領域ＤＡおよび非表示領域ＮＡにわたって形成されている。平坦化膜ＰＦ１上には、例えば共通電極ＥＣが形成されている。

　平坦化膜ＰＦ１上には、共通電極ＥＣを覆うように、平坦化膜ＰＦ２が形成されている。平坦化膜ＰＦ２は、絶縁膜ＩＮＳ１３で構成されている。平坦化膜ＰＦ２（絶縁膜ＩＮＳ１３）は、Ｙ方向で、表示領域ＤＡ、非表示領域ＮＡ、および延長領域ＥＡにわたって形成されている。平坦化膜ＰＦ２上には、例えば画素電極ＥＰが形成されている。第１基板ＳＢ１の延長領域ＥＡでは、平坦化膜ＰＦ１よりも外側に長く延在するように、平坦化膜ＰＦ２が形成されている。延長領域ＥＡにおける絶縁膜ＩＮＳ１１上の絶縁膜ＩＮＳ１３において、一部の領域には、露出する端子部ＥＥが形成されている。この端子部ＥＥは、前述の回路部ＣＣ（図２）の一部、あるいは第１駆動回路部ＣＤ１（図３）の一部を構成している。

　各画素の画素領域ＰＡでは、第１基板ＳＢ１側に形成されている第１電極ＥＬ１として、共通電極ＥＣおよび画素電極ＥＰを有する。一般的な液晶表示装置では、少なくとも共通電極ＥＣまたは画素電極ＥＰの一方を有する。

　この構成例では、第１面ｓｆ１は、表示領域ＤＡ等における絶縁膜ＩＮＳ１３（平坦化膜ＰＦ２）の上面が対応する。第１面ｓｆ１である絶縁膜ＩＮＳ１３の平らな上面上には、Ｙ方向に、配向膜ＡＬ１、規制部ＤＭ１、封止部ＳＬ、等が形成されている。配向膜ＡＬ１は、画素電極ＥＰを覆うようにして形成されている。

　また、非表示領域ＮＡを狭くするため、平面視で規制部ＤＭ１と重畳する位置に、映像信号線ＷＲ１と映像信号線ＷＲ２が形成されている。映像信号線ＷＲ１，ＷＲ２は、それぞれ複数本の配線で構成される。映像信号線ＷＲ１は絶縁膜で覆われており、その絶縁膜上に映像信号線ＷＲ２が配置されており、映像信号線ＷＲ２は絶縁膜ＩＮＳ１で覆われている。また、映像信号線ＷＲ１，ＷＲ２から出る電界を遮蔽するシールド電極ＳＥも、規制部ＤＭ１と重畳している。シールド電極ＳＥは、平坦化膜ＰＦ１上の共通電極ＥＣと同一の層に形成されており、規制部ＤＭ１の形成に影響を与えない。シールド電極ＳＥは、例えば規制部ＤＭ１のＹ方向の幅と同じ幅で形成され、平坦化膜ＰＦ２で覆われている。

　第２基板ＳＢ２側には、方向Ｚ２において、遮光膜ＢＭ、カラーフィルタＣＦ、絶縁膜ＩＮＳ２等が形成されている。絶縁膜ＩＮＳ２の第２面ｓｆ２上には、Ｙ方向で、第２配向膜ＡＬ２、封止部ＳＬ、等が形成されている。

　本構成例では、Ｙ方向における規制部ＤＭ１（および規制部ＤＭ２）の領域において、封止部ＳＬとの関係では、重畳領域を持たず、すべてが非重畳領域ｒ２となっている。非重畳領域ｒ２は、平面視した場合に、規制部ＤＭの領域のうち、封止部ＳＬと重ならない領域である。

　また、この構成例では、配向膜ＡＬ１、規制部ＤＭ１等を、インクジェット方式での塗布によって形成可能である。そのため、後述のパターニング方式に比べて、工程数が少なく効率的で低コストに形成が可能である。なお、封止部ＳＬの材料は、ディスペンサーを用いて塗布をされる。

　［（１１－１）封止部］
　図２や図１６のように、実施の形態１では、規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）は、封止部ＳＬよりも内側に形成されており、封止部ＳＬとの関係で非重畳領域ｒ２を有する。この構成は、封止部ＳＬの接着性能を優先する観点を考慮して選択されている。詳しくは、この構成は、封止部ＳＬ、絶縁膜ＩＮＳ１，ＩＮＳ２、配向膜ＡＬ１，ＡＬ２、規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）等の要素の接着を考慮して選択されている。この構成では、封止部ＳＬのＺ方向の端部と、規制部ＤＭ以外の、絶縁膜（例えば絶縁膜ＩＮＳ１，ＩＮＳ２）の一部とが接着されている。材料や形状や形成方法等にも依存するが、非重畳領域ｒ２が多く重畳領域が少ない構成の方が、接着性能をより高くできる。すなわち、この構成では、封止部ＳＬによる第１基板ＳＢ１と第２基板ＳＢ２との間の接着をより強くすることができ、剥がれ等を防止できる。

　なお、第２基板ＳＢ２側の規制部ＤＭ２に関しては、第１基板ＳＢ１側の規制部ＤＭ１と同様の構成としたが、これに限らず可能である。変形例としては、規制部ＤＭ２と規制部ＤＭ１とが異なる構成、例えばＹ方向の形成の位置が異なる構成としてもよい。また、変形例としては、規制部ＤＭ１のみを設ける構成や、規制部ＤＭ２のみを設ける構成も可能である。

　［（１１－２）封止部－変形例］
　図１７は、実施の形態１の変形例の液晶表示装置１で、封止部ＳＬに関する断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す。この構成では、Ｙ方向で、封止部ＳＬの外側に、規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）が形成されている。配向膜ＡＬ１，ＡＬ２は、それぞれ、規制部ＤＭ１，ＤＭ２の内端部Ｅ１まで形成されている。封止部ＳＬの方向Ｚ２の端部は、絶縁膜ＩＮＳ１上の第１配向膜ＡＬ１に配置されている。封止部ＳＬの方向Ｚ１の端部は、絶縁膜ＩＮＳ２上の第２配向膜ＡＬ２に配置されている。この構成でも、規制部ＤＭは、封止部ＳＬとの関係では、すべての領域を非重畳領域ｒ２としている。これにより、封止部ＳＬの接着性能が確保されている。

　［（１１－３）封止部－変形例］
　図１８は、他の変形例の液晶表示装置１で、封止部ＳＬに関する断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す。この構成では、Ｙ方向で、封止部ＳＬの内側に、一部の領域（重畳領域ｒ１）で重畳するようにして、規制部ＤＭ１および規制部ＤＭ２が形成されている。この規制部ＤＭ１，ＤＭ２は、内端部Ｅ１側に非重畳領域ｒ２を、外端部Ｅ２側に重畳領域ｒ１を有する。この構成では、封止部ＳＬと規制部ＤＭとが一部の領域（重畳領域ｒ１）で重なって配置されている。これにより、Ｙ方向で、全体的に、規制部ＤＭおよび封止部ＳＬを含む要素を配置するための幅が短縮されている。そのため、非表示領域ＮＡの幅をより短くし、額縁領域ＦＡ等をより狭くすることができる。すなわち、この構成は、封止部ＳＬの接着性能よりも、狭額縁構成を優先する観点を考慮して選択されている。この構成では、封止部ＳＬのうちの規制部ＤＭとは重なっていない領域によって、封止部ＳＬの接着性能が確保されている。なお、封止部ＳＬの接着性能を十分に確保したい場合は、図１７及び図１６のような構成例を採用すると好ましい。

　［（１１－４）封止部－変形例］
　図１９は、他の変形例の液晶表示装置１で、封止部ＳＬに関する断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す。この構成では、Ｙ方向で、封止部ＳＬの外側に、一部の領域（重畳領域ｒ１）で重畳するようにして、規制部ＤＭ１および規制部ＤＭ２が形成されている。この規制部ＤＭ１，ＤＭ２は、外端部Ｅ２側に非重畳領域ｒ２を、内端部Ｅ１側に重畳領域ｒ１を有する。この構成も狭額縁構成を優先する観点で選択されており、同様の効果が得られる。この構成では、封止部ＳＬのＺ方向の端部は、配向膜ＡＬ１，ＡＬ２と接着されている。この封止部ＳＬの材料等は、配向膜ワニスとの接着性能を考慮して選択される。

　［効果等（１）］
　上記のように、実施の形態１の液晶表示装置１によれば、規制部ＤＭによって、配向膜（配向膜ＡＬ１，ＡＬ２）の端部形状のムラを改善でき、装置小型化や高密度実装に寄与できる。規制部ＤＭによって、配向膜の端部のムラ領域を低減でき、ムラ領域および規制部を含む領域の幅を抑えることができる。よって、装置の前面の面積における、例えば表示領域ＤＡと非表示領域ＮＡ（または額縁領域ＦＡや回路領域ＣＡ等）との比率において、表示領域ＤＡを大きくし非表示領域ＮＡを小さくすることができる。すなわち、実施の形態１によれば、狭額縁構成等を実現できる。実施の形態１では、インクジェット方式を用いて規制部ＤＭ等を形成できるので、少ない工程数で、低コストおよび短時間で製造可能である。

　（実施の形態２）
　図２４、図２５を用いて、本発明の実施の形態２の液晶表示装置について説明する。実施の形態２では、規制部形成方法としてパターニング方式を用いる場合を示す。以下では、実施の形態２における実施の形態１とは異なる構成部分を説明する。

　［規制部－実装構成例］
　図２４は、実施の形態２の液晶表示装置１で、規制部ＤＭを含む実装構成例の主要部の断面（Ｙ－Ｚ面）の概略構成を示す。図２４の構成は、インクジェット方式ではなく、マスクやエッチング等を用いた一般的なパターニング方式によって規制部ＤＭを形成する場合の実装構成例を示す。パターニング方式では、製造装置としてエッチング装置等を用いる。

　図２４の断面の構成では、トランジスタＴＲ上に絶縁膜ＩＮＳ２１を有する。絶縁膜ＩＮＳ２１は、表示領域ＤＡ、非表示領域ＮＡ、延長領域ＥＡにわたって形成されている。下地となる絶縁膜ＩＮＳ２１上において、Ｚ方向で下側から上側へ順に、２層の絶縁膜として、絶縁膜ＩＮＳ２２および絶縁膜ＩＮＳ２３を有する。絶縁膜ＩＮＳ２１上には、絶縁膜ＩＮＳ２２を有する。絶縁膜ＩＮＳ２２は、平坦化膜であり、特に有機絶縁膜で構成されている。絶縁膜ＩＮＳ２２は、パターニングによって、表示領域ＤＡ、非表示領域ＮＡ、および延長領域ＥＡのうちの一部（第２基板ＳＢ２の端から外側に位置Ｙａまでの領域）にわたって形成されている。絶縁膜ＩＮＳ２２上には、パターニングによって、絶縁膜ＩＮＳ２３が形成されている。絶縁膜ＩＮＳ２３は、特に有機絶縁膜で構成されている。絶縁膜ＩＮＳ２３は、表示領域ＤＡ、非表示領域ＮＡ、延長領域ＥＡにわたって形成されている。

　例えば、公知のＦＦＳ（Fringe-Field Switching）やＩＰＳ（In-Plane Switching）等の液晶方式（いわゆる横電界モード）では、この構成のように、下地の絶縁膜ＩＮＳ２１と、第１電極ＥＬ１である例えば画素電極ＥＰとの間に、これらの２層の絶縁膜（絶縁膜ＩＮＳ２２，ＩＮＳ２３）を有する。実施の形態２での規制部形成方法では、この構成に基づいて、２層の絶縁膜のパターニング加工によって、規制部ＤＭ１が形成されている。絶縁膜ＩＮＳ２１の上面を第１面ｓｆ１とする。その第１面ｓｆ１上で、２層の絶縁膜（絶縁膜ＩＮＳ２２，ＩＮＳ２３）のパターニング加工によって、規制部ＤＭ１が形成されている。つまり、規制部ＤＭ１は、絶縁膜ＩＮＳ２２および絶縁膜ＩＮＳ２３の側面で形成されている。

　また、絶縁膜ＩＮＳ２２，ＩＮＳ２３のパターニング加工によって、溝部ＧＲ、端子部ＥＥ等が形成されている。規制部ＤＭの内端部Ｅ１側には、溝部ＧＲが形成されている。溝部ＧＲは、絶縁膜ＩＮＳ２３の上面の高さ位置よりも下側に凹んでいる部分である。溝部ＧＲは、内端部Ｅ１に合わせて、Ｘ方向に沿って延在している。規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１の形成のために、溝部ＧＲが必要である。図２４では溝部ＧＲのＹ方向の幅を幅ＷＧで示す。溝部ＧＲの深さは、絶縁膜ＩＮＳ２２の厚さｔ１と絶縁膜ＩＮＳ２３の厚さｔ２とを加えた厚さ（ｔ１＋ｔ２）と対応している。

　配向膜ＡＬ１は、画素電極ＥＰ（第１電極ＥＬ１）を覆うようにして、絶縁膜ＩＮＳ２３上に形成されている。配向膜ＡＬ１の端部は、絶縁膜ＩＮＳ２３の上面から溝部ＧＲ内の絶縁膜ＩＮＳ２１の面に落ち込み、規制部ＤＭの内端部Ｅ１でせき止められる。

　なお、本構成例では、要素間の高さ関係として以下である。絶縁膜ＩＮＳ２１の第１面ｓｆ１を基準とする。絶縁膜ＩＮＳ２２の厚さを厚さｔ１、絶縁膜ＩＮＳ２３の厚さを厚さｔ２、配向膜ＡＬ１の厚さを厚さｔ３とする。規制部ＤＭ１の高さ（厚さ）を高さｈ１、配向膜ＡＬ１の高さを高さｈ２とする。また、溝部ＧＲにおける配向膜ＡＬ１の高さを高さｈ３とする。高さｈ１は、２層の絶縁膜の厚さの合計値（ｔ１＋ｔ２）である。高さｈ２は、その合計に厚さｔ３を加えた合計値（ｔ１＋ｔ２＋ｔ３）である。

　絶縁膜ＩＮＳ２２，ＩＮＳ２３のパターニング加工であるため、配向膜ＡＬ１の下地面（面ｓｆ３）の高さ位置と、規制部ＤＭ１の上面（面ｓｆ４）の高さ位置とが同じとなる。よって、高さｈ２は、高さｈ１よりも大きい（ｈ２＞ｈ１）。また、規制部ＤＭ１として機能するために、高さｈ３は、高さｈ１よりも小さいとされる（ｈ３＜ｈ１）。まとめると、ｈ２＞ｈ１＞ｈ３である。

　また、この構成例では、溝部ＧＲは、特に、Ｙ方向で封止部ＳＬの付近の位置に形成されており、平面視で溝部ＧＲの領域が封止部ＳＬの領域内に重畳している。封止部ＳＬのＺ方向の下側の端部の一部は、溝部ＧＲ内に入り込むようにして形成されている。これにより、この構成では、非表示領域ＮＡの短縮と共に、封止部ＳＬの接着性能を強めている。

　この構成例では、Ｙ方向での規制部ＤＭ１の領域は、内端部Ｅ１側の一部の領域が、封止部ＳＬと重畳する重畳領域ｒ１となっており、他の外端部Ｅ２側の領域が、非重畳領域ｒ２となっている。重畳領域ｒ１では、規制部ＤＭ１の上面（面ｓｆ４）の絶縁膜ＩＮＳ２３と封止部ＳＬの端部とが直接的に接触している。溝部ＧＲでは、配向膜ＡＬ１と封止部ＳＬの端部とが接触している。

　この構成例では、規制部ＤＭ１、封止部ＳＬ、および溝部ＧＲを含む領域が、非表示領域ＮＡとなる。なお、第２基板ＳＢ２側の配向膜ＡＬ２についても、上記と同様に、パターニング方式によって規制部ＤＭ２が形成されてもよい。

　また、この構成例でも、非表示領域ＮＡにおいて、映像信号線ＷＲ１，ＷＲ２、およびシールド電極ＳＥが形成されている。この映像信号線ＷＲ１，ＷＲ２、およびシールド電極ＳＥは、封止部ＳＬおよび溝部ＧＲよりも内側の位置に形成されている。このシールド電極ＳＥは、絶縁膜ＩＮＳ２２上の共通電極ＥＣと同一の層に形成され、絶縁膜ＩＮＳ２３で覆われている。なお、これに限らず、シールド電極ＳＥが溝部ＧＲ内に出て配向膜ＡＬ１等と接触するように形成されてもよい。

　［溝部構成］
　図２５は、実施の形態２で、図２４の溝部ＧＲおよび規制部ＤＭ１の構成に関して、平面視の概略構成を示す。図２５では、配向膜ＡＬ１の主要な領域２５１と、溝部ＧＲの領域２５２と、規制部ＤＭ１とを示す。領域２５１は、図２４の高さｈ２の領域に対応する。領域２５２は、図２４の高さｈ３の領域に対応する。図２５の規制部ＤＭ１は、図７と同様に内端部Ｅ１側で凹凸形状である場合を示すが、これに限らず各種の形状が可能である。

　溝部ＧＲ内で、配向膜ＡＬ１（配向膜ワニス）の端部は、方向４０１で、規制部ＤＭ１の内端部Ｅ１の凹凸形状に当たって方向４０２で跳ね返される。その際、実施の形態１での作用と同様に、跳ね返りのムラが低減される。図２５では跳ね返りのムラ領域２５３とそのムラ領域２５３の幅Ｍ３を示す。実施の形態２では、ムラ領域２５３の幅Ｍ３と規制部ＤＭ１の幅Ｈ１とを合わせた総合的な幅（Ｈ１＋Ｍ３）を低減できる。

　実施の形態２で、規制部ＤＭ１の凹凸の幅Ｗ１は、実施の形態１と同様に、Ｗ１≦１００μｍとされる。また、例えば、溝部ＧＲの幅ＷＧは２００μｍ以下とされる（ＷＧ≦２００μｍ）。溝部ＧＲの幅ＷＧは、例えば凹凸の形成の間隔ｐｔ５に対し、２倍程度とされる（ＷＧ≒ｐｔ５×２）。

　［効果等（２）］
　上記のように、実施の形態２の液晶表示装置１によれば、実施の形態１と同様に、規制部ＤＭによって、配向膜（配向膜ＡＬ１）の端部形状のムラを改善でき、装置の小型化や高密度実装に寄与できる。すなわち、実施の形態２によれば、狭額縁構成等を実現できる。実施の形態２では、パターニング方式を用いるので、形成時に、マスク、エッチング等の複数の工程が必要であるが、パターニング加工によって規制部ＤＭの凹凸形状を詳細に制御可能である。

　（実施の形態３）
　図２６～図３９を用いて、本発明の実施の形態３の液晶表示装置について説明する。以下では、実施の形態３における実施の形態１，２とは異なる構成部分を説明する。実施の形態３の液晶表示装置は、他の形状を持つ規制部を有する。

　［規制部－概要］
　実施の形態３の液晶表示装置は、例えば図３と同様に、第１規制部ＤＭＡである下辺規制部ＤＭ１１および上辺規制部ＤＭ１２において、例えば図２６のように第１基板ＳＢ１側および第２基板ＳＢ２側に、特有の形状の規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）を備える。この特有の形状の規制部ＤＭは、後述の図２７のように、隙間を持つ複数の領域を有する。

　図２６は、実施の形態３の液晶表示装置１で、下辺規制部ＤＭ１１の規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）、配向膜ＡＬ（ＡＬ１，ＡＬ２）、および封止部ＳＬ等に関する断面（Ｙ－Ｚ面）の構成例を示す。図２７は、図２６の特に第１基板ＳＢ１側の規制部ＤＭ１１に関して、特有の形状の規制部の構成例を示す。図２７の（Ａ）は第１構成例の規制部ＤＭ３１の概略構成を示し、（Ｂ）は第２構成例の規制部ＤＭ３２の概略構成を示す。実施の形態３で、第１規制部ＤＭＡは、図２７のような規制部ＤＭ３１または規制部ＤＭ３２によって構成される。図２８は、第１構成例の規制部ＤＭ３１等の平面視の詳細構成を示す。図２９は、第２構成例の規制部ＤＭ３２等の平面視の詳細構成を示す。図３０は、第１構成例の規制部ＤＭ３１に関する第１変形例の規制部ＤＭ３３の平面視の詳細構成を示す。図３１は、第２構成例の規制部ＤＭ３２に関する第２変形例の規制部ＤＭ３４の平面視の詳細構成を示す。図３２～図３８は、実施の形態３での各種の変形例の規制部の構成を示す。図３９は、実施の形態３に対する比較例の規制部ＤＭ３０等の構成を示す。

　［規制部および封止部－断面］
　図２６の断面で、この構成例では、Ｙ方向で、非表示領域ＮＡにおいて、配向膜ＡＬ（ＡＬ１，ＡＬ２）の端部の外側に、規制部ＤＭ（ＤＭ１，ＤＭ２）の領域２６１、および封止部ＳＬの領域２６０を有する。Ｙ方向で、封止部ＳＬの領域２６０において、規制部ＤＭの領域２６１がすべて重畳して含まれるように配置されている。Ｙ方向で、規制部ＤＭの領域２６１の内端部Ｅ１および外端部Ｅ２の両側には、規制部ＤＭが重畳していない封止部ＳＬの領域がある。この構成例では、規制部ＤＭと封止部ＳＬとが重畳して配置されている。よって、規制部ＤＭおよび封止部ＳＬのために必要な領域の全体的な幅が少なく、非表示領域ＮＡの幅を少なくできるので、狭額縁構成に有利である。実施の形態３における規制部ＤＭおよび封止部ＳＬに関する断面構成は、この構成例に限らず、実施の形態１等で説明した各種の構成例が同様に適用可能である。

　［規制部－比較例］
　図３９で、比較例の液晶表示装置における、額縁領域の下辺部の一部の領域３９０に関する規制部ＤＭ３０の構成例を示す。この規制部ＤＭ３０は、図２０の規制部２０１と同様に、Ｘ方向に沿って直線状である。図３９の構成例では、Ｙ方向で、一定の幅ＨＳ０を持つ封止部ＳＬ０の領域を有する。幅ＨＳ０は例えば４００μｍである。封止部ＳＬ０の領域内で、平面視で重畳するように、Ｙ方向で一定の幅Ｈ３０を持つ規制部ＤＭ３０の領域を有する。幅Ｈ３０は例えば２００μｍである。規制部ＤＭ３０の内端部Ｅ１および外端部Ｅ２の両側には、幅Ｌ３０を持つ封止部ＳＬ０の領域がある。この領域の幅Ｌ３０は例えばそれぞれ１００μｍである。

　第１基板の絶縁膜上に、規制部ＤＭ３０が形成される。その後、図示しないが、規制部ＤＭ３０の内端部Ｅ１側に、配向膜が形成される。配向膜の形成時には、配向膜ワニスが主な方向４０１（方向Ｙ２）で塗布される。この配向膜ワニスの流れは、規制部ＤＭ３０の内端部Ｅ１側で塞き止められて跳ね返りが生じる。ムラ領域Ｍ３０は、配向膜の端部のムラの概念を示す。絶縁膜上の規制部ＤＭ３０および配向膜の形成後、それらの部材のＺ方向の上側、幅ＨＳ０の領域に、封止部ＳＬ０が形成される。その際、封止部材料は、内端部Ｅ１側の領域にある配向膜、外端部Ｅ２側の領域にある絶縁膜、および規制部ＤＭ３０のそれぞれと密着し、接着される。

　後述の比較説明用に、単位領域Ｕ０等を示す。単位領域Ｕ０は、Ｙ方向の幅ＨＳ０と、Ｘ方向の単位長さＵＬ０とを持つ。単位長さＵＬ０は例えば１００μｍである。単位領域Ｕ０の面積である単位領域面積Ｑ０は、例えばＨＳ０×ＵＬ０＝４００μｍ×１００μｍである。単位領域面積Ｑ０は、規制部面積Ｑ１と非規制部面積Ｑ２とから成る（Ｑ０＝Ｑ１＋Ｑ２）。規制部面積Ｑ１は、規制部ＤＭ３０の部分の面積である。非規制部面積Ｑ２は、規制部ＤＭ３０以外の配向膜や絶縁膜の部分、すなわち幅Ｌ３０の部分の面積である。

　［規制部］
　図２７で、実施の形態３の液晶表示装置１における、額縁領域ＦＡの下辺部の一部の領域２７０に関する、第１構成例の規制部ＤＭ３１、および第２構成例の規制部ＤＭ３２の平面視の概略構成を示す。第１構成例の規制部ＤＭ３１は、図４の構成例で各円状領域間に隙間を設けた形態と捉えることもできる。

　（Ａ）で、第１構成例の規制部ＤＭ３１は、Ｙ方向で１列の複数の円形領域ＲＣ１を有する。なお、円形領域を円と記載する場合がある。１列の複数の円形領域ＲＣ１は、Ｙ方向で、配置中心位置Ｃ１である位置ｙ３１に配置されている。すなわち、各円形領域ＲＣ１の中心点は、位置ｙ３１の直線上にある。１列において、複数の円形領域ＲＣ１は、Ｘ方向で隣り合う各円間が離間して隙間５１を持って配列されている。隙間５１はＸ方向の距離Ｋ１を持つ。距離Ｋ１は、隣り合う２つの円形領域ＲＣ１の最も近いエッジ間の距離である。距離Ｋ１は例えば７０μｍである。１列の複数の円における隣り合う各円は、所定の間隔ｋ３１で配置されている。間隔ｋ３１は、円中心点間の距離である。１つの円形領域ＲＣ１は、直径Ｒ３１を持つ。規制部ＤＭ３１のＹ方向の幅Ｈ３１は、円形領域ＲＣ１の直径Ｒ３１と同じである。幅Ｈ３１および直径Ｒ３１は、比較例の幅Ｈ３０と同じとし、例えば２００μｍである。

　封止部ＳＬは、Ｙ方向で一定の幅ＨＳ１の領域に配置されている。幅ＨＳ１は比較例の幅ＨＳ０と同じとし、例えば４００μｍである。封止部ＳＬの幅ＨＳ１の領域内に、規制部ＤＭ３１が重畳して含まれるように配置されている。規制部ＤＭ３１および円形領域ＲＣ１の幅Ｈ３１のうち最も内側（図示左側）の位置を線ａ３１で示し、最も外側（図示右側）の位置を線ａ３２で示す。

　後述の比較説明用に単位領域Ｕ１等を示す。単位領域Ｕ１は、Ｙ方向の幅ＨＳ１と、Ｘ方向の単位長さＵＬ１とを持つ。単位長さＵＬ１は、Ｘ方向で隣り合う２つの円における対応するエッジ間の距離であり、円中心点間の距離（間隔ｋ３１）と同じであり、例えば２７０μｍである。単位領域Ｕ１の面積は、例えばＨＳ１×ＵＬ１＝４００μｍ×２７０μｍである。単位領域Ｕ１の面積は、規制部面積Ｑ１１と非規制部面積Ｑ１２とから成る。規制部面積Ｑ１１は、単位領域Ｕ１のうちの円形領域ＲＣ１の面積である。非規制部面積Ｑ１２は、単位領域Ｕ１のうちの円形領域ＲＣ１以外の面積である。

　（Ｂ）で、第２構成例の規制部ＤＭ３２は、Ｙ方向で２列の円群として、第１列の複数の円形領域Ｒｃ１、および第２列の複数の円形領域Ｒｃ２を有する。Ｙ方向で、内側の第１列の円群は位置ｙ３２に配置され、外側の第２列の円群は位置ｙ３３に配置されている。第１列の構成と第２列の構成は、基本的に同様であるが、Ｘ方向の円の配置位置が異なる。各列の円の直径Ｒ３２は同じであり、例えば１００μｍである。１列の複数の円における隣り合う各円は、所定の間隔ｋ３２で配置されている。間隔ｋ３２は例えば２７５μｍである。２列全体で、複数の円は、Ｘ方向の円の配置位置が互い違いにずれを持つ。本例では、第１列のＸ方向で隣り合う２つの円形領域Ｒｃ１の間隔ｋ３２のうちの中間位置に、第２列の円形領域Ｒｃ２が配置されている。第２構成例の規制部ＤＭ３２は、図９の構成例で各円状領域間に隙間を設けた形態と捉えることもできる。

　封止部ＳＬは、Ｙ方向で一定の幅ＨＳ２の領域に配置されている。幅ＨＳ２は、幅ＨＳ１，ＨＳ０と同じとし、例えば４００μｍである。封止部ＳＬの幅ＨＳ２の領域内に、規制部ＤＭ３２が重畳して含まれるように配置されている。２列の円群による規制部ＤＭ３２は、Ｙ方向の幅Ｈ３２を持つ。幅Ｈ３２は直径Ｒ３２の２倍である。幅Ｈ３２は、幅Ｈ３１，ＨＳ３０と同じとし、例えば２００μｍである。２列の円群は、Ｙ方向では隙間無く配置されている。規制部ＤＭ３２の配置中心位置Ｃ１である位置ｙ３１は、２列の位置（ｙ３２，ｙ３３）の中間位置である。規制部ＤＭ３２の幅Ｈ３２のうち最も内側の位置を線ａ３１で示し、最も外側の位置を線ａ３２で示す。

　２列全体で、Ｘ方向およびＹ方向に対して斜め方向で隣り合う２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）間には、隙間５２ａを有する。隙間５２ａは距離Ｋ２を持つ。距離Ｋ２は例えば７０μｍである。斜め方向で隣り合う２つの円は、間隔Ｇ２で配置されている。間隔Ｇ２は円中心点間の距離である。間隔Ｇ２は例えば１７０μｍである。Ｇ２＝Ｋ２＋Ｒ３２である。斜め方向とは、平面視でＸ方向およびＹ方向に対して交差する方向（第３方向）である。

　後述の比較説明用に単位領域Ｕ２等を示す。単位領域Ｕ２は、Ｙ方向の幅ＨＳ２と、Ｘ方向の単位長さＵＬ２とを持つ。単位長さＵＬ２は、１列の円群におけるＸ方向で隣り合う２つの円の対応するエッジ間の距離であり、円中心点間の距離（間隔ｋ３２）と同じであり、例えば２７５μｍである。単位領域Ｕ２の面積は、規制部面積Ｑ２１と非規制部面積Ｑ２２とから成る。規制部面積Ｑ２１は、２つの円（円形領域Ｒｃ１および円形領域Ｒｃ２）の面積である。非規制部面積Ｑ２２は、２つの円以外の面積である。

　実施の形態３における規制部ＤＭ３１や規制部ＤＭ３２は、形成方法として、実施の形態１と同様にインクジェット方式を適用可能であり、これに限らず、実施の形態２と同様にパターニング方式等も適用可能である。第２基板ＳＢ２側の規制部ＤＭ２も、第１基板ＳＢ１側の規制部ＤＭ１と同様の構成が可能である。なお、規制部ＤＭ３１や規制部ＤＭ３２を構成する複数の領域は、形成方法等に応じて、例えば図１３の（Ｂ）と同様に、形成の位置や形状に関して、ある程度の範囲内でのずれや揺れを持ってもよい。

　［規制部－第１構成例］
　図２８で、第１構成例の規制部ＤＭ３１に関する平面視の詳細構成を説明する。図２８の構成は、モデル形状を示し、実際の形状は、形成方法等に応じて、この形状から異なってもよい。規制部ＤＭ３１は、Ｙ方向で、内端部Ｅ１および外端部Ｅ２の各端部を有する。規制部ＤＭ３１の各端部は、実施の形態１と同様に、Ｘ方向に沿って概略的に凹凸形状を有する。本例では、内端部Ｅ１は、中心の位置ｙ３１から最も内側の線ａ３１までの範囲として示す。外端部Ｅ２は、中心の位置ｙ３１から最も外側の線ａ３２までの範囲として示す。内端部Ｅ１は、配向膜（前述の配向膜ＡＬ１）の端部と主に接する側の端部である。外端部Ｅ２は、内端部Ｅ１とは反対側にある端部であり、配向膜の端部の一部である配向膜端部６０１と接している。

　内端部Ｅ１において、複数の凹部４１および複数の凸部４２が構成されている。凸部４２は、円形領域ＲＣ１の中心から左側の半円部分によって構成されている。凹部４１は、Ｘ方向で隣り合う凸部４２間の領域として構成されており、隙間５１を含む。複数の凸部４２および円形領域ＲＣ１は、前述の間隔ｋ３１で配置されている。複数の凹部４１および複数の隙間５１は、同様に間隔ｋ３１で配置されている。外端部Ｅ２側においても、複数の凹部４３および複数の凸部４４が構成されている。凸部４４は、円形領域ＲＣ１の中心から右側の半円領域によって構成されている。凹部４３は、Ｘ方向で隣り合う凸部４４間の領域として構成されており、隙間５１を含む。

　規制部ＤＭ３１の形状は、位置ｙ３１の中心線に対して対称形状であるが、これに限らず、非対称形状としてもよい。複数の円（円形領域ＲＣ１）は、同じ直径Ｒ３１の真円形状としているが、これに限らず、後述の条件を満たす範囲内で、他の形状、例えば楕円形状等としてもよい。

　封止部ＳＬは、幅ＨＳ１の領域に配置されており、最も内側の位置を線ｂ３１、最も外側の位置を線ｂ３２で示す。封止部ＳＬは、規制部ＤＭ３１の幅Ｈ３１の領域の両側に、幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する（Ｌ３１＋Ｈ３１＋Ｌ３２＝ＨＳ１）。幅Ｌ３１の領域は、線ａ３１から線ｂ３１までの領域である。幅Ｌ３２の領域は、線ａ３２から線ｂ３２までの領域である。本例では、幅Ｌ３１，Ｌ３２は、同じであり、例えば１００μｍである。封止部ＳＬは、比較例の封止部ＳＬ０と同様に、図２６の絶縁膜ＩＮＳ１上、Ｚ方向の上側で、配向膜ＡＬ１、規制部ＤＭ１（ＤＭ３１）、および絶縁膜ＩＮＳ１に接するように配置される。

　また、図２８では、規制部ＤＭ３１によって広がりが規制される第１配向膜ＡＬ１の端部の一部である配向膜端部６０１についても示している。黒の矢印は、配向膜ワニスの流れの概要を示す。配向膜（前述の配向膜ＡＬ１）の形成時、主な方向４０１（方向Ｙ２）で配向膜材料である配向膜ワニスが塗布される。前述のように、逆の方向４０２（方向Ｙ１）で、配向膜ワニスの跳ね返りが、ある程度生じる。ムラ領域Ｍ３１は、配向膜の跳ね返りのムラの概念を示す。ムラ領域Ｍ３１は、内端部Ｅ１の線ａ３１を基準として内側にある領域である。

　配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、内端部Ｅ２の凹凸形状に当たることで、跳ね返りムラが低減される。特に実施の形態３では、配向膜ワニスは、円形領域ＲＣ１に当たってその領域を避けるようにして、隙間５１に進入する。言い換えると、配向膜ワニスは、円形領域ＲＣ１（凸部４２）に当たって、凹部４１に入り込み、隙間５１へ進む。配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、隙間５１を通り、外端部Ｅ２側の凹部４３へ進む。この際、第１構成例では、配向膜端部６０１は、図示のように、中心の位置ｙ３１付近まで進み、その位置ｙ３１から外側に少し出る程度で止められる。この際、隙間５１では、Ｘ方向で隣り合う円形領域ＲＣ１の側面間で、配向膜ワニスとの間に、表面張力が働く。これにより、配向膜端部６０１は、この隙間５１の位置ｙ３１付近で止められる。隙間５１の位置ｙ３１は、距離Ｋ１のようにＸ方向で最も狭くなっており、特に表面張力が働きやすい。円形領域ＲＣ１の側面は、例えば図５の断面と同様に、概略的にＺ方向に立っている。

　規制部ＤＭ３１の円形領域ＲＣ１を通るＥ－Ｅ線の断面（Ｙ－Ｚ面）は、例えば図５と同様に凹形状を有するが、これに限らず可能であり、図２３と同様に凸形状としてもよい。また、隙間５１を通るＦ－Ｆ線の断面（Ｙ－Ｚ面）を考えた場合、円形領域ＲＣ１は無く、絶縁膜ＩＮＳ１上の配向膜ＡＬ１（配向膜端部６０１を含む）および封止部ＳＬの断面を有する。

　この第１構成例では、配向膜ワニスが規制部ＤＭ３１内に隙間５１を通じて引き込まれる。比較例の規制部ＤＭ３０の場合、配向膜端部は内端部Ｅ１の直線の位置までしか行かない。また、実施の形態１の図４の規制部ＤＭ１の場合、配向膜端部は最大で内端部Ｅ１の線ｂ１の位置までしか行かない。第１構成例では、それらの構成よりも、方向Ｙ２で配向膜ワニスがより多く引き込まれる。よって、第１構成例では、それらの構成のムラ領域よりも、ムラ領域Ｍ３１の幅を低減できる。なお、ムラ領域Ｍ３１は、封止部ＳＬの線ｂ３１よりも内側に出ているが、これに限らず可能であり、封止部ＳＬの幅Ｌ３１の領域内に収まってもよい。

　第１構成例では、中心の位置ｙ３１付近で配向膜端部６０１が止められているが、これに限らず可能であり、概略的に規制部ＤＭ３１の幅Ｈ３１の範囲内で配向膜端部６０１が形成されていればよい。

　上記のように、実施の形態３における第１構成例の規制部ＤＭ３１によれば、配向膜ワニスが隙間５１を通じて引き込まれるので、配向膜ワニスの方向Ｙ１への跳ね返りが抑制され、ムラ領域Ｍ３１が低減できる。それと共に、配向膜ワニスの方向Ｙ２での封止部ＳＬ（線ｂ３２）よりも外側への広がりが規制される。これにより、非表示領域ＮＡの幅を狭くでき、狭額縁構成に有利である。さらに、規制部ＤＭ３１によれば、円群の形状とし、隙間５１を設けているので、単位領域Ｕ１における規制部面積Ｑ１１の比率が小さく、非規制部面積Ｑ１２の比率が大きい。すなわち、封止部ＳＬが規制部ＤＭ３１と接する面積である規制部面積Ｑ１１の比率が小さい。これにより、実施の形態３では、封止部ＳＬによる接着性能も維持または向上することができ、剥がれ等を防止できる。

　なお、図２８では平面視での配向膜材料の流れを示したが、Ｚ方向の断面（例えばＥ－Ｅ線の断面やＦ－Ｆ線の断面）での配向膜材料の流れを考えた場合でも、同様に、規制部ＤＭ３１が障害物となって配向膜材料の広がりを止める機能を果たす。配向膜の形成時、配向膜ワニスの高さは、規制部ＤＭ３１の高さ以内でもよいし、規制部ＤＭ３１の高さ以上となってもよい。また、焼成等によって形成された後の配向膜の高さは、規制部ＤＭ３１の付近で、規制部ＤＭ３１の高さ以内でもよいし、規制部ＤＭ３１の高さ以上となってもよい。

　［規制部－第２構成例］
　図２９で、第２構成例の規制部ＤＭ３２に関する平面視の詳細構成を説明する。規制部ＤＭ３２は、２列の円群として、内側の第１列Ｖ１の複数の円形領域Ｒｃ１と、外側の第２列Ｖ２の複数の円形領域Ｒｃ２とを有する。規制部ＤＭ３２の２列全体は、配置中心位置Ｃ１である位置ｙ３１に配置されており、幅Ｈ３２を持つ。線ａ３１は、第１列Ｖ１の円群の左端に対応し、線ａ３２は、第２列Ｖ２の円群の右端に対応する。封止部ＳＬは、Ｙ方向の幅ＨＳ２の領域において、規制部ＤＭ３２の幅Ｈ３２の領域の両側に、幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する。本例では、この第２構成例での幅Ｌ３１，Ｌ３２は、第１構成例での幅Ｌ３１，Ｌ３２と同じである。本例では、内端部Ｅ１は、中心の位置ｙ３１に対し、第１列Ｖ１の円群の部分とし、外端部Ｅ２は、中心の位置ｙ３１に対し、第２列Ｖ２の円群の部分としている。

　規制部ＤＭ３２は、Ｙ方向の各端部で、概略的にＸ方向に沿って凹凸形状を有する。内端部Ｅ１側に、凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２側に、凹部４３および凸部４４が構成されている。凸部４２は、第１列Ｖ１の円群によって構成されている。凹部４１は、Ｘ方向で隣り合う凸部４２間に構成されている。凸部４４は、第２列Ｖ２の円群によって構成されている。凹部４３は、Ｘ方向で隣り合う凸部４４間に構成されている。複数の円形領域Ｒｃ１は、間隔ｋ３２で配置されている。複数の円形領域Ｒｃ２は、間隔ｋ３２で配置されている。第１列Ｖ１の隣り合う２つの円形領域Ｒｃ１の位置に対する中間位置に、第２列Ｖ２の円形領域Ｒｃ２が配置されている。２列全体では、Ｘ方向で隣り合う円形領域Ｒｃ１と円形領域Ｒｃ２は、間隔ｋ３２の半分の間隔で配置されている。

　規制部ＤＭ３２は、２列全体で、Ｘ方向およびＹ方向に対して斜め方向（例えば方向Ｄ３２）で隣り合う２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）を有する。斜め方向の２つの円は、間隔Ｇ２で配置されており、２つの円間に隙間５２ａを有する。隙間５２ａは距離Ｋ２を持つ。１つの凹部４１からは、方向が異なる２つの隙間５２ａにつながっている。また、別の捉え方では、規制部ＤＭ３２は、隙間５２ａに対応して、Ｘ方向での隙間５２ｂを有する。隙間５２ｂは距離Ｋ２ｂを持つ。本例では、Ｘ方向での隙間５２ｂがあるが、隙間５２ｂが無い構成も可能である。

　また、図２９では、規制部ＤＭ３２によって広がりが規制される第１配向膜ＡＬ１の端部の一部である配向膜端部６０２についても示している。黒の矢印は、配向膜ワニスの流れの概要を示す。配向膜（前述の配向膜ＡＬ１）の形成時、主な方向４０１（方向Ｙ２）で配向膜ワニスが塗布される。前述のように、逆の方向４０２（方向Ｙ１）で、配向膜ワニスの跳ね返りが、ある程度生じる。ムラ領域Ｍ３２は、配向膜の跳ね返りのムラの概念を示す。ムラ領域Ｍ３２は、内端部Ｅ１の線ａ３１を基準として内側にある領域である。

　配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、第１列Ｖ１の円形領域Ｒｃ１に当たって、凹部４１に入り込む。配向膜ワニスは、凹部４１から、第２列Ｖ２の円形領域Ｒｃ２に当たって、２つの隙間５２ａの方へ進む。配向膜ワニスは、各隙間５２ａを通り、外端部Ｅ２側の凹部４３へ進む。斜め方向で隣り合う円形領域Ｒｃ１と円形領域Ｒｃ２との隙間５２ａでは、配向膜ワニスとの間で、表面張力が働く。位置ｙ３１付近の隙間５２ａは、距離Ｋ２のように最も狭くなっており、表面張力が働きやすい。これにより、本例では、配向膜ワニスは、隙間５２ａの位置ｙ３１付近まで進み、表面張力によって止められて、配向膜端部６０２（６０２ａ，６０２ｂ）として形成される。配向膜端部６０２ａは、一方の隙間５２ａに形成された部分を示し、配向膜端部６０２ａは、他方の隙間５２ａに形成された部分を示す。なお、２つの配向膜端部６０３ａ，６０３ｂが１つの配向膜端部として合流してもよい。

　第２構成例では、中心の位置ｙ３１付近の２つの隙間５２ａで配向膜端部６０２が止められているが、これに限らず可能であり、概略的に規制部ＤＭ３２の幅Ｈ３２の範囲内で配向膜端部６０２が形成されていればよい。配向膜端部６０２は、外端部Ｅ２の範囲内の例えば位置ｙ３３付近や線ａ３２付近に形成されてもよい。

　上記のように、第２構成例の規制部ＤＭ３２によれば、配向膜ワニスが隙間５２ａを通じて引き込まれるので、配向膜ワニスの方向Ｙ１への跳ね返りが抑制され、ムラ領域Ｍ３２が低減できる。それと共に、配向膜ワニスの方向Ｙ２での封止部ＳＬ（線ｂ３２）よりも外側への広がりが規制される。これにより、非表示領域ＮＡの幅を狭くできる。さらに、規制部ＤＭ３２によれば、円群の形状とし、隙間５２ａを設けているので、単位領域Ｕ２における規制部面積Ｑ２１の比率が小さく、非規制部面積Ｑ２２の比率が大きい。すなわち、封止部ＳＬが規制部ＤＭ３２と接する面積である規制部面積Ｑ２１の比率が小さい。これにより、封止部ＳＬによる接着性能も維持または向上することができる。

　なお、図２９では平面視での配向膜材料の流れを示したが、Ｚ方向の断面での配向膜材料の流れを考えた場合でも、同様に、規制部ＤＭ３２が障害物となって配向膜材料の広がりを止める機能を果たす。第２構成例は、第１構成例に比べ、隙間の方向を、方向Ｙ２に対し斜め方向にし、凹部４１および凹部４３を広くしている。第２構成例は、その分、規制部ＤＭ３２内に配向膜ワニスを引き込みながら、塞き止めることができる。

　［規制部－第１変形例］
　図３０は、第１構成例および第２構成例に関する変形例（第１変形例とする）の規制部ＤＭ３３の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ３３は、第１の捉え方として、１列の円群により構成され、円群が配列されている中心線がジグザグ形状を有している。Ｘ方向で隣り合う２つの円形領域ＲＣ１は、Ｙ方向で異なる位置ｙ３２，ｙ３３に配置されている。位置ｙ３２と位置ｙ３３との距離を距離Ｙ３３とする。距離Ｙ３３は、円形領域ＲＣ１の直径Ｒ３３よりも小さい。本例では、距離Ｙ３３は、直径Ｒ３３の半分（すなわち半径）としている。この第１変形例では、封止部ＳＬの幅ＨＳ３および規制部ＤＭ３３の幅Ｈ３３は、第１構成例の幅ＨＳ１および幅Ｈ３１よりも、距離Ｙ３３の分、狭い。内端部Ｅ１側には凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２側には、凹部４３および凸部４４が構成されている。この規制部ＤＭ３３では、内端部Ｅ１側の凹部４１や外端部Ｅ２側の凹部４３は、より小さい凹部として構成されている。

　この規制部ＤＭ３３は、別の第２の捉え方として、２列の円群によって構成され、第１列が位置ｙ３２に配置され、第２列が位置ｙ３３に配置されている。第１列の円群と第２列の円群とが、互い違いにずれを持って配列されている。各列の円群は、Ｘ方向では間隔ｋ３３で配置されている。Ｙ方向で、第１列の円群の外端は位置ｙ３３にあり、第２列の円群の内端は位置ｙ３２にある。

　斜め方向（例えば方向Ｄ３３）で隣り合う２つの円形領域ＲＣ１は、間隔Ｇ３で配置されており、２つの円形領域ＲＣ１間には隙間５３ａを有する。隙間５３ａは距離Ｋ３を持つ。１つの凹部４１からは、方向が異なる２つの隙間５３ａにつながっている。また、別の捉え方では、規制部ＤＭ３３は、隙間５３ａに対応して、Ｘ方向での隙間５３ｂを有する。隙間５３ｂは距離Ｋ３ｂを持つ。

　図３０で、単位領域Ｕ３を同様に示す。単位領域Ｕ３は、幅ＨＳ３と単位長さＵＬ３とを持つ。単位領域Ｕ３の面積のうち、規制部面積は、２つの円形領域ＲＣ１の面積であり、非規制部面積は、２つの円形領域ＲＣ１以外の面積である。

　配向膜の形成時、配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、第１列の円形領域ＲＣ１に当たって凹部４１に入り込み、第２列の円形領域ＲＣ１に当たって、２つの隙間５３ａへ進む。配向膜ワニスは、２つの隙間５３ａを通じて、外端部Ｅ２側の凹部４３へ進む。その際、配向膜ワニスは、例えば配置中心位置Ｃ１付近の隙間５３ａで、円形領域ＲＣ１間での表面張力によって、配向膜端部６０３（６０３ａ，６０３ｂ）として止められる。これに限らず、配向膜端部６０３は、規制部ＤＭ３３の幅Ｈ３３の範囲内に形成されていればよい。配向膜端部６０３は、位置ｙ３３付近や線ａ３２付近に形成されてもよい。

　［規制部－第２変形例］
　図３１は、第２構成例に関する変形例（第２変形例とする）の規制部ＤＭ３４の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ３４は、規制部ＤＭ３２と同様に２列の円群で構成され、さらに、Ｙ方向で２列の円群間に隙間３１０を有する。隙間３１０はＹ方向の距離Ｙ３４を持つ。第１列Ｖ１の円（円形領域Ｒｃ１）および第２列Ｖ２の円（円形領域Ｒｃ２）は、同じ直径Ｒ３４を有する。第１列Ｖ１の円群および第２列Ｖ２の円群は、それぞれ間隔ｋ３４で配置されている。第１列Ｖ１の円群は、線ａ３１から線ａ３３までの領域に配置されている。第２列Ｖ２の円群は、線ａ３４から線ａ３２までの領域に配置されている。隙間３１０は、線ａ３３から線ａ３４までの領域である。本例では、内端部Ｅ１は第１列Ｖ１の円群の領域とし、外端部Ｅ２は第２列Ｖ２の円群の領域としている。

　内端部Ｅ１側では、第１列Ｖ１の円形領域Ｒｃ１および隙間３１０によって、凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２側では、第２列Ｖ２の円形領域Ｒｃ２および隙間３１０によって、凹部４３および凸部４４が構成されている。封止部ＳＬは、幅ＨＳ４の領域に配置されている。規制部ＤＭ３４は、幅Ｈ３４の領域に配置されている。幅Ｈ３４は、Ｒ３４＋Ｙ３４＋Ｒ３４である。規制部ＤＭ３４の領域の両側には幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する。

　斜め方向（例えば方向Ｄ３４）で隣り合う２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）は、間隔Ｇ４で配置されており、２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）間には、隙間５４ａを有する。隙間５４ａは距離Ｋ４を持つ。別の捉え方で、規制部ＤＭ３４は、Ｘ方向での隙間５４ｂを有し、隙間５４ｂは距離Ｋ４ｂを持つ。なお、隙間５４ｂを持たない構成も可能である。

　図３１で、単位領域Ｕ４を同様に示す。単位領域Ｕ４は、幅ＨＳ４と単位長さＵＬ４とを持つ。単位領域Ｕ４の面積のうち、規制部面積は、２つの円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２の面積であり、非規制部面積は、２つの円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２以外の面積である。

　配向膜の形成時、配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、第１列Ｖ１の円形領域Ｒｃ１に当たって、凹部４１に入り込む。配向膜ワニスは、凹部４１から、第２列Ｖ２の円形領域Ｒｃ２に当たって、２つの隙間５４ａの方へ進む。配向膜ワニスは、各隙間５４ａを通じて、外端部Ｅ２側の凹部４３へ進む。その際、配向膜ワニスは、例えば配置中心位置Ｃ１付近の隙間５４ａで、斜め方向で隣り合う２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）間での表面張力の作用によって、配向膜端部６０４（６０４ａ，６０４ｂ）として止められる。これに限らず、配向膜端部６０４は、概略的に規制部ＤＭ３４の幅Ｈ３４の範囲内に形成されていればよい。

　第２変形例では、規制部ＤＭ３４の幅Ｈ３４がより広く、Ｙ方向の隙間３１０を含め、配向膜ワニスがより引き込まれるので、その分、ムラ領域Ｍ３４をより低減できる。

　［規制部－条件］
　上記第１構成例の規制部ＤＭ３１、第２構成例の規制部ＤＭ３２、第１変形例の規制部ＤＭ３３、および第２変形例の規制部ＤＭ３４に関して、寸法等の形状の条件については以下の通りである。

　まず、図２８の第１構成例の規制部ＤＭ３１に関する条件については以下の通りである。この条件は、配向膜端部６０１を、規制部Ｄ３１の幅Ｈ３１の範囲内、特に図２８のように位置ｙ３１付近に形成するための、隙間５１の距離Ｋ１に関する条件である。隙間５１の距離Ｋ１は、以下の条件の式３を満たす。
　式３：　　　０＜Ｋ１≦１２０μｍ

　実装例では、距離Ｋ１＝７０μｍである。なお、隙間５１の距離Ｋ１、単位長さＵＬ１（＝ｋ３１）、幅Ｈ３１等は、所定の関係（Ｈ３１＋Ｋ１＝ＵＬ１，Ｋ１＝ＵＬ１－Ｈ３１）を有する。規制部ＤＭ３１は、この条件を満たすように、隙間５１を持つ形状を有する。この場合、前述のように、配向膜ワニスには、円形領域ＲＣ１間の隙間５１で、表面張力が十分に働き、配向膜端部６０１が位置ｙ３１付近に形成される。これにより、配向膜端部６０１は、少なくとも封止部ＳＬの線ｂ３２から外側へは出ない。また、隙間５１の距離Ｋ１の寸法等を調整する設計によって、配向膜端部６０１の位置等を調整可能である。

　第１変形例の規制部ＤＭ３３に関する隙間５３ａ（距離Ｋ３）の寸法等の条件についても、上記式３と同様であり、０＜Ｋ３≦１２０μｍとなる。

　次に、図２９の第２構成例の規制部ＤＭ３２に関する条件については以下の通りである。この条件は、配向膜端部６０２を、規制部Ｄ３２の幅Ｈ３２の範囲内、特に図２９のように隙間５２ａの位置ｙ３１付近の位置に形成するための、隙間５２ａの距離Ｋ２に関する条件である。この条件は、上記式３と同様であり、０＜Ｋ２≦１２０μｍとなる。実装例では、距離Ｋ２＝７０μｍである。規制部ＤＭ３２は、この条件を満たすように、隙間５２ａを持つ形状を有する。この場合、前述のように、配向膜ワニスには、斜め方向の円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２間の隙間５２ａで、表面張力が十分に働き、配向膜端部６０２が位置ｙ３１付近に形成される。これにより、配向膜端部６０２は、少なくとも封止部ＳＬの線ｂ３２から外側へは出ない。また、隙間５２ａの距離Ｋ２の寸法等を調整する設計によって、配向膜端部６０２の位置等を調整可能である。

　第２変形例の規制部ＤＭ３４に関する隙間５４ａ（距離Ｋ４）の寸法等の条件についても、上記式３と同様であり、０＜Ｋ４≦１２０μｍとなる。

　［規制部等の形成方法］
　例えば、図２８の規制部ＤＭ３１、配向膜（第１配向膜ＡＬ１）、および封止部ＳＬについては、インクジェット方式を用いて、以下のように形成可能である。（１）図２６の第１基板ＳＢ１の絶縁膜ＩＮＳ１までが形成されているとする。（２）インクジェット装置は、絶縁膜ＩＮＳ１面上、領域２６０（対応する幅ＨＳ１）に、規制部材料（ワニス）の液滴の吐出によって、規制部材料を塗布する。その際、インクジェット装置からの液滴の吐出の間隔や圧力等の制御によって、規制部ＤＭ３１における隙間５１を持つ複数の円形領域ＲＣ１が形成できる。（３）製造装置は、第１基板ＳＢ１上の規制部材料を、乾燥等によって固化する。これにより、規制部ＤＭ３１が形成される。

　（４）次に、インクジェット装置は、絶縁膜ＩＮＳ１面上において、規制部ＤＭ３１よりも内側の領域に、Ｙ方向（例えば方向Ｙ２）で、第１配向膜ＡＬ１の配向膜ワニスを、液滴の吐出によって塗布する。その際、前述のように、規制部ＤＭ３１によって配向膜ワニスの無用な広がりが規制され、規制部ＤＭ３１の範囲内で配向膜端部６０１が形成される。（５）製造装置は、第１基板ＳＢＩ上の配向膜ワニスを乾燥等によって固化する。（６）製造装置は、第１基板ＳＢ１上の規制部材料および配向膜ワニスを、焼成等によって反応させる。（７）製造装置は、例えば光配向方式を用いて第１配向膜ＡＬ１を配向処理する。第２基板ＳＢ２側の規制部や配向膜についても同様に形成可能である。

　（８）その後、第１基板ＳＢ１と第２基板ＳＢ２との間に封止部ＳＬを形成する工程は以下のようになる。（８－１）まず、第１基板ＳＢ１上の幅ＨＳ１の領域において、規制部ＤＭ３１、絶縁膜ＩＮＳ１および第１配向膜ＡＬ１のＺ方向の上側に、封止部材料、例えば紫外光硬化性の接着材が配置される。（８－２）真空環境で、第１基板ＳＢ１の封止部材料による枠内に、液晶が滴下される。（８－３）第１基板ＳＢ１および封止部材料等の上側に、第２基板ＳＢ２が被せられる。（８－４）大気圧環境にすることで、Ｚ方向で第１基板ＳＢ１と第２基板ＳＢ２との間の封止部材料が上下から押され、各部材が密着する。（８－５）封止部材料に対する紫外線照射によって、封止部材料が硬化する。これにより、封止部ＳＬが形成される。上記工程の際、封止部材料は、規制部ＤＭ３１の上面や側面、第１配向膜ＡＬ１の上面や配向膜端部６０１、絶縁膜ＩＮＳ１の上面等に触れて密着される。

　［封止部の接着性能］
　図３９の比較例の規制部ＤＭ３０と、図２７の第１構成例の規制部ＤＭ３１および第２構成例の規制部ＤＭ３２との比較で、封止部ＳＬの接着性能について説明する。比較例の規制部ＤＭ３０、配向膜、および封止部ＳＬ０の構成で、封止部材料と他の部材（すなわち規制部ＤＭ３０、配向膜、および絶縁膜）との接着時の密着強度を、基準として１とする。この場合に、本発明者による見積り計算によれば、第１構成例の規制部ＤＭ３１の密着強度は約１．４２になり、規制部ＤＭ３２の密着強度は約１．７２になる。この見積り計算は、以下のような考えに基づいてなされている。

　封止部ＳＬの密着強度は、概略的に、平面視で、封止部ＳＬの全領域の面積のうち、規制部に触れていない封止部ＳＬの面積に比例する。封止部ＳＬの全領域の面積のうち、規制部に触れている領域の面積が大きいほど、密着強度が低下する。すなわち、密着強度は、概略的に、平面視での封止部形成領域における、規制部面積と非規制部面積との比率に応じて決定される。実施の形態３では、材料等の設計に応じて、封止部ＳＬの接着性能に関して、規制部ＤＭよりも、配向膜や絶縁膜等の非規制部の方が、密着強度が高い。よって、上記のように、封止部形成領域における規制部面積の比率を下げるほど、全体での密着強度を高めることができる。

　まず、図３９の比較例の規制部ＤＭ３０の構成で考えると以下のようになる。単位領域Ｕ０の面積である単位領域面積Ｑ０は、例えば、Ｑ０＝４００μｍ×１００μｍ＝４００００μｍ^２＝０．０４ｍｍ^２である。単位領域面積Ｑ０のうち、規制部面積Ｑ１は、封止部ＳＬ０が規制部ＤＭ３０に触れる面積に対応する。例えば、Ｑ１＝２００μｍ×１００μｍ＝０．０２ｍｍ^２である。非規制部面積Ｑ２は、封止部ＳＬ０が規制部ＤＭ３０に触れない面積に対応し、配向膜または絶縁膜が配置される領域である。例えば、Ｑ２＝２００μｍ×１００μｍ＝０．０２ｍｍ^２である。単位領域面積Ｑ０における規制部面積Ｑ１と非規制部面積Ｑ２との比率に応じて、封止部ＳＬ０による密着強度が決定される。例えば、単位領域面積Ｑ０のうちの規制部面積Ｑ１の比率は、０．０２ｍｍ^２÷０．０４ｍｍ^２＝０．５である。単位領域面積Ｑ０のうちの非規制部面積Ｑ２の比率は、０．５である。

　一方、実施の形態３では、規制部ＤＭの構成を、比較例のような直線形状から、第１構成例等のように、隙間を持つ円群の形状に変更している。これにより、実施の形態３では、比較例に対し、封止部ＳＬが規制部ＤＭに触れる面積（規制部面積Ｑ１）の比率を下げることができ、封止部ＳＬが規制部ＤＭに触れない面積（非規制部面積Ｑ２）の比率を上げることができる。この結果、実施の形態３では、封止部ＳＬによる密着強度、すなわち接着性能を高めることができる。

　図２７の（Ａ）の第１構成例の規制部ＤＭ３１で考えると以下のようになる。単位領域Ｕ１の面積は、例えば、ＨＳ１×ＵＬ１＝４００μｍ×２７０μｍ＝０．１０８ｍｍ^２である。そのうち、規制部面積Ｑ１１は、直径Ｒ３１（例えば２００μｍ）の円形領域ＲＣ１の面積であり、π×１００μｍ×１００μｍ≒０．０３１４ｍｍ^２である。単位領域Ｕ１のうちの規制部面積Ｑ１の比率は、０．０３１４ｍｍ^２÷０．１０８ｍｍ^２≒０．２９である。単位領域Ｕ１のうちの非規制部面積Ｑ２の比率は、約０．７１である。比較例の非規制部面積Ｑ２の比率＝０．５に対し、第１構成例では、Ｑ１２≒０．７１である。０．７１÷０．５＝１．４２であるから、第１構成例の封止部ＳＬ１の密着強度は、比較例の密着強度に対し、約１．４２倍に高くなる。

　図２７の（Ｂ）の第２構成例の規制部ＤＭ３２で考えると以下のようになる。単位領域Ｕ２の面積は、例えば、ＨＳ２×ＵＬ２＝４００μｍ×２７５μｍ＝０．１１ｍｍ^２である。そのうち、規制部面積Ｑ２１は、直径Ｒ３２（例えば１００μｍ）の円形領域Ｒｃ１の面積の２個分であり、２×π×５０μｍ×５０μｍ≒２×０．００７８５ｍｍ^２＝０．０１５７ｍｍ^２である。単位領域Ｕ２のうちの規制部面積Ｑ２１の比率は、０．０１５７ｍｍ^２÷０．１１ｍｍ^２≒０．１４である。単位領域Ｕ２のうちの非規制部面積Ｑ２２の比率は、約０．８６である。比較例の非規制部面積Ｑ２の比率＝０．５に対し、第２構成例では、Ｑ２２＝０．８５８である。０．８６÷０．５≒１．７２であるから、第２構成例の封止部ＳＬ２の密着強度は、比較例の密着強度に対し、約１．７２倍に高くなる。

　なお、より詳細には以下のように考えることもできる。実施の形態３では、封止部材料が接する、規制部ＤＭ以外の２種類の部材として、配向膜と絶縁膜がある。実施の形態３における設計例では、封止部材料との密着強度に関して、配向膜と絶縁膜とでは、殆ど変わらないものとした。そのため、上記見積り計算では、非規制部面積は、配向膜と絶縁膜との違いによらない１つの領域の面積とした。

　他の実施の形態として、材料設計に応じて、封止部との密着強度に関して、配向膜と絶縁膜とで異なるものとしてもよい。その場合、非規制部面積の詳細として、配向膜領域面積と絶縁膜領域面積とのそれぞれを用いて、密着強度を計算し、各部材の面積等を設計すればよい。

　例えば、図２８の第１構成例の規制部ＤＭ３１では、配向膜端部６０１が、中心の位置ｙ３１付近にある。この構成では、平面視で、封止部ＳＬが形成される幅ＨＳ１の領域において、配向膜の領域の面積と、絶縁膜の領域の面積とが、同じ程度である。それに対し、例えば後述の図３２の（Ａ）の第３変形例の規制部ＤＭ３５では、配向膜端部６０５が、外端部Ｅ２の線ａ３２付近にある。この構成では、平面視で、封止部ＳＬが形成される幅ＨＳ１の領域において、配向膜の領域の面積の方が、絶縁膜の領域の面積よりも大きい。

　このように、封止部形成領域における配向膜端部の位置に応じて、配向膜領域面積と絶縁膜領域面積とを設計できる。これらの各部材の面積に応じて、封止部との密着強度を計算可能である。例えば、材料設計に応じて、封止部材料と配向膜との密着強度よりも、封止部材料と絶縁膜との密着強度の方が高い場合、絶縁膜領域面積がなるべく大きくなるように、配向膜端部の位置を設計すればよい。例えば、配向膜端部６０１の位置を、内端部Ｅ１側に近い位置にすればよい。逆に、封止部材料と配向膜との密着強度よりも、封止部材料と絶縁膜との密着強度の方が低い場合、配向膜領域面積がなるべく大きくなるように、配向膜端部の位置を設計すればよい。例えば、配向膜端部６０１の位置を、外端部Ｅ２側に近い位置にすればよい。

　［規制部－第３変形例、第４変形例］
　図３２の（Ａ）は、第１構成例に関する他の変形例（第３変形例とする）の規制部ＤＭ３５の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ３５は、規制部ＤＭ３１と同様の形状を持つが、異なる構成点として、配向膜端部６０５が、Ｙ方向で、外端部Ｅ２の最も外側の線ａ３２付近まで伸びて止められている。例えば、第３変形例の隙間５１の距離は、第１構成例の隙間５１の距離Ｋ１よりも広くされている。この第３変形例では、配向膜ワニスが隙間５１を通じて規制部ＤＭ３５内により多く引き込まれるので、ムラ領域Ｍ３５をより低減できる。

　図３２の（Ｂ）は、第１構成例に関する他の変形例（第４変形例とする）の規制部ＤＭ３６の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ３６は、異なる構成点として、配向膜端部６０６が、Ｙ方向で、外端部Ｅ２の線ａ３２を越えて、さらに外側の位置ｙ３６付近まで伸びて止められている。配向膜端部６０６は、封止部ＳＬの外側の線ｂ３２よりも内側に収まっている。１つの配向膜端部６０６は、Ｘ方向で隣り合う２つの円形領域ＲＣ１間で、外端部Ｅ２側の斜面間に、表面張力によって保持されている。このように、配向膜端部は、規制部ＤＭの幅の範囲から外側に出ても、封止部ＳＬの範囲内に収まっていればよい。

　［規制部－第５変形例］
　図３３は、第２構成例に関する他の変形例（第５変形例とする）の規制部ＤＭ３７の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ３７は、複数の列、例えば２列の円群によって構成され、それらの各列の円形領域のＸ方向の配置位置が同じである。本例では、規制部ＤＭ３７は、位置ｙ３２に配置された第１列Ｖ１の複数の円形領域Ｒｃ１と、位置ｙ３３に配置された第２列Ｖ２の複数の円形領域Ｒｃ２とを有する。２列での各円のＸ方向の配置位置が同じであり、前述のずれを持たない。各列の円は、同じ直径Ｒ３７を持つ。規制部ＤＭ３７は、２列による幅Ｈ３７を持つ。本例では、Ｙ方向では２列の円群が接して配置されており、隙間が無い。２列の円群は、位置ｙ３２と位置ｙ３３との距離Ｙ３７（＝Ｒ３７）を持って配置されている。

　Ｘ方向で、隣り合う２つの円は、間隔ｋ３７で配置されている。規制部ＤＭ３７は、２列全体で、Ｘ方向で隣り合う２つの円間には、隙間５７を有する。隙間５７は、Ｘ方向の距離Ｋ７を持つ。この隙間５７は、内端部Ｅ１から外端部Ｅ２までＸ方向で貫通している。

　本例では、内端部Ｅ１は、第１列Ｖ１の円群の領域としており、外端部Ｅ２は、第２列Ｖ２の円群の領域としている。内端部Ｅ１には凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２には凹部４３および凸部４４が構成されている。封止部ＳＬは、幅ＨＳ７の領域に配置されている。規制部ＤＭ３７の両側には、幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する。本例では、この幅Ｌ３１，Ｌ３２は、第１構成例や第２構成例での幅Ｌ３１，Ｌ３２よりも狭くしている。

　この第５変形例では、配向膜端部６０７は、概略的に規制部ＤＭ３７の幅Ｈ３７の範囲内にあればよい。本例では、配向膜端部６０７は、第２列Ｖ２の位置ｙ３３付近の隙間５７で止められている。配向膜の形成時、配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、第１列Ｖ１の円形領域Ｒｃ１に当たって凹部４１に入り込み、隙間５７に進む。配向膜ワニスは、隙間５７を進み、第２列Ｖ２の円形領域Ｒｃ２間の位置ｙ３３付近で、表面張力によって止められる。

　例えば、１列の円群では配向膜ワニスの流れを止められない場合等に、この第５変形例のようにＹ方向に複数列の円群を設ける構成としてもよい。なお、第５変形例で、さらに、Ｙ方向で隣り合う２列の円群間に隙間を設けた構成としてもよい。この隙間に配向膜ワニスが入り込んでもよい。

　［規制部－第６変形例］
　図３４は、第２構成例に関する他の変形例（第６変形例とする）の規制部ＤＭ３８の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ３８は、３列の円群によって構成されている。列毎の円群の直径Ｒ３８等の構成は同じである。３列の円群は、位置ｙ８１，ｙ８２，ｙ８３で等間隔に配置されている。位置ｙ８１には、内端部Ｅ１側の第１列Ｖ１の複数の円形領域Ｒｃ１が配列されている。位置ｙ８２には、中間領域３４０の第２列Ｖ２の複数の円形領域Ｒｃ２が配列されている。位置ｙ８３には、外端部Ｅ２側の第３列Ｖ３の複数の円形領域Ｒｃ３が配列されている。第１列Ｖ１の円群および第３列Ｖ３の円群の配置位置に対し、Ｙ方向で中間位置に、第２列の円群が配置されている。言い換えると、この第６変形例では、規制部ＤＭ３８は、３列全体で、円群（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２，Ｒｃ３）が、Ｘ方向およびＹ方向で互い違いのチェッカー状に配列されている。各列で、Ｘ方向で隣り合う円形領域は、間隔ｋ３８で配置されている。

　本例では、内端部Ｅ１は、第１列Ｖ１の線ａ８１から線ａ８２までの領域としている。外端部Ｅ２は、第３列Ｖ３の線ａ８３から線ａ８４までの領域としている。第１列Ｖ１の円群と第３列Ｖ３の円群との間にある、第２列Ｖ２の線ａ８２から線ａ８３までの領域を、中間領域３４０とする。本例では、Ｘ方向の円間およびＹ方向の列間には隙間を設けていないが、各隙間を設ける構成も可能である。内端部Ｅ１側には、凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２側には、凹部４３および凸部４４が構成されている。規制部ＤＭ３８の幅Ｈ３８は、３列の円群の合計の幅（Ｒ３８×３）である。この規制部ＤＭ３８は、３列の構成とすることで、幅Ｈ３８が、第２構成例の幅Ｈ３６よりも広くなっている。封止部ＳＬは、幅ＨＳ８の領域に配置されている。規制部ＤＭ３８の幅Ｈ３８の領域の両側には、幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する。この幅Ｌ３１，Ｌ３２は、第２構成例での幅Ｌ３１，Ｌ３２よりも狭くしている。

　内端部Ｅ１側で、斜め方向（例えば方向Ｄ３８）で隣り合う２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）間には、隙間５８ａを有する。隙間５８ａは距離Ｋ８を持つ。凹部４１からは２つの隙間５８ａにつながっている。同様に、外端部Ｅ２側で、斜め方向で隣り合う２つの円（円形領域Ｒｃ２，Ｒｃ３）間には、隙間５８ｂを有する。隙間５８ｂは距離Ｋ８を持つ。凹部４３からは２つの隙間５８ｂにつながっている。斜め方向で隣り合う２つの円は、それぞれ、間隔Ｇ８で配置されている。

　第６変形例では、配向膜端部６０８は、概略的に規制部ＤＭ３８の幅Ｈ３８の範囲内に形成されていればよい。配向膜の形成時、配向膜ワニスは、第１列Ｖ１の円形領域Ｒｃ１に当たって凹部４１に入り込み、第２列Ｖ２の円形領域Ｒｃ２に当たって、２つの隙間５８ａへ進む。配向膜ワニスは、２つの隙間５８ａを通じて、中間領域３４０に入り込む。配向膜ワニスは、中間領域３４０から、第３列Ｖ３の円形領域Ｒｃ３に当たって、２つの隙間５８ｂへ進む。配向膜ワニスは、２つの隙間５８ｂを通じて、外端部Ｅ２側の凹部４３に進む。この際、本例では、配向膜端部６０８（６０８ａ，６０８ｂ）は、線ａ８３付近の隙間５８ｂで、円形領域Ｒｃ２，Ｒｃ３間での表面張力によって止められている。他の構成例では、配向膜端部６０８が例えば中間領域３４０内に形成されてもよい。

　第６変形例は、Ｙ方向で複数列の円群を設けることで、多段の隙間を設けている。これにより、配向膜ワニスの流れを止める力を、より大きくできる。同様に、規制部は、４列以上の円群で構成されてもよい。

　［規制部－第７変形例］
　図３５は、第２構成例に関する他の変形例（第７変形例とする）の規制部ＤＭ３９の構成を示す。この規制部ＤＭ３９は、２列の円群で構成され、第１列の円形領域Ｒｃ１と第２列の円形領域Ｒｃ２とが、一方の斜め方向Ｄ３８で接しているか一部重なっており、隙間が無い。これらの２つの円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２は、間隔Ｇ９ａで配置されている。他方の斜め方向では、隣り合う２つの円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２が離間して隙間５９を有する。隙間５９は距離Ｋ９を持つ。これらの２つの円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２は、間隔Ｇ９ｂで配置されている。別の捉え方では、規制部ＤＭ３９は、隙間５９に対応して、Ｘ方向での隙間５９ｂを有する。この第７変形例の規制部ＤＭ３９は、内端部Ｅ１側と外端部Ｅ２側との間に、概略的に斜め方向に伸びる隙間５９が構成されている。

　第１列の円群は、直径Ｒ３９を持ち、位置ｙ３２に配置されている。第２列の円群は、同じ直径Ｒ３９を持ち、位置ｙ３３に配置されている。位置ｙ３２と位置ｙ３３との距離Ｙ３９は、直径Ｒ３９よりも小さい。Ｙ方向では２列の円群には隙間が無い。各列の円群は、Ｘ方向では間隔ｋ３９で配置されている。２列では、第１列の隣り合う２つの円形領域Ｒｃ１の位置に対し、中間位置ではなく、一方の円に近い位置に、第２列の対応する円形領域Ｒｃ２が配置されている。一方の斜め方向Ｄ３９で接する２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）は、Ｘ方向で、間隔ｋ３９のうちの間隔ｋ３９ａで配置されている。他方の斜め方向で接していない２つの円（円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２）は、Ｘ方向で、間隔ｋ３９のうちの間隔ｋ３９ｂで配置されている。

　本例では、内端部Ｅ１は、第１列の円群の主な領域としており、外端部Ｅ２は、第２列の円群の主な領域としている。内端部Ｅ１には凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２には凹部４３および凸部４４が構成されている。封止部ＳＬは、幅ＨＳ９の領域に配置されている。規制部ＤＭ３９の幅Ｈ３９の領域の両側に、幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する。

　第７変形例では、配向膜端部６０９は、概略的に規制部ＤＭ３９の幅Ｈ３９の範囲内に形成されていればよい。配向膜の形成時、配向膜ワニスは、第１列の円形領域Ｒｃ１に当たって凹部４１に入り込み、第２列の円形領域Ｒｃ２に当たって、隙間５９へ進む。配向膜ワニスは、隙間５９を通じて、外端部Ｅ２側の凹部４３へ進む。この際、本例では、配向膜端部６０９は、配置中心位置Ｃ１付近の隙間５９で、円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２間での表面張力によって止められている。

　第７変形例のように、規制部を構成する複数の領域は、一部の領域同士で接していたり、一部重なっていたりしてもよい。

　［規制部－第８変形例］
　図３６は、第２構成例に関する他の変形例（第８変形例とする）の規制部ＤＭ４０の構成を示す。この規制部ＤＭ４０は、例えば２列の円群によって構成され、第１列の円群と第２列の円群とで直径が異なっている。位置ｙ３２に配置された第１列の円形領域Ｒｃ１は、直径Ｒ４０ａを持つ。位置ｙ３３に配置された第２列の円形領域Ｒｃ２は、直径Ｒ４０ａとは異なる直径Ｒ４０ｂを持つ。本例では、内側の円の直径Ｒ４０ａを、外側の円の直径Ｒ４０ｂよりも大きくし、例えば１．５倍程度としている。Ｘ方向で、第１列の隣り合う２つの円形領域Ｒｃ１の中間位置に、第２列の円形領域Ｒｃ２が配置されている。各列で、Ｘ方向で隣り合う２つの円は、間隔ｋ４０で配置されている。本例では、Ｘ方向の円間、およびＹ方向の列間には隙間が無い。Ｙ方向で、第１列の円形領域Ｒｃ１は、線ａ３１から線ａ３３までの領域にある。第２列の円形領域Ｒｃ２は、線ａ３４から線ａ３２までの領域にある。線ａ３３の位置と線ａ３４の位置とが同じである。

　本例では、内端部Ｅ１は、第１列の円群の領域としており、外端部Ｅ２は、第２列の円群の領域としている。内端部Ｅ１には凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２には凹部４３および凸部４４が構成されている。本例では、Ｒ４０ａ＞Ｒ４０ｂとしたので、内端部Ｅ１の幅よりも外端部Ｅ２の幅が狭くなっている。封止部ＳＬは、幅ＨＳ１０の領域に配置されている。規制部ＤＭ４０は、２列の合計による幅Ｈ４０（＝Ｒ４０ａ＋Ｒ４０ｂ）を持つ。規制部ＤＭ４０の両側には、幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する。

　２列全体で、斜め方向（例えば方向Ｄ４０）で隣り合う２つの円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２は、間隔Ｇ１０で配置されており、２つの円間には隙間６０を有する。隙間６０は距離Ｋ１０を持つ。凹部４１からは、方向が異なる２つの隙間６０につながっている。

　第８変形例では、配向膜端部６１０は、概略的に規制部ＤＭ４０の幅Ｈ４０の範囲内に形成されていればよい。配向膜の形成時、配向膜ワニスは、第１列の円形領域Ｒｃ１に当たって凹部４１に入り込み、第２列の円形領域Ｒｃ２に当たって、２つの隙間６０へ進む。配向膜ワニスは、２つの隙間６０を通じて、外端部Ｅ２側の凹部４３へ進む。この際、本例では、配向膜端部６１０は、位置ａ３３（＝ａ３４）付近の隙間６０で、円形領域Ｒｃ１，Ｒｃ２間での表面張力によって止められている。

　このように、規制部を構成する複数の領域は、サイズが異なる領域が混在してもよい。第８変形例に関する他の構成例として、第１列の円の直径Ｒ４０ａよりも第２列の円の直径Ｒ４０ｂを大きくした構成も可能である。

　［規制部－第９変形例］
　図３７は、第１構成例に関する他の変形例（第９変形例とする）の規制部ＤＭ４１の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ４１は、１列の複数の領域で構成されており、各領域は、円形領域ではなく、菱形の領域ＲＤ１で構成されている。この領域ＲＤ１の形状は、配向膜材料の主な流れの方向Ｙ２に対して斜面を持つ四角形である。この領域ＲＤ１は、Ｙ方向での幅Ｒ４１を持つ。Ｘ方向で隣り合う２つの領域ＲＤ１は、間隔ｋ４１で配置されており、領域ＲＤ１間には隙間６１を有する。隙間６１は距離Ｋ１１を持つ。本例では、内端部Ｅ１は、領域ＲＤ１のうちの中心の位置ｙ３１から左側の領域としており、外端部Ｅ２は、領域ＲＤ１のうちの中心の位置ｙ３１から右側の領域としている。内端部Ｅ１には、凹部４１および凸部４２が構成されている。外端部Ｅ２には、凹部４３および凸部４４が構成されている。

　第９変形例では、配向膜端部６１１は、概略的に規制部ＤＭ４１の幅Ｈ４１の範囲内に形成されていればよい。配向膜の形成時、配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、領域ＲＤ１に当たって凹部４１に入り込み、隙間６１へ進む。配向膜ワニスは、隙間６１を通じて、外端部Ｅ２側の凹部４３へ進む。この際、本例では、配向膜端部６１１は、位置ｙ３１付近の隙間６１で、領域ＲＤ１間での表面張力によって止められている。

　このように、規制部を構成する複数の領域は、円形に限らず、三角形、四角形、五角形、六角形等、各種の形状が可能である。この規制部ＤＭ４１は、例えばパターニング方式による形成方法が適用可能である。

　［規制部－第１０変形例］
　図３８は、第１構成例に関する他の変形例（第１０変形例とする）の規制部ＤＭ４２の平面視の構成を示す。この規制部ＤＭ４２は、１列の複数の領域で構成されており、各領域は、半円領域ＲＥ１で構成されている。この半円領域ＲＥ１は、図２８の規制部ＤＭ３１の円形領域ＲＣ１のうち、配置中心位置Ｃ１から左側の半円部分に相当する。半円領域ＲＥ１は、半円の半径Ｒ４２を持つ。規制部ＤＭ４２は、半径Ｒ４２に対応するＹ方向の幅Ｈ４２を持つ。半円領域ＲＥ１は、内側の線ａ３１から外側の線ａ３２までの範囲に配置されている。本例では、内端部Ｅ１は、半円領域ＲＥ１の線ａ３１付近の領域とし、外端部Ｅ２は、半円領域ＲＥ１の線ａ３２付近の領域としている。Ｘ方向で隣り合う２つの半円領域ＲＥ１は、間隔ｋ４２で配置されており、半円領域ＲＥ１間には隙間６２を有する。隙間６２は距離Ｋ１２を持つ。封止部ＳＬは、幅ＨＳ１２の領域に配置されている。規制部ＤＭ４２の幅Ｈ４２（＝Ｒ４２）の領域の両側には、幅Ｌ３１，Ｌ３２の領域を有する。

　第１０変形例では、配向膜端部６１２は、概略的に規制部ＤＭ４２の幅Ｈ４２の範囲内に形成されていればよい。配向膜の形成時、配向膜ワニスは、方向Ｙ２で、領域ＲＥ１に当たって凹部４１に入り込み、隙間６２へ進む。配向膜ワニスは、隙間６２を通じて、外端部Ｅ２の線ａ３２から外側へ出ようとする。この際、本例では、配向膜端部６１２は、線ａ３２付近の隙間６２で、半円領域ＲＥ１間での表面張力によって止められている。

　第１０変形例では、規制部ＤＭ４２の幅Ｈ４２を、第１構成例の規制部ＤＭ３１の幅Ｈ３１よりも狭くできる。

　以上、本発明を実施の形態に基づいて具体的に説明したが、本発明は前述の実施の形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。前述の各実施の形態の要素（部材や工程等）の組み合わせ、追加や削除、設計変更等による構成が可能である。上記液晶表示装置１における電極や回路等の構成に限らず可能であり、例えばタッチ検出用の電極や回路を備える構成も可能である。上記液晶表示装置１は、平坦な表示領域ＤＡを持つ平面型表示装置の場合としたが、これに限らず、表示領域ＤＡで湾曲や曲げが可能である可撓性表示装置の場合にも同様に適用可能である。上記液晶表示装置１は、スマートフォンに限らず各種の電子機器に組み込まれる表示装置として適用可能である。

　１…液晶表示装置、４１…凹部、４２…凸部、ＳＢ１…第１基板、ＳＢ２…第２基板、ＬＱ…液晶層、ＡＬ…配向膜、ＡＬ１…配向膜（第１配向膜）、ＡＬ２…配向膜（第２配向膜）、ＢＭ（ＢＭ１，ＢＭ２）…規制部、Ｅ１…内端部、Ｅ２…外端部、ＳＬ…封止部、ＴＲ…トランジスタ、ＣＶＭ…カバー部材、ＢＬＭ…バックライトモジュール、ＤＡ…表示領域、ＮＡ…非表示領域、ＦＡ…額縁領域、ＣＡ…回路領域、ＥＡ…延長領域、ＰＡ…画素領域、ｓｆ１…第１面、ｓｆ２…第２面、ＩＮＳ１，ＩＮＳ２…絶縁膜、ＯＤ１，ＯＤ２…光学素子層、Ｗ１，Ｗ２，Ｈ１，Ｈ２…幅、ｐｔ１…間隔、４０１，４０２…方向。

Claims

　トランジスタおよび第１配向膜を有する第１基板と、
　前記第１基板と対向し、第２配向膜を有する第２基板と、
　前記第１配向膜と前記第２配向膜との間に形成された液晶層と、
　前記第１基板、前記第２基板、および前記液晶層によって構成され、平面視で複数の画素を含む表示領域と、
　平面視で前記表示領域の外側に有する額縁領域と、
　少なくとも前記第１基板において、平面視で前記第１配向膜の少なくとも第１方向の端部の外側に形成され前記第１配向膜の広がりを規制する規制部と、
　を備え、
　前記規制部の前記第１配向膜に接する内端部は、平面視で前記第１方向に交差する第２方向に沿って凹凸形状を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１記載の液晶表示装置において、
　平面視で、前記凹凸形状の凹部の前記第１方向の第１幅は、前記内端部の前記凹凸形状に沿った位置の前記第１方向の最大の幅である第２幅以下である、
　液晶表示装置。
　請求項１または２に記載の液晶表示装置において、
　前記第１配向膜は、前記第１基板の第１絶縁膜上に形成され、
　前記規制部は、前記第１絶縁膜上に形成されている、
　液晶表示装置。
　請求項１～３のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１配向膜の端部が形成されている第１面に対して厚さ方向で盛り上がる壁形状を有し、
　前記規制部の前記壁形状は、前記第１方向と前記厚さ方向との断面で凹形状を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１～３のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１配向膜の端部が形成されている第１面に対して厚さ方向で盛り上がる壁形状を有し、
　前記規制部の前記壁形状は、前記第１方向と前記厚さ方向との断面で凸形状を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１～５のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　平面視で、前記凹凸形状の凹部の前記第１方向の第１幅は、１００μｍ以下である、
　液晶表示装置。
　請求項１～６のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部の厚さ方向の第１厚さは、１０００ｎｍ以下ある、
　液晶表示装置。
　請求項１～７のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１基板側の前記額縁領域のうち、少なくとも、電気的な接続のための端子部を含む第１外周領域に設けられた第１規制部を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１～８のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１基板側の前記額縁領域のうち、電気的な接続のための端子部を含む第１外周領域に設けられた第１規制部と、電気的な接続のための端子部を含まない第２外周領域に設けられた第２規制部と、を有し、
　平面視で、前記第１規制部の前記内端部の前記凹凸形状の幅は、前記第２規制部の前記内端部の幅よりも大きい、
　液晶表示装置。
　請求項８記載の液晶表示装置において、
　前記第１外周領域の前記第１方向の長さは、１０００μｍ以下である、
　液晶表示装置。
　請求項１～１０のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記第１基板は、
　厚さ方向で前記トランジスタと前記液晶層との間に形成された画素電極または共通電極の少なくとも一方の第１電極と、
　厚さ方向で前記トランジスタの端子電極と前記第１電極との間に形成された平坦化膜と、
　を有し、
　前記第１配向膜および前記規制部は、前記平坦化膜の第１面上に形成されている、
　液晶表示装置。
　請求項１～１１のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記第１基板は、
　前記トランジスタと前記液晶層との間に形成された画素電極または共通電極の少なくとも一方の第１電極と、
　前記トランジスタの端子電極と前記第１電極との間に形成された絶縁膜と、
　を有し、
　前記規制部は、前記絶縁膜の側面で形成されている、
　液晶表示装置。
　請求項１～１２のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　平面視で前記表示領域よりも外側に、前記第１基板と前記第２基板とを接着し、前記液晶層を封止するための封止部を備え、
　前記規制部は、平面視で前記封止部と重畳していない領域を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１～１３のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１配向膜を構成する材料液体に対する撥液性を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１～１４のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記第１配向膜の材料と前記規制部の材料の一方が、ポリアミド酸由来のポリイミドであり、他方がポリアミド酸エステル由来のポリイミドである、
　液晶表示装置。
　トランジスタおよび第１配向膜を有する第１基板と、
　前記第１基板と対向し、第２配向膜を有する第２基板と、
　前記第１配向膜と前記第２配向膜との間に形成された液晶層と、
　前記第１基板、前記第２基板、および前記液晶層によって構成され、平面視で複数の画素を含む表示領域と、
　平面視で前記表示領域の外側に有する額縁領域と、
　少なくとも前記第１基板において、平面視で前記第１配向膜の少なくとも第１方向の端部の外側に形成され前記第１配向膜の広がりを規制する規制部と、
　を備え、
　前記規制部の前記第１配向膜に接する内端部は、平面視で前記第１方向に交差する第２方向に沿って凹凸形状を有し、
　前記規制部は、平面視で離間して隙間を持つ複数の領域を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１６記載の液晶表示装置において、
　前記配向膜の前記端部のうちの第１端部は、前記隙間に形成されている、
　液晶表示装置。
　請求項１６または１７に記載の液晶表示装置において、
　前記複数の領域は、前記第１方向に１列の複数の円形領域を含む、
　液晶表示装置。
　請求項１６または１７に記載の液晶表示装置において、
　前記複数の領域は、前記第１方向に２列以上の複数の円形領域を含む、
　液晶表示装置。
　請求項１６または１７に記載の液晶表示装置において、
　前記複数の領域は、平面視で前記第１方向および前記第２方向に対して交差する第３方向で離間して隙間を持つ２つの領域を含む、
　液晶表示装置。
　請求項１６または１７に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部の前記第１方向で前記内端部とは反対側にある外端部は、平面視で前記第２方向に沿って凹凸形状を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１６～２１のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記隙間における前記複数の領域のうちの隣り合う２つの領域のエッジ間の距離は、１２０μｍ以下である、
　液晶表示装置。
　請求項１６～２２のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　平面視で前記表示領域よりも外側に、前記第１基板と前記第２基板とを接着し、前記液晶層を封止するための封止部を備え、
　前記規制部は、平面視で前記封止部と重畳している領域を有する、
　液晶表示装置。
　請求項２３に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、平面視で前記封止部の領域内に重畳している、
　液晶表示装置。
　請求項１６～２４のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記第１配向膜は、前記第１基板の第１絶縁膜上に形成され、
　前記規制部は、前記第１絶縁膜上に形成されている、
　液晶表示装置。
　請求項２５に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１配向膜の前記端部が形成されている第１面に対して厚さ方向で盛り上がる壁形状を有し、
　前記壁形状は、前記第１方向と前記厚さ方向との断面で凹形状を有する、
　液晶表示装置。
　請求項２５に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１配向膜の端部が形成されている第１面に対して厚さ方向で盛り上がる壁形状を有し、
　前記壁形状は、前記第１方向と前記厚さ方向との断面で凸形状を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１６～２７のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１基板側の前記額縁領域のうち、少なくとも、電気的な接続のための端子部を含む第１外周領域に設けられた第１規制部を有する、
　液晶表示装置。
　請求項１６～２７のいずれか一項に記載の液晶表示装置において、
　前記規制部は、前記第１基板側の前記額縁領域のうち、電気的な接続のための端子部を含む第１外周領域に設けられた第１規制部と、電気的な接続のための端子部を含まない第２外周領域に設けられた第２規制部と、を有し、
　平面視で、前記第１規制部の前記内端部の前記凹凸形状の幅は、前記第２規制部の前記内端部の幅よりも大きい、
　液晶表示装置。