WO2019142328A1 - 液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク - Google Patents

液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク Download PDF

Info

Publication number
WO2019142328A1
WO2019142328A1 PCT/JP2018/001635 JP2018001635W WO2019142328A1 WO 2019142328 A1 WO2019142328 A1 WO 2019142328A1 JP 2018001635 W JP2018001635 W JP 2018001635W WO 2019142328 A1 WO2019142328 A1 WO 2019142328A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
liquid crystal
alignment
photomask
region
boundary
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/001635
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
直人 大河原
向井　健一
真理子 永井
恵隆 奥本
山本　明弘
賢一 兵頭
康弘 字原
Original Assignee
堺ディスプレイプロダクト株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 堺ディスプレイプロダクト株式会社 filed Critical 堺ディスプレイプロダクト株式会社
Priority to CN201880083683.8A priority Critical patent/CN111566549B/zh
Priority to PCT/JP2018/001635 priority patent/WO2019142328A1/ja
Priority to US16/957,212 priority patent/US10983398B2/en
Publication of WO2019142328A1 publication Critical patent/WO2019142328A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G02F1/133757—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different alignment orientations
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G02F1/133761—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different pretilt angles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/123—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel

Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly to a method of manufacturing a liquid crystal display device provided with a light alignment film.
  • the invention also relates to a photomask used in the manufacture of such a liquid crystal display.
  • liquid crystal display devices have been improved, and their use in television receivers and the like has been advanced. Although the viewing angle characteristics of the liquid crystal display device have been improved, further improvement is desired. In particular, there is a strong demand for improving the viewing angle characteristics of a liquid crystal display device (also referred to as a “VA (Vertical Alignment) liquid crystal display device) using a vertical alignment liquid crystal layer.
  • VA Vertical Alignment
  • a VA mode liquid crystal display device used for a large display device such as a television adopts an alignment division structure in which a plurality of liquid crystal domains are formed in one pixel in order to improve viewing angle characteristics.
  • An MVA (Multi-domain Vertical Alignment) mode is known as one of typical methods for forming an alignment division structure.
  • a plurality of liquid crystal domains are different in each pixel by providing an alignment control structure on each liquid crystal layer side of a pair of substrates facing each other across a vertical alignment liquid crystal layer. In fact, four orientations are formed.
  • the alignment control structure slits (openings) provided in the electrodes or ribs (protrusion structure) are used, and alignment control force is exerted from both sides of the liquid crystal layer.
  • the pretilt direction is defined by the alignment film as in the conventional TN (Twisted Nematic) mode and the like
  • the slits or ribs are linear. Are uneven in the pixel. Therefore, a distribution occurs in the response speed in the pixel.
  • Patent Document 1 discloses a liquid crystal display device in which the alignment division structure is formed as described above.
  • a 4-division alignment structure is formed by defining the pretilt direction with the alignment film. That is, when a voltage is applied to the liquid crystal layer, four liquid crystal domains are formed in one pixel.
  • Such a four-division alignment structure may be simply referred to as a 4D structure.
  • the directions differ from each other by about 90 °. Therefore, at the time of voltage application, liquid crystal molecules take a twist alignment.
  • the VA mode in which liquid crystal molecules take a twist alignment by using a pair of vertical alignment films provided so that the pretilt directions (alignment processing directions) are orthogonal to each other is VATN (Vertical Alignment Twisted Nematic (Vertically Aligned Twisted). Sometimes called Nematic)) or RTN (Reverse Twisted Nematic) mode.
  • the display mode of the liquid crystal display device of Patent Document 1 may be referred to as a 4D-RTN mode.
  • Patent Document 2 proposes an exposure apparatus of a system in which a plurality of small-sized photomasks are arrayed to perform scan exposure.
  • the inventors of the present application conducted a detailed study, and when photo alignment processing is performed using an exposure apparatus of a method as disclosed in Patent Document 2, streak-like display unevenness (hereinafter referred to as “muscle unevenness”) in a completed liquid crystal display device And the display quality may be degraded. In addition, it was found that streak unevenness is more likely to occur in a high definition liquid crystal display device having a small size of one pixel.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and its object is to provide a streak-like display unevenness in a VA mode liquid crystal display device in which an alignment division structure is formed by defining a pretilt direction with a photo alignment film.
  • a method of manufacturing a liquid crystal display includes a plurality of pixels arranged in a matrix, and between a first substrate and a second substrate facing each other, and the first substrate and the second substrate.
  • a liquid crystal layer of a vertical alignment type provided on the substrate, and the first substrate is provided between a pixel electrode provided on each of the plurality of pixels and the pixel electrode and the liquid crystal layer.
  • the second substrate includes a counter electrode facing the pixel electrode, and a second photo alignment film provided between the counter electrode and the liquid crystal layer,
  • Each of the pixels has a plurality of liquid crystal domains having different reference alignment directions defined by the first photo alignment film and the second photo alignment film, and the plurality of liquid crystal domains extend in parallel to the first direction.
  • the first photoalignment film is a first alignment region and a second alignment region that define mutually different pretilt directions in each of the plurality of pixels, including a first liquid crystal domain and a second liquid crystal domain adjacent to each other.
  • a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising: a first alignment region and a second alignment region adjacent to each other via the first domain boundary, wherein the pixel electrode and the alignment processing are not performed.
  • the boundary between the light transmitting portion and the light shielding portion is shifted to the one end side with respect to the first domain boundary, and the first photomask At the other end side in the second direction, the boundary between the light transmitting portion and the light shielding portion is designed to be shifted to the other end side with respect to the first domain boundary.
  • a photomask includes a plurality of pixels arranged in a matrix, and is provided between a first substrate and a second substrate facing each other, and the first substrate and the second substrate.
  • a liquid crystal layer of a vertical alignment type and the first substrate includes a pixel electrode provided in each of the plurality of pixels, and a first photoalignment film provided between the pixel electrode and the liquid crystal layer
  • the second substrate has a counter electrode facing the pixel electrode, and a second photoalignment film provided between the counter electrode and the liquid crystal layer
  • each of the plurality of pixels is A plurality of liquid crystal domains having different reference alignment directions defined by the first photo alignment film and the second photo alignment film, wherein the plurality of liquid crystal domains extend in parallel to the first direction; Adjacent to each other through A first alignment region and a second alignment region defining different pre-tilt directions in each of the plurality of pixels, the first photo alignment film including a liquid crystal domain and a second liquid crystal domain;
  • the plurality of pairs are arranged along the second direction, and in the exposure step, the light transmission is performed at one end side of the photomask in the second direction.
  • the boundary between the light portion and the light shielding portion is shifted to the one end side with respect to the first domain boundary, and at the other end side of the photomask in the second direction, the light transmitting portion and the light shielding portion
  • the boundary is designed to be shifted to the other end with respect to the first domain boundary.
  • the pretilt direction with the photo alignment film, it is possible to suppress the occurrence of streaky display unevenness in the VA mode liquid crystal display device in which the alignment division structure is formed.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device 100 manufactured by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a plan view showing an example of the wiring structure of the active matrix substrate 10;
  • FIG. 2 is a view showing an alignment division structure of a pixel P in the liquid crystal display device 100.
  • (A), (b) and (c) is a figure for demonstrating the method for obtaining the orientation division
  • (A) is a plan view showing an example of a mother substrate 10M, and (b) and (c) are plan views showing an arrangement of photomasks 51 and 52 for exposing the mother substrate 10M shown in (a). It is.
  • FIG. (A) And (b) is a top view which shows typically the exposure apparatus 200 for performing scan exposure using the photomasks 51 and 52 of the arrangement
  • (A) is a figure which shows the arrangement
  • (b) is a figure which shows the arrangement
  • FIG. (A), (b) and (c) is a figure for demonstrating the reason which the shift
  • (A) And (b) is a figure for demonstrating the reason which the shift
  • FIG. 1st photomask 51 shows arrangement
  • FIG. 2nd photomask 52 shows arrangement
  • (A) is a photograph which shows the lighting state of the liquid crystal display device of a comparative example
  • (b) is a photograph which shows the lighting state of the liquid crystal display device of an Example.
  • (A) is a graph which shows distribution of the luminance level in the lighting state of the liquid crystal display device of a comparative example
  • (b) is a graph which shows distribution of the luminance level in the lighting state of the liquid crystal display device of an Example.
  • (A), (b) and (c) are the figures for demonstrating the method for obtaining the other example of the orientation division
  • vertical alignment type liquid crystal layer refers to a liquid crystal layer in which liquid crystal molecules are aligned substantially perpendicularly (for example, at an angle of about 85 ° or more) to the surface of the alignment film (vertical alignment film). .
  • Liquid crystal molecules contained in the vertically aligned liquid crystal layer have negative dielectric anisotropy.
  • pixel refers to the smallest unit expressing a specific gradation in display, and in color display, for example, a unit expressing each gradation of R, G and B. It corresponds. A combination of R pixel, G pixel and B pixel constitutes one color display pixel. Further, in the specification of the present application, a region (pixel region) of a liquid crystal display device corresponding to a “pixel” of display is also referred to as a “pixel”.
  • the “pretilt direction” is an alignment direction of liquid crystal molecules defined by an alignment film, and refers to an azimuthal direction in a display surface. Further, at this time, an angle that liquid crystal molecules form with the surface of the alignment film is called “pretilt angle”.
  • the alignment treatment to the alignment film (a treatment for causing the alignment film to exhibit the ability to define the pretilt direction in a predetermined direction) is performed by the photoalignment treatment. That is, the alignment film used is a photo alignment film.
  • a four-divided structure can be formed by changing the combination of the pretilt directions by the pair of alignment films (photo alignment films) facing each other through the liquid crystal layer.
  • the four divided pixels (pixel area) have four liquid crystal domains.
  • Each liquid crystal domain is characterized by the tilt direction (sometimes referred to as “reference alignment direction”) of liquid crystal molecules in the layer plane of the liquid crystal layer and near the center in the thickness direction when voltage is applied to the liquid crystal layer.
  • the tilt direction (reference orientation direction) has a dominant influence on the viewing angle dependency of each domain.
  • the tilt direction is a vector (see FIG. 4 (described later) toward the end far from the end closer to the substrate on the rear side (that is, the end closer to the substrate on the front side) of the liquid crystal molecules being tilted.
  • the reference in the azimuth direction is the horizontal direction of the display surface, and counterclockwise is positive (when the display surface is compared with the dial of a watch, the azimuth angle is 0 ° in the 3 o'clock direction, and counterclockwise is positive).
  • the tilt directions of the four liquid crystal domains are in four directions (for example, 10:30, 7:30, 4:30, etc.) in which the angle between any two directions is substantially equal to an integral multiple of 90 °. By setting so as to be in the direction of 1:30, the viewing angle characteristics are averaged, and a good display can be obtained.
  • the areas occupied by the four liquid crystal domains in the pixel region be substantially equal to one another.
  • the vertical alignment type liquid crystal layer exemplified in the following embodiment includes a liquid crystal molecule having negative dielectric anisotropy (a nematic liquid crystal material having negative dielectric anisotropy), and is a pretilt defined by one alignment film.
  • the direction and the pretilt direction defined by the other alignment film are different from each other by about 90 °, and the tilt direction (reference orientation direction) is defined in the middle direction of these two pretilt directions.
  • the VA mode in which liquid crystal molecules are in a twist alignment is a VATN (Vertical Alignment Twisted Nematic) mode. Sometimes called.
  • the pretilt angles defined by each of the pair of alignment films be approximately equal to one another.
  • the alignment treatment to the alignment film a light alignment treatment is preferable as in the embodiment of the present invention.
  • the photo-alignment process can be performed without contact, there is no generation of static electricity due to friction as in the rubbing process, and a decrease in yield can be prevented.
  • the variation in pretilt angle can be suppressed by using a photoalignment film containing a photosensitive group.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display device 100, and shows a region corresponding to one pixel.
  • the liquid crystal display device 100 includes a liquid crystal display panel 101 and a backlight (illumination device) 102.
  • the liquid crystal display panel 101 has an active matrix substrate (first substrate) 10 and an opposing substrate (second substrate) 20 facing each other, and a vertically aligned liquid crystal layer 30 provided therebetween.
  • the backlight 102 is disposed on the back side of the liquid crystal display panel 101 (opposite to the viewer).
  • the liquid crystal display device 100 has a plurality of pixels arranged in a matrix including a plurality of rows and a plurality of columns.
  • the active matrix substrate 10 is provided between the pixel electrode 11 provided for each of the plurality of pixels and the pixel electrode 11 and the liquid crystal layer 30 (that is, the outermost surface of the active matrix substrate 10 on the liquid crystal layer 30 side). And a light alignment film 12.
  • the counter substrate 20 is a counter electrode 21 facing the pixel electrode 11 and a second photo-alignment film 22 provided between the counter electrode 21 and the liquid crystal layer 30 (that is, the outermost surface of the counter substrate 20 on the liquid crystal layer 30 side).
  • the pixel electrode 11 and the counter electrode 21 are formed of a transparent conductive material (for example, ITO).
  • the first photo alignment film 12 and the second photo alignment film 22 have an alignment regulating force to align liquid crystal molecules substantially perpendicularly to the surface thereof.
  • the pixel electrode 11 and the first photoalignment film 12 of the active matrix substrate 10 are provided in this order on the surface of the substrate 10a on the liquid crystal layer 30 side. That is, the pixel electrode 11 and the first photo alignment film 12 are supported by the substrate 10 a.
  • the substrate 10a is transparent and insulative.
  • the substrate 10a is, for example, a glass substrate or a plastic substrate.
  • the active matrix substrate 10 includes, in addition to the pixel electrode 11 and the first photo alignment film 12 described above, a thin film transistor (TFT) provided for each pixel, a scanning line and a signal line for supplying scanning signals and display signals to the TFT, etc. Have.
  • An example of the wiring structure of the active matrix substrate 10 is shown in FIG. FIG. 2 shows the wiring structure of the area corresponding to one pixel.
  • the active matrix substrate 10 includes TFTs 1, scan lines (gate lines) 2 extending in the row direction, signal lines (source lines) 3 extending in the column direction, and storage capacitance lines 4 extending in the row direction. And further.
  • the TFT 1 has a gate electrode 5, a semiconductor layer (not shown), a source electrode 6 and a drain electrode 7.
  • the gate electrode 5 is electrically connected to the gate wiring 2.
  • the gate electrode 5 and the gate wiring 2 are integrally formed, and a part of the gate wiring 2 (a portion overlapping the semiconductor layer through a gate insulating layer not shown) functions as the gate electrode 5 Do.
  • the source electrode 6 is electrically connected to the source line 3.
  • the source electrode 6 is extended so as to branch from the source wiring 3.
  • the drain electrode 7 is electrically connected to the pixel electrode 11. In the example shown in FIG.
  • connection portion 7 ′ is extended from the drain electrode 7, and the drain electrode 7 and the auxiliary capacitance electrode 8 are connected by the connection portion 7 ′.
  • the storage capacitor electrode 8 is connected to the pixel electrode 11 in a contact hole formed in an interlayer insulating layer (not shown) thereon. Accordingly, the drain electrode 7 is electrically connected to the pixel electrode 11 through the auxiliary capacitance electrode 8 and the connection portion 7 ′.
  • the storage capacitor electrode 8 faces the storage capacitor counter electrode 9 via the gate insulating layer.
  • the storage capacitor counter electrode 9 is electrically connected to the storage capacitor line 4.
  • the storage capacitance counter electrode 9 is integrally formed with the storage capacitance wiring 4. More specifically, the auxiliary capacitance line 4 is formed such that the width of a portion thereof is larger than that of the other portion, and that portion functions as the auxiliary capacitance counter electrode 9.
  • a storage capacitance is formed by the storage capacitance electrode 8 and the storage capacitance counter electrode 9 and the gate insulating layer located therebetween.
  • the wiring structure of the active matrix substrate 10 is not limited to the example shown in FIG.
  • the opposing electrode 21 and the second photoalignment film 22 of the opposing substrate 20 are provided in this order on the surface of the substrate 20a on the liquid crystal layer 30 side, as shown in FIG. That is, the counter electrode 21 and the second photoalignment film 22 are supported by the substrate 20a.
  • the substrate 20a is transparent and insulative.
  • the substrate 20a is, for example, a glass substrate or a plastic substrate.
  • the counter substrate 20 has a color filter layer and a light shielding layer (black matrix) in addition to the counter electrode 21 and the second light alignment film 22 described above.
  • the color filter layer typically includes a red color filter, a green color filter and a blue color filter.
  • the liquid crystal display device 100 further includes a pair of polarizing plates 41 and 42 facing each other through the liquid crystal layer 30.
  • the pair of polarizing plates 41 and 42 are arranged such that their transmission axes are substantially orthogonal to each other (that is, in cross nicol).
  • liquid crystal domains A, B, C, and D are formed in the liquid crystal layer 30 in each pixel P, as shown in FIG. .
  • the four liquid crystal domains A, B, C and D are respectively arranged adjacent to the other liquid crystal domains and in a 2 ⁇ 2 matrix.
  • the orientations of the four directors (reference alignment directions) t1, t2, t3 and t4 of the liquid crystal domains A, B, C and D are mutually different.
  • the directors t1, t2, t3 and t4 represent the alignment direction of liquid crystal molecules contained in each liquid crystal domain, and in the 4D-RTN mode, in the layer plane of the liquid crystal layer when a voltage is applied to the liquid crystal layer and In the tilt direction of liquid crystal molecules near the center in the thickness direction (that is, when the liquid crystal domain is viewed from the display surface normal direction and viewed from the cross section along the display surface normal direction) is there.
  • Each liquid crystal domain is characterized by the orientation of the director (tilt direction described above), and the orientation of the director has a dominant influence on the viewing angle dependency of each domain.
  • Each of the directors (reference alignment direction) t 1, t 2, t 3 and t 4 is defined by the first light alignment film 12 and the second light alignment film 22.
  • the orientation of director t1 of liquid crystal domain A is approximately 225 °
  • the orientation of director t2 of liquid crystal domain B is approximately 315 °
  • liquid crystal domain C The orientation of the director t3 is about 45 °
  • the orientation of the director t4 of the liquid crystal domain D is about 135 °. That is, the difference between any two of the four director orientations of liquid crystal domains A, B, C and D is approximately equal to an integral multiple of 90 °.
  • the liquid crystal domains A, B, C and D are arranged such that the orientations of the respective directors differ by about 90 ° between adjacent liquid crystal domains.
  • transmission axes PA1 and PA2 of the pair of polarizing plates 41 and 42 is parallel to the horizontal direction of the display surface, and the other is parallel to the vertical direction of the display surface. Accordingly, the transmission axes PA1 and PA2 of the polarizing plates 41 and 42 form an angle of about 45 ° with the orientations of the directors t1, t2, t3 and t4 of the liquid crystal domains A, B, C and D.
  • FIG. 3 exemplifies the case where the areas occupied by the four liquid crystal domains A, B, C and D in the pixel P are equal to each other, the areas of the four liquid crystal domains A, B, C and D are It does not have to be equal to one another. However, from the viewpoint of uniformity of viewing angle characteristics, it is preferable that the difference between the areas of the four liquid crystal domains A, B, C, and D be as small as possible.
  • the example shown in FIG. 3 is an example of the most preferable (i.e. ideal) 4-division structure in view angle characteristics.
  • FIG. 4A shows the pretilt directions PD1 and PD2 defined by the first photoalignment film 12 provided on the active matrix substrate 10, and FIG. The pretilt directions PD3 and PD4 defined by the two light alignment films 22 are shown. Further, FIG. 4C shows a tilt direction (director) when a voltage is applied to the liquid crystal layer 30 after the active matrix substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other.
  • 4 (a), (b) and (c) are views of the active matrix substrate 10, the counter substrate 20 and the liquid crystal layer 30 as viewed from the observer side. Therefore, in FIG.
  • the alignment film is located on the front side with respect to the substrate in the drawing, and in FIG. 4B, the alignment film is located on the rear side with respect to the substrate.
  • the pretilt direction and the tilt direction are schematically shown in a pin shape, and the head of the pin (the end with the larger area) represents the end of the front side (observer side) of the liquid crystal molecules, The tip of the pin (the end with the smaller area) represents the back end of the liquid crystal molecule.
  • the first photo alignment film 12 includes a first alignment region 12a defining a first pretilt direction PD1, and a second antiparallel to the first pretilt direction PD1. And a second alignment region 12b defining the pretilt direction PD2. Specifically, the region corresponding to one pixel P of the first photo alignment film 12 is divided into two on the left and right, and the respective regions (first alignment region and second alignment region) 12a and 12b are opposite to each other.
  • Photoalignment processing is performed to define parallel pretilt directions (first pretilt direction and second pretilt direction) PD1 and PD2.
  • the photoalignment process is performed by obliquely irradiating ultraviolet light (for example, linearly polarized ultraviolet light) from the direction indicated by the arrow.
  • the second photo alignment film 22 has a third alignment that defines a third pretilt direction PD3 substantially orthogonal to the first pretilt direction PD1 and the second pretilt direction PD2 as shown in FIG. 4B in each pixel P.
  • a region 22a and a fourth alignment region 22b defining a fourth pretilt direction PD4 antiparallel to the third pretilt direction PD3 are provided.
  • the region corresponding to one pixel P of the second photo alignment film 22 is divided into two in the upper and lower direction, and the respective regions (third alignment region and fourth alignment region) 22a and 22b are opposite to each other.
  • Photoalignment processing is performed to define parallel pretilt directions (third pretilt direction and fourth pretilt direction) PD3 and PD4.
  • the photoalignment process is performed by obliquely irradiating ultraviolet light (for example, linearly polarized ultraviolet light) from the direction indicated by the arrow.
  • the pixels P whose orientation is divided as shown in FIG. 4 (c) are obtained by bonding the active matrix substrate 10 subjected to the photo-alignment process and the counter substrate 20. Can be formed.
  • the pretilt direction defined by the first photoalignment film 12 on the active matrix substrate 10 side differs from the pretilt direction of the second photoalignment film 22 on the counter substrate 20 by about 90 °.
  • the tilt direction is defined in the middle of these two pretilt directions.
  • first domain boundary BD1 extends parallel to the column direction here.
  • first domain boundary BD1 is a boundary between the first alignment region 12a and the second alignment region 12b. That is, the first alignment region 12a and the second alignment region 12b are adjacent to each other via the first domain boundary BD1.
  • the other of the boundaries BD1 and BD2 extends parallel to the row direction here.
  • the second domain boundary BD2 is a boundary between the third alignment region 22a and the fourth alignment region 22b. That is, the third alignment region 22a and the fourth alignment region 22b are adjacent to each other via the second domain boundary BD2.
  • the liquid crystal domains A and D are adjacent to each other via the first domain boundary BD1.
  • liquid crystal domains B and C are adjacent to each other via the first domain boundary BD1.
  • the liquid crystal domains A and B are adjacent to each other via the second domain boundary BD2, and similarly, the liquid crystal domains C and D are adjacent to each other via the second domain boundary BD2.
  • a dark line DL is generated in the pixel P, as shown in FIG. 4C.
  • the dark line DL includes a portion DLa located at the boundary between adjacent liquid crystal domains and a portion DLb located near the edge of the pixel electrode 11. The reason why such a dark line DL occurs is described in Patent Document 1.
  • FIG. 5A shows an example of a mother substrate exposed by the exposure device.
  • the mother substrate 10M includes six active matrix substrates 10.
  • the mother substrate 10M is a tenth generation size
  • each active matrix substrate 10 is a 69.5 type liquid crystal display device substrate.
  • FIGS. 5B and 5C show the arrangement of photomasks 51 and 52 for exposing the mother substrate 10M shown in FIG. 5A.
  • FIG. 5B is a view showing the arrangement of a plurality of first photomasks 51 used in the step of exposing the first alignment region 12 a of the first photoalignment film 12, and FIG. It is a figure which shows arrangement
  • the transport direction Da of the mother substrate 10M is a direction from the left side to the right side in the drawing (see FIG. 5A).
  • the plurality of first photomasks 51 are arranged to form a first mask row 51C1 and a second mask row 51C2 adjacent to each other in the transport direction Da.
  • Each of the first mask row 51C1 and the second mask row 51C2 is two or more arranged in a direction (which may be referred to as “arrangement direction” hereinafter) Db intersecting (for example, approximately orthogonal) with the transport direction Da.
  • a first photomask 51 is included.
  • the first mask row 51C1 and the second mask row 51C2 include eight and seven first photomasks 51, respectively.
  • the plurality of second photomasks 52 are arranged to form a first mask row 52C1 and a second mask row 52C2 adjacent to each other in the transport direction Da.
  • Each of the first mask row 52C1 and the second mask row 52C2 includes two or more second photomasks 52 arranged in the arrangement direction Db intersecting the transport direction Da.
  • the first mask row 52C1 and the second mask row 52C2 include eight and seven second photomasks 52, respectively.
  • FIGS. 6A, 6B and 7 An example of an exposure apparatus for performing scan exposure using the photomasks 51 and 52 of the arrangement shown in FIGS. 5B and 5C is shown in FIGS. 6A, 6B and 7.
  • FIG. 6A and 6B are plan views schematically showing the exposure apparatus 200
  • FIG. 7 is a view showing the configuration of the exposure unit 201 included in the exposure apparatus 200. As shown in FIG.
  • the exposure apparatus 200 has a plurality of exposure units 201, as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b).
  • 6A shows the arrangement of the exposure unit 201 and the first photomask 51
  • FIG. 6B shows the arrangement of the exposure unit 201 and the second photomask 52.
  • Each of the plurality of exposure units 201 is provided corresponding to each of the plurality of first photomasks 51, as shown in FIG. 6A.
  • Each of the plurality of exposure units 201 also corresponds to each of the plurality of second photomasks 52, as shown in FIG. 6 (b).
  • the exposure unit 201 includes a light source case 201A and an optical system case 201B.
  • the light source housing 201A In the light source housing 201A, the light source 202 which emits light (ultraviolet light), the elliptical mirror 203 which reflects and condenses the light emitted from the light source 202, and the light reflected by the elliptical mirror 203 is reflected and traveled And a mirror 204 for changing
  • the light source 202 is, for example, a mercury lamp.
  • the light source housing 201A is provided with a window member 205 which transmits the light reflected by the mirror 204.
  • the optical system casing 201B reflects the light transmitted through the window member 205 and reflects it to change its traveling direction, the fly's eye lens 207 for equalizing the intensity distribution of the light reflected by the mirror 206, and the fly's eye Of the light from the cylindrical lens 208 for narrowing the light from the eye lens 207, the condenser lens 209 for collimating the light from the cylindrical lens 208, and the light from the condenser lens 209, S polarized light is reflected and P polarized light is obtained.
  • a polarizing plate 210 to be transmitted is accommodated.
  • the optical system casing 201B is provided with a window member 211 which transmits the light transmitted through the polarizing plate 210 to the outside. The light transmitted through the window material 211 is irradiated to the first photomask 51 (or the second photomask 52).
  • the configurations of the exposure apparatus 200 and the exposure unit 201 are not limited to those exemplified here.
  • the optical system of the exposure unit 201 is not limited to the example shown in FIG.
  • each exposure unit 201 is provided corresponding to each first photomask 51 (or each second photomask 52). Therefore, the light for exposure (exposure light) is an optical system (in the example shown in the drawing) provided corresponding to each first photomask 51 (or each second photomask 52). It is led to the first photomask 51 (or the second photomask 52) by the fly eye lens 207, the cylindrical lens 208, and the condenser lens 209).
  • FIGS. 8A and 8B show the arrangement of the first photomask 51 and the second photomask 52.
  • the outline of the portion (mask pattern formation portion) of the first photomask 51 and the second photomask 52 where the mask pattern is formed is shown as the outline of the mask.
  • the first photomask 51 (the mask pattern forming portion of the first photomask 51) includes a rectangular main portion 51a and triangular end portions 51b located at both ends thereof. Including, it is hexagonal as a whole.
  • the first photomask 51 of the first mask row 51C1 and the first photomask 51 of the second mask row 51C2 are exposed so as to overlap the first photo alignment film 12.
  • the regions are arranged to be present.
  • the first photo alignment film 12 is formed through both the end 51b of the first photomask 51 of the first mask row 51C1 and the end 51b of the first photomask 51 of the second mask row 51C2. It is arranged to have a mask joint portion (an area overlapping with the area DR in the figure) to be exposed.
  • the first photomasks 51 may have quality differences.
  • each first photomask 51 has a stripe-shaped light shielding portion SR and a light transmitting portion (slit) TR.
  • the second photomask 52 (the mask pattern forming portion of the second photomask 52) has a rectangular main portion 52a and triangular end portions (conveying direction) located at both ends thereof. And an end portion 52b in a direction intersecting with D, and has a hexagonal shape as a whole.
  • the second photomask 52 of the first mask row 52C1 and the second photomask 52 of the second mask row 52C2 are exposed so as to overlap the first photo alignment film 12.
  • the regions are arranged to be present.
  • the first photo alignment film 12 is formed through both the end 52b of the second photomask 52 of the first mask row 52C1 and the end 52b of the second photomask 52 of the second mask row 52C2. It is arranged to have a mask joint portion (an area overlapping with the area DR in the figure) to be exposed.
  • each second photomask 52 has a stripe-shaped light shielding portion SR and a light transmitting portion (slit) TR.
  • FIG. 9A five regions R1, R2, R3, R4 and R5 in one first photomask 51 are shown. Five regions R1, R2, R3, R4 and R5 are aligned along the arrangement direction Db.
  • FIG. 9B shows the deviation of the exposure position in these areas R1, R2, R3, R4 and R5.
  • the original exposure position is indicated by a dotted line
  • the actual exposure position is indicated by a solid line.
  • FIG. 9B in the region R3 located at the center of the first photomask 51, no deviation of the exposure position occurs.
  • the exposure position deviates relatively small to the right
  • the exposure position deviates relatively large to the right.
  • the exposure position deviates relatively small to the left
  • the area R5 located further to the right of the area R4 the exposure position deviates relatively large to the left.
  • FIG.9 The microscope image of the pixel corresponding to area
  • FIG. 9C In the pixels corresponding to the areas (areas R1 and R5) where the deviation of the exposure position is large, the generation position of the dark line deviates due to the deviation of the exposure position, and the dark line which should be shielded originally Has been seen. Such displacement of the dark line causes deviation (variation) of the transmittance (brightness).
  • FIG. 10A shows the light incident on the fly's eye lens 207 in the light irradiation surface of the first photomask 51 (or the second photomask 52). Therefore, in the light irradiation surface of the first photomask 51 (or the second photomask 52), the intensity of the inward light becomes relatively strong, and the intensity of the outward light becomes relatively weak.
  • FIG. 10 (b) shows the exposure dose distribution in each of the regions MR1 and MR2 in FIG. 10 (a). Due to the strong inward light intensity, as shown in FIG. 10B, the exposure distribution does not become the original distribution (dotted line in the figure), and the exposure position is shifted inward. I will.
  • the shift of the exposure position is the cause of the uneven streaks.
  • the mask joint portion since displacement in the opposite direction occurs in superposition in the exposure position, streak unevenness easily occurs.
  • first mother substrate including a plurality of active matrix substrates 10 each having the pixel electrode 11 and the first photoalignment film 12 in a state in which the alignment processing is not performed is prepared.
  • This step can be performed using a known method.
  • the first photomask 51 used in this step includes a light transmitting portion TR which transmits exposure light for exposing the region to be the first alignment region 12 a of the first photo alignment film 12, and 1 includes a plurality of pairs with the light shielding portion SR that shields the region to be the second alignment region 12b of the first light alignment film 12 (see FIG. 8A).
  • the plurality of pairs are arranged in line along the arrangement direction Db.
  • the boundary between the light transmitting portion TR and the light shielding portion SR which constitute each pair (that is, to form the first alignment region 12a and the second alignment region 12b of the same pixel) (Also referred to as “)” extends substantially in parallel to the transport direction Da, and a plurality of boundaries between the light transmitting portion and the light shielding portion are arranged along the arrangement direction Db.
  • This step (first exposure step) will be more specifically described with reference to FIG.
  • One first photomask 51 is shown on the upper side of FIG. 11, and the arrangement of the light transmitting portions TR in the region corresponding to one pixel of the three regions r1, r2 and r3 of the first photomask 51 is It is shown at the bottom of FIG. On the lower side of FIG. 11, the light transmission part TR is shown by a dotted line, and the boundary between the area 12a 'to be the first alignment area 12a and the area 12b' to be the second alignment area 12b (that is, the first domain boundary ) BD1 is shown in dashed lines.
  • the inner edge e1 of the light transmitting portion TR (corresponding to the boundary between the light transmitting portion TR and the light shielding portion SR) is a first domain boundary BD1. Almost overlap. That is, the inner edge e1 of the light transmitting portion TR is not shifted from the first domain boundary BD1.
  • the inner edge e1 of the light transmitting part TR is on the one end 51b1 side with respect to the first domain boundary BD1 ( In other words, it is shifted to the outside.
  • the inner edge e1 of the light transmitting part TR is the other end 51b2 side with respect to the first domain boundary BD1. (That is, outward).
  • Expose the The second photomask 52 used in this step has a light transmitting portion TR which transmits exposure light for exposing the region 12 b ′ to be the second alignment region 12 b of the first photo alignment film 12.
  • a plurality of pairs with a light shielding portion SR that shields the region 12a to be the first alignment region 12a of the first photo alignment film 12 is included (see FIG. 8B). The plurality of pairs are arranged in line along the arrangement direction Db.
  • the boundary between the light transmitting portion TR and the light shielding portion SR (the boundary between the light transmitting portion and the light shielding portion) constituting each pair extends substantially parallel to the transport direction Da, and the boundary between the plurality of light transmitting portions and the light shielding portion is They are arranged along the arrangement direction Db.
  • This step (second exposure step) will be more specifically described with reference to FIG.
  • one second photomask 52 is shown, and the arrangement of the light transmitting portions TR in the region corresponding to one pixel of the three regions r4, r5 and r6 of the second photomask 52 is It is shown at the bottom of FIG.
  • the inner edge e2 of the light transmitting portion TR substantially overlaps the first domain boundary BD1. That is, the inner edge e2 of the light transmitting portion TR is not shifted from the first domain boundary BD1.
  • the inner edge e2 of the light transmitting part TR is on the one end 52b1 side with respect to the first domain boundary BD1 ( In other words, it is shifted to the outside.
  • the inner edge e2 of the light transmitting portion TR is the other end 52b2 side with respect to the first domain boundary BD1. (That is, outward).
  • the active matrix substrate 10 (first mother substrate) in which the first photo alignment film 12 is subjected to the photo alignment process can be obtained.
  • a mother substrate (hereinafter referred to as "second mother substrate") including a plurality of the opposing substrate 20 having the opposing electrode 21 and the second photoalignment film 22 is prepared.
  • This step can be performed using a known method.
  • a first mother substrate and a second mother substrate are attached to each other to fabricate a mother panel including a plurality of liquid crystal display panels.
  • the first mother substrate and the second mother substrate are bonded and fixed by a seal portion formed so as to surround the display area of the liquid crystal display panel.
  • the liquid crystal display panel can be obtained by dividing the mother panel.
  • the liquid crystal layer 30 between the active matrix substrate 10 and the counter substrate 20 can be formed by a dropping method or a vacuum injection method.
  • the first edge 51 of the light-transmitting portion TR on the one end 51b1 side is the one end 51b1 side with respect to the first domain boundary BD1. It is designed to be shifted to the (outside) side and to be shifted to the other end 51b2 side (outside) with respect to the first domain boundary BD1 on the other end 51b2 side.
  • the second photomask 52 shifts the inner edge e2 of the light transmitting part TR to the one end 52b1 side (outside) with respect to the first domain boundary BD1 at the one end 52b1 side, and the other end 52b2
  • the side is designed to be offset to the other end 52b2 side (outside) with respect to the first domain boundary BD1. Therefore, it is possible to suppress the occurrence of the shift of the exposure position (shift to the inside) as described with reference to FIG.
  • the inward displacement of the exposure position is suppressed by shifting the inner edges e1 and e2 of the light transmitting portion TR to the outside more than originally.
  • the amount of deviation of the inner edges e1 and e2 of the light transmitting portion TR with respect to the first domain boundary BD1 is also referred to as a “mask correction amount”.
  • the mask correction amount can be appropriately set based on the deviation of the exposure position obtained from the liquid crystal display manufactured using a photomask of conventional design (that is, the mask correction amount is zero over the entire mask).
  • the mask correction amount of the first photomask 51 increases from the center of the first photomask 51 toward the one end 51b1, and the first photomask 51 It is preferable that the mask correction amount be designed to increase as going from the center to the other end 51 b 2 side.
  • the second photomask 52 has a mask correction amount that increases from the center of the second photomask 52 toward the one end 52b1, and the second photomask 52 It is preferable that the mask correction amount be designed to increase from the center of 52 toward the other end 52b2.
  • FIG. 13 shows an example of setting of the mask correction amount.
  • FIG. 13 is a graph showing the relationship between the distance [mm] from the center of the photomask (the first photomask 51 or the second photomask 52) and the mask correction amount [ ⁇ m].
  • FIG. 13 shows a mask correction amount for the photomask of the smallest correction amount among the plurality of photomasks and a photomask of the maximum correction amount, and an average mask correction amount of the plurality of photomasks. There is.
  • the distance from the center of the photomask indicates that the right side from the center is positive and the left side is negative, and the mask correction amount also indicates the deviation to the right as positive and the deviation to the left as negative.
  • the length of the photomask along the arrangement direction Db is 250 mm. Further, the width of the pixel along the arrangement direction Db is 66.8 ⁇ m.
  • the mask correction amount increases as going from the center of the photomask to the outside.
  • the mask correction amount at the outermost end of the photomask is ⁇ 1.225 ⁇ m for the photomask with the minimum correction amount, ⁇ 1.95 ⁇ m for the photomask with the maximum correction amount, and ⁇ 1.5625 ⁇ m on average.
  • the average correction amount at a distance of ⁇ 60 mm from the center of the photomask is ⁇ 0.75 ⁇ m.
  • liquid crystal display device manufactured using a photomask designed in the example (mask correction amount) shown in FIG. 13 and a photomask of conventional design (mask correction amount is zero over the entire mask) are used.
  • the liquid crystal display device (comparative example) manufactured using it demonstrates the result of having examined the generation
  • FIGS. 14A and 14B are photographs showing lighting states (states in which all the pixels are displayed in white) of the liquid crystal display device of the comparative example and the liquid crystal display device of the example.
  • FIG. 14A streaks extending in the vertical direction are generated.
  • FIG. 14B the occurrence of streaks is suppressed.
  • FIGS. 15 (a) and 15 (b) are graphs showing the distribution of luminance levels in the lighting state of the liquid crystal display of the comparative example and the liquid crystal display of the example, respectively.
  • the horizontal axis represents the panel coordinates (the position of the pixel in the horizontal direction), and the vertical axis represents the luminance level.
  • FIGS. 15A and 15B it can be understood from FIGS. 15A and 15B that, in the liquid crystal display device of the example, the variation in luminance level is suppressed as compared with the liquid crystal display device of the comparative example. Since the variation of the luminance level is the cause of the streaks, suppressing the variation of the luminance level means that the occurrence of streaks is suppressed.
  • the method (alignment of liquid crystal domains A to D in the pixel P) of dividing one pixel P into four liquid crystal domains A to D is not limited to the example shown in FIG.
  • pixels P whose orientation is divided as shown in FIG. 16 (c) by bonding the active matrix substrate 10 and the counter substrate 20 which have been subjected to the alignment process. Can be formed.
  • the pixel P shown in FIG. 16C has four liquid crystal domains A to D, similarly to the pixel P shown in FIG.
  • the liquid crystal domains A to D are arranged in the order of the upper left, lower left, lower right, upper right (that is, counterclockwise from upper left).
  • the liquid crystal domains A to D are arranged in the order of the lower right, upper right, upper left, lower left (that is, counterclockwise from the lower right).
  • the pretilt directions of the left and right regions of the active matrix substrate 10 and the upper and lower regions of the counter substrate 20 are It is because it is the opposite.
  • the dark line DL is generally in the form of a left ridge.
  • liquid crystal domains formed in one pixel are not limited to four.
  • two liquid crystal domains may be formed in one pixel, or eight liquid crystal domains may be formed in one pixel.
  • the liquid crystal display manufactured by the manufacturing method of embodiment of this invention is used suitably for the use by which a high definition display, such as a television receiver, is calculated

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法は、画素電極および配向処理が施されていない状態の第１光配向膜を有する第１基板を用意する工程（Ａ）と、用意された第１基板を所定の搬送方向に搬送しながら、搬送方向に交差する方向に配列された２個以上の第１フォトマスクを含む複数個の第１フォトマスクを介して第１光配向膜の第１配向領域となる領域を露光する工程（Ｂ）とを包含する。各第１フォトマスクは、透光部と遮光部とのペアを複数含む。各第１フォトマスクは、工程（Ｂ）において、当該第１フォトマスクの一端側では、透光部と遮光部との境界がドメイン境界に対して一端側にずれ、且つ、当該第１フォトマスクの他端側では、透光部と遮光部との境界がドメイン境界に対して他端側にずれるように設計されている。

Description

液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク
　本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に、光配向膜を備えた液晶表示装置の製造方法に関する。また、本発明は、そのような液晶表示装置の製造に用いられるフォトマスクにも関する。
　液晶表示装置の表示特性が改善され、テレビジョン受像機などへの利用が進んでいる。液晶表示装置の視野角特性は向上したものの、さらなる改善が望まれている。特に、垂直配向型の液晶層を用いた液晶表示装置（「ＶＡ（Vertical Alignment）モードの液晶表示装置」とも呼ばれる）の視野角特性を改善する要求は強い。
　現在、テレビ等の大型表示装置に用いられているＶＡモードの液晶表示装置には、視野角特性を改善するために、１つの画素に複数の液晶ドメインを形成する配向分割構造が採用されている。配向分割構造を形成する代表的な方式の１つとして、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モードが知られている。
　ＭＶＡモードでは、垂直配向型液晶層を挟んで対向する一対の基板のそれぞれの液晶層側に配向規制構造を設けることによって、各画素内に配向方向（チルト方向）が異なる複数の液晶ドメイン（典型的には配向方向は４種類）が形成される。配向規制構造としては、電極に設けたスリット（開口部）や、リブ（突起構造）が用いられ、液晶層の両側から配向規制力が発揮される。
　しかしながら、スリットやリブを用いると、従来のＴＮ（Twisted Nematic）モードなどのように配向膜によってプレチルト方向を規定した場合と異なり、スリットやリブが線状であることから、液晶分子に対する配向規制力が画素内で不均一となる。そのため、画素内で応答速度に分布が生じてしまう。
　この問題を回避するためには、ＶＡモードの液晶表示装置についても、配向膜でプレチルト方向を規定することによって配向分割構造を形成することが好ましい。特許文献１には、そのようにして配向分割構造が形成された液晶表示装置が開示されている。
　特許文献１に開示されている液晶表示装置では、配向膜でプレチルト方向を規定することによって、４分割配向構造が形成される。つまり、液晶層に電圧が印加されたときに、１つの画素内に４つの液晶ドメインが形成される。このような４分割配向構造を、単に４Ｄ構造と呼ぶこともある。
　また、特許文献１に開示されている液晶表示装置では、液晶層を介して対向する一対の配向膜のうちの一方の配向膜によって規定されるプレチルト方向と、他方の配向膜によって規定されるプレチルト方向とは互いに略９０°異なっている。そのため、電圧印加時には、液晶分子はツイスト配向をとる。このように、プレチルト方向（配向処理方向）が互いに直交するように設けられた一対の垂直配向膜を用いることによって液晶分子がツイスト配向をとるＶＡモードは、ＶＡＴＮ（Vertical Alignment Twisted Nematic（Vertically Aligned Twisted Nematicと表記されることもある））モードあるいはＲＴＮ（Reverse Twisted Nematic）モードと呼ばれることもある。既に説明したように、特許文献１の液晶表示装置では４Ｄ構造が形成されることから、特許文献１の液晶表示装置の表示モードは、４Ｄ－ＲＴＮモードと呼ばれることもある。
　液晶分子のプレチルト方向を配向膜によって規定する具体的な方法としては、特許文献２にも記載されているように、光配向処理を行う方法が有望視されている。光配向処理は、非接触で処理できるので、ラビング処理のように摩擦による静電気の発生が無く、歩留まりを向上させることができる。
　光配向処理は、フォトマスクと露光装置を用いて行われる。近年、基板の大型化に伴ってフォトマスクのサイズも拡大している。フォトマスクは高価であり、フォトマスクの大型化は、製造コストの上昇の要因となる。そこで、特許文献２には、小型のフォトマスクを複数個配列してスキャン露光を行う方式の露光装置が提案されている。
国際公開第２００６／１３２３６９号 特開２０１２―１７３６４１号公報
　本願発明者が詳細な検討を行ったところ、特許文献２のような方式の露光装置を用いて光配向処理を行うと、完成した液晶表示装置において筋状の表示ムラ（以下では「筋ムラ」と呼ぶこともある）が生じ、表示品位が低下するおそれがあることがわかった。また、筋ムラは、高精細な、つまり、１画素のサイズが小さい液晶表示装置においてより生じやすいことがわかった。
　本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光配向膜でプレチルト方向を規定することによって配向分割構造が形成されたＶＡモードの液晶表示装置において、筋状の表示ムラの発生を抑制することにある。
　本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法は、マトリクス状に配列された複数の画素を有し、互いに対向する第１基板および第２基板と、前記第１基板および前記第２基板の間に設けられた垂直配向型の液晶層と、を備え、前記第１基板は、前記複数の画素のそれぞれに設けられた画素電極と、前記画素電極および前記液晶層の間に設けられた第１光配向膜とを有し、前記第２基板は、前記画素電極に対向する対向電極と、前記対向電極および前記液晶層の間に設けられた第２光配向膜とを有し、前記複数の画素のそれぞれは、前記第１光配向膜および前記第２光配向膜によって規定される基準配向方向が互いに異なる複数の液晶ドメインを有し、前記複数の液晶ドメインは、第１方向に平行に延びる第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１液晶ドメインおよび第２液晶ドメインを含み、前記第１光配向膜は、前記複数の画素のそれぞれ内に、互いに異なるプレチルト方向を規定する第１配向領域および第２配向領域であって、前記第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１配向領域および第２配向領域を有する、液晶表示装置の製造方法であって、前記画素電極と、配向処理が施されていない状態の前記第１光配向膜とを有する前記第１基板を用意する工程（Ａ）と、用意された前記第１基板を所定の搬送方向に搬送しながら、前記搬送方向に交差する第２方向に配列された２個以上の第１フォトマスクを含む複数個の第１フォトマスクを介し、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光する工程（Ｂ）と、を包含し、前記複数個の第１フォトマスクのそれぞれは、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光するための露光光を透過する透光部と、前記第１光配向膜の前記第２配向領域となる領域を遮光する遮光部とのペアを複数含み、前記複数のペアは、前記第２方向に沿って並ぶように配置されており、前記複数個の第１フォトマスクのそれぞれは、前記工程（Ｂ）において、当該第１フォトマスクの前記第２方向における一端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記一端側にずれ、且つ、当該第１フォトマスクの前記第２方向における他端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記他端側にずれるように設計されている。
　本発明の実施形態によるフォトマスクは、マトリクス状に配列された複数の画素を有し、互いに対向する第１基板および第２基板と、前記第１基板および前記第２基板の間に設けられた垂直配向型の液晶層と、を備え、前記第１基板は、前記複数の画素のそれぞれに設けられた画素電極と、前記画素電極および前記液晶層の間に設けられた第１光配向膜とを有し、前記第２基板は、前記画素電極に対向する対向電極と、前記対向電極および前記液晶層の間に設けられた第２光配向膜とを有し、前記複数の画素のそれぞれは、前記第１光配向膜および前記第２光配向膜によって規定される基準配向方向が互いに異なる複数の液晶ドメインを有し、前記複数の液晶ドメインは、第１方向に平行に延びる第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１液晶ドメインおよび第２液晶ドメインを含み、前記第１光配向膜は、前記複数の画素のそれぞれ内に、互いに異なるプレチルト方向を規定する第１配向領域および第２配向領域であって、前記第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１配向領域および第２配向領域を有する、液晶表示装置の製造方法において、前記第１基板を所定の搬送方向に搬送しながら、前記搬送方向に交差する第２方向に配列された２個以上のフォトマスクを含む複数個のフォトマスクを介し、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光する露光工程に用いられるフォトマスクであって、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光するための露光光を透過する透光部と、前記第１光配向膜の前記第２配向領域となる領域を遮光する遮光部とのペアを複数有し、前記複数のペアは、前記第２方向に沿って並ぶように配置されており、前記露光工程において、当該フォトマスクの前記第２方向における一端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記一端側にずれ、且つ、当該フォトマスクの前記第２方向における他端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記他端側にずれるように設計されている。
　本発明の実施形態によれば、光配向膜でプレチルト方向を規定することによって配向分割構造が形成されたＶＡモードの液晶表示装置において、筋状の表示ムラの発生を抑制することができる。
本発明の実施形態による製造方法によって製造される液晶表示装置１００を模式的に示す断面図である。 アクティブマトリクス基板１０の配線構造の例を示す平面図である。 液晶表示装置１００における画素Ｐの配向分割構造を示す図である。 （ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、図３に示した画素Ｐの配向分割構造を得るための方法を説明するための図である。 （ａ）は、マザー基板１０Ｍの例を示す平面図であり、（ｂ）および（ｃ）は、（ａ）に示すマザー基板１０Ｍを露光するためのフォトマスク５１、５２の配列を示す平面図である。 （ａ）および（ｂ）は、図５（ｂ）および（ｃ）に示した配列のフォトマスク５１、５２を用いてスキャン露光を行うための露光装置２００を模式的に示す平面図である。 露光装置２００が有する露光ユニット２０１の構成を示す図である。 （ａ）は、第１フォトマスク５１の配列を示す図であり、（ｂ）は、第２フォトマスク５２の配列を示す図である。 （ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、露光位置のずれが発生する理由を説明するための図である。 （ａ）および（ｂ）は、露光位置のずれが発生する理由を説明するための図である。 第１光配向膜１２の第１配向領域１２ａとなる領域を露光する工程（第１露光工程）における第１フォトマスク５１の透光部ＴＲの配置を示す図である。 第１光配向膜１２の第２配向領域１２ｂとなる領域を露光する工程（第２露光工程）における第２フォトマスク５２の透光部ＴＲの配置を示す図である。 マスク補正量の設定の例を示すグラフである。 （ａ）は、比較例の液晶表示装置の点灯状態を示す写真であり、（ｂ）は、実施例の液晶表示装置の点灯状態を示す写真である。 （ａ）は、比較例の液晶表示装置の点灯状態における輝度レベルの分布を示すグラフであり、（ｂ）は、実施例の液晶表示装置の点灯状態における輝度レベルの分布を示すグラフである。 （ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、配向分割構造の他の例を得るための方法を説明するための図である。
　［用語の説明］
　本発明の実施形態の説明に先立ち、本願明細書において用いられる主な用語を説明する。
　本願明細書において、「垂直配向型の液晶層」とは、液晶分子が配向膜（垂直配向膜）の表面に対して略垂直に（例えば約８５°以上の角度で）配向した液晶層をいう。垂直配向型の液晶層に含まれる液晶分子は、負の誘電率異方性を有する。垂直配向型の液晶層と、液晶層を介して互いに対向するようにクロスニコルに配置された（つまりそれぞれの透過軸が互いに略直交するように配置された）一対の偏光板とを組み合わせることにより、ノーマリブラックモードの表示が行われる。
　また、本願明細書において、「画素」とは、表示において特定の階調を表現する最小の単位を指し、カラー表示においては、例えば、Ｒ、ＧおよびＢのそれぞれの階調を表現する単位に対応する。Ｒ画素、Ｇ画素およびＢ画素の組み合わせが、１つのカラー表示画素を構成する。また、本願明細書では、表示の「画素」に対応する液晶表示装置の領域（画素領域）も「画素」と呼ぶ。
　「プレチルト方向」は、配向膜によって規定される液晶分子の配向方向であって、表示面内の方位角方向を指す。また、このとき液晶分子が配向膜の表面となす角を「プレチルト角」と呼ぶ。本発明の実施形態では、配向膜への配向処理（配向膜に対し、所定の方向のプレチルト方向を規定する能力を発現させるための処理）は、光配向処理によって行われる。つまり、用いられる配向膜は、光配向膜である。
　液晶層を介して対向する一対の配向膜（光配向膜）によるプレチルト方向の組み合わせを変えることによって、４分割構造を形成することができる。４分割された画素（画素領域）は、４つの液晶ドメインを有する。
　それぞれの液晶ドメインは、液晶層に電圧が印加されたときの液晶層の層面内および厚さ方向における中央付近の液晶分子のチルト方向（「基準配向方向」ということもある。）に特徴付けられ、このチルト方向（基準配向方向）が各ドメインの視角依存性に支配的な影響を与える。チルト方向は、チルトしている液晶分子の、背面側の基板に近い方の端部から遠い方の端部（つまり前面側の基板に近い方の端部）に向かうベクトル（後述する図４（ｃ）に示されているピンの先端から頭部に向かうベクトル）を考えたとき、このベクトルの、基板面内での成分（基板面内への投射影）が示す向きであり、方位角方向である。方位角方向の基準は、表示面の水平方向とし、左回りを正とする（表示面を時計の文字盤に例えると３時方向を方位角０°として、反時計回りを正とする）。４つの液晶ドメインのチルト方向が、任意の２つの方向のなす角が９０°の整数倍に略等しい４つの方向（例えば、１０時３０分方向、７時３０分方向、４時３０分方向、１時３０分方向）となるように設定することによって、視野角特性が平均化され、良好な表示を得ることができる。また、視野角特性の均一さの観点からは、４つの液晶ドメインの画素領域内に占める面積は互いに略等しくすることが好ましい。
　以下の実施形態で例示する垂直配向型の液晶層は、誘電率異方性が負の液晶分子（誘電率異方性が負のネマチック液晶材料）を含み、一方の配向膜によって規定されるプレチルト方向と、他方の配向膜によって規定されるプレチルト方向とは互いに略９０°異なっており、これら２つのプレチルト方向の中間の方向にチルト方向（基準配向方向）が規定されている。液晶層に電圧を印加したときには、配向膜の近傍の液晶分子は配向膜の配向規制力に従ってツイスト配向をとる。液晶層にカイラル剤が添加されていなくてもよいし、必要に応じてカイラル剤が添加されていてもよい。このように、プレチルト方向（配向処理方向）が互いに直交するように設けられた一対の垂直配向膜を用いることにより、液晶分子がツイスト配向となるＶＡモードは、ＶＡＴＮ（Vertical Alignment Twisted Nematic）モードと呼ばれることもある。ＶＡＴＮモードにおいては、一対の配向膜のそれぞれによって規定されるプレチルト角は互いに略等しいことが好ましい。
　配向膜への配向処理としては、量産性の観点からは、本発明の実施形態のように、光配向処理が好ましい。また、光配向処理は、非接触で処理できるので、ラビング処理のような摩擦による静電気の発生が無く、歩留まりの低下を防止することができる。さらに、感光性基を含む光配向膜を用いることによって、プレチルト角のばらつきを抑制できる。
　［液晶表示装置］
　続いて、図１を参照しながら、本発明の実施形態による製造方法によって製造される液晶表示装置１００の構成を説明する。図１は、液晶表示装置１００を模式的に示す断面図であり、１つの画素に対応する領域を示している。
　図１に示すように、液晶表示装置１００は、液晶表示パネル１０１と、バックライト（照明装置）１０２とを備える。液晶表示パネル１０１は、互いに対向するアクティブマトリクス基板（第１基板）１０および対向基板（第２基板）２０と、これらの間に設けられた垂直配向型の液晶層３０とを有する。バックライト１０２は、液晶表示パネル１０１の背面側（観察者とは反対側）に配置されている。また、液晶表示装置１００は、複数の行および複数の列を含むマトリクス状に配列された複数の画素を有する。
　アクティブマトリクス基板１０は、複数の画素のそれぞれに設けられた画素電極１１と、画素電極１１と液晶層３０との間（つまりアクティブマトリクス基板１０の液晶層３０側の最表面）に設けられた第１光配向膜１２とを有する。対向基板２０は、画素電極１１に対向する対向電極２１と、対向電極２１と液晶層３０との間（つまり対向基板２０の液晶層３０側の最表面）に設けられた第２光配向膜２２とを有する。画素電極１１および対向電極２１は、透明な導電材料（例えばＩＴＯ）から形成されている。第１光配向膜１２および第２光配向膜２２は、液晶分子をその表面に略垂直に配向させる配向規制力を有する。
　以下、アクティブマトリクス基板１０および対向基板２０のそれぞれの構成をより具体的に説明する。
　アクティブマトリクス基板１０の画素電極１１および第１光配向膜１２は、基板１０ａの液晶層３０側の表面上に、この順に設けられている。つまり、画素電極１１および第１光配向膜１２は、基板１０ａによって支持されている。基板１０ａは、透明で絶縁性を有する。基板１０ａは、例えばガラス基板またはプラスチック基板である。
　アクティブマトリクス基板１０は、上述した画素電極１１および第１光配向膜１２の他に、画素ごとに設けられた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や、ＴＦＴに走査信号および表示信号を供給する走査配線および信号配線などを有する。図２に、アクティブマトリクス基板１０の配線構造の例を示す。図２は、１つの画素に対応する領域の配線構造を示している。
　アクティブマトリクス基板１０は、図２に示すように、ＴＦＴ１と、行方向に延びる走査配線（ゲート配線）２と、列方向に延びる信号配線（ソース配線）３と、行方向に延びる補助容量配線４とをさらに有する。
　ＴＦＴ１は、ゲート電極５、半導体層（不図示）、ソース電極６およびドレイン電極７を有する。ゲート電極５は、ゲート配線２に電気的に接続されている。図２に示す例では、ゲート電極５およびゲート配線２は一体に形成されており、ゲート配線２の一部（不図示のゲート絶縁層を介して半導体層に重なる部分）がゲート電極５として機能する。ソース電極６は、ソース配線３に電気的に接続されている。図２に示す例では、ソース電極６は、ソース配線３から分岐するように延設されている。ドレイン電極７は、画素電極１１に電気的に接続されている。図２に示す例では、ドレイン電極７から接続部７’が延設されており、接続部７’によりドレイン電極７と補助容量電極８とが接続されている。補助容量電極８は、その上の層間絶縁層（不図示）に形成されたコンタクトホールにおいて、画素電極１１に接続されている。従って、ドレイン電極７は、補助容量電極８および接続部７’を介して画素電極１１に電気的に接続されている。
　補助容量電極８は、ゲート絶縁層を介して補助容量対向電極９に対向している。補助容量対向電極９は、補助容量配線４に電気的に接続されている。図２に示す例では、補助容量対向電極９は、補助容量配線４と一体に形成されている。より具体的には、補助容量配線４は、その一部の幅が他の部分よりも大きくなるように形成されており、その部分が補助容量対向電極９として機能する。補助容量電極８および補助容量対向電極９と、これらの間に位置するゲート絶縁層により、補助容量が構成される。
　なお、アクティブマトリクス基板１０の配線構造は、図２に示した例に限定されない。
　対向基板２０の対向電極２１および第２光配向膜２２は、図１に示すように、基板２０ａの液晶層３０側の表面上に、この順に設けられている。つまり、対向電極２１および第２光配向膜２２は、基板２０ａによって支持されている。基板２０ａは、透明で絶縁性を有する。基板２０ａは、例えばガラス基板またはプラスチック基板である。
　なお、ここでは図示していないが、対向基板２０は、上述した対向電極２１および第２光配向膜２２の他に、カラーフィルタ層および遮光層（ブラックマトリクス）を有する。カラーフィルタ層は、典型的には、赤カラーフィルタ、緑カラーフィルタおよび青カラーフィルタを含む。
　液晶表示装置１００は、さらに、液晶層３０を介して互いに対向する一対の偏光板４１および４２を備える。一対の偏光板４１および４２は、それぞれの透過軸が互いに略直交するように（つまりクロスニコルに）配置されている。
　続いて、図３を参照しながら、本実施形態の液晶表示装置１００における画素Ｐの配向分割構造を説明する。
　画素電極１１と対向電極２１との間に電圧が印加されたとき、各画素Ｐ内において、図３に示すように、液晶層３０に４つの液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤが形成される。４つの液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤは、それぞれ他の液晶ドメインと隣接し、かつ、２行２列のマトリクス状に配置されている。液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤの４つのディレクタ（基準配向方向）ｔ１、ｔ２、ｔ３およびｔ４の方位は、互いに異なる。
　ディレクタｔ１、ｔ２、ｔ３およびｔ４は、各液晶ドメインに含まれる液晶分子の配向方向を代表するものであり、４Ｄ－ＲＴＮモードでは、液晶層に電圧が印加されたときの液晶層の層面内および厚さ方向における中央付近の（つまり液晶ドメインを表示面法線方向から見たときおよび表示面法線方向に沿った断面で見たときのそれぞれにおいて中央付近に位置する）液晶分子のチルト方向である。各液晶ドメインは、ディレクタの方位（上述したチルト方向）に特徴付けられ、このディレクタの方位が各ドメインの視角依存性に支配的な影響を与える。ディレクタ（基準配向方向）ｔ１、ｔ２、ｔ３およびｔ４のそれぞれは、第１光配向膜１２および第２光配向膜２２によって規定される。
　表示面における水平方向の方位角（３時方向）を０°とすると、液晶ドメインＡのディレクタｔ１の方位は略２２５°方向、液晶ドメインＢのディレクタｔ２の方位は略３１５°方向、液晶ドメインＣのディレクタｔ３の方位は略４５°方向、液晶ドメインＤのディレクタｔ４の方位は略１３５°方向である。つまり、液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤの４つのディレクタの方位のうちの任意の２つの方位の差は、９０°の整数倍に略等しい。また、液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤは、それぞれのディレクタの方位が、隣接する液晶ドメイン間で略９０°異なるように配置されている。
　一対の偏光板４１および４２の透過軸（偏光軸）ＰＡ１およびＰＡ２は、その一方が表示面の水平方向に平行で、他方が表示面の垂直方向に平行である。従って、偏光板４１および４２の透過軸ＰＡ１およびＰＡ２は、液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤのディレクタｔ１、ｔ２、ｔ３およびｔ４の方位と略４５°の角をなす。
　なお、図３には、４つの液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤの画素Ｐ内に占める面積が互いに等しい場合を例示しているが、４つの液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤの面積は互いに等しくなくてもよい。ただし、視野角特性の均一さの観点からは、４つの液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤの面積の差がなるべく小さいことが好ましい。図３に示す例は、視野角特性上最も好ましい（つまり理想的な）４分割構造の例である。
　続いて、図４（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を参照しながら、画素Ｐの配向分割構造を得るための配向分割方法を説明する。図４（ａ）は、アクティブマトリクス基板１０に設けられている第１光配向膜１２によって規定されるプレチルト方向ＰＤ１およびＰＤ２を示し、図４（ｂ）は、対向基板２０に設けられている第２光配向膜２２によって規定されるプレチルト方向ＰＤ３およびＰＤ４を示している。また、図４（ｃ）は、アクティブマトリクス基板１０と対向基板２０とを貼り合わせた後に液晶層３０に電圧を印加したときのチルト方向（ディレクタ）を示している。なお、図４（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、アクティブマトリクス基板１０、対向基板２０および液晶層３０を観察者側から見た図である。そのため、図４（ａ）では、配向膜は基板に対して紙面手前側に位置し、図４（ｂ）では、配向膜は基板に対して紙面奥側に位置している。また、プレチルト方向およびチルト方向は、模式的にピン状に示されており、ピンの頭部（面積が大きい方の端部）が液晶分子の前面側（観察者側）の端部を表し、ピンの先端（面積が小さい方の端部）が液晶分子の背面側の端部を表している。
　第１光配向膜１２は、各画素Ｐ内において、図４（ａ）に示すように、第１プレチルト方向ＰＤ１を規定する第１配向領域１２ａと、第１プレチルト方向ＰＤ１に反平行な第２プレチルト方向ＰＤ２を規定する第２配向領域１２ｂとを有する。具体的には、第１光配向膜１２の１つの画素Ｐに対応する領域は、左右に２分割されており、それぞれの領域（第１配向領域および第２配向領域）１２ａ、１２ｂが互いに反平行なプレチルト方向（第１プレチルト方向および第２プレチルト方向）ＰＤ１およびＰＤ２を規定するように光配向処理が行われている。ここでは、光配向処理は、矢印で示した方向から紫外線（例えば直線偏光紫外線）を斜め照射することによって行われている。
　第２光配向膜２２は、各画素Ｐ内において、図４（ｂ）に示すように、第１プレチルト方向ＰＤ１および第２プレチルト方向ＰＤ２に略直交する第３プレチルト方向ＰＤ３を規定する第３配向領域２２ａと、第３プレチルト方向ＰＤ３に反平行な第４プレチルト方向ＰＤ４を規定する第４配向領域２２ｂとを有する。具体的には、第２光配向膜２２の１つの画素Ｐに対応する領域は、上下に２分割されており、それぞれの領域（第３配向領域および第４配向領域）２２ａ、２２ｂが互いに反平行なプレチルト方向（第３プレチルト方向および第４プレチルト方向）ＰＤ３およびＰＤ４を規定するように光配向処理が行われている。ここでは、光配向処理は、矢印で示した方向から紫外線（例えば直線偏光紫外線）を斜め照射することによって行われている。
　図４（ａ）および（ｂ）に示したように光配向処理がなされたアクティブマトリクス基板１０と対向基板２０とを貼り合せることによって、図４（ｃ）に示すように配向分割された画素Ｐを形成することができる。液晶ドメインＡ～Ｄのそれぞれについて、アクティブマトリクス基板１０側の第１光配向膜１２によって規定されるプレチルト方向と、対向基板２０側の第２光配向膜２２のプレチルト方向とは互いに略９０°異なっており、図４（ｃ）からわかるように、これら２つのプレチルト方向の中間の方向にチルト方向（基準配向方向）が規定されている。
　また、第１配向領域１２ａと第２配向領域１２ｂとの境界、および、第３配向領域２２ａと第４配向領域２２ｂとの境界が、４つの液晶ドメインＡ、Ｂ、ＣおよびＤのうちの互いに隣接する液晶ドメイン同士の境界（ドメイン境界）ＢＤ１およびＢＤ２となる。境界ＢＤ１およびＢＤ２の一方（以下では「第１ドメイン境界」と呼ぶ）ＢＤ１は、ここでは列方向に平行に延びている。第１ドメイン境界ＢＤ１は、第１配向領域１２ａと第２配向領域１２ｂとの境界である。つまり、第１配向領域１２ａと第２配向領域１２ｂは、第１ドメイン境界ＢＤ１を介して互いに隣接している。境界ＢＤ１およびＢＤ２の他方（以下では「第２ドメイン境界」と呼ぶ）ＢＤ２は、ここでは行方向に平行に延びている。第２ドメイン境界ＢＤ２は、第３配向領域２２ａと第４配向領域２２ｂとの境界である。つまり、第３配向領域２２ａと第４配向領域２２ｂは、第２ドメイン境界ＢＤ２を介して互いに隣接している。液晶ドメインＡおよびＤは、第１ドメイン境界ＢＤ１を介して互いに隣接している。同様に、液晶ドメインＢおよびＣは、第１ドメイン境界ＢＤ１を介して互いに隣接している。また、液晶ドメインＡおよびＢは、第２ドメイン境界ＢＤ２を介して互いに隣接しており、同様に、液晶ドメインＣおよびＤは、第２ドメイン境界ＢＤ２を介して互いに隣接している。
　なお、ここで例示している配向分割構造では、図４（ｃ）に示すように、画素Ｐ内に暗線ＤＬが発生する。暗線ＤＬは、隣接する液晶ドメイン同士の境界に位置する部分ＤＬａと、画素電極１１のエッジ近傍に位置する部分ＤＬｂとを含む。このような暗線ＤＬが発生する理由は、特許文献１に記載されている。
　［露光装置］
　本発明の実施形態による製造方法に用いられる露光装置の構成を説明する。
　図５（ａ）に、露光装置によって露光されるマザー基板の例を示す。図５（ａ）に示す例では、マザー基板１０Ｍは、アクティブマトリクス基板１０を６個含んでいる。例えば、マザー基板１０Ｍは、第１０世代サイズであり、各アクティブマトリクス基板１０は、６９．５型の液晶表示装置用基板である。
　図５（ｂ）および（ｃ）は、図５（ａ）に示すマザー基板１０Ｍを露光するためのフォトマスク５１、５２の配列を示す図である。図５（ｂ）は、第１光配向膜１２の第１配向領域１２ａを露光する工程において用いられる複数個の第１フォトマスク５１の配列を示す図であり、図５（ｃ）は、第１光配向膜１２の第２配向領域１２ｂを露光する工程において用いられる複数個の第２フォトマスク５２の配列を示す図である。ここでは、マザー基板１０Ｍの搬送方向Ｄａは、図中の左側から右側に向かう方向である（図５（ａ）参照）。
　図５（ｂ）に示す例では、複数個の第１フォトマスク５１は、搬送方向Ｄａに互いに隣接する第１マスク列５１Ｃ１および第２マスク列５１Ｃ２を構成するように配列されている。第１マスク列５１Ｃ１および第２マスク列５１Ｃ２のそれぞれは、搬送方向Ｄａに交差する（例えば略直交する）方向（以下では「配列方向」と呼ぶこともある）Ｄｂに配列された２個以上の第１フォトマスク５１を含んでいる。ここでは、第１マスク列５１Ｃ１および第２マスク列５１Ｃ２はそれぞれ８個および７個の第１フォトマスク５１を含んでいる。
　図５（ｃ）に示す例では、複数個の第２フォトマスク５２は、搬送方向Ｄａに互いに隣接する第１マスク列５２Ｃ１および第２マスク列５２Ｃ２を構成するように配列されている。第１マスク列５２Ｃ１および第２マスク列５２Ｃ２のそれぞれは、搬送方向Ｄａに交差する配列方向Ｄｂに配列された２個以上の第２フォトマスク５２を含んでいる。ここでは、第１マスク列５２Ｃ１および第２マスク列５２Ｃ２はそれぞれ８個および７個の第２フォトマスク５２を含んでいる。
　図５（ｂ）および（ｃ）に示した配列のフォトマスク５１、５２を用いてスキャン露光を行うための露光装置の例を、図６（ａ）、（ｂ）および図７に示す。図６（ａ）および（ｂ）は、露光装置２００を模式的に示す平面図であり、図７は、露光装置２００が有する露光ユニット２０１の構成を示す図である。
　露光装置２００は、図６（ａ）および（ｂ）に示すように、複数の露光ユニット２０１を有する。図６（ａ）は、露光ユニット２０１と第１フォトマスク５１との配置関係を示しており、図６（ｂ）は、露光ユニット２０１と第２フォトマスク５２との配置関係を示している。複数の露光ユニット２０１のそれぞれは、図６（ａ）に示すように、複数個の第１フォトマスク５１のそれぞれに対応して設けられている。また、複数の露光ユニット２０１のそれぞれは、図６（ｂ）に示すように、複数個の第２フォトマスク５２のそれぞれにも対応している。
　露光ユニット２０１は、図７に示すように、光源筐体２０１Ａと、光学系筐体２０１Ｂとを備える。
　光源筐体２０１Ａには、光（紫外線）を発する光源２０２と、光源２０２から発せられた光を反射させて集光する楕円ミラー２０３と、楕円ミラー２０３で反射した光を反射させてその進行方向を変えるミラー２０４とが収容されている。光源２０２は、例えば水銀灯である。また、光源筐体２０１Ａには、ミラー２０４で反射された光を透過させる窓材２０５が設けられている。
　光学系筐体２０１Ｂは、窓材２０５を透過した光を反射させてその進行方向を変えるミラー２０６と、ミラー２０６で反射された光の強度分布を均一化するためのフライアイレンズ２０７と、フライアイレンズ２０７からの光を絞り込むためのシリンドリカルレンズ２０８と、シリンドリカルレンズ２０８からの光を平行化するためのコンデンサレンズ２０９と、コンデンサレンズ２０９からの光のうち、Ｓ偏光を反射してＰ偏光を透過させる偏光板２１０とが収容されている。また、光学系筐体２０１Ｂには、偏光板２１０を透過した光を外部に透過させる窓材２１１が設けられている。窓材２１１を透過した光は、第１フォトマスク５１（または第２フォトマスク５２）に照射される。
　なお、露光装置２００および露光ユニット２０１の構成は、ここで例示したものに限定されない。例えば、露光ユニット２０１の光学系は、図７に示した例に限定されない。
　［筋ムラの原因］
　上述したように、露光装置２００では、各露光ユニット２０１が、各第１フォトマスク５１（または各第２フォトマスク５２）に対応して設けられている。そのため、露光のための光（露光光）は、各第１フォトマスク５１（または各第２フォトマスク５２）に対応して（つまり一対一の関係で）設けられた光学系（図示した例ではフライアイレンズ２０７、シリンドリカルレンズ２０８、コンデンサレンズ２０９を含む）によって第１フォトマスク５１（または第２フォトマスク５２）に導かれる。
　図８（ａ）および（ｂ）に、第１フォトマスク５１および第２フォトマスク５２の配列を示す。図８（ａ）および（ｂ）では、第１フォトマスク５１および第２フォトマスク５２の、マスクパターンが形成されている部分（マスクパターン形成部）の外形を、マスクの外形として示している。
　図８（ａ）に示す例では、第１フォトマスク５１（第１フォトマスク５１のマスクパターン形成部）は、矩形状の主部５１ａと、その両端に位置する三角形状の端部５１ｂとを含み、全体として六角形状である。
　図８（ａ）に示すように、第１マスク列５１Ｃ１の第１フォトマスク５１と、第２マスク列５１Ｃ２の第１フォトマスク５１とは、第１光配向膜１２に重複して露光される領域が存在するように配列されている。具体的には、第１光配向膜１２が、第１マスク列５１Ｃ１の第１フォトマスク５１の端部５１ｂと、第２マスク列５１Ｃ２の第１フォトマスク５１の端部５１ｂの両方を介して露光されるマスク継ぎ部（図中の領域ＤＲに重なる領域である）を有するように配列されている。露光に複数個の第１フォトマスク５１を用いる場合、第１フォトマスク５１同士は品位差を有し得るが、このようなマスク継ぎ部が存在することにより、第１フォトマスク５１の品位差を緩やかに切り替えることができる。図８（ａ）の下部に示しているように、各第１フォトマスク５１は、ストライプ状の遮光部ＳＲおよび透光部（スリット）ＴＲを有する。
　図８（ｂ）に示す例では、第２フォトマスク５２（第２フォトマスク５２のマスクパターン形成部）は、矩形状の主部５２ａと、その両端に位置する三角形状の端部（搬送方向Ｄに交差する方向における端部）５２ｂとを含み、全体として六角形状である。
　図８（ｂ）に示すように、第１マスク列５２Ｃ１の第２フォトマスク５２と、第２マスク列５２Ｃ２の第２フォトマスク５２とは、第１光配向膜１２に重複して露光される領域が存在するように配列されている。具体的には、第１光配向膜１２が、第１マスク列５２Ｃ１の第２フォトマスク５２の端部５２ｂと、第２マスク列５２Ｃ２の第２フォトマスク５２の端部５２ｂの両方を介して露光されるマスク継ぎ部（図中の領域ＤＲに重なる領域である）を有するように配列されている。露光に複数個の第２フォトマスク５２を用いる場合、第２フォトマスク５２同士は品位差を有し得るが、このようなマスク継ぎ部が存在することにより、第２フォトマスク５２の品位差を緩やかに切り替えることができる。図８（ｂ）の下部に示しているように、各第２フォトマスク５２は、ストライプ状の遮光部ＳＲおよび透光部（スリット）ＴＲを有する。
　筋ムラは、透光部ＴＲを介して露光される領域の位置（露光位置）が、本来の位置からずれることにより発生する。このことを図９を参照しながらより具体的に説明する。
　図９（ａ）には、１つの第１フォトマスク５１における５つの領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５を示している。５つの領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、配列方向Ｄｂに沿って並んでいる。
　図９（ｂ）は、これらの領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５における露光位置のずれを示している。図９（ｂ）では、本来の露光位置が点線で示され、実際の露光位置が実線で示されている。図９（ｂ）に示すように、第１フォトマスク５１の中央に位置する領域Ｒ３では、露光位置のずれは生じない。これに対し、領域Ｒ３の左側に位置する領域Ｒ２では、露光位置が右側に比較的小さくずれ、領域Ｒ２のさらに左側に位置する領域Ｒ１では、露光位置が右側に比較的大きくずれる。また、領域Ｒ３の右側に位置する領域Ｒ４では、露光位置が左側に比較的小さくずれ、領域Ｒ４のさらに右側に位置する領域Ｒ５では、露光位置が左側に比較的大きくずれる。
　図９（ｃ）には、領域Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５に対応する画素の顕微鏡像が示されている。図９（ｃ）からわかるように、露光位置のずれが大きい領域（領域Ｒ１およびＲ５）に対応する画素では、露光位置のずれに起因して暗線の発生位置がずれ、本来遮光されるべき暗線が見えてしまっている。このような暗線の位置ずれは、透過率（輝度）のずれ（ばらつき）の原因となる。
　なお、図９には、第１フォトマスク５１を例示しているが、第２フォトマスク５２を用いた露光工程において同様の問題が生じる。
　図１０（ａ）および（ｂ）を参照しながら、露光位置のずれが生じる理由を説明する。
　図１０（ａ）に示すように、フライアイレンズ２０７への入射光は、中心で比較的強く、外側で比較的弱い強度分布を有する。そのため、第１フォトマスク５１（または第２フォトマスク５２）の光照射面では、内向きの光の強度が相対的に強くなり、外向きの光の強度が相対的に弱くなる。図１０（ｂ）に、図１０（ａ）中の領域ＭＲ１およびＭＲ２のそれぞれにおける露光量分布を示す。内向きの光の強度が強いことにより、図１０（ｂ）に示すように、露光量分布は本来の分布（図中の点線）とはならず、露光位置が内側にずれた状態となってしまう。
　このように、露光位置のずれが筋ムラの原因である。マスク継ぎ部では、露光位置について反対方向のずれが重畳して起こることになるので、筋ムラが発生しやすい。
　［液晶表示装置の製造方法］
　本発明の実施形態による液晶表示装置の製造方法を説明する。
　まず、画素電極１１と、配向処理が施されていない状態の第１光配向膜１２とを有するアクティブマトリクス基板１０を複数枚含むマザー基板（以下では「第１マザー基板」と呼ぶ）を用意する。この工程は、公知の手法を用いて行うことができる。
　次に、用意されたアクティブマトリクス基板１０（第１マザー基板）を所定の搬送方向Ｄａに搬送しながら、複数個の第１フォトマスク５１を介し、第１光配向膜１２の第１配向領域１２ａとなる領域を露光する。この工程（第１露光工程）において用いられる第１フォトマスク５１は、第１光配向膜１２の第１配向領域１２ａとなる領域を露光するための露光光を透過する透光部ＴＲと、第１光配向膜１２の第２配向領域１２ｂとなる領域を遮光する遮光部ＳＲとのペアを複数含む（図８（ａ）参照）。これら複数のペアは、配列方向Ｄｂに沿って並ぶように配置されている。各ペアを構成する（つまり同画素の第１配向領域１２ａおよび第２配向領域１２ｂを形成するための）透光部ＴＲと遮光部ＳＲとの境界（以下では「透光部・遮光部間境界」とも呼ぶ）は、搬送方向Ｄａに略平行に延びており、複数の透光部・遮光部間境界が配列方向Ｄｂに沿って並んでいる。
　図１１を参照しながら、この工程（第１露光工程）をより具体的に説明する。
　図１１の上側には、１つの第１フォトマスク５１が示されており、この第１フォトマスク５１の３つの領域ｒ１、ｒ２およびｒ３の１画素に対応した領域における透光部ＴＲの配置が図１１の下側に示されている。図１１の下側には、透光部ＴＲが点線で示されており、第１配向領域１２ａとなる領域１２ａ’と第２配向領域１２ｂとなる領域１２ｂ’との境界（つまり第１ドメイン境界）ＢＤ１が鎖線で示されている。
　第１フォトマスク５１の配列方向Ｄｂにおける中央に位置する領域ｒ１では、透光部ＴＲの内側エッジｅ１（透光部ＴＲと遮光部ＳＲとの境界に相当する）は、第１ドメイン境界ＢＤ１にほぼ重なる。つまり、透光部ＴＲの内側エッジｅ１は、第１ドメイン境界ＢＤ１からずれていない。
　また、第１フォトマスク５１の配列方向Ｄｂにおける一端（ここでは左端）５１ｂ１側に位置する領域ｒ２では、透光部ＴＲの内側エッジｅ１は、第１ドメイン境界ＢＤ１に対して一端５１ｂ１側に（つまり外側に）ずれている。
　さらに、第１フォトマスク５１の配列方向Ｄｂにおける他端（ここでは右端）５１ｂ２側に位置する領域ｒ３では、透光部ＴＲの内側エッジｅ１は、第１ドメイン境界ＢＤ１に対して他端５１ｂ２側に（つまり外側に）ずれている。
　続いて、アクティブマトリクス基板１０（第１マザー基板）を搬送方向Ｄａに搬送しながら、複数個の第２フォトマスク５２を介し、第１光配向膜１２の第２配向領域１２ｂとなる領域１２ｂ’を露光する。この工程（第２露光工程）において用いられる第２フォトマスク５２は、第１光配向膜１２の第２配向領域１２ｂとなる領域１２ｂ’を露光するための露光光を透過する透光部ＴＲと、第１光配向膜１２の第１配向領域１２ａとなる領域１２ａを遮光する遮光部ＳＲとのペアを複数含む（図８（ｂ）参照）。これら複数のペアは、配列方向Ｄｂに沿って並ぶように配置されている。各ペアを構成する透光部ＴＲと遮光部ＳＲとの境界（透光部・遮光部間境界）は、搬送方向Ｄａに略平行に延びており、複数の透光部・遮光部間境界が配列方向Ｄｂに沿って並んでいる。
　図１２を参照しながら、この工程（第２露光工程）をより具体的に説明する。
　図１２の上側には、１つの第２フォトマスク５２が示されており、この第２フォトマスク５２の３つの領域ｒ４、ｒ５およびｒ６の１画素に対応した領域における透光部ＴＲの配置が図１２の下側に示されている。
　第２フォトマスク５２の配列方向Ｄｂにおける中央に位置する領域ｒ４では、透光部ＴＲの内側エッジｅ２は、第１ドメイン境界ＢＤ１にほぼ重なる。つまり、透光部ＴＲの内側エッジｅ２は、第１ドメイン境界ＢＤ１からずれていない。
　また、第２フォトマスク５２の配列方向Ｄｂにおける一端（ここでは左端）５２ｂ１側に位置する領域ｒ５では、透光部ＴＲの内側エッジｅ２は、第１ドメイン境界ＢＤ１に対して一端５２ｂ１側に（つまり外側に）ずれている。
　さらに、第２フォトマスク５２の配列方向Ｄｂにおける他端（ここでは右端）５２ｂ２側に位置する領域ｒ６では、透光部ＴＲの内側エッジｅ２は、第１ドメイン境界ＢＤ１に対して他端５２ｂ２側に（つまり外側に）ずれている。
　このようにして、第１光配向膜１２に光配向処理が施されたアクティブマトリクス基板１０（第１マザー基板）を得ることができる。
　アクティブマトリクス基板１０を得る工程とは別途に、対向電極２１および第２光配向膜２２を有する対向基板２０を複数枚含むマザー基板（以下では「第２マザー基板」と呼ぶ）を用意する。この工程は、公知の手法を用いて行うことができる。
　次に、第１マザー基板と第２マザー基板とを貼り合せることによって、液晶表示パネルを複数含むマザーパネルを作製する。第１マザー基板と第２マザー基板とは、液晶表示パネルの表示領域を包囲するように形成されたシール部によって接着・固定される。
　その後、マザーパネルを分断することによって、液晶表示パネルを得ることができる。アクティブマトリクス基板１０と対向基板２０との間の液晶層３０は、滴下法または真空注入法によって形成することができる。
　上述したように、本実施形態の製造方法では、第１フォトマスク５１は、第１露光工程において、透光部ＴＲの内側エッジｅ１が一端５１ｂ１側では第１ドメイン境界ＢＤ１に対して一端５１ｂ１側（外側）にずれ、且つ、他端５１ｂ２側では第１ドメイン境界ＢＤ１に対して他端５１ｂ２側（外側）にずれるように設計されている。また、第２フォトマスク５２は、第２露光工程において、透光部ＴＲの内側エッジｅ２が一端５２ｂ１側では第１ドメイン境界ＢＤ１に対して一端５２ｂ１側（外側）にずれ、且つ、他端５２ｂ２側では第１ドメイン境界ＢＤ１に対して他端５２ｂ２側（外側）にずれるように設計されている。そのため、図９を参照しながら説明したような露光位置のずれ（内側へのずれ）の発生を抑制することができる。
　このように、本実施形態の製造方法では、露光位置の内側へのずれを、透光部ＴＲの内側エッジｅ１、ｅ２を本来よりも外側にずらすことによって抑制している。以下では、透光部ＴＲの内側エッジｅ１、ｅ２の第１ドメイン境界ＢＤ１に対するずれ量を「マスク補正量」とも呼ぶ。マスク補正量は、従来の設計（つまりマスク補正量がマスク全体にわたってゼロ）のフォトマスクを用いて製造された液晶表示装置から求めた露光位置のずれに基づいて適宜設定され得る。
　なお、図９を参照しながら説明したように、第１フォトマスク５１の中心から外側に向かうにつれて、露光位置のずれが大きくなる。そのため、露光位置のずれを好適に抑制する観点からは、第１フォトマスク５１は、第１フォトマスク５１の中央から一端５１ｂ１側に向かうにつれてマスク補正量が大きくなり、且つ、第１フォトマスク５１の中央から他端５１ｂ２側に向かうにつれてマスク補正量が大きくなるように設計されていることが好ましい。同様に、露光位置のずれを好適に抑制する観点からは、第２フォトマスク５２は、第２フォトマスク５２の中央から一端５２ｂ１側に向かうにつれてマスク補正量が大きくなり、且つ、第２フォトマスク５２の中央から他端５２ｂ２側に向かうにつれてマスク補正量が大きくなるように設計されていることが好ましい。
　図１３に、マスク補正量の設定の例を示す。図１３は、フォトマスク（第１フォトマスク５１または第２フォトマスク５２）の中心からの距離［ｍｍ］とマスク補正量［μｍ］との関係を示すグラフである。図１３には、複数個のフォトマスクのうちの最小の補正量のフォトマスクおよび最大の補正量のフォトマスクについてのマスク補正量と、複数個のフォトマスクの平均のマスク補正量とを示している。フォトマスクの中心からの距離は、中心から右側を正、左側を負として示しており、マスク補正量も右側へのずれを正、左側へのずれを負として示している。
　図１３に示す例では、配列方向Ｄｂに沿ったフォトマスクの長さは２５０ｍｍである。また、配列方向Ｄｂに沿った画素の幅は６６．８μｍである。図１３に示すように、フォトマスクの中心から外側に向かうほど、マスク補正量は大きくなっている。フォトマスクの最外端でのマスク補正量は、最小補正量のフォトマスクで±１．２２５μｍ、最大補正量のフォトマスクで±１．９５μｍ、平均で±１．５６２５μｍである。フォトマスクの中心から±６０ｍｍの距離における平均補正量は、±０．７５μｍである。
　続いて、図１３に示した例（マスク補正量）で設計したフォトマスクを用いて製造した液晶表示装置（実施例）と、従来の設計（マスク補正量がマスク全体にわたってゼロ）のフォトマスクを用いて製造した液晶表示装置（比較例）とで、筋ムラの発生具合を検証した結果を説明する。
　図１４（ａ）および（ｂ）は、それぞれ比較例の液晶表示装置および実施例の液晶表示装置の点灯状態（全画素を白表示にした状態）を示す写真である。比較例の液晶表示装置では、図１４（ａ）に示すように、上下方向に延びる筋ムラが発生している。これに対し、実施例の液晶表示装置では、図１４（ｂ）に示すように、筋ムラの発生が抑制されている。
　図１５（ａ）および（ｂ）は、それぞれ比較例の液晶表示装置および実施例の液晶表示装置の点灯状態における輝度レベルの分布を示すグラフである。図１５（ａ）および（ｂ）では、横軸にパネル座標（水平方向における画素の位置）をとり、縦軸に輝度レベルをとっている。
　図１５（ａ）および（ｂ）から、実施例の液晶表示装置では、比較例の液晶表示装置に比べ、輝度レベルのばらつきが抑制されていることがわかる。輝度レベルのばらつきは、筋ムラの原因であるので、輝度レベルのばらつきが抑制されていることは、筋ムラの発生が抑制されていることを意味している。
　なお、図１３を参照しながら説明した補正量のうち筋ムラの発生を抑制する効果がもっとも大きかったのは、最大補正量の±１．９５μｍであった。
　（他の実施形態）
　１つの画素Ｐを４つの液晶ドメインＡ～Ｄに配向分割する方法（画素Ｐ内での液晶ドメインＡ～Ｄの配置）は、図４などに示した例に限定されない。
　例えば、図１６（ａ）および（ｂ）に示したように配向処理がなされたアクティブマトリクス基板１０および対向基板２０を貼り合わせることによって、図１６（ｃ）に示すように配向分割された画素Ｐを形成することができる。図１６（ｃ）に示す画素Ｐは、図４に示す画素Ｐと同様、４つの液晶ドメインＡ～Ｄを有する。
　ただし、図４に示す画素Ｐでは、液晶ドメインＡ～Ｄが左上、左下、右下、右上の順に（つまり左上から反時計回りに）配置されているのに対し、図１６（ｃ）に示す画素Ｐでは、液晶ドメインＡ～Ｄは、右下、右上、左上、左下の順に（つまり右下から反時計回りに）配置されている。これは、図４に示す画素Ｐと図１６（ｃ）に示す画素Ｐ１とでは、アクティブマトリクス基板１０の左側領域および右側領域と対向基板２０の上側領域および下側領域のそれぞれについて、プレチルト方向が反対だからである。図１６（ｃ）に示す画素Ｐでは、暗線ＤＬは、全体として左卍状である。
　また、１画素内に４つの液晶ドメインが形成される例を説明したが、１画素内に形成される液晶ドメインの数は、４に限定されるものではない。例えば、１画素内に２つの液晶ドメインが形成されてもよいし、１画素内に８つの液晶ドメインが形成されてもよい。
　本発明の実施形態の製造方法により製造される液晶表示装置は、テレビジョン受像機などの高品位の表示が求められる用途に好適に用いられる。
　１：ＴＦＴ、２：走査配線、３：信号配線、４：補助容量配線、５：ゲート電極、６：ソース電極、７：ドレイン電極、７’：接続部、８：補助容量電極、９：補助容量対向電極、１０：アクティブマトリクス基板、１０ａ：基板、１０Ｍ：マザー基板、１１：画素電極、１２：第１光配向膜、１２ａ：第１配向領域、１２ｂ：第２配向領域、２０：対向基板、２０ａ：基板、２１：対向電極、２２：第２光配向膜、２２ａ：第３配向領域、２２ｂ：第４配向領域、３０：液晶層、４１：偏光板、４２：偏光板、５１：第１フォトマスク、５２：第２フォトマスク、１００：液晶表示装置、１０１：液晶表示パネル、１０２：バックライト、２００：露光装置、２０１：露光ユニット、２０１Ａ：光源筐体、２０１Ｂ：光学系筐体、２０２：光源、２０３：楕円ミラー、２０４：ミラー、２０５：窓材、２０６：ミラー、２０７：フライアイレンズ、２０８：シリンドリカルレンズ、２０９：コンデンサレンズ、２１０：偏光板、２１１：窓材、ＢＤ１：第１ドメイン境界、ＢＤ２：第２ドメイン境界、Ｄａ：搬送方向、Ｄｂ：配列方向、Ｐ：画素、ＰＤ１：第１プレチルト方向、ＰＤ２：第２プレチルト方向、ＰＤ３：第３プレチルト方向、ＰＤ４：第４プレチルト方向、ＳＲ：遮光部、ＴＲ：透光部

Claims (9)

  1. 　マトリクス状に配列された複数の画素を有し、
    　互いに対向する第１基板および第２基板と、
    　前記第１基板および前記第２基板の間に設けられた垂直配向型の液晶層と、を備え、
    　前記第１基板は、前記複数の画素のそれぞれに設けられた画素電極と、前記画素電極および前記液晶層の間に設けられた第１光配向膜とを有し、
    　前記第２基板は、前記画素電極に対向する対向電極と、前記対向電極および前記液晶層の間に設けられた第２光配向膜とを有し、
    　前記複数の画素のそれぞれは、前記第１光配向膜および前記第２光配向膜によって規定される基準配向方向が互いに異なる複数の液晶ドメインを有し、
    　前記複数の液晶ドメインは、第１方向に平行に延びる第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１液晶ドメインおよび第２液晶ドメインを含み、
    　前記第１光配向膜は、前記複数の画素のそれぞれ内に、互いに異なるプレチルト方向を規定する第１配向領域および第２配向領域であって、前記第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１配向領域および第２配向領域を有する、液晶表示装置の製造方法であって、
    　前記画素電極と、配向処理が施されていない状態の前記第１光配向膜とを有する前記第１基板を用意する工程（Ａ）と、
    　用意された前記第１基板を所定の搬送方向に搬送しながら、前記搬送方向に交差する第２方向に配列された２個以上の第１フォトマスクを含む複数個の第１フォトマスクを介し、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光する工程（Ｂ）と、を包含し、
    　前記複数個の第１フォトマスクのそれぞれは、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光するための露光光を透過する透光部と、前記第１光配向膜の前記第２配向領域となる領域を遮光する遮光部とのペアを複数含み、前記複数のペアは、前記第２方向に沿って並ぶように配置されており、
    　前記複数個の第１フォトマスクのそれぞれは、前記工程（Ｂ）において、当該第１フォトマスクの前記第２方向における一端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記一端側にずれ、且つ、当該第１フォトマスクの前記第２方向における他端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記他端側にずれるように設計されている、液晶表示装置の製造方法。
  2. 　前記複数個の第１フォトマスクのそれぞれは、前記工程（Ｂ）において、当該第１フォトマスクの中央から前記一端側に向かうにつれて、前記透光部と前記遮光部との境界の、前記第１ドメイン境界に対するずれが大きくなり、且つ、当該第１フォトマスクの中央から前記他端側に向かうにつれて、前記透光部と前記遮光部との境界の、前記第１ドメイン境界に対するずれが大きくなるように設計されている、請求項１に記載の製造方法。
  3. 　前記工程（Ｂ）において、前記露光光は、前記複数個の第１フォトマスクのそれぞれに対応して設けられた光学系によって当該第１フォトマスクに導かれる、請求項１または２に記載の製造方法。
  4. 　前記複数個の第１フォトマスクは、前記搬送方向に互いに隣接する第１マスク列および第２マスク列を構成するように配列されており、
    　前記複数個の第１フォトマスクは、さらに、工程（Ｂ）において、前記第１光配向膜が、前記第１マスク列のある第１フォトマスクの一部と、前記第２マスク列のある第１フォトマスクの一部の両方を介して露光されるマスク継ぎ部を有するように配列されている、請求項１から３のいずれかに記載の製造方法。
  5. 　前記第１基板を前記搬送方向に搬送しながら、前記搬送方向に交差する第２方向に配列された２個以上の第２フォトマスクを含む複数個の第２フォトマスクを介し、前記第１光配向膜の前記第２配向領域となる領域を露光する工程（Ｃ）をさらに包含し、
    　前記複数個の第２フォトマスクのそれぞれは、前記第１光配向膜の前記第２配向領域となる領域を露光するための露光光を透過する透光部と、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を遮光する遮光部とのペアを複数含み、前記複数のペアは、前記第２方向に沿って並ぶように配置されており、
    　前記複数個の第２フォトマスクのそれぞれは、前記工程（Ｃ）において、当該第２フォトマスクの前記第２方向における一端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記一端側にずれ、且つ、当該第２フォトマスクの前記第２方向における他端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記他端側にずれるように設計されている、請求項１から４のいずれかに記載の製造方法。
  6. 　前記複数の液晶ドメインは、前記第１ドメイン境界に交差するように延びる第２ドメイン境界を介して前記第１液晶ドメインおよび前記第２液晶ドメインにそれぞれ隣接する第３液晶ドメインおよび第４液晶ドメインを含む、請求項１から５のいずれかに記載の製造方法。
  7. 　前記第２光配向膜は、前記複数の画素のそれぞれ内に、互いに異なるプレチルト方向を規定する第３配向領域および第４配向領域であって、前記第２ドメイン境界を介して互いに隣接する第３配向領域および第４配向領域を有する、請求項６に記載の製造方法。
  8. 　マトリクス状に配列された複数の画素を有し、
    　互いに対向する第１基板および第２基板と、
    　前記第１基板および前記第２基板の間に設けられた垂直配向型の液晶層と、を備え、
    　前記第１基板は、前記複数の画素のそれぞれに設けられた画素電極と、前記画素電極および前記液晶層の間に設けられた第１光配向膜とを有し、
    　前記第２基板は、前記画素電極に対向する対向電極と、前記対向電極および前記液晶層の間に設けられた第２光配向膜とを有し、
    　前記複数の画素のそれぞれは、前記第１光配向膜および前記第２光配向膜によって規定される基準配向方向が互いに異なる複数の液晶ドメインを有し、
    　前記複数の液晶ドメインは、第１方向に平行に延びる第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１液晶ドメインおよび第２液晶ドメインを含み、
    　前記第１光配向膜は、前記複数の画素のそれぞれ内に、互いに異なるプレチルト方向を規定する第１配向領域および第２配向領域であって、前記第１ドメイン境界を介して互いに隣接する第１配向領域および第２配向領域を有する、液晶表示装置の製造方法において、前記第１基板を所定の搬送方向に搬送しながら、前記搬送方向に交差する第２方向に配列された２個以上のフォトマスクを含む複数個のフォトマスクを介し、前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光する露光工程に用いられるフォトマスクであって、
    　前記第１光配向膜の前記第１配向領域となる領域を露光するための露光光を透過する透光部と、前記第１光配向膜の前記第２配向領域となる領域を遮光する遮光部とのペアを複数有し、前記複数のペアは、前記第２方向に沿って並ぶように配置されており、
    　前記露光工程において、当該フォトマスクの前記第２方向における一端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記一端側にずれ、且つ、当該フォトマスクの前記第２方向における他端側では、前記透光部と前記遮光部との境界が前記第１ドメイン境界に対して前記他端側にずれるように設計されている、フォトマスク。
  9. 　前記露光工程において、当該フォトマスクの中央から前記一端側に向かうにつれて、前記透光部と前記遮光部との境界の、前記第１ドメイン境界に対するずれが大きくなり、且つ、当該フォトマスクの中央から前記他端側に向かうにつれて、前記透光部と前記遮光部との境界の、前記第１ドメイン境界に対するずれが大きくなるように設計されている、請求項８に記載のフォトマスク。
PCT/JP2018/001635 2018-01-19 2018-01-19 液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク WO2019142328A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201880083683.8A CN111566549B (zh) 2018-01-19 2018-01-19 液晶显示装置的制造方法及光掩模
PCT/JP2018/001635 WO2019142328A1 (ja) 2018-01-19 2018-01-19 液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク
US16/957,212 US10983398B2 (en) 2018-01-19 2018-01-19 Method for manufacturing liquid crystal display device and photomask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2018/001635 WO2019142328A1 (ja) 2018-01-19 2018-01-19 液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019142328A1 true WO2019142328A1 (ja) 2019-07-25

Family

ID=67300980

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/001635 WO2019142328A1 (ja) 2018-01-19 2018-01-19 液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10983398B2 (ja)
CN (1) CN111566549B (ja)
WO (1) WO2019142328A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111552125A (zh) * 2020-05-27 2020-08-18 成都中电熊猫显示科技有限公司 掩膜版及掩膜组

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113759636B (zh) * 2021-09-29 2024-01-23 维沃移动通信有限公司 滤光组件、摄像模组和电子设备

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008145700A (ja) * 2006-12-08 2008-06-26 Sharp Corp 液晶表示装置およびその製造法
JP2010117734A (ja) * 2006-01-26 2010-05-27 Sharp Corp 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置
WO2012105393A1 (ja) * 2011-02-03 2012-08-09 シャープ株式会社 露光装置、液晶表示装置及びその製造方法
WO2013031461A1 (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006132369A1 (ja) * 2005-06-09 2006-12-14 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
US8189152B2 (en) * 2007-04-20 2012-05-29 Sharp Kabushiki Kaisha Production method of liquid crystal display device and liquid crystal display device
WO2011155272A1 (ja) * 2010-06-07 2011-12-15 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法、及び、液晶表示装置
TW201235799A (en) * 2011-01-24 2012-09-01 Sharp Kk Exposure apparatus, liquid crystal display device and method for manufacturing same
JP5629941B2 (ja) 2011-02-23 2014-11-26 株式会社ブイ・テクノロジー スキャン露光装置
JP6006889B2 (ja) * 2014-01-08 2016-10-12 堺ディスプレイプロダクト株式会社 アクティブマトリクス基板の製造方法、アクティブマトリクス基板、及び表示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010117734A (ja) * 2006-01-26 2010-05-27 Sharp Corp 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置
JP2008145700A (ja) * 2006-12-08 2008-06-26 Sharp Corp 液晶表示装置およびその製造法
WO2012105393A1 (ja) * 2011-02-03 2012-08-09 シャープ株式会社 露光装置、液晶表示装置及びその製造方法
WO2013031461A1 (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111552125A (zh) * 2020-05-27 2020-08-18 成都中电熊猫显示科技有限公司 掩膜版及掩膜组

Also Published As

Publication number Publication date
US10983398B2 (en) 2021-04-20
CN111566549B (zh) 2023-03-24
CN111566549A (zh) 2020-08-21
US20200393716A1 (en) 2020-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5881057B2 (ja) 横電界方式の液晶表示装置及びその製造方法
US8514270B2 (en) Liquid crystal display
KR102249284B1 (ko) 액정 표시 장치
US9274386B2 (en) Liquid crystal display apparatus
US7760306B2 (en) Liquid crystal device and manufacturing method therefor, and electronic apparatus
US9151985B2 (en) Liquid crystal display device
US10718978B2 (en) Apparatus for improving optical alignment of panels manufactured on a same mother substrate
US8451411B2 (en) Display panel having a domain divider
US8786790B2 (en) Liquid crystal display device
JP2017032812A (ja) 液晶表示装置
CN110320709B (zh) 液晶面板及其制造方法
WO2019142328A1 (ja) 液晶表示装置の製造方法およびフォトマスク
US7961285B2 (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
WO2017128779A1 (zh) 显示基板及其制作方法、显示装置
US20060057788A1 (en) Exposure mask pattern for LCD and exposure method using the same
US20160209709A1 (en) Curved liquid crystal display device
JP2016095443A (ja) 電気光学装置および電子機器
US9470936B2 (en) Liquid crystal display device
JP2007187720A (ja) 液晶装置、電子機器
US8107022B2 (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
CN110320711B (zh) 液晶面板及其制造方法
JP6086403B2 (ja) 横電界方式の液晶表示装置及びその製造方法
US8257540B2 (en) Method of manufacturing liquid crystal device
JP2008304560A (ja) 表示装置および表示装置用基板の製造方法
JP2008225032A (ja) 液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18901143

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18901143

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP