WO2019138751A1 - 画像表示装置 - Google Patents

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WO2019138751A1
WO2019138751A1 PCT/JP2018/045136 JP2018045136W WO2019138751A1 WO 2019138751 A1 WO2019138751 A1 WO 2019138751A1 JP 2018045136 W JP2018045136 W JP 2018045136W WO 2019138751 A1 WO2019138751 A1 WO 2019138751A1
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WO
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cover member
image display
layer
display device
transparent substrate
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PCT/JP2018/045136
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English (en)
French (fr)
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鷹典 下坂
池田　徹
一色　眞誠
和伸 前重
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
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    • H05B33/02—Details
    • H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity

Definitions

  • the present invention relates to an image display device.
  • an image display apparatus such as a liquid crystal display, an organic EL display, and a plasma display is provided with a cover glass for protecting the display element on the display surface side of the display element.
  • a cover glass for protecting the display element on the display surface side of the display element.
  • the antiglare treatment scatters the reflected light of light incident on the cover glass from the outside, thereby suppressing the reflection of external light on the cover glass.
  • a method of etching the surface of a cover glass to form unevenness for example, Patent Document 1
  • a method of coating an unevenness layer on the surface of the cover glass, and the like are known (for example, Patent Document 1).
  • the present invention has been made in view of such a background, and the present invention provides an image display apparatus having a cover member capable of suppressing reflection of external light and having improved scratch resistance.
  • the purpose is to
  • An image display device A display element, A cover member disposed on the display element and having a transparent substrate;
  • the image display apparatus is provided, wherein the cover member has an uneven surface on the side of the display element and has a smooth outer surface on the side opposite to the display element.
  • an image display apparatus having a cover member capable of suppressing reflection of external light and having improved scratch resistance.
  • FIG. 1 schematically shows a cross section of an image display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 schematically illustrates a cross section of another image display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 schematically illustrates a cross section of yet another image display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 schematically illustrates a cross section of yet another image display device according to an embodiment of the present invention. It is the figure which showed typically an example of the measuring apparatus used when measuring reflected image diffusivity index value R. It is the figure which showed typically an example of the measuring apparatus used when measuring reflected image diffusivity index value R.
  • FIG. 1 schematically shows a cross section of an image display apparatus (hereinafter, referred to as “first image display apparatus”) according to an embodiment of the present invention.
  • the first image display device 100 has a cover member 110 and a display element 170.
  • the cover member 110 is installed in front of the display element 170 (image display surface side). That is, the cover member 110 has an outer surface 112 and an inner surface 114, and the cover member 110 is disposed such that the inner surface 114 faces the display element 170.
  • the cover member 110 has a role of protecting the display element 170.
  • the outer surface 112 of the cover member 110 is a flat surface, and the inner surface 114 is an uneven surface.
  • a flat surface (of the cover member 110) means a surface having an arithmetic mean roughness Ra of less than 8 nm.
  • corrugated surface of the cover member 110 means the surface whose arithmetic mean roughness Ra is more than 10 nm.
  • the display element 170 is configured of, for example, an element such as a liquid crystal display element, an organic EL display element, or a plasma display element capable of displaying an image on the image display surface side, that is, the cover member 110 side.
  • a gap that is, an air layer S is formed between the cover member 110 and the display element 170.
  • one or more transparent spacer members may be installed between the cover member 110 and the display element 170.
  • the cover member 110 has a transparent substrate 120.
  • the transparent substrate 120 has a first surface 122 and a second surface 124 facing each other, and the second surface 124 is disposed on the side of the display element 170.
  • the cover member 110 further has a low reflective layer 130 disposed on the first surface 122 of the transparent substrate 120.
  • the low reflective layer 130 has a role of suppressing reflection of external light incident from the outer surface 112 of the first image display device 100.
  • the outer surface of the low reflective layer 130 constitutes the outer surface 112 of the cover member 110. Accordingly, the outer surface of the low reflective layer 130 has the aforementioned "flat surface”.
  • the second surface 124 of the transparent substrate 120 constitutes the inner surface 114 of the cover member 110. Accordingly, the second surface 124 of the transparent substrate 120 has the aforementioned "concave and convex surface".
  • the incident light is reflected by the effect of the low reflective layer 130 of the cover member 110. Reflection to the viewer can be significantly suppressed.
  • part of the external light enters the transparent base 120 through the low reflection layer 130, such light is scattered by the inner surface 114 of the cover member 110 and hardly reflected to the viewer side Become. For this reason, the influence of light entering the inside of the first image display device 100 and reflected by the inner surface 114 of the cover member 110 is also significantly suppressed. As a result, the reflection image that may be generated due to the reflection of external light becomes unclear, and reflection of external light can be significantly suppressed.
  • the outer surface 112 of the cover member 110 is a flat surface, and thus the cover member 110 has good scratch resistance.
  • the first image display device 100 reflection of external light can be significantly suppressed, and the scratch resistance of the cover member 110 can be significantly improved.
  • each component included in the first image display device 100 will be described in more detail.
  • the referential mark shown in FIG. 1 is used.
  • the transparent substrate 120 is made of, for example, a transparent material such as glass or resin. When the transparent substrate 120 is made of glass, the transparent substrate 120 may be chemically strengthened.
  • the second surface 124 of the transparent substrate 120 is an uneven surface as described above.
  • This textured surface may have the following shape parameters: Arithmetic average roughness Ra; 10 nm to 50 nm, preferably 13 nm to 40 nm maximum height Rz: 100 nm to 500 nm Element average length RSm of roughness curve; 9 ⁇ m to 25 ⁇ m
  • Such second surface 124 may be formed, for example, by etching the surface of the transparent substrate 120.
  • the first surface 122 of the transparent substrate 120 may be a flat surface.
  • the first surface 122 may have an arithmetic mean roughness Ra of less than 8 nm.
  • the thickness of the transparent substrate 120 is, for example, 0.5 mm to 5.0 mm.
  • the low reflective layer 130 has a function of reducing the specular reflectance of external light.
  • the low reflective layer 130 may be made of, for example, a multilayer film having a repeated structure of a low refractive index layer and a high refractive index layer.
  • the low refractive index layer may have, for example, a refractive index of 1.1 to 1.5.
  • the low refractive index layer may be made of, for example, silicon oxide (SiO 2 ).
  • the high refractive index layer is, for example, selected from the group consisting of niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), silicon nitride (SiN), and tantalum oxide (Ta 2 O 5 ). It may be configured of one or more selected.
  • the number of repetitions is, for example, 2 to 6.
  • the outer surface of the low reflective layer 130 has a flat surface.
  • the outer surface may have an arithmetic mean roughness Ra of 8 nm or less.
  • the low reflective layer 130 is not an essential component. That is, when desired optical characteristics are obtained in the first image display device 100, the low reflective layer 130 may be omitted. In that case, the first surface 122 of the transparent substrate 120 may be the outer surface of the cover member 110, and thus the first surface 122 may have a flat surface.
  • the thickness of the low reflective layer 130 is, for example, 200 nm to 500 nm.
  • the cover member 110 may have a reflection image diffusive index value R measured from the flat outer surface 112 side of more than 0.015. In this case, reflection of external light can be further suppressed.
  • the cover member 110 may have a haze ratio of less than 10% as measured from the outer surface 112 side. In this case, when the cover member 110 is disposed on the display element, the decrease in the visibility of the image can be significantly suppressed.
  • the glossiness of the cover member 110 measured from the outer surface 112 may be less than 130. In this case, glare caused by the reflected image can be significantly suppressed.
  • the display element 170 may have any configuration as long as an image can be displayed on the front side (the side of the cover member 110).
  • the display element 170 may be, for example, a liquid crystal display element, an organic EL display element, or a plasma display element.
  • FIG. 2 schematically shows a cross section of another image display device (hereinafter, referred to as “second image display device”) according to an embodiment of the present invention.
  • the second image display device 200 basically has the same configuration as that of the first image display device 100 described above. That is, the second image display device 200 includes the cover member 210 and the display element 270. In addition, an air layer S is interposed between the cover member 210 and the display element 270.
  • the configuration of the cover member 210 is different from the configuration of the cover member 110 of the first image display device 100. That is, the cover member 210 has the uneven layer 240 on the second surface 224 of the transparent substrate 220.
  • the inner surface 214 of the cover member 210 corresponds to the outer surface of the uneven layer 240, and the uneven layer 240 thus forms the uneven surface of the cover member 210.
  • the uneven layer 240 is configured such that the refractive index is close to the refractive index of the transparent substrate 220.
  • the concavo-convex layer 240 may be made of silica.
  • the point that the cover member 210 includes the low reflective layer 230 having a flat surface on the outer surface 212 is the same as that of the first image display device 100. Also, the first surface 222 of the transparent substrate 220 may be flat.
  • the same effect as that of the first image display device 100 can be obtained.
  • the low reflection layer 230 allows the incident light to reach the viewer. Reflection can be significantly suppressed.
  • the outer surface 212 of the cover member 210 is a flat surface. Therefore, the scratch resistance of the cover member 210 can be significantly improved.
  • each component components constituting the second image display device 200 will be described in detail. However, with regard to most of the members constituting the second image display device 200, the descriptions regarding the constituent members constituting the first image display device 100 described above can be referred to. Therefore, the uneven layer 240 will be particularly described here.
  • the uneven layer 240 constitutes the inner surface 214 of the cover member 210, that is, the uneven surface. Therefore, the concavo-convex layer 240 has an arithmetic average roughness Ra of more than 10 nm.
  • the uneven surface of the uneven layer 240 may have the same shape parameter as the unevenness of the transparent substrate 120.
  • the uneven layer 240 is formed of, for example, a layer containing silica as a main component.
  • silica as a main component.
  • “having silica as a main component” means that 90% by mass or more of SiO 2 is contained.
  • the thickness of the uneven layer 240 is, for example, 200 nm to 500 nm.
  • the uneven layer 240 is, for example, (I) a step of preparing a coating composition (preparation step); (Ii) applying the coating composition to the second surface of the transparent substrate (application step); (Iii) a step of firing the coating composition (firing step); It is formed through Each step will be described below.
  • the coating composition has at least one of silica precursor A and particles C, and solvent B, and is prepared as follows.
  • silica precursor A means the substance which forms the matrix which has a silica as a main component.
  • the silica precursor A is, for example, a silane compound such as alkoxysilane, and a hydrolytic condensate thereof.
  • the silica precursor A preferably contains at least one of tetraalkoxysilane and its hydrolysis condensate.
  • solvent B has a function of dissolving or dispersing the silica precursor A and / or a function of dispersing the particles C.
  • the solvent B may have both the function of dissolving or dispersing the silica precursor A and the function of dispersing the particles C as a dispersion medium.
  • the solvent B contains at least a first solvent B1 having a boiling point of 150 ° C. or less.
  • the boiling point of the first solvent B1 is preferably 50 ° C to 145 ° C, and more preferably 55 ° C to 140 ° C.
  • the solvent B1 may be water.
  • the solvent B may further include a second solvent having a boiling point of 150 ° C. or more.
  • the particles C are made of, for example, metal oxides, metals, pigments or resins.
  • the metal oxide include Al 2 O 3 , SiO 2 , SnO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , ZnO, CeO 2 , Sb-containing SnO x , Sn-containing In 2 O 3 , RuO 2 and the like.
  • the particles C may be solid particles or hollow particles, or may be porous particles or the like.
  • the particles C may be used alone or in combination of two or more.
  • the particles C are preferably spherical, scaly, rod-like, and needle-like silica particles from the viewpoint of suppressing the increase in the refractive index of the uneven layer 240 and reducing the reflectance.
  • "Square-like" means a flat shape.
  • spherical silica particles or scaly silica particles are preferable.
  • composition The total amount of the silica precursor A and the particles C contained in the coating composition is 30% by mass to 100% by mass of the solid content in the coating composition (however, the silica precursor A is converted to SiO 2 ) Preferably, 40% by mass to 100% by mass is more preferable. If it is this range, the uneven
  • the solid content of the coating composition is represented by the sum of the contents of all the components except the solvent B in the coating composition.
  • the solid content concentration of the coating composition is preferably 0.05% by mass to 2% by mass, and more preferably 0.1% by mass to 1% by mass, with respect to the total amount of the coating composition.
  • the viscosity at the application temperature of the coating composition (hereinafter also referred to as “liquid viscosity”) is, for example, 0.003 Pa ⁇ S or less, and preferably 0.001 to 0.003 Pa ⁇ S.
  • the viscosity of the coating composition is a value measured by a B-type viscometer.
  • the coating composition described above is applied onto the second surface 224 of the transparent substrate 220.
  • the method of applying the coating composition is not particularly limited.
  • the coating composition may be applied on the transparent substrate 220 by, for example, a spray method or a brush coating method.
  • a drying treatment may be performed after the application step.
  • the coating composition is fired to form the uneven layer 240.
  • the firing temperature is, for example, 100 ° C. to 750 ° C., and preferably 150 ° C. to 550 ° C.
  • the uneven layer 240 can be formed on the second surface 224 of the transparent substrate 220.
  • the cover member 210 may have a haze ratio of 10% or less measured from the side of the flat outer surface 212.
  • the cover member 210 may have a reflection image diffusive index value R measured from the outer surface 212 side of 0.015 or more.
  • the cover member 210 may have a glossiness of 130 or less measured from the side of the outer surface 212.
  • FIG. 3 schematically shows a cross section of still another image display device (hereinafter, referred to as “third image display device”) according to an embodiment of the present invention.
  • the third image display apparatus 300 has a cover member 310, a display element 370, and an adhesive layer 380 disposed between the two.
  • the cover member 310 is installed in front of the display element 370 (image display surface side). That is, cover member 310 has an outer surface 312 and an inner surface 314, and cover member 310 is arranged such that inner surface 314 is in contact with adhesive layer 380.
  • the outer surface 312 of the cover member 310 is a flat surface, and the inner surface 314 is an uneven surface.
  • the display element 370 is configured of an element capable of displaying an image on the image display surface side, that is, the cover member 310 side.
  • the adhesive layer 380 also has a role of bonding the cover member 310 and the display element 370.
  • the cover member 310 has a transparent substrate 320.
  • the transparent substrate 320 has a first surface 322 and a second surface 324 facing each other, and the second surface 324 is disposed on the side of the display element 370.
  • the cover member 310 further has a low reflective layer 330 disposed on the first surface 322 of the transparent substrate 320.
  • the low reflective layer 330 has a role of suppressing reflection of external light incident from the outer surface 312 of the third image display device 300.
  • the low reflective layer 330 has a flat surface, and the outer surface of the low reflective layer 330 constitutes the outer surface 312 of the cover member 310.
  • the second surface 324 of the transparent substrate 320 has an uneven surface
  • the reflective scattering layer 360 is provided on the second surface 324. Because the reflective scattering layer 360 has a small thickness, the surface morphology of the reflective scattering layer 360 reflects the shape of the second surface 324 of the transparent substrate 320. Therefore, the surface of the reflective scattering layer 360 is an uneven surface. Also, the uneven surface of the reflective scattering layer 360 constitutes the uneven surface of the inner surface 314 of the cover member 310.
  • the reflective scattering layer 360 has a role of reflecting a part of incident light to the viewing side as scattered light.
  • the same effects as those of the first and second image display devices 100 and 200 described above can be obtained.
  • the low reflection layer 330 allows the incident light to reach the viewer. Reflection can be significantly suppressed.
  • the influence of light entering the third image display device 300 and reflected by the inner surface 314 of the cover member 310 is also significantly suppressed. As a result, reflection of external light on the cover member 310 can be significantly suppressed.
  • the outer surface 312 of the cover member 310 is a flat surface, and therefore, the scratch resistance of the cover member 310 can be significantly enhanced.
  • components constituting the third image display device 300 will be described in detail. However, with regard to most of the members constituting the third image display device 300, the descriptions regarding the constituent members constituting the first image display device 100 described above can be referred to. Accordingly, the reflective scattering layer 360 and the adhesive layer 380 will be described in detail here.
  • the reflective scattering layer 360 constitutes the inner surface 314 of the cover member 310, that is, the uneven surface.
  • the outer surface of the reflective scattering layer 360 has a maximum surface roughness Ra greater than 10 nm.
  • the outer surface of the reflective scattering layer 360 may have the following shape parameters: Arithmetic average roughness Ra; 50 nm to 200 nm, preferably 80 nm to 160 nm maximum height; 500 nm to 2000 nm Element average length RSm of roughness curve; 15 ⁇ m to 50 ⁇ m
  • the reflective scattering layer 360 may be formed of, for example, a multilayer film having a repeating structure of a low refractive index layer and a high refractive index layer.
  • the low refractive index layer may have, for example, a refractive index of 1.1 to 1.5.
  • the low refractive index layer may be made of, for example, silicon oxide (SiO 2 ).
  • the high refractive index layer is, for example, selected from the group consisting of niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), silicon nitride (SiN), and tantalum oxide (Ta 2 O 5 ). It may be configured of one or more selected.
  • the number of repetitions is, for example, 2 to 6.
  • the thickness of the reflective scattering layer 360 is, for example, 50 nm to 200 nm.
  • the adhesive layer 380 is made of, for example, a transparent resin.
  • the adhesive layer 380 may be an adhesive.
  • the adhesive for example, optical pressure-sensitive adhesive SK dyne (registered trademark) series (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), optically transparent adhesive Locktite (registered trademark) series (manufactured by Henkel), and optical transparent adhesive sheet LUCIACS (registered Trademark CS986 series (manufactured by Nitto Denko Corporation) and the like.
  • the thickness of the adhesive layer 380 is, for example, 20 ⁇ m to 500 ⁇ m.
  • the adhesive layer 380 may be composed of a plurality of layers.
  • the absolute value ⁇ n of the refractive index difference between the adhesive layer 380 and the transparent substrate 320 is 0 to 0.1.
  • the ⁇ n is preferably 0.07 or less, more preferably 0.05 or less.
  • the cover member 310 may have a haze ratio of less than 20% measured from the side of the flat outer surface 312. Further, the cover member 310 may have a reflection image diffusive index value R measured from the side of the outer surface 312 of 0.03 or more. Furthermore, the cover member 310 may have a glossiness of 85 or less as measured from the outer surface 312 side.
  • FIG. 4 schematically shows a cross section of still another image display device (hereinafter, referred to as “fourth image display device”) according to an embodiment of the present invention.
  • the fourth image display apparatus 400 basically has the same configuration as the above-described third image display apparatus 300. That is, the fourth image display device 400 includes the cover member 410 and the display element 470. Further, the cover member 410 and the display element 470 are bonded to each other by the adhesive layer 480.
  • the configuration of the cover member 410 is different from the configuration of the cover member 310 of the third image display apparatus 300. That is, the cover member 410 has the uneven layer 440 on the second surface 424 of the transparent substrate 420, and the reflective scattering layer 460 is disposed on the uneven layer 440.
  • the surface shape of the reflective scattering layer 460 reflects the surface shape of the uneven layer 440. Therefore, the surface of the reflective scattering layer 460 is an uneven surface. Further, the uneven surface of the reflective scattering layer 460 is the uneven surface of the inner surface 414 of the cover member 410.
  • the uneven layer 440 is configured such that the refractive index approaches the refractive index of the transparent substrate 420.
  • the concavo-convex layer 440 may be made of silica.
  • the description of the concavo-convex layer 240 in the second image display device 200 can be referred to.
  • the point that the cover member 410 includes the low reflective layer 430 having a flat surface on the outer surface 412 is the same as that of the third image display device 300.
  • the first surface 422 of the transparent substrate 420 may be a flat surface.
  • the same effects as those of the first image display device 100 to the third image display device 300 can be obtained.
  • the low reflection layer 430 allows the incident light to reach the viewer. Reflection can be significantly suppressed. Also, even if part of the external light enters the transparent base 420 through the low reflective layer 430, such light is scattered by the inner surface 414 of the cover member 410 and is less likely to be reflected by the viewer Become. Therefore, the influence of light entering the fourth image display apparatus 400 and reflected by the inner surface 414 of the cover member 410 is also significantly suppressed. As a result, the reflection image of the external light becomes unclear, and reflection of the external light onto the cover member 410 can be significantly suppressed.
  • the outer surface 412 of the cover member 410 is a flat surface, which can significantly enhance the scratch resistance of the cover member 410.
  • the cover member 410 may have a haze ratio measured from the side of the flat outer surface 412 of less than 20%.
  • the cover member 410 may have a reflection image diffusive index value R measured from the outer surface 412 side of 0.03 or more.
  • the cover member 410 may have a glossiness of 85 or less measured from the side of the outer surface 412.
  • constituent members of the first image display device 100 to the third image display device 300 can be referred to for constituent members of the fourth image display device 400. Therefore, it will not be described further here.
  • Examples 1 to 14 and Examples 31 to 41 are Examples. Further, Examples 51 to 52 are comparative examples.
  • Example 1 The cover member having the configuration as shown in FIG. 2 was produced by the following method.
  • a soda lime glass substrate (FL 1.1; manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) of 100 mm long ⁇ 100 mm wide ⁇ 1 mm thick was used.
  • the average transmittance of this glass substrate to light of wavelengths 400 nm to 1100 nm is 90.5%.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the first and second surfaces is 0.5 nm.
  • a low reflection layer was formed on the first surface of this transparent substrate.
  • the low reflective layer has a repetitive structure of a niobium oxide film (refractive index of about 2.35 at a wavelength of 632 nm) and a silicon oxide film (refractive index of about 1.47 at a wavelength of 632 nm) by post reaction sputtering.
  • the film was formed.
  • the number of repetitions was four, that is, four niobium oxide films and four silicon oxide films were formed.
  • ULDis manufactured by ULVAC, Inc.
  • a metal niobium target was used as a target for forming the niobium oxide film.
  • the deposition gas was argon (40 sccm), and the sputtering power was 5 kW.
  • Oxygen (100 sccm) was used as the oxidizing source gas, and the oxidizing source power was 2 kW.
  • the deposition rate was 0.42 nm / min.
  • polysilicon was used as a target for forming a silicon oxide film.
  • the deposition gas was argon (40 sccm), and the sputtering power was 6 kW.
  • Oxygen (100 sccm) was used as the oxidizing source gas, and the oxidizing source power was 1 kW.
  • the deposition rate was 0.3 nm / min.
  • each film is, in the order from the transparent substrate, 4.5 nm (first niobium oxide film), 61.0 nm (first silicon oxide film), 19.5 nm (second niobium oxide film), 30.0 nm (second silicon oxide film), 98.5 nm (third niobium oxide film), 16.5 nm (third silicon oxide film), 14.0 nm (fourth niobium oxide film), and 48 .0 nm (the fourth silicon oxide film).
  • the low reflective layer having such a configuration is referred to as “AR1”.
  • the uneven layer was formed on the second surface of the transparent substrate by the following method.
  • tetraethoxysilane and KBM-3066 correspond to the silica precursor A described above.
  • the SLV liquid is a dispersion obtained by crushing and dispersing scaly silica particles (Sun Green LFS HN 150; manufactured by AGC S IT Co., Ltd.), and corresponds to the particle C described above.
  • the dispersion medium is water, and the concentration of particles is 5 wt%.
  • the average particle size of the particles is 185 nm, and the average aspect ratio is 80.
  • solution I a solution containing silica precursor A, particles C, and solvent B (hereinafter referred to as “solution I”) was obtained.
  • the coating composition was spray-coated on the second surface of the transparent substrate using an electrostatic coating apparatus (a liquid electrostatic core; manufactured by Asahi Sanac Co., Ltd.) equipped with an electrostatic coating gun.
  • an electrostatic coating gun a rotary atomization type automatic electrostatic gun with a cup diameter of 70 mm (San Bell, ESA 120; manufactured by Asahi Sanac Co., Ltd.) was used. The number of times of application was 3 times.
  • the coating composition was baked at 300 ° C. for 1 hour to form an uneven layer on the second surface of the transparent substrate.
  • cover member according to Example 1 a cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to Example 1") was manufactured.
  • the surface of the low reflection layer corresponds to the outer surface of the cover member
  • the surface of the uneven layer corresponds to the inner surface of the cover member.
  • Example 2 A cover member was produced in the same manner as in Example 1.
  • cover members (hereinafter, referred to as “cover members according to Examples 2 to 6”) were manufactured.
  • Example 7 A cover member was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 7 the configuration (film thickness) of the low reflective layer was changed from that of Example 1.
  • the low reflective layer is, in order from the transparent substrate, 7.0 nm (first niobium oxide film), 60.2 nm (first silicon oxide film), 19.0 nm (second niobium oxide film), 20.0 nm (second silicon oxide film), 94.92 nm (third niobium oxide film), 17.12 nm (third silicon oxide film), 9.32 nm (fourth niobium oxide film), and 77 .21 nm (fourth silicon oxide film).
  • AR2 the low reflective layer having such a configuration is referred to as "AR2".
  • cover member according to Example 7 The other manufacturing conditions are the same as in Example 1. Thereby, a cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to Example 7") was manufactured.
  • Example 8 to Example 14 A cover member was produced in the same manner as in Example 7.
  • cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to each of Examples 8 to 14”) was manufactured.
  • Table 1 below collectively shows the specifications and the like of the low reflective layer and the uneven layer in the cover member according to Examples 1 to 14.
  • the shape parameter of the surface of the uneven layer was measured according to the method defined in JIS B0601-2013. Specifically, the arithmetic mean roughness Ra, maximum height Rz, root mean square height Rq, element mean length RSm of roughness curve, root mean square slope R ⁇ q, skewness Rsk, and kurtosis Rku of the uneven layer are measured. did.
  • the measurement was performed in the area near the center of the cover member.
  • the measured value is the arithmetic mean at three points in the region.
  • the scratch resistance of the outer surface (the surface on the low reflection layer side) of each cover member was evaluated.
  • the scratch resistance was evaluated by pencil hardness.
  • the pencil hardness was measured in accordance with JIS K5600-5-4.
  • the antiglare property was evaluated using a reflection image diffuseness index value R (Reflection Image Diffusiveness index value).
  • FIG. 5A schematically shows an example of a measuring apparatus used when measuring the reflection image diffusive index value R of the cover member.
  • the measuring device 501 has a linear light source device 507 and a surface luminance measuring device 515.
  • the linear light source device 507 has a light source 511 and a black flat plate 512 around it.
  • the light source 511 is a linear light source extending in a direction perpendicular to the paper in FIG. 5A, and is installed in a slit-like opening provided at the center of the black flat plate 512.
  • the surface brightness measuring device 515 is disposed on a plane perpendicular to the longitudinal axis of the light source 511 and passing substantially through the center of the light source 511. Therefore, the surface brightness measuring device 515 is disposed to face the light source 511 at a position approximately at the center of the light source 511 along the longitudinal axis.
  • the distance between the surface brightness measuring device 515 and the light source 511 is about 60 mm.
  • the focus of the surface brightness measuring device 515 is focused on the image of the linear light source device 507 reflected by the outer surface 522 of the cover member 520.
  • the cover member 520 to be measured is disposed in the measuring device 501 such that the outer surface 522 is on the side of the linear light source device 507 and the surface luminance measuring device 515.
  • the outer surface 522 is the outer surface of the low reflection layer.
  • Light emitted from the linear light source device 507 is incident on the outer surface 522 of the cover member 520 at an incident angle theta i. Further, this light is reflected and / or scattered by the outer surface 522 of the cover member 520 at the reflection angle ⁇ r , and is incident on the surface brightness measuring device 515.
  • FIG. 5A shows that the first incident light 531 from the linear light source device 507 is specularly reflected on the outer surface 522 to become the first reflected light 532 and is incident on the surface luminance measuring device 515. ing.
  • ⁇ r ⁇ i 0 ° holds between the incident angle ⁇ i of the first incident light 531 and the reflection angle ⁇ r of the first reflected light 532.
  • the luminance of the first reflected light 532 measured by the surface luminance measuring instrument 515 is R 1 and Do.
  • FIG. 5B shows how the second incident light 533 from the linear light source device 507 is scattered and reflected by the outer surface 522 to become the second reflected light 534 and is incident on the surface luminance measuring device 515. It is done.
  • ⁇ r ⁇ i 0.5 ° ⁇ 0.1 ° when established, are measured in the plane luminance meter 515, the luminance of the second reflected light 534 and R 2.
  • ⁇ r ⁇ i ⁇ 0.5 ° ⁇ 0.1 ° is established between the incident angle ⁇ i of the second incident light 533 and the reflection angle ⁇ r of the second reflected light 534
  • the luminance of the second reflected light 534 measured by the surface luminance measuring device 515 in this case is R 3 .
  • Such measurement can be performed, for example, by using an apparatus SMS-1000 manufactured by DM & S. If this device is used, a C1614A lens with a camera lens focal length of 16 mm is used with a stop 5.6. In addition, the distance from the outer surface 522 to the camera lens is about 300 mm, and the imaging scale is set in the range of 0.0276 to 0.0278.
  • the dimension of the opening of the slit formed in the black flat plate 512 of the linear light source device 507 is 101 mm ⁇ 1 mm.
  • the cover member to be measured is disposed on a commercially available display device (in this case, using iPad-Air (registered trademark)) via an adhesive sheet.
  • an acrylic optical transparent pressure-sensitive adhesive sheet having a thickness of 500 ⁇ m was used. Further, at the time of bonding, the cover member was disposed on the display device such that the side of the second surface of the transparent substrate, that is, the side of the uneven layer faced the display device. Therefore, the cover member is disposed such that the low reflection layer side is the outer surface (viewing side).
  • the display device is turned on to display a green single color image (RGB (0, 255, 0)) on the entire display screen.
  • the cover members according to Examples 1 to 14 all had a flat outer surface, and the inner surface was an uneven surface.
  • the reflection image diffusive index value R is 0.016 or more in all cases. From this, it was found that the cover members according to Examples 1 to 14 can significantly suppress the reflection of external light when disposed on the display element.
  • Example 31 A cover member having a configuration as shown in FIG. 4 was produced by the following method.
  • Example 31 the structure of a transparent base material and a low reflection layer is the same as that of the case of the above-mentioned Example 7.
  • the uneven layer was formed on the second surface of the transparent substrate by the following method.
  • the coating composition was spray-coated on the second surface of the transparent substrate using an electrostatic coating apparatus (a liquid electrostatic core; manufactured by Asahi Sanac Co., Ltd.) equipped with the aforementioned electrostatic coating gun. .
  • the number of times of application was two.
  • the coating composition was baked at 300 ° C. for 1 hour to form an uneven layer on the second surface of the transparent substrate.
  • the reflective layer has a repetitive structure of a niobium oxide film (refractive index of about 2.35 at a wavelength of 632 nm) and a silicon oxide film (refractive index of about 1.47 at a wavelength of 632 nm). I made a film. The number of repetitions was 2.5, that is, three niobium oxide films and two silicon oxide films were formed.
  • the film forming conditions are the same as the conditions shown in the column of (formation of low reflective layer) in Example 1.
  • each film is 16.0 nm (first niobium oxide film), 34.75 nm (first silicon oxide film), 72.0 nm (second niobium oxide film) in the order from the transparent substrate, The thicknesses were 17.5 nm (second silicon oxide film) and 20.0 nm (third niobium oxide film).
  • Reflect layer of the structure which concerns is called "Re1".
  • cover member according to Example 31 a cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to Example 31") was manufactured.
  • the surface of the low reflective layer corresponds to the outer surface of the cover member
  • the surface of the reflective layer corresponds to the inner surface of the cover member.
  • Example 32 to Example 36 A cover member was produced in the same manner as in Example 31.
  • Example 32 to 36 the amounts of components contained in the coating composition used in forming the uneven layer and the number of times of application by the electrostatic coating gun were changed from those in Example 31.
  • cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to each of Examples 32 to 36”) was manufactured.
  • Example 37 A cover member was produced in the same manner as in Example 31.
  • Example 37 the number of times of application of the coating composition was set to 3 when forming the uneven layer.
  • the configuration (film thickness) of the reflective layer was changed from that of Example 31.
  • the reflective layer is 16.0 nm (first niobium oxide film), 35.0 nm (first silicon oxide film), 64.0 nm (second niobium oxide film), 12 in order of increasing distance from the transparent substrate. .0 nm (second silicon oxide film) and 18.0 nm (third niobium oxide film).
  • the reflective layer having such a configuration is referred to as “Re2”.
  • cover member according to example 37 a cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to example 37") was manufactured.
  • Example 38 to Example 41 A cover member was produced in the same manner as in Example 37.
  • cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to each of Examples 38 to 41”) was manufactured.
  • Table 3 below collectively shows the specifications of the low reflective layer, the uneven layer, the reflective layer, and the like in the cover members according to Examples 31 to 41.
  • the Ra on the surface of the reflective layer is more than 10 nm.
  • the surface roughness (Ra) of the surface of the low reflective layer was 8 nm or less.
  • the reflection image diffusive index value R is 0.03 or more in all cases. From this, it was found that the cover members according to Examples 31 to 41 can significantly suppress the reflection of external light when disposed on the display element.
  • the cover members according to Examples 31 to 41 it was found that the haze was less than 20%, and there was little possibility of lowering the visibility of the image when disposed on the display element. In addition, it was found that glare was also significantly suppressed in the cover members according to Examples 31 to 41. Further, in the cover members according to Examples 31 to 39, it was found that the glossiness was less than 85, and the glare caused by the reflected image was also significantly suppressed.
  • Example 51 The cover member was produced by the following method.
  • a washed transparent substrate was prepared.
  • the same glass substrate (FL 1.1; manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) as in Example 1 was used.
  • the uneven layer was formed as follows.
  • a solution I was prepared by the same method as in Example 1 described above.
  • the coating composition was then spray applied to the first surface of the transparent substrate using an electrostatic coating apparatus equipped with the aforementioned electrostatic coating gun.
  • the number of times of application was 3 times.
  • corrugated layer was formed in the 1st surface of a transparent base material by baking a coating composition at 300 degreeC for 1 hour.
  • cover member according to example 51 a cover member (hereinafter, referred to as “cover member according to example 51") was manufactured.
  • the surface of the uneven layer corresponds to the outer surface of the cover member
  • the second surface of the transparent substrate is the surface of the cover member. Correspond to the inner surface.
  • Example 52 A cover member was produced in the same manner as in Example 51.
  • cover member according to example 52 a cover member (hereinafter referred to as "cover member according to example 52") was manufactured.
  • Table 5 below collectively shows the specifications of the concavo-convex layers in the cover members according to Examples 51 to 52.
  • the measurement of the reflective image diffusive index value R was performed such that the side of the concavo-convex layer was on the side of the linear light source device 507 and the surface luminance measuring instrument 515.
  • Ra on the surface of the concavo-convex layer is more than 10 nm. It turns out that it is the surface.
  • the cover members according to Example 51 to Example 52 each had a pencil hardness of only about 6 H on the outer surface. Therefore, when these cover members are arranged such that the side of the second surface of the transparent substrate faces the display element, it can be said that the outer surface does not have very good scratch resistance.
  • the display device As described above, in the display device according to the embodiment of the present invention, it is possible to significantly suppress the reflection of external light, and to significantly improve the scratch resistance of the outer surface of the cover member as compared with the conventional case. confirmed.
  • first image display device 110 cover member 112 outer surface (flat surface) of the cover member 114 Inner surface of cover member (rough surface) 120 Transparent substrate 122 First surface 124 Second surface 130 Low reflection layer 170 Display element 200 Second image display device 210 Cover member 212 Outer surface of cover member (flat surface) 214 Inner surface of cover member (rough surface) 220 Transparent substrate 222 First surface 224 Second surface 230 Low reflective layer 240 Irregular layer 270 Display element 300 Third image display device 310 Cover member 312 Outer surface of cover member (flat surface) 314 Inner surface of cover member (rough surface) 320 Transparent substrate 322 First surface 324 Second surface 330 Low reflective layer 360 Reflective scattering layer 370 Display element 380 Adhesive layer 400 Fourth image display device 410 Cover member 412 Outer surface of cover member (flat surface) 414 Inner surface of cover member (rough surface) 420 transparent substrate 422 first surface 424 second surface 430 low reflective layer 440 uneven layer 460 reflective scattering layer 470 display element 480 adhesive layer 501 measuring device 507 linear light

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Abstract

画像表示装置であって、表示素子と、該表示素子上に設置された、透明基材を有するカバー部材と、を有し、前記カバー部材は、前記表示素子の側に、凹凸表面を有し、前記表示素子とは反対の側に、平滑な外表面を有する、画像表示装置。

Description

画像表示装置
　本発明は、画像表示装置に関する。
　通常、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、およびプラズマディスプレイ等の画像表示装置は、表示素子の表示面側に、表示素子の保護のためのカバーガラスを備えている。そのような画像表示装置において、室内照明等の外部光がカバーガラスに映り込むと、表示素子から投影される画像の視認性が低下する。
　そこで、そのような外部光の映り込みを抑制するため、カバーガラスの外表面には、しばしば微細な凹凸が形成される（防眩処理）。
　防眩処理により、外部からカバーガラスに入射される光の反射光が散乱され、カバーガラスへの外部光の映り込みが抑制される。防眩処理としては、例えば、カバーガラスの表面をエッチングして凹凸を形成する方法、およびカバーガラスの表面に凹凸層をコーティングする方法などが知られている（例えば、特許文献１）。
特表２０１２－５２１９５８号公報
　前述のような外部光の映り込みをより抑制するには、カバーガラスの表面に設けられる凹凸をなるべく大きくすることが有効である。
　しかしながら、そのような凹凸が大きくなればなるほど、今度はカバーガラスの表面に傷が付きやすくなり、すなわちカバーガラスの耐擦傷性が低下するという問題が生じ得る。
　本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、外部光の映り込みを抑制することができる上、耐擦傷性が改善された、カバー部材を有する画像表示装置を提供することを目的とする。
　本発明では、
　画像表示装置であって、
　表示素子と、
　該表示素子上に設置された、透明基材を有するカバー部材と、
　を有し、
　前記カバー部材は、前記表示素子の側に、凹凸表面を有し、前記表示素子とは反対の側に、平滑な外表面を有する、画像表示装置が提供される。
　本発明では、外部光の映り込みを抑制することができる上、耐擦傷性が改善されたカバー部材を有する画像表示装置を提供することができる。
本発明の一実施形態による画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態による別の画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置の断面を概略的に示した図である。 反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示した図である。 反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示した図である。
　以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
　（本発明の一実施形態による画像表示装置）
　図１を参照して、本発明の一実施形態による画像表示装置について説明する。
　図１には、本発明の一実施形態による画像表示装置（以下、「第１の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。
　図１に示すように、第１の画像表示装置１００は、カバー部材１１０と、表示素子１７０とを有する。
　カバー部材１１０は、表示素子１７０の前方（画像表示面側）に設置される。すなわち、カバー部材１１０は、外表面１１２および内表面１１４を有し、カバー部材１１０は、内表面１１４が表示素子１７０と対面するように配置される。
　カバー部材１１０は、表示素子１７０を保護する役割を有する。カバー部材１１０の外表面１１２は、平坦な表面であり、内表面１１４は、凹凸表面である。
　ここで、「（カバー部材１１０の）平坦な表面」とは、算術平均粗さＲａが８ｎｍ未満の表面を意味する。また、「カバー部材１１０の」凹凸表面」とは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ超の表面を意味する。
　表示素子１７０は、例えば、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、またはプラズマ表示素子など、画像表示面側、すなわちカバー部材１１０側に、画像を表示できる素子で構成される。
　なお、カバー部材１１０と表示素子１７０の間には、隙間、すなわち空気層Ｓが形成される。このため、カバー部材１１０と表示素子１７０の間には、１または２以上の透明なスペーサ部材（図示されていない）が設置されても良い。
　カバー部材１１０は、透明基材１２０を有する。透明基材１２０は、相互に対向する第１の表面１２２および第２の表面１２４を有し、第２の表面１２４が表示素子１７０の側となるように配置される。
　カバー部材１１０は、さらに、透明基材１２０の第１の表面１２２に設置された、低反射層１３０を有する。低反射層１３０は、第１の画像表示装置１００の外表面１１２から入射される外光の反射を抑制する役割を有する。
　低反射層１３０の外表面は、カバー部材１１０の外表面１１２を構成する。従って、低反射層１３０の外表面は、前述の「平坦な表面」を有する。
　一方、透明基材１２０の第２の表面１２４は、カバー部材１１０の内表面１１４を構成する。従って、透明基材１２０の第２の表面１２４は、前述の「凹凸表面」を有する。
　このような構成の第１の画像表示装置１００では、カバー部材１１０の低反射層１３０の効果により、第１の画像表示装置１００に外部から光（外部光）が入射しても、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。また、外部光の一部が低反射層１３０を介して透明基材１２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材１１０の内表面１１４で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第１の画像表示装置１００の内部に進入し、カバー部材１１０の内表面１１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、外部光の反射によって生じ得る反射像が不鮮明になり、外部光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。
　また、第１の画像表示装置１００では、カバー部材１１０の外表面１１２が、平坦な表面となっており、このため、カバー部材１１０は、良好な耐擦傷性を有する。
　従って、第１の画像表示装置１００では、外部光の映り込みを有意に抑制することができるとともに、カバー部材１１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。
　（各構成部材）
　次に、第１の画像表示装置１００に含まれる各構成部材について、より詳しく説明する。なお、各構成部材を表す際には、図１に示した参照符号を使用する。
　（透明基材１２０）
　透明基材１２０は、例えば、ガラスまたは樹脂などの透明な材料で構成される。透明基材１２０がガラスで構成される場合、透明基材１２０は化学強化されていても良い。
　透明基材１２０の第２の表面１２４は、前述のように、凹凸表面である。
　この凹凸表面は、以下のような形状パラメータを有しても良い：
　　算術平均粗さＲａ；１０ｎｍ～５０ｎｍであり、１３ｎｍ～４０ｎｍが好ましい
　　最大高さＲｚ；１００ｎｍ～５００ｎｍ
　　粗さ曲線の要素平均長さＲＳｍ；９μｍ～２５μｍ
　そのような第２の表面１２４は、例えば、透明基材１２０の表面をエッチングすることにより、形成されても良い。
　一方、透明基材１２０の第１の表面１２２は、平坦な表面であっても良い。例えば、第１の表面１２２は、算術平均粗さＲａが８ｎｍ未満であっても良い。
　透明基材１２０の厚さは、例えば、０．５ｍｍ～５．０ｍｍである。
　（低反射層１３０）
　低反射層１３０は、外部光の正反射率を低下させる機能を有する。
　低反射層１３０は、例えば、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造を有する多層膜で構成されても良い。
　低屈折率層は、例えば、１．１～１．５の屈折率を有しても良い。低屈折率層は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で構成されても良い。
　高屈折率層は、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、および酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）からなる群から選択された１種以上で構成されても良い。
　なお、繰り返し数は、例えば２～６である。
　低反射層１３０の外表面は、平坦な表面を有する。外表面は、算術平均粗さＲａが８ｎｍ以下であっても良い。
　なお、低反射層１３０は、必須の構成ではない。すなわち、第１の画像表示装置１００に所望の光学特性が得られる場合、低反射層１３０は省略しても良い。その場合、透明基材１２０の第１の表面１２２がカバー部材１１０の外表面となり、従って、第１の表面１２２が平坦な表面を有しても良い。
　低反射層１３０の厚さは、例えば、２００ｎｍ～５００ｎｍである。
　（カバー部材１１０）
　カバー部材１１０は、平坦な外表面１１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０１５超であっても良い。この場合、外光の映り込みをよりいっそう抑制することができる。
　また、カバー部材１１０は、外表面１１２の側から測定されるヘイズ率が１０％未満であっても良い。この場合、表示素子の上にカバー部材１１０を配置した際に、画像の視認性の低下を、有意に抑制することができる。
　また、カバー部材１１０は、外表面１１２の側から測定される光沢度が１３０未満であっても良い。この場合、反射像による眩しさを、有意に抑制することができる。
　なお、これらの光学パラメータの測定方法については、後述する。
　（表示素子１７０）
　表示素子１７０は、前方（カバー部材１１０の側）に画像を表示することができる限り、いかなる構成を有しても良い。表示素子１７０は、例えば、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、またはプラズマ表示素子であっても良い。
　（本発明の一実施形態による別の画像表示装置）
　次に、図２を参照して、本発明の一実施形態による別の画像表示装置について説明する。
　図２には、本発明の一実施形態による別の画像表示装置（以下、「第２の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。
　図２に示すように、第２の画像表示装置２００は、基本的に、前述の第１の画像表示装置１００と同様の構成を有する。すなわち、第２の画像表示装置２００は、カバー部材２１０と、表示素子２７０とを有する。また、カバー部材２１０と表示素子２７０の間には、空気層Ｓが介在される。
　ただし、第２の画像表示装置２００においては、カバー部材２１０の構成が、第１の画像表示装置１００のカバー部材１１０の構成とは異なっている。すなわち、カバー部材２１０は、透明基材２２０の第２の表面２２４に、凹凸層２４０を有する。
　換言すれば、カバー部材２１０の内表面２１４は、凹凸層２４０の外表面に対応し、従って、凹凸層２４０によって、カバー部材２１０の凹凸面が形成される。
　凹凸層２４０は、屈折率が透明基材２２０の屈折率と接近するように構成される。例えば、透明基材２２０がガラスで構成される場合、凹凸層２４０は、シリカで構成されても良い。
　なお、カバー部材２１０が外表面２１２に、平坦な表面を有する低反射層２３０を備える点は、第１の画像表示装置１００の場合と同様である。また、透明基材２２０の第１の表面２２２は、平坦であっても良い。
　このような構成を有する第２の画像表示装置２００においても、第１の画像表示装置１００と同様の効果を得ることができる。
　すなわち、第２の画像表示装置２００では、第２の画像表示装置２００のカバー部材２１０に外部から光（外部光）が入射しても、低反射層２３０によって、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。
　また、外部光の一部が低反射層２３０を介して透明基材２２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材２１０の内表面２１４（凹凸層２４０）で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第２の画像表示装置２００の内部に進入し、カバー部材２１０の内表面２１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、カバー部材２１０への外部光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。
　また、第２の画像表示装置２００では、カバー部材２１０の外表面２１２が、平坦な表面となっている。このため、カバー部材２１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。
　（各構成部材）
　次に、第２の画像表示装置２００を構成する構成部材について、詳しく説明する。ただし、第２の画像表示装置２００を構成する大部分の部材については、前述の第１の画像表示装置１００を構成する構成部材に関する記載が参照できる。従って、ここでは、特に凹凸層２４０について説明する。
　（凹凸層２４０）
　凹凸層２４０は、カバー部材２１０の内表面２１４、すなわち凹凸表面を構成する。従って、凹凸層２４０は、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ超である。
　また、凹凸層２４０の凹凸表面は、透明基材１２０の凹凸と同様の形状パラメータを有しても良い。
　凹凸層２４０は、例えば、シリカを主成分とする層で構成される。ここで、「シリカを主成分とする」とは、ＳｉＯ２を９０質量％以上含むことを意味する。
　凹凸層２４０の厚さは、例えば、２００ｎｍ～５００ｎｍである。
　（凹凸層２４０の形成方法）
　次に、凹凸層２４０の形成方法の一例について説明する。
　凹凸層２４０は、例えば、
（ｉ）塗布組成物を調製する工程（調製工程）と、
（ｉｉ）前記塗布組成物を透明基材の第２の表面に塗布する工程（塗布工程）と、
（ｉｉｉ）前記塗布組成物を焼成する工程（焼成工程）と、
　を経て形成される。以下、各工程について説明する。
　（調製工程）
　まず、塗布組成物が調整される。塗布組成物は、シリカ前駆体Ａおよび粒子Ｃの少なくとも一方と、溶媒Ｂとを有し、以下のように調製される。なお、「シリカ前駆体Ａ」とは、シリカを主成分とするマトリクスを形成する物質を意味する。
　以下、それぞれについて説明する。
　（シリカ前駆体Ａ）
　シリカ前駆体Ａは、例えば、アルコキシシラン等のシラン化合物、およびその加水分解縮合物である。シリカ前駆体Ａは、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物の少なくとも一方を含むことが好ましい。
　（溶媒Ｂ）
　溶媒Ｂは、シリカ前駆体Ａを溶解または分散する機能、および／または粒子Ｃを分散する機能を有する。溶媒Ｂは、シリカ前駆体Ａを溶解または分散する機能と、粒子Ｃを分散する分散媒としての機能の両方を有しても良い。
　溶媒Ｂは、少なくとも、沸点が１５０℃以下の第１の溶媒Ｂ１を含む。第１の溶媒Ｂ１の沸点は、５０℃～１４５℃が好ましく、５５℃～１４０℃がより好ましい。溶媒Ｂ１は、水であっても良い。
　溶媒Ｂは、さらに、沸点が１５０℃超の第２の溶媒を含んでも良い。
　（粒子Ｃ）
　粒子Ｃは、例えば、金属酸化物、金属、顔料または樹脂などで構成される。金属酸化物としては、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＣｅＯ２、Ｓｂ含有ＳｎＯｘ、Ｓｎ含有Ｉｎ２Ｏ３、ＲｕＯ２等が挙げられる。
　粒子Ｃは、中実粒子でも中空粒子でも良く、多孔質粒子等でも良い。粒子Ｃは、１種を単独で用いても、２種以上を併用しても良い。
　粒子Ｃとしては、凹凸層２４０の屈折率上昇を抑え、反射率を下げることができる点から、球状、鱗片状、棒状、および針状等のシリカ粒子が好ましい。「鱗片状」とは、扁平な形状を意味する。特に、粒子Ｃとしては、球状シリカ粒子または鱗片状シリカ粒子が好ましい。
　（組成）
　塗布組成物に含まれるシリカ前駆体Ａと粒子Ｃの合計量は、塗布組成物中の固形分（ただし、シリカ前駆体ＡはＳｉＯ２換算とする）のうち、３０質量％～１００質量％が好ましく、４０質量％～１００質量％がより好ましい。この範囲であれば、透明基材２２０との密着性に優れる凹凸層２４０を形成できる。
　塗布組成物の固形分は、塗布組成物中の、溶媒Ｂを除く全成分の含有量の合計で表される。
　塗布組成物の固形分濃度は、塗布組成物の全量に対し、０．０５質量％～２質量％が好ましく、０．１質量％～１質量％がより好ましい。
　塗布組成物の塗布温度における粘度（以下、「液粘度」ともいう）は、例えば、０．００３Ｐａ・Ｓ以下であり、０．００１～０．００３Ｐａ・Ｓであることが好ましい。塗布組成物の粘度は、Ｂ型粘度計により測定される値である。
　（塗布工程）
　次に、前述の塗布組成物が、透明基材２２０の第２の表面２２４上に塗布される。塗布組成物の塗布の方法は、特に限られない。塗布組成物は、例えば、スプレー法、または刷毛塗り法などにより、透明基材２２０上に塗布されても良い。
　必要な場合、塗布工程の後に、乾燥処理を行っても良い。
　（焼成工程）
　次に、塗布組成物が焼成され、これにより、凹凸層２４０が形成される。焼成温度は、例えば、１００℃～７５０℃であり、１５０℃～５５０℃であることが好ましい。
　以上の工程により、透明基材２２０の第２の表面２２４に、凹凸層２４０を形成することができる。
　（カバー部材２１０）
　第２の画像表示装置２００において、カバー部材２１０は、平坦な外表面２１２の側から測定されるヘイズ率が１０％以下であっても良い。また、カバー部材２１０は、外表面２１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０１５以上であっても良い。さらに、カバー部材２１０は、外表面２１２の側から測定される光沢度が１３０以下であっても良い。
　（本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置）
　次に、図３を参照して、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置について説明する。
　図３には、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置（以下、「第３の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。
　図３に示すように、第３の画像表示装置３００は、カバー部材３１０と、表示素子３７０と、両者の間に設置された接着層３８０とを有する。
　カバー部材３１０は、表示素子３７０の前方（画像表示面側）に設置される。すなわち、カバー部材３１０は、外表面３１２および内表面３１４を有し、カバー部材３１０は、内表面３１４が接着層３８０と接触するように配置される。
　カバー部材３１０の外表面３１２は、平坦な表面であり、内表面３１４は、凹凸表面である。
　表示素子３７０は、前述のように、画像表示面側、すなわちカバー部材３１０側に、画像を表示できる素子で構成される。
　また、接着層３８０は、カバー部材３１０と表示素子３７０とを接合する役割を有する。
　カバー部材３１０は、透明基材３２０を有する。透明基材３２０は、相互に対向する第１の表面３２２および第２の表面３２４を有し、第２の表面３２４が表示素子３７０の側となるように配置される。
　カバー部材３１０は、さらに、透明基材３２０の第１の表面３２２に設置された、低反射層３３０を有する。低反射層３３０は、第３の画像表示装置３００の外表面３１２から入射される外部光の反射を抑制する役割を有する。
　低反射層３３０は、平坦な表面を有し、低反射層３３０の外表面がカバー部材３１０の外表面３１２を構成する。
　一方、透明基材３２０の第２の表面３２４は、凹凸表面を有し、この第２の表面３２４には、反射散乱層３６０が設置される。反射散乱層３６０は、厚さが薄いため、反射散乱層３６０の表面形態には、透明基材３２０の第２の表面３２４の形状が反映される。従って、反射散乱層３６０の表面は、凹凸表面である。また、反射散乱層３６０の凹凸表面が、カバー部材３１０の内表面３１４の凹凸表面を構成する。
　反射散乱層３６０は、入射光の一部を視認側に散乱光として反射する役割を有する。
　このような構成を有する第３の画像表示装置３００においても、前述の第１および第２の画像表示装置１００、２００と同様の効果を得ることができる。
　すなわち、第３の画像表示装置３００では、第３の画像表示装置３００のカバー部材３１０に外部から光（外部光）が入射しても、低反射層３３０によって、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。
また、外部光の一部が低反射層３３０を介して透明基材３２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材３１０の内表面３１４で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第３の画像表示装置３００の内部に進入し、カバー部材３１０の内表面３１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、カバー部材３１０への外部光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。
　また、第３の画像表示装置３００では、カバー部材３１０の外表面３１２が、平坦な表面となっており、このため、カバー部材３１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。
　（第３の画像表示装置の構成部材）
　次に、第３の画像表示装置３００を構成する構成部材について、詳しく説明する。ただし、第３の画像表示装置３００を構成する大部分の部材については、前述の第１の画像表示装置１００を構成する構成部材に関する記載が参照できる。従って、ここでは、反射散乱層３６０および接着層３８０について詳しく説明する。
　（反射散乱層３６０）
　反射散乱層３６０は、カバー部材３１０の内表面３１４、すなわち凹凸表面を構成する。
　従って、反射散乱層３６０の外表面は、１０ｎｍ超の最大表面粗さＲａを有する。
　反射散乱層３６０の外表面は、以下のような形状パラメータを有しても良い：
　　算術平均粗さＲａ；５０ｎｍ～２００ｎｍであり、８０ｎｍ～１６０ｎｍが好ましい
　　最大高さ；５００ｎｍ～２０００ｎｍ
　　粗さ曲線の要素平均長さＲＳｍ；１５μｍ～５０μｍ
　反射散乱層３６０は、例えば、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造を有する多層膜で構成されても良い。
　低屈折率層は、例えば、１．１～１．５の屈折率を有しても良い。低屈折率層は、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で構成されても良い。
　高屈折率層は、例えば、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、および酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）からなる群から選択された１種以上で構成されても良い。
　なお、繰り返し数は、例えば２～６である。
　反射散乱層３６０の厚さは、例えば、５０ｎｍ～２００ｎｍである。
　（接着層３８０）
　接着層３８０は、例えば、透明な樹脂で構成される。
　接着層３８０は、接着剤であっても良い。接着剤としては、例えば、光学用粘着剤ＳＫダイン（登録商標）シリーズ（綜研化学社製）、光学透明接着剤ロックタイト（登録商標）シリーズ（Ｈｅｎｋｅｌ社製）、および光学用透明粘着シートＬＵＣＩＡＣＳ（登録商標）ＣＳ９８６シリーズ（日東電工株式会社製）などが挙げられる。
　接着層３８０の厚さは、例えば、２０μｍ～５００μｍである。
　なお、接着層３８０は、複数の層で構成されても良い。
　接着層３８０と透明基材３２０の間の屈折率差の絶対値Δｎは、０～０．１である。このような構成とすることにより、透明基材３２０と反射散乱層３６０との界面、および反射散乱層３６０と接着層３８０との界面における屈折角度の差異が抑制され、視認性の低下を有意に抑制することができる。
　Δｎは、０．０７以下であることが好ましく、０．０５以下であることがより好ましい。
　（カバー部材３１０）
　カバー部材３１０は、平坦な外表面３１２の側から測定されるヘイズ率が２０％未満であっても良い。また、カバー部材３１０は、外表面３１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０３以上であっても良い。さらに、カバー部材３１０は、外表面３１２の側から測定される光沢度が８５以下であっても良い。
　（本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置）
　次に、図４を参照して、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置について説明する。
　図４には、本発明の一実施形態によるさらに別の画像表示装置（以下、「第４の画像表示装置」と称する）の断面を概略的に示す。
　図４に示すように、第４の画像表示装置４００は、基本的に、前述の第３の画像表示装置３００と同様の構成を有する。すなわち、第４の画像表示装置４００は、カバー部材４１０と、表示素子４７０とを有する。また、カバー部材４１０と表示素子４７０は、接着層４８０により、相互に接合される。
　ただし、第４の画像表示装置４００においては、カバー部材４１０の構成が、第３の画像表示装置３００のカバー部材３１０の構成とは異なっている。すなわち、カバー部材４１０は、透明基材４２０の第２の表面４２４に、凹凸層４４０を有し、反射散乱層４６０は、この凹凸層４４０の上に配置される。
　前述のように、反射散乱層４６０は、厚さが薄いため、反射散乱層４６０の表面形態には、凹凸層４４０の表面形状が反映される。従って、反射散乱層４６０の表面は、凹凸表面である。また、反射散乱層４６０の凹凸表面が、カバー部材４１０の内表面４１４の凹凸表面となる。
　凹凸層４４０は、屈折率が透明基材４２０の屈折率と接近するように構成される。例えば、透明基材４２０がガラスで構成される場合、凹凸層４４０は、シリカで構成されても良い。なお、凹凸層４４０の詳細については、前述の第２の画像表示装置２００における凹凸層２４０に関する説明が参照できる。
　また、カバー部材４１０が外表面４１２に、平坦な表面を有する低反射層４３０を備える点は、第３の画像表示装置３００の場合と同様である。また、透明基材４２０の第１の表面４２２は、平坦な表面であっても良い。
　このような構成を有する第４の画像表示装置４００においても、第１の画像表示装置１００～第３の画像表示装置３００と同様の効果を得ることができる。
　すなわち、第４の画像表示装置４００では、第４の画像表示装置４００のカバー部材４１０に外部から光（外部光）が入射しても、低反射層４３０によって、入射光が観者の方に反射されることを有意に抑制することができる。また、外部光の一部が低反射層４３０を介して透明基材４２０まで入射しても、そのような光は、カバー部材４１０の内表面４１４で散乱され、観者側には反射されにくくなる。このため、第４の画像表示装置４００の内部に進入し、カバー部材４１０の内表面４１４で反射される光による影響も、有意に抑制される。その結果、外部光の反射像が不鮮明になり、カバー部材４１０への外光の映り込みを有意に抑制することが可能になる。
　また、第４の画像表示装置４００では、カバー部材４１０の外表面４１２が、平坦な表面となっており、このため、カバー部材４１０の耐擦傷性を有意に高めることができる。
　第４の画像表示装置４００において、カバー部材４１０は、平坦な外表面４１２の側から測定されるヘイズ率が２０％未満であっても良い。また、カバー部材４１０は、外表面４１２の側から測定される反射像拡散性指標値Ｒが０．０３以上であっても良い。また、カバー部材４１０は、外表面４１２の側から測定される光沢度が、８５以下であっても良い。
　なお、第４の画像表示装置４００を構成する構成部材については、前述の第１の画像表示装置１００～第３の画像表示装置３００の構成部材に関する記載が参照できる。従って、ここでは、これ以上説明しない。
　以上、第１の画像表示装置１００～第４の画像表示装置４００を参照して、本発明の一実施形態について説明した。しかしながら、これらは単なる一例であって、本発明がこれらの実施例に限られないことは、当業者には明らかである。
　以下、本発明の実施例について説明する。なお、以下の説明において、例１～例１４、および例３１～例４１は、実施例である。また、例５１～例５２は、比較例である。
　（例１）
　以下の方法により、前述の図２に示したような構成のカバー部材を作製した。
　（低反射層の形成）
　まず、洗浄された透明基材を準備した。
　透明基材には、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ１ｍｍのソーダライム製のガラス基板（ＦＬ１．１；旭硝子社製）を使用した。このガラス基板の波長４００ｎｍ～１１００ｎｍの光に対する平均透過率は、９０．５％である。また、第１および第２の表面の算術平均粗さＲａは、いずれも０．５ｎｍである。
　この透明基材の第１の表面に、低反射層を形成した。
　低反射層は、酸化ニオブ膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、約２．３５）と酸化ケイ素膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、屈折率約１．４７）の繰り返し構造とし、後反応スパッタ法により成膜した。繰り返し数は４とし、すなわち、酸化ニオブ膜と酸化ケイ素膜とをそれぞれ、４層ずつ成膜した。
　後反応スパッタ装置には、ＵＬＤｉｓ（アルバック社製）を使用した。酸化ニオブ膜の成膜の際のターゲットには、メタルニオブターゲットを使用した。成膜ガスはアルゴン（４０ｓｃｃｍ）とし、スパッタ電力は５ｋＷとした。酸化源ガスには酸素（１００ｓｃｃｍ）を使用し、酸化源電力は２ｋＷとした。成膜速度は、０．４２ｎｍ／分とした。
　一方、酸化ケイ素膜の成膜の際のターゲットには、ポリシリコンを使用した。成膜ガスはアルゴン（４０ｓｃｃｍ）とし、スパッタ電力６ｋＷとした。酸化源ガスには酸素（１００ｓｃｃｍ）を使用し、酸化源電力は１ｋＷとした。成膜速度は、０．３ｎｍ／分とした。
　各膜の厚さは、透明基材から近い順に、４．５ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、６１．０ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、１９．５ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、３０．０ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、９８．５ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）、１６．５ｎｍ（第３の酸化ケイ素膜）、１４．０ｎｍ（第４の酸化ニオブ膜）、および４８．０ｎｍ（第４の酸化ケイ素膜）とした。以下、係る構成の低反射層を、「ＡＲ１」と称する。
　（凹凸層の形成）
　次に、透明基材の第２の表面に、以下の方法で、凹凸層を形成した。
　（塗布組成物の調製）
　２５℃において、１５０．７ｇのソルミックスＡＰ－１１（日本アルコール販売社製）を撹拌しながら、１９ｇのテトラエトキシシラン、１．１ｇのＫＢＭ－３０６６（信越化学社製）、６．２ｇのＳＬＶ液、および２１．８ｇの水を添加した。
　このうち、テトラエトキシシランおよびＫＢＭ－３０６６（アルコキシシラン）は、前述のシリカ前駆体Ａに相当する。また、ＳＬＶ液は、鱗片状シリカ粒子（サンラブリーＬＦＳ　ＨＮ１５０；ＡＧＣエスアイテック社製）を解砕、分散させた分散液であり、前述の粒子Ｃに対応する。分散媒は水であり、粒子の濃度は、５ｗｔ％である。また、粒子の平均粒子径は、１８５ｎｍであり、平均アスペクト比は８０である。
　この混合液に、１０質量％の硝酸水溶液を１．１ｇ添加し、６０℃で６０分間混合した。
　これにより、シリカ前駆体Ａ、粒子Ｃ、および溶媒Ｂを含む溶液（以下、「溶液Ｉ」と称する）が得られた。
　次に、２７．７ｇの溶液Ｉに、３７２．３ｇのＡＰ－１１を加え、十分に撹拌した。これにより、凹凸層形成用の塗布組成物を得た。
　（塗布組成物の塗布）
　次に、静電塗装ガンを備える静電塗装装置（液体静電コ一夕ー；旭サナック社製）を用いて、透明基材の第２の表面に、塗布組成物をスプレー塗布した。静電塗装ガンには、カップ径が７０ｍｍの回転霧化式自動静電ガン（サンベル、ＥＳＡ１２０；旭サナック社製）を使用した。塗布の回数は、３回とした。
　その後、塗布組成物を３００℃で１時間焼成することにより、透明基材の第２の表面に凹凸層が形成された。
　以上の方法により、カバー部材（以下、「例１に係るカバー部材」と称する）が製造された。なお、例１に係るカバー部材において、低反射層の表面は、カバー部材の外表面に対応し、凹凸層の表面は、カバー部材の内表面に対応する。
　（例２～例６）
　例１と同様の方法により、カバー部材を作製した。
　ただし、これらの例２～例６では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例１の場合とは変化させた。
　これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例２～例６に係るカバー部材」と称する）が製造された。
　（例７）
　例１と同様の方法により、カバー部材を作製した。
　ただし、この例７では、低反射層の構成（膜厚）を、例１の場合とは変化させた。
　すなわち、低反射層は、透明基材から近い順に、７．０ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、６０．２ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、１９．０ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、２０．０ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、９４．９２ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）、１７．１２ｎｍ（第３の酸化ケイ素膜）、９．３２ｎｍ（第４の酸化ニオブ膜）、および７７．２１ｎｍ（第４の酸化ケイ素膜）とした。以下、係る構成の低反射層を、「ＡＲ２」と称する。
　その他の製造条件は、例１の場合と同様である。これにより、カバー部材（以下、「例７に係るカバー部材」と称する）が製造された。
　（例８～例１４）
　例７と同様の方法により、カバー部材を作製した。
　ただし、これらの例８～例１４では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例７の場合とは変化させた。
　これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例８～例１４に係るカバー部材」と称する）が製造された。
　以下の表１には、例１～例１４に係るカバー部材における低反射層および凹凸層の仕様などを、まとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 　（評価）
　例１～例１４に係るカバー部材を用いて、以下の評価を実施した。
　（表面形状の評価）
　各カバー部材において、凹凸層の表面の形状パラメータは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１－２０１３に規定されている方法に従って測定した。具体的には、凹凸層の算術平均粗さＲａ、最大高さＲｚ、二乗平均平方根高さＲｑ、粗さ曲線の要素平均長さＲＳｍ、二乗平均平方根傾斜ＲΔｑ、スキューネスＲｓｋ、およびクルトシスＲｋｕを測定した。
　測定は、カバー部材の中央近傍領域で実施した。測定値は、その領域の３点での算術平均である。
　（耐擦傷性の評価）
　各カバー部材において、外表面（低反射層側の表面）の耐擦傷性を評価した。耐擦傷性は、鉛筆硬度で評価した。鉛筆硬度は、ＪＩＳ　Ｋ５６００－５－４に準拠して測定した。
　（光学特性の評価）
　各カバー部材を用いて、以下の光学特性を評価した。
　（ヘイズ率）
　ヘイズ率は、低反射層の側から、ＪＩＳ　Ｋ７１３６：２０００（ＩＳＯ１４７８２：１９９９）に準拠した方法により測定した。
　（光沢度）
　光沢度は、低反射層の側から、ＪＩＳ　Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載の６０°鏡面光沢度の評価方法に従って測定した。
　（防眩性）
　防眩性は、反射像拡散性指標値Ｒ（Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ　Ｉｍａｇｅ　Ｄｉｆｆｕｓｉｖｅｎｅｓｓ　ｉｎｄｅｘ　ｖａｌｕｅ）を用いて評価した。
　以下、図５Ａおよび図５Ｂを参照して、反射像拡散性指標値Ｒの測定方法について説明する。
　図５Ａには、カバー部材の反射像拡散性指標値Ｒを測定する際に使用される測定装置の一例を模式的に示す。
　図５Ａに示すように、測定装置５０１は、線状光源装置５０７および面輝度測定器５１５を有する。
　線状光源装置５０７は、光源５１１と、その周囲の黒色平板５１２とを有する。光源５１１は、図５Ａにおいて、紙面に垂直な方向に延伸する線状光源であり、黒色平板５１２の中央に設けられたスリット状の開口部に設置される。
　面輝度測定器５１５は、光源５１１の長手軸と直交する平面であって、光源５１１のほぼ中央を通る平面上に配置される。従って、面輝度測定器５１５は、長手軸に沿った光源５１１ほぼ中央の位置で、光源５１１と対向するように配置される。面輝度測定器５１５と光源５１１との間の距離は、約６０ｍｍである。
　また、面輝度測定器５１５の焦点は、カバー部材５２０の外表面５２２で反射した線状光源装置５０７の像に合わせられる。
　測定対象となるカバー部材５２０は、外表面５２２が線状光源装置５０７および面輝度測定器５１５の側となるようにして、測定装置５０１内に配置される。例１～例１４に係るカバー部材の場合、外表面５２２は、低反射層の外表面である。
　測定装置５０１を用いて、カバー部材５２０の反射像拡散性指標値Ｒを測定する際には、線状光源装置５０７の光源５１１から、カバー部材５２０の外表面５２２に向かって光が照射される。
　線状光源装置５０７から照射された光は、入射角θｉでカバー部材５２０の外表面５２２に入射される。また、この光は、反射角θｒでカバー部材５２０の外表面５２２で反射および／または散乱され、面輝度測定器５１５に入射される。
　例えば、図５Ａには、線状光源装置５０７からの第１の入射光５３１が外表面５２２で正反射され、第１の反射光５３２となり、面輝度測定器５１５に入射される様子が示されている。
　この場合、第１の入射光５３１の入射角θｉと、第１の反射光５３２の反射角θｒとの間には、θｒ－θｉ＝０°が成立する。
　このような正反射の場合において、特に、入射角θｉ＝反射角θｒ＝５．７°の場合に、面輝度測定器５１５において測定される第１の反射光５３２の輝度をＲ１とする。ただし、実際には誤差が含まれるので、輝度Ｒ１は、θｒ－θｉ＝５．７°±０．１°において測定される第１の反射光５３２の輝度である。
　一方、図５Ｂには、線状光源装置５０７からの第２の入射光５３３が外表面５２２で散乱、反射され、第２の反射光５３４となり、面輝度測定器５１５に入射される様子が示されている。
　ここで、特に、第２の入射光５３３の入射角θｉと、第２の反射光５３４の反射角θｒとの間で、θｒ－θｉ＝０．５°±０．１°が成立する場合の、面輝度測定器５１５において測定される、第２の反射光５３４の輝度をＲ２とする。
　また、第２の入射光５３３の入射角θｉと、第２の反射光５３４の反射角θｒとの間で、θｒ－θｉ＝－０．５°±０．１°が成立する場合の、面輝度測定器５１５において測定される、第２の反射光５３４の輝度をＲ３とする。
　このようにして得られた各輝度Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３を用いて、以下の（１）式により、カバー部材５２０の反射像拡散性指標値Ｒが算出される：
 
　反射像拡散性指標値Ｒ＝（Ｒ２＋Ｒ３）／（２×Ｒ１）　　（１）式
 
　このような反射像拡散性指標値Ｒは、観察者の目視による防眩性の判断結果と良好な相関関係を示すことが確認されている。例えば、反射像拡散性指標値Ｒが小さな（０に近い）値を示すカバー部材５２０は防眩性が劣り、逆に反射像拡散性指標値Ｒが大きな値（１に近いほど大きい）を示すカバー部材５２０は、良好な防眩性を有する。
　なお、このような測定は、例えば、ＤＭ＆Ｓ社製の装置ＳＭＳ－１０００を使用することにより実施できる。この装置を使用する場合、カメラレンズの焦点距離が１６ｍｍのＣ１６１４Ａレンズを絞り５．６で使用する。また、外表面５２２からカメラレンズまでの距離は、約３００ｍｍであり、Ｉｍａｇｉｎｇ　Ｓｃａｌｅは、０．０２７６～０．０２７８の範囲に設定される。
　また、この装置では、線状光源装置５０７の黒色平板５１２に形成されるスリットの開口部の寸法は、１０１ｍｍ×１ｍｍである。
　（ぎらつき）
　カバー部材のぎらつきは、以下の方法により評価した。
　測定対象のカバー部材を、粘着シートを介して、市販の表示装置（ここでは、ｉＰａｄ－Ａｉｒ（登録商標）を使用）の上に配置する。
　粘着シートには、厚さが５００μｍのアクリル系光学用透明粘着シート（ＯＣＡ）を使用した。また、接着の際には、カバー部材は、透明基材の第２の表面の側、すなわち、凹凸層の側が表示装置と対面するようにして、表示装置上に配置した。従って、カバー部材は、低反射層の側が外表面（視認側）となるように配置した。
　次に、表示装置をＯＮにして、表示画面全体に、緑単色の画像（ＲＧＢ（０，２５５，０））を表示させる。
　カバー部材を介してこの画像を視認した際に、ぎらつきが感じられる場合を×と判定し、ぎらつきが感じられない場合を○と判定した。
　以下の表２には、例１～例１４に係るカバー部材において得られた評価結果を、まとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　表２に示すように、表面形状の評価結果から、例１～例１４に係るカバー部材は、いずれも凹凸層の表面におけるＲａが１０ｎｍ超となっていることがわかる。なお、表２には示していないが、例１～例１４に係るカバー部材において、低反射層の表面における表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも、８ｎｍ以下であった。
　従って、例１～例１４に係るカバー部材は、いずれも、外表面が平坦な表面となっており、かつ内表面は、凹凸表面であることがわかった。
　また、耐擦傷性の評価結果から、例１～例１４に係るカバー部材は、外表面が、いずれも１０Ｈ以上の鉛筆硬度を有することがわかった。従って、これらのカバー部材を、凹凸層の側が表示素子の側となるように配置して使用した場合、良好な耐擦傷性が得られると言える。
　また、例１～例１４に係るカバー部材では、反射像拡散性指標値Ｒが、いずれも０．０１６以上となっている。このことから、例１～例１４に係るカバー部材では、表示素子の上に配置した際に、外光の映り込みを有意に抑制できることがわかった。
　また、例１～例１４に係るカバー部材では、光沢度が１３０未満となっており、反射像による眩しさも、有意に抑制されることがわかった。また、例１～例１４に係るカバー部材では、ぎらつきも、有意に抑制されていることがわかった。
　さらに、例１～例１３に係るカバー部材では、ヘイズが１０％未満となっており、表示素子の上に配置した際に、画像の視認性を低下させるおそれは少ないことがわかった。
　（例３１）
　以下の方法により、前述の図４に示したような構成のカバー部材を作製した。
　なお、この例３１において、透明基材および低反射層の構成は、前述の例７の場合と同様である。そこで、ここでは、凹凸層および反射層の形成方法について説明する。
　（凹凸層の形成）
　透明基材の第２の表面に、以下の方法で、凹凸層を形成した。
　（塗布組成物の調製）
　まず、前述の例１と同様の方法により、溶液Ｉを調製した。
　次に、１６６．１ｇの溶液Ｉに、２３３．９ｇのＡＰ－１１を加え、十分に撹拌した。これにより、凹凸層形成用の塗布組成物を得た。
　（塗布組成物の塗布）
　次に、前述の静電塗装ガンを備える静電塗装装置（液体静電コ一夕ー；旭サナック社製）を用いて、透明基材の第２の表面に、塗布組成物をスプレー塗布した。塗布の回数は、２回とした。
　その後、塗布組成物を３００℃で１時間焼成することにより、透明基材の第２の表面に凹凸層が形成された。
　（反射層の形成）
　次に、凹凸層の上に、反射層を形成した。
　反射層は、酸化ニオブ膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、約２．３５）と酸化ケイ素膜（波長６３２ｎｍにおける屈折率は、屈折率約１．４７）の繰り返し構造とし、後反応スパッタ法により成膜した。繰り返し数は２．５回とし、すなわち、酸化ニオブ膜を３層、および酸化ケイ素膜を２層成膜した。
　成膜条件は、例１における（低反射層の形成）の欄に示した条件と同様である。
　各膜の厚さは、透明基材から近い順に、１６．０ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、３４．７５ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、７２．０ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、１７．５ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、および２０．０ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）とした。以下、係る構成の反射層を、「Ｒｅ１」と称する。
　以上の方法により、カバー部材（以下、「例３１に係るカバー部材」と称する）が製造された。なお、例３１に係るカバー部材において、低反射層の表面は、カバー部材の外表面に対応し、反射層の表面は、カバー部材の内表面に対応する。
　（例３２～例３６）
　例３１と同様の方法により、カバー部材を作製した。
　ただし、これらの例３２～例３６では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例３１の場合とは変化させた。
　これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例３２～例３６に係るカバー部材」と称する）が製造された。
　（例３７）
　例３１と同様の方法により、カバー部材を作製した。
　ただし、この例３７では、凹凸層の形成の際に、塗布組成物の塗布回数を３回とした。また、反射層の構成（膜厚）を、例３１の場合とは変化させた。
　すなわち、反射層は、透明基材から近い順に、１６．０ｎｍ（第１の酸化ニオブ膜）、３５．０ｎｍ（第１の酸化ケイ素膜）、６４．０ｎｍ（第２の酸化ニオブ膜）、１２．０ｎｍ（第２の酸化ケイ素膜）、および１８．０ｎｍ（第３の酸化ニオブ膜）とした。以下、係る構成の反射層を、「Ｒｅ２」と称する。
　その他の製造条件は、例３１の場合と同様である。これにより、カバー部材（以下、「例３７に係るカバー部材」と称する）が製造された。
　（例３８～例４１）
　例３７と同様の方法により、カバー部材を作製した。
　ただし、これらの例３８～例４１では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量、および静電塗装ガンによる塗布の回数を、例３７の場合とは変化させた。
　これにより、カバー部材（以下、それぞれ、「例３８～例４１に係るカバー部材」と称する）が製造された。
　以下の表３には、例３１～例４１に係るカバー部材における低反射層、凹凸層、および反射層の仕様などを、まとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 　（評価）
　例３１～例４１に係るカバー部材を用いて、前述の評価を実施した。
　以下の表４には、例３１～例４１に係るカバー部材において得られた評価結果を、まとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 　表４に示すように、表面形状の評価結果から、例３１～例４１に係るカバー部材は、いずれも反射層の表面におけるＲａが１０ｎｍ超となっていることがわかる。なお、表４には示していないが、例３１～例４１に係るカバー部材において、低反射層の表面における表面粗さ（Ｒａ）は、いずれも、８ｎｍ以下であった。
　従って、例３１～例４１に係るカバー部材は、いずれも、外表面が平坦な表面となっており、かつ内表面は、凹凸表面であることがわかった。
　また、耐擦傷性の評価結果から、例３１～例４１に係るカバー部材は、外表面が、いずれも１０Ｈ以上の鉛筆硬度を有することがわかった。従って、これらのカバー部材を、凹凸層の側が表示素子の側となるように配置して使用した場合、良好な耐擦傷性が得られると言える。
　また、例３１～例４１に係るカバー部材では、反射像拡散性指標値Ｒが、いずれも０．０３以上となっている。このことから、例３１～例４１に係るカバー部材では、表示素子の上に配置した際に、外光の映り込みを有意に抑制できることがわかった。
　さらに、例３１～例４１に係るカバー部材では、ヘイズが２０％未満となっており、表示素子の上に配置した際に、画像の視認性を低下させるおそれは少ないことがわかった。また、例３１～例４１に係るカバー部材では、ぎらつきも、有意に抑制されていることがわかった。また、例３１～例３９に係るカバー部材では、光沢度が８５未満となっており、反射像による眩しさも、有意に抑制されることがわかった。
　（例５１）
　以下の方法により、カバー部材を作製した。
　まず、洗浄された透明基材を準備した。透明基材には、例１の場合と同様のガラス基板（ＦＬ１．１；旭硝子社製）を使用した。
　次に、この透明基材の第１の表面に、凹凸層を形成した。凹凸層は、以下のように形成した。
　まず、前述の例１と同様の方法により、溶液Ｉを調製した。
　次に、１１０．７ｇの溶液Ｉに、２８９．３ｇのＡＰ－１１を加え、十分に撹拌した。これにより、凹凸層形成用の塗布組成物を得た。
　次に、前述の静電塗装ガンを備える静電塗装装置を用いて、透明基材の第１の表面に、塗布組成物をスプレー塗布した。塗布の回数は、３回とした。
　その後、塗布組成物を３００℃で１時間焼成することにより、透明基材の第１の表面に凹凸層が形成された。
　以上の方法により、カバー部材（以下、「例５１に係るカバー部材」と称する）が製造された。なお、例５１に係るカバー部材において、凹凸層の表面は、カバー部材の外表面に対応し、透明基材の第２の表面（第１の表面とは反対側の表面）は、カバー部材の内表面に対応する。
　（例５２）
　例５１と同様の方法により、カバー部材を作製した。
　ただし、この例５２では、凹凸層を形成する際に使用する塗布組成物に含まれる成分量を、例５１の場合とは変化させた。
　これにより、カバー部材（以下「例５２に係るカバー部材」と称する）が製造された。
　以下の表５には、例５１～例５２に係るカバー部材における凹凸層の仕様を、まとめて示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 　（評価）
　例５１～例５２に係るカバー部材を用いて、前述の評価を実施した。
　以下の表６には、例５１～例５２に係るカバー部材において得られた評価結果を、まとめて示した。
　なお、例５１～例５２に係るカバー部材では、凹凸層の側が、線状光源装置５０７および面輝度測定器５１５の側となるようにして、反射像拡散性指標値Ｒの測定を実施した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 　表６に示すように、表面形状の評価結果から、例５１～例５２に係るカバー部材は、いずれも凹凸層の表面におけるＲａが１０ｎｍ超となっており、従って、いずれも、外表面が凹凸表面となっていることがわかる。
　また、耐擦傷性の評価結果から、例５１～例５２に係るカバー部材は、外表面の鉛筆硬度が、いずれも６Ｈ程度しかないことがわかった。従って、これらのカバー部材を、透明基材の第２の表面の側が表示素子と面するように配置した場合、外表面は、あまり良好な耐擦傷性を有さないと言える。
　このように、本発明の一実施形態による表示装置では、外部光の映り込みを有意に抑制することができる上、従来に比べてカバー部材の外表面の耐擦傷性を有意に高められることが確認された。
　本願は、２０１８年１月１５日に出願した日本国特許出願２０１８－００４０９４号に基づく優先権を主張するものであり、同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
　１００　　　　第１の画像表示装置
　１１０　　　　カバー部材
　１１２　　　　カバー部材の外表面（平坦な表面）
　１１４　　　　カバー部材の内表面（凹凸表面）
　１２０　　　　透明基材
　１２２　　　　第１の表面
　１２４　　　　第２の表面
　１３０　　　　低反射層
　１７０　　　　表示素子
　２００　　　　第２の画像表示装置
　２１０　　　　カバー部材
　２１２　　　　カバー部材の外表面（平坦表面）
　２１４　　　　カバー部材の内表面（凹凸表面）
　２２０　　　　透明基材
　２２２　　　　第１の表面
　２２４　　　　第２の表面
　２３０　　　　低反射層
　２４０　　　　凹凸層
　２７０　　　　表示素子
　３００　　　　第３の画像表示装置
　３１０　　　　カバー部材
　３１２　　　　カバー部材の外表面（平坦な表面）
　３１４　　　　カバー部材の内表面（凹凸表面）
　３２０　　　　透明基材
　３２２　　　　第１の表面
　３２４　　　　第２の表面
　３３０　　　　低反射層
　３６０　　　　反射散乱層
　３７０　　　　表示素子
　３８０　　　　接着層
　４００　　　　第４の画像表示装置
　４１０　　　　カバー部材
　４１２　　　　カバー部材の外表面（平坦な表面）
　４１４　　　　カバー部材の内表面（凹凸表面）
　４２０　　　　透明基材
　４２２　　　　第１の表面
　４２４　　　　第２の表面
　４３０　　　　低反射層
　４４０　　　　凹凸層
　４６０　　　　反射散乱層
　４７０　　　　表示素子
　４８０　　　　接着層
　５０１　　　　測定装置
　５０７　　　　線状光源装置
　５１１　　　　光源
　５１２　　　　黒色平板
　５１５　　　　面輝度測定器
　５２０　　　　カバー部材
　５２２　　　　外表面
　５３１　　　　第１の入射光
　５３２　　　　第１の反射光
　５３３　　　　第２の入射光
　５３４　　　　第２の反射光
　Ｓ　　　　　　空気層（隙間）

Claims (14)

  1. 　画像表示装置であって、
    　表示素子と、
    　該表示素子上に設置された、透明基材を有するカバー部材と、
    　を有し、
    　前記カバー部材は、前記表示素子の側に、凹凸表面を有し、前記表示素子とは反対の側に、平滑な外表面を有する、画像表示装置。
  2. 　前記透明基材は、相互に対向する第１および第２の表面を有し、
    　前記透明基材の前記第１の表面には、前記平滑な外表面を形成する低反射層が設置される、請求項１に記載の画像表示装置。
  3. 　前記透明基材の前記第２の表面は、前記凹凸表面である、請求項２に記載の画像表示装置。
  4. 　前記透明基材の前記第２の表面には、前記凹凸表面を形成する凹凸層が設置される、請求項２に記載の画像表示装置。
  5. 　前記カバー部材と前記表示素子との間には、空気層が設置される、請求項２乃至４のいずれか一つに記載の画像表示装置。
  6. 　前記カバー部材は、ヘイズ率が１０％以下である、請求項５に記載の画像表示装置。
  7. 　前記カバー部材は、反射像拡散性指標値Ｒが０．０１５以上である、請求項５または６に記載の画像表示装置。
  8. 　前記カバー部材は、光沢度が１３０未満である、請求項５乃至７のいずれか一つに記載の画像表示装置。
  9. 　前記カバー部材は、前記表示素子の側に、前記凹凸表面を形成する反射散乱層を有し、
    　前記カバー部材と前記表示素子との間には、接着層が設置され、
    　前記接着層は、前記透明基材との屈折率の差ｎの絶対値Δｎが０．０７以下である、請求項２に記載の画像表示装置。
  10. 　前記透明基材の前記第２の表面には、凹凸層が設置される、請求項９に記載の画像表示装置。
  11. 　前記カバー部材は、ヘイズ率が２０％未満である、請求項９または１０に記載の画像表示装置。
  12. 　前記カバー部材は、反射像拡散性指標値Ｒが０．０３以上である、請求項９乃至１１のいずれか一つに記載の画像表示装置。
  13. 　前記カバー部材は、光沢度が８５未満である、請求項９乃至１２のいずれか一つに記載の画像表示装置。
  14. 　前記表示素子は、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、およびプラズマ表示素子のいずれか一つである、請求項１乃至１３のいずれか一つに記載の画像表示装置。
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