WO2019048670A1 - Gas inlet element for a cvd or pvd reactor - Google Patents

Gas inlet element for a cvd or pvd reactor Download PDF

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WO2019048670A1
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recess
inlet member
plate
cavity
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PCT/EP2018/074286
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Honggen JIANG
Fred Michael Andrew Crawley
James O'dowd
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Aixtron Se
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    • H01J37/32532—Electrodes
    • H01J37/32568—Relative arrangement or disposition of electrodes; moving means

Definitions

  • the invention relates to a gas inlet member for a CVD or PVD reactor having a bottom plate whose adjacent to an edge on a narrow side wide side has a plurality of gas outlet openings, wherein in the bottom plate at least onedekar-substodian is arranged by a first cavity wall is spaced from the broadside.
  • the gas inlet member has one or more Gasverteilvolumina, wherein the bottom plate can adjoin one of the gas distribution volume.
  • Gas inlet members are described for example in DE 10 2005 055 468 AI or EP 0 687 749 AI. They have one or more gas distribution volumes, which are fed by a gas supply line.
  • the one or more Gasverteilvolumina are connected by means of tubes with a gas outlet surface of a gas outlet plate. There they form gas outlet openings through which process gases can flow into a process chamber.
  • On a heatable susceptor is a substrate on which one or more layers are deposited. This is done by a pyrolytic reaction of the process gases on the surface, so that, for example, a layer of elements of III. and V. main group is deposited. For this purpose, two different process gases are fed into the process chamber.
  • the bottom plate there are coolant receiving cavities through which a liquid coolant, in particular water, flows, in order to cool the gas outlet surface in such a way that there is no pyrolytic decomposition of the process gases.
  • the gas outlet surface is heated by heat radiation from the susceptor, so that in the bottom plate high temperature gradients and concomitantly large stresses occur within the metal body formed by the bottom plate.
  • it may cause cracking due to the mechanical stresses. If, for example, a gas outlet plate is inserted into the broad side of the bottom plate, then it may be at a weld with which the
  • Gas outlet plate attached to a base of the bottom plate come to cracks.
  • the invention relates to a gas inlet member for a CVD or PVD reactor in which a bottom plate is adjacent, in particular, to a gas distribution volume that can be fed by a gas supply line with a process gas.
  • a recess open towards the broad side of the bottom plate is provided.
  • the recess should be fiction, between the edge of the broad side and the coolant receiving cavity or the cavity wall of the coolant receiving cavity. It is particularly provided that the distance of the recess to the coolant receiving cavity is less than the distance of the recess to the edge or to the narrow side of the bottom plate.
  • the first cavity wall of the coolant receiving cavity is formed by a plate.
  • the plate may be a gas outlet plate.
  • the gas outlet plate forms the gas outlet openings.
  • the edge of the plate may be connected by a weld to a base body of the bottom plate.
  • the plate may be inserted in one of the broad side associated recess of the bottom plate.
  • the broad side of the bottom plate then preferably forms a plane.
  • the bottom plate may have a circular plan, so that the narrow side of the bottom surface forms a cylinder jacket surface.
  • the edge between the broad side and the narrow side may extend along a circular arc line.
  • the recess is formed in particular as a slot.
  • the slot may have a ring shape.
  • the slot preferably extends on a contour line that is equidistant from the circular edge over the entire circumference.
  • the recess or the slot forming the recess has a slot width and a slot depth.
  • the slot width extends in the preferably flat broad side of the bottom plate.
  • the depth of the slot preferably extends in the direction of the surface normal of the broad side forming plane.
  • the depth of the slot is preferably greater than the wall thickness of the plate or greater than the wall thickness of the first cavity wall.
  • the depth or width of the slot remains the same over the entire circumferential length. It may further be provided that the depth of the recess is greater than the sum of the wall thickness of the plate or the first cavity wall and the depth of the coolant receiving cavity.
  • a second cavity wall may extend between the coolant receiving cavity of the recess. This second cavity wall separates the coolant receiving cavity from the recess.
  • the material thickness of the second cavity wall may correspond approximately to the material thickness of the first cavity wall.
  • the wall thickness of the second cavity wall is preferably also smaller than the distance of the recess from the edge of the broad side of the bottom surface.
  • the distance of the recess from the edge is preferably greater than the distance of the recess from the weld seam.
  • a second coolant receiving cavity which extends over the entire central region of the bottom plate.
  • This second coolant receiving cavity can be crossed by a plurality of tubes.
  • the tubes have two ends and extend in the direction of the surface normals of the gas outlet plate. A first open end of each
  • Tube forms a gas outlet opening.
  • the other, second open end of the tube is connected to one of two gas distribution volumes.
  • the gas distribution volumes are preferably separated from a cover plate, wherein the cover plate closes a gas distribution volume of the base body. This gas distribution volume can be crossed by tubes through which a process gas flows, which is fed into a gas distribution volume, to which the bottom plate adjoins.
  • FIG. 1 shows schematically the construction of a CVD reactor 1 with a gas inlet element 2 arranged therein,
  • Fig. 2 is a sectional view of the gas inlet member 2 and
  • FIG. 3 enlarges the detail III in FIG. 2. Description of the embodiments
  • FIG. 1 shows schematically the structure of a CVD reactor 1 in the form of a vertical section.
  • a gas inlet member 2 which has a shower head-like shape.
  • a gas distribution volume 6 In the gas inlet member 2 is a gas distribution volume 6 and a bottom plate 7.
  • the bottom plate 7 has a plurality of gas outlet openings through which gas in the gas distribution volume 6 fed process gas can flow into a arranged below the bottom plate 7 process chamber.
  • the bottom plate 7 is cooled by means of a coolant, for example water.
  • the bottom of the process chamber forms an upper side of a susceptor 3, which can also be used to heat elevated temperatures, for example to temperatures above 1000.degree.
  • the susceptor 3 On the upper side of the susceptor 3, which faces the gas inlet element 2, there are one or more substrates 4, which are coated with a layer.
  • a gas inlet 5 in particular separated from each other two different process gases in a separate chambers, each forming a Gasverteilvolumen fed.
  • the two process gases are fed into the process chamber.
  • the process gases may be a hydride of the V. main group and an organometallic compound of an element of the III. Main group act. But it may also be gases, the elements of II. And VI. or the IV. Main group have.
  • the process gas reacts pyrolytically in the process chamber and in particular on the surface of the substrate 4, so that a monocrystalline, for example, III-V layer is deposited on the substrate.
  • Figures 2 and 3 show the gas inlet member 2 in a cross section.
  • first gas distribution volume 6 the first process gas and in a spatially separated second gas distribution volume 15, the second process gas is fed.
  • Both Gasverteilvolumina 6, 15 are connected by means of tubes 22, 22 'with a gas outlet surface of the bottom plate 7.
  • the gas outlet surface is formed by a side facing the susceptor 3 broadside T of the bottom plate 7.
  • the tubes 22 connect the broad side T with the first gas distribution volume 6 and cross the second gas distribution volume 15.
  • the tubes 22 ' connect the second gas distribution volume 15 with the broad side 7'.
  • the second gas distribution volume 15 is limited by means of a cover plate 17, which is inserted in a cavity of a base body 19 of the base plate 7.
  • All tubes 22, 22 'further intersect a coolant receiving cavity 14 extending below the second gas distribution volume 15.
  • a wall of the coolant receiving cavity 14 is of a
  • Gas outlet plate 8 is formed, which is inserted into a recess of the bottom plate 7.
  • the gas outlet plate 8 is connected via a weld 9 with a
  • the gas outlet surface of the gas outlet plate 8 is flush in the broad side T of the bottom plate 7 a.
  • the bottom plate 7 has a circular floor plan.
  • the gas outlet openings 16, 16 'of the tubes 22, 22' extend over a central area of the broad side T of the bottom plate 7.
  • This central surface or the central coolant receiving cavity 14 is surrounded by an annular coolant receiving cavity 13.
  • the coolant receiving cavity 13 is closed by an edge region of the gas outlet plate 8.
  • the main body 19, the gas outlet plate 8 and the cover plate 17 are made as well as the tubes 22, 22 'made of temperature-resistant metal.
  • the downwardly facing broad side 7 'of the bottom plate 7 is substantially a plane and is surrounded by an annular edge 18.
  • the edge 18 forms a transition edge to the narrow side 7 "of the bottom plate 7.
  • the narrow side 7" forms a peripheral surface and is connected to a side wall 10 of the gas inlet member 2, which in turn is connected to a cover 21 which extends parallel to the bottom plate 7.
  • the gas distribution volume 6, 15 are fed with gas channels, not shown.
  • the coolant receiving cavities 13, 14 are traversed by a cooling liquid, in particular water, and have a coolant inlet opening and a coolant outlet opening.
  • the recess 12 there is a recess 12 between the narrow side 7 "and the weld seam 9, ie the edge of the gas outlet plate 8.
  • the recess 12 forms an annular slot in the broad side 7 'of the base plate 7, the broad side 7' pointing downwards and points to the susceptor 3.
  • the recess is open toward the broad side 7 'and has a bottom which opposes the opening of the recess 12, ie points away from the susceptor 3.
  • the distance between the bottom of the recess 12 and the opening of the recess 12 defines a depth
  • the depth e of the recess 12 is preferably greater than the wall thickness a of the coolant receiving cavity 13, ie in the exemplary embodiment larger than the material thickness of the gas outlet plate 8.
  • the coolant absorption bore 13 has a depth b a and depth b is preferably smaller than the depth e of the recess 12.
  • a cavity wall 13 "separates the coolant receiving cavity 13 from the recess 12.
  • the distance c of the coolant receiving cavity 13 to the recess 12 is greater than the distance f of the recess 12 to the narrow side 7" or edge 18.
  • the wall thickness a corresponds approximately to the wall thickness c of the second cavity wall 13 ", the wall thicknesses a, c of the cavity walls 13 ', 13" corresponding approximately to the width d of the recess 12.
  • the width d of the recess 12 is smaller than the distance f between the recess 12 and the edge 18 or smaller than the distance between the weld 9 and the recess 12.
  • the distance between the weld 9 and recess 12 is also smaller than the distance f between the recess 12 and Edge 18.
  • the recess 12 extends in particular without interruption on a constant distance from the edge 18 and / or constant distance to the weld seam 9 extending arc line.
  • the bottom plate 7 has at least in the edge region, ie between weld 9 and edge 18, a rotational symmetry. This has the consequence that the recess 12 extends in a constant shape around the center of the bottom plate 7.
  • the depth e of the recess 12 is greater than half the thickness of the base body 19, that is greater than half the distance between the two facing away from each broad side T of the bottom plate. 7
  • a gas inlet element which is characterized by a recess 12 which is open towards the broad side T and is arranged between the edge 18 and the first cavity wall 13 '.
  • a gas inlet member which is characterized in that the first cavity wall 13 'is formed by an edge portion of a plate 8.
  • a gas inlet member which is characterized in that the plate 13 is a gas outlet openings 16, 16 'having gas outlet plate.
  • a gas inlet member which is characterized in that the edge of the plate 8 is connected to a weld 9 with a base body 19 of the bottom plate 7.
  • a gas inlet member which is characterized in that the depth e of the recess 12 is greater than the wall thickness a of the particular formed by the plate 8 first cavity wall 13 '.
  • a gas inlet member which is characterized in that the depth e is greater than the sum of the wall thickness a of the particular of the plate. 8 formed first cavity wall 13 'and the depth b of the coolant receiving cavity thirteenth
  • a gas inlet element which is characterized in that the wall thickness c of a second cavity wall 13 ", which separates the coolant receiving cavity 13 from the recess 12, or the distance of the weld seam 9 from the recess 12, is smaller than the distance f of the recess 12 from the edge 18th
  • a gas inlet member which is characterized in that the bottom plate 7 has a circular outline.
  • a gas inlet member which is characterized in that the recess 12 forms an annular slot which has a constant distance f to the edge 18 over its entire circumference.
  • a gas inlet member which is characterized in that the width d of the recess 12 corresponds approximately to ( ⁇ 15%) of the first wall thickness a.
  • a gas inlet member which is characterized in that the width d of the first recess 12 approximately ( ⁇ 15%) of the wall thickness c of the second cavity wall 13 "corresponds.
  • a gas inlet member characterized in that the coolant receiving cavity 13 forms a first annular coolant receiving recess 13 surrounding a second coolant receiving cavity 14, the second coolant receiving cavity 14 extending from the gas outlet openings 16 , 16 'forming tubes 22, 22' is crossed.
  • All disclosed features are essential to the invention (individually, but also in combination with one another).
  • the disclosure of the associated / attached priority documents (copy of the prior application) is hereby also incorporated in full in the disclosure of the application, also for the purpose of including features of these documents in claims of the present application.
  • the subclaims characterize, even without the features of a claimed claim, with their features independent inventive developments of the prior art, in particular in order to make divisional applications based on these claims.
  • each claim may additionally have one or more of the features described in the preceding description, in particular with reference numerals and / or given in the reference numerals.
  • the invention also relates to design forms in which individual of the features mentioned in the above description are not realized, in particular insofar as they are recognizable dispensable for the respective purpose or can be replaced by other technically equivalent means.

Abstract

The invention relates to a gas inlet element (2) for a CVD or PVD reactor (1) having a base plate (7), the broad side (7') of which is adjacent to an edge (18) on a narrow side (7''), having a plurality of gas outlet openings (16, 16''), wherein at least one coolant receiving cavity (13) is arranged in the base plate (7), said coolant receiving cavity being spaced apart from the broad side (7 ') by a first cavity wall (13'). In order to further develop a generic gas inlet element in a use-advantageous manner and, in particular, to take measures in order to reduce the mechanical stress in the base plate which forms during the heating process, a recess (12) which is open towards the broad side (7') is arranged between the edge (18) and the first cavity wall (13') formed by a plate which is connected to a base body (19) of the base plate (7) by means of a weld seam (9).

Description

Beschreibung  description
Gaseinlassorgan für einen CVD- oder PVD-Reaktor Gebiet der Technik Gas inlet member for a CVD or PVD reactor Field of the art
[0001] Die Erfindung betrifft ein Gaseinlassorgan für einen CVD- oder PVD- Reaktor mit einer Bodenplatte, deren mit einem Rand an einer Schmalseite angrenzende Breitseite eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen aufweist, wobei in der Bodenplatte zumindest eine Kühlmittel- Aufnahmehöhlung angeordnet ist, die durch eine erste Höhlungswand von der Breitseite beabstandet ist. Das Gaseinlassorgan besitzt ein oder mehrere Gasverteilvolumina, wobei die Bodenplatte an eines der Gasverteilvolumen angrenzen kann. The invention relates to a gas inlet member for a CVD or PVD reactor having a bottom plate whose adjacent to an edge on a narrow side wide side has a plurality of gas outlet openings, wherein in the bottom plate at least one Kühlmittel- Aufnahmehöhlung is arranged by a first cavity wall is spaced from the broadside. The gas inlet member has one or more Gasverteilvolumina, wherein the bottom plate can adjoin one of the gas distribution volume.
Stand der Technik State of the art
[0002] Gaseinlassorgane werden beispielsweise in den DE 10 2005 055 468 AI oder EP 0 687 749 AI beschrieben. Sie besitzen ein oder mehrere Gas verteil Volumen, die durch eine Gaszuleitung gespeist werden. Die ein oder mehreren Gasverteilvolumina sind mittels Röhrchen mit einer Gasaustrittsfläche einer Gasaustrittsplatte verbunden. Sie bilden dort Gasaustrittsöffnungen, durch die Prozessgase in eine Prozesskammer strömen können. Auf einem beheizbaren Suszeptor liegt ein Substrat, auf dem ein oder mehrere Schichten abgeschieden werden. Dies erfolgt durch eine pyrolytische Reaktion der Prozessgase auf der Oberfläche, so dass beispielsweise eine Schicht aus Elementen der III. und V. Hauptgruppe abgeschieden wird. Hierzu werden zwei voneinander verschiedene Prozessgase in die Prozesskammer eingespeist. In der Bodenplatte befin- den sich Kühlmittel- Auf nahmehöhlungen, durch die ein flüssiges Kühlmittel, insbesondere Wasser, hindurchströmt, um die Gasaustrittsfläche derart zu kühlen, dass dort keine pyrolytische Zerlegung der Prozessgase stattfindet. Andererseits wird die Gasaustrittsfläche aber auch durch Wärmestrahlung vom Suszeptor beheizt, so dass in der Bodenplatte hohe Temperaturgradienten und damit einhergehend große Spannungen innerhalb des von der Bodenplatte gebildeten Metallkörpers auftreten. Insbesondere bei einer mehrteiligen Ausgestaltung der Bodenplatte kann es aufgrund der mechanischen Spannungen zu Rissbildungen kommen. Ist beispielsweise in die Breitseite der Bodenplatte eine Gasaustrittsplatte eingesetzt, so kann es an einer Schweißnaht, mit der dieGas inlet members are described for example in DE 10 2005 055 468 AI or EP 0 687 749 AI. They have one or more gas distribution volumes, which are fed by a gas supply line. The one or more Gasverteilvolumina are connected by means of tubes with a gas outlet surface of a gas outlet plate. There they form gas outlet openings through which process gases can flow into a process chamber. On a heatable susceptor is a substrate on which one or more layers are deposited. This is done by a pyrolytic reaction of the process gases on the surface, so that, for example, a layer of elements of III. and V. main group is deposited. For this purpose, two different process gases are fed into the process chamber. In the bottom plate there are coolant receiving cavities through which a liquid coolant, in particular water, flows, in order to cool the gas outlet surface in such a way that there is no pyrolytic decomposition of the process gases. On the other hand, the gas outlet surface is heated by heat radiation from the susceptor, so that in the bottom plate high temperature gradients and concomitantly large stresses occur within the metal body formed by the bottom plate. In particular, in a multi-part design of the bottom plate, it may cause cracking due to the mechanical stresses. If, for example, a gas outlet plate is inserted into the broad side of the bottom plate, then it may be at a weld with which the
Gasaustrittspatte an einem Grundkörper der Bodenplatte befestigt ist, zu Rissen kommen. Gas outlet plate attached to a base of the bottom plate, come to cracks.
Zusammenfassung der Erfindung Summary of the invention
[0003] Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein gattungs gemäßes Gaseinlassorgan gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden und insbesondere Maßnah- men zu ergreifen, um den sich bei der Aufheizung ausbildenden mechanischen Stress in der Bodenplatte zu vermindern. [0003] It is an object of the invention to improve the utility of a generic gas inlet element and, in particular, to take measures to reduce the mechanical stress in the bottom plate that forms during heating.
[0004] Gelöst wird die Aufgabe durch die in den Ansprüchen angegebene Erfindung, wobei die Unteransprüche nicht nur vorteilhafte Weiterbildungen des Hauptanspruchs darstellen, sondern auch eigenständige Lösungen der Aufgabe sind. The object is achieved by the invention specified in the claims, wherein the dependent claims represent not only advantageous developments of the main claim, but also independent solutions to the problem.
[0005] Zunächst und im Wesentlichen betrifft die Erfindung ein Gaseinlassorgan für einen CVD- oder PVD-Reaktor, bei dem eine Bodenplatte insbesondere an einem durch eine Gaszuleitung mit einem Prozessgas speisbaren Gasverteilvolumen angrenzt. Erfindungsgemäß ist eine zur Breitseite der Bodenplatte hin offene Ausnehmung vorgesehen. Die Ausnehmung soll sich erfindungs gemäß zwischen dem Rand der Breitseite und der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung beziehungsweise der Höhlungswand der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung befinden. Es ist insbesondere vorgesehen, dass der Abstand der Ausnehmung zur Kühlmittel- Aufnahmehöhlung geringer ist, als der Abstand der Ausnehmung zum Rand beziehungsweise zur Schmalseite der Bodenplatte. In einer bevorzugten Ausge- staltung wird die erste Höhlungswand der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung von einer Platte ausgebildet. Bei der Platte kann es sich um eine Gasaustrittsplatte handeln. Die Gasaustrittsplatte bildet die Gasaustrittsöffnungen aus. Der Rand der Platte kann mit einer Schweißnaht mit einem Grundkörper der Bodenplatte verbunden sein. Die Platte kann in einer der Breitseite zugeordneten Ausnehmung der Bodenplatte eingesetzt sein. Die Breitseite der Bodenplatte bildet dann bevorzugt eine Ebene. Die Bodenplatte kann einen kreisförmigen Grundriss aufweisen, so dass die Schmalseite der Bodenfläche eine Zylindermantelfläche ausbildet. Der Rand zwischen Breitseite und Schmalseite kann sich entlang einer Kreisbogenlinie erstrecken. Die Ausnehmung ist insbesondere als Schlitz ausgebildet. Der Schlitz kann eine Ringform aufweisen. Der Schlitz erstreckt sich bevorzugt auf einer Konturlinie, die vom kreisförmigen Rand her über den gesamten Umfang gleich beabstandet ist. Die Ausnehmung beziehungsweise der die Ausnehmung ausbildende Schlitz besitzt eine Schlitzweite und eine Schlitztiefe. Die Schlitzweite erstreckt sich in der bevorzugt ebenen Breitseite der Bodenplatte. Die Tiefe des Schlitzes erstreckt sich bevorzugt in Richtung der Flächennormalen der die Breitseite bildenden Ebene. Die Tiefe des Schlitzes ist bevorzugt größer als die Wandstärke der Platte beziehungsweise größer als die Wandstärke der ersten Höhlungswandung. Die Tiefe oder die Breite des Schlitzes bleibt über die gesamte Umfangslänge dieselbe. Es kann ferner vorgesehen sein, dass die Tiefe der Ausnehmung größer ist, als die Summe der Wandstärke der Platte beziehungsweise der ersten Höhlungswand und der Tiefe der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung. Zwischen der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung der Ausnehmung kann sich eine zweite Höhlungswand erstrecken. Diese zweite Höhlungswand trennt die Kühlmittel- Aufnahmehöhlung von der Ausnehmung. Die Materialstärke der zweiten Höhlungswand kann ungefähr der Materialstärke der ersten Höhlungswand entsprechen. Die Wandstärke der zweiten Höhlungswand ist bevorzugt auch kleiner als der Abstand der Ausnehmung vom Rand der Breitseite der Bodenfläche. Der Abstand der Ausnehmung vom Rand ist bevorzugt grö- ßer als der Abstand der Ausnehmung von der Schweißnaht. In einer Weiterbil- dung der Erfindung ist vorgesehen, dass sich die Kühlmittel- Aufnahmehöhlung ringförmig um ein Zentrum der Bodenplatte erstreckt. Um dasselbe Zentrum erstrecken sich bevorzugt auch die Ausnehmung und der Rand. Der Rand, die Ausnehmung und die Kühlmittel- Aufnahmehöhlung umgeben somit ringförmig eine zentrale Zone der Bodenplatte, in der die Gasaustrittsöffnungen angeordnet sind. Es ist bevorzugt eine zweite Kühlmittel- Aufnahmehöhlung vorgesehen, die sich über den gesamten Zentralbereich der Bodenplatte erstreckt. Diese zweite Kühlmittel- Aufnahmehöhlung kann von einer Vielzahl von Röhrchen gekreuzt werden. Die Röhrchen besitzen zwei Enden und erstrecken sich in Richtung der Flächennormalen der Gasaustrittsplatte. Ein erstes offenes Ende eines jedenFirst and foremost, the invention relates to a gas inlet member for a CVD or PVD reactor in which a bottom plate is adjacent, in particular, to a gas distribution volume that can be fed by a gas supply line with a process gas. According to the invention, a recess open towards the broad side of the bottom plate is provided. The recess should be fiction, between the edge of the broad side and the coolant receiving cavity or the cavity wall of the coolant receiving cavity. It is particularly provided that the distance of the recess to the coolant receiving cavity is less than the distance of the recess to the edge or to the narrow side of the bottom plate. In a preferred embodiment staltung the first cavity wall of the coolant receiving cavity is formed by a plate. The plate may be a gas outlet plate. The gas outlet plate forms the gas outlet openings. The edge of the plate may be connected by a weld to a base body of the bottom plate. The plate may be inserted in one of the broad side associated recess of the bottom plate. The broad side of the bottom plate then preferably forms a plane. The bottom plate may have a circular plan, so that the narrow side of the bottom surface forms a cylinder jacket surface. The edge between the broad side and the narrow side may extend along a circular arc line. The recess is formed in particular as a slot. The slot may have a ring shape. The slot preferably extends on a contour line that is equidistant from the circular edge over the entire circumference. The recess or the slot forming the recess has a slot width and a slot depth. The slot width extends in the preferably flat broad side of the bottom plate. The depth of the slot preferably extends in the direction of the surface normal of the broad side forming plane. The depth of the slot is preferably greater than the wall thickness of the plate or greater than the wall thickness of the first cavity wall. The depth or width of the slot remains the same over the entire circumferential length. It may further be provided that the depth of the recess is greater than the sum of the wall thickness of the plate or the first cavity wall and the depth of the coolant receiving cavity. A second cavity wall may extend between the coolant receiving cavity of the recess. This second cavity wall separates the coolant receiving cavity from the recess. The material thickness of the second cavity wall may correspond approximately to the material thickness of the first cavity wall. The wall thickness of the second cavity wall is preferably also smaller than the distance of the recess from the edge of the broad side of the bottom surface. The distance of the recess from the edge is preferably greater than the distance of the recess from the weld seam. In a continuing education tion of the invention it is provided that the coolant receiving cavity extends annularly around a center of the bottom plate. The recess and the edge preferably also extend around the same center. The edge, the recess and the coolant receiving cavity thus annularly surround a central zone of the bottom plate, in which the gas outlet openings are arranged. There is preferably provided a second coolant receiving cavity which extends over the entire central region of the bottom plate. This second coolant receiving cavity can be crossed by a plurality of tubes. The tubes have two ends and extend in the direction of the surface normals of the gas outlet plate. A first open end of each
Röhrchens bildet eine Gasaustrittsöffnung. Das andere, zweite offene Ende des Röhrchens ist mit einem von zwei Gasverteilvolumen verbunden. Die Gasverteilvolumen sind bevorzugt von einer Deckelplatte getrennt, wobei die Deckelplatte ein Gasverteilvolumen des Grundkörpers verschließt. Dieses Gasverteilvo- lumen kann von Röhrchen gekreuzt werden, durch die ein Prozessgas hindurchströmt, welches in ein Gasverteilvolumen eingespeist wird, an welches die Bodenplatte angrenzt. Tube forms a gas outlet opening. The other, second open end of the tube is connected to one of two gas distribution volumes. The gas distribution volumes are preferably separated from a cover plate, wherein the cover plate closes a gas distribution volume of the base body. This gas distribution volume can be crossed by tubes through which a process gas flows, which is fed into a gas distribution volume, to which the bottom plate adjoins.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen Brief description of the drawings
[0006] Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand beigefügter Zeichnungen erläutert. Es zeigen: Fig. 1 schematisch den Aufbau eines CVD-Reaktors 1 mit einem darin angeordneten Gaseinlassorgan 2, An embodiment of the invention will be explained below with reference to accompanying drawings. 1 shows schematically the construction of a CVD reactor 1 with a gas inlet element 2 arranged therein,
Fig. 2 in einer Schnittdarstellung das Gaseinlassorgan 2 und Fig. 2 is a sectional view of the gas inlet member 2 and
Fig. 3 vergrößert den Ausschnitt III in Figur 2. Beschreibung der Ausführungsformen FIG. 3 enlarges the detail III in FIG. 2. Description of the embodiments
[0007] Die Figur 1 zeigt schematisch den Aufbau eines CVD-Reaktors 1 in Form eines Vertikalschnitts. Innerhalb eines gasdichten Gehäuses des CVD- Reaktors 1 befindet sich ein Gaseinlassorgan 2, welches eine duschkopfartige Gestalt aufweist. Im Gaseinlassorgan 2 befindet sich ein Gasverteilvolumen 6 und eine Bodenplatte 7. Die Bodenplatte 7 besitzt eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen, durch die Gas in das Gasverteilvolumen 6 eingespeiste Prozessgas in eine unterhalb der Bodenplatte 7 angeordnete Prozesskammer einströmen kann. Die Bodenplatte 7 wird mittels eines Kühlmittels, beispielsweise Wasser, gekühlt. [0008] Den Boden der Prozesskammer bildet eine Oberseite eines Suszep- tors 3, der auch erhöhte Temperaturen, beispielsweise auf Temperaturen über 1.000°C aufgeheizt werden kann. Auf der zum Gaseinlassorgan 2 weisenden Oberseite des Suszeptors 3 liegen ein oder mehrere Substrate 4, die mit einer Schicht beschichtet werden. [0009] Durch einen Gaseinlass 5 werden insbesondere getrennt voneinander zwei voneinander verschiedene Prozessgase in ein voneinander getrennte Kammern, die jeweils ein Gasverteilvolumen bilden, eingespeist. Durch voneinander getrennte Gasaustrittsöffnungen werden die beiden Prozessgase in die Prozesskammer eingespeist. Bei den Prozessgasen kann es sich um ein Hydrid der V. Hauptgruppe und um eine metallorganische Verbindung eines Elementes der III. Hauptgruppe handeln. Es kann sich aber auch um Gase handeln, die Elemente der II. und VI. oder der IV. Hauptgruppe aufweisen. Das Prozessgas reagiert in der Prozesskammer und insbesondere auf der Oberfläche des Substrates 4 pyrolytisch, so dass auf dem Substrat eine einkristalline, beispielsweise III-V-Schicht abgeschieden wird. [0010] Die Figuren 2 und 3 zeigen das Gaseinlassorgan 2 in einem Querschnitt. In ein erstes Gasverteilvolumen 6 wird das erste Prozessgas und in ein davon räumlich getrenntes zweites Gasverteilvolumen 15 wird das zweite Prozessgas eingespeist. Beide Gasverteilvolumina 6, 15 sind mittels Röhrchen 22, 22' mit einer Gasaustrittsfläche der Bodenplatte 7 verbunden. Die Gasaustrittsfläche wird von einer zum Suszeptor 3 hin weisenden Breitseite T der Bodenplatte 7 ausgebildet. Die Röhrchen 22 verbinden die Breitseite T mit dem ersten Gasverteilvolumen 6 und kreuzen das zweite Gasverteilvolumen 15. Die Röhrchen 22' verbinden das zweite Gasverteilvolumen 15 mit der Breitseite 7'. Gegenüber dem ersten Gasverteilvolumen 6 ist das zweite Gasverteilvolumen 15 mittels einer Deckelplatte 17 begrenzt, die in einer Höhlung eines Grundkörpers 19 der Bodenplatte 7 eingesetzt ist. 1 shows schematically the structure of a CVD reactor 1 in the form of a vertical section. Within a gas-tight housing of the CVD reactor 1 is a gas inlet member 2, which has a shower head-like shape. In the gas inlet member 2 is a gas distribution volume 6 and a bottom plate 7. The bottom plate 7 has a plurality of gas outlet openings through which gas in the gas distribution volume 6 fed process gas can flow into a arranged below the bottom plate 7 process chamber. The bottom plate 7 is cooled by means of a coolant, for example water. [0008] The bottom of the process chamber forms an upper side of a susceptor 3, which can also be used to heat elevated temperatures, for example to temperatures above 1000.degree. On the upper side of the susceptor 3, which faces the gas inlet element 2, there are one or more substrates 4, which are coated with a layer. By a gas inlet 5 in particular separated from each other two different process gases in a separate chambers, each forming a Gasverteilvolumen fed. By separate gas outlet openings, the two process gases are fed into the process chamber. The process gases may be a hydride of the V. main group and an organometallic compound of an element of the III. Main group act. But it may also be gases, the elements of II. And VI. or the IV. Main group have. The process gas reacts pyrolytically in the process chamber and in particular on the surface of the substrate 4, so that a monocrystalline, for example, III-V layer is deposited on the substrate. Figures 2 and 3 show the gas inlet member 2 in a cross section. In a first gas distribution volume 6, the first process gas and in a spatially separated second gas distribution volume 15, the second process gas is fed. Both Gasverteilvolumina 6, 15 are connected by means of tubes 22, 22 'with a gas outlet surface of the bottom plate 7. The gas outlet surface is formed by a side facing the susceptor 3 broadside T of the bottom plate 7. The tubes 22 connect the broad side T with the first gas distribution volume 6 and cross the second gas distribution volume 15. The tubes 22 'connect the second gas distribution volume 15 with the broad side 7'. Compared with the first gas distribution volume 6, the second gas distribution volume 15 is limited by means of a cover plate 17, which is inserted in a cavity of a base body 19 of the base plate 7.
[0011] Sämtliche Röhrchen 22, 22' kreuzen darüber hinaus eine Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 14, die sich unterhalb des zweiten Gasverteilvolumens 15 erstreckt. Eine Wand der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 14 wird von einerAll tubes 22, 22 'further intersect a coolant receiving cavity 14 extending below the second gas distribution volume 15. A wall of the coolant receiving cavity 14 is of a
Gasaustrittsplatte 8 ausgebildet, die in eine Aussparung der Bodenplatte 7 eingesetzt ist. Die Gasaustrittsplatte 8 ist über eine Schweißnaht 9 mit einem Gas outlet plate 8 is formed, which is inserted into a recess of the bottom plate 7. The gas outlet plate 8 is connected via a weld 9 with a
Grundkörper 19 der Bodenplatte 7 verbunden. Die Gasaustrittsfläche der Gasaustrittsplatte 8 liegt bündig in der Breitseite T der Bodenplatte 7 ein. [0012] Die Bodenplatte 7 besitzt einen kreisförmigen Grundriss. Die Gasaustrittsöffnungen 16, 16' der Röhrchen 22, 22' erstrecken sich über eine zentrale Fläche der Breitseite T der Bodenplatte 7. Base 19 of the bottom plate 7 connected. The gas outlet surface of the gas outlet plate 8 is flush in the broad side T of the bottom plate 7 a. The bottom plate 7 has a circular floor plan. The gas outlet openings 16, 16 'of the tubes 22, 22' extend over a central area of the broad side T of the bottom plate 7.
[0013] Diese zentrale Fläche beziehungsweise die zentrale Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 14 wird von einer ringförmigen Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 13 umgeben. Die Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 13 wird von einem Randbereich der Gasaustrittsplatte 8 verschlossen. [0014] Der Grundkörper 19, die Gasaustrittsplatte 8 und die Deckelplatte 17 bestehen ebenso wie die Röhrchen 22, 22' aus temperaturbeständigem Metall. This central surface or the central coolant receiving cavity 14 is surrounded by an annular coolant receiving cavity 13. The coolant receiving cavity 13 is closed by an edge region of the gas outlet plate 8. The main body 19, the gas outlet plate 8 and the cover plate 17 are made as well as the tubes 22, 22 'made of temperature-resistant metal.
[0015] Die nach unten weisende Breitseite 7' der Bodenplatte 7 ist im Wesentlichen eine Ebene und wird von einem ringförmigen Rand 18 umgeben. Der Rand 18 bildet eine Übergangskante zur Schmalseite 7" der Bodenplatte 7. Die Schmalseite 7" bildet eine Umfangsfläche und ist mit einer Seitenwand 10 des Gaseinlassorgans 2 verbunden, welche wiederum mit einem Deckel 21 verbunden ist, der sich parallel zur Bodenplatte 7 erstreckt. The downwardly facing broad side 7 'of the bottom plate 7 is substantially a plane and is surrounded by an annular edge 18. The edge 18 forms a transition edge to the narrow side 7 "of the bottom plate 7. The narrow side 7" forms a peripheral surface and is connected to a side wall 10 of the gas inlet member 2, which in turn is connected to a cover 21 which extends parallel to the bottom plate 7.
[0016] Die Gasverteilvolumen 6, 15 werden mit nicht dargestellten Gaskanälen gespeist. Die Kühlmittel- Aufnahmehöhlungen 13, 14 werden mit einer Kühlflüssigkeit, insbesondere Wasser, durchströmt und besitzen eine Kühlmittel- Einlassöffnung und eine Kühlmittel- Auslassöffnung. The gas distribution volume 6, 15 are fed with gas channels, not shown. The coolant receiving cavities 13, 14 are traversed by a cooling liquid, in particular water, and have a coolant inlet opening and a coolant outlet opening.
[0017] Zwischen der Schmalseite 7" und der Schweißnaht 9, also dem Rand der Gasaustrittsplatte 8 befindet sich eine Ausnehmung 12. Die Ausneh- mung 12 bildet einen ringförmigen Schlitz in der Breitseite 7' der Bodenplatte 7, wobei die Breitseite 7' nach unten und auf den Suszeptor 3 weist. Die Ausnehmung ist zur Breitseite 7' hin offen und besitzt einen Boden, der der Öffnung der Ausnehmung 12 gegenüberliegt, also vom Suszeptor 3 wegweist. Der Abstand zwischen Boden der Ausnehmung 12 und Öffnung der Ausnehmung 12 definiert eine Tiefe e der Ausnehmung. Die Tiefe e der Ausnehmung 12 ist bevorzugt größer, als die Wandstärke a der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 13, also im Ausführungsbeispiel größer als die Materialstärke der Gasaustrittsplatte 8. Die Kühlmittel- Auf nahmehöhlung 13 besitzt eine Tiefe b. Die Summe von Wandstärke a und Tiefe b ist bevorzugt kleiner als die Tiefe e der Ausneh- mung 12. [0018] Eine Höhlungswand 13" trennt die Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 13 von der Ausnehmung 12. Der Abstand c der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 13 zur Ausnehmung 12 ist größer als der Abstand f der Ausnehmung 12 zur Schmalseite 7" beziehungsweise zum Rand 18. [0019] Die Wandstärke a entspricht ungefähr der Wandstärke c der zweiten Höhlungswand 13", wobei die Wandstärken a, c der Höhlungswandungen 13', 13" in etwa der Weite d der Ausnehmung 12 entsprechen. Die Weite d der Ausnehmung 12 ist kleiner als der Abstand f zwischen Ausnehmung 12 und Rand 18 beziehungsweise kleiner als der Abstand zwischen Schweißnaht 9 und Ausnehmung 12. Der Abstand zwischen Schweißnaht 9 und Ausnehmung 12 ist darüber hinaus kleiner als der Abstand f zwischen Ausnehmung 12 und Rand 18. There is a recess 12 between the narrow side 7 "and the weld seam 9, ie the edge of the gas outlet plate 8. The recess 12 forms an annular slot in the broad side 7 'of the base plate 7, the broad side 7' pointing downwards and points to the susceptor 3. The recess is open toward the broad side 7 'and has a bottom which opposes the opening of the recess 12, ie points away from the susceptor 3. The distance between the bottom of the recess 12 and the opening of the recess 12 defines a depth The depth e of the recess 12 is preferably greater than the wall thickness a of the coolant receiving cavity 13, ie in the exemplary embodiment larger than the material thickness of the gas outlet plate 8. The coolant absorption bore 13 has a depth b a and depth b is preferably smaller than the depth e of the recess 12. A cavity wall 13 "separates the coolant receiving cavity 13 from the recess 12. The distance c of the coolant receiving cavity 13 to the recess 12 is greater than the distance f of the recess 12 to the narrow side 7" or edge 18. [0019] The wall thickness a corresponds approximately to the wall thickness c of the second cavity wall 13 ", the wall thicknesses a, c of the cavity walls 13 ', 13" corresponding approximately to the width d of the recess 12. The width d of the recess 12 is smaller than the distance f between the recess 12 and the edge 18 or smaller than the distance between the weld 9 and the recess 12. The distance between the weld 9 and recess 12 is also smaller than the distance f between the recess 12 and Edge 18.
[0020] Die Ausnehmung 12 erstreckt sich insbesondere unterbrechungsfrei auf einer in konstantem Abstand zum Rand 18 und/ oder konstantem Abstand zur Schweißnaht 9 verlaufenden Kreisbogenlinie. Die Bodenplatte 7 besitzt zumindest im Randbereich, also zwischen Schweißnaht 9 und Rand 18, eine Rotationssymmetrie. Dies hat zur Folge, dass sich die Ausnehmung 12 in gleichbleibender Gestalt um das Zentrum der Bodenplatte 7 erstreckt. The recess 12 extends in particular without interruption on a constant distance from the edge 18 and / or constant distance to the weld seam 9 extending arc line. The bottom plate 7 has at least in the edge region, ie between weld 9 and edge 18, a rotational symmetry. This has the consequence that the recess 12 extends in a constant shape around the center of the bottom plate 7.
[0021] Es ist von Vorteil, wenn die Tiefe e der Ausnehmung 12 größer ist, als die Hälfte der Dicke des Grundkörpers 19, also größer ist, als der halbe Abstand zwischen den beiden voneinander wegweisenden Breitseiten T der Bodenplatte 7. It is advantageous if the depth e of the recess 12 is greater than half the thickness of the base body 19, that is greater than half the distance between the two facing away from each broad side T of the bottom plate. 7
[0022] Als Folge der die Schweißnaht 9 umgebenden Ausnehmung 12 bilden sich aufgrund eines Temperaturgradienten zwischen Schmalseite 7" und Gas- austrittsplatte 8 geringere Spannungen in der Bodenplatte 7 aus, als beim Stand der Technik, so dass die Schweißnaht 9 eine höhere Standzeit besitzt. As a result of the recess 12 surrounding the weld seam 9, due to a temperature gradient between narrow side 7 "and gas Exit plate 8 lower voltages in the bottom plate 7, as in the prior art, so that the weld 9 has a longer service life.
[0023] Die vorstehenden Ausführungen dienen der Erläuterung der von der Anmeldung insgesamt erfassten Erfindungen, die den Stand der Technik zu- mindest durch die folgenden Merkmalskombinationen jeweils auch eigenständig weiterbilden, wobei zwei, mehrere oder alle dieser Merkmalskombinationen auch kombiniert sein können, nämlich: The above explanations serve to explain the inventions as a whole, which at least in each case independently further develop the prior art by the following combinations of features, wherein two, several or all of these combinations of features can also be combined, namely:
[0024] Ein Gaseinlassorgan, das gekennzeichnet ist durch eine zur Breitseite T hin offene, zwischen dem Rand 18 und der ersten Höhlungswand 13' angeord- nete Ausnehmung 12. [0024] A gas inlet element, which is characterized by a recess 12 which is open towards the broad side T and is arranged between the edge 18 and the first cavity wall 13 '.
[0025] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die erste Höhlungswand 13' von einem Randabschnitt einer Platte 8 gebildet ist. A gas inlet member, which is characterized in that the first cavity wall 13 'is formed by an edge portion of a plate 8.
[0026] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Platte 13 eine die Gasaustrittsöffnungen 16, 16' aufweisende Gasaustrittsplatte ist. [0027] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass der Rand der Platte 8 mit einer Schweißnaht 9 mit einem Grundkörper 19 der Bodenplatte 7 verbunden ist. A gas inlet member, which is characterized in that the plate 13 is a gas outlet openings 16, 16 'having gas outlet plate. A gas inlet member, which is characterized in that the edge of the plate 8 is connected to a weld 9 with a base body 19 of the bottom plate 7.
[0028] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Tiefe e der Ausnehmung 12 größer ist als die Wandstärke a der insbesondere von der Platte 8 gebildeten ersten Höhlungswand 13'. A gas inlet member, which is characterized in that the depth e of the recess 12 is greater than the wall thickness a of the particular formed by the plate 8 first cavity wall 13 '.
[0029] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Tiefe e größer ist als die Summe der Wandstärke a der insbesondere von der Platte 8 gebildeten ersten Höhlungswand 13' und der Tiefe b der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 13. A gas inlet member, which is characterized in that the depth e is greater than the sum of the wall thickness a of the particular of the plate. 8 formed first cavity wall 13 'and the depth b of the coolant receiving cavity thirteenth
[0030] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Wandstärke c einer zweiten Höhlungswand 13", die die Kühlmittel- Auf nahme- höhlung 13 von der Ausnehmung 12 trennt, oder der Abstand der Schweißnaht 9 von der Ausnehmung 12 kleiner ist, als der Abstand f der Ausnehmung 12 vom Rand 18. A gas inlet element, which is characterized in that the wall thickness c of a second cavity wall 13 ", which separates the coolant receiving cavity 13 from the recess 12, or the distance of the weld seam 9 from the recess 12, is smaller than the distance f of the recess 12 from the edge 18th
[0031] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Bodenplatte 7 einen kreisförmigen Grundriss aufweist. A gas inlet member, which is characterized in that the bottom plate 7 has a circular outline.
[0032] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Ausnehmung 12 einen ringförmigen Schlitz ausbildet, der über seinen gesamten Umfang einen konstanten Abstand f zum Rand 18 aufweist. A gas inlet member, which is characterized in that the recess 12 forms an annular slot which has a constant distance f to the edge 18 over its entire circumference.
[0033] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Weite d der Ausnehmung 12 ungefähr (± 15%) der ersten Wandstärke a entspricht. A gas inlet member, which is characterized in that the width d of the recess 12 corresponds approximately to (± 15%) of the first wall thickness a.
[0034] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Weite d der ersten Ausnehmung 12 ungefähr (± 15%) der Wandstärke c der zweiten Höhlungswand 13" entspricht. A gas inlet member, which is characterized in that the width d of the first recess 12 approximately (± 15%) of the wall thickness c of the second cavity wall 13 "corresponds.
[0035] Ein Gaseinlassorgan, das dadurch gekennzeichnet ist, dass die Kühlmittel-Aufnahmehöhlung 13 eine erste, ringförmige Kühlmittel- Auf nahmehöh- lung 13 ausbildet, die eine zweite Kühlmittel-Aufnahmehöhlung 14 umgibt, wobei die zweite Kühlmittel- Aufnahmehöhlung 14 von die Gasaustrittsöffnungen 16, 16' ausbildenden Röhrchen 22, 22' gekreuzt wird. [0036] Alle offenbarten Merkmale sind (für sich, aber auch in Kombination untereinander) erfindungswesentlich. In die Offenbarung der Anmeldung wird hiermit auch der Offenbarungsinhalt der zugehörigen/ beigefügten Prioritätsunterlagen (Abschrift der Voranmeldung) vollinhaltlich mit einbezogen, auch zu dem Zweck, Merkmale dieser Unterlagen in Ansprüche vorliegender Anmeldung mit aufzunehmen. Die Unteransprüche charakterisieren, auch ohne die Merkmale eines in Bezug genommenen Anspruchs, mit ihren Merkmalen eigenständige erfinderische Weiterbildungen des Standes der Technik, insbesondere um auf Basis dieser Ansprüche Teilanmeldungen vorzunehmen. Die in jedem Anspruch angegebene Erfindung kann zusätzlich ein oder mehrere der in der vorstehenden Beschreibung, insbesondere mit Bezugsziffern versehene und/ oder in der Bezugsziffernliste angegebene Merkmale aufweisen. Die Erfindung betrifft auch Gestaltungsformen, bei denen einzelne der in der vorstehenden Beschreibung genannten Merkmale nicht verwirklicht sind, insbesondere soweit sie erkennbar für den jeweiligen Verwendungszweck entbehrlich sind oder durch andere technisch gleichwirkende Mittel ersetzt werden können. [0035] A gas inlet member characterized in that the coolant receiving cavity 13 forms a first annular coolant receiving recess 13 surrounding a second coolant receiving cavity 14, the second coolant receiving cavity 14 extending from the gas outlet openings 16 , 16 'forming tubes 22, 22' is crossed. All disclosed features are essential to the invention (individually, but also in combination with one another). The disclosure of the associated / attached priority documents (copy of the prior application) is hereby also incorporated in full in the disclosure of the application, also for the purpose of including features of these documents in claims of the present application. The subclaims characterize, even without the features of a claimed claim, with their features independent inventive developments of the prior art, in particular in order to make divisional applications based on these claims. The invention specified in each claim may additionally have one or more of the features described in the preceding description, in particular with reference numerals and / or given in the reference numerals. The invention also relates to design forms in which individual of the features mentioned in the above description are not realized, in particular insofar as they are recognizable dispensable for the respective purpose or can be replaced by other technically equivalent means.
Liste der Bezugszeichen List of reference numbers
1 PVD-Reaktor 22 Röhrchen1 PVD reactor 22 tubes
2 Gaseinlassorgan 22' Röhrchen2 Gas inlet 22 'tube
3 Suszeptor 3 susceptor
4 Substrat  4 substrate
5 Gaseinlass a Wandstärke 5 gas inlet a wall thickness
6 Gasverteilvolumen b Tiefe6 gas distribution volume b depth
7 Bodenplatte c Wandstärke7 base plate c wall thickness
7' Breitseite d Weite7 'broadside d width
7" Schmalseite e Tiefe7 "narrow side e depth
8 Gasaustrittsplatte f Abstand8 gas outlet plate f distance
9 Schweißnaht 9 weld
10 Seitenwand  10 sidewall
11 Höhlung  11 hollow
12 Ausnehmung  12 recess
13 Kühlmittel- Aufnahmehöhlung  13 coolant receiving cavity
13' erste Höhlungswand  13 'first cavity wall
13" zweite Höhlungswand  13 "second cavity wall
14 Kühlmittel- Aufnahmehöhlung  14 coolant receiving cavity
15 Gasverteilvolumen  15 gas distribution volume
16 Gasaustrittsöffnung  16 gas outlet opening
16' Gasaustrittsöffnung  16 'gas outlet
17 Deckelplatte  17 cover plate
18 Rand  18 edge
19 Grundkörper  19 basic body
20 Umfangswand  20 peripheral wall
21 Deckel  21 lids

Claims

Ansprüche  claims
1. Gaseinlassorgan (2) für einen CVD- oder PVD-Reaktor (1) mit einer Bodenplatte (7), deren mit einem Rand (18) an einer Schmalseite (7") angrenzende Breitseite (7') eine Vielzahl von Gasaustrittsöffnungen (16, 16') aufweist, wobei in der Bodenplatte (7) zumindest eine Kühlmittel- Aufnahmehöh- lung (13) angeordnet ist, die durch eine erste Höhlungswand (13') von der1. Gas inlet member (2) for a CVD or PVD reactor (1) with a bottom plate (7), with its edge (18) on a narrow side (7 ") adjacent broad side (7 ') a plurality of gas outlet openings (16 , 16 '), wherein in the bottom plate (7) at least one Kühlmittel- Aufnahmehöh- ment (13) is arranged, which by a first cavity wall (13') of the
Breitseite (7') beabstandet ist, gekennzeichnet durch eine zur Breitseite (7') hin offene, zwischen dem Rand (18) und der von einer Platte die mit einer Schweißnaht (9) mit einem Grundkörper (19) der Bodenplatte (7) verbunden ist, gebildeten ersten Höhlungswand (13') angeordnete Ausneh- mung (12). Wide side (7 ') is spaced, characterized by a broad side (7') open, between the edge (18) and of a plate with a weld (9) connected to a base body (19) of the bottom plate (7) is formed, formed first cavity wall (13 ') arranged recess (12).
2. Gaseinlassorgan nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Höhlungswand (13') von einem Randabschnitt einer Platte (8) gebildet ist. 2. Gas inlet member according to claim 1, characterized in that the first cavity wall (13 ') of an edge portion of a plate (8) is formed.
3. Gaseinlassorgan nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Platte (8) eine die Gasaustrittsöffnungen (16, 16') aufweisende Gasaustritts- platte ist. 3. Gas inlet member according to claim 2, characterized in that the plate (8) is a gas outlet openings (16, 16 ') having gas outlet plate.
4. Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Tiefe (e) der Ausnehmung (12) größer ist als die Wandstärke (a) der insbesondere von der Platte (8) gebildeten ersten Höhlungswand (13'). 5. Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Tiefe (e) größer ist als die Summe der Wandstärke (a) der insbesondere von der Platte (8) gebildeten ersten Höhlungswand (13') und der Tiefe (b) der Kühlmittel- Aufnahmehöhlung (13). Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wandstärke (c) einer zweiten Höhlungswand (13"), die die Kühlmittel- Aufnahmehöhlung (13) von der Ausnehmung (12) trennt, oder der Abstand der Schweißnaht (9) von der Ausnehmung (12) kleiner ist, als der Abstand (f) der Ausnehmung (12) vom Rand (18). 4. Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the depth (e) of the recess (12) is greater than the wall thickness (a) of the particular of the plate (8) formed first cavity wall (13 '). 5. Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the depth (e) is greater than the sum of the wall thickness (a) of the particular of the plate (8) formed first cavity wall (13 ') and the depth (b) of Coolant intake cavity (13). Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the wall thickness (c) of a second cavity wall (13 ") which separates the coolant receiving cavity (13) from the recess (12), or the distance of the weld (9) from the Recess (12) is smaller than the distance (f) of the recess (12) from the edge (18).
7. Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Bodenplatte (7) einen kreisförmigen Grundriss aufweist. 7. Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the bottom plate (7) has a circular floor plan.
Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Ausnehmung (12) einen ringförmigen Schlitz ausbildet, der über seinen gesamten Umfang einen konstanten Abstand (f) zum Rand (18) aufweist. Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the recess (12) forms an annular slot which has a constant distance (f) to the edge (18) over its entire circumference.
Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Weite (d) der Ausnehmung (12) ungefähr der ersten Wandstärke (a) entspricht. Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the width (d) of the recess (12) corresponds approximately to the first wall thickness (a).
Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Weite (d) der ersten Ausnehmung (12) ungefähr der Wandstärke (c) der zweiten Höhlungswand (13") entspricht. Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the width (d) of the first recess (12) corresponds approximately to the wall thickness (c) of the second cavity wall (13 ").
Gaseinlassorgan nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kühlmittel- Aufnahmehöhlung (13) eine erste, ringförmige Kühlmittel- Aufnahmehöhlung (13) ausbildet, die eine zweite Kühlmittel- Aufnahmehöhlung (14) umgibt, wobei die zweite Kühlmittel- Aufnahmehöhlung (14) von die Gasaustrittsöffnungen (16, 16') ausbildenden Röhrchen (22, 22') gekreuzt wird. Gas inlet member according to one of the preceding claims, characterized in that the coolant receiving cavity (13) forms a first annular coolant receiving cavity (13) surrounding a second coolant receiving cavity (14), the second coolant receiving cavity (13). Receiving cavity (14) of the gas outlet openings (16, 16 ') forming tube (22, 22') is crossed.
Gaseinlassorgan, gekennzeichnet durch eines oder mehrere der kennzeichnenden Merkmale eines der vorhergehenden Ansprüche. Gas inlet member, characterized by one or more of the characterizing features of one of the preceding claims.
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