WO2019009165A1 - 波長変換部材及びその製造方法 - Google Patents

波長変換部材及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2019009165A1
WO2019009165A1 PCT/JP2018/024477 JP2018024477W WO2019009165A1 WO 2019009165 A1 WO2019009165 A1 WO 2019009165A1 JP 2018024477 W JP2018024477 W JP 2018024477W WO 2019009165 A1 WO2019009165 A1 WO 2019009165A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
wavelength conversion
layer
conversion layer
glass
phosphor
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/024477
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
祐輔 新井
伊藤　彰
飯塚　和幸
猪股　大介
佳弘 山下
清太郎 吉田
理紀也 鈴木
博之 澤野
Original Assignee
株式会社タムラ製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社タムラ製作所 filed Critical 株式会社タムラ製作所
Publication of WO2019009165A1 publication Critical patent/WO2019009165A1/ja

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/14—Silica-free oxide glass compositions containing boron
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C4/00—Compositions for glass with special properties
    • C03C4/12—Compositions for glass with special properties for luminescent glass; for fluorescent glass
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters

Definitions

  • the present invention relates to a wavelength conversion member and a method of manufacturing the same.
  • a phosphor composite member in which an inorganic powder sintered body layer containing glass powder and inorganic phosphor powder is formed on the surface of a ceramic base material, and is irradiated with excitation light, the ceramic base material and DESCRIPTION OF RELATED ART
  • the fluorescent substance composite member which emits the fluorescence of a wavelength in which an inorganic powder sintered compact layer mutually differs is known (for example, refer patent document 1).
  • the phosphor composite member described in Patent Document 1 is a transmission type wavelength conversion member, and yellow fluorescence emitted from the ceramic base and red and / or green fluorescence emitted from the inorganic powder sintered body layer White light is obtained by combining with blue excitation light transmitted through the phosphor composite member.
  • a reflection type wavelength conversion member usually includes a reflection layer for reflecting light, and a phosphor in glass. In order to scatter light efficiently by the wavelength conversion layer which is sealed, it is required to increase the concentration of the phosphor in the wavelength conversion layer.
  • the present inventors discovered that when the concentration of the red phosphor in the wavelength conversion layer in which the phosphor is sealed in the glass is high, voids are generated in the wavelength conversion layer. Furthermore, before the formation of the reflective layer, it is necessary to polish the surface of the layer to be the base to mirror finish, but when trying to form the reflective layer directly on the wavelength conversion layer in which the air gap is generated, The abrasive penetrates into the voids of the wavelength conversion layer to adversely affect the optical properties of the wavelength conversion layer, and if there are many voids, it can not be mirror-polished even if polished, and a high-quality reflective layer is formed. I discovered that I could not do it.
  • An object of the present invention is to provide a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer in which a phosphor is sealed in glass and having excellent optical characteristics and light extraction efficiency regardless of the concentration of the phosphor in the wavelength conversion layer, It is in providing a manufacturing method.
  • One aspect of the present invention provides a wavelength conversion member of the following [1] to [7] and a method of manufacturing a wavelength conversion member of [8] and [9] to achieve the above object.
  • a first wavelength conversion layer having a flat glass and a phosphor contained in the glass, a glass layer formed on one surface of the first wavelength conversion layer, and the glass layer
  • a wavelength conversion member comprising: a reflective layer formed on the surface opposite to the first wavelength conversion layer.
  • a step of forming a first wavelength conversion layer made of glass containing a red phosphor, a step of forming a glass layer on one surface of the first wavelength conversion layer, and a surface of the glass layer A method of manufacturing a wavelength conversion member, comprising the steps of: performing a polishing process; and forming a reflective layer on the surface of the glass layer subjected to the polishing process.
  • a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer in which a phosphor is sealed in glass, and having excellent optical characteristics and light extraction efficiency regardless of the concentration of the phosphor in the wavelength conversion layer, and the same A manufacturing method can be provided.
  • FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a wavelength conversion member according to an embodiment.
  • FIG. 2A is a vertical cross-sectional view showing the manufacturing process of the wavelength conversion member according to the embodiment.
  • FIG. 2B is a vertical cross-sectional view showing the manufacturing process of the wavelength conversion member according to the embodiment.
  • FIG. 2C is a vertical sectional view showing a manufacturing process of the wavelength conversion member according to the embodiment.
  • FIG. 2D is a vertical sectional view showing a manufacturing process of the wavelength conversion member according to the embodiment.
  • FIG. 3A is a SEM (Scanning Electron Microscope) observation image of the cross section of the first wavelength conversion layer when the cross sectional area ratio of the red phosphor in the first wavelength conversion layer is 46%.
  • FIG. 3A is a SEM (Scanning Electron Microscope) observation image of the cross section of the first wavelength conversion layer when the cross sectional area ratio of the red phosphor in the first wavelength conversion layer is 46%.
  • FIG. 3A is
  • FIG. 3B is a SEM observation image of the cross section of the first wavelength conversion layer when the cross sectional area ratio of the red phosphor in the first wavelength conversion layer is 54%.
  • FIG. 4 is an observation image by an optical microscope of the surface of the first wavelength conversion layer including the polished air gap.
  • FIG. 5 is a SEM observation image of the cross section of the thickness direction of the laminated
  • FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of the wavelength conversion member 1 according to the embodiment.
  • the wavelength conversion member 1 includes a first wavelength conversion layer 10 having a flat glass 10 a and a red phosphor 10 b contained in the glass 10 a, and a glass layer formed on one surface of the first wavelength conversion layer 10. 11, a reflective layer 12 formed on the surface of the glass layer 11 opposite to the first wavelength conversion layer 10, and a surface of the first wavelength conversion layer 10 opposite to the glass layer 11 A second wavelength conversion layer 13 containing a yellow phosphor, and a heat dissipation member 14 joined by a joining layer 15 on the surface of the reflective layer 12 opposite to the glass layer 11.
  • the wavelength conversion member 1 is a reflection type wavelength conversion member which makes excitation light enter from the 2nd wavelength conversion layer 13 side, and takes out the mixed light of excitation light and fluorescence from the incident side of excitation light.
  • the second wavelength conversion layer 13 is on the light extraction side in order to enhance the heat dissipation.
  • the heat generated from the phosphor is mainly dissipated from the surface (reflection film surface) on the opposite side of the light extraction surface, so the red phosphor, which generates heat more easily than the yellow phosphor, is released to the heat dissipation side (reflection film side) By providing them, the heat generated in the red phosphor is easily dissipated, and the amount of heat generation in the entire phosphor can be suppressed.
  • the reflection type wavelength conversion member 1 in order to scatter light efficiently in the first wavelength conversion layer 10, it is required to increase the concentration of the red phosphor 10 b in the first wavelength conversion layer 10. However, when the concentration of the red phosphor 10 b in the first wavelength conversion layer 10 becomes high, voids occur in the first wavelength conversion layer 10.
  • the reflective layer 12 Before the formation of the reflective layer 12, it is necessary to polish the surface of the layer to be the base to make it mirror-like, but the reflective layer 12 is formed on the first wavelength conversion layer 10 in which air gaps are generated. If it is attempted to form directly, the abrasive penetrates into the voids of the first wavelength conversion layer 10 to adversely affect the optical properties of the first wavelength conversion layer 10. In addition, if the number of voids is large, the mirror surface can not be formed even by polishing, and a problem that a high quality reflective layer 12 can not be formed may also occur.
  • the glass layer 11 which does not contain fluorescent substance is formed on the 1st wavelength conversion layer 10, and the glass layer 11 is grind
  • the first wavelength conversion layer 10 includes a void, the penetration of the abrasive into the void and the mirror formation of the base of the reflective layer 12 are not prevented, and the first wavelength conversion is performed.
  • the layer 10 can prevent the deterioration of the optical characteristics of the first wavelength conversion layer 10 and the deterioration of the quality of the reflective layer 12 due to air gaps.
  • the configuration of the wavelength conversion member 1 is particularly effective.
  • the first wavelength conversion layer 10 includes the red phosphor 10b in the glass 10a, and the cross-sectional area ratio of the red phosphor 10b in an arbitrary cross section of the first wavelength conversion layer 10 (first wavelength conversion in a certain cross section
  • first wavelength conversion in a certain cross section When the ratio of the area ratio of the red phosphor 10b to the area of the entire layer 10 is 54% or more, voids tend to occur.
  • the concentration of the red phosphor 10 b in the first wavelength conversion layer 10 is approximately 50 mass% or more
  • the cross-sectional area ratio of the red phosphor 10 b in an arbitrary cross section of the first wavelength conversion layer 10 is 54 % Or more.
  • the first wavelength conversion layer 10 contains an inorganic material other than the red phosphor 10b, for example, another phosphor or a scattering material in the glass 10a, red in any cross section of the first wavelength conversion layer 10 Even if the cross-sectional area ratio of the phosphor 10b is less than 54% (the concentration of the red phosphor 10b in the first wavelength conversion layer 10 is less than 50% by mass), voids may occur.
  • the glass 10a of the first wavelength conversion layer 10 is made of a low melting point glass, and particularly preferably made of a low melting point glass having a melting point of 500 ° C. or less such as Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 .
  • a low melting point glass having a melting point of 500 ° C. or less such as Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 .
  • the red phosphor 10b of the first wavelength conversion layer 10 is a phosphor that emits fluorescence having a central wavelength at a wavelength of 590 to 780 nm, and, for example, (Sr, Ca) AlSi (N, O) 3 : Eu is a red fluorescence It can be used as the body 10b.
  • the glass layer 11 is made of low melting glass in order to suppress the deterioration of the first wavelength conversion layer 10 due to the heat of the red phosphor 10 b. Further, as the low melting glass constituting the glass layer 11, the same glass as the low melting glass constituting the glass 10a of the first wavelength conversion layer 10 may be used.
  • the thickness of the glass layer 11 in the completed wavelength conversion member 1 is preferably 5 ⁇ m or more.
  • the glass layer 11 is formed by screen printing or the like, but often has a thickness variation of about 10 ⁇ m after formation. For this reason, it is preferable that the thickness of the glass layer 11 before polishing is 15 ⁇ m or more in order to polish with a polishing thickness sufficient for mirror formation and to set the thickness after polishing to 5 ⁇ m or more.
  • the first wavelength conversion layer 10 under the glass layer 11 may be exposed because the polishing thickness of the polishing process by CMP (Chemical Mechanical Polishing) after formation of the glass layer 11 may vary by about 10 ⁇ m at maximum.
  • the thickness of the glass layer 11 before polishing is more preferably 25 ⁇ m or more, and still more preferably 30 ⁇ m or more, in order to more reliably prevent the above.
  • the reflective layer 12 is made of, for example, a metal such as Al, Ag or Ag alloy, or a multilayer film dielectric made of silicon dioxide, titanium oxide or the like.
  • the second wavelength conversion layer 13 is a phosphor that emits fluorescence having a center wavelength different from that of the red phosphor 10b of the first wavelength conversion layer 10, for example, a yellow phosphor that emits a fluorescence having a center wavelength at 535 to 590 nm. And a flat plate-like phosphor-containing member.
  • the second wavelength conversion layer 13 includes, for example, a single crystal of a phosphor that emits fluorescence having a center wavelength different from that of the red phosphor 10b, and a phosphor that emits a fluorescence that has a center wavelength different from that of the red phosphor 10b. It is made of ceramics.
  • the first wavelength conversion layer 10 and the first wavelength conversion layer 10 can be irradiated by irradiating the wavelength conversion member 1 with blue light having a center wavelength of 430 to 470 nm as excitation light.
  • White light can be extracted as mixed light of fluorescence emitted from the second wavelength conversion layer 13 and excitation light reflected without being absorbed by the wavelength conversion member 1.
  • the concentration of the red phosphor 10 b of the first wavelength conversion layer 10 can be increased, and the second wavelength conversion layer 13 can be formed of single crystal or ceramic. Therefore, the wavelength conversion member 1 has excellent heat dissipation characteristics. Therefore, as a light source for irradiating the wavelength conversion member 1 with excitation light, a light source of light output such as a laser light source can be used.
  • the total thickness of the first wavelength conversion layer and the glass layer is preferably 100 ⁇ m or less. Further, in the case where the bonding surface of the second wavelength conversion layer 13 to the first wavelength conversion layer 10 is roughened to enhance adhesion, the total thickness of the first wavelength conversion layer and the glass layer Should be 300 ⁇ m or less.
  • the interface between the second wavelength conversion layer 13 and the first wavelength conversion layer 10 has a concavo-convex shape. Is preferred.
  • the difference between the linear expansion coefficients of the glass 10 a of the first wavelength conversion layer 10 and the second wavelength conversion layer 13 is It is preferable that it is 1 ppm or less on the basis of the wavelength conversion layer 10 of these.
  • the refractive index difference of glass 10a of the 1st wavelength conversion layer 10 and the 2nd wavelength conversion layer 13 is +/- 0.2 or less.
  • the difference in refractive index between the first wavelength conversion layer 10 and the second wavelength conversion layer 13 is large. This is because the laser light may be specularly reflected at the interface between the first wavelength conversion layer 10 and the second wavelength conversion layer 13 and the laser light may not be scattered.
  • the heat dissipation member 14 is made of, for example, a metal such as Cu, CuW, or Al, or a ceramic such as AlN, SiC, or Al 2 O 3 .
  • the bonding layer 15 is made of AuSn solder, SuAgCu solder, silver paste or the like.
  • 2A to 2D are vertical cross-sectional views showing the manufacturing process of the wavelength conversion member 1 according to the embodiment.
  • the first wavelength conversion layer 10 is formed on the second wavelength conversion layer 13.
  • a mixed solution containing the red phosphor 10b and the glass 10a, which are the raw materials of the first wavelength conversion layer 10, and the second wavelength conversion layer 13 are prepared.
  • the mixed solution which is a raw material of the first wavelength conversion layer 10 is mixed with a low melting point frit glass as the glass 10 a, the red phosphor 10 b and a diluent vehicle on a glass container under a pressure of 0.1 kPa It is obtained by applying a vacuum degassing for 2 minutes.
  • the second wavelength conversion layer 13 organically cleans the surface of a flat YAG-based single crystal as a flat phosphor-containing member, and is further subjected to a heat treatment at 1000 ° C. to burn off the dirt on the surface. can get.
  • the mixed solution which is a raw material of the first wavelength conversion layer 10
  • the second wavelength conversion layer 13 by screen printing.
  • the applied mixture is then subjected to vacuum degassing for 2 minutes under a pressure of 0.1 kPa.
  • baking is performed for 20 minutes at a temperature of 480 ° C. in the air atmosphere to obtain the first wavelength conversion layer 10.
  • the first wavelength conversion layer 10 is formed on the surface of the second wavelength conversion layer 13 subjected to the concavo-convex processing. It should be formed.
  • the glass layer 11 is formed on the surface of the first wavelength conversion layer 10 opposite to the second wavelength conversion layer 13.
  • a mixed solution which is a raw material of the glass layer 11 is prepared.
  • This mixture is obtained by mixing low melting point frit glass and a diluent vehicle on a glass container and then subjecting it to vacuum degassing for 2 minutes under a pressure of 0.1 kPa.
  • the liquid mixture which is a raw material of the glass layer 11 is apply
  • the applied mixture is then subjected to vacuum degassing for 2 minutes under a pressure of 0.1 kPa. Finally, baking is performed for 20 minutes at a temperature of 480 ° C. in the air atmosphere to obtain the glass layer 11.
  • the glass layer 11 is preferably formed to a thickness of 15 ⁇ m or more, more preferably formed to a thickness of 25 ⁇ m or more, and formed to a thickness of 30 ⁇ m or more Is more preferred.
  • the surface of the glass layer 11 opposite to the first wavelength conversion layer 10 is polished by CMP to make it mirror-finished.
  • the polishing thickness is made smaller than the thickness of the glass layer 11 so that the first wavelength conversion layer 10 is not exposed.
  • the glass layer 11 since the glass layer 11 often has a thickness variation of about 10 ⁇ m, it is preferable to carry out polishing with a polishing thickness of 10 ⁇ m or more in order to perform mirror-ization more reliably.
  • the reflective layer 12 is formed on the surface of the mirror-finished glass layer 11 opposite to the first wavelength conversion layer 10 by vapor deposition or sputtering.
  • the heat radiation member 14 is bonded to the surface of the reflective layer 12 on the side opposite to the glass layer 11 using the bonding layer 15 to obtain the wavelength conversion member 1.
  • a wavelength conversion member including a wavelength conversion layer in which a phosphor is sealed in glass, and having excellent optical characteristics and light extraction efficiency regardless of the concentration of the phosphor in the wavelength conversion layer, And the manufacturing method can be provided.
  • FIG. 3A is an SEM (Scanning Electron Microscope) observation image of the cross section of the first wavelength conversion layer 10 in which the cross sectional area ratio of the red phosphor 10b is 46%
  • FIG. 3B is a cross sectional area ratio of the red phosphor 10b. It is a SEM observation image of the cross section of the 1st wavelength conversion layer 10 which is 54%.
  • the red phosphor 10b is included in the glass 10a, and no other inorganic material is included. Further, Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 and (Sr, Ca) AlSi (N, O) 3 : Eu are used as the glass 10a and the red phosphor 10b, respectively.
  • the concentration of the red phosphor 10b in the first wavelength conversion layer 10 shown in FIG. 3A is approximately 25% by mass, and the concentration of the red phosphor 10b in the first wavelength conversion layer 10 shown in FIG. 3B is approximately It is 50% by mass.
  • FIG. 4 is an observation image by an optical microscope of the surface of the first wavelength conversion layer 10 including the polished air gap.
  • the set of black dots observed in the observation image of FIG. 4 is the abrasive that has penetrated into the void of the first wavelength conversion layer 10.
  • FIG. 4 shows that when the first wavelength conversion layer 10 including the void is polished, the abrasive penetrates into the void. The abrasive that has penetrated into the first wavelength conversion layer 10 degrades the optical characteristics of the first wavelength conversion layer 10.
  • FIG. 5 is a SEM observation image of a cross section in the thickness direction of the stacked first wavelength conversion layer 10, the glass layer 11 before polishing, and the second wavelength conversion layer 13.
  • the red phosphor 10b is included in the glass 10a, and other inorganic materials are not included.
  • Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 and (Sr, Ca) AlSi (N, O) 3 : Eu are used as the glass 10a and the red phosphor 10b, respectively.
  • Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 is used as the glass layer 11, and a YAG-based phosphor is used as the second wavelength conversion layer 13.
  • the first wavelength conversion layer 10, the glass layer 11, and the second wavelength conversion layer 13 shown in FIG. 5 are formed by the method described in the above embodiment.
  • a wavelength conversion member including a wavelength conversion layer in which a phosphor is sealed in glass and having excellent optical characteristics and light extraction efficiency regardless of the concentration of the phosphor in the wavelength conversion layer, and a method for manufacturing the same.
  • SYMBOLS 1 Wavelength conversion member, 10 ... 1st wavelength conversion layer, 10a ... Glass, 10b ... Red fluorescent substance 10b, 11 ... Glass layer, 12 ... Reflection layer, 13 ... 2nd wavelength conversion layer, 14 ... Heat dissipation member, 20 ... void

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

ガラスに蛍光体が封止された波長変換層を備え、その波長変換層における蛍光体の濃度に依らず、優れた光学特性及び光取出効率を有する波長変換部材、及びその製造方法を提供する。　一実施の形態として、平板状のガラス１０ａ及びガラス１０ａに含まれる蛍光体１０ｂを有する第１の波長変換層１０と、第１の波長変換層１０の一方の面上に形成されたガラス層１１と、ガラス層１１の第１の波長変換層１０と反対側の面上に形成された反射層１２と、を備えた、波長変換部材１を提供する。

Description

波長変換部材及びその製造方法
　本発明は、波長変換部材及びその製造方法に関する。
　従来、セラミックス基材の表面に、ガラス粉末及び無機蛍光体粉末を含む無機粉末焼結体層が形成されてなる蛍光体複合部材であって、励起光が照射されたときに、セラミックス基材及び無機粉末焼結体層が互いに異なる波長の蛍光を発する蛍光体複合部材が知られている（例えば、特許文献１参照）。
　特許文献１に記載の蛍光体複合部材は、透過型の波長変換部材であり、セラミックス基材から発せられる黄色の蛍光と、無機粉末焼結体層から発せられる赤色及び／又は緑色の蛍光が、蛍光体複合部材中を透過する青色の励起光と合成されて白色光が得られる。
特開２０１２－５２０６１号公報
　特許文献１に記載の蛍光体複合部材は透過型の波長変換部材であるが、反射型の波長変換部材においては、通常、光を反射するための反射層が含まれ、また、ガラスに蛍光体が封止された波長変換層により効率的に光を散乱させるため、その波長変換層における蛍光体の濃度を高めることが求められる。
　しかしながら、本発明者らは、ガラスに蛍光体が封止された波長変換層における赤色蛍光体の濃度が高くなると、波長変換層中に空隙が発生することを発見した。そしてさらに、反射層の形成前には、下地となる層の表面に研磨処理を施して鏡面化させる必要があるが、空隙の生じた波長変換層の上に反射層を直接形成しようとすると、波長変換層の空隙に研磨剤が侵入して波長変換層の光学特性に悪影響を与えること、また、空隙が多いと研磨しても鏡面化することができず、高品質の反射層を形成することができないことを発見した。
　本発明の目的は、ガラスに蛍光体が封止された波長変換層を備え、その波長変換層における蛍光体の濃度に依らず、優れた光学特性及び光取出効率を有する波長変換部材、及びその製造方法を提供することにある。
　本発明の一態様は、上記目的を達成するために、以下の［１］～［７］の波長変換部材、及び［８］、［９］の波長変換部材の製造方法を提供する。
［１］平板状のガラス及び前記ガラスに含まれる蛍光体を有する第１の波長変換層と、前記第１の波長変換層の一方の面上に形成されたガラス層と、前記ガラス層の前記第１の波長変換層と反対側の面上に形成された反射層と、を備えた、波長変換部材。
［２］前記蛍光体が赤色蛍光体である、上記［１］に記載の波長変換部材。
［３］前記第１の波長変換層の任意の断面における前記赤色蛍光体の断面積比率が５４％以上である、上記［１］又は［２］に記載の波長変換部材。
［４］前記ガラス層の厚さが５μｍ以上である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の波長変換部材。
［５］前記第１の波長変換層の前記ガラス層と反対側の面上に形成された、黄色蛍光体を含む第２の波長変換層を備えた、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の波長変換部材。
［６］前記第２の波長変換層がＹＡＧ系蛍光体の単結晶からなり、前記第１の波長変換層の厚さと前記ガラス層の厚さの合計が３００μｍ以下である、上記［５］に記載の波長変換部材。
［７］前記第２の波長変換層と前記第１の波長変換層との界面が凹凸形状である、上記［５］又は［６］に記載の波長変換部材。
［８］赤色蛍光体を含むガラスからなる第１の波長変換層を形成する工程と、前記第１の波長変換層の一方の面上にガラス層を形成する工程と、前記ガラス層の表面に研磨処理を施す工程と、前記研磨処理が施された前記ガラス層の表面上に、反射層を形成する工程と、を含む、波長変換部材の製造方法。
［９］前記第１の波長変換層の任意の断面における前記赤色蛍光体の断面積比率が５４％以上である、上記［８］に記載の波長変換部材の製造方法。
　本発明によれば、ガラスに蛍光体が封止された波長変換層を備え、その波長変換層における蛍光体の濃度に依らず、優れた光学特性及び光取出効率を有する波長変換部材、及びその製造方法を提供することができる。
図１は、実施の形態に係る波長変換部材の垂直断面図である。 図２Ａは、実施の形態に係る波長変換部材の製造工程を示す垂直断面図である。 図２Ｂは、実施の形態に係る波長変換部材の製造工程を示す垂直断面図である。 図２Ｃは、実施の形態に係る波長変換部材の製造工程を示す垂直断面図である。 図２Ｄは、実施の形態に係る波長変換部材の製造工程を示す垂直断面図である。 図３Ａは、第１の波長変換層における赤色蛍光体の断面積比率が４６％であるときの第１の波長変換層の断面のＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）観察像である。 図３Ｂは、第１の波長変換層における赤色蛍光体の断面積比率が５４％であるときの第１の波長変換層の断面のＳＥＭ観察像である。 図４は、研磨された空隙を含む第１の波長変換層の表面の光学顕微鏡による観察像である。 図５は、積層された第１の波長変換層、ガラス層、及び第２の波長変換層の厚さ方向の断面のＳＥＭ観察像である。
（波長変換部材の構成）
　図１は、実施の形態に係る波長変換部材１の垂直断面図である。波長変換部材１は、平板状のガラス１０ａ及びガラス１０ａに含まれる赤色蛍光体１０ｂを有する第１の波長変換層１０と、第１の波長変換層１０の一方の面上に形成されたガラス層１１と、ガラス層１１の第１の波長変換層１０と反対側の面上に形成された反射層１２と、第１の波長変換層１０のガラス層１１と反対側の面上に形成された、黄色蛍光体を含む第２の波長変換層１３と、反射層１２のガラス層１１と反対側の面上に接合層１５により接合された放熱部材１４とを備える。
　波長変換部材１は、第２の波長変換層１３側から励起光を入射させて、励起光と蛍光の混合光を励起光の入射側から取り出す反射型の波長変換部材である。第１の波長変換層１０と第２の波長変換層１３のうち、第２の波長変換層１３が光取り出し側にあるのは、放熱性を高めるためである。蛍光体から発せられた熱は、主に光取出し面の逆側の面（反射膜面）から放熱されるため、黄色蛍光体よりも発熱し易い赤色蛍光体を放熱側（反射膜側）に設けることによって、赤色蛍光体で発生した熱が放熱され易くなり、蛍光体全体での発熱量が抑えられる。
　反射型の波長変換部材１においては、第１の波長変換層１０において効率的に光を散乱させるため、第１の波長変換層１０における赤色蛍光体１０ｂの濃度を高めることが求められる。しかしながら、第１の波長変換層１０における赤色蛍光体１０ｂの濃度が高くなると、第１の波長変換層１０に空隙が生じる。
　一方で、反射層１２の形成前には、下地となる層の表面に研磨処理を施して鏡面化させる必要があるが、空隙の生じた第１の波長変換層１０の上に反射層１２を直接形成しようとすると、第１の波長変換層１０の空隙に研磨剤が侵入して第１の波長変換層１０の光学特性に悪影響を与える。また、空隙が多いと研磨しても鏡面化することができず、高品質の反射層１２を形成することができないという問題も生じ得る。
　そこで、実施の形態に係る波長変換部材１の製造においては、第１の波長変換層１０の上に蛍光体を含まないガラス層１１を形成し、そのガラス層１１を研磨して鏡面化させ、その上に反射層１２を形成している。
　このため、第１の波長変換層１０が空隙を含む場合であっても、空隙に研磨剤が侵入することや、反射層１２の下地の鏡面化が妨げられることがなく、第１の波長変換層１０が空隙による第１の波長変換層１０の光学特性の劣化や反射層１２の品質の低下を防ぐことができる。
　したがって、第１の波長変換層１０における赤色蛍光体１０ｂの濃度が空隙を発生させるほど高い場合に、特に波長変換部材１の構成は効果的であるといえる。
　例えば、第１の波長変換層１０が赤色蛍光体１０ｂをガラス１０ａ中に含み、第１の波長変換層１０の任意の断面における赤色蛍光体１０ｂの断面積比率（ある断面における第１の波長変換層１０全体の面積に対する赤色蛍光体１０ｂの面積の比の値）が５４％以上である場合に空隙が発生しやすい。
　ここで、第１の波長変換層１０における赤色蛍光体１０ｂの濃度がおよそ５０質量％以上である場合に、第１の波長変換層１０の任意の断面における赤色蛍光体１０ｂの断面積比率が５４％以上になる。
　また、第１の波長変換層１０が赤色蛍光体１０ｂ以外の無機材、例えば他の蛍光体や散乱材、をガラス１０ａ中に含む場合は、第１の波長変換層１０の任意の断面における赤色蛍光体１０ｂの断面積比率が５４％未満（第１の波長変換層１０における赤色蛍光体１０ｂの濃度が５０質量％未満）であっても空隙が発生する場合がある。
　第１の波長変換層１０のガラス１０ａは、低融点ガラスからなり、特に、Ｂｉ２Ｏ３－ＺｎＯ－Ｂ２Ｏ３等の融点が５００℃以下の低融点ガラスからなることが好ましい。ガラス１０ａの材料として低融点ガラスを用いることにより、第１の波長変換層１０の形成時における、ガラス１０ａを溶融させるための熱による赤色蛍光体１０ｂの劣化を抑えることができる。
　第１の波長変換層１０の赤色蛍光体１０ｂは、波長５９０～７８０ｎｍに中心波長を有する蛍光を発する蛍光体であり、例えば、（Ｓｒ，Ｃａ）ＡｌＳｉ（Ｎ，Ｏ）３：Ｅｕを赤色蛍光体１０ｂとして用いることができる。
　ガラス層１１は、第１の波長変換層１０のガラス１０ａと同様に、第１の波長変換層１０の赤色蛍光体１０ｂの熱による劣化を抑えるために、低融点ガラスからなる。また、ガラス層１１を構成する低融点ガラスとして、第１の波長変換層１０のガラス１０ａを構成する低融点ガラスと同じものを用いてもよい。
　ガラス層１１の下の第１の波長変換層１０が露出して波長変換部材１の光学的特性に悪影響を及ぼすことを考慮して、研磨後の厚さが５μｍ以上となるような設計値でガラス層１１を形成することが好ましい。すなわち、完成した波長変換部材１におけるガラス層１１の厚さは５μｍ以上であることが好ましい。
　ガラス層１１はスクリーン印刷等により形成されるが、形成後、１０μｍ程度の厚さのばらつきが存在することが多い。このため、鏡面化に十分な研磨厚さで研磨し、かつ研磨後の厚さを５μｍ以上とするために、ガラス層１１の研磨前の厚さは１５μｍ以上であることが好ましい。また、ガラス層１１の形成後のＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）による研磨処理の研磨厚さが最大で１０μｍ程度ばらつくことがあるため、ガラス層１１の下の第１の波長変換層１０が露出することをより確実に防ぐために、ガラス層１１の研磨前の厚さは２５μｍ以上であることがより好ましく、３０μｍ以上であることがさらに好ましい。
　反射層１２は、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｇ合金等の金属や、二酸化ケイ素と酸化チタン等からなる多層膜誘電体からなる。
　第２の波長変換層１３は、第１の波長変換層１０の赤色蛍光体１０ｂとは中心波長が異なる蛍光を発する蛍光体、例えば、波長５３５～５９０ｎｍに中心波長を有する蛍光を発する黄色蛍光体を含む、平板状の蛍光体含有部材である。また、第２の波長変換層１３は、例えば、赤色蛍光体１０ｂとは中心波長が異なる蛍光を発する蛍光体の単結晶や、赤色蛍光体１０ｂとは中心波長が異なる蛍光を発する蛍光体を含むセラミックスからなる。
　第２の波長変換層１３に含まれる黄色蛍光体としては、(Ｌｕ，Ｇｄ，Ｙ)３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ（ＹＡＧ系蛍光体）等を用いることができる。
　第２の波長変換層１３が黄色蛍光体を含む場合、例えば、波長４３０～４７０ｎｍに中心波長を有する青色光を励起光として波長変換部材１に照射することにより、第１の波長変換層１０及び第２の波長変換層１３から発せられる蛍光と波長変換部材１に吸収されずに反射される励起光との混合光として白色光を取り出すことができる。
　なお、波長変換部材１においては、第１の波長変換層１０の赤色蛍光体１０ｂの濃度を高くすることができ、また、第２の波長変換層１３を単結晶やセラミックスから形成することができるため、波長変換部材１は優れた放熱特性を有する。このため、波長変換部材１に励起光を照射する光源として、レーザー光源等の光出力の光源を用いることができる。
　第１の波長変換層１０と第２の波長変換層１３が厚いと、熱膨張係数差により第１の波長変換層１０と第２の波長変換層１３との剥がれが発生しやすくなる。このため、例えば、第２の波長変換層１３がＹＡＧ系蛍光体の単結晶からなる場合は、第１の波長変換層とガラス層の厚さの合計を１００μｍ以下とすることが好ましい。また、第２の波長変換層１３の第１の波長変換層１０との接合面に粗面化処理を施して密着性を高める場合は、第１の波長変換層とガラス層の厚さの合計が３００μｍ以下であればよい。
　第２の波長変換層１３と第１の波長変換層１０との密着性を向上させて剥がれを防ぐため、第２の波長変換層１３と第１の波長変換層１０との界面が凹凸形状であることが好ましい。
　また、第２の波長変換層１３と第１の波長変換層１０を剥がれ難くするために、第１の波長変換層１０のガラス１０ａと第２の波長変換層１３の線膨張係数差が第１の波長変換層１０を基準として１ｐｐｍ以下であることが好ましい。
　また、第１の波長変換層１０のガラス１０ａと第２の波長変換層１３の屈折率差が±０．２以下であることが好ましい。励起光がレーザー光で第２の波長変換層１３が単結晶のように透過性が高い材料からなる場合に、第１の波長変換層１０と第２の波長変換層１３の屈折率差が大きいと、第１の波長変換層１０と第２の波長変換層１３の界面でレーザー光が正反射して、レーザー光が散乱されなくなる場合があるためである。
　放熱部材１４は、例えば、Ｃｕ、ＣｕＷ、Ａｌ等の金属や、ＡｌＮ、ＳｉＣ、Ａｌ２Ｏ３等のセラミックスからなる。また、接合層１５は、ＡｕＳｎはんだ、ＳｕＡｇＣｕはんだ、銀ペースト等からなる。
（波長変換部材の製造方法）
　以下に、実施の形態に係る波長変換部材１の製造工程の一例について説明する。　
　図２Ａ～Ｄは、実施の形態に係る波長変換部材１の製造工程を示す垂直断面図である。
　初めに、図２Ａに示されるように、第２の波長変換層１３上に第１の波長変換層１０を形成する。
　まず、第１の波長変換層１０の原料である赤色蛍光体１０ｂ、ガラス１０ａを含む混合液と、第２の波長変換層１３を準備する。
　第１の波長変換層１０の原料である混合液は、ガラス１０ａとしての低融点フリットガラスと、赤色蛍光体１０ｂと、希釈剤ビヒクルとをガラス容器上で混合した後、０．１ｋＰａの圧力下で２分間の真空脱気を施すことにより得られる。
　第２の波長変換層１３は、平板状の蛍光体含有部材としての平板状のＹＡＧ系単結晶の表面を有機洗浄し、さらに表面の汚れを焼き飛ばすための１０００℃での熱処理を施すことにより得られる。
　そして、第１の波長変換層１０の原料である混合液をスクリーン印刷により第２の波長変換層１３上に塗布する。その後、塗布された混合液に０．１ｋＰａの圧力下で２分間の真空脱気を施す。最後に、大気雰囲気で４８０℃の温度下で２０分間の焼成を行い、第１の波長変換層１０を得る。
　第２の波長変換層１３と第１の波長変換層１０との界面を凹凸形状にする場合は、凹凸加工を施した第２の波長変換層１３の面上に第１の波長変換層１０を形成すればよい。
　次に、図２Ｂに示されるように、第１の波長変換層１０の第２の波長変換層１３と反対側の面上にガラス層１１を形成する。
　まず、ガラス層１１の原料である混合液を準備する。この混合液は、低融点フリットガラスと、希釈剤ビヒクルとをガラス容器上で混合した後、０．１ｋＰａの圧力下で２分間の真空脱気を施すことにより得られる。
　そして、ガラス層１１の原料である混合液をスクリーン印刷により第１の波長変換層１０上に塗布する。その後、塗布された混合液に０．１ｋＰａの圧力下で２分間の真空脱気を施す。そして最後に、大気雰囲気で４８０℃の温度下で２０分間の焼成を行い、ガラス層１１を得る。
　ここで、上述のように、ガラス層１１は、１５μｍ以上の厚さに形成されることが好ましく、２５μｍ以上の厚さに形成されることがより好ましく、３０μｍ以上の厚さに形成されることがさらに好ましい。
　次に、図２Ｃに示されるように、ガラス層１１の第１の波長変換層１０と反対側の面にＣＭＰによる研磨処理を施し、鏡面化させる。このとき、第１の波長変換層１０が露出しないように、研磨厚さをガラス層１１の厚さ未満にする。
　また、上述のように、ガラス層１１には１０μｍ程度の厚さのばらつきが存在することが多いため、より確実に鏡面化を行うため、１０μｍ以上の研磨厚さで研磨を行うことが好ましい。
　次に、図２Ｄに示されるように、蒸着法やスパッタリング法により、鏡面化したガラス層１１の第１の波長変換層１０と反対側の面上に反射層１２を形成する。
　その後、反射層１２のガラス層１１と反対側の面上に接合層１５を用いて放熱部材１４を接合し、波長変換部材１を得る。
（実施の形態の効果）
　上記実施の形態によれば、ガラスに蛍光体が封止された波長変換層を備え、その波長変換層における蛍光体の濃度に依らず、優れた光学特性及び光取出効率を有する波長変換部材、及びその製造方法を提供することができる。
　図３Ａは、赤色蛍光体１０ｂの断面積比率が４６％である第１の波長変換層１０の断面のＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）観察像であり図３Ｂは、赤色蛍光体１０ｂの断面積比率が５４％である第１の波長変換層１０の断面のＳＥＭ観察像である。
　図３Ａ、図３Ｂに示される第１の波長変換層１０においては、赤色蛍光体１０ｂのみがガラス１０ａに含まれ、他の無機材は含まれない。また、ガラス１０ａ、赤色蛍光体１０ｂとして、それぞれＢｉ２Ｏ３－ＺｎＯ－Ｂ２Ｏ３、（Ｓｒ，Ｃａ）ＡｌＳｉ（Ｎ，Ｏ）３：Ｅｕが用いられている。
　図３Ａ、図３Ｂによれば、赤色蛍光体１０ｂの断面積比率が４６％である第１の波長変換層１０の断面には空隙はほとんど含まれず、赤色蛍光体１０ｂの断面積比率が５４％である第１の波長変換層１０の断面には多くの空隙２０が含まれる。
　なお、図３Ａに示される第１の波長変換層１０における赤色蛍光体１０ｂの濃度はおよそ２５質量％であり、図３Ｂに示される第１の波長変換層１０における赤色蛍光体１０ｂの濃度はおよそ５０質量％である。
　図４は、研磨された空隙を含む第１の波長変換層１０の表面の光学顕微鏡による観察像である。図４の観察像において観察される黒い点の集合は、第１の波長変換層１０の空隙内に侵入した研磨剤である。
　図４は、空隙を含む第１の波長変換層１０に研磨を施すと、空隙に研磨剤が侵入することを示している。第１の波長変換層１０中に侵入した研磨剤は、第１の波長変換層１０の光学特性を劣化させる。
　図５は、積層された第１の波長変換層１０、研磨前のガラス層１１、及び第２の波長変換層１３の厚さ方向の断面のＳＥＭ観察像である。
　図５に示される第１の波長変換層１０においては、赤色蛍光体１０ｂのみがガラス１０ａに含まれ、他の無機材は含まれない。また、ガラス１０ａ、赤色蛍光体１０ｂとして、それぞれＢｉ２Ｏ３－ＺｎＯ－Ｂ２Ｏ３、（Ｓｒ，Ｃａ）ＡｌＳｉ（Ｎ，Ｏ）３：Ｅｕが用いられている。また、ガラス層１１としてＢｉ２Ｏ３－ＺｎＯ－Ｂ２Ｏ３が用いられ、第２の波長変換層１３としてＹＡＧ系蛍光体が用いられている。
　図５に示される第１の波長変換層１０、ガラス層１１、及び第２の波長変換層１３は、上記実施の形態に示される方法により形成されたものである。
　以上、本発明の実施の形態及び実施例を説明したが、本発明は、上記実施の形態及び実施例に限定されず、発明の主旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。
　また、上記に記載した実施の形態及び実施例は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。また、実施の形態及び実施例の中で説明した特徴の組合せの全てが発明の課題を解決するための手段に必須であるとは限らない点に留意すべきである。
産業上利用可能性
　ガラスに蛍光体が封止された波長変換層を備え、その波長変換層における蛍光体の濃度に依らず、優れた光学特性及び光取出効率を有する波長変換部材、及びその製造方法を提供する。
１…波長変換部材、　１０…第１の波長変換層、　１０ａ…ガラス、　１０ｂ…赤色蛍光体１０ｂ、　１１…ガラス層、　１２…反射層、　１３…第２の波長変換層、　１４…放熱部材、　２０…空隙

Claims (9)

  1. 　平板状のガラス及び前記ガラスに含まれる蛍光体を有する第１の波長変換層と、
    　前記第１の波長変換層の一方の面上に形成されたガラス層と、
    　前記ガラス層の前記第１の波長変換層と反対側の面上に形成された反射層と、
    　を備えた、波長変換部材。
  2. 　前記蛍光体が赤色蛍光体である、
    　請求項１に記載の波長変換部材。
  3. 　前記第１の波長変換層の任意の断面における前記赤色蛍光体の断面積比率が５４％以上である、
    　請求項１又は２に記載の波長変換部材。
  4. 　前記ガラス層の厚さが５μｍ以上である、
    　請求項１～３のいずれか１項に記載の波長変換部材。
  5. 　前記第１の波長変換層の前記ガラス層と反対側の面上に形成された、黄色蛍光体を含む第２の波長変換層を備えた、
    　請求項１～４のいずれか１項に記載の波長変換部材。
  6. 　前記第２の波長変換層がＹＡＧ系蛍光体の単結晶からなり、
    　前記第１の波長変換層の厚さと前記ガラス層の厚さの合計が３００μｍ以下である、
    　請求項５に記載の波長変換部材。
  7. 　前記第２の波長変換層と前記第１の波長変換層との界面が凹凸形状である、
    　請求項５又は６に記載の波長変換部材。
  8. 　赤色蛍光体を含むガラスからなる第１の波長変換層を形成する工程と、
    　前記第１の波長変換層の一方の面上にガラス層を形成する工程と、
    　前記ガラス層の表面に研磨処理を施す工程と、
    　前記研磨処理が施された前記ガラス層の表面上に、反射層を形成する工程と、
    　を含む、波長変換部材の製造方法。
  9. 　前記第１の波長変換層の任意の断面における前記赤色蛍光体の断面積比率が５４％以上である、
    　請求項８に記載の波長変換部材の製造方法。
PCT/JP2018/024477 2017-07-06 2018-06-28 波長変換部材及びその製造方法 WO2019009165A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-132882 2017-07-06
JP2017132882A JP2019015848A (ja) 2017-07-06 2017-07-06 波長変換部材及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019009165A1 true WO2019009165A1 (ja) 2019-01-10

Family

ID=64950988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/024477 WO2019009165A1 (ja) 2017-07-06 2018-06-28 波長変換部材及びその製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2019015848A (ja)
WO (1) WO2019009165A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021093564A1 (zh) * 2019-11-13 2021-05-20 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 红光发光模块及其制备方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020054684A1 (en) 2018-09-11 2020-03-19 Canon Kabushiki Kaisha Lens apparatus, image pickup apparatus, processing apparatus, and camera apparatus
KR102665901B1 (ko) * 2020-06-08 2024-05-13 니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤 형광판, 파장 변환 부재, 및, 광원 장치

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012226986A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Stanley Electric Co Ltd 光源装置および照明装置
JP2015050124A (ja) * 2013-09-03 2015-03-16 スタンレー電気株式会社 発光装置
JP2015138136A (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 日本電気硝子株式会社 プロジェクター用蛍光ホイール及びプロジェクター用発光デバイス
JP2016119494A (ja) * 2016-03-28 2016-06-30 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP2016170419A (ja) * 2012-12-28 2016-09-23 信越化学工業株式会社 発光装置
JP2016170349A (ja) * 2015-03-13 2016-09-23 セイコーエプソン株式会社 波長変換素子、光源装置、プロジェクター及び波長変換素子の製造方法
JP2016173941A (ja) * 2015-03-17 2016-09-29 セイコーエプソン株式会社 蛍光部材、光源装置及びプロジェクター

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012226986A (ja) * 2011-04-20 2012-11-15 Stanley Electric Co Ltd 光源装置および照明装置
JP2016170419A (ja) * 2012-12-28 2016-09-23 信越化学工業株式会社 発光装置
JP2015050124A (ja) * 2013-09-03 2015-03-16 スタンレー電気株式会社 発光装置
JP2015138136A (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 日本電気硝子株式会社 プロジェクター用蛍光ホイール及びプロジェクター用発光デバイス
JP2016170349A (ja) * 2015-03-13 2016-09-23 セイコーエプソン株式会社 波長変換素子、光源装置、プロジェクター及び波長変換素子の製造方法
JP2016173941A (ja) * 2015-03-17 2016-09-29 セイコーエプソン株式会社 蛍光部材、光源装置及びプロジェクター
JP2016119494A (ja) * 2016-03-28 2016-06-30 日亜化学工業株式会社 発光装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021093564A1 (zh) * 2019-11-13 2021-05-20 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 红光发光模块及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019015848A (ja) 2019-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6253392B2 (ja) 発光装置及びそれを用いたプロジェクター用光源
TWI521746B (zh) 發光裝置及其製造方法
JP6499381B2 (ja) 蛍光体素子および照明装置
JPWO2018155671A1 (ja) 波長変換部材
WO2019009165A1 (ja) 波長変換部材及びその製造方法
JPWO2017179521A1 (ja) 波長変換部材
US20210184425A1 (en) Phosphor element and illumination device
WO2018016357A1 (ja) 波長変換部材及びそれを用いた発光デバイス
US10442987B2 (en) Fluorescent member, optical component, and light emitting device
JP2019045844A (ja) 蛍光部材、光学部品、及び発光装置
TW201920608A (zh) 光波長轉換裝置及光複合裝置
WO2018025672A1 (ja) 波長変換部材及びその製造方法
CN111699419B (zh) 光学部件及照明装置
WO2019021846A1 (ja) 波長変換部材及び発光装置
JP2018113117A (ja) 蛍光光源装置およびその製造方法
US20220278506A1 (en) Phosphor element, phosphor device, and illumination apparatus
JP2018163828A (ja) 蛍光体素子および照明装置
US11016233B2 (en) Optical waveguide structure, phosphor element, and method for manufacturing optical waveguide structure
US11674652B2 (en) Phosphor element, phosphor device, and illumination device
WO2023167306A1 (ja) コンポジットセラミックス、蛍光体素子、レーザー照明装置、およびコンポジットセラミックスの製造方法
JP7343749B2 (ja) 発光装置とその製造方法
JP2019003090A (ja) 蛍光体素子の製造方法
JP2022107298A (ja) 波長変換部材、プロジェクタ
CN113568262A (zh) 波长转换装置及其制造方法
KR20190141610A (ko) 발광 장치와 그 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18828173

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18828173

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1