WO2018003533A1 - 印画装置及び画像補正方法 - Google Patents

Abstract

印画装置（１）は、ドットを印画する複数の印画素子（１８１）を有する印画部（１４）と、入力画像データに基づいて、印画部（１４）を制御する制御部（１０）とを備える。制御部（１０）は、一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、印画素子（１８１）のドットの印画位置の印画特性とに基づく補正前印画濃度を取得する。制御部（１０）は、補正前印画濃度を平均化した目標濃度を算出し、目標濃度が補正前印画濃度以上となるように目標濃度をオフセットする。制御部（１４）は、補正前印画濃度に対する目標濃度の比に基づいて、印画素子（１８１）の補正ゲインを算出し、補正ゲインと入力画像データとに基づいて印画部（１４）を制御する。

Description

印画装置及び画像補正方法 関連出願へのクロスリファレンス

　本出願は、日本国特許出願２０１６－１２７４３６号（２０１６年６月２８日出願）の優先権を主張するものであり、当該出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。

　本開示は、印画装置及び画像補正方法に関する。

　印画素子を備える印画装置において、テストパターン印画結果に基づいて、印画濃度が一様になるように、各印画素子が印画するドットのサイズを補正する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開平４－１８３６３号公報

　本開示の一実施形態に係る印画装置は、ドットを印画する複数の印画素子を有する印画部を備える。前記印画装置は、入力画像データに基づいて、前記印画部を制御する制御部を備える。前記制御部は、一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、前記印画素子のドットの印画位置の印画特性とに基づく補正前印画濃度を取得する。前記制御部は、前記補正前印画濃度を平均化した目標濃度を算出する。前記制御部は、前記目標濃度が前記補正前印画濃度以上となるように前記目標濃度をオフセットする。前記制御部は、前記補正前印画濃度に対する前記目標濃度の比に基づいて、前記印画素子の補正ゲインを算出する。前記制御部は、前記補正ゲインと前記入力画像データとに基づいて前記印画部を制御する。

　本開示の一実施形態に係る画像補正方法は、印画装置の画像補正方法である。前記印画装置は、ドットを印画する複数の印画素子を有する印画部を備える。前記印画装置は、入力画像データに基づいて、前記印画部を制御する制御部を備える。前記画像補正方法は、前記制御部が、一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、前記印画素子のドットの印画位置の印画特性とに基づく補正前印画濃度を取得するステップを含む。前記画像補正方法は、前記制御部が、前記補正前印画濃度を平均化した目標濃度を算出するステップを含む。前記画像補正方法は、前記制御部が、前記目標濃度が前記補正前印画濃度以上となるように前記目標濃度をオフセットするステップを含む。前記画像補正方法は、前記制御部が、前記補正前印画濃度に対する前記目標濃度の比に基づいて、前記印画素子の補正ゲインを算出するステップを含む。前記画像補正方法は、前記制御部が、前記補正ゲインと前記入力画像データとに基づいて前記印画部を制御するステップを含む。

実施形態１に係る印画装置の概略構成例を示す機能ブロック図である。 印画ヘッドの構成例を示す図である。 印画ヘッドの構成例を示す図である。 印画媒体に格子状に印画されたドットパターンの一例を示す図である。 図３のドットパターンの走査方向平均印画濃度を示すグラフである。 画像データの変換の一例を示すブロック図である。 量子化器の入力値と出力値との関係の一例を示すグラフである。 拡散マトリクスの一例を示す図である。 図７に対応する拡散フィルタのフィルタ係数を示すグラフである。 印画素子が一様な印画特性を有する場合に印画されたドットパターンの一例を示す図である。 図９Ａのドットパターンの印画濃度分布を示すグラフである。 印画素子がばらついた印画特性を有する場合に印画されたドットパターンの一例を示す図である。 図１０Ａのドットパターンの印画濃度分布を示すグラフである。 実施形態１に係る印画装置の目標濃度の設定例を示すグラフである。 補正ゲインの設定例を示すグラフである。 比較例に係る装置の目標濃度の設定例を示すグラフである。 実施形態１に係る画像補正方法の例を示すフローチャートである。 補正前印画濃度の波形に対するＬＰＦの適用例を示すグラフである。 補正ゲインの空間分布を示す波形に対するＬＰＦの適用例を示すグラフである。 ＬＰＦのフィルタ係数の一例を示すグラフである。

　印画されるドットのサイズを印画濃度が一様になるように補正すると、印画濃度が相対的に高い印画素子により印画されるドットは、サイズが小さくなるように補正されることがある。印画されるドットのサイズが小さくなると、印画結果の粒状感が増大することがある。本実施形態は、印画の粒状感を改善する。

（実施形態１）
　図１に示されるように、本実施形態に係る印画装置１は、制御部１０と、記憶部１２と、印画部１４とを備える。印画装置１は、印画部１４によって印画媒体２０に印画する。印画装置１は、読取装置３０に、印画媒体２０における印画結果を読み取らせる。印画装置１は、読取装置３０から読取結果を取得する。

　制御部１０は、記憶部１２又は外部装置から、入力画像データを取得する。制御部１０は、外部装置から取得した入力画像データを記憶部１２に格納してよい。制御部１０は、入力画像データに基づいて、印画部１４に対して、印画媒体２０に印画させるための制御情報を出力する。制御部１０は、アプリケーションソフトウェアを実行可能なプロセッサまたはマイクロコンピュータ等により構成することができる。

　記憶部１２は、半導体メモリ等で構成することができる。記憶部１２には、各種情報、又は印画装置１を動作させるためのプログラム等が格納される。記憶部１２は、制御部１０のワークメモリとして機能してもよい。

　印画部１４は、印画媒体搬送部１６と、印画ヘッド１８とを備える。印画部１４は、制御部１０からの制御情報に基づいて、印画媒体搬送部１６と印画ヘッド１８とを制御し、印画媒体２０に印画する。

　印画媒体搬送部１６は、印画媒体２０を印画装置１の内部に取り込み、制御部１０からの制御情報に応じて印画媒体２０の位置を制御する。印画媒体搬送部１６は、印画媒体２０を所定の方向に沿って搬送することができるように構成されうる。所定の方向は、１つの方向であってよいし、２つ以上の方向であってよい。

　印画ヘッド１８は、制御部１０からの制御情報に基づいて、印画媒体２０に対して印画する。印画ヘッド１８は、印画素子１８１を備える。印画ヘッド１８は、印画素子１８１を制御して、印画媒体２０に対してドットを印画する。ドットの形状は、例えば円であるが、これに限られず、他の形状であってよい。印画素子１８１は、例えば、印画媒体２０に対してインクを吐出して印画する。印画素子１８１は、例えば、印画媒体２０に対して熱によってインクを転写して印画する。印画素子１８１は、その他の種々の方法により、印画媒体２０に対して印画してよい。印画素子１８１は、印画媒体２０を変質させることにより印画媒体２０に対して印画してよい。

　印画素子１８１は、印画ヘッド１８の長手方向に沿って配列される。印画素子１８１は、例えば、印画媒体２０の幅と同じ範囲にわたって配列される。印画素子１８１は、印画媒体２０の幅よりも長い範囲にわたって配列されてよい。印画素子１８１は、印画媒体２０の幅よりも短い範囲に配列されてよい。

　印画素子１８１は、図２Ａに示されるように、一列に配列されてよい。図２Ａにおいて、印画素子１８１ａ～１８１ｅは一列に配列される。以下、印画素子１８１ａ～１８１ｅを区別しない場合、印画素子１８１ａ～１８１ｅは、単に印画素子１８１と総称される。印画素子１８１の数は、５個に限られず、４個以下であってよいし、６個以上であってよい。

　印画素子１８１は、図２Ｂに示されるように、複数行にまたがって、各行において所定距離ずつずらして配列されてよい。印画装置１は、印画ヘッド１８と印画媒体２０との相対位置を印画ヘッド１８の短手方向にずらしながら、印画素子１８１ａ及び１８１ｄの組と、印画素子１８１ｂ及び１８１ｅの組と、印画素子１８１ｃとを順次動作させる。このようにすることにより、印画素子１８１ａ～１８１ｅに対応する５つのドットが、印画素子１８１の配列ピッチより狭いピッチで一列に印画されうる。

　印画部１４は、印画ヘッド１８を印画媒体２０に対して走査させつつ、印画媒体２０に順次印画する。印画部１４は、印画媒体２０に印画する際、印画ヘッド１８の位置を固定して、印画媒体２０のみを移動させてよい。印画部１４は、印画媒体２０に印画する際、印画媒体２０の位置を固定して、印画ヘッド１８を移動させてよい。または、印画部１４は、印画媒体２０に印画する際、印画ヘッド１８と印画媒体２０とを共に移動させてよい。

　印画媒体２０は、印画ヘッド１８の印画方式に応じて適宜選択されうる。印画媒体２０は、例えば紙で構成されるが、これに限られず、樹脂等の他の材質、又は複数の材質で構成されてよい。印画媒体２０は、ロール状又はシート状であってよいし、他の形状であってよい。印画媒体２０は、矩形であってよいし、円又は楕円等のその他の形状であってよい。

　読取装置３０は、読み取り対象物に光を照射する光源と、読み取り対象物からの反射光又は散乱光を受光するセンサとを備える。読取装置３０は、印画媒体２０から印画結果を読み取ることができる。読取装置３０は、読取結果を印画装置１に出力する。読取結果は、印画結果の濃度分布に係る情報を含む。

　印画素子１８１は、印画特性を有する。印画素子１８１の印画特性は、印画素子１８１によって印画されるドットにより表現可能な濃度の階調に係るデータを含む。濃度の階調は、例えばドットの大きさにより定められる。濃度の階調は、ドットの印画配列により定められてよい。

　印画特性は、制御部１０から出力される制御情報に基づいて予測される印画結果と、実際の印画結果との差異を示す補正データを含む。補正データは、ドットの印画位置を有してよい。ドットの印画位置の補正データは、制御情報から予測されるドットの印画位置と比較して、どの程度ずれた位置にドットが印画されるかを規定する。補正データは、印画されるドットのサイズを有してよい。ドットサイズの補正データは、制御情報から予測されるドットサイズと比較して、どの程度サイズの異なるドットが印画されるかを規定する。

　補正データは、印画媒体２０に印画されたテストパターンから取得されうる。印画装置１は、入力画像データとしてテストパターンデータを取得し、印画媒体２０にテストパターンを印画する。印画装置１は、読取装置３０に、印画されたテストパターンを読み取らせ、テストパターンの読取結果を取得する。印画装置１は、テストパターンの読取結果を解析して、各印画素子１８１の補正データを取得する。各印画素子１８１の補正データは、テストパターンデータの印画結果から取得される、各印画素子１８１の検査データであるともいえる。

　テストパターンは、各印画素子１８１の補正データを取得するための印画パターンを含む。例えば、テストパターンは、各印画素子１８１のドットの印画位置のずれを測定できるパターンを含んでよい。ドットの印画位置のずれを測定できるパターンは、例えば、座標を示すパターンを含んでよい。印画装置１は、ドットの印画位置のずれを測定できるパターンの読取結果から、各印画素子１８１で印画されるドットの位置と、制御情報から予測される位置との差異を算出しうる。ドットの印画位置は、印画されたドットパターンの濃度分布から取得されてよい。ドットの印画位置は、印画位置を測定可能な目盛りを有するパターンの印画結果から取得されてよい。ドットの印画位置の取得方法としては、他の種々の方法が用いられうる。

　テストパターンは、各印画素子１８１のドットのサイズを測定できるパターンを含んでよい。ドットのサイズを測定できるパターンは、例えば、目盛りを示すパターンを含んでよい。印画装置１は、ドットのサイズを測定できるパターンの読取結果から、各印画素子１８１で印画されるドットのサイズと、制御情報から予測されるサイズとの差異を算出しうる。ドットサイズは、印画されたドットパターンの濃度を測定することにより取得されてよい。ドットサイズは、単独で印画されたドットを顕微鏡等で直接測定することにより取得されてよい。ドットサイズの取得方法としては、他の種々の方法が用いられうる。

　印画装置１は、印画媒体２０及び読取装置３０の少なくとも一方を備える構成とされてよい。この場合、印画装置１は、テストパターンの印画と印画結果の読み取りとを内部で実行でき、外部装置を用いずに、印画素子１８１の補正データを取得しうる。

　印画装置１が取得する入力画像データは、例えばビットマップ形式であるが、その他の形式であってよい。本実施形態に係る印画装置１は、ビットマップ形式等の格子状に配列された画素からなる入力画像データを取得するものとする。本実施形態に係る印画装置１は、例えば、入力画像データに基づいて、ドットが印画媒体２０に格子状に配列されるように印画する。印画装置１により印画されるドットの配列は、格子状の配列に限られず、ランダム性を有する配列であってよい。印画装置１は、印画媒体２０にドットの集合を印画することにより、入力画像データに対応する印画結果を形成する。

　図３に示されるように、ドットは、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に延在する一点鎖線により構成される格子の交点に印画されてよい。Ｘ軸方向及びＹ軸方向はそれぞれ、Ｘ方向及びＹ方向ともいう。

　図３に例示されるドットパターンは、人間の目で見たときドットのサイズ及び配列間隔に応じて異なるパターンに見えることがある。例えば、ドットのサイズに対して配列間隔が広い場合に、各ドットが判別可能に見えることがある。ドットのサイズに対して配列間隔が狭い場合に、各ドットが判別可能ではなく、一様な濃度のベタ塗りパターンに見えることがある。ドットのサイズ及び配列間隔からは、ドットパターンの空間周波数が定められる。言い換えれば、ドットパターンは、人間の目で見たとき空間周波数に応じて異なるパターンに見えることがある。

　人間の目でのドットパターンの見え方は、人間の目のコントラスト感度特性によって評価可能である。コントラスト感度特性は、ＣＳＦ（Contrast Sensitivity Function）特性ともいう。ＣＳＦ特性は、ドットパターンの空間周波数と、人間の目のコントラスト感度との関係を示す。

　ドットパターンの空間周波数が人間の目のコントラスト感度が高くなる周波数帯にある場合、ドットパターンによる印画濃度の変動が判別されやすい。この場合、ドットが個別に判別可能なように見えやすくなる。このような見え方は、粒状感があるとも表現される。

　ドットパターンの空間周波数が人間の目のコントラスト感度が低い周波数帯にある場合、ドットパターンによる印画濃度の変動が判別されにくい。この場合、ドットパターンは、ドットが個別に判別可能ではなく、一様な濃度のベタ塗りパターンに見えやすい。このような見え方は、粒状感がない又は粒状感が少ないとも表される。一般的には、ドットパターンの空間周波数が所定の周波数帯に含まれる場合、ドットパターンによる印画濃度の変動は判別されやすい。一方で、ドットパターンの空間周波数が所定の周波数帯に含まれない場合、つまり、空間周波数が所定の周波数帯より低い周波数帯又は所定の周波数帯より高い周波数帯に含まれる場合、ドットパターンによる印画濃度の変動は判別されにくい。

　ドットパターンの空間周波数は、例えば図３のＸ方向及びＹ方向それぞれについて二次元的に算出されてよい。ドットパターンの空間周波数は、ドットパターン内のある一列のドットについて一次元的に算出されてよい。本実施形態においては、図３のＹ方向に配列されるドットの平均印画濃度から、ドットパターンのＸ方向の配列に対する空間周波数を算出する。

　図４に示されるように、図３のドットパターンについて、Ｙ方向の平均印画濃度は、Ｘ方向の位置に応じて変化する。図４において、横軸はＸ方向の位置を示す。縦軸はＹ方向の平均印画濃度を示す。印画濃度は、ドットの配列に対応した分布を有する。ドットの配列の中心をＹ方向に通過する線に沿って算出される平均印画濃度は、図４のグラフにおいて極大値を示す。ドットの配列の中心をＹ方向に通過する線は、図３において一点鎖線で示される。一方で、ドットが印画されていない部分をＹ方向に通過する線に沿って算出される平均印画濃度は、図４のグラフにおいて極小値を示す。ドットが印画されていない部分をＹ方向に通過する線は、図３で図示されていない。図３によれば、Ｘ方向の所定の幅にわたって、ドットが印画されていない部分が存在する。ドットが印画されていない部分の平均印画濃度は、所定の幅にわたって同一の極小値となりうる。平均印画濃度が所定の幅にわたって同一の極小値となる場合、平均印画濃度の極小値の近傍のグラフは、一定値を示す直線として示されうる。読取装置３０で印画結果を読み取る際の分解能によっては、図４に示されるように、平均印画濃度の極小値の近傍のグラフは、曲線として示される。

　図４に示される平均印画濃度の波形を周波数スペクトル解析することにより、図３のドットパターンのＸ方向の空間周波数が算出される。算出された空間周波数が、ＣＳＦ特性において、人間の目にとってコントラスト感度が高い周波数帯に含まれる場合、人間の目で見たときに図４の平均印画濃度の極大値に対応するドットと極小値に対応するドットとが判別可能である。つまり、図３のドットパターンは、各ドットが判別可能に見える。算出された空間周波数が、ＣＳＦ特性において、人間の目にとってコントラスト感度が低い周波数帯に含まれる場合、人間の目にとって図４の平均印画濃度の極大値に対応するドットと極小値に対応するドットとが判別可能ではなくなる。この場合、ドットパターンは、図４に破線で示される見かけの濃度のように、一様な印画濃度のベタ塗りパターンが印画されているように見える。

　ドットパターンの空間周波数を定めるドットのサイズ及び配置間隔は、印画装置１によって所定の範囲で変更されてよい。ドットのサイズは、印画素子１８１から吐出されるインク量等を制御することによって変更されうる。ドットの配置間隔は、印画ヘッド１８に設けられる印画素子１８１の配置間隔によって決定されうる。ドットの配置間隔は、印画ヘッド１８と印画媒体２０との相対位置を印画素子１８１の配列方向に制御することによっても変更されうる。

　印画装置１は、入力画像データに対する印画結果の再現度を高めるために、印画素子１８１の印画特性に基づいて、入力画像データを出力画像データに変換する。印画素子１８１によって印画されるドットで表現可能な階調数が入力画像データの階調数よりも少ない場合、印画装置１は、階調数を少なくする減色により出力画像データを生成する。減色は、例えば、誤差拡散法等が用いられてよい。出力画像データを生成する際の処理は、減色に限られない。印画装置１は、例えば、印画速度を速くするような出力画像データを生成してよい。印画速度は、単位時間当たりに印画されるドットの数ともいえる。印画装置１は、ユーザによる画像変換の設定、例えば、明度若しくは彩度等の設定、又は、画像の鮮鋭度の設定等に応じて、出力画像データを生成してよい。制御部１０は、生成した出力画像データを記憶部１２に格納してよい。

　減色の対象となる画像データがモノクロ画像である場合、黒の濃度の階調数が減少されてよい。減色の対象となる画像データがカラー画像である場合、例えば、シアン、マゼンタ、イエロー等の色を含む印画の原色それぞれの濃度の階調数が減少されてよい。

　図５に示されるように、画像データを変換するブロックは、乗算器５１と、第１演算器５２と、量子化器５３と、第２演算器５４と、フィルタ５５とを備える。画像データを変換するブロックは、変換ブロックともいう。第１演算器５２及び第２演算器５４はそれぞれ、例えば加算器で構成されてよい。変換ブロックの各構成部の機能は、制御部１０で実行されうる。変換ブロックの各構成部は、個別の構成要素として実装されてよい。

　制御部１０は、変換ブロックで入力画像データの画素を１画素ずつ順次、出力画像データの画素に変換する。入力画像データの１画素分は、ｕとして示される。以下、入力画像データの１画素分のことを、入力画素データともいう。出力画像データの１画素分は、ｙとして示される。以下、出力画像データの１画素分のことを、出力画素データともいう。制御部１０は、入力画像データの左上隅の画素から順次右へ向かって画素を変換するものとする。右端の画素まで変換された後、制御部１０は、１つ下の行について左から右へ向かって画素を変換する。制御部１０は、右下隅の画素まで順次、画素を変換する。制御部１０は、他の順番で画素を変換してよい。

　乗算器５１は、入力画素データに所定の係数を乗じて出力する。所定の係数は、ａとして表される。所定の係数は、補正ゲインともいい、正の実数である。補正ゲインは、後述する濃度分布補正により定められる。

　第１演算器５２は、乗算器５１の出力と、フィルタ５５の出力との差を出力する。フィルタ５５の出力は、乗算器５１に入力された入力画素データより前に処理された、他の入力画素データに対する誤差拡散法等の減色によって発生した量子化誤差をフィードバックするデータである。第１演算器５２の出力は、他の入力画素データで発生した量子化誤差を含むデータとなる。第１演算器５２の出力は、φとして表される。

　量子化器５３は、第１演算器５２の出力（φ）を入力値として、出力（φ）を量子化した値を出力値として出力する。言い換えると、量子化器５３は、出力（φ）に量子化誤差（ｎ）を加えて、出力画素データとして出力する。

　量子化器５３は、例えば図６のグラフに示される入力値と出力値との関係に基づき、入力値を出力値に変換する。図６において、入力値と出力値との関係は、太実線で示されている。量子化器５３の、０以上且つ４２未満の入力値に対する出力値は例えば０である。量子化器５３の、４２以上且つ１２７未満の入力値に対する出力値は例えば８５である。量子化器５３の、１２７以上且つ２１２未満の入力値に対する出力値は例えば１７０である。量子化器５３の、２１２以上且つ２５５以下の入力値に対する出力値は例えば２５５である。

　図６に例示した関係によれば、例えば量子化器５３への入力値が１００である場合、量子化器５３の出力値は８５である。この場合、量子化誤差は、－１５である。

　第２演算器５４は、量子化器５３の出力（ｙ）と、第１演算器５２の出力（φ）との差を出力する。第２演算器５４の出力は、φを量子化した際に発生した量子化誤差に対応する。

　フィルタ５５は、φを量子化した際に発生した量子化誤差を他の画素に拡散させる。フィルタ５５を含む回路は、ある１画素に係る変換結果を他の画素の変換にフィードバックする。

　フィルタ５５は、例えば拡散マトリクスを用いて、量子化誤差を発生させた画素の周囲の画素に量子化誤差を拡散させる。図７に示されるように、拡散マトリクスは、複数のセルを有してよい。拡散マトリクスのセルの配列は、画像データの画素の配列に対応する。図７の拡散マトリクスにおいて、＊印で示されるセルは、量子化誤差の拡散元となる画素に対応する拡散元セル６０である。量子化誤差の拡散元となる画素は、拡散元画素ともいう。拡散元セル６０の右側に隣接するセルは、拡散元画素の右側に隣接する画素に対応する。拡散マトリクスを構成するセルの数は、図７に示される３行×５列に限られない。セルの行数は、２行以下であってよいし、４行以上であってよい。セルの列数は、４列以下であってよいし、６列以上であってよい。セルの配列は、行列に限られず、例えば階段状又は逆ピラミッド形状等の任意の配列であってよい。

　拡散マトリクスのセルに示される数値は、誤差を拡散させる際の重み付けデータである。図７の拡散マトリクスにおいて、各セルに重み付けデータが付与されている。拡散元セル６０の左側にある既に変換が完了したセルには、重み付けデータが付与されていない。フィルタ５５は、各セルに付与された重み付けデータに比例させるように、各セルに拡散元画素の量子化誤差を割り当てる。つまり、各セルに付与された重み付けデータと、重み付けデータの合計値との比によって、各セルに拡散元画素の量子化誤差が割り当てられる。

　図７の例では、１２個の重み付けデータの合計値は、４７である。拡散元セル６０の右側に隣接するセルは、重み付けデータとして７が付与されている。拡散元セル６０の右側に隣接するセルは、第１拡散先セル６１ともいう。フィルタ５５は、第１拡散先セル６１に、拡散元画素の量子化誤差の７／４７を割り当てる。拡散元セル６０から右側に２つ、下側に２つ離れたセルは、重み付けデータとして１が付与されている。拡散元セル６０から右側に２つ、下側に２つ離れたセルは、第２拡散先セル６２ともいう。フィルタ５５は、第２拡散先セル６２に量子化誤差の１／４７を割り当てる。フィルタ５５は、他のセルにも同様にして量子化誤差を割り当てる。このようにした場合、拡散マトリクスの各セルに割り当てられる量子化誤差の合計は、拡散元画素の量子化誤差に等しい。

　対応する画素が存在しないセルがある場合、そのセルに割り当てられる量子化誤差は、入力画素データの変換にフィードバックされなくてよい。対応する画素が存在しないセルがある場合は、例えば、拡散元画素が最下段の画素である場合等である。

　対応する画素が存在しないセルがある場合、フィルタ５５は、当該セルに量子化誤差を割り当てないようにしてよい。この場合、他のセルに割り当てられる量子化誤差が相対的に大きくなりうる。

　フィルタ５５の処理において、複数の拡散元画素から各画素に対して量子化誤差が割り当てられる。フィルタ５５は、複数の拡散元画素から各画素に割り当てられる量子化誤差を、各画素で積算して格納する。フィルタ５５は、各画素に割り当てられる量子化誤差を記憶部１２に格納してよい。フィルタ５５は、変換の対象となるために第１演算器５２に入力される画素に割り当てられている量子化誤差を、第１演算器５２に対して出力する。

　フィルタ５５は、画像データに拡散フィルタを適用することによっても実現される。図７の拡散マトリクスは、図８に示されるフィルタ特性を有する拡散フィルタに対応づけられる。図８において、横軸及び縦軸はそれぞれ、変換で取り扱われる画素の左右方向の位置、及び、各位置に対応するフィルタ係数を示す。横軸の３番は、拡散マトリクスにおいて拡散元セル６０を含む第３列に対応する。１番は、拡散マトリクスの最も左側に位置する第１列に対応する。同様に、２番、４番及び５番はそれぞれ、拡散マトリクスの第２列、第４列及び第５列に対応する。

　拡散元画素に係る量子化誤差は、図８に示されるフィルタ特性に応じて、第１列～第５列に拡散される。図８によれば、拡散元画素に係る量子化誤差は、第３列よりも第４列の方に大きく拡散される。つまり、量子化誤差の拡散先は、右側の列にシフトする。第１列又は第５列に拡散される量子化誤差は比較的小さい。

　量子化誤差の周囲の画素への拡散は、画像データの空間周波数スペクトルの高周波成分のカットともいえる。つまり、拡散フィルタは、低周波成分を通過させる周波数特性を有する。低周波成分を通過させる周波数特性は、ローパスフィルタの特性ともいえる。ローパスフィルタは、ＬＰＦ（Low Pass Filter）ともいう。拡散フィルタで処理された画像データは、ＣＳＦ特性におけるコントラスト感度が低い周波数帯に含まれる周波数成分で構成される。このようにすることにより、減色された画像データであっても、印画濃度の変動が人間の目で見たときに目立ちにくい。

　印画装置１は、印画ヘッド１８の複数の印画素子１８１を並列に駆動できる。例えば印画装置１は、一列に配列された５個の印画素子１８１（図２Ａ参照）を並列に駆動して、５個のドットを同時に印画できる。印画装置１は、印画ヘッド１８を印画媒体２０に対して走査させつつ、印画素子１８１を駆動することにより、ドットの列を順次印画できる。例えば、印画素子１８１を３回駆動した場合、図９Ａに例示されるような３×５個のドットパターンが印画される。このようにすることで、印画装置１による印画速度が大きくされうる。

　図９Ａにおいて、ドットが５個並んでいる方向がＸ方向であるものとする。ドットが３個並んでいる方向がＹ方向であるものとする。Ｘ方向は、印画ヘッド１８の長手方向に対応する。つまり、Ｘ方向は、印画素子１８１の配列方向に対応する。Ｙ方向は、印画ヘッド１８を印画媒体２０に対して走査させる方向に対応する。つまり、Ｙ方向は、印画ヘッド１８の走査方向に対応する。

　本実施形態において、ドットは、Ｙ方向に沿って下から上へ順次印画される。ドットは、上から下へ順次印画されてよい。ドットパターンの行と列とは互いに入れ替わってよい。ドットの印画順序は、上述の例に限られず、種々の順序とされうる。印画素子１８１の数は、５個に限られず、４個以下であってよいし、６個以上であってよい。

　図９Ａにおいて、走査方向を示す走査ライン１８２ａ～１８２ｅがＹ方向の一点鎖線で示される。走査ライン１８２ａ～１８２ｅは、走査ライン１８２ともいう。走査ライン１８２ａに沿って印画されているドットは、印画素子１８１ａにより印画されたドットである。走査ライン１８２ｂ～１８２ｅに沿って印画されているドットはそれぞれ、印画素子１８１ｂ～１８１ｅにより印画されたドットである。

　図９Ａにおいて、印画ライン１８３ａ～１８３ｃが破線で示される。印画ライン１８３ａ～１８３ｃは、印画ライン１８３ともいう。印画ライン１８３は、印画ヘッド１８と印画媒体２０との位置を合わせる目標である。印画装置１は、走査ライン１８２と印画ライン１８３との交点にドットを印画する。

　図９Ａに例示されるドットは、走査ライン１８２と印画ライン１８３との交点からずれずに印画され、一様なサイズを有する。このようなドットパターンは、一様な入力画像データに基づいて、一様な印画特性を有する印画素子１８１によって印画されうる。

　図９Ｂは、図９Ａのドットパターンについて、印画ヘッド１８の走査方向（Ｙ方向）に沿った経路で算出した走査方向平均印画濃度をプロットしたグラフである。横軸は、Ｘ方向の位置を示す。縦軸は、印画濃度を示す。横軸のＡ点～Ｅ点は、走査ライン１８２ａ～１８２ｅそれぞれのＸ方向の位置に対応する。例えば、Ａ点の走査方向平均印画濃度は、走査ライン１８２ａを経路として算出されたものである。

　図９Ｂの波形を周波数スペクトル解析することにより、図９ＡのドットパターンのＸ方向の空間周波数が算出される。図９ＡのドットパターンのＸ方向の空間周波数スペクトルは、例えば、主に走査ライン１８２の間隔を周期として定められる周波数成分からなり、全体としてＣＳＦ特性における人間の目のコントラスト感度が低くなる周波数帯に含まれる。この場合、図９Ａのドットパターンは、Ｘ方向について、図９Ｂにおいて破線で示される見かけの濃度のように、一様な濃度のベタ塗りパターンに見える。Ｙ方向については、印画ライン１８３の間隔を周期として定められる周波数が人間の目のコントラスト感度が低くなる周波数帯に含まれる場合、一様な濃度のベタ塗りパターンに見える。

　各印画素子１８１の印画特性に含まれる補正データは、種々の原因によりばらつくことがある。例えば、印画素子１８１は、印画素子１８１の配列位置の誤差に起因して、ドットの印画位置にばらつきを発生させることがある。インクの液滴量のばらつきに起因するドットのサイズのばらつきにより、印画濃度がばらつきを有することもある。補正データのばらつきの発生原因は、上述のものに限られない。

　各印画素子１８１の補正データにばらつきがある場合、印画結果にばらつきが含まれることがある。一様な入力画像データに基づいて印画される場合であっても、例えば、ドットの印画位置に係る補正データが各印画素子１８１でばらつく場合、図１０Ａに例示されるように、印画されるドットの印画位置が一様ではなくなる。図１０Ａにおけるドットの印画位置は、走査ライン１８２ｂに対して左側にずれて走査ライン１８２ａに近づき、走査ライン１８２ｄに対して右側にずれて走査ライン１８２ｅに近づく。つまり、図１０Ａに例示される印画結果は、走査方向に沿った筋状の欠陥を有するように見える。

　ドットの印画位置に係る補正データのばらつきは、例えば、走査ライン１８２で示される走査方向に沿った経路で算出した走査方向平均印画濃度を用いて評価される。図１０Ｂは、図１０Ａに例示されるドットパターンについて、印画ヘッド１８の走査方向（Ｙ方向）に沿った経路で算出した走査方向平均印画濃度をプロットしたグラフである。横軸及び縦軸は、図９Ｂと同様である。

　図１０Ｂの波形を周波数スペクトル解析することによって、図１０ＡのドットパターンのＸ方向の空間周波数が算出される。図１０ＡのドットパターンのＸ方向の空間周波数スペクトルは、走査ライン１８２の間隔を周期として定められる周波数成分と、各走査ライン１８２に印画されたドットの印画位置のばらつきに起因する変動で定められる周波数成分とを含む。図９Ｂと同様に、走査ライン１８２の間隔を周期として定められる周波数成分は、ＣＳＦ特性における人間の目のコントラスト感度が低くなる周波数帯に含まれる。一方で、ドットの印画位置のばらつきに起因する変動で定められる周波数成分は、コントラスト感度が高くなる周波数帯に含まれるものとする。この場合、図１０Ａのドットパターンは、Ｘ方向について、図１０Ｂにおいて破線で示される見かけの濃度のような濃度分布を有するパターンに見える。つまり、図１０Ａに例示されるドットパターンは、Ｘ方向について、Ａ点及びＥ点の濃度が相対的に高くなり、Ｂ点及びＤ点の濃度が相対的に低くなるように見える。図１０Ａのドットパターンは、Ｂ点とＣ点との間及びＣ点とＤ点との間に対応する走査方向に沿った位置において、濃度の低い筋状の欠陥を有するように見える。図１０Ａのドットパターンは、Ａ点とＢ点との間及びＤ点とＥ点との間に対応する走査方向に沿った位置において、濃度の高い筋状の欠陥を有するように見える。

　図９Ｂ及び図１０Ｂにおいて、破線で示される見かけの濃度は、実線で示される走査方向平均印画濃度に対し、ＣＳＦ特性を考慮した周波数特性を有するＬＰＦが適用されることにより算出されうる。走査方向平均印画濃度に対してＬＰＦが適用されることにより、走査方向平均印画濃度に含まれるノイズ成分が除去されうる。

　見かけの濃度は、走査方向平均印画濃度について、所定の区間を設定した移動平均が計算されることによっても算出されうる。所定の区間は、例えば、走査ライン１８２の間隔に設定される。走査方向平均印画濃度について移動平均が計算されることによっても、走査方向平均印画濃度に含まれるノイズ成分が除去されうる。

　図１０Ｂに例示される走査方向平均印画濃度は、例えば、一様な濃度に見えることが予測される入力画像データの印画結果から取得されうる。印画結果が一様な濃度に見えることが予測される入力画像データは、例えば、一様な画素の配列を含むテストパターンデータである。印画装置１は、一様な画素の配列を含む入力画像データに基づいて印画媒体２０に印画された印画結果を読取装置３０に読み取らせる。印画装置１は、読取装置３０から取得した読取結果から、走査方向平均印画濃度を算出しうる。このように、実際の印画結果から測定される印画濃度のことを印画濃度測定結果ともいう。印画装置１は、各印画素子１８１の印画特性と、入力画像データとに基づいて、印画媒体２０への印画結果の印画濃度を予測してよい。予測された印画濃度は、印画濃度予測結果ともいう。

　印画装置１の制御部１０は、印画結果が入力画像データから予測される結果とは異なる場合、印画結果を補正するデータを含めるように各印画素子１８１に対する制御情報を生成できる。印画結果とは、印画濃度測定結果又は印画濃度予測結果のことであってよい。印画濃度測定結果又は印画濃度予測結果は、補正前印画濃度ともいう。印画結果が入力画像データから予測される結果とは異なる場合は、例えば、一様な濃度のベタ塗りパターンに見えることが予測されるにもかかわらず、図１０Ｂに示されるように一様な濃度に見えない場合に対応しうる。

　ドットの印画位置に係る印画特性に起因して印画結果が予測される結果とは異なった場合、制御部１０は、各印画素子１８１のドットの印画位置に係る補正データに基づいて、各印画素子１８１に対する制御情報を生成してよい。この場合、制御部１０は、図５の変換ブロックにおいて、乗算器５１の所定の係数（ａ）として補正ゲインを設定してよい。印画素子１８１により印画される画素の変換において設定される補正ゲインは、印画素子１８１の補正ゲインともいう。

　図１０Ａにおいて、印画素子１８１ｂによって印画された走査ライン１８２ｂに沿うドットは、走査ライン１８２ａに近づくように左側にずれている。この結果、図１０Ｂにおいて、Ａ点における見かけの濃度は、相対的に高くなる。Ｂ点における見かけの濃度は、相対的に低くなる。印画装置１は、印画結果が人間の目に一様な濃度に見えるように、印画素子１８１ｂ又は印画素子１８１ｃに対し、入力画素データに基づくドットよりも大きいサイズのドットを印画させる制御情報を生成してよい。この場合、印画装置１は、印画素子１８１ｂ又は印画素子１８１ｃに対応する画素の入力画素データを乗算器５１に入力する際の補正ゲインをａ＞１として、印画素子１８１ｂ又は印画素子１８１ｃに対応する画素の出力画素データを生成する。印画装置１は、印画素子１８１ａに対して入力画素データに基づくドットよりも小さいサイズのドットを印画させる制御情報を生成してよい。この場合、印画装置１は、印画素子１８１ａに対応する画素の入力画素データを乗算器５１に入力する際の補正ゲインをａ＜１として、印画素子１８１ａに対応する画素の出力画素データを生成する。

　図１０Ａにおいて、印画素子１８１ｄによって印画された走査ライン１８２ｄに沿うドットは、走査ライン１８２ｅに近づくように右側にずれている。この結果、図１０Ｂにおいて、Ｅ点における見かけの濃度は、相対的に高くなる。Ｄ点における見かけの濃度は、相対的に低くなる。印画装置１は、印画結果が人間の目に一様な濃度に見えるように、印画素子１８１ｃ又は印画素子１８１ｄに対し、入力画素データに基づくドットよりも大きいサイズのドットを印画させる制御情報を生成してよい。この場合、印画装置１は、印画素子１８１ｃ又は印画素子１８１ｄに対応する画素の入力画素データを乗算器５１に入力する際の補正ゲインをａ＞１として、印画素子１８１ｃ又は印画素子１８１ｄに対応する画素の出力画素データを生成する。印画装置１は、印画素子１８１ｅに対して入力画素データに基づくドットよりも小さいサイズのドットを印画させる制御情報を生成してよい。この場合、印画装置１は、印画素子１８１ｅに対応する画素の入力画素データを乗算器５１に入力する際の補正ゲインをａ＜１として、印画素子１８１ｅに対応する画素の出力画素データを生成する。以上例示したように、補正ゲインの設定方法は、ドットの印画位置のずれに起因する印画濃度に基づくものであってよい。

　本実施形態において、補正ゲインは、補正後に得られる印画濃度の目標値に応じて設定される。印画濃度の目標値は、目標濃度ともいう。目標濃度は、各印画素子１８１に対する制御情報に基づいて予測される印画結果と、各印画素子１８１による実際の印画結果との差異がない場合の印画濃度であってよい。目標濃度は、Ｘ方向の各位置における走査方向平均印画濃度又は見かけの濃度の平均値とされてよい。目標濃度は、走査方向平均印画濃度又は見かけの濃度の最大値又は最小値に合わせた値とされてよい。目標濃度は、見かけの濃度の最大値以上の値に設定されてよい。目標濃度は、上述の値だけでなく任意の値とされてよい。

　本実施形態において、目標濃度は、例えば図１１に示されるように、Ｘ方向の各位置における見かけの濃度を平均化して得られる平均化濃度に濃度オフセットを加えた値に設定される。目標濃度に濃度オフセットを加えることを、目標濃度のオフセットともいう。図１１において、目標濃度、平均化濃度及び見かけの濃度はそれぞれ、実線、一点鎖線及び破線で示される。濃度オフセットは、平均化濃度と、平均化する前の見かけの濃度との差分の最大値として算出されてよい。このように設定された目標濃度は、Ｘ方向のどの位置においても見かけの濃度以上となる。濃度オフセットは、平均化濃度の波形と、平均化する前の見かけの濃度の波形との差分の波形の振幅に応じて設定されてよい。

　走査方向平均印画濃度にＬＰＦを適用しての見かけの濃度の算出は、平均化の一種といえる。補正前印画濃度からの走査方向平均印画濃度の算出は、平均化の一種といえる。見かけの濃度からの平均化濃度の算出は、平均化の一種といえる。つまり、平均化濃度は、補正前印画濃度を平均化することによって算出されうる。

　図１１に示されるように目標濃度が設定された場合、例えばＢ点における見かけの濃度は、目標濃度よりも低い。この場合、印画装置１は、Ｂ点に対応する印画素子１８１ｂの出力画素データを生成するための補正ゲインを１より大きい値に設定する。Ｂ点と同様に見かけの濃度が目標濃度よりも低いＣ点及びＤ点についても、印画装置１は、補正ゲインを１より大きい値に設定する。一方、Ａ点における見かけの濃度は、目標濃度と略等しい。この場合、印画装置１は、Ａ点に対応する印画素子１８１ａに係る出力画素データを生成するための補正ゲインを１に設定する。Ａ点と同様に見かけの濃度が目標濃度と略等しいＥ点についても、印画装置１は、補正ゲインを１に設定する。

　補正ゲインは、図１２に示されるように設定されうる。図１２のグラフの横軸は、Ｘ方向の位置を示す。図１２のグラフの縦軸は、補正ゲインを示す。補正ゲインが１となるラインが一点鎖線で示される。図１１に示される目標濃度に対応する補正ゲインの設定例は、オフセット有りの場合として実線で示される。この場合、補正ゲインは、Ｘ方向のどの位置においても補正ゲインが１以上の値に設定される。

　本実施形態においては、Ｘ方向のどの位置に対応する印画素子１８１に対しても補正ゲインは１以上の値に設定されるものとする。このようにすることで、印画素子１８１により印画されるドットのサイズは、補正しない場合のサイズより小さくならないようにされうる。

　比較例に係る装置は、図１３に示されるように、目標濃度が平均化濃度に設定される。この場合、例えばＢ点における見かけの濃度は、目標濃度よりも低い。この場合、比較例に係る装置は、印画素子１８１ｂの補正ゲインを１より大きい値に設定する。一方、Ａ点における見かけの濃度は、目標濃度よりも高い。この場合、比較例に係る装置は、印画素子１８１ａの補正ゲインを１より小さい値に設定する。

　図１３に示される目標濃度に対応して設定される補正ゲインは、図１２において、オフセット無しの場合として破線で例示される。この場合、補正ゲインは、Ｘ方向の位置によって、１より大きかったり、１より小さかったりする。比較例においては、印画素子１８１の少なくとも一部に対して、補正ゲインが１より小さい値に設定される。

　印画素子１８１に対する補正ゲインが１より小さい値に設定される場合、印画素子１８１により印画されるドットのサイズは、補正しない場合のサイズより小さくなることがある。ドットのサイズが小さくなる場合、隣接して印画されるドットとの間隔が広くなる。このようにして印画されたドットパターンは、コントラスト感度が高いものとなることがある。結果として、印画結果に粒状感が現れやすくなる。

　以上説明してきたように、本実施形態に係る印画装置１は、比較例に係る装置と比較して、印画結果に粒状感が現れにくいように補正した出力画像データを生成することができる。

　本実施形態に係る印画装置１が実行する画像補正方法の例について、図１４に示されるフローチャートを用いて説明する。

　印画装置１の制御部１０は、印画媒体２０にテストパターンを印画する（ステップＳ１）。テストパターンの印画結果には、各印画素子１８１の印画特性に係る情報が含まれる。

　制御部１０は、読取装置３０からテストパターンの印画結果の濃度分布を取得する（ステップＳ２）。読取装置３０は、印画媒体２０からテストパターンの印画結果の濃度分布を読み取り、制御部１０に濃度分布を出力する。制御部１０は、取得した濃度分布を記憶部１２に格納してよい。

　制御部１０は、濃度分布を平均化する（ステップＳ３）。濃度分布は、例えば、図１０Ｂに示される走査方向平均印画濃度として表される。走査方向平均印画濃度は、各走査ライン１８２に印画されたドットのサイズのばらつきに起因する変動成分と走査ライン１８２の間隔を周期とする変動成分との合成波形として表される。制御部１０は、図１０Ｂの走査方向平均印画濃度について、Ｘ方向の空間周波数スペクトルを解析し、ＣＳＦ特性に基づくフィルタリングにより、見た目の濃度を算出する。ＣＳＦ特性に基づくフィルタリングは、平均化の一種である。制御部１０は、見た目の濃度を平均化して、平均化濃度を算出する。見た目の濃度の平均化は、例えば、単に、Ｘ方向の各位置にわたる、見た目の濃度の平均値の算出であってよい。見た目の濃度の平均化は、所定の区間を用いた移動平均の算出であってよい。所定の区間は、例えば走査ライン１８２の間隔とされるが、これに限られず、適宜定められてよい。見た目の濃度の平均化は、他の平均化アルゴリズムを用いてよい。

　制御部１０は、平均化濃度に濃度オフセットを加えて、目標濃度を算出する（ステップＳ４）。濃度オフセットは、例えば所定の値に設定される。この場合目標濃度は、図１１に示されるように、Ｘ方向の各位置に対応する平均化濃度に所定の値を加えて算出される。所定の値は、目標濃度が見かけの濃度以上となるような値に設定される。

　制御部１０は、各印画素子１８１の補正ゲインを算出する（ステップＳ５）。見かけの濃度と目標濃度とが図１１に示されるような関係を有する場合、例えばＢ点に対応する印画素子１８１ｂの補正ゲインは、１より大きい値に設定される。例えばＡ点に対応する印画素子１８１ａの補正ゲインは、１に設定される。Ａ点～Ｅ点に対応する印画素子１８１ａ～１８１ｅの補正ゲインの関係は、（Ｂ点、Ｄ点）＞（Ｃ点）＞（Ａ点、Ｅ点）となる。印画素子１８１ａ及び１８１ｅの補正ゲインが１に設定される場合、印画素子１８１の補正ゲインは、全て１以上に設定される。

　制御部１０は、ステップＳ５の後、図１４のフローチャートの手順を終了する。制御部１０は、図１４のフローチャートの手順で算出した各印画素子１８１の補正ゲインを、図５の変換ブロックの乗算器５１に適用する。出力画素データの生成に補正ゲインが適用されることによって、出力画像データは、印画素子１８１の印画特性に応じて補正されうる。

　以上説明してきたように、本実施形態に係る印画装置１及び画像補正方法によれば、各印画素子１８１の補正ゲインが１以上となるように設定される。このようにすることで、補正ゲインを適用して得られる印画結果に粒状感が現れにくくなる。

（実施形態２）
　実施形態１における誤差拡散法に基づく減色において、ＬＰＦの性質を有する拡散フィルタが用いられうる。実施形態２において、誤差拡散法で用いられる拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦが、補正前印画濃度の波形に適用されうる。

　拡散フィルタのサイズは、拡散フィルタが影響を及ぼす範囲によって示されうる。図８に例示される拡散フィルタは、１番～５番にわたって影響を及ぼす。図８に例示される拡散フィルタのサイズはＸ方向の５画素分であるともいえる。

　拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦは、拡散フィルタと同等の範囲に影響を及ぼすように設計されたものともいえる。本実施形態においては、ＬＰＦは、図８の拡散フィルタのサイズを考慮したものであるものとする。ＬＰＦは、補正前印画濃度の波形に適用される際に、Ｘ方向の５画素分に影響を及ぼすものとして設計される。

　例えば図１５に示されるように、破線で示される補正前印画濃度の波形に高周波ノイズ成分が含まれる場合について説明する。高周波ノイズ成分が含まれる波形に拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦを適用することによって、実線で示されるＬＰＦ適用後の補正前印画濃度の波形は、高周波ノイズ成分が除去された波形となっている。

　例えば、補正前印画濃度の波形に、自身の振幅よりも大きい振幅を有する高周波ノイズ成分が重畳されている場合、補正前印画濃度の平均化に高周波ノイズ成分の影響が及ぼされる。濃度オフセットは、高周波ノイズ成分がない場合と比較して、大きい値となりうる。補正前印画濃度の波形から高周波ノイズ成分が除去されることによって、濃度オフセットがより小さい値に抑制されうる。

　本実施形態に係る印画装置１は、補正前印画濃度の波形に拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦを適用することで、高周波ノイズ成分を除去することができる。本実施形態に係る印画装置１は、実施形態１と同様に濃度オフセットが設定される場合と比較して、濃度オフセットをより小さい値に抑制しうる。

　本実施形態に係る印画装置１は、拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦを適用することによって、出力画像データの鮮鋭度の低下につながるＬＰＦの適用範囲が限定されうる。結果として、鮮鋭度の低下が抑制されうる。

（実施形態３）
　図５の変換ブロックの乗算器５１において適用される補正ゲインは、各画素に対応した空間分布を有するものとして取り扱われうる。この場合、拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦは、補正前印画濃度の波形だけでなく、補正ゲインの空間分布を示す波形に適用されうる。このようにすることで、補正前印画濃度の波形にノイズ成分が含まれたままで補正ゲインが算出された後でも、補正ゲインからノイズ成分が除去されうる。

　例えば図１６に示されるように、補正ゲインは、Ｘ方向に空間分布を有する波形として表されうる。破線で示される波形は、ノイズ成分を含む波形の一例であり、ＬＰＦを適用する前のものである。ノイズ成分は、図５の変換ブロックの乗算器５１に適用される補正ゲイン、及び、変換ブロックで生成される出力画素データに対して影響を及ぼしうる。一方、実線で示される波形は、ＬＰＦを適用することによってノイズ成分が除去された波形の一例である。ノイズ成分が除去されたことによって、変換ブロックで生成される出力画素データに対する影響が抑制されうる。

　本実施形態に係る印画装置１は、変換ブロックによる出力画素データの生成に適用される補正ゲインを各画素に対応した空間分布を有するものとして取り扱うものとする。本実施形態に係る印画装置１において、拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦが適用されるものとする。このようにすることで、本実施形態に係る印画装置１は、補正ゲインからノイズ成分を除去しうる。この結果、濃度オフセットがより小さい値に抑制されうる。

　本実施形態に係る印画装置１は、拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦを適用することによって、出力画像データの鮮鋭度の低下につながるＬＰＦの適用範囲を限定しうる。結果として、鮮鋭度の低下が抑制されうる。

　補正ゲインは、誤差拡散法に基づく変換に適用される場合であっても、誤差拡散のフィルタリングの遮断周波数以上の高周波成分に対しては適用されない。そのため、補正ゲインにＬＰＦが適用されても、変換に対しては影響が及ぼされにくい。

（実施形態４）
　実施形態１において、印画素子１８１のドットの印画位置のずれに応じて発生する印画濃度の分布を解消するように補正ゲインが設定されうる。補正ゲインが設定される印画素子１８１の選択方法として、いくつかの方法が可能である。

　例えば図１０Ｂに示されるドットパターンを参照して、印画装置１は、図１０ＢのＢ点とＣ点との間で走査方向に沿って分布する印画濃度が低い部分を解消するために、印画素子１８１ｃに設定する補正ゲインの重み付けを大きくしてよい。一方で印画装置１は、印画素子１８１ｂの補正ゲインの重み付けを大きくしてよい。

　図５の変換ブロックにおいて、フィルタ５５は、画像データに対して拡散フィルタを適用するものとして実現されうる。実施形態２及び３において、拡散フィルタのサイズを考慮したＬＰＦが、補正前印画濃度の波形又は補正ゲインの空間分布を示す波形に適用されうる。ＬＰＦは、拡散フィルタと同様に、画像データにおける画素の左右方向の位置に応じたフィルタ係数を有する。

　ＬＰＦのフィルタ係数の分布が、図１７に例示される。図１７において、横軸は、変換で取り扱われる画素の左右方向の位置を示す。縦軸は、各位置に対応するフィルタ係数を示す。ＬＰＦのフィルタ係数の分布は、例えば図１７において中実ひし形と実線とで示されるように、左右方向の中心位置において、フィルタ係数が極大値をとるものである。中心位置で極大値をとるフィルタ係数は、中心位置シフトのないフィルタ係数ともいう。中心位置シフトのないフィルタ係数を有するＬＰＦは、画像データに適用された場合に、各画素に係るデータの左右方向の分布に影響を及ぼしにくい。

　ＬＰＦのフィルタ係数の分布は、図１７において中空ひし形と破線とで示されるように、フィルタ係数が極大値をとる位置が左側にシフトしたものであってよい。中心位置からシフトした位置で極大値をとるフィルタ係数は、中心位置シフトのあるフィルタ係数ともいう。中心位置シフトのあるフィルタ係数を有するＬＰＦは、画像データに適用された場合に、各画素に係るデータの左右方向の分布に影響を及ぼしうる。例えば、図１７に示されるように中心位置シフトのあるフィルタ係数を有するＬＰＦが補正前印画濃度の波形に適用された場合、ＬＰＦは、波形を全体として左側にシフトさせる。補正前印画濃度の波形の左側へのシフトに応じて、補正ゲインの空間分布の波形は、左側へシフトする。つまり、補正ゲインの適用位置が左側にシフトする。中心位置シフトのあるフィルタ係数を有するＬＰＦが補正ゲインの空間分布を示す波形に適用された場合も同様に、補正ゲインの適用位置が左側にシフトする。

　図１０Ａ及び図１０Ｂの例において、図１７に示されるように左側に中心位置シフトのあるフィルタ係数を有するＬＰＦが画像データに適用されうる。Ｂ点とＣ点との間の印画濃度の分布を解消するための補正ゲインは、印画素子１８１ｂに対する重み付けが大きくなるように設定されてよいし、印画素子１８１ｃに対する重み付けが大きくなるように設定されてもよい。補正ゲインの適用位置が左側にシフトした場合、印画素子１８１の中でも左側の画素に対応するものの重み付けが大きくなる。つまり、右側の印画素子１８１ｃに設定される補正ゲインよりも左側の印画素子１８１ｂに設定される補正ゲインに対する重み付けが大きくなる。逆に、右側に中心位置シフトのあるフィルタ係数を有するＬＰＦが画像データに適用された場合、補正ゲインの適用位置は右側にシフトする。この場合、印画素子１８１の中でも右側の画素に対応するものの重み付けが大きくなる。

　以上説明してきたように、本実施形態に係る印画装置１は、中心位置シフトのあるフィルタ係数を有するＬＰＦを画像データに適用することができる。このようにすることで、出力画像データの補正に際して、補正ゲインが適用される印画素子１８１の選択が可能となる。

　拡散フィルタは、例えば図８に示されるように、フィルタ係数が極大値をとる位置が右側にシフトすることがある。このような拡散フィルタが適用された画像データに対して、左側に中心位置シフトのあるフィルタ係数を有するＬＰＦが適用された場合、拡散フィルタによる右側の画素への誤差拡散の偏りが補償されうる。つまり、本実施形態に係る印画装置１は、誤差拡散法等の変換において右側の画素への誤差拡散が大きくなるという特性を補償しうる。このようにすることで、誤差拡散法等の変換による画像データの補正がより適切に行われうる。

　本開示に係る印画装置１及び画像補正方法によれば、印画濃度を補正しつつ粒状感の増大が低減されうる。

　本開示に係る実施形態が諸図面及び実施例に基づき説明された。当業者であれば本開示に基づき種々の変形又は修正を行うことが容易であることに注意されたい。従って、これらの変形又は修正は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。例えば、各構成部、又は各ステップなどに含まれる機能などは論理的に矛盾しないように再配置可能であり、複数の構成部又はステップなどを１つに組み合わせたり、或いは分割したりすることが可能である。また、本開示に係る実施形態について装置を中心に説明してきたが、本開示に係る実施形態は装置の各構成部が実行するステップを含む方法としても実現し得るものである。また、本開示に係る実施形態は装置が備えるプロセッサにより実行される方法、プログラム、又はプログラムを記録した記憶媒体としても実現し得るものである。本開示の範囲にはこれらも包含されるものと理解されたい。

　１　印画装置
　１０　制御部
　１２　記憶部
　１４　印画部
　１６　印画媒体搬送部
　１８　印画ヘッド
　１８１（１８１ａ～１８１ｅ）　印画素子
　１８２（１８２ａ～１８２ｅ）　走査ライン
　１８３（１８３ａ～１８３ｃ）　印画ライン
　２０　印画媒体
　３０　読取装置
　５１　乗算器
　５２　第１演算器
　５３　量子化器
　５４　第２演算器
　５５　フィルタ
　６０　拡散元セル
　６１　第１拡散先セル
　６２　第２拡散先セル

Claims (14)

1. 　ドットを印画する複数の印画素子を有する印画部と、
   　入力画像データに基づいて、前記印画部を制御する制御部と、
   を備え、
   　前記制御部は、
   　一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、前記印画素子のドットの印画位置の印画特性とに基づく補正前印画濃度を取得し、
   　前記補正前印画濃度を平均化した目標濃度を算出し、
   　前記目標濃度が前記補正前印画濃度以上となるように前記目標濃度をオフセットし、
   　前記補正前印画濃度に対する前記目標濃度の比に基づいて、前記印画素子の補正ゲインを算出し、
   　前記補正ゲインと前記入力画像データとに基づいて前記印画部を制御する、印画装置。
2. 　前記補正前印画濃度は、前記印画特性と前記テストパターンデータとに基づいて予測される印画濃度予測結果である、請求項１に記載の印画装置。
3. 　前記補正前印画濃度は、前記テストパターンデータの印画結果から取得される印画濃度測定結果である、請求項１に記載の印画装置。
4. 　前記制御部は、拡散フィルタを用いて前記印画部を制御する、請求項１乃至３いずれか一項に記載の印画装置。
5. 　前記制御部は、前記拡散フィルタのサイズを考慮したローパスフィルタを前記補正前印画濃度に適用する、請求項４に記載の印画装置。
6. 　前記制御部は、前記拡散フィルタのサイズを考慮したローパスフィルタを前記補正ゲインに適用する、請求項４に記載の印画装置。
7. 　前記ローパスフィルタは、フィルタ係数が最大となる位置を中心からずらしたものである、請求項５又は６に記載の印画装置。
8. 　ドットを印画する複数の印画素子を有する印画部と、
   　入力画像データに基づいて、前記印画部を制御する制御部と、
   を備える印画装置の画像補正方法であって、
   　前記制御部が、一様な画素の配列を含むテストパターンデータと、前記印画素子のドットの印画位置の印画特性とに基づく補正前印画濃度を取得するステップと、
   　前記制御部が、前記補正前印画濃度を平均化した目標濃度を算出するステップと、
   　前記制御部が、前記目標濃度が前記補正前印画濃度以上となるように前記目標濃度をオフセットするステップと、
   　前記制御部が、前記補正前印画濃度に対する前記目標濃度の比に基づいて、前記印画素子の補正ゲインを算出するステップと、
   　前記制御部が、前記補正ゲインと前記入力画像データとに基づいて前記印画部を制御するステップと
   を含む画像補正方法。
9. 　前記補正前印画濃度は、前記印画特性と前記テストパターンデータとに基づいて予測される印画濃度予測結果である、請求項８に記載の画像補正方法。
10. 　前記補正前印画濃度は、前記テストパターンデータの印画結果から取得される印画濃度測定結果である、請求項８に記載の画像補正方法。
11. 　前記制御部が、拡散フィルタを用いて前記印画部を制御するステップをさらに含む、請求項８乃至１０いずれか一項に記載の画像補正方法。
12. 　前記制御部が、前記拡散フィルタのサイズを考慮したローパスフィルタを前記補正前印画濃度に適用するステップをさらに含む、請求項１１に記載の画像補正方法。
13. 　前記制御部が、前記拡散フィルタのサイズを考慮したローパスフィルタを前記補正ゲインに適用するステップをさらに含む、請求項１１に記載の画像補正方法。
14. 　前記ローパスフィルタは、フィルタ係数が最大となる位置を中心からずらしたものである、請求項１２又は１３に記載の画像補正方法。

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