WO2017086499A1 - 플라즈마를 이용한 수처리장치 - Google Patents

플라즈마를 이용한 수처리장치 Download PDF

Info

Publication number
WO2017086499A1
WO2017086499A1 PCT/KR2015/012430 KR2015012430W WO2017086499A1 WO 2017086499 A1 WO2017086499 A1 WO 2017086499A1 KR 2015012430 W KR2015012430 W KR 2015012430W WO 2017086499 A1 WO2017086499 A1 WO 2017086499A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
water
space
plasma
flow
treatment
Prior art date
Application number
PCT/KR2015/012430
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
김선호
정장근
윤석현
Original Assignee
주식회사 플라즈마코리아
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 플라즈마코리아 filed Critical 주식회사 플라즈마코리아
Priority to PCT/KR2015/012430 priority Critical patent/WO2017086499A1/ko
Publication of WO2017086499A1 publication Critical patent/WO2017086499A1/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/48Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields

Definitions

  • the present invention relates to a water treatment apparatus using plasma, and more particularly, to a water treatment apparatus having a structure capable of purifying contaminated water with a plasma treated gas and solving a problem caused by bubbles generated during the purification treatment.
  • FIG. 1 is a Korean Patent Publication No. 10-1108146, which shows an example of a water purification apparatus utilizing such a plasma processor.
  • an aquarium 8 is installed at a lower portion of the plasma module 1 embedded in a box-shaped case so that the water purified by the plasma module 1 is circulated to the aquarium.
  • a plasma processor 5 having a conductive discharge electrode 2 and a conductive counter electrode 3 fixed therein and an air stone 4 connected to a lower portion thereof is installed.
  • the water quality in the aquarium can be purified, green algae and moss can be removed, and bacteria can be sterilized.
  • the plasma-treated gas is discharged into the water in the form of a plurality of micro bubbles, a large amount of bubbles are generated, and thus a more effective method for removing the bubbles is required.
  • an object of the present invention is to effectively remove a large amount of bubbles generated by the plasma-treated gas in the form of water in the bubble can be removed from the treated water discharged to the aquarium It is to provide a water treatment apparatus using a plasma having a structure.
  • another object of the present invention is to provide a water treatment apparatus using a plasma that can be effectively compacted in the water treatment and bubble removal while having a compact structure because the entire apparatus can be compact in a small space.
  • the water treatment apparatus using the plasma according to the present invention includes a case in which a first space and a second space are divided by partition walls, a polluted water inlet connected to the first space, and contaminated water flows into the first space;
  • a plasma processor installed in the first space to purify the contaminated water by discharging the plasma-treated gas in the form of a plurality of bubbles in the water, and installed in the second space and coupled to a connection hole in the upper portion of the partition wall
  • the present invention is configured such that the partition wall is a plate-like body, one end of the water film is in contact with the partition wall and the other end is spaced apart from the inner wall surface of the second space, the foam of the water surface to the flow of water by the water flow It is characterized in that the flow along the circumference of the water film is another.
  • the present invention is installed in the upper end of the second space of the left and right side of the water flow forming hole is installed in the gas discharge port and the gas discharge port, connected to the gas discharge port to purify the ozone contained in the gas
  • the partition wall is formed on the upper side of the surface of the water is provided with a gas flow hole for discharging bubbles and gas from the first space to the second space, the gas flow hole is the left or right of the water film It is another feature that the water flow is formed on the opposite side of the side is installed.
  • the case is formed by a watertight third space separated by the first space and the barrier wall, the controller is installed in the third space, and the water level is exposed to the first space in the barrier wall
  • a water level sensor for sensing and transmitting a detection signal to the controller is further included, the water level sensor is another feature that is installed at the same or higher than the center position of the connection hole.
  • the treated water outlet is installed in a shape protruding from the bottom of the second space to a predetermined height so as to maintain the water level of the second space above a predetermined height, the treated water in the second space.
  • a cap member is disposed to cover an outlet, and the cap member has an inner space having a lower height and an inner space higher than that of the treatment water outlet, and a cap body having the treatment water outlet in the inner space, and an upper end of the cap body. It is further characterized in that it comprises an air inlet pillar installed vertically in communication with the interior space and the atmosphere, and a treatment water inlet that is installed at the lower end of the cap body and the treated water flows into the interior space.
  • the cap member is installed at an intermediate position spaced apart from the inner wall surface in the second space so that the water flow formed through the water flow forming hole is rotated along the circumference of the cap body, thereby the water flow is
  • Another feature is configured to proceed to the opposite side of the side on which the water flow forming hole is installed based on the water film.
  • the present invention according to the above-described configuration is effective after removing the bubbles contained in the contaminated water, and the bubbles generated as the plasma-treated gas is generated in the water in the form of micro bubbles, by the action of water flow and water film in the second space, and then treated Water can be discharged.
  • the water treatment apparatus using the plasma of the present invention while the entire apparatus can be concentrated in the space provided by the box-shaped case, the water treatment and defoaming can be effectively carried out, because of the compact structure to limit the installation space It can overcome and increase the satisfaction of use with high performance.
  • FIG. 1 is a block diagram of a water purification apparatus using a conventional plasma processor
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of a water treatment apparatus using a plasma according to an embodiment of the present invention
  • Figure 3 is a longitudinal cross-sectional view of the water treatment apparatus using a plasma according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is an operation explanatory diagram of a water treatment apparatus using plasma according to an embodiment of the present invention.
  • FIG 5 is an operational state diagram of the second space in the water treatment apparatus using the plasma according to an embodiment of the present invention
  • FIG 6 is an operational state diagram showing the action of the second space in another cross-section in the water treatment apparatus using the plasma according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a perspective view showing a cap member in the water treatment apparatus using the plasma according to an embodiment of the present invention
  • Figure 8 is a private facility showing another form of the water film forming member in the water treatment apparatus using the plasma according to an embodiment of the present invention
  • the water treatment apparatus using the plasma according to the embodiment of the present invention is provided by being divided by the partition wall 24 on which the first space 21 and the second space 22 are erected. ), A contaminated water inlet 31 connected to the first space 21 to introduce contaminated water 71 into the first space 21, and a gas disposed in the first space 21 and plasma-treated. Is discharged in the form of a plurality of bubbles in the water to clean the contaminated water 71 and the second space 22 is installed in the connection hole 25 of the upper portion of the partition wall (24)
  • the treatment water flow pipe 61 coupled to move the treatment water 72 and the gas from the first space 21 to the second space 22, and is installed at the lower end of the treatment water flow pipe 61, thereby providing the second space.
  • the partition wall 24 is formed in the form of through-holes are formed in the water flow forming hole (26) and the water flow proceeds from the first space 21 to the second space 22 of the second space 22 It is installed in the lower portion includes a treatment water outlet 32 for discharging the treatment water (72).
  • the case 20 has a box shape and devices are installed therein, and the contaminated water 71 which is a water treatment object is introduced and accommodated.
  • the inside of the case 20 is installed so as to be divided by the partition wall 24 in which the first space 21 and the second space 22 are erected, and the second space 22 is formed around the first space 21.
  • the third space 23 is installed on the opposite side.
  • the partition wall 24 is a vertical plate-shaped body.
  • the partition wall 24 has a connection hole 25 through which the treated water 72 processed in the first space 21 flows into the second space 22 and a gas above the water surface in the first space 21 in the second space 21.
  • a gas flow hole 29 moving to the space 22 is provided, and a water flow forming hole 26 is provided in the form of a through hole in the lower portion.
  • the third space 23 is also separated by the first space 21 and the blocking wall 27 and is watertight so that water does not flow from the first space 21.
  • the first space 21 is a space in which the contaminated water 71 is introduced and purified
  • the second space 22 is a treated aquarium 72 in which the purified water from the first space 21 is introduced into an external aquarium.
  • the third space 23 is a space in which a compressor (49) and device devices (93) for supplying gas (air) to the controller (not shown) and the plasma processor 40 are installed.
  • the contaminated water inlet 31 is connected to the first space 21 to allow the contaminated water 71 to flow into the first space 21. 23) It is installed at the position biased to the side.
  • the polluted water inlet 31 is connected to an external aquarium (not shown), and the polluted water 71 of the aquarium may be introduced into the first space 21 by a supply pump (not shown).
  • the plasma processor 40 is a device installed in the first space 21 to discharge the plasma-treated gas in the form of a plurality of bubbles in the water to purify the contaminated water 71.
  • the plasma processor 40 is a transparent dielectric tube 41 installed in water, a gas (for example, air) flows therein, and a discharge electrode 42 is installed therein, and an opposing body installed in water outside of the dielectric tube 41.
  • Power supply means (not shown) for applying a power to the electrode 48, the discharge electrode 42 and the counter electrode 48 to generate a plasma inside the dielectric tube 41, and the dielectric tube 41 It is connected to the bubble passing through the gas is converted into a plurality of bubbles in the water comprises a bubble generator (45).
  • the dielectric tube 41 is installed horizontally, and the bubble generator 45 is also made of a porous body, and is installed horizontally in parallel with the dielectric tube 41 at the lower side of the dielectric tube 41.
  • the dielectric tube 41 and the bubble generator 45 may be connected by the connection passage 43 so that the plasma-treated gas may flow from the dielectric tube 41 to the bubble generator 45.
  • a plasma discharge is generated in the dielectric tube 41, and a gas having a predetermined pressure passes through the discharge region to generate active materials such as ozone and OH radicals.
  • Gas containing an active material such as ozone, OH radicals are converted into a plurality of micro-bubbles in the process of passing through the bubble generator 45 which is a porous material is discharged into the water.
  • microbubble containing active substances such as ozone and OH radicals discharged into the water reacts with the pollutants of the polluted water 71 supplied to the first space 21 and oxidizes and decomposes the polluted water to dissolve the polluted water 71. Clean up.
  • bacteria contained in the contaminated water 71 may also be sterilized and removed by ultraviolet rays and ozone due to plasma discharge.
  • the treatment water flow pipe 61 is installed in the second space 22 and is coupled to the connection hole 25 in the upper portion of the partition wall 24 to treat the treated water (from the first space 21 to the second space 22). 72) and to guide the gas contained in the treated water to move.
  • the treated water flow pipe 61 has an elbow shape and is bent downward in the second space 22, and is coupled with a connection hole 25 installed at an upper portion of the partition wall 24 to connect the connection hole 25.
  • the treated water 72 flowing over is flowed into the second space 22 through the treated water flow pipe 61.
  • connection hole 25 is preferably installed in the middle portion that is not biased to the left and right from the upper portion of the partition wall (24).
  • the water film forming member 62 is installed at the lower end of the treated water flow pipe 61 so as to form the water film 73 while the treated water 72 flowing into the second space 22 falls.
  • the water film forming member 62 is formed in the shape of a disc and attached to the lower end of the treated water flow tube 61 having an elbow shape, and a gap is formed between the ends of the treated water flow tube 61 to form the treated water flow tube 61.
  • the treated water 72 discharged through the drop falls while spreading around the upper surface of the original plate, thereby forming a round water film 73 around the original plate.
  • the water film 73 is provided with a water film forming member 62 so that one end thereof flows in contact with the partition wall 24. Accordingly, the water film 73 cooperates with the partition wall 24 to form bubbles B. It serves as a blocking wall 27 to block.
  • the water film 73 allows bubbles B (scum), which will be described later, to be collected on one side, as shown in FIG. 5, and when the bubbles B approach the water film 73, they are in contact with the bubbles B to disappear. This prevents the bubble B from passing through the water film 73. Accordingly, the bubbles B are grown so as not to contaminate the activated carbon filter through the gas outlet 26a to be described later, and the bubbles B are not reintroduced into the aquarium through the treated water outlet 32.
  • bubbles B scum
  • One end portion of the water film 73 may play a role of blocking the bubble B together with the partition wall 24 by contacting the partition wall 24, and thus may be configured in a deformed form as shown in FIG. 8.
  • the water film forming member 62a is formed of a member having an elongated slit discharge port 62c and discharged through the slit discharge port 62c. ) May form a water film 73 such as a curtain.
  • the water flow forming hole 26 is installed in the form of through-holes in the lower portion of the partition wall 24 in a position biased to the left or right with respect to the water film 73, the second space ( 22) to form a water flow (S) to proceed.
  • the treated water 72 is mainly treated through the connection hole 25 of the partition 24. And flows through the water flow forming hole 26 to the second space 22 to form the water flow S moving a predetermined distance in the second space 22.
  • the water flow S is installed at a position where the water flow forming hole 26 is biased to the left or the right side with respect to the water film 73, as shown in FIG. 5, the other side is turned along the inner wall surface of the second space 22. Flows the surrounding water together. This flow acts to collect the bubbles (B) floating on the water surface to one side of the water film (73).
  • the treatment water discharge port 32 is installed in the lower portion of the second space 22 to discharge the treatment water 72.
  • the treatment water outlet 32 is installed in a shape protruding from the bottom to a predetermined height so that the treatment water 72 escapes from the predetermined height so that the treatment water 72 does not fall at the water level below the predetermined height.
  • the water level in the two spaces 22 can be kept above a predetermined height. This allows the bubbles B floating on the surface to remain on the surface in the collected state and not escape with the treated water 72.
  • cap member 80 covering the treated water outlet 32 is further installed in the second space 22 to prevent gas, including ozone, from flowing into the outlet.
  • the cap member 80 has an inner space 82a having a lower height and a height higher than that of the treatment water outlet 32, and the treatment water outlet in the inner space 82a.
  • the upper end of the air access column 83 is fitted into the installation hole 26b of the top cover 26 to communicate with the atmosphere.
  • the cap body 82 covers the treatment water outlet 32 having a predetermined height, and the treatment water inlet 81 is installed at the lower end of the cap body 82 to allow the treatment water 72 to flow near the bottom of the inner space ( 82a) flows into the treated water outlet 32 and is discharged and discharged, and bubbles rise and are separated from the treated water 72 before reaching the treated water inlet 81.
  • the cap member 80 is installed at an intermediate position spaced apart from the inner wall surface of the second space 22 so that the water flow formed through the water flow forming hole 26 is pivoted along the circumference of the cap body 82.
  • the water flow proceeds to the side opposite to the side where the water flow forming hole 26 is installed based on the water film 73.
  • the gas flow hole 29 is formed on the upper side of the surface of the partition 24, the gas and foam (B), such as ozone generated in the plasma processor 40 is formed in the first space (21) It is a hole that can be discharged into the two spaces (22).
  • the gas flow hole 29 is formed on the opposite side of the left side or the right side, the side where the water flow forming hole 26 is installed based on the water film 73, which is the gas flow hole at the position where the bubble (B) is collected. Formed to form (29) so that the bubble (B) flowing through the gas flow hole 29 to the second space 22 is collected together with the other bubble (B).
  • the gas outlet 26a is installed at the opposite side of the left or right side of the gas flow hole 29, and the gas outlet 26a is connected to the activated carbon filter so that the gas outlet 26a and the gas flow hole ( 29) to separate them from each other.
  • the gas discharge port 26a is installed at the upper end of the second space 22 at the side where the water flow forming hole 26 is installed among the left side and the right side to discharge the gas.
  • the gas discharge port 26a is preferably formed in the top cover 26 of the second space 22.
  • Gas such as ozone discharged to the gas outlet 26a passes through an activated carbon filter connected through the gas outlet 26a and the pipe 85 to purify ozone and may be discharged to the atmosphere.
  • the water level sensor 92 is installed in the blocking wall 27 separating the first space 21 and the third space 23, and the water level of the first space 21 is exposed by being exposed to the first space 21 side. Measure The detection signal of the water level sensor 92 is transmitted to the controller, and the controller controls the supply pump according to the detection signal to keep the level of the first space 21 constant.
  • the water level sensor 92 is installed at the same or higher than the center position of the connection hole (25).
  • the support wall 46 of the plasma processor 40 is fixed to the blocking wall 27 together with the support head 47 in the support hole 27a to maintain the dielectric tube 41 horizontally in the first space 21.
  • the compressor 49, the power applying means and the like located in the first space 21 are connected to the plasma processor 40.
  • the contaminated water 71 of the aquarium is introduced into the first space 21 through the contaminated water inlet 31 by a supply pump.
  • the feed pump is controlled by the controller to keep the water level constant at the position detected by the water level sensor 92.
  • the plasma processor 40 flows the gas supplied from the compressor into the dielectric tube 41, and the gas reacts with the plasma generated by the plasma generated between the inner wall of the dielectric tube 41 and the discharge electrode 42 to generate ozone and OH radicals. To produce a large amount of active material.
  • Gases that contain ozone or the like by reacting with the plasma are converted into a large amount of microbubbles while passing through the bubble generator 45 and discharged into the water.
  • ozone of microbubbles and radicals react with contaminants to oxidize and decompose contaminants to purify contaminated water 71 and also sterilize.
  • the treated water 72 in which the contaminated water 71 is purified is flowed through the connection hole 25 of the partition wall 24 to the treated water flow pipe 61, and attached to the lower end of the treated water flow pipe 61.
  • the water film 73 is formed off the water film forming member 62 by falling on the upper surface of the water film forming member 62.
  • One end of the water film 73 is in contact with the partition wall 24, and the other end thereof is formed to be spaced apart from the inner wall surface of the second space 22, so that the water film 73 forms a blocking film of a predetermined length.
  • the treated water 72 enters the second space 22 through the water flow forming hole 26 provided in the lower portion of the partition 24 to form a water flow, and the water flow is the second water flow. A flow that turns around along the inner wall surface of the space 22 is formed.
  • the contaminated water 71 and the treated water 72 treated therewith contain organic substances and generate bubbles, and a large amount of bubbles B are included in the contaminated water 71 flowing from the aquarium, and the first space ( Bubble B is generated during the purification process 21 and the formation of the water film 73.
  • Seawater has a lot of organic matter, especially foaming (B).
  • the foam (B) contains contaminants, it needs to be collected separately and should not be introduced into activated carbon filters for purifying ozone, so that it is collected on the water surface of one space in the second space 22, and the manager. Should be removed regularly.
  • the cap main body 82 Since the cap main body 82 is installed at an intermediate position spaced apart from the inner wall surface in the second space 22, the flow of water flows along the circumference of the cap main body 82.
  • the water flow S proceeds to the side opposite to the side where the water flow forming hole 26 is installed on the basis of the water film 73, and thus the bubble B of the water surface is formed based on the water film 73. It is collected by flowing to the side opposite to the side on which 26 is installed.
  • the collected bubbles B are blocked by the water film 73 and the partition wall 24, and thus gradually accumulate while remaining in the blocked position.
  • the manager needs to remove the accumulated bubbles B regularly.
  • the gas introduced into the second space 22 is discharged through the gas discharge port 26a, and the ozone is purified by the activated carbon filter and then discharged into the atmosphere.
  • the gas outlet 26a is located at the side where the water flow forming hole 26 is installed, and is installed at a position opposite to the side where the bubble B is collected, and the bubble B of the first space 21 is Since the gas flow hole 29 passing through is installed at the opposite position, the risk that the foam B may flow into the activated carbon filter is eliminated.
  • the treated water 72 from which the bubble B is removed in the second space 22 enters the inner space 82a of the cap body 82 through the treated water inlet 81 of the cap member 80.
  • the treatment water outlet 32 may be overflowed and reintroduced into an external aquarium.
  • the air outlet column 83 is installed vertically at the top of the cap body 82 and communicates the atmosphere with the internal space 82a. The same problem does not occur as described above.
  • the present invention can be used to purify contaminated water, such as aquariums.

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Water Treatment By Sorption (AREA)

Abstract

본 발명은 플라즈마 처리된 가스가 미세기포형태로 수중에 발생함에 따른 다량의 거품을 효과적으로 처리하고, 수처리장치의 전체 장치가 작은 공간에 밀집될 수 있는 컴팩트한 구조를 가진다. 본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치는, 제1공간에서 제2공간으로 처리수와 가스가 이동하는 처리수유동관과, 상기 처리수유동관의 하단에 설치되어 제2공간으로 유입되는 처리수가 낙하하면서 수막을 형성하도록 하는 수막형성부재와, 상기 수막을 기준으로 좌측 또는 우측으로 치우친 위치에서 격벽의 하부에 관통공의 형태로 설치되어 제1공간에서 제2공간으로 진행하는 수류가 형성되는 수류형성공을 포함한다. 이에 따라, 수면의 거품이 수류에 의해 수막을 기준으로 수류형성공이 설치된 측의 반대측으로 유동하여 수집될 수 있다.

Description

플라즈마를 이용한 수처리장치
본 발명은 플라즈마를 이용한 수처리장치에 관한 것으로서, 오염수를 플라즈마처리된 기체에 의해 정화처리하고, 정화처리과정에서 발생하는 거품에 의한 문제를 해소할 수 있는 구조의 수처리장치에 관한 것이다.
최근 오염된 물을 정화처리하여 재사용하기 위해 플라즈마에 의해 오염물질을 분해하고 살균하는 수처리장치가 많이 개발되고 있다.
도 1은 한국등록특허공보 제10-1108146호 기재된 것으로서, 그러한 플라즈마처리기를 활용한 수질정화장치의 일예를 도시하는 것이다.
도 1을 참조하면, 박스 형태의 케이스 내부에 내장되는 플라즈마모듈(1)의 하부에 수족관(8)이 설치되어 플라즈마모듈(1)에 의해 정화된 물이 수족관으로 순환되도록 구성된다.
상기 플라즈마모듈(1)의 내부에는 도전성 방전극(2)과 도전성 대향전극(3)이 내부에 고정되고 하부에는 에어스톤(4)이 연결되는 플라즈마처리기(5)가 설치되고, 상기 플라즈마처리기(5)에는 전원을 공급하는 전원공급기(6)와 에어를 공급하는 공기발생기(7)가 연결되며 컨트롤박스가 설치된다.
이에 따라, 수중에 연속적으로 플라즈마 에너지를 전달함으로써 수족관내의 수질을 정화하고, 녹조류, 이끼를 제거하며, 세균을 살균할 수 있다.
그러나, 수족관의 물을 플라즈마 모듈로 끌어올려 유동시키는 과정에서 거품이 발생하게 되는 바, 발생된 거품이 상승하여 플라즈마모듈(1)의 상부에 설치된 각종 기기와 접촉함으로써 작동불량, 부식, 단락 등의 문제를 유발하고 있다.
특히, 활어 등 어패물을 보관하는 수조에서는 어폐물의 부산물로 인한 유기물이 축적되고, 물의 유동시 많은 거품을 발생시킨다. 그러한 거품은 해수를 사용하는 수조에서 보다 다량으로 발생하고, 수조 내의 해수를 정화처리하기 위한 정화장치의 설치 시에 거품의 제거를 위한 장치가 포함된다.
그러나, 거품의 제거를 위해 수족관에 설치되는 기존 장치들의 경우, 작동불량의 문제가 많고, 거품제거의 효율이 만족스럽지 못한 경우가 많다.
특히, 플라즈마를 수처리에 활용하는 경우, 플라즈마처리된 가스를 다수의 미세기포형태로 수중에 배출되게 되므로, 다량의 거품발생을 유발하게 되는 바, 거품제거를 위한 보다 효과적인 방안을 필요로 한다.
본 발명은 상기와 같은 관점에서 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 플라즈마 처리된 가스가 미세기포형태로 수중에 발생함에 따른 다량의 거품을 효과적으로 처리하여 수족관으로 배출되는 처리수에서 거품이 제거될 수 있는 구조의 플라즈마를 이용한 수처리장치를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 전체 장치가 작은 공간에 밀집될 수 있어 컴팩트한 구조를 가지면서도 수처리 및 거품제거가 효과적으로 이루어질 수 있는 플라즈마를 이용한 수처리장치를 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치는, 제1공간과 제2공간이 격벽에 의해 구분되어 설치된 케이스와, 상기 제1공간에 연결되어 오염수가 상기 제1공간으로 유입되는 오염수유입구와, 상기 제1공간에 설치되어 플라즈마처리된 가스를 수중에서 다수의 버블의 형태로 배출시켜 오염수를 정화처리하는 플라즈마처리기와, 상기 제2공간에 설치되고 상기 격벽의 상부의 연결공에 결합되어 상기 제1공간에서 상기 제2공간으로 처리수와 가스가 이동하는 처리수유동관과, 상기 처리수유동관의 하단에 설치되어 상기 제2공간으로 유입되는 처리수가 낙하하면서 수막을 형성하도록 하는 수막형성부재와, 상기 수막을 기준으로 좌측 또는 우측으로 치우친 위치에서 상기 격벽에 관통공의 형태로 설치되어 상기 제1공간에서 상기 제2공간으로 진행하는 수류가 형성되는 수류형성공과, 상기 제2공간의 하부에 설치되어 처리수를 배출시키는 처리수배출구를 포함하되, 상기 수막형성부재에 의해 형성되는 수막은 그 수막의 일단부가 상기 격벽에 접촉하고, 수면의 거품이 상기 수류에 의해 상기 수막을 기준으로 상기 수류형성공이 설치된 측의 반대측으로 유동하여 수집되고 상기 수막에 의해 그 유동이 차단되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 격벽이 판상체이고, 상기 수막의 일단부가 상기 격벽에 접촉하고 그 타단부는 상기 제2공간의 내측벽면과 이격되도록 구성하여, 수면의 거품이 상기 수류에 의한 물의 유동으로, 상기 수막의 둘레를 따라 유동하는 것을 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 좌측과 우측 중 상기 수류형성공이 설치되어 있는 측에서 상기 제2공간의 상단부에 설치되어 가스를 배출하는 가스배출구와, 상기 가스배출구와 연결되어 상기 가스에 포함하는 오존을 정화처리하는 활성탄필터를 포함하는 것을 또 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명에서 상기 격벽에는 상부에는 수면의 상측에 형성되어 거품과 가스를 상기 제1공간에서 상기 제2공간으로 배출시키는 가스유동공이 설치되되, 상기 가스유동공은 좌측 또는 우측 중, 상기 수막을 기준으로 상기 수류형성공이 설치된 측의 반대측에 형성되는 것을 또 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명에서 상기 케이스에는 상기 제1공간과 차단벽에 의해 분리되어 수밀된 제3공간이 형성되고, 상기 제3공간에 설치된 제어기와, 상기 차단벽에서 상기 제1공간에 노출되어 수위를 감지하고 감지신호를 상기 제어기로 전달하는 수위센서가 더 포함되되, 상기 수위센서는 상기 연결공의 중심위치와 같거나 그보다 높게 설치되는 것을 또 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명에서 상기 처리수배출구는 상기 제2공간의 수위를 소정 높이 이상으로 유지시킬 수 있도록 상기 제2공간의 바닥에서부터 소정 높이로 돌출된 형상으로 설치되고, 상기 제2공간에는 상기 처리수배출구를 덮는 캡부재가 설치되되, 상기 캡부재는 하부가 개방되고 상기 처리수배출구보다 높은 높이의 내부공간을 가지고, 상기 내부공간에 상기 처리수배출구가 위치하는 캡본체와, 상기 캡본체의 상단에 수직으로 설치되고 상기 내부공간과 대기를 연통시키는 공기출입기둥과, 상기 캡본체의 하단에 설치되고 상기 내부공간으로 처리수가 유입되는 처리수유입구를 포함하는 것을 또 다른 특징으로 한다.
또한, 본 발명에서 상기 캡부재는 상기 제2공간에서 그 내측벽면과 이격되어 있는 중간위치에 설치되어 상기 수류형성공을 통과하여 형성된 수류가 상기 캡본체의 둘레를 따라 선회하도록 함으로써, 상기 수류가 상기 수막을 기준으로 상기 수류형성공이 설치된 측의 반대측으로 진행하도록 구성된 것을 또 다른 특징으로 한다.
전술한 구성에 따른 본 발명은 오염수에 포함된 거품, 및 플라즈마 처리된 가스가 미세기포형태로 수중에서 발생됨에 따라 생성되는 거품을, 제2공간에서 수류 및 수막의 작용으로 효과적으로 제거한 후, 처리수를 배출시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 플라즈마를 이용한 수처리장치는 전체 장치가 박스형상의 케이스에 의해 제공되는 공간에 밀집될 수 있으면서도, 수처리 및 거품제거가 효과적으로 이루어질 수 있는 바, 컴팩트한 구조로 인해 설치공간의 제약을 극복할 수 있고, 높은 성능으로 사용상의 만족도를 높일 수 있다.
도 1는 종래 플라즈마처리기를 활용한 수질정화장치의 구성도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치의 분해사시도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치의 종단면구성도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치의 작용설명도
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치에서 제2공간의 작용상태도
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치에서 제2공간의 작용을 다른 단면에서 도시하는 작용상태도
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치에서 캡부재를 도시하는 사시도
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치에서 수막형성부재의 다른 형태를 도시하는 사시설명도
이하, 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마를 이용한 수처리장치는, 제1공간(21)과 제2공간(22)이 세워진 격벽(24)에 의해 구분되어 설치된 케이스(20)와, 상기 제1공간(21)에 연결되어 오염수(71)가 제1공간(21)으로 유입되는 오염수유입구(31)와, 상기 제1공간(21)에 설치되어 플라즈마처리된 가스를 수중에서 다수의 버블의 형태로 배출시켜 오염수(71)를 정화처리하는 플라즈마처리기(40)와, 상기 제2공간(22)에 설치되고 격벽(24)의 상부의 연결공(25)에 결합되어 제1공간(21)에서 제2공간(22)으로 처리수(72)와 가스가 이동하는 처리수유동관(61)과, 상기 처리수유동관(61)의 하단에 설치되어 상기 제2공간(22)으로 유입되는 처리수(72)가 낙하하면서 수막(73)을 형성하도록 하는 수막형성부재(62)와, 상기 수막(73)을 기준으로 좌측 또는 우측으로 치우친 위치에서 상기 격벽(24)에 관통공의 형태로 설치되어 제1공간(21)에서 제2공간(22)으로 진행하는 수류가 형성되는 수류형성공(26)과, 상기 제2공간(22)의 하부에 설치되어 처리수(72)를 배출시키는 처리수배출구(32)를 포함한다.
상기 케이스(20)는 박스형상을 가지고 내부에 장치들이 설치되며 수처리대상인 오염수(71)가 유입되어 수용되는 부분이다.
상기 케이스(20)의 내부는 제1공간(21)과 제2공간(22)이 세워진 격벽(24)에 의해 구분되도록 설치되고, 제1공간(21)을 중심으로 제2공간(22)의 반대편에는 제3공간(23)이 설치된다. 상기 격벽(24)은 수직의 판상체이다.
상기 격벽(24)에는 제1공간(21)에서 처리된 처리수(72)가 제2공간(22)으로 유동하는 연결공(25)과 수면 상측의 가스가 제1공간(21)에서 제2공간(22)으로 이동하는 가스유동공(29)이 설치되고, 하부에는 수류형성공(26)이 관통공의 형태로 설치되어 있다.
상기 제3공간(23)도 제1공간(21)과 차단벽(27)에 의해 분리되고 제1공간(21)으로부터 물이 유입되지 않도록 수밀되어 있다.
상기 제1공간(21)은 오염수(71)가 유입되어 정화처리되는 공간이고 제2공간(22)은 제1공간(21)으로부터 정화처리된 처리수(72)가 유입되어 외부의 수족관 등으로 배출되는 공간이며, 제3공간(23)은 제어기(미도시)와 플라즈마처리기(40)에 가스(공기)를 공급하는 압축기(49)와 기기장치들(93)이 설치되는 공간이다.
상기 오염수유입구(31)는 제1공간(21)에 연결되어 오염수(71)가 상기 제1공간(21)으로 유입되는 입구로서, 제1공간(21)의 바닥면에서 제3공간(23) 측으로 치우친 위치에 설치된다. 오염수유입구(31)와 외부의 수족관(미도시)이 연결되고, 공급펌프(미도시)에 의해 수족관의 오염수(71)가 제1공간(21)으로 유입될 수 있다.
상기 플라즈마처리기(40)는 제1공간(21)에 설치되어 플라즈마처리된 가스를 수중에서 다수의 버블의 형태로 배출시켜 오염수(71)를 정화처리하는 장치이다.
상기 플라즈마처리기(40)는 수중에 설치되고 가스(예컨대 공기)가 내부에서 유동하며 내부에 방전극(42)이 설치된 투명한 유전체관(41)과, 상기 유전체관(41)의 외부에서 수중에 설치된 대향전극(48)과, 상기 방전극(42)과 대향전극(48)에 전원을 인가하여 상기 유전체관(41) 내부에서 플라즈마를 발생시키기 위한 전원인가수단(미도시)과, 상기 유전체관(41)에 연결되어 상기 가스가 통과하면서 수중에서 다수의 기포로 변환되어 배출시키는 버블생성기(45)를 포함한다.
상기 유전체관(41)이 수평으로 설치되고 상기 버블생성기(45)도 다공체로 이루어져 수평으로 유전체관(41)의 하측에서 유전체관(41)과 나란히 설치된다. 상기 유전체관(41)과 버블생성기(45)는 연결통로(43)에 의해 연결되어 플라즈마처리된 가스가 유전체관(41)에서 버블생성기(45)로 유동할 수 있다.
이에 따라, 유전체관(41) 내부에 플라즈마 방전이 발생하고 소정압력의 가스가 그 방전영역을 통과하면서 오존, OH라디칼 등 활성물질이 생성된다.
그러한 오존, OH라디칼 등 활성물질을 포함하는 가스는 다공성물질인 버블생성기(45)를 통과하는 과정에서 다수의 미세기포로 변환되어 수중에 배출된다.
수중에 배출되는 오존, OH라디칼 등 활성물질을 포함하는 미세기포는 제1공간(21)으로 공급된 오염수(71)의 오염물질과 반응하면서 오염물질을 산화, 분해시켜 오염수(71)를 정화처리한다. 또한, 오염수(71)에 포함된 세균도, 플라즈마방전에 의한 자외선과 오존에 의해 살균되어 제거될 수 있다.
상기 처리수유동관(61)은 제2공간(22)에 설치되고 상기 격벽(24)의 상부의 연결공(25)에 결합되어 제1공간(21)에서 제2공간(22)으로 처리수(72)와 그 처리수에 포함된 가스가 이동하도록 안내한다.
상기 처리수유동관(61)은 엘보우(elbow)형상을 가져 제2공간(22)에서 하측방향으로 꺾여 있고, 격벽(24)의 상부에 설치된 연결공(25)과 결합되어 연결공(25)을 통해 월류하는 처리수(72)가 처리수유동관(61)을 통해 제2공간(22)으로 유동하게 된다.
상기 연결공(25)은 격벽(24)의 상부에서 좌우측으로 치우치지 않은 중간부분에 설치되는 것이 바람직하다.
상기 수막형성부재(62)는 처리수유동관(61)의 하단에 설치되어 제2공간(22)으로 유입되는 처리수(72)가 낙하하면서 수막(73)을 형성하도록 하는 부분이다.
수막형성부재(62)는 원판의 형상으로 형성되어 엘보우형상인 처리수유동관(61)의 하단에 부착되고 처리수유동관(61)의 끝단과의 사이에 틈이 형성되어 처리수유동관(61)을 통해 토출되는 처리수(72)가 원판의 상면을 타고 주위로 퍼지면서 낙하하여, 도 5와 같이, 원판의 주위에 둥근 수막(73)을 형성하게 된다.
또한, 상기 수막(73)은 그것의 일단부가 상기 격벽(24)에 접촉하여 흐르도록 수막형성부재(62)가 설치되고 이에 따라 수막(73)이 격벽(24)과 협동하여 거품(B)을 차단하는 차단벽(27)의 역할을 하게 된다.
상기 수막(73)은 후술하는 거품(B)(스컴;scum)이 도 5와 같이, 일측에 수집되도록 하고 거품(B)이 수막(73)으로 접근하는 경우에는 거품(B)과 접촉하여 소멸시킴으로써 거품(B)이 수막(73)을 통과하지 못하도록 차단한다. 이에 따라, 거품(B)이 성장하여 후술하는 가스배출구(26a)를 통해 활성탄필터를 오염시키지 않도록 하고, 처리수배출구(32)를 통해 수족관에도 거품(B)이 재유입되지 않도록 한다.
상기 수막(73)은 일단부가 상기 격벽(24)에 접촉하여 격벽(24)과 함께 거품(B)을 차단하는 역할을 하면 되므로, 도 8과 같이 변형된 형태로 구성할 수도 있다.
즉, 도 8의 (a)와 같이 수막형성부재(62a)를 원추형상으로 구성함으로써 원추형상의 표면을 타고 흐르는 처리수(72)가 보다 양호한 형태의 수막(73)을 형성할 수 있다. 또한, 도 8의 (b)와 같이 수막형성부재(62b)를 긴 슬릿(slit)형태의 토출구(62c)를 가진 부재로 형성하여 그 슬릿형태의 토출구(62c)를 통해 배출되는 처리수(72)가 커튼과 같은 수막(73)을 형성하도록 할 수 있다.
한편, 상기 수류형성공(26)은 수막(73)을 기준으로 좌측 또는 우측으로 치우친 위치에서 상기 격벽(24)의 하부에 관통공의 형태로 설치되어 제1공간(21)에서 제2공간(22)으로 진행하는 수류(S)가 형성되도록 한다.
오염수(71)가 계속 공급되어 정화처리되고 있는 제1공간(21)에서, 정화처리가 된 처리수(72)는 주로 격벽(24)의 연결공(25)을 통해 처리수유동관(61)으로 유동하고, 일부는 수류형성공(26)을 통과하여 제2공간(22)으로 진행함으로써 제2공간(22) 내를 소정거리 이동하는 수류(S)를 형성하게 된다.
그 수류(S)는 수류형성공(26)이 수막(73)을 기준으로 좌측 또는 우측으로 치우친 위치에 설치되므로, 도 5와 같이, 제2공간(22)의 내부벽면을 따라 선회하면서 다른 측을 향해 주위의 물도 함께 유동시킨다. 이러한 유동은 수면에 부유하는 거품(B)을 수막(73)의 일측으로 모으는 작용을 하게 된다.
상기 처리수배출구(32)는 제2공간(22)의 하부에 설치되어 처리수(72)를 배출시키고 있다.
구체적으로 처리수배출구(32)는 바닥에서부터 소정 높이로 돌출된 형상으로 설치되어 그 소정높이에서 처리수(72)가 빠져나가도록 함으로써 그 소정높이 이하의 수위에서는 처리수(72)가 빠지지 않으므로 제2공간(22)의 수위를 소정 높이 이상으로 유지시킬 수 있다. 이는 수면에 부유하는 거품(B)이 수집된 상태에서 수면에 남아 있을 수 있도록 하고 처리수(72)와 함께 빠져나가지 않도록 한다.
또한, 제2공간(22)에는 처리수배출구(32)를 덮는 캡부재(80)가 더 설치되어 배출구에 오존 등을 포함하는 가스가 유입되지 않도록 한다.
도 3 및 도 7을 참조하면, 상기 캡부재(80)는 하부가 개방되고 처리수배출구(32)보다 높은 높이의 내부공간(82a)을 가지고, 그 내부공간(82a)에 상기 처리수배출구(32)가 위치하는 캡본체(82)와, 상기 캡본체(82)의 상단에 수직으로 설치되고 상기 내부공간(82a)과 대기를 연통시키는 공기출입기둥(83)과, 상기 캡본체(82)의 하단에 설치되고 상기 내부공간(82a)으로 처리수(72)가 유입되는 처리수유입구(81)를 포함한다. 상기 공기출입기둥(83)의 상단은 상면덮개(26)의 설치공(26b)에 끼워져 대기와 연통된다.
상기 캡본체(82)가 소정높이의 처리수배출구(32)를 덮고 캡본체(82)의 하단에 처리수유입구(81)가 설치됨으로써 바닥근처에 유동하는 처리수(72)가 상기 내부공간(82a)으로 유입되어 처리수배출구(32)로 월류해 배출되고, 기포들은 처리수유입구(81)에 도달하기 전에 상승하여 처리수(72)와 분리된다.
상기 캡부재(80)는 제2공간(22)에서 그 내측벽면과 이격되어 있는 중간위치에 설치되어 수류형성공(26)을 통과하여 형성된 수류가 캡본체(82)의 둘레를 따라 선회하도록 함으로써, 상기 수류가 수막(73)을 기준으로 수류형성공(26)이 설치된 측의 반대측으로 진행하고 있다.
한편, 상기 가스유동공(29)은 격벽(24)의 상부에서 수면의 상측에 형성되는 것으로서, 플라즈마처리기(40)에서 발생된 오존 등 가스와 거품(B)이 제1공간(21)에서 제2공간(22)으로 배출될 수 있는 구멍이다.
상기 가스유동공(29)은 좌측 또는 우측 중, 상기 수막(73)을 기준으로 수류형성공(26)이 설치된 측의 반대측에 형성되는 것으로서, 이는 거품(B)이 수집되는 위치에 가스유동공(29)을 형성하여 가스유동공(29)을 통해 제2공간(22)으로 넘어오는 거품(B)이 다른 거품(B)과 함께 수집되도록 한 것이다. 특히, 좌측 또는 우측 중 가스유동공(29)이 위치하는 측의 반대측 위치에는 가스배출구(26a)가 설치되고 가스배출구(26a)는 활성탄필터와 연결되므로 가스배출구(26a)와 상기 가스유동공(29)을 서로 분리시키기 위함이다.
좌측과 우측 중 상기 수류형성공(26)이 설치되어 있는 측에서 상기 제2공간(22)의 상단부에 상기 가스배출구(26a)가 설치되어 가스를 배출하고 있다. 가스배출구(26a)는 제2공간(22)의 상면덮개(26)에 형성되는 것이 바람직하다.
가스배출구(26a)로 배출되는 오존 등 가스는 가스배출구(26a)와 배관(85)를 통해 연결된 활성탄필터를 통과함으로써 오존의 정화처리가 이루어지고 대기 중으로 배출될 수 있다.
한편, 제1공간(21)과 제3공간(23)을 분리하는 차단벽(27)에는 수위센서(92)가 설치되고 제1공간(21) 측에 노출됨으로써 제1공간(21)의 수위를 측정한다. 수위센서(92)의 감지신호는 제어기에 전달되고 그 감지신호에 따라 제어기는 공급펌프를 제어하여 제1공간(21)의 수위를 일정하게 유지시킨다. 상기 수위센서(92)는 상기 연결공(25)의 중심위치와 같거나 그보다 높게 설치된다.
상기 차단벽(27)에는 플라즈마처리기(40)의 지지체(46)가 지지공(27a)에 지지헤드(47)과 함께 고정설치되어 제1공간(21)에서 유전체관(41)을 수평으로 유지시키고 있고, 제1공간(21)에 위치하는 압축기(49), 전원인가수단 등과 플라즈마처리기(40)가 연결된다.
이하, 전술한 구성에 따른 본 실시예의 작용을 설명한다.
먼저, 도 4를 참조하면, 공급펌프에 의해 수족관의 오염수(71)가 오염수유입구(31)를 통해 제1공간(21)으로 유입된다.
공급펌프는 제어기에 의해 제어되어 수위센서(92)가 감지하는 위치에서 수위가 일정하도록 유지한다.
플라즈마처리기(40)는 압축기에서 공급받은 가스를 유전체관(41) 내로 유동시키고, 유전체관(41) 내벽과 방전극(42) 사이에서 발생하는 플라즈마에 의해 그 가스가 플라즈마반응하여 오존, OH라디컬 등 다량의 활성물질을 생성한다.
플라즈마와 반응하여 오존 등을 포함하는 가스는 버블생성기(45)를 통과하면서 다량의 미세기포로 변환되어 수중에 배출된다. 수중에서 미세기포의 오존, 라디컬물질은 오염물질과 반응하여 오염물질을 산화, 분해시킴으로써 오염수(71)를 정화처리하고, 살균작용도 한다.
오염수(71)가 정화처리된 처리수(72)는 격벽(24)의 연결공(25)을 월류하여 처리수유동관(61)으로 유동하게 되고, 처리수유동관(61)의 하단에 부착된 수막형성부재(62)의 상면을 타고 낙하함으로써 수막형성부재(62)를 벗어나 수막(73)을 형성한다.
그 수막(73)의 일단부가 상기 격벽(24)에 접촉하고 그 타단부는 상기 제2공간(22)의 내측벽면과 이격되도록 형성되어 있어 수막(73)은 소정길의 차단막을 형성한다.
그 수막(73)의 형성과 함께, 격벽(24)의 하부에 설치된 수류형성공(26)을 통하여 처리수(72)가 제2공간(22)으로 진입하여 수류를 형성하고 그 수류는 제2공간(22)의 내부벽면을 따라 선회하는 흐름을 형성한다.
또한, 격벽(24)의 상부에 설치된 가스유동공(29)을 통해서는 오존 등 가스와 미세기포의 발생과정에서 생성되는 거품(B)이 제2공간(22)으로 넘어가게 된다.
오염수(71) 및 그것이 처리된 처리수(72)는 유기물질이 포함되어 있어 거품이 발생하고, 수족관으로부터 유입되는 오염수(71)에 많은 거품(B)이 포함되어 있으며, 제1공간(21)에서의 정화처리과정 및 상기 수막(73)의 형성시 거품(B)이 발생한다. 해수는 유기물이 많아 특히 거품(B)의 발생이 많다.
그러한 거품(B)은 오염물질을 포함하고 있으므로 별도 수집될 필요가 있고 오존을 정화하는 활성탄필터 등에는 유입되지 않도록 해야 하는 바, 제2공간(22)에서 일측 공간의 수면에 수집되도록 하고, 관리자가 정기적으로 제거하여야 한다.
즉, 도 5 및 도 6을 참조하면, 본 실시예에서는 격벽(24)의 하부에서 좌측에 치우친 위치에 설치된 수류형성공(26)을 통해 제2공간(22)으로 진입하는 일부 처리수(72)의 수류(S)가 제2공간(22)의 내측벽면을 따라 선회하고 있다.
제2공간(22)에서 그 내측벽면과 이격되어 있는 중간위치에 캡본체(82)가 설치되어 있으므로, 캡본체(82)의 둘레를 따라 수류가 선회하면서 진행하는 흐름을 보이게 된다.
이와 함께, 처리수(72)의 상층부도 그 수류의 영향을 받아 같은 궤적으로 유동하려 하므로, 수막(73)을 기준으로 수면의 거품(B)이 수막(73)의 둘레를 따라 유동해 가게 된다.
결국, 상기 수류(S)가 수막(73)을 기준으로 수류형성공(26)이 설치된 측의 반대측으로 진행하는 것이고, 이에 따라 수면의 거품(B)이 수막(73)을 기준으로 수류형성공(26)이 설치된 측의 반대측으로 유동하여 수집되는 것이다.
수집된 거품(B)은 수막(73)과 격벽(24)에 의해 유동이 차단되므로, 그 차단된 위치에 계속 체류하면서 점차 누적되게 된다. 관리자는 정기적으로 누적된 거품(B)을 제거할 필요가 있다.
한편, 제2공간(22)으로 유입된 가스는 가스배출구(26a)를 통해 배출되어 활성탄필터에서 오존이 정화처리된 후 대기 중으로 배출된다.
상기 가스배출구(26a)는 수류형성공(26)이 설치되어 있는 측에 위치하고, 거품(B)이 수집되는 측과는 반대의 위치에 설치된 것이며, 제1공간(21)의 거품(B)이 통과해 넘어오는 가스유동공(29)과도 반대의 위치에 설치되므로, 거품(B)이 활성탄필터로 유입될 수 있는 위험이 해소되고 있다.
제2공간(22)에서 거품(B)이 제거된 처리수(72)는 캡부재(80)의 처리수유입구(81)를 통해 캡본체(82)의 내부공간(82a)으로 진입한 후, 처리수배출구(32)를 월류하여 외부의 수족관으로 재유입될 수 있다.
처리수(72)가 처리수유입구(81)로 유입되기 위해 하강하는 과정에서 처리수(72) 내의 미세기포는 상승함으로써 처리수유입구(81)로 유입되지 않는다.
또한, 캡본체(82) 내에 처리수(72)가 가득찬 상태에서 처리수배출구(32)를 통해 처리수(72)가 하강하면, 캡본체(82) 내에 진공압이 걸림으로써 배출이 원활하지 않을 수 있으나, 본 실시예에서는 캡본체(82)의 상단에 수직으로 설치되고 상기 내부공간(82a)과 대기를 연통시키는 공기출입기둥(83)이 설치됨으로써 내부공간(82a)의 압력이 대기압과 동일하게 되어 전술한 문제가 발생하지 않는다.
본 발명은 수족관과 같이 오염수를 정화처리하기 위해 사용될 수 있다.
특히, 해수를 사용하는 수족관에서 해수를 정화처리하는 용도로 효과적으로 사용될 수 있다.

Claims (7)

  1. 제1공간(21)과 제2공간(22)이 세워진 격벽(24)에 의해 구분되어 설치된 케이스(20)와,
    상기 제1공간(21)에 연결되어 오염수가 상기 제1공간(21)으로 유입되는 오염수유입구(31)와,
    상기 제1공간(21)에 설치되어 플라즈마처리된 가스를 수중에서 다수의 버블의 형태로 배출시켜 오염수를 정화처리하는 플라즈마처리기(40)와,
    상기 제2공간(22)에 설치되고 상기 격벽(24)의 상부의 연결공(25)에 결합되어 상기 제1공간(21)에서 상기 제2공간(22)으로 처리수와 가스가 이동하는 처리수유동관(61)과,
    상기 처리수유동관(61)의 하단에 설치되어 상기 제2공간(22)으로 유입되는 처리수가 낙하하면서 수막(73)을 형성하도록 하는 수막형성부재(62)와,
    상기 수막(73)을 기준으로 좌측 또는 우측으로 치우친 위치에서 상기 격벽(24)에 관통공의 형태로 설치되어 상기 제1공간(21)에서 상기 제2공간(22)으로 진행하는 수류가 형성되는 수류형성공(26)과,
    상기 제2공간(22)의 하부에 설치되어 처리수를 배출시키는 처리수배출구(32)를 포함하되,
    상기 수막형성부재(62)에 의해 형성되는 수막(73)은 그 수막(73)의 일단부가 상기 격벽(24)에 접촉하고,
    수면의 거품(B)이 상기 수류에 의해 상기 수막(73)을 기준으로 상기 수류형성공(26)이 설치된 측의 반대측으로 유동하여 수집되고 상기 수막(73)에 의해 그 유동이 차단되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 수처리장치
  2. 제1항에 있어서,
    상기 격벽(24)은 판상체이고,
    상기 수막(73)의 일단부가 상기 격벽(24)에 접촉하고 그 타단부는 상기 제2공간(22)의 내측벽면과 이격되도록 형성시킴으로써,
    수면의 거품(B)이 상기 수류에 의한 물의 유동으로 상기 수막(73)의 둘레를 따라 유동하는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 수처리장치
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    좌측과 우측 중 상기 수류형성공(26)이 설치되어 있는 측에서 상기 제2공간(22)의 상단부에 설치되어 가스를 배출하는 가스배출구(26a)와,
    상기 가스배출구(26a)와 연결되어 상기 가스에 포함하는 오존을 정화처리하는 활성탄필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 수처리장치
  4. 제3항에 있어서,
    상기 격벽(24)의 상부에는 수면의 상측에 형성되어 거품(B)과 가스를 상기 제1공간(21)에서 상기 제2공간(22)으로 배출시키는 가스유동공(29)이 설치되되,
    상기 가스유동공(29)은 좌측 또는 우측 중, 상기 수막(73)을 기준으로 상기 수류형성공(26)이 설치된 측의 반대측에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 수처리장치
  5. 제3항에 있어서,
    상기 케이스(20)에는 상기 제1공간(21)과 차단벽(27)에 의해 분리되어 수밀된 제3공간(23)이 형성되고,
    상기 제3공간(23)에 설치된 제어기와,
    상기 차단벽에서 상기 제1공간(21)에 노출되어 수위를 감지하고 감지신호를 상기 제어기로 전달하는 수위센서(92)가 더 포함되되,
    상기 수위센서(92)는 상기 연결공(25)의 중심위치와 같거나 그보다 높게 설치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 수처리장치
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 처리수배출구(32)는 상기 제2공간(22)의 수위를 소정 높이 이상으로 유지시킬 수 있도록 상기 제2공간(22)의 바닥에서부터 소정 높이로 돌출된 형상으로 설치되고,
    상기 제2공간(22)에는 상기 처리수배출구(32)를 덮는 캡부재(80)가 설치되되,
    상기 캡부재(80)는
    하부가 개방되고 상기 처리수배출구(32)보다 높은 높이의 내부공간(82a)이 형성되고 상기 내부공간(82a)에 상기 처리수배출구(32)가 위치하는 캡본체(82)와,
    상기 캡본체(82)의 상단에 수직으로 설치되고 상기 내부공간(82a)과 대기를 연통시키는 공기출입기둥(83)과,
    상기 캡본체(82)의 하단에 설치되고 상기 내부공간(82a)으로 처리수가 유입되는 처리수유입구(81)를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 수처리장치
  7. 제6항에 있어서,
    상기 캡부재(80)는
    상기 제2공간(22)에서 그 내측벽면과 이격되어 있는 중간위치에 설치되어
    상기 수류형성공(26)을 통과하여 형성된 수류가 상기 캡본체(82)의 둘레를 따라 선회하도록 함으로써,
    상기 수류가 상기 수막(73)을 기준으로 상기 수류형성공(26)이 설치된 측의 반대측으로 진행하도록 구성된 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 수처리장치
PCT/KR2015/012430 2015-11-18 2015-11-18 플라즈마를 이용한 수처리장치 WO2017086499A1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/KR2015/012430 WO2017086499A1 (ko) 2015-11-18 2015-11-18 플라즈마를 이용한 수처리장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/KR2015/012430 WO2017086499A1 (ko) 2015-11-18 2015-11-18 플라즈마를 이용한 수처리장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017086499A1 true WO2017086499A1 (ko) 2017-05-26

Family

ID=58717472

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2015/012430 WO2017086499A1 (ko) 2015-11-18 2015-11-18 플라즈마를 이용한 수처리장치

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2017086499A1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112414507A (zh) * 2020-11-23 2021-02-26 佛山市沃熙电器科技有限公司 一种水位检测的方法及电子设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100940758B1 (ko) * 2009-05-22 2010-02-10 (주)엔플라 난분해성 폐수처리를 위한 미세 오존 버블이 함유된 버블 오존수를 이용한 하이브리드 수처리 장치
KR101108146B1 (ko) * 2011-09-05 2012-02-20 강신홍 플라즈마 모듈 정화 수족관
KR20120022621A (ko) * 2010-08-11 2012-03-12 정장근 수족관 등에 설치되는 플라즈마를 이용한 수처리장치
KR101437373B1 (ko) * 2014-02-24 2014-09-16 주식회사 플라즈마코리아 수족관용 플라즈마 수처리장치
KR20150100031A (ko) * 2014-02-24 2015-09-02 주식회사 플라즈마코리아 플라즈마 수처리장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100940758B1 (ko) * 2009-05-22 2010-02-10 (주)엔플라 난분해성 폐수처리를 위한 미세 오존 버블이 함유된 버블 오존수를 이용한 하이브리드 수처리 장치
KR20120022621A (ko) * 2010-08-11 2012-03-12 정장근 수족관 등에 설치되는 플라즈마를 이용한 수처리장치
KR101108146B1 (ko) * 2011-09-05 2012-02-20 강신홍 플라즈마 모듈 정화 수족관
KR101437373B1 (ko) * 2014-02-24 2014-09-16 주식회사 플라즈마코리아 수족관용 플라즈마 수처리장치
KR20150100031A (ko) * 2014-02-24 2015-09-02 주식회사 플라즈마코리아 플라즈마 수처리장치

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112414507A (zh) * 2020-11-23 2021-02-26 佛山市沃熙电器科技有限公司 一种水位检测的方法及电子设备
CN112414507B (zh) * 2020-11-23 2024-04-23 佛山市百斯特电器科技有限公司 一种水位检测的方法及电子设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0759891B1 (en) Method and apparatus for water treatment
WO2017048034A1 (ko) 마이크로 버블을 이용한 공기 청정장치
WO2015030381A1 (en) Partition-type floatation apparatus using fine bubbles
WO2016032224A2 (ko) 전기 집진 장치를 이용한 습식 공기정화장치
KR101770597B1 (ko) 플라즈마를 이용한 수처리장치
WO2011115335A1 (ko) 가스 포집형 기체-액체 반응 장치와 이를 이용한 수처리 장치, 가스 정화 장치
WO2011016638A2 (ko) 산소용해장치
WO2020162674A1 (ko) 습식 공기청정장치
WO2015016556A1 (ko) 스컴 제거를 위한 고전압 방전 시스템
WO2017086499A1 (ko) 플라즈마를 이용한 수처리장치
WO2010055982A1 (ko) 잔류오존을 제거하는 상향류식 오존접촉조
WO2018021640A1 (ko) 미생물을 이용한 습식 스크러버 및 상기 스크러버를 이용한 유해공기 정화방법
WO2014148869A1 (ko) 선박평형수 처리 시스템
WO2016089013A1 (ko) 초음파를 이용한 습식 가스 세정장치
WO2016080780A1 (ko) 초음파 가습기
WO2016006952A1 (ko) 다양한 규모와 모양의 생물여과조 디자인이 가능한 양식장 사육수의 생물여과장치 및 생물여과시스템
WO2015023126A1 (ko) 수소챔버 및 산소챔버를 구비한 물통
WO2023008676A1 (ko) 수직형 이젝터와 오존을 이용한 상하수도 오폐수 처리장치
WO2016080779A1 (ko) 초음파 가습기
WO2015076562A2 (ko) 무동력 역세 기능을 갖는 생물막 수처리 장치
KR20120029743A (ko) 수족관 정수장치
KR101626529B1 (ko) 플라즈마처리기가 설치된 절삭유 재생장치
KR20200043780A (ko) 자가정화 기능을 가지는 기체 정화장치
JP4923266B2 (ja) 汚染水処理装置
WO2018164480A1 (ko) 전기응집장치

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15908845

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

32PN Ep: public notification in the ep bulletin as address of the adressee cannot be established

Free format text: NOTING OF LOSS OF RIGHTS PURSUANT TO RULE 112(1) EPC (EPO FORM 1205A DATED 16.11.2018)

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15908845

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1