WO2017051951A1 - Embedded substrate having heat sink for heat dissipation and method for producing same - Google Patents

Embedded substrate having heat sink for heat dissipation and method for producing same Download PDF

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WO2017051951A1
WO2017051951A1 PCT/KR2015/010156 KR2015010156W WO2017051951A1 WO 2017051951 A1 WO2017051951 A1 WO 2017051951A1 KR 2015010156 W KR2015010156 W KR 2015010156W WO 2017051951 A1 WO2017051951 A1 WO 2017051951A1
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WO
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metal core
heating element
uneven
heat dissipation
pillars
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PCT/KR2015/010156
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김현호
차상석
이종태
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재단법인 다차원 스마트 아이티 융합시스템 연구단
주식회사 심텍
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits

Definitions

  • the following embodiments relate to an embedded substrate using a heat sink for heat dissipation and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a technique for improving heat dissipation by embedding uneven pillars forming a heat sink together with a heating element. will be.
  • a heat radiation material In recent years, in order to improve the heat radiation characteristic of a semiconductor substrate, it is proposed to use a heat radiation material.
  • copper, aluminum, and the like which are inexpensive and have good heat dissipation, are used for the semiconductor substrate.
  • the existing technologies are a method of inserting a heat-dissipating metal such as copper, aluminum, etc., a method of attaching a heat sink to the inside of the semiconductor substrate to improve heat dissipation characteristics.
  • the method of attaching the heat sink attaches a previously prepared heat sink to the metal core bottom surface of the metal printed circuit board, which may not be suitable for miniaturization of the semiconductor substrate.
  • Embodiments of the present invention provide a technology that can contribute to the miniaturization and thinning of a semiconductor substrate while improving heat dissipation characteristics.
  • Embodiments of the present invention can improve heat dissipation characteristics while miniaturizing an embedded substrate by embedding the heating element and the request pillars together with a metal core.
  • Embedded substrate for heat dissipation is a heating element; A metal core embedding the heating element; And a plurality of uneven pillars embedded with the heat generating element by the metal core.
  • the plurality of uneven pillars are formed of copper or aluminum.
  • the plurality of uneven pillars are formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core.
  • the at least one heating element includes at least one of an active element, a passive element, and an integrated circuit.
  • An insulating material is filled between the uneven pillars.
  • the heat generating element and the plurality of uneven pillars are formed in the same layer.
  • Embedded substrate for heat dissipation is a metal core; A heating element embedded by the metal core; And a plurality of uneven pillars forming an uneven structure on the lower surface of the metal core.
  • the plurality of uneven pillars are formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core.
  • the heating element and the plurality of uneven pillars are formed in different layers.
  • Embedded substrate for heat dissipation comprises a first heating element; A first insulating layer embedding the first heat generating element; A plurality of first uneven pillars embedded with the first heating element by the first insulating layer; A second heating element; A second insulating layer embedding the second heating element; And a plurality of second uneven pillars embedded with the second heating element by the first insulating layer. And a common metal core for the first heating element and the second heating element.
  • Embedded substrate manufacturing method for heat dissipation comprises the steps of preparing a metal core; Disposing a heating element and a plurality of uneven pillars on an upper surface of the metal core; Embedding the heating element and the plurality of uneven pillars; It includes.
  • the method further includes forming the plurality of uneven pillars by bonding metal pillars to the metal core or by shaving the metal core.
  • An embedded substrate for heat dissipation comprises the steps of preparing a metal core; Embedding a heating element using the metal core; And forming a plurality of uneven pillars on the lower surface of the metal core.
  • Embodiments of the present invention provide a technology that can contribute to the miniaturization and thinning of a semiconductor substrate while improving heat dissipation characteristics.
  • Embodiments of the present invention can improve heat dissipation characteristics while miniaturizing an embedded substrate by embedding the heating element and the request pillars together with a metal core.
  • FIG. 1 is a view showing an embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 and 3 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 1.
  • FIG. 4 is a view showing that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers according to another embodiment of the present invention.
  • 5 and 6 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 4.
  • FIG. 7 is a view showing that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is an operation flowchart illustrating a method of manufacturing an embedded substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 1 is a view showing an embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention.
  • the embedded substrate includes a metal core 110, an adhesive layer 120, an insulating layer 130, a heat generating element 140, and a plurality of uneven pillars 150.
  • the insulating layer 130 may be formed of a dielectric material or air.
  • between the uneven pillars 150 may be filled with a dielectric material, or may be filled with air.
  • the metal core 110 may be formed of a metal having high thermal conductivity such as copper or aluminum.
  • An adhesive layer 120 is formed on a top surface of the metal core 110 using a material such as a fixed adhesive, and a heat generating element 140 is disposed on the adhesive layer 120.
  • the heating element 140 may include at least one of an active element, a passive element, or an integrated circuit, an LED chip, and a camera chip.
  • the heat generating element 140 may be embedded by the metal core 110 and the insulating layer 130.
  • the uneven pillars 150 may be disposed on an upper surface or a lower surface of the metal core 110 to form a heat sink to dissipate heat generated by the heating element 140.
  • FIG. 2 and 3 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 1.
  • the present invention prepares a metal core 110 to manufacture an embedded substrate.
  • An adhesive layer 120 may be formed on an upper surface of the metal core 110, and the adhesive layer 120 may be formed through an adhesive, a tape, a solder paste, or the like.
  • the adhesive layer 120 may be bonded through carbon nanotubes (CNT) material.
  • CNT carbon nanotubes
  • the heating element 140 is disposed on the adhesive layer 120, and the metal slug 141 is formed at an appropriate position of the heating element 140.
  • uneven pillars 150 are formed on the same layer as the heat generating element 140.
  • the uneven pillars 150 form an uneven structure on the upper surface of the metal core 110.
  • the uneven pillars 150 formed on the upper surface of the metal core 110 are formed on the same layer as the heating element 140 and embedded like the heating element 140. Accordingly, not only the heat dissipation characteristics can be improved, but also the miniaturization of the embedded substrate can be achieved.
  • the uneven pillars 150 may be formed of copper or aluminum, and may be formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core. That is, the uneven pillars 150 may be individually bonded to the adhesive layer 120, and the uneven pillars 150 and the metal core 110 may be manufactured together as one frame. In particular, the uneven pillars 150 may be bonded through adhesive, tape, solder paste, and the like, and the uneven pillars 150 and the metal core 110 are formed in one frame through various processes such as drilling, etching, and punching. It can be produced together as.
  • the uneven pillars 150 are formed on the metal core 110, the uneven pillars 150 and the heating element 140 are embedded together by an insulating layer 130 made of air or a dielectric material.
  • vias are formed to electrically connect the heating elements 140, and the vias are plated with a conductive material (161).
  • a pattern 162 having a predetermined shape is formed on the surface of the insulating layer 130 by a conductive material.
  • the formed pattern 163 is covered with the insulating layer 162, and another via 164 is formed on the insulating layer 163.
  • an embedded substrate for embedding the uneven pillars 150 and the heating element 140 together is manufactured.
  • FIG. 4 is a view illustrating that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers.
  • the embedded substrate includes a metal core 310, an adhesive layer 320, an insulating layer 330, a heating element 340, and an uneven pillar 350.
  • the uneven pillar 350 forms an uneven structure on the lower surface of the metal core 310.
  • the heating element 340 is disposed on the upper surface of the metal core 310, the heat generated by the embedded heating element 340 is radiated through the uneven pillar 350 bonded to the metal core 310 do.
  • the uneven pillars 350 are filled with an insulating layer 331 including air or a dielectric material.
  • 5 and 6 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 4.
  • the present invention prepares a metal core 310 to manufacture an embedded substrate.
  • An adhesive layer 320 may be formed on the bottom surface of the metal core 310, and the adhesive layer 320 may be formed through an adhesive, a tape, a solder paste, or the like.
  • Uneven pillars 350 are formed under the adhesive layer 320. That is, the uneven pillars 350 form an uneven structure on the lower surface of the metal core 310, and the uneven pillars 350 formed on the lower surface of the metal core 310 have different layers from the heating element 340. Is formed. Accordingly, not only the heat dissipation characteristics can be improved, but also the miniaturization of the embedded substrate can be achieved.
  • the uneven pillars 350 may be formed of copper or aluminum, and may be formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core. That is, the uneven pillars 350 may be individually bonded to the adhesive layer 320, and the uneven pillars 350 and the metal core 310 may be manufactured together as one frame. In particular, the uneven pillars 350 may be bonded through adhesive, tape, solder paste, and the like, and the uneven pillars 350 and the metal core 310 are formed in one frame through various processes such as drilling, etching, and punching. It can be produced together as.
  • the uneven pillars 350 are formed on the bottom surface of the metal core 310, the uneven pillars 350 are covered by an insulating layer 331 made of air or a dielectric material.
  • the heating element 340 is disposed on the upper surface of the metal core 310 through the adhesive layer 321.
  • a metal slug 341 is formed at 340.
  • the heat generating element 340 is covered by the insulating layer 330 made of air or a dielectric material.
  • Vias are formed for electrical connection of the heating element 340, and the vias are plated with a conductive material (361).
  • a pattern 362 having a predetermined shape is formed on the surface of the insulating layer 330 by a conductive material.
  • the formed pattern 362 is covered with an insulating layer 363, and another via 364 is formed on the insulating layer 363.
  • FIG. 7 is a view showing that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers according to another embodiment of the present invention.
  • one embedded substrate may embed two or more heating elements in different layers. That is, the first heating element 741 is disposed on the lower surface of the metal core 710 through the adhesive layer 721, while the second heating element 742 is disposed on the common metal core 710 through the adhesive layer 722. It is disposed on the upper surface of the).
  • the first uneven pillars 751 are disposed on the same layer as the first heat generating element 741 and embedded together with the heat generating element 741, while the second uneven pillars 752 are formed of the second heat generating element ( It is disposed on the same layer as 742 and embedded with the heating element 742.
  • the first uneven pillars 751 and the first heating element 741 are covered with the insulating layer 731, and the second uneven pillars 752 and the second heating element 742 are covered with the insulating layer 732. Lose.
  • FIG. 8 is an operation flowchart illustrating a method of manufacturing an embedded substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure.
  • a metal core is prepared (810).
  • the metal core may be formed of a metal having high thermal conductivity such as copper, aluminum, or the like.
  • the heating element in order to embed the heating element, is disposed on any one of the upper and lower surfaces of the metal core (820).
  • an adhesive layer may be used to arrange the heating element.
  • the present invention forms the uneven pillars on the upper or lower surface of the metal core (830). That is, the uneven pillars may be formed on the same layer as the heating element, or may be formed on another layer.
  • the present invention embeds the heating element and the uneven pillar together (840).
  • the heating element is located on the upper surface of the metal core, while the uneven pillar may be located on the lower surface of the metal core.

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

An embedded substrate for heat dissipation according to one embodiment of the present invention comprises: a metal core; a plurality of protruding columns forming, on the upper surface of the metal core, a concave-and-convex structure; and at least one heating element arranged on the upper surface of the metal core.

Description

방열을 위하여 히트 싱크를 갖는 임베디드 기판 및 그 제조 방법Embedded substrate with heat sink for heat dissipation and its manufacturing method
아래의 실시예들은 방열을 위하여 히트 싱크를 사용하는 임베디드 기판 및 그 제작 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로, 히트 싱크를 형성하는 요철 기둥들을 발열 소자와 함께 임베딩함으로써 방열 특성을 개선하기 위한 기술에 관한 것이다.The following embodiments relate to an embedded substrate using a heat sink for heat dissipation and a method of manufacturing the same. More specifically, the present invention relates to a technique for improving heat dissipation by embedding uneven pillars forming a heat sink together with a heating element. will be.
산업 발달 및 전자기술의 발달로 모든 전자기기가 박막화, 소형화, 다기능화를 지향한다. 이러한 박막화, 소형화, 다기능화로 인하여, 반도체 기판에는 많은 수동 소자, 능동 소자, 집적 회로 등이 실장되며, 이것은 반도체 기판에서 많은 열을 발생시킨다. 따라서, 최근의 반도체 기판은 좋은 방열 특성을 요구한다.With the development of industry and the development of electronic technology, all electronic devices are aiming for thinning, miniaturization and multifunctionality. Due to such thinning, miniaturization, and multifunctionalization, many passive elements, active elements, integrated circuits, and the like are mounted on a semiconductor substrate, which generates a lot of heat in the semiconductor substrate. Therefore, recent semiconductor substrates require good heat dissipation characteristics.
최근, 반도체 기판의 방열 특성을 개선하기 위하여, 방열 재료를 사용하는 것이 제안된다. 특히, 가격이 저렴하고, 좋은 방열 특성을 갖는 구리, 알루미늄 등이 반도체 기판에 사용된다. 다만, 기존의 기술들은 방열 특성을 개선하기 위하여 반도체 기판의 내부에 구리, 알루미늄 등과 같은 방열 금속을 삽입하는 방법, 히트 싱크를 부착하는 방법 등이 사용된다.In recent years, in order to improve the heat radiation characteristic of a semiconductor substrate, it is proposed to use a heat radiation material. In particular, copper, aluminum, and the like, which are inexpensive and have good heat dissipation, are used for the semiconductor substrate. However, the existing technologies are a method of inserting a heat-dissipating metal such as copper, aluminum, etc., a method of attaching a heat sink to the inside of the semiconductor substrate to improve heat dissipation characteristics.
특히, 히트 싱크를 부착하는 방법은 메탈 인쇄 회로 기판의 메탈 코어 하부면에 미리 준비된 히트 싱크를 부착하며, 이것은 반도체 기판의 소형화에 적합하지 않을 수 있다.In particular, the method of attaching the heat sink attaches a previously prepared heat sink to the metal core bottom surface of the metal printed circuit board, which may not be suitable for miniaturization of the semiconductor substrate.
본 발명의 실시예들은 방열 특성을 개선하면서도 반도체 기판의 소형화, 박막화에 기여할 수 있는 기술을 제공한다.Embodiments of the present invention provide a technology that can contribute to the miniaturization and thinning of a semiconductor substrate while improving heat dissipation characteristics.
본 발명의 실시예들은 발열 소자와 요청 기둥들을 메탈 코어를 함께 임베딩함으로써 임베디드 기판을 소형화하면서도 방열 특성을 개선할 수 있다.Embodiments of the present invention can improve heat dissipation characteristics while miniaturizing an embedded substrate by embedding the heating element and the request pillars together with a metal core.
본 발명의 일실시예에 따른 방열을 위한 임베디드 기판은 발열 소자; 상기 발열 소자를 임베딩하는 메탈 코어; 및 상기 발열 소자와 함께 상기 메탈 코어에 의하여 임베딩되는 복수의 요철 기둥들을 포함한다.Embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention is a heating element; A metal core embedding the heating element; And a plurality of uneven pillars embedded with the heat generating element by the metal core.
상기 복수의 요철 기둥들은 구리 또는 알루미늄으로 형성된다.The plurality of uneven pillars are formed of copper or aluminum.
상기 복수의 요철 기둥들은 상기 메탈 코어에 접착되거나, 상기 메탈 코어를 깎음으로써 형성된다.The plurality of uneven pillars are formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core.
상기 적어도 하나의 발열 소자는 능동 소자, 수동 소자 또는 집적 회로(Integrated Circuit) 중 적어도 하나를 포함한다.The at least one heating element includes at least one of an active element, a passive element, and an integrated circuit.
상기 요철 기둥들 사이에는 절연 물질이 채워진다.An insulating material is filled between the uneven pillars.
상기 발열 소자 및 상기 복수의 요철 기둥들은 동일한 레이어에 형성된다.The heat generating element and the plurality of uneven pillars are formed in the same layer.
본 발명의 일실시예에 따른 방열을 위한 임베디드 기판은 메탈 코어; 상기 메탈 코어에 의하여 임베딩되는 발열 소자; 및 상기 메탈 코어의 하부 면에 요철 구조를 형성하는 복수의 요철 기둥들을 포함한다.Embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention is a metal core; A heating element embedded by the metal core; And a plurality of uneven pillars forming an uneven structure on the lower surface of the metal core.
상기 복수의 요철 기둥들은 상기 메탈 코어에 접착되거나, 상기 메탈 코어를 깎음으로써 형성된다.The plurality of uneven pillars are formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core.
상기 발열 소자 및 상기 복수의 요철 기둥들은 서로 다른 레이어에 형성된다.The heating element and the plurality of uneven pillars are formed in different layers.
본 발명의 일실시예에 따른 방열을 위한 임베디드 기판은 제1 발열 소자; 상기 제1 발열 소자를 임베딩하는 제1 절연층; 상기 제1 발열 소자와 함께 상기 제1 절연층에 의하여 임베딩되는 복수의 제1 요철 기둥들; 제2 발열 소자; 상기 제2 발열 소자를 임베딩하는 제2 절연층; 및 상기 제2 발열 소자와 함께 상기 제1 절연층에 의하여 임베딩되는 복수의 제2 요철 기둥들; 및 상기 제1 발열 소자와 상기 제2 발열 소자를 위한 공통의 메탈 코어를 포함한다.Embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention comprises a first heating element; A first insulating layer embedding the first heat generating element; A plurality of first uneven pillars embedded with the first heating element by the first insulating layer; A second heating element; A second insulating layer embedding the second heating element; And a plurality of second uneven pillars embedded with the second heating element by the first insulating layer. And a common metal core for the first heating element and the second heating element.
본 발명의 일실시예에 따른 방열을 위한 임베디드 기판 제조 방법은 메탈 코어를 준비하는 단계; 상기 메탈 코어의 상부면에 발열 소자 및 복수의 요철 기둥들을 배치하는 단계; 및 발열 소자 및 복수의 요철 기둥들을 임베딩하는 단계; 를 포함한다.Embedded substrate manufacturing method for heat dissipation according to an embodiment of the present invention comprises the steps of preparing a metal core; Disposing a heating element and a plurality of uneven pillars on an upper surface of the metal core; Embedding the heating element and the plurality of uneven pillars; It includes.
상기 방법은 금속 기둥들을 상기 메탈 코어에 접착하거나 상기 메탈 코어를 깎음으로써 상기 복수의 요철 기둥들을 형성하는 단계를 더 포함한다.The method further includes forming the plurality of uneven pillars by bonding metal pillars to the metal core or by shaving the metal core.
본 발명의 일실시예에 따른 방열을 위한 임베디드 기판은 메탈 코어를 준비하는 단계; 상기 메탈 코어를 이용하여 발열 소자를 임베딩하는 단계; 및 상기 메탈 코어의 하부 면에 복수의 요철 기둥들을 형성하는 단계를 포함한다.An embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention comprises the steps of preparing a metal core; Embedding a heating element using the metal core; And forming a plurality of uneven pillars on the lower surface of the metal core.
본 발명의 실시예들은 방열 특성을 개선하면서도 반도체 기판의 소형화, 박막화에 기여할 수 있는 기술을 제공한다.Embodiments of the present invention provide a technology that can contribute to the miniaturization and thinning of a semiconductor substrate while improving heat dissipation characteristics.
본 발명의 실시예들은 발열 소자와 요청 기둥들을 메탈 코어를 함께 임베딩함으로써 임베디드 기판을 소형화하면서도 방열 특성을 개선할 수 있다.Embodiments of the present invention can improve heat dissipation characteristics while miniaturizing an embedded substrate by embedding the heating element and the request pillars together with a metal core.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 방열을 위한 임베디드 기판을 나타낸 도면이다.1 is a view showing an embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention.
도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 임베디드 기판의 제조 과정의 예를 나타낸 도면이다.2 and 3 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 1.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따라 발열 소자와 요철 기둥들이 서로 다른 레이어에서 임베딩되는 것을 나타낸 도면이다.4 is a view showing that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers according to another embodiment of the present invention.
도 5 및 도 6은 도 4에 도시된 임베디드 기판의 제조 과정의 예를 나타낸 도면이다.5 and 6 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 4.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 발열 소자와 요철 기둥들이 서로 다른 레이어에서 임베딩되는 것을 나타낸 도면이다.7 is a view showing that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers according to another embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 기판 제조 방법을 나타낸 동작 흐름도이다.8 is an operation flowchart illustrating a method of manufacturing an embedded substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure.
이하, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited or limited by the embodiments. Also, like reference numerals in the drawings denote like elements.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 방열을 위한 임베디드 기판을 나타낸 도면이다.1 is a view showing an embedded substrate for heat dissipation according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 임베디드 기판은 메탈 코어(110), 접착층(120), 절연층(130), 발열 소자(140) 및 복수의 요철 기둥들(150)을 포함한다. 여기서, 절연층(130)은 유전 물질 또는 공기로 형성될 수 있다. 특히, 요철 기둥들(150) 사이에는 유전 물질이 채워지거나, 공기가 채워질 수 있다.Referring to FIG. 1, the embedded substrate includes a metal core 110, an adhesive layer 120, an insulating layer 130, a heat generating element 140, and a plurality of uneven pillars 150. Here, the insulating layer 130 may be formed of a dielectric material or air. In particular, between the uneven pillars 150 may be filled with a dielectric material, or may be filled with air.
메탈 코어(110)는 구리 또는 알루미늄과 같은 열전도율이 높은 금속으로 형성될 수 있다. 메탈 코어(110)의 상부 면에는 고정형 접착제와 같은 물질로 접착층(120)이 형성되고, 접착층(120)의 상부에는 발열 소자(140)가 배치된다.The metal core 110 may be formed of a metal having high thermal conductivity such as copper or aluminum. An adhesive layer 120 is formed on a top surface of the metal core 110 using a material such as a fixed adhesive, and a heat generating element 140 is disposed on the adhesive layer 120.
발열 소자(140)는 능동 소자, 수동 소자 또는 집적 회로(Integrated Circuit), LED 칩, 카메라 칩 중 적어도 하나를 포함한다. 발열 소자(140)는 메탈 코어(110) 및 절연층(130)에 의하여 임베딩될 수 있다.The heating element 140 may include at least one of an active element, a passive element, or an integrated circuit, an LED chip, and a camera chip. The heat generating element 140 may be embedded by the metal core 110 and the insulating layer 130.
아래에서 자세히 설명되겠지만, 발열 소자(140)에 의해 발생된 열을 방출하기 위하여 메탈 코어(110)의 상부면 또는 하부면에는 히트 싱크를 형성하기 위하여 요철 기둥들(150)이 배치될 수 있다.As will be described in detail below, the uneven pillars 150 may be disposed on an upper surface or a lower surface of the metal core 110 to form a heat sink to dissipate heat generated by the heating element 140.
도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 임베디드 기판의 제조 과정의 예를 나타낸 도면이다.2 and 3 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 1.
도 2를 참조하면, 본 발명은 임베디드 기판을 제조하기 위하여 메탈 코어(110)을 준비한다. 메탈 코어(110)의 상부면에는 접착 층(120)이 형성될 수 있으며, 접착 층(120)은 접착제, 테이프, 솔더 페이스트 등을 통하여 형성될 수 있다. 또한, 접착 층(120)은 CNT(Carbon Nanotubes) 물질을 통하여 접착될 수 있다. 이를 통하여 열전도성이 향상되고, 투명성, 고강도, 난연성, 광택성, 내화학성 특성 등을 복합적으로 구현할 수 있다.Referring to FIG. 2, the present invention prepares a metal core 110 to manufacture an embedded substrate. An adhesive layer 120 may be formed on an upper surface of the metal core 110, and the adhesive layer 120 may be formed through an adhesive, a tape, a solder paste, or the like. In addition, the adhesive layer 120 may be bonded through carbon nanotubes (CNT) material. Through this, the thermal conductivity is improved, and transparency, high strength, flame retardancy, glossiness, chemical resistance characteristics, and the like can be complexly implemented.
접착 층(120) 위에는 발열 소자(140)가 배치(placement)되며, 발열 소자(140)의 적절한 위치에 메탈 슬러그(141)가 형성된다. 또한, 발열 소자(140)와 동일한 레이어에는 요철 기둥들(150)이 형성된다.The heating element 140 is disposed on the adhesive layer 120, and the metal slug 141 is formed at an appropriate position of the heating element 140. In addition, uneven pillars 150 are formed on the same layer as the heat generating element 140.
요철 기둥들(150)은 메탈 코어(110)의 상부 면에서 요철 구조를 형성한다. 이 때, 메탈 코어(110)의 상부 면에 형성된 요철 기둥들(150)은 발열 소자(140)와 동일한 레이어에 형성되고, 발열 소자(140)와 같이 임베딩된다. 이에 따라, 방열 특성을 개선할 수 있을 뿐만 아니라, 임베디드 기판의 소형화를 달성할 수 있다.The uneven pillars 150 form an uneven structure on the upper surface of the metal core 110. In this case, the uneven pillars 150 formed on the upper surface of the metal core 110 are formed on the same layer as the heating element 140 and embedded like the heating element 140. Accordingly, not only the heat dissipation characteristics can be improved, but also the miniaturization of the embedded substrate can be achieved.
이 때, 요철 기둥들(150)은 구리 또는 알루미늄으로 형성될 수 있으며, 메탈 코어에 접착되거나, 메탈 코어를 깎음으로써 형성될 수 있다. 즉, 요철 기둥들(150)은 개별적으로 접착층(120)에 접착될 수도 있고, 요철 기둥들(150)과 메탈 코어(110)는 하나의 틀로서 함께 제작된 것일 수 있다. 특히, 요철 기둥들(150)은 접착제, 테이프, 솔더 페이스트 등을 통하여 접착될 수 있으며, 드릴링, 식각, 펀칭 등의 다양한 공정을 통하여 요철 기둥들(150)과 메탈 코어(110)는 하나의 틀로서 함께 제작될 수 있다.In this case, the uneven pillars 150 may be formed of copper or aluminum, and may be formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core. That is, the uneven pillars 150 may be individually bonded to the adhesive layer 120, and the uneven pillars 150 and the metal core 110 may be manufactured together as one frame. In particular, the uneven pillars 150 may be bonded through adhesive, tape, solder paste, and the like, and the uneven pillars 150 and the metal core 110 are formed in one frame through various processes such as drilling, etching, and punching. It can be produced together as.
또한, 요철 기둥들(150)이 메탈 코어(110) 상에 형성된 이후에, 공기 또는 유전 물질로 이루어진 절연층(130)에 의하여 요철 기둥들(150) 및 발열 소자(140)는 함께 임베딩된다.In addition, after the uneven pillars 150 are formed on the metal core 110, the uneven pillars 150 and the heating element 140 are embedded together by an insulating layer 130 made of air or a dielectric material.
도 3을 참조하면, 절연층(130)이 형성된 이후에, 발열 소자(140)의 전기적인 연결을 위하여 비아(via)가 형성되고, 비아는 전도성 물질로 도금된다(161). 그리고, 전도성 물질에 의하여 절연층(130)의 표면에는 소정의 형상을 갖는 패턴(162)이 형성된다.Referring to FIG. 3, after the insulating layer 130 is formed, vias are formed to electrically connect the heating elements 140, and the vias are plated with a conductive material (161). In addition, a pattern 162 having a predetermined shape is formed on the surface of the insulating layer 130 by a conductive material.
그리고, 형성된 패턴(163)은 절연층(162)으로 덮여지며, 절연층(163) 상에는 또 다른 비아(164)가 형성된다.The formed pattern 163 is covered with the insulating layer 162, and another via 164 is formed on the insulating layer 163.
이상에서 설명된 과정을 통하여 요철 기둥들(150)과 발열 소자(140)를 함께 임베딩하는 임베디드 기판이 제조된다.Through the process described above, an embedded substrate for embedding the uneven pillars 150 and the heating element 140 together is manufactured.
도 4는 발열 소자와 요철 기둥들이 서로 다른 레이어에서 임베딩되는 것을 나타낸 도면이다.4 is a view illustrating that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers.
도 4를 참조하면, 임베디드 기판은 메탈 코어(310), 접착층(320), 절연층(330), 발열 소자(340) 및 요철 기둥(350)을 포함한다. Referring to FIG. 4, the embedded substrate includes a metal core 310, an adhesive layer 320, an insulating layer 330, a heating element 340, and an uneven pillar 350.
요철 기둥(350)은 메탈 코어(310)의 하부 면에서 요철 구조를 형성한다. 이 때, 메탈 코어(310)의 상부 면에는 발열 소자(340)가 배치되며, 임베딩된 발열 소자(340)에 의하여 발생된 열은 메탈 코어(310)에 접착된 요철 기둥(350)을 통하여 방열된다. 또한, 요철 기둥들(350) 사이에는 공기 또는 유전 물질을 포함하는 절연층(331)으로 채워진다.The uneven pillar 350 forms an uneven structure on the lower surface of the metal core 310. At this time, the heating element 340 is disposed on the upper surface of the metal core 310, the heat generated by the embedded heating element 340 is radiated through the uneven pillar 350 bonded to the metal core 310 do. In addition, the uneven pillars 350 are filled with an insulating layer 331 including air or a dielectric material.
도 5 및 도 6은 도 4에 도시된 임베디드 기판의 제조 과정의 예를 나타낸 도면이다.5 and 6 illustrate an example of a manufacturing process of the embedded substrate illustrated in FIG. 4.
도 5를 참조하면, 본 발명은 임베디드 기판을 제조하기 위하여 메탈 코어(310)을 준비한다. 메탈 코어(310)의 하부면에는 접착 층(320)이 형성될 수 있으며, 접착 층(320)은 접착제, 테이프, 솔더 페이스트 등을 통하여 형성될 수 있다.Referring to FIG. 5, the present invention prepares a metal core 310 to manufacture an embedded substrate. An adhesive layer 320 may be formed on the bottom surface of the metal core 310, and the adhesive layer 320 may be formed through an adhesive, a tape, a solder paste, or the like.
접착 층(320)의 하부에는 요철 기둥들(350)이 형성된다. 즉, 요철 기둥들(350)은 메탈 코어(310)의 하부 면에서 요철 구조를 형성하며, 메탈 코어(310)의 하부 면에 형성된 요철 기둥들(350)은 발열 소자(340)와 서로 다른 레이어에 형성된다. 이에 따라, 방열 특성을 개선할 수 있을 뿐만 아니라, 임베디드 기판의 소형화를 달성할 수 있다.Uneven pillars 350 are formed under the adhesive layer 320. That is, the uneven pillars 350 form an uneven structure on the lower surface of the metal core 310, and the uneven pillars 350 formed on the lower surface of the metal core 310 have different layers from the heating element 340. Is formed. Accordingly, not only the heat dissipation characteristics can be improved, but also the miniaturization of the embedded substrate can be achieved.
이 때, 요철 기둥들(350)은 구리 또는 알루미늄으로 형성될 수 있으며, 메탈 코어에 접착되거나, 메탈 코어를 깎음으로써 형성될 수 있다. 즉, 요철 기둥들(350)은 개별적으로 접착층(320)에 접착될 수도 있고, 요철 기둥들(350)과 메탈 코어(310)는 하나의 틀로서 함께 제작된 것일 수 있다. 특히, 요철 기둥들(350)은 접착제, 테이프, 솔더 페이스트 등을 통하여 접착될 수 있으며, 드릴링, 식각, 펀칭 등의 다양한 공정을 통하여 요철 기둥들(350)과 메탈 코어(310)는 하나의 틀로서 함께 제작될 수 있다.In this case, the uneven pillars 350 may be formed of copper or aluminum, and may be formed by bonding to the metal core or by cutting the metal core. That is, the uneven pillars 350 may be individually bonded to the adhesive layer 320, and the uneven pillars 350 and the metal core 310 may be manufactured together as one frame. In particular, the uneven pillars 350 may be bonded through adhesive, tape, solder paste, and the like, and the uneven pillars 350 and the metal core 310 are formed in one frame through various processes such as drilling, etching, and punching. It can be produced together as.
또한, 요철 기둥들(350)이 메탈 코어(310) 하부 면에 형성된 이후에, 요철 기둥들(350)은 공기 또는 유전 물질로 이루어진 절연층(331)에 의하여 덮여진다. In addition, after the uneven pillars 350 are formed on the bottom surface of the metal core 310, the uneven pillars 350 are covered by an insulating layer 331 made of air or a dielectric material.
또한, 요철 기둥들(350)이 메탈 코어(310)의 하부면에 형성되는 것과 독립적으로, 메탈 코어(310)의 상부면에는 발열 소자(340)가 접착층(321)을 통하여 배치되며, 발열 소자(340)에는 메탈 슬러그(341)가 형성된다. 그리고, 발열 소자(340)는 공기 또는 유전 물질로 이루어진 절연층(330)에 의하여 덮여진다. In addition, independently of the uneven pillars 350 formed on the lower surface of the metal core 310, the heating element 340 is disposed on the upper surface of the metal core 310 through the adhesive layer 321. A metal slug 341 is formed at 340. The heat generating element 340 is covered by the insulating layer 330 made of air or a dielectric material.
발열 소자(340)의 전기적인 연결을 위하여 비아(via)가 형성되고, 비아는 전도성 물질로 도금된다(361). 그리고, 전도성 물질에 의하여 절연층(330)의 표면에는 소정의 형상을 갖는 패턴(362)이 형성된다. 그리고, 형성된 패턴(362)은 절연층(363)으로 덮여지며, 절연층(363) 상에는 또 다른 비아(364)가 형성된다.Vias are formed for electrical connection of the heating element 340, and the vias are plated with a conductive material (361). In addition, a pattern 362 having a predetermined shape is formed on the surface of the insulating layer 330 by a conductive material. The formed pattern 362 is covered with an insulating layer 363, and another via 364 is formed on the insulating layer 363.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따라 발열 소자와 요철 기둥들이 서로 다른 레이어에서 임베딩되는 것을 나타낸 도면이다.7 is a view showing that the heating element and the uneven pillars are embedded in different layers according to another embodiment of the present invention.
도 7을 참조하면, 하나의 임베디드 기판은 두 개 이상의 발열 소자들을 서로 다른 레이어에서 임베딩될 수 있다. 즉, 제1 발열 소자(741)는 접착층(721)을 통하여 메탈 코어(710)의 하부면에 배치되는 반면에, 제2 발열 소자(742)는 접착층(722)을 통하여 공통의 메탈 코어(710)의 상부면에 배치된다. 그리고, 제1 요철 기둥들(751)은 제1 발열 소자(741)과 동일한 레이어에 배치되어 발열 소자(741)와 함께 임베딩되는 반면에, 제2 요철 기둥들(752)은 제2 발열 소자(742)과 동일한 레이어에 배치되어 발열 소자(742)와 함께 임베딩된다. 제1 요철 기둥들(751)과 제1 발열 소자(741)는 절연층(731)으로 덮여지며, 제2 요철 기둥들(752)과 제2 발열 소자(742)는 절연층(732)으로 덮여진다.Referring to FIG. 7, one embedded substrate may embed two or more heating elements in different layers. That is, the first heating element 741 is disposed on the lower surface of the metal core 710 through the adhesive layer 721, while the second heating element 742 is disposed on the common metal core 710 through the adhesive layer 722. It is disposed on the upper surface of the). The first uneven pillars 751 are disposed on the same layer as the first heat generating element 741 and embedded together with the heat generating element 741, while the second uneven pillars 752 are formed of the second heat generating element ( It is disposed on the same layer as 742 and embedded with the heating element 742. The first uneven pillars 751 and the first heating element 741 are covered with the insulating layer 731, and the second uneven pillars 752 and the second heating element 742 are covered with the insulating layer 732. Lose.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 기판 제조 방법을 나타낸 동작 흐름도이다.8 is an operation flowchart illustrating a method of manufacturing an embedded substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure.
도 8을 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 임베디드 기판 제조 방법은 메탈 코어를 준비한다(810). 위에서 언급한 바와 같이, 메탈 코어는 구리, 알루미늄 등과 같은 열전도율이 높은 금속으로 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8, in the method of manufacturing an embedded substrate according to an embodiment of the present invention, a metal core is prepared (810). As mentioned above, the metal core may be formed of a metal having high thermal conductivity such as copper, aluminum, or the like.
또한, 본 발명은 발열 소자를 임베딩하기 위하여 발열 소자를 어느 하나의 메탈 코어 상부면 또는 하부면에 배치한다(820). 이 때, 발열 소자의 배치를 위하여 접착층이 사용될 수 있다.In addition, in the present invention, in order to embed the heating element, the heating element is disposed on any one of the upper and lower surfaces of the metal core (820). In this case, an adhesive layer may be used to arrange the heating element.
또한, 본 발명은 메탈 코어의 상부 면 또는 하부 면에 요철 기둥들을 형성한다(830). 즉, 요철 기둥들은 발열 소자와 동일한 레이어에 형성될 수도 있고, 다른 레이어에 형성될 수도 있다.In addition, the present invention forms the uneven pillars on the upper or lower surface of the metal core (830). That is, the uneven pillars may be formed on the same layer as the heating element, or may be formed on another layer.
또한, 본 발명은 발열 소자 및 요철 기둥을 함께 임베딩한다(840). 물론, 도 4와 같이 발열 소자는 메탈 코어의 상부면에 위치하는 반면에 요철 기둥은 메탈 코어의 하부면에 위치할 수도 있다.In addition, the present invention embeds the heating element and the uneven pillar together (840). Of course, as shown in Figure 4, the heating element is located on the upper surface of the metal core, while the uneven pillar may be located on the lower surface of the metal core.
도 8에 도시된 제조 방법에 대해서는 도 1 내지 도 7을 통해 설명된 내용이 그대로 적용될 수 있으므로, 보다 상세한 설명은 생략하기로 한다.Since the contents described with reference to FIGS. 1 through 7 may be applied to the manufacturing method illustrated in FIG. 8, a detailed description thereof will be omitted.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.Although the embodiments have been described by the limited embodiments and the drawings as described above, various modifications and variations are possible to those skilled in the art from the above description. For example, the described techniques may be performed in a different order than the described method, and / or components of the described systems, structures, devices, circuits, etc. may be combined or combined in a different form than the described method, or other components. Or even if replaced or substituted by equivalents, an appropriate result can be achieved.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents to the claims are within the scope of the claims that follow.

Claims (13)

  1. 발열 소자;Heating element;
    상기 발열 소자를 임베딩하는 메탈 코어 및 절연층; 및A metal core and an insulating layer embedding the heating element; And
    상기 발열 소자와 함께 상기 메탈 코어 및 상기 절연층에 의하여 임베딩되는 복수의 요철 기둥들A plurality of uneven pillars embedded with the heat generating element by the metal core and the insulating layer.
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Embedded substrate for heat dissipation comprising a.
  2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 복수의 요철 기둥들은The plurality of uneven pillars
    구리 또는 알루미늄으로 형성되는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Embedded substrate for heat dissipation, characterized in that formed of copper or aluminum.
  3. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 복수의 요철 기둥들은The plurality of uneven pillars
    상기 메탈 코어에 접착되거나, 상기 메탈 코어를 깎음으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Bonded to the metal core, or formed by cutting the metal core embedded substrate for heat dissipation.
  4. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 적어도 하나의 발열 소자는The at least one heating element
    능동 소자, 수동 소자 또는 집적 회로(Integrated Circuit) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Embedded substrate for heat dissipation comprising at least one of an active device, a passive device or an integrated circuit.
  5. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 요철 기둥들 사이에는 절연 물질이 채워지는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Embedded substrate for heat dissipation, characterized in that the insulating material is filled between the uneven pillars.
  6. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 발열 소자 및 상기 복수의 요철 기둥들은 동일한 레이어에 형성되는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Embedded substrate for heat dissipation, characterized in that the heating element and the plurality of uneven pillars are formed in the same layer.
  7. 제1 발열 소자;A first heating element;
    상기 제1 발열 소자를 임베딩하는 제1 절연층;A first insulating layer embedding the first heat generating element;
    상기 제1 발열 소자와 함께 상기 제1 절연층에 의하여 임베딩되는 복수의 제1 요철 기둥들;A plurality of first uneven pillars embedded with the first heating element by the first insulating layer;
    제2 발열 소자; A second heating element;
    상기 제2 발열 소자를 임베딩하는 제2 절연층; 및A second insulating layer embedding the second heating element; And
    상기 제2 발열 소자와 함께 상기 제1 절연층에 의하여 임베딩되는 복수의 제2 요철 기둥들; 및A plurality of second uneven pillars embedded with the second heating element by the first insulating layer; And
    상기 제1 발열 소자와 상기 제2 발열 소자를 위한 공통의 메탈 코어Common metal core for the first heating element and the second heating element
    를 포함하는 방열을 위한 임베디드 기판Embedded board for heat dissipation including
  8. 메탈 코어;Metal cores;
    상기 메탈 코어 및 절연층에 의하여 임베딩되는 발열 소자; 및A heating element embedded by the metal core and the insulating layer; And
    상기 메탈 코어의 하부 면에 요철 구조를 형성하는 복수의 요철 기둥들A plurality of uneven pillars forming an uneven structure on the lower surface of the metal core
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Embedded substrate for heat dissipation comprising a.
  9. 제8항에 있어서,The method of claim 8,
    상기 복수의 요철 기둥들은The plurality of uneven pillars
    상기 메탈 코어에 접착되거나, 상기 메탈 코어를 깎음으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Bonded to the metal core, or formed by cutting the metal core embedded substrate for heat dissipation.
  10. 제8항에 있어서,The method of claim 8,
    상기 발열 소자 및 상기 복수의 요철 기둥들은 서로 다른 레이어에 형성되는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판.Embedded substrate for heat dissipation, characterized in that the heating element and the plurality of uneven pillars are formed in different layers.
  11. 메탈 코어를 준비하는 단계;Preparing a metal core;
    상기 메탈 코어의 상부면에 발열 소자 및 복수의 요철 기둥들을 배치하는 단계; 및Disposing a heating element and a plurality of uneven pillars on an upper surface of the metal core; And
    발열 소자 및 복수의 요철 기둥들을 임베딩하는 단계;Embedding the heating element and the plurality of uneven pillars;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판 제조 방법.Embedded substrate manufacturing method for heat dissipation comprising a.
  12. 제11항에 있어서,The method of claim 11,
    금속 기둥들을 상기 메탈 코어에 접착하거나 상기 메탈 코어를 깎음으로써 상기 복수의 요철 기둥들을 형성하는 단계Bonding the metal pillars to the metal core or shaping the metal core to form the plurality of uneven pillars
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판 제조 방법.Embedded substrate manufacturing method for heat dissipation, characterized in that it further comprises.
  13. 메탈 코어를 준비하는 단계;Preparing a metal core;
    상기 메탈 코어를 이용하여 발열 소자를 임베딩하는 단계; 및Embedding a heating element using the metal core; And
    상기 메탈 코어의 하부 면에 복수의 요철 기둥들을 형성하는 단계Forming a plurality of uneven pillars on the lower surface of the metal core
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 방열을 위한 임베디드 기판 제조 방법.Embedded substrate manufacturing method for heat dissipation comprising a.
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