WO2017050656A1 - Vorrichtung zur uv-bestrahlung eines strömenden mediums - Google Patents
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Definitions
- the invention relates to a device for UV irradiation of a flowing medium, in particular for the disinfection of water, with a lamp tube having UV radiation and longer wavelength (visible) light-emitting gas discharge lamp and the flowing medium leading and separating from the lamp tube guide tube ,
- DE-A 10 201 1 102 687 discloses a device for monitoring and controlling water disinfection systems with at least one broadband UV emitter arranged in a channel, which is arranged in a UV-transparent cladding tube and thus has no direct contact with the water.
- a control device comprising a sensor with a sensitivity maximum for UV radiation in a wavelength range between 200nm and 240nm. The problem of such algae growth at some distance from the UV emitter has proven to be problematic in such water disinfection systems.
- the object of the invention is to further develop the devices known in the prior art and to provide measures whereby a targeted UV treatment of a flowing medium without disadvantageous effects, in particular avoiding algae formation, becomes possible.
- other flowing media come into consideration, such as flowable food (drinks) that can be sterilized under the influence of UV radiation.
- the feature combination specified in claim 1 is proposed.
- Advantageous embodiments and modifications of the invention will become apparent from the dependent claims. The invention is based on the idea of optimizing the ratio of germ-reducing UV radiation and emitted longer-wave light with a view to suppression of algae growth.
- the invention proposes that between the lamp tube and the flow path, an interference filter is arranged, which is transparent to UV radiation in a first wavelength range and impermeable to longer-wavelength or visible light in a second wavelength range.
- Another advantage of the filter coating can be that the surface homogeneity is improved, so that possibly less foreign atoms penetrate and also the susceptibility to contamination is reduced.
- the guide tube and / or the lamp tube is provided on the jacket side with a coating forming the interference filter.
- other configurations are possible, for example, the use of an intermediate tube as a substrate for the interference filter.
- a plurality of UV radiators are distributed over the circumference of the guide tube, or that the lamp tube has a double-walled annular cross-section, in the interior of which the guide tube is arranged.
- the interference filter is applied as a PVD coating, in particular by Sputterdeposition.
- the interference filter reflects the light emitted by the UV gas discharge lamp in the second wavelength range, wherein by back reflection into the lamp tube, the plasma can absorb a significant portion of the radiation while increasing the lamp yield, without causing further reflections.
- the interference filter is formed by a plurality of superimposed optical thin films, preferably more than 10 thin films. As a result, radiation with different angles of incidence can be effectively filtered.
- the interference filter comprises a multilayer stack alternately consisting of HTC and S1O2 layers, wherein the layer thicknesses are in the range of 50 nm to 140 nm.
- the first wavelength range is between 240 nm and 360 nm, in particular between 240 nm and 340 nm.
- the short-wave band edge can avoid chemical effects that lead to unwanted disinfection by-products.
- the long-wave band edge results in as little as possible to impair the desired disinfecting effect.
- a further improvement provides that the interference filter in the first wavelength range transmits more than 80%, preferably more than 90% of the radiation, so that the lamp power is used as effectively as possible.
- the second wavelength range comprises at least the spectral range between 380 nm and 580 nm, so that the spectrum of action of photosynthesis is limited to broadband.
- the interference filter in the second wavelength range has an (integral) light transmission of less than 30%, preferably less than 20% and particularly preferably less than 10%.
- the UV gas discharge lamp is formed by a mercury vapor lamp designed as a medium-pressure lamp and preferably operable with an electrical connection power of more than 1 kW.
- the UV gas discharge lamp is formed by a designed as a low-pressure lamp mercury vapor lamp.
- the guide tube consists of a quartz glass material.
- the guide tube is arranged transversely or longitudinally to the flow direction of the medium to be irradiated.
- the guide tube is arranged in a flow reactor made of stainless steel and having an inlet and an outlet for the medium. The retention of visible light also avoids far-reaching reflections on the inner wall of the stainless steel reactor, which could otherwise lead to widespread algae growth.
- FIG. 1 shows a flow reactor for water disinfection comprising a gas discharge lamp and a guide tube coated with an interference filter in an axial section;
- FIG. 2 shows an alternative arrangement of the gas discharge lamp with surrounding guide tube in a flow-through reactor
- FIG. 3 shows a cross section of the gas discharge lamp with surrounding guide tube and a beam path in different wavelength ranges
- the flow reactor 1 shown in Fig. 1 is used for water disinfection by means of UV radiation while avoiding algae formation.
- the water 10 to be treated flows through a stainless steel tube 12, which has an inlet 14 and an outlet 16.
- a guide tube 18 In the stainless steel tube 12 are a guide tube 18 and a gas discharge lamp 20.
- the guide tube 18 is flows around the outside of the water to be treated, while a lamp tube 22 of the gas discharge lamp 20 is arranged concentrically or possibly axially parallel in the guide tube 18.
- the electrodes 24, 26 of the double-ended gas discharge lamp 20 can be connected via end openings of the guide tube 18 with an electronic ballast, not shown.
- the gas discharge lamp 20 is designed as a mercury vapor lamp with an electrical connection power of more than 1 kW.
- gas discharge in the quartz glass lamp tube 22 results in the emission of UV radiation and longer-wave (visible) light. While UV radiation leads to inactivation of microorganisms in the water to be treated, the visible light promotes the growth of algae.
- the guide tube 18 is coated on its outer jacket with an interference filter 28 which is transparent to UV radiation in a first wavelength range (passband) and which is opaque to longer wavelength or visible light in a second wavelength range (stopband) ,
- the first wavelength range expediently lies between 240 nm and 360 nm, in particular between 240 nm and 340 nm, while the second wavelength range covers at least the range between 380 nm and 580 nm.
- the same or similar parts are provided with the same reference numerals as described above.
- This embodiment differs essentially in that the guide tube 18 and the gas discharge lamp 20 located therein are arranged transversely to the flow direction of the water to be treated.
- the water-bearing stainless steel tube 12 has in its central region lateral connecting pieces 30 for a transverse penetration of the guide tube 18th
- the outer tube of the guide tube 18 consisting of a quartz glass material 32 is fully applied. 2, while the visible light 36 emitted by the gas discharge lamp 20 is reflected back into the lamp tube 22 and is at least partially absorbed therein in the generated plasma.
- a free intermediate space 38 is provided inside the guide tube 18.
- the interference filter 28 may be applied to the quartz glass substrate 32 in layers by sputter deposition.
- a multilayer stack of, for example, 70 thin layers is formed which alternately consist of hafnia and silicon dioxide and have a layer thickness which is suitable for the desired multiple interference and is in each case in the range from 50 nm to 140 nm.
- the transmittance T being plotted against the rising wavelength of the unpolarized electromagnetic radiation incident at an angle of incidence of 0 °.
- the first wavelength range 40 240 nm-360 nm
- more than 90% of the UV radiation is transmitted, that is, transmitted through the interference filter 28.
- the second wavelength range 42 380 nm-580 nm
- significantly less than 10% of the light is transmitted in an integral manner, whereby only two narrow mercury lines are less strongly suppressed. This light is predominantly reflected, so that in addition radiation power is introduced into the plasma of the gas discharge lamp 20.
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur UV-Bestrahlung eines strömenden Mediums, insbesondere zur Desinfektion von Wasser, mit einer ein Lampenrohr (22) aufweisenden, UV-Strahlung und längerwelliges Licht emittierenden Gasentladungslampe (20) und einem das strömende Medium führenden und von dem Lampenrohr (22) trennenden Leitrohr (18). Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, dass das Leitrohr (18) und/oder das Lampenrohr (22) mantelseitig mit einem für UV-Strahlung in einem ersten Wellenlängenbereich durchlässigen und für Licht in einem zweiten Wellenlängenbereich undurchlässigen Interferenzfilter (28) beschichtet ist.
Description
Vorrichtung zur UV-Bestrahlung eines strömenden Mediums Beschreibung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur UV-Bestrahlung eines strömenden Mediums, insbesondere zur Desinfektion von Wasser, mit einer ein Lampenrohr aufweisenden, UV-Strahlung und längerwelliges (sichtbares) Licht emittierenden Gasentladungslampe und einem das strömende Medium führen- den und von dem Lampenrohr trennenden Leitrohr.
Die DE-A 10 201 1 102 687 offenbart eine Vorrichtung zur Überwachung und Steuerung von Wasserdesinfektionsanlagen mit wenigstens einem in einem Kanal angeordneten Breitband-UV-Strahler, der in einem UV-transparenten Hüllrohr angeordnet ist und so keinen direkten Kontakt zu dem Wasser hat. Um eine vorgegebene Entkeimungsleistung zuverlässig zu erreichen, wird dort eine Regeleinrichtung umfassend einen Sensor mit einem Empfindlichkeitsmaximum für UV-Strahlung in einem Wellenlängenbereich zwischen 200nm und 240nm vorgeschlagen. Als problematisch hat sich bei solchen Wasserdesinfektionsanlagen die Begünstigung von Algenwachstum in einigem Abstand zu dem UV-Strahler herausgestellt.
Ausgehend hiervon liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, die im Stand der Technik bekannten Vorrichtungen weiter zu entwickeln und Maßnahmen anzugeben, womit eine gezielte UV-Behandlung eines strömenden Mediums ohne nachteilige Effekte, insbesondere unter Vermeidung von Algenbildung möglich wird. Neben der Trinkwasserbehandlung kommen auch andere strömende Medien in Betracht, beispielsweise fließfähige Nahrungsmittel (Getränke), die unter der Einwirkung von UV-Strahlung entkeimt werden können.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird die im Patentanspruch 1 angegebene Merkmalskombination vorgeschlagen. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den abhängigen Ansprüchen. Die Erfindung geht von dem Gedanken aus, das Verhältnis von keimreduzierender UV-Strahlung und emittiertem längerwelligen Licht im Hinblick auf eine Unterdrückung von Algenwachstum zu optimieren. Dementsprechend wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass zwischen dem Lampenrohr und dem Strömungspfad ein Interferenzfilter angeordnet ist, das für UV-Strahlung in einem ersten Wellenlängenbereich durchlässig und für längerwelliges bzw. sichtbares Licht in einem zweiten Wellenlängenbereich undurchlässig ist. Diesen Maßnahmen liegt die Erkenntnis zugrunde, dass das Verhältnis des Anteils von sichtbarem Licht und UV-Strahlung mit zunehmender Entfernung vom UV-Strahler in einem wasserbasierten Medium aufgrund dessen UV- absorbierender und lichtleitender Eigenschaft zunimmt. Dadurch reicht also das für das Algenwachstum förderliche sichtbare Licht in einem Durchflusspfad sehr viel weiter als die keim- und algenreduzierende UV-Strahlung. Durch die Unterdrückung des sichtbaren Lichts mittels des Interferenzfilters können solche nachteilige Effekte vermieden werden, ohne dass auf die mit hoher Intensität und Effizienz einsetzbaren Gasentladungslampen verzichtet werden müsste. Dadurch ist es auch möglich, bestehende Fließpfade beizubehalten, ohne Abschirmungen oder Umlenkungen einzubringen, die auch im Hinblick auf eine zusätzliche Pumpleistung nachteilig sind. Ein weiterer Vorteil der Filterbeschichtung kann darin bestehen, dass die Oberflächenhomo- genität verbessert wird, so dass ggf. weniger Fremdatome eindringen und auch die Verschmutzungsanfälligkeit reduziert wird.
Auch in herstellungstechnischer Hinsicht ist es von Vorteil, wenn das Leitrohr und/oder das Lampenrohr mantelseitig mit einer das Interferenzfilter bilden- den Beschichtung versehen ist. Grundsätzlich sind auch andere Konfigurationen möglich, beispielsweise der Einsatz eines Zwischenrohrs als Substrat für das Interferenzfilter.
Denkbar ist es auch, dass mehrere UV-Strahler über den Umfang des Leitrohrs verteilt angeordnet sind, oder dass das Lampenrohr einen doppelwan- digen ringförmigen Querschnitt besitzt, in dessen Innenraum das Leitrohr angeordnet ist.
Eine weitere Verbesserung sieht vor, dass das Interferenzfilter als PVD- Beschichtung, insbesondere durch Sputterdeposition aufgebracht ist. Für die Medienführung ist es vorteilhaft, wenn das Leitrohr außen umströmt und das Lampenrohr in dem Leitrohr angeordnet ist, oder wenn das Leitrohr innen durchströmt und das Lampenrohr außerhalb des Leitrohrs angeordnet ist. Vorteilhafterweise reflektiert das Interferenzfilter das von der UV- Gasentladungslampe ausgestrahlte Licht in dem zweiten Wellenlängenbereich, wobei durch Rückreflektion in das Lampenrohr das Plasma einen erheblichen Teil der Strahlung unter Erhöhung der Lampenausbeute absorbieren kann, ohne dass es zu weiteren Reflektionen kommt.
Um die gewünschte Filtergüte in einem breiten Spektralbereich zu erreichen, ist es vorteilhaft, wenn das Interferenzfilter durch eine Vielzahl von übereinanderliegenden optischen Dünnschichten, vorzugsweise mehr als 10 Dünnschichten gebildet ist. Dadurch kann auch Strahlung mit unterschiedlichen Einfallswinkeln effektiv gefiltert werden.
In diesem Zusammenhang ist es auch günstig, wenn das Interferenzfilter einen vielschichtigen Stapel abwechselnd bestehend aus HTC und S1O2- Schichten umfasst, wobei die Schichtdicken im Bereich von 50nm bis 140nm liegen.
Eine besonders bevorzugte Ausgestaltung sieht vor, dass der erste Wellenlängenbereich zwischen 240nm und 360nm, insbesondere zwischen 240nm und 340nm liegt. Durch die kurzwellige Bandkante können chemische Effekte vermieden werden, die zu unerwünschten Desinfektions-Nebenprodukten führen. Die langwellige Bandkante ergibt sich, um die gewünschte desinfizierende Wirkung möglichst wenig zu beeinträchtigen.
Eine weitere Verbesserung sieht vor, dass das Interferenzfilter in dem ersten Wellenlängenbereich mehr als 80%, vorzugsweise mehr als 90% der Strah- lung transmittiert, so dass die Lampenleistung möglichst effektiv genutzt wird.
Vorteilhafterweise umfasst der zweite Wellenlängenbereich zumindest den Spektralbereich zwischen 380nm und 580nm, so dass das Wirkspektrum der Photosynthese breitbandig beschränkt wird.
In diesem Zusammenhang ist es auch von Vorteil, wenn das Interferenzfilter in dem zweiten Wellenlängenbereich eine (integrale) Lichtdurchlässigkeit von weniger als 30%, vorzugsweise weniger als 20% und besonders bevorzugt weniger als 10% besitzt.
Um die gewünschte UV-Strahlung mit hoher Intensität bereitstellen zu können, ist es vorteilhaft, wenn die UV-Gasentladungslampe durch eine als Mitteldrucklampe ausgebildete, vorzugsweise mit einer elektrischen Anschlussleistung von mehr als 1 kW betreibbare Quecksilberdampflampe gebildet ist.
Für besondere Einsatzgebiete kann es auch von Vorteil sein, dass die UV- Gasentladungslampe durch eine als Niederdrucklampe ausgebildete Quecksilberdampflampe gebildet ist. Für die erforderliche UV-Durchlässigkeit und Temperaturstabilität ist es vorteilhaft, wenn das Leitrohr aus einem Quarzglasmaterial besteht.
lm Hinblick auf eine möglichst effektive Anpassung an vorhandene Fließpfade ist es möglich, dass das Leitrohr quer oder längs zur Strömungsrichtung des zu bestrahlenden Mediums angeordnet ist. Vor allem für die Trinkwasserbehandlung ist es von Vorteil, wenn das Leitrohr in einem aus Edelstahl bestehenden, einen Einlass und einen Auslass für das Medium aufweisenden Durchflussreaktor angeordnet ist. Durch die Rückhaltung des sichtbaren Lichts können auch weitreichende Reflektionen an der Innenwand des Edelstahlreaktors vermieden werden, die ansonsten zu einem weit verteilten Algenwachstum führen könnten.
Im Folgenden wird die Erfindung anhand der in der Zeichnung in schemati- scher Weise dargestellten Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es zeigen: Fig. 1 einen Durchflussreaktor zur Wasserdesinfektion enthaltend eine Gasentladungslampe und ein mit einem Interferenzfilter beschichtetes Leitrohr in einem Axialschnitt;
Fig. 2 eine alternative Anordnung der Gasentladungslampe mit umgeben- dem Leitrohr in einem Durchflussreaktor;
Fig. 3 einen Querschnitt der Gasentladungslampe mit umgebendem Leitrohr und einem Strahlengang in verschiedenen Wellenlängenbereichen;
Fig. 4 den spektralen Verlauf der Transmission des Interferenzfilters.
Der in Fig. 1 dargestellte Durchflussreaktor 1 dient zur Wasserdesinfektion mittels UV-Strahlung unter Vermeidung von Algenbildung. Hierbei durch- strömt das zu behandelnde Wasser 10 ein Edelstahlrohr 12, das einen Einlass 14 und einen Auslass 16 aufweist. In dem Edelstahlrohr 12 befinden sich ein Leitrohr 18 und eine Gasentladungslampe 20. Das Leitrohr 18 ist
außen von dem zu behandelnden Wasser umströmt, während ein Lampenrohr 22 der Gasentladungslampe 20 konzentrisch oder ggf. achsparallel in dem Leitrohr 18 angeordnet ist. Die Elektroden 24, 26 der zweiendigen Gasentladungslampe 20 lassen sich über Stirnöffnungen des Leitrohrs 18 mit einem nicht gezeigten elektronischen Vorschaltgerät verbinden.
Die Gasentladungslampe 20 ist als Quecksilberdampflampe mit einer elektrischen Anschlussleistung von mehr als 1 kW ausgebildet. Im Betrieb kommt es in dem aus Quarzglas bestehenden Lampenrohr 22 zu einer Gasentla- dung mit Aussendung von UV-Strahlung und längerwelligem (sichtbaren) Licht. Während die UV-Strahlung zu einer Inaktivierung von Mikroorganismen in dem zu behandelnden Wasser führt, begünstigt das sichtbare Licht das Wachstum von Algen. Um letzteres zu vermeiden, ist das Leitrohr 18 an seinem Außenmantel mit einem Interferenzfilter 28 beschichtet, das in einem ersten Wellenlängenbereich (Durchlassbereich) für UV-Strahlung durchlässig ist, und das in einem zweiten Wellenlängenbereich (Sperrbereich) für längerwelliges bzw. sichtbares Licht undurchlässig ist. Zweckmäßig liegen der erste Wellenlängenbereich zwischen 240nm und 360nm, insbesondere zwischen 240nm und 340nm, während der zweite Wellenlängenbereich zumin- dest den Bereich zwischen 380nm und 580nm umfasst.
Bei dem in Fig. 2 gezeigten Ausführungsbeispiel eines Durchflussreaktors 10 sind gleiche oder ähnlich Teile mit denselben Bezugszeichen wie vorstehend beschrieben versehen. Dieses Ausführungsbeispiel unterscheidet sich im Wesentlichen dadurch, dass das Leitrohr 18 und die darin befindliche Gasentladungslampe 20 quer zur Strömungsrichtung des zu behandelnden Wassers angeordnet sind. Um dies zu ermöglichen, besitzt das wasserführende Edelstahlrohr 12 in seinem Zentralbereich seitliche Anschlussstutzen 30 für einen Querdurchgriff des Leitrohrs 18.
Wie in Fig. 3 illustriert, ist das auf den Außenmantel des aus einem Quarzglasmaterial 32 bestehenden Leitrohrs 18 vollumfänglich aufgebrachte Inter-
ferenzfilter 28 für UV-Strahlung 34 durchlässig, während das von der Gasentladungslampe 20 emittierte sichtbare Licht 36 in das Lampenrohr 22 zurück reflektiert wird und dort in dem erzeugten Plasma zumindest teilweise absorbiert wird. Um das heiße Lampenrohr 22 freizuhalten, ist ein freier Zwischen- räum 38 innerhalb des Leitrohrs 18 vorgesehen.
Das Interferenzfilter 28 kann schichtweise durch Sputterdeposition auf das Quarzglassubstrat 32 aufgebracht werden. Dabei wird ein vielschichtiger Stapel von beispielsweise 70 Dünnschichten gebildet, die abwechselnd aus Hafniumdioxid und Siliziumdioxid bestehen und eine für die gewünschte Mehrfachinterferenz geeignete, jeweils im Bereich von 50nm bis 140nm an- gepasste Schichtdicke aufweisen.
Fig. 4 zeigt eine Filterkurve eines solchen Interferenzfilters 28, wobei der Transmissionsgrad T über der aufsteigenden Wellenlänge der unter einem Einfallswinkel von 0° auftreffenden, unpolarisierten elektromagnetischen Strahlung aufgezeichnet ist. In dem ersten Wellenlängenbereich 40 (240nm - 360nm) wird mehr als 90% der UV-Strahlung transmittiert, also durch das Interferenzfilter 28 durchgelassen. In dem zweiten Wellenlängenbereich 42 (380nm - 580nm) wird integral gesehen deutlich weniger als 10% des Licht transmittiert, wobei nur zwei schmale Quecksilberlinien weniger stark unterdrückt werden. Dieses Licht wird überwiegend reflektiert, so dass zusätzlich Strahlungsleistung in das Plasma der Gasentladungslampe 20 eingebracht wird.
Claims
Vorrichtung zur UV-Bestrahlung eines strömenden Mediums, insbesondere zur Desinfektion von Wasser, mit einer ein Lampenrohr (22) aufweisenden, UV-Strahlung und sichtbares Licht emittierenden Gasentladungslampe (20) und einem das strömende Medium in einem Strömungspfad führenden und von dem Lampenrohr (22) trennenden Leitrohr (18), dadurch gekennzeichnet, dass zwischen dem Lampenrohr (22) und dem Strömungspfad ein für UV-Strahlung in einem ersten Wellenlängenbereich durchlässiges und für Licht in einem zweiten Wellenlängenbereich undurchlässiges Interferenzfilter (28) angeordnet ist.
Vorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass das Leitrohr (18) und/oder das Lampenrohr (22) mantelseitig mit einer das Interferenzfilter (28) bildenden Beschichtung versehen ist.
Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Interferenzfilter (28) als PVD-Beschichtung, insbesondere durch Sputterdeposition aufgebracht ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Leitrohr (18) außen umströmt und das Lampenrohr (22) in dem Leitrohr (18) angeordnet ist oder das Leitrohr (18) innen durchströmt und das Lampenrohr (22) außerhalb des Leitrohrs (18) an- geordnet ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Interferenzfilter (28) das von der UV- Gasentladungslampe (20) ausgestrahlte Licht in dem zweiten Wellen- längenbereich vorzugsweise in das Lampenrohr (22) zurück reflektiert.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass ein in der UV-Gasentladungslampe (20) erzeugtes Plasma von dem Interferenzfilter (28) zurückgeworfenes Licht absorbiert.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Interferenzfilter (28) durch eine Vielzahl von übereinanderliegenden optischen Dünnschichten, vorzugsweise mehr als 10 Dünnschichten gebildet ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Interferenzfilter (28) einen vielschichtigen Stapel abwechselnd bestehend aus HfO2- und SiO2-Schichten umfasst, wobei die Schichtdicken im Bereich von 50nm bis 140nm liegen.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Wellenlängenbereich zwischen 240nm und 360nm, insbesondere zwischen 240nm und 340nm liegt.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn zeichnet, dass das Interferenzfilter (28) in dem ersten Wellenlängenbe reich mehr als 80%, vorzugsweise mehr als 90% der Strahlung trans mittiert.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekenn zeichnet, dass der zweite Wellenlängenbereich zumindest den Spekt ralbereich zwischen 380nm und 580nm umfasst.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 1 1 , dadurch gekenn- zeichnet, dass das Interferenzfilter (28) in dem zweiten Wellenlängenbereich eine Lichtdurchlässigkeit von weniger als 30%, vorzugsweise weniger als 20% und besonders bevorzugt weniger als 10% besitzt.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Gasentladungslampe (20) durch eine als Mitteldrucklampe ausgebildete, vorzugsweise mit einer elektrischen An- Schlussleistung von mehr als 1 kW betreibbare Quecksilberdampflampe gebildet ist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass die UV-Gasentladungslampe (20) durch eine als Nie- derdrucklampe ausgebildete Quecksilberdampflampe gebildet ist.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Leitrohr (18) aus einem Quarzglasmaterial besteht. 16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass das Leitrohr (18) quer oder längs zur Strömungsrichtung des zu bestrahlenden Mediums angeordnet ist.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekenn- zeichnet, dass das Leitrohr (18) in einem aus Edelstahl bestehenden, einen Einlass und einen Auslass für das Medium aufweisenden Durchflussreaktor (12) angeordnet ist.
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