WO2017036854A1 - Optoelectronic semiconductor chip - Google Patents

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WO2017036854A1
WO2017036854A1 PCT/EP2016/069883 EP2016069883W WO2017036854A1 WO 2017036854 A1 WO2017036854 A1 WO 2017036854A1 EP 2016069883 W EP2016069883 W EP 2016069883W WO 2017036854 A1 WO2017036854 A1 WO 2017036854A1
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WO
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conductor
semiconductor
semiconductor chip
conductor body
carrier
Prior art date
Application number
PCT/EP2016/069883
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German (de)
French (fr)
Inventor
Korbinian Perzlmaier
Anna Kasprzak-Zablocka
Lutz Höppel
Original Assignee
Osram Opto Semiconductors Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osram Opto Semiconductors Gmbh filed Critical Osram Opto Semiconductors Gmbh
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L33/483Containers
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    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/64Heat extraction or cooling elements
    • H01L33/647Heat extraction or cooling elements the elements conducting electric current to or from the semiconductor body

Definitions

  • the present disclosure relates to a semiconductor chip having a semiconductor body.
  • the semiconductor chip further has a carrier with a first carrier surface, on which the semiconductor body is arranged.
  • the mechanical stability of the carrier is because of
  • Semiconductor body is arranged on the carrier, too
  • An object to be solved is to provide a support of high mechanical stability.
  • the semiconductor chip is an optoelectronic semiconductor chip.
  • the active region may be provided for generating radiation or for receiving radiation.
  • the semiconductor body can for a
  • the semiconductor body can be grown epitaxially. Epitaxially grown
  • Semiconductor bodies require particularly good mechanical stabilization by the carrier since unstable carriers can cause breaks in the epitaxially grown semiconductor material, which can result in significant dysfunctions in the function of the chip and complete breakdown of the chip, such as when the active region breaks.
  • the carrier has a second one on the side facing away from the semiconductor body
  • the first and the second carrier surface can be aligned with one another, preferably aligned parallel to one another, and in particular run parallel to one another.
  • the carrier has at least one electrically conductive conductor body.
  • the conductor body may extend from the first carrier surface to the second carrier surface.
  • the conductor body is expediently electrically conductively connected to the active region of the semiconductor body.
  • the electrically conductive conductor body may be a first conductor body.
  • the carrier may have, in addition to the first conductor body, a second electrically conductive conductor body, wherein the first conductor body and the second conductor body with the Semiconductor bodies are preferably electrically conductively connected on different sides of the active region.
  • the one conductor body may be electrically conductively connected to the side of the semiconductor body facing the carrier, in particular between the carrier and the active region, and the other conductor body may be electrically conductively connected to the semiconductor body on the side of the active region facing away from the carrier.
  • the first and second conductor bodies are preferably electrically isolated from each other. In the area between the active area and the carrier, the first and the second conductor body
  • the first conductor body and / or the second conductor body may contain or consist of a metal or a metallic material.
  • the first conductor body and / or the second conductor body may extend from the first carrier surface to the second carrier surface.
  • the carrier has a composite body.
  • the carrier may be formed by the composite body.
  • the composite body can be the electrical
  • the composite body has an electrical insulating body, preferably a shaped body, on.
  • the shaped body can be molded onto the conductor body.
  • Material for the molded article can be rendered flowable for the molding or can already be provided ready for use, and subsequently, in particular after the flowable material has flowed onto the conductive body, the flowable material can be solidified again to form the molded article.
  • Shaped body can determine the mechanical properties of the wearer significantly.
  • the molded body since it is electrically insulating, the first and second conductor body
  • the molded body can guarantee the mechanical stability of the composite body.
  • the shaped body Seen in top view of the first and / or second carrier surface, can have an edge region which comprises the conductor body, in particular the first and the second
  • Ladder body revolves. Between the first and the second conductor body may be an intermediate region of the shaped body
  • the molded body can be made in one piece.
  • the molded body can be seen over the entire circumference of the conductor body in plan view of the first and / or second support surface directly adjacent to the conductor body.
  • the respective support surface can be flat or uneven.
  • the first carrier surface may be uneven, with the unevenness preferably resulting from the shaped body.
  • the second carrier surface may be flat, for example.
  • the composite body is designed to be resistant to tensile stress.
  • Tensile loads can be caused in particular by forces acting in one direction, which are aligned along the first support surface, the second support surface or preferably parallel thereto.
  • the tensile load force can in particular perpendicular to the
  • the composite body comprises both a conductor body and the shaped body, it is of particular advantage if the composite body is designed to be resistant to tensile stress, since the carrier is not composed of one part but of several,
  • the tensile stability of the composite body is preferably ensured only by the formation of the conductor body, which is formed with respect to the molding body so that the connection between the molding and the conductor body is particularly stable.
  • the conductor body may be formed so that the force parallel to the first and / or second support surface, which is required to release the shaped body from the conductor body, per unit area of the contact surface
  • Shaped body / conductor body greater than or equal to 10 MPa, preferably greater than or equal to 50 MPa, more preferably greater than or equal to 100 MPa.
  • the tensile strength of the connection between the shaped body and the conductor body, in particular for forces which are aligned along the first carrier surface and / or along the second carrier surface, is increased.
  • the shaped body is integrally formed on the semiconductor body and / or the conductor body. The semiconductor body or semiconductor material for the semiconductor body may therefore already be present, as well as possibly a conductor body before material for the
  • the shaped body can be attached to a side surface of the
  • Semiconductor body or arranged between the semiconductor body and the molded body elements, which are not semiconductive suitably, such as a
  • the shaped body can simulate the surface profile which is defined by the structures following it. Accordingly, the shaped body may be uneven on the side facing the semiconductor body.
  • the conductor body is expediently applied to the semiconductor material of the semiconductor body prior to the formation of the shaped body.
  • the conductor body has a first body main surface which faces the semiconductor body.
  • Ladder body is turned away from the first main body surface.
  • the conductor region may have an excellent view when viewed from the first and / or second main body surface
  • the conductor body is elongated.
  • Body main surface are preferably over at least one
  • the first and second body major surfaces may be aligned or parallel with each other.
  • the tensile strength of the Composite body increased.
  • the respective main body surface can be flat.
  • the ladder body has an excellent longitudinal direction and / or a longer side when viewed from the first body main surface, the following explanations preferably apply to the lateral surface bounding the ladder body in or along the longitudinal direction.
  • the embodiments are preferably at least for a side surface of a conductor body, which faces the other conductor body, preferably for the two mutually facing side surfaces of the conductor body.
  • the explanations regarding the side surface may alternatively or additionally also apply to a surface region in which the side surface of the first conductor body has the side surface of the second surface facing the first conductor body
  • Ladder body covered and / or vice versa The respective side surface of the conductor body may be flat, curved - convex or concave - and / or structured.
  • the respective side surface may be oblique or perpendicular to the first body main surface, second body main surface, first
  • Support surface and / or second support surface extend.
  • Slant preferably means neither perpendicular nor parallel.
  • the conductor body is provided for increasing, preferably adhesion-promoting,
  • the contact surface formed between the conductor body and the molded body.
  • the contact surface can be increased, for example, by increasing the surface area of the side surface, for example by tilting the surface
  • the conductor body can be formed by the shaped body, so that the
  • Shaped body seen from one side of the body
  • Conductor body extends through the conductor body to the other side of the conductor body, so that a continuous transverse strut of the shaped body is formed, which in
  • Seen on the first and / or second support surface extends over the region of the conductor body.
  • a transverse strut of the molding seen from one side of the first conductor region over the first
  • the transverse strut can continue over the region of the second conductor body and again on the side facing away from the intermediate region
  • a partial region of the shaped body can be arranged between a side of the conductor body facing the second carrier surface and the second carrier surface.
  • the semiconductor chip is for electrical contacting on the part of the second Support surface formed.
  • the second body main surface of the first conductor body and / or the second body main surface of the second conductor body is located
  • the respective main body surface may be provided for electrically conductive connection with electrically conductive material, for example a solder.
  • the respective body main surface can be connected to an external electrical connection
  • Connection conductor such as a conductor track of a printed circuit board, be provided.
  • one, an arbitrarily selected plurality or all of the following elements have a thickness which is less than or equal to 300 ⁇ m, preferably less than or equal to 250 ⁇ m, particularly preferably less than or equal to 200 ⁇ m, for example less than or equal to 150 ⁇ m or less than or equal to 100 ym is: carrier,
  • the thickness may be the maximum, the minimum or an average value of the thickness of the respective element, for example the arithmetic or geometric mean value between maximum and minimum thickness,
  • the first body main surface covers the second body main surface, in particular completely and / or vice versa, as seen in plan view of the respective body main surface and / or the first or the second carrier surface.
  • the area of the first body main surface is larger than the area of the surface second main body surface or vice versa.
  • a larger first main body surface offers the advantage that the
  • Semiconductor body facing surface is large and thus resulting in operation of the semiconductor chip heat loss from a large, thermally well conductive surface of the
  • Ladder body can be included. A large
  • the conductor body is designed such that the conductor body seen in cross-section, starting from the first body main surface in
  • a transverse dimension of the conductor body from the first body main surface may decrease or increase.
  • Magnification can be continuous, uniform, monotonic, and / or continuous.
  • the side surface or a main extension direction of the side surface is obliquely relative to the first support surface, to the first
  • Body main surface aligned with the second support surface and / or the second body main surface. Due to the oblique orientation, the surface of the side surface compared with a perpendicular to the preferably parallel
  • the tensile strength of the composite can be improved.
  • the side surface for example, seen in plan view of one of the support surfaces and / or in cross section along the thickness direction of the conductor body, one or more undercuts.
  • the side surface can be formed without undercuts.
  • a training with undercut offers the advantage that in the area of the respective undercut one
  • Abutment surface of the conductor body for the molding can result.
  • the respective abutment surface preferably acts as an abutment surface in the lateral direction, thus in particular in the pulling direction.
  • the respective abutment surface can the
  • Conductor body may be given in a direction parallel to the first and / or second support surface or parallel to the first and / or second main body surface, the following sequence: partial region of the shaped body, partial region of the conductor body, partial region of the shaped body.
  • abutment surface Between the abutment surface and the remaining part of the conductor body, a partial region of the shaped body can be arranged.
  • the molded body can be molded onto the abutment surface.
  • This preferably supports the non-positive adhesive connection between the molded body and the conductor body. Is the side surface without undercutting, so there are
  • the conductor body is connected in a form-fitting and / or non-positively connected manner to the molded body.
  • the conductor body can only positively or only positively or with a combination of positive and non-positive with the molding
  • the side surface is provided with a surface structure.
  • Surface structure may have undercuts or be formed without undercuts.
  • Surface structure may be formed by one or a plurality of structural elements.
  • Structural elements may be in the thickness direction, for example perpendicular to the first carrier surface, the second carrier surface, the first body main surface and / or the second
  • the respective structural element can be formed by a bulge or indentation of the conductor body.
  • the structural elements may have lateral and / or vertical protrusions or indentations
  • the respective structural element is preferably designed such that it can be shaped or formed with the material intended for the formation of the shaped body, for example a flowable molding compound.
  • Conductor body be formed so that the cross section of the conductor body remains the same in the thickness direction, so preferably does not change in surface area and / or shape.
  • a uniform surface structure may be
  • Body main surface formed comb-like, for example, sawtooth-like structure of the side surface.
  • a uniform surface structure has the advantage that it can be realized in a simple manner by means of a mask, for example by manufacturing the mask with the structure for the side surface and subsequently the conductor body using this mask, for example galvanically,
  • the cross-section may change in the thickness direction, for example, in terms of shape and / or area.
  • the change can be continuous or discontinuous.
  • a discontinuous change may be due to an in
  • Thickness direction alternating sequence of areas
  • a discontinuously changing surface structure in the thickness direction may be formed by a comb-like formation of the side surface seen in cross-section perpendicular to the first body main surface.
  • the cross-sectional area in the thickness direction-seen, for example, away from the first main body surface-can increase or decrease continuously.
  • a surface A of the side surface is greater than the thickness d of the conductor body multiplied by one of the following quantities:
  • B is one dimension, for example a maximum
  • 0 is the area of the area in which the facing each other
  • Side surfaces of the first and the second conductor body cover each other and it is true that 0 is greater than B * d and / or C * d. 0 may be smaller than or equal to the area A of the side surface of the first conductor body and / or less than or equal to the area A of the side surface of the second conductor body.
  • C * d > 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ⁇ 1.40, for example ⁇ 1.50, 1.80, ⁇ 1 , 90 or> 2.00.
  • a partial area of the shaped body is a connecting area which, seen from one side of the side view of the first or second carrier area, is viewed from above
  • Conductor body over an area covered by the conductor body in the plan view of the first and / or second body main surface area to another side of the conductor body
  • transverse struts can be formed by the conductor body.
  • the connection area can be in
  • Connecting portion forms a portion of one of the support surfaces - or completely - for example, if the
  • connection area exposed may, for example, be a partial region of the second carrier surface.
  • the connection region can be transverse to, in particular as
  • Cross strut or along the, in particular as a longitudinal strut, excellent longitudinal direction of the conductor body.
  • connection area is perpendicular to the longitudinal direction.
  • a first connection region preferably extends in a plan view over the first conductor body and a further connection region extends over the second conductor body.
  • connection area aligned.
  • the further connection area continues the first connection area, preferably in a straight line.
  • the shaped body projects beyond the conductor body on the side of the semiconductor body in a partial area. According to at least one embodiment, the
  • Semiconductor body epitaxially grown and the semiconductor chip is growing substrate, that is free of the substrate on which the semiconductor body was epitaxially grown.
  • the carrier is not subject to the
  • a connection area of the semiconductor chip is formed by means of the side of the conductor body facing away from the semiconductor body.
  • the pad can therefore be arranged below the semiconductor body.
  • the conductor body has a plurality of electrically within the carrier on separate sections.
  • the partial regions of the conductor body are preferably electrically conductively connected to the active region in each case. Between two
  • adjacent portions of the Leitergropers may be arranged in each case a portion of the shaped body.
  • the respective strut can, starting from the intermediate region between the first and the second conductor body, between two
  • these struts can run continuously from the first support surface to the second support surface.
  • struts between portions of the first and second conductor body are aligned with each other or offset from each other.
  • a continuous molding body area may be formed.
  • Ladder body can be reduced.
  • the number of portions of the first conductor body and the second conductor body may be different.
  • the conductor body is formed in one piece. In this case, it does not have a plurality of subareas. A particularly advantageous embodiment is shown below:
  • An optoelectronic semiconductor chip having a semiconductor body having an active region, and a carrier having a first carrier surface, on which the semiconductor body is arranged, and a second carrier surface on the side facing away from the semiconductor body, the carrier having a composite body, the at least one electrically leidayen Conductor body and at least one electrically insulating molded body, wherein the conductor body extends from the first support surface to the second support surface and is electrically connected to the active region.
  • FIGS. 1A and 1B show an example of a semiconductor chip on the basis of a schematic plan view (FIG. 1A) and a schematic sectional view (FIG. 1B).
  • Figures 2A and 2B illustrate a situation of mechanical stress for the semiconductor chip according to Figures 1A and 1B.
  • FIGS 3 to 11, 13A, 13B, and 14 to 16 show
  • FIG. 12 shows an exemplary embodiment of a detailed sectional schematic view
  • FIG. 1A shows a plan view of an exemplary embodiment of a semiconductor chip
  • FIG. 1B shows the associated sectional view.
  • the semiconductor chip 1 has a carrier 3.
  • the carrier 3 has a first carrier surface 5 and a second carrier surface 7.
  • the respective carrier surface 5 or 7 may be a main surface of the carrier.
  • the two support surfaces 5 and 7 may be connected via one or a plurality of side surfaces 9 of the carrier.
  • Carrier surface as the main surface may be larger than that of each of the side surfaces 9.
  • the second support surface 7 is
  • the carrier 3 has a first conductor body 11.
  • Carrier 3 has a second conductor body 13. Furthermore, the carrier 3 has a shaped body 15.
  • the molded body is electrically insulating, for example, an electric insulating material or an electrically insulating material composition.
  • the first conductor body 11 and the second conductor body 13 are embedded in the molded body 15 and deformed by it.
  • the respective conductor body 11 or 13 expediently extends from the first carrier surface 5 to the second carrier surface 7. Subareas of the first
  • Support surface 5 and the second support surface 7 can through the molded body 15 and the respective conductor body 11th
  • the two conductor bodies 11 and 13 are electrically insulated from each other via the shaped body 15 within the carrier 3.
  • the respective side surface 9 is formed by the shaped body 15.
  • the side surface 9 may have separating tracks, for example, from the
  • the respective conductor body 11, 13 has a first
  • the first body main surface 17 faces the semiconductor body 23.
  • the first body main surface 17 is exposed on the side of the first support surface 5 and may in particular be part of this support surface.
  • the second main body surface 19 faces away from the semiconductor body. The second
  • Body main surface 19 lies on the side of the second
  • Carrier surface 7 free and can in particular part of this
  • Body main surfaces are connected to each other via at least one or, as shown, a plurality of side surfaces 21.
  • the semiconductor body 23 is connected to the carrier 3
  • the semiconductor body has an optoelectronically active region, for example a to Radiation generation or radiation receiving trained active area.
  • the semiconductor body may, for example, according to a diode, for example a light emitting diode or a
  • Photodiode be formed.
  • the conductor bodies 11 and 13 are connected to the semiconductor body 23 on different sides of the active region, as will be explained in more detail later (compare the description in connection with FIG. 12). Therefore, the first conductor body 11 and the second conductor body 13 make external electrical contacts of the
  • the respective conductor body in particular its second facing away from the semiconductor body 23 second
  • Body main surface 19 for electrical contacting, for example, for soldering the semiconductor chip with an external electrical connection of a connection carrier, on which the semiconductor chip is arranged, for example one
  • the respective main body surface 17 or 19 of the first and / or second conductor body is expediently from
  • the respective conductor body has an excellent longitudinal direction.
  • the first and the second conductor body may, for example, have a rectangular shape in plan view.
  • Ladder bodies are, in particular along their longitudinal direction, aligned with each other. It should be noted that features described in connection with the exemplary embodiment for a carrier with two conductor bodies can likewise also be used for a carrier without a second conductor body. In addition, features that are common in the general part of Description are also described for the
  • Embodiments are used and vice versa.
  • the carrier 3 is formed as a composite body, the
  • Ladder body 11, 13 and the molded body 15 includes. As can be seen in the plan view in FIG. 1A, the shaped body 15 has an edge region 25 which completely surrounds the first and the second conductor body in the circumferential direction. Between the two conductor bodies 11 and 13, an intermediate region 27 of the shaped body is arranged, which extends consistently between the two conductor bodies and connects one side of the edge region 25 with the side of the edge region 25 of the molded body facing away from this side in a top view.
  • the edge region 25 can be designed, for example, as a frame.
  • the frame can be provided with a realized by the intermediate region 27 longitudinal strut.
  • the edge region 25 preferably has a width that is less than or equal to 50 ym in plan view of the second support surface. Preferably, the width of the edge region 25 is greater than or equal to 20 ym.
  • a thickness of the shaped body 15 and / or the respective conductor body 11 or 13 may be less than or equal to 200 ym, preferably less than or equal to 100 ym.
  • the carrier as a whole may have a thickness which is less than or equal to 200 ⁇ m, preferably less than or equal to 100 ⁇ m.
  • a length and / or a width of the carrier or of the respective conductor body can be less than or equal to 3 mm in plan view of the first or second carrier surface.
  • the length and / or the width of the carrier or of the respective conductor body can be greater than or equal to 300 ym in plan view of the first or second carrier surface.
  • the length of the respective conductor body 11, 13 can be twofold or more of the width of this conductor body seen in plan view of the second support surface 7.
  • Intermediate area 27 is preferably chosen such that an electrical short circuit during assembly of the semiconductor chip to a connection carrier, for example by means of a solder, is avoided.
  • the distance may be greater than or equal to 60 ⁇ m, preferably greater than or equal to 150 ⁇ m, particularly preferably greater than or equal to 250 ⁇ m. With larger chips, of course, larger distances are possible or expedient than with smaller chips. If the distance can change in the
  • the two external connection surfaces can be connected as surfaces of the first and second conductor body on the side facing away from the semiconductor body 23 of the carrier 3, the semiconductor chip 1 by means of SMD techniques (SMD: surface mountable device
  • Component are handled and contacted.
  • the following is a method of making a
  • the semiconductor layer sequence is on one
  • Substrate arranged, for example, the growth substrate on which the semiconductor layer sequence, epitaxially grown, has.
  • the semiconductor layer sequence has a active area.
  • the semiconductor layer sequence is divided into a plurality of semiconductor bodies, each having an active region. This active area can be made up of a partial area of the active area of the
  • Semiconductor layer sequence may be formed.
  • a plurality of conductor bodies on the semiconductor layer sequence or in each case at least one conductor body, preferably two conductor bodies, arranged or formed on a semiconductor body, so that the respective conductor body is electrically conductively connected to the active region.
  • Conductor body provided for a semiconductor body they are preferably electrically conductive on different sides of the active region with the semiconductor body
  • a mass is provided for a shaped body layer.
  • the mass is provided either flowable or in the solid state and subsequently rendered fluid, for example liquefied. Then, the flowable mass is molded to the conductor body and cured after molding to form the shaped body layer.
  • Composite layer comprising the shaped body layer and the conductor body.
  • a composite is formed which has the composite body layer and the semiconductor body arranged on the composite body layer.
  • the composite is then singulated into semiconductor chips, each comprising a semiconductor body and a composite body. Side surfaces of the composite body can therefore separation tracks, for example
  • the shaped body of the composite body comprises a piece of the shaped body layer.
  • Composite body further comprises one or two conductor body. Before the separation, the substrate is expediently thinned or partially or completely removed.
  • FIGS. 2A and 2B illustrate the handling of the
  • Semiconductor chip for example by means of a holding device 29 in an edge region, for example, on the part of the second support surface 7, is held, so that the mechanical
  • the force F leads, for example because of the bending moment caused, to a tensile load which acts on the carrier 3, and in particular on the contact surface between the shaped body 15 and the respective conductor body 11 or 13, in particular in the intermediate region 27.
  • the tensile load acts
  • the holding device 29 can be realized for example by a nozzle which holds the semiconductor chip 1 by negative pressure. Already exerted by the negative pressure necessary for the holding function force may be sufficient to the carrier 3 as shown in Figure 2B and thereby make the chip useless. Similar mechanical stresses can occur if a chip is placed on soldering areas (solder pads) on a connection carrier.
  • Tensile stability of the carrier 3 with the composite body comprising the molded body 15 and the conductor body 11 and 13, can be improved.
  • the tensile stability can be increased for example by the fact that the contact surface or adhesive surface, ie the surface between the shaped body 15 and the respective conductor body 11 or 13, in which the molded body and the
  • Conductor body adjacent to each other is increased.
  • the surface of the respective conductor body 11, 13 are increased.
  • the measures for increasing the adhesive surface or contact surface between the shaped body and the conductor body are selected so that the necessary modifications already during the formation of the conductor body, for example by galvanic
  • Apply can be carried out and subsequently the molding as a flowable molding compound to the already
  • the contact surface or adhesive surface between the molding and the conductor body is increased.
  • the contact or adhesive surface is preferably enlarged
  • the carrier preferably need not be changed in terms of dimensions.
  • Contact surface between moldings and the respective Ladder body may be opposite a cuboid or
  • each an embodiment with a structured side surface 21 of the conductor body 11, 13 is indicated.
  • the mutually facing side surfaces 21 of the conductor bodies 11, 13 are each similarly structured, wherein the individual
  • Structural elements are aligned. Deviating from the illustration, the side surfaces can also be different be structured and / or the structural elements of different side surfaces seen in plan offset from each other
  • Structural elements are considered to be away from the respective conductor body and / or in the direction of the other conductor body
  • the structural elements can thus be from one end of the
  • Support surface 7 executed undercuts.
  • the shaped body 15 and the respective ladder body for loads in the pulling direction that is, for example, perpendicular to the excellent longitudinal direction of the respective
  • Abutment surfaces which can resist a separation of the molded body and the conductor body under tensile load, is supported.
  • Shaped body, material of the conductor body (this forms expediently the main body of the conductor body).
  • the end surface 53 of the molded body 15, in particular its intermediate region 27, adjacent.
  • FIGS. 3 and 4 can be produced, for example, in such a way that via a mask on the
  • the mask may, for example, a suitably structured mask, for example a
  • Photoresist mask his.
  • the mask material-free area is, for example, galvanically, with conductor material for the
  • the conductor body is metallic, for example. Since the surface structure is uniform, the mask can be compared with others described below Structures are comparatively easy to form, for example, with only one mask layer and / or without undercuts or inclined flanks.
  • a plurality of connecting regions 33 of the molded body 15 are provided which, in particular in a plan view of the second
  • Support surface 7 seen from the one side of the respective conductor body 11 and 13 extend to the other side, for example, from the edge region 25 to
  • transverse struts may be formed in the molded body. It may alternatively or additionally be provided longitudinal struts, which extend along the excellent longitudinal direction of the respective
  • the respective conductor body can have a plurality of partial regions, in the exemplary embodiment three partial regions, wherein between each two adjacent partial regions of the same conductor body a respective connection region 33 is arranged.
  • the subregions of the respective conductor body may be continuous, that is to say separated by the entire carrier, so that the connection region 33 can extend continuously from the second carrier surface 7 as far as the first carrier surface 5.
  • one or a plurality of connection regions may be continuous, that is to say separated by the entire carrier, so that the connection region 33 can extend continuously from the second carrier surface 7 as far as the first carrier surface 5.
  • connection portion 33 in the circumferential direction - ie in particular azimuthal to its extension direction - is completely surrounded by the conductor body material and / or only partially, for example, not limited on one side, the conductor body.
  • Embodiment connecting areas 33 are provided, which are exposed by the second support surface 7, but otherwise in the circumferential direction of the respective conductor body 11, 13th
  • connection region 33 is completely surrounded by the conductor body material as viewed in the circumferential direction along its extension direction.
  • the conductor bodies 11, 13 according to FIG. 5 can be formed by a suitably formed mask with subsequent deposition, for example electrodeposition, sputtering or
  • the portions of the conductor body 11 and the portions of the conductor body 13 are formed. Not to be covered with conductor material areas are suitably covered with the mask material.
  • Connection region 33 and the semiconductor body in Figure 6 - provided. The areas that are free of the mask become
  • Connection area 33 provided area covered. If the conductor material is subsequently deposited, the structure shown in FIG. 6 with a recess for the result
  • connection region 33 The procedure according to FIG. 7 can be followed similarly, wherein, after the formation of the recess, a region of the conductor body which is remote from the semiconductor body is additionally formed, which forms the region for the body
  • This semiconductor body-remote region of the conductor body can be defined by means of a further mask, the mask which defines the recess preferably still not being removed in order to prevent conductor material from entering the recess actually provided for the connection region.
  • the mask structure defining the recess may be overmolded to form the
  • respective conductor body free areas - these include the connecting portions 33 - are filled with the mass for the molding.
  • Connecting regions 33 through different conductor bodies 11 and 13 can be aligned with each other, as shown in FIG.
  • a connection region 33 through a conductor body can pass over the intermediate region 27
  • connection region 33 straight line in a connection region 33 pass through or open the other conductor body.
  • connecting regions 33 can be arranged offset from one another by different conductor bodies 11 or 13, as shown in FIGS. 13A or 13B. A staggered
  • Starting conductor body extends over the intermediate region 27 and continues over the other conductor body, is avoided.
  • the number of connecting regions 33 via different conductor bodies 11, 13 can, as shown in FIG. 13B, different or, as shown in Figure 13A and Figure 5, be the same. Accordingly, the first conductor body 11 and the second conductor body 13 can be the same number
  • FIGS. 8 to 10 and 14 have in common that the first main body surface 17 and the second main body surface 19 are each different
  • the body main surface 17 is smaller than the second body main surface 19, and in Figs. 9 and 10, the reverse is the case. In the ladder bodies in Figure 8 increases the
  • FIGS. 8 and 9 taken longitudinal direction of the respective conductor body 11 and 13, respectively, seen continuously away from the first body main surface 17.
  • Ladder body oblique.
  • Body major surface 20 ° or more, preferably 30 ° or more, or 40 ° or more.
  • Body main surface 17 away seen an area with a smaller cross-sectional area.
  • the conductor bodies 11, 13 are preferably arranged relative to one another such that an intermediate region 27 of the shaped body 15 is formed between them, which has a t-shaped shape in cross-section.
  • Conductor body 11 or 13 may have on the side of the semiconductor body 23 in the space between the two conductor bodies protruding projection.
  • a discontinuous change of the cross section is not required, but a region of larger cross-sectional area may be over an oblique region of the side surface in a region with a smaller, preferably constant, cross-section of the respective
  • FIG. 8 and FIG. 9 can be produced by means of suitable masks which have suitably oblique flanks, wherein the mask according to FIG. 8
  • Undercut can be performed.
  • the structure according to FIG. 10 can be produced with a multi-stage masking technique, in which first the region of the respective conductor body close to the semiconductor body is applied by means of a first mask and then a further mask is used for the region with the smaller width of the conductor body.
  • the region with the oblique side surface according to FIG. 14 can be defined via a mask with an undercut.
  • the respective side surface 21 in the exemplary embodiments according to FIGS. 5 to 9 can be unstructured, in particular flat.
  • FIG. 11 shows an example with conductor bodies 11, 13 with a discontinuous cross-section in the thickness direction and a surface structure changing in the thickness direction.
  • Thickness alternate wide and narrow areas of the respective conductor body 11 and 13 alternately, so that one, preferably considered in cross-section comb-like, toothing of the respective conductor body with the
  • Shaped body material is formed.
  • the side surface thus has in the thickness direction Schuschitte. In lateral
  • the structure is preferably the structure
  • Ladder body 11, 13 structured formed.
  • the exemplary embodiments according to FIGS. 15 and 16 have in common that the respective side surface is not flat. Furthermore, the respective side surface has no
  • the respective side surface of the respective conductor body 11, 13 is curved.
  • the lateral surface is convexly curved when viewed from the outside, whereas in FIG. 16 it is concavely curved from the outside. Due to the corresponding curved execution of the side surface of the content of the side surface can be increased accordingly.
  • the concave curved embodiment according to FIG. 16 is in contrast
  • the areas for electrical connection and for thermal connection in the semiconductor body 23 are larger than the area available within the carrier.
  • the cross section varies such that it first increases (FIG. 15) or decreases (FIG. 16) starting from the first main body surface 17 and then decreases again (FIG. 15) or enlarged (FIG. 16).
  • FIGS. 8 to 11 and FIGS. 14 to 16 have in common that the cross section of the respective conductor body in FIG
  • Thickness direction in particular in shape and / or area, changes. Due to the modifications described above can - with
  • Ladder body created that enlarge the contact or adhesive surface to the molding (Figure 7, 13A, 13B) or it is a body main surface of the conductor body to increase the contact or adhesive surface suitably structured formed ( Figure 6).
  • a surface A of the side surface 21 may be larger than the thickness d of the conductor body 11 or 13 multiplied by one of the following quantities:
  • B is one dimension, for example a maximum
  • first body main surface 17 or the second body main surface 19 denotes, and / or
  • Body main surface called.
  • cover. 0 may be less than or equal to the area of the side surface of the first conductor body or less than or equal to the surface area of the side surface of the second
  • B * d > 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ⁇ 1.40, for example ⁇ 1.50, 1.80, ⁇ 1 , 90 or 2.00, and / or
  • C * d > 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ⁇ 1.40, for example ⁇ 1.50, 1.80, ⁇ 1 , 90 or> 2.00.
  • the semiconductor body 23 from the preceding exemplary embodiments is shown in greater detail and, in addition, the connection between the semiconductor body 23 and the carrier 3 is explained in greater detail.
  • the semiconductor body 23 is preferably epitaxially grown and may for example be based on II-VI or III-V semiconductor material.
  • the semiconductor body 23 has a first semiconductor layer 35 and a second one
  • Semiconductor layers 37 and 35 is the active region of the semiconductor body 39 for generating radiation or for
  • the mirror layer may, for example, contain or consist of a metal or a metallic material.
  • the first semiconductor layer 35 may be p-type or n-type.
  • Semiconductor layer 37 preferably has the other conductivity type, ie is n-type or p-type.
  • the first and / or second semiconductor layer may be doped for the respective type of line.
  • the first conductor body 11 is electrically conductively connected to the first semiconductor layer 35.
  • a plated-through hole is formed in the semiconductor body.
  • the through-connection comprises a recess or recess 43 in the semiconductor body, which extends from the side facing the carrier to the side of the active region 39 facing away from the carrier.
  • the recess 43 may be through the active area, the second
  • a conductor material 45 is arranged, for example, a metal which is electrically conductively connected to the semiconductor body on the side facing away from the active region.
  • the second conductor body 13 is preferably electrically conductively connected via the mirror layer 41 to the side of the semiconductor body 23 facing the carrier 3.
  • the conductor body 11 is expediently
  • an insulating layer 47 is provided, which partially is provided between the carrier 3 and the semiconductor body.
  • the insulation layer is interrupted.
  • Seed layers 59 and 51 may be part of a
  • Semiconductor layer sequence from which a plurality of semiconductor bodies are formed, applied and subsequently patterned accordingly.
  • the seed layers 49 and 51 can be applied already structured.
  • the material of the shaped body 15 can, as shown, the respective
  • the respective seed layer 49 and 51 is preferably made electrically conductive.
  • the respective seed layer contains a metal that is for galvanic
  • the shaped body and / or the respective conductor body is preferably radiopaque.
  • the Shaped body can be absorbent, especially black,
  • the mirror layer is arranged between the carrier and the semiconductor body, this does not significantly affect the radiation power coupled out in the case of a radiation-emitting semiconductor chip.
  • the respective conductor body 11, 13 can in the
  • one or more polymers or one or more ceramic materials are suitable for the shaped body 15.
  • the polymeric materials may be epoxies, silicones, acrylates, polyethanes, polyterephthalates or polysilazanes. It is also possible that the polymer materials are filled with inorganic particles, such as scattering particles.
  • the polymers are filled with particles of at least one of glass, TiO 2, SiO 2, ZnO, ZrO 2, BN, Si 3 N 4, Al 2 O 3 and AlN.
  • the ceramic powders may be in the form of microparticles or nanoparticles, for example, loosely bound or bound in pastes or inks.
  • the ceramic powders have at least one of the materials ZnO, ZrO 2, BN, Si 3 N 4, Al 2 O 3 and AlN.
  • Insulation layer are also different silica or Silsesquioxane particularly suitable. Of the
  • Process for curing the printed layers can be done by sintering in the oven or by local sintering by laser or by UV irradiation.

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Abstract

The invention relates to an optoelectronic semiconductor chip (1), comprising: a semiconductor body (23), which has an active region (39); and a carrier (3), which has a first carrier surface (5), on which the semiconductor body is arranged, and a second carrier surface (7) on the side facing away from the semiconductor body, wherein the carrier has a composite body (11, 13, 15), which has at least one electrically conductive conductor body (11, 13) and at least one electrically insulating molded body (15), wherein the conductor body extends from the first carrier surface to the second carrier surface and is connected to the active region in an electrically conductive manner, and wherein the composite body is designed to be stable with respect to tension.

Description

Beschreibung description
OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP Die vorliegende Offenbarung betrifft einen Halbleiterchip mit einem Halbleiterkörper. Der Halbleiterchip weist weiterhin einen Träger mit einer ersten Trägerfläche auf, auf der der Halbleiterkörper angeordnet ist. Die mechanische Stabilität des Trägers ist, da der OPTOELECTRONIC SEMICONDUCTOR CHIP The present disclosure relates to a semiconductor chip having a semiconductor body. The semiconductor chip further has a carrier with a first carrier surface, on which the semiconductor body is arranged. The mechanical stability of the carrier is because of
Halbleiterkörper auf dem Träger angeordnet ist, auch  Semiconductor body is arranged on the carrier, too
maßgeblich für die mechanische Stabilisierung des decisive for the mechanical stabilization of the
Halbleiterkörpers . Eine zu lösende Aufgabe besteht darin, einen Träger hoher mechanischer Stabilität bereitzustellen. Semiconductor body. An object to be solved is to provide a support of high mechanical stability.
Diese Aufgabe wird durch die folgende Offenbarung und This object is achieved by the following disclosure and
insbesondere durch die in unabhängigen Patentansprüchen definierten Gegenstände gelöst. Weitere vorteilhafte in particular solved by the objects defined in independent claims. Further advantageous
Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind Gegenstand Embodiments and developments are the subject
abhängiger Patentansprüche. dependent claims.
Die vorliegende Offenbarung enthält nicht notwendigerweise ausschließlich Offenbarung, die der Lösung der oben The present disclosure does not necessarily include solely disclosure that is the solution of the above
gestellten Aufgabe dient, sondern kann auch Lösungen zu anderen Aufgabenstellungen enthalten, die dann durch die jeweils relevanten Merkmale ggf. auch ohne die für die oben genannte Aufgabe relevanten Merkmale gelöst werden können. but can also contain solutions to other problems, which can then be solved by the respective relevant features, if necessary, even without the relevant for the above task characteristics.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der According to at least one embodiment, the
Halbleiterchip einen aktiven Bereich auf. Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Halbleiterchip ein optoelektronischer Halbleiterchip. Der aktive Bereich kann zur Strahlungserzeugung oder zum Strahlungsempfang vorgesehen sein. Der Halbleiterkörper kann für eine Semiconductor chip on an active area. In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chip is an optoelectronic semiconductor chip. The active region may be provided for generating radiation or for receiving radiation. The semiconductor body can for a
Leuchtdiode oder für eine Photodiode ausgebildet sein. Be designed light emitting diode or for a photodiode.
Bevorzugt ist der Halbleiterkörper zur Erzeugung von Preferably, the semiconductor body for the production of
Strahlung im infraroten, sichtbaren oder ultravioletten Radiation in the infrared, visible or ultraviolet
Spektralbereich ausgebildet. Der Halbleiterkörper kann epitaktisch gewachsen sein. Epitaktisch gewachsene Spectral range formed. The semiconductor body can be grown epitaxially. Epitaxially grown
Halbleiterkörper bedürfen einer besonders guten mechanischen Stabilisierung durch den Träger, da instabile Träger Brüche im epitaktisch gewachsenen Halbleitermaterial verursachen können, was zu erheblichen Beeinträchtigungen in der Funktion des Chips und, etwa wenn der aktive Bereich bricht, zu einem vollständigen Ausfall des Chips führen kann. Semiconductor bodies require particularly good mechanical stabilization by the carrier since unstable carriers can cause breaks in the epitaxially grown semiconductor material, which can result in significant dysfunctions in the function of the chip and complete breakdown of the chip, such as when the active region breaks.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der Träger auf der vom Halbleiterkörper abgewandten Seite eine zweite In accordance with at least one embodiment, the carrier has a second one on the side facing away from the semiconductor body
Trägerfläche auf. Die erste und die zweite Trägerfläche können aneinander ausgerichtet, vorzugsweise parallel zueinander ausgerichtet, sein und insbesondere parallel zueinander verlaufen. Carrier surface on. The first and the second carrier surface can be aligned with one another, preferably aligned parallel to one another, and in particular run parallel to one another.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der Träger zumindest einen elektrisch leitfähigen Leiterkörper auf. Der Leiterkörper kann sich von der ersten Trägerfläche bis zur zweiten Trägerfläche erstrecken. Der Leiterkörper ist zweckmäßigerweise elektrisch leitend mit dem aktiven Bereich des Halbleiterkörpers verbunden. Der elektrisch leitfähige Leiterkörper kann ein erster Leiterkörper sein. Der Träger kann zusätzlich zu dem ersten Leiterkörper einen zweiten elektrisch leitfähigen Leiterkörper aufweisen, wobei der erste Leiterkörper und der zweite Leiterkörper mit dem Halbleiterkörper bevorzugt auf verschiedenen Seiten des aktiven Bereichs elektrisch leitend verbunden sind. Der eine Leiterkörper kann mit der dem Träger zugewandten Seite des Halbleiterkörpers, insbesondere zwischen dem Träger und dem aktiven Bereich, elektrisch leitend verbunden sein und der andere Leiterkörper kann mit dem Halbleiterkörper auf der vom Träger abgewandten Seite des aktiven Bereichs elektrisch leitend verbunden sein. Innerhalb des Trägers sind der erste und der zweite Leiterkörper mit Vorzug elektrisch voneinander isoliert. In dem Bereich zwischen dem aktiven Bereich und dem Träger können der erste und der zweite Leiterkörper In accordance with at least one embodiment, the carrier has at least one electrically conductive conductor body. The conductor body may extend from the first carrier surface to the second carrier surface. The conductor body is expediently electrically conductively connected to the active region of the semiconductor body. The electrically conductive conductor body may be a first conductor body. The carrier may have, in addition to the first conductor body, a second electrically conductive conductor body, wherein the first conductor body and the second conductor body with the Semiconductor bodies are preferably electrically conductively connected on different sides of the active region. The one conductor body may be electrically conductively connected to the side of the semiconductor body facing the carrier, in particular between the carrier and the active region, and the other conductor body may be electrically conductively connected to the semiconductor body on the side of the active region facing away from the carrier. Within the carrier, the first and second conductor bodies are preferably electrically isolated from each other. In the area between the active area and the carrier, the first and the second conductor body
elektrisch voneinander isoliert sein, so dass in diesem be electrically isolated from each other, so that in this
Bereich keine elektrisch leitende Verbindung zwischen dem ersten und zweiten Leiterkörper hergestellt wird. Ein Area no electrically conductive connection between the first and second conductor body is made. One
Kurzschluss kann so vermieden werden. Der erste Leiterkörper und/oder der zweite Leiterkörper kann ein Metall oder ein metallisches Material enthalten oder daraus bestehen. Der erste Leiterkörper und/oder der zweite Leiterkörper kann sich von der ersten Trägerfläche bis zur zweiten Trägerfläche erstrecken. Short circuit can be avoided. The first conductor body and / or the second conductor body may contain or consist of a metal or a metallic material. The first conductor body and / or the second conductor body may extend from the first carrier surface to the second carrier surface.
Merkmale, die im Folgenden in Bezug auf einen Leiterkörper beschrieben sind, können sich auf den ersten und/oder den zweiten Leiterkörper beziehen, soweit nicht explizit Features that are described below with reference to a conductor body may relate to the first and / or the second conductor body, if not explicitly
Unterschiede zwischen den Leiterkörpern herausgestellt werden . Differences between the ladder bodies are highlighted.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der Träger einen Verbundkörper auf. Der Träger kann durch den Verbundkörper gebildet sein. Der Verbundkörper kann den elektrisch In accordance with at least one embodiment, the carrier has a composite body. The carrier may be formed by the composite body. The composite body can be the electrical
leitfähigen Leiterkörper - selbstverständlich möglicherweise zusätzlich den zweiten elektrischen Leiterkörper, wie oben erwähnt - aufweisen. Der Verbundkörper weist einen elektrisch isolierenden Körper, vorzugsweise einen Formkörper, auf. Der Formkörper kann an den Leiterkörper angeformt sein. conductive conductor body - of course possibly additionally the second electrical conductor body, as mentioned above - have. The composite body has an electrical insulating body, preferably a shaped body, on. The shaped body can be molded onto the conductor body.
Insbesondere kann eine direkte Grenzfläche zwischen dem In particular, a direct interface between the
Formkörper und dem Leiterkörper gebildet sein. Material für den Formkörper kann für das Anformen fließfähig gemacht oder bereits fleißfähig bereitgestellt werden und anschließend, insbesondere nach dem Anfließen des fließfähigen Materials an den Leiterkörper, kann das fließfähige Material wieder verfestigt werden, um den Formkörper zu bilden. Der Formed body and the conductor body. Material for the molded article can be rendered flowable for the molding or can already be provided ready for use, and subsequently, in particular after the flowable material has flowed onto the conductive body, the flowable material can be solidified again to form the molded article. Of the
Formkörper kann die mechanischen Eigenschaften des Trägers maßgeblich bestimmen. Der Formkörper kann, da er elektrisch isolierend ist, den ersten und zweiten Leiterkörper Shaped body can determine the mechanical properties of the wearer significantly. The molded body, since it is electrically insulating, the first and second conductor body
elektrisch voneinander isolieren. Der Formkörper kann die mechanische Stabilität des Verbundkörpers garantieren. Der Formkörper kann, in Aufsicht auf die erste und/oder zweite Trägerfläche gesehen einen Randbereich aufweisen, der den Leiterkörper, insbesondere den ersten und den zweiten electrically isolate from each other. The molded body can guarantee the mechanical stability of the composite body. Seen in top view of the first and / or second carrier surface, the shaped body can have an edge region which comprises the conductor body, in particular the first and the second
Leiterkörper, umläuft. Zwischen dem ersten und dem zweiten Leiterkörper kann ein Zwischenbereich des Formkörpers Ladder body, revolves. Between the first and the second conductor body may be an intermediate region of the shaped body
angeordnet sein. Über diesen Zwischenbereich können der erste und der zweite Leiterbereich elektrisch voneinander isoliert werden. Der Formkörper kann einstückig ausgeführt sein. Der Formkörper kann über den gesamten Umfangs des Leiterkörpers in Aufsicht auf die erste und/oder zweite Trägerfläche gesehen unmittelbar an den Leiterkörper angrenzen. Die jeweilige Trägerfläche kann eben oder uneben sein. be arranged. About this intermediate region of the first and the second conductor region can be electrically isolated from each other. The molded body can be made in one piece. The molded body can be seen over the entire circumference of the conductor body in plan view of the first and / or second support surface directly adjacent to the conductor body. The respective support surface can be flat or uneven.
Beispielsweise kann die erste Trägerfläche uneben sein, wobei die Unebenheit bevorzugt vom Formkörper herrührt. Die zweite Trägerfläche kann beispielsweise eben sein. For example, the first carrier surface may be uneven, with the unevenness preferably resulting from the shaped body. The second carrier surface may be flat, for example.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Verbundkörper zugstabil ausgebildet. Zugbelastungen können insbesondere durch Kräfte verursacht werden, die in einer Richtung wirken, die entlang der ersten Trägerfläche, der zweiten Trägerfläche oder vorzugsweise parallel zu dieser, ausgerichtet sind. Die Zugbelastungskraft kann insbesondere senkrecht zu der In accordance with at least one embodiment, the composite body is designed to be resistant to tensile stress. Tensile loads can be caused in particular by forces acting in one direction, which are aligned along the first support surface, the second support surface or preferably parallel thereto. The tensile load force can in particular perpendicular to the
Grenzfläche zwischen dem Formkörper und dem Leiterkörper gerichtet sein und versuchen, den Formkörper vom Leiterkörper zu lösen. Da der Verbundkörper sowohl einen Leiterkörper als auch den Formkörper umfasst, ist es von besonderem Vorteil, wenn der Verbundkörper zugstabil ausgebildet ist, da der Träger nicht aus einem Teil, sondern aus mehreren, Be directed interface between the molding and the conductor body and try to solve the molding from the conductor body. Since the composite body comprises both a conductor body and the shaped body, it is of particular advantage if the composite body is designed to be resistant to tensile stress, since the carrier is not composed of one part but of several,
vorzugsweise nacheinander ausgebildeten Teilen besteht oder gebildet ist. preferably consists of successively formed parts or is formed.
Die Zugstabilität des Verbundkörpers wird vorzugsweise nur durch die Ausbildung des Leiterkörpers gewährleistet, der hinsichtlich des Formkörpers so ausgebildet ist, dass die Verbindung zwischen Formkörper und Leiterkörper besonders stabil ist. The tensile stability of the composite body is preferably ensured only by the formation of the conductor body, which is formed with respect to the molding body so that the connection between the molding and the conductor body is particularly stable.
Der Leiterkörper kann so ausgebildet sein, dass die Kraft parallel zur ersten und/oder zweiten Trägerfläche, die erforderlich ist, um den Formkörper von dem Leiterkörper zu lösen, pro Flächeneinheit der Kontaktfläche The conductor body may be formed so that the force parallel to the first and / or second support surface, which is required to release the shaped body from the conductor body, per unit area of the contact surface
Formkörper/Leiterkörper größer oder gleich 10 MPa, bevorzugt größer oder gleich 50 MPa, besonders bevorzugt größer oder gleich 100 MPa.  Shaped body / conductor body greater than or equal to 10 MPa, preferably greater than or equal to 50 MPa, more preferably greater than or equal to 100 MPa.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die Zugfestigkeit der Verbindung zwischen dem Formkörper und dem Leiterkörper, insbesondere für Kräfte, die entlang der ersten Trägerfläche und/oder entlang der zweiten Trägerfläche ausgerichtet sind, erhöht . Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Formkörper an den Halbleiterkörper und/oder den Leiterkörper angeformt. Der Halbleiterkörper beziehungsweise Halbleitermaterial für den Halbleiterkörper kann also bereits vorhanden sein, ebenso wie gegebenenfalls ein Leiterkörper, bevor Material für den In accordance with at least one embodiment, the tensile strength of the connection between the shaped body and the conductor body, in particular for forces which are aligned along the first carrier surface and / or along the second carrier surface, is increased. In accordance with at least one embodiment, the shaped body is integrally formed on the semiconductor body and / or the conductor body. The semiconductor body or semiconductor material for the semiconductor body may therefore already be present, as well as possibly a conductor body before material for the
Formkörper aufgebracht und der Formkörper ausgebildet wird. Der Formkörper kann an eine Seitenfläche des  Molded body applied and the shaped body is formed. The shaped body can be attached to a side surface of the
Halbleiterkörpers oder an zwischen dem Halbleiterkörper und dem Formkörper angeordnete Elemente, die zweckmäßigerweise nicht halbleitend sind, wie zum Beispiel eine  Semiconductor body or arranged between the semiconductor body and the molded body elements, which are not semiconductive suitably, such as a
Stromverteilungsschicht und/oder eine Spiegelschicht,  Power distribution layer and / or a mirror layer,
angeformt werden. Der Formkörper kann das Oberflächenprofil, das durch die ihm nachfolgenden Strukturen definiert ist, nachbilden. Dementsprechend kann der Formkörper auf der dem Halbleiterkörper zugewandten Seite uneben ausgebildet sein.be formed. The shaped body can simulate the surface profile which is defined by the structures following it. Accordingly, the shaped body may be uneven on the side facing the semiconductor body.
Der Leiterkörper ist zweckmäßigerweise vor der Ausbildung des Formkörpers auf dem Halbleitermaterial des Halbleiterkörpers aufgebracht . Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der Leiterkörper eine erste Körperhauptfläche auf, die dem Halbleiterkörper zugewandt ist. Eine zweite Körperhauptfläche des The conductor body is expediently applied to the semiconductor material of the semiconductor body prior to the formation of the shaped body. In accordance with at least one embodiment, the conductor body has a first body main surface which faces the semiconductor body. A second main body surface of the
Leiterkörpers ist von der ersten Körperhauptfläche abgewandt. Der Leiterbereich kann in Aufsicht auf die erste und/oder zweite Körperhauptfläche gesehen eine ausgezeichnete Ladder body is turned away from the first main body surface. The conductor region may have an excellent view when viewed from the first and / or second main body surface
Längsrichtung aufweisen. Vorzugsweise ist der Leiterkörper länglich ausgebildet. Die erste und die zweite  Have longitudinal direction. Preferably, the conductor body is elongated. The first and the second
Körperhauptfläche sind bevorzugt über mindestens eine Body main surface are preferably over at least one
Seitenfläche des Leiterkörpers miteinander verbunden. Die erste und die zweite Körperhauptfläche können parallel zueinander ausgerichtet sein oder verlaufen. Bevorzugt wird über die Ausbildung der Seitenfläche die Zugfestigkeit des Verbundkörpers erhöht. Die jeweilige Körperhauptfläche kann eben sein. Side surface of the conductor body connected to each other. The first and second body major surfaces may be aligned or parallel with each other. Preferably, the tensile strength of the Composite body increased. The respective main body surface can be flat.
Die folgenden Ausführungen gelten, wenn auf eine Seitenfläche Bezug genommen ist, für mindestens eine, eine beliebige ausgewählte Mehrzahl, oder alle Seitenflächen des The following statements, when referring to a side surface, apply to at least one, any selected plurality, or all of the side surfaces of the
Leiterkörpers, insofern dieser mehrere Seitenflächen Ladder body, in so far as this several side surfaces
aufweist. Weist der Leiterkörper in Aufsicht auf die erste Körperhauptfläche eine ausgezeichnete Längsrichtung und/oder eine längere Seite auf, so gelten die folgenden Ausführungen vorzugsweise für die den Leiterkörper in oder entlang der Längsrichtung begrenzende Seitenfläche. Sind zwei having. If the ladder body has an excellent longitudinal direction and / or a longer side when viewed from the first body main surface, the following explanations preferably apply to the lateral surface bounding the ladder body in or along the longitudinal direction. Are two
Leiterkörper vorgesehen, so gelten die Ausführungen bevorzugt zumindest für eine Seitenfläche des einen Leiterkörpers, die dem anderen Leiterkörper zugewandt ist, vorzugsweise für die beiden einander zugewandte Seitenflächen der Leiterkörper. Weiterhin können die Ausführungen zur Seitenfläche alternativ oder ergänzend auch für einen Flächenbereich gelten, in dem die Seitenfläche des ersten Leiterkörpers die dem ersten Leiterkörper zugewandte Seitenfläche des zweiten Provided ladder body, the embodiments are preferably at least for a side surface of a conductor body, which faces the other conductor body, preferably for the two mutually facing side surfaces of the conductor body. Furthermore, the explanations regarding the side surface may alternatively or additionally also apply to a surface region in which the side surface of the first conductor body has the side surface of the second surface facing the first conductor body
Leiterkörpers überdeckt und/oder umgekehrt. Die jeweilige Seitenfläche des Leiterkörpers kann eben, gekrümmt - konvex oder konkav - und/oder strukturiert ausgeführt sein. Die jeweilige Seitenfläche kann schräg oder senkrecht zur ersten Körperhauptfläche, zweiten Körperhauptfläche, ersten  Ladder body covered and / or vice versa. The respective side surface of the conductor body may be flat, curved - convex or concave - and / or structured. The respective side surface may be oblique or perpendicular to the first body main surface, second body main surface, first
Trägerfläche und/oder zweiten Trägerfläche verlaufen. Schräg bedeutet vorzugsweise weder senkrecht noch parallel.  Support surface and / or second support surface extend. Slant preferably means neither perpendicular nor parallel.
Es hat sich bei betriebsinternen Tests herausgestellt, dass Träger mit Verbundkörpern mit zwei Leiterkörpern und einem Formkörper vorzugsweise dort reißen oder brechen, wo die Oberfläche des ersten Leiterkörpers derjenigen des zweiten Leiterkörpers zugewandt ist. Dementsprechend ist eine Ausbildung der Seitenfläche des Leiterkörpers zur Erhöhung der Zugfestigkeit in diesem Bereich besonders vorteilhaft aber nicht notwendigerweise auf diesen Bereich begrenzt. Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Leiterkörper zur Erhöhung der, vorzugsweise haftvermittelnden, It has been found in in-house tests that carriers with composite bodies with two conductor bodies and a shaped body preferably tear or break where the surface of the first conductor body faces that of the second conductor body. Accordingly, one is Forming the side surface of the conductor body to increase the tensile strength in this area particularly advantageous but not necessarily limited to this area. In accordance with at least one embodiment, the conductor body is provided for increasing, preferably adhesion-promoting,
Kontaktfläche zwischen dem Leiterkörper und dem Formkörper ausgebildet. Die Kontaktfläche kann beispielsweise dadurch erhöht werden, dass der Flächeninhalt der Seitenfläche vergrößert wird, beispielsweise durch Schrägstellen der Contact surface formed between the conductor body and the molded body. The contact surface can be increased, for example, by increasing the surface area of the side surface, for example by tilting the surface
Seitenfläche und/oder durch strukturierte Ausführung der Seitenfläche. Alternativ oder ergänzend kann der Leiterkörper von dem Formkörper durchformt sein, sodass sich der Side surface and / or through structured execution of the side surface. Alternatively or additionally, the conductor body can be formed by the shaped body, so that the
Formkörper in Aufsicht gesehen von einer Seite des Shaped body seen from one side of the body
Leiterkörpers durch den Leiterkörper hindurch bis zur anderen Seite des Leiterkörpers erstreckt, sodass eine durchgehende Querstrebe des Formkörpers ausgebildet ist, die sich in Conductor body extends through the conductor body to the other side of the conductor body, so that a continuous transverse strut of the shaped body is formed, which in
Aufsicht auf die erste und/oder zweite Trägerfläche gesehen über den Bereich des Leiterkörpers erstreckt. Beispielsweise kann eine Querstrebe des Formkörpers von einer Seite des ersten Leiterbereichs gesehen über den vom ersten Seen on the first and / or second support surface extends over the region of the conductor body. For example, a transverse strut of the molding seen from one side of the first conductor region over the first
Leiterbereich überdeckten Bereich bis zum Zwischenbereich verlaufen. Die Querstrebe kann sich vom Zwischenbereich ausgehend, insbesondere entlang einer geraden Linie, über den Bereich des zweiten Leiterkörpers fortsetzen und auf dessen vom Zwischenbereich abgewandter Seite wieder mit dem Ladder area covered area to the intermediate area. Starting from the intermediate region, in particular along a straight line, the transverse strut can continue over the region of the second conductor body and again on the side facing away from the intermediate region
Randbereich des Formkörpers verbunden sein. Weiterhin kann zwischen einer der zweiten Trägerfläche zugewandten Seite des Leiterkörpers und der zweiten Trägerfläche ein Teilbereich des Formkörpers angeordnet sein. Be connected edge region of the molding. Furthermore, a partial region of the shaped body can be arranged between a side of the conductor body facing the second carrier surface and the second carrier surface.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Halbleiterchip zur elektrischen Kontaktierung seitens der zweiten Trägerfläche ausgebildet. Hierzu liegt die zweite Körperhauptfläche des ersten Leiterkörpers und/oder die zweite Körperhauptfläche des zweiten Leiterkörpers In accordance with at least one embodiment, the semiconductor chip is for electrical contacting on the part of the second Support surface formed. For this purpose, the second body main surface of the first conductor body and / or the second body main surface of the second conductor body is located
zweckmäßigerweise seitens der zweiten Trägerfläche frei. Die jeweilige Körperhauptfläche kann zur elektrisch leitfähigen Verbindung mit elektrisch leitendem Material, beispielsweise einem Lot, vorgesehen sein. Die jeweilige Körperhauptfläche kann zur elektrischen Verbindung mit einem externen expediently free on the part of the second support surface. The respective main body surface may be provided for electrically conductive connection with electrically conductive material, for example a solder. The respective body main surface can be connected to an external electrical connection
Anschlussleiter, etwa einer Leiterbahn einer Leiterplatte, vorgesehen sein. Connection conductor, such as a conductor track of a printed circuit board, be provided.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist eines, eine beliebig ausgewählte Mehrzahl oder weisen alle der folgenden Elemente eine Dicke auf, die kleiner oder gleich 300 ym, bevorzugt kleiner oder gleich 250 ym, besonders bevorzugt kleiner oder gleich 200 ym, zum Beispiel kleiner oder gleich 150 ym oder kleiner oder gleich 100 ym ist: Träger, In accordance with at least one embodiment, one, an arbitrarily selected plurality or all of the following elements have a thickness which is less than or equal to 300 μm, preferably less than or equal to 250 μm, particularly preferably less than or equal to 200 μm, for example less than or equal to 150 μm or less than or equal to 100 ym is: carrier,
Verbundkörper, Leiterkörper, Formkörper. Als Dicke kann hier und im Folgenden im Zweifel die maximale, die minimale oder ein Mittelwert der Dicke des jeweiligen Elements, beispielsweise der arithmetische oder geometrische Mittelwert zwischen maximaler und minimaler Dicke, Composite body, conductor body, molded body. In the following, in the case of doubt, the thickness may be the maximum, the minimum or an average value of the thickness of the respective element, for example the arithmetic or geometric mean value between maximum and minimum thickness,
herangezogen werden. be used.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform überdeckt die erste Körperhauptfläche die zweite Körperhauptfläche, insbesondere in Aufsicht auf die jeweilige Körperhauptfläche und/oder die erste oder die zweite Trägerfläche gesehen, vollständig und/oder umgekehrt. According to at least one embodiment, the first body main surface covers the second body main surface, in particular completely and / or vice versa, as seen in plan view of the respective body main surface and / or the first or the second carrier surface.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Flächeninhalt der ersten Körperhauptfläche größer als der Flächeninhalt der zweiten Körperhauptfläche oder umgekehrt. Eine größere erste Körperhauptfläche bietet den Vorteil, dass die dem According to at least one embodiment, the area of the first body main surface is larger than the area of the surface second main body surface or vice versa. A larger first main body surface offers the advantage that the
Halbleiterkörper zugewandte Fläche groß ist und somit eine im Betrieb des Halbleiterchips entstehende Verlustwärme von einer großen, thermisch gut leitenden Fläche des Semiconductor body facing surface is large and thus resulting in operation of the semiconductor chip heat loss from a large, thermally well conductive surface of the
Leiterkörpers aufgenommen werden kann. Ein großer Ladder body can be included. A large
Flächeninhalt seitens der zweiten Körperhauptfläche, die zweckmäßigerweise seitens der zweiten Trägerfläche freiliegt, gestattet eine gute elektrische Anschließbarkeit des Area on the part of the second body main surface, which expediently exposed by the second support surface, allows a good electrical connectivity of the
Halbleiterchips auf der Seite der zweiten Trägerfläche, da eine große Fläche zur Kontaktierung bereitgestellt ist. Semiconductor chips on the side of the second support surface, since a large area is provided for contacting.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Leiterkörper derart ausgebildet, dass sich der Leiterkörper im Querschnitt gesehen ausgehend von der ersten Körperhauptfläche in According to at least one embodiment, the conductor body is designed such that the conductor body seen in cross-section, starting from the first body main surface in
Richtung der zweiten Körperhauptfläche verjüngt oder Direction of the second main body surface tapers or
vergrößert. Dementsprechend kann sich eine Querabmessung des Leiterkörpers von der ersten Körperhauptfläche verringern oder vergrößern. Die Verringerung, Verjüngung oder increased. Accordingly, a transverse dimension of the conductor body from the first body main surface may decrease or increase. The reduction, rejuvenation or
Vergrößerung kann kontinuierlich, gleichmäßig, monoton und/oder durchgehend sein. Magnification can be continuous, uniform, monotonic, and / or continuous.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die Seitenfläche oder eine Haupterstreckungsrichtung der Seitenfläche schräg relativ zur ersten Trägerfläche, zur ersten According to at least one embodiment, the side surface or a main extension direction of the side surface is obliquely relative to the first support surface, to the first
Körperhauptfläche, zur zweiten Trägerfläche und/oder zur zweiten Körperhauptfläche ausgerichtet. Durch die schräge Ausrichtung kann die Oberfläche der Seitenfläche verglichen mit einer senkrecht zu den vorzugsweise parallel  Body main surface, aligned with the second support surface and / or the second body main surface. Due to the oblique orientation, the surface of the side surface compared with a perpendicular to the preferably parallel
ausgerichteten beiden Körperhauptflächen, verlaufenden aligned two main body surfaces, extending
Seitenfläche vergrößert werden. Wegen der durch die Side surface to be enlarged. Because of through the
vergrößerte Oberfläche vergrößerten Kontaktfläche zum Formkörper kann auch die Zugfestigkeit des Verbundkörpers verbessert werden. enlarged surface enlarged contact surface for Shaped body, the tensile strength of the composite can be improved.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist die Seitenfläche, zum Beispiel in Aufsicht auf eine der Trägerflächen und/oder im Querschnitt entlang der Dickenrichtung des Leiterkörpers gesehen, einen oder mehrere Hinterschnitte auf. Alternativ kann die Seitenfläche hinterschneidungsfrei ausgebildet sein. Eine Ausbildung mit Hinterschnitt bietet den Vorteil, dass sich im Bereich des jeweiligen Hinterschnitts eine According to at least one embodiment, the side surface, for example, seen in plan view of one of the support surfaces and / or in cross section along the thickness direction of the conductor body, one or more undercuts. Alternatively, the side surface can be formed without undercuts. A training with undercut offers the advantage that in the area of the respective undercut one
Widerlagerfläche des Leiterkörpers für den Formkörper ergeben kann. Die jeweilige Widerlagerfläche wirkt bevorzugt als Widerlagerfläche in lateraler Richtung also insbesondere in Zugrichtung. Die jeweilige Widerlagerfläche kann die  Abutment surface of the conductor body for the molding can result. The respective abutment surface preferably acts as an abutment surface in the lateral direction, thus in particular in the pulling direction. The respective abutment surface can the
Zugstabilität signifikant erhöhen. Significantly increase draft stability.
Ausgehend von einer Grenzfläche zwischen Formkörper und Starting from an interface between moldings and
Leiterkörper kann in einer Richtung parallel zur ersten und/oder zweiten Trägerfläche beziehungsweise parallel zur ersten und/oder zweiten Körperhauptfläche, folgende Abfolge gegeben sein: Teilbereich des Formkörpers, Teilbereich des Leiterkörpers, Teilbereich des Formkörpers. Mit anderen Conductor body may be given in a direction parallel to the first and / or second support surface or parallel to the first and / or second main body surface, the following sequence: partial region of the shaped body, partial region of the conductor body, partial region of the shaped body. With others
Worten ausgedrückt kann in dem Leiterkörper ein In words, in the ladder body a
Widerlagerbereich ausgebildet sein, der eine dem Be formed abutment area, the one the
verbleibenden Teil des Leiterkörpers zugewandte facing the remaining part of the conductor body
Widerlagerfläche aufweist. Zwischen der Widerlagerfläche und dem verbleibenden Teil des Leiterkörpers kann ein Teilbereich des Formkörpers angeordnet sein. Der Formkörper kann an die Widerlagerfläche angeformt sein. Mittels der Hinterschnitte kann eine formschlüssige Verbindung zwischen Leiterkörper und Formkörper realisiert sein. Diese unterstützt vorzugsweise die kraftschlüssige Haftverbindung zwischen dem Formkörper und dem Leiterkörper. Ist die Seitenfläche hinterschneidungsfrei ausgeführt, so gibt es Has abutment surface. Between the abutment surface and the remaining part of the conductor body, a partial region of the shaped body can be arranged. The molded body can be molded onto the abutment surface. By means of the undercuts, a positive connection between the conductor body and molded body can be realized. This preferably supports the non-positive adhesive connection between the molded body and the conductor body. Is the side surface without undercutting, so there are
zweckmäßigerweise keine Widerlagerbereiche. expediently no abutment areas.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Leiterkörper mit dem Formkörper formschlüssig und/oder kraftschlüssig verbunden. Der Leiterkörper kann mit dem Formkörper nur kraftschlüssig oder nur formschlüssig oder aber über eine Kombination aus formschlüssiger und kraftschlüssiger In accordance with at least one embodiment, the conductor body is connected in a form-fitting and / or non-positively connected manner to the molded body. The conductor body can only positively or only positively or with a combination of positive and non-positive with the molding
Verbindung verbunden sein. Be connected.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die Seitenfläche mit einer Oberflächenstruktur versehen. Die In accordance with at least one embodiment, the side surface is provided with a surface structure. The
Oberflächenstruktur kann Hinterschnitte aufweisen oder hinterschneidungsfrei ausgebildet sein. Die Surface structure may have undercuts or be formed without undercuts. The
Oberflächenstruktur kann durch eines oder eine Mehrzahl von Strukturelementen gebildet sein. Der Querschnitt der  Surface structure may be formed by one or a plurality of structural elements. The cross section of the
Strukturelemente kann sich in Dickenrichtung, zum Beispiel senkrecht zur ersten Trägerfläche, zur zweiten Trägerfläche, zur ersten Körperhauptfläche und/oder zur zweiten Structural elements may be in the thickness direction, for example perpendicular to the first carrier surface, the second carrier surface, the first body main surface and / or the second
Körperhauptfläche, ändern oder aber in Dickenrichtung Body main surface, change or in the thickness direction
konstant sein. Die Strukturelemente können entlang der be constant. The structural elements can along the
Seitenfläche gesehen gleichmäßig verteilt sein. Das jeweilige Strukturelement kann durch eine Ausbuchtung oder Einbuchtung des Leiterkörpers gebildet sein. Die Strukturelemente können laterale und/oder vertikale Aus- oder Einbuchtungen Side surface seen to be evenly distributed. The respective structural element can be formed by a bulge or indentation of the conductor body. The structural elements may have lateral and / or vertical protrusions or indentations
aufweisen. Das jeweilige Strukturelement ist bevorzugt derart ausgebildet, dass es mit dem für die Bildung des Formkörpers vorgesehenen Material, beispielsweise einer fließfähigen Formmasse, einformbar oder umformbar ist. exhibit. The respective structural element is preferably designed such that it can be shaped or formed with the material intended for the formation of the shaped body, for example a flowable molding compound.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist die According to at least one embodiment, the
Oberflächenstruktur entlang der Seitenfläche gesehen auf dem Weg von der ersten Körperhauptfläche zur zweiten Körperhauptfläche gleichförmig. Bei einer gleichförmigen Oberflächenstruktur, insbesondere über den gesamten Verlauf von der ersten zur zweiten Körperhauptfläche, kann der Surface structure along the side surface seen on the way from the first body main surface to the second Body main surface uniform. With a uniform surface structure, in particular over the entire course from the first to the second body main surface, the
Leiterkörper so ausgebildet sein, dass der Querschnitt des Leiterkörpers in Dickenrichtung gleich bleibt, sich also vorzugsweise nicht in Flächeninhalt und/oder Form verändert. Eine gleichförmige Oberflächenstruktur kann sich Conductor body be formed so that the cross section of the conductor body remains the same in the thickness direction, so preferably does not change in surface area and / or shape. A uniform surface structure may be
beispielsweise durch eine in Aufsicht auf die erste for example, by one in supervision of the first
Körperhauptfläche ausgebildete kammartige, beispielsweise sägezahnartige, Struktur der Seitenfläche ergeben. Eine gleichförmige Oberflächenstruktur hat den Vorteil, dass sie auf einfache Weise mittels einer Maske verwirklicht werden kann, beispielsweise indem die Maske mit der Struktur für die Seitenfläche gefertigt und nachfolgend der Leiterkörper unter Benutzung dieser Maske, beispielsweise galvanisch, Body main surface formed comb-like, for example, sawtooth-like structure of the side surface. A uniform surface structure has the advantage that it can be realized in a simple manner by means of a mask, for example by manufacturing the mask with the structure for the side surface and subsequently the conductor body using this mask, for example galvanically,
abgeschieden wird. is deposited.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ändert sich die According to at least one embodiment, the changes
Oberflächenstruktur entlang der Seitenfläche gesehen auf dem Weg von der ersten Körperhauptfläche zur zweiten Surface structure along the side surface seen on the way from the first body main surface to the second
Körperhauptfläche . Body main surface.
Ändert sich die Oberflächenstruktur entlang der Seitenfläche gesehen, kann sich der Querschnitt in Dickenrichtung, zum Beispiel hinsichtlich Form und/oder Flächeninhalt, ändern.As the surface structure changes along the side surface, the cross-section may change in the thickness direction, for example, in terms of shape and / or area.
Die Änderung kann kontinuierlich oder diskontinuierlich sein. Eine diskontinuierliche Änderung kann durch eine in The change can be continuous or discontinuous. A discontinuous change may be due to an in
Dickenrichtung alternierende Abfolge von Bereichen Thickness direction alternating sequence of areas
unterschiedlicher Form und/oder unterschiedlichen different shape and / or different
Flächeninhalts verwirklicht sein. Eine sich in Dickenrichtung diskontinuierlich ändernde Oberflächenstruktur kann durch eine im Querschnitt senkrecht zur ersten Körperhauptfläche gesehen kammartige Ausbildung der Seitenfläche gebildet sein. Bei einer kontinuierlichen Änderung der Oberflächenstruktur kann sich die Querschnittsfläche in Dickenrichtung - zum Beispiel von der ersten Körperhauptfläche weg gesehen - durchgehend vergrößern oder verkleinern. Surface area to be realized. A discontinuously changing surface structure in the thickness direction may be formed by a comb-like formation of the side surface seen in cross-section perpendicular to the first body main surface. In the case of a continuous change in the surface structure, the cross-sectional area in the thickness direction-seen, for example, away from the first main body surface-can increase or decrease continuously.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist eine Oberfläche A der Seitenfläche größer als die Dicke d des Leiterkörpers multipliziert mit einer der folgenden Größen: In accordance with at least one embodiment, a surface A of the side surface is greater than the thickness d of the conductor body multiplied by one of the following quantities:
- B, wobei B eine Abmessung, zum Beispiel eine maximale  B, where B is one dimension, for example a maximum
Längsabmessung, etwa die Länge, der ersten Körperhauptfläche oder der zweiten Körperhauptfläche bezeichnet, und/oder Denotes longitudinal dimension, such as the length, the first body main surface or the second body main surface, and / or
- C, wobei C den halben Umfang der ersten oder zweiten  C, where C is half the circumference of the first or second
Körperhauptfläche bezeichnet. Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist 0 der Flächeninhalt des Bereichs, in dem sich die einander zugewandten Body main surface called. According to at least one embodiment, 0 is the area of the area in which the facing each other
Seitenflächen des ersten und des zweiten Leiterkörpers gegenseitig überdecken und es gilt, dass 0 größer ist als B*d und/oder C*d. 0 kann kleiner oder gleich dem Flächeninhalt A der Seitenfläche des ersten Leiterkörpers und/oder kleiner oder gleich dem Flächeninhalt A der Seitenfläche des zweiten Leiterkörpers sein. Side surfaces of the first and the second conductor body cover each other and it is true that 0 is greater than B * d and / or C * d. 0 may be smaller than or equal to the area A of the side surface of the first conductor body and / or less than or equal to the area A of the side surface of the second conductor body.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform gilt: According to at least one embodiment:
- A/ (B*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1,90 oder 2,00, und/oder - A / (B * d)> 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or 2.00, and / or
- A/(C*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1,90 oder > 2,00.  - A / (C * d)> 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or> 2.00.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform gilt: - 0/ (B*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1,90 oder 2,00, und/oder According to at least one embodiment: - 0 / (B * d)> 1.05, preferably>1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or 2.00, and / or
- 0/(C*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1, 90 oder > 2,00.  - 0 / (C * d)> 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or> 2.00.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist ein Teilbereich des Formkörpers ein Verbindungsbereich, der in Aufsicht auf die erste oder zweite Trägerfläche gesehen von einer Seite desIn accordance with at least one embodiment, a partial area of the shaped body is a connecting area which, seen from one side of the side view of the first or second carrier area, is viewed from above
Leiterkörpers über einen von dem Leiterkörper in der Aufsicht auf die erste und/oder zweite Körperhauptfläche überdeckten Bereich bis zu einer anderen Seite des Leiterkörpers Conductor body over an area covered by the conductor body in the plan view of the first and / or second body main surface area to another side of the conductor body
verläuft. Hierbei können Querstreben durch den Leiterkörper ausgebildet werden. Der Verbindungsbereich kann in runs. In this case, transverse struts can be formed by the conductor body. The connection area can be in
Umfangsrichtung, also azimutal zu seiner Erstreckungsrichtung gesehen, nur teilweise - zum Beispiel, wenn der  Circumferential, so azimuthally seen to its extension direction, only partially - for example, if the
Verbindungsbereich einen Teilbereich einer der Trägerflächen bildet - oder vollständig - zum Beispiel wenn der Connecting portion forms a portion of one of the support surfaces - or completely - for example, if the
Verbindungsbereich den Leiterkörper im Inneren des Trägers durchformt oder durchdringt - vom Leiterkörper umgeben sein. Es kann also eine Seite oder keine Seite des Connecting area the conductor body inside the carrier durchformt or penetrates - be surrounded by the conductor body. So it can be a page or no page of the
Verbindungsbereichs freiliegen. Die freiliegende Seite kann beispielsweise ein Teilbereich der zweiten Trägerfläche sein. Der Verbindungsbereich kann quer zur, insbesondere als  Connection area exposed. The exposed side may, for example, be a partial region of the second carrier surface. The connection region can be transverse to, in particular as
Querstrebe, oder entlang der, insbesondere als Längsstrebe, ausgezeichneten Längsrichtung des Leiterkörpers verlaufen. Beispielsweise verläuft der Verbindungsbereich senkrecht zur Längsrichtung. Es hat sich herausgestellt, dass Träger mit einem Verbundkörper vorzugsweise entlang einer Längsrichtung des Leiterkörpers brechen, sodass eine zusätzliche  Cross strut, or along the, in particular as a longitudinal strut, excellent longitudinal direction of the conductor body. For example, the connection area is perpendicular to the longitudinal direction. It has been found that supports with a composite body preferably break along a longitudinal direction of the conductor body, so that an additional
Querverstrebung wie beschrieben besonders vorteilhaft ist. Eine Längsverstrebung ist jedoch auch schon vorteilhaft. Weist der Träger zwei Leiterkörper auf, so erstreckt sich ein erster Verbindungsbereich vorzugsweise in Aufsicht über den ersten Leiterkörper und ein weiterer Verbindungsbereich über den zweiten Leiterkörper. Vorzugsweise sind Querverstrebung as described is particularly advantageous. A Längsverstrebung is also already advantageous. If the carrier has two conductor bodies, a first connection region preferably extends in a plan view over the first conductor body and a further connection region extends over the second conductor body. Preferably
Verbindungsbereiche über den ersten und den zweiten  Connection areas over the first and the second
Leiterbereich aneinander ausgerichtet. Zum Beispiel setzt der weitere Verbindungsbereich den ersten Verbindungsbereich, vorzugsweise geradlinig, fort. Ladder area aligned. For example, the further connection area continues the first connection area, preferably in a straight line.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform überragt der Formkörper den Leiterkörper auf der Seite des Halbleiterkörpers in einem Teilbereich . Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der In accordance with at least one embodiment, the shaped body projects beyond the conductor body on the side of the semiconductor body in a partial area. According to at least one embodiment, the
Halbleiterkörper epitaktisch gewachsen und der Halbleiterchip ist aufwachssubstratlos , das heißt frei von dem Substrat, auf dem der Halbleiterkörper epitaktisch gewachsen wurde.  Semiconductor body epitaxially grown and the semiconductor chip is growing substrate, that is free of the substrate on which the semiconductor body was epitaxially grown.
Dementsprechend unterliegt der Träger nicht den Accordingly, the carrier is not subject to the
vergleichsweise strengen Anforderungen, die an ein comparatively stringent requirements, to a
Aufwachssubstrat gestellt werden. Growth substrate are made.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist mittels der vom Halbleiterkörper abgewandten Seite des Leiterkörpers eine Anschlussfläche des Halbleiterchips gebildet. Beispielsweise kann die zweite Körperhauptfläche des ersten Leiterkörpers und/oder die zweite Körperhauptfläche des zweiten In accordance with at least one embodiment, a connection area of the semiconductor chip is formed by means of the side of the conductor body facing away from the semiconductor body. For example, the second body main surface of the first conductor body and / or the second body main surface of the second
Leiterkörpers bereichsweise oder vollständig vom Conductor body partially or completely from
Halbleiterkörper überdeckt sein. Die Anschlussfläche kann also unterhalb des Halbleiterkörpers angeordnet sein. Be covered semiconductor body. The pad can therefore be arranged below the semiconductor body.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform weist der Leiterkörper eine Mehrzahl von innerhalb des Trägers elektrisch voneinander getrennten Teilbereichen auf. Die Teilbereiche des Leiterkörpers sind bevorzugt jeweils mit dem aktiven Bereich elektrisch leitfähig verbunden. Zwischen zwei In accordance with at least one embodiment, the conductor body has a plurality of electrically within the carrier on separate sections. The partial regions of the conductor body are preferably electrically conductively connected to the active region in each case. Between two
benachbarten Teilbereichen des Leiterköpers kann jeweils ein Bereich des Formkörpers angeordnet sein. Dadurch kann eine oder eine Mehrzahl von Streben - zum Beispiel Quer- und/oder Längsstreben - gebildet werden, die sich von einer Seite des ersten Leiterkörpers zwischen zwei Teilbereichen bis zu einer anderen Seite des Leiterkörpers erstrecken. Die jeweilige Strebe kann sich vom Zwischenbereich zwischen dem ersten und dem zweiten Leiterkörper ausgehend zwischen zwei adjacent portions of the Leiterköpers may be arranged in each case a portion of the shaped body. As a result, one or a plurality of struts-for example, transverse and / or longitudinal struts-can be formed, which extend from one side of the first conductor body between two partial regions to another side of the conductor body. The respective strut can, starting from the intermediate region between the first and the second conductor body, between two
Teilbereichen des zweiten Leiterkörpers erstrecken. In Extend portions of the second conductor body. In
Dickenrichtung können diese Streben ununterbrochen von der ersten Trägerfläche zur zweiten Trägerfläche verlaufen. Thickness direction, these struts can run continuously from the first support surface to the second support surface.
Vorzugsweise sind Streben zwischen Teilbereichen des ersten und zweiten Leiterkörpers aneinander ausgerichtet oder versetzt zueinander angeordnet. Bei der Ausrichtung der Preferably struts between portions of the first and second conductor body are aligned with each other or offset from each other. When aligning the
Streben durch verschiedene Leiterkörper aneinander kann ein durchgehender Formkörperbereich gebildet sein. Ein Striving through different conductor body to each other, a continuous molding body area may be formed. One
durchgehender Formkörperbereich erhöht zwar die Stabilität gegen Brüche oder Risse in einer Richtung, kann aber Although continuous molding area increases the stability against fractures or cracks in one direction, but can
gleichzeitig die Gefahr von Brüchen oder Rissen in einer anderen Richtung, beispielsweise senkrecht zur erstgenannten Richtung, erhöhen. Letztere Bruch- oder Rissgefahr kann bei einer versetzten Anordnung der Streben durch verschiedeneat the same time increase the risk of fractures or cracks in another direction, for example, perpendicular to the first direction. The latter risk of fracture or cracking can be in a staggered arrangement of the struts by different
Leiterkörper verringert werden. Die Anzahl von Teilbereichen des ersten Leiterkörpers und des zweiten Leiterkörpers kann verschieden sein. Gemäß zumindest einer Ausführungsform ist der Leiterkörper einteilig ausgebildet. In diesem Fall weist er keine Mehrzahl von Teilbereichen auf. Eine besonders vorteilhafte Ausgestaltung ist nachstehend wiedergegeben : Ladder body can be reduced. The number of portions of the first conductor body and the second conductor body may be different. In accordance with at least one embodiment, the conductor body is formed in one piece. In this case, it does not have a plurality of subareas. A particularly advantageous embodiment is shown below:
Optoelektronischer Halbleiterchip mit einem Halbleiterkörper, der einen aktiven Bereich aufweist, und einem Träger mit einer ersten Trägerfläche, auf der der Halbleiterkörper angeordnet ist, und einer zweiten Trägerfläche auf der vom Halbleiterkörper abgewandten Seite, wobei der Träger einen Verbundkörper aufweist, der zumindest einen elektrisch leifähigen Leiterkörper und zumindest einen elektrisch isolierenden Formkörper aufweist, wobei sich der Leiterkörper von der ersten Trägerfläche bis zur zweiten Trägerfläche erstreckt und elektrisch leitend mit dem aktiven Bereich verbunden ist. An optoelectronic semiconductor chip having a semiconductor body having an active region, and a carrier having a first carrier surface, on which the semiconductor body is arranged, and a second carrier surface on the side facing away from the semiconductor body, the carrier having a composite body, the at least one electrically leifähigen Conductor body and at least one electrically insulating molded body, wherein the conductor body extends from the first support surface to the second support surface and is electrically connected to the active region.
Merkmale, die im Zusammenhang mit verschiedenen Features related to different
Ausführungsformen oder Ausgestaltungen beschrieben sind, können selbstverständlich miteinander und auch mit im Embodiments or embodiments are described, of course, with each other and also in im
Folgenden beschriebenen Merkmalen kombiniert werden. Combined features described below.
Weitere Vorteile, Merkmale und Zweckmäßigkeiten ergeben sich aus der nun folgenden Beschreibung der Beispiele in Further advantages, features and expediencies will become apparent from the following description of examples in
Verbindung mit den Figuren. Figuren 1A und 1B zeigen ein Beispiel eines Halbleiterchips anhand einer schematischen Aufsicht (Figur 1A) und einer schematischen Schnittansicht (Figur 1B) . Connection with the figures. FIGS. 1A and 1B show an example of a semiconductor chip on the basis of a schematic plan view (FIG. 1A) and a schematic sectional view (FIG. 1B).
Figuren 2A und 2B illustrieren eine Situation mechanischer Belastung für den Halbleiterchip gemäß den Figuren 1A und IB. Figures 2A and 2B illustrate a situation of mechanical stress for the semiconductor chip according to Figures 1A and 1B.
Figuren 3 bis 11, 13A, 13B, und 14 bis 16 zeigen Figures 3 to 11, 13A, 13B, and 14 to 16 show
Ausführungsbeispiele für Halbleiterchips anhand schematischer Aufsichten (Figuren 3 bis 5, 13A und 13B) oder schematischer Schnittansichten (Figuren 6 bis 11 und 14 bis 16) . Embodiments of semiconductor chips using schematic Top views (Figures 3 to 5, 13A and 13B) or schematic sectional views (Figures 6 to 11 and 14 to 16).
Figur 12 zeigt anhand einer detaillierteren schematischen Schnittansicht ein Ausführungsbeispiel für einen FIG. 12 shows an exemplary embodiment of a detailed sectional schematic view
Halbleiterkörper der Halbleiterchips aus den vorhergehenden Figuren und dessen Verbindung zum Träger.  Semiconductor body of the semiconductor chips from the preceding figures and its connection to the carrier.
Gleiche, gleichartige und gleich wirkende Elemente sind in den Figuren mit gleichen Bezugszeichen versehen. Die The same, similar and equally acting elements are provided in the figures with the same reference numerals. The
dargestellten Elemente sind nicht notwendigerweise Elements shown are not necessarily
maßstabsgetreu dargestellt. Vielmehr können einzelne Elemente zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein. Figur 1A zeigt eine Aufsicht eines Ausführungsbeispiels eines Halbleiterchips und Figur 1B die zugehörige Schnittansicht. shown to scale. Rather, individual elements may be exaggerated for better understanding. FIG. 1A shows a plan view of an exemplary embodiment of a semiconductor chip, and FIG. 1B shows the associated sectional view.
Der Halbleiterchip 1 weist einen Träger 3 auf. Der Träger 3 weist eine erste Trägerfläche 5 und eine zweite Trägerfläche 7 auf. Die jeweilige Trägerfläche 5 beziehungsweise 7 kann eine Hauptfläche des Trägers sein. Die beiden Trägerflächen 5 und 7 können über eine oder eine Mehrzahl von Seitenflächen 9 des Trägers verbunden sein. Der Flächeninhalt einer The semiconductor chip 1 has a carrier 3. The carrier 3 has a first carrier surface 5 and a second carrier surface 7. The respective carrier surface 5 or 7 may be a main surface of the carrier. The two support surfaces 5 and 7 may be connected via one or a plurality of side surfaces 9 of the carrier. The area of a
Trägerfläche als Hauptfläche kann größer sein als der jeder der Seitenflächen 9. Die zweite Trägerfläche 7 ist Carrier surface as the main surface may be larger than that of each of the side surfaces 9. The second support surface 7 is
zweckmäßigerweise von der ersten Trägerfläche 5 abgewandt. Auf der ersten Trägerfläche 5 ist ein Halbleiterkörper 23 des Halbleiterchips 1 angeordnet. Der Träger 3 weist einen ersten Leiterkörper 11 auf. Derexpediently facing away from the first support surface 5. On the first support surface 5, a semiconductor body 23 of the semiconductor chip 1 is arranged. The carrier 3 has a first conductor body 11. Of the
Träger 3 weist einen zweiten Leiterkörper 13 auf. Weiterhin weist der Träger 3 einen Formkörper 15 auf. Der Formkörper ist elektrisch isolierend, zum Beispiel aus einem elektrisch isolierenden Material oder einer elektrisch isolierenden Materialzusammensetzung. Der erste Leiterkörper 11 und der zweite Leiterkörper 13 sind in den Formkörper 15 eingebettet und von ihm umformt. Der jeweilige Leiterkörper 11 bzw. 13 erstreckt sich zweckmäßigerweise von der ersten Trägerfläche 5 zur zweiten Trägerfläche 7. Teilbereiche der ersten Carrier 3 has a second conductor body 13. Furthermore, the carrier 3 has a shaped body 15. The molded body is electrically insulating, for example, an electric insulating material or an electrically insulating material composition. The first conductor body 11 and the second conductor body 13 are embedded in the molded body 15 and deformed by it. The respective conductor body 11 or 13 expediently extends from the first carrier surface 5 to the second carrier surface 7. Subareas of the first
Trägerfläche 5 und der zweiten Trägerfläche 7 können durch den Formkörper 15 und den jeweiligen Leiterkörper 11 Support surface 5 and the second support surface 7 can through the molded body 15 and the respective conductor body 11th
beziehungsweise 13 gebildet sein. Die beiden Leiterkörper 11 und 13 sind über den Formkörper 15 innerhalb des Trägers 3 elektrisch voneinander isoliert. Die jeweilige Seitenfläche 9 ist durch den Formkörper 15 gebildet. Die Seitenfläche 9 kann Vereinzelungsspuren aufweisen, die zum Beispiel von der or 13 may be formed. The two conductor bodies 11 and 13 are electrically insulated from each other via the shaped body 15 within the carrier 3. The respective side surface 9 is formed by the shaped body 15. The side surface 9 may have separating tracks, for example, from the
Herstellung des Halbleiterchips herrühren (siehe weiter unten) . Production of the semiconductor chip (see below).
Der jeweilige Leiterkörper 11, 13 weist eine erste The respective conductor body 11, 13 has a first
Körper (haupt) fläche 17 und eine zweite Körper (haupt) fläche Body (main) surface 17 and a second body (main) surface
19. Die erste Körperhauptfläche 17 ist dem Halbleiterkörper 23 zugewandt. Die erste Körperhauptfläche 17 liegt auf der Seite der ersten Trägerfläche 5 frei und kann insbesondere Teil dieser Trägerfläche sein. Die zweite Körperhauptfläche 19 ist vom Halbleiterkörper abgewandt. Die zweite 19. The first body main surface 17 faces the semiconductor body 23. The first body main surface 17 is exposed on the side of the first support surface 5 and may in particular be part of this support surface. The second main body surface 19 faces away from the semiconductor body. The second
Körperhauptfläche 19 liegt auf der Seite der zweiten Body main surface 19 lies on the side of the second
Trägerfläche 7 frei und kann insbesondere Teil dieser Carrier surface 7 free and can in particular part of this
Trägerfläche sein. Die jeweiligen ersten und zweiten Be carrier surface. The respective first and second
Körperhauptflächen sind über mindestens eine oder, wie dargestellt, mehrere Seitenflächen 21 miteinander verbunden. Der Halbleiterkörper 23 ist mit dem Träger 3 Body main surfaces are connected to each other via at least one or, as shown, a plurality of side surfaces 21. The semiconductor body 23 is connected to the carrier 3
zweckmäßigerweise mechanisch stabil und/oder dauerhaft verbunden. Der Halbleiterkörper weist einen optoelektronisch aktiven Bereich auf, beispielsweise einen zur Strahlungserzeugung oder zum Strahlungsempfang ausgebildeten aktiven Bereich. Der Halbleiterkörper kann zum Beispiel gemäß einer Diode, zum Beispiel einer Leuchtdiode oder einer expediently mechanically stable and / or permanently connected. The semiconductor body has an optoelectronically active region, for example a to Radiation generation or radiation receiving trained active area. The semiconductor body may, for example, according to a diode, for example a light emitting diode or a
Photodiode ausgebildet sein. Die Leiterkörper 11 und 13 sind mit dem Halbleiterkörper 23 auf verschiedenen Seiten des aktiven Bereichs verbunden, wie später noch näher erläutert werden wird (vergleiche die Beschreibung im Zusammenhang mit Figur 12) . Daher stellen der erste Leiterkörper 11 und der zweite Leiterkörper 13 externe elektrische Kontakte des Photodiode be formed. The conductor bodies 11 and 13 are connected to the semiconductor body 23 on different sides of the active region, as will be explained in more detail later (compare the description in connection with FIG. 12). Therefore, the first conductor body 11 and the second conductor body 13 make external electrical contacts of the
Halbleiterchips dar. Der jeweilige Leiterkörper, insbesondere dessen vom Halbleiterkörper 23 abgewandte zweite The respective conductor body, in particular its second facing away from the semiconductor body 23 second
Körperhauptfläche 19, kann zur elektrischen Kontaktierung, zum Beispiel zur Verlötung des Halbleiterchips mit einem externen elektrischen Anschluss eines Anschlussträgers, auf dem der Halbleiterchip angeordnet wird, zum Beispiel einerBody main surface 19, for electrical contacting, for example, for soldering the semiconductor chip with an external electrical connection of a connection carrier, on which the semiconductor chip is arranged, for example one
Leiterbahn einer Leiterplatte, oder einem Leiterbereich, etwa eines Leiterrahmens, in einem Gehäuse für ein Conductor of a printed circuit board, or a conductor area, such as a lead frame, in a housing for a
optoelektronisches Bauteil, vorgesehen sein. Die jeweilige Körperhauptfläche 17 beziehungsweise 19 des ersten und/oder zweiten Leiterkörpers ist zweckmäßigerweise vom optoelectronic component, be provided. The respective main body surface 17 or 19 of the first and / or second conductor body is expediently from
Halbleiterkörper überdeckt. Semiconductor body covered.
Wie in der Aufsicht in Figur 1A zu erkennen ist, weist der jeweilige Leiterkörper eine ausgezeichnete Längsrichtung auf. Der erste und der zweite Leiterkörper können beispielsweise eine in Aufsicht rechteckige Form aufweisen. Die beiden As can be seen in the plan view in FIG. 1A, the respective conductor body has an excellent longitudinal direction. The first and the second conductor body may, for example, have a rectangular shape in plan view. The two
Leiterkörper sind, insbesondere entlang ihrer Längsrichtung, zueinander ausgerichtet. Es sei angemerkt, dass Merkmale, die im Zusammenhang mit dem Ausführungsbeispiel für einen Träger mit zwei Leiterkörpern beschrieben sind, ebenfalls auch für einen Träger ohne einen zweiten Leiterkörper Anwendung finden können. Außerdem können Merkmale, die im allgemeinen Teil der Beschreibung beschrieben sind, auch für die Ladder bodies are, in particular along their longitudinal direction, aligned with each other. It should be noted that features described in connection with the exemplary embodiment for a carrier with two conductor bodies can likewise also be used for a carrier without a second conductor body. In addition, features that are common in the general part of Description are also described for the
Ausführungsbeispiele herangezogen werden und umgekehrt. Embodiments are used and vice versa.
Der Träger 3 ist als Verbundkörper ausgebildet, der die The carrier 3 is formed as a composite body, the
Leiterkörper 11, 13 und den Formkörper 15 umfasst. Wie in der Aufsicht in Figur 1A zu erkennen ist, weist der Formkörper 15 einen Randbereich 25 auf, der den ersten und den zweiten Leiterkörper in Umfangsrichtung vollständig umläuft. Zwischen den beiden Leiterkörpern 11 und 13 ist ein Zwischenbereich 27 des Formkörpers angeordnet, der sich durchweg zwischen den zwei Leiterkörpern erstreckt und eine Seite des Randbereichs 25 mit der von dieser Seite in Aufsicht gesehen abgewandten Seite des Randbereichs 25 des Formkörpers verbindet. Der Randbereich 25 kann beispielsweise als Rahmen ausgeführt sein. Der Rahmen kann mit einer durch den Zwischenbereich 27 realisierten Längsstrebe versehen sein. Ladder body 11, 13 and the molded body 15 includes. As can be seen in the plan view in FIG. 1A, the shaped body 15 has an edge region 25 which completely surrounds the first and the second conductor body in the circumferential direction. Between the two conductor bodies 11 and 13, an intermediate region 27 of the shaped body is arranged, which extends consistently between the two conductor bodies and connects one side of the edge region 25 with the side of the edge region 25 of the molded body facing away from this side in a top view. The edge region 25 can be designed, for example, as a frame. The frame can be provided with a realized by the intermediate region 27 longitudinal strut.
Der Randbereich 25 weist vorzugsweise eine Breite auf, die in Aufsicht auf die zweite Trägerfläche kleiner oder gleich 50 ym ist. Vorzugsweise ist die Breite des Randbereichs 25 größer oder gleich 20 ym. Eine Dicke des Formkörpers 15 und/oder des jeweiligen Leiterkörpers 11 beziehungsweise 13 kann kleiner oder gleich 200 ym, bevorzugt kleiner oder gleich 100 ym sein. Der Träger insgesamt kann eine Dicke aufweisen, die kleiner oder gleich 200 ym, bevorzugt kleiner oder gleich 100 ym ist. Eine Länge und/oder eine Breite des Trägers oder des jeweiligen Leiterkörpers kann in Aufsicht auf die erste oder zweite Trägerfläche kleiner oder gleich 3 mm sein. Alternativ oder ergänzend kann die Länge und/oder die Breite des Trägers oder des jeweiligen Leiterkörpers in Aufsicht auf die erste oder zweite Trägerfläche größer oder gleich 300 ym sein. In der ausgezeichneten Längsrichtung kann die Länge des jeweiligen Leiterkörpers 11, 13 das Zweifache oder mehr der Breite dieses Leiterkörpers in Aufsicht auf die zweite Trägerfläche 7 gesehen betragen. Die Breite des The edge region 25 preferably has a width that is less than or equal to 50 ym in plan view of the second support surface. Preferably, the width of the edge region 25 is greater than or equal to 20 ym. A thickness of the shaped body 15 and / or the respective conductor body 11 or 13 may be less than or equal to 200 ym, preferably less than or equal to 100 ym. The carrier as a whole may have a thickness which is less than or equal to 200 μm, preferably less than or equal to 100 μm. A length and / or a width of the carrier or of the respective conductor body can be less than or equal to 3 mm in plan view of the first or second carrier surface. Alternatively or additionally, the length and / or the width of the carrier or of the respective conductor body can be greater than or equal to 300 ym in plan view of the first or second carrier surface. In the excellent longitudinal direction, the length of the respective conductor body 11, 13 can be twofold or more of the width of this conductor body seen in plan view of the second support surface 7. The width of the
Zwischenbereichs 27 ist bevorzugt so gewählt, dass ein elektrischer Kurzschluss bei der Montage des Halbleiterchips auf einen Anschlussträger, zum Beispiel mittels eines Lots, vermieden wird. Der Abstand kann größer oder gleich 60 ym, vorzugsweise größer oder gleich 150 ym, besonders bevorzugt größer oder gleich 250 ym, sein. Bei größeren Chips sind selbstverständlich größere Abstände möglich oder zweckmäßig als bei kleineren Chips. Ändert sich der Abstand kann imIntermediate area 27 is preferably chosen such that an electrical short circuit during assembly of the semiconductor chip to a connection carrier, for example by means of a solder, is avoided. The distance may be greater than or equal to 60 μm, preferably greater than or equal to 150 μm, particularly preferably greater than or equal to 250 μm. With larger chips, of course, larger distances are possible or expedient than with smaller chips. If the distance can change in the
Zweifel, der maximale oder der minimale Abstand herangezogen werden . Doubt, the maximum or the minimum distance will be used.
Da die beiden externen Anschlussflächen als Oberflächen des ersten und zweiten Leiterkörpers auf der vom Halbleiterkörper 23 abgewandten Seite des Trägers 3 anschließbar sind, kann der Halbleiterchip 1 mittels SMD-Techniken (SMD: surface mountable device, zu Deutsch: oberflächenmontierbares Since the two external connection surfaces can be connected as surfaces of the first and second conductor body on the side facing away from the semiconductor body 23 of the carrier 3, the semiconductor chip 1 by means of SMD techniques (SMD: surface mountable device
Bauteil) gehandhabt und kontaktiert werden. Component) are handled and contacted.
Im Folgenden wird ein Verfahren zur Herstellung einer The following is a method of making a
Mehrzahl von Halbleiterchips beschrieben, das bevorzugt für den oben und im Folgenden näher beschriebenen Halbleiterchip eingesetzt wird. Merkmale, die im Zusammenhang mit dem Described plurality of semiconductor chips, which is preferably used for the semiconductor chip described in more detail above and below. Features related to the
Halbleiterchip beschrieben sind, können sich damit auch auf das Verfahren beziehen und umgekehrt. Semiconductor chip are described, can thus also refer to the process and vice versa.
Zunächst wird eine Halbleiterschichtenfolge für die First, a semiconductor layer sequence for the
Halbleiterkörper 23 des späteren Halbleiterchips Semiconductor body 23 of the later semiconductor chip
bereitgestellt. Die Halbleiterschichtenfolge ist auf einemprovided. The semiconductor layer sequence is on one
Substrat angeordnet, das beispielsweise das Aufwachssubstrat auf dem die Halbleiterschichtenfolge, epitaktisch gewachsen wurde, aufweist. Die Halbleiterschichtenfolge weist einen aktiven Bereich auf. Die Halbleiterschichtenfolge wird in eine Mehrzahl von Halbleiterkörpern aufgeteilt, die jeweils einen aktiven Bereich aufweisen. Dieser aktive Bereich kann aus einem Teilbereich des aktiven Bereichs der Substrate arranged, for example, the growth substrate on which the semiconductor layer sequence, epitaxially grown, has. The semiconductor layer sequence has a active area. The semiconductor layer sequence is divided into a plurality of semiconductor bodies, each having an active region. This active area can be made up of a partial area of the active area of the
Halbleiterschichtenfolge gebildet sein. Außerdem wird eine Mehrzahl von Leiterkörpern auf der Halbleiterschichtenfolge oder jeweils mindestens ein Leiterkörper, vorzugsweise zwei Leiterkörper, auf einem Halbleiterkörper angeordnet oder ausgebildet, sodass der jeweilige Leiterkörper elektrisch leitend mit dem aktiven Bereich verbunden ist. Sind zweiSemiconductor layer sequence may be formed. In addition, a plurality of conductor bodies on the semiconductor layer sequence or in each case at least one conductor body, preferably two conductor bodies, arranged or formed on a semiconductor body, so that the respective conductor body is electrically conductively connected to the active region. Are two
Leiterkörper für einen Halbleiterkörper vorgesehen, so sind diese vorzugsweise auf unterschiedlichen Seiten des aktiven Bereichs mit dem Halbleiterkörper elektrisch leitend Conductor body provided for a semiconductor body, they are preferably electrically conductive on different sides of the active region with the semiconductor body
verbunden. Vorzugsweise nach der Ausbildung der Leiterkörper, beispielsweise vor oder nach der Ausbildung der connected. Preferably, after the formation of the conductor body, for example, before or after the training of
Halbleiterkörper, wird eine Masse für eine Formkörperschicht bereitgestellt. Die Masse wird entweder fließfähig oder im festen Zustand bereitgestellt und nachfolgend fließfähig gemacht, beispielsweise verflüssigt. Daraufhin wird die fließfähige Masse an die Leiterkörper angeformt und nach dem Anformen gehärtet, um die Formkörperschicht zu bilden.  Semiconductor body, a mass is provided for a shaped body layer. The mass is provided either flowable or in the solid state and subsequently rendered fluid, for example liquefied. Then, the flowable mass is molded to the conductor body and cured after molding to form the shaped body layer.
Dadurch entsteht eine Trägerschicht, die eine This creates a carrier layer, the one
Verbundkörperschicht aufweist, die die Formkörperschicht und die Leiterkörper umfasst. Es wird also mit anderen Worten ein Verbund gebildet, der die Verbundkörperschicht und die auf der Verbundkörperschicht angeordneten Halbleiterkörper aufweist. Daraufhin wird der Verbund in Halbleiterchips vereinzelt, die jeweils einen Halbleiterkörper und einen Verbundkörper umfassen. Seitenflächen des Verbundkörpers können demnach Vereinzelungsspuren, beispielsweise  Composite layer comprising the shaped body layer and the conductor body. In other words, a composite is formed which has the composite body layer and the semiconductor body arranged on the composite body layer. The composite is then singulated into semiconductor chips, each comprising a semiconductor body and a composite body. Side surfaces of the composite body can therefore separation tracks, for example
Sägespuren, aufweisen. Der Formkörper des Verbundkörpers umfasst dabei ein Stück der Formkörperschicht. Der  Sawing traces. The shaped body of the composite body comprises a piece of the shaped body layer. Of the
Verbundkörper umfasst weiterhin einen oder zwei Leiterkörper. Vor dem Vereinzeln wird zweckmäßigerweise das Substrat abgedünnt oder bereichsweise oder vollständig entfernt. Composite body further comprises one or two conductor body. Before the separation, the substrate is expediently thinned or partially or completely removed.
Die Figuren 2A und 2B illustrieren die Handhabung des Figures 2A and 2B illustrate the handling of the
Halbleiterchips, beispielsweise das Aufnehmen eines Semiconductor chips, for example, the recording of a
Halbleiterchips 1, etwa um diesen auf einen zur Kontaktierung geeigneten Anschlussträger zu platzieren. Bei der Handhabung von Halbleiterchips 1 mit dem oben beschriebenen  Semiconductor chips 1, about to place this on a suitable for contacting connection carrier. When handling semiconductor chips 1 with the one described above
Verbundkörper hat sich herausgestellt, dass, wenn der Composite body has been found that when the
Halbleiterchip beispielsweise mittels einer Haltevorrichtung 29 in einem Randbereich, zum Beispiel seitens der zweiten Trägerfläche 7, gehalten wird, so dass die mechanische Semiconductor chip, for example by means of a holding device 29 in an edge region, for example, on the part of the second support surface 7, is held, so that the mechanical
Unterstützung des Trägers 3 vorwiegend im Randbereich Support of the carrier 3 mainly in the edge area
stattfindet, und nachfolgend eine Belastung, die durch die Kraft F symbolisiert wird, beispielsweise in einem takes place, and subsequently a load which is symbolized by the force F, for example in one
zentraleren Bereich, auftritt, der Träger 3 des Chips und damit auch der Halbleiterkörper bricht. Insbesondere wurde festgestellt, dass der Bruch bei einer Vielzahl von Chips im Zwischenbereich 27 des Formkörpers stattfindet. Die Kraft F führt, zum Beispiel wegen des verursachten Biegemoments, zu einer Zugbelastung, die auf den Träger 3, und insbesondere auf die Kontaktfläche zwischen dem Formkörper 15 und dem jeweiligen Leiterkörper 11 beziehungsweise 13, insbesondere im Zwischenbereich 27, wirkt. Die Zugbelastung wirkt central region occurs, the carrier 3 of the chip and thus the semiconductor body breaks. In particular, it has been found that the rupture occurs in a plurality of chips in the intermediate region 27 of the molding. The force F leads, for example because of the bending moment caused, to a tensile load which acts on the carrier 3, and in particular on the contact surface between the shaped body 15 and the respective conductor body 11 or 13, in particular in the intermediate region 27. The tensile load acts
insbesondere in lateraler Richtung und ist in Figur 2A durch die waagrecht ausgerichteten Pfeile angedeutet. Ist die Kraft F zu groß, so bricht der Halbleiterchip wie in Figur 2B dargestellt . Die Haltevorrichtung 29 kann beispielsweise durch eine Düse realisiert sein, die den Halbleiterchip 1 durch Unterdruck hält. Bereits die durch den Unterdruck ausgeübte, für die Haltefunktion notwendige Kraft kann ausreichen, um den Träger 3 wie in Figur 2B gezeigt zu zerstören und dadurch auch den Chip unbrauchbar zu machen. Ähnliche mechanische Belastungen können auftreten, wenn ein Chip auf Lötbereichen (Lötpads) auf einem Anschlussträger platziert wird. in particular in the lateral direction and is indicated in Figure 2A by the horizontally oriented arrows. If the force F is too large, the semiconductor chip breaks as shown in FIG. 2B. The holding device 29 can be realized for example by a nozzle which holds the semiconductor chip 1 by negative pressure. Already exerted by the negative pressure necessary for the holding function force may be sufficient to the carrier 3 as shown in Figure 2B and thereby make the chip useless. Similar mechanical stresses can occur if a chip is placed on soldering areas (solder pads) on a connection carrier.
Im Folgenden werden Maßnahmen vorgeschlagen, wie die The following measures are proposed, such as
Zugstabilität des Trägers 3 mit dem Verbundkörper, der den Formkörper 15 und die Leiterkörper 11 und 13 umfasst, verbessert werden kann. Tensile stability of the carrier 3 with the composite body comprising the molded body 15 and the conductor body 11 and 13, can be improved.
Die Zugstabilität kann beispielsweise dadurch erhöht werden, dass die Kontaktfläche oder Haftfläche, also die Fläche zwischen dem Formkörper 15 und dem jeweiligen Leiterkörper 11 beziehungsweise 13, in der der Formkörper und der The tensile stability can be increased for example by the fact that the contact surface or adhesive surface, ie the surface between the shaped body 15 and the respective conductor body 11 or 13, in which the molded body and the
Leiterkörper aneinander angrenzen, erhöht wird. Hierzu kann beispielsweise die Oberfläche des jeweiligen Leiterkörpers 11, 13 vergrößert werden. Bevorzugt sind die Maßnahmen zur Vergrößerung der Haftfläche beziehungsweise Kontaktfläche zwischen dem Formkörper und dem Leiterkörper so gewählt, dass die notwendigen Modifikationen bereits während des Ausbildens des Leiterkörpers, beispielsweise durch galvanisches Conductor body adjacent to each other, is increased. For this purpose, for example, the surface of the respective conductor body 11, 13 are increased. Preferably, the measures for increasing the adhesive surface or contact surface between the shaped body and the conductor body are selected so that the necessary modifications already during the formation of the conductor body, for example by galvanic
Aufbringen, durchgeführt werden können und nachfolgend der Formkörper als fließfähige Formmasse an den schon Apply, can be carried out and subsequently the molding as a flowable molding compound to the already
vorgefertigten Leiterkörper anfließen kann. Nach Härten der Formmasse ist die Kontaktfläche oder Haftfläche zwischen dem Formkörper und dem Leiterkörper vergrößert. can flow prefabricated conductor body. After curing of the molding compound, the contact surface or adhesive surface between the molding and the conductor body is increased.
Die Kontakt- bzw. Haftfläche ist bevorzugt vergrößert The contact or adhesive surface is preferably enlarged
gegenüber einem Träger, der Leiterkörper der gleichen Dicke und/oder einen Formkörper der gleichen Dicke, aufweist, wie der zugstabilisierte Träger. Der Träger muss hinsichtlich der Abmessungen vorzugsweise nicht geändert werden. Die relative to a carrier having conductor bodies of the same thickness and / or a shaped body of the same thickness, as the zugstabilisierte carrier. The carrier preferably need not be changed in terms of dimensions. The
Kontaktfläche zwischen Formkörper und dem jeweiligen Leiterkörper kann gegenüber einem quaderförmigen oder Contact surface between moldings and the respective Ladder body may be opposite a cuboid or
würfelförmigen Leiterkörper, etwa wie in den Figuren 1A und 1B dargestellt, signifikant erhöht werden. Dies kann cube-shaped conductor body, approximately as shown in Figures 1A and 1B, are significantly increased. This can
beispielsweise durch geeignete Ausbildung des jeweiligen Leiterkörpers erreicht werden. Beispiele dazu sind weiter unten wiedergegeben, wobei die Kontakt- bzw. Haftfläche in allen Beispielen vergrößert ist. be achieved for example by suitable design of the respective conductor body. Examples are given below, the contact area being increased in all examples.
Wie weiter oben schon erwähnt, treten initiale Bruchstellen des Trägers 3 vorwiegend im Zwischenbereich 27 auf, weshalb es besonders zweckmäßig ist, die Zugstabilität in diesem Bereich zu erhöhen. Manche der unten vorgestellten As already mentioned above, initial breakage points of the carrier 3 occur predominantly in the intermediate region 27, which is why it is particularly expedient to increase the tensile stability in this region. Some of the ones presented below
Modifikationen beschränken sich daher auf die einander zugewandten Seitenflächen der Leiterkörper, was jedoch nicht als beschränkend anzusehen ist, da entsprechende Maßnahmen alternativ oder ergänzend auch für andere Seitenflächen, beispielsweise die dem Zwischenbereich abgewandte Modifications are therefore limited to the mutually facing side surfaces of the conductor body, but this is not to be regarded as limiting, since appropriate measures alternatively or additionally for other side surfaces, for example, facing away from the intermediate region
Seitenfläche und/oder diese Seitenflächen verbindende Side surface and / or connecting these side surfaces
Seitenflächen des jeweiligen Leiterkörpers Anwendung finden können. Im Zwischenbereich 27 sind die Modifikationen jedoch besonders vorteilhaft. Side surfaces of the respective conductor body can be applied. In the intermediate region 27, however, the modifications are particularly advantageous.
Natürlich können sich die unten beschriebenen Maßnahmen, auch wenn sie getrennt voneinander beschrieben sind, ergänzen, insofern sie sich nicht gegenseitig ausschließen. Of course, the measures described below, even if they are described separately from each other, can complement each other insofar as they are not mutually exclusive.
In den Figuren 3 und 4 ist jeweils ein Ausführungsbeispiel mit einer strukturierten Seitenfläche 21 der Leiterkörper 11, 13 angegeben. In den Figuren 3 und 4 sind die einander zugewandten Seitenflächen 21 der Leiterkörper 11, 13 jeweils gleichartig strukturiert, wobei die einzelnen In the figures 3 and 4 each an embodiment with a structured side surface 21 of the conductor body 11, 13 is indicated. In FIGS. 3 and 4, the mutually facing side surfaces 21 of the conductor bodies 11, 13 are each similarly structured, wherein the individual
Strukturelemente aneinander ausgerichtet sind. Abweichend von der Darstellung können die Seitenflächen auch verschieden strukturiert sein und/oder die Strukturelemente verschiedener Seitenflächen in Aufsicht gesehen versetzt zueinander Structural elements are aligned. Deviating from the illustration, the side surfaces can also be different be structured and / or the structural elements of different side surfaces seen in plan offset from each other
angeordnet sein. Gemäß Figur 3 ist die Seitenfläche 21 des jeweiligen be arranged. According to Figure 3, the side surface 21 of the respective
Leiterkörpers sägezahnartig strukturiert. Die einzelnen  Ladder body structured like a sawtooth. The single ones
Strukturelemente sind als sich vom jeweiligen Leiterkörper weg und/oder in Richtung des anderen Leiterkörpers Structural elements are considered to be away from the respective conductor body and / or in the direction of the other conductor body
verjüngende Vorsprünge ausgebildet. Von außen betrachtet können sich die Strukturelemente also von einem Ende desformed tapered projections. Seen from the outside, the structural elements can thus be from one end of the
Leiterkörpers ausgehend, insbesondere in lateraler Richtung gesehen, verbreitern, zum Beispiel bis die Strukturelemente in einen Hauptkörper des jeweiligen Leiterkörpers übergehen. Die Struktur in Figur 3 ist in Aufsicht auf die zweite Beginning conductor body, especially in the lateral direction, widen, for example, until the structural elements pass into a main body of the respective conductor body. The structure in Figure 3 is in plan view of the second
Trägerfläche 7 hinterschneidungsfrei ausgeführt. Insbesondere ist zwischen dem Formkörper 15 und dem jeweiligen Leiterköper für Belastungen in Zugrichtung, also zum Beispiel senkrecht zur ausgezeichneten Längsrichtung des jeweiligen  Support surface 7 executed undercuts. In particular, between the shaped body 15 and the respective ladder body for loads in the pulling direction, that is, for example, perpendicular to the excellent longitudinal direction of the respective
Leiterkörpers und/oder der Haupterstreckungsrichtung der strukturierten Seitenfläche, eine kraftschlüssige Verbindung ausgebildet. Diese wird zum Beispiel nicht durch eine Ladder body and / or the main extension direction of the structured side surface, a non-positive connection formed. This is not for example by a
formschlüssige Verbindung, wie sie beispielsweise durch positive connection, as for example by
Widerlagerflächen, die sich einer Trennung von Formkörper und Leiterkörper bei Zugbelastung widersetzen, erzeugt werden kann, unterstützt wird. Abutment surfaces, which can resist a separation of the molded body and the conductor body under tensile load, is supported.
In Figur 4 dagegen weisen die Strukturelemente in Aufsicht auf die zweite Trägerfläche 7 gesehen Hinterschnitte 31 auf, die Widerlagerflächen bilden, welche die Zugstabilität desIn contrast, in FIG. 4, the structural elements, viewed in a plan view of the second support surface 7, have undercuts 31 which form abutment surfaces which increase the tensile stability of the
Verbundkörpers, insbesondere auch zusätzlich zur Vergrößerung der Haftfläche, erhöhen können. Die Strukturelemente in Figur 4 sind ebenfalls als Vorsprünge gebildet, die zwischen sich Ausnehmungen definieren, wobei die Ausnehmungen zunächst von der Außenseite des Leiterkörpers gesehen schmal ausgebildet sind und sich dann verbreitern. In Richtung des Hauptkörpers des jeweiligen Leiterkörpers können sich die Ausnehmungen dann wieder verjüngen, ehe die Strukturelemente in den Composite, especially in addition to increasing the adhesive surface, can increase. The structural elements in Figure 4 are also formed as projections which are between them Define recesses, wherein the recesses are initially seen narrow from the outside of the conductor body and then widen. In the direction of the main body of the respective conductor body, the recesses can then taper again before the structural elements in the
Hauptkörper übergehen. Aufgrund des Hinterschnitts ist ausgehend von einer Endfläche 53 des Strukturelements - die Endfläche ist zweckmäßigerweise eine laterale und/oder dem anderen Leiterkörper zugewandte Endfläche - des Leiterkörpers in Aufsicht auf die zweite Trägerfläche folgende Abfolge gegeben: Material des Leiterkörpers (dieses bildet Pass main body. On the basis of the undercut, starting from an end face 53 of the structural element-the end face is expediently a lateral end face and / or the end face facing the other ladder body-the conductor body is given the following sequence in plan view of the second support face: Material of the conductor body (this forms
zweckmäßigerweise das Strukturelement) , Material des expediently the structural element), material of the
Formkörpers, Material des Leiterkörpers (dieses bildet zweckmäßigerweise den Hauptkörper des Leiterkörpers) . An die Endfläche 53 kann der Formkörpers 15, insbesondere dessen Zwischenbereich 27, angrenzen. Shaped body, material of the conductor body (this forms expediently the main body of the conductor body). At the end surface 53 of the molded body 15, in particular its intermediate region 27, adjacent.
Die Oberflächenstruktur in den Figuren 3 und 4 ist The surface structure in Figs. 3 and 4 is
gleichförmig, sodass sich der Querschnitt des jeweiligen Leiterkörpers auf dem Weg von der zweiten Körperhauptfläche 19 zur ersten Körperhauptfläche 17 (nicht explizit in den Figuren dargestellt) weder in Form noch Flächeninhalt ändert. Die Strukturen gemäß Figuren 3 und 4 können beispielsweise derart hergestellt werden, dass über eine Maske auf dem uniform, so that the cross section of the respective conductor body does not change neither in shape nor surface area on the way from the second body main surface 19 to the first body main surface 17 (not explicitly shown in the figures). The structures according to FIGS. 3 and 4 can be produced, for example, in such a way that via a mask on the
Halbleitermaterial des Halbleiterkörpers 23 freie Bereiche definiert werden, die die für den jeweiligen Leiterkörper gewünschte Form aufweisen. Die Maske kann beispielsweise eine geeignet strukturierte Maske, zum Beispiel eine Semiconductor material of the semiconductor body 23 free areas are defined, which have the desired shape for the respective conductor body shape. The mask may, for example, a suitably structured mask, for example a
Photolackmaske, sein. Der maskenmaterialfreie Bereich wird, beispielsweise galvanisch, mit Leitermaterial für den Photoresist mask, his. The mask material-free area is, for example, galvanically, with conductor material for the
Leiterkörper befüllt. Der Leiterkörper ist beispielsweise metallisch. Da die Oberflächenstruktur gleichförmig ist, kann die Maske verglichen mit weiteren unten beschriebenen Strukturen vergleichsweise einfach ausgebildet werden, beispielsweise mit nur einer Maskenschicht und/oder ohne Hinterschnitte beziehungsweise schräggestellte Flanken. In dem Ausführungsbeispiel gemäß Figur 5 sind eine Mehrzahl von Verbindungsbereichen 33 des Formkörpers 15 vorgesehen, die sich, insbesondere in Aufsicht auf die zweite Ladder body filled. The conductor body is metallic, for example. Since the surface structure is uniform, the mask can be compared with others described below Structures are comparatively easy to form, for example, with only one mask layer and / or without undercuts or inclined flanks. In the exemplary embodiment according to FIG. 5, a plurality of connecting regions 33 of the molded body 15 are provided which, in particular in a plan view of the second
Trägerfläche 7 gesehen, von der einen Seite des jeweiligen Leiterkörpers 11 beziehungsweise 13 zu dessen anderer Seite erstrecken, beispielsweise vom Randbereich 25 zum Support surface 7 seen from the one side of the respective conductor body 11 and 13 extend to the other side, for example, from the edge region 25 to
Zwischenbereich 27. Durch die Verbindungsbereiche 33 können Querstreben im Formkörper gebildet sein. Es können alternativ oder ergänzend Längsstreben vorgesehen sein, die sich entlang der ausgezeichneten Längsrichtung des jeweiligen  Intermediate region 27. Through the connecting regions 33, transverse struts may be formed in the molded body. It may alternatively or additionally be provided longitudinal struts, which extend along the excellent longitudinal direction of the respective
Leiterkörpers erstrecken (nicht dargestellt) . Wie in Figur 5 dargestellt, kann der jeweilige Leiterkörper eine Mehrzahl von Teilbereichen, im Ausführungsbeispiel drei Teilbereiche, aufweisen, wobei zwischen zwei benachbarten Teilbereichen des gleichen Leiterkörpers jeweils ein Verbindungsbereich 33 angeordnet ist. Die Teilbereiche des jeweiligen Leiterkörpers können durchweg, das heißt durch den ganzen Träger hinweg getrennt sein, sodass sich der Verbindungsbereich 33 von der zweiten Trägerfläche 7 ausgehend durchgehend bis zur ersten Trägerfläche 5 erstrecken kann. Alternativ und/oder ergänzend dazu kann einer oder eine Mehrzahl von VerbindungsbereichenLadder body extend (not shown). As shown in FIG. 5, the respective conductor body can have a plurality of partial regions, in the exemplary embodiment three partial regions, wherein between each two adjacent partial regions of the same conductor body a respective connection region 33 is arranged. The subregions of the respective conductor body may be continuous, that is to say separated by the entire carrier, so that the connection region 33 can extend continuously from the second carrier surface 7 as far as the first carrier surface 5. Alternatively and / or additionally thereto, one or a plurality of connection regions
33 vorgesehen sein, wobei der jeweilige Verbindungsbereich 33 in Umfangsrichtung - also insbesondere azimutal zu seiner Erstreckungsrichtung - vollständig vom Leiterkörpermaterial umgeben ist und/oder nur teilweise, zum Beispiel nur auf einer Seite nicht, vom Leiterkörper begrenzt ist. 33 be provided, wherein the respective connection portion 33 in the circumferential direction - ie in particular azimuthal to its extension direction - is completely surrounded by the conductor body material and / or only partially, for example, not limited on one side, the conductor body.
Beispielsweise gemäß dem in Figur 6 gezeigten For example, according to the one shown in FIG
Ausführungsbeispiel sind Verbindungsbereiche 33 vorgesehen, die seitens der zweiten Trägerfläche 7 freiliegen, sonst aber in Umfangsrichtung vom jeweiligen Leiterkörper 11, 13 Embodiment connecting areas 33 are provided, which are exposed by the second support surface 7, but otherwise in the circumferential direction of the respective conductor body 11, 13th
begrenzt sind. Gemäß Figur 7 ist der Verbindungsbereich 33 in Umfangsrichtung entlang seiner Erstreckungsrichtung gesehen vollständig vom Leiterkörpermaterial umgeben. Solche are limited. According to FIG. 7, the connection region 33 is completely surrounded by the conductor body material as viewed in the circumferential direction along its extension direction. Such
durchgehenden Verbindungsbereiche, wie in den Figuren 5 bis 7 dargestellt, erhöhen signifikant die Stabilität und continuous connecting regions, as shown in Figures 5 to 7, significantly increase the stability and
insbesondere auch die Zugstabilität des Trägers 3. in particular also the tensile stability of the carrier 3.
Die Leiterkörper 11, 13 gemäß Figur 5 können durch eine geeignet ausgebildete Maske mit anschließendem Abscheiden, beispielsweise galvanischem Abscheiden, Sputtern oder The conductor bodies 11, 13 according to FIG. 5 can be formed by a suitably formed mask with subsequent deposition, for example electrodeposition, sputtering or
Aufdampfen, der Teilbereiche des Leiterkörpers 11 und der Teilbereiche des Leiterkörpers 13 gebildet werden. Nicht mit Leitermaterial zu bedeckende Gebiete sind zweckmäßigerweise mit dem Maskenmaterial bedeckt. Evaporation, the portions of the conductor body 11 and the portions of the conductor body 13 are formed. Not to be covered with conductor material areas are suitably covered with the mask material.
Bei der Struktur gemäß Figur 6 wird zunächst eine Maske für den halbleiterkörpernahen Bereich des jeweiligen In the structure according to FIG. 6, first of all a mask for the region of the respective semiconductor body is provided
Leiterkörpers - das ist der Bereich zwischen dem Ladder body - that's the area between the
Verbindungsbereich 33 und dem Halbleiterkörper in Figur 6 - vorgesehen. Die von der Maske freien Bereiche werden Connection region 33 and the semiconductor body in Figure 6 - provided. The areas that are free of the mask become
entsprechend befüllt. Die Maske kann daraufhin entfernt werden. Nachfolgend kann eine weitere Maske vorgesehen werden, in der ein Teil der Maske den für den filled accordingly. The mask can then be removed. Subsequently, a further mask can be provided, in which a part of the mask for the
Verbindungsbereich 33 vorgesehenen Bereich bedeckt. Wird daraufhin das Leitermaterial abgeschieden, so entsteht die in Figur 6 gezeigte Struktur mit einer Ausnehmung für den Connection area 33 provided area covered. If the conductor material is subsequently deposited, the structure shown in FIG. 6 with a recess for the result
Verbindungsbereich 33. Für die Struktur gemäß Figur 7 kann ähnlich vorgegangen werden, wobei nach dem Ausbilden der Ausnehmung zusätzlich noch ein halbleiterkörperferner Bereich des Leiterkörpers ausgebildet wird, der den für den Connection region 33. The procedure according to FIG. 7 can be followed similarly, wherein, after the formation of the recess, a region of the conductor body which is remote from the semiconductor body is additionally formed, which forms the region for the body
Verbindungsbereich 33 vorgesehenen Bereich des jeweiligen Leiterkörpers auf der halbleiterkörperfernen Seite begrenzt. Dieser halbleiterkörperferne Bereich des Leiterkörpers kann mittels einer weiteren Maske definiert werden, wobei die Maske, die die Ausnehmung definiert vorzugsweise noch nicht entfernt wird, um zu verhindern, dass Leitermaterial in die eigentlich für den Verbindungsbereich vorgesehene Ausnehmung gelangt. Alternativ kann die die Ausnehmung definierende Maskenstruktur überformt werden, um den Limiting portion 33 provided region of the respective conductor body on the semiconductor body distant side. This semiconductor body-remote region of the conductor body can be defined by means of a further mask, the mask which defines the recess preferably still not being removed in order to prevent conductor material from entering the recess actually provided for the connection region. Alternatively, the mask structure defining the recess may be overmolded to form the
halbleiterkörperfernen Bereich auszubilden. In diesem Fall ist keine weitere Maske erforderlich. form semiconductor-distant area. In this case, no additional mask is required.
Nach dem Entfernen der letzten im Verfahren benutzten Maske können die von der Maske und dem Leitermaterial des After removing the last mask used in the process, those of the mask and the conductor material of the
jeweiligen Leiterkörpers freien Bereiche - diese umfassen die Verbindungsbereiche 33 - mit der Masse für den Formkörper befüllt werden. respective conductor body free areas - these include the connecting portions 33 - are filled with the mass for the molding.
Verbindungsbereiche 33 durch verschiedene Leiterkörper 11 beziehungsweise 13 können aneinander ausgerichtet sein, wie in Figur 5 dargestellt. Ein Verbindungsbereich 33 durch einen Leiterkörper kann über den Zwischenbereich 27 hinweg Connecting regions 33 through different conductor bodies 11 and 13 can be aligned with each other, as shown in FIG. A connection region 33 through a conductor body can pass over the intermediate region 27
geradlinig in einen Verbindungsbereich 33 durch den anderen Leiterkörper übergehen oder münden. Alternativ oder ergänzend können Verbindungsbereiche 33 durch verschiedene Leiterkörper 11 beziehungsweise 13 versetzt zueinander angeordnet sein wie in den Figuren 13A oder 13B dargestellt. Eine versetzte straight line in a connection region 33 pass through or open the other conductor body. Alternatively or additionally, connecting regions 33 can be arranged offset from one another by different conductor bodies 11 or 13, as shown in FIGS. 13A or 13B. A staggered
Anordnung hat gegenüber einer aneinander ausgerichteten Arrangement has opposite to one another aligned
Anordnung den Vorteil, dass die Gefahr eines Bruches entlang eines durch die Verbindungsbereiche 33 gebildeten Arrangement the advantage that the risk of breakage along a formed by the connecting portions 33
durchgehenden Formkörperbereichs, der sich von einem continuous molded body portion extending from a
Leiterkörper ausgehend über den Zwischenbereich 27 erstreckt und sich über den anderen Leiterkörper fortsetzt, vermieden wird. Die Anzahl an Verbindungsbereichen 33 über verschiedene Leiterkörper 11, 13 kann, wie in Figur 13B dargestellt, verschieden oder, wie in Figur 13A und Figur 5 dargestellt, gleich sein. Dementsprechend können der erste Leiterkörper 11 und der zweite Leiterkörper 13 die gleiche Anzahl an Starting conductor body extends over the intermediate region 27 and continues over the other conductor body, is avoided. The number of connecting regions 33 via different conductor bodies 11, 13 can, as shown in FIG. 13B, different or, as shown in Figure 13A and Figure 5, be the same. Accordingly, the first conductor body 11 and the second conductor body 13 can be the same number
Teilbereichen oder eine verschiedene Anzahl an Teilbereichen aufweisen. Weisen die Leiterkörper eine verschiedene Anzahl an Teilbereichen auf, so kann über die Anzahl an Have partial areas or a different number of partial areas. Assign the ladder body on a different number of sub-areas, so on the number of
Teilbereichen eines Leiterkörpers, die auf der vom Subareas of a ladder body used at the
Halbleiterkörper abgewandten Seite des Trägers freiliegen, die Polarität des durch die Leiterkörper gebildeten Semiconductor body facing away from the carrier exposed, the polarity of the conductor body formed by the
Anschlusses an den aktiven Bereich - n- oder p-leitend - angezeigt werden. Connection to the active area - n- or p-conducting - are displayed.
Den Ausführungsbeispielen gemäß den Figuren 8 bis 10 und 14 ist gemein, dass die erste Körperhauptfläche 17 und die zweite Körperhauptfläche 19 jeweils verschiedene The embodiments according to FIGS. 8 to 10 and 14 have in common that the first main body surface 17 and the second main body surface 19 are each different
Flächeninhalte aufweisen. In Figur 8 ist die erste  Have surface content. In Figure 8, the first
Körperhauptfläche 17 kleiner als die zweite Körperhauptfläche 19 und in den Figuren 9 und 10 ist das Umgekehrte der Fall. Bei den Leiterkörpern in Figur 8 vergrößert sich der The body main surface 17 is smaller than the second body main surface 19, and in Figs. 9 and 10, the reverse is the case. In the ladder bodies in Figure 8 increases the
Leiterkörper im Querschnitt, der zweckmäßigerweise senkrecht zur ausgezeichneten Längsrichtung genommen wurde, des Conductor body in cross section, which was suitably taken perpendicular to the excellent longitudinal direction, the
jeweiligen Leiterkörpers 11 beziehungsweise 13 kontinuierlich von der ersten Körperhauptfläche 17 weg gesehen. Bei den Leiterkörpern in Figur 9 verjüngt sich der Leiterkörper im Querschnitt, der zweckmäßigerweise senkrecht zur respective conductor body 11 and 13 seen continuously from the first body main surface 17 away. In the conductor bodies in Figure 9, the conductor body tapers in cross section, which expediently perpendicular to
ausgezeichneten Längsrichtung genommen wurde, des jeweiligen Leiterkörpers 11 beziehungsweise 13 kontinuierlich von der ersten Körperhauptfläche 17 weg gesehen. Bei den Figuren 8 und 9 ist zumindest eine Seitenfläche 21 eines Leiterkörpers 11, 13, zweckmäßigerweise eine dem anderen Leiterkörper 11 bzw. 13 zugewandte Seitenfläche 21, schräggestellt. Es können zwei gegenüberliegende Seitenflächen 21 des gleichen taken longitudinal direction of the respective conductor body 11 and 13, respectively, seen continuously away from the first body main surface 17. In FIGS. 8 and 9, at least one side surface 21 of a conductor body 11, 13, expediently a side surface 21 facing the other conductor body 11 or 13, is inclined. There may be two opposite side surfaces 21 of the same
Leiterkörpers schräg verlaufen. Beispielsweise kann ein Winkel den die jeweilige schräge Seitenfläche mit der Ladder body oblique. For example, a Angle the respective oblique side surface with the
Oberflächennormalen der ersten und/oder zweiten Surface normals of the first and / or second
Körperhauptfläche einschließt, 20° oder mehr, vorzugsweise 30° oder mehr, oder 40° oder mehr, betragen. Body major surface, 20 ° or more, preferably 30 ° or more, or 40 ° or more.
In dem Ausführungsbeispiel gemäß Figur 8 ist die für In the embodiment of Figure 8 is the for
elektrische Kontaktierung seitens der zweiten electrical contact on the part of the second
Körperhauptfläche 19 zur Verfügung stehende Oberfläche vorteilhaft groß, während in den Figur 9 und 10 die für die Wärmeaufnahme der Abwärme vom Halbleiterkörper zur Verfügung stehende Fläche vorteilhaft groß ist. Body surface 19 available surface advantageously large, while in Figure 9 and 10, the available for the heat absorption of the waste heat from the semiconductor body surface is advantageously large.
In den Figuren 8 und 9 ändert sich der Querschnitt in In FIGS. 8 and 9, the cross section changes in FIG
Dickenrichtung kontinuierlich, während er sich in Figur 10 diskontinuierlich ändert. Auf einen Bereich mit großer Thickness direction continuously, while it changes discontinuously in Figure 10. On an area with great
Querschnittsfläche folgt dort von der jeweiligen ersten Cross-sectional area follows there from the respective first
Körperhauptfläche 17 weg gesehen übergangslos ein Bereich mit kleinerer Querschnittsfläche. Die Leiterkörper 11, 13 sind bevorzugt so zueinander angeordnet, dass zwischen ihnen ein Zwischenbereich 27 des Formkörpers 15 ausgebildet ist, der im Querschnitt eine t-artige Form aufweist. Der jeweilige Body main surface 17 away seen an area with a smaller cross-sectional area. The conductor bodies 11, 13 are preferably arranged relative to one another such that an intermediate region 27 of the shaped body 15 is formed between them, which has a t-shaped shape in cross-section. The respective
Leiterkörper 11 beziehungsweise 13 kann auf der Seite des Halbleiterkörpers 23 einen in den Zwischenraum zwischen den beiden Leiterkörpern ragenden Vorsprung aufweisen. Conductor body 11 or 13 may have on the side of the semiconductor body 23 in the space between the two conductor bodies protruding projection.
Wie in Figur 14 dargestellt, ist eine diskontinuierliche Änderung des Querschnitts nicht erforderlich, sondern ein Bereich größerer Querschnittsfläche kann über einen schrägen Bereich der Seitenfläche in einen Bereich mit kleinerem, vorzugsweise konstantem, Querschnitt des jeweiligen As shown in Figure 14, a discontinuous change of the cross section is not required, but a region of larger cross-sectional area may be over an oblique region of the side surface in a region with a smaller, preferably constant, cross-section of the respective
Leiterkörpers übergehen. Die Strukturen gemäß Figur 8 und Figur 9 können mittels geeigneter Masken, die geeignet schräge Flanken aufweisen, hergestellt werden, wobei die Maske gemäß Figur 8 Pass on ladder body. The structures according to FIG. 8 and FIG. 9 can be produced by means of suitable masks which have suitably oblique flanks, wherein the mask according to FIG. 8
hinterschnittfrei und die Maske für Figur 9 mit einem undercut-free and the mask for Figure 9 with a
Hinterschnitt ausgeführt werden kann. Die Struktur gemäß Figur 10 kann mit einer mehrstufigen Maskierungstechnik hergestellt werden, bei der zuerst der halbleiterkörpernahe Bereich des jeweiligen Leiterkörpers mittels einer ersten Maske aufgebracht wird und dann für den Bereich mit der kleineren Breite des Leiterkörpers eine weitere Maske verwendet wird. Der Bereich mit der schrägen Seitenfläche gemäß Figur 14 kann über eine Maske mit Hinterschnitt definiert werden. Die jeweilige Seitenfläche 21 in den Ausführungsbeispielen gemäß den Figuren 5 bis 9 kann unstrukturiert, insbesondere eben, sein. Undercut can be performed. The structure according to FIG. 10 can be produced with a multi-stage masking technique, in which first the region of the respective conductor body close to the semiconductor body is applied by means of a first mask and then a further mask is used for the region with the smaller width of the conductor body. The region with the oblique side surface according to FIG. 14 can be defined via a mask with an undercut. The respective side surface 21 in the exemplary embodiments according to FIGS. 5 to 9 can be unstructured, in particular flat.
Figur 11 zeigt ein Beispiel mit Leiterkörpern 11, 13 mit in Dickenrichtung diskontinuierlichem Querschnitt und einer sich in Dickenrichtung ändernden Oberflächenstruktur. In FIG. 11 shows an example with conductor bodies 11, 13 with a discontinuous cross-section in the thickness direction and a surface structure changing in the thickness direction. In
Dickenrichtung wechseln sich breite und schmale Bereiche des jeweiligen Leiterkörpers 11 bzw. 13 alternierend ab, sodass eine, vorzugsweise im Querschnitt betrachtete kammartige, Verzahnung des jeweiligen Leiterkörpers mit dem Thickness alternate wide and narrow areas of the respective conductor body 11 and 13 alternately, so that one, preferably considered in cross-section comb-like, toothing of the respective conductor body with the
Formkörpermaterial ausgebildet wird. Die Seitenfläche weist also in Dickenrichtung Hinterschitte auf. In lateraler  Shaped body material is formed. The side surface thus has in the thickness direction Hinterschitte. In lateral
Richtung ist die Struktur jedoch vorzugsweise However, the structure is preferably the structure
hinterschnittfrei . Es kann also in Zugbelastungsrichtung gesehen eine kraftschlüssige Haftverbindung zwischen dem Leiterkörper und dem jeweiligen Formkörper ausgebildet werden, die insbesondere nicht durch eine formschlüssige Verbindung unterstützt wird. Die in Figur 11 gezeigte Struktur kann auch mittels mehrerer Maskierungsebenen undercut free. Thus, it can be seen in Zugbelastungsrichtung a non-positive adhesive connection between the conductor body and the respective shaped body are formed, which is not supported in particular by a positive connection. The shown in Figure 11 Structure can also be done using multiple masking levels
hergestellt werden. In Figur 11 sind die zwei getting produced. In Fig. 11, the two are
gegenüberliegenden Seitenflächen 21 des jeweiligen opposite side surfaces 21 of the respective
Leiterkörpers 11, 13 strukturiert ausgebildet. Ladder body 11, 13 structured formed.
Den Ausführungsbeispielen gemäß den Figuren 15 und 16 ist gemein, dass die jeweilige Seitenfläche nicht eben ausgeführt ist. Ferner weist die jeweilige Seitenfläche keine The exemplary embodiments according to FIGS. 15 and 16 have in common that the respective side surface is not flat. Furthermore, the respective side surface has no
geradlinige Haupterstreckungsrichtung auf. Insbesondere ist die jeweilige Seitenfläche des jeweiligen Leiterkörpers 11, 13 gekrümmt. In Figur 15 ist die Seitenfläche von außen gesehen konvex gekrümmt, während sie in Figur 16 von außen gesehen konkav gekrümmt ist. Auf durch die entsprechend gekrümmte Ausführung der Seitenfläche kann der Inhalt der Seitenfläche entsprechend vergrößert werden. Die konkav gekrümmte Ausführung gemäß Figur 16 ist demgegenüber rectilinear main direction of extension. In particular, the respective side surface of the respective conductor body 11, 13 is curved. In FIG. 15, the lateral surface is convexly curved when viewed from the outside, whereas in FIG. 16 it is concavely curved from the outside. Due to the corresponding curved execution of the side surface of the content of the side surface can be increased accordingly. The concave curved embodiment according to FIG. 16 is in contrast
vorteilhaft, weil die Flächen zum elektrischen Anschluss und zum thermischen Anschluss in dem Halbleiterkörper 23 größer sind als die innerhalb des Trägers zur Verfügung stehende Fläche. advantageous because the areas for electrical connection and for thermal connection in the semiconductor body 23 are larger than the area available within the carrier.
In den Figuren 15 und 16 variiert der Querschnitt so, dass er sich zunächst ausgehend von der ersten Körperhauptfläche 17 vergrößert (Figur 15) beziehungsweise verkleinert (Figur 16) und daraufhin wieder verringert (Figur 15) beziehungsweise vergrößert (Figur 16). Die jeweilige Vergrößerung In FIGS. 15 and 16, the cross section varies such that it first increases (FIG. 15) or decreases (FIG. 16) starting from the first main body surface 17 and then decreases again (FIG. 15) or enlarged (FIG. 16). The respective magnification
beziehungsweise Verringerung kann kontinuierlich sein. Die Körperhauptflächen 17 und 19 können gleich groß sein. Den Figuren 8 bis 11 sowie 14 bis 16 ist gemein, dass sich der Querschnitt des jeweiligen Leiterkörpers in or reduction can be continuous. The main body surfaces 17 and 19 may be the same size. FIGS. 8 to 11 and FIGS. 14 to 16 have in common that the cross section of the respective conductor body in FIG
Dickenrichtung, insbesondere in Form und/oder Flächeninhalt, ändert . Durch die oben beschriebenen Modifikationen kann - mit Thickness direction, in particular in shape and / or area, changes. Due to the modifications described above can - with
Ausnahme der Maßnahmen gemäß den Figuren 6 und 7, 13A und 13BException to the measures according to FIGS. 6 and 7, 13A and 13B
- erreicht werden, dass die Oberfläche der Seitenfläche 21 vergrößert ist. Diese Oberfläche kann der durch die - It can be achieved that the surface of the side surface 21 is increased. This surface can be through the
Seitenfläche realisierte Teil der Haft- oder Kontaktfläche sein oder diesen zumindest bestimmen. Bei den Figuren 6, 7, 13A und 13B werden entweder neue Innenflächen des  Side surface realized part of the adhesive or contact surface or at least determine this. In Figures 6, 7, 13A and 13B either new inner surfaces of the
Leiterkörpers geschaffen, die die Kontakt- oder Haftfläche zum Formkörper vergrößern (Figur 7, 13A, 13B) oder es wird eine Körperhauptfläche des Leiterkörpers zur Vergrößerung der Kontakt- oder Haftfläche geeignet strukturiert ausgebildet (Figur 6) . Bei einer Vergrößerung der jeweiligen Seitenfläche kann eine Oberfläche A der Seitenfläche 21 größer sein als die Dicke d des Leiterkörpers 11 bzw. 13 multipliziert mit einer der folgenden Größen: Ladder body created that enlarge the contact or adhesive surface to the molding (Figure 7, 13A, 13B) or it is a body main surface of the conductor body to increase the contact or adhesive surface suitably structured formed (Figure 6). With an enlargement of the respective side surface, a surface A of the side surface 21 may be larger than the thickness d of the conductor body 11 or 13 multiplied by one of the following quantities:
- B, wobei B eine Abmessung, zum Beispiel eine maximale  B, where B is one dimension, for example a maximum
Längsabmessung, etwa die Länge, der ersten Körperhauptfläche 17 oder der zweiten Körperhauptfläche 19 bezeichnet, und/oderLongitudinal dimension, about the length, the first body main surface 17 or the second body main surface 19 denotes, and / or
- C, wobei C den halben Umfang der ersten oder zweiten C, where C is half the circumference of the first or second
Körperhauptfläche bezeichnet. Mit Vorteil gilt: Body main surface called. Advantageously:
- A/ (B*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1,90 oder 2,00, und/oder  - A / (B * d)> 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or 2.00, and / or
- A/(C*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1, 90 oder > 2,00. Insbesondere für den Fall zweier Seitenflächen 21 verschiedener Leiterkörper, die einander zugewandt sind, aber zum Beispiel versetzt zueinander angeordnet und/oder oder verschieden groß sind, bezeichnet 0 den Flächeninhalt des Bereichs, in dem sich die einander zugewandten Seitenflächen des ersten und des zweiten Leiterkörpers gegenseitig - A / (C * d)> 1.05, preferably>1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or> 2.00. In particular, in the case of two side surfaces 21 of different conductor bodies, which face each other, but for example staggered and / or different sizes, 0 denotes the area of the area in which the mutually facing side surfaces of the first and the second conductor body mutually
überdecken. 0 kann kleiner oder gleich dem Flächeninhalt der Seitenfläche des ersten Leiterkörpers oder kleiner oder gleich dem Flächeninhalt der Seitenfläche des zweiten cover. 0 may be less than or equal to the area of the side surface of the first conductor body or less than or equal to the surface area of the side surface of the second
Leiterkörpers sein. Mit Vorteil gilt: Be ladder body. Advantageously:
- 0/ (B*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1,90 oder 2,00, und/oder  - 0 / (B * d)> 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or 2.00, and / or
- 0/(C*d) > 1,05, bevorzugt > 1,10, > 1,20 oder > 1,30, besonders bevorzugt ^ 1,40, zum Beispiel ^ 1,50, ^ 1,80, ^ 1, 90 oder > 2,00.  - 0 / (C * d)> 1.05, preferably> 1.10,> 1.20 or> 1.30, more preferably ^ 1.40, for example ^ 1.50, 1.80, ^ 1 , 90 or> 2.00.
Derartige Verhältnisse können mit den oben genannten Such ratios can be with the above
Maßnahmen, ggf. in Kombination miteinander, erreicht werden. Measures, if necessary in combination, can be achieved.
In Figur 12 ist der Halbleiterkörper 23 aus den vorangehenden Ausführungsbeispielen detaillierter dargestellt und außerdem die Verbindung zwischen Halbleiterkörper 23 und Träger 3 näher erläutert. Der Halbleiterkörper 23 ist vorzugsweise epitaktisch gewachsen und kann beispielsweise auf II-VI- oder III-V-Halbleitermaterial basieren. Der Halbleiterkörper 23 weist eine erste Halbleiterschicht 35 und eine zweite In FIG. 12, the semiconductor body 23 from the preceding exemplary embodiments is shown in greater detail and, in addition, the connection between the semiconductor body 23 and the carrier 3 is explained in greater detail. The semiconductor body 23 is preferably epitaxially grown and may for example be based on II-VI or III-V semiconductor material. The semiconductor body 23 has a first semiconductor layer 35 and a second one
Halbleiterschicht 37 auf, wobei die zweite Halbleiterschicht 37 dem Träger 3 zugewandt ist. Zwischen den beiden Semiconductor layer 37, wherein the second semiconductor layer 37 faces the carrier 3. Between the two
Halbleiterschichten 37 und 35 ist der aktive Bereich des Halbleiterkörpers 39 zur Strahlungserzeugung oder zum Semiconductor layers 37 and 35 is the active region of the semiconductor body 39 for generating radiation or for
Strahlungsempfang angeordnet. Zwischen dem Halbleiterkörper 23 und dem Träger 3 ist eine, vorzugsweise elektrisch leitfähige, Spiegelschicht 41 Radiation reception arranged. Between the semiconductor body 23 and the carrier 3 is a, preferably electrically conductive, mirror layer 41
angeordnet, die für im aktiven Bereich erzeugte oder vom aktiven Bereich zu empfangende Strahlung vorzugsweise preferably arranged for radiation generated in the active region or to be received by the active region
reflektierend ausgebildet ist. Die Spiegelschicht kann beispielsweise ein Metall oder ein metallisches Material enthalten oder daraus bestehen. Die erste Halbleiterschicht 35 kann p-leitend oder n-leitend sein. Die zweite is formed reflective. The mirror layer may, for example, contain or consist of a metal or a metallic material. The first semiconductor layer 35 may be p-type or n-type. The second
Halbleiterschicht 37 weist bevorzugt den anderen Leitungstyp auf, ist also n-leitend beziehungsweise p-leitend. Die erste und/oder zweite Halbleiterschicht kann für den jeweiligen leitungstyp dotiert sein. Der erste Leiterkörper 11 ist mit der ersten Halbleiterschicht 35 elektrisch leitend verbunden. Hierzu ist im Halbleiterkörper eine Durchkontaktierung ausgebildet. Die Durchkontaktierung umfasst eine Ausnehmung oder Aussparung 43 im Halbleiterkörper, die sich von der dem Träger zugewandten Seite bis zu der dem Träger abgewandten Seite des aktiven Bereichs 39 erstreckt. Die Ausnehmung 43 kann sich durch den aktiven Bereich, die zweite Semiconductor layer 37 preferably has the other conductivity type, ie is n-type or p-type. The first and / or second semiconductor layer may be doped for the respective type of line. The first conductor body 11 is electrically conductively connected to the first semiconductor layer 35. For this purpose, a plated-through hole is formed in the semiconductor body. The through-connection comprises a recess or recess 43 in the semiconductor body, which extends from the side facing the carrier to the side of the active region 39 facing away from the carrier. The recess 43 may be through the active area, the second
Halbleiterschicht 37 und die Spiegelschicht 41 erstrecken. In der Ausnehmung 43 ist ein Leitermaterial 45 angeordnet, beispielsweise ein Metall, das mit dem Halbleiterkörper auf der vom aktiven Bereich abgewandten Seite elektrisch leitend verbunden ist. Der zweite Leiterkörper 13, ist vorzugsweise über die Spiegelschicht 41, mit der dem Träger 3 zugewandten Seite des Halbleiterkörpers 23 elektrisch leitend verbunden. Semiconductor layer 37 and the mirror layer 41 extend. In the recess 43, a conductor material 45 is arranged, for example, a metal which is electrically conductively connected to the semiconductor body on the side facing away from the active region. The second conductor body 13 is preferably electrically conductively connected via the mirror layer 41 to the side of the semiconductor body 23 facing the carrier 3.
In dem Teilbereich der Ausnehmung 43 zwischen der dem Träger 3 zugewandten Seite des Halbleiterkörpers 23 und dem aktiven Bereich 39 ist der Leiterkörper 11 zweckmäßigerweise In the partial region of the recess 43 between the side of the semiconductor body 23 facing the carrier 3 and the active region 39, the conductor body 11 is expediently
elektrisch vom Halbleiterkörper getrennt, ebenso wie auf der dem Träger zugewandten Seite des Halbleiterkörpers. Hierzu ist eine Isolationsschicht 47 vorgesehen, die bereichsweise zwischen dem Träger 3 und dem Halbleiterkörper vorgesehen ist. Für die Kontaktbildung zur ersten Halbleiterschicht 35 ist die Isolationsschicht unterbrochen. Zwischen dem electrically separated from the semiconductor body, as well as on the carrier side facing the semiconductor body. For this purpose, an insulating layer 47 is provided, which partially is provided between the carrier 3 and the semiconductor body. For the contact formation to the first semiconductor layer 35, the insulation layer is interrupted. Between the
jeweiligen Leiterkörper 11 beziehungsweise 13 und dem respective conductor body 11 and 13 and the
Halbleiterkörper 23, vorzugsweise unmittelbar angrenzend in dem jeweiligen Leiterkörper 11 beziehungsweise 13, ist eine Keimschicht 49 beziehungsweise 51 angeordnet. Die Semiconductor body 23, preferably immediately adjacent in the respective conductor body 11 and 13, a seed layer 49 and 51 is arranged. The
Keimschichten 59 und 51 können Teilbereiche einer Seed layers 59 and 51 may be part of a
durchgehenden Keimschicht sein, die im Herstellungsverfahren durchgehend auf dem Halbleiterkörper beziehungsweise diebe continuous seed layer in the manufacturing process continuously on the semiconductor body or the
Halbleiterschichtenfolge, aus der mehrere Halbleiterkörper ausgebildet werden, aufgebracht und nachfolgend entsprechend strukturiert wird. Alternativ können die Keimschichten 49 und 51 bereits strukturiert aufgebracht werden. Das Material des Formkörpers 15 kann, wie dargestellt den jeweiligen Semiconductor layer sequence, from which a plurality of semiconductor bodies are formed, applied and subsequently patterned accordingly. Alternatively, the seed layers 49 and 51 can be applied already structured. The material of the shaped body 15 can, as shown, the respective
Leiterkörper 11 in Richtung des Halbleiterkörpers 23 gesehen, überragen. Gegebenenfalls kann der Formkörper 15 auch die Isolationsschicht, die Spiegelschicht 41, die zweite  Ladder body 11 seen in the direction of the semiconductor body 23, project beyond. Optionally, the molded body 15 and the insulating layer, the mirror layer 41, the second
Halbleiterschicht, den aktiven Bereich 39 und/oder die erste Halbleiterschicht 35 bereichsweise oder vollständig Semiconductor layer, the active region 39 and / or the first semiconductor layer 35 regions or completely
überragen. Die jeweilige Keimschicht 49 und 51 ist bevorzugt elektrisch leitfähig ausgeführt. Beispielsweise enthält die jeweilige Keimschicht ein Metall, das zum galvanischen overtop. The respective seed layer 49 and 51 is preferably made electrically conductive. For example, the respective seed layer contains a metal that is for galvanic
Aufbringen des Leiterkörpers geeignet ist. Die vom Träger abgewandte Seite des Halbleiterkörpers kann die Applying the conductor body is suitable. The side facing away from the carrier side of the semiconductor body, the
Strahlungsaustrittsseite des Halbleiterchips 1 bilden. Über die Spiegelschicht 41 kann Strahlung, die aus dem aktiven Bereich in Richtung des Trägers 3 abgestrahlt wird, in  Forming the radiation exit side of the semiconductor chip 1. Via the mirror layer 41, radiation which is emitted from the active region in the direction of the carrier 3, in
Richtung der Strahlungsaustrittsfläche zurückreflektiert werden. Direction of the radiation exit surface are reflected back.
Der Formkörper und/oder der jeweilige Leiterkörper ist vorzugsweise strahlungsundurchlässig ausgeführt. Der Formkörper kann absorbierend, insbesondere schwarz, The shaped body and / or the respective conductor body is preferably radiopaque. Of the Shaped body can be absorbent, especially black,
ausgeführt sein. Da die Spiegelschicht zwischen dem Träger und dem Halbleiterkörper angeordnet ist, beeinträchtigt dies die im Falle eines Strahlungsemittierenden Halbleiterchips ausgekoppelte Strahlungsleistung nicht maßgeblich. be executed. Since the mirror layer is arranged between the carrier and the semiconductor body, this does not significantly affect the radiation power coupled out in the case of a radiation-emitting semiconductor chip.
Der jeweilige Leiterkörper 11, 13 kann in den The respective conductor body 11, 13 can in the
Ausführungsbeispielen beispielsweise Zinn, Nickel, Gold, Wolfram, Silber oder Kupfer oder eine Mehrzahl dieser Examples of examples, tin, nickel, gold, tungsten, silver or copper or a plurality of these
Materialien enthalten oder daraus bestehen. Contain or consist of materials.
Für den Formkörper 15 eignen sich beispielsweise ein oder mehrere Polymere oder ein oder mehrere Keramikmaterialien. Die Polymermaterialien können Epoxide, Silikone, Acrylate, Polyethane, Polyterephthalate oder Polysilazane sein. Es ist auch möglich, dass die Polymermaterialien mit anorganischen Partikeln, etwa mit Streupartikeln, gefüllt sind. For example, one or more polymers or one or more ceramic materials are suitable for the shaped body 15. The polymeric materials may be epoxies, silicones, acrylates, polyethanes, polyterephthalates or polysilazanes. It is also possible that the polymer materials are filled with inorganic particles, such as scattering particles.
Beispielweise sind die Polymere mit Partikeln aus zumindest einem der Materialien Glas, Ti02, Si02, ZnO, Zr02, BN, Si3N4, A1203 und A1N gefüllt. Die Keramikpulver können in Form von Mikro- oder Nanopartikeln vorliegen, die beispielsweise lose oder in Pasten oder Tinten gebunden sind. Beispielsweise weisen die Keramikpulver zumindest eines der Materialien ZnO, Zr02, BN, Si3N4, A1203 und A1N auf. Zur Herstellung der For example, the polymers are filled with particles of at least one of glass, TiO 2, SiO 2, ZnO, ZrO 2, BN, Si 3 N 4, Al 2 O 3 and AlN. The ceramic powders may be in the form of microparticles or nanoparticles, for example, loosely bound or bound in pastes or inks. For example, the ceramic powders have at least one of the materials ZnO, ZrO 2, BN, Si 3 N 4, Al 2 O 3 and AlN. For the production of
Isolationsschicht sind außerdem verschiedene Siliziumdioxid- Bildner oder Silsesquioxane insbesondere geeignet. Der Insulation layer are also different silica or Silsesquioxane particularly suitable. Of the
Prozess zur Aushärtung der gedruckten Schichten kann durch Sintern des im Ofen oder durch lokales Sintern mittels Laser oder durch UV-Bestrahlung erfolgen. Process for curing the printed layers can be done by sintering in the oven or by local sintering by laser or by UV irradiation.
Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 10 2015 114 579.0, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird. Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt. Vielmehr umfasst die This patent application claims the priority of German Patent Application 10 2015 114 579.0, the disclosure of which is hereby incorporated by reference. The invention is not limited by the description with reference to the embodiments. Rather, the includes
Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Invention every new feature as well as every combination of
Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Features, which includes in particular any combination of features in the claims, even if this feature or this combination itself is not explicitly in the
Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist. Claims or embodiments is given.
Bezugs zeichenliste Reference sign list
1 Halbleiterchip 1 semiconductor chip
3 Träger  3 carriers
5 erste Trägerfläche  5 first support surface
7 zweite Trägerfläche 7 second support surface
9 Seitenfläche 9 side surface
11 erster Leiterkörper 11 first conductor body
13 zweiter Leiterkörper13 second conductor body
15 Formkörper 15 moldings
17 erste Körperhauptfläche 17 first main body surface
19 zweite Körperhauptfläche19 second main body surface
21 Seitenfläche 21 side surface
23 Halbleiterkörper  23 semiconductor body
25 Randbereich  25 border area
27 Zwischenbereich  27 intermediate area
29 Halte orrichtung  29 Holding device
31 Hinterschnitt  31 undercut
33 Verbindungsbereich  33 connection area
35 Halbleiterschicht  35 semiconductor layer
37 Halbleiterschicht  37 semiconductor layer
39 aktiver Bereich  39 active area
41 Spiegelschicht  41 mirror layer
43 Ausnehmung  43 recess
45 Leitermaterial  45 conductor material
47 Isolationsschicht  47 insulation layer
49 Keimschicht  49 germ layer
51 Keimschicht  51 germ layer
53 Endfläche  53 end surface
F Kraft  F force

Claims

Patentansprüche claims
1. Optoelektronischer Halbleiterchip (1) mit einem 1. Optoelectronic semiconductor chip (1) with a
Halbleiterkörper (23) , der einen aktiven Bereich (39) aufweist, und einem Träger (3) mit einer ersten  A semiconductor body (23) having an active region (39) and a carrier (3) having a first one
Trägerfläche (5) , auf der der Halbleiterkörper  Support surface (5) on which the semiconductor body
angeordnet ist, und einer zweiten Trägerfläche (7) auf der vom Halbleiterkörper abgewandten Seite, wobei der Träger einen Verbundkörper (11, 13, 15) aufweist, der zumindest einen elektrisch leifähigen Leiterkörper (11, 13) und zumindest einen elektrisch isolierenden  is arranged, and a second carrier surface (7) on the side facing away from the semiconductor body side, wherein the carrier has a composite body (11, 13, 15), the at least one electrically conductive conductor body (11, 13) and at least one electrically insulating
Formkörper (15) aufweist, wobei sich der Leiterkörper von der ersten Trägerfläche bis zur zweiten Trägerfläche erstreckt und elektrisch leitend mit dem aktiven Bereich verbunden ist, und wobei der Verbundkörper zugstabil ausgebildet ist.  Shaped body (15), wherein the conductor body extends from the first support surface to the second support surface and is electrically conductively connected to the active region, and wherein the composite body is formed zugstabil.
2. Halbleiterchip nach Anspruch 1, 2. Semiconductor chip according to claim 1,
bei dem der Formkörper (15) an den Leiterkörper (11, 13) angeformt ist.  in which the shaped body (15) is integrally formed on the conductor body (11, 13).
3. Halbleiterchip nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, 3. Semiconductor chip according to at least one of the preceding claims,
bei dem der Leiterkörper (11, 13) zur Erhöhung der  wherein the conductor body (11, 13) for increasing the
Kontaktfläche zwischen dem Leiterkörper und dem  Contact surface between the conductor body and the
Formkörper (15) ausgebildet ist.  Shaped body (15) is formed.
4. Halbleiterchip nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, 4. Semiconductor chip according to at least one of the preceding claims,
bei dem eines, eine beliebig ausgewählte Mehrzahl oder alle der folgenden Elemente eine Dicke aufweisen, die kleiner oder gleich 300 μιη ist: Träger (3), Verbundkörper (11, 13, 15), Leiterkörper (11, 13), Formkörper (15) . in which one, any selected plurality or all of the following elements have a thickness which is less than or equal to 300 μιη: carrier (3), Composite body (11, 13, 15), conductor body (11, 13), molded body (15).
Halbleiterchip nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, Semiconductor chip according to at least one of the preceding claims,
bei dem der Leiterkörper (11, 13) eine erste in which the conductor body (11, 13) has a first one
Körperhauptfläche (17), die dem Halbleiterkörper (23) zugewandt ist, und eine zweite Körperhauptfläche (19) aufweist, die von der ersten Körperhauptfläche abgewandt ist, wobei die erste und die zweite Körperhauptfläche über mindestens eine Seitenfläche (21) des Leiterkörpers miteinander verbunden sind. A body main surface (17) facing the semiconductor body (23) and a second body main surface (19) facing away from the first body main surface, the first and second body main surfaces being connected to each other via at least one side surface (21) of the conductor body ,
Halbleiterchip nach Anspruch 5 Semiconductor chip according to Claim 5
bei dem der Flächeninhalt der ersten Körperhauptfläche (17) größer ist als der Flächeninhalt der zweiten wherein the area of the first body main surface (17) is greater than the area of the second
Körperhauptfläche (19) oder umgekehrt. Body main surface (19) or vice versa.
Halbleiterchip nach Anspruch 5 oder 6 Semiconductor chip according to Claim 5 or 6
bei dem sich der Leiterkörper (11, 13) im Querschnitt gesehen ausgehend von der ersten Körperhauptfläche (17) in Richtung der zweiten Körperhauptfläche (19) verjüngt oder vergrößert. in which the conductor body (11, 13) seen in cross-section, starting from the first body main surface (17) in the direction of the second body main surface (19) tapers or increases.
Halbleiterchip nach einem der Ansprüche 5 bis 7, bei dem eine Haupterstreckungsrichtung der Seitenfläche (21) schräg relativ zur ersten Trägerfläche, zur ersten Körperhauptfläche, zur zweiten Trägerfläche und/oder zur zweiten Körperhauptfläche ausgerichtet ist. A semiconductor chip according to any one of claims 5 to 7, wherein a main extension direction of the side surface (21) is oriented obliquely relative to the first support surface, the first body main surface, the second support surface and / or the second body main surface.
Halbleiterchip nach einem der Ansprüche 5 bis 8, bei dem die Seitenfläche (21) einen oder mehrere Semiconductor chip according to one of claims 5 to 8, wherein the side surface (21) one or more
Hinterschnitte (31) aufweist. Having undercuts (31).
10. Halbleiterchip nach einem der Ansprüche 5 bis 8, bei dem die Seitenfläche (21) hinterschneidungsfrei ausgebildet ist. 10. Semiconductor chip according to one of claims 5 to 8, wherein the side surface (21) is formed without undercuts.
11. Halbleiterchip nach einem der Ansprüche 5 bis 10, 11. Semiconductor chip according to one of claims 5 to 10,
bei dem die Seitenfläche (21) mit einer  in which the side surface (21) with a
Oberflächenstruktur versehen ist.  Surface structure is provided.
Halbleiterchip nach Anspruch 11, Semiconductor chip according to Claim 11,
bei dem die Oberflächenstruktur entlang der Seitenfläche in which the surface structure along the side surface
(21) gesehen auf dem Weg von der ersten (21) seen on the way from the first
Körperhauptfläche (17) zur zweiten Körperhauptfläche Body main surface (17) to the second main body surface
(19) gleichförmig ist. (19) is uniform.
Halbleiterchip nach Anspruch 11, Semiconductor chip according to Claim 11,
bei dem sich die Oberflächenstruktur entlang der  in which the surface structure along the
Seitenfläche (21) gesehen auf dem Weg von der ersten Körperhauptfläche (17) zur zweiten Körperhauptfläche (19) ändert.  Side surface (21) seen on the way from the first body main surface (17) to the second body main surface (19) changes.
14. Halbleiterchip nach mindestens einem der Ansprüche 5 bis 13, 14. Semiconductor chip according to at least one of claims 5 to 13,
bei dem für eine Oberfläche A der Seitenfläche (21) des Leiterkörpers (11, 13) gilt:  in which for a surface A of the side surface (21) of the conductor body (11, 13):
A/ (B*d) > 1,20, und/oder  A / (B * d)> 1.20, and / or
A/ (C*d) > 1,20, wobei  A / (C * d)> 1.20, where
B die maximale Längsabmessung der ersten  B is the maximum longitudinal dimension of the first
Körperhauptfläche (17) oder der zweiten  Body main surface (17) or the second
Körperhauptfläche (19) des Leiterkörpers bezeichnet, Denotes the main body surface (19) of the conductor body,
C den halben Umfang der ersten oder zweiten C half the circumference of the first or second
Körperhauptfläche des Leiterkörpers bezeichnet, und d die Dicke des Leiterkörpers bezeichnet. Halbleiterchip nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, Denotes the main body surface of the conductor body, and d denotes the thickness of the conductor body. Semiconductor chip according to at least one of the preceding claims,
bei dem ein Teilbereich des Formkörpers (15) ein in which a portion of the shaped body (15) a
Verbindungsbereich (33) ist, der, in Aufsicht auf die erste Trägerfläche (5) gesehen, von einer Seite des Leiterkörpers (11, 13) über einen von dem Leiterkörper in der Aufsicht überdeckten Bereich bis zu einer anderen Seite des Leiterkörpers verläuft. Connecting portion (33) which, seen in plan view of the first support surface (5), extends from one side of the conductor body (11, 13) over a region covered by the conductor body in the plan view to another side of the conductor body.
Halbleiterchip nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, Semiconductor chip according to at least one of the preceding claims,
bei dem der Leiterkörper (11, 13) eine Mehrzahl von innerhalb des Trägers elektrisch voneinander getrennten Teilbereichen aufweist, in which the conductor body (11, 13) has a plurality of partial regions which are electrically separated from one another within the carrier,
die Teilbereiche des Leiterkörpers jeweils mit dem aktiven Bereich elektrisch leitfähig verbunden sind, und zwischen zwei benachbarten Teilbereichen des the subregions of the conductor body are respectively electrically conductively connected to the active region, and between two adjacent subregions of the
Leiterköpers jeweils ein Bereich des Formkörpers (15) angeordnet ist. Ladder each one region of the shaped body (15) is arranged.
Halbleiterchip nach mindestens einem der vorhergehenden Ansprüche, Semiconductor chip according to at least one of the preceding claims,
bei dem der Leiterkörper ein erster Leiterkörper (11) ist und der Verbundkörper einen zweiten Leiterkörper (13) aufweist, der mit dem Halbleiterkörper (23) auf einer anderen Seite des aktiven Bereichs elektrisch leitend verbunden ist als der erste Leiterkörper. in which the conductor body is a first conductor body (11) and the composite body has a second conductor body (13), which is electrically conductively connected to the semiconductor body (23) on another side of the active region than the first conductor body.
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