WO2017001576A1 - Verfahren zum abtasten eines mit einem plasmaprozess in beziehung stehenden signalgemischs - Google Patents

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plasma
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André Grede
Nikolai SCHWERG
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    • H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
    • H04B1/06—Receivers
    • H04B1/10—Means associated with receiver for limiting or suppressing noise or interference
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/0006—Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature

Definitions

  • the invention relates to a method for scanning one with a
  • Signal mixture at least one of at least one interference signal
  • the invention relates to a device for carrying out the method according to the invention.
  • Industrial plasma processes come with one or more
  • Power signals excited may be excited by one or more high frequency power signals.
  • Such high-frequency power signals have a so-called Fundamental frequency, for example 13.56 MHz.
  • Plasma process it is also conceivable that the fundamental frequency of the high-frequency power signal is varied in a frequency range.
  • signals having a different frequency than the fundamental frequency may occur.
  • Harmonic (harmonics) of the fundamental frequency occur. If the plasma process is excited by several power signals (excitation signals), mixed products of the frequencies of the fundamental frequency
  • Excitation signals occur. All of these signals are collectively referred to as a composite signal. When a signal related to the plasma process is sampled, it usually becomes one
  • Plasma processes are regulated by digital signal processing. Signals at the fundamental frequency but also signals at the harmonics or even at mixing frequencies are used to observe the plasma process. For example, it can be detected by observing such signals whether an ace has occurred in the plasma process. These are signals that are related to the plasma process and are of interest because they can be used for further analysis.
  • sampling frequency is> 2 times the highest occurring signal frequency. If higher harmonics (harmonics) are to be observed, the sampling frequency must be selected to be high, which makes the required A / D converter expensive and the
  • multiple A / D converters can be placed behind multiple analog bandpass filters. Since only one frequency occurs here, a slight undersampling is possible in which the condition sampling frequency> 2 times the signal frequency (frequency of the signal of interest) is no longer satisfied. Rather, an image frequency of the signal of interest appears in the digital baseband.
  • Object of the present invention is to provide a method and a
  • This object is achieved according to the invention by a method for scanning a plasma process related
  • Signal mixture wherein the signal mixture comprises at least one of the at least one interfering signal superimposed interesting plasma signal, comprising the method steps: a. Identification of the at least one interference signal; b. Digitizing the composite signal by sampling the mixed signal at a sampling frequency; c. Variation of the sampling frequency during operation of the
  • Plasma process as a function of the frequency of at least one plasma signal of interest and / or the frequency of the at least one interference signal.
  • a plasma signal of interest related to a plasma process is a signal that occurs in the plasma process and that is to be determined, for example, to analyze or control the plasma process. For example, it may be in the interested
  • Plasma signal to act by a high-frequency power signal, with which the plasma process is excited at a fundamental frequency may also be, for example, a harmonic of the
  • Radio frequency power signal act. Also signals with a
  • Mixing frequency may be plasma signals of interest, for example, signals that arise when a plasma process is excited with different power signals.
  • interesting for example, signals that arise when a plasma process is excited with different power signals.
  • Plasma signal is used to demarcate signals, although with the Plasma process are related, but not interesting for a user, used.
  • the signal mixture may comprise one or more plasma signals of interest, each of which may be superimposed by one or more interfering signals.
  • the signal mixture can thus be a mixture of a plurality of plasma signals of interest and a plurality of interference signals.
  • subsampling refers to the digitization (sampling) of a useful signal at a sampling frequency that is less than twice the (highest) frequency of the useful signal.
  • signals from higher Nyquist zones appear as mirror images in baseband (the first Nyquist zone).
  • the first Nyquist zone is the frequency range up to half the sampling rate.
  • the second Nyquist zone is called the
  • the third Nyquist zone refers to the frequency range of up to one-and-a-half times the total sample rate, and so on.
  • an interference signal is understood to mean a signal which superimposes a plasma signal of interest.
  • Noise signal may result in superposition of the plasma signal of interest with the interfering signal in the frequency. If there is such a superposition in the frequency, one can of a disturbed
  • the spurious signals may be external spurious signals of unknown frequency. It can, however, too
  • Plasma process is stimulated.
  • a harmonic may be both a plasma signal of interest, namely the
  • Harmonics for certain events in the plasma process is to be analyzed, on the other hand, a harmonic may also be an interference signal, For example, for a signal at the fundamental frequency, with the
  • Plasma process is stimulated.
  • Both the at least one plasma signal of interest and the interfering signal may vary in a frequency range.
  • High frequency power signal can be varied, with which the plasma process is excited.
  • the identification of the interference signal may be by calculation or
  • sampling rate By varying the sampling rate, it is possible to determine individual signals and then select a sampling rate at which only the desired signals, i. the plasma signals of interest are detected.
  • Sampling frequency Simply mirrored at the sampling frequency frequencies (third Nyquist zone) change in absolute terms inversely the same as the change in the sampling frequency. Frequencies in the fourth Nyquist zone change in absolute terms twice as fast as the sampling rate. By changing the sampling rate, it is thus possible to select a sampling frequency at which the plasma signals of interest occur without interference.
  • Several plasma signals of interest may be determined or detected at the same sampling frequency. In particular, signals at the fundamental frequency and signals at harmonics of the
  • At least one interfering signal may be higher in one than the first
  • Nyquist zone can be determined or recorded. This can be a
  • the frequency of the at least one plasma signal of interest and the frequency of the at least one interference signal can be determined in their digital representation.
  • the digital representation only frequencies of signals in the first Nyquist zone are retained, while frequencies from the higher Nyquist zones, i. H. with frequencies greater than fs / 2, Nyquist reflections (alias) of the actual frequencies are.
  • the sampling rate (sampling frequency) can be determined by calculation.
  • the interfering signal are identified. This in turn allows a targeted variation of the sampling frequency in order to be able to determine the plasma signal of interest free of interference signals.
  • the frequencies of the at least one plasma signal of interest and the at least one interfering signal may be identified in their digital representation by at least one sweep of the sampling frequency at the beginning of the operation of the plasma process.
  • the English The technical term for a sweep of the sampling frequency would be "frequency sweep" of the sampling frequency
  • Frequencies of interference signals are determined.
  • the frequencies of the at least one plasma signal of interest and the at least one interference signal can be identified in their digital representation by repeated passage of the sampling frequency during the operation of the plasma process. This allows spurious signals to be considered in determining the sampling frequency that occur at different stages of the plasma process operation.
  • the frequencies of the at least one plasma signal and the at least one interference signal can be identified in their digital representation by modulation of the sampling frequency. If the sampling frequency is modulated with a certain frequency sweep, the size and sign (direction) of the resulting frequency sweep on the digitized signal can be used to identify which Nyquist zones it originates from and what actual frequency it has before sampling, even though this is higher than fs / 2. This makes it possible to properly identify the different fundamental waves, harmonics and mixing products.
  • the modulation of the sampling frequency can take place constantly or only occasionally, in particular at the beginning of the plasma process, for identifying the interference signals.
  • the possible frequency modulation of the frequencies of the plasma signals of interest is in the following
  • the sampling frequency can be shifted so that the plasma signals of interest can be digitized in the spectrum without mutual overlap. This optimal sampling frequency can be achieved either by detecting all of them
  • the frequencies of the at least one plasma signal and of the at least one interference signal can in their digital representation by frequency or amplitude modulation of the plasma process stimulating
  • the frequency of the high frequency power signal with a certain frequency deviation can be reconstructed by determining the frequency deviation of the observed signals in their digital representation of their original frequency, since size and / or sign
  • the sampling rate can absolutely be carried along with an interference signal.
  • the distance of at least one of interest can absolutely be carried along with an interference signal.
  • Plasma signal from the interfering signal remains the same size.
  • the sampling frequency may be tracked in the same proportion as a frequency of a high-frequency power signal exciting the plasma process.
  • Plasma signal and the sampling frequency can be in a certain constant ratio to each other.
  • the sampling frequency can be in a certain constant ratio to each other.
  • the composite signal can be filtered before digitizing. It can be lowpass filtered, bandpass filtered or highpass filtered. By filtering, the signal mixture with a lower
  • the sampling frequency can be changed by means of a VCO (voltage controlled oscillator) or DDS (Direct Digital Synthesis module). As a result, the sampling frequency can be changed particularly quickly and reliably.
  • VCO voltage controlled oscillator
  • DDS Direct Digital Synthesis module
  • the plasma signal of interest and / or the interference signal can be determined by means of digital signal processing.
  • the digital evaluation can be limited to one frequency by filtering, in particular by bandpass filtering or by mixing or demodulation. This is preferably the frequency of
  • the digital evaluation can also analyze several frequencies or frequency bands. This can be done for example by a plurality of bandpass filters or multiple mixers or demodulators, by passing a bandpass filter curve over a frequency range or by Fourier transformation.
  • Sampling frequency wherein the digital signal processing is connected to the sampling frequency generator.
  • the sampling frequency generator can thus be used to generate a suitable sampling frequency with which the plasma signals of interest can be sampled.
  • the Sampling signal or the sampling frequency may vary depending on the
  • Analysis of a noise signal can be generated by means of digital signal processing.
  • the sampling frequency generator may have an input for specifying a
  • the sampling frequency generator may have an input for specifying a
  • an interference signal can first be determined by means of the digital signal processing, and as soon as the interference signal has been determined, information concerning the interference signal can be supplied to the scanning signal generator so that the latter can generate a suitable scanning signal.
  • Fig. 1 shows a diagram in which the sampling frequency in
  • Fig. 2a shows a detail of Figure 1
  • Fig. 2b shows the relative position of interfering signals
  • Fig. 3 shows the detection of spurious signals based on a sweep of the sampling frequency
  • FIG. 4 is a diagram for explaining the variation of FIG.
  • Fig. 5 shows a highly schematic of a device for scanning a
  • FIG. 1 shows a spectrum for the frequency range 0 to 50 MHz for different sampling rates fs in the range between 0 and 100 MHz.
  • Nominal value can be varied, at the frequency of 13.56MHz not only a line to see, but a band.
  • signals related to the plasma process are signals at harmonics of the high frequency power signal with the Fundamental frequency of 13.56 MHz, namely harmonic signals.
  • the first harmonic is around 27 MHz. This is with the
  • Reference numeral 2 denotes.
  • the second harmonic is slightly above 40 MHz and is numbered 3.
  • the signals numbered 1, 2, 3 are, for example, plasma signals of interest. If a sampling frequency between about 85 and 90 MHz is selected, these signals can be uniquely identified. This is because the Nyquist criterion is satisfied for these signals, namely that the sampling rate is more than twice the highest frequency to be sampled.
  • the Nyquist criterion corresponds to the line with the reference numeral 4.
  • the signal 3 ⁇ is the alias of the signal 3 from the second Nyquist zone.
  • Harmonic of the fundamental frequency is 81.36 MHz; the illustrated signal with the reference numeral 8 is its alias from the third Nyquist zone.
  • the region 10 contains the plasma signal 1 of interest at the excitation frequency or fundamental frequency of 13.56 MHz. It also contains a signal 11, which is the alias of the first harmonic 2 at the frequency of about 27 MHz, and the signal 3 ⁇ that is the alias of the signal 3 at the Frequency is a little over 40 MHz.
  • the signals 3 ⁇ 11 occur because the sampling frequency was chosen to be less than twice the frequency of the signals 2, 3 and thus a reflection takes place at half the sampling frequency.
  • the signal 1 at the frequency of 13.56 MHz is superimposed by an interfering signal 7, which is the alias of the fifth harmonic of 81.36 MHz from its 4th Nyquist zone.
  • the signals 3 ⁇ 11 also represent interference signals for the signal 1.
  • the signal 1 and also the signals of the harmonics have a certain width, since the control of the plasma process can provide the frequency of the signal
  • High frequency power signal which is used to excite the plasma process to vary within certain limits.
  • an interference signal can be determined on the basis of a spectrum obtained in the digital representation which is obtained at a specific sampling frequency as shown in FIG. 2a.
  • the signal 1 is free of interference.
  • the interference components 7a, 7b are located next to the
  • the plasma signal of interest 1 at the sampling frequency f S 3 is superimposed by the interference signal 7c.
  • Plasma signal 1 can be avoided.
  • the sampling frequency in the section 10 shown can be varied from 40 MHz to 55 MHz.
  • the interference signals 20 are then detected by amplitude changes on the observed frequency. This is going through the
  • Sampling frequency can be done at the beginning of the plasma process. Alternatively or additionally, the passage through the sampling frequency can be repeated.
  • FIGS. 2, 3a, 3b explain the identification of interference signals.
  • the signal 1 is the interest
  • the signal 1 can be scanned in an area where it is not from
  • Interfering signals is superimposed.
  • the sampling rate in accordance with the lines 25, 26 it is necessary that the interference signals or the frequencies of the interference signals are known. Therefore, be
  • FIG. 5 shows a device 50 for carrying out the method according to the invention.
  • a signal mixture to be scanned is supplied to an A / D converter 51.
  • This A / D converter 51 is given a sampling frequency by a sampling frequency generator 52, which may have a VCO or DDS.
  • the sampling frequency generator 52 is in turn connected to a digital signal processor 53, which can identify spurious signals.
  • the sampling signal generator 52 can determine a corresponding sampling signal or a sampling frequency. Furthermore, the
  • Sampling frequency generator 52 has an input 54 for specifying a frequency of a plasma signal of interest and an input 55 for specifying a frequency of an interference signal.
  • an analog filter 56 may be provided for filtering a plasma signal of interest.
  • the signal is filtered in this case before it is fed to the A / D converter 51.

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Abstract

Ein Verfahren zum Abtasten eines mit einem Plasmaprozess in Beziehung stehenden Signalgemischs, wobei das Signalgemisch mindestens ein von mindestens einem Störsignal (7, 7c, 20, 22, 23, 24) überlagertes interessierendes Plasmasignal (1 - 3) aufweist, umfasst die Verfahrensschritte: a. Identifizierung des zumindest einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24); b. Digitalisieren des Signalgemischs, indem das Signalgemisch mit einer Abtastfrequenz (fS) abgetastet wird; c. Variation der Abtastfrequenz (fS) während des Betriebs des Plasmaprozesses in Abhängigkeit der Frequenz des interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und/oder der Frequenz des zumindest einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24).

Description

Verfahren zum Abtasten eines mit einem Plasmapro
Beziehung stehenden Signalgemischs
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abtasten eines mit einem
Plasmaprozess in Beziehung stehenden Signalgemischs, wobei das
Signalgemisch mindestens ein von mindestens einem Störsignal
überlagertes interessierendes Plasmasignal aufweist.
Weiterhin betrifft die Erfindung eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Solche Vorrichtungen und Verfahren sind beispielsweise aus den folgenden Schriften bekannt: US2012/0099684A1, US8,064,560B2, US5,565,737A.
Industrielle Plasmaprozesse werden mit einem oder mehreren
Leistungssignalen angeregt. Insbesondere können Plasmaprozesse durch ein oder mehrere Hochfrequenzleistungssignale angeregt werden.
Derartige Hochfrequenzleistungssignale weisen eine so genannte Grundfrequenz, beispielsweise 13,56 MHz, auf. Zur Steuerung des
Plasmaprozesses ist es jedoch auch denkbar, dass die Grundfrequenz des Hochfrequenzleistungssignals in einem Frequenzbereich variiert wird.
Bei der Generierung des Hochfrequenzleistungssignals, aber auch wenn das zum Plasmaprozess geleitete Hochfrequenzleistungssignal reflektiert wird, kann es zu Signalen kommen, die eine andere Frequenz aufweisen als die Grundfrequenz. Beispielsweise können Signale bei den
Harmonischen (Oberwellen) der Grundfrequenz auftreten. Wird der Plasmaprozess durch mehrere Leistungssignale (Anregungssignale) angeregt, können auch Mischprodukte der Frequenzen der
Anregungssignale auftreten. All diese Signale werden zusammen als Signalgemisch bezeichnet. Wird ein Signal, das mit dem Plasmaprozess in Beziehung steht, abgetastet, so wird in der Regel ein solches
Signalgemisch abgetastet.
Plasmaprozesse werden mithilfe digitaler Signalverarbeitung geregelt. Signale bei der Grundfrequenz aber auch Signale bei den Oberwellen oder auch bei Mischfrequenzen werden zur Beobachtung des Plasmaprozesses herangezogen. Beispielweise kann durch Beobachtung derartiger Signale erkannt werden, ob im Plasmaprozess ein Are aufgetreten ist. Es handelt sich dabei um Signale, die mit dem Plasmaprozess in Beziehung stehen und die interessieren, da sie zur weiteren Analyse herangezogen werden können.
Die Anwendung von Analog-/Digitalwandlern (A/D-Wandler) mit im allgemeinen fester Abtastrate für die digitale Beobachtung und Regelung von industriellen Plasmaprozessen ist durch die Oberwellen der
Grundfrequenz aber auch durch weitere Plasmaanregungsfrequenzen erschwert. Deshalb wird häufig eine analoge Filterung eingesetzt. Sollen jedoch auch die Oberwellen oder Signale bei anderen Frequenzen beobachtet werden, so wird die erforderliche Abtastrate (Abtastfrequenz) unverhältnismäßig hoch. Zudem sind Aliasfrequenzen eine nicht
vernachlässigbare Störquelle.
Die klassisch erforderliche Abtastfrequenz ist > 2 mal die höchste vorkommende Signalfrequenz. Sollen höhere Harmonische (Oberwellen) beobachtet werden, muss die Abtastrequenz entsprechend hoch gewählt werden, was den erforderlichen A/D-Wandler teuer und die
Signalverarbeitung aufwändig macht.
Alternativ können mehrere A/D-Wandler hinter mehreren analogen Bandpassfiltern angeordnet werden. Da hier nur noch eine Frequenz vorkommt, ist auch eine leichte Unterabtastung möglich, bei der die Bedingung Abtastfrequenz > 2 mal Signalfrequenz (Frequenz des interessierenden Signals) nicht mehr erfüllt ist. Vielmehr erscheint im digitalen Basisband eine Spiegelfrequenz des interessierenden Signals.
Soll eine Unterabtastung z.B. aus Kosten- oder Komplexitätsgründen für mehrere Signale bei unterschiedlichen Frequenzen (Grundfrequenz, Oberwellen, Mischprodukte von Frequenzen) stattfinden, so ist sicher zu stellen, dass sich keine Spiegelfrequenzen bzw. deren gespiegelte
Doppelgänger überlappen. Dazu müssen von vorneherein alle in Frage kommenden Frequenzen bekannt sein.
Häufig ist dies jedoch nicht der Fall, beispielsweise bei Anwendungen, bei denen ein Plasmaprozess mit einem Hochfrequenzleistungssignal von 13,56 MHz angeregt wird und gleichzeitig eine Fremdanregung bei ca. 40 MHz mit einer unbekannten genauen Frequenz erfolgt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren und eine
Vorrichtung bereitzustellen, mit denen interessierende Plasmasignale eines Plasmaprozesses ohne den Einfluss von Störsignalen abgetastet werden können.
Gelöst wird diese Aufgabe erfindungsgemäß durch ein Verfahren zum Abtasten eines mit einem Plasmaprozess in Beziehung stehenden
Signalgemischs, wobei das Signalgemisch mindestens ein von mindestens einem Störsignal überlagertes interessierendes Plasmasignal aufweist, mit den Verfahrensschritten : a. Identifizierung des zumindest einen Störsignals; b. Digitalisieren des Signalgemischs, indem das Signalgemisch mit einer Abtastfrequenz abgetastet wird; c. Variation der Abtastfrequenz während des Betriebs des
Plasmaprozesses in Abhängigkeit der Frequenz zumindest eines interessierenden Plasmasignals und/oder der Frequenz des zumindest einen Störsignals.
Ein mit einem Plasmaprozess in Beziehung stehendes interessierendes Plasmasignal ist ein Signal, das beim Plasmaprozess auftritt, und das beispielsweise zur Analyse oder Steuerung des Plasmaprozesses bestimmt werden soll. Beispielsweise kann es sich bei dem interessierenden
Plasmasignal um ein Hochfrequenzleistungssignal handeln, mit dem der Plasmaprozess bei einer Grundfrequenz angeregt wird. Es kann sich jedoch auch beispielsweise um eine Harmonische des
Hochfrequenzleistungssignals handeln. Auch Signale mit einer
Mischfrequenz können interessierende Plasmasignale sein, beispielsweise Signale, die entstehen, wenn ein Plasmaprozess mit unterschiedlichen Leistungssignalen angeregt wird. Der Begriff„interessierendes
Plasmasignal" wird zur Abgrenzung von Signalen, die zwar mit dem Plasmaprozess in Beziehung stehen, aber für einen Benutzer nicht interessant sind, verwendet. Das Signalgemisch kann ein oder mehrere interessierende Plasmasignale umfassen, die jeweils von einem oder mehreren Störsignalen überlagert sein können. Das Signalgemisch kann also ein Gemisch aus mehreren interessierenden Plasmasignalen und mehreren Störsignalen sein.
In der Signalverarbeitung wird mit Unterabtastung die Digitalisierung (Abtastung) eines Nutzsignals mit einer Abtastfrequenz bezeichnet, die kleiner ist als die doppelte (höchste) Frequenz des Nutzsignals. In der digitalen Darstellung erscheinen solche Signale aus höheren Nyquist- Zonen als Spiegelbilder im Basisband (der ersten Nyquist-Zone). Mit der ersten Nyquist-Zone bezeichnet man den Frequenzbereich bis zur halben Abtastrate. Mit der zweiten Nyquist-Zone bezeichnet man den
Frequenzbereich von der halben bis zu ganzen Abtatsrate. Mit der dritten Nyquist-Zone bezeichnet man den Frequenzbereich von der ganzen bis zu eineinhalbfachen Abtatsrate, und so weiter.
Unter einem Störsignal wird im Sinne der Erfindung ein Signal verstanden, welches ein interessierendes Plasmasignal überlagert. Durch
Unterabtastung des interessierenden Plasmasignals und/oder des
Störsignals kann es zu Überlagerung des interessierenden Plasmasignals mit dem Störsignal in der Frequenz kommen. Kommt es zu einer solchen Überlagerung in der Frequenz, so kann man von einem gestörten
interessierenden Plasmasignal reden. Die Störsignale können externe Störsignale unbekannter Frequenz sein. Es können jedoch auch
Harmonische eines Hochfrequenzleistungssignals sein, mit dem der
Plasmaprozess angeregt wird. Insbesondere kann eine Harmonische sowohl ein interessierendes Plasmasignal sein, wenn nämlich die
Harmonische für bestimmte Vorkommnisse im Plasmaprozess analysiert werden soll, andererseits kann eine Harmonische auch ein Störsignal sein, beispielsweise für ein Signal bei der Grundfrequenz, mit der der
Plasmaprozess angeregt wird.
Sowohl das mindestens eine interessierende Plasmasignal als auch das Störsignal können in einem Frequenzbereich variieren. Beispielsweise kann zur Prozesssteuerung die Frequenz eines
Hochfrequenzleistungssignals variiert werden, mit dem der Plasmaprozess angeregt wird.
Die Identifizierung des Störsignals kann durch Berechnung oder
experimentell erfolgen. Möglichkeiten zur Bestimmung oder Identifizierung des Störsignals werden weiter unten erläutert.
Durch die Variation der Abtastrate ist es möglich, einzelne Signale zu bestimmen und daraufhin eine Abtastrate zu wählen, bei der nur noch die gewünschten Signale, d.h. die interessierenden Plasmasignale, erfasst werden.
Variiert man die Abtastrate, so verändern sich ungespiegelte Frequenzen unterhalb der Nyquist-Rate nicht, d.h. in der ersten Nyquist-Zone bzw. unterhalb der halben Abtastfrequenz (fs). Weiterhin verändern sich einfach an fs/2 gespiegelte Frequenzen im ersten Spiegelbereich (zweite Nyquist-Zone) absolut gesehen gleich wie die Änderung der
Abtastfrequenz. Einfach an der Abtastfrequenz gespiegelte Frequenzen (dritte Nyquist-Zone) verändern sich absolut gesehen umgekehrt gleich wie die Änderung der Abtastfrequenz. Frequenzen in der vierten Nyquist- Zone ändern sich absolut gesehen doppelt so schnell wie die Abtastrate. Durch Verändern der Abtastrate kann somit eine Abtastfrequenz gewählt werden, bei der die interessierenden Plasmasignale ohne Überlagerung auftreten. Mehrere interessierende Plasmasignale können bei derselben Abtastfrequenz bestimmt oder erfasst werden. Insbesondere können Signale bei der Grundfrequenz und Signale bei Oberwellen der
Grundfrequenz mit der gleichen Abtastrate abgetastet bzw. erfasst werden. Dadurch vereinfacht sich die Architektur der Signalverarbeitung im Vergleich zum Stand der Technik erheblich.
Das mindestens eine interessierende Plasmasignal und/oder das
mindestens eine Störsignal können in einer höheren als der ersten
Nyquist-Zone bestimmt oder erfasst werden. Dadurch kann eine
niedrigere Abtastrate gewählt werden.
Die Frequenz des mindestens einen interessierenden Plasmasignals und die Frequenz des mindestens einen Störsignals können in ihrer digitalen Darstellung ermittelt werden. In der digitalen Darstellung bleiben nur Frequenzen von Signalen in der ersten Nyquist-Zone erhalten, während Frequenzen aus den höheren Nyquist-Zonen, d. h. mit Frequenzen größer als fs/2, Nyquist-Spiegelungen (Alias) der tatsächlichen Frequenzen sind.
Bei bekannten Frequenzen von Plasmasignal und Störsignal kann die Abtastrate (Abtastfrequenz) durch Berechnung ermittelt werden.
Weiterhin kann insbesondere durch Betrachtung der digitalen Darstellung, d.h. des Spektrums, das Störsignal identifiziert werden. Dies wiederum erlaubt eine gezielte Variation der Abtastfrequenz, um das interessierende Plasmasignal frei von Störsignalen bestimmen zu können.
Die Frequenzen des mindestens einen interessierenden Plasmasignals und des mindestens einen Störsignals können in ihrer digitalen Darstellung durch mindestens einen Durchlauf der Abtastfrequenz zu Beginn des Betriebs des Plasmaprozesses identifiziert werden. Der englische Fachbegriff für einen Durchlauf der Abtastfrequenz wäre„frequency sweep" der Abtastfrequenz. Auch durch diese Maßnahme können
Frequenzen von Störsignalen ermittelt werden.
Die Frequenzen des mindestens einen interessierenden Plasmasignals und des mindestens einen Störsignals können in ihrer digitalen Darstellung durch mehrmaligen Durchlauf der Abtastfrequenz während des Betriebs des Plasmaprozesses identifiziert werden. Dadurch können Störsignale bei der Bestimmung der Abtastfrequenz berücksichtigt werden, die in unterschiedlichen Stadien des Betriebs des Plasmaprozesses auftreten.
Die Frequenzen des mindestens einen Plasmasignals und des mindestens einen Störsignals können in ihrer digitalen Darstellung durch Modulation der Abtastfrequenz identifiziert werden. Wird die Abtastfrequenz mit einem bestimmten Frequenzhub moduliert, so kann anhand der Größe und des Vorzeichens (der Richtung) des resultierenden Frequenzhubes auf dem digitalisierten Signal erkannt werden, aus welchen Nyquist-Zonen es stammt und welche tatsächliche Frequenz es vor der Abtastung hat, auch wenn diese höher ist als fs/2. Dadurch ist es möglich, die verschiedenen Grundwellen, Oberwellen und Mischprodukte einwandfrei zu identifizieren.
Die Modulation der Abtastfrequenz kann ständig oder nur gelegentlich, insbesondere zu Beginn des Plasmaprozesses, zur Identifikation der Störsignale erfolgen. Die mögliche Frequenzmodulation der Frequenzen der interessierenden Plasmasignale ist bei der nachfolgenden
Signalverarbeitung zu berücksichtigen. Sind die Frequenzen der
Störsignale identifiziert, so kann die Abtastfrequenz so verschoben werden, dass die interessierenden Plasmasignale im Spektrum ohne gegenseitige Überlappung digitalisiert werden können. Diese optimale Abtastfrequenz kann entweder mithilfe einer Erkennung aller
vorkommenden Signale und nachfolgender Berechnung bestimmt werden oder durch Experiment, beispielsweise durch einen Durchlauf der
Abtastfrequenz mit gleichzeitiger Modulation.
Die Frequenzen des mindestens einen Plasmasignals und des mindestens einen Störsignals können in ihrer digitalen Darstellung durch Frequenzoder Amplitudenmodulation eines den Plasmaprozess anregenden
Hochfrequenzleistungssignals identifiziert werden. Ändert sich
beispielsweise die Frequenz des Hochfrequenzleistungssignals mit einem bestimmten Frequenzhub, kann durch Bestimmung des Frequenzhubes der beobachteten Signale in ihrer digitalen Darstellung ihre ursprüngliche Frequenz rekonstruiert werden, da sich Größe und/oder Vorzeichen
(Richtung) des Hubes mit jeder Nyquist-Zone ändern. Damit kann eine Abtastrate gewählt werden, mit der das Plasmasignal ungestört
beobachtet werden kann.
Die Abtastrate kann absolut gesehen mit einem Störsignal mitgeführt werden. Der Abstand des mindestens einen interessierenden
Plasmasignals von dem Störsignal bleibt gleich groß.
Die Abtastfrequenz kann im gleichen Verhältnis mit einer Frequenz eines den Plasmaprozess anregenden Hochfrequenzleistungssignals nachgeführt werden. Die Frequenz des mindestens einen interessierenden
Plasmasignals und die Abtastfrequenz können in einem bestimmten konstanten Verhältnis zueinander stehen. Insbesondere kann die
Abtastrate mit einem konstanten Faktor relativ zur Anregungsfrequenz mitgeführt werden. Das macht eine einfachere Architektur für die
Signalverarbeitung möglich.
Besondere Vorteile ergeben sich, wenn die interessierenden Plasmasignale lediglich mit einem einzigen A/D-Wandler digitalisiert werden. Dadurch kann Hardware eingespart werden. Das Signalgemisch kann vor der Digitalisierung gefiltert werden. Dabei kann es tiefpassgefiltert, bandpassgefiltert oder hochpassgefiltert werden. Durch die Filterung kann das Signalgemisch mit einer niedrigeren
Abtastrate abgetastet werden.
Die Abtastfrequenz kann mittels eines VCO (voltage controlied oscillatore, spannungsgesteuerter Oszillator) oder DDS (Direct Digital Synthesis- Baustein) verändert werden. Dadurch lässt sich die Abtastfrequenz besonders schnell und zuverlässig ändern.
Das interessierende Plasmasignal und/oder das Störsignal können mittels einer digitalen Signalverarbeitung ermittelt werden.
Die digitale Auswertung kann sich durch Filterung, insbesondere durch Bandpassfilterung oder durch Mischung oder Demodulation, auf eine Frequenz beschränken. Diese ist vorzugsweise die Frequenz des
mindestens einen interessierenden Plasmasignals. Die digitale Auswertung kann auch mehrere Frequenzen oder Frequenzbänder analysieren. Dies kann beispielsweise durch mehrere Bandpassfilter oder mehrere Mischer oder Demodulatoren, durch Durchlauf einer Bandpassfilterkurve über einen Frequenzbereich oder durch Fouriertransformation erfolgen.
In den Rahmen der Erfindung fällt außerdem eine Vorrichtung zur
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, mit einem A/D- Wandler, an den eine digitale Signalverarbeitung angeschlossen ist, und mit einem Abtastfrequenzerzeuger, der dem A/D-Wandler eine
Abtastfrequenz zuführt, wobei die digitale Signalverarbeitung mit dem Abtastfrequenzerzeuger verbunden ist. Durch den Abtastfrequenzerzeuger kann somit eine geeignete Abtastfrequenz erzeugt werden, mit der die interessierenden Plasmasignale abgetastet werden können. Das Abtastsignal bzw. die Abtastfrequenz kann in Abhängigkeit von der
Analyse eines Störsignals mittels der digitalen Signalverarbeitung erzeugt werden.
Der Abtastfrequenzerzeuger kann einen Eingang zur Vorgabe einer
Frequenz eines interessierenden Plasmasignals aufweisen. Dies erleichtert die Ermittlung einer geeigneten Abtastfrequenz. Somit lassen sich auch die Nyquist-Zonen der Oberwellen bestimmen und eine geeignete
Abtastfrequenz erzeugen.
Der Abtastfrequenzerzeuger kann einen Eingang zur Vorgabe einer
Frequenz eines Störsignals aufweisen. Insbesondere kann zunächst ein Störsignal mithilfe der digitalen Signalverarbeitung ermittelt werden und sobald das Störsignal ermittelt wurde, können Informationen betreffend das Störsignal dem Abtastsignalerzeuger zugeführt werden, so dass dieser ein geeignetes Abtastsignal erzeugen kann.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden detaillierten Beschreibung von Ausführungsbeispielen der Erfindung, anhand der Figuren der Zeichnung, die erfindungswesentliche Einzelheiten zeigt, sowie aus den Ansprüchen. Die dort gezeigten
Merkmale sind nicht notwendig maßstäblich zu verstehen und derart dargestellt, dass die erfindungsgemäßen Besonderheiten deutlich sichtbar gemacht werden können. Die verschiedenen Merkmale können je einzeln für sich oder zu mehreren in beliebigen Kombinationen bei Varianten der Erfindung verwirklicht sein.
In der schematischen Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung in verschiedenen Stadien der Benutzung dargestellt und in der
nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen :
Fig. 1 zeigt ein Diagramm, bei dem die Abtastfrequenz in
Abhängigkeit des Signalspektrums aufgezeichnet ist;
Fig. 2a zeigt einen Ausschnitt der Figur 1 ;
Fig. 2b zeigt die relative Position von Störsignalen und
interessierendem Plasmasignal für drei unterschiedliche Abtastfrequenzen;
Fig. 3 zeigt die Ermittlung von Störsignalen anhand eines Durchlaufs der Abtastfrequenz;
Fig. 4 zeigt ein Diagramm zur Erläuterung der Variation der
Abtastfrequenz;
Fig. 5 zeigt stark schematisiert eine Vorrichtung zum Abtasten eines
Plasmasignals.
Die Figur 1 zeigt ein Spektrum für den Frequenzbereich 0 bis 50 MHz für unterschiedliche Abtastraten fs im Bereich zwischen 0 und 100 MHz. Im gezeigten Ausführungsbeispiel wurde ein Plasmaprozess mit einem
Hochfrequenzleistungssignal angeregt, welches eine Grundfrequenz von 13,56 MHz hat. Dieses erste interessierende Plasmasignal ist mit der Bezugsziffer 1 versehen. Da die Grundfrequenz leicht um ihren
Nominalwert variiert werden kann, ist bei der Frequenz von 13,56MHz nicht nur eine Linie zu sehen, sondern ein Band.
Weitere Signale, die mit dem Plasmaprozess in Beziehung stehen, sind Signale bei Oberwellen des Hochfrequenzleistungssignals mit der Grundfrequenz von 13,56 MHz, nämlich Oberwellensignale (Harmonische). Die erste Harmonische liegt bei etwa 27 MHz. Diese ist mit der
Bezugsziffer 2 bezeichnet. Die zweite Oberwelle liegt bei etwas über 40 MHz und trägt die Bezugsziffer 3. Bei den Signalen mit den Bezugsziffern 1, 2, 3 handelt es sich beispielsweise um interessierende Plasmasignale. Wird eine Abtastfrequenz zwischen etwa 85 und 90 MHz gewählt, können diese Signale eindeutig identifiziert werden. Dies liegt daran, dass für diese Signale das Nyquist-Kriterium erfüllt ist, dass nämlich die Abtastrate mehr als doppelt so groß ist wie die höchste abzutastende Frequenz. Das Nyquist-Kriterium entspricht der Linie mit der Bezugsziffer 4. Das Signal 3Λ ist der Alias des Signals 3 aus der zweiten Nyquist-Zone. Die fünfte
Oberwelle der Grundfrequenz liegt bei 81,36 MHz; das dargestellte Signal mit der Bezugsziffer 8 ist dessen Alias aus der dritten Nyquist-Zone.
Würde jedoch eine niedrigere Abtastfrequenz gewählt, beispielsweise eine Frequenz im Bereich von 60 MHz, könnte man zwar die Grundfrequenz bei 13,56 MHz und die erste Oberwelle bei 27,12 MHz beobachten, nicht jedoch die zweite Oberwelle von 40,68 MHz, die hier als Alias 3Λ aus der zweiten Nyquist-Zone bei ca. 20 MHz erscheint, da diese durch den Alias der fünften Oberwelle 8 im Bereich 5 überlagert wird. Hier bildet sich für die zweite Oberwelle von 40,68 MHz (Alias 3Λ ) ein so genanntes
gestörtes interessierendes Plasmasignal. Die Nyquist-Spiegelung der zweiten Harmonischen 3Λ kann somit nicht mehr eindeutig aufgelöst werden.
Im Folgenden wird der Bereich 10, der in der Figur 2a vergrößert
dargestellt ist, näher erläutert. In der Figur 2a ist zu erkennen, dass der Bereich 10 das interessierende Plasmasignal 1 bei der Anregungsfrequenz oder Grundfrequenz von 13,56 MHz enthält. Außerdem enthält er ein Signal 11, das der Alias der ersten Harmonischen 2 bei der Frequenz von etwa 27 MHz ist, sowie das Signal 3\ das der Alias des Signals 3 bei der Frequenz von etwas über 40 MHz ist. Die Signale 3\ 11 treten auf, da die Abtastfrequenz geringer gewählt wurde als das Doppelte der Frequenzen der Signale 2, 3 und somit eine Spiegelung an der halben Abtastfrequenz erfolgt. Weiterhin ist das Signal 1 bei der Frequenz von 13,56 MHz durch ein Störsignal 7 überlagert, das der Alias der fünften Oberwelle von 81,36 MHz aus dessen 4. Nyquist-Zone ist. Die Signale 3\ 11 stellen für das Signal 1 ebenfalls Störsignale dar. Das Signal 1 und ebenso die Signale der Oberwellen weisen eine gewisse Breite auf, da zur Steuerung des Plasmaprozesses vorgesehen sein kann, die Frequenz des
Hochfrequenzleistungssignals, das zur Anregung des Plasmaprozesses dient, in gewissen Grenzen zu variieren.
Anhand der Figur 2b wird erläutert, wie man anhand eines in der digitalen Darstellung gewonnenen Spektrums, das man bei einer bestimmten Abtastfrequenz wie in der Figur 2a dargestellt erhält, ein Störsignal ermitteln kann. Bei den Abtastfrequenzen fsi, fS2 ist das Signal 1 frei von Störungen. Die Störkomponenten 7a, 7b liegen neben dem
interessierenden Plasmasignal 1. Bei der Abtastfrequenz fS3 dagegen wird das interessierende Plasmasignal 1 durch das Störsignal 7c überlagert. Durch die Beobachtung der Frequenzverschiebung kann also die
ursprüngliche Frequenz oder der ursprüngliche Frequenzbereich und damit die Nyquist-Zone des Störsignals 7c rekonstruiert werden. Damit kann das Verhalten des Störsignals 7 bei Veränderung der Abtastrate fs
vorausgesagt und eine Überlagerung mit dem interessierenden
Plasmasignal 1 vermieden werden.
Alternativ kann gemäß der Figur 3 ein Sweep der Abtastfrequenz
durchgeführt werden, d.h. die Abtastfrequenz durchlaufen werden.
Beispielsweise kann die Abtastfrequenz in dem gezeigten Ausschnitt 10 von 40 MHz bis zu 55 MHz variiert werden. Bei diesem Verfahren wird anstelle eines Spektrums nur eine einzige Frequenz oder ein Frequenzband beobachtet, was die digitale Signalverarbeitung erleichtert. Dabei werden dann die Störsignale 20 durch Amplitudenänderungen auf der beobachteten Frequenz detektiert. Dieses Durchlaufen der
Abtastfrequenz kann zu Beginn des Plasmaprozesses erfolgen. Alternativ oder zusätzlich kann das Durchlaufen der Abtastfrequenz wiederholt werden.
Die Figuren 2, 3a, 3b erläutern die Identifizierung von Störsignalen.
In der Figur 4 ist wiederum das Signal 1, also das interessierende
Plasmasignal gezeigt. Würde die Abtastfrequenz beispielsweise gemäß der gepunkteten Linie 21 gewählt, so könnte das Signal 1 nicht störungsfrei abgetastet werden. Es wäre stets durch Störsignale überlagert. Wenn jedoch die Störsignale 22, 23, 24 bekannt sind, so kann die Abtastrate bzw. Abtastfrequenz beispielsweise gemäß der Linie 25 variiert werden. Insbesondere kann sie gleichförmig mit der Frequenz des Störsignals 23 verändert werden. Alternativ kann die Abtastrate gemäß der Linie 26 proportional zur Frequenzvariation des Signals 1 verändert werden. Die Abtastrate wird dabei im gleichen Verhältnis wie die Frequenz des interessierenden Signals 1 verändert; dieses bleibt gemessen an der Abtastrate fs an derselben relativen Stelle des Spektrums, was die
Architektur der digitalen Signalverarbeitung erleichtert. Somit kann das Signal 1 in einem Bereich abgetastet werden, in dem es nicht von
Störsignalen überlagert ist. Um die Abtastrate entsprechend der Linien 25, 26 geeignet wählen zu können, ist es notwendig, dass die Störsignale bzw. die Frequenzen der Störsignale bekannt sind. Daher werden
erfindungsgemäß die Störsignale zunächst identifiziert. Die Art und Weise der Identifikation der Störsignale ist beispielweise in den Figuren 2, 3a, 3b erläutert. Die Figur 5 zeigt eine Vorrichtung 50 zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Ein abzutastendes Signalgemisch wird einem A/D-Wandler 51 zugeführt. Diesem A/D-Wandler 51 wird eine Abtastfrequenz durch einen Abtastfrequenzerzeuger 52 vorgegeben, der einen VCO oder DDS aufweisen kann. Der Abtastfrequenzerzeuger 52 ist wiederum mit einer digitalen Signalverarbeitung 53 verbunden, die Störsignale identifizieren kann. Anhand des identifizierten Störsignals kann der Abtastsignalerzeuger 52 ein entsprechendes Abtastsignal bzw. eine Abtastfrequenz ermitteln. Weiterhin weist der
Abtastfrequenzerzeuger 52 einen Eingang 54 zur Vorgabe einer Frequenz eines interessierenden Plasmasignals und einen Eingang 55 zur Vorgabe einer Frequenz eines Störsignals auf.
Optional kann ein analoges Filter 56 zur Filterung eines interessierenden Plasmasignals vorgesehen sein. Das Signal wird in diesem Fall gefiltert, ehe es dem A/D-Wandler 51 zugeführt wird.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zum Abtasten eines mit einem Plasmaprozess in
Beziehung stehenden Signalgemischs, wobei das Signalgemisch mindestens ein von mindestens einem Störsignal (7, 7c, 20, 22, 23, 24) überlagertes interessierendes Plasmasignal (1 - 3) aufweist, mit den Verfahrensschritten : a. Identifizierung des zumindest einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24); b. Digitalisieren des Signalgemischs, indem das Signalgemisch mit einer Abtastfrequenz (fs) abgetastet wird; c. Variation der Abtastfrequenz (fs) während des Betriebs des Plasmaprozesses in Abhängigkeit der Frequenz zumindest eines interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und/oder der Frequenz des zumindest einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24).
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere interessierende Plasmasignale bei derselben Abtastfrequenz (fs) bestimmt werden.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass das mindestens eine interessierende
Plasmasignal (1 - 3) und/oder das mindestens eine Störsignal (7, 7c, 20, 22, 23, 24) in einer höheren als der ersten Nyquist-Zone bestimmt werden.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Frequenz des mindestens einen
interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und die Frequenz des mindestens einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24) in ihrer digitalen Darstellung ermittelt werden.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Frequenzen des mindestens einen interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und des mindestens einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24) in ihrer digitalen Darstellung durch Berechnung ermittelt werden.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Frequenzen des mindestens einen interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und des mindestens einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24) in ihrer digitalen Darstellung durch mindestens einen Durchlauf der Abtastfrequenz (fs) zu Beginn des Betriebes des Plasmaprozesses identifiziert werden.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Frequenzen des mindestens einen interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und des mindestens einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24) in ihrer digitalen Darstellung durch mehrmaligen Durchlauf der Abtastfrequenz (fs) während des Betriebes identifiziert werden.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, dass die Frequenzen des mindestens einen interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und des mindestens einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24) in ihrer digitalen Darstellung durch Modulation der Abtastfrequenz (fs) identifiziert werden.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Frequenzen des mindestens einen interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und des mindestens einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24) in ihrer digitalen Darstellung durch Frequenz- oder Amplitudenmodulation eines den
Plasmaprozess anregenden Hochfrequenzleistungssignals
identifiziert werden.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Abtastfrequenz (fs) gleichförmig mit der Frequenz des mindestens einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24) nachgeführt wird.
11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Abtastfrequenz (fs) im gleichen Verhältnis mit einer Frequenz eines den Plasmaprozesses
anregenden Hochfrequenzleistungssignals nachgeführt wird.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass das Signalgemisch lediglich mit einem einzigen A/D-Wandler (51) digitalisiert wird.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass das Signalgemisch vor der Abtastung gefiltert wird.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Abtastfrequenz (fs) mittels eines VCO oder DDS verändert wird.
15. Vorrichtung (50) zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit einem A/D-Wandler (51), an den eine digitale Signalverarbeitung (53) angeschlossen ist, und mit einem Abtastfrequenzerzeuger (52), der dem A/D-Wandler (51) eine Abtastfrequenz zuführt, wobei die digitale Signalverarbeitung (53) mit dem Abtastfrequenzerzeuger (52) verbunden ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass der Abtastfrequenzerzeuger (52) einen Eingang (54) zur Vorgabe einer Frequenz eines interessierenden Plasmasignals (1 - 3) aufweist.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Abtastfrequenzerzeuger (52) einen
Eingang (55) zur Vorgabe einer Frequenz eines Störsignals aufweist.
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