WO2016204516A1 - Exhaust gas processing device - Google Patents

Exhaust gas processing device Download PDF

Info

Publication number
WO2016204516A1
WO2016204516A1 PCT/KR2016/006368 KR2016006368W WO2016204516A1 WO 2016204516 A1 WO2016204516 A1 WO 2016204516A1 KR 2016006368 W KR2016006368 W KR 2016006368W WO 2016204516 A1 WO2016204516 A1 WO 2016204516A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
exhaust gas
plasma reactor
microwave plasma
reducing agent
microwave
Prior art date
Application number
PCT/KR2016/006368
Other languages
French (fr)
Korean (ko)
Inventor
박정봉
Original Assignee
박정봉
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 박정봉 filed Critical 박정봉
Priority to CN201680035416.4A priority Critical patent/CN108064187A/en
Publication of WO2016204516A1 publication Critical patent/WO2016204516A1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/007Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D47/00Separating dispersed particles from gases, air or vapours by liquid as separating agent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D50/00Combinations of methods or devices for separating particles from gases or vapours
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/48Sulfur compounds
    • B01D53/50Sulfur oxides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/54Nitrogen compounds
    • B01D53/56Nitrogen oxides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B03SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03CMAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C3/00Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2259/00Type of treatment
    • B01D2259/80Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/806Microwaves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2259/00Type of treatment
    • B01D2259/80Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/818Employing electrical discharges or the generation of a plasma

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

The present invention relates to an exhaust gas processing device which is capable of collectively processing harmful emissions emitted during combustion, etc., the device comprising: a dust collection equipment for removing organic materials or particulate materials contained in an exhaust gas; a desulfurization equipment for reducing sulfur oxides contained in the exhaust gas; and a low-temperature plasma reactor and a high-temperature microwave plasma reactor for reducing nitrogen oxides contained in the exhaust gas.

Description

배기가스 처리장치Exhaust gas treatment system
본 발명은 배기가스 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to an exhaust gas treating apparatus.
일반적으로, 공장 혹은 연소장치 등에서 화석 연료를 연소시켜 발생하는 생성물 중 유해배출가스인 입자상 물질, 황산화물, 질소산화물은 다양한 방법을 동원하여 최대 한도로 저감시켜 대기환경을 청정 상태로 유지해야할 필요성이 대두되고 있는 현실이다.In general, particulate matter, sulfur oxides, and nitrogen oxides, which are harmful emissions of products generated by burning fossil fuels in a plant or a combustion device, are reduced to the maximum by various methods, and thus, it is necessary to keep the atmosphere clean. It is a reality that is emerging.
특히, 현재 공지된 질소산화물의 대표적인 저감방법은 선택적 촉매 환원법과 선택적 비촉매 환원법을 적용하고 있다. 이러한 선택적 촉매 환원법과 선택적 비촉매 환원법은 널리 알려진 공지기술로서 이에 대해서 구체적인 상세한 설명은 피한다.In particular, representative reduction methods of nitrogen oxides currently known employ selective catalytic reduction and selective non-catalytic reduction. Such selective catalytic reduction and selective non-catalytic reduction are well known techniques and detailed descriptions thereof are avoided.
기본적으로, 선택적 촉매 환원법(SCR;Selective Catalytic Reduction)은 연소장치의 하류에 암모니아 주입설비(AIG)를 통해 환원제인 암모니아를 공급하여 촉매 반응탑에서 환원반응을 야기시켜 질소산화물을 저감하도록 되어 있다. 이러한 선택적 촉매 환원법은 통상적으로 연소장치가 저부하(low load) 상태이거나 촉매 반응탑으로 유입될 배출가스 온도가 낮으면 질소산화물의 반응이 현저하게 떨어지는 현상이 발생되어 그대로 배출가스와 함께 암모니아의 슬립 현상이 생겨 후단 설비에 나쁜 영향이 야기될 수 있는 문제점을 갖고 있다.Basically, Selective Catalytic Reduction (SCR) is designed to reduce nitrogen oxides by supplying ammonia as a reducing agent through an ammonia injector (AIG) downstream of the combustion device to cause a reduction reaction in the catalytic reaction tower. In this selective catalytic reduction method, when the combustion apparatus is in a low load state or when the temperature of the exhaust gas to be introduced into the catalytic reaction column is low, the reaction of nitrogen oxides is markedly degraded. There is a problem that can cause a bad effect on the rear end equipment.
이외에도, 선택적 비촉매 환원법(SNCR;Selective Non-Catalytic Reduction)은 연소장치 내로 암모니아수 혹은 요소수를 직접 분사하고 연소장치 내에서 화석 연료의 연소를 통해 발생되는 질소산화물과 반응시켜 저감시킬 수 있도록 되어 있다. 이러한 선택적 비촉매 환원법은 기술된 바와 같이 액상의 암모니아 또는 요소수를 연소장치 내부로 공급하도록 되어 있기 때문에, 환원제가 연소장치 내부로 분사되면서 물방울이 보일러 튜브와 접촉하게 되면 예상치 못한 대형사고를 유발시킬 수 있는 위험성이 항상 내포하고 있고, 실제로 일부 몇몇 기업에서는 이로 인한 큰 손해를 본 적도 있다.In addition, Selective Non-Catalytic Reduction (SNCR) is designed to directly inject ammonia or urea into the combustor and reduce it by reacting with nitrogen oxides generated through the combustion of fossil fuels in the combustor. . This selective non-catalytic reduction method is designed to supply liquid ammonia or urea water into the combustor as described, which can cause unexpected large accidents when water droplets come into contact with the boiler tube as the reducing agent is injected into the combustor. Risks are always present, and in fact, some companies have experienced significant losses.
또한, 선택적 비촉매 환원법을 적용한 탈질 시스템은 연소장치가 저부하일 경우에 고효율을 낼 수 있는 반면에 탈질률이 떨어지는 한계성을 갖는다.In addition, the denitrification system to which the selective non-catalytic reduction method is applied has a limitation in that the denitrification rate is lowered while high efficiency can be obtained at a low load of the combustion apparatus.
[선행기술문헌][Prior art document]
(특허문헌)(Patent literature)
(특허문헌 1) 대한민국 특허출원 제10-2007-0007369호(Patent Document 1) Korean Patent Application No. 10-2007-0007369
본 발명은 탈황설비와 탈질설비의 복합 공정을 이용하여 배기가스에 포함된 유해오염물질을 제거하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to remove the harmful pollutants contained in the exhaust gas by using a complex process of desulfurization equipment and denitrification equipment.
본 발명은 배기가스 발생원에서 배출되는 배기가스 내에 함유된 다양한 유해배출물질들을 저감시킬 수 있는 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a treatment apparatus capable of reducing various harmful emissions contained in exhaust gas emitted from an exhaust gas generating source.
상기의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 제1 실시예에 따른 배기가스 처리장치는 배기가스를 배출하는 배기가스 발생원과; 배기가스 발생원의 하류에 배치된 집진설비; 집진설비의 하류에 배치되고, 배기가스 발생원에서 배출되는 일산화질소를 이산화질소로 산화시키는 저온 플라즈마 반응기; 저온 플라즈마 반응기의 하류에 배치된 탈황설비; 환원제를 저장보관하는 저장조; 탈황설비에서 배출된 질소산화물을 함유한 배기가스를 이송관으로 공급받고, 저장조의 공급관으로 제공된 환원제를 고온의 가스상으로 변환시켜 질소산화물의 해리를 돕는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기; 전원의 인가에 따라 마이크로웨이브를 발생하는 마이크로웨이브 발생기; 및 마이크로웨이브 발생기와 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 사이에 배치되고, 유도관을 통해 마이크로웨이브를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내부로 안내하여 화염을 발생시키는 플라즈마 발생기;로 이루어져, 배기가스 발생원에서 배출되는 배기가스를 집진설비와, 저온 플라즈마 반응기, 탈황설비, 및 고온의 마이크로웨이브 플라즈마 반응기에 순차적으로 통과시켜 배기가스에 함유된 오염물질을 제거할 수 있도록 설계되어 있는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, an exhaust gas treating apparatus according to a first embodiment of the present invention comprises: an exhaust gas generating source for exhausting exhaust gas; A dust collecting unit disposed downstream of the exhaust gas generating source; A low temperature plasma reactor disposed downstream of the dust collector and oxidizing nitrogen monoxide discharged from the exhaust gas generating source to nitrogen dioxide; A desulfurization plant disposed downstream of the low temperature plasma reactor; A storage tank for storing and storing a reducing agent; A microwave plasma reactor receiving exhaust gas containing nitrogen oxide discharged from the desulfurization facility to a transfer pipe, and converting a reducing agent provided to a storage pipe supply pipe into a hot gas phase to help dissociate nitrogen oxides; A microwave generator for generating microwaves according to the application of power; And a plasma generator disposed between the microwave generator and the microwave plasma reactor and guiding the microwaves into the microwave plasma reactor through an induction tube to generate a flame; and collecting the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator. And, it is characterized in that it is designed to remove contaminants contained in the exhaust gas by sequentially passing through a low temperature plasma reactor, a desulfurization facility, and a high temperature microwave plasma reactor.
본 발명의 실시예에서, 집진설비는 전기 집진기로 이루어질 수 있다. 전기 집진기는 배기가스 내에 함유된 일산화질소를 이산화질소로 일부 개질하는 효과를 기대할 수 있다. In an embodiment of the present invention, the dust collector may be composed of an electric dust collector. The electrostatic precipitator can be expected to partially modify the nitrogen monoxide contained in the exhaust gas to nitrogen dioxide.
탈황설비는 습식 탈황시스템으로 이루어질 수 있다.The desulfurization plant may consist of a wet desulfurization system.
저장조의 공급관은 개량공급모듈을 추가로 구비하는데, 개량공급모듈은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기로 공급될 질소산화물의 유입량에 따라 저장조에 보관된 환원제를 공급할 수 있도록 한다. 이는 환원제의 사용량을 최적화시킬 수 있다. The supply pipe of the reservoir further includes an improved supply module, which can supply the reducing agent stored in the storage tank according to the inflow amount of nitrogen oxide to be supplied to the microwave plasma reactor. This can optimize the amount of reducing agent used.
구체적으로, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기는 이송관의 관말부를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 상부를 향해 배치하여 배기가스를 상향류되게 하는 한편, 유도관의 관말부를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 상부에서 하부를 향해 관입시켜 화염방향을 하향되게 할 수 있다. 이송관의 관말부와 유도관의 관말부는 동일 축선상에 배치하여 하향류의 환원제와 화염 그리고 상향류의 배기가스의 접촉을 개선할 수 있다. 선택가능하기로, 공급관은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 상부에서 하부를 향해 관입되어 환원제를 하향류되게 공급하거나, 유도관에 합류되어 유도관을 통해 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내부로 안내할 수도 있다.Specifically, the microwave plasma reactor arranges the tube end of the transfer tube toward the upper portion of the microwave plasma reactor so that the exhaust gas flows upward, while injecting the tube end of the induction tube from the top of the microwave plasma reactor from the top to the bottom of the flame. The direction can be made downward. The tube end of the transfer pipe and the end of the induction pipe can be arranged on the same axis to improve the contact of the downflow reducing agent with the flame and the upstream exhaust gas. Optionally, the feed tube may be introduced from the top to the bottom of the microwave plasma reactor to supply the reducing agent downflow, or may be joined to the guide tube and guide the inside of the microwave plasma reactor through the induction tube.
본 발명의 제2 실시예에 따른 배기가스 처리장치는 배기가스를 배출하는 배기가스 발생원과; 배기가스 발생원의 하류에 배치된 탈황설비; 탈황설비의 하류에 배치된 집진설비; 집진설비의 하류에 배치되고, 배기가스 발생원에서 배출되는 일산화질소를 이산화질소로 산화시키는 저온 플라즈마 반응기; 환원제를 저장보관하는 저장조; 저온 플라즈마 반응기에서 배출된 질소산화물을 함유한 배기가스를 이송관으로 공급받고, 저장조의 공급관으로 제공된 환원제를 고온의 가스상으로 변환시켜 질소산화물의 해리를 돕는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기; 전원의 인가에 따라 마이크로웨이브를 발생하는 마이크로웨이브 발생기; 및 마이크로웨이브 발생기와 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 사이에 배치되고, 유도관을 통해 마이크로웨이브를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내부로 안내하여 화염을 발생시키는 플라즈마 발생기;로 이루어져, 배기가스 발생원에서 배출되는 배기가스를 탈황설비와, 집진설비, 저온 플라즈마 반응기, 및 고온의 마이크로웨이브 플라즈마 반응기에 순차적으로 통과시켜 배기가스에 함유된 오염물질을 제거할 수 있도록 설계되어 있는 것을 특징으로 한다. An exhaust gas treating apparatus according to a second embodiment of the present invention includes: an exhaust gas generating source for exhausting exhaust gas; Desulfurization equipment disposed downstream of the exhaust gas generating source; A dust collector disposed downstream of the desulfurization facility; A low temperature plasma reactor disposed downstream of the dust collector and oxidizing nitrogen monoxide discharged from the exhaust gas generating source to nitrogen dioxide; A storage tank for storing and storing a reducing agent; A microwave plasma reactor receiving exhaust gas containing nitrogen oxide discharged from the low temperature plasma reactor to a transfer pipe, and converting a reducing agent provided to a storage pipe supply pipe into a hot gas phase to help dissociate nitrogen oxides; A microwave generator for generating microwaves according to the application of power; And a plasma generator disposed between the microwave generator and the microwave plasma reactor and guiding the microwaves into the microwave plasma reactor through an induction tube to generate a flame. And, it is characterized in that it is designed to remove contaminants contained in the exhaust gas by sequentially passing through the dust collector, low temperature plasma reactor, and high temperature microwave plasma reactor.
본 발명의 실시예에서, 집진설비는 전기 집진기로 이루어질 수 있다. 전기 집진기는 배기가스 내에 함유된 일산화질소를 이산화질소로 일부 개질하는 효과를 기대할 수 있다. In an embodiment of the present invention, the dust collector may be composed of an electric dust collector. The electrostatic precipitator can be expected to partially modify the nitrogen monoxide contained in the exhaust gas to nitrogen dioxide.
탈황설비는 건식 탈황시스템으로 이루어질 수 있다.The desulfurization plant may consist of a dry desulfurization system.
저장조의 공급관은 개량공급모듈을 추가로 구비하는데, 개량공급모듈은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기로 공급될 질소산화물의 유입량에 따라 저장조에 보관된 환원제를 공급할 수 있도록 한다. 이는 환원제의 사용량을 최적화시킬 수 있다.The supply pipe of the reservoir further includes an improved supply module, which can supply the reducing agent stored in the storage tank according to the inflow amount of nitrogen oxide to be supplied to the microwave plasma reactor. This can optimize the amount of reducing agent used.
구체적으로, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기는 이송관의 관말부를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 상부를 향해 배치하여 배기가스를 상향류되게 하는 한편, 유도관의 관말부를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 상부에서 하부를 향해 관입시켜 화염방향을 하향되게 할 수 있다. 이송관의 관말부와 유도관의 관말부는 동일 축선상에 배치하여 하향류의 환원제와 화염 그리고 상향류의 배기가스의 접촉을 개선할 수 있다. 선택가능하기로, 공급관은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 상부에서 하부를 향해 관입되어 환원제를 하향류되게 공급하거나, 유도관에 합류되어 유도관을 통해 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내부로 안내할 수도 있다.Specifically, the microwave plasma reactor arranges the tube end of the transfer tube toward the upper portion of the microwave plasma reactor so that the exhaust gas flows upward, while injecting the tube end of the induction tube from the top of the microwave plasma reactor from the top to the bottom of the flame. The direction can be made downward. The tube end of the transfer pipe and the end of the induction pipe can be arranged on the same axis to improve the contact of the downflow reducing agent with the flame and the upstream exhaust gas. Optionally, the feed tube may be introduced from the top to the bottom of the microwave plasma reactor to supply the reducing agent downflow, or may be joined to the guide tube and guide the inside of the microwave plasma reactor through the induction tube.
본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.The features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.
이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. Prior to this, the terms or words used in this specification and claims are not to be interpreted in a conventional and dictionary sense, and the inventors may appropriately define the concept of terms in order to best explain their invention in the best way possible. It should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention based on the principle that the present invention.
이상 본 발명의 설명에 의하면, 본 발명은 배기가스 내에 함유된 유기물 또는 입자상 물질, 황산화물, 그리고 질소산화물 등의 유해배출물질을 처리하는 저감설비들을 인라인(in-line) 형태로 일렬로 배치하여 일괄적으로 저감하는 것을 목적으로 한다.According to the description of the present invention, in accordance with the present invention, the present invention is arranged in-line form the abatement facilities for processing harmful substances such as organic matter or particulate matter, sulfur oxides, nitrogen oxides contained in the exhaust gas It aims at reducing collectively.
본 발명은 저온 플라즈마 반응기와 고온의 마이크로웨이브 플라즈마 반응기를 통해 환원제의 사용량을 현저하게 줄일 수 있고 탈질률을 향상시킬 수 있다.The present invention can significantly reduce the amount of reducing agent and improve the denitrification rate through the low temperature plasma reactor and the high temperature microwave plasma reactor.
특히, 본 발명은 고온의 플라즈마 화염을 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 열원으로 사용하여 종래기술에서 화염발생에 필요한 점화기 등의 교체에 따른 탈질 시스템의 작업을 중단시키지 않고 연속적으로 탈질공정을 수행할 수 있다.In particular, the present invention can use a high-temperature plasma flame as a heat source of the microwave plasma reactor, it is possible to perform the denitrification process continuously without interrupting the operation of the denitrification system according to the replacement of the igniter and the like required for the flame generation in the prior art.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 배기가스 처리장치의 개략적인 공정도이다.1 is a schematic process diagram of an exhaust gas treating apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 배기가스 처리장치의 개략적인 공정도이다.2 is a schematic process diagram of an exhaust gas treating apparatus according to a second embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 배기가스 처리장치에 채용될 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내부를 개략적으로 도시한 종단면도이다.Figure 3 is a longitudinal sectional view schematically showing the inside of the microwave plasma reactor to be employed in the exhaust gas treatment apparatus of the present invention.
도 4는 도 3의 A-A 선으로 절취한 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 횡단면도이다.4 is a cross-sectional view of the microwave plasma reactor taken along the line A-A of FIG.
본 발명의 장점, 특징, 그리고 이들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 후술되는 실시예들을 통해 명확해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조부호는 동일하거나 유사한 구성요소를 지칭한다. 또한, 본 명세서에서 관련된 공지기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불명료하게 할 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Advantages, features, and methods of achieving the present invention will be apparent from the embodiments described below in conjunction with the accompanying drawings. In the present specification, in adding the reference numerals to the components of each drawing, the same reference numerals refer to the same or similar components throughout the specification. In addition, when the detailed description of the related art related to the present specification makes the gist of the present invention unclear, the detailed description is omitted.
이제, 본 발명에 따른 배기가스 처리장치는 첨부 도면을 참조로 하여 상세히 설명될 것이다.The exhaust gas treating apparatus according to the present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 배기가스 처리장치의 공정도를 개략적으로 도시한 것으로, 예컨대 화석 연료의 연소를 통해 발생되는 배기가스에서 황산화물(SOX), 질소산화물(NOX), 입자상 물질 등의 유해배출물질을 저감시키는 시스템에 관한 것이다.1 schematically shows a process diagram of an exhaust gas treating apparatus according to a first embodiment of the present invention, for example, sulfur oxides (SO X ) and nitrogen oxides (NO X ) in exhaust gases generated through combustion of fossil fuels. The present invention relates to a system for reducing harmful emissions such as particulate matter.
개략적으로, 본 발명의 제1 실시예에 따른 배기가스 처리장치(1)는 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 배기가스를 집진설비(100)와, 저온 플라즈마 반응기(200), 탈황설비(300), 및 고온의 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에 순차적으로 통과시켜 배기가스에 함유된 오염물질, 즉 입자상 물질, 황산화물, 질소산화물 등을 을 제거할 수 있도록 설계되어 있다.Schematically, the exhaust gas treating apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention collects the exhaust gas discharged from the exhaust gas generating source 1000, the low temperature plasma reactor 200, and the desulfurization facility 300. ), And it is designed to remove contaminants, ie, particulate matter, sulfur oxides, nitrogen oxides, and the like contained in the exhaust gas by passing through the high temperature microwave plasma reactor 400 sequentially.
여기서, 배기가스 발생원(1000)은 연소로, 공정가열로, 내연기관일 수 있으며, (연료) 물질을 연소, 합성, 분해 등을 통해 질소산화물 및/또는 황산화물 등의 유해가스를 배출하는 장치일 수 있다.Here, the exhaust gas generating source 1000 may be a combustion furnace, a process heating furnace, an internal combustion engine, and an apparatus for discharging harmful gases such as nitrogen oxides and / or sulfur oxides through combustion, synthesis, and decomposition of (fuel) materials. Can be.
배기가스 발생원(1000)의 연소를 통해 발생된 배기가스는 질소산화물과 황산화물을 제외한 입자상 물질 등의 이물질을 집진하는 집진설비(100)로 안내된다. 집진설비(100)는 전술된 바와 같이 탈황설비와 탈질설비의 전단에 배치하도록 하는데, 이는 입자상 물질이 탈황설비 및/또는 탈질설비로 유입되어 불필요한 부반응을 미연에 방지할 수 있을 것이다. 당해 분야의 숙련자들에게 널리 알려져 있듯이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 배기가스 처리장치는 다양한 유형의 집진설비를 설치할 수 있으며, 특히 전기 집진기는 운전시 배기가스 내에 함유된 일산화질소(NO)를 이산화질소(NO2)로 일부 개질하는 효과를 획득할 수 있다. The exhaust gas generated through the combustion of the exhaust gas generator 1000 is guided to the dust collector 100 which collects foreign substances such as particulate matter except nitrogen oxide and sulfur oxide. The dust collector 100 is arranged in front of the desulfurization facility and the denitrification facility as described above, which may prevent particulate matter from entering the desulfurization facility and / or the denitrification facility in advance. As is well known to those skilled in the art, the exhaust gas treating apparatus according to the first embodiment of the present invention can install various types of dust collecting facilities, and in particular, the electric dust collector is contained in nitrogen monoxide (NO) contained in the exhaust gas during operation. It is possible to obtain the effect of partially reforming to nitrogen dioxide (NO 2 ).
본 발명의 제1 실시예는 집진설비(100)의 후단에 저온 플라즈마 반응기(200)를 배치한다. 저온 플라즈마 반응기(200)는 집진처리된 배기가스를 저온(15~200℃) 하에서 탈질반응을 제공할 수 있다. 저온 플라즈마 반응기(200)는 일산화질소(NO)를 이산화질소(NO2)나 질산(HNO3)으로 산화시키는 산화 영역(oxidation zone)이다. 다시 말하자면, 저온 플라즈마 반응기(200)는 일산화질소의 산화반응으로 인해 일산화질소의 농도를 감소시키고 이산화질소의 농도를 증가시키게 하는바, NO2/NO 비율이 높아지게 돕는다. 질소산화물 중에서 이산화질소의 비율이 높아질수록 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 질소산화물(NOX) 분해 속도를 향상시켜 탈질 효율을 증가시킬 수 있을 뿐만 아니라 소비 전력을 낮춰 경제성도 높일 수 있다. 저온 플라즈마 반응기(200)는 마이크로 플스 코로라 플라즈마(micro puls corona plasam discharge) 반응기일 수도 있다. 저온이라 함은 마이크로 웨이브 플라즈마 반응기 내의 플라즈마 화염에 비해 낮은 온도라는 의미이다.In the first embodiment of the present invention, the low-temperature plasma reactor 200 is disposed at the rear end of the dust collector 100. The low temperature plasma reactor 200 may provide a denitrification reaction of the collected exhaust gas under a low temperature (15 ~ 200 ℃). The low temperature plasma reactor 200 is an oxidation zone for oxidizing nitrogen monoxide (NO) to nitrogen dioxide (NO 2 ) or nitric acid (HNO 3 ). In other words, the low temperature plasma reactor 200 reduces the concentration of nitrogen monoxide due to the oxidation reaction of nitrogen monoxide and increases the concentration of nitrogen dioxide, thereby helping to increase the NO 2 / NO ratio. As the ratio of nitrogen dioxide in the nitrogen oxides increases, the denitrification efficiency can be increased by improving the nitrogen oxide (NO X ) decomposition rate in the microwave plasma reactor 400, and the economic efficiency can be improved by lowering the power consumption. The low temperature plasma reactor 200 may be a micro puls corona plasma discharge reactor. By low temperature is meant a lower temperature than the plasma flame in the microwave plasma reactor.
덧붙여서, 집진설비(100)를 걸쳐 빠져나온 배기가스는 집진설비(100)의 일부 개질반응을 통해 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 배기가스에 비해서 NO2/NO 비율이 높은 상태로 저온 플라즈마 반응기(200)로 안내될 수 있을 것이다. 이는 결과적으로 저온 플라즈마 반응기(200) 내에서 이루어질 산화반응을 줄여 저온 플라즈마 반응기(200)의 운전에 따른 전력 소모를 줄일 수 있을 것이다. In addition, the exhaust gas discharged through the dust collector 100 is a low temperature plasma reactor with a higher NO 2 / NO ratio than the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator 1000 through some reforming of the dust collector 100. It may be directed to 200. As a result, by reducing the oxidation reaction to be made in the low temperature plasma reactor 200 will be able to reduce the power consumption of the operation of the low temperature plasma reactor 200.
본 발명의 제1 실시예에 따른 배기가스 처리장치는 도시된 바와 같이 저온 플라즈마 반응기(200) 하류, 즉 저온 플라즈마 반응기(200)와 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 사이에 별도의 탈황설비(300)를 배치할 수 있다. 탈황설비(300)는 습식 탈황시스템을 채용하는 것이 바람직하다. 당해 분야의 숙련자들에게 널리 알려져 있듯이, 습식 탈황시스템은 황산화물을 함유한 배기가스에 수용액 또는 슬러리 상의 액체 시약을 이용하여 배기가스 중의 황산화물을 안정적으로 분해 및/또는 포집하여 황산화물 배출량을 저감시킬 수 있다. 액체 시약에 함유된 용수는 탈황설비(300)에서 연장된 배기가스 이송관(T1)을 통해 배기가스와 함께 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부로 유입될 수 있다. 이송관(T1)으로부터 유입된 용수는 수산화기(OH-)를 갖고 있어, 다른 성질의 반응기와 화학적 결합이 쉽게 이루어져 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 야기될 환원반응을 촉진시킬 수 있을 것이다.Exhaust gas treatment apparatus according to a first embodiment of the present invention is a separate desulfurization facility 300 downstream of the low temperature plasma reactor 200, that is, between the low temperature plasma reactor 200 and the microwave plasma reactor 400. Can be placed. The desulfurization facility 300 preferably employs a wet desulfurization system. As is well known to those skilled in the art, wet desulfurization systems utilize sulfuric acid-containing exhaust gases in aqueous solutions or slurries to reliably decompose and / or capture sulfur oxides in exhaust gases to reduce sulfur oxide emissions. You can. Water contained in the liquid reagent may be introduced into the microwave plasma reactor 400 together with the exhaust gas through the exhaust gas transfer pipe T1 extending from the desulfurization facility 300. The water introduced from the transfer pipe T1 has a hydroxyl group (OH ), so that the chemical coupling with the reactor of different properties may be easily performed to promote a reduction reaction to be caused in the microwave plasma reactor 400.
특별하기로, 본 발명의 제1 실시예에 따른 배기가스 처리장치는 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 배기가스에 함유된 질소산화물과 저장조(600)에서 공급된 환원제를 고온의 플라즈마 화염 하에서 분해 및/또는 환원을 통해 질소, 이산화탄소, 물 등의 가스로 전환시키는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400;microwave plasma reactor)를 구비한다. In particular, the exhaust gas treating apparatus according to the first embodiment of the present invention decomposes nitrogen oxide contained in the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator 1000 and the reducing agent supplied from the storage tank 600 under a high temperature plasma flame. And / or a microwave plasma reactor (400) for converting to a gas such as nitrogen, carbon dioxide, water through reduction.
저장조(600)는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에 제공될 환원제의 공급원으로, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)로 안내될 질소산화물의 유입량에 근거하여 개량공급모듈(700)을 수단으로 하여 저장조(600)에서 소정량의 환원제를 후단 설비, 예컨대 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)로 제공한다. 이 개량공급모듈(700)은 전술된 바와 같이 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 요구하는 유량 속도를 결정하는데, 저온 플라즈마 반응기(200)에서 배출되는 질소산화물의 배출량과 이에 필요한 요소량(암모니아량)을 당량비에 따라 계산하여 개량공급모듈(700)을 통해 환원제를 공급하게 된다. 개량공급모듈(700)을 통해 제어된 환원제는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)로 공급된다.The reservoir 600 is a supply source of a reducing agent to be provided to the microwave plasma reactor 400, and the reservoir 600 is provided by the improved supply module 700 based on the inflow amount of nitrogen oxide to be guided to the microwave plasma reactor 400. ), A predetermined amount of reducing agent is provided to the back end equipment, such as the microwave plasma reactor 400. The improved supply module 700 determines the flow rate required by the microwave plasma reactor 400 as described above, the amount of nitrogen oxide discharged from the low temperature plasma reactor 200 and the amount of urea (ammonia amount) required therefor. It is calculated according to the equivalent ratio to supply the reducing agent through the improved supply module 700. The reducing agent controlled through the improved feed module 700 is supplied to the microwave plasma reactor 400.
저장조(600)는 환원제의 유동성을 향상시키고 안정성을 확보하기 위해서 통상적으로 액상 혹은 증기상의 환원제를 수용하고 있으나, 이에 국한되지 않고 다양한 조성, 예컨대 요소수, 요소(NH2CONH2), 암모니아(NH3), 탄산암모늄(NH4CO3), 시아누르산(HNCO) 등의 환원제를 수용할 수 있다. 본 발명의 환원제는 앞서 기술하였듯이 요소일 수 있는데, 이 요소가 상온 하의 수용액에서는 천천히 탄산암모늄으로 가수분해되고, 녹는점 이상에서는 승화하여 암모니아와 시아누르산으로 전환될 수 있다.The storage tank 600 contains a reducing agent in the liquid or vapor phase in order to improve the fluidity of the reducing agent and to ensure stability, but is not limited thereto, and various compositions, such as urea water, urea (NH 2 CONH 2 ), and ammonia (NH) 3 ), a reducing agent such as ammonium carbonate (NH 4 CO 3 ), cyanuric acid (HNCO) and the like. The reducing agent of the present invention may be urea as described above, which can be slowly hydrolyzed to ammonium carbonate in aqueous solution at room temperature, sublimed above the melting point and converted to ammonia and cyanuric acid.
본 발명은 다양한 환원제, 예컨대 암모니아 혹은 요소를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내로 강제로 공급하여 고온 분위기 하에서 분해 혹은 액상에서 가스상으로 상변환을 야기할 수 있다.The present invention may forcibly supply various reducing agents such as ammonia or urea into the microwave plasma reactor 400 to cause decomposition under high temperature atmosphere or phase conversion from liquid phase to gas phase.
마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 예컨대 요소(혹은 요소수)의 환원제를 공급받은 후에 이러한 요소를 화학식 1과 같이 열적가수분해반응을 통해 암모니아로 개질시킬 수 있을 뿐만 아니라 화학식 2와 같이 열적분해반응을 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 일어나도록 한다.The microwave plasma reactor 400, for example, after receiving a reducing agent of urea (or urea water) may not only reform such urea with ammonia through thermal hydrolysis as shown in Chemical Formula 1, but also undergo thermal decomposition as shown in Chemical Formula 2. To occur in the microwave plasma reactor 400.
Figure PCTKR2016006368-appb-C000001
Figure PCTKR2016006368-appb-C000001
Figure PCTKR2016006368-appb-C000002
Figure PCTKR2016006368-appb-C000002
화학식 2와 같은 반응 후에는, 암모니아와 시아누르산이 생성된다. 이러한 열적분해반응을 실현하기 위해서는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 상당한 고온의 열을 필요로 한다.After the reaction as in Chemical Formula 2, ammonia and cyanuric acid are produced. In order to realize such a thermal decomposition reaction, the microwave plasma reactor 400 requires a considerable amount of heat.
다시 말하자면, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 고온의 화염, 즉 열을 이용하여 액상의 요소수 등을 요소의 분해가스인 가스상의 암모니아와 같은 환원제로 상변환시킨다. 이러한 상변환 과정을 위해서, 필요한 열은 마이크로웨이브 발생기(800)와 플라즈마 발생기(900)로 만들어진 화염을 열원으로 사용할 수 있다.In other words, the microwave plasma reactor 400 phase-converts the liquid urea water to a reducing agent such as gaseous ammonia, which is a decomposition gas of urea, using a high temperature flame, that is, heat. For this phase conversion process, the necessary heat may be a flame made of the microwave generator 800 and the plasma generator 900 as a heat source.
생성물인 암모니아와 시아누르산은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기와 같은 탈질설비 내에서 질소산화물과 반응하게 된다. 여러 반응메카니즘을 통해 가스상의 암모니아 환원제로 전환되어 질소산화물의 탈질반응이 고온의 반응기(400)에서 일어나도록 한다. 이러한 가스상 환원제는 배기가스 발생원(1000)에서 화석 연료의 연소로 발생되는 질소산화물과 아래의 화학식 3 또는 화학식 4 등의 반응을 통해 탈질될 수 있다.The products ammonia and cyanuric acid are reacted with nitrogen oxides in a denitrification system such as a microwave plasma reactor. It is converted into a gaseous ammonia reducing agent through various reaction mechanisms so that the denitrification of nitrogen oxides takes place in the high temperature reactor 400. The gaseous reducing agent may be denitrified through a reaction of nitrogen oxide generated by combustion of fossil fuel in the exhaust gas generator 1000 and the following Chemical Formula 3 or Chemical Formula 4 below.
Figure PCTKR2016006368-appb-C000003
Figure PCTKR2016006368-appb-C000003
이러한 화학식 3과 같이, 암모니아는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 가수분해되면서 질소산화물과 반응이 야기되고, 이로 인해서 인체에 무해한 질소(N2)와 물(H2O)이 생성된다. 최종적으로, 질소와 물이 굴뚝(500)을 통해 배출되므로 대기환경의 오염원 배출을 미연에 방지할 수 있는 효과를 갖는다.As shown in Formula 3, ammonia is hydrolyzed in the microwave plasma reactor 400 to cause a reaction with nitrogen oxides, thereby producing nitrogen (N 2 ) and water (H 2 O), which are harmless to the human body. Finally, since nitrogen and water are discharged through the chimney 500, it is possible to prevent the emission of pollutants in the air environment in advance.
Figure PCTKR2016006368-appb-C000004
Figure PCTKR2016006368-appb-C000004
저장조(600)에서 공급되거나 화학식 2로 생성된 시아누르산은 위의 화학식 4와 같이 질소산화물과 반응을 유도할 수 있는바, 화학반응이 진행되면서 유해한 질소산화물을 질소와 이산화탄소(CO2)와 같이 대기오염과 무관한 물질로 전환된다. 참고로, 이산화탄소의 발생량은 몇 ppm 미만이므로, 환경적 오염원으로서의 원인을 제공하기에는 극히 소량일 것이다.The cyanuric acid supplied from the storage tank 600 or generated by Chemical Formula 2 may induce a reaction with nitrogen oxides as shown in Chemical Formula 4 above. As the chemical reaction proceeds, harmful nitrogen oxides may be reacted with nitrogen and carbon dioxide (CO 2 ). It is converted into a material that is not related to air pollution. For reference, since the amount of carbon dioxide generated is less than a few ppm, it may be extremely small to provide a cause as an environmental pollutant.
선택적으로, 저장조(600)에 수용된 환원제는 수용성(水溶性) 환원제로 구성되는 것이 바람직하다. 수용성 환원제는 화학식 4에 보여지듯이 수분(humidity)에서 발생되는 수산화기(OH-)를 갖고 있어, 다른 성질의 반응기와 화학적 결합이 쉽게 이루어질 수 있다. 구체적으로, 음이온인 수산화기가 수소(H+)와 신속하게 결합되어 물로 전환하게 되고, 질소산화물의 접촉반응 효율을 향상시켜 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 질소산화물의 체류 시간을 낮출 수 있다.Optionally, the reducing agent contained in the reservoir 600 is preferably composed of a water-soluble reducing agent. Water-soluble reducing agent as shown in formula (4) a hydroxyl group (OH -) are generated in the moisture (humidity) can be achieved here has, the easier the reactor and the chemical composition of the different properties. Specifically, the anion hydroxyl group is rapidly combined with hydrogen (H + ) is converted into water, and the contact time efficiency of the nitrogen oxide can be improved to reduce the residence time of the nitrogen oxide in the microwave plasma reactor 400.
본 발명은 전술된 바와 같이 다양한 종류의 환원제를 고온의 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 가스상으로 그리고 암모니아로 전환시킬 수 있을 뿐만 아니라 탈질반응을 동시에 유도할 수 있는 환원 영역(reduction zone)이다.The present invention is a reduction zone capable of converting various kinds of reducing agents into the gas phase and ammonia in the high temperature microwave plasma reactor 400 as well as inducing denitrification at the same time.
마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 다음과 같은 방식으로 고온의 열원을 공급받을 수 있으며, 하기에 기재된 방식 이외에도 마이크로웨이브 플라즈마를 생성할 수 있는 다른 방식을 채용할 수 있음을 미리 밝혀둔다.The microwave plasma reactor 400 may be supplied with a high temperature heat source in the following manner, and it is noted that in addition to the method described below, other methods for generating microwave plasma may be employed.
마이크로웨이브 발생기(800)는 전원의 인가에 따라 구동되어 마이크로웨이브를 발생하게 된다. 마이크로웨이브는 예컨대 웨이브가이드를 통해 플라즈마 발생기(900)로 안내되는 한편, 플라즈마 발생기(900)는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부로 뻗어 있는 유도관(T3)을 통해 플라즈마 발생가스를 반응기 내부로 배출하게 된다. 널리 알려져 있듯이, 마이크로웨이브는 극초단파로서 30MHz~30GHz의 주파수 범위를 갖는 전자기파이며, 플라즈마를 발생하는데 사용된다. 마이크로웨이브가 유전체에 조사(照射)되면 유전체의 분자들이 회전운동하게 되면서 분자들 간의 충돌로 인해 열이 발생하게 된다.The microwave generator 800 is driven according to the application of power to generate microwaves. The microwave is guided to the plasma generator 900 via, for example, a waveguide, while the plasma generator 900 discharges the plasma generating gas into the reactor through an induction pipe T3 extending into the microwave plasma reactor 400. Done. As is widely known, microwaves are microwaves and are electromagnetic waves having a frequency range of 30 MHz to 30 GHz and are used to generate plasma. When the microwave is irradiated onto the dielectric, molecules of the dielectric are rotated and heat is generated due to collision between the molecules.
플라즈마 발생기(900)는 예컨대 플라즈마 발생용 증기(steam), 미세 분사수(water), 불활성 가스 등의 플라즈마 발생가스를 마이크로웨이브 발생기(800)에서 안내된 마이크로웨이브의 진동에 노출함으로써 고열이 발생하게 되고, 발생된 고열에 의해 화염이 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 생기게 된다. 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 발생된 화염(플라즈마) 온도는 2,000~4,000℃ 일 수 있다. 이러한 고온의 반응기(400) 내에는 지속적인 플라즈마가 발생하게 된다. 플라즈마는 음전하를 가진 전자와 양전하를 가진 양이온으로 전리된 기체로서, 전리된 전자 및/또는 양이온 등이 유해가스의 분해능을 향상시킬 수 있다.The plasma generator 900 may generate high heat by exposing plasma generating gases such as, for example, steam for generating plasma, fine water, and inert gas to vibrations of the microwaves guided by the microwave generator 800. In addition, flames are generated in the microwave plasma reactor 400 by the generated high heat. Flame (plasma) temperature generated in the microwave plasma reactor 400 may be 2,000 ~ 4,000 ℃. In this high temperature reactor 400, a continuous plasma is generated. Plasma is a gas that is ionized with electrons having positive charges and cations with positive charges, and the ionized electrons and / or cations may improve the resolution of harmful gases.
널리 알려져 있듯이, 플라즈마 발생가스는 공기, 질소, 연소가스를 사용할 수 있지만, 본 발명은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내에서 질소산화물을 환원하는 것을 목적으로 하고 있다. 즉, 반응기 내에서 공기 중에 질소(N2)가 일산화질소로 전환되는 것을 방지하기 위해 증기, 미세 분사수 또는 불활성 가스를 플라즈마 발생가스로 사용하는 것이 바람직하다.As is widely known, plasma generating gas may be air, nitrogen, or combustion gas, but the present invention aims to reduce nitrogen oxides in a microwave plasma reactor. That is, in order to prevent the conversion of nitrogen (N 2 ) to nitrogen monoxide in the air in the reactor, it is preferable to use steam, fine jet water or an inert gas as the plasma generating gas.
전술된 바와 같이, 플라즈마 발생기(900)는 마이크로웨이브의 진동을 매개로 하여 고열에 의한 화염이 발생할 수 있기 때문에 별도의 점화기 등이 필요로 하지 않아 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 구조적 단순화와 내구성을 향상시킬 수 있다. As described above, the plasma generator 900 does not require a separate igniter because the flame may be generated due to the high temperature via the vibration of the microwave, so the structural simplification and durability of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention. Can improve.
전술된 바와 같이, 배기가스와 가스상 환원제가 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 이미 기술된 화학식 등을 통해 탈질반응을 일으킨다. 질소산화물이 제거된 다음에, 고온의 배출가스는 굴뚝(500)으로 배기된다. As described above, the exhaust gas and the gaseous reducing agent cause denitrification through the chemical formula and the like already described in the microwave plasma reactor 400. After the nitrogen oxides are removed, the hot exhaust gas is exhausted to the chimney 500.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 배기가스 처리장치의 공정도를 개략적으로 도시한 것으로, 본 발명의 제2 실시예에 따른 배기가스 처리장치(1')는 도 1에 도시된 배기가스 처리장치(1)의 다른 변형예로서, 집진설비(100)와 탈황설비(300)의 배치 위치를 제외하고는 매우 유사한 구조로 이루어져 있기 때문에, 본 발명의 명료한 이해를 돕기 위해서 유사하거나 동일한 구성부재에 대한 설명은 여기서 배제할 것이다. FIG. 2 schematically illustrates a process diagram of an exhaust gas treating apparatus according to a second exemplary embodiment of the present invention. The exhaust gas treating apparatus 1 ′ according to the second exemplary embodiment of the present invention is illustrated in FIG. As another modification of the treatment apparatus 1, except for the arrangement position of the dust collecting equipment 100 and the desulfurization equipment 300, it has a very similar structure, so that similar or identical configurations are provided for the clarity of understanding of the present invention. The description of the absence will be excluded here.
본 발명의 제2 실시예에 따른 배기가스 처리장치(1')는 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 배기가스를 탈황설비(300)와, 집진설비(100), 저온 플라즈마 반응기(200), 및 고온의 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에 순차적으로 통과시켜 배기가스에 함유된 오염물질, 즉 황산화물, 입자상 물질, 질소산화물 등을 제거할 수 있도록 설계되어 있다.The exhaust gas treatment apparatus 1 ′ according to the second embodiment of the present invention is configured to exhaust the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator 1000, the desulfurization facility 300, the dust collecting facility 100, the low temperature plasma reactor 200, And sequentially pass through the high temperature microwave plasma reactor 400 to remove contaminants, ie, sulfur oxides, particulate matter, nitrogen oxides, and the like contained in the exhaust gas.
배기가스 발생원(1000)의 연소를 통해 발생된 배기가스는 우선적으로 황산화물을 제거할 수 있도록 배기가스 발생원(1000) 하류, 즉 배기가스 발생원(1000)과 집진설비(100) 사이에 별도의 탈황설비(300)를 배치할 수 있다. 탈황설비(300)는 건식 탈황시스템을 채용하는 것이 바람직하다. 당해 분야의 숙련자들에게 널리 알려져 있듯이, 건식 탈황시스템은 활성탄, 탄산염 등의 입자를 배기가스와 접촉시켜 황산화물, 특히 이산화황을 흡착 또는 반응시켜 제거할 수 있다. 건식 탈황시스템은 습식 탈황시스템에 비해서 용수의 소모량이 거의 없고 배기가스를 재가열할 필요 없이 집진설비(100)로 배기가스를 안내할 수 있다. 탈황설비(300)를 통해 황산화물을 제거한 배기가스는 수분 함수율이 낮아 친수성 입자상 물질을 제거하는데 취약한 집진기(여과 집진기, 세정 집진기)를 채용할 수 있다. 예컨대, 여과집진기는 습윤상태 하에서 작동시 백필터 혹은 여과제의 공극을 폐쇄하고 차폐시켜 집진 효능을 저감시킬 수밖에 없다. Exhaust gas generated through the combustion of the exhaust gas generator 1000 is preferentially desulfurized downstream of the exhaust gas generator 1000, that is, between the exhaust gas generator 1000 and the dust collector 100 to remove sulfur oxides. The facility 300 can be arranged. The desulfurization plant 300 preferably employs a dry desulfurization system. As is well known to those skilled in the art, dry desulfurization systems can remove particles of activated carbon, carbonates and the like by adsorbing or reacting sulfur oxides, in particular sulfur dioxide, by contacting the exhaust gas. The dry desulfurization system consumes less water than the wet desulfurization system and can guide the exhaust gas to the dust collector 100 without the need to reheat the exhaust gas. The exhaust gas from which sulfur oxides are removed through the desulfurization facility 300 may employ a dust collector (filtration dust collector, cleaning dust collector) that has a low moisture content and is vulnerable to removing hydrophilic particulate matter. For example, when the bag filter is operated in a wet state, it is inevitable to reduce the collection efficiency by closing and shielding the pores of the bag filter or the filter agent.
탈황처리된 배기가스는 입자상 물질 등의 이물질을 집진하는 집진설비(100)로 안내된다. 집진설비(100)는 전술된 바와 같이 탈황설비와 탈질설비 사이에 배치되도록 하는데, 이는 입자상 물질이 탈질설비로 유입되어 불필요한 부반응을 미연에 방지할 수 있도록 한다. 당해 분야의 숙련자들에게 널리 알려져 있듯이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 배기가스 처리장치는 건식 탈황설비 하류에 다양한 유형의 집진설비, 예컨대 친수성 입자성 물질 처리에 취약한 여과 집진기, 세정 집진기 등도 설치할 수 있다. 특히, 본 발명의 제2 실시예에서는 전기 집진기를 통해 배기가스 내에 함유된 일산화질소를 이산화질소로 일부 개질하는 효과를 부가적으로 획득할 수 있다. The desulfurized exhaust gas is guided to the dust collecting facility 100 for collecting foreign matter such as particulate matter. The dust collector 100 is arranged between the desulfurization and denitrification equipment as described above, which allows particulate matter to flow into the denitrification equipment to prevent unnecessary side reactions. As is well known to those skilled in the art, the exhaust gas treating apparatus according to the second embodiment of the present invention may also install various types of dust collectors downstream of the dry desulfurization equipment, such as filter dust collectors, washing dust collectors, and the like, which are vulnerable to the treatment of hydrophilic particulate matter. Can be. In particular, in the second embodiment of the present invention, an effect of partially modifying nitrogen monoxide contained in the exhaust gas into nitrogen dioxide can be additionally obtained through an electric dust collector.
본 발명의 제2 실시예는 집진설비(100)의 후단에 저온 플라즈마 반응기(200)를 배치한다. 저온 플라즈마 반응기(200)는 집진처리된 배기가스를 저온(15~200℃) 하에서 탈질반응을 제공할 수 있다. 저온 플라즈마 반응기(200)는 일산화질소를 이산화질소나 질산으로 산화시키는 산화 영역이다. 다시 말하자면, 저온 플라즈마 반응기(200)는 일산화질소의 산화반응으로 인해 일산화질소의 농도를 감소시키고 이산화질소의 농도를 증가시키게 하는바, NO2/NO 비율이 높아지게 돕는다. 질소산화물 중에서 이산화질소의 비율이 높아질수록 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 질소산화물(NOX) 분해 속도를 향상시켜 탈질 효율을 증가시킬 수 있을 뿐만 아니라 소비 전력을 낮춰 경제성도 높일 수 있다. 저온 플라즈마 반응기(200)는 마이크로 플스 코로라 플라즈마 반응기일 수 있다. 저온이라 함은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내의 플라즈마 화염에 비해 낮은 온도라는 의미이다.According to the second embodiment of the present invention, the low temperature plasma reactor 200 is disposed at the rear end of the dust collector 100. The low temperature plasma reactor 200 may provide a denitrification reaction of the collected exhaust gas under a low temperature (15 ~ 200 ℃). The low temperature plasma reactor 200 is an oxidation region for oxidizing nitrogen monoxide to nitrogen dioxide or nitric acid. In other words, the low temperature plasma reactor 200 reduces the concentration of nitrogen monoxide due to the oxidation reaction of nitrogen monoxide and increases the concentration of nitrogen dioxide, thereby helping to increase the NO 2 / NO ratio. As the ratio of nitrogen dioxide in the nitrogen oxides increases, the denitrification efficiency can be increased by improving the nitrogen oxide (NO X ) decomposition rate in the microwave plasma reactor 400, and the economic efficiency can be improved by lowering the power consumption. The low temperature plasma reactor 200 may be a microflax corona plasma reactor. By low temperature it is meant a lower temperature than the plasma flame in the microwave plasma reactor.
덧붙여서, 집진설비(100)를 걸쳐 빠져나온 배기가스는 집진설비(100)의 일부 개질반응을 통해 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 배기가스에 비해서 NO2/NO 비율이 높은 상태로 저온 플라즈마 반응기(200)로 안내될 수 있다. 이는 저온 플라즈마 반응기(200) 내에서 이루어질 산화반응을 줄여 저온 플라즈마 반응기(200)의 운전에 따른 전력 소모를 줄일 수 있을 것이다.In addition, the exhaust gas discharged through the dust collector 100 is a low temperature plasma reactor with a higher NO 2 / NO ratio than the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator 1000 through some reforming of the dust collector 100. Guided to 200. This may reduce power consumption due to the operation of the low temperature plasma reactor 200 by reducing the oxidation reaction to be made in the low temperature plasma reactor 200.
본 발명의 제2 실시예에 따른 배기가스 처리장치는 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 배기가스에 함유된 질소산화물과 저장조(600)에서 공급된 환원제를 고온의 플라즈마 화염 하에서 분해 및/또는 환원을 통해 질소, 이산화탄소, 물 등의 가스로 전환시키는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)를 저온 플라즈마 반응기(200)의 후단에 설치하는 것을 특징으로 한다. The exhaust gas treating apparatus according to the second embodiment of the present invention decomposes and / or reduces nitrogen oxide contained in the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator 1000 and the reducing agent supplied from the storage tank 600 under a high temperature plasma flame. It is characterized in that the microwave plasma reactor 400 for converting into a gas such as nitrogen, carbon dioxide, water through the rear end of the low-temperature plasma reactor (200).
저장조(600)는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에 제공될 환원제의 공급원으로, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)로 안내될 질소산화물의 유입량에 근거하여 개량공급모듈(700)을 수단으로 하여 저장조(600)에서 소정량의 환원제를 후단 설비, 예컨대 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)로 제공한다. 이 개량공급모듈(700)은 전술된 바와 같이 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 요구하는 유량 속도를 결정하는데, 저온 플라즈마 반응기(200)에서 배출되는 질소산화물의 배출량과 이에 필요한 요소량(암모니아량)을 당량비에 따라 계산하여 개량공급모듈(700)을 통해 환원제를 공급하게 된다. 개량공급모듈(700)을 통해 제어된 환원제는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)로 공급된다.The reservoir 600 is a supply source of a reducing agent to be provided to the microwave plasma reactor 400, and the reservoir 600 is provided by the improved supply module 700 based on the inflow amount of nitrogen oxide to be guided to the microwave plasma reactor 400. ), A predetermined amount of reducing agent is provided to the back end equipment, such as the microwave plasma reactor 400. The improved supply module 700 determines the flow rate required by the microwave plasma reactor 400 as described above, the amount of nitrogen oxide discharged from the low temperature plasma reactor 200 and the amount of urea (ammonia amount) required therefor. It is calculated according to the equivalent ratio to supply the reducing agent through the improved supply module 700. The reducing agent controlled through the improved feed module 700 is supplied to the microwave plasma reactor 400.
저장조(600)는 환원제의 유동성을 향상시키고 안정성을 확보하기 위해서 통상적으로 액상 혹은 증기상의 환원제를 수용하고 있으나, 이에 국한되지 않고 다양한 조성, 예컨대 요소수, 요소(NH2CONH2), 암모니아(NH3), 탄산암모늄(NH4CO3), 시아누르산(HNCO) 등의 환원제를 수용할 수 있다. 본 발명의 환원제는 앞서 기술하였듯이 요소일 수 있는데, 이 요소가 상온 하의 수용액에서는 천천히 탄산암모늄으로 가수분해되고, 녹는점 이상에서는 승화하여 암모니아와 시아누르산으로 전환될 수 있다.The storage tank 600 contains a reducing agent in the liquid or vapor phase in order to improve the fluidity of the reducing agent and to ensure stability, but is not limited thereto, and various compositions such as urea water, urea (NH 2 CONH 2 ), and ammonia (NH 3 ), a reducing agent such as ammonium carbonate (NH 4 CO 3 ), cyanuric acid (HNCO) and the like. The reducing agent of the present invention may be urea as described above, which can be slowly hydrolyzed to ammonium carbonate in aqueous solution at room temperature, sublimed above the melting point and converted to ammonia and cyanuric acid.
본 발명은 다양한 환원제, 예컨대 암모니아 혹은 요소를 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내로 강제로 공급하여 고온 분위기 하에서 분해 혹은 액상에서 가스상으로 상변환을 야기할 수 있다.The present invention may forcibly supply various reducing agents such as ammonia or urea into the microwave plasma reactor 400 to cause decomposition under high temperature atmosphere or phase conversion from liquid phase to gas phase.
마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 예컨대 요소(혹은 요소수)의 환원제를 공급받은 후에 이러한 요소를 화학식 1과 같이 열적가수분해반응을 통해 암모니아로 개질시킬 수 있을 뿐만 아니라 화학식 2와 같이 열적분해반응을 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 일어나도록 한다.The microwave plasma reactor 400, for example, after receiving a reducing agent of urea (or urea water) may not only reform such urea with ammonia through thermal hydrolysis as shown in Chemical Formula 1, but also undergo thermal decomposition as shown in Chemical Formula 2. To occur in the microwave plasma reactor 400.
화학식 2와 같은 반응 후에는, 암모니아와 시아누르산이 생성된다. 이러한 열적분해반응을 실현하기 위해서는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 상당한 고온의 열을 필요로 한다.After the reaction as in Chemical Formula 2, ammonia and cyanuric acid are produced. In order to realize such a thermal decomposition reaction, the microwave plasma reactor 400 requires a considerable amount of heat.
다시 말하자면, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 고온의 화염, 즉 열을 이용하여 액상의 요소수 등을 요소의 분해가스인 가스상의 암모니아와 같은 환원제로 상변환시킨다. 이러한 상변환 과정을 위해서, 필요한 열은 마이크로웨이브 발생기(800)와 플라즈마 발생기(900)로 만들어진 화염을 열원으로 사용할 수 있다.In other words, the microwave plasma reactor 400 phase-converts the liquid urea water to a reducing agent such as gaseous ammonia, which is a decomposition gas of urea, using a high temperature flame, that is, heat. For this phase conversion process, the necessary heat may be a flame made of the microwave generator 800 and the plasma generator 900 as a heat source.
생성물인 암모니아와 시아누르산은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기와 같은 탈질설비 내에서 질소산화물과 반응하게 된다. 여러 반응메카니즘을 통해 가스상의 암모니아 환원제로 전환되어 질소산화물의 탈질반응이 고온의 반응기(400)에서 일어나도록 한다. 이러한 가스상 환원제는 배기가스 발생원(1000)에서 화석 연료의 연소로 발생되는 질소산화물과 화학식 3 또는 화학식 4 등의 반응을 통해 탈질될 수 있다.The products ammonia and cyanuric acid are reacted with nitrogen oxides in a denitrification system such as a microwave plasma reactor. It is converted into a gaseous ammonia reducing agent through various reaction mechanisms so that the denitrification of nitrogen oxides takes place in the high temperature reactor 400. Such a gaseous reducing agent may be denitrified through a reaction of the nitrogen oxide generated by the combustion of the fossil fuel in the exhaust gas generator 1000 with the formula (3) or the formula (4).
암모니아는 화학식 3과 같이 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 가수분해되면서 질소산화물과 반응이 야기되고, 이로 인해서 인체에 무해한 질소(N2)와 물(H2O)이 생성된다. 최종적으로, 질소와 물이 굴뚝(500)을 통해 배출되므로 대기환경의 오염원 배출을 미연에 방지할 수 있는 효과를 갖는다.As ammonia is hydrolyzed in the microwave plasma reactor 400 as shown in Chemical Formula 3, ammonia reacts with nitrogen oxides, thereby producing nitrogen (N 2 ) and water (H 2 O), which are harmless to the human body. Finally, since nitrogen and water are discharged through the chimney 500, it is possible to prevent the emission of pollutants in the air environment in advance.
저장조(600)에서 공급되거나 화학식 2로 생성된 시아누르산은 위의 화학식 4와 같이 질소산화물과 반응을 유도할 수 있는바, 화학반응이 진행되면서 유해한 질소산화물을 질소와 이산화탄소(CO2)와 같이 대기오염과 무관한 물질로 전환된다. 참고로, 이산화탄소의 발생량은 몇 ppm 미만이므로, 환경적 오염원으로서의 원인을 제공하기에는 극히 소량일 것이다.The cyanuric acid supplied from the storage tank 600 or generated by Chemical Formula 2 may induce a reaction with nitrogen oxides as shown in Chemical Formula 4 above. As the chemical reaction proceeds, harmful nitrogen oxides may be reacted with nitrogen and carbon dioxide (CO 2 ). It is converted into a material that is not related to air pollution. For reference, since the amount of carbon dioxide generated is less than a few ppm, it may be extremely small to provide a cause as an environmental pollutant.
선택적으로, 저장조(600)에 수용된 환원제는 수용성(水溶性) 환원제로 구성되는 것이 바람직하다. 수용성 환원제는 화학식 4에 보여지듯이 수분(humidity)에서 발생되는 수산화기(OH-)를 갖고 있어, 다른 성질의 반응기와 화학적 결합이 쉽게 이루어질 수 있다. 구체적으로, 음이온인 수산화기가 수소(H+)와 신속하게 결합되어 물로 전환하게 되고, 질소산화물의 접촉반응 효율을 향상시켜 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 질소산화물의 체류 시간을 낮출 수 있다.Optionally, the reducing agent contained in the reservoir 600 is preferably composed of a water-soluble reducing agent. Water-soluble reducing agent as shown in formula (4) a hydroxyl group (OH -) are generated in the moisture (humidity) can be achieved here has, the easier the reactor and the chemical composition of the different properties. Specifically, the anion hydroxyl group is rapidly combined with hydrogen (H + ) is converted into water, and the contact time efficiency of the nitrogen oxide can be improved to reduce the residence time of the nitrogen oxide in the microwave plasma reactor 400.
본 발명은 전술된 바와 같이 다양한 종류의 환원제를 고온의 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 가스상으로 그리고 암모니아로 전환시킬 수 있을 뿐만 아니라 탈질반응을 동시에 유도할 수 있는 환원 영역(reduction zone)이다.The present invention is a reduction zone capable of converting various kinds of reducing agents into the gas phase and ammonia in the high temperature microwave plasma reactor 400 as well as inducing denitrification at the same time.
마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 다음과 같은 방식으로 고온의 열원을 공급받을 수 있으며, 하기에 기재된 방식 이외에도 마이크로웨이브 플라즈마를 생성할 수 있는 다른 방식을 채용할 수 있음을 미리 밝혀둔다.The microwave plasma reactor 400 may be supplied with a high temperature heat source in the following manner, and it is noted that in addition to the method described below, other methods for generating microwave plasma may be employed.
마이크로웨이브 발생기(800)는 전원의 인가에 따라 구동되어 마이크로웨이브를 발생하게 된다. 마이크로웨이브는 예컨대 웨이브가이드를 통해 플라즈마 발생기(900)로 안내되는 한편, 플라즈마 발생기(400)는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부로 뻗어 있는 유도관(T3)을 통해 플라즈마 발생가스를 반응기 내부로 배출하게 된다. 널리 알려져 있듯이, 마이크로웨이브는 극초단파로서 30MHz~30GHz의 주파수 범위를 갖는 전자기파이며, 플라즈마를 발생하는데 사용된다. 마이크로웨이브가 유전체에 조사(照射)되면 유전체의 분자들이 회전운동하게 되면서 분자들 간의 충돌로 인해 열이 발생하게 된다.The microwave generator 800 is driven according to the application of power to generate microwaves. The microwave is guided to the plasma generator 900 via, for example, a waveguide, while the plasma generator 400 discharges the plasma generating gas into the reactor through an induction pipe T3 extending into the microwave plasma reactor 400. Done. As is widely known, microwaves are microwaves and are electromagnetic waves having a frequency range of 30 MHz to 30 GHz and are used to generate plasma. When the microwave is irradiated onto the dielectric, molecules of the dielectric are rotated and heat is generated due to collision between the molecules.
플라즈마 발생기(900)는 예컨대 플라즈마 발생용 증기(steam), 미세 분사수(water), 불활성 가스 등의 플라즈마 발생가스를 마이크로웨이브 발생기(800)에서 안내된 마이크로웨이브의 진동에 노출함으로써 고열이 발생하게 되고, 발생된 고열에 의해 화염이 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 생기게 된다. 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내에서 발생된 화염(플라즈마) 온도는 2,000~4,000℃ 일 수 있다. 이러한 고온의 반응기(400) 내에는 지속적인 플라즈마가 발생하게 된다. 플라즈마는 음전하를 가진 전자와 양전하를 가진 양이온으로 전리된 기체로서, 전리된 전자 및/또는 양이온 등이 유해가스의 분해능을 향상시킬 수 있다.The plasma generator 900 may generate high heat by exposing plasma generating gases such as, for example, steam for generating plasma, fine water, and inert gas to vibrations of the microwaves guided by the microwave generator 800. In addition, flames are generated in the microwave plasma reactor 400 by the generated high heat. Flame (plasma) temperature generated in the microwave plasma reactor 400 may be 2,000 ~ 4,000 ℃. In this high temperature reactor 400, a continuous plasma is generated. Plasma is a gas that is ionized with electrons having positive charges and cations with positive charges, and the ionized electrons and / or cations may improve the resolution of harmful gases.
널리 알려져 있듯이, 플라즈마 발생가스는 공기, 질소, 연소가스를 사용할 수 있지만, 본 발명은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내에서 질소산화물을 환원하는 것을 목적으로 하고 있다. 즉, 반응기 내에서 공기 중에 질소(N2)가 일산화질소로 전환되는 것을 방지하기 위해 증기, 미세 분사수 또는 불활성 가스를 플라즈마 발생가스로 사용하는 것이 바람직하다.As is widely known, plasma generating gas may be air, nitrogen, or combustion gas, but the present invention aims to reduce nitrogen oxides in a microwave plasma reactor. That is, in order to prevent the conversion of nitrogen (N 2 ) to nitrogen monoxide in the air in the reactor, it is preferable to use steam, fine jet water or an inert gas as the plasma generating gas.
전술된 바와 같이, 플라즈마 발생기(900)는 마이크로웨이브의 진동을 매개로 하여 고열에 의한 화염이 발생할 수 있기 때문에 별도의 점화기 등이 필요로 하지 않아 본 발명에 따른 배기가스 처리장치의 구조적 단순화와 내구성을 향상시킬 수 있다. As described above, the plasma generator 900 does not require a separate igniter because the flame may be generated due to the high temperature via the vibration of the microwave, so the structural simplification and durability of the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention. Can improve.
전술된 바와 같이, 배기가스와 가스상 환원제가 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 이미 기술된 화학식 등을 통해 탈질반응을 일으킨다. 질소산화물이 제거된 다음에, 고온의 배출가스는 굴뚝(500)으로 배기된다. As described above, the exhaust gas and the gaseous reducing agent cause denitrification through the chemical formula and the like already described in the microwave plasma reactor 400. After the nitrogen oxides are removed, the hot exhaust gas is exhausted to the chimney 500.
도 3은 도 1 또는 도 2에 도시된 마이크로웨이브 플라즈마 반응기 내부를 개략적으로 도시한 종단면도이고, 도 4는 도 3에 도시된 마이크로웨이브 플라즈마 반응기의 횡단면도이다. FIG. 3 is a longitudinal sectional view schematically showing the inside of the microwave plasma reactor shown in FIG. 1 or FIG. 2, and FIG. 4 is a cross sectional view of the microwave plasma reactor shown in FIG. 3.
도시된 바와 같이, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 이의 상측에 플라즈마 발생기(900)를 배치하고, 플라즈마 발생기(900)의 유도관(T3)을 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)의 축선상에 위치되어 하부를 향해 관입되도록 한다. As shown, the microwave plasma reactor 400 is placed on top of the plasma generator 900, the induction pipe (T3) of the plasma generator 900 is located on the axis of the microwave plasma reactor 400 Allow intrusion towards the bottom.
저장조(600)에서 길이연장된 환원제 공급관(T2)도 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부로 관입되어, 환원제를 반응기(400) 내부로 공급할 수 있도록 한다. 환원제 공급관(T2)은 환원제를 하향류로 유동시킬 수 있도록 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)의 상측을 관통해 하부를 향해 관입시킨다. 특히, 환원제 공급관(T2)의 관말부는 유도관(T3)에 합류되어, 유도관(T3)의 관말부가 화염과 함께 환원제를 반응기 내부로 분사할 수 있도록 한다. The reducing agent supply pipe T2 extended in the storage tank 600 is also introduced into the microwave plasma reactor 400, so that the reducing agent can be supplied into the reactor 400. The reducing agent supply pipe T2 penetrates through the upper side of the microwave plasma reactor 400 and flows downward to flow the reducing agent downward. In particular, the tube end of the reducing agent supply pipe (T2) is joined to the induction pipe (T3), so that the tube end of the induction pipe (T3) can be injected into the reactor with the flame.
덧붙여서, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 반응기 내부로 주입될 질소산화물 등의 배기가스를 반응기(400) 내부에서 상향류 선회될 수 있도록 분사한다. 이를 위해서, 본 발명은 제1 실시예의 탈황설비(300) 또는 제2 실시예의 저온 플라즈마 반응기(200)에서 연장된 배기가스용 이송관(T1)을 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부로 관입하는데, 이송관(T1)의 관말부가 반응기(400)의 상측방향을 향해 설치되도록 한다. 이송관(T1)으로 안내된 배기가스는 반응기 내측면을 따라 고속으로 선회하는 선회기류로 형성하여 상방으로 이동할 수 있을 것이다.In addition, the microwave plasma reactor 400 injects exhaust gas, such as nitrogen oxide, to be injected into the reactor so that it can be turned upstream in the reactor 400. To this end, the present invention injects the exhaust pipe (T1) for the exhaust gas extending from the desulfurization facility 300 of the first embodiment or the low temperature plasma reactor 200 of the second embodiment into the microwave plasma reactor 400, The tube end of the transfer pipe (T1) is to be installed toward the upper direction of the reactor (400). The exhaust gas guided to the transfer pipe T1 may be formed as a swirling airflow that rotates at high speed along the inner surface of the reactor and may move upward.
본 발명에서, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 하향류로 안내되는 환원제와 상향류로 안내되는 배기가스를 향류(counter flow) 방식으로 연속적으로 공급하여, 환원제와 배기가스의 접촉 기회를 높일 수 있다. 도시된 바와 같이, 화염과 환원제가 하향류로 형성되어 상향으로 선회되는 배기가스와 접촉되는 시간을 증가시켜 환원반응을 촉진시켜 최고의 탈질 효과를 기대할 수 있다. In the present invention, the microwave plasma reactor 400 may continuously supply the reducing agent guided in the downflow and the exhaust gas guided in an upflow in a counter flow manner, thereby increasing the chance of contact between the reducing agent and the exhaust gas. . As shown, the flame and the reducing agent are formed in a downflow to increase the time to contact with the exhaust gas is turned upwards to promote the reduction reaction can be expected the best denitrification effect.
본 발명은 환원제와 배기가스의 직접적인 접촉을 배가시킬 수 있도록 상방으로 개방된 배기가스용 이송관(T1)의 관말부와 하방으로 분사가능한 유도관(T3)의 관말부를 반응기의 길이방향에 따른 동일 축선상에 배치되도록 한다.The present invention is the same in accordance with the longitudinal direction of the reactor of the tube end of the inlet pipe (T3) which can be injected downward and the tube end of the upwardly open exhaust pipe (T1) to double the direct contact between the reducing agent and the exhaust gas Be placed on the axis.
선택가능하기로, 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)는 그 내부에 선회기(410;swirler)를 구비하여, 배기가스와 환원제의 선회기류 이동을 도울 수 있다. Optionally, the microwave plasma reactor 400 may include a swirler 410 therein to assist in swirl gas flow movement of the exhaust gas and the reducing agent.
본 발명에 따른 배기가스 처리장치에서, 질소산화물은 저온 플라즈마 반응기(200)의 산화 영역과 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)의 환원 영역을 연속적으로 통과하면서 일산화질소와 이산화질소를 낮은 수준으로 저감시킬 수 있다. 앞서 기술하였듯이, 본 발명은 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 플라즈마와 환원제에 의한 반응공정을 결합하여 탈질률의 상승과 경제성을 향상시킬 수 있다. 덧붙여서, 본 발명은 환원제의 활성화를 통해 환원제의 소비량을 현저하게 줄일 수 있게 된다. In the exhaust gas treating apparatus according to the present invention, nitrogen oxide can reduce nitrogen monoxide and nitrogen dioxide to a low level while continuously passing through the oxidation region of the low temperature plasma reactor 200 and the reducing region of the microwave plasma reactor 400. . As described above, the present invention can improve the denitrification rate and economic efficiency by combining the reaction process by the plasma and the reducing agent in the microwave plasma reactor (400). In addition, the present invention can significantly reduce the consumption of the reducing agent through the activation of the reducing agent.
이와 더불어서, 본 발명에 따른 배기가스 처리장치는 탈황설비(300)를 수단으로 하여 황산화물의 배출량을 저감시킬 수도 있다. In addition, the exhaust gas treatment apparatus according to the present invention can reduce the amount of sulfur oxides by means of the desulfurization facility (300).
이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 배기가스 처리장치는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.Although the present invention has been described in detail with reference to specific embodiments, it is intended to describe the present invention in detail, and the exhaust gas treating apparatus according to the present invention is not limited thereto. It is obvious that modifications and improvements are possible by the knowledgeable.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.All simple modifications and variations of the present invention fall within the scope of the present invention, and the specific scope of protection of the present invention will be apparent from the appended claims.
[부호의 설명][Explanation of code]
100 ----- 집진설비,100 ----- dust collector,
200 ----- 저온 플라즈마 반응기,200 ----- low temperature plasma reactor,
300 ----- 탈황설비,300 ----- desulfurization equipment,
400 ----- 마이크로웨이브 플라즈마 반응기400 ----- microwave plasma reactor
500 ----- 굴뚝,500 ----- chimney,
600 ----- 저장조,600 ----- reservoir,
700 ----- 개량공급모듈,700 ----- improved supply module,
800 ---- 마이크로웨이브 발생기,800 ---- microwave generator,
900 ----- 플라즈마 발생기,900 ----- plasma generator,
1000 ----- 배기가스 발생원.      1000 ----- Source of exhaust gas.

Claims (10)

  1. 배기가스를 배출하는 배기가스 발생원(1000)과;An exhaust gas generator 1000 for exhausting exhaust gas;
    상기 배기가스 발생원(1000)의 하류에 배치된 집진설비(100);A dust collector (100) disposed downstream of the exhaust gas generator (1000);
    상기 집진설비(100)의 하류에 배치되고, 상기 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 일산화질소(NO)를 이산화질소(NO2)로 산화시키는 저온 플라즈마 반응기(200);A low temperature plasma reactor (200) disposed downstream of the dust collector (100) and oxidizing nitrogen monoxide (NO) discharged from the exhaust gas generating source (1000) to nitrogen dioxide (NO 2 );
    상기 저온 플라즈마 반응기(200)의 하류에 배치된 탈황설비(300);A desulfurization facility (300) disposed downstream of the low temperature plasma reactor (200);
    환원제를 저장보관하는 저장조(600);A storage tank 600 for storing and storing a reducing agent;
    상기 탈황설비(300)에서 배출된 질소산화물을 함유한 배기가스를 이송관(T1)으로 공급받고, 상기 저장조(600)의 공급관(T2)으로 제공된 상기 환원제를 고온의 가스상으로 변환시켜 상기 질소산화물의 해리를 돕는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400);Receiving the exhaust gas containing nitrogen oxide discharged from the desulfurization facility 300 to the transfer pipe (T1), converts the reducing agent provided to the supply pipe (T2) of the storage tank 600 to a high temperature gas phase to the nitrogen oxide Microwave plasma reactor 400 to help dissociation of;
    전원의 인가에 따라 마이크로웨이브를 발생하는 마이크로웨이브 발생기(800); 및A microwave generator 800 generating microwaves according to the application of power; And
    상기 마이크로웨이브 발생기(800)와 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 사이에 배치되고, 유도관(T3)을 통해 상기 마이크로웨이브를 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부로 안내하여 화염을 발생시키는 플라즈마 발생기(900);로 이루어져 있는 배기가스 처리장치.Plasma generator disposed between the microwave generator 800 and the microwave plasma reactor 400, and guides the microwaves into the microwave plasma reactor 400 through the induction pipe (T3) to generate a flame 900; exhaust gas treatment device consisting of.
  2. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 집진설비(100)는 전기 집진기로 이루어져 있는 배기가스 처리장치.The dust collector 100 is an exhaust gas treatment device consisting of an electric dust collector.
  3. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 탈황설비(300)는 습식 탈황시스템으로 이루어져 있는 배기가스 처리장치.The desulfurization facility 300 is an exhaust gas treatment device consisting of a wet desulfurization system.
  4. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 저장조(600)의 공급관(T2)은 개량공급모듈(700)을 추가로 구비하는 배기가스 처리장치.Supply pipe (T2) of the reservoir 600 is an exhaust gas treatment device further comprises an improved supply module (700).
  5. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 이송관(T1)의 관말부는 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부에서 상측방향을 향해 설치되고,The tube end of the transfer pipe (T1) is installed toward the upper direction in the microwave plasma reactor 400,
    상기 유도관(T3)은 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)의 상부에서 하부를 향해 관입되며,The induction pipe (T3) is introduced from the top of the microwave plasma reactor 400 toward the bottom,
    상기 공급관(T2)은 상기 유도관(T3)에 합류되어 상기 환원제를 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 하향류로 안내하는 배기가스 처리장치.The supply pipe (T2) is joined to the induction pipe (T3) for exhaust gas treatment apparatus for guiding the reducing agent in the microwave plasma reactor (400) downstream.
  6. 배기가스를 배출하는 배기가스 발생원(1000)과;An exhaust gas generator 1000 for exhausting exhaust gas;
    상기 배기가스 발생원(1000)의 하류에 배치된 탈황설비(300);A desulfurization facility (300) disposed downstream of the exhaust gas generating source (1000);
    상기 탈황설비(300)의 하류에 배치된 집진설비(100);A dust collecting facility (100) disposed downstream of the desulfurization facility (300);
    상기 집진설비(100)의 하류에 배치되고, 상기 배기가스 발생원(1000)에서 배출되는 일산화질소(NO)를 이산화질소(NO2)로 산화시키는 저온 플라즈마 반응기(200);A low temperature plasma reactor (200) disposed downstream of the dust collector (100) and oxidizing nitrogen monoxide (NO) discharged from the exhaust gas generating source (1000) to nitrogen dioxide (NO 2 );
    환원제를 저장보관하는 저장조(600);A storage tank 600 for storing and storing a reducing agent;
    상기 저온 플라즈마 반응기(200)에서 배출된 질소산화물을 함유한 배기가스를 이송관(T1)으로 공급받고, 상기 저장조(600)의 공급관(T2)으로 제공된 상기 환원제를 고온의 가스상으로 변환시켜 상기 질소산화물의 해리를 돕는 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400);The exhaust gas containing nitrogen oxide discharged from the low temperature plasma reactor 200 is supplied to the transfer pipe T1, and the reducing agent provided to the supply pipe T2 of the storage tank 600 is converted into a high temperature gas phase to provide the nitrogen. A microwave plasma reactor 400 to assist in dissociation of oxides;
    전원의 인가에 따라 마이크로웨이브를 발생하는 마이크로웨이브 발생기(800); 및A microwave generator 800 generating microwaves according to the application of power; And
    상기 마이크로웨이브 발생기(800)와 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 사이에 배치되고, 유도관(T3)을 통해 상기 마이크로웨이브를 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부로 안내하여 화염을 발생시키는 플라즈마 발생기(900);로 이루어져 있는 배기가스 처리장치.Plasma generator disposed between the microwave generator 800 and the microwave plasma reactor 400, and guides the microwaves into the microwave plasma reactor 400 through the induction pipe (T3) to generate a flame 900; exhaust gas treatment device consisting of.
  7. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6,
    상기 집진설비(100)는 전기 집진기로 이루어져 있는 배기가스 처리장치.The dust collector 100 is an exhaust gas treatment device consisting of an electric dust collector.
  8. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6,
    상기 탈황설비(300)는 건식 탈황시스템으로 이루어져 있는 배기가스 처리장치.The desulfurization facility 300 is an exhaust gas treatment device consisting of a dry desulfurization system.
  9. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6,
    상기 저장조(600)의 공급관(T2)은 개량공급모듈(700)을 추가로 구비하는 배기가스 처리장치.Supply pipe (T2) of the reservoir 600 is an exhaust gas treatment device further comprises an improved supply module (700).
  10. 청구항 6에 있어서,The method according to claim 6,
    상기 이송관(T1)의 관말부는 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400) 내부에서 상측방향을 향해 설치되고,The tube end of the transfer pipe (T1) is installed toward the upper direction in the microwave plasma reactor 400,
    상기 유도관(T3)은 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)의 상부에서 하부를 향해 관입되며,The induction pipe (T3) is introduced from the top of the microwave plasma reactor 400 toward the bottom,
    상기 공급관(T2)은 상기 유도관(T3)에 합류되어 상기 환원제를 상기 마이크로웨이브 플라즈마 반응기(400)에서 하향류로 안내하는 배기가스 처리장치.The supply pipe (T2) is joined to the induction pipe (T3) for exhaust gas treatment apparatus for guiding the reducing agent in the microwave plasma reactor (400) downstream.
PCT/KR2016/006368 2015-06-16 2016-06-15 Exhaust gas processing device WO2016204516A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201680035416.4A CN108064187A (en) 2015-06-16 2016-06-15 Emission-control equipment

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020150084945A KR101567746B1 (en) 2015-06-16 2015-06-16 Apparatus for treating exhaust gas
KR10-2015-0084945 2015-06-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016204516A1 true WO2016204516A1 (en) 2016-12-22

Family

ID=54605194

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2016/006368 WO2016204516A1 (en) 2015-06-16 2016-06-15 Exhaust gas processing device

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101567746B1 (en)
CN (1) CN108064187A (en)
WO (1) WO2016204516A1 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107583422A (en) * 2017-10-23 2018-01-16 安徽金森源环保工程有限公司 A kind of low-temperature plasma desulfuring and denitrifying apparatus and desulfurization denitration method
CN111389190A (en) * 2020-04-17 2020-07-10 大唐环境产业集团股份有限公司 Plasma-based ship tail gas desulfurization and denitrification system and method
KR102237217B1 (en) * 2020-12-01 2021-04-07 한국에너지기술연구원 Decomposition accelerator composition for exhaust gas decomposition and exhaust gas treatment method using the same
GB2600691A (en) * 2020-11-02 2022-05-11 Edwards Ltd Plasma abatement

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109499286A (en) * 2018-12-28 2019-03-22 中科新天地(合肥)环保科技有限公司 One kind administering vulcanization exhaust gas technique and device based on lower temperature plasma technology
CN114471066A (en) * 2020-10-23 2022-05-13 陕西青朗万城环保科技有限公司 Microwave denitration method and control system thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10249151A (en) * 1997-03-08 1998-09-22 Korea Heavy Ind & Construction Co Ltd Desulfurizing/denitrifying method and device therefor
KR200207679Y1 (en) * 2000-08-08 2000-12-15 한국중공업주식회사 Combined Equipment with Plasma Reactor for Treatment of Hazardous Gas and Electrostatic Precipitator for Collection of Fly-ash and Byproducts
JP2001070749A (en) * 1999-09-09 2001-03-21 Babcock Hitachi Kk Waste gas treatment system
KR20030032309A (en) * 2001-10-17 2003-04-26 한국전력공사 The Selective Removal of Elemental Hg from Gas Mixture by Plasma
JP2007260619A (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Hitachi Plant Technologies Ltd Method and apparatus for treating exhaust gas

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004330001A (en) * 2003-04-30 2004-11-25 Nittetsu Mining Co Ltd Method and apparatus for treating nitrogen oxide-containing gas
US7368094B2 (en) * 2004-09-23 2008-05-06 General Motors Corporation Plasma-assisted NOx reduction
CN103961987B (en) * 2014-05-16 2015-12-09 电子科技大学 A kind of oxynitrides based on microwave plasma removes device
CN104437040B (en) * 2014-12-16 2017-01-04 江苏国苏检测有限公司 Removal of nitrogen oxide device based on dielectric barrier discharge reactor and removal methods thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10249151A (en) * 1997-03-08 1998-09-22 Korea Heavy Ind & Construction Co Ltd Desulfurizing/denitrifying method and device therefor
JP2001070749A (en) * 1999-09-09 2001-03-21 Babcock Hitachi Kk Waste gas treatment system
KR200207679Y1 (en) * 2000-08-08 2000-12-15 한국중공업주식회사 Combined Equipment with Plasma Reactor for Treatment of Hazardous Gas and Electrostatic Precipitator for Collection of Fly-ash and Byproducts
KR20030032309A (en) * 2001-10-17 2003-04-26 한국전력공사 The Selective Removal of Elemental Hg from Gas Mixture by Plasma
JP2007260619A (en) * 2006-03-29 2007-10-11 Hitachi Plant Technologies Ltd Method and apparatus for treating exhaust gas

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107583422A (en) * 2017-10-23 2018-01-16 安徽金森源环保工程有限公司 A kind of low-temperature plasma desulfuring and denitrifying apparatus and desulfurization denitration method
CN111389190A (en) * 2020-04-17 2020-07-10 大唐环境产业集团股份有限公司 Plasma-based ship tail gas desulfurization and denitrification system and method
CN111389190B (en) * 2020-04-17 2024-02-09 大唐环境产业集团股份有限公司 Plasma-based ship tail gas desulfurization and denitrification system and method
GB2600691A (en) * 2020-11-02 2022-05-11 Edwards Ltd Plasma abatement
KR102237217B1 (en) * 2020-12-01 2021-04-07 한국에너지기술연구원 Decomposition accelerator composition for exhaust gas decomposition and exhaust gas treatment method using the same

Also Published As

Publication number Publication date
KR101567746B1 (en) 2015-11-09
CN108064187A (en) 2018-05-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2016204516A1 (en) Exhaust gas processing device
KR101117677B1 (en) Apparatus for desulfurization and denitrification from exhaust gas of a ship
US4650555A (en) Method for corona discharge enhanced flue gas clean-up
KR100530973B1 (en) System for treating exhaust gas
WO2012064025A2 (en) System using selective catalytic reduction for improving low-temperature de-nox efficiency and reducing yellow plume
CN101810990B (en) Method for efficiently removing NOx in fume
KR101902331B1 (en) NOx reduction system using microwave plasma based on Selective Non-Catalytic Reduction
US5120516A (en) Process for removing nox emissions from combustion effluents
CN101810993B (en) Method for achieving high effective mercury removal through modifying electrostatic precipitator
CN110711470A (en) Desulfurization and denitrification purification process for incineration flue gas of biomass boiler
WO2020122619A1 (en) Porous structure-embedded diluted urea solution spray apparatus capable of precise concentration control
WO2020091392A1 (en) Integrated apparatus for treating exhaust gas using metal filter
CN211302635U (en) Biomass boiler burns flue gas desulfurization denitration clean system
CN108050850B (en) Yellow phosphorus tail gas boiler flue gas purification system and purification method
WO2016190713A1 (en) System for reducing nitrogen oxide by using microwave plasma
EP0933516B1 (en) Gasification power generation process and equipment
CN108543419A (en) A kind of refuse burning system
WO2016117736A1 (en) System for treating non-biodegradable harmful gases
WO2019069519A1 (en) Gas combustion treatment device, combustion treatment method, and gas purification system provided with gas combustion treatment device
CN1293934C (en) Method for removing multipollutant in flue gas by combining free radical showering and absorption of alkali liquor
JP2003010641A (en) Method and apparatus for purifying waste gas in coke oven gas treatment
WO2020141642A1 (en) Hazardous gas treatment system based on plasma and dielectric heating catalyst
CN110026045B (en) System-fast exhaust gas treatment device
WO2022085852A1 (en) Apparatus for simultaneously removing nitrogen oxide and sulfur oxide
KR102122253B1 (en) Apparatus for treating exhaust gas

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16811929

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 16811929

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1