WO2016076671A1 - Method and apparatus for testing flexible element - Google Patents

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김덕기
류호준
현승민
장봉균
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세종대학교산학협력단
한국기계연구원
한국전자통신연구원
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Abstract

According to the present invention, provided are a method and an apparatus for testing a flexible element, the method comprising: a step for fixing, to a main body unit, a flexible element to be measured; a step for making an electrical connection unit, which includes one or more electrode pads arranged along the circumference of a support surface included in the main body unit, and the flexible element to electrically come into contact with each other; a step for adjusting the pressure of a chamber by putting/withdrawing a medium into/from the chamber included in the main body unit; and a step for testing the flexible element deformed by the stress induced from the pressure of the chamber.

Description

유연소자의 테스트 방법 및 장치Test method and device of flexible device
본 발명은 팽창(bulge), 팽출 또는 수축상태에서 유연소자의 전기적 특성 및 기계적 특성을 평가하는 테스트 방법 및 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a test method and apparatus for evaluating the electrical and mechanical properties of a flexible device in a bulge, bulge or shrinkage state.
유연소자는 딱딱한 기판에 형성된 소자와는 달리 반복적인 스트레스가 가해져도 소자의 특성을 유지하며, 쉽게 구부러지는 특성을 가지고 있다. 따라서, 유연소자는 플렉서블 디스플레이, 터치 스크린 등의 구부러지는 전자부품, 또는 자유 곡면 위에 부착 가능한 센서 등에 사용될 수 있다.Unlike the device formed on the rigid substrate, the flexible device maintains the characteristics of the device even when repeated stress is applied and has the property of easily bending. Therefore, the flexible element may be used in a flexible electronic component such as a flexible display, a touch screen, or a sensor attachable on a free curved surface.
종래기술에서, 유연소자는 일반적으로 세라믹/금속 소재 등을 유연한 고분자 소재와 혼합하여 필름 형태로 제조한 후, 전극 증착 등의 후속 공정을 통하여 만들어진다. 또는, 기판 혹은 반도체용 웨이퍼 위에 반도체 공정을 사용하여 소자를 구현하고, 식각 공정과 전사 공정을 통해 소자를 구현하기도 한다.In the prior art, the flexible device is generally manufactured in a film form by mixing a ceramic / metal material with a flexible polymer material, and then made through a subsequent process such as electrode deposition. Alternatively, a device may be implemented using a semiconductor process on a substrate or a wafer for a semiconductor, and the device may be implemented through an etching process and a transfer process.
근래에는 가볍고 충격에 강할 뿐만 아니라 구부림이 가능한 플라스틱(plastic) 기판을 이용하는 기술이 개발되고 있다. 이와 관련하여, 한국 공개특허공보 제 10-2009-0083087호(발명의 명칭: 박막 트랜지스터, 그의 제조 방법 및 박막 트랜지스터를 구비하는 플렉서블 표시 장치)는 제조 공정을 간소화한 플렉서블 기판이 포함된 박막 트랜지스터를 개시하고 있다. Recently, a technology using a plastic substrate that is light, impact resistant and bendable has been developed. In this regard, Korean Patent Laid-Open No. 10-2009-0083087 (name of the invention: a thin film transistor, a method for manufacturing the same, and a flexible display device including the thin film transistor) includes a thin film transistor including a flexible substrate, which simplifies the manufacturing process. It is starting.
일반적으로 박막 트랜지스터는 기판상에 형성된 게이트 전극, 게이트 절연막에 의해 게이트 전극과 절연되며 채널 영역, 소스 영역 및 드레인 영역을 포함하는 반도체층, 그리고 소스 영역 및 드레인 영역과 접촉되는 소스 전극 및 드레인 전극을 포함한다.In general, a thin film transistor includes a gate electrode formed on a substrate, a semiconductor layer insulated from the gate electrode by a gate insulating layer, and including a channel region, a source region and a drain region, and a source electrode and a drain electrode in contact with the source region and the drain region. Include.
도 1은 종래의 플렉서블 기판이 포함된 박막 트랜지스터의 기계적 및 전기적 특성을 측정한 결과이다. 구체적으로, 플렉서블 기판상에 변형을 유도하여 영구적으로 변형된 기판의 기계적 및 전기적 특성한 결과이다.1 is a result of measuring the mechanical and electrical properties of a thin film transistor including a conventional flexible substrate. Specifically, the mechanical and electrical properties of the permanently deformed substrate are induced by inducing deformation on the flexible substrate.
보다 자세하게는, 도 1의 (a)는 플렉서블한 기판위에 탄소나노튜브로 형성된 박막 트랜지스터를 나타내고 있고, (d)는 플렉서블 기판의 광학적 투과도와 플렉서블 기판위의 탄소나노튜브 박막 트랜지스터가 형성된 상태의 광학적 투과도를 나타내고 있다. 또한, (b)는 박막 트랜지스터의 탑-게이트의 ID-VGS전달특성을 나타내고 있다. 이때의 ID-VGS전달특성은 드레인 전류(ID)와 게이트-소스간의 전압(VGS)의 관계를 의미한다.In detail, (a) of FIG. 1 shows a thin film transistor formed of carbon nanotubes on a flexible substrate, and (d) shows an optical transmission of the flexible substrate and an optical state of a carbon nanotube thin film transistor formed on a flexible substrate. The transmittance is shown. Also, (b) shows I D -V GS transfer characteristics of the top-gate of the thin film transistor. In this case, the I D -V GS transfer characteristic means a relationship between the drain current I D and the voltage V GS between the gate and the source.
또한, (e)는 박막 트랜지스터 상의 ID-VDS출력특성을 나타내고 있고, 이때의 ID-VDS는 드레인 전류(ID)와 드레인-소스간의 전압(VDS)의 관계를 의미한다. (c)는 기판의 구부러진 정도에 따른 변형율을 나타내고 있고, (f)는 기판의 변형율에 따른 온/오프 전류를 나타내고 있다. 특히, 도 1의 (c)를 참조하면, 기판의 변형율은 기판의 구부러진 각도(dθ)와, 곡률의 반경(D), 기판의 두께(d)를 통해서 유도될 수 있다.Further, (e) denotes an I D -V DS output characteristics on the thin film transistor, wherein the I D -V DS is a drain current (I D) and the drain-refers to the relationship between the source voltage (V DS). (c) shows the strain according to the degree of bending of the substrate, (f) shows the on / off current according to the strain of the substrate. In particular, referring to FIG. 1C, the strain of the substrate may be derived through the bent angle dθ of the substrate, the radius of curvature D, and the thickness d of the substrate.
이와 같이, 종래의 기술은 플렉서블 기판 상에 변형을 유도하여, 영구적으로 변형된 기판의 기계적 및 전기적 특성을 측정하였다. 즉, 사용자가 원하는 기계적 및 전기적 특성의 유연소자를 생산하기 위해서는, 여러 종류의 영구히 변형(plastic deformation, 소성 변형)된 기판을 제조하여야 하였으며 탄성 변형(elastic deformation)된 기판의 경우에는 측정이 불가하다는 문제가 있었다.As such, the prior art induced deformation on the flexible substrate, thereby measuring the mechanical and electrical properties of the permanently deformed substrate. In other words, in order to produce a flexible device having mechanical and electrical characteristics desired by the user, various kinds of plastic deformation substrates have to be manufactured, and in the case of elastic deformation substrates, measurement is impossible. There was a problem.
본 발명의 일부 실시예는 팽창, 팽출 또는 수축 상태에서 단계적으로 유연소자를 변형시키고, 이로 인한 유연소자의 전기적 특성 및 기계적 특성을 평가하는 테스트 방법 및 장치를 제안하는 것을 목적으로 한다.Some embodiments of the present invention aim to propose a test method and apparatus for deforming a flexible device stepwise in an expanded, expanded or contracted state, thereby evaluating the electrical and mechanical properties of the flexible device.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 제 1 측면에 따른 유연소자의 테스트 방법은 측정하고자 하는 유연소자를 본체부에 고정시키는 단계, 본체부에 포함된 지지면의 둘레를 따라 배치된 하나 이상의 전극 패드를 포함하는 전기적 접속부와 유연소자를 전기적으로 접촉하는 단계, 본체부에 포함된 챔버에 매개체를 입력 또는 출력하여 챔버의 압력을 조절하는 단계, 및 챔버의 압력에 의하여 유도된 응력에 의해 변형된 유연소자를 테스트하는 단계를 포함한다.As a technical means for achieving the above-described technical problem, the test method of the flexible device according to the first aspect of the present invention is a step of fixing the flexible device to be measured to the main body, along the circumference of the support surface included in the main body Electrically contacting a flexible device with an electrical connection including at least one electrode pad disposed thereon, adjusting a pressure of the chamber by inputting or outputting a medium into the chamber included in the body part, and induced by the pressure of the chamber. Testing the flexible element deformed by stress.
본 발명의 제 2 측면에 따른 유연소자 테스트 장치는 챔버 및 유연소자가 거치될 지지면을 포함하는 본체부, 본체부에 형성되며, 챔버의 압력 조절을 위한 매개체가 입력되는 입력부, 본체부에 형성되며, 매개체가 출력되는 출력부, 유연소자를 지지면에 고정시키는 클램핑부, 클램핑부에 형성되며, 유연소자의 일부 영역을 노출시키는 윈도우부, 지지면의 둘레를 따라 배치되며, 유연소자와의 전기적 접촉을 위한 하나 이상의 전극 패드를 포함하는 전기적 접속부, 및 입력부와 출력부의 제어를 통해 챔버의 압력을 조절하는 제어부를 포함한다. 이때, 챔버의 압력에 따라 유연소자에 응력을 제공한다.The flexible device test apparatus according to the second aspect of the present invention includes a main body portion including a chamber and a support surface on which the flexible element is to be mounted, a main body portion, and an input unit through which a medium for adjusting pressure of the chamber is input, and formed in the main body portion. And an output part for outputting the medium, a clamping part for fixing the flexible element to the support surface, and a clamping part, which is formed along a circumference of the support surface and a window part for exposing a portion of the flexible element. An electrical connection including at least one electrode pad for electrical contact, and a control unit for adjusting the pressure of the chamber through the control of the input and output. At this time, the stress is provided to the flexible device according to the pressure of the chamber.
전술한 본 발명의 과제 해결 수단 중 어느 하나에 의하면, 기계적, 및 전기적 테스트 장치를 통해 유연소자의 팽창, 팽출 또는 수축상태에서, 유연소자의 기계적, 전기적 특성을 파악할 수 있다. 또한, 팽창, 팽출 또는 수축에 의한 유연소자의 변형을 단계적으로 측정할 수 있다.According to any one of the problem solving means of the present invention described above, in the expanded, expanded or contracted state of the flexible device, the mechanical and electrical characteristics of the flexible device can be grasped. In addition, the deformation of the flexible element due to expansion, expansion or contraction can be measured step by step.
도 1은 종래의 플렉서블 기판이 포함된 박막 트랜지스터의 기계적 및 전기적 특성을 측정한 결과이다.1 is a result of measuring the mechanical and electrical properties of a thin film transistor including a conventional flexible substrate.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자의 테스트 장치를 나타낸 도면이다.2 is a view showing a test apparatus of a flexible device according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유연소자의 테스트 장치를 나타낸 도면이다.3 is a view showing a test apparatus of a flexible device according to another embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자의 테스트 방법을 나타낸 순서도이다. 4 is a flowchart illustrating a test method of a flexible device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자 테스트 장치를 이용한 소자의 전기적 특성의 예상 결과이다.5 is an expected result of the electrical characteristics of the device using the flexible device test apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 6은 발명의 일 실시예에 따른 유연소자 테스트 장치를 이용한 소자의 기계적 특성의 예상 결과이다.6 is an expected result of the mechanical properties of the device using the flexible device test apparatus according to an embodiment of the present invention.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 "전기적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is "connected" to another part, this includes not only "directly connected" but also "electrically connected" with another element in between. . In addition, when a part is said to "include" a certain component, which means that it may further include other components, except to exclude other components unless otherwise stated.
참고로, 본 명세서의 전반에 걸쳐 기술되는 유연소자는 절연성이 좋은 기판상에 증착 혹은 스퍼터링 등의 방법으로 박막을 형성시켜서 만든 수동 소자 및 박막 트랜지스터에 이용될 수 있는 능동소자를 포함할 수 있다. For reference, the flexible device described throughout the present specification may include an active device that may be used in a passive device and a thin film transistor formed by forming a thin film by a method such as deposition or sputtering on a substrate having good insulation.
예를 들어, 유연소자가 박막 트랜지스터에 이용되는 경우, 박막 트랜지스터는 기판의 역할을 하는 유연소자상에 형성된 게이트 전극, 게이트 절연막에 의해 게이트 전극과 절연되며 채널 영역, 소스영역 및 드레인 영역을 포함하는 반도체층 그리고 소스 영역 및 드레인 영역과 접촉되는 소스 전극 및 드레인 전극을 포함한다.For example, when a flexible device is used in a thin film transistor, the thin film transistor is insulated from the gate electrode by a gate electrode and a gate insulating film formed on the flexible device serving as a substrate and includes a channel region, a source region and a drain region. And a source electrode and a drain electrode in contact with the semiconductor layer and the source region and the drain region.
또한, 이때 사용되는 유연소자는 폴리머 필름으로, 폴리에스테르(polyester), 폴리비닐(polyvinyl), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리아세테이트(polyacetate), 폴리이미드(polyimide), 폴리에테르술폰(polyethersulphone; PES), 폴리아크릴레이트(polyacrylate; PAR), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthelate; PEN), 폴리에틸렌에테르프탈레이트(polyethyleneterephehalate; PET), 엘라스토머(elastomer), PDMS(Polydimethylsiloxane) 등으로 이루어진 군에서 선택된 물질로 이루어질 수 있다.In addition, the flexible device used at this time is a polymer film, polyester (polyester), polyvinyl (polyvinyl), polycarbonate (polycarbonate), polyethylene (polyethylene), polyacetate (polyacetate), polyimide, polyether sulfone (polyethersulphone; PES), polyacrylate (polyacrylate; PAR), polyethylene naphthelate (PEN), polyethyleneterephehalate (PET), elastomer (elastomer), PDMS (polydimethylsiloxane), etc. It may be made of.
일반적으로 박막 트랜지스터에서, 게이트 전극은 도전성을 지니는 금속, 카본 나노 튜브(carbon nano tube; CNT), 그래핀(graphene) 등으로 형성되고, 반도체층은 무기물 반도체, 유기물 반도체 또는 산화물 반도체로 형성될 수 있다. 소스 전극 및 드레인 전극은 금속, 카본 나노 튜브(carbon nano tube; CNT), 그래핀 (graphene) 등으로 형성될 수 있다.In general, in the thin film transistor, the gate electrode may be formed of a conductive metal, carbon nanotube (CNT), graphene, and the like, and the semiconductor layer may be formed of an inorganic semiconductor, an organic semiconductor, or an oxide semiconductor. have. The source electrode and the drain electrode may be formed of a metal, a carbon nano tube (CNT), graphene, or the like.
또한, 게이트 절연막은 저온(예를 들어, 200℃ 이하)에서 공정이 가능한 HfOx, TiOx, SiOx, SiNx, AlOx 등의 무기물이나, PVA, PVP, PMMA 등의 유기물을 종래의 코팅 방법으로 도포하여 형성할 수 있다.In addition, the gate insulating film is formed by applying an inorganic material such as HfOx, TiOx, SiOx, SiNx, AlOx, or other organic materials such as PVA, PVP, PMMA, which can be processed at low temperature (for example, 200 ° C. or lower) by a conventional coating method can do.
반도체층은 유연소자의 용융 온도보다 낮은 온도에서 형성해야 한다. 따라서, 200℃ 이하의 온도에서 공정이 가능한 화학기상증착(CVD)이나 물리기상증착(PVD) 방법을 이용할 수 있다. 또한, 반도체층은 실리콘(Si) 등의 무기물 반도체, 폴리아세틸렌(polyacetylene), 폴리티오펜(polythiophene), 폴리피롤(polypirrole), 폴리아닐린(polyaniline) 등의 유기물 반도체, 또는 산화아연(ZnO), 산화 구리 (CuOx) 등을 주성분으로 하는 산화물 반도체로 형성할 수 있다.The semiconductor layer should be formed at a temperature lower than the melting temperature of the flexible element. Therefore, chemical vapor deposition (CVD) or physical vapor deposition (PVD) methods which can be processed at a temperature of 200 ° C. or less can be used. The semiconductor layer may be formed of an inorganic semiconductor such as silicon (Si), an organic semiconductor such as polyacetylene, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, or zinc oxide (ZnO) or copper oxide. It can be formed from an oxide semiconductor containing (CuOx) or the like as a main component.
또한, 소스 전극 및 드레인 전극은 금속으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 소스 전극 및 드레인 전극은 유기 용매에 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt) 등의 금속을 섞어 잉크젯 방법으로 인쇄한 후 경화시켜 형성할 수 있다. 유연소자를 이용한 박막 트랜지스터의 경우, 유연소자가 잘 휘어지기 때문에 잉크젯 방법으로 금속을 인쇄하여 소스 전극 및 드레인 전극을 제작할 수 있다. 이와 같은, 잉크젯 방법은 마스크를 사용하지 않아도 되므로 마스크 절감 효과를 얻을 수 있다.In addition, the source electrode and the drain electrode may be formed of a metal. For example, the source electrode and the drain electrode may be formed by mixing metals such as gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), and the like in an organic solvent, and then printing and curing the ink. In the case of a thin film transistor using a flexible device, since the flexible device bends well, the source electrode and the drain electrode may be manufactured by printing a metal by an inkjet method. Since the inkjet method does not need to use a mask, a mask saving effect can be obtained.
상술한 바와 같이, 유연소자는 박막 트랜지스터에 이용될 수 있고, 기판을 움직여야 하거나 또는 부품소자를 삽입하기 위하여 기판을 굴곡지게 하는 경우에 유연하게 대응할 수 있다. As described above, the flexible element can be used in the thin film transistor, and can flexibly cope when the substrate is to be moved or the substrate is bent to insert the component element.
또한, 유연소자로 구성된 기판의 일면에는 여러 기능을 위한 박막이 형성될 수 있다. 더 나아가 전자 소자로서 반도체 칩 뿐아니라 콘덴서, 태양전지, 열전소자, 배터리 등과 같은 소자가 다수 탑재될 수도 있다. 따라서, 유연소자를 개발하고 적용하기 위해서, 유연소자의 특성을 평가하는 장치 및 방법이 필요하다.In addition, a thin film for various functions may be formed on one surface of the substrate formed of the flexible element. Furthermore, not only a semiconductor chip but also a plurality of devices such as a capacitor, a solar cell, a thermoelectric element, and a battery may be mounted as the electronic element. Therefore, in order to develop and apply a flexible device, an apparatus and method for evaluating the characteristics of the flexible device are needed.
참고로, 명세서 전반에 걸쳐 유연소자의 변형된 상태를 나타내는 용어 중 ‘팽창’은 부풀어서 부피가 커진 상태를 의미하고, ‘팽출’은 부풀어서 돌출되는 상태를 의미하고, ‘수축’은 팽창 및 팽출되었던 상태에서 원래대로 되돌아가는 상태, 또는 유연소자의 탄성한계범위 내에서 부피나 규모가 줄어들어 오그라든 상태를 의미한다.For reference, throughout the specification, the term “deformation” refers to a state in which the swelling is bulky due to swelling, and “expansion” refers to a state of bulging and protrudes, and “shrinkage” refers to expansion and It refers to a state of returning to the original state from the expanded state, or the state of shrinking in volume or scale within the elastic limit of the flexible element.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자의 테스트 장치 및 방법에 대해 설명하도록 한다.Hereinafter, a test apparatus and a method of a flexible device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자의 테스트 장치를 나타낸 도면이다. 2 is a view showing a test apparatus of a flexible device according to an embodiment of the present invention.
도 2의 (a)를 참조하면, 유연소자의 테스트 장치(10)는 본체부(100), 입력부(200), 출력부(300), 클램핑부(400), 윈도우부(500), 전기적 접속부(600), 제어부(700), 및 오링부재(800)를 포함한다.Referring to FIG. 2A, the test apparatus 10 of the flexible device may include a main body 100, an input unit 200, an output unit 300, a clamping unit 400, a window unit 500, and an electrical connection unit. 600, the control unit 700, and the O-ring member 800.
또한, 경우에 따라, 유연소자의 테스트 장치(10)는 유연소자의 전기적 특성을 측정하는 전기특성 측정기기(900), 기계적 특성을 측정하는 기계특성 측정기기(미도시됨), 및 가열장치(1000)를 더 포함할 수 있다. 여기에서 기계특성 측정기기는 유연소자가 팽창, 팽출 또는 수축되어, 솟아오르거나 수축된 만큼의 높이를 측정할 수 있는 기기이면 어떤 것이든 가능하다.In some cases, the test device 10 of the flexible device may include an electrical property measuring device 900 for measuring electrical properties of the flexible device, a mechanical property measuring device (not shown) for measuring mechanical properties, and a heating device ( 1000) may be further included. Herein, the mechanical property measuring device may be any device that can measure the height of the flexible device when it is expanded, expanded or contracted to rise or contract.
유연소자의 테스트 장치(10)를 보다 자세히 설명하면, 먼저, 본체부(100)는 챔버(110) 및 유연소자가 거치될 지지면(120)을 포함할 수 있다. 챔버(110)는 본체부(100)의 하부면에 위치하고, 지지면(120)은 챔버(110)의 상부단면의 둘레를 따라 위치할 수 있다. Referring to the test device 10 of the flexible device in more detail, first, the main body 100 may include a chamber 110 and a support surface 120 on which the flexible device is mounted. The chamber 110 may be located on the lower surface of the main body 100, and the support surface 120 may be located along the circumference of the upper end surface of the chamber 110.
이때, 챔버(110)는 매개체를 수용하여, 챔버(110) 내 압력을 조절 받을 수 있다. 여기에서 매개체는 오일(oil), 가스(gas), 및 정제된 물(distilled water) 등을 포함할 수 있으며, 이에 한정된 것은 아니다. At this time, the chamber 110 may accommodate the medium, and may receive the pressure in the chamber 110. Herein, the medium may include oil, gas, distilled water, and the like, but is not limited thereto.
특히, 본체부(100)에 형성되어 있는 입력부(200), 및 출력부(300)는 매개체를 입력 또는 출력 할 수 있다. 입력부(200), 및 출력부(300)는 본체부(100)의 어느 곳에나 위치할 수 있으나, 매개체를 입력 및 출력함에 있어서 용이한 곳이 바람직하다.In particular, the input unit 200 and the output unit 300 formed in the main body unit 100 may input or output a medium. The input unit 200 and the output unit 300 may be located anywhere in the main body unit 100, but an easy place for inputting and outputting a medium is preferable.
본체부(100)의 지지면(120)은 유연소자를 거치할 수 있다. 이때, 지지면(120)에 유연소자가 고정되도록 하는 클램핑부(400)가 형성될 수 있다. 또한, 클램핑부(400)에는 윈도우부(500)가 형성되어 유연소자의 일부 영역을 노출시킬 수 있다.The support surface 120 of the body portion 100 may mount the flexible element. In this case, a clamping part 400 may be formed to fix the flexible element to the support surface 120. In addition, the clamping part 400 may be provided with a window part 500 to expose a portion of the flexible element.
도 2의 (c)를 살펴보면, 클램핑부(400)에 천공된 홀의 영역이 윈도우부(500)이다. 따라서, 클램핑부(400)에 의해 유연소자가 지지면(120)상에 고정될 때, 윈도우부(500)를 통해 유연소자의 한쪽 면은 챔버(110)를 향해 노출되어, 챔버(110)에 저장된 매개체와 접촉할 수 있다. Referring to FIG. 2C, an area of a hole drilled in the clamping part 400 is the window part 500. Therefore, when the flexible element is fixed on the support surface 120 by the clamping part 400, one side of the flexible element is exposed toward the chamber 110 through the window portion 500, thereby to the chamber 110. Can be in contact with the stored media.
이후, 챔버(110) 내의 압력은 매개체의 입력 또는 출력에 의해 조절될 수 있으며, 이에 따라, 유연소자는 팽창, 팽출 또는 수축되어 챔버(110)의 내부 또는 외부를 향하여 휘어질 수 있다. 참고로, 윈도우부(500)는 원형, 직사각형, 정사각형, 및 타원형 중 어느 하나의 형태일 수 있다. Thereafter, the pressure in the chamber 110 may be adjusted by the input or output of the medium, and thus, the flexible element may be inflated, expanded or contracted and bent toward the inside or outside of the chamber 110. For reference, the window 500 may be in the form of any one of a circle, a rectangle, a square, and an oval.
도 2의 (d)에는 원형의 윈도우부(500)가 도시되어 있다. 윈도우부(500)의 형태에 따라서, 유연소자의 면적에 가해지는 응력 상태가 달라질 수 있다. 윈도우부(500)가 정사각형 또는 원형인 경우 유연소자에 가해지는 스트레스 상태는 쌍축응력 상태가 된다. 또한, 윈도우부(500)가 직사각형 또는 타원형인 경우 유연소자에 가해지는 스트레스 상태는 일축응력 상태가 될 수 있다. FIG. 2 (d) shows a circular window portion 500. Depending on the shape of the window 500, the stress state applied to the area of the flexible element may vary. When the window portion 500 is square or circular, the stress state applied to the flexible element is a biaxial stress state. In addition, when the window 500 is rectangular or elliptical, the stress state applied to the flexible element may be a uniaxial stress state.
윈도우부(500)가 원형인 경우, 유연소자의 전체면적에는 쌍축응력이 가해 지며 정사각형이나 직사각형의 경우와 같은 응력이 집중되어 사용자가 원하지 않는 부분으로 압력이 가해지는 경우를 최소화 시킬 수 있는 장점이 있다.When the window portion 500 is circular, biaxial stress is applied to the entire area of the flexible element, and stresses such as square or rectangle are concentrated to minimize the case where pressure is applied to a portion that is not desired by the user. have.
다음으로, 오링부재(800)는 챔버(110)의 상부단면의 둘레를 따라 배치된다. 오링부재(800)는 유연소자를 챔버(110)의 상부단면에 위치된 지지면(120)에 거치시킬 때(도 2의 (c)), 유연소자, 클램핑부(400), 및 챔버(110)의 상부단면 사이의 접촉상태를 강화시킬 수 있다. 따라서, 오링부재(800)는 챔버(110)의 상부단면과 유연소자 사이에 위치하는 것이 바람직하다.Next, the O-ring member 800 is disposed along the circumference of the upper end surface of the chamber 110. The O-ring member 800 when the flexible element is mounted on the support surface 120 located on the upper end surface of the chamber 110 (FIG. 2C), the flexible element, the clamping part 400, and the chamber 110. It is possible to strengthen the contact between the upper end of the). Therefore, the O-ring member 800 is preferably located between the upper end surface of the chamber 110 and the flexible element.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 유연소자를 지지면(120)에 거치시킨 후, 지지면(120)의 둘레를 따라 배치된 하나이상의 전극 패드(610)를 포함하는 전기적 접속부(600)와 접속시킬 수 있다(도 2의 (e)). 이때, 전기적 접속부(600)는 유연소자가 팽창, 팽출 또는 수축에 의해 점진적으로 변화함에 따라 바뀌는 전기적 신호를 실시간으로 측정할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, after mounting the flexible element on the support surface 120, the electrical connection 600 including one or more electrode pads 610 disposed along the circumference of the support surface 120 And (e) of FIG. 2. In this case, the electrical connection unit 600 may measure an electrical signal that changes as the flexible device gradually changes due to expansion, expansion, or contraction in real time.
전기적 접속부(600)는 전기특성 측정기기(900)와 연결되어 있고, 유연소자와 와이어 본딩(wire bonding)을 통해 접속될 수 있다. 전기특성 측정기기(900)는 접속된 유연소자에 대하여 전기적 특성 검출을 위한 전압 또는 전류 신호를 출력하고, 유연소자의 전극으로부터 검출된 전압 또는 전류 신호에 기초하여 전기적 특성을 산출할 수 있다.The electrical connection unit 600 is connected to the electrical characteristic measuring device 900 and may be connected to the flexible device through wire bonding. The electrical characteristic measuring apparatus 900 may output a voltage or current signal for detecting electrical characteristics with respect to the connected flexible element, and calculate an electrical characteristic based on the voltage or current signal detected from the electrode of the flexible element.
보다 자세히 설명하면, 전기특성 측정기기(900)는 유연소자의 탑-게이트의 드레인 전류(ID)와 게이트-소스간의 전압(VGS)의 관계를 나타내는 ID-VGS전달특성을 측정할 수 있고, 드레인 전류(ID)와 드레인-소스간의 전압(VDS)의 관계를 나타내는 ID-VDS출력특성을 측정할 수 있다. 또한, 박막 트랜지스터의 온/오프 전류를 측정할 수 있다. 측정된 전기적 특성으로 유동성(mobility), 문턱전압(threshold voltage), 서브 문턱 전압의 기울기 등을 산출해 낼 수 있다.In more detail, the electrical characteristic measuring apparatus 900 may measure I D -V GS transfer characteristics representing a relationship between the drain current I D of the top-gate and the voltage V GS between the gate and the source of the flexible device. And I D -V DS output characteristics indicating the relationship between the drain current I D and the voltage V DS between the drain and the source can be measured. In addition, the on / off current of the thin film transistor can be measured. Mobility, threshold voltage, slope of sub-threshold voltage, etc. can be calculated based on the measured electrical characteristics.
다음으로, 제어부(700)는 입력부(200), 및 출력부(300)의 매개체 출입을 제어할 수 있다. 이로 인해, 챔버(110) 내의 압력을 조절할 수 있다. 또한, 제어부(700)는 압력센서, 압력컨트롤러를 포함할 수 있고, 이때의 정확도는 오차범위 1%이내인 것이 바람직하다.Next, the controller 700 may control the entry and exit of the input unit 200 and the output unit 300. For this reason, the pressure in the chamber 110 can be adjusted. In addition, the controller 700 may include a pressure sensor and a pressure controller, the accuracy of which is preferably within the error range of 1%.
예를 들어, 제어부(700)에서 출력부(300)를 닫고 입력부(200)에 매개체를 입력하도록 조절하는 경우, 챔버(110) 내의 압력은 외부 환경의 압력보다 높아지고, 이로 인하여 챔버(110)와 연결된 유연소자는 챔버(110) 내부에서 챔버(110)외부의 방향으로 압력을 받게 된다. For example, when the controller 700 closes the output unit 300 and controls the input unit 200 to input the medium, the pressure in the chamber 110 is higher than the pressure of the external environment, thereby causing the chamber 110 and The connected flexible element is pressured in a direction outside the chamber 110 inside the chamber 110.
반대로, 도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유연소자의 테스트 장치를 나타낸 도면이다. 도 3을 참조하면, 유연소자가 챔버(110)의 내부의 방향으로 휘어진 것을 확인할 수 있다. 이는, 제어부(700)에서 입력부(200)를 닫고 출력부(300)에서 매개체를 출력하도록 조절하는 경우이다. 즉, 챔버(110) 내의 압력이 외부 환경의 압력보다 낮아지게 되어, 챔버(110)와 연결된 유연소자는 챔버(110) 외부에서 챔버(110) 내부의 방향으로 압력을 받게 되어 휘어질 수 있다. On the contrary, Figure 3 is a view showing a test device of the flexible device according to another embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, it can be seen that the flexible element is bent in the direction of the interior of the chamber 110. This is a case where the control unit 700 adjusts the output unit 300 to close the input unit 200 and output the medium. That is, the pressure in the chamber 110 is lower than the pressure of the external environment, so that the flexible element connected to the chamber 110 may be bent in the direction of the inside of the chamber 110 from the outside of the chamber 110.
이처럼, 제어부(700)에서 챔버(110) 내의 압력을 조절하게 되면, 챔버(110)의 지지면(120)에 고정된 유연소자는 변형될 수 있다. 이때의 변형된 정도는 기계특성 측정기기를 통해 측정될 수 있고, 변형에 의한 전기적 특성의 변화는 전기특성 측정기기(900)를 통해 측정될 수 있다.  As such, when the controller 700 controls the pressure in the chamber 110, the flexible element fixed to the support surface 120 of the chamber 110 may be deformed. In this case, the degree of deformation may be measured through a mechanical characteristic measuring instrument, and the change in electrical characteristics due to deformation may be measured by the electrical characteristic measuring apparatus 900.
이때 외부에서 할로겐 램프 또는 히터와 같은 가열장치(1000)를 사용하여 열을 가한 상태에서 변형을 유도할 수 있다. In this case, deformation may be induced in a state in which heat is applied using a heating device 1000 such as a halogen lamp or a heater from the outside.
기계특성 측정기기로 측정할 수 있는 유연소자의 기계적 특성으로는 팽창, 팽출 또는 수축으로 인한 높이 및 변위, 잔류응력(residual stress), 탄성계수 (Young’s modulus), 항복강도 (yield strength), 인장강도 (tensile strength), 가로변형과 세로변형과의 비(poisson ratio), 열팽창계수(coefficient of thermal expansion, CTE), 크리프특성 (creep properties), 및 S-N 곡선 (stress-life curves) 등이 있다. Mechanical properties of flexible devices that can be measured by measuring instruments include height and displacement due to expansion, expansion or contraction, residual stress, Young's modulus, yield strength and tensile strength. (tensile strength), the ratio of transverse and longitudinal strain (poisson ratio), the coefficient of thermal expansion (CTE), the creep properties, and the stress-life curves.
일반적으로 기계적인 특성을 측정하는 방법은 나노 압입시험법, 팽창 또는 팽출시험법(bulge test), 굽힘시험법(bending test), 마이크로 인장시험법 등이 있다.In general, the mechanical properties are measured by the nano-indentation test, the expansion or bulge test (bulge test), the bending test (bending test), the micro-tension test method.
나노 압입시험법은 일정 주파수와 진폭으로 시험기를 가진시키면서 압입시험을 수행하고 시험편의 동적 응답특성을 이용하여 박막의 기계적 특성을 평가하는 방법이다. 즉, 압자를 소재에 압입하면서 발생하는 하중과 변위를 연속적으로 측정하고, 측정된 변위와 하중으로부터 압흔의 면적을 유추할 수 있으며, 이로 인해, 잔류응력, 점탄성 물성, 유동곡선 등을 측정할 수 있다.The nano indentation test is a method of performing the indentation test with a tester at a constant frequency and amplitude and evaluating the mechanical properties of the thin film using the dynamic response characteristics of the test piece. That is, the load and displacement generated while indenting the indenter into the material can be continuously measured, and the area of the indentation can be inferred from the measured displacement and load, thereby measuring residual stress, viscoelastic properties, and flow curves. have.
한편, 팽창 또는 팽출시험법은 유연소자가 가스나 액체에 의해 변형되고, 이러한 변형을 측정함으로 박막의 응력과 변형간의 관계를 산출할 수 있다. 보통, 변형은 간섭계법(inerferometry)나 용량형게이지 등의 방법으로 측정한다. 팽창 또는 팽출시험법으로 변형된 유연소자의 박막의 높이를 측정하여 재료의 탄성과 소성거동을 구할 수 있다. 특히, 레이저를 사용한 간섭계법으로 비교군과 대조군의 굴절률 차이를 측정하여, 비교군의 변형 정도를 알 수 있다. On the other hand, in the expansion or expansion test method, the flexible element is deformed by a gas or a liquid, and by measuring the deformation, the relationship between the stress and the deformation of the thin film can be calculated. Normally, the strain is measured by an interferometry or capacitive gauge. The elasticity and plastic behavior of the material can be determined by measuring the height of the thin film of the flexible element deformed by the expansion or expansion test method. In particular, by measuring the difference in the refractive index of the comparison group and the control group by using an interferometer method using a laser can determine the degree of deformation of the comparison group.
굽힘시험법은 모터 등을 사용하여 고정된 지그(jig) 대비 이동형 지그(jig)를 움직여 굽힘 상태를 가하여 유연 소자의 기계적 특성을 측정한다.. The bending test method measures the mechanical properties of a flexible device by applying a bending state by moving a movable jig relative to a fixed jig using a motor or the like.
다음으로, 인장시험법은 유연소자를 고정시킨 후에 하중을 가하여 유연소자의 늘어난 정도를 측정할 수 있다. 예를 들어, 시험편(試驗片)의 양끝을 시험기에 고정하고, 시험편 축의 양쪽 방향으로 인장력(끌어당기는 힘)을 작용시킨 후, 간섭계법으로 비교군과 대조군의 굴절률 차이를 측정하여, 비교군의 변형 정도를 알 수 있다. Next, the tensile test method can measure the degree of extension of the flexible element by applying a load after fixing the flexible element. For example, both ends of the test piece are fixed to the tester, and a tensile force (pulling force) is applied in both directions of the test piece axis, and then the difference between the refractive indexes of the comparison group and the control group is measured by an interferometer method. The degree of deformation can be known.
한편, 전기특성 측정기기(900)는 와이어 본딩을 통해 접속된 유연소자에 대하여 전기적 특성 검출을 위한 전압 또는 전류 신호를 출력하고, 유연소자의 전극으로부터 검출된 전압 또는 전류 신호에 기초하여 전기적 특성을 산출할 수 있다.On the other hand, the electrical characteristic measuring device 900 outputs a voltage or current signal for detecting electrical characteristics to the flexible element connected through wire bonding, and based on the voltage or current signal detected from the electrode of the flexible element Can be calculated.
특히, 유연소자의 직류 특성을 측정하기 위해서, 전자기기테스트 시스템을 함께 사용하는 것이 바람직하고, 정확도는 적어도 오차범위 ±0.1%이내가 좋다. 예를 들어, 통과되는 작은 전류는 종종 게이트 누설전류일 수 있기 때문에, 게이트 누설전류가 1pA일 때, 장비의 해상도는 1fA거나 더 작아야 한다.In particular, in order to measure the DC characteristics of the flexible element, it is preferable to use an electronic test system together, and the accuracy is at least within an error range of ± 0.1%. For example, since the small current passed can often be the gate leakage current, when the gate leakage current is 1 pA, the resolution of the equipment should be 1 fA or smaller.
또한, 유연소자는 주변의 습도와 온도에 영향을 받기 때문에 같은 조건의 환경을 유지시키는 것이 중요하다. 이때, 온도의 변화는 2도 미만인 것이 바람직하다.In addition, it is important to maintain the environment under the same conditions because the flexible element is affected by the ambient humidity and temperature. At this time, the change in temperature is preferably less than 2 degrees.
온도조건을 유지하기 위해서 사용되거나, 또는 유연소자 자체에 열을 가하기 위해서 사용되는 가열장치(1000)는 히터 또는 할로겐 램프 등으로 구현될 수 있다.일례로, 가열장치(1000)가 히터의 형태로 구현될 때는 도 2의 (a)와 같이, 챔버(110)의 하단에 위치하여, 챔버(110)로 열에너지를 전달시킬 수 있다. 이에 따라 챔버(110) 내부에 있는 매개체가 활발히 운동하게 되고, 유연소자로 열 에너지를 전달할 수 있게 된다. 반면, 가열장치(1000)가 할로겐 램프의 형태로 구현될 때는 도 2의 (b)와 같이, 유연소자의 상단에 일정 간격을 두고 위치될 수 있다. 이와 같이, 가열장치(1000)는 히터, 할로겐 램프 등의 유연 소자에 열에너지를 가할 수 있는 기기이면 어떤 것이든 가능하다.The heating device 1000 used to maintain the temperature condition or used to heat the flexible element itself may be implemented as a heater or a halogen lamp. For example, the heating device 1000 is in the form of a heater. When implemented, as shown in (a) of FIG. 2, it may be located at the bottom of the chamber 110 to transfer heat energy to the chamber 110. Accordingly, the medium in the chamber 110 is actively moved, it is possible to transfer the heat energy to the flexible element. On the other hand, when the heating device 1000 is implemented in the form of a halogen lamp, as shown in Figure 2 (b), it may be positioned at a predetermined interval on the upper end of the flexible element. In this manner, the heating device 1000 may be any device that can apply thermal energy to a flexible element such as a heater or a halogen lamp.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자의 테스트 방법을 나타낸 순서도이다. 4 is a flowchart illustrating a test method of a flexible device according to an exemplary embodiment of the present invention.
참고로, 유연소자의 테스트 실시에 앞서서, 팽창, 팽출 또는 수축으로 인해 변형된 유연소자의 기계적, 전기적 특성값과 비교할 수 있는 변형되지 않은 유연소자에 대한 기계적, 전기적 특성값을 미리 확보해야 한다. For reference, before the test of the flexible device, it is necessary to secure the mechanical and electrical property values of the unmodified flexible device that can be compared with the mechanical and electrical property values of the flexible device deformed due to expansion, expansion or contraction.
또한, 몇 가지 조건을 유지시켜야 하는데, 먼저, 유연소자로 이루어진 트랜지스터의 공정과정을 동일하게 유지해야 한다. 특히, 공정과정 동안 유연소자가 얇은 층으로 박리되거나, 결함이 생기지 않도록 유지하는 것이 바람직하다.In addition, several conditions must be maintained. First, the process of a transistor made of a flexible device must be kept the same. In particular, it is desirable to keep the flexible device from being peeled into a thin layer or forming defects during the process.
다음으로, 테스트 하는 유연소자의 사이즈는 윈도우부(500)보다 큰 것이 바람직하다. 예를 들어, 윈도우부(500)보다 유연소자의 크기가 작을 경우에는 클랩핑부(400)로 지지하기가 어렵고, 윈도우부(500)와 유연소자의 크기가 비슷할 경우 팽창, 팽출또는 수축을 가하게 되면, 유연소자는 변형이 생기므로 구부러져서 윈도우부(500)보다 작아질 수 있다. 이렇게 되면 윈도우부(500)가 유연소자로 밀봉되지 않기 때문에 챔버(110) 내부가 공기중으로 노출되어, 챔버(110)의 압력을 유지시키기가 어려울 수 있다.Next, the size of the flexible device to be tested is preferably larger than the window 500. For example, when the size of the flexible element is smaller than the window portion 500, it is difficult to support the clapping portion 400, and when the size of the window portion 500 and the flexible element are similar, the expansion, expansion or contraction may be applied. When the flexible element is deformed, the flexible element may be bent and smaller than the window part 500. In this case, since the window part 500 is not sealed with the flexible element, the inside of the chamber 110 may be exposed to air, and thus it may be difficult to maintain the pressure of the chamber 110.
다음으로, 정확한 탄성과 소성거동을 구하기 위하여, 유연소자 및 유연 기판의 두께(thickness) 및 크기(dimension)를 정확히 측정하는 것이 좋다.Next, in order to obtain accurate elasticity and plastic behavior, it is preferable to accurately measure the thickness and dimension of the flexible element and the flexible substrate.
또한, 제조된 유연소자는 산화되지 않도록 잘 보관해야 한다. 유연소자를 이용하여 트랜지스터를 제작한 경우 보관 환경에 의해 전기 화학적 물성치가 변화하여 측정이 제대로 이루어지지 않을 수 있다.In addition, the manufactured flexible device should be stored well to prevent oxidation. When the transistor is manufactured using the flexible device, the measurement may not be performed properly due to the change of electrochemical properties due to the storage environment.
또한, 챔버(110)에 액체 매개체를 채울 경우, 공기방울로 인한 물성치의 변화를 야기시키지 않도록 공기방울이 생기지 않도록 하는 것이 바람직하다. In addition, when the liquid medium is filled in the chamber 110, it is preferable that air bubbles are not generated so as not to cause a change in physical properties due to air bubbles.
다시, 도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자의 테스트 방법은 측정하고자 하는 유연소자를 본체부(100)에 고정시키는 단계(S410), 본체부(100)에 포함된 지지면(120)의 둘레를 따라 배치된 하나 이상의 전극 패드(610)를 포함하는 전기적 접속부(600)와 유연소자를 전기적으로 접촉하는 단계(S420), 본체부(100)에 포함된 챔버(110)에 매개체를 입력 또는 출력하여 챔버(110)의 압력을 조절하는 단계(S430), 및 챔버(110)의 압력에 의하여 유도된 쌍축응력에 의해 변형된 유연소자를 테스트하는 단계(S440)를 포함한다.Referring back to FIG. 4, in the method of testing a flexible device according to an embodiment of the present invention, the fixing of the flexible device to be measured to the main body unit 100 (S410) and the support included in the main body unit 100 is performed. Electrically contacting the flexible device and the electrical connection part 600 including one or more electrode pads 610 disposed along the circumference of the surface 120 (S420), and the chamber 110 included in the main body part 100. Controlling the pressure of the chamber 110 by inputting or outputting the medium to the medium (S430), and testing the flexible element deformed by the biaxial stress induced by the pressure of the chamber 110 (S440). .
특히, 이때의 유연소자를 테스트하는 단계(S440)는 기계적 특성과 전기적 특성을 측정할 수 있다.In particular, the testing of the flexible device at this time (S440) can measure the mechanical and electrical properties.
유연소자의 테스트 방법은 먼저, 측정하고자 하는 유연소자를 본체부(100)에 고정한다(S410).In the test method of the flexible device, first, the flexible device to be measured is fixed to the main body unit 100 (S410).
이때, 유연소자는 윈도우부(500)를 덮으면서 지지면(120)의 둘레를 따라 고정될 수 있다. 이때, 클램핑부(400)를 이용하여 기계적으로 고정시킬 수 있다. 또한, 에폭시 칠(epoxy gluing)을 통해 완전히 밀봉을 할 수 있다. 이때, 원치 않는 구겨짐, 구브림, 현호 긴장(sheer stress) 등이 생기지 않도록 하는 것이 바람직하다.In this case, the flexible element may be fixed along the circumference of the support surface 120 while covering the window portion 500. At this time, it can be mechanically fixed using the clamping unit (400). In addition, it can be completely sealed through epoxy gluing. At this time, it is desirable to prevent unwanted wrinkles, bends, sheer stress and the like.
또한, 사용자가 원치 않는 누설(leakage)를 방지하기 위하여, 오링부재(800)를 유연소자, 클램핑부(400), 및 챔버(110)의 상부단면 사이에 배치하여 접촉상태를 강화시킬 수 있다.In addition, in order to prevent unwanted leakage of the user, the O-ring member 800 may be disposed between the flexible element, the clamping part 400, and the upper end surface of the chamber 110 to strengthen the contact state.
다음으로, 앞선단계(S410)에서 유연소자가 본체부(100)에 고정되면, 본체부(100)의 포함된 지지면(120)의 둘레를 따라 배치된 하나 이상의 전극 패드(610)를 포함하는 전기적 접속부(600)와 유연소자를 전기적으로 접촉한다(S420).Next, when the flexible device is fixed to the main body unit 100 in the previous step (S410), including one or more electrode pads 610 disposed along the circumference of the included support surface 120 of the main body unit 100 The electrical contact portion 600 and the flexible element is in electrical contact (S420).
이때, 유연소자와 전기적 접속부(600)를 와이어 본딩하여 전기적으로 접촉하게 할 수 있다.At this time, the flexible element and the electrical connection 600 may be wire-bonded to make electrical contact.
다음으로, 앞선단계(S420)에서 유연소자를 측정하기 위한 준비가 끝나면, 본체부(100)에 포함된 챔버(110)에 매개체를 입력 또는 출력하여 챔버(110)의 압력을 조절한다(S430).Next, when the preparation for measuring the flexible device in the previous step (S420) is finished, the medium is input or output to the chamber 110 included in the body portion 100 to adjust the pressure of the chamber 110 (S430). .
유연소자로부터 준정적(quasi-static) 변형을 얻기 위해서, 압력은 순차적으로 증가 혹은 감소하는 것이 좋다. 압력의 범위는 10-9/s부터 10-4/s가 바람직하다.In order to obtain quasi-static deformation from the flexible element, the pressure is preferably increased or decreased sequentially. The pressure range is preferably 10 −9 / s to 10 −4 / s.
다음으로, 앞선단계(S430)에서 조절된 챔버(110)의 압력에 의하여 유도된 팽창, 팽출 또는 수축에 의해 변형된 유연소자를 테스트한다(S440).Next, the flexible device deformed by the expansion, expansion or contraction induced by the pressure of the chamber 110 adjusted in the previous step (S430) is tested (S440).
이때, 유연소자의 기계적, 전기적 특성을 테스트 할 수 있다. 여기에서는, 탑-게이트의 드레인 전류(ID)와 게이트-소스간의 전압(VGS)의 관계를 나타내는 ID-VGS전달특성을 측정할 수 있고, 드레인 전류(ID)와 드레인-소스간의 전압(VDS)의 관계를 나타내는 ID-VDS출력특성을 측정할 수 있다. 또한, 측정된 전달 곡선(transfer curve)으로 부터Vth(ci), Vth(ext), Id(sat), Id(lin), Id(leak), Gm(max), μ(lin), μ(sat), 및 SS등의 파라미터를 추출할 수 있다. 다음으로, 각각의 파라미터들을 보다 자세히 설명하도록 한다. At this time, the mechanical and electrical characteristics of the flexible device can be tested. Here, I D -V GS transfer characteristics representing the relationship between the drain current I D of the top-gate and the voltage V GS between the gate and the source can be measured, and the drain current I D and the drain-source can be measured. I D -V DS output characteristics indicating the relationship between the voltage (V DS ) can be measured. In addition, from the measured transfer curve, V th (ci), V th (ext), I d (sat), I d (lin), I d (leak), G m (max), μ ( parameters such as lin), μ (sat), and SS can be extracted. Next, each parameter will be described in more detail.
먼저, Vth(ci)는 일정 전류문턱전압(constant current threshold voltage)를 의미하고, 다음의 수식으로 정의할 수 있다.First, V th (ci) means a constant current threshold voltage, and can be defined by the following equation.
[수학식 1][Equation 1]
Figure PCTKR2015012248-appb-I000001
Figure PCTKR2015012248-appb-I000001
위 수학식은 선형적인 범위(Vds=0.05~0.1V)에 대한 것이며, Vth(ci)는 Id 가 0.1μA X 게이트 폭(width)의 값을 가질때의 게이트 전압이다.The above equation is for the linear range (V ds = 0.05 ~ 0.1V), and V th (ci) is the gate voltage when I d has a value of 0.1 μA X gate width.
다음으로, Vth(ext)는 외삽문턱전압(extrapolated threshold voltage)을 의미하고, 다음의 수식으로 정의할 수 있다.Next, V th (ext) means extrapolated threshold voltage, and can be defined by the following equation.
[수학식 2][Equation 2]
Figure PCTKR2015012248-appb-I000002
Figure PCTKR2015012248-appb-I000002
위 수학식은 선형적인 범위(Vds=0.05~0.1V)에 대한 것이다. Vth(ext)는 Id-Vgs 의 기울기가 최대가 되었을 때의 게이트 전압이다. Vgs(gm(max))는 gm이 최대가 되었을 때의 게이트 전압이고, Id(gm(max))는 Vgs값이 Vgs(gm(max))가 되었을 때의 드레인 전류를 의미한다. gm(max)는 직류 전도도가 최대일 때의 값이다.The above equation is for the linear range (V ds = 0.05 ~ 0.1V). V th (ext) is a gate voltage when the slope of I d -V gs becomes maximum. V gs (gm (max)) is a gate voltage when gm This is the maximum, I d (gm (max) ) refers to a drain current when the V gs value is the V gs (gm (max)) . gm (max) is a value when DC conductivity is maximum.
다음으로, Id(sat)는 포화 드레인 전압(saturated drain current)을 의미하고, Vds와 Vgs값이 구동 조건에서의 전형적인 공급전압의 값일 때의 드레인 전류이다.Next, I d (sat) means saturated drain current and is the drain current when the values of V ds and V gs are typical supply voltage values under driving conditions.
다음으로, Id(lin)는 선형 드레인 전류(linear drain current)를 의미하고, Vds가 0.05V에서 0.1V 사이 값을 가지고 Vgs는 구동 조건에서의 전형적인 공급전압을 가질 때의 드레인 전류를 의미한다.Next, I d (lin) stands for linear drain current, where V ds is a value between 0.05V and 0.1V and V gs is the drain current when it has a typical supply voltage under operating conditions. it means.
다음으로, Id(leak)는 드레인 누설 전류(drain leakage current)를 의미하고, Vds는 구동 조건에서의 전형적인 공급전압이고, Vgs가 제로일 때의 드레인 전류를 의미한다.Next, I d (leak) means drain leakage current, V ds is a typical supply voltage under driving conditions, and a drain current when V gs is zero.
다음으로, Gm(max)은 최대 상호컨덕턴스(maximum trans-conductance)를 의미한다. Gm은 Id-Vgs의 기울기를 의미하고, Gm(max)은 Vgs가 Vth(ext)와 같을 때 측정된 상호컨덕턴스 값이다. 여기에서 Vds값은 선형영역으로 유지하는 것이 바람직하다.Next, Gm (max) means maximum trans-conductance. Gm is the slope of I d -V gs , and Gm (max) is the interconductance value measured when V gs is equal to V th (ext). Here, it is preferable to keep the V ds value in the linear region.
다음으로, μ(lin)는 선형유동성(linear mobility)을 의미하고, Id-Vgs의 기울기로부터 산출해 낼 수 있으며, 다음의 수학식을 따른다.Next, μ (lin) means linear mobility, which can be calculated from the slope of I d -V gs , and follows the following equation.
[수학식 3][Equation 3]
Figure PCTKR2015012248-appb-I000003
Figure PCTKR2015012248-appb-I000003
위 수학식은 선형적인 범위(Vds=0.05~0.1V)에 해당하며, Cg는 주어진 게이트 산화막의 정전용량을 의미하고, W는 게이트 폭, 그리고 L은 게이트 길이를 의미한다. The above equation corresponds to a linear range (V ds = 0.05 to 0.1V), where C g is the capacitance of a given gate oxide, W is the gate width, and L is the gate length.
다음으로, μ(sat)는 포화 유동성(saturated mobility)을 의미하며, Id-Vgs에서 다음과 같은 수학식을 이용하여 산출해 낼 수 있다.Next, μ (sat) means saturated mobility, and can be calculated using the following equation in I d -V gs .
[수학식 4][Equation 4]
Figure PCTKR2015012248-appb-I000004
Figure PCTKR2015012248-appb-I000004
포화 범위는 (Vds ≥ Vgs-Vth)이고, Cg는 주어진 게이트 산화막의 정전용량을 의미하고, W는 게이트 폭, 그리고 L은 게이트 길이를 의미한다. The saturation range is (V ds ≥ V gs -V th ), C g means capacitance of a given gate oxide film, W means gate width, and L means gate length.
다음으로, SS는 서브 문턱 기울기(sub-threshold slope)를 의미하며, 이로 인해, 얼마나 효율적으로 컨덕티브 채널이 디바이스 안에 형성되었는지 측정할 수 있고, 다음의 수학식을 이용하여 산출해 낼 수 있다.Next, SS denotes a sub-threshold slope, and thus, it is possible to measure how efficiently the conductive channel is formed in the device and calculate it by using the following equation.
[수학식 5][Equation 5]
Figure PCTKR2015012248-appb-I000005
Figure PCTKR2015012248-appb-I000005
SS는 Vgs-log10(Id) 곡선의 기울기이고, Vds가 고정된 상태에서 Log10 (Id)와 Vgs 그래프는 박막 트랜지스터의 구동영역에서의 대략적인 로그 선형 거동을 보여준다.SS is the slope of the V gs -log10 (I d ) curve, and Log10 (I d ) and V gs graphs show the approximate log linear behavior in the driving region of the thin film transistor with V ds fixed.
다음으로, 기계특성 측정기기로부터 유연소자의 팽창, 팽출 또는 수축정도, 변위 등의 기계적 특성을 얻을 수 있다. 여기에서는 주로 팽창, 팽출 또는 수축 시험법이 사용되었다. 기계특성 측정기기로부터 변형된 높이를 측정하여 유연소자의 스트레스 - 스트레인 (변형율) 등의 기계적 특성을 추출할 수 있다.Next, mechanical properties such as expansion, expansion or contraction degree, displacement, etc. of the flexible element can be obtained from the mechanical property measuring device. Here, mainly the expansion, expansion or shrinkage test was used. By measuring the deformed height from the mechanical property measuring instrument, mechanical properties such as stress-strain (strain) of the flexible device can be extracted.
한편, 기계특성 측정기기의 대표적인 장치로 마이컬슨 간섭법(Michelson interferometry)과 같은 레이저 간섭법을 이용한 측정장비는 팽창 또는 팽출된 상태의 높이를 측정할 수 있다. 측정의 원리를 살펴보면, 먼저, 소스빔이 광학적 배열을 통하여 두개의 개별 빔으로 분리될 수 있다. 그 중 하나의 빔은 팽창된 표면으로부터 반사되어 측정장비로 되돌아 온다. 이것은 레퍼런스 미러에서 반사되어 나온 다른 하나의 빔과 다시 결합할 수 있다. 두 빔의 경로 길이의 차이는 띠모양의 패턴을 발생시킬 수 있고, 띠모양의 패턴은 검은띠와 밝은띠로 구성될 수 있다. 따라서, 유연소자의 팽창, 또는 팽출 정도는 굴절되어 돌아온 빔에 의해 형성된 띠의 개수를 측정하여 확인할 수 있다.On the other hand, as a representative device of the mechanical characteristic measuring device, measuring equipment using a laser interferometry such as Michelson interferometry can measure the height of the expanded or expanded state. Looking at the principle of measurement, first, the source beam can be separated into two separate beams through an optical arrangement. One beam is reflected from the expanded surface and returned to the measuring device. This can be recombined with the other beam reflected from the reference mirror. The difference in path lengths of the two beams may generate a band-shaped pattern, and the band-shaped pattern may be composed of a black band and a light band. Therefore, the expansion, or the degree of expansion of the flexible element can be confirmed by measuring the number of bands formed by the beam that is refracted.
포토 디텍터(photo detector)와 스팟 적외선 레이저(spot infrared laser) 빛 소스는 팽창 또는 팽출된 유연소자의 최대 굴절을 측정할 수 있다. 일반적으로, 최대 높이로 팽창된 정도이거나, 또는 최대로 굴절된 정도는 유연소자의 가운데 부분에서 측정할 수 있다. 이런 경우, 레이저가 유연소자의 가운데 부분을 수직하게 비추도록 위치되어야 할 것이다.Photo detectors and spot infrared laser light sources can measure the maximum refraction of an expanded or expanded flexible device. In general, the degree of inflation to the maximum height or the maximum degree of refraction can be measured at the center of the flexible element. In this case, the laser would have to be positioned so that the center of the flexible element is illuminated vertically.
또한, 전술한 방법으로 유연소자의 변형에 따른 기계적인 특성을 측정하면서, 캐패시턴스의 변화도 함께 측정하면, 유연소자의 두께, 캐패시턴스의 변화, 압력에 의해 유연소자에 가해진 스트레스를 측정할 수 있다. 이때, 높이와 캐패시턴스의 변화는 기존에 통용되는 수학적 계산으로부터 얻어낼 수 있다.In addition, by measuring the mechanical characteristics according to the deformation of the flexible element by the above-described method, the change in capacitance can also be measured, it is possible to measure the stress applied to the flexible element by the thickness of the flexible element, the change in capacitance, the pressure. At this time, the change in height and capacitance can be obtained from conventional mathematical calculations.
한편, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자 테스트 장치를 이용한 소자의 전기적 특성의 예상 결과이다.On the other hand, Figure 5 is an expected result of the electrical characteristics of the device using the flexible device test apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예를 통해 유연소자를 이용한 박막 트랜지스터의 ID와 VGS 곡선으로 부터Vth, SS, 유동성(mobility)등의 전기적 특성을 추출할 수 있다. Referring to FIG. 5, electrical characteristics such as V th , SS, and mobility may be extracted from I D and V GS curves of a thin film transistor using a flexible device through an embodiment of the present disclosure.
선형적인 영역에서의 유동성은 ID와 VGS(=VG) 그래프의 선형 영역의 기울기로부터 추출 가능하며 선형영역의 외삽된 직선이 X축과 만나는 점이 선형영역의 Vth(=VT,문턱전압)값에 해당한다(도 5의 (a)). 여기에서 VD는 Vds와 같다. 또한 μn은 μ와 μ_bar와 같다.The fluidity in the linear domain can be extracted from the slope of the linear domain of the I D and V GS (= V G ) graphs, and the point where the extrapolated straight line of the linear domain meets the X-axis is V th (= V T) Voltage) value (Fig. 5 (a)). Where V D is equal to V ds . Μn is also the same as μ and μ_bar.
포화 영역에서의 유동성은 (ID(sat))1/2 와 VGS 그래프의 기울기로부터 추출 가능하며 외삽된 직선이 X축과 만나는 점이 포화영역의 Vth(=VT, 문턱전압)값에 해당한다(도 5의 (b)).The fluidity (I D (sat)) 1/2 and V GS of the possible extraction from the slope of the graph and points the extrapolated straight line of intersection with the X axis the saturation region V th (= V T, the threshold voltage) value at the saturation region (B) of FIG. 5).
SS(=S)는 ID (log scale)와 VGS (linear scale)의 그래프로부터 추출 가능하다(도 5의 (c)). 단결정 Si 트랜지스터의 SS값은 보통 70 mV/decade이며 SS 값이 작으면 트랜지스터가 off 상태에서 on 상태로 빠르게 켜지는 것을 의미한다.SS (= S) can be extracted from a graph of I D (log scale) and V GS (linear scale) (Fig. 5 (c)). The SS value of a single crystal Si transistor is usually 70 mV / decade, and a small SS value means that the transistor turns on quickly from off to on.
또한 기계적 특성 평가 결과의 예시는 도 6을 통해 확인할 수 있다. 도 6은 발명의 일 실시예에 따른 유연소자 테스트 장치를 이용한 소자의 기계적 특성의 예상 결과이다.In addition, an example of mechanical property evaluation results can be seen through FIG. 6. 6 is an expected result of the mechanical properties of the device using the flexible device test apparatus according to an embodiment of the present invention.
특히, 도 6은 Ag-Pd/SiNx에 대한 압력과 팽창 또는 팽출된 높이의 관계를 보여주는 결과이다. 잔류응력과 탄성계수 등의 기계적 특성이 p/h 와 h2 그래프의 기울기와 절편으로부터 추출될 수 있다.In particular, Figure 6 is a result showing the relationship between the pressure for the Ag-Pd / SiNx and the height of expansion or expansion. Mechanical properties such as residual stress and modulus can be extracted from the slopes and intercepts of the p / h and h2 graphs.
상술한바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유연소자의 테스트 방법 및 장치는 유연 기판에 제작된 소자의 전기적 특성과 기계적 특성을 측정 할 수 있다. 또한, 팽창, 팽출 또는 수축에 의한 유연소자의 변형을 단계적으로 측정 가능하다. 뿐만아니라, 반복시험 등을 통하여 또한 열을 가하는 기구를 이용한 열을 가한 상태에서 특성 평가를 진행함으로써 신뢰성 특성을 측정하는 것도 가능하다. As described above, the test method and apparatus of the flexible device according to an embodiment of the present invention can measure the electrical and mechanical properties of the device manufactured on the flexible substrate. In addition, the deformation of the flexible element due to expansion, expansion or contraction can be measured step by step. In addition, it is also possible to measure the reliability characteristics by conducting the characteristic evaluation through a repeated test or the like while applying heat using a heat applying mechanism.
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The foregoing description of the present invention is intended for illustration, and it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be easily modified in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the above description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

Claims (12)

  1. 유연소자의 테스트 방법에 있어서,In the test method of the flexible element,
    측정하고자 하는 유연소자를 본체부에 고정시키는 단계;Fixing the flexible element to be measured to the main body;
    상기 본체부에 포함된 지지면의 둘레를 따라 배치된 하나 이상의 전극 패드를 포함하는 전기적 접속부와 상기 유연소자를 전기적으로 접촉하는 단계;Electrically contacting the flexible device with the electrical connection part including at least one electrode pad disposed along a circumference of the support surface included in the main body;
    상기 본체부에 포함된 챔버에 매개체를 입력 또는 출력하여 상기 챔버의 압력을 조절하는 단계; 및Adjusting the pressure of the chamber by inputting or outputting a medium into the chamber included in the main body; And
    상기 챔버의 압력에 의하여 유도된 응력에 의해 변형된 상기 유연소자를 테스트하는 단계를 포함하는 유연소자의 테스트 방법.Testing the flexible element deformed by the stress induced by the pressure of the chamber.
  2. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 유연소자를 테스트하는 단계는Testing the flexible device is
    상기 유연소자의 전기적 특성을 측정하는 것을 포함하는 유연소자의 테스트 방법.Test method of a flexible device comprising measuring the electrical properties of the flexible device.
  3. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 유연소자를 테스트하는 단계는Testing the flexible device is
    상기 유연소자의 기계적 특성을 측정하는 것을 포함하는 유연소자의 테스트 방법.Test method for a flexible device comprising measuring the mechanical properties of the flexible device.
  4. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 유연소자를 전기적으로 접촉하는 단계는Electrically contacting the flexible device is
    상기 유연소자에 대하여 전기적 특성을 검출하기 위해 전압 또는 전류 신호를 출력할 수 있도록, 상기 전기적 접속부와 와이어 본딩으로 접촉하는 것인 유연소자의 테스트 방법.And a wire bonding contact with the electrical connection portion to output a voltage or current signal to detect an electrical characteristic with respect to the flexible element.
  5. 유연소자의 테스트 장치에 있어서,In the test apparatus of the flexible element,
    챔버 및 상기 유연소자가 거치될 지지면을 포함하는 본체부;A main body including a chamber and a support surface on which the flexible element is mounted;
    상기 본체부에 형성되며, 상기 챔버의 압력 조절을 위한 매개체가 입력되는 입력부;An input unit formed in the main body unit and receiving a medium for adjusting the pressure of the chamber;
    상기 본체부에 형성되며, 상기 매개체가 출력되는 출력부;An output part formed in the main body part and outputting the medium;
    상기 유연소자를 상기 지지면에 고정시키는 클램핑부;A clamping part for fixing the flexible element to the support surface;
    상기 클램핑부에 형성되며, 상기 유연소자의 일부 영역을 노출시키는 윈도우부;A window portion formed in the clamping portion and exposing a portion of the flexible element;
    상기 지지면의 둘레를 따라 배치되며, 상기 유연소자와의 전기적 접촉을 위한 하나 이상의 전극 패드를 포함하는 전기적 접속부; 및An electrical connection portion disposed along a circumference of the support surface and including one or more electrode pads for electrical contact with the flexible element; And
    상기 입력부와 출력부의 제어를 통해 상기 챔버의 압력을 조절하는 제어부를 포함하되,It includes a control unit for adjusting the pressure of the chamber through the control of the input unit and the output unit,
    상기 제어부는 상기 챔버의 압력에 따라 상기 유연소자에 응력을 제공하는 유연소자 테스트 장치.The control unit is a flexible device test device for providing a stress to the flexible device in accordance with the pressure of the chamber.
  6. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein
    상기 유연소자의 전기적 특성을 측정하는 전기특성 측정기기를 더 포함하되,Further comprising an electrical characteristic measuring device for measuring the electrical characteristics of the flexible device,
    상기 전기특성 측정기기는 상기 전기적 접속부와 와이어 본딩을 통해 접속된 상기 유연소자에 대하여 전기적 특성 검출을 위한 전압 또는 전류 신호를 출력하고,The electrical characteristic measuring device outputs a voltage or current signal for detecting electrical characteristics with respect to the flexible element connected to the electrical connection through the wire bonding,
    상기 유연소자의 전극으로부터 검출된 전압 또는 전류 신호에 기초하여 전기적 특성을 산출하는 유연소자의 테스트 장치.And a device for calculating electrical characteristics based on a voltage or current signal detected from an electrode of the flexible device.
  7. 제 5 항에 있어서, The method of claim 5, wherein
    상기 챔버는 상기 본체부의 하부면에 위치하고, 상기 지지면은 상기 챔버의 상부단면의 둘레를 따라 위치하는 것인 유연소자의 테스트 장치.The chamber is located on the lower surface of the body portion, the support surface is a test device of the flexible device is located along the circumference of the upper end surface of the chamber.
  8. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein
    상기 윈도우부는The window portion
    원형, 직사각형, 정사각형, 및 타원형 중 어느 하나인 유연소자의 테스트 장치.Test device for a flexible device of any one of circular, rectangular, square, and oval.
  9. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein
    상기 챔버의 상부단면의 둘레를 따라 배치되며, 상기 유연소자, 상기 클램핑부 및 상기 챔버의 상부단면 사이의 접촉상태를 강화하는 오링부재를 더 포함하는 유연소자의 테스트 장치.Arranged along the periphery of the upper end surface of the chamber, further comprising an O-ring member for strengthening the contact between the flexible element, the clamping portion and the upper end surface of the chamber.
  10. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein
    상기 소자의 팽창, 팽출 또는 수축에 따른 기계적 특성을 측정하는 기계특성 측정기기를 더 포함하는 유연소자의 테스트 장치.The apparatus for testing a flexible device further comprises a mechanical property measuring device for measuring the mechanical properties of the expansion, expansion or contraction of the device.
  11. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein
    상기 챔버 내의 온도를 조절할 수 있는 가열장치를 더 포함하는 유연소자의 테스트 장치.And a heating device capable of adjusting the temperature in the chamber.
  12. 제 11 항에 있어서, The method of claim 11,
    상기 제어부는The control unit
    상기 가열장치를 이용하여 열을 가한 상태에서 반복테스트를 통해 신뢰성을 평가하는 것인 유연소자의 테스트 장치.Test device for a flexible device that evaluates the reliability through a repeated test in the state of applying heat using the heating device.
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