WO2016023903A1 - Organisches licht emittierendes bauelement und verfahren zur herstellung eines organischen licht emittierenden bauelements - Google Patents

Organisches licht emittierendes bauelement und verfahren zur herstellung eines organischen licht emittierenden bauelements Download PDF

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organic
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    • H10K85/10—Organic polymers or oligomers

Definitions

  • OLEDs organic light-emitting diodes
  • the organic semiconductor materials used in the organic light-emitting diodes have a refractive index in the range of about n-1, 8. Because of this comparably high
  • Refractive index reaches lower material layers due to total reflection at the interfaces
  • Refractive index for example, the substrate glass with n ⁇ l, 5 or air with n ⁇ l
  • Refractive index is reduced, or to use individual special materials with low refractive index.
  • known measures are limited to the
  • An object to be solved is to provide an organic light emitting device with an efficient
  • an object to be solved is to reduce the refractive index within the organic layer sequence appropriately.
  • the organic light-emitting component is an organic light-emitting diode, in short OLED.
  • this comprises a carrier.
  • the carrier preferably has a radiation-transmissive
  • the carrier in particular transparent or milky turbid material, for example glass, on.
  • the carrier consists of at least one transparent material.
  • the carrier may be formed as a substrate, which is suitable for applying an organic layer sequence.
  • the carrier may comprise or consist of a conductive material.
  • an organic layer sequence is arranged on the carrier.
  • the organic layer sequence comprises at least one emitter layer.
  • the at least one emitter layer contains a light-emitting material which is suitable for light of a first
  • Wavelength range to emit
  • the organic layer sequence comprises
  • organic layer sequence is not limited to this case in the context of this application, but rather, the organic layer sequence may also consist of only one
  • the organic light emitting Component be designed as a light-emitting organic electrochemical cell (organic light emitting electrochemical cell, OLEC or OLEEC), which regularly has only a single organic layer.
  • the at least one emitter layer has, for example, in each case a thickness of> 50 nm, for example ⁇ 100 nm, for example 150 150 nm.
  • the at least one emitter layer may have a thickness of ⁇ 400 nm, for example -S 300 nm, for example -S 250 nm.
  • the at least one emitter layer will be referred to as the emitter layer.
  • the emitter layer when the emitter layer is mentioned, a plurality of
  • Emitter layers meant. If the layer sequence has at least two emitter layers, at least two individual emitter layers can be connected to one another, for example via at least one charge generation layer, CGL for short. Furthermore, each emitter layer itself may have a plurality of differently or identically formed emitter layers which adjoin one another directly.
  • Wavelength range is preferably light in the visible range, for example white, blue, green or red
  • the emitter layer may be provided with one or more different fluorescent and / or phosphorescent
  • Emitter layer emitted light can be adjusted. Furthermore, if present, different emitter layers may be provided with different emitter materials.
  • the intensity maximum of the light emitted by the emitter layer is preferably in the visible spectral range of the electromagnetic spectrum and can be
  • the organic layer sequence can have several further organic layers.
  • the organic layer sequence can have several further organic layers.
  • the organic layer sequence can have several further organic layers.
  • the organic layer sequence can have several further organic layers.
  • the organic layer sequence can have several further organic layers.
  • the organic layer sequence on at least one hole transport layer, for example, adjacent to the emitter layer.
  • the organic layer sequence has at least one hole injection layer which is provided for the effective injection of holes into the organic layer sequence.
  • the organic layer sequence may comprise at least one electron-transport layer and / or at least one
  • Electron-transport layer for example, each have a thickness of> 10 nm, for example ⁇ 30 nm, for example ⁇ 50 nm. Alternatively or additionally, have the
  • Hole transport layer and the electron transport layer each have a thickness of ⁇ 300 nm, for example -S 200 nm, for example -S 100 nm.
  • Electron injection layer for example, each have a thickness of> 10 nm, for example ⁇ 30 nm,
  • the organic layer sequence has, for example, a total thickness of> 50 nm or> 200 nm or> 500 nm.
  • Layer sequence for example, a total thickness of ⁇ 2000 nm, for example -S 1000 nm, for example -S 700 nm.
  • this has a first electrode and a second electrode.
  • the first electrode is formed, for example, as an anode.
  • the second electrode is formed, for example, as a cathode.
  • the anode and the cathode can serve for electrical contacting of the organic layer sequence.
  • the organic layer sequence can be arranged between the anode and the cathode.
  • the anode is adjacent to a hole injection layer of the organic
  • the cathode can, for example, to a
  • the anode and / or the cathode preferably have one
  • the anode and / or the cathode are made of a material which is transparent to the light emitted by the emitter layer,
  • an electrode for example the anode or the
  • Cathode have a reflective material, for example silver or aluminum.
  • the anode and the cathode each have a thickness of> 20 nm, for example ⁇ 30 nm, for example ⁇ 50 nm.
  • the anode and the cathode each have a thickness of ⁇ 400 nm, for example -S 300 nm, for example -S 250 nm.
  • the organic light-emitting component comprises a plurality of
  • Nanostructures wherein the nanostructures have a refractive index which is smaller than a refractive index of the light-emitting material of the emitter layer, and wherein at least some of the nanostructures protrude into the emitter layer or pierce the emitter layer.
  • the fact that a nanostructure pierces the emitter layer may in particular mean that the nanostructure protrudes through the emitter layer. In particular, then extends the
  • a vertical direction is understood as meaning a direction perpendicular to a main extension plane of the emitter layer and / or of the carrier.
  • a lateral direction is understood analogously to a direction parallel to a main extension plane of the emitter layer and / or of the carrier.
  • the refractive index is to be understood in each case the refractive index that the relevant material in the first
  • Wavelength range of the emitted light from the emitter layer is the refractive index at the first wavelength or the refractive index averaged over the entire first wavelength range.
  • the average refractive index is in the region of the emitter layer and preferably in the region of the entire layer sequence
  • Input power an equal or higher light output compared with an organic light emitting
  • organic layer sequence is produced, which may in particular contain solution-processed materials. This may be due to already available techniques for
  • the refractive index is the
  • the refractive index of the nanostructures is smaller than that
  • the refractive index of the nanostructures may be smaller than the average refractive index of all organic materials of the organic layer sequence.
  • the refractive index of the nanostructures may be smaller than the average refractive index of all organic materials of the organic layer sequence.
  • Nanostructures have a refractive index which is smaller than a refractive index of the carrier, the first electrode and / or the second electrode.
  • the refractive index of the nanostructures is preferably ⁇ 1.7, for example ⁇ 1.5, for example ⁇ 1.45 or 1.4 or 1.35.
  • the nanostructures may be in direct contact with the first electrode or with the second electrode.
  • the nanostructures are preferably grown on the first electrode or on the second electrode.
  • the nanostructures are of columnar design are and the nanostructures extend along a vertical direction.
  • the nanostructures can be formed as nanotubes or so-called nanorods.
  • the nanostructures may be cylindrical and have a substantially circular, elliptical or polygonal cross section.
  • the nanostructures may have a tapered shape, for example in one
  • the nanostructures may also extend in a direction which includes a finite angle with the vertical direction.
  • the nanostructures extend in a vertical direction at least along 75% of the height of the entire organic layer sequence.
  • some or all of the nanostructures may pierce the entire organic layer sequence.
  • the nanostructures have a lateral dimension, that is to say in particular a diameter in a lateral dimension
  • the nanostructures are hollow.
  • the nanostructures may have air pockets or cavities filled with a gas. This has the advantage that the nanostructures can be formed from a material which, for example, has a greater refractive index than the light-emitting material. The reduction of the effective refractive index is achieved by the low refractive index of the gas contained in the cavities.
  • the nanostructures consist of an at least partially transparent or only slightly light-absorbing material.
  • the nanostructures may comprise Si0 2 , MgF 2 or cryolite as the material component.
  • Silica has a refractive index of n ⁇ 1.5,
  • Nanostructures are introduced, can be reduced to a value corresponding to the volume fraction of the nanostructures between the refractive index of the organic material and the refractive index of the first nanostructures.
  • organic layer sequence at least 10% and a maximum of 70%.
  • volume fraction of the first organic layer sequence at least 10% and a maximum of 70%.
  • the volume fraction of the first nanostructures in the at least one emitter layer is at most 70%, for example ⁇ 65%, for example 60 60%.
  • the volume fraction of the nanostructures is preferably more than 50%.
  • the nanostructures may comprise a low-refractive polymer as the material component.
  • a low-refractive polymer for this example, come PTFE (polytetrafluoroethylene) and its
  • the light-emitting organic component it is provided that the
  • Layer sequence comprises a plurality of emitter layers, which are provided for the emission of electromagnetic radiation and that at least some of the nanostructures
  • adjacent emitter layers can be a
  • Charge generation layer short CGL, be arranged.
  • the refractive index of the light-emitting organic component the refractive index of the light-emitting organic component
  • organic layer sequence a similar value as the refractive index of the first electrode and / or the second electrode and / or the carrier.
  • all organic layers have a refractive index whose value differs by ⁇ 0.1, for example -S-0.05, for example -S-0.02 from the refractive index of the first electrode and / or the second electrode and / or the carrier.
  • this has coupling-out structures.
  • Layer sequence be appropriate, for example, between the anode and the organic layer sequence and / or between the cathode and the organic layer sequence.
  • coupling-out structures can also be attached to one side of the carrier facing away from the organic layer sequence.
  • the coupling-out structures can be designed in the form of coupling-out foils or as structured interfaces.
  • the coupling-out structures can scatter centers
  • Component comprises the following method steps: a) providing a carrier,
  • a layer or an element is arranged or applied "on” or “above” another layer or another element can mean here and below that the one layer or the one element is directly in direct mechanical and / or electrical contact is arranged on the other layer or the other element.
  • the one layer or the one element is arranged indirectly on or above the other layer or the other element.
  • the nanostructures are produced using a
  • Vapor deposition method for example one
  • PVD physical vapor deposition
  • the two-dimensional coating can also be directly photolithographically
  • the organic layer sequence is formed by
  • solution-processed organic semiconductor materials may be deposited in the regions between the nanostructures using a liquid phase deposition process.
  • Possible methods are, for example, slot casting (engl. slot the coating), doctor blading, spin coating, ink jet printing or spray coating.
  • FIGS 1 to 3 are schematic representations of
  • Figures 4 to 8 an embodiment of a method for producing an organic light
  • Figure 1 is a sectional view of a first
  • the device 100 comprises a carrier 30, on which an anode 11 is arranged.
  • an organic layer sequence 23 is arranged on the side facing away from the carrier 30 side of the anode 11.
  • the organic layer sequence 23 is furthermore a cathode 12 in the direction away from the carrier arranged downstream, which may be formed, for example, reflective.
  • the carrier 30 preferably has a transparent material for a light generated by the organic layer sequence 23, for example glass.
  • the anode 11 preferably comprises a transparent conductive material.
  • the anode 11 is off
  • ITO short Indium tin oxide, ITO short, made.
  • the arranged on the anode 11 organic layer sequence 23 has in the given embodiment, three organic layers.
  • the layer adjacent to the anode 11 is formed as a hole transport layer 21.
  • the layer adjacent to the cathode 12 is formed as an electron transport layer 22.
  • Electron transport layer 22 an emitter layer 20 is arranged.
  • the emitter layer 23 may be, for example
  • the emitter layer may comprise, for example, organic polymers, organic oligomers, organic monomers or organically small non-polymeric molecules or contain a combination of these materials.
  • Emitter layer introduced emitter materials 20 may be provided for generating light of different wavelengths, for example for the generation of blue light or green light or red light.
  • the emitter layer 20 may, for example, also have a mixture of different emitters, so that the emitter layer 20 emits mixed light, for example white light.
  • the Emitter layer 20 a plurality of individual emitters
  • Emitter layers have, for example, each emitting light of different colors.
  • a first emitter layer can emit red light
  • a second emitter layer can emit green light
  • a third emitter layer can emit blue light.
  • the emitter layer 20 has, for example, a thickness of approximately 200 nm.
  • Layers such as electron injection layers or hole injection layers include.
  • the organic layer stack 23 is penetrated by a multiplicity of nanostructures 40 which have a refractive index which is less than a refractive index of the light-emitting material of the emitter layer 20 and which respectively
  • the nanostructures 40 are grown on the anode 11 and therefore are in direct contact with the anode 11.
  • the nanostructures 40 are formed in a columnar shape and extend along a vertical direction, wherein they pierce the entire organic layer sequence 23.
  • the nanostructures 40 are arranged irregularly. However, they can also be arranged regularly, for example in a two-dimensional grid.
  • the nanostructures 40 have in the described
  • Embodiment a cylindrical shape with an im
  • FIG. 2 shows a further exemplary embodiment of a light-emitting organic component 100. Differing from the structure shown in FIG. 2
  • Layer sequence 23 two emitter layers 20, 24, which are each provided for the emission of electromagnetic radiation.
  • the nanostructures 40 pierce both emitter layers 20, 24 and thereby provide a
  • FIG. 3 shows a perspective view of the
  • the nanostructures 40 are arranged irregularly.
  • a volume fraction of the nanostructures 40 in the organic layer sequence 23 is at least 10% and at most 70%.
  • a decoupling layer is arranged in the form of a film.
  • Figures 4 to 8 show an embodiment of a method for producing an organic light
  • a carrier 30 is provided. Subsequently, a transparent anode 11 is formed on the carrier 30 (FIG. 5). In the method step illustrated in FIG. 6, a multiplicity of nanostructures 40 are formed on the transparent anode 11, in particular using a
  • Vapor deposition method for example one
  • PVD physical vapor deposition
  • an organic layer sequence 23 is formed at least in the regions between the nanostructures 40 by
  • solution-processed organic semiconductor materials are deposited in the regions between the nanostructures using a liquid phase deposition process, i. Solvent-based processes are used. Possible methods are, for example, slot the coating, doctor blading,
  • a cathode 12 is formed on the organic layer sequence 23.
  • the invention described here is not by the

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Abstract

Es wird ein Licht emittierendes Bauelement (100) angegeben, welches einen Träger (30), eine auf dem Träger (30) angeordnete organische Schichtenfolge (23) mit zumindest zwei organischen Schichten,darunter einer Emitterschicht (20), eine erste Elektrode (11) und eine zweite Elektrode (12) und eine Vielzahl von Nanostrukturen (40) umfasst, wobei die Nanostrukturen einen Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als ein Brechungsindex des lichtemittierenden Materials der Emitterschicht (20) und wobei zumindest einige der Nanostrukturen (40) in die Emitterschicht (20) hineinragen oder die Emitterschicht (20) durchstoßen. Es wird außerdem ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements angegeben.

Description

Beschreibung
Organisches Licht emittierendes Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht emittierenden Bauelements
Es werden ein organisches Licht emittierendes Bauelement und ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht
emittierenden Bauelements angegeben. Diese Patentanmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentanmeldung 102014111424.8, deren Offenbarungsgehalt hiermit durch Rückbezug aufgenommen wird.
Bei organischen Leuchtdioden (OLEDs) wird lediglich ein Teil des generierten Lichts direkt ausgekoppelt. Das restliche im aktiven Bereich erzeugte Licht verteilt sich auf verschiedene Verlustkanäle, so etwa in Licht, das im Substrat, in einer transparenten Elektrode und in organischen Schichten durch Wellenleitungseffekte geführt wird, sowie in
Oberflächenplasmonen, die in einer metallischen Elektrode erzeugt werden können. Die Wellenleitungseffekte kommen insbesondere durch die Brechungsindexunterschiede an den Grenzflächen zwischen den einzelnen Schichten und Bereichen einer OLED zustande. Typischerweise wird bei bekannten OLEDs nur etwa ein Viertel des im aktiven Bereich erzeugten Lichts in die Umgebung, also beispielsweise Luft, ausgekoppelt, während etwa 25% des erzeugten Lichts durch Wellenleitung im Substrat, etwa 20% des erzeugten Lichts durch Wellenleitung in einer transparenten Elektrode und den organischen
Schichten und etwa 30% durch die Erzeugung von
Oberflächenplasmonen in einer metallischen Elektrode für die Abstrahlung verloren gehen. Die in den organischen Leuchtdioden verwendeten organischen Halbleitermaterialien haben einen Brechungsindex im Bereich von etwa n~l,8. Wegen dieses vergleichbar hohen
Brechungsindex gelangt aufgrund von Totalreflektion an den Grenzflächen zu Materialschichten mit niedrigerem
Brechungsindex (zum Beispiel dem Substratglas mit n~l,5 oder Luft mit n~l) ein großer Teil des erzeugten Lichts nicht aus dem organischen Schichtenstapel, wodurch die Effizienz der Bauelemente beeinträchtigt wird.
Aus dem Stand der Technik sind Verfahren bekannt, um
organische Halbleitermaterialien mit verringertem
Brechungsindex bereitzustellen. Beispielsweise ist bekannt, die chemische Struktur einzelner organischer
Halbleitermaterialien derart zu modifizieren, dass der
Brechungsindex herabgesetzt wird, oder einzelne spezielle Materialien mit niedrigem Brechungsindex zu verwenden. Die bekannten Maßnahmen beschränken sich jedoch auf die
Verwendung dieser Materialien in einer einzelnen
Ladungstransportschicht im organischen Schichtstapel.
Außerdem sind der Herabsetzung des Brechungsindex der organischen halbleitenden Materialien durch chemische
Modifikation Grenzen gesetzt. Eine zu lösende Aufgabe besteht darin, ein organisches Licht emittierendes Bauelement mit einer effizienten
Lichtauskopplung anzugeben. Insbesondere besteht eine zu lösende Aufgabe darin, den Brechungsindex innerhalb der organischen Schichtenfolge geeignet herabzusetzen.
Diese Aufgabe wird unter anderem durch ein Bauelement mit den Merkmalen des unabhängigen Patentanspruchs gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind
Gegenstand der abhängigen Patentansprüche.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform handelt es sich bei dem organischen Licht emittierenden Bauelement um eine organische Leuchtdiode, kurz OLED.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen Licht emittierenden Bauelements umfasst dieses einen Träger. Der Träger weist bevorzugt ein strahlungsdurchlässiges,
insbesondere transparentes oder milchig trübes Material, beispielsweise Glas, auf. Bevorzugt besteht der Träger aus zumindest einem transparenten Material. Der Träger kann als Substrat ausgebildet sein, das für ein Aufbringen einer organischen Schichtenfolge geeignet ist. Ferner kann der Träger ein leitendes Material aufweisen oder daraus bestehen.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen Licht emittierenden Bauelements ist auf dem Träger eine organische Schichtenfolge angeordnet. Die organische Schichtenfolge umfasst mindestens eine Emitterschicht. Die zumindest eine Emitterschicht enthält ein lichtemittierendes Material, welches dazu geeignet ist, Licht eines ersten
Wellenlängenbereichs zu emittieren.
Typischerweise umfasst die organische Schichtenfolge
zumindest zwei organische Schichten, wobei zumindest eine der organischen Schichten als die Emitterschicht ausgebildet ist. Der Begriff „organische Schichtenfolge" ist im Rahmen dieser Anmeldung aber nicht auf diesen Fall beschränkt. Vielmehr kann die organische Schichtenfolge auch aus nur einer
einzigen Schicht bestehen, welche dann die Emitterschicht bildet. Beispielsweise kann das organische Licht emittierende Bauelement als lichtemittierende organische elektrochemische Zelle (organic light emitting electrochemical cell, OLEC oder OLEEC) ausgebildet sein, welche regelmäßig nur eine einzige organische Schicht aufweist.
Die zumindest eine Emitterschicht weist beispielsweise jeweils eine Dicke von > 50 nm, beispielsweise ^ 100 nm, beispielsweise ^ 150 nm auf. Alternativ oder zusätzlich kann die zumindest eine Emitterschicht eine Dicke von < 400 nm haben, beispielsweise -S 300 nm, beispielsweise -S 250 nm.
Im Folgenden wird die zumindest eine Emitterschicht als die Emitterschicht bezeichnet. Insbesondere kann also, wenn von der Emitterschicht die Rede ist, eine Mehrzahl von
Emitterschichten gemeint sein. Weist die Schichtenfolge zumindest zwei Emitterschichten auf, können zumindest zwei einzelne Emitterschichten beispielsweise über zumindest eine Ladungserzeugungsschicht , kurz CGL, miteinander verbunden sein. Weiter kann jede Emitterschicht selber eine Mehrzahl verschieden oder identisch ausgebildeter Emitterschichten aufweisen, die direkt aneinander grenzen.
Das von der Emitterschicht emittierte Licht des ersten
Wellenlängenbereichs ist vorzugsweise Licht im sichtbaren Bereich, beispielsweise weißes, blaues, grünes oder rotes
Licht. Zur Erzeugung von Licht einer gewünschten Farbe kann die Emitterschicht mit einem oder mehreren verschiedenen fluoreszierenden und/oder phosphoreszierenden
Emittermaterialien versehen sein. Durch geeignete Mischung der Emittermaterialien kann der Farbort des von der
Emitterschicht emittierten Lichts eingestellt werden. Ferner können, soweit vorhanden, unterschiedliche Emitterschichten mit unterschiedlichen Emittermaterialien versehen sein. Das Intensitätsmaximum des von der Emitterschicht emittierten Lichts liegt bevorzugt im sichtbaren Spektralbereich des elektromagnetischen Spektrums und kann ein
Intensitätsmaximum bei Wellenlängen > 400 nm und/oder bei Wellenlängen < 800 nm aufweisen.
Die organische Schichtenfolge kann mehrere weitere organische Schichten aufweisen. Bevorzugt weist die organische
Schichtenfolge zumindest eine Lochtransportschicht auf, die beispielsweise an die Emitterschicht grenzt. Besonders bevorzugt weist die organische Schichtenfolge zumindest eine Lochinjektionsschicht auf, die zur effektiven Injektion von Löchern in die organische Schichtenfolge vorgesehen ist.
Ferner kann die organische Schichtenfolge zumindest eine Elektronentransportschicht und/oder zumindest eine
Elektroneninj ektionsschicht aufweisen .
Die optionale Lochtransportschicht und die optionale
Elektronentransportschicht haben zum Beispiel jeweils eine Dicke von > 10 nm, beispielsweise ^ 30 nm, beispielsweise ^ 50 nm. Alternativ oder zusätzlich haben die
Lochtransportschicht und die Elektronentransportschicht jeweils eine Dicke von < 300 nm, beispielsweise -S 200 nm, beispielsweise -S 100 nm.
Die optionale Lochinjektionsschicht und die optionale
Elektroneninjektionsschicht weisen beispielsweise jeweils eine Dicke von > 10 nm, beispielsweise ^ 30 nm,
beispielsweise ^ 50 nm auf. Alternativ oder zusätzlich weisen die Lochinjektionsschicht und die Elektroneninjektionsschicht jeweils eine Dicke von < 150 nm, beispielsweise -S 120 nm, beispielsweise -S 100 nm auf. Insgesamt weist die organische Schichtenfolge beispielsweise eine Gesamtdicke von > 50 nm oder > 200 nm oder > 500 nm auf. Alternativ oder zusätzlich weist die organische
Schichtenfolge zum Beispiel eine Gesamtdicke von < 2000 nm, beispielsweise -S 1000 nm, beispielsweise -S 700 nm auf.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen Licht emittierenden Bauelements weist dieses eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode auf. Die erste Elektrode ist beispielsweise als Anode ausgebildet. Die zweite Elektrode ist beispielsweise als Kathode ausgebildet. Die Anode und die Kathode können zur elektrischen Kontaktierung der organischen Schichtenfolge dienen. Insbesondere kann die organische Schichtenfolge zwischen der Anode und der Kathode angeordnet sein. Beispielsweise grenzt die Anode an eine Lochinjektionsschicht der organischen
Schichtenfolge. Die Kathode kann beispielsweise an eine
Elektroneninjektionsschicht der organischen Schichtenfolge grenzen.
Die Anode und/oder die Kathode weisen bevorzugt ein
transparentes Material auf. Bevorzugt bestehen die Anode und/oder die Kathode aus einem Material, welches für das von der Emitterschicht emittierte Licht transparent ist,
beispielsweise aus einem transparenten oxidischen Material, kurz TCO, wie zum Beispiel Indiumzinnoxid, kurz ITO. Ferner kann eine Elektrode, beispielsweise die Anode oder die
Kathode, ein spiegelndes Material aufweisen, beispielsweise Silber oder Aluminium.
Die Anode und die Kathode haben jeweils eine Dicke von > 20 nm, beispielsweise ^ 30 nm, beispielsweise ^ 50 nm. Alternativ oder zusätzlich haben die Anode und die Kathode jeweils eine Dicke von < 400 nm, beispielsweise -S 300 nm, beispielsweise -S 250 nm. Gemäß zumindest einer Ausführungsform umfasst das organische Licht emittierende Bauelement eine Vielzahl von
Nanostrukturen, wobei die Nanostrukturen einen Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als ein Brechungsindex des lichtemittierenden Materials der Emitterschicht, und wobei zumindest einige der Nanostrukturen in die Emitterschicht hineinragen oder die Emitterschicht durchstoßen. Dass eine Nanostruktur die Emitterschicht durchstößt, kann insbesondere bedeuten, dass die Nanostruktur durch die Emitterschicht hindurchragt. Insbesondere erstreckt sich dann die
Nanostruktur zwischen den beiden Flächen, welche die
Emitterschicht in vertikaler Richtung begrenzen. Unter einer vertikalen Richtung wird hierbei eine Richtung senkrecht zu einer Haupterstreckungsebene der Emitterschicht und/oder des Trägers verstanden. Unter einer lateralen Richtung wird analog eine Richtung parallel zu einer Haupterstreckungsebene der Emitterschicht und/oder des Trägers verstanden.
Bevorzugt ragen mindestens 50% der Nanostrukturen, besonders bevorzugt mindestens 70% der Nanostrukturen, insbesondere alle Nanostrukturen in die Emitterschicht hinein oder durchstoßen mindestens 50% der Nanostrukturen, besonders bevorzugt mindestens 70% der Nanostrukturen, insbesondere alle Nanostrukturen die Emitterschicht. Unter dem Brechungsindex ist jeweils der Brechungsindex zu verstehen, den das betreffende Material in dem ersten
Wellenlängenbereich des von der Emitterschicht emittierten Lichts aufweist. Maßgeblich ist dabei der Brechungsindex bei der ersten Wellenlänge oder der über den gesamten ersten Wellenlängenbereich gemittelte Brechungsindex.
Dadurch, dass zumindest einige der Nanostrukturen in die Emitterschicht hineinragen oder sie durchstoßen und einen kleineren Brechungsindex aufweisen als das lichtemittierende Material der Emitterschicht, wird vorteilhaft erreicht, dass der gemittelte Brechungsindex im Bereich der Emitterschicht und bevorzugt im Bereich der gesamten Schichtenfolge
herabgesetzt wird. Dies ist besonders vorteilhaft für eine effiziente Lichtauskopplung aus der organischen
Schichtenfolge. Dies führt weiterhin dazu, dass das
organische Licht emittierende Bauelement bei weniger
Eingangsleistung eine gleiche oder höhere Lichtleistung verglichen mit einem organischen Licht emittierenden
Bauelement ohne solche Nanostrukturen liefern kann.
Die Verwendung von Nanostrukturen hat den Vorteil, dass die Materialien der organischen Schichten nicht in ihrer
chemischen Struktur verändert oder speziell im Hinblick auf ihren Brechungsindex ausgewählt werden müssen. Dies ist besonders vorteilhaft, da an die für organische Halbleiter verwendeten Materialien hohe Anforderungen im Hinblick auf elektrooptische Eigenschaften und Stabilität gestellt werden und die chemische Modifikation der Materialien zur
Herabsetzung des Brechungsindex unerwünschte Folgen auf diese Parameter haben kann. Außerdem ist die Verwendung von
Nanostrukturen bei allen organischen Funktionsmaterialien möglich, und nicht nur bei einer bestimmten Materialklasse.
Die beschriebene Struktur ist vorteilhaft durch ein Verfahren herstellbar, in welchem zunächst die Nanostrukturen
ausgebildet werden und erst in einem nachfolgenden Schritt die organische Schichtenfolge hergestellt wird, welche insbesondere lösungsprozessierte Materialien enthalten kann. Hierdurch kann auf bereits verfügbare Techniken zum
Aufbringen der lösungsprozessierten Materialien
zurückgegriffen werden. Da die Nanostrukturen nicht in der hierbei verwendeten Tintenformulierung enthalten sind, müssen diese Techniken nicht entsprechend modifiziert werden, was zu zusätzlichen Kosten führen würde. Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen Licht emittierenden Bauelements ist der Brechungsindex der
Nanostrukturen kleiner als zumindest ein Brechungsindex eines organischen Materials einer der weiteren organischen
Schichten des Schichtenstapels. Besonders bevorzugt ist der Brechungsindex der Nanostrukturen kleiner als der
Brechungsindex aller organischen Materialien, die die
organische Schichtenfolge aufweist. Alternativ oder
zusätzlich kann der Brechungsindex der Nanostrukturen kleiner als der mittlere Brechungsindex aller organischen Materialien der organischen Schichtenfolge sein. Bevorzugt weisen die
Nanostrukturen einen Brechungsindex auf, der kleiner ist als ein Brechungsindex des Trägers, der ersten Elektrode und/oder der zweiten Elektrode. Bevorzugt ist der Brechungsindex der Nanostrukturen < 1,7, beispielsweise ^ 1,5, beispielsweise ^ 1,45 oder 1,4 oder 1,35.
Die Nanostrukturen können in direktem Kontakt mit der ersten Elektrode oder mit der zweiten Elektrode stehen. Bevorzugt sind die Nanostrukturen auf die erste Elektrode oder auf die zweite Elektrode aufgewachsen.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Bauelements ist vorgesehen, dass die Nanostrukturen säulenförmig ausgebildet sind und sich die Nanostrukturen entlang einer vertikalen Richtung erstrecken. Insbesondere können die Nanostrukturen als Nanoröhren oder sogenannte Nanorods ausgebildet sein. Beispielsweise können die Nanostrukturen zylinderförmig ausgebildet sein und einen im Wesentlichen kreisförmigen, ellipsenförmigen oder polygonalen Querschnitt aufweisen.
Aufgrund ihres Wachstums können die Nanostrukturen eine sich verjüngende Form aufweisen, beispielsweise in einer
vertikalen Richtung von der ersten oder von der zweiten
Elektrode hinweg. Die Nanostrukturen können sich auch in einer Richtung erstrecken, welche mit der vertikalen Richtung einen endlichen Winkel einschließt.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Bauelements ist vorgesehen, dass sich einige oder alle Nanostrukturen in einer vertikalen Richtung zumindest entlang 75 % der Höhe der gesamten organischen Schichtenfolge erstrecken.
Beispielsweise können einige oder alle Nanostrukturen die gesamte organische Schichtenfolge durchstoßen.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Bauelements ist vorgesehen, dass die Nanostrukturen eine laterale Abmessung, also insbesondere einen Durchmesser in einer lateralen
Richtung, von < 200 nm, bevorzugt ^ 100 nm, besonders bevorzugt ^ 50 nm aufweisen. Bevorzugt weisen benachbarte
Nanostrukturen in einer lateralen Richtung einen Abstand von < 200 nm, bevorzugt ^ 100 nm, besonders bevorzugt ^ 50 nm auf . Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Bauelements ist vorgesehen, dass die Nanostrukturen hohl ausgebildet sind. Beispielsweise können die Nanostrukturen Lufteinschlüsse oder Kavitäten, welche mit einem Gas gefüllt sind, aufweisen. Dies hat den Vorteil, dass die Nanostrukturen aus einem Material gebildet sein können, welches beispielsweise einen größeren Brechungsindex als das lichtemittierende Material aufweist. Die Herabsetzung des effektiven Brechungsindex wird durch den niedrigen Brechungsindex des in den Kavitäten enthaltenen Gases erreicht.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Bauelements ist vorgesehen, dass die Nanostrukturen aus einem zumindest teilweise transparenten oder nur gering Licht absorbierenden Material bestehen. Beispielsweise können die Nanostrukturen als Materialkomponente Si02, MgF2 oder Kryolith aufweisen. Siliziumoxid hat einen Brechungsindex von n ~ 1,5,
Magnesiumfluorid von n ~ 1,38 und Kryolith von n ~ 1,34 für sichtbares Licht. Damit ist der Brechungsindex dieser
Materialien geringer als der typische Brechungsindex einer organischen Schicht von n ~ 1,8. Dadurch kann der
Brechungsindex der organischen Schicht, in der die
Nanostrukturen eingebracht sind, auf einen Wert verringert werden, der entsprechend dem Volumenanteil der Nanostrukturen zwischen dem Brechungsindex des organischen Materials und dem Brechungsindex der ersten Nanostrukturen liegt. Bevorzugt beträgt ein Volumenanteil der Nanostrukturen in der
organischen Schichtenfolge zumindest 10 % und maximal 70 %. Beispielsweise ist der Volumenanteil der ersten
Nanostrukturen in der zumindest einen Emitterschicht
zumindest 10 %, beispielsweise ^ 30 %, beispielsweise ^ 50 %. Alternativ oder zusätzlich ist der Volumenanteil der ersten Nanostrukturen in der zumindest einen Emitterschicht maximal 70 %, beispielsweise ^ 65 %, beispielsweise ^ 60 %. Bevorzugt liegt der Volumenanteil der Nanostrukturen über 50 %. Die Herstellung von Nanostrukturen beispielsweise aus S1O2 bzw. MgF2 sind dem Fachmann bekannt und beispielsweise in Cao, M. H.; Wang, Y . H.; Qi, Y . J.; Guo, C. X.; Hu, C. W.,
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Derivate (n~l,3-l,4 und niedrige Absorption) sowie weitere fluorierte Polymere zur Verwendung. Vorteilhaft ist der Einsatz eines UV-aushärtbaren Polymers.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Licht emittierenden organischen Bauelements ist vorgesehen, dass die
Schichtenfolge eine Mehrzahl von Emitterschichten aufweist, die zur Emission von elektromagnetischer Strahlung vorgesehen sind und dass zumindest einige der Nanostrukturen die
Mehrzahl von Emitterschichten durchstoßen. Zwischen
benachbarten Emitterschichten kann eine
Ladungserzeugungsschicht , kurz CGL, angeordnet sein.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Licht emittierenden organischen Bauelements hat der Brechungsindex der
organischen Schichtenfolge einen ähnlichen Wert wie der Brechungsindex der ersten Elektrode und/oder der zweiten Elektrode und/oder des Trägers. Bevorzugt ist der Unterschied zwischen dem Brechungsindex der organischen Schichtenfolge und dem Brechungsindex der ersten Elektrode und/oder der zweiten Elektrode und/oder des Trägers -S 0,1, beispielsweise -S 0,05, beispielsweise -S 0,01. Besonders bevorzugt weisen alle organischen Schichten einen Brechungsindex auf, dessen Wert um < 0,1, beispielsweise -S 0,05, beispielsweise -S 0,02 von dem Brechungsindex der ersten Elektrode und/oder der zweiten Elektrode und/oder des Trägers abweicht.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen Licht emittierenden Bauelements weist dieses Auskoppelstrukturen auf. Beispielsweise können Auskoppelstrukturen an der
Kathodenseite oder an der Anodenseite der organischen
Schichtenfolge angebracht sein, zum Beispiel zwischen der Anode und der organischen Schichtenfolge und/oder zwischen der Kathode und der organischen Schichtenfolge. Ferner können auch Auskoppelstrukturen an einer der von der organischen Schichtenfolge abgewandten Seite des Trägers angebracht sein.
Die Auskoppelstrukturen können in Form von Auskoppelfolien oder als strukturierte Grenzflächen ausgebildet sein.
Bevorzugt können die Auskoppelstrukturen Streuzentren
aufweisen, an denen das von der Emitterschicht emittierte Licht diffus gestreut wird.
Ein Verfahren zur Herstellung eines Licht emittierenden
Bauelements weist die folgenden Verfahrensschritte auf: a) Bereitstellen eines Trägers,
b) Ausbilden einer ersten Elektrode auf dem Träger,
c) Ausbilden einer Vielzahl von Nanostrukturen auf der ersten Elektrode,
d) Ausbilden einer organischen Schichtenfolge zumindest in den Bereichen zwischen den Nanostrukturen, und
e) Ausbilden einer zweiten Elektrode auf der organischen Schichtenfolge . Dass eine Schicht oder ein Element „auf" oder „über" einer anderen Schicht oder einem anderen Element angeordnet oder aufgebracht ist, kann dabei hier und im Folgenden bedeuten, dass die eine Schicht oder das eine Element unmittelbar im direkten mechanischen und/oder elektrischen Kontakt auf der anderen Schicht oder dem anderen Element angeordnet ist.
Weiterhin kann es auch bedeuten, dass die eine Schicht oder das eine Element mittelbar auf beziehungsweise über der anderen Schicht oder dem anderen Element angeordnet ist.
Dabei können dann weitere Schichten und/oder Elemente
zwischen der einen und der anderen Schicht angeordnet sein.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens werden die Nanostrukturen unter Verwendung eines
Gasphasenabscheidungsverfahrens , zum Beispiel einer
physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) oder einer
chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) , oder unter Verwendung eines Sol-Gel-Prozesses (insbesondere bei Nanostrukturen aus Quarzglas) ausgebildet. Werden niedrigbrechende Polymere für die Nanostrukturen verwendet, wird das Material flächig aufgebracht und nachfolgend insbesondere unter Verwendung eines Fotolacks fotolithografisch strukturiert. Hierbei muss auf die saubere Abtragung des nicht benötigten Materials geachtet werden. Bei UV-aushärtbaren Polymeren kann die flächige Beschichtung auch direkt fotolithographisch
strukturiert werden, d.h. ohne den Einsatz eines Fotolacks.
Gemäß zumindest einer Ausführungsform des Verfahrens wird die organische Schichtenfolge dadurch ausgebildet, dass
lösungsprozessierte organische Halbleitermaterialien unter Verwendung eines Flüssigphasenabscheidungsverfahrens in den Bereichen zwischen den Nanostrukturen aufgebracht werden. Mögliche Verfahren sind zum Beispiel Schlitzgießen (engl. slot die coating) , Rakeln (engl, doctor blading) , Rotationsbeschichtung (engl, spin coating) , Tintenstrahldruck (engl, ink jet printing) oder Sprühbeschichtung (engl, spray coating) .
Nachfolgend wird ein hier beschriebenes organisches Licht emittierendes Bauelement unter Bezugnahme auf Zeichnungen anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert. Gleiche Bezugszeichen geben dabei gleiche Elemente in den einzelnen Figuren an. Es sind dabei jedoch keine maßstäblichen Bezüge dargestellt, vielmehr können einzelne Elemente zum besseren Verständnis übertrieben groß dargestellt sein.
Es zeigen:
Die Figuren 1 bis 3 schematische Darstellungen von
Ausführungsbeispielen von hier beschriebenen organischen Licht emittierenden Bauelementen, und
Die Figuren 4 bis 8 ein Ausführungsbeispiel für ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht
emittierenden Bauelements anhand von jeweils in schematischer Schnittansicht dargestellten Zwischenschritten .
In Figur 1 ist eine Schnittdarstellung eines ersten
Ausführungsbeispiels eines Licht emittierenden organischen Bauelements 100 gezeigt. Das Bauelement 100 umfasst einen Träger 30, auf dem eine Anode 11 angeordnet ist. Auf der vom Träger 30 abgewandten Seite der Anode 11 ist eine organische Schichtenfolge 23 angeordnet. Der organischen Schichtenfolge 23 ist in Richtung weg vom Träger weiterhin eine Kathode 12 nachgeordnet, die beispielsweise reflektierend ausgebildet sein kann.
Der Träger 30 weist bevorzugt ein für ein von der organischen Schichtenfolge 23 erzeugtes Licht transparentes Material auf, beispielsweise Glas.
Die Anode 11 weist vorzugsweise ein transparentes leitfähiges Material auf. Beispielsweise ist die Anode 11 aus
Indiumzinnoxid, kurz ITO, gefertigt.
Die auf der Anode 11 angeordnete organische Schichtenfolge 23 weist in dem gegebenen Ausführungsbeispiel drei organische Schichten auf. Die an die Anode 11 angrenzende Schicht ist als Lochtransportschicht 21 ausgebildet. Die an die Kathode 12 angrenzende Schicht ist als Elektronentransportschicht 22 ausgebildet .
Zwischen der Lochtransportschicht 21 und der
Elektronentransportschicht 22 ist eine Emitterschicht 20 angeordnet. Die Emitterschicht 23 kann beispielsweise
fluoreszierende oder phosphoreszierende Emittermaterialien aufweisen. Die Emitterschicht kann beispielsweise organische Polymere, organische Oligomere, organische Monomere oder organisch kleine nichtpolymere Moleküle aufweisen oder eine Kombination dieser Materialien enthalten. Die in die
Emitterschicht 20 eingebrachten Emittermaterialien können zur Erzeugung von Licht verschiedener Wellenlängen vorgesehen sein, beispielsweise zur Erzeugung von blauem Licht oder grünem Licht oder rotem Licht. Die Emitterschicht 20 kann beispielsweise auch eine Mischung verschiedener Emitter aufweisen, so dass die Emitterschicht 20 Mischlicht, zum Beispiel weißes Licht, emittiert. Ferner kann die Emitterschicht 20 eine Mehrzahl von einzelnen
Emitterschichten aufweisen, die beispielsweise jeweils Licht unterschiedlicher Farben emittieren. Beispielsweise kann eine erste Emitterschicht rotes Licht, eine zweite Emitterschicht grünes Licht und eine dritte Emitterschicht blaues Licht emittieren. Die Emitterschicht 20 weist zum Beispiel eine Dicke von zirka 200 nm auf.
Abweichend von dem in Figur 1 dargestellten Aufbau kann die organische Schichtenfolge 23 auch weitere organische
Schichten wie beispielsweise Elektroneninjektionsschichten oder Lochinjektionsschichten umfassen.
In dem Ausführungsbeispiel der Figur 1 ist der organische Schichtenstapel 23 von einer Vielzahl von Nanostrukturen 40 durchsetzt, welche einen Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als ein Brechungsindex des lichtemittierenden Materials der Emitterschicht 20, und welche jeweils die
Emitterschicht 20 durchstoßen.
Die Nanostrukturen 40 sind auf die Anode 11 aufgewachsen und stehen daher in direktem Kontakt mit der Anode 11. Außerdem sind die Nanostrukturen 40 säulenförmig ausgebildet und erstrecken sich entlang einer vertikalen Richtung, wobei sie die gesamte organische Schichtenfolge 23 durchstoßen. In dem Ausführungsbeispiel der Figur 1 sind die Nanostrukturen 40 unregelmäßig angeordnet. Sie können jedoch auch regelmäßig, zum Beispiel in einem zweidimensionalen Gitter, angeordnet sein .
Die Nanostrukturen 40 weisen in dem beschriebenen
Ausführungsbeispiel eine Zylinderform mit einem im
Wesentlichen kreisförmigen Querschnitt mit einem Durchmesser von weniger als 200 nm auf und bestehen aus einem transparenten Material, im vorliegenden Beispiel Quarz.
Figur 2 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel für ein Licht emittierendes organisches Bauelement 100. Abweichend von dem in Figur 1 dargestellten Aufbau weist die organische
Schichtenfolge 23 zwei Emitterschichten 20, 24 auf, die jeweils zur Emission von elektromagnetischer Strahlung vorgesehen sind. Die Nanostrukturen 40 durchstoßen beide Emitterschichten 20, 24 und sorgen hierdurch für eine
Herabsetzung des Brechungsindex in beiden Schichten.
Figur 3 zeigt eine perspektivische Ansicht des
lichtemittierenden organischen Bauelements 100, in welcher der Schichtenaufbau des organischen Schichtenstapels 23 nicht im Einzelnen dargestellt ist. Auch in diesem
Ausführungsbeispiel sind die Nanostrukturen 40 unregelmäßig angeordnet. Ein Volumenanteil der Nanostrukturen 40 in der organischen Schichtenfolge 23 beträgt zumindest 10 % und maximal 70 %. Auf der der organischen Schichtenfolge 23 abgewandten Seite des Trägers 30 ist eine Auskoppelschicht in Form einer Folie angeordnet.
Die Figuren 4 bis 8 zeigen ein Ausführungsbeispiel für ein Verfahren zur Herstellung eines organischen Licht
emittierenden Bauelements anhand von jeweils in schematischer Schnittansicht dargestellten Zwischenschritten.
In dem in Figur 4 dargestellten Verfahrensschritt wird ein Träger 30 bereitgestellt. Nachfolgend wird eine transparente Anode 11 auf dem Träger 30 ausgebildet (Figur 5) . In dem in Figur 6 dargestellten Verfahrensschritt wird auf der transparenten Anode 11 eine Vielzahl von Nanostrukturen 40 ausgebildet, insbesondere unter Verwendung eines
Gasphasenabscheidungsverfahrens , zum Beispiel einer
physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) oder einer
chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) , oder unter Verwendung eines Sol-Gel-Prozesses (insbesondere bei Nanostrukturen aus Quarzglas) . Werden niedrigbrechende Polymere für die
Nanostrukturen verwendet, wird das Material flächig
aufgebracht und nachfolgend insbesondere unter Verwendung eines Fotolacks fotolithografisch strukturiert.
In dem in Figur 7 dargestellten Verfahrensschritt wird zumindest in den Bereichen zwischen den Nanostrukturen 40 eine organische Schichtenfolge 23 ausgebildet, indem
lösungsprozessierte organische Halbleitermaterialien unter Verwendung eines Flüssigphasenabscheidungsverfahrens in den Bereichen zwischen den Nanostrukturen aufgebracht werden, d.h. es werden Lösungsmittel basierte Prozesse angewendet. Mögliche Verfahren sind zum Beispiel Schlitzgießen (engl. slot die coating) , Rakeln (engl, doctor blading) ,
Rotationsbeschichtung (engl, spin coating) , Tintenstrahldruck (engl, ink jet printing) oder Sprühbeschichtung (engl, spray coating) .
In einem abschließenden, in Figur 8 dargestellten
Ausführungsbeispiel wird auf der organischen Schichtenfolge 23 eine Kathode 12 ausgebildet. Die hier beschriebene Erfindung ist nicht durch die
Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele beschränkt.
Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen aufgeführt ist .

Claims

Patentansprüche
1. Licht emittierendes Bauelement (100), umfassend
- einen Träger (30),
- eine auf dem Träger (30) angeordnete organische
Schichtenfolge (23) mit mindestens einer Emitterschicht
(20), die ein lichtemittierendes Material enthält, welches dazu ausgebildet ist, Licht eines ersten
Wellenlängenbereichs zu emittieren,
- eine erste Elektrode (11) und eine zweite Elektrode (12),
- und eine Vielzahl von Nanostrukturen (40), wobei die Nanostrukturen einen Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als ein Brechungsindex des
lichtemittierenden Materials der Emitterschicht (20) und wobei zumindest einige der Nanostrukturen (40) in die Emitterschicht (20) hineinragen oder die
Emitterschicht (20) durchstoßen.
2. Bauelement (100) nach Anspruch 1,
wobei die Nanostrukturen (40) in direktem Kontakt mit der ersten Elektrode (11) oder mit der zweiten Elektrode (12) stehen.
3. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Nanostrukturen (40) auf die erste
Elektrode (11) oder auf die zweite Elektrode (12) aufgewachsen sind.
4. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Nanostrukturen (40) säulenförmig ausgebildet sind und sich entlang einer vertikalen
Richtung erstrecken.
5. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei sich die Nanostrukturen (40) in einer vertikalen Richtung zumindest entlang 75 % der Höhe der gesamten organischen Schichtenfolge (23) erstrecken.
6. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei zumindest einige der Nanostrukturen (40) die gesamte organische Schichtenfolge (23)
durchstoßen .
7. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Nanostrukturen (40) eine laterale Abmessung von weniger als 200 nm aufweisen.
8. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Nanostrukturen (40) hohl
ausgebildet sind.
9. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Nanostrukturen (40) aus einem transparenten Material bestehen.
10. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Nanostrukturen (40) als
Materialkomponente Si02, MgF2, Kryolith oder ein
Polymer, insbesondere ein fluoriertes Polymer aufweisen.
11. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei ein Volumenanteil der Nanostrukturen (40) in der organischen Schichtenfolge zumindest 10 % und maximal 70 % beträgt.
12. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Nanostrukturen (40) einen
Brechungsindex aufweisen, der kleiner ist als ein
Brechungsindex des Trägers (30), der erste Elektrode (11) oder der zweiten Elektrode (12) .
13. Bauelement (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, wobei die Schichtenfolge (23) zumindest zwei organische Schichten umfasst und wobei zumindest eine der organischen Schichten die Emitterschicht (20) bildet .
14. Bauelement (100) nach dem vorhergehenden Anspruch, wobei die Schichtenfolge (23) eine Mehrzahl von
Emitterschichten (20, 24) aufweist, die zur Emission von elektromagnetischer Strahlung vorgesehen sind, und wobei jede der Nanostrukturen (40) die Mehrzahl von
Emitterschichten (20, 24) durchstößt.
15. Verfahren zur Herstellung eines Licht emittierenden
Bauelements (100) nach einem der vorhergehenden
Ansprüche mit den Verfahrensschritten: a) Bereitstellen eines Trägers (30),
b) Ausbilden einer ersten Elektrode (11) auf dem Träger (30) ,
c) Ausbilden einer Vielzahl von Nanostrukturen (40) auf der ersten Elektrode (11),
d) Ausbilden einer organischen Schichtenfolge (23)
zumindest in den Bereichen zwischen den
Nanostrukturen (40),
e) Ausbilden einer zweiten Elektrode (12) auf der
organischen Schichtenfolge (23) .
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