WO2015159419A1 - Flat panel display glass substrate, method for manufacturing same, and liquid crystal display - Google Patents

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Definitions

  • FIG. 4 is a diagram schematically illustrating an example of a glass plate manufacturing apparatus that performs the melting step (ST1) to the cutting step (ST7) in the present embodiment.
  • the apparatus mainly includes a melting apparatus 100, a molding apparatus 200, and a cutting apparatus 300.
  • the melting apparatus 100 includes a melting furnace 101, a clarification pipe (clarification tank body) 102, a stirring tank 103, and glass supply pipes 104, 105, and 106.

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Abstract

As a flat panel display glass substrate having a high contrast, the present invention uses a glass substrate that has: an internal defect, which does not have translucency, and which has a long-side length longer than 50 μm, and a short-side length shorter than 5 μm; and a protruding section, which is at a position on a main surface of the glass substrate, said position corresponding to the position of the internal defect, and which has a height shorter than 0.15 μm from the main surface.

Description

フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法、ならびに液晶ディスプレイGlass substrate for flat panel display, manufacturing method thereof, and liquid crystal display
 本発明は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法、液晶ディスプレイに関する。 The present invention relates to a glass substrate for flat panel display, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display.
 液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられるガラス基板には、ガラス基板中に存在する内部欠陥に対して求められる基準がある。基準を満たさないガラス基板は、廃棄処分等されていた。 Glass substrates used in flat panel displays such as liquid crystal displays and plasma displays have standards required for internal defects existing in the glass substrates. Glass substrates that did not meet the standards were discarded.
 しかし、内部欠陥が光を遮ることのない気泡である場合は、ガラス基板が内部欠陥を有する場合でも不良品とは判別しない判別方法が提案されている。(特許文献1参照)。
 これに対し、異物等の透光性を有しない内部欠陥に関しては、依然として厳しい基準が適用されており、特に液晶ディスプレイ用ガラス基板にあっては、ガラス基板中に所定のサイズを超える大きさの内部欠陥が存在する場合、不良品と判別される。
However, when the internal defect is a bubble that does not block light, a determination method that does not determine that the glass substrate is defective even if the glass substrate has an internal defect has been proposed. (See Patent Document 1).
On the other hand, strict standards are still applied to internal defects that do not have translucency, such as foreign matter, and particularly in glass substrates for liquid crystal displays, the glass substrate has a size exceeding a predetermined size. When an internal defect exists, it is determined as a defective product.
特許第4618426号公報Japanese Patent No. 4618426
 本発明は、高コントラストなフラットパネルディスプレイに用いることが可能なガラス基板およびその製造方法、ならびに液晶ディスプレイを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a glass substrate that can be used for a high-contrast flat panel display, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display.
 本発明者は、鋭意検討した結果、例えば、IPS(In-Place-Switching)方式、VA(Virtical Alignment)方式等の高コントラストの液晶ディスプレイでは、従来の液晶ディスプレイでは品質上問題とならなかったガラス基板主表面の凸部が、ディスプレイの品質に大きく影響することを見出した。このとき、内部欠陥が透光性を有さず、内部欠陥の長辺長さが50μmを超える場合であっても、短辺長さが5μm未満であり、さらに内部欠陥に起因する凸部が、ガラス基板の主表面において所定高さ以上形成されなければ、高画質ディスプレイ向けのガラス基板にも使用可能であることを見出した。より具体的には、ガラス基板上に凸部が存在する場合であっても、凸部の高さが0.15μm未満である場合は、前記凸部がデバイス形成側の面に使用されたとしても、品質上問題とならないことを見出した。
 本発明者は、以上の知見に基づき、本発明を完成させた。
As a result of diligent study, the present inventor, for example, in a high-contrast liquid crystal display such as an IPS (In-Place-Switching) method, a VA (Virtical Alignment) method, etc. It has been found that the protrusions on the main surface of the substrate greatly affect the quality of the display. At this time, even if the internal defect does not have translucency, and the long side length of the internal defect exceeds 50 μm, the short side length is less than 5 μm, and the convex portion due to the internal defect is The present inventors have found that the glass substrate can be used for a high-quality display if it is not formed at a predetermined height or more on the main surface of the glass substrate. More specifically, even when the convex portion exists on the glass substrate, if the convex portion has a height of less than 0.15 μm, the convex portion is used as the surface on the device forming side. Also found that there is no problem in quality.
The present inventor completed the present invention based on the above findings.
 すなわち、本発明の一態様に係るフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、
 ガラス基板であって、
 長辺長さが50μmを超え、短辺長さが5μm未満である遮光性の内部欠陥と、
 前記内部欠陥の位置に対応する前記ガラス基板の主表面上の位置に形成され、前記主表面からの高さが0.15μm未満である凸部と、を有するガラス基板を、フラットパネルディスプレイガラス基板として用いることを特徴とする。
That is, the glass substrate for flat panel display according to one embodiment of the present invention is
A glass substrate,
A light-shielding internal defect having a long side length of more than 50 μm and a short side length of less than 5 μm;
A glass substrate having a convex portion formed at a position on the main surface of the glass substrate corresponding to the position of the internal defect and having a height of less than 0.15 μm from the main surface, a flat panel display glass substrate It is used as.
 遮光性の内部欠陥がガラス中に存在すると、表示画素の欠けなどによりディスプレイ品質上の問題を生じさせる。
 また、内部欠陥がガラス基板の主表面近傍に存在すると、ガラス基板の主表面には凸部が形成されやすい。
 特に、所定の大きさを超える遮光性の内部欠陥に起因して主表面に凸部が形成されたガラス基板は、高コントラストなディスプレイに用いられると品質面で問題が生じるとして、一律に不良品と判別されていた。しかし、長辺長さが50μmを超え、短辺長さが5μm未満である内部欠陥に起因して形成される凸部がガラス基板の主表面に存在する場合であっても、凸部のガラス基板の主表面からの高さが0.15μm未満である場合には、高コントラストなディスプレイに用いても問題が生じないことも分かった。
 そこで、本発明では、従来、製品として品質上問題とならないにも関わらず、上記のような内部欠陥が存在するという理由だけで不良品として扱われていたガラス基板を製品として用いることができるようにし、ガラス基板製造の歩留まりを改善している。
If a light-blocking internal defect exists in the glass, a display quality problem may occur due to a lack of display pixels.
Further, when the internal defect exists in the vicinity of the main surface of the glass substrate, convex portions are easily formed on the main surface of the glass substrate.
In particular, glass substrates with convex portions formed on the main surface due to light-blocking internal defects exceeding a predetermined size will cause problems in terms of quality when used in high-contrast displays. It was determined. However, even if a convex portion formed due to an internal defect having a long side length of more than 50 μm and a short side length of less than 5 μm exists on the main surface of the glass substrate, the glass of the convex portion It has also been found that when the height from the main surface of the substrate is less than 0.15 μm, no problem occurs even when used for a high-contrast display.
Therefore, in the present invention, it is possible to use a glass substrate that has been treated as a defective product just because there is an internal defect as described above, even though it does not cause quality problems as a product. Thus, the yield of glass substrate manufacturing is improved.
 前記内部欠陥は、長辺長さが200μm以下であり、短辺長さが1μm以上であり、
 前記凸部の前記主表面からの高さが0.10μm未満であり、
 前記内部欠陥が、前記主表面から50μm未満の深さ領域に存在してもよい。
 内部欠陥の長辺長さが200μm以下であり、また、短辺長さが1μm~10μmの内部欠陥は長辺長さが50μmを超える大きさであっても、肉眼では存在していることが分かりにくい。そこで、ここでは、このようなサイズの内部欠陥を有するガラス基板を対象としている。
 また、前記内部欠陥の長辺長さが50μmを超え80μm未満であり、短辺長さが1μm未満であってもよい。
The internal defect has a long side length of 200 μm or less, a short side length of 1 μm or more,
The height of the convex part from the main surface is less than 0.10 μm;
The internal defect may exist in a depth region of less than 50 μm from the main surface.
The internal defect has a long side length of 200 μm or less, and an internal defect having a short side length of 1 μm to 10 μm may exist with the naked eye even if the long side length exceeds 50 μm. Confusing. Therefore, here, a glass substrate having an internal defect of such a size is targeted.
The long side length of the internal defect may be more than 50 μm and less than 80 μm, and the short side length may be less than 1 μm.
 前記内部欠陥は、線状白金であってもよい。ガラス基板の製造は、白金又は白金合金製の反応装置を用いて行われる場合があるが、例えば、無アルカリガラスやアルカリ微量含有ガラスを原料としてガラス基板を製造する場合、これら無アルカリガラス、アルカリ微量含有ガラスは、高温粘性が高いために、清澄槽では、特に熔融ガラスの温度を高く保つ必要がある。清澄槽は、耐熱性の点から白金あるいは白金合金からなるが、熔融ガラスを高温に加熱するために高温状態になる清澄槽において、清澄槽の気相空間と接する内壁面から白金は揮発しやすい。さらに、揮発した白金は、その一部が気相空間の内壁面に再凝固して内壁面に白金あるいは白金合金の結晶粒を形成し易い。このため、熔融ガラス中に清澄槽の内壁面から結晶粒の一部が離脱して線状白金となってガラス基板中に落下する場合がある。ここでは、特に線状白金を内部欠陥として有するガラス基板を対象として、内部欠陥の短辺長さが5μm未満であって、ガラス基板の主表面の凸部が0.15μm未満である場合に、製品として用いるようにしている。 The internal defect may be linear platinum. The production of the glass substrate may be carried out using a platinum or platinum alloy reaction apparatus. For example, when producing a glass substrate using non-alkali glass or alkali-containing glass as a raw material, these non-alkali glass and alkali Since the glass containing a trace amount has high viscosity at high temperature, it is necessary to keep the temperature of the molten glass particularly high in the clarification tank. The clarification tank is made of platinum or a platinum alloy from the viewpoint of heat resistance, but in a clarification tank that is in a high temperature state to heat the molten glass to a high temperature, platinum is likely to volatilize from the inner wall surface in contact with the gas phase space of the clarification tank. . Furthermore, part of the volatilized platinum is likely to resolidify on the inner wall surface of the gas phase space and form platinum or platinum alloy crystal grains on the inner wall surface. For this reason, some of the crystal grains may be detached from the inner wall surface of the clarification tank in the molten glass to form linear platinum and fall into the glass substrate. Here, particularly for a glass substrate having linear platinum as an internal defect, when the short side length of the internal defect is less than 5 μm and the convex portion of the main surface of the glass substrate is less than 0.15 μm, It is used as a product.
 前記内部欠陥は、前記主表面から50μm未満の深さ領域に存在してもよい。
 ガラス基板の主表面の凸部は、内部欠陥がガラス基板の主表面に近い部分にあるほど、主表面からの高さが大きくなり、その分、ディスプレイの品質に影響を与えやすくなる。しかし、本発明のガラス基板では、そのような場合でも、上記所定の条件を満たせば、製品として用いることができる。
 また、前記内部欠陥の長辺長さが50μmを超え80μm未満であり、短辺長さが1μm未満であってもよい。
The internal defect may exist in a depth region of less than 50 μm from the main surface.
The convex portion of the main surface of the glass substrate has a higher height from the main surface as the internal defect is closer to the main surface of the glass substrate, and accordingly, the display quality is more likely to be affected. However, the glass substrate of the present invention can be used as a product even in such a case as long as the predetermined condition is satisfied.
The long side length of the internal defect may be more than 50 μm and less than 80 μm, and the short side length may be less than 1 μm.
 本発明の一態様に係る液晶ディスプレイは、
 上述のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を用いた液晶ディスプレイであって、
 前記ガラス基板の一方の主表面にカラーフィルタ又はTFTデバイスが形成され、前記主表面側に液晶層が形成されていることを特徴とする。
A liquid crystal display according to one embodiment of the present invention is provided.
A liquid crystal display using the glass substrate for flat panel display described above,
A color filter or a TFT device is formed on one main surface of the glass substrate, and a liquid crystal layer is formed on the main surface side.
 前記液晶ディスプレイは、2000:1以上のコントラスト比を有する場合に好ましく用いられる。 The liquid crystal display is preferably used when it has a contrast ratio of 2000: 1 or more.
 本発明の他の一態様に係るフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、
 ガラス基板製造工程と、前記ガラス基板製造工程で製造されたガラス基板を検査するガラス基板検査工程と、を備え、
 前記ガラス基板検査工程では、透光性を有さず、長辺長さが50μmを超え、短辺長さが5μm未満である内部欠陥を有し、前記内部欠陥の位置に対応する前記ガラス基板の主表面上の位置に形成され、前記主表面からの高さが0.15μm以上である凸部を有するガラス基板、を不良と判別することを特徴とする。
 この方法によれば、透光性を有しない所定サイズを超える大きさの内部欠陥を有していても、高コントラストなフラットパネルディスプレイに用いることが可能なガラス基板を選別できる。これにより、製品歩留まりが良くなる。
A method for producing a glass substrate for a flat panel display according to another embodiment of the present invention,
A glass substrate manufacturing process, and a glass substrate inspection process for inspecting the glass substrate manufactured in the glass substrate manufacturing process,
In the glass substrate inspecting step, the glass substrate does not have translucency, has an internal defect having a long side length of more than 50 μm and a short side length of less than 5 μm, and corresponds to the position of the internal defect. A glass substrate having a convex portion which is formed at a position on the main surface and has a height from the main surface of 0.15 μm or more is determined to be defective.
According to this method, a glass substrate that can be used for a high-contrast flat panel display can be selected even if it has an internal defect with a size exceeding a predetermined size that does not have translucency. This improves the product yield.
 前記内部欠陥は、50μmを超え80μm未満の長辺長さを有し、1μm未満の短辺長さを有してもよい。
 前記内部欠陥は、線状白金であってもよい。
The internal defect may have a long side length of more than 50 μm and less than 80 μm, and a short side length of less than 1 μm.
The internal defect may be linear platinum.
 本発明によれば、透光性を有しない所定サイズを超える大きさの内部欠陥を有していても、高コントラストなフラットパネルディスプレイに用いることが可能なガラス基板が得られる。 According to the present invention, it is possible to obtain a glass substrate that can be used for a high-contrast flat panel display even if it has an internal defect exceeding a predetermined size that does not have translucency.
本実施形態のガラス基板の厚み方向断面を示す図である。It is a figure which shows the thickness direction cross section of the glass substrate of this embodiment. 図1に示すガラス基板を備える本実施形態の液晶ディスプレイの断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section of the liquid crystal display of this embodiment provided with the glass substrate shown in FIG. 本実施形態のガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the flow of the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment. 本実施形態における熔解工程~切断工程を行う装置の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the apparatus which performs the melting process-cutting process in this embodiment.
 以下、本発明のガラス基板及びガラス基板の製造方法、ならびに液晶ディスプレイについて説明する。 Hereinafter, the glass substrate of the present invention, the method for producing the glass substrate, and the liquid crystal display will be described.
(ガラス基板)
 図1に、本発明の一実施形態によるガラス基板1の厚み方向断面図を示す。
 まず、ガラス基板1の概略を説明する。
 ガラス基板1の厚さは、0.1~1.5mmであり、好ましい厚さの上限値は、1.1mm、0.7mm、0.5mmであり、最も好ましい上限値は0.4mmである。一方、好ましい厚さの下限値は、0.2mmである。
 ガラス基板1のサイズは、500~2500mm×2500~3500mm(短手方向長さ×長手方向長さ)である。
(Glass substrate)
FIG. 1 shows a sectional view in the thickness direction of a glass substrate 1 according to an embodiment of the present invention.
First, the outline of the glass substrate 1 will be described.
The thickness of the glass substrate 1 is 0.1 to 1.5 mm, and the upper limit values of the preferable thickness are 1.1 mm, 0.7 mm, and 0.5 mm, and the most preferable upper limit value is 0.4 mm. . On the other hand, the lower limit of the preferred thickness is 0.2 mm.
The size of the glass substrate 1 is 500 to 2500 mm × 2500 to 3500 mm (length in the lateral direction × length in the longitudinal direction).
 ガラス基板1の種類は、ボロシリケイトガラス、アルミノシリケイトガラス、アルミノボロシリケイトガラス、ソーダライムガラス、アルカリシリケイトガラス、アルカリアルミノシリケイトガラス、アルカリアルミノゲルマネイトガラス等が挙げられる。なお、液晶ディスプレイ用ガラス板や有機EL(Electro-Luminescence)用ガラス板としては、アルカリを実質的に含有しない、あるいはアルカリを極微量しか含有しないガラス板を適用することが好ましい。 Examples of the glass substrate 1 include borosilicate glass, aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, soda lime glass, alkali silicate glass, alkali aluminosilicate glass, and alkali aluminogermanate glass. In addition, as a glass plate for liquid crystal displays and a glass plate for organic EL (Electro-Luminescence), it is preferable to apply a glass plate that substantially does not contain alkali or contains a very small amount of alkali.
 ガラス基板1は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ用であり、高コントラストのフラットパネルディスプレイ用として好ましく用いられる。高コントラストのフラットパネルディスプレイとしては、例えば、IPS方式又はVA方式の液晶ディスプレイが挙げられる。なお、高コントラストとは、コントラスト比が2000:1~3000:1程度以上のものをいう。 The glass substrate 1 is used for flat panel displays such as liquid crystal displays, plasma displays, and organic EL displays, and is preferably used for high contrast flat panel displays. Examples of the high-contrast flat panel display include an IPS liquid crystal display or a VA liquid crystal display. High contrast means that the contrast ratio is about 2000: 1 to 3000: 1 or more.
 ガラス基板1は、本実施形態では、液晶ディスプレイに用いられ、一方の主表面3は、半導体素子アレイ又はカラーフィルタなどの薄膜が形成される平滑な面であり、他方の主表面は、偏光フィルタが設けられる平滑な面である。 In this embodiment, the glass substrate 1 is used for a liquid crystal display. One main surface 3 is a smooth surface on which a thin film such as a semiconductor element array or a color filter is formed, and the other main surface is a polarizing filter. Is a smooth surface.
 図1では、液晶ディスプレイに用いられるガラス基板1は、透光性を有しない内部欠陥10を有している。
 透光性を有しない内部欠陥10とは、ガラス基板1中に存在する遮光性の欠陥をいう。ガラス基板1の主表面3にその一部が現れているものは、内部欠陥10には含まれない。内部欠陥10は、本実施形態では、断面が円形又は三角形などの線状白金である。線状白金は、ガラス基板の製造時に、白金又は白金合金製の清澄槽等の装置から熔融ガラス中に落下して混入したと考えられている、細長く断面が多角形の白金異物である。ガラス基板中では、ガラス基板の製造工程中、熔融ガラスが一方向に流れることで複数の線状白金は一方向に向きを揃えている。具体的には、図1に示す細長い線状白金の長辺の向きは、後述する図4に示す成形装置200を流れるシートガラスの流れる方向(図4中の矢印方向)に揃っている。
In FIG. 1, the glass substrate 1 used for a liquid crystal display has the internal defect 10 which does not have translucency.
The internal defect 10 having no translucency refers to a light-shielding defect present in the glass substrate 1. What the part has appeared on the main surface 3 of the glass substrate 1 is not included in the internal defect 10. In the present embodiment, the internal defect 10 is linear platinum having a circular or triangular cross section. Linear platinum is a platinum foreign substance having a long and narrow polygonal cross section, which is considered to have fallen into molten glass from an apparatus such as a clarification tank made of platinum or a platinum alloy during the production of a glass substrate. In the glass substrate, during the glass substrate manufacturing process, the molten glass flows in one direction, so that the plurality of linear platinum are aligned in one direction. Specifically, the direction of the long side of the elongated linear platinum shown in FIG. 1 is aligned with the flow direction (arrow direction in FIG. 4) of the sheet glass flowing through the forming apparatus 200 shown in FIG.
 内部欠陥10は、長辺長さL2が50μmを超え、短辺長さL1が5μm未満である。ここで、長辺長さL2は、内部欠陥10において長さが最大となる部分の長さであり、通常、ガラス基板1の延在する方向(図1において紙面水平方向)の長さである。また、短辺長さL1は、長辺長さL2の方向と略直交する方向において、長さが最大となる部分の長さであり、通常、ガラス基板1の板厚方向(図1において紙面上下方向)の長さである。
 長辺長さL2が50μmを超える大きさの内部欠陥10に起因して、主表面3に凸部7(後述)が形成されたガラス基板1は、IPS方式、VA方式の高コントラストの液晶ディスプレイ等に用いられた場合に、ディスプレイの品質(視認可能な表示ムラ、画素欠けなど)に問題を生じさせる可能性がある。しかし、そのような内部欠陥10が存在する場合であっても、その短辺長さL1が5μm未満であり、凸部の形状が15μm未満であれば、凸部が遮光性の内部欠陥に起因するものであっても、高コントラストのディスプレイに用いても品質上問題が生じない。
The internal defect 10 has a long side length L2 of more than 50 μm and a short side length L1 of less than 5 μm. Here, the long side length L2 is the length of the portion having the maximum length in the internal defect 10, and is usually the length in the extending direction of the glass substrate 1 (the horizontal direction in FIG. 1). . Further, the short side length L1 is the length of the portion having the maximum length in the direction substantially orthogonal to the direction of the long side length L2, and is usually in the thickness direction of the glass substrate 1 (the paper surface in FIG. 1). Length in the vertical direction).
Due to the internal defect 10 having a long side length L2 exceeding 50 μm, the glass substrate 1 on which the convex portion 7 (described later) is formed on the main surface 3 is a high-contrast liquid crystal display of the IPS mode and the VA mode. May cause problems in display quality (visible display unevenness, missing pixels, etc.). However, even if such an internal defect 10 exists, if the short side length L1 is less than 5 μm and the shape of the convex portion is less than 15 μm, the convex portion is caused by the light-blocking internal defect. Even if it is used, a problem in quality does not occur even if it is used for a high-contrast display.
 本実施形態では、内部欠陥10は、例えば、長辺長さL2は200μm以下又は200~52μmであり、短辺長さL1は1μm以上又は1~4μmである。また、凸部7の長辺長さは、内部欠陥の長辺長さとほぼ同じ長さか、それ以下である。
 別の好ましい態様として、内部欠陥10の形状に関して、内部欠陥10の長辺長さL2が50μmを超え80μm未満であり、短辺長さL1が1μm未満である。短辺長さL1は、例えば0.1μm以上である。この場合、凸部7の主表面からの突出高さが0.15μm未満である。このような内部欠陥10及び凸部7があっても、高コントラストのディスプレイに用いても品質上全く問題が生じない。
In the present embodiment, the internal defect 10 has, for example, a long side length L2 of 200 μm or less or 200 to 52 μm, and a short side length L1 of 1 μm or more or 1 to 4 μm. Further, the long side length of the convex portion 7 is substantially the same as or shorter than the long side length of the internal defect.
As another preferable aspect, regarding the shape of the internal defect 10, the long side length L2 of the internal defect 10 is more than 50 μm and less than 80 μm, and the short side length L1 is less than 1 μm. The short side length L1 is, for example, 0.1 μm or more. In this case, the protrusion height from the main surface of the convex part 7 is less than 0.15 micrometer. Even if such an internal defect 10 and convex portion 7 are present, there is no problem in quality even when used for a high-contrast display.
 ガラス基板1は、内部欠陥10の位置(以下、内部欠陥10の水平方向位置ともいう)に対応するガラス基板1の主表面3の位置に、主表面3からの高さhが0.15μm未満、例えば0.10μm未満である凸部7が形成されている。ここで、高さhは、凸部7において主表面3からの高さが最大となる部分の高さである。内部欠陥10の水平方向位置と対応するガラス基板1の主表面3の位置に形成された凸部7は、内部欠陥10に起因して形成されたと考えられる。このような凸部7を有するガラス基板1は、高コントラストの液晶ディスプレイに用いられると、液晶の駆動に影響を与える可能性があるが、高さhが0.15μm未満であれば、そのような問題は生じない。 The glass substrate 1 has a height h from the main surface 3 of less than 0.15 μm at the position of the main surface 3 of the glass substrate 1 corresponding to the position of the internal defect 10 (hereinafter also referred to as the horizontal position of the internal defect 10). For example, the convex part 7 which is less than 0.10 μm is formed. Here, the height h is the height of the portion of the convex portion 7 where the height from the main surface 3 is maximum. The protrusion 7 formed at the position of the main surface 3 of the glass substrate 1 corresponding to the horizontal position of the internal defect 10 is considered to be formed due to the internal defect 10. The glass substrate 1 having such convex portions 7 may affect the driving of the liquid crystal when used in a high-contrast liquid crystal display, but if the height h is less than 0.15 μm, No problem arises.
 ここで、図2を参照して、凸部7が与える液晶の駆動への影響について説明する。図2に、ガラス基板1を用いて製造された本実施形態の液晶ディスプレイの板厚方向の断面を示す。この液晶ディスプレイは、IPS方式のディスプレイであり、図2において上方から、ガラス基板11、液晶層20、ガラス基板1、バックライト22が積層されている。ガラス基板11は、ガラス基板1と同様のガラス原料からなるガラス基板であるが、内部欠陥を有さず、主表面に凸部を有しない。ガラス基板11の液晶層20側の主表面には、図示しないTFT(Thin Film Transistor)および画素電極がマトリクス状に配されて形成される。液晶層20には、液晶が注入されている。ガラス基板1は、上述のように内部欠陥10を有し、主表面に凸部7が形成されている。ガラス基板1は、凸部7が形成された側の主表面を液晶層20に向けて配され、この主表面にはカラーフィルタが形成される。なお、ガラス基板11,1の、液晶層20と反対側の主表面にはそれぞれ、図示しない偏光フィルタが配されている。 Here, with reference to FIG. 2, the influence of the projection 7 on the driving of the liquid crystal will be described. In FIG. 2, the cross section of the plate | board thickness direction of the liquid crystal display of this embodiment manufactured using the glass substrate 1 is shown. This liquid crystal display is an IPS display, and a glass substrate 11, a liquid crystal layer 20, a glass substrate 1, and a backlight 22 are laminated from above in FIG. The glass substrate 11 is a glass substrate made of the same glass raw material as the glass substrate 1, but has no internal defect and does not have a convex portion on the main surface. On the main surface of the glass substrate 11 on the liquid crystal layer 20 side, TFTs (Thin Film Transistor) and pixel electrodes (not shown) are arranged in a matrix. Liquid crystal is injected into the liquid crystal layer 20. The glass substrate 1 has the internal defect 10 as mentioned above, and the convex part 7 is formed in the main surface. The glass substrate 1 is arranged with the main surface on the side where the convex portions 7 are formed facing the liquid crystal layer 20, and a color filter is formed on the main surface. A polarizing filter (not shown) is disposed on each main surface of the glass substrates 11 and 1 opposite to the liquid crystal layer 20.
 この液晶ディスプレイにおいて、ガラス基板の凸部の高さが例えば0.2μm程度である場合は、液晶層20に電圧がかかると、凸部7が形成されたガラス基板1の領域では、凸部7が形成されていない周囲の領域に比べて低電圧で液晶が反応し、ディスプレイにおいて周囲の領域よりも早く明るくなる。一方、液晶層20にかかっている電圧が下がると、凸部7が形成されたガラス基板1の領域では、上記周囲の領域に比べてディスプレイの周囲の領域よりも遅く暗くなる。このようにガラス基板の主表面に、0.15μm以上の高さの凸部が存在する場合は、低電圧で液晶が駆動し、液晶の駆動差が生じることにより、従来のコントラスト(コントラスト比が1000:1未満、例えば500:1~800:1程度)の液晶ディスプレイでは問題とならなかった、他の領域(周囲の領域)との発色又は発光態様の僅かな違いが偏光フィルタによって強調され、表示ムラとして視認されてしまう。これに対し、凸部7の高さhが0.15μm未満である場合は、上記のような液晶の駆動差が偏光フィルタによって、表示ムラとなって視認されるほどに強調されることはない。IPS方式の液晶ディスプレイでは、液晶をガラス基板上に水平(光入射方向に対して垂直)に配列し、水平方向(面内方向)に駆動して(液晶分子をガラス基板と平行な面内で回転させて)光の透過量を制御する。このため、IPS方式の場合、ガラス基板の面内に突出する高さが0.15μm以上の凸部7が存在すると、液晶の配列・駆動角度がずれ、光の透過量が変化して、パネルの局所的な明るさ等の表示ムラを生じる。すなわち、IPS方式では、凸部7が液晶の配向に与える影響は大きい。 In this liquid crystal display, when the height of the convex portion of the glass substrate is, for example, about 0.2 μm, when voltage is applied to the liquid crystal layer 20, the convex portion 7 is formed in the region of the glass substrate 1 on which the convex portion 7 is formed. The liquid crystal reacts at a lower voltage than the surrounding area where no is formed, and brightens faster than the surrounding area on the display. On the other hand, when the voltage applied to the liquid crystal layer 20 is lowered, the area of the glass substrate 1 on which the projections 7 are formed becomes darker than the surrounding area of the display compared to the surrounding area. As described above, when a convex portion having a height of 0.15 μm or more exists on the main surface of the glass substrate, the liquid crystal is driven at a low voltage, and a driving difference of the liquid crystal is generated, so that the conventional contrast (contrast ratio is reduced). A slight difference in color development or emission mode from other regions (surrounding regions), which was not a problem in a liquid crystal display of less than 1000: 1 (for example, about 500: 1 to 800: 1), is emphasized by the polarizing filter, It will be visually recognized as display unevenness. On the other hand, when the height h of the convex portion 7 is less than 0.15 μm, the driving difference of the liquid crystal as described above is not emphasized so as to be visually recognized as display unevenness by the polarizing filter. . In an IPS liquid crystal display, liquid crystals are arranged horizontally on a glass substrate (perpendicular to the light incident direction) and driven in the horizontal direction (in-plane direction) (liquid crystal molecules in a plane parallel to the glass substrate). Rotate) to control light transmission. For this reason, in the case of the IPS system, if there is a projection 7 having a height of 0.15 μm or more protruding in the plane of the glass substrate, the liquid crystal alignment / drive angle is shifted, and the amount of light transmission is changed. Display unevenness such as local brightness. In other words, in the IPS system, the projection 7 has a great influence on the alignment of the liquid crystal.
 特に、線状白金のような棒状の内部欠陥10に起因して形成された凸部7は、ガラス基板1の主表面3に対して急峻な立ち上がり角度を有する(局部的に盛り上がる)ため、液晶層20のギャップ(板厚方向の距離)が狭くなっている領域(凸部7が形成された領域)では、コントラスト差が目立ち易い。しかも、凸部7は、長辺長さが50μmを超える長辺長さL2を有する内部欠陥に起因して形成されることによって、長辺方向に延びた凸領域として視認され易い。本発明のガラス基板1は、凸部7の高さhが0.15μm未満であることによって、このような高コントラストのディスプレイにも使用可能である。
 本願発明者は、ガラス基板の内部に遮光性の内部欠陥が存在することにより主表面に凸部が形成された場合には、内部欠陥近傍のガラスの状態が泡などの内部欠陥の場合と異なるため、ディスプレイ表示品質への影響がより顕著に現れると考えている。遮光性の内部欠陥がディスプレイ表示品質に影響する理由の一つとして、遮光性の内部欠陥が形成されガラス基板中に存在することが内部欠陥近傍のガラスの状態(例えば、密度)に微小な影響を与え、このことが上記した液晶の駆動や、凸の形状と合わさって、また、光の透過量の減少も合わさって、ディスプレイの表示品質に顕著に影響を与えること、が考えられている。
 本発明は、このような品質に影響を与える内部欠陥が存在していたとしても、高コントラストの液晶ディスプレイに採用できるガラス基板を特定するものである。
In particular, the protrusion 7 formed due to the rod-like internal defect 10 such as linear platinum has a steep rise angle (locally rises) with respect to the main surface 3 of the glass substrate 1, so that the liquid crystal In the region where the gap (distance in the plate thickness direction) of the layer 20 is narrow (the region where the convex portion 7 is formed), the contrast difference is easily noticeable. Moreover, the convex portion 7 is easily formed as a convex region extending in the long side direction by being formed due to an internal defect having a long side length L2 having a long side length exceeding 50 μm. The glass substrate 1 of the present invention can be used for such a high-contrast display because the height h of the convex portion 7 is less than 0.15 μm.
The inventor of the present application, when a convex portion is formed on the main surface due to the presence of light-blocking internal defects inside the glass substrate, the state of the glass near the internal defects is different from the case of internal defects such as bubbles. For this reason, it is considered that the influence on the display display quality appears more remarkably. One reason why light-blocking internal defects affect display quality is that the presence of light-blocking internal defects in the glass substrate has a small effect on the state of glass near the internal defects (for example, density). It is conceivable that this, when combined with the driving of the liquid crystal and the convex shape described above, and the reduction in the amount of light transmission, significantly affect the display quality of the display.
The present invention specifies a glass substrate that can be employed in a high-contrast liquid crystal display even if such internal defects affecting quality are present.
 ガラス基板1は、内部欠陥10の長辺長さが50μmを超え200μm以下であり、短辺長さが1μm以上5μm未満であって、内部欠陥10がガラス基板1の主表面3から50μm未満の深さ領域D内に存在しても、凸部7の高さhが0.10μmであれば、内部欠陥10及び凸部7を有してもよい。主表面付近に現れた内部欠陥10は、ガラス基板1の主表面3を隆起させて凸部7を生じさせる可能性が高い。しかし、内部欠陥10がガラス基板1の主表面3から50μm未満の深さ領域D内に存在する場合であっても、凸部7の高さhが0.10μmより低い場合、高コントラストのディスプレイに用いても品質上問題がない。 In the glass substrate 1, the long side length of the internal defect 10 is more than 50 μm and 200 μm or less, the short side length is 1 μm or more and less than 5 μm, and the internal defect 10 is less than 50 μm from the main surface 3 of the glass substrate 1. Even if it exists in the depth area | region D, if the height h of the convex part 7 is 0.10 micrometer, you may have the internal defect 10 and the convex part 7. FIG. The internal defect 10 that appears in the vicinity of the main surface has a high possibility that the main surface 3 of the glass substrate 1 is raised and the convex portion 7 is generated. However, even when the internal defect 10 exists in the depth region D less than 50 μm from the main surface 3 of the glass substrate 1, if the height h of the convex portion 7 is lower than 0.10 μm, a high-contrast display There is no problem in quality even if it is used.
 以上のガラス基板1は、透光性を有しない所定長さを超える長辺長さL2を有する内部欠陥10を有するが、その短辺長さL1は5μmより短く、また、主表面3に形成された凸部7の高さhは0.15μmより低いため、高コントラストのディスプレイに用いられても、ディスプレイの品質上問題とはならない。したがって、従来は不良品として扱われたガラス基板を製品として利用することができ、歩留まりが改善される。 The glass substrate 1 described above has an internal defect 10 having a long side length L2 exceeding a predetermined length that is not translucent, but the short side length L1 is shorter than 5 μm and is formed on the main surface 3. Since the height h of the projected portion 7 is lower than 0.15 μm, there is no problem in display quality even if it is used for a high contrast display. Therefore, a glass substrate that has been treated as a defective product can be used as a product, and the yield is improved.
 なお、ガラス基板1は、他の実施形態では、液晶ディスプレイにおいてTFT側に配されるガラス基板(上述のガラス基板11)として用いられてもよい。この場合、ガラス基板は、凸部が形成された側の主表面を液晶層に向けて配されても、ディスプレイ品質に影響を与えることがない。
 また、内部欠陥10は、ガラス基板1中に、複数存在してもよい。凸部7は、ガラス基板の主表面に複数あってもよい。
In other embodiments, the glass substrate 1 may be used as a glass substrate (the glass substrate 11 described above) disposed on the TFT side in the liquid crystal display. In this case, even if the glass substrate is arranged with the main surface on the side where the convex portions are formed facing the liquid crystal layer, the display quality is not affected.
A plurality of internal defects 10 may exist in the glass substrate 1. There may be a plurality of convex portions 7 on the main surface of the glass substrate.
(ガラス基板の製造方法)
 次に、ガラス基板の製造方法について説明する。
 図3に、ガラス基板の製造方法のフローの一例を説明する図を示す。
 本発明のガラス基板の製造方法は、ガラス基板製造工程と、検査工程(ステップS100)と、を備える。
(Glass substrate manufacturing method)
Next, the manufacturing method of a glass substrate is demonstrated.
In FIG. 3, the figure explaining an example of the flow of the manufacturing method of a glass substrate is shown.
The manufacturing method of the glass substrate of this invention is equipped with a glass substrate manufacturing process and an inspection process (step S100).
 ガラス基板製造工程は、熔解工程(ST1)と、清澄工程(ST2)と、均質化工程(ST3)と、供給工程(ST4)と、成形工程(ST5)と、徐冷工程(ST6)と、切断工程(ST7)と、を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程等を有する。
 熔解工程(ST1)は熔解炉で行われる。熔解炉では、ガラス原料を、熔解炉に蓄えられた熔融ガラスの液面に投入し、加熱することにより熔融ガラスを作る。さらに、熔解炉の内側側壁の1つの底部に設けられた流出口から下流工程に向けて熔融ガラスを流す。
 なお、ガラス原料には清澄剤が添加される。環境負荷低減の点から、清澄剤として酸化錫を用いることが好ましい。
The glass substrate manufacturing process includes a melting process (ST1), a clarification process (ST2), a homogenization process (ST3), a supply process (ST4), a molding process (ST5), a slow cooling process (ST6), Cutting step (ST7). In addition to this, there are a grinding process, a polishing process, a cleaning process, and the like.
The melting step (ST1) is performed in a melting furnace. In a melting furnace, a glass raw material is put into a liquid surface of molten glass stored in a melting furnace and heated to make molten glass. Furthermore, molten glass is flowed toward the downstream process from the outlet provided in one bottom part of the inner side wall of the melting furnace.
A clarifier is added to the glass raw material. From the viewpoint of reducing environmental burden, it is preferable to use tin oxide as a fining agent.
 清澄工程(ST2)は、少なくとも清澄管において行われる。清澄工程では、清澄管内の熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれるCO2あるいはSO2を、清澄剤の還元反応により生じたO2の泡が吸収して成長し、熔融ガラスの液面に泡は浮上して泡に含まれるガスが清澄管内の気相空間内に放出される。さらに、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中のO2等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスの温度を制御することにより行われる。なお、清澄管は、熔融ガラスから気相空間に放出されたガスを大気に放出するために、大気に連通した通気管を備える。 The clarification step (ST2) is performed at least in the clarification tube. In the clarification process, when the molten glass in the clarification tube is heated, CO 2 or SO 2 contained in the molten glass is absorbed by the O 2 bubbles generated by the reductive reaction of the clarifier and grows. Bubbles rise to the liquid surface of the glass, and the gas contained in the bubbles is released into the gas phase space in the clarification tube. Furthermore, in the clarification step, the reducing substance obtained by the reduction reaction of the clarifier undergoes an oxidation reaction by lowering the temperature of the molten glass. Thereby, gas components such as O 2 in the foam remaining in the molten glass are reabsorbed in the molten glass, and the foam disappears. The oxidation reaction and reduction reaction by the fining agent are performed by controlling the temperature of the molten glass. In addition, a clarification pipe | tube is provided with the vent pipe connected to air | atmosphere in order to discharge | release the gas discharge | released from the molten glass to the gaseous-phase space to air | atmosphere.
 均質化工程(ST3)では、清澄管から延びる配管を通って供給された攪拌槽内の熔融ガラスを、スターラを用いて攪拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。これにより、脈理等の原因であるガラスの組成ムラを低減することができる。 In the homogenization step (ST3), the glass components in the stirring vessel supplied through the pipe extending from the clarification tube are stirred using a stirrer to homogenize the glass components. Thereby, the composition unevenness of the glass which is a cause of striae or the like can be reduced.
 供給工程(ST4)では、攪拌槽から延びる配管を通して熔融ガラスが成形装置に供給される。 In the supplying step (ST4), the molten glass is supplied to the forming apparatus through a pipe extending from the stirring tank.
 成形装置では、成形工程(ST5)及び徐冷工程(ST6)が行われる。
 成形工程(ST5)では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形は、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
 徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
In the molding apparatus, a molding step (ST5) and a slow cooling step (ST6) are performed.
In the forming step (ST5), the molten glass is formed into a sheet glass to make a flow of the sheet glass. For forming, an overflow downdraw method is used.
In the slow cooling step (ST6), the sheet glass that has been formed and flowed is cooled to a desired thickness, so that internal distortion does not occur and warpage does not occur.
 切断工程(ST7)では、切断装置において、成形装置から供給されたシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス板を得る。切断されたガラス板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。この後、ガラス基板の端面の研削、研磨が行われ、ガラス基板の洗浄が行われる。 In the cutting step (ST7), in the cutting device, the sheet glass supplied from the forming device is cut into a predetermined length to obtain a plate-like glass plate. The cut glass plate is further cut into a predetermined size to produce a glass substrate of a target size. Thereafter, the end surface of the glass substrate is ground and polished, and the glass substrate is cleaned.
 ここで、図4を参照して、熔解工程(ST1)~切断工程(ST7)を行うガラス板製造装置について説明する。図4は、本実施形態における熔解工程(ST1)~切断工程(ST7)を行うガラス板製造装置の一例を模式的に示す図である。当該装置は、主に熔解装置100と、成形装置200と、切断装置300と、を有する。熔解装置100は、熔解炉101と、清澄管(清澄槽本体)102と、攪拌槽103と、ガラス供給管104,105,106と、を有する。 Here, with reference to FIG. 4, the glass plate manufacturing apparatus which performs a melting process (ST1)-a cutting process (ST7) is demonstrated. FIG. 4 is a diagram schematically illustrating an example of a glass plate manufacturing apparatus that performs the melting step (ST1) to the cutting step (ST7) in the present embodiment. The apparatus mainly includes a melting apparatus 100, a molding apparatus 200, and a cutting apparatus 300. The melting apparatus 100 includes a melting furnace 101, a clarification pipe (clarification tank body) 102, a stirring tank 103, and glass supply pipes 104, 105, and 106.
 図4に示す熔解装置100では、ガラス原料の投入がバケット101dを用いて行われる。清澄管102では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスMGの清澄が行われる。さらに、攪拌槽103では、スターラ103aによって熔融ガラスMGが攪拌されて均質化される。成形装置200では、成形体210を用いたオーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスMGからシートガラスSGが成形される。 In the melting apparatus 100 shown in FIG. 4, the glass raw material is charged using the bucket 101d. In the clarification tube 102, the temperature of the molten glass MG is adjusted, and the clarification of the molten glass MG is performed using the oxidation-reduction reaction of the clarifier. Further, in the stirring vessel 103, the molten glass MG is stirred and homogenized by the stirrer 103a. In the forming apparatus 200, the sheet glass SG is formed from the molten glass MG by the overflow down draw method using the formed body 210.
 なお、図4に示す熔解炉101から成形装置200にいたる熔融ガラスMGの流路、具体的には、ガラス供給管104、清澄管102、ガラス供給管105、攪拌槽103、およびガラス供給管106の熔融ガラスMGの流路を形成する流路形成部材は、白金あるいは白金合金で構成されている。 In addition, the flow path of the molten glass MG from the melting furnace 101 shown in FIG. 4 to the shaping | molding apparatus 200, specifically, the glass supply pipe | tube 104, the clarification pipe | tube 102, the glass supply pipe | tube 105, the stirring tank 103, and the glass supply pipe | tube 106 The flow path forming member that forms the flow path of the molten glass MG is made of platinum or a platinum alloy.
 このような白金あるいは白金合金で構成される流路形成部材は、ガラス基板の製造(操業)を開始するとき、事前加熱される。 Such a flow path forming member made of platinum or a platinum alloy is preheated when the production (operation) of the glass substrate is started.
 熔解装置100、成形装置200で作製されるガラス基板としては、以下のガラス組成のガラスが用いられる。したがって、以下のガラス組成をガラス基板が有するようにガラス原料は用いられる。
SiO2 55~75モル%、
Al23 5~20モル%、
23 0~15モル%、
RO:5~20モル%(RはMg、Ca、Sr及びBaのうち、ガラス基板に含まれる全元素)、
R’ 2O:0~0.8モル%(R’はLi、K、及びNaのうち、ガラス基板に含まれる全元素)。
 上記ガラスは、高温粘性が高いガラスの一例である。このようなガラスにおいて、清澄管102において適正な熔融ガラスの粘度で脱泡を行うために熔融ガラスを高温に加熱する。清澄剤として酸化錫を含み、粘度が102.5ポアズ(1ポアズ=0.1Pa・秒)であるときの熔融ガラスの温度は、例えば1500~1700℃であり、清澄管102の内部における溶融ガラス温度は1600℃以上となるよう加熱される。このため、清澄管102の内壁から揮発物は多量に揮発し、揮発物の凝集(析出)が生じるおそれがある。
 なお、清澄管102の内部の気相空間に窒素などの不活性ガスを供給することで、清澄管102の内部の気相空間の酸素濃度(気相空間内の酸素分圧)を、少なくとも大気での酸素濃度未満に下げて揮発量を低減すること、また、清澄管102の内部壁面(気相空間にさらされた壁面)における温度差を低減すること(例えば、気相空間が連通した清澄管102内において、温度差を150℃以下にする)で、揮発した白金の析出を抑制することが行われているが、長期にわたる操業中には、操業条件が崩れてしまい、白金の揮発・凝集(析出)による内部異物を発生させてしまう場合がある。この場合、上述した内部欠陥10及び凸部7をガラス基板が有することは避けられない。
As a glass substrate produced with the melting apparatus 100 and the shaping | molding apparatus 200, the glass of the following glass compositions is used. Accordingly, the glass raw material is used so that the glass substrate has the following glass composition.
SiO 2 55-75 mol%,
Al 2 O 3 5-20 mol%,
B 2 O 3 0-15 mol%,
RO: 5 to 20 mol% (R is all elements contained in the glass substrate among Mg, Ca, Sr and Ba),
R ′ 2 O: 0 to 0.8 mol% (R ′ is all elements contained in the glass substrate among Li, K, and Na).
The glass is an example of a glass having a high temperature viscosity. In such a glass, the molten glass is heated to a high temperature in order to perform defoaming with an appropriate viscosity of the molten glass in the fining tube 102. The temperature of the molten glass containing tin oxide as a fining agent and having a viscosity of 10 2.5 poise (1 poise = 0.1 Pa · sec) is, for example, 1500 to 1700 ° C., and the temperature of the molten glass inside the fining tube 102 Is heated to 1600 ° C. or higher. For this reason, a large amount of volatile substances are volatilized from the inner wall of the clarification tube 102, and there is a possibility that aggregation (precipitation) of the volatile substances occurs.
By supplying an inert gas such as nitrogen to the gas phase space inside the clarification tube 102, the oxygen concentration in the gas phase space inside the clarification tube 102 (oxygen partial pressure in the gas phase space) is at least atmospheric. The amount of volatilization is reduced by reducing the oxygen concentration to less than the oxygen concentration in the tube, and the temperature difference in the inner wall surface (wall surface exposed to the gas phase space) of the clarification tube 102 is reduced (for example, clarification in which the gas phase space communicates) In the tube 102, the temperature difference is set to 150 ° C. or less) to suppress the deposition of the volatilized platinum. However, during long-term operation, the operation conditions collapse and the platinum volatilization / Internal foreign matter may be generated due to aggregation (precipitation). In this case, it is inevitable that the glass substrate has the internal defect 10 and the convex portion 7 described above.
 ガラス基板の製造方法の説明に戻って、検査工程(ST8)では、気泡等の欠陥の有無が検査された後、検査合格品のガラス板が最終製品として梱包される。また、検査工程(ST8)では、欠陥の有無のほか、透光性を有しない内部欠陥やガラス板の主表面に形成された凸部のサイズを検査し、ガラス板が不良品であるか否かの判別を行う。
 不良品であるか否かの判別は、具体的には、透光性を有さず、長辺長さが50μmを超え、好ましくは50μmを超え80μm未満であり、短辺長さが5μm未満、好ましくは1μm未満である内部欠陥を有し、かつ、ガラス板が延在する方向における内部欠陥の位置と対応するガラス板の主表面の位置に主表面からの高さが0.15μm以上の凸部を有するガラス板を不良と判別することにより行われる。ガラス板に内部欠陥が存在することは、自動検査装置、又は検査員によって判断される。透光性を有しない内部欠陥が存在すると判断られたガラス板は、例えば、レーザ顕微鏡を用いて、内部欠陥の長辺長さおよび短辺長さ、凸部の高さおよび深さが測定される。
 ガラス基板の製造方法は、以上の工程の他、梱包工程を有し、梱包工程で積層された複数のガラス基板は、納入先の業者に搬送される。
Returning to the description of the method for manufacturing the glass substrate, in the inspection step (ST8), the presence or absence of defects such as bubbles is inspected, and then a glass plate that has passed the inspection is packed as a final product. In addition, in the inspection step (ST8), in addition to the presence or absence of defects, the internal defects that do not have translucency and the size of the projections formed on the main surface of the glass plate are inspected to determine whether or not the glass plate is defective. Is determined.
Specifically, the determination as to whether or not the product is defective is not translucent, and the long side length exceeds 50 μm, preferably exceeds 50 μm and is less than 80 μm, and the short side length is less than 5 μm. The height from the main surface is preferably 0.15 μm or more at the position of the main surface of the glass plate corresponding to the position of the internal defect in the direction in which the glass plate extends, preferably having an internal defect of less than 1 μm. This is done by discriminating a glass plate having a convex portion as defective. The presence of internal defects in the glass plate is determined by an automatic inspection device or an inspector. For a glass plate that is determined to have an internal defect that does not have translucency, the long side length and short side length of the internal defect and the height and depth of the convex portion are measured using, for example, a laser microscope. The
The glass substrate manufacturing method includes a packaging process in addition to the above processes, and the plurality of glass substrates stacked in the packaging process are transported to a supplier.
 内部欠陥の長辺長さが50μmを超える場合は、上述のように、これに起因してガラス基板の主表面に凸部が形成され当該凸部がディスプレイ品質に影響を与える可能性が高いが、内部欠陥の短辺長さが5μm未満であり、ガラス基板主表面の凸部の高さが0.15μm未満である場合は、液晶の動作に影響を与えず問題を生じない。高コントラストのディスプレイに用いられた場合であってもディスプレイの品質に影響を与えない。したがって、以上のガラス基板の製造方法によれば、このようなガラス基板も製品として用いることができるよう、不良品であるか否かの判別を行うことによって、廃棄されるガラス基板を減らし、歩留まりを改善することができる。 When the long side length of the internal defect exceeds 50 μm, as described above, a protrusion is formed on the main surface of the glass substrate due to this, and the protrusion is likely to affect the display quality. When the short side length of the internal defect is less than 5 μm and the height of the convex portion on the main surface of the glass substrate is less than 0.15 μm, no problem occurs without affecting the operation of the liquid crystal. Even when used for high-contrast displays, the display quality is not affected. Therefore, according to the above glass substrate manufacturing method, by determining whether or not such a glass substrate is a defective product, the number of discarded glass substrates can be reduced and the yield can be increased. Can be improved.
(実験例)
 透光性を有しない内部欠陥として線状白金を有するガラス基板のサンプルを、オーバーフローダウンドロー法により製造されたガラス基板から選別し、実施例1として、線状白金異物サイズが、長辺長さ52~200μmであり、短辺長さ1~4μm、かつ線状白金に起因する凸部高さが0.03~0.14μmの主表面状態を有するガラス基板を複数枚取得した。そして、図2に示す構造と同様のIPS方式の液晶ディスプレイを複数作製した。ガラス基板のサンプルは、カラーフィルタ側の基板として、凸部を液晶層20側に向けて配した。なお、TFT側には、別途作成した、内部欠陥および凸部を有しないガラス基板を配した(実施例1)。
 さらに、実施例1と同様に、透光性を有しない内部欠陥として線状白金を有するガラス基板のサンプルを、オーバーフローダウンドロー法により製造されたガラス基板から選別し、実施例2として、線状白金異物サイズが、長辺長さ52~78μmであり、短辺長さ0.1μm~0.98μm未満、かつ線状白金に起因する凸部高さが0.03~0.14μmの主表面状態を有するガラス基板を複数枚取得した。さらに、実施例1と同様に、IPS方式の液晶ディスプレイを複数作製した。ガラス基板のサンプルは、カラーフィルタ側の基板として、凸部を液晶層20側に向けて配した。なお、TFT側には、別途作成した、内部欠陥および凸部を有しないガラス基板を配した(実施例2)。
 また、実施例1,2のガラス基板のサンプルに代えて、凸部の高さが0.15μm、0.25μmであるガラス基板のサンプル、内部欠陥の短辺長さが5μm、10μmであるガラス基板のサンプルを用いて、それぞれ、液晶ディスプレイを作成した(比較例1~4)。
 さらに、凸部の高さが0.15μm~0.2μmであり、内部欠陥の短辺長さが0.1~1μmであり、長辺長さが52~78μmであるガラス基板のサンプルを用いて、液晶ディスプレイを作製した(比較例5)。
 なお、いずれのガラス基板においても、線状白金は主表面から50μm未満の深さに存在した。線状白金の位置がもう一方の表面側に存在する場合、パネル形成後のガラス基板のスリミング時に表面に現れる問題がある。このため、オーバーフローダウンドロー法により製造されたガラス基板において、線状白金が存在する場合には、裏面側に存在しないことが好ましい。
 なお、上記液晶ディスプレイは、正面コントラストが3000:1のコントラスト比となるよう設計をした。
(Experimental example)
A sample of a glass substrate having linear platinum as an internal defect having no translucency is selected from a glass substrate manufactured by an overflow down draw method. As Example 1, the size of the linear platinum foreign matter has a long side length. A plurality of glass substrates having a main surface state of 52 to 200 μm, a short side length of 1 to 4 μm, and a convex part height due to linear platinum of 0.03 to 0.14 μm were obtained. A plurality of IPS liquid crystal displays having the same structure as that shown in FIG. The sample of the glass substrate was arranged with the convex portion facing the liquid crystal layer 20 side as the substrate on the color filter side. In addition, the glass substrate which does not have an internal defect and a convex part produced separately was distribute | arranged to the TFT side (Example 1).
Further, as in Example 1, a sample of a glass substrate having linear platinum as an internal defect that does not have translucency is selected from a glass substrate manufactured by an overflow down draw method. The main surface of the platinum foreign matter has a long side length of 52 to 78 μm, a short side length of 0.1 μm to less than 0.98 μm, and a convex height due to linear platinum of 0.03 to 0.14 μm. A plurality of glass substrates having a state were obtained. Further, in the same manner as in Example 1, a plurality of IPS liquid crystal displays were manufactured. The sample of the glass substrate was arranged with the convex portion facing the liquid crystal layer 20 side as the substrate on the color filter side. In addition, the glass substrate which does not have an internal defect and a convex part produced separately was distribute | arranged to the TFT side (Example 2).
Moreover, it replaced with the sample of the glass substrate of Example 1, 2, the sample of the glass substrate whose convex part height is 0.15 micrometer and 0.25 micrometer, and the glass whose short side length of an internal defect is 5 micrometers and 10 micrometers. A liquid crystal display was prepared using each sample of the substrate (Comparative Examples 1 to 4).
Further, a glass substrate sample in which the height of the convex portion is 0.15 μm to 0.2 μm, the short side length of the internal defect is 0.1 to 1 μm, and the long side length is 52 to 78 μm is used. Thus, a liquid crystal display was produced (Comparative Example 5).
In any glass substrate, linear platinum was present at a depth of less than 50 μm from the main surface. When the position of the linear platinum exists on the other surface side, there is a problem that it appears on the surface during slimming of the glass substrate after the panel is formed. For this reason, in the glass substrate manufactured by the overflow down draw method, when linear platinum exists, it is preferable not to exist in the back surface side.
The liquid crystal display was designed so that the front contrast was a contrast ratio of 3000: 1.
(内部欠陥、凸部の測定)
 ガラス基板のサンプルの凸部は、自動検査機に蓄積された欠陥データに基づいて、サンプルの主表面における水平方向位置が特定される。また、内部欠陥の長辺長さL2および短辺長さL1、および凸部の高さhおよび深さDは、レーザ顕微鏡を用いて2400倍の倍率にて測定した。測定結果を、表1に示す。
(Measurement of internal defects and protrusions)
As for the convex part of the sample of the glass substrate, the horizontal position on the main surface of the sample is specified based on the defect data accumulated in the automatic inspection machine. Further, the long side length L2 and short side length L1 of the internal defect and the height h and depth D of the convex part were measured at a magnification of 2400 times using a laser microscope. The measurement results are shown in Table 1.
(正面コントラスト)
 暗室内で、輝度計BM-5A(トプコン社製)を用いて、液晶ディスプレイの黒表示状態および白表示状態での正面輝度を測定し、正面コントラストを算出して確認を行った。
(Front contrast)
In a dark room, a luminance meter BM-5A (manufactured by Topcon Corporation) was used to measure the front luminance in the black display state and the white display state of the liquid crystal display, and the front contrast was calculated for confirmation.
(ディスプレイの表示ムラ)
 作成した液晶ディスプレイに電圧をかけて液晶を駆動し、液晶ディスプレイの正面および斜め方向から、液晶ディスプレイから所定距離だけ離れた位置で目視により、白表示から黒表示、および黒表示から白表示にかけて表示ムラが全く確認されなかったものをA(使用可能)、表示ムラが確認されたものをB(不良品)、と評価した。表示ムラは、限度サンプルとの対比により判定を行う。結果を、表1に示す。
(Display unevenness of display)
Drive the liquid crystal by applying voltage to the created liquid crystal display, and display from white display to black display and from black display to white display by visual observation at a predetermined distance from the liquid crystal display from the front and oblique directions of the liquid crystal display The case where no unevenness was confirmed was evaluated as A (usable), and the case where display unevenness was confirmed was evaluated as B (defective product). Display unevenness is determined by comparison with a limit sample. The results are shown in Table 1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1によれば、凸部の高さが0.15μm未満であり、内部欠陥の短辺長さが1~4μmであり、長辺長さが52~200μmである場合(実施例1)は、表示ムラが確認されず、高コントラストの液晶ディスプレイに用いても品質上問題なかった。また、凸部の高さが0.15μm未満であり、内部欠陥の短辺長さが1μm未満(0.98μ以下)であり、長辺長さが52~78μmである場合(実施例2)、表示ムラが確認されず、高コントラストの液晶ディスプレイに用いても品質上問題なかった。これに対し、凸部の高さが0.15μm以上である場合は(比較例1,2)、表示ムラが確認された。また、内部欠陥の短辺長さが5μm未満である場合は(実施例1)、表示ムラが確認されず、高コントラストの液晶ディスプレイに用いても品質上問題なかった。これに対し、内部欠陥の短辺長さが5μm以上である場合は(比較例3,4)、表示ムラが確認された。 According to Table 1, when the height of the convex portion is less than 0.15 μm, the short side length of the internal defect is 1 to 4 μm, and the long side length is 52 to 200 μm (Example 1) No display unevenness was observed, and there was no problem in quality even when used for a high-contrast liquid crystal display. Further, when the height of the convex portion is less than 0.15 μm, the short side length of the internal defect is less than 1 μm (0.98 μ or less), and the long side length is 52 to 78 μm (Example 2) No display unevenness was observed, and there was no problem in quality even when used for a high-contrast liquid crystal display. On the other hand, display unevenness was confirmed when the height of the convex portion was 0.15 μm or more (Comparative Examples 1 and 2). Moreover, when the short side length of the internal defect was less than 5 μm (Example 1), display unevenness was not confirmed, and there was no problem in quality even when used for a high-contrast liquid crystal display. On the other hand, when the short side length of the internal defect was 5 μm or more (Comparative Examples 3 and 4), display unevenness was confirmed.
 以上、本発明のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、ガラス基板の製造方法、及び液晶ディスプレイについて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。 As described above, the flat panel display glass substrate, the glass substrate manufacturing method, and the liquid crystal display according to the present invention have been described in detail. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. Of course, improvements and changes may be made.
1 ガラス基板(フラットディスプレイガラス基板)
3 ガラス基板の主表面
7 凸部
10 内部欠陥
h 凸部の高さ
D 内部欠損のガラス基板の主表面からの深さ領域
L1 内部欠陥の短辺長さ
L2 内部欠陥の長辺長さ
1 Glass substrate (flat display glass substrate)
3 Main surface 7 of glass substrate 7 Convex part 10 Internal defect h Height of convex part D Depth region L1 from main surface of glass substrate of internal defect Short side length L2 of internal defect Long side length of internal defect

Claims (9)

  1.  ガラス基板であって、
     透光性を有さず、長辺長さが50μmを超え、短辺長さが5μm未満である内部欠陥と、
     前記内部欠陥の位置に対応する前記ガラス基板の主表面上の位置に形成され、前記主表面からの高さが0.15μm未満である凸部と、を有するガラス基板を、フラットパネルディスプレイガラス基板として用いることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
    A glass substrate,
    An internal defect having no translucency, a long side length of more than 50 μm, and a short side length of less than 5 μm;
    A glass substrate having a convex portion formed at a position on the main surface of the glass substrate corresponding to the position of the internal defect and having a height of less than 0.15 μm from the main surface, a flat panel display glass substrate A glass substrate for a flat panel display, characterized by being used as:
  2.  前記内部欠陥の長辺長さが200μm以下であり、短辺長さが1μm以上であり、
     前記凸部の前記主表面からの高さが0.10μm未満であり、
     前記内部欠陥が、前記主表面から50μm未満の深さ領域に存在する、請求項1に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
    The internal defect has a long side length of 200 μm or less, a short side length of 1 μm or more,
    The height of the convex part from the main surface is less than 0.10 μm;
    The glass substrate for a flat panel display according to claim 1, wherein the internal defect exists in a depth region of less than 50 μm from the main surface.
  3.  前記内部欠陥の長辺長さが50μmを超え80μm未満であり、短辺長さが1μm未満である、請求項1に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 The glass substrate for a flat panel display according to claim 1, wherein the internal defect has a long side length of more than 50 µm and less than 80 µm and a short side length of less than 1 µm.
  4.  前記内部欠陥が、線状白金である、請求項1~3のいずれか1項に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 The glass substrate for a flat panel display according to any one of claims 1 to 3, wherein the internal defect is linear platinum.
  5.  請求項1~4のいずれか1項に記載された前記フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を用いた液晶ディスプレイであって、
     前記ガラス基板の一方の主表面にカラーフィルタ又はTFTデバイスが形成され、前記主表面側に液晶層が設けられていることを特徴とする液晶ディスプレイ。
    A liquid crystal display using the flat panel display glass substrate according to any one of claims 1 to 4,
    A liquid crystal display, wherein a color filter or a TFT device is formed on one main surface of the glass substrate, and a liquid crystal layer is provided on the main surface side.
  6.  2000:1以上のコントラスト比を有する、請求項5に記載の液晶ディスプレイ。 The liquid crystal display according to claim 5, which has a contrast ratio of 2000: 1 or more.
  7.  ガラス基板を製造するガラス基板製造工程と、前記ガラス基板製造工程で製造されたガラス基板を検査するガラス基板検査工程と、を備え、
     前記ガラス基板検査工程では、透光性を有さず、長辺長さが50μmを超え、短辺長さが5μm未満である内部欠陥を有し、かつ、前記内部欠陥の位置に対応する前記ガラス基板の主表面上の位置に形成され、前記主表面からの高さが0.15μm以上である凸部を有するガラス基板、を不良と判別することを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
    A glass substrate manufacturing process for manufacturing a glass substrate, and a glass substrate inspection process for inspecting the glass substrate manufactured in the glass substrate manufacturing process.
    In the glass substrate inspection step, the glass substrate inspection step does not have translucency, has an internal defect having a long side length of more than 50 μm and a short side length of less than 5 μm, and corresponds to the position of the internal defect. A glass substrate for a flat panel display, characterized in that a glass substrate having a convex portion formed at a position on the main surface of the glass substrate and having a height of 0.15 μm or more from the main surface is determined as defective. Production method.
  8.  前記内部欠陥は、50μmを超え80μm未満の長辺長さを有し、1μm未満の短辺長さを有する、請求項7に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。 The method for producing a glass substrate for a flat panel display according to claim 7, wherein the internal defect has a long side length of more than 50 µm and less than 80 µm and a short side length of less than 1 µm.
  9.  前記内部欠陥が、線状白金である、請求項7または8に記載のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の製造方法。
     
    The manufacturing method of the glass substrate for flat panel displays of Claim 7 or 8 whose said internal defect is linear platinum.
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